JP7195887B2 - Pressure fluctuation adsorption device - Google Patents

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  • Separation Of Gases By Adsorption (AREA)

Description

本発明は、圧力変動吸着装置に関する。 The present invention relates to a pressure swing adsorption device.

従来より、吸着剤として分子篩炭素(MSC:Molecular Sieving Carbon)を用いた圧力変動吸着(PSA:Pressure Swing Adsorption)法によって、原料ガスとなる空気から窒素富化ガスを分離して製造する圧力変動吸着装置(以下、PSA装置という。)がある(例えば、下記特許文献1,2を参照。)。 Conventionally, pressure swing adsorption (PSA) method using molecular sieve carbon (MSC) as an adsorbent is used to separate nitrogen-enriched gas from air, which is the source gas. There is an apparatus (hereinafter referred to as a PSA apparatus) (for example, see Patent Documents 1 and 2 below).

窒素富化ガスは、空気よりも窒素濃度が高く酸素濃度の低いガスのことである。また、窒素富化ガスとして、高純度(99%~99.999%)の窒素ガスを含むものとする。このような窒素富化ガスは、防爆用のパージガスや熱処理炉の雰囲気ガス用など、多くの用途で利用されている。MSCは、活性炭の一種であり、酸素と窒素との吸着速度の差を利用して、空気中から酸素を優先的に吸着し、残りの窒素を高純度で分離するものである。 A nitrogen-rich gas is a gas that has a higher nitrogen concentration and a lower oxygen concentration than air. Also, the nitrogen-enriched gas includes high-purity (99% to 99.999%) nitrogen gas. Such a nitrogen-enriched gas is used in many applications such as an explosion-proof purge gas and a heat treatment furnace atmosphere gas. MSC is a type of activated carbon, and uses the difference in adsorption speed between oxygen and nitrogen to preferentially adsorb oxygen from the air and separate the remaining nitrogen with high purity.

特開平5-7719号公報JP-A-5-7719 特許第4365403号公報Japanese Patent No. 4365403

ところで、PSA装置では、一対の吸着塔を用いて、窒素富化ガスの分離を交互に切り替えて行うことが一般的である。さらに、一対の吸着塔を並べて配置し、吸着塔の数を増やして、窒素富化ガスの収率を高めることが行われている。 By the way, in the PSA apparatus, a pair of adsorption towers are generally used to alternately separate the nitrogen-enriched gas. Furthermore, a pair of adsorption towers are arranged side by side to increase the number of adsorption towers and increase the yield of nitrogen-enriched gas.

一方、吸着塔の数を増やした場合には、これら複数の吸着塔を設置するためのスペースを確保した上で、各部を接続する配管などを効率良く配置し、省スペース化を図ることが求められる。 On the other hand, when the number of adsorption towers is increased, it is necessary to secure space for installing these multiple adsorption towers, and to efficiently arrange the pipes that connect each part to save space. be done.

また、PSA装置の中には、吸着塔に加圧した状態で導入される原料ガスを一時的に貯留する原料ガス貯留槽を備えたものがある。この構成の場合、一対の吸着塔と接続される原料ガス導入配管を配置する必要がある。 Further, some PSA apparatuses are provided with a raw material gas storage tank for temporarily storing the raw material gas introduced into the adsorption tower in a pressurized state. In the case of this configuration, it is necessary to arrange source gas introduction pipes connected to the pair of adsorption towers.

さらに、PSA装置の中には、吸着塔から排出される排ガスを大気中に放出(大気開放)する際の騒音を低減するサイレンサーを備えたものがある。この構成の場合、一対の吸着塔と接続される排ガス導出配管を配置する必要がある。 Furthermore, some PSA devices are equipped with a silencer that reduces noise when the exhaust gas discharged from the adsorption tower is released into the atmosphere (released to the atmosphere). In the case of this configuration, it is necessary to arrange exhaust gas lead-out pipes connected to the pair of adsorption towers.

しかしながら、従来のPSA装置では、原料ガス貯留槽やサイレンサー、原料ガス導入配管、排ガス導出配管などの各部の配置について特に考慮されておらず、これら各部の設置スペースを縮小化する検討はなされてこなかった。 However, in the conventional PSA apparatus, no particular consideration is given to the arrangement of each part such as the raw material gas storage tank, the silencer, the raw material gas introduction pipe, the exhaust gas discharge pipe, etc., and no consideration has been given to reducing the installation space of each of these parts. rice field.

本発明は、このような従来の事情に鑑みて提案されたものであり、各部の配置を効率化し、各部の設置スペースを縮小化することを可能とした圧力変動吸着装置を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been proposed in view of such conventional circumstances, and an object of the present invention is to provide a pressure fluctuation adsorption apparatus that makes it possible to efficiently arrange each part and reduce the installation space of each part. and

上記目的を達成するために、本発明は以下の手段を提供する。
〔1〕 吸着剤が充填された複数の吸着塔と、
前記複数の吸着塔の中から順次選択される吸着塔に対して原料ガスを導入する原料ガス導入部とを備え、
前記原料ガス導入部は、前記複数の吸着塔で囲まれる領域の内側且つ起立した状態の前記複数の吸着塔の間に配置された分岐管と、前記分岐管から分岐して設けられた複数の原料ガス導入配管と、前記複数の吸着塔で囲まれる領域の外側に配置された原料ガス貯留槽とを有し、
前記原料ガス導入配管の一部は、隣り合う吸着塔の間を通して前記分岐管と前記原料ガス貯留槽との間を接続していることを特徴とする圧力変動吸着装置。
〔2〕 前記複数の吸着塔の中から順次選択される吸着塔から排ガスを導出する排ガス導出部を備え、
前記排ガス導出部は、前記複数の吸着塔で囲まれる領域の内側且つ起立した状態の前記複数の吸着塔の間に配置された分岐管と、前記分岐管から分岐して設けられた複数の排ガス導出配管と、前記複数の吸着塔で囲まれる領域の外側に配置されたサイレンサーとを有し、
前記排ガス導出配管の一部は、隣り合う吸着塔の間を通して前記分岐管と前記サイレンサーとの間を接続していることを特徴とする前記〔1〕に記載の圧力変動吸着装置。
〔3〕 吸着剤が充填された複数の吸着塔と、
前記複数の吸着塔の中から順次選択される吸着塔に対して原料ガスを導入する原料ガス導入部と、
前記複数の吸着塔の中から順次選択される吸着塔から排ガスを導出する排ガス導出部を備え、
前記排ガス導出部は、前記複数の吸着塔で囲まれる領域の内側且つ起立した状態の前記複数の吸着塔の間に配置された分岐管と、前記分岐管から分岐して設けられた複数の排ガス導出配管と、前記複数の吸着塔で囲まれる領域の外側に配置されたサイレンサーとを有し、
前記排ガス導出配管の一部は、隣り合う吸着塔の間を通して前記分岐管と前記サイレンサーとの間を接続していることを特徴とする圧力変動吸着装置
〕 前記複数の吸着塔は、対となる一方の吸着塔と他方の吸着塔とが少なくとも2対以上並んで配置された構成を有することを特徴とする前記〔1〕~〔〕の何れか一項に記載の圧力変動吸着装置。
〕 前記複数の吸着塔は、2対の吸着塔を構成する4つの吸着塔が矩形領域の各頂点に位置するように配置され、
前記分岐管は、前記矩形領域の内側に配置されていることを特徴とする前記〔〕に記載の圧力変動吸着装置。
〔6〕 前記分岐管の中心は、前記矩形領域の2つの対角線の交点に位置するように配置されていることを特徴とする前記〔5〕に記載の圧力変動吸着装置。
〔7〕 前記吸着剤として、分子篩炭素を用いることを特徴とする前記〔1〕~〔6〕の何れか一項に記載の圧力変動吸着装置。
〔8〕 前記原料ガスとなる空気から窒素を含む窒素富化ガスを分離して製造する窒素富化ガス製造装置であることを特徴とする前記〔1〕~〔7〕の何れか一項に記載の圧力変動吸着装置。
In order to achieve the above object, the present invention provides the following means.
[1] a plurality of adsorption towers filled with an adsorbent;
a raw material gas introduction unit for introducing a raw material gas into the adsorption towers sequentially selected from the plurality of adsorption towers,
The raw material gas introduction part includes a branch pipe arranged inside a region surrounded by the plurality of adsorption towers and between the plurality of adsorption towers in an upright state, and a plurality of branch pipes branched from the branch pipe. having a source gas introduction pipe and a source gas storage tank arranged outside the region surrounded by the plurality of adsorption towers;
A pressure fluctuation adsorption apparatus , wherein a part of the source gas introduction pipe connects between the branch pipe and the source gas storage tank through the adjacent adsorption towers .
[2] comprising an exhaust gas lead-out unit for leading exhaust gas from adsorption towers sequentially selected from among the plurality of adsorption towers,
The exhaust gas lead-out part includes a branch pipe disposed between the plurality of adsorption towers in an upright state inside a region surrounded by the plurality of adsorption towers, and a plurality of exhaust gases branched from the branch pipe. Having an outlet pipe and a silencer arranged outside the area surrounded by the plurality of adsorption towers,
The pressure swing adsorption apparatus according to [1] above, wherein a part of the exhaust gas lead-out pipe connects between the branch pipe and the silencer through the adjacent adsorption towers.
[3] a plurality of adsorption towers filled with adsorbent;
a source gas introduction unit that introduces a source gas into an adsorption tower that is sequentially selected from the plurality of adsorption towers;
An exhaust gas derivation unit for deriving exhaust gas from adsorption towers sequentially selected from the plurality of adsorption towers,
The exhaust gas lead-out part includes a branch pipe disposed between the plurality of adsorption towers in an upright state inside a region surrounded by the plurality of adsorption towers, and a plurality of exhaust gases branched from the branch pipe. Having an outlet pipe and a silencer arranged outside the area surrounded by the plurality of adsorption towers,
A pressure fluctuation adsorption apparatus , wherein a part of the exhaust gas lead-out pipe connects between the branch pipe and the silencer through the adjacent adsorption towers .
[ 4 ] The above [1] to [ 3 ], wherein the plurality of adsorption towers have a configuration in which at least two pairs of one adsorption tower and the other adsorption tower are arranged side by side. The pressure fluctuation adsorption device according to any one of claims 1 to 3.
[ 5 ] The plurality of adsorption towers are arranged such that four adsorption towers constituting two pairs of adsorption towers are positioned at each vertex of a rectangular area,
The pressure fluctuation adsorption device according to [ 4 ], wherein the branch pipe is arranged inside the rectangular region.
[6] The pressure fluctuation adsorption device according to [5], wherein the center of the branch pipe is positioned at the intersection of two diagonal lines of the rectangular area.
[7] The pressure swing adsorption device according to any one of [1] to [6], wherein a carbon molecular sieve is used as the adsorbent.
[8] The apparatus for producing a nitrogen-enriched gas according to any one of [1] to [7] above, which is a nitrogen-enriched gas production apparatus that separates and produces a nitrogen-containing nitrogen-enriched gas from air serving as the raw material gas. A pressure swing adsorption device as described.

以上のように、本発明によれば、各部の配置を効率化し、各部の設置スペースを縮小化することを可能とした圧力変動吸着装置を提供することが可能である。 As described above, according to the present invention, it is possible to provide a pressure fluctuation adsorption apparatus that makes it possible to efficiently arrange each part and reduce the installation space of each part.

