JP7142506B2 - Glass substrate manufacturing method and glass substrate manufacturing apparatus - Google Patents
Glass substrate manufacturing method and glass substrate manufacturing apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- JP7142506B2 JP7142506B2 JP2018133489A JP2018133489A JP7142506B2 JP 7142506 B2 JP7142506 B2 JP 7142506B2 JP 2018133489 A JP2018133489 A JP 2018133489A JP 2018133489 A JP2018133489 A JP 2018133489A JP 7142506 B2 JP7142506 B2 JP 7142506B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- clarification
- fining
- tank
- glass
- vent pipe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Description
本発明は、ガラス基板の製造方法、及びガラス基板製造装置に関する。 The present invention relates to a glass substrate manufacturing method and a glass substrate manufacturing apparatus.
清澄剤を用いて熔融ガラスを清澄するために、清澄槽の清澄管内の熔融ガラスを加熱し、熔融ガラスに含まれる清澄剤の脱泡作用を促進させることにより、熔融ガラス内で気泡を浮上させ、清澄管内の気相空間に気泡内のガスを放出させることが行われている。熔融ガラスの加熱は、例えば、清澄管に電流を供給し、清澄管を加熱することで行われる。気相空間は、清澄管の内壁と清澄管内の熔融ガラスの液面とで囲まれた空間である。清澄管の構成材料として、例えば、耐熱性に優れた白金族金属からなる材料が知られている(例えば、特許文献1参照)。 In order to refine the glass melt using the fining agent, the glass melt is heated in the fining tube of the fining tank to accelerate the defoaming action of the fining agent contained in the glass melt, thereby causing air bubbles to float in the glass melt. , the gas in the bubbles is released into the gas phase space in the clarification tube. Heating of the molten glass is performed, for example, by supplying an electric current to the clarification tube to heat the clarification tube. The gas phase space is a space surrounded by the inner wall of the clarification tube and the liquid surface of the molten glass in the clarification tube. As a constituent material of the fining tube, for example, a material made of a platinum group metal having excellent heat resistance is known (see, for example, Patent Document 1).
清澄管の内壁のうち気相空間に接する部分は、熔融ガラスに接する部分と比べ、温度が高くなりやすい。さらに、気相空間は酸素を含んでいるため、気相空間に接する清澄管の部分に含まれる白金族金属は、酸化されて、清澄管の内壁から揮発し、蒸気として気相空間内に分散しやすい。気相空間に接する清澄管の部分には、気相空間内の気体を清澄管の外に排出するために、通気管が設けられている場合がある。しかし、通気管は、清澄管の外に突出するように設けられているため、清澄管と比べ温度が低くなりやすく、通気管内を流れる白金族金属の揮発成分は、通気管内で過飽和状態となって凝集する場合がある。 A portion of the inner wall of the fining tube that is in contact with the gas phase space tends to have a higher temperature than the portion that is in contact with the molten glass. Furthermore, since the gas phase space contains oxygen, the platinum group metal contained in the portion of the fining tube in contact with the gas phase space is oxidized, volatilized from the inner wall of the fining tube, and dispersed in the gas phase space as vapor. It's easy to do. A portion of the clarification tube in contact with the gas phase space may be provided with a vent pipe for discharging the gas in the gas phase space to the outside of the clarification tube. However, since the vent pipe is provided so as to protrude outside the fining pipe, the temperature tends to be lower than that of the fining pipe, and the volatile components of the platinum group metal flowing in the vent pipe become supersaturated inside the vent pipe. may clump together.
ところで、気相空間内の酸素濃度が高くなると、清澄管の構成材料である白金族金属から発生する白金族金属の揮発成分が多くなり、白金異物が発生しやすい。このため、酸素濃度計を用いて酸素濃度を測定し、酸素濃度が高くなった場合に、アルゴン、窒素等の不活性ガスを気相空間内に導入して気相空間内の酸素濃度を下げることが行われる場合がある。酸素濃度計は、例えば、通気管内を流れる気体を取り込む取込口を備える管状の部分(取込部)を有し、取り込み部の先端部は通気管内に配置されている。 By the way, when the oxygen concentration in the gas phase space becomes high, the amount of volatile components of platinum group metal generated from the platinum group metal, which is the constituent material of the clarification tube, increases, and platinum foreign substances are likely to be generated. Therefore, an oxygen concentration meter is used to measure the oxygen concentration, and when the oxygen concentration becomes high, an inert gas such as argon or nitrogen is introduced into the gas phase space to lower the oxygen concentration in the gas phase space. things may be done. The oximeter has, for example, a tubular portion (intake portion) having an intake port for taking in gas flowing through the vent pipe, and the tip of the intake portion is arranged in the vent pipe.
しかし、通気管内で白金族金属の揮発成分が凝集し、時間の経過とともに成長すると、通気管と酸素濃度計とが白金族金属の凝集物により電気的に接続し、導通してしまう場合があることがわかった。通気管と酸素濃度計とが導通すると、清澄管を流れる電流の一部が酸素濃度計に流れるため、清澄管を流れる電流量が突発的に変化してしまう。そして、このような清澄管を流れる電流量の突発的な変化に起因して、清澄管内の熔融ガラス中に気泡が発生する場合があることが明らかにされた。熔融ガラス中にこのような気泡が発生すると、清澄管内で熔融ガラスから放出されずに残存し、ガラス基板内に残って品質欠陥を招くおそれがある。 However, if the volatile components of the platinum group metal condense in the vent pipe and grow over time, the agglomerates of the platinum group metal may electrically connect the vent pipe and the oxygen concentration meter, resulting in electrical continuity. I understood it. When the vent tube and the oximeter are electrically connected, part of the current flowing through the clarifier tube flows into the oximeter, resulting in an abrupt change in the amount of current flowing through the clarifier tube. It has also been clarified that bubbles may be generated in the molten glass in the fining tube due to such a sudden change in the amount of current flowing through the fining tube. If such bubbles are generated in the glass melt, they may remain in the clarification tube without being released from the glass melt and remain in the glass substrate, resulting in quality defects.
本発明は、清澄槽に電流を供給して熔融ガラスの清澄を行う際に、清澄槽を流れる電流量の突発的な変化を抑制し、これに起因して熔融ガラスに気泡が発生することを抑制できるガラス基板の製造方法、及びガラス基板製造装置を提供することを目的とする。 The present invention suppresses an abrupt change in the amount of current flowing through the fining tank when fining glass melt by supplying current to the fining tank, thereby preventing the generation of air bubbles in the glass melt due to this. It aims at providing the manufacturing method of the glass substrate which can suppress and a glass substrate manufacturing apparatus.
