JP7198190B2 - Adhesive composition, coverlay for flexible printed wiring board and flexible printed wiring board - Google Patents
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Description
本開示は、接着剤組成物、フレキシブルプリント配線板用カバーレイ及びフレキシブルプリント配線板に関する。 The present disclosure relates to adhesive compositions, coverlays for flexible printed wiring boards, and flexible printed wiring boards.
近年、電子機器の小型化及び高性能化に伴い、フレキシブルプリント配線板が広く用いられている。このフレキシブルプリント配線板は、ベースフィルムと、このベースフィルムに積層される導電パターンと、このベースフィルム及び導電パターンに積層されるカバーレイとを備える。このカバーレイは、カバーフィルムと、このカバーフィルムに積層される接着剤層とを備える。この接着剤層を形成するために用いられる接着剤組成物としては、例えば特許文献1において、酸成分(カルボキシル基を両末端に有するアクリロニトリル-ブタジエンゴム、炭素数が4~12である脂肪族ジカルボン酸、及び芳香環を有するポリカルボン酸の無水物)と芳香環を有するジイソシアネート又はジアミンとを反応させて得られるポリアミドイミド樹脂、リン含有エポキシ樹脂及びリン化合物を含有する難燃性接着剤組成物が記載されている。
2. Description of the Related Art In recent years, flexible printed wiring boards have been widely used as electronic devices have become smaller and have higher performance. The flexible printed wiring board includes a base film, a conductive pattern laminated on the base film, and a coverlay laminated on the base film and the conductive pattern. The coverlay comprises a cover film and an adhesive layer laminated to the cover film. As the adhesive composition used for forming this adhesive layer, for example, in
本開示の一態様に係る接着剤組成物は、ポリアミドイミド樹脂と、エポキシ樹脂と、トリアジン環を有する化合物とを含有する。 An adhesive composition according to one aspect of the present disclosure contains a polyamideimide resin, an epoxy resin, and a compound having a triazine ring.
本開示の別の一態様に係るフレキシブルプリント配線板用カバーレイは、カバーフィルムと、このカバーフィルムに積層される接着剤層とを備えるフレキシブルプリント配線板用カバーレイであって、上記接着剤層が接着剤組成物から形成され、上記接着剤組成物がポリアミドイミド樹脂と、エポキシ樹脂と、トリアジン環を有する化合物とを含有する。 A flexible printed wiring board coverlay according to another aspect of the present disclosure is a flexible printed wiring board coverlay comprising a cover film and an adhesive layer laminated on the cover film, wherein the adhesive layer is formed from an adhesive composition, the adhesive composition containing a polyamideimide resin, an epoxy resin, and a compound having a triazine ring.
本開示のさらに別の一態様に係るフレキシブルプリント配線板は、ベースフィルムと、このベースフィルムに直接又は間接に積層される導電パターンと、上記ベースフィルム及び上記導電パターンに積層されるカバーレイとを備えるフレキシブルプリント配線板であって、上記カバーレイが、カバーフィルムと、このカバーフィルムに積層される接着剤層とを備え、上記接着剤層が接着剤組成物から形成され、上記接着剤組成物がポリアミドイミド樹脂と、エポキシ樹脂と、トリアジン環を有する化合物とを含有する。 A flexible printed wiring board according to yet another aspect of the present disclosure includes a base film, a conductive pattern laminated directly or indirectly on the base film, and a coverlay laminated on the base film and the conductive pattern. wherein the coverlay comprises a cover film and an adhesive layer laminated on the cover film, the adhesive layer is formed from an adhesive composition, contains a polyamideimide resin, an epoxy resin, and a compound having a triazine ring.
[本開示が解決しようとする課題]
接着剤組成物により形成される接着剤層には、剥離強度が大きいこと及び半田耐熱性に優れることが要求されている。
[Problems to be Solved by the Present Disclosure]
An adhesive layer formed from an adhesive composition is required to have high peel strength and excellent solder heat resistance.
また、フレキシブルプリント配線板では、水分が存在する環境下で銅回路の端子間に電圧を印加すると陽極側から溶出した銅が陰極側に析出し、回路が短絡するイオンマイグレーションと呼ばれる現象が発生するおそれがある。近年、電子機器の小型化及び高性能化に伴い、フレキシブルプリント配線板の回路は、回路幅/回路間距離(L/S)が、50μm/50μmから25μm/25μm、さらには10μm/10μmとファインピッチ化が急速に進行している。このような回路のファインピッチ化に伴い、イオンマイグレーションを抑制することが要求されている。 In flexible printed wiring boards, when a voltage is applied between the terminals of a copper circuit in an environment where moisture exists, copper eluted from the anode side precipitates on the cathode side, causing a phenomenon called ion migration in which the circuit is short-circuited. There is a risk. In recent years, with the miniaturization and high performance of electronic devices, the circuit width/inter-circuit distance (L/S) of the flexible printed wiring board has been reduced from 50 μm/50 μm to 25 μm/25 μm and further to 10 μm/10 μm. Pitching is progressing rapidly. As such circuits become finer-pitched, suppression of ion migration is required.
本開示は上記事情に基づいてなされたものであり、剥離強度が大きく、半田耐熱性に優れると共に、優れた耐イオンマイグレーション性を有する接着剤組成物、フレキシブルプリント配線板用カバーレイ及びフレキシブルプリント配線板を提供することを目的とする。 The present disclosure has been made based on the above circumstances, and provides an adhesive composition having high peel strength, excellent solder heat resistance, and excellent ion migration resistance, a coverlay for a flexible printed wiring board, and a flexible printed wiring. The purpose is to provide a board.
[本開示の効果]
本開示の一態様に係る接着剤組成物、並びにこの接着剤組成物を用いたフレキシブルプリント配線板用カバーレイ及びフレキシブルプリント配線板は、剥離強度が大きく、半田耐熱性に優れると共に、優れた耐イオンマイグレーション性を有する。
[Effect of the present disclosure]
The adhesive composition according to one aspect of the present disclosure, and the flexible printed wiring board coverlay and flexible printed wiring board using the adhesive composition have high peel strength, excellent solder heat resistance, and excellent resistance. Has ion migration properties.
[本開示の実施形態の説明]
最初に本開示の実施態様を列記して説明する。
[Description of Embodiments of the Present Disclosure]
First, the embodiments of the present disclosure are listed and described.