本発明の一実施形態に係る圧力変動吸着装置の一構成例を示す系統図である。1 is a system diagram showing one configuration example of a pressure fluctuation adsorption device according to one embodiment of the present invention; FIG. 図1に示す圧力変動吸着装置において、一方の吸着塔で加圧吸着工程を行い、他方の吸着塔で減圧再生工程を行う状態を示す系統図である。FIG. 2 is a system diagram showing a state in which one adsorption tower performs a pressurized adsorption step and the other adsorption tower performs a reduced pressure regeneration step in the pressure swing adsorption apparatus shown in FIG. 1 . 図1に示す圧力変動吸着装置において、一方の吸着塔で減圧均圧工程を行い、他方の吸着塔で加圧均圧工程を行う状態を示す系統図である。FIG. 2 is a system diagram showing a state in which one adsorption tower performs a pressure equalization step and the other adsorption tower performs a pressurization pressure equalization step in the pressure fluctuation adsorption apparatus shown in FIG. 1 . 図1に示す圧力変動吸着装置において、一方の吸着塔で減圧再生工程を行い、他方の吸着塔で加圧吸着工程を行う状態を示す系統図である。FIG. 2 is a system diagram showing a state in which one adsorption tower performs a reduced pressure regeneration step and the other adsorption tower performs a pressurized adsorption step in the pressure swing adsorption apparatus shown in FIG. 1 . 図1に示す圧力変動吸着装置において、一方の吸着塔で加圧均圧工程を行い、他方の吸着塔で減圧均圧工程を行う状態を示す系統図である。FIG. 2 is a system diagram showing a state in which one adsorption tower performs a pressurization pressure equalization step and the other adsorption tower performs a depressurization pressure equalization step in the pressure fluctuation adsorption apparatus shown in FIG. 1 . 図1に示す圧力変動吸着装置の原料ガス導入部の構成を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing the configuration of a source gas introduction section of the pressure fluctuation adsorption device shown in FIG. 1; 図1に示す圧力変動吸着装置の排ガス導出部の構成を示す平面図である。2 is a plan view showing the configuration of an exhaust gas lead-out part of the pressure fluctuation adsorption device shown in FIG. 1. FIG. 図1に示す圧力変動吸着装置の構成を示す正面図である。FIG. 2 is a front view showing the configuration of the pressure fluctuation adsorption device shown in FIG. 1; 6つの吸着塔を備えた圧力変動吸着装置の原料ガス導入部の構成を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing the configuration of the raw material gas introduction section of the pressure fluctuation adsorption device provided with six adsorption towers. 図9に示す圧力変動吸着装置の排ガス導出部の構成を示す平面図である。FIG. 10 is a plan view showing the configuration of an exhaust gas lead-out part of the pressure fluctuation adsorption device shown in FIG. 9; 8つの吸着塔を備えた圧力変動吸着装置の原料ガス導入部の構成を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing the configuration of the raw material gas introduction section of the pressure fluctuation adsorption device provided with eight adsorption towers. 図11に示す圧力変動吸着装置の排ガス導出部の構成を示す平面図である。FIG. 12 is a plan view showing the configuration of an exhaust gas lead-out part of the pressure fluctuation adsorption device shown in FIG. 11;

以下、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
なお、以下の説明で用いる図面においては、各構成要素を見やすくするため、構成要素によって寸法の縮尺を異ならせて示すことがあり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
In the drawings used in the following description, the scale of dimensions may vary depending on the component in order to make it easier to see each component, and the dimensional ratio of each component may not necessarily be the same as the actual No.

本発明の一実施形態として、例えば図1に示す圧力変動吸着装置(以下、PSA装置という。)1について説明する。なお、図1は、PSA装置1の一構成例を示す系統図である。 As one embodiment of the present invention, for example, a pressure fluctuation adsorption apparatus (hereinafter referred to as a PSA apparatus) 1 shown in FIG. 1 will be described. FIG. 1 is a system diagram showing one configuration example of the PSA device 1. As shown in FIG.

本実施形態のPSA装置1は、図1に示すように、原料ガスG1となる空気(Air)から製品ガスG2となる窒素(N)を含む窒素富化ガスを分離して製造する窒素富化ガス製造装置に本発明を適用したものである。 As shown in FIG. 1, the PSA apparatus 1 of the present embodiment is a nitrogen-rich gas that is produced by separating a nitrogen-rich gas containing nitrogen (N 2 ) as a product gas G2 from air (Air) that is a raw material gas G1. The present invention is applied to a chemical gas production apparatus.

なお、ここで言う窒素富化ガスとは、空気よりも窒素濃度が高く酸素濃度の低いガスのことである。また、窒素富化ガスとして、高純度(99%~99.999%)の窒素ガスを含むものとする。また、窒素ガスの純度については、製品ガスG2中に含まれる不純物(酸素)を除いたガス成分の濃度を示す。 The nitrogen-enriched gas referred to here is a gas having a higher nitrogen concentration and a lower oxygen concentration than air. Also, the nitrogen-enriched gas includes high-purity (99% to 99.999%) nitrogen gas. Further, the purity of the nitrogen gas indicates the concentration of gas components excluding impurities (oxygen) contained in the product gas G2.

具体的に、このPSA装置1は、吸着剤Sが充填された複数(本実施形態では4つ)の吸着塔2A~2Dを備えている。複数の吸着塔2A~2Dは、基本的に同じ構成であり、中空円筒状に形成されて、その下部側に下部側配管3aと、その上部側に上部側配管3bとがそれぞれ接続された構成を有している。 Specifically, this PSA device 1 includes a plurality of (four in this embodiment) adsorption towers 2A to 2D filled with an adsorbent S. The plurality of adsorption towers 2A to 2D basically have the same configuration, and are formed in a hollow cylindrical shape, and a configuration in which a lower side pipe 3a is connected to the lower side and an upper side pipe 3b is connected to the upper side. have.

なお、吸着塔2A~2Dが後述する加圧吸着工程にある場合、下部側配管3aは、原料ガスG1を吸着塔2A~2Dに導入する配管として用いられる。一方、上部側配管3bは、窒素を含む製品ガスG2を吸着塔2A~2Dから導出する配管として用いられる。これに対して、吸着塔2A~2Dが後述する減圧再生工程にある場合、下部側配管3aは、吸着剤Sから脱離された酸素を含む排ガスG3を吸着塔2A~2Dから導出する配管として用いられる。 When the adsorption towers 2A to 2D are in the pressure adsorption step, which will be described later, the lower pipe 3a is used as a pipe for introducing the source gas G1 into the adsorption towers 2A to 2D. On the other hand, the upper pipe 3b is used as a pipe for leading out the nitrogen-containing product gas G2 from the adsorption towers 2A to 2D. On the other hand, when the adsorption towers 2A to 2D are in the reduced-pressure regeneration process described later, the lower pipe 3a serves as a pipe for leading the exhaust gas G3 containing oxygen desorbed from the adsorbent S from the adsorption towers 2A to 2D. Used.

また、複数の吸着塔2A~2Dは、対となる一方の吸着塔と他方の吸着塔とが少なくとも2対以上(本実施形態では2対)並んで配置された構成を有している。本実施形態では、4つの吸着塔2A~2Dのうち、対となる一方の吸着塔2A及び他方の吸着塔2Bと、対となる一方の吸着塔2C及び他方の吸着塔2Dとを有している。一対の吸着塔2A,2Bと一対の吸着塔2C,2Dとは、互いに同じ構成を有している。 Also, the plurality of adsorption towers 2A to 2D have a configuration in which at least two pairs (two pairs in this embodiment) of one adsorption tower and the other adsorption tower forming a pair are arranged side by side. In the present embodiment, among the four adsorption towers 2A to 2D, one adsorption tower 2A and the other adsorption tower 2B that form a pair, and one adsorption tower 2C and the other adsorption tower 2D that form a pair. there is The pair of adsorption towers 2A, 2B and the pair of adsorption towers 2C, 2D have the same configuration.

吸着剤Sは、各吸着塔2A~2Dの内部に充填されている。本実施形態では、吸着剤Sとして、分子篩炭素(MSC)を用いている。MSCは、活性炭の一種であり、酸素(O)と窒素(N)との吸着速度の差を利用して、原料ガスG1となる空気中から酸素を吸着し、残った窒素を含む製品ガスG2を分離するものである。また、吸着剤Sの再生時には、排ガスG3として酸素を含む不要なガスを吸着剤Sから脱離する。なお、吸着剤Sには、上述したMSC以外にも、圧力差により酸素を選択的に吸着及び脱離できる物質を用いることができる。 Adsorbent S is packed inside each of the adsorption towers 2A to 2D. In this embodiment, as the adsorbent S, molecular sieve carbon (MSC) is used. MSC is a type of activated carbon that uses the difference in adsorption speed between oxygen (O 2 ) and nitrogen (N 2 ) to adsorb oxygen from the air that serves as the raw material gas G1. It separates the gas G2. Further, when the adsorbent S is regenerated, an unnecessary gas containing oxygen is desorbed from the adsorbent S as the exhaust gas G3. As the adsorbent S, other than the MSC described above, a substance capable of selectively adsorbing and desorbing oxygen by a pressure difference can be used.

本実施形態のPSA装置1は、吸着塔2A~2Dに対して加圧した状態の原料ガスG1を導入する原料ガス導入部4と、吸着塔2A~2Dから製品ガスG2を導出する製品ガス導出部5と、吸着塔2A~2Dから排ガスG3を導出する排ガス導出部6と、一方の吸着塔2A,2Cと他方の吸着塔2B,2Dとの間の圧力を均圧化する圧力均圧部7とを備えている。 The PSA device 1 of the present embodiment includes a source gas introduction section 4 that introduces a pressurized source gas G1 into the adsorption towers 2A to 2D, and a product gas lead-out that leads out the product gas G2 from the adsorption towers 2A to 2D. 5, an exhaust gas lead-out part 6 that leads out the exhaust gas G3 from the adsorption towers 2A to 2D, and a pressure equalization part that equalizes the pressure between the adsorption towers 2A and 2C on one side and the adsorption towers 2B and 2D on the other side. 7.

原料ガス導入部4は、一方の吸着塔2A,2Cの下部側配管3aと接続された第1の原料ガス導入配管8aと、他方の吸着塔2B,2Dの下部側配管3aと接続された第2の原料ガス導入配管8bと、第1の原料ガス導入配管8a及び第2の原料ガス導入配管8bと接続された第3の原料ガス導入配管8cとを有している。原料ガス導入部4は、これらの原料ガス導入配管8a~8cを通して各吸着塔2A~2Dに対して加圧した状態の原料ガスG1を導入する。 The raw material gas introduction part 4 includes a first raw material gas introduction pipe 8a connected to the lower pipe 3a of one of the adsorption towers 2A and 2C, and a first pipe 8a connected to the lower pipe 3a of the other adsorption towers 2B and 2D. 2 raw material gas introduction pipes 8b and a third raw material gas introduction pipe 8c connected to the first raw material gas introduction pipes 8a and the second raw material gas introduction pipes 8b. The raw material gas introduction unit 4 introduces the raw material gas G1 in a pressurized state into the adsorption towers 2A to 2D through the raw material gas introduction pipes 8a to 8c.

また、原料ガス導入部4は、第1の原料ガス導入配管8aを開閉する第1の原料ガス導入側開閉弁9aと、第2の原料ガス導入配管8bを開閉する第2の原料ガス導入側開閉弁9bとを有している。原料ガス導入部4は、これらの原料ガス導入側開閉弁9a,9bの開閉を切り替えることによって、各吸着塔2A~2Dに対する原料ガスG1の導入を切り替える。 The raw material gas introduction unit 4 also includes a first raw material gas introduction side on-off valve 9a for opening and closing the first raw material gas introduction pipe 8a, and a second raw material gas introduction side opening and closing valve for opening and closing the second raw material gas introduction pipe 8b. It has an on-off valve 9b. The source gas introduction unit 4 switches the introduction of the source gas G1 to each of the adsorption towers 2A to 2D by switching between opening and closing of the source gas introduction side on-off valves 9a and 9b.

また、原料ガス導入部4は、吸着塔2A,2B側の第3の原料ガス導入配管8c及び吸着塔2C,2D側の第3の原料ガス導入配管8cと接続された第4の原料ガス導入配管8dと、第4の原料ガス導入配管8dと接続された原料ガス貯留槽10と、原料ガス貯留槽10と接続された第5の原料ガス導入配管8eとを有している。 In addition, the source gas introduction section 4 is connected to the third source gas introduction pipe 8c on the side of the adsorption towers 2A and 2B and the third source gas introduction pipe 8c on the side of the adsorption towers 2C and 2D. It has a pipe 8 d , a source gas storage tank 10 connected to the fourth source gas introduction pipe 8 d , and a fifth source gas introduction pipe 8 e connected to the source gas storage tank 10 .

第5の原料ガス導入配管8eの入側には、吸着塔2A~2Dに導入される原料ガスG1を加圧する圧縮機11が接続されている。圧縮機11については、原料ガスG1中に含まれる酸素を吸着剤Sに吸着させるのに十分な圧力(本実施形態では300~999kPaG)まで、原料ガスG1を加圧できるものであればよく、例えば、スクロール式などの様々な方式のものを用いることが可能である。 A compressor 11 for pressurizing the raw material gas G1 introduced into the adsorption towers 2A to 2D is connected to the inlet side of the fifth raw material gas introduction pipe 8e. Regarding the compressor 11, it is sufficient that the source gas G1 can be pressurized to a pressure sufficient to cause the adsorbent S to adsorb oxygen contained in the source gas G1 (300 to 999 kPaG in this embodiment). For example, it is possible to use various systems such as a scroll system.