本発明の一態様は、ガラス基板の製造方法であって、
ガラス原料を熔解して熔融ガラスをつくる熔解工程と、
清澄槽内で前記熔融ガラスの液面の上方に気相空間を形成し、前記熔融ガラスの清澄を行う清澄工程と、を備え、
前記清澄槽は、前記気相空間と接し、白金族金属を含む材料から構成された内壁を有し、
前記清澄槽には、
前記気相空間と前記清澄槽の外部とを連通する通気管と、
前記通気管内を流れる気体の一部を取り込む取込口を有する先端部を前記通気管内に備え、取り込んだ気体の酸素濃度を測定する酸素濃度計と、が設けられ、
前記清澄工程では、前記清澄槽に電流を流して前記清澄槽内の前記熔融ガラスを加熱し、前記内壁から揮発して前記通気管内で凝集した白金族金属を介して前記通気管と前記先端部とが電気的に接続した状態で、前記清澄槽に供給された電流のうち前記通気管から前記酸素濃度計に流れた電流を前記清澄槽に流す、ことを特徴とする。
One aspect of the present invention is a method for manufacturing a glass substrate, comprising:
a melting step of melting glass raw materials to form molten glass;
A fining step of forming a gas phase space above the liquid surface of the molten glass in a fining tank and fining the molten glass,
The clarification tank has an inner wall in contact with the gas phase space and made of a material containing a platinum group metal,
In the clarification tank,
a vent pipe communicating between the gas phase space and the outside of the clarification tank;
an oxygen concentration meter that is provided in the vent pipe with a tip portion having an intake port that takes in a part of the gas flowing in the vent pipe and measures the oxygen concentration of the taken gas,
In the fining step, an electric current is passed through the fining tank to heat the molten glass in the fining tank, and the platinum group metal volatilized from the inner wall and aggregated in the vent pipe passes through the vent pipe and the tip. are electrically connected to each other, the current supplied to the clarification tank and flowing from the vent tube to the oxygen concentration meter is passed through the clarification tank.
前記清澄槽の周りに、前記清澄槽を囲むように断熱部材が配置され、
前記断熱部材は、金属製の枠部材により前記断熱部材の外側から支持され、
前記酸素濃度計は、前記枠部材に対して絶縁されていることが好ましい。
A heat insulating member is arranged around the clarification tank so as to surround the clarification tank,
The heat insulating member is supported from the outside of the heat insulating member by a metal frame member,
Preferably, the oximeter is insulated from the frame member.
前記酸素濃度計は、
前記取込口から取り込んだ気体の酸素濃度を測定する測定部と、
前記取込口から前記測定部に向かって延び、前記先端部を有する管状の取込部と、を有し、
前記酸素濃度計に流れた電流は、前記取込部から前記清澄槽に戻されることが好ましい。
The oxygen concentration meter is
a measuring unit that measures the oxygen concentration of the gas taken in from the intake;
a tubular intake portion extending from the intake port toward the measurement portion and having the tip portion;
It is preferred that the current flowing through the oximeter is returned from the intake to the clarification tank.
本発明のさらに別の一態様は、ガラス基板製造装置であって、
ガラス原料を熔解して熔融ガラスをつくる熔解装置と、
清澄槽を有し、前記清澄槽内で前記熔融ガラスの液面の上方に気相空間を形成し、前記熔融ガラスの清澄を行う清澄装置と、を備え、
前記清澄槽は、前記気相空間と接し、白金族金属を含む材料から構成された内壁を有し、電流が供給されることにより前記清澄槽内の前記熔融ガラスを加熱し、
前記清澄装置は、さらに、
前記気相空間と前記清澄槽の外部とを連通する通気管と、
前記通気管内を流れる気体の一部を取り込む取込口を有する先端部を前記通気管内に備え、取り込んだ気体の酸素濃度を測定する酸素濃度計と、
前記酸素濃度計と前記清澄槽とを接続する導電部材と、を有し、
前記清澄装置は、前記内壁から揮発して前記通気管内で凝集した白金族金属を介して前記通気管と前記先端部とが電気的に接続した状態で、前記導電部材を用いて、前記清澄槽に供給された電流のうち前記通気管から前記酸素濃度計に流れた電流を前記清澄槽に流す、ことを特徴とする。
Yet another aspect of the present invention is a glass substrate manufacturing apparatus,
a melting device that melts glass raw materials to produce molten glass;
a clarification device that has a clarification tank, forms a gas phase space above the liquid surface of the molten glass in the clarification tank, and performs clarification of the molten glass;
The fining tank is in contact with the gas phase space and has an inner wall made of a material containing a platinum group metal, and is supplied with an electric current to heat the molten glass in the fining tank,
The clarification device further
a vent pipe communicating between the gas phase space and the outside of the clarification tank;
an oximeter that measures the oxygen concentration of the gas taken in, the tip portion having an intake port for taking in part of the gas flowing through the vent pipe, and
a conductive member that connects the oxygen concentration meter and the clarification tank;
The fining device uses the conductive member in a state in which the vent pipe and the tip are electrically connected via the platinum group metal that has volatilized from the inner wall and agglomerated in the vent pipe, and the fining tank out of the current supplied to the vent pipe, the current flowing from the vent tube to the oxygen concentration meter is passed through the clarification tank.
本発明によれば、清澄槽に電流を供給して熔融ガラスの清澄を行う際に、清澄槽を流れる電流量の突発的な変化を抑制し、これに起因して熔融ガラスに気泡が発生することを抑制できる。 According to the present invention, when current is supplied to the fining tank to refine the glass melt, a sudden change in the amount of current flowing through the fining tank is suppressed, resulting in the generation of bubbles in the glass melt. can be suppressed.
以下、本発明のガラス基板の製造方法およびガラス基板製造装置について説明する。
(ガラス基板の製造方法の全体概要)
図1は、本実施形態のガラス基板の製造方法の工程の一例を示す図である。本実施形態には、後述する種々の実施形態が含まれる。ガラス基板の製造方法は、熔解工程(ST1)、清澄工程(ST2)、均質化工程(ST3)、供給工程(ST4)、成形工程(ST5)、徐冷工程(ST6)、および、切断工程(ST7)を主に有する。この他に、研削工程、研磨工程、洗浄工程、検査工程、梱包工程等を有してもよい。製造されたガラス基板は、必要に応じて梱包工程で積層され、納入先の業者に搬送される。
Hereinafter, the method for manufacturing a glass substrate and the apparatus for manufacturing a glass substrate according to the present invention will be described.
(Overview of the method for manufacturing a glass substrate)
FIG. 1 is a diagram showing an example of steps of a method for manufacturing a glass substrate according to this embodiment. This embodiment includes various embodiments described later. The method for manufacturing a glass substrate includes a melting step (ST1), a clarification step (ST2), a homogenization step (ST3), a supply step (ST4), a forming step (ST5), a slow cooling step (ST6), and a cutting step ( ST7). In addition, it may include a grinding process, a polishing process, a cleaning process, an inspection process, a packing process, and the like. The manufactured glass substrates are laminated in a packing process as required, and transported to a delivery destination company.