本開示の一態様に係る接着剤組成物は、ポリアミドイミド樹脂と、エポキシ樹脂と、トリアジン環を有する化合物とを含有する。 An adhesive composition according to one aspect of the present disclosure contains a polyamideimide resin, an epoxy resin, and a compound having a triazine ring.
当該接着剤組成物は、エポキシ硬化剤としてトリアジン環を有する化合物を含有することにより、剥離強度が大きく、半田耐熱性に優れると共に、優れた耐イオンマイグレーション性を有する。 Since the adhesive composition contains a triazine ring-containing compound as an epoxy curing agent, the adhesive composition has high peel strength, excellent solder heat resistance, and excellent ion migration resistance.
当該接着剤組成物は、上記ポリアミドイミド樹脂100質量部に対する上記エポキシ樹脂の含有量が20質量部以上80質量部以下であることが好ましい。上記エポキシ樹脂の含有量が上記下限未満であると半田耐熱性が低下するおそれがあり、また上記上限を超えると可撓性が低下するおそれがある。 The content of the epoxy resin in the adhesive composition is preferably 20 parts by mass or more and 80 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polyamide-imide resin. If the content of the epoxy resin is less than the above lower limit, the solder heat resistance may deteriorate, and if it exceeds the above upper limit, the flexibility may deteriorate.
当該接着剤組成物は、上記ポリミアミドイミド樹脂100質量部に対する上記化合物の含有量が1質量部以上80質量部以下であることが好ましい。上記化合物の含有量が上記下限未満であると、エポキシ樹脂の硬化が不十分になり、耐イオンマイグレーション性が低下するおそれがあり、また上記上限を超えると、硬化物の接着性が低下するおそれがある。 In the adhesive composition, the content of the compound is preferably 1 part by mass or more and 80 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polyamidoimide resin. If the content of the compound is less than the lower limit, curing of the epoxy resin may be insufficient, and the ion migration resistance may decrease. There is
当該接着剤組成物は、上記エポキシ樹脂がビスフェノールA型エポキシ樹脂又はビスフェノールF型エポキシ樹脂であることが好ましい。エポキシ樹脂がこれらの樹脂であることにより、耐イオンマイグレーション性をより向上させることができる。 In the adhesive composition, the epoxy resin is preferably a bisphenol A type epoxy resin or a bisphenol F type epoxy resin. When the epoxy resin is one of these resins, the ion migration resistance can be further improved.
当該接着剤組成物は、硬化後のガラス転移温度が85℃以上であることが好ましい。硬化後のガラス転移温度が上記範囲内であることにより、高温高湿条件下(例えば85℃85%RH)でも接着剤の物性変化を抑制することができる。 The adhesive composition preferably has a glass transition temperature of 85° C. or higher after curing. When the glass transition temperature after curing is within the above range, changes in physical properties of the adhesive can be suppressed even under high-temperature and high-humidity conditions (for example, 85° C. and 85% RH).
当該接着剤組成物は、フレキシブルプリント配線板のカバーレイ用接着剤として好適に用いることができる。 The adhesive composition can be suitably used as a coverlay adhesive for flexible printed wiring boards.
本開示の別の一態様に係るフレキシブルプリント配線板用カバーレイは、カバーフィルムと、このカバーフィルムに積層される接着剤層とを備えるフレキシブルプリント配線板用カバーレイであって、上記接着剤層が接着剤組成物から形成され、上記接着剤組成物がポリアミドイミド樹脂と、エポキシ樹脂と、トリアジン環を有する化合物とを含有する。 A flexible printed wiring board coverlay according to another aspect of the present disclosure is a flexible printed wiring board coverlay comprising a cover film and an adhesive layer laminated on the cover film, wherein the adhesive layer is formed from an adhesive composition, the adhesive composition containing a polyamideimide resin, an epoxy resin, and a compound having a triazine ring.
当該フレキシブルプリント配線板用カバーレイは、接着剤層が当該接着剤組成物により形成されているため、剥離強度が大きく、半田耐熱性に優れると共に、優れた耐イオンマイグレーション性を有する。 Since the adhesive layer is formed of the adhesive composition, the flexible printed wiring board coverlay has high peel strength, excellent solder heat resistance, and excellent ion migration resistance.
本開示のさらに別の一態様に係るフレキシブルプリント配線板は、ベースフィルムと、このベースフィルムに直接又は間接に積層される導電パターンと、上記ベースフィルム及び上記導電パターンに積層されるカバーレイとを備えるフレキシブルプリント配線板であって、上記カバーレイが、カバーフィルムと、このカバーフィルムに積層される接着剤層とを備え、上記接着剤層が接着剤組成物から形成され、上記接着剤組成物がポリアミドイミド樹脂と、エポキシ樹脂と、トリアジン環を有する化合物とを含有する。 A flexible printed wiring board according to yet another aspect of the present disclosure includes a base film, a conductive pattern laminated directly or indirectly on the base film, and a coverlay laminated on the base film and the conductive pattern. wherein the coverlay comprises a cover film and an adhesive layer laminated on the cover film, the adhesive layer is formed from an adhesive composition, contains a polyamideimide resin, an epoxy resin, and a compound having a triazine ring.
当該フレキシブルプリント配線板は、当該フレキシブルプリント配線板用カバーレイを備えるため、剥離強度が大きく、半田耐熱性に優れると共に、優れた耐イオンマイグレーション性を有する。 Since the flexible printed wiring board includes the flexible printed wiring board coverlay, the flexible printed wiring board has high peel strength, excellent solder heat resistance, and excellent ion migration resistance.
[本開示の実施形態の詳細]
以下、本開示に係る接着剤組成物、フレキシブルプリント配線板用カバーレイ及びフレキシブルプリント配線板について詳説する。
[Details of the embodiment of the present disclosure]
The adhesive composition, the flexible printed wiring board coverlay, and the flexible printed wiring board according to the present disclosure will be described in detail below.
<接着剤組成物>
当該接着剤組成物は、ポリアミドイミド樹脂と、エポキシ樹脂と、トリアジン環を有する化合物とを含有する。以下、各成分について説明する。
<Adhesive composition>
The adhesive composition contains a polyamideimide resin, an epoxy resin, and a compound having a triazine ring. Each component will be described below.
(ポリアミドイミド樹脂)
ポリアミドイミド樹脂は、分子内にアミド結合及びイミド結合を有する樹脂である。
(Polyamideimide resin)
A polyamide-imide resin is a resin having an amide bond and an imide bond in its molecule.
