JP7178841B2 - 限定的位置付けグリッドを用いるターゲットの照射方法 - Google Patents
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Description
本発明は、荷電粒子、特に電子またはイオンで形成されるビームを用いるリソグラフィ処理方法の分野に関する。より具体的には、本発明は、荷電粒子からなるエネルギー放射のビームでターゲットを照射する方法に関し、該ターゲットは上記ビームによる露光が行われるべき露光領域を含み、該方法は、以下のステップ:
- 前記露光領域内の固定ピクセル位置に位置付けられる複数のパターンピクセルを規定すること、
- 前記露光領域を所定の幅を有する複数のストライプに分割すること(かくして、これらのストライプは、一緒に合わせられて、該露光領域をカバーする)、
- 各ストライプについて、ターゲット上に複数の露光位置を規定すること、但し、各露光位置は複数の露光スポットの1つの位置を表し、露光スポットは均一なサイズ及び形状を有すること;各露光スポットは少なくとも1つのパターンピクセルを、好ましくは(例えば、ox×oyピクセルの矩形内の)直接的に隣接する複数のパターンピクセルをカバーすること、
- 前記放射に対し透過性の複数のアパーチャを有するパターン規定装置を提供すること、
- 前記パターン規定装置を照明ワイドビームによって照明すること、該照明ワイドビームは前記アパーチャを通ってパターン規定装置を横断し、それによって、対応する複数のビームレットからなるパターン化ビームが形成されること、
- ターゲットの位置において前記パターン化ビームからパターン画像を形成すること、該パターン画像は複数のアパーチャの少なくとも一部の画像を含み、これらの画像は所望のパターンに従って露光スポットを順次露光すること、
- 前記ターゲットとパターン規定装置との間の相対移動を生成することにより、前記ストライプに対応する経路に従ってターゲット上に前記パターン画像の移動を生成すること、
移動方向を横切る方向における前記パターン画像の幅は少なくともそれぞれのストライプの幅であること
を含む。
しか残らない。従って、s-1=72%だけのデータ/面積(面積当たりのデータ量)の減少が達成される。
[付記1]荷電粒子からなるエネルギー放射のビームをターゲットに照射する方法。前記ターゲットは前記ビームによる露光が行われるべき露光領域を含む。該方法は、以下のステップ:
- 前記露光領域内の固定ピクセル位置に位置付けられる複数のパターンピクセルを規定すること、
- 前記露光領域を、所定の幅を有する複数のストライプに分割すること、
- 各ストライプに対して前記ターゲット上に複数の露光位置を規定すること、但し、各露光位置は複数の露光スポットの1つの位置(location)を表し、該露光スポットは均一なサイズ及び形状を有し、各露光スポットは少なくとも1つのパターンピクセルをカバーすること、
- 前記放射に対し透過性の複数のアパーチャを有するパターン規定装置を提供すること、
- 前記パターン規定装置を照明ワイドビームによって照明すること、該照明ワイドビームは前記アパーチャを通って前記パターン規定装置を横断し、それによって、対応する複数のビームレットからなるパターン化ビームが形成されること、
- 前記ターゲットの位置において前記パターン化ビームからパターン画像を形成すること、該パターン画像は前記複数のアパーチャの少なくとも一部の画像を含み、該画像は所望のパターンに従って前記露光スポットを順次露光すること、
- 前記ターゲットと前記パターン規定装置との間の相対移動を生成することにより、前記ストライプに対応する経路に従って前記ターゲット上における前記パターン画像の移動を生成すること、移動方向を横切る方向における前記パターン画像の幅は少なくともそれぞれのストライプの幅であること、
を含む。
複数の露光位置を規定するステップは、前記ターゲット上のそれぞれの固定位置(locations)において規定される互いに分離された複数のクラスタ領域について行われること、及び、
- 各露光位置が前記クラスタ領域のうちの1つの内部にあるように前記露光位置の位置(locations)を規定すること、但し、前記クラスタ領域の各々は各露光位置が同じクラスタ領域の少なくとも1つの露光位置に対して所与の隣接距離以内にあるように配置された複数の露光位置を含み、前記隣接距離は前記ターゲット上に生成されるアパーチャの画像のサイズよりも小さいこと、
を含む。
前記クラスタ領域は露光位置が存在しない空間によって互いに分離され、前記空間は前記露光領域内の少なくとも1つの方向に沿って前記隣接距離の少なくとも2倍の幅を有する。
[付記2]上記の方法において、複数のストライプが描画される。但し、各ストライプはそれぞれのストライプ内の前記クラスタ領域に対する露光位置のグリッド位置のサブセットに関連付けられること、異なるストライプのサブセットは、互いに異なり、及び、一緒に合わせられると、前記クラスタ領域内の前記露光位置を完全にカバーするよう結合する(組み合わさる)。