原料ガス貯留槽10は、レシーバータンクとして、圧縮機11により加圧された原料ガスG1を一時的に貯留する。これにより、圧縮機11の出側における急激な圧力上昇を防ぐことが可能である。 The raw material gas storage tank 10 temporarily stores the raw material gas G1 pressurized by the compressor 11 as a receiver tank. Thereby, it is possible to prevent a rapid pressure increase on the outlet side of the compressor 11 .

加圧された状態の原料ガスG1は、第5の原料ガス導入配管8eを通して原料ガス貯留槽10に導入され、第4の原料ガス導入配管8dを通して原料ガス貯留槽10から導出される。 The pressurized source gas G1 is introduced into the source gas storage tank 10 through the fifth source gas introduction pipe 8e and discharged from the source gas storage tank 10 through the fourth source gas introduction pipe 8d.

製品ガス導出部5は、一方の吸着塔2A,2Cの上部側配管3bと接続された第1の製品ガス導出配管12aと、他方の吸着塔2B,2Dの上部側配管3bと接続された第2の製品ガス導出配管12bと、第1の製品ガス導出配管12a及び第2の製品ガス導出配管12bと接続された第3の製品ガス導出配管12cとを有している。製品ガス導出部5は、これらの製品ガス導出配管12a~12cを通して各吸着塔2A~2Dから製品ガスG2を導出する。 The product gas lead-out portion 5 includes a first product gas lead-out pipe 12a connected to the upper pipe 3b of one of the adsorption towers 2A and 2C, and a first product gas lead-out pipe 12a connected to the upper pipe 3b of the other adsorption towers 2B and 2D. It has two product gas lead-out lines 12b and a third product gas lead-out line 12c connected to the first product gas lead-out line 12a and the second product gas lead-out line 12b. The product gas lead-out section 5 leads out the product gas G2 from each of the adsorption towers 2A-2D through these product gas lead-out pipes 12a-12c.

また、製品ガス導出部5は、第1の製品ガス導出配管12aを開閉する第1の製品ガス導出側開閉弁13aと、第2の製品ガス導出配管12bを開閉する第2の製品ガス導出側開閉弁13bとを有している。製品ガス導出部5は、これらの製品ガス導出側開閉弁13a,13bの開閉を切り替えることによって、各吸着塔2A~2Dから製品ガスG2の導出を切り替える。 The product gas lead-out portion 5 also includes a first product gas lead-out side on-off valve 13a for opening and closing the first product gas lead-out pipe 12a, and a second product gas lead-out side valve 13a for opening and closing the second product gas lead-out pipe 12b. It has an on-off valve 13b. The product gas lead-out unit 5 switches the lead-out of the product gas G2 from each of the adsorption towers 2A to 2D by switching between opening and closing of these product gas lead-out side on-off valves 13a and 13b.

また、製品ガス導出部5は、吸着塔2A,2B側の第3の製品ガス導出配管12c及び吸着塔2C,2D側の第3の製品ガス導出配管12cと接続された第4の製品ガス導出配管12dと、第4の製品ガス導出配管12dと接続された製品ガス貯留槽14と、製品ガス貯留槽14と接続された第5の製品ガス導出配管12eとを有している。 Further, the product gas lead-out part 5 is connected to the third product gas lead-out pipe 12c on the side of the adsorption towers 2A, 2B and the third product gas lead-out pipe 12c on the side of the adsorption towers 2C, 2D. It has a pipe 12 d , a product gas storage tank 14 connected to the fourth product gas lead-out pipe 12 d , and a fifth product gas lead-out pipe 12 e connected to the product gas storage tank 14 .

製品ガス貯留槽14は、バッファータンクとして、吸着塔2A~2Dから導出された製品ガスG2を一時的に貯留する。製品ガスG2は、第4の製品ガス導出配管12dを通して製品ガス貯留槽14に導入され、第5の製品ガス導出配管12eを通して製品ガス貯留槽14から導出される。 The product gas storage tank 14 serves as a buffer tank and temporarily stores the product gas G2 derived from the adsorption towers 2A to 2D. The product gas G2 is introduced into the product gas reservoir 14 through the fourth product gas outlet pipe 12d, and is discharged from the product gas reservoir 14 through the fifth product gas outlet pipe 12e.

排ガス導出部6は、一方の吸着塔2A,2Cの下部側配管3aと接続された第1の排ガス導出配管15aと、他方の吸着塔2B,2Dの下部側配管3aと接続された第2の排ガス導出配管15bと、第1の排ガス導出配管15a及び第2の排ガス導出配管15bと接続された第3の排ガス導出配管15cとを有している。排ガス導出部6は、これらの排ガス導出配管15a~15cを通して各吸着塔2A~2Dから排ガスG3を導出する。 The exhaust gas lead-out part 6 includes a first exhaust gas lead-out pipe 15a connected to the lower pipe 3a of one of the adsorption towers 2A and 2C, and a second pipe 3a connected to the lower pipe 3a of the other adsorption towers 2B and 2D. It has an exhaust gas outlet pipe 15b and a third exhaust gas outlet pipe 15c connected to the first exhaust gas outlet pipe 15a and the second exhaust gas outlet pipe 15b. The exhaust gas lead-out part 6 leads out the exhaust gas G3 from each of the adsorption towers 2A-2D through these exhaust gas lead-out pipes 15a-15c.

また、排ガス導出部6は、第1の排ガス導出配管15aを開閉する第1の排ガス導出側開閉弁16aと、第2の排ガス導出配管15bを開閉する第2の排ガス導出側開閉弁16bとを有している。排ガス導出部6は、これらの排ガス導出側開閉弁16a,16bの開閉を切り替えることによって、各吸着塔2A~2Dからの排ガスG3の導出を切り替える。 Further, the exhaust gas lead-out part 6 includes a first exhaust gas lead-out side on-off valve 16a that opens and closes the first exhaust gas lead-out pipe 15a, and a second exhaust gas lead-out side on-off valve 16b that opens and closes the second exhaust gas lead-out pipe 15b. have. The exhaust gas lead-out unit 6 switches the lead-out of the exhaust gas G3 from each of the adsorption towers 2A to 2D by switching between opening and closing of these exhaust gas lead-out side on-off valves 16a and 16b.

第3の排ガス導出配管15cの出側には、サイレンサー17が接続されている。サイレンサー17は、排ガスG3を大気中に放出(大気開放)する際の騒音を低減する。 A silencer 17 is connected to the outlet side of the third exhaust gas lead-out pipe 15c. The silencer 17 reduces noise when the exhaust gas G3 is released into the atmosphere (released to the atmosphere).

圧力均圧部7は、一方の吸着塔2A,2Cの下部側配管3a及び他方の吸着塔2B,2Dの下部側配管3aと接続された第1の均圧配管18aと、一方の吸着塔2A,2Cの上部側配管3b及び他方の吸着塔2B,2Dの上部側配管3bと接続された第2の均圧配管18bと、一方の吸着塔2A,2Cの上部側配管3b及び他方の吸着塔2B,2Dの上部側配管3bと接続された流量調整配管19とを有している。圧力均圧部7は、これらの均圧配管18a,18b及び流量調整配管19を通して一方の吸着塔2A,2Cと他方の吸着塔2B,2Dとの間の圧力差を解消(均圧化)する。 The pressure equalizing unit 7 includes a first pressure equalizing pipe 18a connected to the lower pipes 3a of one of the adsorption towers 2A and 2C and the lower pipes 3a of the other adsorption towers 2B and 2D, and one of the adsorption towers 2A. , 2C upper pipe 3b and the other adsorption tower 2B, 2D upper pipe 3b connected to the second pressure equalization pipe 18b, one adsorption tower 2A, 2C upper pipe 3b and the other adsorption tower It has a flow control pipe 19 connected to the upper pipes 3b of 2B and 2D. The pressure equalizing unit 7 eliminates (equalizes) the pressure difference between the one adsorption towers 2A and 2C and the other adsorption towers 2B and 2D through these pressure equalizing pipes 18a and 18b and the flow rate adjusting pipe 19. .

なお、ここで言う「圧力差を解消(均圧化)する」とは、一方の吸着塔2A,2Cと他方の吸着塔2B,2Dとの間の圧力差を完全に無くすことではない。すなわち、均圧化が完了しても、実際は一方の吸着塔2A,2Cと他方の吸着塔2B,2Dとの間でガスが流れるために必要な圧力差が存在する。また、製品ガスG2中における窒素ガスの純度を維持するために、敢えて一定の圧力差を確保する場合もある。 It should be noted that "to eliminate (equalize) the pressure difference" referred to here does not mean to completely eliminate the pressure difference between the adsorption towers 2A and 2C on one side and the adsorption towers 2B and 2D on the other side. That is, even if pressure equalization is completed, there actually exists a pressure difference necessary for the gas to flow between the adsorption towers 2A, 2C on one side and the adsorption towers 2B, 2D on the other side. Moreover, in order to maintain the purity of the nitrogen gas in the product gas G2, a certain pressure difference may be intentionally secured.

また、圧力均圧部7は、第1の均圧配管18aを開閉する第1の均圧弁20aと、第2の均圧配管18bを開閉する第2の均圧弁20bとを有している。圧力均圧部7は、これらの均圧弁20a,20bの開閉を切り替えることによって、一方の吸着塔2A,2Cと他方の吸着塔2B,2Dとの間の均圧化を行う。 The pressure equalizing unit 7 also has a first pressure equalizing valve 20a for opening and closing the first pressure equalizing pipe 18a and a second pressure equalizing valve 20b for opening and closing the second pressure equalizing pipe 18b. The pressure equalizing unit 7 equalizes the pressure between the adsorption towers 2A and 2C on one side and the adsorption towers 2B and 2D on the other side by switching opening and closing of the pressure equalizing valves 20a and 20b.

なお、本実施形態では、上述した流量調整配管19の径及び長さを調整することによって、一方の吸着塔2A,2Cと他方の吸着塔2B,2Dとの間を流れる再生ガスの流量調整が可能な構成となっている。一方、本実施形態では、このような流量調整配管19を用いる構成以外にも、例えば流量調整弁(ニードル弁)やオリフィスなどの流量調整が可能な構成を採用することが可能である。 In this embodiment, by adjusting the diameter and length of the flow rate adjustment pipe 19 described above, the flow rate of the regeneration gas flowing between the adsorption towers 2A and 2C on one side and the adsorption towers 2B and 2D on the other side can be adjusted. It has a possible configuration. On the other hand, in the present embodiment, other than the configuration using such a flow rate adjustment pipe 19, it is possible to adopt a configuration capable of adjusting the flow rate, such as a flow rate adjustment valve (needle valve) or an orifice.

また、本実施形態では、上述した各原料ガス導入配管8a~8e、各製品ガス導出配管12a~12e、各排ガス導出配管15a~15c、各均圧配管18a,18b及び流量調整配管19として、例えばステンレス(SUS304)などの金属が用いられているが、原料ガスG1や製品ガスG2、排ガスG3と反応せず、高圧に耐え得ることができる材質のものであればよく、これに必ずしも限定されるものではない。 Further, in the present embodiment, each of the raw material gas introduction pipes 8a to 8e, the product gas discharge pipes 12a to 12e, the exhaust gas discharge pipes 15a to 15c, the pressure equalization pipes 18a and 18b, and the flow rate adjustment pipe 19, for example, A metal such as stainless steel (SUS304) is used, but any material that does not react with the raw material gas G1, product gas G2, or exhaust gas G3 and can withstand high pressure is not necessarily limited to this. not a thing

また、本実施形態では、上述した各原料ガス導入側開閉弁9a,9b、各製品ガス導出側開閉弁13a,13b、各排ガス導出側開閉弁16a,16bとして、自動切替式の開閉弁を用いているが、原料ガスG1や製品ガスG2、排ガスG3と反応せず、高圧に耐え得ることができるものであればよい。 Further, in the present embodiment, automatic switching valves are used as the raw material gas inlet opening/closing valves 9a and 9b, the product gas outlet opening/closing valves 13a and 13b, and the exhaust gas outlet opening/closing valves 16a and 16b. However, any material that does not react with the raw material gas G1, the product gas G2, or the exhaust gas G3 and can withstand high pressure may be used.