ポリアミドイミド樹脂としては、例えばポリカルボン酸無水物とジイソシアネート又はジアミン化合物とを反応させて得られるものなどが挙げられる。中でも、可撓性をより向上できる観点から、カルボキシ基を両末端に有するアクリロニトリルブタジエンゴム、炭素数4~12の脂肪族ジカルボン酸及び芳香環を有するポリカルボン酸無水物を含む酸成分と、芳香環を有するジイソシアネート又はジアミンとを反応させて得られるポリアミドイミド樹脂が好ましい。ポリアミドイミド樹脂は、1種単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the polyamide-imide resin include those obtained by reacting a polycarboxylic anhydride with a diisocyanate or a diamine compound. Among them, from the viewpoint of further improving flexibility, an acid component containing acrylonitrile-butadiene rubber having carboxy groups at both ends, an aliphatic dicarboxylic acid having 4 to 12 carbon atoms and a polycarboxylic acid anhydride having an aromatic ring, and an aromatic A polyamide-imide resin obtained by reacting a diisocyanate having a ring or a diamine is preferred. Polyamide-imide resin can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
カルボキシ基を両末端に有するアクリロニトリルブタジエンゴムは、アクリロニトリルに由来する繰り返し単位とブタジエンに由来する繰り返し単位とを有する。 Acrylonitrile-butadiene rubber having carboxy groups at both ends has a repeating unit derived from acrylonitrile and a repeating unit derived from butadiene.
上記ポリアミドイミド樹脂に含まれる全酸成分におけるカルボキシ基を両末端に有するアクリロニトリルブタジエンゴムの含有割合の下限としては、3モル%が好ましい。上記含有割合の上限としては、10モル%が好ましく、8モル%がより好ましい。 The lower limit of the content of the acrylonitrile-butadiene rubber having carboxyl groups at both ends in all the acid components contained in the polyamide-imide resin is preferably 3 mol %. The upper limit of the content ratio is preferably 10 mol %, more preferably 8 mol %.
炭素数4~12の脂肪族ジカルボン酸としては、例えばコハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ヘプタン二酸、オクタン二酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカ二酸、ドデカン二酸などの直鎖状の脂肪族ジカルボン酸、2-メチルコハク酸などの分岐鎖状の脂肪族ジカルボン酸等が挙げられる。炭素数4~12の脂肪族ジカルボン酸は、1種単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of aliphatic dicarboxylic acids having 4 to 12 carbon atoms include linear dicarboxylic acids such as succinic acid, glutaric acid, adipic acid, heptanedioic acid, octanedioic acid, azelaic acid, sebacic acid, undecanedioic acid, and dodecanedioic acid. Aliphatic dicarboxylic acids, branched aliphatic dicarboxylic acids such as 2-methylsuccinic acid, and the like are included. The aliphatic dicarboxylic acids having 4 to 12 carbon atoms can be used singly or in combination of two or more.
上記ポリアミドイミド樹脂に含まれる全酸成分における炭素数4~12の脂肪族ジカルボン酸の含有割合の下限としては、10モル%が好ましく、20モル%がより好ましい。上記含有割合の上限としては、80モル%が好ましく、60モル%がより好ましい。 The lower limit of the content of the aliphatic dicarboxylic acid having 4 to 12 carbon atoms in the total acid component contained in the polyamideimide resin is preferably 10 mol %, more preferably 20 mol %. The upper limit of the content ratio is preferably 80 mol %, more preferably 60 mol %.
芳香環を有するポリカルボン酸無水物としては、例えばトリメリット酸無水物、ピロメリット酸二無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、プロピレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、1,4-ブタンジオールビスアンヒドロトリメリテート、ヘキサメチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、ポリエチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、ポリプロピレングリコールビスアンヒドロトリメリテート等のアルキレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5,6-ピリジンテトラカルボン酸二無水物、3,4,9,10-ペリレンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、m-ターフェニル-3,3’,4,4’-テトラカルボン酸二無水物、4,4’-オキシジフタル酸二無水物、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2,2-ビス(2,3-又は3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(2,3-又は3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス[4-(2,3-又は3,4-ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2,2-ビス[4-(2,3-又は3,4-ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物、1,3-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン二無水物などが挙げられる。芳香環を有するポリカルボン酸無水物は、1種単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Polycarboxylic anhydrides having aromatic rings include, for example, trimellitic anhydride, pyromellitic dianhydride, ethylene glycol bis-anhydro trimellitate, propylene glycol bis-anhydro trimellitate, 1,4-butanediol alkylene glycol bis-anhydro trimellitate such as bis-anhydro trimellitate, hexamethylene glycol bis-anhydro trimellitate, polyethylene glycol bis-anhydro trimellitate, polypropylene glycol bis-anhydro trimellitate, 3,3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4 ,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5,6-pyridinetetracarboxylic dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, 3,3′, 4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, m-terphenyl-3,3',4,4'-tetracarboxylic dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 1,1 , 1,3,3,3-hexafluoro-2,2-bis(2,3- or 3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(2,3- or 3,4 -dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis[4-(2,3- or 3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]propane dianhydride, 1,1,1,3,3,3 -hexafluoro-2,2-bis[4-(2,3- or 3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]propane dianhydride, 1,3-bis(3,4-dicarboxyphenyl)-1, 1,3,3-tetramethyldisiloxane dianhydride and the like. Polycarboxylic acid anhydrides having an aromatic ring can be used singly or in combination of two or more.
上記ポリアミドイミド樹脂に含まれる全酸成分における芳香環を有するポリカルボン酸無水物の含有割合の下限としては、10モル%が好ましい。上記含有割合の上限としては、87モル%が好ましい。 The lower limit of the content of the polycarboxylic acid anhydride having an aromatic ring in all the acid components contained in the polyamide-imide resin is preferably 10 mol %. The upper limit of the content ratio is preferably 87 mol %.