[付記3]上記の方法において、前記クラスタ領域のそれぞれは、グリッド位置のそれぞれのサブセットに関連付けられた少なくとも2セットの露光位置を含み、及び、該少なくとも2セットの露光位置の各々は最小の数の露光位置を含む。但し、前記最小の数はすべてのクラスタ領域に対して有効であり、前記最小の数は4、5又はそれより大きい。
[付記4]上記の方法において、前記少なくとも2セットの露光位置の各々について、同じサブセットのグリッド位置に関連付けられている異なるクラスタ領域の露光位置の空間的配置は、夫々のクラスタ領域の中心位置に対し相対的に見た場合、同じである。
[付記5]上記の方法において、前記クラスタ領域の各々は複数の数の露光位置を含む。但し、該複数の露光位置は全てのクラスタ領域に共通の最小の数以上であり、該最小の数は4、5又はそれ以上である。
[付記6]上記の方法において、各クラスタ領域のサイズは、前記移動方向に平行な方向及びその方向に対する横方向の両方に関し、前記ターゲット上に結像されるアパーチャの画像のサイズよりも少なくとも3/2の倍率だけより大きい。
[付記7]上記の方法において、前記クラスタ領域内の位置の配置は1つのクラスタ領域から次のクラスタ領域まで繰り返される。
[付記8]上記の方法において、前記ターゲット上に同時に露光される露光位置の当該位置(locations)は、前記パターン規定装置における前記アパーチャの規則的な2次元配置の投影画像に直接対応する2次元グリッドに従って配置される。
[付記9]上記の方法において、クラスタ領域の各々について、それぞれのクラスタ領域の中心位置に対し相対的に見た場合、露光位置の空間的配置は異なるクラスタ領域について同じである。
[付記10]上記の方法において、前記クラスタ領域の中心位置のセットは、前記ターゲット上のアパーチャ画像の位置によって表されるいくつかの位置付けグリッドの結合体(union)である。
[付記11]上記の方法において、前記クラスタ領域は所定の位置に位置付けられる。但し、該所定の位置は前記露光領域内の前記ターゲット上に規則的配置を形成し、該規則的配置は前記2次元グリッドのスーパーセット(superset)に対応する。
[付記12]上記の方法において、各ストライプは、[前記]主方向[前記移動方向]に沿って配置された少なくとも2列のクラスタ領域を含む。
[付記13]上記の方法において、1つのクラスタ領域内で、前記露光位置は規則的なグリッドに沿って配置される。
[付記14]上記の方法において、1つのクラスタ領域内で、前記露光位置は前記移動方向に関し互いに対し斜めの角度で配置されている。
[付記15]上記の方法において、1つのクラスタ領域内で、前記露光位置のセットは規定の空間的配置で配置された一群の露光位置を含む。但し、該規定の空間的配置は該一群の露光位置の各々が露光されたとき、所定の形状を生成するよう構成される。
[付記16]上記の方法において、前記クラスタ領域は複数のラインに沿って配置される。但し、該複数のラインは均一なオフセットをなして位置付けられる。
[付記17]上記の方法において、前記複数のライン[の前記ライン]は、前記ターゲット上に予め形成されるラインパターンのラインに対応し、及び、前記クラスタ領域は規則的な間隔をなして前記(複数の)ラインに沿って配置される。
[付記18]上記の方法において、前記隣接距離は、アパーチャの画像の公称サイズ以下である。
[付記19]上記の方法において、前記露光位置は露光されるべきパターンピクセルの実際パターンに応じたそれぞれの露光線量で選択的に露光される。但し、該露光位置の位置は該実際パターンに依存しない。
[付記20]上記の方法において、それぞれのパターンピクセルを前記ターゲット上の露光位置に露光するために、一定のタイミングの露光ステップが用いられ、及び、該露光ステップの間、前記パターン画像の位置は、少なくとも[前記]主方向に沿った前記相対移動に関し前記ターゲットと共に移動され、露光ステップと露光ステップの間に、前記パターン画像の位置が前記ターゲットに対して変更され、前記パターン規定装置の位置に対する前記パターン画像の位置の移動を全般的に補償する。前記露光ステップの持続時間は、前記主方向に沿った均一な前進距離に対応する。但し、該前進距離は、前記主方向に沿った同じ部分グリッド内のアパーチャ画像のサイズよりも大きい。
[付記21]上記の方法において、前記クラスタ領域は、前記移動方向に平行な方向及びその方向に対する横方向の両方に沿って、露光位置が存在しない空間によって互いに分離されている。
[付記22]上記の方法において、前記倍率は、前記ターゲット上に結像されるアパーチャの画像のサイズの少なくとも2倍である。
Claims (22)
