JP7192720B2 - フォトマスクブランクの欠陥分類方法及び欠陥分類システム並びにフォトマスクブランクの選別方法及び製造方法 - Google Patents
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Description
1.フォトマスクブランクの基板上に形成された膜である検査対象物又は該検査対象物の表面部に存在する欠陥を分類する方法であって、
(A)前記検査対象物の表面に検査光を照射して、前記欠陥の部分を含む検査画像を撮像する検査装置であって、検査対象種が同一又は検査対象種が互いに異なる検査装置を2以上設けて、該2以上の検査装置において前記検査画像の撮像を並行処理して、各々の検査装置において検査画像を収集する工程と、
(B)収集された検査画像を、検査画像収納部に格納する工程と、
(C)前記検査画像収納部に格納されている未分類の2以上の検査画像を、一つの演算部に逐次取り出して、分類が既知の検査画像の画像データにより構築された学習モデル群から、検査対象種に応じた学習モデルを選択して、機械学習により検査画像の欠陥を分類する工程
とを含み、
前記(C)工程において、前記未分類の2以上の検査画像を、フォトマスクブランクの製造における欠陥の分類の後に続く他の工程を制御する装置から取り込んだ優先度であって、前記未分類の2以上の検査画像から、検査画像が属する検査対象種に基づき順位付けられ、検査画像が属する検査対象種毎に異なる、欠陥の分類の後に続く処理の効率に影響する条件に応じて選択される処理順で前記一つの演算部に取り出して、欠陥を分類するフォトマスクブランクの欠陥分類方法。
2.前記優先度が、欠陥分類後に必要に応じて実施される、前記検査画像が属する検査対象種毎に異なる、欠陥の分類の後に続く処理の処理時間及び/又は混雑度に応じて順位付けられる欠陥分類方法。
3.前記(C)工程において検査対象種に応じて選択される学習モデルが、前記検査対象種と同等の検査光学特性を有する検査対象物から撮像された検査画像の画像データにより構築された学習モデル、又は前記検査対象種と同一種の検査対象物若しくは前記検査対象種と同等の検査光学特性を有する検査対象物の検査画像をシミュレーションで予測し、得られた仮想検査画像の画像データにより構築された学習モデルである欠陥分類方法。
4.前記欠陥分類方法により凹欠陥と分類された欠陥を含まないフォトマスクブランクを選別するフォトマスクブランクの選別方法。
5.基板上に第1の膜を形成する工程と、
前記欠陥分類方法により、前記第1の膜の欠陥を分類する工程と、
前記第1の膜の前記基板から離間する側に接して第2の膜を形成する工程と、
前記欠陥分類方法により、前記第2の膜の欠陥を分類する工程
とを含むフォトマスクブランクの製造方法。
6.前記第1の膜が光学機能膜であり、前記第2の膜が前記光学機能膜の加工補助膜であり、該加工補助膜がハードマスク膜である製造方法。
7.フォトマスクブランクの基板上に形成された膜である検査対象物又は該検査対象物の表面部に存在する欠陥を分類するシステムであって、
前記検査対象物の表面に検査光を照射して、前記欠陥の部分を含む検査画像を撮像する検査部であって、検査対象種が同一又は検査対象種が互いに異なる検査部を2以上と、
収集された検査画像を収納する検査画像収納部と、
欠陥の分類が既知の検査画像の画像データにより構築された学習モデル群を収納する学習モデル収納部と、
前記検査画像収納部に格納されている未分類の2以上の検査画像を逐次取り出し、前記学習モデル収納部に収納された前記学習モデル群から、検査対象種に応じた学習モデルを選択して、機械学習により検査画像の欠陥を分類するプログラムを実行する一つの演算部と、
前記検査画像収納部に格納された未分類の2以上の検査画像を逐次取り出す処理においてフォトマスクブランクの製造における欠陥の分類の後に続く他の工程を制御する装置から取り込んだ優先度であって、前記未分類の2以上の検査画像から、検査画像が属する検査対象種に基づき順位付けられ、検査画像が属する検査対象種毎に異なる、欠陥の分類の後に続く処理の効率に影響する条件に応じて選択される処理順で検査画像を前記一つの演算部に取り出すように制御する制御部
とを備えるフォトマスクブランクの欠陥分類システム。
本発明の欠陥分類方法は、検査対象物又は検査対象物の表面部に存在する欠陥を分類する方法であり、検査対象物として、例えば、フォトマスクブランクを構成する透明基板などの基板や、基板上に形成される光学機能膜や加工補助膜などの膜(薄膜)を対象とすることができる。更に、フォトマスクブランクからフォトマスクを製造する際の中間品の基板上に形成された膜又は膜パターン、フォトマスクの基板上に形成された膜パターンなども、検査対象物とすることができる。
101 透明基板
102、103 光学機能膜
104 加工補助膜
150 検査装置
151 検査光学系
152 制御装置
153 演算装置(プロセッサ)
154 メモリ
170 欠陥分類システム
171 制御装置(制御部)
172 演算部(画像処理・欠陥分類プログラム)
173 検査画像格納部
174 学習モデル格納部
175 入出力インターフェース
176 データバス