芳香環を有するジイソシアネートとしては、例えばジフェニルメタン-2,4’-ジイソシアネート、3,2’-ジメチルジフェニルメタン-2,4’-ジイソシアネート、3,2’-ジエチルジフェニルメタン-2,4’-ジイソシアネート、3,2’-ジメトキシジフェニルメタン-2,4’-ジイソシアネート、ジフェニルメタン-4,4’-ジイソシアネート、ジフェニルメタン-3,3’-ジイソシアネート、ジフェニルメタン-3,4’-ジイソシアネート、ジフェニルエーテル-4,4’-ジイソシアネート、ベンゾフェノン-4,4’-ジイソシアネート、ジフェニルスルホン-4,4’-ジイソシアネート、トリレン-2,4-ジイソシアネート、トリレン-2,6-ジイソシアネート、m-キシリレンジイソシアネート、p-キシリレンジイソシアネート、ナフタレン-2,6-ジイソシアネート、4,4’-[2,2ビス(4-フェノキシフェニル)プロパン]ジイソシアネート、3,3’-ジメチルビフェニル-4,4’-ジイソシアネート、3,3’-ジエチルビフェニル-4,4’-ジイソシアネート、3,3’-ジメトキシビフェニル-4,4’-ジイソシアネート、3,3’-ジエトキシビフェニル-4,4’-ジイソシアネートなどが挙げられる。芳香環を有するジアミンとしては、例えば上記ジイソシアネートとして例示したものに対応するジアミンなどが挙げられる。芳香環を有するジイソシアネート又はジアミンは、1種単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Diisocyanates having an aromatic ring include, for example, diphenylmethane-2,4'-diisocyanate, 3,2'-dimethyldiphenylmethane-2,4'-diisocyanate, 3,2'-diethyldiphenylmethane-2,4'-diisocyanate, 3, 2'-dimethoxydiphenylmethane-2,4'-diisocyanate, diphenylmethane-4,4'-diisocyanate, diphenylmethane-3,3'-diisocyanate, diphenylmethane-3,4'-diisocyanate, diphenyl ether-4,4'-diisocyanate, benzophenone -4,4'-diisocyanate, diphenylsulfone-4,4'-diisocyanate, tolylene-2,4-diisocyanate, tolylene-2,6-diisocyanate, m-xylylenediisocyanate, p-xylylenediisocyanate, naphthalene-2, 6-diisocyanate, 4,4'-[2,2bis(4-phenoxyphenyl)propane]diisocyanate, 3,3'-dimethylbiphenyl-4,4'-diisocyanate, 3,3'-diethylbiphenyl-4,4 '-diisocyanate, 3,3'-dimethoxybiphenyl-4,4'-diisocyanate, 3,3'-diethoxybiphenyl-4,4'-diisocyanate and the like. Diamines having an aromatic ring include, for example, diamines corresponding to those exemplified as the above diisocyanates. The diisocyanate or diamine having an aromatic ring can be used singly or in combination of two or more.
上記ポリアミドイミド樹脂は、例えば国際公開第2010/038644号に記載された方法により製造することができる。 The polyamideimide resin can be produced, for example, by the method described in International Publication No. 2010/038644.
上記ポリアミドイミド樹脂は、市販品を用いることもできる。市販品としては、例えば東洋紡社の「HRシリーズ」などが挙げられる。 A commercial item can also be used for the said polyamide-imide resin. Commercially available products include, for example, "HR Series" manufactured by Toyobo Co., Ltd.
(エポキシ樹脂)
エポキシ樹脂としては、1分子中に少なくとも2つのエポキシ基を有する樹脂であれば特に制限されず、例えばビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ、脂環式エポキシなどが挙げられる。これらの中でも、耐イオンマイグレーションをより向上させる観点からビスフェノールA型エポキシ樹脂又はビスフェノールF型エポキシ樹脂が好ましい。エポキシ樹脂は、1種単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
(Epoxy resin)
The epoxy resin is not particularly limited as long as it has at least two epoxy groups in one molecule, and examples thereof include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, novolac type epoxy, and alicyclic epoxy. . Among these, a bisphenol A type epoxy resin or a bisphenol F type epoxy resin is preferable from the viewpoint of further improving ion migration resistance. An epoxy resin can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
当該接着剤組成物におけるポリアミドイミド樹脂100質量部に対するエポキシ樹脂の含有量の下限としては、20質量部が好ましく、25質量部がより好ましく、30質量部がさらに好ましい。上記含有量の上限としては、80質量部が好ましく、75質量部がより好ましく、70質量部がさらに好ましい。エポキシ樹脂の含有量が上記下限未満であると半田耐熱性が低下するおそれがあり、また上記上限を超えると可撓性が低下するおそれがある。 The lower limit of the content of the epoxy resin to 100 parts by mass of the polyamide-imide resin in the adhesive composition is preferably 20 parts by mass, more preferably 25 parts by mass, and even more preferably 30 parts by mass. The upper limit of the content is preferably 80 parts by mass, more preferably 75 parts by mass, and even more preferably 70 parts by mass. If the content of the epoxy resin is less than the above lower limit, the solder heat resistance may deteriorate, and if it exceeds the above upper limit, the flexibility may deteriorate.
(トリアジン環を有する化合物)
「トリアジン環を有する化合物」には、トリアジン環を有する単量体及びトリアジン環を含む2以上の繰り返し単位を有する重合体の両方が含まれる。トリアジン環としては、1,3,5-トリアジン環、1,2,3-トリアジン環、1,2,4-トリアジン環が挙げられる。トリアジン環を有する化合物は、1種単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
(Compound having a triazine ring)
The "compound having a triazine ring" includes both a monomer having a triazine ring and a polymer having two or more repeating units containing a triazine ring. The triazine ring includes 1,3,5-triazine ring, 1,2,3-triazine ring and 1,2,4-triazine ring. A compound having a triazine ring can be used singly or in combination of two or more.
トリアジン環を含む単量体としては、例えばメラミン、チオシアヌル酸などが挙げられる。 Monomers containing a triazine ring include, for example, melamine and thiocyanuric acid.
トリアジン環を含む2以上の繰り返し単位を有する重合体としては、例えばメラミン樹脂などが挙げられる。 Polymers having two or more repeating units containing a triazine ring include, for example, melamine resins.
トリアジン環を有する化合物としては、耐イオンマイグレーション性をより向上させることができる観点から、トリアジン環を含む2以上の繰り返し単位を有する重合体が好ましく、メラミン樹脂がより好ましい。 The compound having a triazine ring is preferably a polymer having two or more repeating units containing a triazine ring, more preferably a melamine resin, from the viewpoint of further improving ion migration resistance.
メラミン樹脂の市販品としては、例えば三和ケミカル社の「ニカラックMW30」、「ニカラックMX730」などが挙げられる。 Examples of commercially available melamine resins include "Nikalac MW30" and "Nikalac MX730" manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.