- 荷電粒子からなるエネルギー放射のビームをターゲットに照射する方法であって、前記ターゲットは前記ビームによる露光が行われるべき露光領域(r1)を含み、該方法は、以下のステップ:
- 前記露光領域内の固定ピクセル位置(px、px0、px1)に位置付けられる複数のパターンピクセルを規定すること、
- 前記露光領域(r1)を、所定の幅(y0)を有する複数のストライプ(s1、s2、s3)に分割すること、
- 各ストライプに対して前記ターゲット上に複数の露光位置(px0、px1)を規定すること、但し、各露光位置は複数の露光スポットの1つの位置を表し、該露光スポットは均一なサイズ及び形状を有し、各露光スポットは少なくとも1つのパターンピクセルをカバーすること、
- 前記放射に対し透過性の複数のアパーチャ(26)を有するパターン規定装置(4)を提供すること、
- 前記パターン規定装置を照明ワイドビーム(1b)によって照明すること、該照明ワイドビーム(1b)は前記アパーチャを通って前記パターン規定装置を横断し、それによって、対応する複数のビームレットからなるパターン化ビーム(pb)が形成されること、
- 前記ターゲット(16)の位置において前記パターン化ビームからパターン画像(pm)を形成すること、該パターン画像は前記複数のアパーチャの少なくとも一部の画像(b1)を含み、該画像は所望のパターンに従って前記露光スポットを順次露光すること、
- 前記ターゲット(16)と前記パターン規定装置(4)との間の相対移動を生成することにより、前記ストライプに対応する経路に従って前記ターゲット上における前記パターン画像の移動を生成すること、移動方向(sd)を横切る方向における前記パターン画像(pm)の幅は少なくともそれぞれのストライプの幅(y0)であること、
を含み、
複数の露光位置(px0、px1)を規定するステップは、前記ターゲット上のそれぞれの固定位置において規定される互いに分離された複数のクラスタ領域(L4、L9)について行われること、及び、
- 各露光位置が前記クラスタ領域(L4、L9)のうちの1つの内部にあるように前記露光位置の位置を規定すること、但し、前記クラスタ領域の各々は各露光位置(px0、px1)が同じクラスタ領域の少なくとも1つの露光位置に対して所与の隣接距離(ub;ex、ey)以内にあるように配置された複数の露光位置を含み、前記隣接距離は前記ターゲット上に生成されるアパーチャの画像のサイズよりも小さいこと、
を含み、
前記クラスタ領域は露光位置が存在しない空間によって互いに分離され、前記空間は前記露光領域内の少なくとも1つの方向に沿って前記隣接距離(ub;ex、ey)の少なくとも2倍の幅(ux、uy;vx、vy)を有すること、
を特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法において、
複数のストライプ(s1、s2 ... sn、s91、s92)が描画されること、但し、各ストライプ(s91、s92)はそれぞれのストライプ内の前記クラスタ領域に対する露光位置のグリッド位置のサブセット(G1、G2、G21、G22)に関連付けられること、異なるストライプのサブセットは、互いに異なり、及び、一緒に合わせられると、前記クラスタ領域内の前記露光位置(px0、px1)を完全にカバーするよう結合すること、
を特徴とする方法。 - 請求項2に記載の方法において、
前記クラスタ領域のそれぞれは、グリッド位置のそれぞれのサブセットに関連付けられた少なくとも2セットの露光位置を含むこと、及び、該少なくとも2セットの露光位置の各々は最小の数の露光位置を含むこと、但し、前記最小の数はすべてのクラスタ領域に対して有効であり、前記最小の数は4、5又はそれより大きいこと、
を特徴とする方法。 - 請求項3に記載の方法において、
前記少なくとも2セットの露光位置の各々について、同じサブセットのグリッド位置に関連付けられている異なるクラスタ領域の露光位置の空間的配置は、夫々のクラスタ領域の中心位置に対し相対的に見た場合、同じであること、
を特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法において、
前記クラスタ領域の各々は複数の数の露光位置を含むこと、但し、該複数の露光位置は全てのクラスタ領域に共通の最小の数以上であり、該最小の数は4、5又はそれ以上であること、
を特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法において、
各クラスタ領域のサイズは、前記移動方向に平行な方向及びその方向に対する横方向の両方に関し、前記ターゲット上に結像されるアパーチャの画像(b1)のサイズよりも少なくとも3/2の倍率だけより大きいこと、
を特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法において、
前記クラスタ領域内の位置の配置は1つのクラスタ領域から次のクラスタ領域まで繰り返されること、