180a、180b、180c 検査装置(検査部)
181 プロセス装置
200、210、220、230 フォトマスクブランク
201、211、221、231 透明基板
202 光学機能膜
212、222、232 ハーフトーン位相シフト膜
223、233 遮光膜
224、234 加工補助膜
AP1 アパーチャ
BM1 検査光
BM2 反射光
BSP ビームスプリッタ
DEF1 ピンホール欠陥
DEF2、DEF4、DEF6、DEF8、DEF10 凸欠陥
DEF3、DEF5、DEF7、DEF9 凹欠陥
ILS 光源
L1、L2 レンズ
MB フォトマスクブランク
OBL 対物レンズ
SPF 空間フィルタ
SE 光検出器
STG ステージ
Claims (7)
- フォトマスクブランクの基板上に形成された膜である検査対象物又は該検査対象物の表面部に存在する欠陥を分類する方法であって、
(A)前記検査対象物の表面に検査光を照射して、前記欠陥の部分を含む検査画像を撮像する検査装置であって、検査対象種が同一又は検査対象種が互いに異なる検査装置を2以上設けて、該2以上の検査装置において前記検査画像の撮像を並行処理して、各々の検査装置において検査画像を収集する工程と、
(B)収集された検査画像を、検査画像収納部に格納する工程と、
(C)前記検査画像収納部に格納されている未分類の2以上の検査画像を、一つの演算部に逐次取り出して、分類が既知の検査画像の画像データにより構築された学習モデル群から、検査対象種に応じた学習モデルを選択して、機械学習により検査画像の欠陥を分類する工程
とを含み、
前記(C)工程において、前記未分類の2以上の検査画像を、フォトマスクブランクの製造における欠陥の分類の後に続く他の工程を制御する装置から取り込んだ優先度であって、前記未分類の2以上の検査画像から、検査画像が属する検査対象種に基づき順位付けられ、検査画像が属する検査対象種毎に異なる、欠陥の分類の後に続く処理の効率に影響する条件に応じて選択される処理順で前記一つの演算部に取り出して、欠陥を分類することを特徴とするフォトマスクブランクの欠陥分類方法。 - 前記優先度が、欠陥分類後に必要に応じて実施される、前記検査画像が属する検査対象種毎に異なる、欠陥の分類の後に続く処理の処理時間及び/又は混雑度に応じて順位付けられることを特徴とする請求項1に記載の欠陥分類方法。
- 前記(C)工程において検査対象種に応じて選択される学習モデルが、前記検査対象種と同等の検査光学特性を有する検査対象物から撮像された検査画像の画像データにより構築された学習モデル、又は前記検査対象種と同一種の検査対象物若しくは前記検査対象種と同等の検査光学特性を有する検査対象物の検査画像をシミュレーションで予測し、得られた仮想検査画像の画像データにより構築された学習モデルであることを特徴とする請求項1又は2に記載の欠陥分類方法。
- 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の欠陥分類方法により凹欠陥と分類された欠陥を含まないフォトマスクブランクを選別することを特徴とするフォトマスクブランクの選別方法。
- 基板上に第1の膜を形成する工程と、
請求項1乃至3のいずれか1項に記載の欠陥分類方法により、前記第1の膜の欠陥を分類する工程と、
前記第1の膜の前記基板から離間する側に接して第2の膜を形成する工程と、
請求項1乃至3のいずれか1項に記載の欠陥分類方法により、前記第2の膜の欠陥を分類する工程
とを含むことを特徴とするフォトマスクブランクの製造方法。 - 前記第1の膜が光学機能膜であり、前記第2の膜が前記光学機能膜の加工補助膜であり、該加工補助膜がハードマスク膜であることを特徴とする請求項5記載の製造方法。
- フォトマスクブランクの基板上に形成された膜である検査対象物又は該検査対象物の表面部に存在する欠陥を分類するシステムであって、
前記検査対象物の表面に検査光を照射して、前記欠陥の部分を含む検査画像を撮像する検査部であって、検査対象種が同一又は検査対象種が互いに異なる検査部を2以上と、
収集された検査画像を収納する検査画像収納部と、
欠陥の分類が既知の検査画像の画像データにより構築された学習モデル群を収納する学習モデル収納部と、
前記検査画像収納部に格納されている未分類の2以上の検査画像を逐次取り出し、前記学習モデル収納部に収納された前記学習モデル群から、検査対象種に応じた学習モデルを選択して、機械学習により検査画像の欠陥を分類するプログラムを実行する一つの演算部と、
前記検査画像収納部に格納された未分類の2以上の検査画像を逐次取り出す処理においてフォトマスクブランクの製造における欠陥の分類の後に続く他の工程を制御する装置から取り込んだ優先度であって、前記未分類の2以上の検査画像から、検査画像が属する検査対象種に基づき順位付けられ、検査画像が属する検査対象種毎に異なる、欠陥の分類の後に続く処理の効率に影響する条件に応じて選択される処理順で検査画像を前記一つの演算部に取り出すように制御する制御部
とを備えることを特徴とするフォトマスクブランクの欠陥分類システム。
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