当該接着剤組成物におけるポリアミドイミド樹脂100質量部に対するトリアジン環を有する化合物の含有量の下限としては、1質量部が好ましく、2質量部がより好ましく、3質量部がさらに好ましい。上記含有量の上限としては、80質量部が好ましく、75質量部がより好ましく、70質量部がさらに好ましい。トリアジン環を有する化合物の含有量が上記下限未満であるとエポキシ樹脂の硬化が不十分となり、耐イオンマイグレーション性が低下するおそれがあり、また上記上限を超えると硬化物の接着性が低下するおそれがある。 The lower limit of the content of the compound having a triazine ring with respect to 100 parts by mass of the polyamide-imide resin in the adhesive composition is preferably 1 part by mass, more preferably 2 parts by mass, and even more preferably 3 parts by mass. The upper limit of the content is preferably 80 parts by mass, more preferably 75 parts by mass, and even more preferably 70 parts by mass. If the content of the compound having a triazine ring is less than the above lower limit, the curing of the epoxy resin may be insufficient, and the ion migration resistance may decrease. There is
当該接着剤組成物におけるエポキシ樹脂100質量部に対するトリアジン環を有する化合物の含有量の下限としては、1質量部が好ましく、3質量部がより好ましく、6質量部がさらに好ましい。上記含有量の上限としては、150質量部が好ましく、120質量部がより好ましく、110質量部がさらに好ましい。トリアジン環を有する化合物の含有量が上記下限未満であるとエポキシ樹脂の硬化が不十分となり、耐イオンマイグレーション性が低下するおそれがあり、また上記上限を超えると硬化物の接着性が低下するおそれがある。 The lower limit of the content of the compound having a triazine ring with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin in the adhesive composition is preferably 1 part by mass, more preferably 3 parts by mass, and even more preferably 6 parts by mass. The upper limit of the content is preferably 150 parts by mass, more preferably 120 parts by mass, and even more preferably 110 parts by mass. If the content of the compound having a triazine ring is less than the above lower limit, the curing of the epoxy resin may be insufficient, and the ion migration resistance may decrease. There is
当該接着剤組成物におけるポリアミドイミド樹脂100質量部に対するエポキシ樹脂及びトリアジン環を有する化合物の合計含有量の下限としては、30質量部が好ましく、40質量部がより好ましく、50質量部がさらに好ましい。上記合計含有量の上限としては、160質量部が好ましく、150質量部がより好ましく、145質量部がさらに好ましい。エポキシ樹脂及びトリアジン環を有する化合物の合計含有量が上記範囲内であることにより、可撓性を向上できる。 The lower limit of the total content of the epoxy resin and the compound having a triazine ring with respect to 100 parts by mass of the polyamide-imide resin in the adhesive composition is preferably 30 parts by mass, more preferably 40 parts by mass, and even more preferably 50 parts by mass. The upper limit of the total content is preferably 160 parts by mass, more preferably 150 parts by mass, and even more preferably 145 parts by mass. When the total content of the epoxy resin and the compound having a triazine ring is within the above range, the flexibility can be improved.
当該接着剤組成物は、本開示の効果を損なわない範囲において、他の成分を含有していてもよい。他の成分としては、例えば難燃剤、消泡剤、レベリング材、シランカップリング剤などが挙げられる。 The adhesive composition may contain other components as long as the effects of the present disclosure are not impaired. Other components include, for example, flame retardants, antifoaming agents, leveling agents, silane coupling agents and the like.
当該接着剤組成物の硬化後のガラス転移温度(Tg)の下限としては、85℃が好ましく、90℃がより好ましい。上記ガラス転移温度の上限としては、170℃が好ましく、160℃がより好ましい。当該接着剤組成物の硬化後のガラス転移温度が上記範囲内であることにより、高温高湿条件下(例えば85℃85%RH)においても接着剤の物性変化を抑制することができる。 The lower limit of the glass transition temperature (Tg) of the adhesive composition after curing is preferably 85°C, more preferably 90°C. The upper limit of the glass transition temperature is preferably 170°C, more preferably 160°C. When the glass transition temperature after curing of the adhesive composition is within the above range, changes in physical properties of the adhesive can be suppressed even under high-temperature and high-humidity conditions (for example, 85° C. and 85% RH).
なお、当該接着剤組成物の硬化後のガラス転移温度(Tg)は、接着剤組成物の硬化物から幅10mm、長さ50mm、厚さ20μmの試験片を作製し、この試験片をチャック間長さを20mmとして動的粘弾性測定装置(DMA)(日立ハイテクソリューション社)にて、昇温速度10℃/分、周波数1Hzで測定した貯蔵弾性率E’(MPa)の変曲点の値である。 In addition, the glass transition temperature (Tg) of the adhesive composition after curing was determined by preparing a test piece having a width of 10 mm, a length of 50 mm, and a thickness of 20 μm from the cured product of the adhesive composition. Value of inflection point of storage elastic modulus E′ (MPa) measured at a heating rate of 10° C./min and a frequency of 1 Hz with a dynamic viscoelasticity measuring device (DMA) (Hitachi High-Tech Solution Co., Ltd.) with a length of 20 mm is.
当該接着剤組成物は、フレキシブルプリント配線板用接着剤又はフレキシブルプリント配線板のカバーレイ用接着剤として好適に用いられる。 The adhesive composition is suitably used as an adhesive for a flexible printed wiring board or an adhesive for a coverlay of a flexible printed wiring board.
