JP7187538B2 - Alkali developable photocurable thermosetting resin composition - Google Patents

Alkali developable photocurable thermosetting resin composition Download PDF

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Description

本発明は、少なくとも2液に組成されているアルカリ現像型光硬化性熱硬化性樹脂組成物に関する。 The present invention relates to an alkali-developable photocurable thermosetting resin composition composed of at least two liquids.

アルカリ現像型液状フォトソルダーレジスト組成物、アルカリ現像型感光性遮蔽剤等に使用可能な硬化性樹脂組成物の成分の一つとして、従来、オキシム結合を有する光重合開始剤が用いられている(例えば、特許文献1)。 As one of the components of a curable resin composition that can be used for alkali-developable liquid photosolder resist compositions, alkali-developable photosensitive shielding agents, etc., conventionally, a photopolymerization initiator having an oxime bond is used ( For example, Patent Document 1).

特開2011-022328号公報Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2011-022328 国際公開第2012/043001号公報International Publication No. 2012/043001

オキシム結合を有する光重合開始剤は、高感度が要求される高精細材料向けに使用される硬化性樹脂組成物にも用いることができる成分である一方、オキシム結合を有する光重合開始剤を含む硬化性樹脂組成物は、保存時に、感度、解像性等の光特性が徐々に低下してしまう。そのため、長期保存後でも光特性等に優れた硬化性樹脂組成物を提供することが困難であった。 A photopolymerization initiator having an oxime bond is a component that can also be used in a curable resin composition used for high-definition materials that require high sensitivity, while a photopolymerization initiator having an oxime bond is included. The curable resin composition gradually deteriorates in optical properties such as sensitivity and resolution during storage. Therefore, it has been difficult to provide a curable resin composition that is excellent in optical properties and the like even after long-term storage.

このような課題に対し、例えば、特許文献2では、オキシム結合を有する光重合開始剤とカルボキシル基含有樹脂を2液に分けて保存し、失活を低減することが提案されている。 To address such a problem, for example, Patent Document 2 proposes to store a photopolymerization initiator having an oxime bond and a carboxyl group-containing resin in two liquids to reduce deactivation.

しかしながら、アルカリ現像型感光性遮蔽剤等のように、黒色等の隠蔽性の高い組成物は光の透過が悪いため、このような組成物において感度を向上させる目的で高感度なオキシム結合を有する光重合開始剤の配合量を増やした場合、上述のように2液にすることで失活を低減できるものの完全ではなく、また、オキシム結合を有する光重合開始剤が再結晶して粗粒が発生するケースがあった。特に、遮蔽剤の場合、粗粒の発生により、遮蔽剤の硬化塗膜の粗粒が発生した場所にピンホールができ、外観不良となるおそれもあった。 However, since a composition with a high hiding property such as a black color such as an alkali-developable photosensitive shielding agent has poor light transmission, such a composition has a highly sensitive oxime bond for the purpose of improving the sensitivity. When the amount of the photopolymerization initiator is increased, deactivation can be reduced by using two liquids as described above, but it is not complete. There was a case. In particular, in the case of the shielding agent, the generation of coarse particles may cause pinholes in places where the coarse particles are generated in the cured coating film of the shielding agent, resulting in poor appearance.

以上より、本発明の課題は、長期保存時にも、解像性、感度等、密着性に優れ、再結晶も防止できる樹脂組成物を提供することにある。 In view of the above, an object of the present invention is to provide a resin composition which is excellent in resolution, sensitivity, adhesion, etc., and which can prevent recrystallization even during long-term storage.

本発明者らは鋭意検討の結果、オキシム結合を有する光重合開始剤が特定の溶剤に溶解性が優れることを見出し、オキシム結合を有する光重合開始剤の失活を低減し、且つ再結晶も防止できることも見出した。 As a result of intensive studies, the present inventors have found that a photopolymerization initiator having an oxime bond has excellent solubility in a specific solvent. I also found that it can be prevented.

本発明は、アルカリ可溶性樹脂、オキシム結合を有する光重合開始剤、反応性希釈剤、熱硬化性樹脂、溶剤を少なくとも含有する光硬化性熱硬化性組成物であって、
前記オキシム結合を有する光重合開始剤は、前記アルカリ可溶性樹脂とは別の組成物に配合され、さらにオキシム結合を有する光重合開始剤と配合される溶剤は、ケトン系溶剤を溶剤中50質量%以上含むことを特徴とする、少なくとも2液系に組成されているアルカリ現像型光硬化性熱硬化性樹脂組成物である。
また、前記オキシム結合を有する光重合開始剤と配合される溶剤は、エーテル系溶剤を含まないことが好ましい。
さらに、着色剤を含有することが好ましい。
前記着色剤が、カーボンブラックおよび混色黒系着色剤を含み、前記アルカリ現像型光硬化性熱硬化性樹脂組成物全量あたり、固形分換算で、前記カーボンブラックの含有量が4~10質量%であり、且つ、前記混色黒系着色剤の含有量が8~20質量%であることが好ましい。
前記反応性希釈剤がアルキレンオキシドおよびラクトンのいずれかで変性された2官能以上の(メタ)アクリレートを含有することが好ましい。
前記アルカリ現像型光硬化性熱硬化性樹脂組成物が、ガラス基材用であることが好ましい。
The present invention is a photocurable thermosetting composition containing at least an alkali-soluble resin, a photopolymerization initiator having an oxime bond, a reactive diluent, a thermosetting resin, and a solvent,
The photopolymerization initiator having an oxime bond is blended in a composition separate from the alkali-soluble resin, and the solvent to be blended with the photopolymerization initiator having an oxime bond is a ketone solvent of 50% by mass in the solvent. The alkali-developable photocurable thermosetting resin composition is composed of at least a two-liquid system, characterized by comprising the above.
Moreover, it is preferable that the solvent mixed with the photopolymerization initiator having the oxime bond does not contain an ether solvent.
Furthermore, it is preferable to contain a coloring agent.
The coloring agent contains carbon black and a mixed color black coloring agent, and the content of the carbon black is 4 to 10% by mass in terms of solid content per the total amount of the alkali-developable photocurable thermosetting resin composition. and the content of the mixed black colorant is preferably 8 to 20% by mass.
It is preferable that the reactive diluent contains a bifunctional or higher (meth)acrylate modified with either an alkylene oxide or a lactone.
The alkali-developable photocurable thermosetting resin composition is preferably for glass substrates.

本発明によれば、長期保存時にも、解像性、感度、密着性に優れ、再結晶も防止できる樹脂組成物を提供することが可能である。 INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide a resin composition which is excellent in resolution, sensitivity and adhesion even during long-term storage and which can prevent recrystallization.

以下、本発明のアルカリ現像型の光硬化性熱硬化性樹脂組成物(以下、単に「硬化性樹脂組成物」等と称する場合がある。)について具体的に説明するが、本発明はこれらには何ら限定されない。 Hereinafter, the alkali-developable photocurable thermosetting resin composition of the present invention (hereinafter sometimes simply referred to as "curable resin composition", etc.) will be specifically described, but the present invention is not limited to these. is not limited at all.

なお、説明した化合物に異性体が存在する場合、特に断らない限り、存在し得る全ての異性体が本発明において使用可能である。 In addition, when isomers exist in the described compounds, all possible isomers can be used in the present invention unless otherwise specified.

なお、本明細書において、(メタ)アクリレートとは、アクリレート、メタクリレートおよびそれらの混合物を総称する用語で、他の類似の表現についても同様である。 In this specification, (meth)acrylate is a generic term for acrylate, methacrylate and mixtures thereof, and the same applies to other similar expressions.

固形分とは、特に断らない限り、溶媒(特に有機溶媒)以外の組成物を構成する成分、またはその質量や体積を意味する。 Unless otherwise specified, the solid content means the components constituting the composition other than the solvent (particularly the organic solvent), or the mass or volume thereof.

本発明の硬化性樹脂組成物は、少なくとも、アルカリ可溶性樹脂、オキシム結合を有する光重合開始剤、反応性希釈剤、熱硬化性樹脂、および、溶剤を含有する光硬化性・熱硬化性組成物であって、前記オキシム結合を有する光重合開始剤は、少なくとも前記アルカリ可溶性樹脂とは別の組成物に配合され、さらにオキシム結合を有する光重合開始剤と配合される溶剤は、ケトン系溶剤である、少なくとも2液系に組成されているアルカリ現像型光硬化性熱硬化性樹脂組成物である。 The curable resin composition of the present invention is a photocurable/thermosetting composition containing at least an alkali-soluble resin, a photopolymerization initiator having an oxime bond, a reactive diluent, a thermosetting resin, and a solvent. The photopolymerization initiator having an oxime bond is blended in a composition different from at least the alkali-soluble resin, and the solvent blended with the photopolymerization initiator having an oxime bond is a ketone solvent. It is an alkali-developable photocurable thermosetting resin composition composed of at least a two-liquid system.

本発明の硬化性樹脂組成物は、別の表現では、少なくとも、(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)光重合開始剤、(C)反応性希釈剤、(D)熱硬化性樹脂、および、(E)溶剤を含有する光硬化性熱硬化性組成物(光硬化性熱硬化性材料)であり、(A)アルカリ可溶性樹脂を少なくとも含有する第1組成物と、(B)光重合開始剤として(B-1)オキシム結合を有する光重合開始剤{以下、「オキシム系光重合開始剤」と称する。}、および、(E)溶剤として(E-1)ケトン系溶剤を溶剤中50質量%以上含有する第2組成物と、を含む少なくとも2液(3液以上であってもよい。)に組成されているアルカリ現像型光硬化性熱硬化性樹脂組成物(アルカリ現像型光硬化性熱硬化性材料)材料である。 In other words, the curable resin composition of the present invention comprises at least (A) an alkali-soluble resin, (B) a photopolymerization initiator, (C) a reactive diluent, (D) a thermosetting resin, and (E) a photocurable thermosetting composition (photocurable thermosetting material) containing a solvent, (A) a first composition containing at least an alkali-soluble resin, and (B) a photopolymerization initiator (B-1) a photopolymerization initiator having an oxime bond {hereinafter referred to as an “oxime-based photopolymerization initiator”. }, and (E) a second composition containing (E-1) a ketone-based solvent of 50% by mass or more in the solvent as a solvent. It is an alkali-developable photocurable thermosetting resin composition (alkali-developable photocurable thermosetting material) material.

また、本発明の硬化性樹脂組成物は、本発明の効果を阻害しない範囲内で、(F)その他の成分を含有していてもよい。 Moreover, the curable resin composition of the present invention may contain (F) other components as long as the effects of the present invention are not impaired.

本発明の硬化性樹脂組成物の各成分は、次のように分類される。
(必須成分であり、第1組成物に含まれる成分)
(A)アルカリ可溶性樹脂
(必須成分であり、第2組成物に含まれる成分)
(B-1)オキシム系光重合開始剤
(E-1)ケトン系溶剤
(必須成分であり、いずれかまたは全ての組成物に含まれていてもよい成分)
(C)反応性希釈剤
(D)熱硬化性樹脂
(任意成分)
(E)溶剤
(B-2)オキシム系以外の光重合開始剤
(F)その他の成分
Each component of the curable resin composition of the present invention is classified as follows.
(Essential components and components contained in the first composition)
(A) Alkali-soluble resin (an essential component and a component contained in the second composition)
(B-1) Oxime-based photopolymerization initiator (E-1) Ketone-based solvent (essential component, component that may be contained in any or all compositions)
(C) Reactive diluent (D) Thermosetting resin (optional component)
(E) Solvent (B-2) Photopolymerization initiator other than oxime system (F) Other components

以下、本発明の硬化性樹脂組成物の各成分について説明する。 Each component of the curable resin composition of the present invention is described below.

ここで、(F)その他の成分としては、とりわけ、着色剤を含むことが好ましい。以下では、成分(A)~成分(E)および着色剤について説明し、着色剤以外の(F)その他の成分について説明する。 Here, (F) other components preferably include a coloring agent. Components (A) to (E) and the colorant will be described below, and (F) and other components other than the colorant will be described.

[(A)アルカリ可溶性樹脂]
アルカリ可溶性樹脂としては、公知のものを使用可能であり、カルボキシル基含有樹脂またはフェノール性水酸基含有樹脂を用いると好ましい。特に、カルボキシル基含有樹脂を用いると現像性の面からより好ましい。また、アルカリ可溶性樹脂は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
[(A) alkali-soluble resin]
As the alkali-soluble resin, known ones can be used, and it is preferable to use a carboxyl group-containing resin or a phenolic hydroxyl group-containing resin. In particular, it is preferable to use a carboxyl group-containing resin from the standpoint of developability. Moreover, alkali-soluble resin may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

カルボキシル基含有樹脂としては、特に、分子中にエチレン性不飽和二重結合を有するカルボキシル基含有感光性樹脂が、アルカリ現像を行う感光性の組成物として、光硬化性や耐現像性の面からより好ましい。そして、その不飽和二重結合は、アクリル酸もしくはメタアクリル酸、または、それらの誘導体由来のものが好ましい。 As the carboxyl group-containing resin, in particular, a carboxyl group-containing photosensitive resin having an ethylenically unsaturated double bond in the molecule is used as a photosensitive composition for alkali development from the viewpoint of photocurability and development resistance. more preferred. The unsaturated double bond is preferably derived from acrylic acid, methacrylic acid, or derivatives thereof.

(I)(メタ)アクリル酸等の不飽和カルボン酸と、スチレン、α-メチルスチレン、低級アルキル(メタ)アクリレート、イソブチレン等の不飽和基含有化合物との共重合により得られるカルボキシル基含有樹脂。 (I) A carboxyl group-containing resin obtained by copolymerizing an unsaturated carboxylic acid such as (meth)acrylic acid and an unsaturated group-containing compound such as styrene, α-methylstyrene, lower alkyl (meth)acrylate, isobutylene, or the like.