熔解工程(ST1)では、ガラス原料を加熱することにより熔融ガラスを作る。
清澄工程(ST2)では、熔融ガラスが昇温されることにより、熔融ガラス中に含まれる酸素、CO2あるいはSO2を含んだ泡が発生する。この泡が熔融ガラス中に含まれる清澄剤(酸化スズ等)の還元反応により生じた酸素を吸収して成長し、熔融ガラスの液面に浮上して放出される。その後、清澄工程(ST2)では、熔融ガラスの温度を低下させることにより、清澄剤の還元反応により得られた還元物質が酸化反応をする。これにより、熔融ガラスに残存する泡中の酸素等のガス成分が熔融ガラス中に再吸収されて、泡が消滅する。清澄剤による酸化反応及び還元反応は、熔融ガラスの温度を制御することにより行われる。清澄工程(ST2)は、熔融ガラスを清澄槽内に流しながら行われる。
なお、清澄工程(ST2)では、熔融ガラスに存在する泡を減圧雰囲気で成長させて脱泡させる減圧脱泡方式を用いることもできる。減圧脱泡方式は、清澄剤を用いない点で有効である。しかし、減圧脱泡方式は装置が複雑化及び大型化する。このため、清澄剤を用い、熔融ガラス温度を上昇させる清澄方法を採用することが好ましい。
In the melting step (ST1), molten glass is made by heating glass raw materials.
In the clarification step (ST2), the glass melt is heated to generate bubbles containing oxygen, CO 2 or SO 2 contained in the glass melt. These bubbles grow by absorbing oxygen generated by the reduction reaction of the refining agent (such as tin oxide) contained in the molten glass, rise to the liquid surface of the molten glass, and are released. After that, in the clarification step (ST2), the temperature of the molten glass is lowered, whereby the reducing substance obtained by the reduction reaction of the clarifier undergoes an oxidation reaction. As a result, gas components such as oxygen in the bubbles remaining in the glass melt are reabsorbed into the glass melt, and the bubbles disappear. The oxidation reaction and reduction reaction by the refining agent are carried out by controlling the temperature of the molten glass. The clarification step (ST2) is performed while pouring molten glass into the clarification tank.
In addition, in the clarification step (ST2), a vacuum degassing method may be used in which bubbles existing in the molten glass are grown in a depressurized atmosphere and degassed. The vacuum defoaming method is effective in that it does not use a clarifier. However, the vacuum degassing method requires a complicated and large-sized apparatus. Therefore, it is preferable to employ a fining method in which a fining agent is used to increase the temperature of the molten glass.
均質化工程(ST3)では、スターラを用いて熔融ガラスを撹拌することにより、ガラス成分の均質化を行う。これにより、脈理等の原因であるガラスの組成ムラを低減することができる。均質化工程は、後述する撹拌槽において行われる。
供給工程(ST4)では、撹拌された熔融ガラスが成形装置に供給される。
In the homogenization step (ST3), the glass components are homogenized by stirring the molten glass using a stirrer. As a result, uneven composition of the glass, which causes striae and the like, can be reduced. A homogenization process is performed in the stirring tank mentioned later.
In the supply step (ST4), the stirred molten glass is supplied to the molding device.
成形工程(ST5)及び徐冷工程(ST6)は、成形装置で行われる。
成形工程(ST5)では、熔融ガラスをシートガラスに成形し、シートガラスの流れを作る。成形には、オーバーフローダウンドロー法が用いられる。
徐冷工程(ST6)では、成形されて流れるシートガラスが所望の厚さになり、内部歪が生じないように、さらに、反りが生じないように冷却される。
切断工程(ST7)では、徐冷後のシートガラスを所定の長さに切断することで、板状のガラス基板を得る。切断されたガラス基板はさらに、所定のサイズに切断され、目標サイズのガラス基板が作られる。
The forming step (ST5) and the slow cooling step (ST6) are performed in a forming apparatus.
In the forming step (ST5), the molten glass is formed into sheet glass to create a sheet glass flow. For molding, an overflow down-draw method is used.
In the slow cooling step (ST6), the formed and flowing sheet glass has a desired thickness and is cooled so as not to cause internal strain and warp.
In the cutting step (ST7), a sheet glass substrate is obtained by cutting the slowly cooled sheet glass into a predetermined length. The cut glass substrate is further cut into a predetermined size to produce a glass substrate of a target size.
図2は、本実施形態における熔解工程(ST1)から切断工程(ST7)の各工程を行うガラス基板製造装置の概略図である。ガラス基板製造装置は、図2に示すように、主に熔融ガラス製造装置100と、成形装置200と、切断装置300と、を有する。熔融ガラス製造装置100は、熔解槽101と、清澄槽の本体である清澄管120を有する清澄装置102と、撹拌槽103と、移送管104、105と、ガラス供給管106と、を有する。
熔解槽101は、熔解装置の本体である。熔解装置は、熔解槽101のほか、図示されないバーナー等の加熱手段を有している。熔解槽101には清澄剤が添加されたガラス原料が投入され、熔解工程(ST1)が行われる。熔解槽101で熔融した熔融ガラスは、高温(例えば1300℃以上)に維持された状態で、移送管104を介して清澄管120に供給される。