<フレキシブルプリント配線板>
図1は、本開示のフレキシブルプリント配線板1を示す模式的部分断面図である。当該フレキシブルプリント配線板1は、ベースフィルム3と、このベースフィルム3に直接又は間接に積層される導電パターン4と、上記ベースフィルム3及び上記導電パターン4に接着層6を介して積層されるカバーレイ2とを備える。
<Flexible printed wiring board>
FIG. 1 is a schematic partial cross-sectional view showing a flexible printed
(ベースフィルム)
ベースフィルム3は、絶縁性及び可撓性を有する。ベースフィルム3は、合成樹脂を主成分とする。なお、「主成分」とは、最も含有割合の多い成分を意味し、例えば含有割合が50質量%以上の成分を意味する。合成樹脂としては、例えばポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、フッ素樹脂などが挙げられる。これらの中でも、絶縁性、柔軟性、耐熱性等に優れるポリイミドが好ましい。
(base film)
The
ベースフィルム3の平均厚さの下限としては、5μmが好ましく、10μmがより好ましい。上記平均厚さの上限としては、100μmが好ましく、50μmがより好ましい。ベースフィルム3の平均厚さが上記下限未満であると、絶縁性及び機械的強度が不十分となるおそれがある。一方、ベースフィルム3の平均厚さが上記上限を超えると、当該プリント配線板が不必要に厚くなるおそれや、可撓性が不十分となるおそれがある。なお、「平均厚さ」とは、任意の10点において測定した厚さの平均値を意味する。
The lower limit of the average thickness of the
(導電パターン)
導電パターン4は、当該フレキシブルプリント配線板の回路を構成する。
(Conductive pattern)
The
導電パターン4の主成分としては、例えば無酸素銅等の銅、アルミニウム、銀、金、ニッケル、これらの合金、ステンレス鋼などが挙げられる。これらの中で、銅又は銅合金が好ましく、銅がより好ましい。
Examples of the main component of the
導電パターン4の平均厚さの下限としては、1μmが好ましく、5μmがより好ましく、10μmがさらに好ましい。上記平均厚さの上限としては、500μmが好ましく、100μmがより好ましく、50μmがさらに好ましい。導電パターン4の平均厚さが上記下限未満であると、導電パターン4の強度が低下するおそれがある。一方、導電パターン4の平均厚さが上記上限を超えると、当該プリント配線板が不必要に厚くなるおそれや、可撓性が不十分となるおそれがある。
The lower limit of the average thickness of the
導電パターン4は、さらに不図示の表面処理層を有していてもよい。表面処理層は、導電パターン4の表面を被覆するものであり、導電パターン4からの導電成分の漏出、又は導電パターン4への導電性成分に対する反応性成分(酸素、硫黄など)の拡散を抑制するものである。
The
表面処理層の材質としては、導電パターン4からの導電成分の漏出又は導電パターン4への反応性成分の拡散を抑制できるものであれば特に制限されず、例えば金属、樹脂、セラミック、これらの混合物などが挙げられる。表面処理層は、単層であってもよいし、複数層であってもよい。
The material of the surface treatment layer is not particularly limited as long as it can suppress the leakage of the conductive component from the
(カバーレイ)
図1のカバーレイ2は、それ自体が本開示の一実施形態のフレキシブルプリント配線板用カバーレイである。このカバーレイ2は、カバーフィルム5と、このカバーフィルム5に積層される接着剤層6とを備える。
(coverlay)
The
カバーフィルム5は、絶縁性及び可撓性を有する。カバーフィルム5の主成分としては、例えば上述のベースフィルム3の主成分と同様の合成樹脂などが挙げられる。
The
カバーフィルム5の平均厚さの下限としては、5μmが好ましく、10μmがより好ましい。上記平均厚さの上限としては、60μmが好ましく、50μmがより好ましい。カバーフィルム5の平均厚さが上記下限未満であると、絶縁性が不十分となるおそれがある。一方、カバーフィルム5の平均厚さが上記上限を超えると、カバーレイ2が不必要に厚くなるおそれや、当該フレキシブルプリント配線板の可撓性が不十分となるおそれがある。
The lower limit of the average thickness of the
接着剤層6は、上述の当該接着剤組成物から形成される。
The
接着剤層6の平均厚さの下限としては、5μmが好ましく、10μmがより好ましい。上記平均厚さの上限としては、100μmが好ましく、75μmがより好ましい。接着剤層6の平均厚さが上記下限未満であると、カバーレイ2と導電パターン4との接着性が不十分となるおそれがある。一方、接着剤層6の平均厚さが上記上限を超えると、カバーレイ2が不必要に厚くなるおそれや、当該フレキシブルプリント配線板の可撓性が不十分となるおそれがある。
The lower limit of the average thickness of the
[その他の実施形態]
今回開示された実施の形態は全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本開示の範囲は、上記実施形態の構成に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。
[Other embodiments]
It should be considered that the embodiments disclosed this time are illustrative in all respects and not restrictive. The scope of the present disclosure is not limited to the configurations of the above-described embodiments, but is indicated by the scope of the claims, and is intended to include all modifications within the scope and meaning equivalent to the scope of the claims. be.
例えば当該接着剤組成物は、フレキシブルプリント配線板のカバーレイ用接着剤としてだけでなく、フレキシブルプリント配線板のベースフィルムと導電パターンとを接着するための接着剤として用いられてもよい。 For example, the adhesive composition may be used not only as a coverlay adhesive for a flexible printed wiring board, but also as an adhesive for bonding a base film and a conductive pattern of a flexible printed wiring board.
以下、実施例によって本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.
<接着剤組成物の調製>
下記表1に示す各成分を下記表1に示す配合で混合することにより接着剤組成物No.1~17を調製した。各接着剤組成物の調製に用いた成分を以下に示す。なお、表1中、「-」は該当する成分を使用しなかったことを示す。
<Preparation of adhesive composition>
Adhesive composition No. 1 was prepared by mixing each component shown in Table 1 below according to the formulation shown in Table 1 below. 1-17 were prepared. The components used to prepare each adhesive composition are shown below. In Table 1, "-" indicates that the corresponding component was not used.
[ポリアミドイミド樹脂]
ポリアミドイミド樹脂1:ポリアミドイミド(東洋紡社の「HRタイプ」)、Mw:12.8万、Mn:1.4万、Tg:160℃
ポリアミドイミド樹脂2:ポリアミドイミド(東洋紡社の「HRタイプ」)、Mw:10.0万、Mn:2.0万、Tg:225℃
[Polyamideimide resin]
Polyamideimide resin 1: Polyamideimide (Toyobo's "HR type"), Mw: 128,000, Mn: 14,000, Tg: 160°C
Polyamideimide resin 2: Polyamideimide (Toyobo's "HR type"), Mw: 100,000, Mn: 20,000, Tg: 225°C
なお、「重量平均分子量(Mw)」は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算重量平均分子量である。ポリイミドアミド樹脂の重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、以下の条件によるGPCにより測定した値である。
測定装置:wataers 2695(water社)
カラム:GMH-HR-H
移動相:N-メチル-2-ピロリドン
流速:0.5mL/分
試料濃度:1.0質量%
試料注入量:10μL
検出器:示唆屈折計
標準物質:単分散ポリスチレン
In addition, "weight average molecular weight (Mw)" is polystyrene conversion weight average molecular weight by gel permeation chromatography (GPC). The weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) of the polyimideamide resin are values measured by GPC under the following conditions.