(II)脂肪族ジイソシアネート、分岐脂肪族ジイソシアネート、脂環式ジイソシアネート、芳香族ジイソシアネート等のジイソシアネートと、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸等のカルボキシル基含有ジアルコール化合物およびポリカーボネート系ポリオール、ポリエーテル系ポリオール、ポリエステル系ポリオール、ポリオレフィン系ポリオール、アクリル系ポリオール、ビスフェノールA系アルキレンオキシド付加体ジオール、フェノール性ヒドロキシル基およびアルコール性ヒドロキシル基を有する化合物等のジオール化合物の重付加反応によるカルボキシル基含有ウレタン樹脂。 (II) Diisocyanates such as aliphatic diisocyanates, branched aliphatic diisocyanates, alicyclic diisocyanates, and aromatic diisocyanates; Carboxyl group-containing urethane resins obtained by polyaddition reaction of diol compounds such as polyols, polyester-based polyols, polyolefin-based polyols, acrylic polyols, bisphenol A-based alkylene oxide adduct diols, and compounds having phenolic hydroxyl groups and alcoholic hydroxyl groups.

(III)ジイソシアネートと、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビキシレノール型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂等の2官能エポキシ樹脂の(メタ)アクリレートもしくはその部分酸無水物変性物、カルボキシル基含有ジアルコール化合物およびジオール化合物の重付加反応によるカルボキシル基含有感光性ウレタン樹脂。 (III) a diisocyanate and a bifunctional epoxy resin such as bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, bixylenol type epoxy resin, biphenol type epoxy resin ( A carboxyl group-containing photosensitive urethane resin obtained by a polyaddition reaction of a meth)acrylate or its partial acid anhydride modified product, a carboxyl group-containing dialcohol compound and a diol compound.

(IV)前記(II)または(III)の樹脂の合成中に、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート等の分子内に1つの水酸基と1つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物を加え、末端(メタ)アクリル化したカルボキシル基含有感光性ウレタン樹脂。 (IV) During the synthesis of the resin (II) or (III), a compound having one hydroxyl group and one or more (meth)acryloyl groups in the molecule such as hydroxyalkyl (meth)acrylate is added, and the terminal ( Meta) acrylated carboxyl group-containing photosensitive urethane resin.

(V)前記(II)または(III)の樹脂の合成中に、イソホロンジイソシアネートとペンタエリスリトールトリアクリレートの等モル反応物等、分子内に1つのイソシアネート基と1つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物を加え末端(メタ)アクリル化したカルボキシル基含有感光性ウレタン樹脂。 (V) One isocyanate group and one or more (meth)acryloyl groups in the molecule, such as an equimolar reaction product of isophorone diisocyanate and pentaerythritol triacrylate, during the synthesis of the resin of (II) or (III). A carboxyl group-containing photosensitive urethane resin that is terminally (meth)acrylated by adding a compound having

(VI)2官能またはそれ以上の多官能(固形)エポキシ樹脂に(メタ)アクリル酸を反応させ、側鎖に存在する水酸基に2塩基酸無水物を付加させたカルボキシル基含有感光性樹脂。 (VI) A carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reacting (meth)acrylic acid with a polyfunctional (solid) epoxy resin having a functionality of two or more and adding a dibasic acid anhydride to the hydroxyl groups present in the side chains.

(VII)2官能(固形)エポキシ樹脂の水酸基をさらにエピクロロヒドリンでエポキシ化した多官能エポキシ樹脂に(メタ)アクリル酸を反応させ、生じた水酸基に2塩基酸無水物を付加させたカルボキシル基含有感光性樹脂。 (VII) A carboxyl obtained by reacting (meth)acrylic acid with a polyfunctional epoxy resin obtained by further epoxidizing the hydroxyl group of a bifunctional (solid) epoxy resin with epichlorohydrin, and adding a dibasic acid anhydride to the resulting hydroxyl group. Group-containing photosensitive resin.

(VIII)2官能オキセタン樹脂にアジピン酸、フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸等のジカルボン酸を反応させ、生じた1級の水酸基に無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸等の2塩基酸無水物を付加させたカルボキシル基含有ポリエステル樹脂。 (VIII) A difunctional oxetane resin is reacted with a dicarboxylic acid such as adipic acid, phthalic acid, and hexahydrophthalic acid, and the resulting primary hydroxyl group is treated with a dibasic such as phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, and hexahydrophthalic anhydride. Carboxyl group-containing polyester resin to which acid anhydride is added.

(IX)1分子中に複数のエポキシ基を有するエポキシ化合物に、p-ヒドロキシフェネチルアルコール等の1分子中に少なくとも1個のアルコール性水酸基と1個のフェノール性水酸基を有する化合物と、(メタ)アクリル酸等の不飽和基含有モノカルボン酸とを反応させ、得られた反応生成物のアルコール性水酸基に対して、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、アジピン酸等の多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有樹脂。 (IX) an epoxy compound having a plurality of epoxy groups in one molecule, a compound having at least one alcoholic hydroxyl group and one phenolic hydroxyl group in one molecule such as p-hydroxyphenethyl alcohol; Maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, adipic acid to the alcoholic hydroxyl group of the reaction product obtained by reacting with a monocarboxylic acid containing an unsaturated group such as acrylic acid. A carboxyl group-containing resin obtained by reacting a polybasic acid anhydride such as an acid.

(X)1分子中に複数のフェノール性水酸基を有する化合物とエチレンオキシド、プロピレンオキシド等のアルキレンオキシドとを反応させて得られる反応生成物に不飽和基含有モノカルボン酸を反応させ、得られる反応生成物に多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂。 (X) A reaction product obtained by reacting a compound having a plurality of phenolic hydroxyl groups in one molecule with an alkylene oxide such as ethylene oxide or propylene oxide and reacting an unsaturated group-containing monocarboxylic acid to obtain a reaction product A carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reacting a polybasic acid anhydride with a substance.

(XI)1分子中に複数のフェノール性水酸基を有する化合物とエチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等の環状カーボネート化合物とを反応させて得られる反応生成物に不飽和基含有モノカルボン酸を反応させ、得られる反応生成物に多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂。 (XI) Obtained by reacting a reaction product obtained by reacting a compound having multiple phenolic hydroxyl groups in one molecule with a cyclic carbonate compound such as ethylene carbonate or propylene carbonate with a monocarboxylic acid containing an unsaturated group A carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reacting a reaction product with a polybasic acid anhydride.

(XII)前記(I)~(XI)の樹脂にさらに1分子内に1つのエポキシ基と1つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物を付加してなるカルボキシル基含有感光性樹脂。 (XII) A carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by further adding a compound having one epoxy group and one or more (meth)acryloyl groups in one molecule to the resins (I) to (XI).

カルボキシル基含有樹脂の酸価は、20~200mgKOH/gの範囲が好ましく、より好ましくは40~150mgKOH/gの範囲である。カルボキシル基含有樹脂の酸価が20mgKOH/g以上の場合、塗膜の密着性が良好となり、アルカリ現像が良好となる。一方、酸価が200mgKOH/g以下の場合には、現像液による露光部の溶解を抑制できるために、必要以上にラインが痩せたり、場合によっては、露光部と未露光部の区別なく現像液で溶解剥離したりすることを抑制して、良好にレジストパターンを描画することができる。 The acid value of the carboxyl group-containing resin is preferably in the range of 20-200 mgKOH/g, more preferably in the range of 40-150 mgKOH/g. When the acid value of the carboxyl group-containing resin is 20 mgKOH/g or more, the adhesion of the coating film is improved, and alkali development is improved. On the other hand, when the acid value is 200 mgKOH/g or less, the dissolution of the exposed area by the developer can be suppressed, so the line may become thinner than necessary, and in some cases, the developer may The resist pattern can be satisfactorily drawn by suppressing the dissolution and peeling of the film.

カルボキシル基含有樹脂の重量平均分子量は、樹脂骨格により異なるが、2,000~150,000、さらには5,000~100,000の範囲が好ましい。重量平均分子量が2,000以上の場合、タックフリー性能が良好であり、露光後の塗膜の耐湿性が良好で、現像時に膜減りを抑制し、解像度の低下を抑制できる。一方、重量平均分子量が150,000以下の場合、現像性が良好で、貯蔵安定性にも優れる。 The weight average molecular weight of the carboxyl group-containing resin varies depending on the resin skeleton, but is preferably in the range of 2,000 to 150,000, more preferably 5,000 to 100,000. When the weight-average molecular weight is 2,000 or more, the tack-free property is good, the moisture resistance of the coating film after exposure is good, film thinning during development can be suppressed, and the decrease in resolution can be suppressed. On the other hand, when the weight average molecular weight is 150,000 or less, the developability is good and the storage stability is also excellent.

カルボキシル基含有樹脂は、1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いてよい。本発明の硬化性樹脂組成物が2種以上のカルボキシル基含有樹脂を含有する場合、例えば、上述した(A1)カルボキシル基含有感光性樹脂を含有することが好ましい。 Carboxyl group-containing resins may be used alone or in combination of two or more. When the curable resin composition of the present invention contains two or more carboxyl group-containing resins, it preferably contains (A1) the carboxyl group-containing photosensitive resin described above, for example.

また、本発明の硬化性樹脂組成物は、他の態様において、カルボキシル基含有樹脂として、上述した(A1)カルボキシル基含有感光性樹脂と、脂環式骨格を有さないカルボキシル基含有アクリル共重合体を含有していてもよい。脂環式骨格を有さないカルボキシル基含有アクリル共重合体としては、上記カルボキシル基含有樹脂の具体例として挙げた(1)スチレン共重合型のカルボキシル基含有樹脂が挙げられる。脂環式骨格を有さないカルボキシル基含有アクリル共重合体を配合する場合の配合率としては、カルボキシル基含有樹脂全体を100質量部としたとき、例えば、10~95質量部であり、好ましくは、10~80質量部である。 Further, in another aspect, the curable resin composition of the present invention includes, as the carboxyl group-containing resin, the above-described carboxyl group-containing photosensitive resin (A1) and a carboxyl group-containing acrylic copolymer having no alicyclic skeleton. It may contain coalescence. Examples of the carboxyl group-containing acrylic copolymer having no alicyclic skeleton include the styrene copolymer type carboxyl group-containing resin (1) exemplified as the specific example of the carboxyl group-containing resin. When the carboxyl group-containing acrylic copolymer having no alicyclic skeleton is blended, the blending ratio is, for example, 10 to 95 parts by mass, preferably 100 parts by mass of the total carboxyl group-containing resin. , 10 to 80 parts by mass.

フェノール性水酸基含有樹脂としては、主鎖もしくは側鎖にフェノール性水酸基、即ちベンゼン環に結合した水酸基を有していれば特に制限されない。好ましくは1分子中に2個以上のフェノール性水酸基を有する化合物である。1分子中に2個以上のフェノール性水酸基を有する化合物としては、カテコール、レゾルシノール、ヒドロキノン、ジヒドロキシトルエン、ナフタレンジオール、t-ブチルカテコール、t-ブチルヒドロキノン、ピロガロール、フロログルシノール、ビスフェノールA 、ビスフェノールF 、ビスフェノールS、ビフェノール、ビキシレノール、ノボラック型フェノール樹脂、ノボラック型アルキルフェノール樹脂、ビスフェノールAのノボラック樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、ザイロック(Xylok)型フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、ポリビニルフェノール類、フェノール類とフェノール性水酸基を有する芳香族アルデヒドとの縮合物、1-ナフトールまたは2-ナフトールと芳香族アルデヒド類との縮合物等を挙げることができるが、これらに限られるものではない。フェノール性水酸基含有化合物は、1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。 The phenolic hydroxyl group-containing resin is not particularly limited as long as it has a phenolic hydroxyl group in its main chain or side chain, that is, a hydroxyl group bonded to a benzene ring. Preferred are compounds having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule. Compounds having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule include catechol, resorcinol, hydroquinone, dihydroxytoluene, naphthalenediol, t-butylcatechol, t-butylhydroquinone, pyrogallol, phloroglucinol, bisphenol A, bisphenol F. , bisphenol S, biphenol, bixylenol, novolac-type phenolic resin, novolak-type alkylphenol resin, bisphenol A novolac resin, dicyclopentadiene-type phenolic resin, Xylok-type phenolic resin, terpene-modified phenolic resin, polyvinylphenols, phenol and aromatic aldehydes having a phenolic hydroxyl group, condensates of 1-naphthol or 2-naphthol and aromatic aldehydes, etc., but are not limited to these. A phenolic hydroxyl-containing compound can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

アルカリ可溶性樹脂の含有量は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物あたり、固形分換算で、10~95質量%、好ましくは、10~80質量%等とすればよい。 The content of the alkali-soluble resin is not particularly limited, but may be 10 to 95% by mass, preferably 10 to 80% by mass, in terms of solid content per curable resin composition.

[(B)光重合開始剤]
<(B-1)オキシム系光重合開始剤>
オキシム系光重合開始剤としては、公知のものを使用可能である。また、オキシム系光重合開始剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
[(B) Photoinitiator]
<(B-1) Oxime Photopolymerization Initiator>
A known oxime photopolymerization initiator can be used. Also, the oxime-based photopolymerization initiators may be used singly or in combination of two or more.

オキシム系光重合開始剤は、オキシムエステル系光重合開始剤であり、以下に示す一般式(I)で表される構造部分を含むオキシムエステル系光重合開始剤が好ましく、さらにカルバゾール構造を有するオキシムエステル系光重合開始剤がより好ましい。カルバゾール構造を有するオキシムエステル系光重合開始剤として2量体のオキシムエステル系光重合開始剤を用いてもよい。 The oxime photopolymerization initiator is an oxime ester photopolymerization initiator, preferably an oxime ester photopolymerization initiator containing a structural moiety represented by the general formula (I) shown below, and further an oxime having a carbazole structure. Ester-based photopolymerization initiators are more preferred. A dimer oxime ester photopolymerization initiator may be used as the oxime ester photopolymerization initiator having a carbazole structure.

