JP7177183B2 - 装置の動作を説明するパラメータ間の重要な関係の決定 - Google Patents
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Description
本明細書における「投影レンズ」という用語の使用は、より一般的な用語「投影システム」PSと同義であると見なされ得る。
・観測された時系列からのリソグラフィ装置の因果関係の再構築;
・障害の進展と伝播経路の分析;
・リソグラフィ装置の制御性能の分析;及び/又は
・測定された時系列から観察可能なリソグラフィ装置の観察可能性分析。
1. 半導体製造で使用するための装置の動作を説明する複数のパラメータ間の複数の関係のサブセットを決定する方法であって、
半導体製造で使用するための参照装置の複数のパラメータ間の第1の関係を説明するデータの第1のセットを決定し、
1つ又は複数の測定に基づいて、参照の複数のパラメータ又は半導体製造で使用するためのさらなる装置との間の第2の関係を説明する第2のデータセットを決定し、
第1のデータセットと第2のデータセットを比較し、
第1のデータセットと第2のデータセットの違いに基づいて、第2のデータセットから第2の関係のサブセットを選択する方法。
2. 1つ又は複数の関係が因果関係である、第1項に記載の方法。
3. 第1のデータセットが、半導体製造で使用するために参照装置で行われる1つ又は複数の測定の第1のセットに基づいており、半導体製造で使用するための参照又はさらなる装置で行われる測定による第2のデータセットが第2のセットに基づいている、前述のいずれか1項に記載の方法。
4. 1つ又は複数の測定値の第1のセットに基づいて、半導体製造で使用するための参照装置の複数のパラメータのうちの1つ又は複数に関連する第1の周波数データを計算することをさらに含み、
1つ又は複数の測定値の第2のセットに基づいて、半導体製造で使用するための基準又はさらなる装置の複数のパラメータのうちの1つ又は複数に関連する第2の周波数データを計算する、第3項に記載の方法。
5. 第1の周波数データを第2の周波数データと比較し、第1の周波数データと第2の周波数データの比較に基づいて、半導体製造に使用するための参照装置又はさらなる装置の複数のパラメータのうちの1つ又は複数のパラメータを選択する第4項に記載の方法。
6. パラメータの第1の周波数データと第2の周波数データとの間の差が閾値より大きい場合にパラメータが選択される、第5項に記載の方法。
7. 第2の関係のサブセットを選択することは、第2のデータセットから、参照又はさらなる装置の選択されたパラメータの少なくとも1つに関連する1つ又は複数の関係を決定することをさらに含む、第5項又は第6項に記載の方法。
8. 第1のデータセットと第2のデータセットとの比較の結果に基づいて第1の周波数データ及び第2の周波数データが計算される、第4項~第7項のいずれかに記載の方法。
9. 第2のデータセットが、第1のデータセットとは異なる時間に参照装置に関連する、前述のいずれか1項に記載の方法。
10. 第2のデータセットが半導体製造で使用するためのさらなる装置に関するものであり、半導体製造で使用するためのさらなる装置が、半導体製造で使用するための参照装置に対応する装置である、前述のいずれか1項に記載の方法。
11. データの第1のセットが、半導体製造で使用するための参照装置の設計に関連する情報に基づいて計算される、第10項に記載の方法。
12. データの第1のセットが設計構造マトリックスを含む、第11項に記載の方法。
13. データの第1及び/又は第2のセットのうちの1つが、それぞれの行列に格納された因果グラフ及びデータのうちの少なくとも1つを含む、前項のいずれか1項に記載の方法。
14. 少なくとも1つのプロセッサ上で実行されると、少なくとも1つのプロセッサに装置を制御させて、第1項から第13項のいずれか1項に従って方法を実行させる命令を含むコンピュータプログラム。
15. 半導体製造で使用するための装置の動作を説明する複数のパラメータ間の複数の関係のサブセットを決定するための装置であって、
コンピュータプログラムコードを実行して:
半導体製造で使用するための参照装置の複数のパラメータ間の第1の関係を説明する第第1のセットを決定し、
1つ又は複数の測定に基づいて、参照の複数のパラメータ又は半導体製造で使用するためのさらなる装置との間の第2の関係を説明する第2のデータセットを決定し、
第1のデータセットと第2のデータセットを比較し、