Measuring device: waterers 2695 (water company)
Column: GMH-HR-H
Mobile phase: N-methyl-2-pyrrolidone Flow rate: 0.5 mL/min Sample concentration: 1.0 mass%
Sample injection volume: 10 μL
Detector: Suggestion refractometer Reference material: Monodisperse polystyrene
[エポキシ樹脂]
エポキシ樹脂1:エピコート828(三菱化学社)
エポキシ樹脂2:エピコート807(三菱化学社)
[Epoxy resin]
Epoxy resin 1: Epicoat 828 (Mitsubishi Chemical Corporation)
Epoxy resin 2: Epicoat 807 (Mitsubishi Chemical Corporation)
[エポキシ硬化剤]
エポキシ硬化剤1:ニカラックMW30(三和ケミカル社)
エポキシ硬化剤2:ニカラックMX730(三和ケミカル社)
エポキシ硬化剤3:リカシッドMH-700(新日本理化社)
エポキシ硬化剤4:H-4(昭和化成工業社)
エポキシ硬化剤5:キュアゾールC11Z-CN(四国化成工業社)
エポキシ硬化剤6:ジアミノジフェニルスルホン
[Epoxy curing agent]
Epoxy curing agent 1: Nikalac MW30 (Sanwa Chemical Co., Ltd.)
Epoxy curing agent 2: Nikalac MX730 (Sanwa Chemical Co., Ltd.)
Epoxy curing agent 3: Rikashid MH-700 (Shin Nihon Rika Co., Ltd.)
Epoxy curing agent 4: H-4 (Showa Kasei Kogyo Co., Ltd.)
Epoxy curing agent 5: Cursol C11Z-CN (Shikoku Kasei Co., Ltd.)
Epoxy curing agent 6: diaminodiphenylsulfone
なお、エポキシ硬化剤1~2はメラミン樹脂であり、エポキシ硬化剤3~6は、トリアジン環を含む化合物には該当しない。
[難燃剤]
難燃剤1:SPH-100(大塚化学社)
難燃剤2:HCA(三光社)
[Flame retardants]
Flame retardant 1: SPH-100 (Otsuka Chemical Co., Ltd.)
Flame retardant 2: HCA (Sankosha)
<評価>
上記調製した接着剤組成物を用いて、ガラス転移点(Tg)、剥離強度、半田耐熱性及び耐マイグレーション性を下記方法に従って評価した。
<Evaluation>
Using the adhesive composition prepared above, the glass transition point (Tg), peel strength, solder heat resistance and migration resistance were evaluated according to the following methods.
[ガラス転移点(Tg)]
接着剤組成物No.1~17の硬化物から幅10mm、長さ50mm、厚さ20μmの試験片を作製し、この試験片をチャック間長さを20mmとして動的粘弾性測定装置(DMA)(日立ハイテクソリューション社)にて、昇温速度10℃/分、周波数1Hzで測定し、貯蔵弾性率E’(MPa)の変曲点を接着剤組成物の硬化後のガラス転移温度(Tg)とした。結果を下記表1に示す。
[Glass transition point (Tg)]
Adhesive composition no. A test piece with a width of 10 mm, a length of 50 mm, and a thickness of 20 μm was prepared from the cured product of No. 1 to 17, and the length between chucks of this test piece was set to 20 mm. was measured at a heating rate of 10° C./min and a frequency of 1 Hz, and the inflection point of the storage elastic modulus E′ (MPa) was defined as the glass transition temperature (Tg) of the adhesive composition after curing. The results are shown in Table 1 below.
[剥離強度]
厚さ12.5μmのポリイミドフィルムに接着剤組成物No.1~17を接着剤層の厚さが20μmとなるよう塗工し、カバーレイ用フィルムを作製した。上記カバーレイ用フィルムを厚さ18μmの圧延銅箔に180℃、60分、3MPaの条件でプレス圧着し評価用サンプルを作製した。上記カバーレイ用フィルムから圧延銅箔を剥離する際の剥離強度(N/cm)をJIS-K6584-2:1999「接着剤-はく離接着強さ試験方法、第2部:180度はく離」に準拠し、剥離速度50mm/分で測定した。結果を下記表1に示す。
[Peel strength]
Adhesive composition No. 1 was applied to a polyimide film having a thickness of 12.5 μm. 1 to 17 were coated so that the thickness of the adhesive layer was 20 μm to prepare a coverlay film. The coverlay film was press-bonded to a rolled copper foil having a thickness of 18 μm under the conditions of 180° C., 60 minutes, and 3 MPa to prepare an evaluation sample. The peel strength (N / cm) when peeling the rolled copper foil from the above coverlay film is based on JIS-K6584-2: 1999 "Adhesive-Peeling adhesive strength test method, Part 2: 180 degree peeling". and measured at a peel speed of 50 mm/min. The results are shown in Table 1 below.
[半田耐熱性]
厚さ12.5μmのポリイミドフィルムに接着剤組成物No.1~17を接着剤層の厚さが20μmとなるよう塗工し、カバーレイ用フィルムを作製した。上記カバーレイ用フィルムを厚さ18μmの圧延銅箔に180℃、60分、3MPaの条件でプレス圧着し評価用サンプルを作製した。上記評価用サンプルを280℃から340℃まで10℃ずつ異なる各温度の半田槽に10秒間浸漬し、目視で基板を観察し、外観変化が観察されない上限温度を半田耐熱温度とした。結果を下記表1に示す。なお、下記表1中、「<280」とは、280℃の半田槽に浸漬した場合に外観変化が観察されたことを示す。
[Solder heat resistance]
Adhesive composition No. 1 was applied to a polyimide film having a thickness of 12.5 μm. 1 to 17 were coated so that the thickness of the adhesive layer was 20 μm to prepare a coverlay film. The coverlay film was press-bonded to a rolled copper foil having a thickness of 18 μm under the conditions of 180° C., 60 minutes, and 3 MPa to prepare an evaluation sample. The evaluation sample was immersed in a solder bath with a temperature difference of 10° C. from 280° C. to 340° C. for 10 seconds, and the board was visually observed. The results are shown in Table 1 below. In Table 1 below, "<280" indicates that a change in appearance was observed when immersed in a solder bath at 280°C.