以上のような構成を有する本実施形態のPSA装置1では、下記表1に示す手順に従って、上述した一方の吸着塔2A,2Cと他方の吸着塔2B,2Dとの間で、加圧均圧工程と、加圧吸着工程と、減圧均圧工程と、減圧再生工程との各工程を順次繰り返す。これにより、原料ガスG1となる空気中に含まれる窒素を連続的に分離して、製品ガスG2である窒素富化ガスを連続的に製造することが可能である。 In the PSA apparatus 1 of the present embodiment having the above configuration, pressure equalization is performed between the adsorption towers 2A, 2C and the adsorption towers 2B, 2D according to the procedure shown in Table 1 below. A process, a pressurized adsorption process, a reduced pressure equalization process, and a reduced pressure regeneration process are sequentially repeated. Thereby, it is possible to continuously separate the nitrogen contained in the air, which is the raw material gas G1, and to continuously produce the nitrogen-enriched gas, which is the product gas G2.

なお、表1は、PSA装置1の各吸着塔2A~2Dにおける動作の手順を説明するための工程表である。 Table 1 is a process chart for explaining the operation procedure in each of the adsorption towers 2A to 2D of the PSA device 1.

Figure 0007195887000001
Figure 0007195887000001

本実施形態のPSA装置1では、表1に示すように、一対の吸着塔2A,2Bのうち、一方の吸着塔2Aが加圧吸着工程を行っている間、他方の吸着塔2Bが減圧再生工程を行う。また、一方の吸着塔2Aが減圧均圧工程を行っている間、他方の吸着塔2Bが加圧均圧工程を行う。 In the PSA device 1 of the present embodiment, as shown in Table 1, while one adsorption tower 2A of the pair of adsorption towers 2A and 2B is performing the pressure adsorption step, the other adsorption tower 2B is regenerated under reduced pressure. carry out the process. Moreover, while one adsorption tower 2A is performing a decompression pressure equalization process, the other adsorption tower 2B performs a pressurization pressure equalization process.

逆に、一方の吸着塔2Aが減圧再生工程を行っている間、他方の吸着塔2Bが加圧吸着工程を行う。また、一方の吸着塔2Aが加圧均圧工程を行っている間、他方の吸着塔2Bが減圧均圧工程を行う。 Conversely, while one adsorption tower 2A is performing the decompression regeneration step, the other adsorption tower 2B is performing the pressure adsorption step. Moreover, while one adsorption tower 2A is performing a pressurization pressure equalization process, the other adsorption tower 2B performs a decompression pressure equalization process.

同様に、本実施形態のPSA装置1では、一対の吸着塔2C,2Dのうち、一方の吸着塔2Cが加圧吸着工程を行っている間、他方の吸着塔2Dが減圧再生工程を行う。また、一方の吸着塔2Cが減圧均圧工程を行っている間、他方の吸着塔2Dが加圧均圧工程を行う。 Similarly, in the PSA apparatus 1 of this embodiment, while one adsorption tower 2C of the pair of adsorption towers 2C and 2D is performing the pressurized adsorption step, the other adsorption tower 2D is performing the reduced pressure regeneration step. Moreover, while one adsorption tower 2C is performing the decompression pressure equalization step, the other adsorption tower 2D performs the pressurization pressure equalization step.

逆に、一方の吸着塔2Cが減圧再生工程を行っている間、他方の吸着塔2Dが加圧吸着工程を行う。また、一方の吸着塔2Cが加圧均圧工程を行っている間、他方の吸着塔2Dが減圧均圧工程を行う。 Conversely, while one adsorption tower 2C is performing the reduced pressure regeneration step, the other adsorption tower 2D is performing the pressurized adsorption step. Moreover, while one adsorption tower 2C is performing a pressurization pressure equalization process, the other adsorption tower 2D performs a decompression pressure equalization process.

また、本実施形態のPSA装置1では、一対の吸着塔2A,2Bと一対の吸着塔2C,2Dとのうち、一対の吸着塔2A,2Bが加圧吸着工程及び減圧再生工程を行っている間に、一対の吸着塔2C,2Dが加圧均圧工程及び減圧均圧工程を完了する。 Further, in the PSA device 1 of the present embodiment, the pair of adsorption towers 2A and 2B out of the pair of adsorption towers 2A and 2B and the pair of adsorption towers 2C and 2D performs the pressurized adsorption step and the reduced pressure regeneration step. Meanwhile, the pair of adsorption towers 2C and 2D complete the pressurization pressure equalization process and the decompression pressure equalization process.

逆に、一対の吸着塔2C,2Dが加圧吸着工程及び減圧再生工程を行っている間に、一対の吸着塔2A,2Bが加圧均圧工程及び減圧均圧工程を完了する。 Conversely, while the pair of adsorption towers 2C and 2D are performing the pressure adsorption process and the vacuum regeneration process, the pair of adsorption towers 2A and 2B complete the pressure equalization process and the vacuum pressure equalization process.

したがって、各吸着塔2A~2Dでは、互いの工程をずらして行う以外は、基本的に同じ手順で、加圧均圧工程と、加圧吸着工程と、減圧均圧工程と、減圧再生工程とを順次繰り返すことから、PSA装置1の具体的な動作については、図2~図5に示す吸着塔2A,2B側の各工程を順に挙げて説明するものとする。 Therefore, in each of the adsorption towers 2A to 2D, the pressure equalization process, the pressure adsorption process, the pressure reduction pressure equalization process, and the pressure reduction regeneration process are basically the same procedure except that the processes are shifted from each other. are sequentially repeated, the specific operation of the PSA device 1 will be described by citing, in order, each process on the side of the adsorption towers 2A and 2B shown in FIGS.

なお、図2は、PSA装置1において、一方の吸着塔2Aで加圧吸着工程を行い、他方の吸着塔2Bで減圧再生工程を行う状態を示す系統図である。図3は、PSA装置1において、一方の吸着塔2Aで減圧均圧工程を行い、他方の吸着塔2Bで加圧均圧工程を行う状態を示す系統図である。図4は、PSA装置1において、一方の吸着塔2Aで減圧再生工程を行い、他方の吸着塔2Bで加圧吸着工程を行う状態を示す系統図である。図5は、PSA装置1において、一方の吸着塔2Aで加圧均圧工程を行い、他方の吸着塔2Bで減圧均圧工程を行う状態を示す系統図である。 FIG. 2 is a system diagram showing a state in which one adsorption tower 2A performs a pressurized adsorption step and the other adsorption tower 2B performs a reduced pressure regeneration step in the PSA apparatus 1. As shown in FIG. FIG. 3 is a system diagram showing a state in which, in the PSA apparatus 1, one adsorption tower 2A performs a pressure equalization process under reduced pressure and the other adsorption tower 2B performs a pressure equalization process. FIG. 4 is a system diagram showing a state in which one adsorption tower 2A performs a vacuum regeneration process and the other adsorption tower 2B performs a pressurized adsorption process in the PSA apparatus 1. As shown in FIG. FIG. 5 is a system diagram showing a state in which, in the PSA apparatus 1, the pressure equalization process is performed in one adsorption tower 2A and the decompression pressure equalization process is performed in the other adsorption tower 2B.

本実施形態のPSA装置1では、先ず、図2に示すように、一対の吸着塔2A,2Bのうち、一方の吸着塔2Aが加圧吸着工程を行っている間、他方の吸着塔2Bが減圧再生工程を行う。 In the PSA device 1 of the present embodiment, first, as shown in FIG. A reduced-pressure regeneration step is performed.

具体的には、第1の原料ガス導入側開閉弁9aと、第1の製品ガス導出側開閉弁13aと、第2の排ガス導出側開閉弁16bとを開放する。一方、第2の原料ガス導入側開閉弁9bと、第2の製品ガス導出側開閉弁13bと、第1の排ガス導出側開閉弁16aと、第1の均圧弁20a及び第2の均圧弁20bとを閉塞する。 Specifically, the first source gas introduction side on-off valve 9a, the first product gas lead-out side on-off valve 13a, and the second exhaust gas lead-out side on-off valve 16b are opened. On the other hand, the second source gas introduction side on-off valve 9b, the second product gas lead-out side on-off valve 13b, the first exhaust gas lead-out side on-off valve 16a, the first pressure equalizing valve 20a and the second pressure equalizing valve 20b occlude the

これにより、一方の吸着塔2A側の加圧吸着工程では、第1の原料ガス導入配管8aを通して一方の吸着塔2Aの下部側配管3a側から加圧された状態の原料ガスG1が導入される。 As a result, in the pressurized adsorption step of one adsorption tower 2A, the pressurized source gas G1 is introduced from the lower side pipe 3a side of one adsorption tower 2A through the first source gas introduction pipe 8a. .

一方の吸着塔2Aでは、内部に充填された吸着剤Sの間を下部側配管3a側から上部側配管3b側に向かって原料ガスG1が通過する間に、この原料ガスG1中に含まれる酸素を吸着剤Sに吸着させ、吸着剤Sを通過した窒素を含む製品ガスG2と分離する。分離された製品ガスG2は、一方の吸着塔2Aの上部側配管3b側から第1の製品ガス導出配管12aを通して導出される。 On the other hand, in the adsorption tower 2A, oxygen contained in the raw material gas G1 is is adsorbed on the adsorbent S and separated from the nitrogen-containing product gas G2 that has passed through the adsorbent S. The separated product gas G2 is led out through the first product gas lead-out line 12a from the upper side pipe 3b side of one adsorption tower 2A.

これに対して、他方の吸着塔2B側の減圧再生工程では、第2の排ガス導出側開閉弁16bを開放することによって、他方の吸着塔2B内の圧力が減圧される。 On the other hand, in the decompression regeneration step on the side of the other adsorption tower 2B, the pressure inside the other adsorption tower 2B is reduced by opening the second exhaust gas lead-out side on-off valve 16b.

他方の吸着塔2Bでは、内部圧力が低下するのに伴って、吸着剤Sに吸着された酸素を含む排ガスG3が吸着剤Sから脱離する。脱離した排ガスG3は、他方の吸着塔2Bの下部側配管3a側から第2の排ガス導出配管15bを通して導出される。 In the other adsorption tower 2B, the exhaust gas G3 containing oxygen adsorbed on the adsorbent S is desorbed from the adsorbent S as the internal pressure decreases. The desorbed exhaust gas G3 is led out through the second exhaust gas lead-out pipe 15b from the lower pipe 3a side of the other adsorption tower 2B.

また、他方の吸着塔2B側の減圧再生工程では、吸着剤Sを再生するパージガスG4として、一方の吸着塔2A側から導出された製品ガスG2の一部を他方の吸着塔2Bの上部側配管3b側から流量調整配管19を通して導入することが好ましい。吸着剤Sの再生時に、このようなパージガスG4を導入することによって、吸着剤Sに吸着された酸素の脱離を促進することが可能である。 Further, in the depressurization regeneration step on the side of the other adsorption tower 2B, part of the product gas G2 derived from the side of the adsorption tower 2A is used as the purge gas G4 for regenerating the adsorbent S. It is preferable to introduce through the flow rate adjusting pipe 19 from the 3b side. By introducing such a purge gas G4 when the adsorbent S is regenerated, it is possible to accelerate the desorption of oxygen adsorbed by the adsorbent S.

次に、図3に示すように、一方の吸着塔2Aが減圧均圧工程を行っている間、他方の吸着塔2Bが加圧均圧工程を行う。 Next, as shown in FIG. 3, while one adsorption tower 2A is performing a decompression pressure equalization process, the other adsorption tower 2B performs a pressurization pressure equalization process.

具体的には、第1の均圧弁20a及び第2の均圧弁20bを開放する。一方、第1の原料ガス導入側開閉弁9a及び第2の原料ガス導入側開閉弁9bと、第1の製品ガス導出側開閉弁13a及び第2の製品ガス導出側開閉弁13bと、第1の排ガス導出側開閉弁16a及び第2の排ガス導出側開閉弁16bとを閉塞する。 Specifically, the first pressure equalization valve 20a and the second pressure equalization valve 20b are opened. On the other hand, a first source gas introduction side on-off valve 9a and a second source gas introduction side on-off valve 9b, a first product gas lead-out side on-off valve 13a and a second product gas lead-out side on-off valve 13b, and a first The exhaust gas lead-out side on-off valve 16a and the second exhaust gas lead-out side on-off valve 16b are closed.

これにより、一方の吸着塔2Aの減圧均圧工程では、一方の吸着塔2A内に残留した相対的に高圧な残留ガスG5が一方の吸着塔2Aの下部側配管3a及び上部側配管3b側から第1の均圧配管18a及び第2の均圧配管18bを通して導出される。 As a result, in the decompression and pressure equalization step of one adsorption tower 2A, relatively high-pressure residual gas G5 remaining in one adsorption tower 2A is released from the lower side pipe 3a and upper side pipe 3b side of one adsorption tower 2A. It is led out through the first pressure equalization pipe 18a and the second pressure equalization pipe 18b.

