JP7144732B2 - laminated substrate - Google Patents

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Description

本発明は、絶縁基材内に素子を配置した積層基板に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a laminated substrate having elements arranged in an insulating base material.

従来、素子の高密度実装化と基板の小型化とを目的として、絶縁基材内に素子を配置した積層基板が知られている(例えば、特許文献1参照) Conventionally, there has been known a laminated substrate in which elements are arranged in an insulating base material for the purpose of high-density mounting of elements and miniaturization of the substrate (see, for example, Patent Document 1).

特開2003-86949号公報JP-A-2003-86949

しかしながら、絶縁基材内に配置されている素子は、動作時に発熱することが想定され、その熱が絶縁基材内にこもってしまうと、素子や電気回路の動作不良を招くおそれがある。この場合、素子の近傍の積層基板の表面に例えば放熱フィン等を設けることも考えられるものの、素子は絶縁基材に覆われていることから、素子から放熱フィンまで熱を十分に伝達することができず、放熱不良となるおそれがある。 However, it is assumed that the elements arranged in the insulating base material generate heat during operation, and if the heat is trapped in the insulating base material, there is a risk of malfunction of the elements and electric circuits. In this case, it is conceivable to provide, for example, radiating fins on the surface of the laminated substrate in the vicinity of the elements. Otherwise, heat dissipation may be poor.

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、素子を絶縁基材内に配置する場合であっても素子の放熱を促すことができる積層基板を提供することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a laminated substrate that can promote heat dissipation of elements even when the elements are arranged in an insulating base material.

請求項1記載の発明では、積層基板は、絶縁基材内に素子が配置されている積層基板であって、絶縁基材となる複数の樹脂層と、樹脂層間に配置されている素子と、素子に接触して設けられ、少なくとも1つの端部が積層基材の側面に露出している金属製の放熱層と、を備える。 In the invention according to claim 1, the laminated substrate is a laminated substrate in which an element is arranged in an insulating base material, the plural resin layers serving as the insulating base material, the elements arranged between the resin layers, a metal heat dissipation layer provided in contact with the element and having at least one end exposed to the side surface of the laminated base material.

絶縁基材内に配置されている素子が動作時に発熱すると、外気との接触がないこと、また、絶縁基材によって熱の伝達が制限されることから、その熱が絶縁基材内にこもるおそれがある。そして、熱が絶縁基材内にこもると、素子やその素子を利用する電気回路の動作不良を招くおそれがある。この場合、例えば積層基板の表面に放熱部材を設け、絶縁基材を貫通する伝熱部材を配置することにより、外部への放熱を促すことが可能になると考えられるものの、伝熱部材を大きくすることが難しく、また、高密度実装と小型化とを図る上では、積層基板の表面に設置スペースが必要となる構成は好ましくない。 If the element placed inside the insulating base generates heat during operation, the heat may be trapped inside the insulating base because there is no contact with the outside air and the insulating base restricts heat transfer. There is If the heat is trapped in the insulating base material, there is a risk of malfunction of the element or an electric circuit using the element. In this case, for example, by providing a heat-dissipating member on the surface of the laminated substrate and arranging a heat-transfer member that penetrates the insulating base material, it is possible to promote heat dissipation to the outside, but the heat-transfer member must be large. In addition, in order to achieve high-density mounting and miniaturization, a configuration that requires an installation space on the surface of the laminated substrate is not preferable.

そこで、素子に接触しているとともに、少なくとも一つの端部が積層基材の側面に露出している放熱層を設けている。これにより、放熱層に移動した素子の熱は、放熱層の端部が積層基材の側面に露出していることから、放熱層が外気によって冷却される際に積層基板の外部に放出され、熱の放出に大きく寄与する。また、放熱層を金属製としていることから、絶縁基材に比べて素早く素子の熱が放熱層に伝達され、積層基板内に熱がこもることが抑制される。したがって、素子を絶縁基材内に配置する場合であっても、素子の放熱を促すことができる。 Therefore, a heat dissipation layer is provided which is in contact with the element and has at least one end exposed to the side surface of the laminated base material. As a result, the heat of the element that has moved to the heat dissipation layer is released to the outside of the laminated substrate when the heat dissipation layer is cooled by the outside air, since the end of the heat dissipation layer is exposed to the side surface of the laminated base material. It contributes greatly to the release of heat. In addition, since the heat dissipation layer is made of metal, the heat of the element is transferred to the heat dissipation layer more quickly than in the case of the insulating base material, so that the heat is prevented from remaining in the laminated substrate. Therefore, even when the element is arranged in the insulating base material, the heat dissipation of the element can be promoted.