清澄管120では、熔融ガラスMGの温度を調整して、清澄剤の酸化還元反応を利用して熔融ガラスの清澄工程(ST2)が行われる。具体的には、清澄管120内の熔融ガラスが昇温されることにより、熔融ガラス中に含まれる酸素、CO2あるいはSO2を含んだ泡が、清澄剤の還元反応により生じた酸素を吸収して成長し、熔融ガラスの液面に浮上して気相空間に放出される。気相空間は、熔融ガラスの液面と、清澄管120の内壁との間に形成されるように熔融ガラスを清澄管120内に流すことで形成される。その後、熔融ガラスの温度を低下させることにより、清澄剤の還元反応により得られた還元物質が酸化反応をする。これにより、熔融ガラスに残存する泡中の酸素等のガス成分が熔融ガラス中に再吸収されて、泡が消滅する。清澄後の熔融ガラスは、移送管105を介して撹拌槽103に供給される。
撹拌槽103では、撹拌子103aによって熔融ガラスが撹拌されて均質化工程(ST3)が行われる。撹拌槽103で均質化された熔融ガラスは、ガラス供給管106を介して成形装置200に供給される(供給工程ST4)。
成形装置200では、オーバーフローダウンドロー法により、熔融ガラスからシートガラスSGが成形され(成形工程ST5)、徐冷される(徐冷工程ST6)。
切断装置300では、シートガラスSGから切り出された板状のガラス基板が形成される(切断工程ST7)。
FIG. 2 is a schematic diagram of a glass substrate manufacturing apparatus that performs each step from the melting step (ST1) to the cutting step (ST7) in this embodiment. The glass substrate manufacturing apparatus mainly includes a molten
The
In the
In the stirring
In the forming
In the
(清澄装置及び清澄工程)
次に、図3及び図4を参照して、清澄装置102について説明する。図3は、清澄装置102の概略斜視図であり、図4は、清澄管120の長手方向と直交する方向に沿った清澄装置102の断面図である。
清澄装置102は、清澄槽と、電源装置122と、制御装置123と、通気管127と、酸素濃度計140と、を有している。
(Clarification device and clarification process)
Next, the
The
清澄槽は、清澄槽の本体である清澄管120と、電極121a,121b,121c(図2参照)と、温度計測装置130と、を有している。
清澄管120、電極121a,121b,121c、及び通気管127は、白金族金属から構成されている。なお、本明細書において、「白金族金属」は、白金族元素からなる金属を意味し、単一の白金族元素からなる金属のみならず白金族元素の合金を含む用語として使用する。ここで、白金族元素とは、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)、ルテニウム(Ru)、オスミウム(Os)、イリジウム(Ir)の6元素を指す。白金族金属は高価ではあるが、融点が高く、熔融ガラスに対する耐食性にも優れている。
なお、本実施形態では、清澄管120が白金族金属から構成されている場合を具体例として説明するが、清澄管120の一部が、耐火物や他の金属などから構成されていてもよい。
The clarification tank has a
The fining
In the present embodiment, a case where the
電極121a,121b,121cは、図2に示す例において、清澄管120の長手方向(図3の左右方向)の両端、及びその間の位置、の清澄管120の外周側面に設けられている。なお、図3において、電極121bの図示は省略されている。
電極121a,121b,121cは、電源装置122に接続されている。電極121a,121bの間、及び電極121b,121cの間のそれぞれに電圧が印加されることにより、電極121a,121bの間、及び電極121b,121cの間の清澄管120の各部分に電流が流れて、清澄管120が通電加熱される。これにより、清澄管120内の熔融ガラスが加熱される。
例えば電極121a,121bの間では、脱泡処理が促進される温度に加熱される。具体的には、清澄管120の最高温度が例えば、1600℃~1750℃、より好ましくは1630℃~1750℃となるように加熱され、移送管104から供給された熔融ガラスの最高温度は、脱泡に適した温度、例えば、1600℃~1720℃、より好ましくは1620℃~1720℃に加熱される。
例えば電極121b,121cの間では、吸収処理が促進される温度に加熱される。具体的には、清澄管120の最高温度が例えば、1590℃~1670℃、より好ましくは1620℃~1670℃となるよう加熱され、清澄管120内を流れる熔融ガラスの最高温度は、吸収に適した温度1590℃~1640℃、より好ましくは1610℃~1640℃に加熱される。
In the example shown in FIG. 2, the
For example, the space between the
For example, the
温度計測装置(熱電対等)130は、例えば、電極121a,121b,121cと清澄管120との接続部分に設けられている。なお、電極121a,121b,121cと清澄管120とは、例えば溶接により接続されている。温度計測装置130は、計測結果を、制御装置123に出力する。
制御装置123は、電源装置122と接続されている。制御装置123は、電源装置122が清澄管120に供給する電流量を制御し、清澄管120を通過する熔融ガラスの温度を制御する。制御装置123は、CPU、メモリ等を含むコンピュータである。また、制御装置123は、温度計測装置130、及び酸素濃度計140のそれぞれとも接続されている。
A temperature measuring device (thermocouple or the like) 130 is provided, for example, at a connecting portion between the
The
通気管127は、清澄管120内の気相空間120a(図4参照)と清澄管120の外部(大気)とを連通する。気相空間120aと接する清澄管120の壁部の頂部には、壁部を貫通する図示されない孔が設けられている。通気管127は、壁部の孔の上方に配置され、例えば、鉛直方向上方に向かって直線状に延びる形状を有している。図3及び図4に示す例において、清澄管120と通気管127とは隙間をあけて配置されている。図3及び図4に示す例では、後述する断熱部材150が、清澄管120との間に隙間をあけて配置されることで囲み空間128が形成されている。通気管127の下端と、清澄管120の壁部の孔は、囲み空間128を介して接続されている。なお、通気管127の下端は、清澄管120の頂部に接続され、壁部の孔を介して清澄管120に対して開口していてもよい。通気管127は、清澄管120の長手方向に沿った、電極121aと電極121bの間、あるいは、電極121bと電極121cの間の位置に設けられていることが好ましい。
The
酸素濃度計140は、図4に示すように、取込部141と、測定部145と、を有している。
取込部141は、通気管127から測定部145に向かって延びる管状の部分である。通気管127側に位置する取込部141の端部(先端部)142は、取込口142a(図6参照)を有し、通気管127の大気側の端(上端)から通気管127内を下方に延びるよう配置されている。先端部142は、通気管127の内壁から離間して、通気管127が延びる方向と略平行な方向に延びている。取込部141は、導電性を有する金属製の管から構成される。
測定部145は、取込口142aから取り込まれた気体の酸素濃度を測定する。測定部145は、ジルコニア式のセンサを備え、気体中の酸素を検出する。測定部145は、酸素濃度の計測結果を、制御装置123に出力する。
The
The take-in
The
(第1の実施形態)
次に、本実施形態の第1の実施形態について説明する。
第1の実施形態において、清澄装置102は、さらに、図4に示すように、導電部材170を有している。導電部材170は、酸素濃度計140と清澄管120とを電気的に接続する部材であり、導電性材料からなる部材(例えば導線)である。導電性材料とは、20℃での導電率が1×106S/m以上である材質からなる材料をいう。導電部材170は、具体的に、酸素濃度計140の先端部142、及び清澄管120の外周側面のそれぞれと接続されている。
(First embodiment)
Next, a first embodiment of this embodiment will be described.
