JP7162415B2 - アバタの周りにパターンを位置付けるためのコンピュータ実施方法 - Google Patents
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Description
a)3次元シーンにおいて前記仮想衣類またはアップホルスタリの少なくとも1つのパターンを提供するステップと、
a)3次元シーンにおいて3次元アバタを提供するステップと、
c)アバタの表面からの距離場を計算するステップと、
d)前記距離場に関して固定された向きを保持することによって、アバタに関連してパターンを位置付けるステップと、
e)位置付けられた1または複数のパターンをアバタの周りに組み立てて前記仮想衣類またはアップホルスタリを形成し、それをアバタ上に着用させる、ステップと
を含む。
- 前記ステップd)は、
d1)位置付けデバイスを使用して、アバタに関連してパターンを事前に位置付けるサブステップと、
d3)パターンを自動的に回転して、前記パターンに対する法線方向または平均法線方向が、前記距離場の等距離面に対する法線方向または平均法線方向に揃えられるようにするサブステップと
を含んでよい。
d2)前記位置付けデバイスまたは異なる位置付けデバイスを使用して、パターンのアバタからの距離を調整するサブステップ
も含んでよい。
d4)前記距離場に対する法線方向または平均法線方向に揃えられた、それの法線方向または平均法線方向を保持しながら、パターンを、前記位置付けデバイスまたは異なる位置付けデバイスを使用して、前記距離場の等距離面上で動かすステップ
も含んでよい。
- 上で概説された方法によって、前記パターン間のシームを定義するサブステップを含む、前記衣類またはアップホルスタリを設計するステップと、
- 前記シームを実現することによって、前記パターンを組み立てることを含む、前記衣類またはアップホルスタリを物理的に製造するステップと
を含む。
- パターンとアバタとの間の距離を正確に調整すること(d2)と、
- ステップcにおいて計算された距離場を考慮しながら、パターンの向きを補正すること(d3)と、
- アバタからのそれの距離、および距離場に関するそれの向きを一定に保持しながら、パターンを動かすこと(d4)と
にある。
Claims (13)
- 3次元シーンにおいて仮想衣類またはアップホルスタリ(G)を設計するためのコンピュータ実施方法であって、
a)前記3次元シーンにおいて前記仮想衣類またはアップホルスタリの少なくとも1つのパターン(P)を提供するステップと、
b)前記3次元シーンにおいて3次元アバタ(AV)を提供するステップと、
c)前記アバタの表面からの距離場を計算するステップであって、前記アバタを含む3D仮想空間の各点は、前記アバタの前記表面の最近点からのその距離を表現する数値を属性として与えられる、該ステップと、
d)前記距離場に関して固定された向きを保持することによって、前記アバタに関連して前記パターンを位置付けるステップと、
e)前記位置付けられた1または複数のパターンを前記アバタの周りに組み立てて前記仮想衣類またはアップホルスタリを形成し、それを前記アバタ上に着用させる、該ステップと
を含むことを特徴とするコンピュータ実施方法。 - 前記ステップd)は、
d1)位置付けデバイス(KB、PD)を使用して、前記アバタに関連して前記パターンを事前に位置付けるサブステップと、
d3)前記パターンを自動的に回転して、前記パターンに対する法線方向(NP)または平均法線方向が、前記距離場の等距離面(IDS)に対する法線方向(NDF)または平均法線方向(ANF)に揃えられるようにするサブステップと
を含むことを特徴とする請求項1に記載のコンピュータ実施方法。 - 前記ステップd)は、
d2)前記位置付けデバイスまたは異なる位置付けデバイスを使用して、前記パターンの前記アバタからの距離を調整するサブステップ
も含むことを特徴とする請求項2に記載のコンピュータ実施方法。 - 前記ステップd)は、
d4)前記距離場に対する前記法線方向または平均法線方向に揃えられた、それの法線方向または平均法線方向を保持しながら、前記パターンを、前記位置付けデバイスまたは異なる位置付けデバイスを使用して、前記距離場の等距離面上で動かすステップ
も含むことを特徴とする請求項2または3に記載のコンピュータ実施方法。 - 前記アバタからの前記パターンの前記距離は、前記パターンの参照点(RP)と前記アバタの最近点との間の距離であることを特徴とする請求項3に記載のコンピュータ実施方法。
- 前記アバタからの前記パターンの前記距離は、前記パターンの点と前記アバタの点との間の最小距離であることを特徴とする請求項3に記載のコンピュータ実施方法。
- 前記等距離面に対する前記法線方向は、前記パターンまたはそれの参照点に最も近い前記等距離面の点における、それの法線方向であることを特徴とする請求項2ないし6のいずれかに記載のコンピュータ実施方法。
- 前記等距離面に対する前記平均法線方向は、前記等距離面の参照エリアの異なる点に対する法線方向を平均することによって計算されることを特徴とする請求項2ないし6のいずれかに記載のコンピュータ実施方法。
- 前記位置付けデバイスまたは少なくとも1つの位置付けデバイスは、マウス、キーボード、タッチスクリーン、およびトラックボールの中から選択されることを特徴とする請求項2ないし6のいずれかに記載のコンピュータ実施方法。
- コンピュータに、請求項1ないし9のいずれか1つに記載のコンピュータ実施方法を実行させることを特徴とするコンピュータプログラム。
- 請求項10記載のコンピュータプログラムを記録したことを特徴とするコンピュータ可読記憶媒体。
- メモリ(M1ないしM4)に結合されたプロセッサ(PR)と、グラフィカルユーザインターフェース(IF)とを備え、前記メモリは、コンピュータ支援設計システムに請求項1ないし9のいずれかに記載の方法を実施させるためのコンピュータ実行可能命令を記憶することを特徴とするコンピュータ支援設計システム。
- エッジによって組み立てられる複数の2次元パターンを含む衣類またはアップホルスタリを製造する方法であって、
請求項1ないし9のいずれかに記載の方法によって、前記パターン(P)間にシームを定義するサブステップを含む、前記衣類またはアップホルスタリ(G)を設計するステップと、
前記シームを実現することによって前記パターンを組み立てることを含む、前記衣類またはアップホルスタリを物理的に製造するステップと
を含むことを特徴とする方法。
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