請求項2記載の発明では、放熱層は、積層基板の側面に露出している端部が、積層基板の積層方向に対して傾斜した傾斜面に形成されている。これにより、放熱層の厚みが同じであっても、外部に露出している面積を増やすことができ、放熱効率を向上させることができる。 In the second aspect of the present invention, the end portion of the heat dissipation layer exposed on the side surface of the laminated substrate is formed on an inclined surface that is inclined with respect to the lamination direction of the laminated substrate. Thereby, even if the thickness of the heat dissipation layer is the same, the area exposed to the outside can be increased, and the heat dissipation efficiency can be improved.

請求項3記載の発明では、放熱層は、積層基板の側面に露出している端部が積層方向に沿った垂直面で形成されているとともに、露出している端部が当該放熱層の下方に配置されている樹脂層の端部よりも内側に位置している。これにより、放熱層と下方の樹脂層の上面との間に段差が形成され、その段差に防錆や防腐用のコーティング剤のフィレットが形成されるようになる。これにより、段差のない場合に比べてコーティング剤の厚みが増加し、防錆性や防腐性を向上させることができる。 In the third aspect of the invention, the heat dissipation layer has an end exposed on the side surface of the laminated substrate formed in a vertical plane along the stacking direction, and the exposed end is below the heat dissipation layer. is located inside the end of the resin layer arranged in the . As a result, a step is formed between the heat radiating layer and the upper surface of the lower resin layer, and a fillet of a coating agent for rust prevention and anticorrosion is formed on the step. As a result, the thickness of the coating agent is increased as compared with the case where there is no step, and the rust prevention and antiseptic properties can be improved.

請求項4記載の発明では、放熱層は、露出している端部が当該放熱層の上方に配置されている樹脂層の端部よりも外側に位置している。これにより、放熱層の側面だけでなく、上方に配置されている樹脂層よりも外側に位置する面も放熱に大きく寄与するようになり、放熱性をさらに向上させることができる。 In the fourth aspect of the invention, the exposed end of the heat dissipation layer is located outside the end of the resin layer disposed above the heat dissipation layer. As a result, not only the side surface of the heat dissipation layer but also the surface located outside the upper resin layer greatly contributes to heat dissipation, and heat dissipation can be further improved.

実施形態による積層基板の構成例を模式的に示す図FIG. 4 is a diagram schematically showing a configuration example of a laminated substrate according to an embodiment; 積層基板の積層態様の一例を模式的に示す図A diagram schematically showing an example of a lamination mode of a laminated substrate. 積層基板の他の構成例を模式的に示す図その1FIG. 1 schematically shows another configuration example of the laminated substrate; 積層基板の他の構成例を模式的に示す図その2FIG. 2 schematically shows another configuration example of the laminated substrate; 積層基板の他の構成例を模式的に示す図その3FIG. 3 schematically shows another configuration example of the laminated substrate; 放熱層の他の構成例を模式的に示す図A diagram schematically showing another configuration example of the heat dissipation layer 積層基板の他の構成例を模式的に示す図その4FIG. 4 schematically shows another configuration example of the laminated substrate; 放熱層の端部の構成例を模式的に示す図その1Diagram 1 schematically showing a configuration example of the end portion of the heat dissipation layer 放熱層の端部の構成例を模式的に示す図その2Diagram 2 schematically showing a configuration example of the end portion of the heat dissipation layer 積層基板の他の構成例を模式的に示す図その5FIG. 5 schematically shows another configuration example of the laminated substrate; 積層基板に傾斜面を形成する手法の一例を模式的に示す図A diagram schematically showing an example of a method of forming an inclined surface on a laminated substrate.