In the first embodiment, the
第1の実施形態の清澄工程(ST2)では、清澄管120の内壁から揮発して通気管127内で凝集した白金族金属を介して通気管127と酸素濃度計140とが電気的に接続した状態で、清澄管120に供給された電流のうち通気管127から酸素濃度計140に流れた電流を清澄管120に流す。清澄装置102は、具体的に、白金族金属の凝集物を介して通気管127と酸素濃度計140とが導通したとき、導電部材170を用いて、酸素濃度計140に流れた電流を清澄管120に流す。
上述したように、通気管127は、清澄管120と比べ温度が低くなりやすく、気相空間120aから通気管127内に流れた白金族金属の揮発成分は、通気管127内で過飽和状態となって凝集する場合がある。本発明者の検討によれば、図6に示すように、通気管127の内壁に析出した白金族金属の凝集物Pが、時間の経過とともに成長し、酸素濃度計140の先端部142に達することで、通気管127と酸素濃度計140とが導通する場合があることがわかった。図6は、通気管127と酸素濃度計140との導通を説明する図である。通気管127と酸素濃度計140とが導通すると、清澄管120を流れる電流の一部が、通気管127に流れ、図6に矢印で示した経路に沿って、さらに凝集物Pを通って酸素濃度計140に流れるため、清澄管120を流れる電流量が突発的に変化してしまう。清澄管120から通気管127には、例えば断熱部材150を通って電流が流れる。このような電流量の突発的な変化が起きると、制御装置123による電流量の制御が困難となり、清澄管120内の熔融ガラスの温度が大きく変動する。このことに起因して、清澄管内の熔融ガラス中に気泡が発生する場合があることが明らかにされた。熔融ガラス中にこのような気泡が発生すると、清澄管120内で熔融ガラスから放出されずに残存し、ガラス基板内に残って品質欠陥を招くおそれがある。
第1の実施形態によれば、通気管127と酸素濃度計140の先端部142とが導通すると、先端部142に流れた電流は導電部材170を通って清澄管120に戻るので、清澄管120を流れる電流が外部に漏れるのを抑えられる。このため、電流量の突発的な変化を抑えることができ、熔融ガラス中に気泡が発生することを抑制できる。
In the clarification step (ST2) of the first embodiment, the
As described above, the temperature of the
According to the first embodiment, when the
一実施形態によれば、清澄装置102は、図4及び図5に示す例のように、さらに、断熱部材150と、枠部材(フレーム)160と、を有している。図5は、断熱部材150及び枠部材160を示す外観斜視図である。
断熱部材150は、清澄管120の周りに、清澄管120を囲むように配置された部材である。断熱部材150は、複数の図示されない耐火レンガを有し、耐火レンガは、清澄管120を囲むよう積み上げられている。
枠部材160は、金属製の部材であり、導電性を有する。枠部材160は、断熱部材150を外側から支持し、清澄管120の周りに配置された耐火レンガが崩れないよう拘束する。図5に示す例の枠部材160は、耐火レンガを、清澄管120に向けて上下方向、及び左右方向(清澄管120の長手方向と直交する方向)に押し付けるように設けられている。枠部材160は、アースされている。
この実施形態において、酸素濃度計140の測定部145は、図4に示すように、断熱部材150及び枠部材160の外側に配置される。ここで、酸素濃度計140が枠部材160に支持されていると、通気管127と酸素濃度計140と導通して酸素濃度計140に流れた電流が、さらに枠部材160に流れてしまう。このため、酸素濃度計140は、枠部材160に対して絶縁されている。図4において、導電部材170は、枠部材160に対して紙面奥行方向に離間している。
導電部材170は、導電部材170を流れる電流が周辺の断熱部材150に漏れ出ないよう、樹脂等の絶縁性の高い材料で被覆されていることが好ましい。
According to one embodiment, the
The
The
In this embodiment, the
The
一実施形態によれば、導電部材170は、酸素濃度計140の取込部141と接続されていることが好ましい。これにより、通気管127と導通して酸素濃度計140に流れた電流は、取込部141から清澄管120に戻されるので、酸素濃度計140の測定部145に電流が流れることを抑制できる。
According to one embodiment,
(第2の実施形態)
次に、本実施形態の第2の実施形態について説明する。
第2の実施形態において、清澄装置102は、判断装置と、除去装置と、を有している。判断装置は、例えば、制御装置123が、白金族金属の凝集物Pを除去するタイミングを判断する判断を行うためのプログラムをメモリに読み出して実行することによって実現される。
(Second embodiment)
Next, a second embodiment of this embodiment will be described.
In a second embodiment, the
判断装置は、清澄管120の内壁から揮発して通気管127内で凝集した白金族金属を介して通気管127と先端部142とが電気的に接続する前に白金族金属の凝集物Pを除去するタイミングを判断(決定)する判断工程を行う。
上述したように、通気管127と酸素濃度計140とが導通すると、清澄管120を流れる電流の一部が、通気管127に流れ、さらに凝集物Pを通って酸素濃度計140に流れる。このことに起因して、熔融ガラスMGに気泡が発生する場合がある。第2の実施形態では、上述したように、白金族金属の凝集物Pを除去するタイミングが判断されるので、判断されたタイミングに従って凝集物Pの除去を行うことができ、通気管127と酸素濃度計140との導通を防ぐことができる。これにより、電流量の突発的な変化を抑えることができ、熔融ガラス中に気泡が発生することを抑制できる。
The judging device detects the aggregate P of the platinum group metal before the
As described above, when the
判断工程では、酸素濃度計140の測定結果に基づいて、凝集物Pを除去するタイミングを判断することが好ましい。気相空間内の気体の酸素濃度が高いと、通気管127内で白金族金属の揮発成分の凝集が起きやすいため、通気管127の内壁に析出した凝集物Pの成長が早く、通気管127と酸素濃度計140との導通が起きやすい。このため、上述したように、酸素濃度計140の測定結果に基づいて上記判断を行うことで、通気管127と酸素濃度計140との導通を防ぐことができる。具体的には、酸素濃度計140が測定した酸素濃度が許容濃度を超えたこと、あるいは、さらに許容濃度を超えた累積時間が許容時間を超えたこと、をもって凝集物Pを除去するタイミングであると判断する。酸素濃度の許容濃度は、例えば、5%以下、好ましくは1%以下である。許容濃度を超えた累積時間は、ガラス基板の製造方法を開始してから、あるいは、直近に行った凝集物Pの除去からの、酸素濃度が許容濃度を超えた時間の合計であり、例えば、8~48時間である。酸素濃度計140の測定結果として、例えば、酸素濃度が1%を超えた時間の合計が、48時間以上となった場合、凝集物Pを除去するタイミングになったと判断して、凝集物Pの除去を行う。
また、判断工程では、凝集物Pを除去するタイミングとして将来のある時点を判断(決定)することを行ってもよい。例えば清澄工程(ST2)の条件が一定である場合は、通常、気相空間内の気体の酸素濃度の変化量は少ない。このため、凝集物Pを除去するタイミングとして将来のある時点を判断することが可能である。この場合、酸素濃度計140の測定時点での酸素濃度、あるいは、直近の所定期間の間の酸素濃度の推移に基づいて、凝集物Pを除去するタイミングを判断することができる。
In the determination step, it is preferable to determine the timing for removing the aggregate P based on the measurement result of the
Further, in the judgment step, a certain point in the future may be judged (determined) as the timing for removing the aggregate P. For example, when the conditions of the clarification step (ST2) are constant, the amount of change in the oxygen concentration of the gas within the gas phase space is usually small. Therefore, it is possible to determine a certain point in the future as the timing for removing the aggregate P. In this case, the timing for removing the aggregates P can be determined based on the oxygen concentration at the time of measurement by the
除去装置は、判断工程で判断したタイミングに従って凝集物Pの除去を行う除去工程を行う。除去装置は、例えば、通気管127の大気側の端から凝集物Pの除去を吸い取る吸引装置(図示せず)である。吸引装置は、制御装置123に接続されており、制御装置123は、上述したように判断された凝集物Pを除去するタイミングに従って吸引装置を稼働し、凝集物Pの除去を行う。吸引を行いながら、器具を用いて、通気管127の内壁に析出した凝集物Pを削り取ることを行ってもよい。
The removal device performs a removal step of removing the aggregates P according to the timing determined in the determination step. The removal device is, for example, a suction device (not shown) that sucks removal of the aggregates P from the air-side end of the
第2の実施形態は、上記説明した第1の実施形態と組み合わせて、清澄装置102を構成し、あるいは、ガラス基板の製造方法を行うことができる。
The second embodiment can be combined with the above-described first embodiment to construct a
(ガラス基板)
本実施形態において製造されるガラス基板の大きさは、特に制限されないが、例えば縦寸法及び横寸法のそれぞれが、500mm~3500mm、1500mm~3500mm、1800~3500mm、2000mm~3500mmであり、2000mm~3500mmであることが好ましい。
ガラス基板の厚さは、例えば、0.1~1.1mmであり、より好ましくは0.75mm以下の極めて薄い矩形形状の板であり、例えば、0.55mm以下、さらには0.45mm以下の厚さがより好ましい。ガラス基板の厚さの下限値は、0.15mmが好ましく、0.25mmがより好ましい。
(glass substrate)
The size of the glass substrate manufactured in the present embodiment is not particularly limited, but for example, the vertical dimension and the horizontal dimension are respectively 500 mm to 3500 mm, 1500 mm to 3500 mm, 1800 to 3500 mm, 2000 mm to 3500 mm, and 2000 mm to 3500 mm. is preferably
The thickness of the glass substrate is, for example, 0.1 to 1.1 mm, and more preferably an extremely thin rectangular plate of 0.75 mm or less. Thickness is more preferred. The lower limit of the thickness of the glass substrate is preferably 0.15 mm, more preferably 0.25 mm.