Figure 0007187538000001
Figure 0007187538000001

一般式(I)中、R1は、水素原子、フェニル基、アルキル基、シクロアルキル基、アルカノイル基またはベンゾイル基を表わす。R2は、フェニル基、アルキル基、シクロアルキル基、アルカノイル基またはベンゾイル基を表す。 In general formula (I), R1 represents a hydrogen atom, a phenyl group, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkanoyl group or a benzoyl group. R2 represents a phenyl group, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkanoyl group or a benzoyl group.

R1およびR2により表されるフェニル基は、置換基を有していてもよく、該置換基としては、例えば、炭素数1~6のアルキル基、フェニル基、ハロゲン原子等が挙げられる。 The phenyl group represented by R1 and R2 may have a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group and a halogen atom.

R1およびR2により表されるアルキル基としては、炭素数1~20のアルキル基が好ましく、アルキル鎖中に1個以上の酸素原子を含んでいてもよい。また、1個以上の水酸基で置換されていてもよい。 The alkyl group represented by R1 and R2 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and may contain one or more oxygen atoms in the alkyl chain. Moreover, it may be substituted with one or more hydroxyl groups.

R1およびR2により表されるシクロアルキル基としては、炭素数5~8のシクロアルキル基が好ましい。 A cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms is preferable as the cycloalkyl group represented by R1 and R2.

R1およびR2により表されるアルカノイル基としては、炭素数2~20のアルカノイル基が好ましい。 The alkanoyl group represented by R1 and R2 is preferably an alkanoyl group having 2 to 20 carbon atoms.

R1およびR2により表されるベンゾイル基は、置換基を有していてもよく、該置換基としては、例えば、炭素数が1~6のアルキル基、フェニル基等が挙げられる。 The benzoyl group represented by R1 and R2 may have a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and a phenyl group.

一般式(I)で表される構造部分を含むオキシムエステル系光重合開始剤としては、1,2-オクタンジオン-1-[4-(フェニルチオ)-2-(O-ベンゾイルオキシム)]、下記式(I-1)で表される化合物、2-(アセチルオキシイミノメチル)チオキサンテン-9-オン、ならびに、エタノン,1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]-,1-(O-アセチルオキシム)および下記一般式(I-2)で表わされる化合物等のカルバゾール骨格を有るオキシムエステル系化合物等が挙げられる。 As the oxime ester photopolymerization initiator containing the structural moiety represented by the general formula (I), 1,2-octanedione-1-[4-(phenylthio)-2-(O-benzoyloxime)], the following A compound represented by formula (I-1), 2-(acetyloxyiminomethyl)thioxanthene-9-one, and ethanone, 1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazole -3-yl]-, 1-(O-acetyloxime) and oxime ester compounds having a carbazole skeleton such as compounds represented by the following general formula (I-2).

Figure 0007187538000002
Figure 0007187538000002

一般式(I-2)中、R11は、一般式(I)におけるR1と同義であり、R12およびR14は、それぞれ独立に、一般式(I)におけるR2と同義である。R13は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~12のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数2~12のアルカノイル基、炭素数2~12のアルコキシカルボニル基(アルコキシル基を構成するアルキル基の炭素数が2以上の場合、アルキル基は1個以上の水酸基で置換されていてもよく、アルキル鎖の中間に1個以上の酸素原子を有してもよい)またはフェノキシカルボン基を表す。 In general formula (I-2), R11 has the same definition as R1 in general formula (I), and R12 and R14 each independently have the same meaning as R2 in general formula (I). R13 is a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, a benzyl group, a benzoyl group, an alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, or an alkoxycarbonyl having 2 to 12 carbon atoms; group (when the alkyl group constituting the alkoxyl group has 2 or more carbon atoms, the alkyl group may be substituted with one or more hydroxyl groups, and may have one or more oxygen atoms in the middle of the alkyl chain. good) or represents a phenoxycarboxylic group.

このようなオキシムエステル系光重合開始剤は、例えば、ダイレクトイメージング用の露光に対して、本発明の硬化性樹脂組成物の感度を高くでき、解像性に優れるため好ましい。また、オキシムエステル系光重合開始剤は二量体であってもよい。 Such an oxime ester-based photopolymerization initiator is preferable because, for example, the sensitivity of the curable resin composition of the present invention to exposure for direct imaging can be increased and the resolution is excellent. Also, the oxime ester photopolymerization initiator may be a dimer.

二量体のオキシムエステル系光重合開始剤としては、下記一般式(I-3)で表される化合物であることがより好ましい。 As the dimer oxime ester photopolymerization initiator, a compound represented by the following general formula (I-3) is more preferable.

Figure 0007187538000003
Figure 0007187538000003

一般式(I-3)中、R23は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、フェニル基、ナフチル基を表す。R21、R22はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、ピリジル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基を表す。
Arは、単結合、または、炭素数1~10のアルキレン基、ビニレン基、フェニレン基、ビフェニレン基、ピリジレン基、ナフチレン基、アントリレン基、チエニレン基、フリレン基、2,5-ピロール-ジイル基、4,4’-スチルベン-ジイル基、4,2’-スチレン-ジイル基を表す。
nは0~1の整数を表す。
In general formula (I-3), R23 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a phenyl group, or a naphthyl group. R21 and R22 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a halogen group, a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a pyridyl group, a benzofuryl group or a benzothienyl group.
Ar is a single bond, or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, vinylene group, phenylene group, biphenylene group, pyridylene group, naphthylene group, anthrylene group, thienylene group, furylene group, 2,5-pyrrole-diyl group, represents a 4,4'-stilbene-diyl group and a 4,2'-styrene-diyl group.
n represents an integer of 0 to 1;

R23により表されるアルキル基としては、炭素数1~17のアルキル基が好ましい。
R23により表されるアルコキシ基としては、炭素数1~8のアルコキシ基が好ましい。
R23により表されるフェニル基は、置換基を有していてもよく、該置換基としては、例えば、アルキル基(好ましくは炭素数1~17)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1~8)、アミノ基、アルキルアミノ基(好ましくはアルキル基の炭素数1~8)またはジアルキルアミノ基(好ましくはアルキル基の炭素数1~8)等が挙げられる。
R23により表されるナフチル基は、置換基を有していてもよく、該置換基としては、R23により表されるフェニル基が有し得る上記置換基と同様の基が挙げられる。
As the alkyl group represented by R23, an alkyl group having 1 to 17 carbon atoms is preferable.
As the alkoxy group represented by R23, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms is preferred.
The phenyl group represented by R23 may have a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group (preferably having 1 to 17 carbon atoms) and an alkoxy group (preferably having 1 to 8 carbon atoms). , an amino group, an alkylamino group (preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms) or a dialkylamino group (preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms).
The naphthyl group represented by R23 may have a substituent, and examples of the substituent include the same substituents that the phenyl group represented by R23 may have.

R21およびR22により表されるアルキル基としては、炭素数1~17のアルキル基が好ましい。
R21およびR22により表されるアルコキシ基としては、炭素数1~8のアルコキシ基が好ましい。
R21およびR22により表されるフェニル基は、置換基を有していてもよく、該置換基としては、例えば、アルキル基(好ましくは炭素数1~17)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1~8)、アミノ基、アルキルアミノ基(好ましくはアルキル基の炭素数1~8)またはジアルキルアミノ基(好ましくはアルキル基の炭素数1~8)等が挙げられる。
R21およびR22により表されるナフチル基は、置換基を有していてもよく、該置換基としては、R21およびR22により表されるフェニル基が有し得る上記置換基と同様の基が挙げられる。
As the alkyl group represented by R21 and R22, an alkyl group having 1 to 17 carbon atoms is preferable.
As the alkoxy group represented by R21 and R22, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms is preferable.
The phenyl group represented by R21 and R22 may have a substituent, such as an alkyl group (preferably having 1 to 17 carbon atoms), an alkoxy group (preferably having 1 to 17 carbon atoms), 8), an amino group, an alkylamino group (preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms) or a dialkylamino group (preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms).
The naphthyl group represented by R21 and R22 may have a substituent, and examples of the substituent include the same substituents that the phenyl group represented by R21 and R22 may have. .

さらに、一般式(I-3)中、R21、R23が、それぞれ独立に、メチル基またはエチル基であり、R22はメチルまたはフェニルであり、Arは、単結合か、フェニレン基、ナフチレン基またはチエニレン基、nは0であることが好ましい。 Further, in general formula (I-3), R21 and R23 are each independently a methyl group or an ethyl group, R22 is methyl or phenyl, Ar is a single bond, a phenylene group, a naphthylene group or a thienylene The group n is preferably zero.

一般式(I-3)で表される化合物としては、下記化合物がより好ましい。 As the compound represented by formula (I-3), the following compounds are more preferable.

Figure 0007187538000004
Figure 0007187538000004

(B)オキシムエステル系光重合開始剤としては、市販品として、BASFジャパン社製のCGI-325、イルガキュアーOXE01(1.2-オクタンジオン,1-[4-(フェニルチオ)-,2-(O-ベンゾイルオキシム)])、イルガキュアーOXE02(エタノン,1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]-,1-(0-アセチルオキシム))、ADEKA社製N-1919、NCI-831、常州強力電子新材料有限公司社製のTR―PBG-304、日本化学工業所社製のTOE-04-A3等が挙げられる。 (B) As the oxime ester photopolymerization initiator, commercially available products such as CGI-325 manufactured by BASF Japan, Irgacure OXE01 (1.2-octanedione, 1-[4-(phenylthio)-, 2-( O-benzoyloxime)]), Irgacure OXE02 (ethanone, 1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]-, 1-(0-acetyloxime)), Examples include N-1919 and NCI-831 manufactured by ADEKA, TR-PBG-304 manufactured by Changzhou Yuan Electronics New Materials Co., Ltd., and TOE-04-A3 manufactured by Nippon Kagaku Kogyosho.

オキシムエステル系光重合開始剤の含有量は、特に限定されないが、アルカリ可溶性樹脂100質量部に対して、0.01~20質量部等とすればよい。 The content of the oxime ester-based photopolymerization initiator is not particularly limited, but may be 0.01 to 20 parts by mass or the like with respect to 100 parts by mass of the alkali-soluble resin.

本発明の硬化性樹脂組成物は、他の光重合開始剤を含有してもよい。他の光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン系、アセトフェノン系、アミノアセトフェノン系、ベンゾインエーテル系、ベンジルケタール系、アシルホスフィンオキシド系、オキシムエーテル系、チタノセン系等の公知慣用の化合物が挙げられる。 The curable resin composition of the present invention may contain other photopolymerization initiators. Other photopolymerization initiators include, for example, benzophenone-based, acetophenone-based, aminoacetophenone-based, benzoin ether-based, benzyl ketal-based, acylphosphine oxide-based, oxime ether-based, and titanocene-based compounds.

露光に対する感度を向上させるため、一般式(II)で表される構造部分を含むα-アミノアセトフェノン系光重合開始剤等を併用することが好ましい。 In order to improve the sensitivity to exposure, it is preferable to use an α-aminoacetophenone-based photopolymerization initiator containing a structural moiety represented by general formula (II).

Figure 0007187538000005
Figure 0007187538000005

一般式(II)中、R3およびR4は、各々独立に、炭素数1~12のアルキル基またはアリールアルキル基を表し、R5およびR6は、各々独立に、水素原子、または炭素数1~6のアルキル基を表し、あるいは2つが結合して環状アルキルエーテル基を形成していてもよい。 In general formula (II), R3 and R4 each independently represent an alkyl group or arylalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and R5 and R6 each independently represent a hydrogen atom or represents an alkyl group, or two may combine to form a cyclic alkyl ether group.

一般式(II)で表される構造部分を含むα-アミノアセトフェノン系光重合開始剤としては、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノプロパノン-1、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-ブタン-1-オン、2-(ジメチルアミノ)-2-[(4-メチルフェニル)メチル]-1-[4-(4-モルホリニル)フェニル]-1-ブタノン、N,N-ジメチルアミノアセトフェノン等が挙げられる。 α-Aminoacetophenone-based photopolymerization initiators containing a structural moiety represented by general formula (II) include 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropanone-1,2- benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one, 2-(dimethylamino)-2-[(4-methylphenyl)methyl]-1-[4-(4-morpholinyl ) phenyl]-1-butanone, N,N-dimethylaminoacetophenone and the like.

[(B-2)オキシム系以外の光重合開始剤]
オキシム系以外の光重合開始剤としては、公知のものを使用可能である。また、オキシム系光重合開始剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
[(B-2) Photopolymerization initiator other than oxime]
As photopolymerization initiators other than oxime-based ones, known ones can be used. Also, the oxime-based photopolymerization initiators may be used singly or in combination of two or more.

オキシム系以外の光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン系、アセトフェノン系、アミノアセトフェノン系、ベンゾインエーテル系、ベンジルケタール系、アシルホスフィンオキシド系、オキシムエーテル系、チタノセン系等の公知慣用の化合物が挙げられる。 Examples of photopolymerization initiators other than oxime-based compounds include known and commonly used compounds such as benzophenone-based, acetophenone-based, aminoacetophenone-based, benzoin ether-based, benzyl ketal-based, acylphosphine oxide-based, oxime ether-based, and titanocene-based compounds. be done.

[(C)反応性希釈剤]
反応性希釈剤としては、公知のものを使用可能である。また、反応性希釈剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
[(C) reactive diluent]
A known reactive diluent can be used. Moreover, one type of the reactive diluent may be used alone, or two or more types may be used in combination.