以下、実施形態について、図面を参照しながら説明する。
図1に示すように、本実施形態の積層基板1は、絶縁基材である複数の樹脂層2と、樹脂層2間に配置されている素子3と、素子3に接触して設けられている金属製の放熱層4とを備えている。この積層基板1は、側面が積層方向に沿った垂直面となっており、全体として概ね直方体状に形成されている。なお、樹脂層2や放熱層4の数、素子3の数や配置は一例であり、例えば表面や裏面に回路部品を配置することができる等、図1に示したものに限定はされない。
Hereinafter, embodiments will be described with reference to the drawings.
As shown in FIG. 1, the laminated substrate 1 of the present embodiment includes a plurality of resin layers 2 which are insulating base materials, elements 3 arranged between the resin layers 2, and elements 3 provided in contact with the elements 3. and a heat dissipation layer 4 made of metal. The laminated substrate 1 has side surfaces that are vertical along the lamination direction, and is generally formed in a rectangular parallelepiped shape as a whole. The number of resin layers 2 and heat dissipation layers 4 and the number and arrangement of elements 3 are examples, and are not limited to those shown in FIG.

樹脂層2は、例えばポリエーテルエーテルケトン樹脂やポリエーテルイミド樹脂を含む熱可塑性樹脂で形成されており、加熱および加圧することによって変形する。この樹脂層2の表面の1面または両面には、エッチングによって図示しない回路パターンや電極等が形成されている。また、少なくとも1つの樹脂層2は、表面の一部に窪んで形成されている収容部2aが設けられている。ただし、樹脂層2は、収容部2aが形成されておらず、回路パターンのみが形成されているものであってもよいし、収容部2aは、樹脂層2を貫通する形状とすることもできる。 The resin layer 2 is made of, for example, a thermoplastic resin containing polyetheretherketone resin or polyetherimide resin, and is deformed by heating and pressing. A circuit pattern, electrodes, etc. (not shown) are formed by etching on one or both surfaces of the resin layer 2 . Moreover, at least one resin layer 2 is provided with an accommodating portion 2a that is recessed in a part of the surface. However, the resin layer 2 may have only a circuit pattern without forming the accommodating portion 2a, or the accommodating portion 2a may have a shape penetrating the resin layer 2. .

この収容部2aには、例えば回路を構成する素子3や、積層された状態における上層側と下層側と電気的に接続するビア5(図5参照)等が配置される。なお、図1では、説明の簡略化のために、ビア5の図示は省略し、素子3を収容する収容部2aのみを示している。この素子3は、例えば抵抗やコンデンサ、あるいは半導体装置等を採用することができる。そのため、これらの素子3は、通電時に発熱することがある。 Elements 3 forming a circuit, vias 5 (see FIG. 5) electrically connecting the upper layer side and the lower layer side in a laminated state, and the like are arranged in the accommodating portion 2a. In FIG. 1, for the sake of simplification of explanation, illustration of the vias 5 is omitted, and only the housing portion 2a for housing the element 3 is shown. This element 3 can employ, for example, a resistor, a capacitor, or a semiconductor device. Therefore, these elements 3 may generate heat when energized.

放熱層4は、例えば銅やアルミ等の金属で形成されており、本実施形態では、収容部2aに収容されている素子3の上面全体に接触するとともに、少なくとも1つの端部が積層基板1の端部に露出している。本実施形態では、放熱層4は、直方体状に形成される積層基板1の4辺の側面において外部に露出している。 The heat dissipation layer 4 is made of a metal such as copper or aluminum. exposed at the end of the In this embodiment, the heat dissipation layer 4 is exposed to the outside on four side surfaces of the laminated substrate 1 formed in a rectangular parallelepiped shape.

放熱層4は、素子3と直接的に接触していることが望ましいものの、熱を伝達することができれば、若干のスペースが存在している構成や極薄い樹脂が介在していてもよい。すなわち、本発明において素子3と放熱層4とが接触している状態とは、熱伝導が可能な距離に素子3と放熱層4とが配置されていることを意味している。 Although it is desirable that the heat dissipation layer 4 is in direct contact with the element 3, a slight space may exist or an extremely thin resin may be interposed as long as the heat can be transferred. That is, in the present invention, the state in which the element 3 and the heat dissipation layer 4 are in contact means that the element 3 and the heat dissipation layer 4 are arranged at a distance that enables heat conduction.