[耐イオンマイグレーション性1]
厚さ12.5μmのポリイミドフィルムに接着剤組成物No.1~17を接着剤層の厚さが20μmとなるよう塗工し、カバーレイ用フィルムを作製した。上記カバーレイ用フィルムを回路幅/回路間距離(L/S)=10μm/10μmにくし形に銅回路を形成した基板に180℃、60分、3MPaの条件でプレス圧着し評価用基板を作製した。上記評価用基板に85℃、85%RH(相対湿度)の条件下で30Vの電圧を500時間印加した。耐イオンマイグレーション性1は、500時間経過時点で短絡がない場合は「A(良好)」と、250時間以上500時間未満の間に短絡が見られた場合は「B(不良)」と、100時間以上250時間未満の間に短絡が見られた場合は「C(極めて不良)」と評価した。結果を下記表1に示す。
[Ion migration resistance 1]
Adhesive composition No. 1 was applied to a polyimide film having a thickness of 12.5 μm. 1 to 17 were coated so that the thickness of the adhesive layer was 20 μm to prepare a coverlay film. The above coverlay film was press-bonded to a substrate having a comb-shaped copper circuit formed with a circuit width/inter-circuit distance (L/S) of 10 μm/10 μm under the conditions of 180° C., 60 minutes, and 3 MPa to prepare an evaluation substrate. did. A voltage of 30 V was applied to the evaluation substrate for 500 hours under conditions of 85° C. and 85% RH (relative humidity).
[耐イオンマイグレーション性2]
厚さ12.5μmのポリイミドフィルムに接着剤組成物No.1~17を接着剤層の厚さが20μmとなるよう塗工し、カバーレイ用フィルムを作製した。上記カバーレイ用フィルムを回路幅/回路間距離(L/S)=25μm/25μmにくし形に銅回路を形成した基板に180℃、60分、3MPaの条件でプレス圧着し評価用基板を作製した。上記評価用基板に110℃、85%RHの条件下で32Vの電圧を24時間印加した。耐マイグレーション性2は、24時間経過時点でキーエンス製のデジタル顕微鏡(VHX-5000)を用いて評価基板を観察し、陰極側に銅の析出を示すデンドライトが観察されなかった場合は「A(良好)」と、デンドライトが観察された場合は「B(不良)」と評価した。結果を下記表1に示す。
[Ion migration resistance 2]
Adhesive composition No. 1 was applied to a polyimide film having a thickness of 12.5 μm. 1 to 17 were coated so that the thickness of the adhesive layer was 20 μm to prepare a coverlay film. The above film for coverlay was press-bonded to a board on which a comb-shaped copper circuit was formed with a circuit width/inter-circuit distance (L/S) = 25 µm/25 µm under the conditions of 180°C, 60 minutes, and 3 MPa to prepare a substrate for evaluation. did. A voltage of 32 V was applied to the evaluation substrate under conditions of 110° C. and 85% RH for 24 hours.
また、接着剤組成物No.2、3及び14を用いた場合の顕微鏡画像を図2~4にそれぞれ示す。
<評価結果>
上記表1に示すように、ポリアミドイミド樹脂とエポキシ樹脂とエポキシ硬化剤としてトリアジン環を有する化合物とを含有する接着剤組成物No.1~12は、剥離強度及び半田耐熱性に優れており、かつ優れた耐イオンマイグレーション性を有することが分かった。一方、エポキシ硬化剤としてトリアジン環を有する化合物以外のエポキシ硬化剤を含有する接着剤組成物No.13~17は、接着剤組成物No.1~12と比較して、剥離強度が低く、耐イオンマイグレーション性に劣ることが分かった。
<Evaluation results>
As shown in Table 1 above, adhesive composition No. 1 containing a polyamideimide resin, an epoxy resin, and a compound having a triazine ring as an epoxy curing agent. It was found that Nos. 1 to 12 are excellent in peel strength and solder heat resistance, and have excellent ion migration resistance. On the other hand, adhesive composition No. 1 containing an epoxy curing agent other than a compound having a triazine ring as an epoxy curing agent. 13 to 17 are adhesive composition Nos. As compared with 1 to 12, it was found that the peel strength was low and the ion migration resistance was inferior.
また、図2~4に示すように、接着剤組成物No.2及び3を用いた場合には、回路間に銅の析出を示すデンドライトは観察されなかった。一方、接着剤組成物No.14を用いた場合には、デンドライトが観察された。 Moreover, as shown in FIGS. With 2 and 3, no dendrites indicating copper deposition between the circuits were observed. On the other hand, adhesive composition No. When 14 was used, dendrites were observed.
1 フレキシブルプリント配線板
2 カバーレイ
3 ベースフィルム
4 導電パターン
5 カバーフィルム
6 接着剤層
1 flexible printed
Claims (8)
エポキシ樹脂と、
トリアジン環を有する化合物と
を含有する接着剤組成物。 a polyamide-imide resin;
epoxy resin;
An adhesive composition containing a compound having a triazine ring.
上記接着剤層が接着剤組成物から形成され、
上記接着剤組成物がポリアミドイミド樹脂と、エポキシ樹脂と、トリアジン環を有する化合物とを含有するフレキシブルプリント配線板用カバーレイ。 A flexible printed wiring board coverlay comprising a cover film and an adhesive layer laminated on the cover film,
The adhesive layer is formed from an adhesive composition,
A coverlay for a flexible printed wiring board, wherein the adhesive composition contains a polyamideimide resin, an epoxy resin, and a compound having a triazine ring.
上記カバーレイが、カバーフィルムと、このカバーフィルムに積層される接着剤層とを備え、
上記接着剤層が接着剤組成物から形成され、
上記接着剤組成物がポリアミドイミド樹脂と、エポキシ樹脂と、トリアジン環を有する化合物とを含有するフレキシブルプリント配線板。
A flexible printed wiring board comprising a base film, a conductive pattern laminated directly or indirectly on the base film, and a coverlay laminated on the base film and the conductive pattern,
The coverlay comprises a cover film and an adhesive layer laminated on the cover film,
The adhesive layer is formed from an adhesive composition,
A flexible printed wiring board, wherein the adhesive composition contains a polyamideimide resin, an epoxy resin, and a compound having a triazine ring.
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005154511A (en) | 2003-11-21 | 2005-06-16 | Fujikura Ltd | Nonhalogen flame-retardant adhesive composition and its use |
JP2006282891A (en) | 2005-04-01 | 2006-10-19 | Yunimatekku Kk | Adhesive containing triazinetrithiol compound |
JP2010155975A (en) | 2008-12-05 | 2010-07-15 | Toyobo Co Ltd | Polyimide resin, method for producing the same, adhesive composition using the same, adhesive sheet, printing ink composition, and printed circuit board |
WO2017158917A1 (en) | 2016-03-15 | 2017-09-21 | 東洋紡株式会社 | Adhesive composition including polyamide-imide resin |
-
2019
- 2019-10-04 JP JP2019184093A patent/JP7198190B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2010155975A (en) | 2008-12-05 | 2010-07-15 | Toyobo Co Ltd | Polyimide resin, method for producing the same, adhesive composition using the same, adhesive sheet, printing ink composition, and printed circuit board |
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