反応性希釈剤は、分子中に炭素間多重結合(二重結合および三重結合)を有する化合物であり、換言すれば光硬化性モノマーである。このような反応性希釈剤としては、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート類;2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類;エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール等のアルキレンオキシド誘導体のモノまたはジ(メタ)アクリレート類;ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール、トリスヒドロキシエチルイソシアヌレート等の多価アルコールまたはこれらのエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の多価(メタ)アクリレート類;フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのポリエトキシジ(メタ)アクリレート等のフェノール類のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の(メタ)アクリレート類;グリセリンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート等のグリジジルエーテルの(メタ)アクリレート類;およびメラミン(メタ)アクリレート;等の公知の(メタ)アクリレートが挙げられる。 A reactive diluent is a compound having carbon-carbon multiple bonds (double and triple bonds) in the molecule, in other words a photocurable monomer. Examples of such reactive diluents include alkyl (meth)acrylates such as 2-ethylhexyl (meth)acrylate and cyclohexyl (meth)acrylate; 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate and the like. Hydroxyalkyl (meth) acrylates; ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, mono or di (meth) acrylates of alkylene oxide derivatives such as dipropylene glycol; hexanediol, trimethylolpropane, pentaerythritol, ditrimethylolpropane, di Polyhydric alcohols such as pentaerythritol and trishydroxyethyl isocyanurate, or polyhydric (meth)acrylates of ethylene oxide or propylene oxide adducts thereof; phenols such as phenoxyethyl (meth)acrylate and polyethoxydi(meth)acrylate of bisphenol A (Meth)acrylates of ethylene oxide or propylene oxide adducts of; known (meth)acrylates.

本発明の硬化性樹脂組成物における反応性希釈剤の含有量は、特に限定されないが、例えばアルカリ可溶性樹脂100質量部に対して5~45質量部(好ましくは、5~40質量部)等とすればよい。 The content of the reactive diluent in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited. do it.

ここで、本発明の硬化性樹脂組成物は、オキシム結合を有する光重合開始剤の失活を低減し得るため、高感度な光重合開始剤を含有する黒色遮蔽剤等に好適に用いることができる。
本発明の硬化性樹脂組成物を黒色遮蔽剤(アルカリ現像型感光性黒色遮蔽剤)として用いる場合、本発明に係る反応性希釈剤、即ち、光硬化性モノマーとして、アルキレンオキシドおよびラクトンのいずれかで変性された2官能以上(好ましくは3官能以上)の(メタ)アクリレート{以下、「(メタ)アクリレート(c)」と称する。}を含有することが好ましい。これにより、ガラス基材への密着性に優れた黒色遮蔽剤を提供することができる。また、この(メタ)アクリレート(c)を含有する場合、(A)アルカリ可溶性樹脂が、カルボキシル基含有樹脂であることが好ましい。
Here, since the curable resin composition of the present invention can reduce the deactivation of the photopolymerization initiator having an oxime bond, it can be suitably used as a black shielding agent or the like containing a highly sensitive photopolymerization initiator. can.
When the curable resin composition of the present invention is used as a black shielding agent (alkali-developable photosensitive black shielding agent), either an alkylene oxide or a lactone is used as the reactive diluent according to the present invention, that is, the photocurable monomer. Bifunctional or more (preferably trifunctional or more) (meth)acrylate modified with (hereinafter referred to as "(meth)acrylate (c)"). } is preferably contained. This makes it possible to provide a black shielding agent with excellent adhesion to glass substrates. Moreover, when this (meth)acrylate (c) is contained, (A) the alkali-soluble resin is preferably a carboxyl group-containing resin.

ここで、(メタ)アクリレート(c)は、2官能以上の(メタ)アクリレートの、少なくとも一部が、アルキレンオキシドまたはラクトンにより変性されていればよい。なお、(メタ)アクリレート(c)は、アルキレンオキシドおよびラクトンの両方により変性されていてもよい。 Here, the (meth)acrylate (c) may be a bifunctional or higher functional (meth)acrylate, at least a portion of which is modified with an alkylene oxide or a lactone. (Meth)acrylate (c) may be modified with both an alkylene oxide and a lactone.

アルキレンオキシドは、特に限定されないが、エチレンオキシドおよびプロピレンオキシドであることが好ましい。 Although the alkylene oxide is not particularly limited, ethylene oxide and propylene oxide are preferred.

ラクトンは、特に限定されないが、カプロラクトンであることが好ましい。 Although the lactone is not particularly limited, it is preferably caprolactone.

(メタ)アクリレート(c)におけるアルキレンオキシドおよびラクトンの変性部分は、繰り返し構造を有していてもよい。 The alkylene oxide and lactone-modified moieties in (meth)acrylate (c) may have a repeating structure.

具体的な(メタ)アクリレート(c)としては、例えば、上述した公知の(メタ)アクリレートの中で2官能以上の(メタ)アクリレートが、アルキレンオキシドおよびラクトンのいずれかで変性されたもの、例えば、アルキレンオキシド付加物ポリオールまたはラクトン付加物ポリオールの(メタ)アクリレートが例示できる。(メタ)アクリレート(c)は、より具体的には、EO変性トリメチロールプロパントリアクリレート、EO変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、EO変性ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、EO変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、EO変性トリスアクリロキシエチルトリイソシアヌレート、EO変性フルオレンジアクリレート、EO変性ビスフェノールAエポキシジアクリレート、EO変性ビスフェノールFエポキシジアクリレート、EO変性ビスフェノールAジアクリレート、EO変性ビスフェノールFジアクリレート、EO変性グリセリンジグリシジルエーテルの(メタ)アクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルの(メタ)アクリレート、EO変性トリグリシジルイソシアヌレートの(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、カプロラクトン変性イソシアヌル酸トリアクリレート等が挙げられる。この中でも、EO変性トリメチロールプロパントリアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートであることが好ましい。 Specific (meth)acrylates (c) include, for example, bifunctional or higher functional (meth)acrylates among the above-described known (meth)acrylates modified with either alkylene oxide or lactone, such as , alkylene oxide adduct polyols or lactone adduct polyols (meth)acrylates. (Meth)acrylate (c) is, more specifically, EO-modified trimethylolpropane triacrylate, EO-modified pentaerythritol tetraacrylate, EO-modified ditrimethylolpropane tetraacrylate, EO-modified dipentaerythritol hexaacrylate, EO-modified trisacrylate EO-modified fluorenediacrylate, EO-modified bisphenol A epoxy diacrylate, EO-modified bisphenol F epoxy diacrylate, EO-modified bisphenol A diacrylate, EO-modified bisphenol F diacrylate, EO-modified glycerol diglycidyl ether ( meth)acrylate, EO-modified trimethylolpropane triglycidyl ether (meth)acrylate, EO-modified triglycidyl isocyanurate (meth)acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate, caprolactone-modified isocyanuric acid triacrylate, and the like. Among these, EO-modified trimethylolpropane triacrylate and caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate are preferable.

光硬化性モノマーとして(メタ)アクリレート(c)を使用する場合、1種の(メタ)アクリレート(c)を単独で用いてもよく、2種以上の(メタ)アクリレート(c)を組み合わせて用いてもよい。さらには、(メタ)アクリレート(c)と(メタ)アクリレート(c)以外の光硬化性モノマー(以下、「その他の光硬化性モノマー」と称する。)とを組み合わせて用いてもよい。 When using (meth)acrylate (c) as a photocurable monomer, one (meth)acrylate (c) may be used alone, or two or more (meth)acrylates (c) may be used in combination. may Furthermore, (meth)acrylate (c) and photocurable monomers other than (meth)acrylate (c) (hereinafter referred to as “other photocurable monomers”) may be used in combination.

その他の光硬化性モノマーとしては特に限定されず、上述した公知の(メタ)アクリレート等を使用すればよい。 Other photocurable monomers are not particularly limited, and the above-described known (meth)acrylates and the like may be used.

(メタ)アクリレート(c)の含有量は、(A)アルカリ可溶性樹脂(好ましくは、カルボキシル基含有樹脂)100質量部に対して、好ましくは10~45質量部である。(メタ)アクリレート(c)の含有量が、10質量部以上の場合、良好な解像性を得ることができる。また、45質量部以下の場合、良好なタック性(ネガの貼り付きが無い)塗膜を得ることができる。 The content of (meth)acrylate (c) is preferably 10 to 45 parts by mass with respect to 100 parts by mass of (A) alkali-soluble resin (preferably carboxyl group-containing resin). When the content of (meth)acrylate (c) is 10 parts by mass or more, good resolution can be obtained. Further, when the content is 45 parts by mass or less, a coating film having good tackiness (no negative sticking) can be obtained.

その他の光硬化性モノマーを配合する場合、(メタ)アクリレート(c)とその他の光硬化性モノマーの合計含有量が(A)アルカリ可溶性樹脂(好ましくは、カルボキシル基含有樹脂)100質量部に対して10~45質量部であることが好ましく、且つ、その中でその他の光硬化性モノマーが0~50重量%であることが好ましい。 When blending other photocurable monomers, the total content of (meth)acrylate (c) and other photocurable monomers (A) alkali-soluble resin (preferably carboxyl group-containing resin) per 100 parts by mass It is preferably 10 to 45 parts by weight in total, and preferably 0 to 50% by weight of other photocurable monomers.

[(D)熱硬化性樹脂]
熱硬化性樹脂としては、公知のものを使用可能である。また、熱硬化性樹脂は、1種を単独または2種以上を組み合わせて用いることができる。
[(D) Thermosetting resin]
A well-known thing can be used as a thermosetting resin. Moreover, a thermosetting resin can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

熱硬化性樹脂としては、例えば、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、メラミン誘導体、ベンゾグアナミン誘導体等のアミノ樹脂、イソシアネート化合物、ブロックイソシアネート化合物、シクロカーボネート化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物、エピスルフィド樹脂、ビスマレイミド、カルボジイミド樹脂等が挙げられる。 Examples of thermosetting resins include melamine resins, benzoguanamine resins, melamine derivatives, amino resins such as benzoguanamine derivatives, isocyanate compounds, blocked isocyanate compounds, cyclocarbonate compounds, epoxy compounds, oxetane compounds, episulfide resins, bismaleimide, and carbodiimide resins. etc.

熱硬化性樹脂としては、分子中に複数の環状エーテル基または環状チオエーテル基{以下、「環状(チオ)エーテル基」と称する。}を有する熱硬化性樹脂が好ましい。 As a thermosetting resin, a plurality of cyclic ether groups or cyclic thioether groups (hereinafter referred to as "cyclic (thio)ether groups") are used in the molecule. } is preferred.

上記の分子中に複数の環状(チオ)エーテル基を有する熱硬化性樹脂は、分子中に3、4または5員環の環状(チオ)エーテル基を複数有する化合物であり、例えば、分子内に複数のエポキシ基を有する化合物、すなわち多官能エポキシ化合物、分子内に複数のオキセタニル基を有する化合物、すなわち多官能オキセタン化合物、分子内に複数のチオエーテル基を有する化合物、すなわちエピスルフィド樹脂等が挙げられる。 The thermosetting resin having a plurality of cyclic (thio) ether groups in the molecule is a compound having a plurality of 3-, 4- or 5-membered cyclic (thio) ether groups in the molecule. Compounds having multiple epoxy groups, i.e. polyfunctional epoxy compounds, compounds having multiple oxetanyl groups in the molecule, i.e. polyfunctional oxetane compounds, compounds having multiple thioether groups in the molecule, i.e., episulfide resins, and the like.

多官能エポキシ化合物としては、エポキシ化植物油;ビスフェノールA型エポキシ樹脂;ハイドロキノン型エポキシ樹脂;ビスフェノール型エポキシ樹脂;チオエーテル型エポキシ樹脂;ブロム化エポキシ樹脂;ノボラック型エポキシ樹脂;ビフェノールノボラック型エポキシ樹脂;ビスフェノールF型エポキシ樹脂;水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂;グリシジルアミン型エポキシ樹脂;ヒダントイン型エポキシ樹脂;脂環式エポキシ樹脂;トリヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂;ビキシレノール型もしくはビフェノール型エポキシ樹脂またはそれらの混合物;ビスフェノールS型エポキシ樹脂;ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂;テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂;複素環式エポキシ樹脂;ジグリシジルフタレート樹脂;テトラグリシジルキシレノイルエタン樹脂;ナフタレン基含有エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂;グリシジルメタアクリレート共重合系エポキシ樹脂;シクロヘキシルマレイミドとグリシジルメタアクリレートの共重合エポキシ樹脂;エポキシ変性のポリブタジエンゴム誘導体;CTBN変性エポキシ樹脂等が挙げられるが、これらに限られるものではない。これらのエポキシ樹脂は、1種を単独または2種以上を組み合わせて用いることができる。 As polyfunctional epoxy compounds, epoxidized vegetable oil; bisphenol A type epoxy resin; hydroquinone type epoxy resin; bisphenol type epoxy resin; thioether type epoxy resin; brominated epoxy resin; type epoxy resin; hydrogenated bisphenol A type epoxy resin; glycidylamine type epoxy resin; hydantoin type epoxy resin; alicyclic epoxy resin; Bisphenol S type epoxy resin; bisphenol A novolac type epoxy resin; tetraphenylolethane type epoxy resin; heterocyclic epoxy resin; diglycidyl phthalate resin; Glycidyl methacrylate copolymer epoxy resin; cyclohexyl maleimide and glycidyl methacrylate copolymer epoxy resin; epoxy-modified polybutadiene rubber derivative; CTBN-modified epoxy resin, etc., but not limited to these . These epoxy resins can be used singly or in combination of two or more.