<ガラス組成>
このようなガラス基板として、以下のガラス組成のガラス基板が例示される。つまり、以下のガラス組成のガラス基板が製造されるように、熔融ガラスの原料が調合される。
SiO2 55~80モル%、
Al2O3 8~20モル%、
B2O3 0~12モル%、
RO 0~17モル%(ROはMgO、CaO、SrO及びBaOの合量)。
<Glass composition>
As such a glass substrate, glass substrates having the following glass compositions are exemplified. That is, the raw materials for the molten glass are mixed so as to produce a glass substrate having the following glass composition.
SiO 2 55-80 mol %,
Al 2 O 3 8-20 mol %,
B 2 O 3 0-12 mol %,
RO 0 to 17 mol % (RO is the total amount of MgO, CaO, SrO and BaO).
SiO2は60~75モル%、さらには、63~72モル%であることが、熱収縮率を小さくするという観点から好ましい。
ROのうち、MgOが0~10モル%、CaOが0~15モル%、SrOが0~10%、BaOが0~10%であることが好ましい。
SiO 2 is preferably 60 to 75 mol %, more preferably 63 to 72 mol %, from the viewpoint of reducing thermal shrinkage.
Among RO, it is preferable that MgO is 0 to 10 mol %, CaO is 0 to 15 mol %, SrO is 0 to 10 mol %, and BaO is 0 to 10 mol %.
また、SiO2、Al2O3、B2O3、及びROを少なくとも含み、モル比((2×SiO2)+Al2O3)/((2×B2O3)+RO)は4.5以上であるガラスであってもよい。また、MgO、CaO、SrO、及びBaOの少なくともいずれか含み、モル比(BaO+SrO)/ROは0.1以上であることが好ましい。 Further, it contains at least SiO2 , Al2O3 , B2O3 , and RO, and the molar ratio (( 2 * SiO2 ) + Al2O3 )/(( 2 * B2O3 )+RO) is 4. It may be glass that is 5 or more. Moreover, it preferably contains at least one of MgO, CaO, SrO, and BaO, and the molar ratio (BaO+SrO)/RO is 0.1 or more.
また、モル%表示のB2O3の含有率の2倍とモル%表示のROの含有率の合計は、30モル%以下、好ましくは10~30モル%であることが好ましい。
また、上記ガラス組成のガラス基板におけるアルカリ金属酸化物の含有率は、0モル%以上0.4モル%以下であってもよい。
また、ガラス中で価数変動する金属の酸化物(酸化スズ、酸化鉄)を合計で0.05~1.5モル%含み、As2O3、Sb2O3及びPbOを実質的に含まないということは必須ではなく任意である。
The sum of twice the B 2 O 3 content expressed in mol % and the RO content expressed in mol % is preferably 30 mol % or less, preferably 10 to 30 mol %.
Moreover, the content of the alkali metal oxide in the glass substrate having the above glass composition may be 0 mol % or more and 0.4 mol % or less.
In addition, the glass contains 0.05 to 1.5 mol% of oxides of metals (tin oxide, iron oxide) whose valence changes in the glass, and substantially contains As 2 O 3 , Sb 2 O 3 and PbO. Absence is optional, not required.
また、本実施形態によって製造されるガラス基板には、無アルカリのボロアルミノシリケートガラスあるいはアルカリ微量含有ガラスが用いられることが好ましい。
本実施形態によって製造されるガラス基板は、例えば以下の組成を含む無アルカリガラスからなることが好ましい。
本実施形態によって製造されるガラス基板のガラス組成として、例えば、次が挙げられる(質量%表示)。
SiO2:50~70%(好ましくは、57~64%)、Al2O3:5~25%(好ましくは、12~18%)、B2O3:0~15%(好ましくは、6~13%)を含み、さらに、次に示す組成を任意に含んでもよい。任意で含む成分として、MgO:0~10%(好ましくは、0.5~4%)、CaO:0~20%(好ましくは、3~7%)、SrO:0~20%(好ましくは、0.5~8%、より好ましくは3~7%)、BaO:0~10%(好ましくは、0~3%、より好ましくは0~1%)、ZrO2:0~10%(好ましくは、0~4%,より好ましくは0~1%)が挙げられる。さらに、R’2O:0.10%を超え2.0%以下(ただし、R’はLi、NaおよびKから選ばれる少なくとも1種である)を含むことがより好ましい。
Further, it is preferable that alkali-free boroaluminosilicate glass or glass containing a trace amount of alkali is used for the glass substrate manufactured according to the present embodiment.
The glass substrate manufactured according to this embodiment is preferably made of alkali-free glass containing, for example, the following composition.
Examples of the glass composition of the glass substrate manufactured according to the present embodiment include the following (expressed in mass %).
SiO 2 : 50-70% (preferably 57-64%), Al 2 O 3 : 5-25% (preferably 12-18%), B 2 O 3 : 0-15% (preferably 6 ~13%), and may optionally contain the following composition: As optional components, MgO: 0 to 10% (preferably 0.5 to 4%), CaO: 0 to 20% (preferably 3 to 7%), SrO: 0 to 20% (preferably, 0.5-8%, more preferably 3-7%), BaO: 0-10% (preferably 0-3%, more preferably 0-1%), ZrO 2 : 0-10% (preferably , 0 to 4%, more preferably 0 to 1%). Furthermore, it is more preferable to contain R' 2 O: more than 0.10% and 2.0% or less (where R' is at least one selected from Li, Na and K).