これに対して、他方の吸着塔2Bの加圧均圧工程では、第1の均圧配管18a及び第2の均圧配管18bを通して他方の吸着塔2Bの下部側配管3a及び上部側配管3b側から相対的に高圧な残留ガスG5が導入される。 On the other hand, in the pressure equalization step of the other adsorption tower 2B, the lower side pipe 3a and the upper side pipe 3b side of the other adsorption tower 2B through the first pressure equalization pipe 18a and the second pressure equalization pipe 18b. A relatively high pressure residual gas G5 is introduced from.

残留ガスG5は、一方の吸着塔2Aと他方の吸着塔2Bとの間の圧力差が解消(均圧化)されるまで、一方の吸着塔2A側から他方の吸着塔2B側へと導入される。 The residual gas G5 is introduced from one adsorption tower 2A side to the other adsorption tower 2B side until the pressure difference between the one adsorption tower 2A and the other adsorption tower 2B is eliminated (equalized). be.

次に、図4に示すように、一対の吸着塔2A,2Bのうち、一方の吸着塔2Aが減圧再生工程を行っている間、他方の吸着塔2Bが加圧吸着工程を行う。 Next, as shown in FIG. 4, while one adsorption tower 2A of the pair of adsorption towers 2A and 2B is performing the decompression regeneration step, the other adsorption tower 2B is performing the pressure adsorption step.

具体的には、第2の原料ガス導入側開閉弁9bと、第2の製品ガス導出側開閉弁13bと、第1の排ガス導出側開閉弁16aとを開放する。一方、第1の原料ガス導入側開閉弁9aと、第1の製品ガス導出側開閉弁13aと、第2の排ガス導出側開閉弁16bと、第1の均圧弁20a及び第2の均圧弁20bとを閉塞する。 Specifically, the second source gas introduction side on-off valve 9b, the second product gas lead-out side on-off valve 13b, and the first exhaust gas lead-out side on-off valve 16a are opened. On the other hand, the first source gas introduction side on-off valve 9a, the first product gas lead-out side on-off valve 13a, the second exhaust gas lead-out side on-off valve 16b, the first pressure equalizing valve 20a and the second pressure equalizing valve 20b occlude the

これにより、他方の吸着塔2B側の加圧吸着工程では、第2の原料ガス導入配管8bを通して他方の吸着塔2Bの下部側配管3a側から加圧された状態の原料ガスG1が導入される。 As a result, in the pressurized adsorption step on the side of the other adsorption tower 2B, the source gas G1 in a pressurized state is introduced from the side of the lower side pipe 3a of the other adsorption tower 2B through the second source gas introduction pipe 8b. .

他方の吸着塔2Bでは、内部に充填された吸着剤Sの間を下部側配管3a側から上部側配管3b側に向かって原料ガスG1が通過する間に、この原料ガスG1中に含まれる酸素を吸着剤Sに吸着させ、吸着剤Sを通過した窒素を含む製品ガスG2と分離する。分離された製品ガスG2は、他方の吸着塔2Bの上部側配管3b側から第2の製品ガス導出配管12bを通して導出される。 In the other adsorption tower 2B, oxygen contained in the raw material gas G1 is is adsorbed on the adsorbent S and separated from the nitrogen-containing product gas G2 that has passed through the adsorbent S. The separated product gas G2 is led out from the upper side pipe 3b side of the other adsorption tower 2B through the second product gas lead-out pipe 12b.

これに対して、一方の吸着塔2A側の減圧再生工程では、第1の排ガス導出側開閉弁16aを開放することによって、一方の吸着塔2A内の圧力が減圧される。 On the other hand, in the depressurization regeneration step of one adsorption tower 2A, the pressure in one adsorption tower 2A is reduced by opening the first exhaust gas lead-out side on-off valve 16a.

一方の吸着塔2Aでは、内部圧力が低下するのに伴って、吸着剤Sに吸着された酸素を含む排ガスG3が吸着剤Sから脱離する。脱離した排ガスG3は、一方の吸着塔2Aの下部側配管3a側から第1の排ガス導出配管15aを通して導出される。 In one adsorption tower 2A, the exhaust gas G3 containing oxygen adsorbed by the adsorbent S is desorbed from the adsorbent S as the internal pressure decreases. The desorbed exhaust gas G3 is led out through the first exhaust gas lead-out pipe 15a from the lower side pipe 3a side of one adsorption tower 2A.

また、一方の吸着塔2A側の減圧再生工程では、吸着剤Sを再生するパージガスG4として、他方の吸着塔2B側から導出された製品ガスG2の一部を一方の吸着塔2Aの上部側配管3b側から流量調整配管19を通して導入することが好ましい。吸着剤Sの再生時に、このようなパージガスG4を導入することによって、吸着剤Sに吸着された酸素の脱離を促進することが可能である。 Further, in the depressurization regeneration step of one adsorption tower 2A, part of the product gas G2 derived from the other adsorption tower 2B side is used as the purge gas G4 for regenerating the adsorbent S. It is preferable to introduce through the flow rate adjusting pipe 19 from the 3b side. By introducing such a purge gas G4 when the adsorbent S is regenerated, it is possible to accelerate the desorption of oxygen adsorbed by the adsorbent S.

次に、図5に示すように、一方の吸着塔2Aが加圧均圧工程を行っている間、他方の吸着塔2Bが減圧均圧工程を行う。 Next, as shown in FIG. 5, while one adsorption tower 2A is performing a pressure equalization process, the other adsorption tower 2B performs a decompression pressure equalization process.

具体的には、第1の均圧弁20a及び第2の均圧弁20bを開放する。一方、第1の原料ガス導入側開閉弁9a及び第2の原料ガス導入側開閉弁9bと、第1の製品ガス導出側開閉弁13a及び第2の製品ガス導出側開閉弁13bと、第1の排ガス導出側開閉弁16a及び第2の排ガス導出側開閉弁16bとを閉塞する。 Specifically, the first pressure equalization valve 20a and the second pressure equalization valve 20b are opened. On the other hand, a first source gas introduction side on-off valve 9a and a second source gas introduction side on-off valve 9b, a first product gas lead-out side on-off valve 13a and a second product gas lead-out side on-off valve 13b, and a first The exhaust gas lead-out side on-off valve 16a and the second exhaust gas lead-out side on-off valve 16b are closed.

これにより、他方の吸着塔2Bの減圧均圧工程では、他方の吸着塔2B内に残留した相対的に高圧な残留ガスG5が他方の吸着塔2Bの下部側配管3a及び上部側配管3b側から第1の均圧配管18a及び第2の均圧配管18bを通して導出される。 As a result, in the decompression and pressure equalization step of the other adsorption tower 2B, the relatively high-pressure residual gas G5 remaining in the other adsorption tower 2B is released from the lower side pipe 3a and the upper side pipe 3b side of the other adsorption tower 2B. It is led out through the first pressure equalization pipe 18a and the second pressure equalization pipe 18b.

これに対して、一方の吸着塔2Aの加圧均圧工程では、第1の均圧配管18a及び第2の均圧配管18bを通して一方の吸着塔2Aの下部側配管3a及び上部側配管3b側から相対的に高圧な残留ガスG5が導入される。 On the other hand, in the pressure equalization step of one adsorption tower 2A, the lower side pipe 3a and the upper side pipe 3b side of one adsorption tower 2A through the first pressure equalization pipe 18a and the second pressure equalization pipe 18b. A relatively high pressure residual gas G5 is introduced from.

残留ガスG5は、一方の吸着塔2Aと他方の吸着塔2Bとの間の圧力差が解消(均圧化)されるまで、他方の吸着塔2B側から一方の吸着塔2A側へと導入される。 The residual gas G5 is introduced from the other adsorption tower 2B side to the one adsorption tower 2A side until the pressure difference between the one adsorption tower 2A and the other adsorption tower 2B is eliminated (equalized). be.

以上のようにして、本実施形態のPSA装置1では、各吸着塔2A~2Dにおいて、上述した各工程を順次繰り返すことによって、原料ガスG1となる空気から製品ガスG2となる窒素富化ガスを分離して製造することが可能である。 As described above, in the PSA apparatus 1 of the present embodiment, the above-described steps are sequentially repeated in each of the adsorption towers 2A to 2D to convert air, which is the source gas G1, into nitrogen-enriched gas, which is the product gas G2. It can be manufactured separately.

ところで、本実施形態のPSA装置1は、図6、図7及び図8に示すような構成を有している。なお、図6は、PSA装置1の原料ガス導入部4の構成を示す平面図である。図7は、PSA装置1の排ガス導出部6の構成を示す平面図である。図8は、PSA装置1の構成を示す正面図である。 By the way, the PSA device 1 of this embodiment has a configuration as shown in FIGS. 6, 7 and 8. FIG. 6 is a plan view showing the structure of the raw material gas introduction part 4 of the PSA apparatus 1. As shown in FIG. FIG. 7 is a plan view showing the configuration of the exhaust gas lead-out portion 6 of the PSA device 1. As shown in FIG. FIG. 8 is a front view showing the configuration of the PSA device 1. FIG.

すなわち、本実施形態のPSA装置1では、上述した4つの吸着塔2A~2Dのうち、対となる一方の吸着塔2A及び他方の吸着塔2BがPSA装置1の正面側において幅方向に並んで設けられている。また、対となる一方の吸着塔2C及び他方の吸着塔2DがPSA装置1の背面側において幅方向に並んで設けられている。 That is, in the PSA device 1 of the present embodiment, one adsorption tower 2A and the other adsorption tower 2B which form a pair among the four adsorption towers 2A to 2D described above are arranged in the width direction on the front side of the PSA device 1. is provided. Also, one adsorption tower 2C and the other adsorption tower 2D, which form a pair, are arranged side by side in the width direction on the back side of the PSA device 1. As shown in FIG.

また、本実施形態のPSA装置1において、4つの吸着塔2A~2Dは、平面視で矩形(本実施形態では長方形)を為す領域(以下、矩形領域という。)Eの各頂点に位置するように、設置面Tとなる土台21の面上に起立した状態で配置(設置)されている。 In addition, in the PSA apparatus 1 of the present embodiment, the four adsorption towers 2A to 2D are located at respective vertices of a region (hereinafter referred to as a rectangular region) E forming a rectangle (rectangular in the present embodiment) in plan view. 2, it is arranged (installed) in an upright state on the surface of the base 21 that serves as the installation surface T. As shown in FIG.

一方、原料ガス貯留槽10、製品ガス貯留槽14及びサイレンサー17は、設置面Tにおける複数の吸着塔2A~2Dで囲まれる矩形領域Eの外側に位置するように、土台21の面上に起立した状態で配置(設置)されている。 On the other hand, the raw material gas storage tank 10, the product gas storage tank 14, and the silencer 17 stand on the surface of the base 21 so as to be positioned outside the rectangular area E surrounded by the plurality of adsorption towers 2A to 2D on the installation surface T. are placed (installed) in a

本実施形態において、原料ガス貯留槽10は、矩形領域Eよりも外側に位置するように、吸着塔2Dに隣接して配置されている。製品ガス貯留槽14は、矩形領域Eよりも外側に位置するように、吸着塔2Cに隣接して配置されている。サイレンサー17は、矩形領域Eよりも外側に位置するように、吸着塔2Bに隣接して配置されている。 In this embodiment, the source gas storage tank 10 is arranged adjacent to the adsorption tower 2D so as to be positioned outside the rectangular region E. As shown in FIG. The product gas storage tank 14 is arranged adjacent to the adsorption tower 2C so as to be positioned outside the rectangular area E. As shown in FIG. The silencer 17 is arranged adjacent to the adsorption tower 2B so as to be positioned outside the rectangular region E.

また、設置面Tにおける複数の吸着塔2A~2Dで囲まれる矩形領域Eの外側には、このPSA装置1の操作を行うための操作盤22が設けられている。操作盤22は、土台21の面上に起立した状態で配置(設置)されている。また、操作盤22は、上述した各原料ガス導入側開閉弁9a,9b、各製品ガス導出側開閉弁13a,13b、各排ガス導出側開閉弁16a,16bと接続されている。 A control panel 22 for operating the PSA apparatus 1 is provided on the installation surface T outside the rectangular area E surrounded by the plurality of adsorption towers 2A to 2D. The operation panel 22 is arranged (installed) in an upright state on the surface of the base 21 . The control panel 22 is also connected to the raw material gas inlet opening/closing valves 9a and 9b, the product gas outlet opening/closing valves 13a and 13b, and the exhaust gas outlet opening/closing valves 16a and 16b.