多官能オキセタン化合物としては、例えば、ビス[(3-メチル-3-オキセタニルメトキシ)メチル]エーテル、ビス[(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)メチル]エーテル、1,4-ビス[(3-メチル-3-オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、1,4-ビス[(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、(3-メチル-3-オキセタニル)メチルアクリレート、(3-エチル-3-オキセタニル)メチルアクリレート、(3-メチル-3-オキセタニル)メチルメタクリレート、(3-エチル-3-オキセタニル)メチルメタクリレートやそれらのオリゴマーまたは共重合体等の多官能オキセタン類の他、オキセタンアルコールとノボラック樹脂、ポリ(p-ヒドロキシスチレン)、カルド型ビスフェノール類、カリックスアレーン類、カリックスレゾルシンアレーン類、またはシルセスキオキサン等の水酸基を有する樹脂とのエーテル化物等が挙げられる。その他、オキセタン環を有する不飽和モノマーとアルキル(メタ)アクリレートとの共重合体等も挙げられる。 Examples of polyfunctional oxetane compounds include bis[(3-methyl-3-oxetanylmethoxy)methyl]ether, bis[(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy)methyl]ether, 1,4-bis[(3- methyl-3-oxetanylmethoxy)methyl]benzene, 1,4-bis[(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy)methyl]benzene, (3-methyl-3-oxetanyl)methyl acrylate, (3-ethyl-3- Oxetanyl)methyl acrylate, (3-methyl-3-oxetanyl)methyl methacrylate, (3-ethyl-3-oxetanyl)methyl methacrylate, and polyfunctional oxetanes such as their oligomers or copolymers, as well as oxetane alcohols and novolac resins , poly(p-hydroxystyrene), cardo-type bisphenols, calixarenes, calixresorcinarenes, and etherified products with resins having a hydroxyl group such as silsesquioxane. Other examples include copolymers of unsaturated monomers having an oxetane ring and alkyl (meth)acrylates.

分子中に複数の環状チオエーテル基を有する化合物としては、ビスフェノールA型エピスルフィド樹脂等が挙げられる。また、同様の合成方法を用いて、ノボラック型エポキシ樹脂のエポキシ基の酸素原子を硫黄原子に置き換えたエピスルフィド樹脂等も用いることができる。 Bisphenol A type episulfide resin etc. are mentioned as a compound which has several cyclic thioether groups in a molecule|numerator. Also, an episulfide resin obtained by replacing the oxygen atom of the epoxy group of the novolac type epoxy resin with a sulfur atom by using a similar synthesis method can also be used.

メラミン誘導体、ベンゾグアナミン誘導体等のアミノ樹脂としては、メチロールメラミン化合物、メチロールベンゾグアナミン化合物、メチロールグリコールウリル化合物およびメチロール尿素化合物等が挙げられる。 Amino resins such as melamine derivatives and benzoguanamine derivatives include methylol melamine compounds, methylol benzoguanamine compounds, methylol glycoluril compounds and methylol urea compounds.

イソシアネート化合物としては、ポリイソシアネート化合物を配合することができる。ポリイソシアネート化合物としては、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート、2,4-トリレンジイソシアネート、2,6-トリレンジイソシアネート、ナフタレン-1,5-ジイソシアネート、o-キシリレンジイソシアネート、m-キシリレンジイソシアネートおよび2,4-トリレンダイマー等の芳香族ポリイソシアネート;テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、メチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、4,4-メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)およびイソホロンジイソシアネート等の脂肪族ポリイソシアネート;ビシクロヘプタントリイソシアネート等の脂環式ポリイソシアネート;ならびに先に挙げたイソシアネート化合物のアダクト体、ビューレット体およびイソシアヌレート体等が挙げられる。 As the isocyanate compound, a polyisocyanate compound can be blended. Polyisocyanate compounds include 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, naphthalene-1,5-diisocyanate, o-xylylene diisocyanate, m-xylylene diisocyanate and Aromatic polyisocyanates such as 2,4-tolylene dimer; Aliphatic polyisocyanates such as tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, methylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, 4,4-methylenebis(cyclohexyl isocyanate) and isophorone diisocyanate; bicyclo alicyclic polyisocyanates such as heptane triisocyanate; and adducts, biurets and isocyanurates of the above-mentioned isocyanate compounds.

ブロックイソシアネート化合物としては、イソシアネート化合物とイソシアネートブロック剤との付加反応生成物を用いることができる。イソシアネートブロック剤と反応し得るイソシアネート化合物としては、例えば、上述のポリイソシアネート化合物等が挙げられる。イソシアネートブロック剤としては、例えば、フェノール系ブロック剤;ラクタム系ブロック剤;活性メチレン系ブロック剤;アルコール系ブロック剤;オキシム系ブロック剤;メルカプタン系ブロック剤;酸アミド系ブロック剤;イミド系ブロック剤;アミン系ブロック剤;イミダゾール系ブロック剤;イミン系ブロック剤等が挙げられる。 As the blocked isocyanate compound, an addition reaction product of an isocyanate compound and an isocyanate blocking agent can be used. Examples of the isocyanate compound that can react with the isocyanate blocking agent include the aforementioned polyisocyanate compounds. Examples of isocyanate blocking agents include phenolic blocking agents; lactam blocking agents; active methylene blocking agents; alcohol blocking agents; oxime blocking agents; mercaptan blocking agents; Amine-based blocking agents; imidazole-based blocking agents; imine-based blocking agents, and the like.

熱硬化性樹脂の含有量は、特に限定されないが、アルカリ可溶性樹脂のアルカリ可溶性基(カルボキシル基やフェノール性水酸基)1当量に対し、0.6~2.8当量等とすればよい。 The content of the thermosetting resin is not particularly limited, but may be, for example, 0.6 to 2.8 equivalents with respect to 1 equivalent of the alkali-soluble group (carboxyl group or phenolic hydroxyl group) of the alkali-soluble resin.

[(E)溶剤]
(E)溶剤は、(E-1)ケトン系溶剤と、(E-2)ケトン系溶剤以外の溶剤とがある。以下、それぞれについて説明する。
[(E) solvent]
(E) Solvents include (E-1) ketone solvents and (E-2) solvents other than ketone solvents. Each of these will be described below.

(E-1)ケトン系溶剤
ケトン系溶剤としては、公知のものを使用可能である。また、ケトン系溶剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(E-1) Ketone Solvent As the ketone solvent, known solvents can be used. Moreover, ketone solvent may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

ケトン系溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。中でもシクロヘキサノンが好ましい。 Ketone solvents include acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone and the like. Among them, cyclohexanone is preferred.

(E-2)ケトン系以外の溶剤
ケトン系以外の溶剤としては、公知のものを使用可能である。また、ケトン系以外の溶剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(E-2) Non-Ketone-Based Solvent As the non-ketone-based solvent, known solvents can be used. In addition, the solvents other than ketone-based solvents may be used singly or in combination of two or more.

ケトン系以外の溶剤としては、トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、乳酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、炭酸プロピレン等のエステル系溶剤;エタノール、プロパノール、2-メトキシプロパノール、n-ブタノール、イソブチルアルコール、イソペンチルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール系溶剤;オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素系溶剤;石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサ等の石油系溶剤等の他、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)、テトラクロロエチレン、テレビン油等が挙げられる。 Non-ketone solvents include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, tetramethylbenzene; ethyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, butyl lactate, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, butyl carbitol acetate , propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, propylene carbonate and other ester solvents; ethanol, propanol, 2-methoxypropanol, n-butanol, isobutyl alcohol , isopentyl alcohol, ethylene glycol, and propylene glycol; aliphatic hydrocarbon solvents such as octane and decane; petroleum solvents such as petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha, and solvent naphtha; N,N-dimethylformamide (DMF), tetrachlorethylene, turpentine oil and the like.

ここで、従来においては、溶剤としてエーテル系等の溶剤が用いられていたが、エーテル系溶剤をオキシム系重合光開始剤と同時に配合し保存した場合、オキシム系光重合開始剤が失活することが判った。エーテル系の溶剤の代わりにケトン系溶剤と配合することで、失活および再結晶せず、カルボキシル基と同時に配合せず2液とすることで保存安定性に優れ遮蔽材としても好適に使用可能となる。従って、オキシム系光重合開始剤を含有する第2組成物においては、ケトン系以外の溶剤を含まないことが好ましい。より詳細には、第1組成物においては、特に溶剤を限定する必要はなく、(E-1)ケトン系溶剤でも、(E-2)ケトン系以外の溶剤でもよく、且つ、第2組成物においては、(E-1)ケトン系溶剤の中から溶剤を選択することが好ましく、ケトン系溶剤は溶剤中50質量%以上含む必要がある。なお、第2組成物における溶剤中、ケトン系溶剤の含有量は、55質量%以上、60質量%以上、70質量%以上、80質量%以上、90質量%以上、95質量%以上、99質量%以上、100質量%のいずれかであってもよい。第2組成物において、ケトン系溶剤以外の溶剤を含む場合は、エステル系溶剤が好ましく、その他本発明の効果を損なわない程度にケトン系溶剤以外の溶剤を含んでもよい。但し、エーテル系溶剤は、オキシム系光重合開始剤が失活するため、第2組成物の溶剤としては用いないことが好ましい。 Here, conventionally, an ether-based solvent or the like has been used as a solvent, but when an ether-based solvent is blended together with an oxime-based polymerization photoinitiator and stored, the oxime-based photopolymerization initiator is deactivated. found out. By blending with a ketone-based solvent instead of an ether-based solvent, it does not deactivate and recrystallize, and by not blending with carboxyl groups at the same time, it has excellent storage stability and can be used as a shielding material. becomes. Therefore, it is preferable that the second composition containing the oxime-based photopolymerization initiator does not contain any solvent other than ketone-based solvents. More specifically, the solvent in the first composition is not particularly limited, and may be (E-1) a ketone solvent or (E-2) a non-ketone solvent, and the second composition In (E-1), it is preferable to select a solvent from ketone solvents, and the ketone solvent must be contained in the solvent in an amount of 50% by mass or more. In addition, the content of the ketone solvent in the solvent in the second composition is 55% by mass or more, 60% by mass or more, 70% by mass or more, 80% by mass or more, 90% by mass or more, 95% by mass or more, 99% by mass % or more and 100% by mass. When the second composition contains a solvent other than a ketone solvent, it is preferably an ester solvent, and may contain a solvent other than the ketone solvent to the extent that the effects of the present invention are not impaired. However, the ether-based solvent deactivates the oxime-based photopolymerization initiator, so it is preferable not to use it as the solvent for the second composition.

溶剤は、一般に、組成物の調製や基材上に塗布する際の粘度調整等の目的で使用される。従って、溶剤の含有量は、目的に応じて適宜変更可能である。 Solvents are generally used for the purpose of preparing the composition and adjusting the viscosity when the composition is applied onto a substrate. Therefore, the content of the solvent can be appropriately changed depending on the purpose.

[着色剤]
着色剤としては、公知のものを使用可能である。また、着色剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。この着色剤は、第1組成物および第2組成物を含むいずれか1種以上の組成物または全ての組成物に含まれていればよい。
[Coloring agent]
A known coloring agent can be used. Moreover, a coloring agent may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. This coloring agent may be contained in any one or more compositions including the first composition and the second composition, or in all compositions.

着色剤としては、赤、青、緑、黄、白、黒等の慣用公知の着色剤を使用することができ、顔料、染料、色素のいずれでもよい。より具体的には、着色剤としては、下記のようなカラーインデックス(C.I.;ザ ソサイエティ オブ ダイヤーズ アンド カラリスツ(The Society of Dyers and Colourists)発行)番号が付されているものを挙げられる。 As the coloring agent, conventionally known coloring agents such as red, blue, green, yellow, white and black can be used, and any of pigments, dyes and pigments can be used. More specifically, the coloring agent includes those assigned the following Color Index (C.I.; published by The Society of Dyers and Colorists) numbers.

赤色着色剤としては、モノアゾ系、ジズアゾ系、アゾレーキ系、ベンズイミダゾロン系、ペリレン系、ジケトピロロピロール系、縮合アゾ系、アントラキノン系、キナクリドン系等がある。青色着色剤としては、フタロシアニン系、アントラキノン系等があり、顔料系はピグメント(Pigment)に分類されている化合物を使用することができる。これら以外にも、金属置換もしくは無置換のフタロシアニン化合物も使用することができる。緑色着色剤としては、同様にフタロシアニン系、アントラキノン系、ペリレン系がある。これら以外にも、金属置換もしくは無置換のフタロシアニン化合物も使用することができる。黄色着色剤としてはモノアゾ系、ジスアゾ系、縮合アゾ系、ベンズイミダゾロン系、イソインドリノン系、アントラキノン系等がある。白色着色剤としては、ルチル型またはアナターゼ型酸化チタン等が挙げられる。黒色着色剤としては、カーボンブラック系、黒鉛系、酸化鉄系、チタンブラック、酸化鉄、アンスラキノン系、酸化コバルト系、酸化銅系、マンガン系、酸化アンチモン系、酸化ニッケル系、ペリレン系、アニリン系、硫化モリブデン、硫化ビスマス等がある。その他、色調を調整する目的で紫、オレンジ、茶色等の着色剤を加えてもよい。 Examples of red colorants include monoazo, disazo, azo lake, benzimidazolone, perylene, diketopyrrolopyrrole, condensed azo, anthraquinone, and quinacridone colorants. Blue colorants include phthalocyanine-based, anthraquinone-based, and the like, and pigment-based compounds classified as pigments can be used. In addition to these, metal-substituted or unsubstituted phthalocyanine compounds can also be used. Green coloring agents include phthalocyanines, anthraquinones, and perylenes. In addition to these, metal-substituted or unsubstituted phthalocyanine compounds can also be used. Yellow colorants include monoazo, disazo, condensed azo, benzimidazolone, isoindolinone, and anthraquinone colorants. Examples of white colorants include rutile-type and anatase-type titanium oxide. Black colorants include carbon black, graphite, iron oxide, titanium black, iron oxide, anthraquinone, cobalt oxide, copper oxide, manganese, antimony oxide, nickel oxide, perylene, and aniline. Molybdenum sulfide, bismuth sulfide, etc. In addition, coloring agents such as purple, orange, and brown may be added for the purpose of adjusting the color tone.