を特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法において、
前記ターゲット上に同時に露光される露光位置の当該位置は、前記パターン規定装置(4)における前記アパーチャの規則的な2次元配置の投影画像に直接対応する2次元グリッドに従って配置されること、
を特徴とする方法。 - 請求項8に記載の方法において、
クラスタ領域の各々について、それぞれのクラスタ領域の中心位置に対し相対的に見た場合、露光位置の空間的配置は異なるクラスタ領域について同じであること、
を特徴とする方法。 - 請求項9に記載の方法において、
前記クラスタ領域の中心位置のセットは、前記ターゲット上のアパーチャ画像の位置によって表されるいくつかの位置付けグリッドの結合体(union)であること、
を特徴とする方法。 - 請求項9に記載の方法において、
前記クラスタ領域は所定の位置に位置付けられること、但し、該所定の位置は前記露光領域内の前記ターゲット上に規則的配置を形成し、該規則的配置は前記2次元グリッドのスーパーセットに対応すること、
を特徴とする方法。 - 請求項2に記載の方法において、
各ストライプ(s91、s92)は、前記主方向(sd)に沿って配置された少なくとも2列のクラスタ領域を含むこと、
を特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法において、
1つのクラスタ領域内で、前記露光位置(120~124、131~134)は規則的なグリッドに沿って配置されること、
を特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法において、
1つのクラスタ領域内で、前記露光位置(141~144)は前記移動方向(sd)に関し互いに対し斜めの角度で配置されていること、
を特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法において、
1つのクラスタ領域内で、前記露光位置のセットは規定の空間的配置で配置された一群の露光位置を含むこと、但し、該規定の空間的配置は該一群の露光位置の各々が露光されたとき、所定の形状(125、135、145)を生成するよう構成されること、
を特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法において、
前記クラスタ領域は複数のラインに沿って配置されること、但し、該複数のラインは均一なオフセット(P)をなして位置付けられること、
を特徴とする方法。 - 請求項16に記載の方法において、
前記複数のラインの前記ラインは、前記ターゲット上に予め形成されるラインパターンのライン(L)に対応すること、及び、前記クラスタ領域は規則的な間隔をなして前記ラインに沿って配置されること、
を特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法において、
前記隣接距離(ub、ex、ey)は、アパーチャの画像の公称サイズ(b)以下であること、
を特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法において、
前記露光位置は露光されるべきパターンピクセル(px)の実際パターン(ps)に応じたそれぞれの露光線量で選択的に露光されること、但し、該露光位置(px0、px1)の位置は該実際パターンに依存しないこと、
を特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法において、
それぞれのパターンピクセルを前記ターゲット上の露光位置に露光するために、一定のタイミングの露光ステップ(T1)が用いられること、及び、該露光ステップ(T1)の間、前記パターン画像の位置は、少なくとも主方向に沿った前記相対移動に関し前記ターゲットと共に移動され、露光ステップ(T1)と露光ステップ(T1)の間に、前記パターン画像の位置が前記ターゲットに対して変更され、前記パターン規定装置の位置に対する前記パターン画像の位置の移動を全般的に補償すること、前記露光ステップの持続時間は、前記主方向に沿った均一な前進距離(LG)に対応すること、但し、該前進距離は、前記主方向に沿った同じ部分グリッド内のアパーチャ画像のサイズよりも大きいこと、
を特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法において、
前記クラスタ領域は、前記移動方向に平行な方向及びその方向に対する横方向の両方に沿って、露光位置が存在しない空間によって互いに分離されていること、
を特徴とする方法。 - 請求項6に記載の方法において、
前記倍率は、前記ターゲット上に結像されるアパーチャの画像(b1)のサイズの少なくとも2倍であること、
を特徴とする方法。
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