本実施形態のPSA装置1では、図6及び図8に示すように、上述した原料ガス導入部4において、設置面Tにおける複数の吸着塔2A~2Dで囲まれる矩形領域Eの内側に配置された原料ガス導入分岐管23と、原料ガス導入分岐管23から分岐して設けられた第3の原料ガス導入配管8c及び第4の原料ガス導入配管8dとを有している。 In the PSA device 1 of the present embodiment, as shown in FIGS. 6 and 8, in the above-described source gas introduction section 4, the rectangular region E surrounded by the plurality of adsorption towers 2A to 2D on the installation surface T is arranged inside the rectangular region E. and a third source gas introduction pipe 8 c and a fourth source gas introduction pipe 8 d branched from the source gas introduction branch pipe 23 .

また、本実施形態のPSA装置1において、原料ガス導入分岐管23の中心は、上述した矩形領域Eの2つの対角線の交点に位置するように配置されている。一方、複数の吸着塔2A~2Dの中心は、その設置面T上の略中央に位置する原料ガス導入分岐管23の周囲を囲む矩形領域Eの各頂点に位置するように配置されている。 In addition, in the PSA apparatus 1 of this embodiment, the center of the source gas introduction branch pipe 23 is arranged so as to be positioned at the intersection of the two diagonal lines of the rectangular region E described above. On the other hand, the centers of the plurality of adsorption towers 2A to 2D are arranged so as to be located at respective vertices of a rectangular region E surrounding the raw material gas introduction branch pipe 23 located substantially in the center on the installation surface T.

本実施形態のPSA装置1は、複数の吸着塔2A~2Dで囲まれる矩形領域Eの内側に三方に分岐した原料ガス導入分岐管23を配置すると共に、この原料ガス導入分岐管23から分岐した2つの第3の原料ガス導入配管8c及び1つの第4の原料ガス導入配管8dを矩形領域Eの内側に配置した構成となっている。 In the PSA apparatus 1 of the present embodiment, a raw material gas introduction branch pipe 23 branched in three directions is arranged inside a rectangular area E surrounded by a plurality of adsorption towers 2A to 2D, and the raw material gas introduction branch pipe 23 branches Two third raw material gas introduction pipes 8c and one fourth raw material gas introduction pipe 8d are arranged inside the rectangular area E. As shown in FIG.

これにより、本実施形態のPSA装置1では、原料ガス導入部4において、これら原料ガス導入分岐管23、第3及び第4の原料ガス導入配管8c,8dの設置スペースを従来よりも縮小化することが可能である。 As a result, in the PSA apparatus 1 of the present embodiment, the installation space for the source gas introduction branch pipe 23 and the third and fourth source gas introduction pipes 8c and 8d in the source gas introduction section 4 can be made smaller than before. It is possible.

また、原料ガス導入部4において、第1~第5の原料ガス導入配管8a~8eの少なくとも一部(本実施形態では第4の原料ガス導入配管8d)は、隣り合う吸着塔(本実施形態では吸着塔2A,2D)の間を通して、原料ガス導入分岐管23と原料ガス貯留槽10との間を接続している。 In addition, in the raw material gas introduction section 4, at least some of the first to fifth raw material gas introduction pipes 8a to 8e (fourth raw material gas introduction pipe 8d in this embodiment) are connected to adjacent adsorption towers (this embodiment Then, the source gas introduction branch pipe 23 and the source gas storage tank 10 are connected through the adsorption towers 2A and 2D).

これにより、本実施形態のPSA装置1では、原料ガス貯留槽10と接続された第4の原料ガス導入配管8dを、隣り合う吸着塔2A,2Dの間を通して複数の吸着塔2A~2Dで囲まれる矩形領域Eの内側から外側へと効率良く引き回すことが可能である。 As a result, in the PSA device 1 of the present embodiment, the fourth source gas introduction pipe 8d connected to the source gas storage tank 10 is surrounded by the plurality of adsorption towers 2A to 2D through the adjacent adsorption towers 2A and 2D. It is possible to efficiently route from the inside to the outside of the rectangular area E that is covered.

さらに、原料ガス導入部4において、原料ガス導入分岐管23から分岐した一方の第3の原料ガス導入配管8cは、隣り合う吸着塔(本実施形態では吸着塔2A,2B)の間を通して、矩形領域Eの外側にある第1及び第2の原料ガス導入配管8a,8bと接続されている。同様に、原料ガス導入分岐管23から分岐した他方の第3の原料ガス導入配管8cは、隣り合う吸着塔(本実施形態では吸着塔2C,2D)の間を通して、矩形領域Eの外側にある第1及び第2の原料ガス導入配管8a,8bと接続されている。 Further, in the raw material gas introduction section 4, one third raw material gas introduction pipe 8c branched from the raw material gas introduction branch pipe 23 passes between the adjacent adsorption towers (adsorption towers 2A and 2B in this embodiment) to form a rectangular shape. It is connected to the first and second source gas introduction pipes 8a and 8b outside the region E. Similarly, the other third raw material gas introduction pipe 8c branched from the raw material gas introduction branch pipe 23 is located outside the rectangular area E through the adjacent adsorption towers (adsorption towers 2C and 2D in this embodiment). It is connected to the first and second source gas introduction pipes 8a and 8b.

これにより、本実施形態のPSA装置1では、原料ガス導入分岐管23と接続された第3の原料ガス導入配管8cを、隣り合う吸着塔2A,2Bの間及び隣り合う吸着塔2C,2Dの間を通して、複数の吸着塔2A~2Dで囲まれる矩形領域Eの内側から外側へと効率良く引き回すことが可能である。 As a result, in the PSA apparatus 1 of the present embodiment, the third source gas introduction pipe 8c connected to the source gas introduction branch pipe 23 is arranged between the adjacent adsorption towers 2A and 2B and between the adjacent adsorption towers 2C and 2D. Through the gap, it is possible to efficiently route from the inside to the outside of the rectangular area E surrounded by the plurality of adsorption towers 2A to 2D.

また、本実施形態のPSA装置1では、図7及び図8に示すように、上述した排ガス導出部6において、設置面Tにおける複数の吸着塔2A~2Dで囲まれる矩形領域Eの内側に配置された排ガス導出分岐管24と、排ガス導出分岐管24から分岐して設けられた第3の排ガス導出配管15c及び第4の排ガス導出配管15dとを有している。 In addition, in the PSA device 1 of the present embodiment, as shown in FIGS. 7 and 8, the above-described exhaust gas lead-out portion 6 is arranged inside the rectangular region E surrounded by the plurality of adsorption towers 2A to 2D on the installation surface T. and a third exhaust gas outlet pipe 15 c and a fourth exhaust gas outlet pipe 15 d branched from the exhaust gas outlet branch pipe 24 .

また、本実施形態のPSA装置1において、排ガス導出分岐管24の中心は、上述した矩形領域Eの2つの対角線の交点に位置するように配置されている。一方、複数の吸着塔2A~2Dの中心は、その設置面T上の略中央に位置する排ガス導出分岐管24の周囲を囲む矩形領域Eの各頂点に位置するように配置されている。 Further, in the PSA device 1 of this embodiment, the center of the exhaust gas lead-out branch pipe 24 is arranged so as to be located at the intersection of the two diagonal lines of the rectangular area E described above. On the other hand, the centers of the plurality of adsorption towers 2A to 2D are arranged so as to be positioned at respective vertices of a rectangular area E surrounding the periphery of the exhaust gas outlet branch pipe 24 located substantially in the center on the installation surface T thereof.

本実施形態のPSA装置1では、複数の吸着塔2A~2Dで囲まれる矩形領域Eの内側に、三方に分岐した排ガス導出分岐管24を配置すると共に、この排ガス導出分岐管24から分岐した2つの第3の排ガス導出配管15c及び1つの第4の排ガス導出配管15dを矩形領域Eの内側に配置した構成となっている。 In the PSA device 1 of the present embodiment, an exhaust gas outlet branch pipe 24 branched in three directions is arranged inside a rectangular region E surrounded by a plurality of adsorption towers 2A to 2D, and 2 branched from the exhaust gas outlet branch pipe 24 It is configured such that two third exhaust gas lead-out pipes 15c and one fourth exhaust gas lead-out pipe 15d are arranged inside the rectangular area E. As shown in FIG.

これにより、本実施形態のPSA装置1では、排ガス導出部6において、これら排ガス導出分岐管24、第3及び第4の排ガス導出配管15c,15dの設置スペースを従来よりも縮小化することが可能である。 As a result, in the PSA device 1 of the present embodiment, the installation space for the exhaust gas outlet branch pipe 24 and the third and fourth exhaust gas outlet pipes 15c and 15d in the exhaust gas outlet section 6 can be made smaller than before. is.

また、排ガス導出部6において、第1~第4の排ガス導出配管15a~15dの少なくとも一部(本実施形態では第4の排ガス導出配管15d)は、隣り合う吸着塔(本実施形態では吸着塔2B,2C)の間を通して、排ガス導出分岐管24とサイレンサー17との間を接続している。 Further, in the exhaust gas outlet section 6, at least some of the first to fourth exhaust gas outlet pipes 15a to 15d (fourth exhaust gas outlet pipe 15d in the present embodiment) are connected to adjacent adsorption towers (adsorption towers in the present embodiment). 2B, 2C), the exhaust gas lead-out branch pipe 24 and the silencer 17 are connected.

これにより、本実施形態のPSA装置1では、サイレンサー17と接続された第4の排ガス導出配管15dを、隣り合う吸着塔2B,2Cの間を通して複数の吸着塔2A~2Dで囲まれる矩形領域Eの内側から外側へと効率良く引き回すことが可能である。 As a result, in the PSA device 1 of this embodiment, the fourth exhaust gas lead-out pipe 15d connected to the silencer 17 passes between the adjacent adsorption towers 2B and 2C, and the rectangular region E surrounded by the plurality of adsorption towers 2A to 2D It is possible to efficiently route from the inside to the outside of the.

以上のように、本実施形態のPSA装置1では、上述した各部の配置を効率化し、各部の設置スペースを縮小化することによって、更なる省スペース化及び小型化を図ることが可能である。 As described above, in the PSA device 1 of the present embodiment, it is possible to achieve further space saving and miniaturization by improving the efficiency of the arrangement of the above-described parts and reducing the installation space of each part.

なお、本発明は、上記実施形態のものに必ずしも限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
具体的に、本発明は、上記PSA装置1の構成に必ずしも限定されるものではなく、例えば、図9及び図10に示す6つの吸着塔2A~2Fを備えたPSA装置1Aの構成や、図11及び図12に示す8つの吸着塔2A~2Hを備えたPSA装置1Bの構成とすることも可能である。
It should be noted that the present invention is not necessarily limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention.
Specifically, the present invention is not necessarily limited to the configuration of the PSA device 1 described above. 11 and 12, it is also possible to construct a PSA apparatus 1B equipped with eight adsorption towers 2A to 2H.

なお、図9は、PSA装置1Aの原料ガス導入部4の構成を示す平面図である。図10は、PSA装置1Aの排ガス導出部6の構成を示す平面図である。図11は、PSA装置1Bの原料ガス導入部4の構成を示す平面図である。図12は、PSA装置1Bの排ガス導出部6の構成を示す平面図である。また、図9~図12に示すPSA装置1A,1Bでは、上記PSA装置1と同等の部位については、説明を省略すると共に、図面において同じ符号を付すものとする。 In addition, FIG. 9 is a plan view showing the structure of the source gas introduction part 4 of the PSA apparatus 1A. FIG. 10 is a plan view showing the configuration of the exhaust gas lead-out portion 6 of the PSA device 1A. FIG. 11 is a plan view showing the structure of the raw material gas introduction section 4 of the PSA apparatus 1B. FIG. 12 is a plan view showing the configuration of the exhaust gas lead-out portion 6 of the PSA device 1B. Further, in the PSA devices 1A and 1B shown in FIGS. 9 to 12, the same parts as those of the PSA device 1 are omitted from the description and given the same reference numerals in the drawings.

このうち、図9及び図10に示すPSA装置1Aは、6つ吸着塔2A~2Fのうち、対となる一方の吸着塔2A,2C,2Eと他方の吸着塔2B,2D,2Fとが3対並んで配置された構成を有している。 Of these, the PSA device 1A shown in FIGS. 9 and 10 has six adsorption towers 2A to 2F. It has a paired side-by-side configuration.