本発明の硬化性樹脂組成物をソルダーレジスト組成物として用いる場合、着色剤の含有量は、本発明の硬化性樹脂組成物全量(第1組成物および第2組成物を含む全ての組成物の合計量)あたり、固形分換算で0.03~7質量%、より好ましくは、0.05質量%~5質量%である。 When the curable resin composition of the present invention is used as a solder resist composition, the content of the colorant is the total amount of the curable resin composition of the present invention (all compositions including the first composition and the second composition) 0.03 to 7% by mass, more preferably 0.05% to 5% by mass, in terms of solid content per total amount).

ここで、本発明の硬化性樹脂組成物は、オキシム結合を有する光重合開始剤の失活を低減し得るため、高感度な光重合開始剤を含有する黒色遮蔽剤等に好適に用いることができる。 Here, since the curable resin composition of the present invention can reduce the deactivation of the photopolymerization initiator having an oxime bond, it can be suitably used as a black shielding agent or the like containing a highly sensitive photopolymerization initiator. can.

本発明の硬化性樹脂組成物を黒色遮蔽剤(アルカリ現像型感光性黒色遮蔽剤)等として用いる場合、着色剤の含有量は、硬化物の隠蔽性を向上させる観点から、アルカリ現像型感光性黒色遮蔽剤全量あたり、固形分換算で5~50質量%含有することで遮蔽性と解像性を両立でき好ましい。より好ましくは、10質量%~30質量%である。 When the curable resin composition of the present invention is used as a black shielding agent (alkali-developable photosensitive black shielding agent) or the like, the content of the coloring agent is adjusted from the viewpoint of improving the hiding property of the cured product, and the alkali-developable photosensitive By containing 5 to 50% by mass in terms of solid content based on the total amount of the black shielding agent, both shielding properties and resolution can be achieved, which is preferable. More preferably, it is 10% by mass to 30% by mass.

ここで、本発明の硬化性樹脂組成物を黒色遮蔽剤(アルカリ現像型感光性黒色遮蔽剤)等として用いる場合、着色剤としては、カーボンブラックを含むことが好ましく、カーボンブラックと混色黒系着色剤とを併用することが好ましい。特にカーボンブラックと混色黒系着色剤とを併用する場合、アルカリ現像型感光性黒色遮蔽剤全量あたり、固形分換算で、カーボンブラックを4~10質量%、好ましくは4~8質量%とし、且つ、混色黒系着色剤を8~20質量%、好ましくは12~16質量%とすることが好ましい。 Here, when the curable resin composition of the present invention is used as a black shielding agent (alkali-developable photosensitive black shielding agent) or the like, the coloring agent preferably contains carbon black. It is preferable to use together with the agent. In particular, when carbon black and a mixed black colorant are used in combination, carbon black is 4 to 10% by mass, preferably 4 to 8% by mass, based on the total amount of the alkali-developable photosensitive black shielding agent, and preferably 4 to 8% by mass, and , the mixed black colorant is preferably 8 to 20% by mass, preferably 12 to 16% by mass.

なお、混色黒系着色剤とは、黒色または黒色に近い色となるように、赤色着色剤、青色着色剤、緑色着色剤、黄色着色剤、紫色着色剤、橙色着色剤等の着色剤を混合して得られた着色剤を示す。混色黒系着色剤は、予め各着色剤を混合した上で樹脂組成物に添加することが好ましいが、混色黒系着色剤を構成する各着色剤を個別に樹脂組成物に添加してもよい。 Note that the mixed black colorant is a colorant mixed with a red colorant, a blue colorant, a green colorant, a yellow colorant, a purple colorant, an orange colorant, etc. so as to obtain a black color or a color close to black. The resulting colorant is shown. The mixed black colorant is preferably added to the resin composition after mixing each colorant in advance, but each colorant constituting the mixed black colorant may be added individually to the resin composition. .

[(F)その他の成分]
その他の成分としては、硬化性樹脂組成物に一般に使用される公知の添加剤、例えば、充填剤、熱硬化触媒、光開始助剤、シアネート化合物、エラストマー、メルカプト化合物、ウレタン化触媒、チキソ化剤、密着促進剤、ブロック共重合体、連鎖移動剤、重合禁止剤、銅害防止剤、酸化防止剤、防錆剤、微粉シリカ、有機ベントナイト、モンモリロナイト等の増粘剤、シリコーン系、フッ素系、高分子系等の消泡剤および/またはレベリング剤、イミダゾール系、チアゾール系、トリアゾール系等のシランカップリング剤、ホスフィン酸塩、燐酸エステル誘導体、フォスファゼン化合物等のリン化合物等の難燃剤等が挙げられる。
[(F) Other components]
Other components include known additives commonly used in curable resin compositions, such as fillers, thermosetting catalysts, photoinitiator aids, cyanate compounds, elastomers, mercapto compounds, urethanization catalysts, and thixotropic agents. , adhesion promoters, block copolymers, chain transfer agents, polymerization inhibitors, copper damage inhibitors, antioxidants, rust inhibitors, fine powdered silica, organic bentonite, thickeners such as montmorillonite, silicone-based, fluorine-based, Antifoaming agents and/or leveling agents such as high molecular weight agents; silane coupling agents such as imidazole, thiazole and triazole; be done.

<効果>
本発明のアルカリ現像型光硬化性熱硬化性樹脂組成物は、(A)アルカリ可溶性樹脂を少なくとも含有する第1組成物と、(B-1)オキシム系光重合開始剤、および、(E-1)ケトン系溶剤、を少なくとも含有する第2組成物と、を少なくとも含む。各組成物は、例えば別々の容器に収容されることで、各々接触しないまたは接触し難い状態で保管可能である。このように構成することで、硬化性樹脂組成物において好ましく使用される溶剤がオキシム系光重合開始剤に作用してオキシム系光重合開始剤を失活および再結晶することを防止し、長期保存性を達成することができる。
<effect>
The alkali-developable photocurable thermosetting resin composition of the present invention comprises (A) a first composition containing at least an alkali-soluble resin, (B-1) an oxime photopolymerization initiator, and (E- 1) a second composition containing at least a ketone solvent. Each composition can be stored in a state in which they do not or hardly come into contact with each other, for example, by being housed in separate containers. By configuring in this way, the solvent preferably used in the curable resin composition can be prevented from acting on the oxime-based photopolymerization initiator to deactivate and recrystallize the oxime-based photopolymerization initiator, and can be stored for a long time. can achieve sexuality.

<用途>
本発明の硬化性樹脂組成物は、プリント配線板やフレキシブルプリント配線板のソルダーレジスト、カバーレイ、層間絶縁層、FPD(フラットパネルディスプレイ)に用いられる遮蔽剤等の永久塗膜の形成やエッチングレジスト膜の形成に適しており、特に、光特性に優れることから、高密度化および高細線化のプリント配線板の形成に適している。本発明の硬化性樹脂組成物は、その他、印刷インク、インクジェットインク、フォトマスク作製材料、印刷用プルーフ作製材料、誘電体パターン、電極(導体回路)パターン、電子部品の配線パターン、導電ペースト、導電フィルム、ブラックマトリックス等の遮蔽画像等の作製に用いることができる。
<Application>
The curable resin composition of the present invention is used for forming permanent coating films such as solder resists, coverlays, interlayer insulating layers, and shielding agents used in FPDs (flat panel displays) and etching resists for printed wiring boards and flexible printed wiring boards. It is suitable for forming films, and in particular, it is suitable for forming printed wiring boards with high density and fine lines due to its excellent optical properties. The curable resin composition of the present invention can also be used for printing inks, inkjet inks, photomask production materials, printing proof production materials, dielectric patterns, electrode (conductor circuit) patterns, wiring patterns for electronic parts, conductive pastes, conductive It can be used for producing shielding images such as films and black matrices.

<使用方法>
次に、本発明のアルカリ現像型光硬化性熱硬化性樹脂組成物の使用方法の一例として、基材上にアルカリ現像型光硬化性熱硬化性樹脂組成物の硬化物を形成する方法について説明する。
<How to use>
Next, as an example of the method of using the alkali-developable photocurable thermosetting resin composition of the present invention, a method for forming a cured product of the alkali-developable photocurable thermosetting resin composition on a substrate will be described. do.

なお、以下においては、本発明のアルカリ現像型光硬化性熱硬化性樹脂組成物を、第1組成物および第2組成物からなる2液系とした場合について説明する。第1組成物および第2組成物は、アルカリ可溶性樹脂とオキシム系光重合開始剤とが異なる組成物に配合され、且つ、オキシム系光重合開始剤を含む組成物の溶剤がケトン系溶剤となるように、予め各原料を混合して得られたものである。なお、本発明のアルカリ現像型光硬化性熱硬化性樹脂組成物は、通常、所定の保管期間を経た状態で使用されることを想定しているが、所定の保管期間を設けずに直ちに使用されてもよい。 In addition, below, the case where the alkali-developable photocurable thermosetting resin composition of the present invention is a two-liquid system comprising a first composition and a second composition will be described. The first composition and the second composition are blended in compositions containing different alkali-soluble resins and oxime-based photopolymerization initiators, and the solvent of the composition containing the oxime-based photopolymerization initiator is a ketone-based solvent. Thus, it is obtained by mixing each raw material in advance. The alkali-developable photocurable thermosetting resin composition of the present invention is usually assumed to be used after a predetermined storage period, but it can be used immediately without a predetermined storage period. may be

[硬化物の形成方法]
硬化物は、一般に、樹脂層形成工程と、露光工程と、現像工程と、熱硬化工程と、を実行することで得られる。以下それぞれの工程について説明する。
[Method of forming cured product]
A cured product is generally obtained by performing a resin layer forming step, an exposure step, a developing step, and a thermosetting step. Each step will be described below.

(樹脂層形成工程)
第1組成物および第2組成物を混合し、必要に応じて有機溶剤により粘度調整し、塗布用組成物とする。次に、塗布用組成物を基材上に所望の厚みで塗布する。次に、塗布用組成物中に含まれる有機溶剤を揮発乾燥させ、基材上に樹脂層を形成する。
(Resin layer forming step)
The first composition and the second composition are mixed and, if necessary, the viscosity is adjusted with an organic solvent to obtain a coating composition. The coating composition is then applied to the desired thickness on the substrate. Next, the organic solvent contained in the coating composition is evaporated and dried to form a resin layer on the substrate.

基材としては、あらかじめ回路形成されたプリント配線板やフレキシブルプリント配線板の他、紙フェノール、紙エポキシ、ガラス布エポキシ、ガラスポリイミド、ガラス布/不繊布エポキシ、ガラス布/紙エポキシ、合成繊維エポキシ、フッ素・ポリエチレン・ポリフェニレンエーテル,ポリフェニレンオキシド・シアネートエステル等を用いた高周波回路用銅張積層板等の材質を用いたもので全てのグレード(FR-4等)の銅張積層板、その他、ポリイミドフィルム、PETフィルム、ガラス基板、セラミック基板、ウエハ板等を挙げることができる。 As a base material, in addition to pre-formed printed wiring boards and flexible printed wiring boards, paper phenol, paper epoxy, glass cloth epoxy, glass polyimide, glass cloth/non-woven cloth epoxy, glass cloth/paper epoxy, synthetic fiber epoxy , all grades (FR-4, etc.) copper-clad laminates using materials such as copper-clad laminates for high-frequency circuits using fluorine, polyethylene, polyphenylene ether, polyphenylene oxide, cyanate ester, etc., and other polyimides Films, PET films, glass substrates, ceramic substrates, wafer plates and the like can be mentioned.

特に本発明がアルカリ現像型感光性黒色遮蔽剤である場合、基材がガラス基材であることが好ましい。 Especially when the present invention is an alkali-developable photosensitive black shielding agent, the substrate is preferably a glass substrate.

ガラス基材の形状および種類は、用途に応じて適宜変更可能である。上述したアルカリ現像型感光性黒色遮蔽剤は、高い解像性およびガラス基材への高い密着性を有することから、平板状のガラス基材のみならず、曲面状のガラス基材を使用することも可能である。 The shape and type of the glass substrate can be appropriately changed depending on the application. Since the alkali-developable photosensitive black shielding agent described above has high resolution and high adhesion to glass substrates, not only flat glass substrates but also curved glass substrates can be used. is also possible.

塗布方法としては、例えば、スクリーン印刷法、カーテンコート法、スプレーコート法、ロールコート法等が挙げられる。 Examples of coating methods include screen printing, curtain coating, spray coating, and roll coating.

塗布膜厚は、例えば、乾燥後の膜厚で0.5~100μm、0.5~50μm、2~40μm、または2~20μmの範囲となるように適宜設定すればよい。 The coating film thickness may be appropriately set so that the film thickness after drying is in the range of 0.5 to 100 μm, 0.5 to 50 μm, 2 to 40 μm, or 2 to 20 μm.

乾燥手段としては、例えば、熱風循環式乾燥炉、IR炉、ホットプレート、コンベクションオーブン等が挙げられる。 Drying means include, for example, a hot air circulation drying oven, an IR oven, a hot plate, a convection oven, and the like.

乾燥条件は、例えば、乾燥温度を50~130℃、乾燥時間を1~30分間等とすればよい。 Drying conditions may be, for example, a drying temperature of 50 to 130° C. and a drying time of 1 to 30 minutes.

(露光工程)
樹脂層に対して、選択的な活性光線の照射(露光)を行う。
(Exposure process)
The resin layer is selectively irradiated with actinic rays (exposure).

露光方法としては特に限定されず、所定の露光パターンが形成されたフォトマスクを介してパターニングする方法であってもよいし、h線ダイレクトイメージング(HDI)等のレーザーダイレクトイメージングによりパターニングする方法であってもよい。 The exposure method is not particularly limited, and may be a method of patterning through a photomask on which a predetermined exposure pattern is formed, or a method of patterning by laser direct imaging such as h-ray direct imaging (HDI). may

活性光線の照射光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプおよびメタルハライドランプ等が挙げられる。 Irradiation light sources for actinic rays include low-pressure mercury lamps, medium-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, xenon lamps and metal halide lamps.