第1のデータセットと第2のデータセットの違いに基づいて、第2のデータセットから第2の関係のサブセットを選択する、装置。
16. 第15項の装置を含む半導体製造に使用するための装置。
17. 第16条の半導体製造に使用するための装置を含むリソグラフィーセルシステム。
Claims (13)
- 半導体製造で使用するための装置を分析及び/又は監視するために、前記装置の動作を説明する複数のパラメータ間の複数の関係のサブセットを決定する方法であって、
半導体製造で使用するための参照装置の複数のパラメータ間の第1の関係を説明するデータの第1のセットを決定し、
1つ又は複数の測定に基づいて、参照の又は半導体製造で使用するためのさらなる装置の複数のパラメータの間の第2の関係を説明する第2のデータセットを決定し、
第1のデータセットと第2のデータセットを比較し、
第1のデータセットと第2のデータセットの違いに基づいて、第2のデータセットから第2の関係のサブセットを選択する、方法。 - 第1及び/又は第2の関係は、因果関係の存在または不存在を示している、請求項1に記載の方法。
- 第1のデータセットが、半導体製造で使用するために参照装置で行われる1つ又は複数の測定の第1のセットに基づいており、第2のデータセットが参照の又は半導体製造で使用するためのさらなる装置で行われる1つまたは複数の測定に基づく第2のセットに基づいている、請求項1又は2に記載の方法。
- 1つ又は複数の測定値の第1のセットに基づいて、半導体製造で使用するための参照装置の複数のパラメータのうちの1つ又は複数に関連する第1の周波数データを計算し、
1つ又は複数の測定値の第2のセットに基づいて、半導体製造で使用するための参照またはさらなる装置の複数のパラメータのうちの1つ又は複数に関連する第2の周波数データを計算し、
第1の周波数データを第2の周波数データと比較し、
第1の周波数データと第2周波数データの比較に基づいて、参照又はさらなる装置の複数のパラメータのうちの1つ又は複数のパラメータを選択することをさらに含み、
第2の関係のサブセットを選択することは、第2のデータセットから、参照又はさらなる装置の選択されたパラメータの少なくとも1つに関連する1つ又は複数の関係を決定することをさらに含む、請求項3に記載の方法。 - あるパラメータについて第1の周波数データと第2の周波数データとの間の差が閾値よりも大きい場合に、そのパラメータが選択される、請求項4に記載の方法。
- 第1の周波数データ及び第2の周波数データは、第1のデータセットと第2のデータセットとの比較の結果に基づいて計算される、請求項4または5に記載の方法。
- 第2のデータセットが、第1のデータセットとは異なる時間に参照装置に関連する、請求項1乃至6のいずれか1項に記載の方法。
- 第2のデータセットは、半導体製造で使用するためのさらなる装置に関するものであり、半導体製造で使用するためのさらなる装置は、半導体製造で使用するための参照装置に対応する装置である、請求項1乃至7のいずれか1項に記載の方法。
- 第1のデータセットは、半導体製造で使用するための参照装置の設計に関する情報に基づいて計算される、請求項8に記載の方法。
- 第1のデータセットが設計構造マトリックスを含む、請求項9に記載の方法。
- 第1及び/又は第2のデータセットの1つが、それぞれの行列に格納された因果グラフ及びデータのうちの少なくとも1つを含む、請求項1乃至10のいずれか1項に記載の方法。
- 少なくとも1つのプロセッサ上で実行されると、少なくとも1つのプロセッサに装置を制御して、請求項1乃至11のいずれか1項に記載の方法を実行させる命令を含むコンピュータプログラム。
- 半導体製造で使用するための装置を分析及び/又は監視するために、前記装置の動作を説明する複数のパラメータ間の複数の関係のサブセットを決定するための装置であって、コンピュータプログラムコードを実行して、
半導体製造で使用するための参照装置の複数のパラメータ間の第1の関係を説明するデータの第1のセットを決定し、
1つ又は複数の測定に基づいて、参照の又は半導体製造で使用するためのさらなる装置の複数のパラメータの間の第2の関係を説明する第2のデータセットを決定し、
第1のデータセットと第2のデータセットを比較し、
第1のデータセットと第2のデータセットとの間の差異に基づいて、第2のデータセットから第2の関係のサブセットを選択することを実行するように構成されたプロセッサを含む装置。
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