この放熱層4は、本実施形態の場合、その表面が、素子3と接触する範囲を除いて樹脂層2と同じ樹脂材料でコーティングされている。これは、上記したように樹脂層2には回路パターンが設けられているため、回路パターン間や上下方向の回路パターン間をショートさせないようにするためである。 In this embodiment, the surface of the heat dissipation layer 4 is coated with the same resin material as the resin layer 2 except for the range in contact with the element 3 . This is because the circuit patterns are provided on the resin layer 2 as described above, so that the circuit patterns and the circuit patterns in the vertical direction are not short-circuited.

このような構成の積層基板1は、図2にモデル化して示すように、素子3を収容している1つ以上ここでは2つの樹脂層2と、放熱が必要となる素子3に対応して設けられている1つ以上ここでは2つの放熱層4とを積層し、積層した状態で全体を加熱および加圧することにより樹脂層2を変形させ、素子3の隙間や樹脂層2間を埋めて絶縁基材とする一括積層プロセス手法を採用した製造方法により製造されている。製造された基板は、腐食例えば硫黄による腐食を避けるため、その表面や放熱層4が露出している側面にフッ素によるコンフォーマルコートが施される。 As shown in FIG. 2, the laminated substrate 1 having such a configuration includes one or more resin layers 2 accommodating the elements 3 and two resin layers corresponding to the elements 3 that require heat dissipation. One or more provided heat dissipation layers 4 are laminated, and the resin layer 2 is deformed by heating and pressurizing the entire laminated state, filling the gaps between the elements 3 and the gaps between the resin layers 2. It is manufactured by a manufacturing method that adopts a batch lamination process method using an insulating base material. The manufactured substrate is conformally coated with fluorine on its surface and side surfaces where the heat dissipation layer 4 is exposed in order to avoid corrosion due to sulfur, for example.

次に、上記した構成の作用および効果について説明する。
絶縁基材内に配置されている素子3が動作時に発熱すると、外気との接触がないこと、また、絶縁基材によって熱の伝達が制限されることから、その熱が絶縁基材内にこもってしまう。そして、熱が絶縁基材内にこもってしまうと、素子3やその素子3を利用する電気回路の動作不良を招くおそれがある。また、積層基板1の表面に放熱部材を設け、積層基板1を貫通する伝熱部材を配置することで放熱を促すことが可能になると考えられるが、伝熱部材を大きくすることが難しく、また、高密度実装と小型化とを図る上では、積層基板1の表面に設置スペースが必要となる放熱部材を設けることも好ましくない。
Next, the operation and effects of the above configuration will be described.
When the element 3 placed inside the insulating base generates heat during operation, the heat is trapped inside the insulating base because there is no contact with the outside air and because the insulating base restricts heat transfer. end up If the heat is trapped in the insulating base material, the element 3 and an electric circuit using the element 3 may malfunction. Further, it is considered possible to promote heat dissipation by providing a heat-dissipating member on the surface of the laminated substrate 1 and arranging a heat-transfer member penetrating the laminated substrate 1, but it is difficult to increase the size of the heat-transfer member. In order to achieve high-density mounting and miniaturization, it is not preferable to provide a heat-dissipating member on the surface of the laminated substrate 1, which requires an installation space.

そこで、本実施形態では、素子3に接触して設けられ、少なくとも一端が積層基材の端部に露出している放熱層4を設けている。これにより、素子3で発生した熱を効率よく放熱層4に受け渡すことが可能となるとともに、放熱層4の一部が外部に露出していることから、外気によって放熱層4からの放熱が促される。その結果、素子3の熱を効率よく外部に放出することができる。したがって、素子3を絶縁基材内に配置する場合であっても、素子3の放熱を促すことができる。 Therefore, in this embodiment, the heat dissipation layer 4 is provided in contact with the element 3 and has at least one end exposed at the end of the laminated base material. As a result, the heat generated by the element 3 can be efficiently transferred to the heat dissipation layer 4, and since a part of the heat dissipation layer 4 is exposed to the outside, the heat is dissipated from the heat dissipation layer 4 by the outside air. Prompted. As a result, the heat of the element 3 can be efficiently released to the outside. Therefore, even when the element 3 is arranged inside the insulating base material, the heat dissipation of the element 3 can be promoted.

この場合、素子3からの熱が絶縁基材内にこもることが抑制できるため、素子3やその素子3を利用する電気回路の動作不良を招くおそれを低減することができる。また、積層基板1に放熱フィン等を設ける場合とは異なり、実装面のスペースを削減することもないため、高密度実装化や小型化を損なうこともない。 In this case, it is possible to suppress the heat from the element 3 from staying in the insulating base material, so that it is possible to reduce the risk of malfunction of the element 3 and an electric circuit using the element 3 . In addition, unlike the case where the laminated substrate 1 is provided with heat radiation fins or the like, the space on the mounting surface is not reduced, so high-density mounting and miniaturization are not impaired.

また、実施形態のように素子3の上面全体に放熱層4を接触させることにより、効率的かつ迅速に素子3の熱を放熱層4に移動させることができ、積層基板1内に熱がこもるおそれを低減することができる。 In addition, by bringing the heat dissipation layer 4 into contact with the entire upper surface of the element 3 as in the embodiment, the heat of the element 3 can be transferred to the heat dissipation layer 4 efficiently and quickly, and the heat is accumulated in the laminated substrate 1. The fear can be reduced.

また、実施形態のように積層基板1の4辺において露出させた場合、放熱に利用可能な面積は、積層基板1の4辺の長さ×放熱層4の厚みとなり、放熱層4が比較的薄い場合であっても、十分な放熱面積を確保できると期待できる。これにより、積層基板1の厚みを過度に大きくすることなく、また、過度に積層基板の重量を増加させることが無く、さらには、積層基板1の表面に放熱用のスペースを確保することを必要とせずに素子3からの放熱を促進することができるため、高密度実装化や小型化を損なうことがない。 In addition, when the four sides of the laminated substrate 1 are exposed as in the embodiment, the area available for heat dissipation is the length of the four sides of the laminated substrate 1 x the thickness of the heat dissipation layer 4, and the heat dissipation layer 4 is relatively large. Even if it is thin, it can be expected that a sufficient heat dissipation area can be secured. As a result, the thickness of the laminated substrate 1 is not excessively increased, the weight of the laminated substrate is not excessively increased, and furthermore, it is necessary to secure a space for heat dissipation on the surface of the laminated substrate 1. Since heat dissipation from the element 3 can be promoted without reducing the size, high-density mounting and miniaturization are not impaired.

ただし、必要な放熱面積が確保できるのであれば、積層基板1の1辺、2辺あるいは3辺等において露出する構成とすることもできる。この場合、積層基板1の平面視において放熱層4が占める面積を小さくすることも可能となり、放熱層4を設けることによって回路パターンの配置や上下方向の接続位置が制限されることを抑制できる。 However, if the required heat dissipation area can be ensured, it is also possible to adopt a configuration in which one side, two sides, or three sides of the laminated substrate 1 are exposed. In this case, it is possible to reduce the area occupied by the heat dissipation layer 4 in the plan view of the laminated substrate 1, and the provision of the heat dissipation layer 4 can suppress the restriction of the layout of the circuit pattern and the connection position in the vertical direction.

また、上記した製造方法により、素子3を絶縁基材内に配置する場合であっても素子3の放熱を促すことができる積層基板1を製造することができる。
さて、積層基板1に内蔵される素子3は、必ずしも同じ形状ではなく、積層方向への高さが異なる場合が想定される。その場合、図3に示すように、各素子3の上端が一致するように収容部2aの深さを予め調整することにより、高さが異なる素子3のそれぞれが1つの放熱層4と接触する構成とすることができる。これにより、高さが異なる素子3であっても1つの放熱層4で放熱させることが可能となり、積層基板1の構成を簡素化することができる。
Further, by the manufacturing method described above, it is possible to manufacture the laminated substrate 1 that can promote the heat dissipation of the elements 3 even when the elements 3 are arranged in the insulating base material.
Now, it is assumed that the elements 3 incorporated in the laminated substrate 1 do not necessarily have the same shape, but have different heights in the lamination direction. In that case, as shown in FIG. 3, by adjusting the depth of the accommodating portion 2a in advance so that the upper ends of the elements 3 are aligned, the elements 3 having different heights are brought into contact with one heat dissipation layer 4. can be configured. As a result, even the elements 3 having different heights can be dissipated by one heat dissipation layer 4, and the structure of the laminated substrate 1 can be simplified.

また、素子3の積層方向への高さが異なる場合、図4に示すように、複数の放熱層4を設けることもできる。この場合、高さの違いを埋めるスペーサや回路パターンとして機能する樹脂層2を追加することにより、積層した際の厚みがずれてしまうことを防止することができる。 Moreover, when the heights of the elements 3 in the stacking direction are different, a plurality of heat dissipation layers 4 can be provided as shown in FIG. In this case, by adding a spacer or a resin layer 2 functioning as a circuit pattern to compensate for the difference in height, it is possible to prevent the thickness from being shifted when stacked.

また、放熱層4は、必ずしも積層基板1の面積全体を覆う一枚の板状にする必要はなく、例えば図5に示すように、上層側と下層側とを電気的に接続するためのビア5を通す場合には、ビア5の位置に貫通孔や切り欠きを形成し、放熱層4がビア5に干渉しないようにする構成とすることができる。これにより、高密度実装化した際に想定される上下方向への接続を容易に行うことができる。 Moreover, the heat dissipation layer 4 does not necessarily have to be a single plate covering the entire area of the laminated substrate 1. For example, as shown in FIG. When passing through the via 5 , a through hole or a notch may be formed at the position of the via 5 so that the heat dissipation layer 4 does not interfere with the via 5 . As a result, it is possible to easily perform connection in the vertical direction, which is assumed when high-density mounting is performed.

この場合、図6に示すように、放熱層4を、積層基板1の外縁に沿った枠状であって、枠の内側に、素子3への接触を可能とするタブ4aを設ける構成とすることができる。例えばいわゆるプリント基板に設けられているようなベタアースは、電位を安定させるために広い面積が必要になる。これに対して、放熱層4の場合、平面視における面積よりも、絶縁基材から露出している部分が多いほど、放熱を促すことができると考えられる。 In this case, as shown in FIG. 6, the heat dissipation layer 4 has a frame-like shape along the outer edge of the laminated substrate 1, and tabs 4a are provided inside the frame to enable contact with the element 3. be able to. For example, a solid ground provided on a so-called printed circuit board requires a large area to stabilize the potential. On the other hand, in the case of the heat dissipation layer 4, it is considered that the heat dissipation can be promoted more as the portion exposed from the insulating base material is larger than the area in plan view.

また、一般的に、回路パターンは積層基板1の縁よりも内側に配線スペースが設けられているため、積層基板1の縁は、回路パターンやビア5が設けられていないと考えられる。また、積層基板1の表面あるいは裏面においては、縁にコネクタ等が設けられることも想定されるが、内層側つまりは積層基板1の側面にそれらの部材が設けられることは少ないと想定される。 In addition, since the wiring space for the circuit pattern is generally provided inside the edge of the laminated substrate 1 , the edge of the laminated substrate 1 is considered not to have the circuit pattern and the vias 5 . Further, it is assumed that a connector or the like is provided on the edge of the front or back surface of the laminated substrate 1, but it is assumed that such members are rarely provided on the inner layer side, that is, the side surface of the laminated substrate 1.

そのため、積層基板1の外縁付近は、他の部材や回路を考慮すること無く利用可能なスペース、換言すると、他の部材や回路に影響を与えるおそれが少ないスペースであると考えられる。そのため、放熱層4を積層基板1の外縁付近に沿った枠状とし、放熱が必要となる素子3に接触するタブ4aを設けることにより、枠の内側を回路パターンやビア5の配置位置として利用することが可能となり、配線や接続に大きな影響を与えることなく、また、広い露出面積を確保した状態で放熱層4を設けることができる。 Therefore, the vicinity of the outer edge of the laminated substrate 1 is considered to be a space that can be used without considering other members and circuits, in other words, a space that is less likely to affect other members and circuits. Therefore, by forming the heat dissipation layer 4 in the shape of a frame along the periphery of the laminated substrate 1 and providing tabs 4a in contact with the elements 3 that require heat dissipation, the inside of the frame can be used as the layout position of the circuit pattern and the vias 5. Therefore, the heat dissipation layer 4 can be provided while securing a large exposed area without affecting the wiring and connections significantly.

さて、ここまでは矩形つまりは直方体状の積層基板1について説明したが、積層基板1は、図7に示すように、積層方向の上段側が徐々に小さくなる階段状に形成することができる。この場合、図7の領域(R1)に示すように、放熱層4の端部とその上層に配置される樹脂層2の端部とを面一になる構成とすることもできるし、領域(R2)に示すように、放熱層4の端部よりもその上層に配置される樹脂層2の端部が内側に位置する構成とすることもできる。 Up to this point, the laminated substrate 1 having a rectangular parallelepiped shape has been described, but the laminated substrate 1 can be formed in a stepped manner, as shown in FIG. In this case, as shown in the region (R1) in FIG. 7, the end portion of the heat dissipation layer 4 and the end portion of the resin layer 2 disposed thereabove may be flush with each other. As shown in R2), it is also possible to adopt a configuration in which the end portion of the resin layer 2 disposed above the end portion of the heat dissipation layer 4 is located inside.

このように階段状にすることにより、積層基板1の耐腐食性を向上させることができる。すなわち、領域(R1)を拡大した図8、および領域(R2)を拡大した図9に示すように、例えばフッ素によるコンフォーマルコートが施した場合、放熱層4の端部が下方に配置されている樹脂層2の端部よりも内側に位置していることから、段差の部分にコーティング剤のフィレット6が形成され、コーティング厚が厚くなり、耐腐食性が向上する。また、例えば領域(R2)の場合、放熱層4の端部は、上方に配置されている樹脂層2の端部よりも外側に位置していることから、その上面も放熱に寄与するようになり、素子3の放熱をより一層促すことができる。 By forming the steps in this way, the corrosion resistance of the laminated substrate 1 can be improved. That is, as shown in FIG. 8, which is an enlarged view of the region (R1), and FIG. 9, which is an enlarged view of the region (R2), when a conformal coat of fluorine is applied, for example, the end portion of the heat dissipation layer 4 is arranged downward. Since it is positioned inside the end of the resin layer 2 where it is located, a fillet 6 of the coating agent is formed in the step portion, the coating thickness is increased, and the corrosion resistance is improved. Further, for example, in the case of the region (R2), the end of the heat dissipation layer 4 is located outside the end of the resin layer 2 disposed above, so that the upper surface thereof also contributes to heat dissipation. As a result, the heat dissipation of the element 3 can be promoted further.

また、積層基板1は、図10に示すように、側面視に積層方向の上段側が徐々に小さくなる台形状に形成することもできる。この場合、放熱層4の端部は、積層方向に対して斜めに傾斜した傾斜面となっている。この場合、積層基板1から露出している面積が上記した図1に示した垂直面の場合に比べて大きくなることから、放熱に寄与する放熱面積が増加し、素子3の発熱をより促すことができる。 Moreover, as shown in FIG. 10, the laminated substrate 1 can be formed in a trapezoidal shape in which the upper side in the lamination direction becomes gradually smaller when viewed from the side. In this case, the end portion of the heat dissipation layer 4 forms an inclined surface obliquely inclined with respect to the stacking direction. In this case, the area exposed from the laminated substrate 1 is larger than in the case of the vertical plane shown in FIG. can be done.

この場合、放熱層4や樹脂層2を予め台形状に形成したものを積層することもできるが、図11に示すように、直方体状の放熱層4や樹脂層2を積層した後、縁を所定の角度で仮想線(Lc)に沿って4辺を切断することにより、最終的に台形状の積層基板1を形成することもできる。この場合、樹脂層2が変形した際に端部が余剰な樹脂で覆われたとしても、縁を切断することにより、放熱層4を容易に外部に露出する状態とすることができる。 In this case, the trapezoidal heat-dissipating layer 4 and the resin layer 2 can be laminated in advance, but as shown in FIG. By cutting the four sides along the imaginary line (Lc) at a predetermined angle, the trapezoidal laminated substrate 1 can be finally formed. In this case, even if the ends are covered with excess resin when the resin layer 2 is deformed, the heat dissipation layer 4 can be easily exposed to the outside by cutting the edges.