ここで、露光方法は、フォトマスクと樹脂層とが接触された状態にて露光を行う接触露光法と、フォトマスクと樹脂層とが非接触となる状態にて露光を行う非接触露光法と、に分類可能である。 Here, the exposure method includes a contact exposure method in which the photomask and the resin layer are in contact with each other, and a non-contact exposure method in which the photomask and the resin layer are not in contact with each other. , can be classified into

接触露光法は、フォトマスクと樹脂層とが接触していることから、解像性が高い一方で、露光後にフォトマスクを除去する際に、フォトマスクに樹脂層が付着してしまい、フォトマスクを汚したり、自動露光機の異常停止が起きる等、連続的な生産性が悪くなる場合がある。非接触露光法は、フォトマスクと樹脂層との距離が離れていることから、連続的な生産性が高い一方で、解像性が低くなりやすい。 In the contact exposure method, since the photomask and the resin layer are in contact with each other, the resolution is high. Contamination, abnormal stoppage of the automatic exposure machine, etc. may cause continuous productivity to deteriorate. In the non-contact exposure method, the distance between the photomask and the resin layer is long, so the continuous productivity is high, but the resolution tends to be low.

本発明の好ましいアルカリ現像型感光性黒色遮蔽剤を用いて得られた樹脂層は、上述した非接触露光法および接触露光法のいずれにおいても使用できる。 The resin layer obtained using the preferable alkali-developable photosensitive black shielding agent of the present invention can be used in both the non-contact exposure method and the contact exposure method described above.

(現像工程)
露光工程後、アルカリ水溶液により現像することで、樹脂層の未露光部を除去してパターン形成する。
(Development process)
After the exposure step, the resin layer is patterned by removing the unexposed portion by developing with an alkaline aqueous solution.

現像方法としては、ディッピング法、シャワー法、スプレー法、ブラシ法等が挙げられる。 Dipping method, shower method, spray method, brush method and the like can be used as the developing method.

アルカリ水溶液としては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、リン酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、アンモニア、アミン類等のアルカリ水溶液等が挙げられる。 Examples of alkaline aqueous solutions include alkaline aqueous solutions of potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium phosphate, sodium silicate, ammonia, amines, and the like.

(熱硬化工程)
樹脂層の露光部を熱硬化させ、ガラス基材等の上に所定のパターンを有する硬化物(例えば、黒色遮蔽部)を形成する。
(Thermal curing process)
The exposed portion of the resin layer is thermally cured to form a cured product (for example, black shielding portion) having a predetermined pattern on the glass substrate or the like.

熱硬化条件は、例えば、140~180℃等とすればよい。 Thermal curing conditions may be, for example, 140 to 180°C.

ここで、本発明のアルカリ現像型感光性黒色遮蔽剤の硬化物(黒色遮蔽部)を備えるガラス基材は、種々の用途に使用可能であるが、各種の表示装置用とすることが好ましく、車載ディスプレイ用とすることが特に好ましい。 Here, the glass substrate provided with the cured product (black shielding portion) of the alkali-developable photosensitive black shielding agent of the present invention can be used for various purposes, and is preferably used for various display devices. It is particularly preferable to use it for an in-vehicle display.

<<第1の実施例>>
[(A)カルボキシル基含有樹脂の合成]
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業(株)製、登録商標“エピクロン”N-695、エポキシ当量:220)220部を撹拌機および還流冷却器の付いた四つ口フラスコに入れ、カルビトールアセテート214部を加え、加熱溶解した。次に、重合禁止剤としてハイドロキノン0.1部と、反応触媒としてジメチルベンジルアミン2.0部を加えた。この混合物を95~105℃に加熱し、アクリル酸72部を徐々に滴下し、16時間反応させた。この反応生成物を80~90℃まで冷却し、テトラヒドロフタル酸無水物106部を加え、8時間反応させ、冷却後、取り出した。
このようにして得られたエチレン性不飽和結合およびカルボキシル基を併せ持つ感光性樹脂は、不揮発分65%、固形物の酸価85mgKOH/g、重量平均分子量Mw約3,500であった。以下、この樹脂溶液をA-1ワニスと称す。
なお、得られた樹脂の重量平均分子量の測定は、(株)島津製作所製ポンプLC-804、KF-803、KF-802を三本つないだ高速液体クロマトグラフィーにより測定した。
<<First Embodiment>>
[(A) Synthesis of carboxyl group-containing resin]
220 parts of a cresol novolac type epoxy resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd., registered trademark "Epiclon" N-695, epoxy equivalent: 220) was placed in a four-necked flask equipped with a stirrer and a reflux condenser. 214 parts of tall acetate was added and dissolved by heating. Next, 0.1 part of hydroquinone as a polymerization inhibitor and 2.0 parts of dimethylbenzylamine as a reaction catalyst were added. This mixture was heated to 95 to 105° C., 72 parts of acrylic acid was gradually added dropwise, and the mixture was reacted for 16 hours. This reaction product was cooled to 80 to 90° C., 106 parts of tetrahydrophthalic anhydride was added, reacted for 8 hours, cooled, and taken out.
The thus obtained photosensitive resin having both ethylenically unsaturated bonds and carboxyl groups had a nonvolatile content of 65%, a solid acid value of 85 mgKOH/g, and a weight average molecular weight Mw of about 3,500. This resin solution is hereinafter referred to as A-1 varnish.
The weight average molecular weight of the obtained resin was measured by high performance liquid chromatography using three pumps LC-804, KF-803 and KF-802 manufactured by Shimadzu Corporation.

<アルカリ現像型光硬化性熱硬化性樹脂組成物の原料>
[(A)カルボキシル基含有樹脂]
A-1ワニス
[(B)光重合開始剤]
(B-1)オキシム系光重合開始剤
TOE-04-A3(日本化学工業所社製)
(B-2)オキシム系以外の光重合開始剤
Omnirad(オムニラッド)TPO(IGM Resins社製)
[(C)反応性希釈剤]
DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬社製)
[(D)熱硬化性樹脂]
JER828(三菱化成社製)
[(E)溶剤]
(E-1)ケトン系溶剤
シクロヘキサノン
(E-2)ケトン系以外の溶剤
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル
1-メトキシ-2-プロパノール
ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート
[(F)その他の成分(着色剤)]
ペリレン系赤色着色剤(C.I.Pigment Red 149)
フタロシアニン系青色着色剤(C.I.Pigment Blue 15:3)
アントラキノン系黄色着色剤(C.I.Pigment Yellow 147)
カーボンブラック(C.I.Pigment Black 7)
<Raw materials for alkali-developable photocurable thermosetting resin composition>
[(A) Carboxyl Group-Containing Resin]
A-1 varnish [(B) photoinitiator]
(B-1) Oxime-based photopolymerization initiator TOE-04-A3 (manufactured by Nippon Kagaku Kogyosho Co., Ltd.)
(B-2) Photopolymerization initiator other than oxime type Omnirad TPO (manufactured by IGM Resins)
[(C) reactive diluent]
DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
[(D) Thermosetting resin]
JER828 (manufactured by Mitsubishi Kasei Corporation)
[(E) solvent]
(E-1) Ketone-based solvent Cyclohexanone (E-2) Non-ketone-based solvent Dipropylene glycol monomethyl ether 1-methoxy-2-propanol Diethylene glycol monoethyl ether acetate [(F) Other components (coloring agent)]
Perylene-based red colorant (CI Pigment Red 149)
Phthalocyanine blue coloring agent (C.I. Pigment Blue 15:3)
Anthraquinone-based yellow colorant (CI Pigment Yellow 147)
Carbon black (CI Pigment Black 7)

<実施例および比較例に係るアルカリ現像型光硬化性熱硬化性樹脂組成物の調製>
表1に示す成分組成に基づき、各成分を配合し、攪拌機にて予備混合した後、混練して分散させ、実施例および比較例に係る、第1組成物および第2組成物からなるアルカリ現像型光硬化性熱硬化性樹脂組成物を調製した。表中の含有量は、質量部を示す。また、表中、(E)溶剤以外の成分については、固形分換算での含有量を示す。
<Preparation of alkali-developable photocurable thermosetting resin compositions according to Examples and Comparative Examples>
Based on the component composition shown in Table 1, each component was blended, premixed with a stirrer, kneaded and dispersed, and alkali development consisting of the first composition and the second composition according to the examples and comparative examples. A type photocurable thermosetting resin composition was prepared. Contents in the table indicate parts by mass. In addition, in the table, the content of components other than (E) solvent is shown in terms of solid content.

Figure 0007187538000006
Figure 0007187538000006

また、比較例3~6として、各実施例および各比較例に係るアルカリ現像型光硬化性熱硬化性樹脂組成物の、第1組成物と第2組成物とを予め混合した組成物を準備した。 Further, as Comparative Examples 3 to 6, compositions obtained by pre-mixing the first composition and the second composition of the alkali-developable photocurable thermosetting resin composition according to each example and each comparative example were prepared. did.

<評価>
このようにして得られた各組成物について、室温で7日間または120日間放置後、再結晶粒子の有無と大きさを確認した。次に、第1組成物および第2組成物を混合し、感光性、解像性、密着性を以下の評価方法に基づき評価した。これらの評価結果を表2に示す。
<Evaluation>
Each composition thus obtained was allowed to stand at room temperature for 7 days or 120 days, and then the presence and size of recrystallized particles was checked. Next, the first composition and the second composition were mixed and evaluated for photosensitivity, resolution and adhesion based on the following evaluation methods. These evaluation results are shown in Table 2.

[塗膜作製条件]
ガラス基板に乾燥後の膜厚が10μmになるようアプリケーターにて塗布し、熱風循環式乾燥炉において80℃で30分乾燥させ、塗膜を作製した。
[Conditions for preparing coating film]
It was applied to a glass substrate with an applicator so that the film thickness after drying was 10 μm, and dried in a hot air circulating drying oven at 80° C. for 30 minutes to prepare a coating film.

[感度]
乾燥後の塗膜にステップタブレット(コダックNo.2)を密着させ、メタルハライドランプの露光機を用いて1000mJ/cm露光し、現像した後ステップタブレットから得られた段数より感度を評価した。なお、評価基準は以下の通りである。
〇・・・得られた段数が7以上である。
×・・・得られた段数が7未満である。
[sensitivity]
A step tablet (Kodak No. 2) was brought into close contact with the dried coating film, exposed to light at 1000 mJ/cm 2 using a metal halide lamp exposing machine, developed, and sensitivity was evaluated from the number of steps obtained from the step tablet. In addition, the evaluation criteria are as follows.
O: The number of steps obtained is 7 or more.
x: The number of stages obtained is less than 7.

[解像性]
乾燥後の塗膜に、メタルハライドランプの露光機を用いて1000mJ/cm露光し、現像した後、形成されている最小幅のラインを読み取り、解像性を評価した。
〇・・・L/S=100/100が残る。
×・・・L/S=100/100が残らない。
[Resolution]
After drying, the coating film was exposed to light at 1000 mJ/cm 2 using a metal halide lamp exposing machine, developed, and the formed minimum width line was read to evaluate the resolution.
Good: L/S=100/100 remains.
x: L/S=100/100 does not remain.

[密着性]
JIS(日本工業規格)D-0202の試験方法に従って、テストピースの硬化塗膜に碁盤目状に100個のクロスカットを入れ、次いでセロハン粘着テープによるピーリング試験後の剥がれた箇所を目視により判定した。なお、評価基準は以下の通りである。
〇・・・100マスが残る。
×・・・100マスが残らない。
[Adhesion]
According to the test method of JIS (Japanese Industrial Standards) D-0202, 100 cross-cuts were made in a grid pattern on the cured coating film of the test piece, and then the peeled portions after the peeling test with cellophane adhesive tape were visually determined. . In addition, the evaluation criteria are as follows.
O: 100 squares remain.
x: 100 squares are not left.