また、PSA装置1Aは、図9に示すように、原料ガス導入部4において、4つの吸着塔2A~2Dで囲まれる矩形領域E1の内側に、四方に分岐した原料ガス導入分岐管23Aを配置すると共に、この原料ガス導入分岐管23Aから分岐した2つの第3の原料ガス導入配管8c及び2つの第4の原料ガス導入配管8dを矩形領域E1の内側に配置した構成となっている。 In addition, as shown in FIG. 9, in the PSA apparatus 1A, in the raw material gas introduction section 4, a raw material gas introduction branch pipe 23A branched in four directions is arranged inside a rectangular area E1 surrounded by the four adsorption towers 2A to 2D. In addition, two third source gas introduction pipes 8c and two fourth source gas introduction pipes 8d branched from the source gas introduction branch pipe 23A are arranged inside the rectangular region E1.

また、原料ガス導入部4において、原料ガス導入分岐管23Aから分岐した1つの第4の原料ガス導入配管8dを4つの吸着塔2B,2C,2E,2Fで囲まれる矩形領域E2の内側に配置した構成となっている。さらに、第4の原料ガス導入配管8dは、吸着塔2E,2F側の第3の原料ガス導入配管8cと接続されている。 In addition, in the source gas introduction section 4, one fourth source gas introduction pipe 8d branched from the source gas introduction branch pipe 23A is arranged inside the rectangular region E2 surrounded by the four adsorption towers 2B, 2C, 2E, and 2F. It has a configuration. Furthermore, the fourth raw material gas introduction pipe 8d is connected to the third raw material gas introduction pipe 8c on the side of the adsorption towers 2E and 2F.

これにより、PSA装置1Aでは、原料ガス導入部4において、これら原料ガス導入分岐管23A、第3及び第4の原料ガス導入配管8c,8dの設置スペースを従来よりも縮小化することができ、このPSA装置1Bの更なる省スペース化及び小型化を図ることが可能である。 As a result, in the PSA apparatus 1A, the installation space for the source gas introduction branch pipe 23A and the third and fourth source gas introduction pipes 8c and 8d in the source gas introduction section 4 can be made smaller than before. It is possible to further reduce the space and size of the PSA device 1B.

また、原料ガス導入部4において、第1~第5の原料ガス導入配管8a~8eの少なくとも一部(本実施形態では第4の原料ガス導入配管8d)は、隣り合う吸着塔(本実施形態では吸着塔2A,2D)の間を通して、原料ガス導入分岐管23Aと原料ガス貯留槽10との間を接続している。 In addition, in the raw material gas introduction section 4, at least some of the first to fifth raw material gas introduction pipes 8a to 8e (fourth raw material gas introduction pipe 8d in this embodiment) are connected to adjacent adsorption towers (this embodiment Then, the source gas introduction branch pipe 23A and the source gas storage tank 10 are connected through the adsorption towers 2A and 2D).

これにより、本実施形態のPSA装置1Aでは、原料ガス貯留槽10と接続された第4の原料ガス導入配管8dを、隣り合う吸着塔2A,2Dの間を通して複数の吸着塔2A~2Dで囲まれる矩形領域E1の内側から外側へと効率良く引き回すことが可能である。 As a result, in the PSA apparatus 1A of the present embodiment, the fourth source gas introduction pipe 8d connected to the source gas storage tank 10 is surrounded by the plurality of adsorption towers 2A to 2D through the adjacent adsorption towers 2A and 2D. It is possible to efficiently route from the inside to the outside of the rectangular area E1.

また、PSA装置1Aは、図10に示すように、排ガス導出部6において、4つの吸着塔2A~2Dで囲まれる矩形領域E1の内側に、三方に分岐した排ガス導出分岐管24Aを配置した構成となっている。 In addition, as shown in FIG. 10, the PSA device 1A has a configuration in which an exhaust gas outlet branch pipe 24A branched in three directions is arranged inside a rectangular area E1 surrounded by the four adsorption towers 2A to 2D in the exhaust gas outlet 6. It has become.

また、排ガス導出部6において、排ガス導出分岐管24Aから分岐した2つ第3の排ガス導出配管15c及び1つの第4の排ガス導出配管15dを矩形領域E1の内側に配置し、この排ガス導出分岐管24Aから分岐した1つの第4の排ガス導出配管15dを4つの吸着塔2B,2E,2F,2Cで囲まれる矩形領域E2の内側に配置した構成となっている。さらに、第4の排ガス導出配管15dは、吸着塔2E,2F側の第3の排ガス導出配管15cと接続されている。 Further, in the exhaust gas outlet portion 6, two third exhaust gas outlet pipes 15c and one fourth exhaust gas outlet pipe 15d branched from the exhaust gas outlet branch pipe 24A are arranged inside the rectangular area E1, and this exhaust gas outlet branch pipe A single fourth exhaust gas lead-out pipe 15d branched from 24A is arranged inside a rectangular area E2 surrounded by four adsorption towers 2B, 2E, 2F and 2C. Furthermore, the fourth exhaust gas lead-out pipe 15d is connected to the third exhaust gas lead-out pipe 15c on the side of the adsorption towers 2E and 2F.

これにより、PSA装置1Aでは、排ガス導出部6において、これら排ガス導出分岐管24A、第3及び第4の排ガス導出配管15c,15dの設置スペースを従来よりも縮小化することが可能である。 As a result, in the PSA device 1A, the installation space for the exhaust gas outlet branch pipe 24A and the third and fourth exhaust gas outlet pipes 15c and 15d in the exhaust gas outlet section 6 can be made smaller than before.

また、排ガス導出部6において、第1~第4の排ガス導出配管15a~15dの少なくとも一部(本実施形態では第4の排ガス導出配管15d)は、隣り合う吸着塔(本実施形態では吸着塔2E,2F)の間を通して、排ガス導出分岐管24Aとサイレンサー17との間を接続している。 Further, in the exhaust gas outlet section 6, at least some of the first to fourth exhaust gas outlet pipes 15a to 15d (fourth exhaust gas outlet pipe 15d in the present embodiment) are connected to adjacent adsorption towers (adsorption towers in the present embodiment). 2E, 2F), the exhaust gas lead-out branch pipe 24A and the silencer 17 are connected.

これにより、本実施形態のPSA装置1Aでは、サイレンサー17と接続された第4の排ガス導出配管15dを、隣り合う吸着塔2E,2Fの間を通して複数の吸着塔2B,2E,2F,2Cで囲まれる矩形領域E2の内側から外側へと効率良く引き回すことが可能である。 As a result, in the PSA device 1A of the present embodiment, the fourth exhaust gas lead-out pipe 15d connected to the silencer 17 is surrounded by the plurality of adsorption towers 2B, 2E, 2F, 2C through the adjacent adsorption towers 2E, 2F. It is possible to efficiently route from the inside to the outside of the rectangular area E2.

以上のように、本実施形態のPSA装置1Aでは、上述した各部の配置を効率化し、各部の設置スペースを縮小化することによって、更なる省スペース化及び小型化を図ることが可能である。 As described above, in the PSA apparatus 1A of the present embodiment, it is possible to achieve further space saving and miniaturization by improving the efficiency of the arrangement of each part described above and reducing the installation space of each part.

一方、図11及び図12に示すPSA装置1Bは、8つ吸着塔2A~2Gのうち、対となる一方の吸着塔2A,2C,2E,2Gと他方の吸着塔2B,2D,2F,2Hとが4対並んで配置された構成を有している。 On the other hand, in the PSA device 1B shown in FIGS. 11 and 12, of the eight adsorption towers 2A to 2G, one pair of adsorption towers 2A, 2C, 2E, 2G and the other adsorption towers 2B, 2D, 2F, 2H are arranged side by side in four pairs.

また、PSA装置1Bは、図11に示すように、原料ガス導入部4において、4つの吸着塔2A~2Dで囲まれる矩形領域E1の内側に、四方に分岐した原料ガス導入分岐管23Aを配置すると共に、この原料ガス導入分岐管23Aから分岐した2つの第3の原料ガス導入配管8c及び2つの第4の原料ガス導入配管8dを矩形領域E1の内側に配置した構成となっている。 In addition, as shown in FIG. 11, in the PSA apparatus 1B, in the raw material gas introduction section 4, a raw material gas introduction branch pipe 23A branched in four directions is arranged inside a rectangular area E1 surrounded by the four adsorption towers 2A to 2D. In addition, two third source gas introduction pipes 8c and two fourth source gas introduction pipes 8d branched from the source gas introduction branch pipe 23A are arranged inside the rectangular region E1.

また、原料ガス導入部4において、4つの吸着塔2E~2Hで囲まれる矩形領域E3の内側に、三方に分岐した原料ガス導入分岐管23Bを配置すると共に、この原料ガス導入分岐管23Bから分岐した2つの第3の原料ガス導入配管8c及び1つの第4の原料ガス導入配管8dを矩形領域E3の内側に配置した構成となっている。 In addition, in the raw material gas introduction section 4, a raw material gas introduction branch pipe 23B branched in three directions is arranged inside a rectangular region E3 surrounded by the four adsorption towers 2E to 2H, and branches from the raw material gas introduction branch pipe 23B. Two third source gas introduction pipes 8c and one fourth source gas introduction pipe 8d are arranged inside the rectangular region E3.

さらに、原料ガス導入部4において、4つの吸着塔2B,2C,2E,2Hで囲まれる矩形領域E2の内側に、原料ガス導入分岐管23Aと原料ガス導入分岐管23Bとの間を接続する第4の原料ガス導入配管8dを配置した構成となっている。 Furthermore, in the raw material gas introduction section 4, a second pipe connecting the raw material gas introduction branch pipe 23A and the raw material gas introduction branch pipe 23B is provided inside a rectangular region E2 surrounded by the four adsorption towers 2B, 2C, 2E, and 2H. 4 source gas introduction pipes 8d are arranged.

これにより、PSA装置1Bでは、原料ガス導入部4において、これら原料ガス導入分岐管23A,23B、第3及び第4の原料ガス導入配管8c,8dの設置スペースを従来よりも縮小化することが可能である。 As a result, in the PSA apparatus 1B, the installation space for the source gas introduction branch pipes 23A and 23B and the third and fourth source gas introduction pipes 8c and 8d in the source gas introduction section 4 can be made smaller than before. It is possible.

また、原料ガス導入部4において、第1~第5の原料ガス導入配管8a~8eの少なくとも一部(本実施形態では第4の原料ガス導入配管8d)は、隣り合う吸着塔(本実施形態では吸着塔2A,2D)の間を通して、原料ガス導入分岐管23Aと原料ガス貯留槽10との間を接続している。 In addition, in the raw material gas introduction section 4, at least some of the first to fifth raw material gas introduction pipes 8a to 8e (fourth raw material gas introduction pipe 8d in this embodiment) are connected to adjacent adsorption towers (this embodiment Then, the source gas introduction branch pipe 23A and the source gas storage tank 10 are connected through the adsorption towers 2A and 2D).

これにより、本実施形態のPSA装置1Bでは、原料ガス貯留槽10と接続された第4の原料ガス導入配管8dを、隣り合う吸着塔2A,2Dの間を通して複数の吸着塔2A~2Dで囲まれる矩形領域E1の内側から外側へと効率良く引き回すことが可能である。 As a result, in the PSA device 1B of the present embodiment, the fourth source gas introduction pipe 8d connected to the source gas storage tank 10 is surrounded by the plurality of adsorption towers 2A to 2D through the adjacent adsorption towers 2A and 2D. It is possible to efficiently route from the inside to the outside of the rectangular area E1.

また、PSA装置1Bは、図12に示すように、排ガス導出部6において、4つの吸着塔2A~2Dで囲まれる矩形領域E1の内側に、三方に分岐した排ガス導出分岐管24Aを配置すると共に、この排ガス導出分岐管24Aから分岐した2つの第3の排ガス導出配管15c及び1つの第4の排ガス導出配管15dを矩形領域E1の内側に配置した構成となっている。 In addition, as shown in FIG. 12, the PSA device 1B has an exhaust gas outlet branch pipe 24A branched in three directions inside a rectangular area E1 surrounded by the four adsorption towers 2A to 2D in the exhaust gas outlet 6. , two third exhaust gas outlet pipes 15c and one fourth exhaust gas outlet pipe 15d branched from the exhaust gas outlet branch pipe 24A are arranged inside the rectangular area E1.

また、排ガス導出部6において、4つの吸着塔2E~2Hで囲まれる矩形領域E3の内側に、四方に分岐した排ガス導出分岐管24Bを配置すると共に、この排ガス導出分岐管24Bから分岐した2つの第3の排ガス導出配管15c及び2つの第4の排ガス導出配管15dを矩形領域E3の内側に配置した構成となっている。 In addition, in the exhaust gas outlet section 6, an exhaust gas outlet branch pipe 24B branched in four directions is arranged inside a rectangular area E3 surrounded by the four adsorption towers 2E to 2H, and two branch pipes 24B branched from the exhaust gas outlet branch pipe 24B are arranged. The third exhaust gas lead-out pipe 15c and the two fourth exhaust gas lead-out pipes 15d are arranged inside the rectangular area E3.

さらに、排ガス導出部6において、4つの吸着塔2B,2C,2E,2Hで囲まれる矩形領域E2の内側に、排ガス導出分岐管24Aと排ガス導出分岐管24Bとの間を接続する第4の排ガス導出配管15dを配置した構成となっている。 Furthermore, in the exhaust gas outlet section 6, a fourth exhaust gas connecting between the exhaust gas outlet branch pipe 24A and the exhaust gas outlet branch pipe 24B is provided inside a rectangular area E2 surrounded by the four adsorption towers 2B, 2C, 2E, and 2H. It has a configuration in which a lead-out pipe 15d is arranged.

これにより、PSA装置1Bでは、排ガス導出部6において、これら排ガス導出分岐管24A,24B、第3及び第4の排ガス導出配管15c,15dの設置スペースを従来よりも縮小化することが可能である。 As a result, in the PSA device 1B, the installation space for these exhaust gas outlet branch pipes 24A and 24B and the third and fourth exhaust gas outlet pipes 15c and 15d in the exhaust gas outlet section 6 can be made smaller than before. .

また、排ガス導出部6において、第1~第4の排ガス導出配管15a~15dの少なくとも一部(本実施形態では第4の排ガス導出配管15d)は、隣り合う吸着塔(本実施形態では吸着塔2F,2G)の間を通して、排ガス導出分岐管24Bとサイレンサー17との間を接続している。 Further, in the exhaust gas outlet section 6, at least some of the first to fourth exhaust gas outlet pipes 15a to 15d (fourth exhaust gas outlet pipe 15d in the present embodiment) are connected to adjacent adsorption towers (adsorption towers in the present embodiment). 2F, 2G), the exhaust gas lead-out branch pipe 24B and the silencer 17 are connected.

これにより、本実施形態のPSA装置1Bでは、サイレンサー17と接続された第4の排ガス導出配管15dを、隣り合う吸着塔2F,2Gの間を通して複数の吸着塔2E~2Hで囲まれる矩形領域E3の内側から外側へと効率良く引き回すことが可能である。 As a result, in the PSA device 1B of the present embodiment, the fourth exhaust gas lead-out pipe 15d connected to the silencer 17 passes between the adjacent adsorption towers 2F and 2G to form a rectangular region E3 surrounded by the plurality of adsorption towers 2E to 2H. It is possible to efficiently route from the inside to the outside of the.

以上のように、本実施形態のPSA装置1Bでは、上述した各部の配置を効率化し、各部の設置スペースを縮小化することによって、更なる省スペース化及び小型化を図ることが可能である。 As described above, in the PSA apparatus 1B of the present embodiment, the above-described arrangement of each part is efficiently arranged and the installation space of each part is reduced, thereby achieving further space saving and miniaturization.

1,1A,1B…PSA装置(圧力変動吸着装置) 2A~2H…吸着塔 3a…下部側配管 3b…上部側配管 4…原料ガス導入部 5…製品ガス導出部 6…排ガス導出部 7…圧力均圧部 8a…第1の原料ガス導入配管 8b…第2の原料ガス導入配管 8c…第3の原料ガス導入配管 8d…第4の原料ガス導入配管 8e…第5の原料ガス導入配管 9a…第1の原料ガス側開閉弁 9b…第2の原料ガス側開閉弁 10…原料ガス貯留槽 11…圧縮機 12a…第1の製品ガス導出配管 12b…第2の製品ガス導出配管 12c…第3の製品ガス導出配管 12d…第4の製品ガス導出配管 12e…第5の製品ガス導出配管 13a…第1の製品ガス側開閉弁 13b…第2の製品ガス側開閉弁 14…製品ガス貯留槽 15a…第1の排ガス導出配管 15b…第2の排ガス導出配管 15c…第3の排ガス導出配管 15d…第4の排ガス導出配管 16a…第1の排ガス側開閉弁 16b…第2の排ガス側開閉弁 17…サイレンサー 18a…第1の均圧配管 18b…第2の均圧配管 19…流量調整配管 20a…第1の均圧弁 20b…第2の均圧弁 21…土台 22…操作盤 23,23A,23B…原料ガス導入分岐管 24,24A,24B…排ガス導出分岐管 S…吸着剤 G1…原料ガス G2…製品ガス G3…排ガス G4…パージガス G5…残留ガス 1, 1A, 1B... PSA device (pressure fluctuation adsorption device) 2A to 2H... adsorption tower 3a... lower side pipe 3b... upper side pipe 4... source gas introduction part 5... product gas lead-out part 6... flue gas lead-out part 7... pressure Pressure equalizing section 8a First source gas introduction pipe 8b Second source gas introduction pipe 8c Third source gas introduction pipe 8d Fourth source gas introduction pipe 8e Fifth source gas introduction pipe 9a First source gas side on-off valve 9b Second source gas side on-off valve 10 Source gas storage tank 11 Compressor 12a First product gas lead-out pipe 12b Second product gas lead-out pipe 12c Third Product gas lead-out pipe 12d Fourth product gas lead-out pipe 12e Fifth product gas lead-out pipe 13a First product gas side on-off valve 13b Second product gas side on-off valve 14 Product gas storage tank 15a First exhaust gas lead-out pipe 15b Second exhaust gas lead-out pipe 15c Third exhaust gas lead-out pipe 15d Fourth exhaust gas lead-out pipe 16a First exhaust gas side on-off valve 16b Second exhaust gas side on-off valve 17 Silencer 18a First pressure equalization pipe 18b Second pressure equalization pipe 19 Flow rate adjustment pipe 20a First pressure equalization valve 20b Second pressure equalization valve 21 Base 22 Operation panel 23, 23A, 23B Raw material gas introduction branch pipe 24, 24A, 24B... Exhaust gas outlet branch pipe S... Adsorbent G1... Raw material gas G2... Product gas G3... Exhaust gas G4... Purge gas G5... Residual gas

Claims (8)

吸着剤が充填された複数の吸着塔と、
前記複数の吸着塔の中から順次選択される吸着塔に対して原料ガスを導入する原料ガス導入部とを備え、
前記原料ガス導入部は、前記複数の吸着塔で囲まれる領域の内側且つ起立した状態の前記複数の吸着塔の間に配置された分岐管と、前記分岐管から分岐して設けられた複数の原料ガス導入配管と、前記複数の吸着塔で囲まれる領域の外側に配置された原料ガス貯留槽とを有し、
前記原料ガス導入配管の一部は、隣り合う吸着塔の間を通して前記分岐管と前記原料ガス貯留槽との間を接続していることを特徴とする圧力変動吸着装置。
a plurality of adsorption towers filled with adsorbent;
a raw material gas introduction unit for introducing a raw material gas into the adsorption towers sequentially selected from the plurality of adsorption towers,
The raw material gas introduction part includes a branch pipe arranged inside a region surrounded by the plurality of adsorption towers and between the plurality of adsorption towers in an upright state, and a plurality of branch pipes branched from the branch pipe. having a source gas introduction pipe and a source gas storage tank arranged outside the region surrounded by the plurality of adsorption towers;
A pressure fluctuation adsorption apparatus , wherein a part of the source gas introduction pipe connects between the branch pipe and the source gas storage tank through the adjacent adsorption towers .
前記複数の吸着塔の中から順次選択される吸着塔から排ガスを導出する排ガス導出部を備え、 An exhaust gas derivation unit for deriving exhaust gas from adsorption towers sequentially selected from the plurality of adsorption towers,
前記排ガス導出部は、前記複数の吸着塔で囲まれる領域の内側且つ起立した状態の前記複数の吸着塔の間に配置された分岐管と、前記分岐管から分岐して設けられた複数の排ガス導出配管と、前記複数の吸着塔で囲まれる領域の外側に配置されたサイレンサーとを有し、 The exhaust gas lead-out part includes a branch pipe disposed between the plurality of adsorption towers in an upright state inside a region surrounded by the plurality of adsorption towers, and a plurality of exhaust gases branched from the branch pipe. Having an outlet pipe and a silencer arranged outside the area surrounded by the plurality of adsorption towers,
前記排ガス導出配管の一部は、隣り合う吸着塔の間を通して前記分岐管と前記サイレンサーとの間を接続していることを特徴とする請求項1に記載の圧力変動吸着装置。 2. The pressure swing adsorption apparatus according to claim 1, wherein a part of said exhaust gas lead-out pipe connects between said branch pipe and said silencer through between adjacent adsorption towers.
吸着剤が充填された複数の吸着塔と、
前記複数の吸着塔の中から順次選択される吸着塔に対して原料ガスを導入する原料ガス導入部と、
前記複数の吸着塔の中から順次選択される吸着塔から排ガスを導出する排ガス導出部を備え、
前記排ガス導出部は、前記複数の吸着塔で囲まれる領域の内側且つ起立した状態の前記複数の吸着塔の間に配置された分岐管と、前記分岐管から分岐して設けられた複数の排ガス導出配管と、前記複数の吸着塔で囲まれる領域の外側に配置されたサイレンサーとを有し、
前記排ガス導出配管の一部は、隣り合う吸着塔の間を通して前記分岐管と前記サイレンサーとの間を接続していることを特徴とする圧力変動吸着装置。
a plurality of adsorption towers filled with adsorbent;
a source gas introduction unit that introduces a source gas into an adsorption tower that is sequentially selected from the plurality of adsorption towers;
An exhaust gas derivation unit for deriving exhaust gas from adsorption towers sequentially selected from the plurality of adsorption towers,
The exhaust gas lead-out part includes a branch pipe disposed between the plurality of adsorption towers in an upright state inside a region surrounded by the plurality of adsorption towers, and a plurality of exhaust gases branched from the branch pipe. Having an outlet pipe and a silencer arranged outside the area surrounded by the plurality of adsorption towers,
A pressure fluctuation adsorption apparatus , wherein a part of the exhaust gas lead-out pipe connects between the branch pipe and the silencer through the adjacent adsorption towers .
前記複数の吸着塔は、対となる一方の吸着塔と他方の吸着塔とが少なくとも2対以上並んで配置された構成を有することを特徴とする請求項1~の何れか一項に記載の圧力変動吸着装置。 4. The plurality of adsorption towers according to any one of claims 1 to 3 , wherein at least two pairs of one adsorption tower and the other adsorption tower are arranged side by side. pressure fluctuation adsorption device. 前記複数の吸着塔は、2対の吸着塔を構成する4つの吸着塔が矩形領域の各頂点に位置するように配置され、
前記分岐管は、前記矩形領域の内側に配置されていることを特徴とする請求項に記載の圧力変動吸着装置。
The plurality of adsorption towers are arranged so that four adsorption towers constituting two pairs of adsorption towers are located at each vertex of the rectangular area,
5. The pressure fluctuation adsorption device according to claim 4 , wherein the branch pipe is arranged inside the rectangular area.
前記分岐管の中心は、前記矩形領域の2つの対角線の交点に位置するように配置されていることを特徴とする請求項5に記載の圧力変動吸着装置。 6. The pressure fluctuation adsorption device according to claim 5, wherein the center of said branch pipe is positioned at the intersection of two diagonal lines of said rectangular area. 前記吸着剤として、分子篩炭素を用いることを特徴とする請求項1~6の何れか一項に記載の圧力変動吸着装置。 The pressure swing adsorption device according to any one of claims 1 to 6, wherein a carbon molecular sieve is used as the adsorbent. 前記原料ガスとなる空気から窒素を含む窒素富化ガスを分離して製造する窒素富化ガス製造装置であることを特徴とする請求項1~7の何れか一項に記載の圧力変動吸着装置。 The pressure swing adsorption device according to any one of claims 1 to 7, wherein the nitrogen-enriched gas production device is a nitrogen-enriched gas production device that separates and produces a nitrogen-enriched gas containing nitrogen from air serving as the raw material gas. .
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