或いは、SiO2:50~70%(好ましくは、55~65%)、B2O3:0~10%(好ましくは、0~5%、1.3~5%)、Al2O3:10~25%(好ましくは、16~22%)、MgO:0~10%(好ましくは、0.5~4%)、CaO:0~20%(好ましくは、2~10%、2~6%)、SrO:0~20%(好ましくは、0~4%、0.4~3%)、BaO:0~15%(好ましくは、4~11%)、RO:5~20%(好ましくは、8~20%、14~19%),を含有することが好ましい(ただし、RはMg、Ca、SrおよびBaから選ばれる少なくとも1種である)。さらに、R’2Oが0.10%を超え2.0%以下(ただし、R’はLi、NaおよびKから選ばれる少なくとも1種である)を含むことがより好ましい。 Alternatively, SiO 2 : 50-70% (preferably 55-65%), B 2 O 3 : 0-10% (preferably 0-5%, 1.3-5%), Al 2 O 3 : 10-25% (preferably 16-22%), MgO: 0-10% (preferably 0.5-4%), CaO: 0-20% (preferably 2-10%, 2-6 %), SrO: 0-20% (preferably 0-4%, 0.4-3%), BaO: 0-15% (preferably 4-11%), RO: 5-20% (preferably is 8 to 20%, 14 to 19%) (provided that R is at least one selected from Mg, Ca, Sr and Ba). Furthermore, it is more preferable to contain R' 2 O more than 0.10% and 2.0% or less (where R' is at least one selected from Li, Na and K).
<ヤング率>
本実施形態によって製造されるガラス基板のヤング率として、例えば、72GPa以上が好ましく、75GPa以上がより好ましく、77GPa以上がより更に好ましい。
<Young's modulus>
The Young's modulus of the glass substrate manufactured according to the present embodiment is preferably, for example, 72 GPa or higher, more preferably 75 GPa or higher, and even more preferably 77 GPa or higher.
<歪点>
本実施形態によって製造されるガラス基板の歪率として、例えば、650℃以上が好ましく、680℃以上がより好ましく、700℃以上、720℃以上が更により好ましい。
<Strain point>
The strain rate of the glass substrate manufactured according to the present embodiment is preferably, for example, 650° C. or higher, more preferably 680° C. or higher, and even more preferably 700° C. or higher, and even more preferably 720° C. or higher.
<熱収縮率>
本実施形態によって製造されるガラス基板の熱収縮率は、例えば、50ppm以下であり、好ましくは40ppm以下、より好ましくは30ppm以下、更により好ましくは20ppm以下である。熱収縮率を低減する前のガラス基板の熱収縮率の範囲としては、10ppm~40ppmが好ましい。
<Heat shrinkage rate>
The thermal shrinkage rate of the glass substrate manufactured according to the present embodiment is, for example, 50 ppm or less, preferably 40 ppm or less, more preferably 30 ppm or less, and even more preferably 20 ppm or less. The range of thermal shrinkage of the glass substrate before the thermal shrinkage is reduced is preferably 10 ppm to 40 ppm.
本実施形態で製造されるガラス基板は、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板、カーブドパネルディスプレイ用ガラス基板を含むディスプレイ用ガラス基板として好適であり、例えば、液晶ディスプレイ用ガラス基板あるいは、有機ELディスプレイ用のガラス基板として好適である。さらに、本実施形態で製造されるガラス基板は、高精細ディスプレイに用いられる、IGZO(インジウム、ガリウム、亜鉛、酸素)等の酸化物半導体を使用した酸化物半導体ディスプレイ用ガラス基板、及びLTPS(低温度ポリシリコン)半導体を使用したLTPSディスプレイ用ガラス基板に好適である。
また、本実施形態で製造されるガラス基板は、カバーガラス、磁気ディスク用ガラス、太陽電池用ガラス基板などにも適用することが可能である。
The glass substrate produced in this embodiment is suitable as a display glass substrate including a flat panel display glass substrate and a curved panel display glass substrate. It is suitable as a substrate. Furthermore, the glass substrates manufactured in the present embodiment are glass substrates for oxide semiconductor displays using oxide semiconductors such as IGZO (indium, gallium, zinc, and oxygen), and LTPS (low It is suitable for glass substrates for LTPS displays using (temperature polysilicon) semiconductors.
Further, the glass substrate manufactured in this embodiment can be applied to cover glass, magnetic disk glass, solar cell glass substrate, and the like.
以上、本発明のガラス基板製造装置およびガラス基板の製造方法について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。 Although the glass substrate manufacturing apparatus and the glass substrate manufacturing method of the present invention have been described in detail above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various improvements and modifications can be made without departing from the gist of the present invention. Of course you can.
100 熔融ガラス製造装置
101 熔解槽
102 清澄装置
103 撹拌槽
103a 撹拌子
104,105 移送管
106 ガラス供給管
120 清澄管(清澄槽の本体)
120a 気相空間
121a,121b,121c 電極
122 電源装置
123 制御装置
127 通気管
128 囲み空間
130 温度測定装置
140 酸素濃度計
150 断熱部材
160 枠部材
170 導通部材
200 成形装置
300 切断装置
MG 熔融ガラス
SG シートガラス
100 Glass
120a
Claims (4)
ガラス原料を熔解して熔融ガラスをつくる熔解工程と、
清澄槽内で前記熔融ガラスの液面の上方に気相空間を形成し、前記熔融ガラスの清澄を行う清澄工程と、を備え、
前記清澄槽は、前記気相空間と接し、白金族金属を含む材料から構成された内壁を有し、
前記清澄槽には、
前記気相空間と前記清澄槽の外部とを連通する通気管と、
前記通気管内を流れる気体の一部を取り込む取込口を有する先端部を前記通気管内に備え、取り込んだ気体の酸素濃度を測定する酸素濃度計と、が設けられ、
前記清澄工程では、前記清澄槽に電流を流して前記清澄槽内の前記熔融ガラスを加熱し、
前記内壁から揮発して前記通気管内で凝集した白金族金属を介して前記通気管と前記先端部とが電気的に接続した状態で、前記清澄槽に供給された電流のうち前記通気管から前記酸素濃度計に流れた電流を前記清澄槽に流す、ことを特徴とするガラス基板の製造方法。 A method for manufacturing a glass substrate,
a melting step of melting glass raw materials to form molten glass;
A fining step of forming a gas phase space above the liquid surface of the molten glass in a fining tank and fining the molten glass,
The clarification tank has an inner wall in contact with the gas phase space and made of a material containing a platinum group metal,
In the clarification tank,
a vent pipe communicating between the gas phase space and the outside of the clarification tank;
an oxygen concentration meter that is provided in the vent pipe with a tip portion having an intake port that takes in a part of the gas flowing in the vent pipe and measures the oxygen concentration of the taken gas,
In the fining step, an electric current is applied to the fining tank to heat the molten glass in the fining tank,
In a state in which the vent pipe and the tip portion are electrically connected via the platinum group metal volatilized from the inner wall and aggregated in the vent pipe, out of the current supplied to the clarification tank, the A method for producing a glass substrate, characterized in that a current flowing through an oxygen concentration meter is passed through the clarification tank.
前記断熱部材は、金属製の枠部材により前記断熱部材の外側から支持され、
前記酸素濃度計は、前記枠部材に対して絶縁されている、請求項1に記載のガラス基板の製造方法。 A heat insulating member is arranged around the clarification tank so as to surround the clarification tank,
The heat insulating member is supported from the outside of the heat insulating member by a metal frame member,
2. The method of manufacturing a glass substrate according to claim 1, wherein said oximeter is insulated from said frame member.
