JP7194660B2 - 排ガス処理設備 - Google Patents
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- Y02C20/30—Capture or disposal of greenhouse gases of perfluorocarbons [PFC], hydrofluorocarbons [HFC] or sulfur hexafluoride [SF6]
Description
Claims (10)
- 分子中にWを含む成分を使用する設備から排出されたガスを無害化処理する除害装置と、該除害装置から排出される排ガス中に含まれる酸化タングステンの粉塵を分離、捕集する粉塵分離装置とを備えた排ガス処理設備において、前記除害装置から前記粉塵分離装置に至る排ガス配管として、前記酸化タングステンの粉塵が付着することを防止するためのニッケル含有フッ素樹脂コーティング処理を内周面に施した金属製配管を用いたことを特徴とする排ガス処理設備。
- 前記金属製配管は、前記ニッケル含有フッ素樹脂コーティング処理を施す金属母材の表面に10μm以下の金属粉を衝突させた凹凸形成処理が前処理として施されていることを特徴とする請求項1記載の排ガス処理設備。
- 前記排ガス配管は、接地線が接続されてアースされていることを特徴とする請求項1又は2記載の排ガス処理設備。
- 分子中にWを含む成分を使用する設備から排出されたガスを無害化処理する除害装置と、該除害装置から排出される排ガス中に含まれる酸化タングステンの粉塵を分離、捕集する粉塵分離装置とを備えた排ガス処理設備において、前記除害装置から前記粉塵分離装置に至る排ガス配管として、前記酸化タングステンの粉塵が付着することを防止するためのエポキシ樹脂の焼付け塗装を内周面に施した金属製配管を用いたことを特徴とする排ガス処理設備。
- 前記エポキシ樹脂は、導電性材を含んでいることを特徴とする請求項4記載の排ガス処理設備。
- 前記エポキシ樹脂を焼付塗装した塗装面上に帯電防止塗装を施したことを特徴とする請求項4記載の排ガス処理設備。
- 前記排ガス配管内の排ガスの流速が7~12m/sであることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項記載の排ガス処理設備。
- 前記分子中にWを含む成分を使用する設備が、原料としてWF6を使用する半導体製造装置であることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項記載の排ガス処理設備。
- 前記除害装置は、燃焼式、ヒーター式又はプラズマ式の熱分解式除害装置であって、除害処理された粉塵を含む高温の排ガスを水との気液接触により冷却する冷却部を備えていることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項記載の排ガス処理設備。
- 前記排ガス配管内を流れる排ガスの相対湿度を90%以下に下げるためのガスを外部から導入するガス導入経路を備えていることを特徴とする請求項9記載の排ガス処理設備。
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Citations (4)
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---|---|---|---|---|
JP2003129965A (ja) | 2001-10-25 | 2003-05-08 | Daido Metal Co Ltd | ロータリポンプ |
JP2011106861A (ja) | 2009-11-13 | 2011-06-02 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | フッ化水素含有ガスの検知装置、処理装置及び検知方法 |
JP2016017678A (ja) | 2014-07-08 | 2016-02-01 | 大陽日酸株式会社 | 排ガス処理設備 |
WO2018047678A1 (ja) | 2016-09-06 | 2018-03-15 | エドワーズ株式会社 | 除害装置及び除害装置に用いられる堆積物除去手段 |
Family Cites Families (3)
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---|---|---|---|---|
JPS5148744Y2 (ja) * | 1972-01-10 | 1976-11-25 | ||
JPS63196890U (ja) * | 1987-06-09 | 1988-12-19 | ||
JPH07309495A (ja) * | 1994-03-23 | 1995-11-28 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 表面金属性カーボンロール及びその製造方法 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003129965A (ja) | 2001-10-25 | 2003-05-08 | Daido Metal Co Ltd | ロータリポンプ |
JP2011106861A (ja) | 2009-11-13 | 2011-06-02 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | フッ化水素含有ガスの検知装置、処理装置及び検知方法 |
JP2016017678A (ja) | 2014-07-08 | 2016-02-01 | 大陽日酸株式会社 | 排ガス処理設備 |
WO2018047678A1 (ja) | 2016-09-06 | 2018-03-15 | エドワーズ株式会社 | 除害装置及び除害装置に用いられる堆積物除去手段 |
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