実施形態では収容部2aが形成されている樹脂層2に回路パターンを設ける構成を例示したが、回路パターンは、相対的に薄い別の樹脂層2に形成し、収容部2aが形成されている樹脂層2に積層する構成とすることができる。これにより、仕様によって変化することが想定される素子3については専用で樹脂層2を形成する必要があるが、回路パターンについては共通する樹脂層2を用いて配線することができ、生産性の向上を期待することができる。 In the embodiment, the circuit pattern is provided in the resin layer 2 in which the housing portion 2a is formed, but the circuit pattern is formed in a relatively thin separate resin layer 2, and the housing portion 2a is formed. It can be configured to be laminated on the resin layer 2 . As a result, although it is necessary to form a dedicated resin layer 2 for the element 3 that is expected to change depending on the specifications, the circuit pattern can be wired using the common resin layer 2, which improves productivity. We can expect improvement.

実施形態では一括積層プロセス手法を採用した製造方法を例示したが、接着剤等を塗布して積層および接着する手法による製造方法にも適用することができる。 In the embodiment, a manufacturing method employing a batch lamination process technique was exemplified, but the manufacturing method can also be applied to a technique of laminating and adhering by applying an adhesive or the like.

図面中、1は積層基板、2は樹脂層、3は素子、4は放熱層を示す。 In the drawings, 1 indicates a laminated substrate, 2 a resin layer, 3 an element, and 4 a heat dissipation layer.

Claims (3)

絶縁基材内に素子が配置されている積層基板であって、
前記絶縁基材となる樹脂層と、
前記樹脂層間に配置されている素子と、
前記素子に接触して設けられているとともに、少なくとも1つの端部が前記積層基板の側面に露出している金属製の放熱層と、を備え、
前記放熱層は、前記積層基板の側面に露出している端部の側面部分が積層方向に沿って形成されているとともに、前記側面部分が当該放熱層の下方に配置されている前記樹脂層の端部よりも内側に位置していて、積層方向における上段側が相対的に小さくなる段差を形成しており、当該段差の部分において露出している前記側面部分がフィレットによって覆われている積層基板。
A laminated substrate in which an element is arranged in an insulating base material,
a resin layer that serves as the insulating base material;
an element disposed between the resin layers;
a metal heat dissipation layer provided in contact with the element and having at least one end exposed to a side surface of the laminated substrate ;
The heat-dissipating layer has a side portion of the end portion exposed on the side surface of the laminated substrate formed along the stacking direction, and the side portion of the resin layer is arranged below the heat-dissipating layer. 1. A laminated substrate positioned inside an end portion, forming a step that is relatively small on the upper side in the lamination direction, and the side portion exposed at the portion of the step is covered with a fillet .
前記放熱層は、露出している端部が当該放熱層の上方に配置されている前記樹脂層の端部よりも外側に位置し、当該露出している端部の上面部分が部分的に露出しており、積層方向における上段側が相対的に小さくなる階段状の段差を形成していて、当該段差の部分において露出している前記上面部分および前記側面部分の双方がフィレットによって覆われている請求項1記載の積層基板。The exposed end portion of the heat dissipation layer is positioned outside the end portion of the resin layer disposed above the heat dissipation layer, and the upper surface portion of the exposed end portion is partially exposed. and forming a stepped step whose upper side in the stacking direction is relatively smaller, and both the upper surface portion and the side portion exposed at the stepped portion are covered with fillets. Item 2. The laminated substrate according to item 1. 前記放熱層は、前記積層基板の側面に露出している端部の前記側面部分が、当該積層基板の積層方向に対して傾斜した傾斜面に形成されている請求項1または2記載の積層基板。3. The laminated substrate according to claim 1, wherein the side surface portion of the end portion of the heat dissipation layer exposed on the side surface of the laminated substrate is formed on an inclined surface inclined with respect to the lamination direction of the laminated substrate. .
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