[再結晶]
グラインドメーター(0-25μm)にて再結晶粒子の大きさを確認した。再結晶粒子の大きさが5μm以上になると、各組成物の硬化塗膜の膜厚が10μmの場合でピンホールが発生し外観不良となるため、5μm以上を×とした。尚、再結晶粒子が無い場合および再結晶粒子の大きさが5μm未満の場合は、各組成物の硬化塗膜の膜厚が10μmの場合でもピンホールは発生しなかった。
〇・・・再結晶粒子無し。
△・・・再結晶粒子の大きさ 5μm未満。
×・・・再結晶粒子の大きさ 5μm以上。
[OD値]
ガラス基材の皮膜側を測定器に向けて透過濃度計(サカタインクスエンジニアリング社製、型番:X-Rite 361T、光源波長:400~800nm)に装着してOD値を評価した。
○・・・OD値が4超
△・・・OD値が3以上4以下
×・・・OD値が3未満
[Recrystallization]
The size of the recrystallized grains was confirmed with a grindometer (0-25 μm). If the size of the recrystallized particles is 5 µm or more, pinholes will occur and the appearance will be poor when the film thickness of the cured coating film of each composition is 10 µm. When there were no recrystallized particles and when the size of the recrystallized particles was less than 5 µm, pinholes did not occur even when the film thickness of the cured coating film of each composition was 10 µm.
O: No recrystallized particles.
Δ: The size of the recrystallized particles is less than 5 μm.
x: The size of recrystallized grains is 5 μm or more.
[OD value]
The film side of the glass substrate was directed toward the measuring instrument, and a transmission densitometer (manufactured by Sakata Inx Engineering Co., model number: X-Rite 361T, light source wavelength: 400 to 800 nm) was installed to evaluate the OD value.
○ ... OD value is over 4 △ ... OD value is 3 or more and 4 or less × ... OD value is less than 3

Figure 0007187538000007
Figure 0007187538000007

<<第2の実施例>>
<アルカリ現像感光性黒色遮蔽剤の原料>
(A)カルボキシル基含有樹脂
・A-1ワニス
(B)光重合開始剤
・B-1:TOE-04-A3(日本化学工業所社製)
・B-2:Omnirad(オムニラッド)TPO(IGM Resins社製)
(C)光硬化性モノマー(反応性希釈剤)
・C-1:M-360(東亞合成社製、EO変性トリメチロールプロパントリアクリレート)
・C-2:DPCA-120(日本化薬社製、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート)
・C-3:TMPTA(トリメチロールプロパントリアクリレート)
・C-4:DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート)
(D)熱硬化性樹脂
・jER834(三菱ケミカル社製、エポキシ樹脂)
(E)溶剤
・シクロヘキサノン
・DPM(ジプロピレングリコールモノメチルエーテル)
(F-1)着色剤
・カーボンブラック(C.I.Pigment Black 7)
・ペリレン系赤色着色剤(C.I.Pigment Red 149)
・フタロシアニン系青色着色剤(C.I.Pigment Blue 15:3)
・アントラキノン系黄色着色剤(C.I.Pigment Yellow 147)
(F-2)その他の成分
・レベリング剤:BYK-361N(ビックケミー・ジャパン社製)
<<Second embodiment>>
<Raw material for alkali-developable photosensitive black shielding agent>
(A) carboxyl group-containing resin A-1 varnish (B) photopolymerization initiator B-1: TOE-04-A3 (manufactured by Nippon Kagaku Kogyosho Co., Ltd.)
・ B-2: Omnirad TPO (manufactured by IGM Resins)
(C) Photocurable monomer (reactive diluent)
・ C-1: M-360 (manufactured by Toagosei Co., Ltd., EO-modified trimethylolpropane triacrylate)
・ C-2: DPCA-120 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate)
・ C-3: TMPTA (trimethylolpropane triacrylate)
・ C-4: DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate)
(D) Thermosetting resin jER834 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, epoxy resin)
(E) Solvent, cyclohexanone, DPM (dipropylene glycol monomethyl ether)
(F-1) Colorant/carbon black (CI Pigment Black 7)
・Perylene-based red colorant (C.I.Pigment Red 149)
・Phthalocyanine blue colorant (C.I.Pigment Blue 15:3)
・ Anthraquinone-based yellow colorant (C.I.Pigment Yellow 147)
(F-2) Other components/leveling agent: BYK-361N (manufactured by BYK-Chemie Japan)

<実施例および比較例に係るアルカリ現像感光性黒色遮蔽剤の調製>
表3~表4に示す成分組成に基づき、各成分を配合し、攪拌機にて予備混合した後、混練して分散させ、実施例および比較例に係る、第1組成物および第2組成物からなるアルカリ現像感光性黒色遮蔽剤を調製した。なお、表中の含有量は、質量部を示す。また、表中、(E)有機溶剤以外の成分については、固形分換算での含有量を示す。
<Preparation of alkali-developable photosensitive black shielding agents according to Examples and Comparative Examples>
Based on the component compositions shown in Tables 3 and 4, each component was blended, premixed with a stirrer, and then kneaded to disperse, according to Examples and Comparative Examples, from the first composition and the second composition. An alkali-developable photosensitive black screening agent was prepared. In addition, content in a table|surface shows a mass part. In addition, in the table, the content of components other than (E) organic solvent is shown in terms of solid content.

<評価>
実施例3~14につき、実施例1と同一の塗膜作成条件および評価方法で、感度、解像性、密着性、再結晶、OD値の各評価を実施した。
実施例3~14の各評価結果は、実施例1と同等であった。
比較例7~9の各評価結果は、比較例1と同等であった。
<Evaluation>
For Examples 3 to 14, sensitivity, resolution, adhesion, recrystallization, and OD value were evaluated under the same coating film forming conditions and evaluation method as in Example 1.
Each evaluation result of Examples 3 to 14 was equivalent to that of Example 1.
Each evaluation result of Comparative Examples 7 to 9 was equivalent to Comparative Example 1.

更に、このようにして得られた感光性黒色遮蔽剤について、解像性、密着性、タック性、OD値を、以下の評価方法に基づき評価した。これらの評価結果を表3~表4に併せて示す。 Further, the photosensitive black shielding agent thus obtained was evaluated for resolution, adhesion, tackiness and OD value based on the following evaluation methods. These evaluation results are also shown in Tables 3 and 4.

[解像性2]
化学強化ガラス板(Dragontrail,AGC社製)上に乾燥後の膜厚が10umになるようエアースプレーにて遮蔽材を塗布し、乾燥(80℃,30min)後、所定のフォトマスクを塗膜に密着させ露光(遮蔽材上の露光量700mJ/cm)し、次いで現像(1wt%NaCO,30℃,0.2MPa,60sec)して試験片を作製した。その試験片の中で最も細い残存ラインを目視で確認した。なお、評価基準は以下の通りである。
◎:現像後の最小残存ライン幅が50μm以下である。
○:最小残存ライン幅が50μm超100um以下である。
△:最小残存ライン幅が100μm超150um以下である。
×:最小残存ライン幅が150μm超である。
[Resolution 2]
A shielding material is applied to a chemically strengthened glass plate (Dragontrail, manufactured by AGC) with an air spray so that the film thickness after drying is 10 μm, and after drying (80 ° C., 30 min), a predetermined photomask is applied to the coating film. They were brought into close contact with each other, exposed to light (exposure amount on shielding material: 700 mJ/cm 2 ), and then developed (1 wt% Na 2 CO 3 , 30°C, 0.2 MPa, 60 sec) to prepare a test piece. The thinnest remaining line in the test piece was visually confirmed. In addition, the evaluation criteria are as follows.
A: The minimum remaining line width after development is 50 μm or less.
○: The minimum remaining line width is more than 50 μm and 100 μm or less.
Δ: The minimum remaining line width is more than 100 μm and 150 μm or less.
x: The minimum remaining line width is over 150 μm.

[密着性2(クロスカット)]
化学強化ガラス板(Dragontrail,AGC社製)上に乾燥後の膜厚が10umになるようエアースプレーにて遮蔽材を塗布し、乾燥(80℃,30min)後、所定のフォトマスクを塗膜に密着させ露光(遮蔽材上の露光量700mJ/cm)した。次いで現像(1wt%NaCO,30℃,0.2MPa,60sec)、ポストUV(メタルハライドランプ,1000mJ/cm)、熱硬化(150℃,60min)を順次行い試験片を作製した。
JISK5400に準拠して、試験片の皮膜に、1mmの碁盤目100個(10×10)を作り、碁盤目上に透明粘着テープ(ニチバン社製、幅:18mm)を完全に付着させ、直ちにテープの一端をガラス基材に対して直角に保ちながら瞬間的に引き離し、完全に剥がれないで残った碁盤目の数を調べた。評価基準は以下の通りである。
○:碁盤目が100%残存した。
△:碁盤目が95%以上100%未満残存した。
×:碁盤目が95%未満残存した。
[Adhesion 2 (cross cut)]
A shielding material is applied to a chemically strengthened glass plate (Dragontrail, manufactured by AGC) with an air spray so that the film thickness after drying is 10 μm, and after drying (80 ° C., 30 min), a predetermined photomask is applied to the coating film. It was brought into close contact and exposed to light (exposure amount on shielding material: 700 mJ/cm 2 ). Next, development (1 wt % Na 2 CO 3 , 30° C., 0.2 MPa, 60 sec), post-UV (metal halide lamp, 1000 mJ/cm 2 ), and thermal curing (150° C., 60 min) were sequentially performed to prepare a test piece.
In accordance with JISK5400, 100 grids (10 × 10) of 1 mm are made on the film of the test piece, and a transparent adhesive tape (manufactured by Nichiban Co., Ltd., width: 18 mm) is completely attached on the grid, and the tape is immediately applied. While keeping one end of the glass substrate at a right angle, it was pulled apart instantaneously, and the number of grids remaining without being completely peeled off was examined. Evaluation criteria are as follows.
◯: 100% of the grid pattern remained.
Δ: 95% or more and less than 100% of the grid pattern remained.
x: Less than 95% of the grid pattern remained.

[タック性]
化学強化ガラス板(Dragontrail,AGC社製)上に乾燥後の膜厚が10umになるようエアースプレーにて遮蔽材を塗布し、乾燥(80℃,30min)後、所定のフォトマスクを塗膜に密着させ露光(遮蔽材上の露光量700mJ/cm)した。次いでフォトマスクを塗膜から手で剥がし、その時のマスクの剥がしやすさと、フォトマスクの密着痕の有無を目視で確認した。なお、評価基準は以下の通りである。
◎:剥がすときの抵抗が無く且つ密着痕がない
○:剥がすときの抵抗が無く且つ密着痕が目立たない
△:剥がすときの抵抗を感じ且つ密着痕が目立たない
×:剥がすときの抵抗を感じ且つフォトマスクに遮蔽材が転写する
[Tackiness]
A shielding material is applied to a chemically strengthened glass plate (Dragontrail, manufactured by AGC) with an air spray so that the film thickness after drying is 10 μm, and after drying (80 ° C., 30 min), a predetermined photomask is applied to the coating film. It was brought into close contact and exposed to light (exposure amount on shielding material: 700 mJ/cm 2 ). Next, the photomask was peeled off from the coating film by hand, and the easiness of peeling of the mask at that time and the presence or absence of adhesion traces of the photomask were visually confirmed. In addition, the evaluation criteria are as follows.
◎: No resistance when peeling and no adhesion marks ○: No resistance when peeling and adhesion marks are not noticeable △: Resistance is felt when peeling and adhesion marks are not noticeable ×: Resistance is felt when peeling and Shielding material transferred to photomask

[OD値2(光遮蔽性)]
ガラス基材の皮膜側を測定器に向けて透過濃度計(サカタインクスエンジニアリング社製、型番:X-Rite 361T、光源波長:400~800nm)に装着してOD値を評価した。評価基準は以下の通りである。
◎:OD値が6以上
○:OD値が5以上6未満
△:OD値が4以上5未満
×:OD値が4未満
[OD value 2 (light shielding property)]
The film side of the glass substrate was directed toward the measuring instrument, and a transmission densitometer (manufactured by Sakata Inx Engineering Co., model number: X-Rite 361T, light source wavelength: 400 to 800 nm) was installed to evaluate the OD value. Evaluation criteria are as follows.
◎: OD value is 6 or more ○: OD value is 5 or more and less than 6 △: OD value is 4 or more and less than 5 ×: OD value is less than 4

Figure 0007187538000008
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Figure 0007187538000009
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Claims (6)

アルカリ可溶性樹脂、オキシム結合を有する光重合開始剤、反応性希釈剤、熱硬化性樹脂、溶剤を少なくとも含有する光硬化性熱硬化性組成物であって、
前記オキシム結合を有する光重合開始剤は、前記アルカリ可溶性樹脂とは別の組成物に配合され、さらにオキシム結合を有する光重合開始剤と配合される溶剤は、ケトン系溶剤を溶剤中50質量%以上含むことを特徴とする、少なくとも2液系に組成されているアルカリ現像型光硬化性熱硬化性樹脂組成物。
A photocurable thermosetting composition containing at least an alkali-soluble resin, a photopolymerization initiator having an oxime bond, a reactive diluent, a thermosetting resin, and a solvent,
The photopolymerization initiator having an oxime bond is blended in a composition separate from the alkali-soluble resin, and the solvent to be blended with the photopolymerization initiator having an oxime bond is a ketone solvent of 50% by mass in the solvent. An alkali-developable photocurable thermosetting resin composition comprising at least two liquids comprising the above.
前記オキシム結合を有する光重合開始剤と配合される溶剤は、エーテル系溶剤を含まないことを特徴とする、請求項1に記載の少なくとも2液系に組成されているアルカリ現像型光硬化性熱硬化性樹脂組成物。 2. The alkali-developable photocurable heat composition according to claim 1, wherein the solvent mixed with the photopolymerization initiator having an oxime bond does not contain an ether solvent. A curable resin composition. さらに、着色剤を含有することを特徴とする、請求項1または2に記載の少なくとも2液系に組成されているアルカリ現像型光硬化性熱硬化性樹脂組成物。 3. The alkali-developable photocurable thermosetting resin composition according to claim 1 or 2, which is composed of at least a two-liquid system, further comprising a colorant. 前記着色剤が、カーボンブラックおよび混色黒系着色剤を含み、前記アルカリ現像型光硬化性熱硬化性樹脂組成物全量あたり、固形分換算で、前記カーボンブラックの含有量が4~10質量%であり、且つ、前記混色黒系着色剤の含有量が8~20質量%であることを特徴とする、請求項3に記載の少なくとも2液系に組成されているアルカリ現像型光硬化性熱硬化性樹脂組成物。 The coloring agent contains carbon black and a mixed color black coloring agent, and the content of the carbon black is 4 to 10% by mass in terms of solid content per the total amount of the alkali-developable photocurable thermosetting resin composition. and the content of the mixed black colorant is 8 to 20% by mass. elastic resin composition. 前記反応性希釈剤がアルキレンオキシドおよびラクトンのいずれかで変性された2官能以上の(メタ)アクリレートを含有することを特徴とする、請求項4に記載の少なくとも2液系に組成されているアルカリ現像型光硬化性熱硬化性樹脂組成物。 5. An alkali composed of at least a two-liquid system according to claim 4, characterized in that said reactive diluent contains a di- or higher-functional (meth)acrylate modified with either an alkylene oxide or a lactone. Developable photocurable thermosetting resin composition. ガラス基材用であることを特徴とする、請求項5に記載の少なくとも2液系に組成されているアルカリ現像型光硬化性熱硬化性樹脂組成物。 6. The alkali-developable photocurable thermosetting resin composition according to claim 5, which is composed of at least a two-liquid system, for use as a glass substrate.
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