前記取込口から取り込んだ気体の酸素濃度を測定する測定部と、
前記取込口から前記測定部に向かって延び、前記先端部を有する管状の取込部と、を有し、
前記酸素濃度計に流れた電流は、前記取込部から前記清澄槽に戻される、請求項1または2に記載のガラス基板の製造方法。 The oxygen concentration meter is
a measuring unit that measures the oxygen concentration of the gas taken in from the intake;
a tubular intake portion extending from the intake port toward the measurement portion and having the tip portion;
3. The method of manufacturing a glass substrate according to claim 1, wherein the current that has flowed through said oxygen concentration meter is returned from said intake section to said clarification tank.
ガラス原料を熔解して熔融ガラスをつくる熔解装置と、a melting device that melts glass raw materials to produce molten glass;
清澄槽を有し、前記清澄槽内で前記熔融ガラスの液面の上方に気相空間を形成し、前記熔融ガラスの清澄を行う清澄装置と、を備え、a clarification device that has a clarification tank, forms a gas phase space above the liquid surface of the molten glass in the clarification tank, and performs clarification of the molten glass;
前記清澄槽は、前記気相空間と接し、白金族金属を含む材料から構成された内壁を有し、電流が供給されることにより前記清澄槽内の前記熔融ガラスを加熱し、The fining tank is in contact with the gas phase space and has an inner wall made of a material containing a platinum group metal, and is supplied with an electric current to heat the molten glass in the fining tank,
前記清澄装置は、さらに、The clarification device further
前記気相空間と前記清澄槽の外部とを連通する通気管と、a vent pipe communicating between the gas phase space and the outside of the clarification tank;
前記通気管内を流れる気体の一部を取り込む取込口を有する先端部を前記通気管内に備え、取り込んだ気体の酸素濃度を測定する酸素濃度計と、an oximeter that measures the oxygen concentration of the gas taken in, the tip portion having an intake port for taking in part of the gas flowing through the vent pipe, and
前記酸素濃度計と前記清澄槽とを接続する導電部材と、を有し、a conductive member that connects the oxygen concentration meter and the clarification tank;
前記清澄装置は、前記内壁から揮発して前記通気管内で凝集した白金族金属を介して前記通気管と前記先端部とが電気的に接続した状態で、前記導電部材を用いて、前記清澄槽に供給された電流のうち前記通気管から前記酸素濃度計に流れた電流を前記清澄槽に流す、ことを特徴とするガラス基板製造装置。The fining device uses the conductive member in a state in which the vent pipe and the tip are electrically connected via the platinum group metal that has volatilized from the inner wall and agglomerated in the vent pipe, and the fining tank a current supplied to the fining tank from the vent pipe to the oxygen concentration meter.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018133489A JP7142506B2 (en) | 2018-07-13 | 2018-07-13 | Glass substrate manufacturing method and glass substrate manufacturing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018133489A JP7142506B2 (en) | 2018-07-13 | 2018-07-13 | Glass substrate manufacturing method and glass substrate manufacturing apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020011855A JP2020011855A (en) | 2020-01-23 |
JP7142506B2 true JP7142506B2 (en) | 2022-09-27 |
Family
ID=69170853
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018133489A Active JP7142506B2 (en) | 2018-07-13 | 2018-07-13 | Glass substrate manufacturing method and glass substrate manufacturing apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7142506B2 (en) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010147188A1 (en) | 2009-06-19 | 2010-12-23 | 旭硝子株式会社 | Vacuum degassing device for molten glass, and method for producing molten glass using same |
JP2014047124A (en) | 2012-09-04 | 2014-03-17 | Avanstrate Inc | Glass substrate manufacturing method, and glass substrate manufacturing device |
JP2016034894A (en) | 2014-07-31 | 2016-03-17 | AvanStrate株式会社 | Method and apparatus for manufacturing glass substrate |
JP2016190753A (en) | 2015-03-31 | 2016-11-10 | AvanStrate株式会社 | Glass substrate manufacturing method, and glass substrate manufacturing apparatus |
JP2017178713A (en) | 2016-03-31 | 2017-10-05 | AvanStrate株式会社 | Method and apparatus for manufacturing glass substrate |
-
2018
- 2018-07-13 JP JP2018133489A patent/JP7142506B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010147188A1 (en) | 2009-06-19 | 2010-12-23 | 旭硝子株式会社 | Vacuum degassing device for molten glass, and method for producing molten glass using same |
JP2014047124A (en) | 2012-09-04 | 2014-03-17 | Avanstrate Inc | Glass substrate manufacturing method, and glass substrate manufacturing device |
JP2016034894A (en) | 2014-07-31 | 2016-03-17 | AvanStrate株式会社 | Method and apparatus for manufacturing glass substrate |
JP2016190753A (en) | 2015-03-31 | 2016-11-10 | AvanStrate株式会社 | Glass substrate manufacturing method, and glass substrate manufacturing apparatus |
JP2017178713A (en) | 2016-03-31 | 2017-10-05 | AvanStrate株式会社 | Method and apparatus for manufacturing glass substrate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020011855A (en) | 2020-01-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5921730B2 (en) | Glass substrate manufacturing method and glass substrate manufacturing apparatus | |
JP5769574B2 (en) | Manufacturing method of glass plate | |
KR101627484B1 (en) | Method for manufacturing glass substrate and apparatus for manufacturing glass substrate | |
TW201544477A (en) | Method for manufacturing glass substrate and device for manufacturing glass substrate | |
TWI490175B (en) | Glass substrate manufacturing method and manufacturing device | |
JP6722096B2 (en) | Glass substrate and glass substrate laminate | |
CN110114318A (en) | The manufacturing method of alkali-free glass substrate | |
JP2017178714A (en) | Method and apparatus for manufacturing glass substrate | |
JP6847620B2 (en) | Glass substrate manufacturing method and glass substrate manufacturing equipment | |
JP6563230B2 (en) | Glass substrate manufacturing method and glass substrate manufacturing apparatus | |
JP6585983B2 (en) | Glass substrate manufacturing method and glass substrate manufacturing apparatus | |
CN204999795U (en) | Glass substrate making device | |
JP5937704B2 (en) | Glass substrate manufacturing method and glass substrate manufacturing apparatus | |
JP6629920B2 (en) | Glass substrate manufacturing method and glass substrate manufacturing apparatus | |
KR102107301B1 (en) | Method for manufacturing glass substrate and glass substrate manufacturing apparatus | |
JP7142506B2 (en) | Glass substrate manufacturing method and glass substrate manufacturing apparatus | |
KR101798304B1 (en) | Method and apparatus for making glass sheet | |
JP2015105204A (en) | Manufacturing method for glass substrate and molten glass processing apparatus | |
JP6630215B2 (en) | Glass substrate manufacturing method and glass substrate manufacturing apparatus | |
KR101743375B1 (en) | Method and apparatus for making glass sheet | |
JP7140579B2 (en) | Glass substrate manufacturing method and glass substrate manufacturing apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210618 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220316 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220412 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220630 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220906 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220913 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7142506 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |