JP7137097B2 - flux and solder paste - Google Patents

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Description

本発明は、フラックス及びこのフラックスを用いたソルダペーストに関する。 The present invention relates to flux and solder paste using this flux.

はんだ付けに用いられるフラックスは、はんだ付けの対象となる接合対象物の金属表面及びはんだに存在する金属酸化物を化学的に除去し、両者の境界で金属元素の移動を可能にする効能を持つ。このため、フラックスを使用してはんだ付けを行うことで、両者の間に金属間化合物が形成されるようになり、強固な接合が得られる。このようなフラックスには、一般に、樹脂成分、溶剤、活性剤、チキソ剤等が含まれる。 Flux used for soldering chemically removes the metal surface of the object to be soldered and the metal oxide present in the solder, and has the effect of enabling the movement of metal elements at the boundary between the two. . Therefore, by performing soldering using flux, an intermetallic compound is formed between the two, and a strong bond can be obtained. Such fluxes generally contain resin components, solvents, activators, thixotropic agents, and the like.

ソルダペーストは、はんだ合金の粉末とフラックスとを混合させて得られた複合材料である。ソルダペーストを使用したはんだ付けにおいては、まず、基板にソルダペーストが印刷された後、部品が搭載され、リフロー炉と称される加熱炉で、部品が搭載された基板が加熱される。 Solder paste is a composite material obtained by mixing solder alloy powder and flux. In soldering using solder paste, first, solder paste is printed on a board, then components are mounted, and the board on which the components are mounted is heated in a heating furnace called a reflow furnace.

リフロー炉では、予備加熱の後に、はんだ合金粉末を溶融させるための本加熱が行われる。基板に印刷されたソルダペーストは、予備加熱の際に軟化し、加熱だれを生じる場合がある。加熱だれは、はんだボールやはんだブリッジ等の実装不良の原因となる。 In the reflow furnace, main heating for melting the solder alloy powder is performed after preheating. The solder paste printed on the substrate may soften during preheating and cause heat dripping. Heat dripping causes mounting defects such as solder balls and solder bridges.

これに対して、例えば、予備加熱の温度が150℃から160℃における加熱だれを抑制するために、アルコール変性ジシクロペンタジエン系樹脂の水素化物を含有するフラックスが提案されている(特許文献1参照)。 In contrast, for example, a flux containing a hydride of an alcohol-modified dicyclopentadiene-based resin has been proposed in order to suppress heating sagging at a preheating temperature of 150° C. to 160° C. (see Patent Document 1). ).

特開2009-154170号公報JP 2009-154170 A

はんだ付けにおいて、基板の面積が大きい場合には、基板内における温度ばらつきを抑制するために、予備加熱の温度を更に高くすることが求められている。しかしながら、例えば、予備加熱の温度を180℃から190℃とする場合、特許文献1に記載のフラックスでは加熱だれを十分に抑制することができない。 In soldering, when the substrate has a large area, it is required to further increase the preheating temperature in order to suppress temperature variations in the substrate. However, when the preheating temperature is set to 180° C. to 190° C., for example, the flux described in Patent Document 1 cannot sufficiently suppress heating sagging.

そこで、本発明は、リフローの際の加熱だれを十分に抑制することができるフラックス及びソルダペーストを提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a flux and a solder paste that can sufficiently suppress heat sagging during reflow.

上記の課題を解決するために、本発明は以下の構成を採用した。
すなわち、本発明の第1の態様は、ロジンと、溶剤と、チキソ剤と、活性剤とを含有し、前記チキソ剤は、下記一般式(1)で表される化合物及びポリアマイドを含み、前記ポリアマイドは、脂肪族カルボン酸及びヒドロキシ基含有脂肪族カルボン酸からなる群より選択される1種類以上と、アミンとの縮合物であり、且つ、示差走査熱量測定による吸熱ピークの温度が120℃以上200℃以下である、フラックスである。
In order to solve the above problems, the present invention employs the following configurations.
That is, the first aspect of the present invention contains a rosin, a solvent, a thixotropic agent, and an activator, and the thixotropic agent includes a compound and a polyamide represented by the following general formula (1), The polyamide is a condensate of one or more selected from the group consisting of aliphatic carboxylic acids and hydroxy group-containing aliphatic carboxylic acids and amines, and has an endothermic peak temperature of 120° C. or higher by differential scanning calorimetry. It is a flux that is 200° C. or less.

Figure 0007137097000001
[式中、R11は、置換基を有してもよい炭素数11~30の炭化水素基を表す。R0aは、置換基を有してもよい炭素数12~31の炭化水素基又は水素原子を表す。R0bは、置換基を有してもよい炭素数4~12のn価の炭化水素基を表す。R21は、炭素数2~6のアルキレン基を表す。R0cは、炭素数2~6のアルキレン基又は単結合を表す。nは、1又は2である。nが1のとき、mは、1~3の整数である。nが2のとき、mは、1である。]
Figure 0007137097000001
[In the formula, R 11 represents a hydrocarbon group having 11 to 30 carbon atoms which may have a substituent. R 0a represents an optionally substituted hydrocarbon group having 12 to 31 carbon atoms or a hydrogen atom. R 0b represents an optionally substituted n-valent hydrocarbon group having 4 to 12 carbon atoms. R 21 represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms. R 0c represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms or a single bond. n is 1 or 2; When n is 1, m is an integer of 1-3. When n is 2, m is 1. ]

第1の態様にかかるフラックスにおいて、前記ポリアマイドは、脂肪族カルボン酸と、ヒドロキシ基含有脂肪族カルボン酸と、アミンとの縮合物であることが好ましい。 In the flux according to the first aspect, the polyamide is preferably a condensate of an aliphatic carboxylic acid, a hydroxy group-containing aliphatic carboxylic acid, and an amine.

また、第1の態様にかかるフラックスにおいて、前記脂肪族カルボン酸は、ジカルボン酸を含むことが好ましい。 Moreover, in the flux according to the first aspect, the aliphatic carboxylic acid preferably contains a dicarboxylic acid.

また、第1の態様にかかるフラックスにおいて、前記一般式(1)で表される化合物の含有量は、フラックスの総質量に対して1質量%以上10質量%以下であることが好ましい。 Moreover, in the flux according to the first aspect, the content of the compound represented by the general formula (1) is preferably 1% by mass or more and 10% by mass or less with respect to the total mass of the flux.

また、第1の態様にかかるフラックスにおいて、前記一般式(1)で表される化合物は、下記一般式(3)で表される化合物であることが好ましい。 Moreover, in the flux according to the first aspect, the compound represented by the general formula (1) is preferably a compound represented by the following general formula (3).

Figure 0007137097000002
[式中、R11及びR11’は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭素数11~30の炭化水素基を表す。R0a及びR0a’は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭素数12~31の炭化水素基又は水素原子を表す。R0b2は、置換基を有してもよい炭素数4~12の炭化水素基を表す。R21及びR21’は、それぞれ独立に、炭素数2~6のアルキレン基を表す。R0c及びR0c’は、それぞれ独立に、炭素数2~6のアルキレン基又は単結合を表す。]
Figure 0007137097000002
[In the formula, R 11 and R 11′ each independently represent a hydrocarbon group having 11 to 30 carbon atoms which may have a substituent. R 0a and R 0a′ each independently represent an optionally substituted hydrocarbon group having 12 to 31 carbon atoms or a hydrogen atom. R 0b2 represents a hydrocarbon group having 4 to 12 carbon atoms which may have a substituent. R 21 and R 21′ each independently represent an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms. R 0c and R 0c′ each independently represent an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms or a single bond. ]

また、第1の態様にかかるフラックスにおいて、前記一般式(3)で表される化合物は、N,N’-ビス(2-ステアロアミドエチル)-セバカミド又はN,N’-ビス(2-ステアロアミドエチル)-アゼライカミドであることが好ましい。 Further, in the flux according to the first aspect, the compound represented by the general formula (3) is N,N'-bis(2-stearoamidoethyl)-sebacamide or N,N'-bis(2- Stearamidoethyl)-azelicamide is preferred.

また、第1の態様にかかるフラックスにおいて、前記ロジンの含有量は、フラックスの総質量に対して30質量%以上50質量%以下であることが好ましい。 Moreover, in the flux according to the first aspect, the rosin content is preferably 30% by mass or more and 50% by mass or less with respect to the total mass of the flux.

また、本発明の第2の態様は、はんだ合金粉末と、前記の第1の態様にかかるフラックスと、を含有する、ソルダペーストである。 A second aspect of the present invention is a solder paste containing solder alloy powder and the flux according to the first aspect.

本発明によれば、リフローの際の加熱だれを十分に抑制することができるフラックス及びソルダペーストを提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a flux and a solder paste that can sufficiently suppress heat sagging during reflow.

本発明の一実施形態に係るフラックスに含まれるポリアマイドのDSC曲線を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a DSC curve of polyamide contained in flux according to one embodiment of the present invention; 調製例1のポリアマイドのDSC曲線を示すグラフである。4 is a graph showing the DSC curve of the polyamide of Preparation Example 1. FIG. 調製例2のポリアマイドのDSC曲線を示すグラフである。4 is a graph showing the DSC curve of the polyamide of Preparation Example 2. FIG. 調製例1のポリアマイドの吸熱量の割合と温度との関係を示すグラフである。2 is a graph showing the relationship between the rate of endothermic amount of polyamide of Preparation Example 1 and temperature. 調製例2のポリアマイドの吸熱量の割合と温度との関係を示すグラフである。4 is a graph showing the relationship between the rate of endothermic amount of polyamide of Preparation Example 2 and temperature. 図4の一部を拡大した、調製例1のポリアマイドの吸熱量の割合と温度との関係を示すグラフである。5 is a partially enlarged graph showing the relationship between the rate of endothermic amount of the polyamide of Preparation Example 1 and the temperature. 図5の一部を拡大した、調製例2のポリアマイドの吸熱量の割合と温度との関係を示すグラフである。FIG. 6 is a graph showing the relationship between the ratio of endothermic amount of polyamide of Preparation Example 2 and temperature, which is an enlarged part of FIG.

(フラックス)
本実施形態のフラックスは、ロジンと、溶剤と、チキソ剤と、活性剤とを含有する。
(flux)
The flux of this embodiment contains a rosin, a solvent, a thixotropic agent, and an activator.

<ロジン>
ロジンとしては、例えば、ガムロジン、ウッドロジン及びトール油ロジン等の原料ロジン、並びに該原料ロジンから得られる誘導体が挙げられる。
該誘導体としては、例えば、精製ロジン、水添ロジン、不均化ロジン、重合ロジン、酸変性ロジン、酸変性水添ロジン、フェノール変性ロジン及びα,β不飽和カルボン酸変性物(アクリル化ロジン、マレイン化ロジン、フマル化ロジン等)、並びに該重合ロジンの精製物、水素化物及び不均化物、並びに該α,β不飽和カルボン酸変性物の精製物、水素化物及び不均化物等が挙げられる。
ロジンは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
ロジンとしては、上記の中でも、重合ロジン、酸変性水添ロジン及び水添ロジンからなる群より選択される1種以上を用いることが好ましい。
酸変性水添ロジンとしては、アクリル酸変性水添ロジンを用いることが好ましい。
<Rosin>
Rosins include, for example, raw rosins such as gum rosin, wood rosin and tall oil rosin, and derivatives obtained from the raw rosins.
Examples of the derivative include purified rosin, hydrogenated rosin, disproportionated rosin, polymerized rosin, acid-modified rosin, acid-modified hydrogenated rosin, phenol-modified rosin and α,β unsaturated carboxylic acid-modified products (acrylated rosin, maleated rosin, fumarated rosin, etc.), purified products, hydrides and disproportions of said polymerized rosins, and purified products, hydrides and disproportions of said α,β unsaturated carboxylic acid-modified products, etc. .
One type of rosin may be used alone, or two or more types may be mixed and used.
As the rosin, among the above, it is preferable to use one or more selected from the group consisting of polymerized rosin, acid-modified hydrogenated rosin and hydrogenated rosin.
As the acid-modified hydrogenated rosin, it is preferable to use acrylic acid-modified hydrogenated rosin.

前記フラックス中の、ロジンの含有量は、前記フラックスの総量(100質量%)に対して30質量%以上50質量%以下であることが好ましく、35質量%以上50質量%以下であることがより好ましく、40質量%以上50質量%以下が更に好ましい。 The content of rosin in the flux is preferably 30% by mass or more and 50% by mass or less, more preferably 35% by mass or more and 50% by mass or less, relative to the total amount (100% by mass) of the flux. It is preferably 40% by mass or more and 50% by mass or less, more preferably.

<溶剤>
本実施形態のフラックスにおいて、溶剤としては、例えば、水、アルコール系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、テルピネオール類等が挙げられる。
アルコール系溶剤としては、例えば、イソプロピルアルコール、1,2-ブタンジオール、イソボルニルシクロヘキサノール、2,4-ジエチル-1,5-ペンタンジオール、2,2-ジメチル-1,3-プロパンジオール、2,5-ジメチル-2,5-ヘキサンジオール、2,5-ジメチル-3-ヘキシン-2,5-ジオール、2,3-ジメチル-2,3-ブタンジオール、2-メチルペンタン-2,4-ジオール、1,1,1-トリス(ヒドロキシメチル)プロパン、2-エチル-2-ヒドロキシメチル-1,3-プロパンジオール、2,2′-オキシビス(メチレン)ビス(2-エチル-1,3-プロパンジオール)、2,2-ビス(ヒドロキシメチル)-1,3-プロパンジオール、1,2,6-トリヒドロキシヘキサン、1-エチニル-1-シクロヘキサノール、1,4-シクロヘキサンジオール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、2,4,7,9-テトラメチル-5-デシン-4,7-ジオール等が挙げられる。
グリコールエーテル系溶剤としては、例えば、ジエチレングリコールモノ-2-エチルヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、メチルプロピレントリグルコール、ブチルプロピレントリグルコール、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル等が挙げられる。
溶剤としては、グリコールエーテル系溶剤を用いることが好ましく、この中でも、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテルを用いることが好ましい。
溶剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
<Solvent>
In the flux of the present embodiment, examples of solvents include water, alcohol solvents, glycol ether solvents, terpineols, and the like.
Examples of alcohol solvents include isopropyl alcohol, 1,2-butanediol, isobornylcyclohexanol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 2,5-dimethyl-2,5-hexanediol, 2,5-dimethyl-3-hexyne-2,5-diol, 2,3-dimethyl-2,3-butanediol, 2-methylpentane-2,4 -diol, 1,1,1-tris(hydroxymethyl)propane, 2-ethyl-2-hydroxymethyl-1,3-propanediol, 2,2′-oxybis(methylene)bis(2-ethyl-1,3 -propanediol), 2,2-bis(hydroxymethyl)-1,3-propanediol, 1,2,6-trihydroxyhexane, 1-ethynyl-1-cyclohexanol, 1,4-cyclohexanediol, 1, 4-cyclohexanedimethanol, 2,4,7,9-tetramethyl-5-decyne-4,7-diol and the like.
Examples of glycol ether solvents include diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, methylpropylene triglycol, butylpropylene triglycol, triethylene glycol butyl methyl ether, tetraethylene glycol dimethyl ether and the like.
As the solvent, it is preferable to use a glycol ether solvent, and among these, it is preferable to use diethylene glycol monohexyl ether.
A solvent may be used individually by 1 type, and may be used in mixture of 2 or more types.

前記フラックス中の、溶剤の含有量は、前記フラックスの総量(100質量%)に対して30質量%以上60質量%以下であることが好ましく、30質量%以上45質量%以下であることがより好ましい。 The content of the solvent in the flux is preferably 30% by mass or more and 60% by mass or less, more preferably 30% by mass or more and 45% by mass or less with respect to the total amount (100% by mass) of the flux. preferable.

<チキソ剤>
本実施形態のフラックスにおいて、チキソ剤は、一般式(1)で表される化合物及び特定のポリアマイド(PA1)を含む。
<Thixotropic agent>
In the flux of the present embodiment, the thixotropic agent contains the compound represented by formula (1) and the specific polyamide (PA1).

《一般式(1)で表される化合物》
本実施形態のフラックスでは、下記一般式(1)で表される化合物が用いられる。
<<Compound Represented by Formula (1)>>
A compound represented by the following general formula (1) is used in the flux of the present embodiment.

Figure 0007137097000003
[式中、R11は、置換基を有してもよい炭素数11~30の炭化水素基を表す。R0aは、置換基を有してもよい炭素数12~31の炭化水素基又は水素原子を表す。R0bは、置換基を有してもよい炭素数4~12のn価の炭化水素基を表す。R21は、炭素数2~6のアルキレン基を表す。R0cは、炭素数2~6のアルキレン基又は単結合を表す。nは、1又は2である。nが1のとき、mは、1~3の整数である。nが2のとき、mは、1である。]
Figure 0007137097000003
[In the formula, R 11 represents a hydrocarbon group having 11 to 30 carbon atoms which may have a substituent. R 0a represents an optionally substituted hydrocarbon group having 12 to 31 carbon atoms or a hydrogen atom. R 0b represents an optionally substituted n-valent hydrocarbon group having 4 to 12 carbon atoms. R 21 represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms. R 0c represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms or a single bond. n is 1 or 2; When n is 1, m is an integer of 1-3. When n is 2, m is 1. ]

0bは、炭素数4~12のn価の炭化水素基であり、このn価の炭化水素基は置換基を有してもよい。 R 0b is an n-valent hydrocarbon group having 4 to 12 carbon atoms, and this n-valent hydrocarbon group may have a substituent.

上記一般式(1)中、nが2である場合、複数のR11、複数のR21、複数のR0a、及び複数のR0cは、それぞれ、異なるものであってもよいし、同一のものであってもよい。 In the general formula (1), when n is 2, the plurality of R 11 , the plurality of R 21 , the plurality of R 0a , and the plurality of R 0c may be different or the same can be anything.

上記一般式(1)で表される化合物は、下記一般式(2)又は下記一般式(3)で表される化合物であってもよい。 The compound represented by the general formula (1) may be a compound represented by the following general formula (2) or the following general formula (3).

[一般式(2)で表される化合物]
下記一般式(2)で表される化合物は、上記一般式(1)中、nが1であり、R0aは-NH-C(=O)-R12であり、R0bはR0b1であり、R0cはR22である。
[Compound represented by general formula (2)]
In the compound represented by the following general formula (2), in the above general formula (1), n is 1, R 0a is -NH-C(=O)-R 12 , R 0b is R 0b1 Yes, and R 0c is R 22 .

Figure 0007137097000004
[式中、R11及びR12は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭素数11~30の炭化水素基を表す。R0b1は、置換基を有してもよい炭素数4~12の炭化水素基を表す。R21及びR22は、それぞれ独立に、炭素数2~6のアルキレン基を表す。mは、1~3の整数である。]
Figure 0007137097000004
[In the formula, R 11 and R 12 each independently represent a hydrocarbon group having 11 to 30 carbon atoms which may have a substituent. R 0b1 represents a hydrocarbon group having 4 to 12 carbon atoms which may have a substituent. R 21 and R 22 each independently represent an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms. m is an integer of 1-3. ]

上記一般式(2)中、R11、R12及びR0b1は、それぞれ、飽和炭化水素基であってもよいし、不飽和炭化水素基であってもよい。R11、R12及びR0b1は、それぞれ、飽和炭化水素基であることが好ましい。 In general formula (2) above, R 11 , R 12 and R 0b1 may each be a saturated hydrocarbon group or an unsaturated hydrocarbon group. Each of R 11 , R 12 and R 0b1 is preferably a saturated hydrocarbon group.

11及びR12は、それぞれ、置換基を有してもよい炭素数14~25の炭化水素基であることが好ましく、置換基を有してもよい炭素数14~20の炭化水素基であることがより好ましい。
11又はR12が置換基を有する場合、前記置換基としては、例えば、-CONH、アミノ基(-NH)、カルボキシル基等が挙げられる。
R 11 and R 12 are each preferably a hydrocarbon group having 14 to 25 carbon atoms which may have a substituent, and a hydrocarbon group having 14 to 20 carbon atoms which may have a substituent. It is more preferable to have
When R 11 or R 12 has a substituent, examples of the substituent include —CONH 2 , amino group (—NH 2 ), carboxyl group and the like.

0b1は、置換基を有してもよい炭素数5~10の炭化水素基であることが好ましく、置換基を有してもよい炭素数6~9の炭化水素基であることがより好ましい。
0b1が置換基を有する場合、前記置換基としては、-CONH、アミノ基(-NH)、カルボキシル基等が挙げられる。これらの中でも、R0b1が有し得る置換基は、-CONHであることが好ましい。
R 0b1 is preferably an optionally substituted hydrocarbon group having 5 to 10 carbon atoms, more preferably an optionally substituted hydrocarbon group having 6 to 9 carbon atoms. .
When R 0b1 has a substituent, examples of the substituent include —CONH 2 , an amino group (—NH 2 ), a carboxyl group, and the like. Among these, the substituent that R 0b1 may have is preferably —CONH 2 .

21及びR22は、それぞれ、炭素数2のアルキレン基であることが好ましい。
mは、1であることが好ましい。
Each of R 21 and R 22 is preferably an alkylene group having 2 carbon atoms.
m is preferably one.

上記一般式(2)で表される化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
上記一般式(2)で表される化合物は、N,N-ビス(2-ステアロアミドエチル)-アゼライカミド又はN,N-ビス(2-ステアロアミドエチル)-セバカミドであることが好ましい。
The compounds represented by the general formula (2) may be used singly or in combination of two or more.
The compound represented by the general formula (2) is preferably N,N-bis(2-stearoamidoethyl)-azelicamide or N,N-bis(2-stearoamidoethyl)-sebacamide.

N,N-ビス(2-ステアロアミドエチル)-アゼライカミドは、上記一般式(2)中、R11及びR12がそれぞれ直鎖状の炭素数17のアルキル基であり、R0b1が-(CH-CONHであり、R21及びR22が炭素数2のアルキレン基であり、mは1である。 In N,N-bis(2-stearamidoethyl)-azelicamide, R 11 and R 12 are each a linear alkyl group having 17 carbon atoms, and R 0b1 is -( CH 2 ) 7 —CONH 2 , R 21 and R 22 are alkylene groups having 2 carbon atoms, and m is 1;

N,N-ビス(2-ステアロアミドエチル)-セバカミドは、上記一般式(2)中、R11及びR12がそれぞれ直鎖状の炭素数17のアルキル基であり、R0b1が-(CH-CONHであり、R21及びR22は炭素数2のアルキレン基であり、mは1である。 N,N-bis(2-stearamidoethyl)-sebacamide is represented by the above general formula (2), wherein R 11 and R 12 are each a linear alkyl group having 17 carbon atoms, and R 0b1 is -( CH 2 ) 8 —CONH 2 , R 21 and R 22 are alkylene groups having 2 carbon atoms, and m is 1;

[一般式(3)で表される化合物]
下記一般式(3)で表される化合物は、上記一般式(1)中、nが2であり、mは、1であり、R0bはR0b2である。
[Compound represented by general formula (3)]
In the compound represented by the following general formula (3), n is 2, m is 1, and R 0b is R 0b2 in the above general formula (1).

Figure 0007137097000005
[式中、R11及びR11’は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭素数11~30の炭化水素基を表す。R0a及びR0a’は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭素数12~31の炭化水素基又は水素原子を表す。R0b2は、置換基を有してもよい炭素数4~12の炭化水素基を表す。R21及びR21’は、それぞれ独立に、炭素数2~6のアルキレン基を表す。R0c及びR0c’は、それぞれ独立に、炭素数2~6のアルキレン基又は単結合を表す。]
Figure 0007137097000005
[In the formula, R 11 and R 11′ each independently represent a hydrocarbon group having 11 to 30 carbon atoms which may have a substituent. R 0a and R 0a′ each independently represent an optionally substituted hydrocarbon group having 12 to 31 carbon atoms or a hydrogen atom. R 0b2 represents a hydrocarbon group having 4 to 12 carbon atoms which may have a substituent. R 21 and R 21′ each independently represent an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms. R 0c and R 0c′ each independently represent an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms or a single bond. ]

上記一般式(3)中、R11及びR11’は、それぞれ、飽和炭化水素基であってもよいし、不飽和炭化水素基であってもよい。R11及びR11’は、それぞれ、飽和炭化水素基であることが好ましい。
11及びR11’は、それぞれ、置換基を有してもよい炭素数14~25の炭化水素基であることが好ましく、置換基を有してもよい炭素数14~20の炭化水素基であることがより好ましい。
11及びR11’が置換基を有する場合、前記置換基としては、例えば、-CONH、アミノ基(-NH)、カルボキシル基等が挙げられる。
In general formula (3) above, R 11 and R 11′ may each be a saturated hydrocarbon group or an unsaturated hydrocarbon group. Each of R 11 and R 11′ is preferably a saturated hydrocarbon group.
Each of R 11 and R 11′ is preferably an optionally substituted hydrocarbon group having 14 to 25 carbon atoms, and an optionally substituted hydrocarbon group having 14 to 20 carbon atoms. is more preferable.
When R 11 and R 11′ have a substituent, examples of the substituent include —CONH 2 , amino group (—NH 2 ), carboxyl group and the like.

0b2は、飽和炭化水素基であってもよいし、不飽和炭化水素基であってもよい。R0b2は、飽和炭化水素基であることが好ましい。
0b2は、置換基を有してもよい炭素数5~10の炭化水素基であることが好ましく、置換基を有してもよい炭素数6~9の炭化水素基であることがより好ましい。
0b2が置換基を有する場合、前記置換基としては、-CONH、アミノ基(-NH)、カルボキシル基等が挙げられる。
R 0b2 may be a saturated hydrocarbon group or an unsaturated hydrocarbon group. R 0b2 is preferably a saturated hydrocarbon group.
R 0b2 is preferably an optionally substituted hydrocarbon group having 5 to 10 carbon atoms, more preferably an optionally substituted hydrocarbon group having 6 to 9 carbon atoms. .
When R 0b2 has a substituent, examples of the substituent include —CONH 2 , an amino group (—NH 2 ), a carboxyl group, and the like.

21及びR21’は、それぞれ、炭素数2のアルキレン基であることが好ましい。 Each of R 21 and R 21′ is preferably an alkylene group having 2 carbon atoms.

0a及びR0a’は、それぞれ、飽和炭化水素基であってもよいし、不飽和炭化水素基であってもよいし、水素原子であってもよい。
0a及びR0a’は、それぞれ、飽和炭化水素基又は水素原子であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
Each of R 0a and R 0a′ may be a saturated hydrocarbon group, an unsaturated hydrocarbon group, or a hydrogen atom.
Each of R 0a and R 0a′ is preferably a saturated hydrocarbon group or a hydrogen atom, more preferably a hydrogen atom.

0c及びR0c’は、それぞれ、単結合であることが好ましい。 Each of R 0c and R 0c' is preferably a single bond.

0c-R0a及びR0c’-R0a’は、単結合-水素原子であることが好ましい。 R 0c -R 0a and R 0c' -R 0a' are preferably single bond-hydrogen atoms.

上記一般式(3)で表される化合物は、N,N’-ビス(2-ステアロアミドエチル)-アゼライカミド又はN,N’-ビス(2-ステアロアミドエチル)-セバカミドであることが好ましい。 The compound represented by the general formula (3) is N,N'-bis(2-stearoamidoethyl)-azelicamide or N,N'-bis(2-stearoamidoethyl)-sebacamide. preferable.

N,N’-ビス(2-ステアロアミドエチル)-アゼライカミドは、上記一般式(3)中、R11及びR11’が直鎖状の炭素数17のアルキル基であり、R0a及びR0a’が水素原子であり、R0b2が-(CH-であり、R0c及びR0c’が単結合であり、R21及びR21’が炭素数2のアルキレン基である。 N,N'-Bis(2-stearamidoethyl)-azelicamide is represented by the above general formula (3), wherein R 11 and R 11' are linear alkyl groups having 17 carbon atoms, and R 0a and R 0a′ is a hydrogen atom, R 0b2 is —(CH 2 ) 7 —, R 0c and R 0c′ are single bonds, and R 21 and R 21′ are alkylene groups having 2 carbon atoms.

N,N’-ビス(2-ステアロアミドエチル)-セバカミドは、上記一般式(3)中、R11及びR11’が直鎖状の炭素数17のアルキル基であり、R0a及びR0a’が水素原子であり、R0b2が-(CH-であり、R0c及びR0c’が単結合であり、R21及びR21’が炭素数2のアルキレン基である。 N,N'-Bis(2-stearamidoethyl)-sebacamide is represented by the above general formula (3), wherein R 11 and R 11' are linear alkyl groups having 17 carbon atoms, and R 0a and R 0a′ is a hydrogen atom, R 0b2 is —(CH 2 ) 8 —, R 0c and R 0c′ are single bonds, and R 21 and R 21′ are alkylene groups having 2 carbon atoms.

上記一般式(1)で表される化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
上記一般式(1)で表される化合物は、上記一般式(2)又は上記一般式(3)で表される化合物であることが好ましく、上記一般式(3)で表される化合物であることがより好ましい。
前記フラックス中の、上記一般式(1)で表される化合物の含有量は、フラックスの総量(100質量%)に対して、1質量%以上10質量%以下であることが好ましい。
The compounds represented by the general formula (1) may be used singly or in combination of two or more.
The compound represented by the general formula (1) is preferably a compound represented by the general formula (2) or the general formula (3), and is a compound represented by the general formula (3). is more preferable.
The content of the compound represented by the general formula (1) in the flux is preferably 1% by mass or more and 10% by mass or less with respect to the total amount (100% by mass) of the flux.

《ポリアマイド(PA1)》
本実施形態のフラックスでは、特定のポリアマイド(PA1)が用いられる。特定のポリアマイド(PA1)は、脂肪族カルボン酸及びヒドロキシ基含有脂肪族カルボン酸からなる群より選択される1種類以上と、アミンとの縮合物である。
特定のポリアマイド(PA1)は、「脂肪族カルボン酸と、アミンとの縮合物」、「ヒドロキシ基含有脂肪族カルボン酸と、アミンとの縮合物」、及び「ヒドロキシ基含有脂肪族カルボン酸と、脂肪族カルボン酸と、アミンとの縮合物」を包含する。
特定のポリアマイド(PA1)の示差走査熱量測定による吸熱ピークの温度は、120℃以上200℃以下である。
《Polyamide (PA1)》
A specific polyamide (PA1) is used in the flux of this embodiment. The specific polyamide (PA1) is a condensate of one or more selected from the group consisting of aliphatic carboxylic acids and hydroxy group-containing aliphatic carboxylic acids and amines.
The specific polyamide (PA1) is a "condensate of an aliphatic carboxylic acid and an amine", a "condensate of a hydroxy group-containing aliphatic carboxylic acid and an amine", and a "hydroxyl group-containing aliphatic carboxylic acid, Condensates of aliphatic carboxylic acids and amines”.
The endothermic peak temperature of the specific polyamide (PA1) measured by differential scanning calorimetry is 120° C. or higher and 200° C. or lower.

特定のポリアマイド(PA1)が由来する前記脂肪族カルボン酸は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
前記脂肪族カルボン酸としては、例えば、モノカルボン酸、ジカルボン酸、トリカルボン酸等が挙げられる。前記脂肪族カルボン酸は、モノカルボン酸又はジカルボン酸であることが好ましく、ジカルボン酸であることがより好ましい。
前記脂肪族カルボン酸の炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状又は環状のいずれであってもよい。前記炭化水素基は、直鎖状又は分岐鎖状であることが好ましく、直鎖状であることがより好ましい。
前記炭化水素基は、飽和炭化水素基であってもよいし、不飽和炭化水素基であってもよい。前記炭化水素基は、飽和炭化水素基であることが好ましい。
前記脂肪族モノカルボン酸の炭素数としては、12~22が好ましく、14~22がより好ましく、16~22が更に好ましい。
前記脂肪族モノカルボン酸としては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキジン酸、ベヘン酸等が挙げられる。前記脂肪族モノカルボン酸は、パルミチン酸又はステアリン酸であることが好ましい。
前記脂肪族ジカルボン酸の炭素数としては、2~20が好ましく、6~16がより好ましく、8~14が更に好ましい。
前記脂肪族ジカルボン酸としては、例えば、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸、トリデカン二酸、テトラデカン二酸、ペンタデカン二酸等が挙げられる。前記脂肪族ジカルボン酸は、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸又はドデカン二酸であることが好ましく、セバシン酸又はドデカン二酸であることが更に好ましい。
前記脂肪族カルボン酸は、セバシン酸及びドデカン二酸からなる群より選択される1種以上と、パルミチン酸及びステアリン酸からなる群より選択される1種以上と、を含むものであってもよい。
The aliphatic carboxylic acid from which the specific polyamide (PA1) is derived may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the aliphatic carboxylic acid include monocarboxylic acid, dicarboxylic acid and tricarboxylic acid. The aliphatic carboxylic acid is preferably monocarboxylic acid or dicarboxylic acid, more preferably dicarboxylic acid.
The hydrocarbon group of the aliphatic carboxylic acid may be linear, branched or cyclic. The hydrocarbon group is preferably linear or branched, more preferably linear.
The hydrocarbon group may be a saturated hydrocarbon group or an unsaturated hydrocarbon group. The hydrocarbon group is preferably a saturated hydrocarbon group.
The number of carbon atoms in the aliphatic monocarboxylic acid is preferably 12-22, more preferably 14-22, and even more preferably 16-22.
Examples of the aliphatic monocarboxylic acid include lauric acid, myristic acid, pentadecyl acid, palmitic acid, margaric acid, stearic acid, nonadecanic acid, arachidic acid, and behenic acid. The aliphatic monocarboxylic acid is preferably palmitic acid or stearic acid.
The number of carbon atoms in the aliphatic dicarboxylic acid is preferably 2-20, more preferably 6-16, and even more preferably 8-14.
Examples of the aliphatic dicarboxylic acids include adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, undecanedioic acid, dodecanedioic acid, tridecanedioic acid, tetradecanedioic acid, and pentadecanedioic acid. The aliphatic dicarboxylic acid is preferably suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, undecanedioic acid or dodecanedioic acid, more preferably sebacic acid or dodecanedioic acid.
The aliphatic carboxylic acid may include one or more selected from the group consisting of sebacic acid and dodecanedioic acid, and one or more selected from the group consisting of palmitic acid and stearic acid. .

特定のポリアマイド(PA1)が由来する前記ヒドロキシ基含有脂肪族カルボン酸は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
前記ヒドロキシ基含有脂肪族カルボン酸の炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状又は環状のいずれであってもよい。前記炭化水素基は、直鎖状又は分岐鎖状であることが好ましく、直鎖状であることがより好ましい。
前記炭化水素基は、飽和炭化水素基であってもよいし、不飽和炭化水素基であってもよい。前記炭化水素基は、飽和炭化水素基であることが好ましい。
前記ヒドロキシ基含有脂肪族カルボン酸の炭素数としては、10~25が好ましく、15~21がより好ましい。
前記ヒドロキシ基含有脂肪族カルボン酸としては、例えば、ヒドロキシペンタデカン酸、ヒドロキシヘキサデカン酸、ヒドロキシヘプタデカン酸、ヒドロキシオクタデカン酸(ヒドロキシステアリン酸)、ヒドロキシエイコサン酸、ヒドロキシヘンエイコサン酸等が挙げられる。前記ヒドロキシ基含有脂肪族カルボン酸は、ヒドロキシステアリン酸であることが好ましく、12-ヒドロキシステアリン酸であることがより好ましい。
The hydroxy group-containing aliphatic carboxylic acid from which the specific polyamide (PA1) is derived may be used alone or in combination of two or more.
The hydrocarbon group of the hydroxy group-containing aliphatic carboxylic acid may be linear, branched or cyclic. The hydrocarbon group is preferably linear or branched, more preferably linear.
The hydrocarbon group may be a saturated hydrocarbon group or an unsaturated hydrocarbon group. The hydrocarbon group is preferably a saturated hydrocarbon group.
The number of carbon atoms in the hydroxy group-containing aliphatic carboxylic acid is preferably 10-25, more preferably 15-21.
Examples of the hydroxy group-containing aliphatic carboxylic acid include hydroxypentadecanic acid, hydroxyhexadecanoic acid, hydroxyheptadecanoic acid, hydroxyoctadecanoic acid (hydroxystearic acid), hydroxyeicosanoic acid, and hydroxyheneicosanoic acid. The hydroxy group-containing aliphatic carboxylic acid is preferably hydroxystearic acid, more preferably 12-hydroxystearic acid.

特定のポリアマイド(PA1)が由来するアミンは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
前記アミンとしては、例えば、脂肪族アミン、芳香族アミンが挙げられる。前記アミンは、脂肪族アミンであることが好ましい。
前記アミンとしては、例えば、モノアミン、ジアミン、トリアミン、テトラアミン等が挙げられる。前記アミンは、ジアミンであることが好ましい。
前記脂肪族アミンの炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状又は環状のいずれであってもよい。前記炭化水素基は、直鎖状又は分岐鎖状であることが好ましく、直鎖状であることがより好ましい。前記脂肪族アミンの炭素数としては、3~10が好ましく、4~8がより好ましい。
前記炭化水素基は、飽和炭化水素基であってもよいし、不飽和炭化水素基であってもよい。前記炭化水素基は、飽和炭化水素基であることが好ましい。
前記アミンとしては、例えば、エチレンジアミン、1,3-プロパンジアミン、1,4-ブタンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、メタキシレンジアミン、トリレンジアミン、パラキシレンジアミン、フェニレンジアミン、イソホロンジアミン、1,10-デカンジアミン、1,12-ドデカンジアミン、4,4-ジアミノジシクロヘキシルメタン、4,4-ジアミノジフェニルメタン、ブタン-1,1,4,4-テトラアミン、ピリミジン-2,4,5,6-テトラアミン等が挙げられる。前記アミンは、ヘキサメチレンジアミンであることが好ましい。
The amines from which the specific polyamide (PA1) is derived may be used singly or in combination of two or more.
Examples of the amine include aliphatic amines and aromatic amines. Preferably, the amine is an aliphatic amine.
Examples of the amine include monoamine, diamine, triamine, and tetraamine. Preferably, the amine is a diamine.
The hydrocarbon group of the aliphatic amine may be linear, branched or cyclic. The hydrocarbon group is preferably linear or branched, more preferably linear. The number of carbon atoms in the aliphatic amine is preferably 3-10, more preferably 4-8.
The hydrocarbon group may be a saturated hydrocarbon group or an unsaturated hydrocarbon group. The hydrocarbon group is preferably a saturated hydrocarbon group.
Examples of the amine include ethylenediamine, 1,3-propanediamine, 1,4-butanediamine, hexamethylenediamine, metaxylenediamine, tolylenediamine, paraxylenediamine, phenylenediamine, isophoronediamine, and 1,10-decane. diamine, 1,12-dodecanediamine, 4,4-diaminodicyclohexylmethane, 4,4-diaminodiphenylmethane, butane-1,1,4,4-tetramine, pyrimidine-2,4,5,6-tetraamine and the like. be done. Preferably, the amine is hexamethylenediamine.

ポリアマイドの吸熱ピークの温度は、DSC(Differential Scanning Calorimetry、示差走査熱量測定)により測定する。
具体的な吸熱ピークの測定方法としては、窒素雰囲気下、約10mgのポリアマイドを、昇温速度を20℃/minに設定し、25℃から350℃まで昇温することにより測定する方法とする。測定機器としては、DSC7020(日立ハイテクサイエンス製)を用いることができる。本明細書において、吸熱ピークの温度は、ピークトップの温度を意味する。
The endothermic peak temperature of polyamide is measured by DSC (Differential Scanning Calorimetry).
As a specific method for measuring the endothermic peak, about 10 mg of polyamide is heated from 25° C. to 350° C. at a rate of 20° C./min in a nitrogen atmosphere. DSC7020 (manufactured by Hitachi High-Tech Science) can be used as a measuring instrument. As used herein, the endothermic peak temperature means the peak top temperature.

本実施形態のフラックスに用いられる特定のポリアマイド(PA1)は、120℃以上200℃以下の温度範囲において、1個又は2個以上の吸熱ピークを有する。
吸熱ピークの個数が1個の場合、その吸熱ピークの温度は、150℃以上200℃以下であることが好ましく、160℃以上200℃以下であることがより好ましく、170℃以上200℃以下であることが更に好ましく、180℃以上200℃以下であることが特に好ましい。
吸熱ピークの個数が2個以上の場合、ポリアマイド(PA1)は、例えば、最も低い温度の吸熱ピークが120℃以上200℃以下の範囲にあってもよいし、最も高い温度の吸熱ピークが120℃以上200℃以下の範囲にあってもよいし、全ての吸熱ピークが120℃以上200℃以下の範囲にあってもよい。
最も高い温度の吸熱ピークの温度は、150℃以上200℃以下であることが好ましく、160℃以上200℃以下であることがより好ましく、170℃以上200℃以下であることが更に好ましく、180℃以上200℃以下であることが特に好ましい。
The specific polyamide (PA1) used in the flux of the present embodiment has one or more endothermic peaks in the temperature range of 120°C or higher and 200°C or lower.
When the number of endothermic peaks is one, the temperature of the endothermic peak is preferably 150° C. or higher and 200° C. or lower, more preferably 160° C. or higher and 200° C. or lower, and 170° C. or higher and 200° C. or lower. is more preferable, and 180° C. or more and 200° C. or less is particularly preferable.
When the number of endothermic peaks is 2 or more, the polyamide (PA1) may have, for example, the lowest endothermic peak at 120°C or higher and 200°C or lower, or the highest endothermic peak at 120°C. It may be in the range of 120° C. or higher and 200° C. or lower, or all the endothermic peaks may be in the range of 120° C. or higher and 200° C. or lower.
The temperature of the highest endothermic peak is preferably 150°C or higher and 200°C or lower, more preferably 160°C or higher and 200°C or lower, even more preferably 170°C or higher and 200°C or lower, and 180°C. It is particularly preferable that the temperature is above 200°C and below.

ポリアマイド(PA1)のDSCによる測定で、160℃以上200℃以下の範囲における吸熱量の割合は、50℃以上200℃以下の範囲における総吸熱量に対して、30%以上であることが好ましく、40%以上であることがより好ましく、45%以上であることが更に好ましい。
ポリアマイド(PA1)のDSCによる測定で、160℃以上200℃以下の範囲における吸熱量の割合が、前記下限値以上であることにより、リフローの際の加熱だれを十分に抑制することができる。特に、予備加熱の温度が高められた場合でも、例えば、190℃以上、更に200℃以上の場合であっても、加熱だれを抑制することができる。
本明細書において、ポリアマイドの吸熱量は、ポリアマイドのDSC曲線のピーク面積から算出することができる。
DSC measurement of the polyamide (PA1) shows that the ratio of the endothermic amount in the range of 160°C to 200°C is preferably 30% or more of the total endothermic amount in the range of 50°C to 200°C. It is more preferably 40% or more, and even more preferably 45% or more.
When the ratio of heat absorption in the range of 160° C. to 200° C. measured by DSC of the polyamide (PA1) is equal to or higher than the lower limit, heat sagging during reflow can be sufficiently suppressed. In particular, even when the preheating temperature is raised, for example, 190° C. or higher, or even 200° C. or higher, heating droop can be suppressed.
In this specification, the endothermic amount of polyamide can be calculated from the peak area of the DSC curve of polyamide.

ポリアマイド(PA1)のDSCによる測定で、50℃以上150℃以下の範囲における吸熱量の割合は、50℃以上200℃以下の範囲における総吸熱量に対して、80%以下であることが好ましく、60%以下であることがより好ましく、50%以下であることが更に好ましい。
ポリアマイド(PA1)のDSCによる測定で、50℃以上180℃以下の範囲における吸熱量の割合は、50℃以上200℃以下の範囲における総吸熱量に対して、95%以下であることが好ましく、90%以下であることがより好ましく、85%以下であることが更に好ましい。
DSC measurement of the polyamide (PA1) shows that the ratio of the endothermic amount in the range of 50°C to 150°C is preferably 80% or less of the total endothermic amount in the range of 50°C to 200°C. It is more preferably 60% or less, even more preferably 50% or less.
DSC measurement of the polyamide (PA1) shows that the ratio of the endothermic amount in the range of 50° C. or higher and 180° C. or lower is preferably 95% or less of the total endothermic amount in the range of 50° C. or higher and 200° C. or lower. It is more preferably 90% or less, even more preferably 85% or less.

本実施形態のフラックスに含まれる特定のポリアマイド(PA1)は、加熱だれ抑制能がより高められる観点から、脂肪族カルボン酸と、ヒドロキシ基含有モノカルボン酸と、アミンとの縮合物であることが好ましい。
本実施形態のフラックスに含まれる特定のポリアマイド(PA1)は、ジカルボン酸と、ヒドロキシ基含有モノカルボン酸と、ジアミンとの縮合物であることがより好ましい。
本実施形態のフラックスに含まれる特定のポリアマイド(PA1)は、炭素数が8~14である脂肪族ジカルボン酸と、炭素数が15~21であるヒドロキシ基含有脂肪族モノカルボン酸と、炭素数が4~8である脂肪族ジアミンとの縮合物であることが更に好ましい。
これらの中でも、ポリアマイド(PA1)は、セバシン酸及びドデカン二酸からなる群より選択される1種以上と、12-ヒドロキシステアリン酸と、ヘキサメチレンジアミンとの縮合物であることが特に好ましい。
ポリアマイド(PA1)は、セバシン酸及びドデカン二酸からなる群より選択される1種以上と、パルミチン酸及びステアリン酸からなる群より選択される1種以上と、12-ヒドロキシステアリン酸と、ヘキサメチレンジアミンとの縮合物であってもよい。
The specific polyamide (PA1) contained in the flux of the present embodiment is a condensate of an aliphatic carboxylic acid, a hydroxy group-containing monocarboxylic acid, and an amine, from the viewpoint of further enhancing the ability to suppress heat sagging. preferable.
The specific polyamide (PA1) contained in the flux of the present embodiment is more preferably a condensate of dicarboxylic acid, hydroxy group-containing monocarboxylic acid, and diamine.
The specific polyamide (PA1) contained in the flux of the present embodiment comprises an aliphatic dicarboxylic acid having 8 to 14 carbon atoms, a hydroxy group-containing aliphatic monocarboxylic acid having 15 to 21 carbon atoms, and More preferably, it is a condensate with an aliphatic diamine in which is 4-8.
Among these, the polyamide (PA1) is particularly preferably a condensate of one or more selected from the group consisting of sebacic acid and dodecanedioic acid, 12-hydroxystearic acid, and hexamethylenediamine.
Polyamide (PA1) is one or more selected from the group consisting of sebacic acid and dodecanedioic acid, one or more selected from the group consisting of palmitic acid and stearic acid, 12-hydroxystearic acid, and hexamethylene. Condensates with diamines may also be used.

ポリアマイド(PA1)は、脂肪族ジカルボン酸と、ヒドロキシ基含有脂肪族モノカルボン酸と、脂肪族ジアミンとの縮合物である場合、これら原料のモル比は以下のような関係式を満たすことが好ましい。
ここで、ポリアマイド(PA1)の原料として用いる、脂肪族ジカルボン酸をXモル、ヒドロキシ基含有脂肪族モノカルボン酸をYモル、脂肪族ジアミンをZモルとする。
原料に含まれている化合物のアミノ基の総モル数は、カルボキシル基の総モル数と等しいか、あるいは、原料に含まれている化合物のアミノ基の総モル数は、カルボキシル基の総モル数よりも少ないことが好ましい。具体的には、2Z≦2X+Yを満たすことが好ましい。
原料間のモル比の関係は、0.2Y≦X≦2Yであることが好ましく、0.4Y≦X≦1.5Yであることがより好ましい。
原料間のモル比の関係は、0.5Y≦Z≦2Yであることが好ましく、0.8Y≦Z≦1.8Yであることがより好ましい。
When the polyamide (PA1) is a condensation product of an aliphatic dicarboxylic acid, a hydroxy group-containing aliphatic monocarboxylic acid, and an aliphatic diamine, the molar ratio of these raw materials preferably satisfies the following relational expression: .
Here, X mol of aliphatic dicarboxylic acid, Y mol of hydroxy group-containing aliphatic monocarboxylic acid, and Z mol of aliphatic diamine, which are used as raw materials for the polyamide (PA1).
The total number of moles of amino groups in the compound contained in the raw material is equal to the total number of moles of carboxyl groups, or the total number of moles of amino groups in the compound contained in the raw material is equal to the total number of moles of carboxyl groups. preferably less than Specifically, it is preferable to satisfy 2Z≦2X+Y.
The molar ratio relationship between the raw materials is preferably 0.2Y≦X≦2Y, more preferably 0.4Y≦X≦1.5Y.
The molar ratio relationship between the raw materials is preferably 0.5Y≦Z≦2Y, more preferably 0.8Y≦Z≦1.8Y.

前記フラックス中の、ポリアマイド(PA1)の含有量は、前記フラックスの総量(100質量%)に対して1質量%以上15質量%以下であることが好ましく、2質量%以上10質量%以下がより好ましく、3質量%以上6質量%以下が更に好ましい。
上記一般式(1)で表される化合物及び特定のポリアマイド(PA1)の合計の質量(100質量%)に対する、上記一般式(1)で表される化合物の割合は、10質量%以上90質量%以下であることが好ましく、15質量%以上75質量%以下であることがより好ましい。
The content of the polyamide (PA1) in the flux is preferably 1% by mass or more and 15% by mass or less, more preferably 2% by mass or more and 10% by mass or less with respect to the total amount (100% by mass) of the flux. It is preferably 3% by mass or more and 6% by mass or less.
The ratio of the compound represented by the general formula (1) to the total mass (100% by mass) of the compound represented by the general formula (1) and the specific polyamide (PA1) is 10% by mass or more and 90% by mass. % or less, more preferably 15 mass % or more and 75 mass % or less.

《その他のチキソ剤》
チキソ剤は、上記一般式(1)で表される化合物及びポリアマイド(PA1)に加えて、その他のチキソ剤を含んでもよい。
その他のチキソ剤としては、例えば、上記以外のアマイド系チキソ剤、ワックス系チキソ剤、ソルビトール系チキソ剤等が挙げられる。
その他のチキソ剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
《Other thixotropic agents》
The thixotropic agent may contain other thixotropic agent in addition to the compound represented by the general formula (1) and the polyamide (PA1).
Other thixotropic agents include, for example, amide-based thixotropic agents, wax-based thixotropic agents, sorbitol-based thixotropic agents, and the like.
Other thixotropic agents may be used singly or in combination of two or more.

上記以外のアマイド系チキソ剤としては、例えば、モノアミド、ビスアミド、その他のポリアミドが挙げられる。
モノアミドとしては、例えば、ラウリン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド、ベヘン酸アミド、ヒドロキシステアリン酸アミド、飽和脂肪酸アミド、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、不飽和脂肪酸アミド、p-トルアミド、p-トルエンメタンアミド、芳香族アミド、ヘキサメチレンヒドロキシステアリン酸アミド、置換アミド、メチロールステアリン酸アミド、メチロールアミド、脂肪酸エステルアミド等が挙げられる。
ビスアミドとしては、メチレンビスステアリン酸アミド、エチレンビスラウリン酸アミド、エチレンビスヒドロキシ脂肪酸(脂肪酸の炭素数C6~24)アミド、エチレンビスステアリン酸アマイド、エチレンビスヒドロキシステアリン酸アミド、飽和脂肪酸ビスアミド、メチレンビスオレイン酸アミド、不飽和脂肪酸ビスアミド、m-キシリレンビスステアリン酸アミド、芳香族ビスアミド等が挙げられる。
その他のポリアミドとしては、飽和脂肪酸ポリアミド、不飽和脂肪酸ポリアミド、芳香族ポリアミド、1,2,3-プロパントリカルボン酸トリス(2-メチルシクロヘキシルアミド)、環状アミドオリゴマー、非環状アミドオリゴマー等が挙げられる。
Amide-based thixotropic agents other than the above include, for example, monoamides, bisamides, and other polyamides.
Examples of monoamides include lauric acid amide, palmitic acid amide, stearic acid amide, behenic acid amide, hydroxystearic acid amide, saturated fatty acid amide, oleic acid amide, erucic acid amide, unsaturated fatty acid amide, p-toluamide, p- Toluenemethanamide, aromatic amide, hexamethylene hydroxystearic acid amide, substituted amide, methylolstearic acid amide, methylolamide, fatty acid ester amide and the like.
Examples of bisamides include methylenebisstearic acid amide, ethylenebislauric acid amide, ethylenebishydroxy fatty acid (C6-C24 fatty acid) amide, ethylenebisstearic acid amide, ethylenebishydroxystearic acid amide, saturated fatty acid bisamide, methylenebis Oleic acid amide, unsaturated fatty acid bisamide, m-xylylenebisstearic acid amide, aromatic bisamide and the like.
Other polyamides include saturated fatty acid polyamides, unsaturated fatty acid polyamides, aromatic polyamides, 1,2,3-propanetricarboxylic acid tris(2-methylcyclohexylamide), cyclic amide oligomers, non-cyclic amide oligomers, and the like.

前記環状アミドオリゴマーは、ジカルボン酸とジアミンとが環状に重縮合したアミドオリゴマー、トリカルボン酸とジアミンとが環状に重縮合したアミドオリゴマー、ジカルボン酸とトリアミンとが環状に重縮合したアミドオリゴマー、トリカルボン酸とトリアミンとが環状に重縮合したアミドオリゴマー、ジカルボン酸及びトリカルボン酸とジアミンとが環状に重縮合したアミドオリゴマー、ジカルボン酸及びトリカルボン酸とトリアミンとが環状に重縮合したアミドオリゴマー、ジカルボン酸とジアミン及びトリアミンとが環状に重縮合したアミドオリゴマー、トリカルボン酸とジアミン及びトリアミンとが環状に重縮合したアミドオリゴマー、ジカルボン酸及びトリカルボン酸とジアミン及びトリアミンとが環状に重縮合したアミドオリゴマー等が挙げられる。 The cyclic amide oligomer includes an amide oligomer obtained by cyclic polycondensation of dicarboxylic acid and diamine, an amide oligomer obtained by cyclic polycondensation of tricarboxylic acid and diamine, an amide oligomer obtained by cyclic polycondensation of dicarboxylic acid and triamine, and tricarboxylic acid. amide oligomer obtained by cyclic polycondensation of and triamine, amide oligomer obtained by cyclic polycondensation of dicarboxylic acid or tricarboxylic acid and diamine, amide oligomer obtained by cyclic polycondensation of dicarboxylic acid or tricarboxylic acid and triamine, dicarboxylic acid and diamine and cyclic polycondensation of triamine, amide oligomers of cyclic polycondensation of tricarboxylic acid and diamine and triamine, amide oligomers of cyclic polycondensation of dicarboxylic acid and tricarboxylic acid and diamine and triamine, and the like. .

また、前記非環状アミドオリゴマーは、モノカルボン酸とジアミン及び/又はトリアミンとが非環状に重縮合したアミドオリゴマーである場合、ジカルボン酸及び/又はトリカルボン酸とモノアミンとが非環状に重縮合したアミドオリゴマーである場合等が挙げられる。モノカルボン酸又はモノアミンを含むアミドオリゴマーであると、モノカルボン酸、モノアミンがターミナル分子(terminal molecules)として機能し、分子量を小さくした非環状アミドオリゴマーとなる。また、非環状アミドオリゴマーは、ジカルボン酸及び/又はトリカルボン酸と、ジアミン及び/又はトリアミンとが非環状に重縮合したアミド化合物である場合、非環状高分子系アミドポリマーとなる。更に、非環状アミドオリゴマーは、モノカルボン酸とモノアミンとが非環状に縮合したアミドオリゴマーも含まれる。 When the non-cyclic amide oligomer is an amide oligomer obtained by acyclic polycondensation of a monocarboxylic acid and a diamine and/or triamine, an amide obtained by acyclic polycondensation of a dicarboxylic acid and/or tricarboxylic acid and a monoamine For example, it may be an oligomer. In the case of an amide oligomer containing monocarboxylic acid or monoamine, the monocarboxylic acid or monoamine functions as terminal molecules, resulting in a non-cyclic amide oligomer with a reduced molecular weight. When the non-cyclic amide oligomer is an amide compound obtained by non-cyclic polycondensation of dicarboxylic acid and/or tricarboxylic acid and diamine and/or triamine, it becomes a non-cyclic high-molecular-weight amide polymer. Furthermore, non-cyclic amide oligomers include amide oligomers in which a monocarboxylic acid and a monoamine are condensed acyclically.

前記フラックス中の、アマイド系チキソ剤の合計の含有量は、前記フラックスの総量(100質量%)に対して3質量%以上30質量%以下であることが好ましく、4質量%以上20質量%以下であることがより好ましく、5.5質量%以上14.5質量%以下であることが更に好ましい。 The total content of the amide-based thixotropic agent in the flux is preferably 3% by mass or more and 30% by mass or less, and 4% by mass or more and 20% by mass or less with respect to the total amount (100% by mass) of the flux. is more preferably 5.5% by mass or more and 14.5% by mass or less.

ワックス系チキソ剤としては、例えばエステル化合物が挙げられ、具体的には硬化ひまし油等が挙げられる。
前記フラックス中の、ワックス系チキソ剤の含有量は、前記フラックスの総量(100質量%)に対して0質量%以上10質量%以下であることが好ましく、0質量%以上5質量%以下であることがより好ましく、0質量%以上3質量%以下であることが更に好ましい。
Examples of wax-based thixotropic agents include ester compounds, and specific examples include hydrogenated castor oil.
The content of the wax-based thixotropic agent in the flux is preferably 0% by mass or more and 10% by mass or less, and is 0% by mass or more and 5% by mass or less with respect to the total amount (100% by mass) of the flux. is more preferable, and more preferably 0% by mass or more and 3% by mass or less.

ソルビトール系チキソ剤としては、例えば、ジベンジリデン-D-ソルビトール、ビス(4-メチルベンジリデン)-D-ソルビトール、(D-)ソルビトール、モノベンジリデン(-D-)ソルビトール、モノ(4-メチルベンジリデン)-(D-)ソルビトール等が挙げられる。
前記フラックス中の、ソルビトール系チキソ剤の含有量は、前記フラックスの総量(100質量%)に対して0質量%以上5.0質量%以下であることが好ましく、0質量%以上3.5質量%以下がより好ましい。
Examples of sorbitol-based thixotropic agents include dibenzylidene-D-sorbitol, bis(4-methylbenzylidene)-D-sorbitol, (D-) sorbitol, monobenzylidene (-D-) sorbitol, and mono(4-methylbenzylidene). -(D-) sorbitol and the like.
The content of the sorbitol-based thixotropic agent in the flux is preferably 0% by mass or more and 5.0% by mass or less with respect to the total amount (100% by mass) of the flux, and 0% by mass or more and 3.5% by mass. % or less is more preferable.

前記フラックス中の、チキソ剤の合計の含有量は、前記フラックスの総量(100質量%)に対して2質量%以上30質量%以下であることが好ましく、4質量%以上20質量%以下がより好ましく、5質量%以上15質量%以下が更に好ましい。
前記フラックス中の、その他のチキソ剤の含有量は、前記フラックスの総量(100質量%)に対して0質量%以上10質量%以下であることが好ましく、0質量%以上5質量%以下がより好ましい。
前記フラックス中の、チキソ剤の合計の質量(100質量%)に対する、その他のチキソ剤の割合は、0質量%以上50質量%以下であることが好ましく、0質量%以上30質量%以下であることがより好ましく、0質量%以上20質量%以下であることが更に好ましい。
The total content of the thixotropic agent in the flux is preferably 2% by mass or more and 30% by mass or less with respect to the total amount (100% by mass) of the flux, and more preferably 4% by mass or more and 20% by mass or less. It is preferably 5% by mass or more and 15% by mass or less.
The content of other thixotropic agents in the flux is preferably 0% by mass or more and 10% by mass or less, more preferably 0% by mass or more and 5% by mass or less, relative to the total amount (100% by mass) of the flux. preferable.
The ratio of the other thixotropic agent to the total mass (100% by mass) of the thixotropic agent in the flux is preferably 0% by mass or more and 50% by mass or less, and is 0% by mass or more and 30% by mass or less. is more preferable, and more preferably 0% by mass or more and 20% by mass or less.

<活性剤>
活性剤としては、例えば、有機酸、ハロゲン系活性剤、アミン等が挙げられる。
<Activator>
Examples of activators include organic acids, halogen-based activators, and amines.

有機酸:
有機酸としては、例えば、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、エイコサン二酸、クエン酸、グリコール酸、コハク酸、サリチル酸、ジグリコール酸、ジピコリン酸、ジブチルアニリンジグリコール酸、スベリン酸、セバシン酸、チオグリコール酸、ジチオグリコール酸、テレフタル酸、ドデカン二酸、パラヒドロキシフェニル酢酸、ピコリン酸、フェニルコハク酸、フタル酸、フマル酸、マレイン酸、マロン酸、ラウリン酸、安息香酸、酒石酸、イソシアヌル酸トリス(2-カルボキシエチル)、グリシン、1,3-シクロヘキサンジカルボン酸、2,2-ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,2-ビス(ヒドロキシメチル)ブタン酸、2,3-ジヒドロキシ安息香酸、2,4-ジエチルグルタル酸、2-キノリンカルボン酸、3-ヒドロキシ安息香酸、プロピオン酸、リンゴ酸、p-アニス酸、ステアリン酸、12-ヒドロキシステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、パルミチン酸、ピメリン酸、ダイマー酸、トリマー酸、ダイマー酸に水素を添加した水添物である水添ダイマー酸、トリマー酸に水素を添加した水添物である水添トリマー酸等が挙げられる。
Organic acid:
Examples of organic acids include glutaric acid, adipic acid, azelaic acid, eicosanedioic acid, citric acid, glycolic acid, succinic acid, salicylic acid, diglycolic acid, dipicolinic acid, dibutylaniline diglycolic acid, suberic acid, sebacic acid, Thioglycolic acid, dithioglycolic acid, terephthalic acid, dodecanedioic acid, p-hydroxyphenylacetic acid, picolinic acid, phenylsuccinic acid, phthalic acid, fumaric acid, maleic acid, malonic acid, lauric acid, benzoic acid, tartaric acid, tris isocyanurate (2-carboxyethyl), glycine, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 2,2-bis(hydroxymethyl)propionic acid, 2,2-bis(hydroxymethyl)butanoic acid, 2,3-dihydroxybenzoic acid, 2 , 4-diethylglutaric acid, 2-quinolinecarboxylic acid, 3-hydroxybenzoic acid, propionic acid, malic acid, p-anisic acid, stearic acid, 12-hydroxystearic acid, oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, palmitic acid , pimelic acid, dimer acid, trimer acid, hydrogenated dimer acid which is hydrogenated dimer acid, and hydrogenated trimer acid which is hydrogenated trimer acid.

有機酸は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
有機酸は、ジカルボン酸であることが好ましい。
ジカルボン酸は、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸及びセバシン酸からなる群より選択される1種以上であることが好ましく、グルタル酸、アジピン酸及びアゼライン酸からなる群より選択される1種以上であることがより好ましい。
An organic acid may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types.
Preferably, the organic acid is a dicarboxylic acid.
The dicarboxylic acid is preferably one or more selected from the group consisting of glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid and sebacic acid, and is selected from the group consisting of glutaric acid, adipic acid and azelaic acid. It is more preferable that it is one or more kinds.

前記フラックス中の、有機酸の合計の含有量は、前記フラックスの総量(100質量%)に対して3質量%以上10質量%以下であることが好ましく、5質量%以上8質量%以下がより好ましい。 The total content of organic acids in the flux is preferably 3% by mass or more and 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or more and 8% by mass or less, relative to the total amount (100% by mass) of the flux. preferable.

ハロゲン系活性剤:
ハロゲン系活性剤としては、例えば、ハロゲン化脂肪族化合物、アミンハロゲン化水素酸塩等が挙げられる。
ハロゲン系活性剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
Halogen activator:
Halogenated activators include, for example, halogenated aliphatic compounds, amine hydrohalides, and the like.
Halogen-based activators may be used singly or in combination of two or more.

ハロゲン化脂肪族化合物としては、1-ブロモ-2-プロパノール、3-ブロモ-1-プロパノール、3-ブロモ-1,2-プロパンジオール、1-ブロモ-2-ブタノール、1,3-ジブロモ-2-プロパノール、2,3-ジブロモ-1-プロパノール、1,4-ジブロモ-2-ブタノール、2,3-ジブロモ-1,4-ブタンジオール、トランス-2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール等が挙げられる。
アミンハロゲン化水素酸塩は、アミンとハロゲン化水素を反応させた化合物であり、アミンとしては、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、エチレンジアミン、1,3-ジフェニルグアニジン、1,3-ジ-o-トリルグアニジン、1-o-トリルビグアニド等が挙げられ、ハロゲン化水素としては、塩素、臭素、ヨウ素の水素化物が挙げられる。
Halogenated aliphatic compounds include 1-bromo-2-propanol, 3-bromo-1-propanol, 3-bromo-1,2-propanediol, 1-bromo-2-butanol, 1,3-dibromo-2 -propanol, 2,3-dibromo-1-propanol, 1,4-dibromo-2-butanol, 2,3-dibromo-1,4-butanediol, trans-2,3-dibromo-2-butene-1, 4-diol and the like.
Amine hydrohalides are compounds obtained by reacting amines with hydrogen halides. Examples of amines include ethylamine, diethylamine, triethylamine, ethylenediamine, 1,3-diphenylguanidine, and 1,3-di-o-tolylguanidine. , 1-o-tolylbiguanide and the like, and hydrogen halides include hydrides of chlorine, bromine and iodine.

本実施形態のフラックスは、ハロゲン系活性剤を含有することが好ましい。
本実施形態のフラックスは、ハロゲン化脂肪族化合物を含むことが好ましい。
ハロゲン化脂肪族化合物は、トランス-2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオールであることが好ましい。
The flux of this embodiment preferably contains a halogen-based activator.
The flux of this embodiment preferably contains a halogenated aliphatic compound.
Preferably, the halogenated aliphatic compound is trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol.

前記フラックス中の、ハロゲン系活性剤の合計の含有量は、前記フラックスの総量(100質量%)に対して、0質量%以上5質量%以下であることが好ましい。 The total content of the halogen-based activator in the flux is preferably 0% by mass or more and 5% by mass or less with respect to the total amount (100% by mass) of the flux.

アミン:
アミンとしては、エチルアミン、トリエチルアミン、エチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、2-メチルイミダゾール、2-ウンデシルイミダゾール、2-ヘプタデシルイミダゾール、1,2-ジメチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、1-ベンジル-2-メチルイミダゾール、1-ベンジル-2-フェニルイミダゾール、1-シアノエチル-2-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-ウンデシルイミダゾール、1-シアノエチル-2-エチル-4-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-フェニルイミダゾール、1-シアノエチル-2-ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、1-シアノエチル-2-フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4-ジアミノ-6-[2′-メチルイミダゾリル-(1′)]-エチル-s-トリアジン、2,4-ジアミノ-6-[2′-ウンデシルイミダゾリル-(1′)]-エチル-s-トリアジン、2,4-ジアミノ-6-[2′-エチル-4′-メチルイミダゾリル-(1′)]-エチル-s-トリアジン、2,4-ジアミノ-6-[2′-メチルイミダゾリル-(1′)]-エチル-s-トリアジンイソシアヌル酸付加物、2-フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2-フェニル-4,5-ジヒドロキシメチルイミダゾール、2-フェニル-4-メチル-5-ヒドロキシメチルイミダゾール、2,3-ジヒドロ-1H-ピロロ[1,2-a]ベンズイミダゾール、1-ドデシル-2-メチル-3-ベンジルイミダゾリウムクロライド、2-メチルイミダゾリン、2-フェニルイミダゾリン、2,4-ジアミノ-6-ビニル-s-トリアジン、2,4-ジアミノ-6-ビニル-s-トリアジンイソシアヌル酸付加物、2,4-ジアミノ-6-メタクリロイルオキシエチル-s-トリアジン、エポキシ-イミダゾールアダクト、2-メチルベンゾイミダゾール、2-オクチルベンゾイミダゾール、2-ペンチルベンゾイミダゾール、2-(1-エチルペンチル)ベンゾイミダゾール、2-ノニルベンゾイミダゾール、2-(4-チアゾリル)ベンゾイミダゾール、ベンゾイミダゾール、2-(2′-ヒドロキシ-5′-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2′-ヒドロキシ-3′-tert-ブチル-5′-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(2′-ヒドロキシ-3′,5′-ジ-tert-アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2′-ヒドロキシ-5′-tert-オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2′-メチレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-tert-オクチルフェノール]、6-(2-ベンゾトリアゾリル)-4-tert-オクチル-6′-tert-ブチル-4′-メチル-2,2′-メチレンビスフェノール、1,2,3-ベンゾトリアゾール、1-[N,N-ビス(2-エチルヘキシル)アミノメチル]ベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、1-[N,N-ビス(2-エチルヘキシル)アミノメチル]メチルベンゾトリアゾール、2,2′-[[(メチル-1H-ベンゾトリアゾール-1-イル)メチル]イミノ]ビスエタノール、1-(1′,2′-ジカルボキシエチル)ベンゾトリアゾール、1-(2,3-ジカルボキシプロピル)ベンゾトリアゾール、1-[(2-エチルヘキシルアミノ)メチル]ベンゾトリアゾール、2,6-ビス[(1H-ベンゾトリアゾール-1-イル)メチル]-4-メチルフェノール、5-メチルベンゾトリアゾール、5-フェニルテトラゾール等が挙げられる。
アミンは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
アミンは、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾールからなる群より選択される1種以上であることが好ましい。
Amine:
Amines include ethylamine, triethylamine, ethylenediamine, triethylenetetramine, 2-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl imidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1- Cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2,4 -diamino-6-[2'-methylimidazolyl-(1')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-[2'-undecylimidazolyl-(1')]-ethyl-s- triazine, 2,4-diamino-6-[2′-ethyl-4′-methylimidazolyl-(1′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-[2′-methylimidazolyl-( 1′)]-ethyl-s-triazine isocyanurate, 2-phenylimidazole isocyanurate, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2,3-dihydro-1H-pyrrolo[1,2-a]benzimidazole, 1-dodecyl-2-methyl-3-benzylimidazolium chloride, 2-methylimidazoline, 2-phenylimidazoline, 2,4-diamino- 6-vinyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-vinyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-s-triazine, epoxy-imidazole adduct, 2-methyl benzimidazole, 2-octylbenzimidazole, 2-pentylbenzimidazole, 2-(1-ethylpentyl)benzimidazole, 2-nonylbenzimidazole, 2-(4-thiazolyl)benzimidazole, benzimidazole, 2-(2'-hydroxy-5'-methylphenyl)benzotriazole,2-(2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl)-5-chlorobe zotriazole, 2-(2′-hydroxy-3′,5′-di-tert-amylphenyl)benzotriazole, 2-(2′-hydroxy-5′-tert-octylphenyl)benzotriazole, 2,2 '-methylenebis[6-(2H-benzotriazol-2-yl)-4-tert-octylphenol], 6-(2-benzotriazolyl)-4-tert-octyl-6'-tert-butyl-4'-methyl-2,2'-methylenebisphenol, 1,2,3-benzotriazole, 1-[N,N-bis(2-ethylhexyl)aminomethyl]benzotriazole, carboxybenzotriazole, 1-[N,N- bis(2-ethylhexyl)aminomethyl]methylbenzotriazole, 2,2'-[[(methyl-1H-benzotriazol-1-yl)methyl]imino]bisethanol, 1-(1',2'-dicarboxy ethyl)benzotriazole, 1-(2,3-dicarboxypropyl)benzotriazole, 1-[(2-ethylhexylamino)methyl]benzotriazole, 2,6-bis[(1H-benzotriazol-1-yl)methyl ]-4-methylphenol, 5-methylbenzotriazole, 5-phenyltetrazole and the like.
Amines may be used singly or in combination of two or more.
The amine is preferably one or more selected from the group consisting of 2-phenylimidazole and 2-phenyl-4-methylimidazole.

前記フラックス中の、アミンの含有量は、前記フラックスの総量(100質量%)に対して、0質量%超20質量%以下であることが好ましく、0質量%超10質量%以下であることがより好ましく、0質量%超3質量%以下であることが更に好ましく、0質量%超1質量%以下であることが特に好ましい。 The content of amine in the flux is preferably more than 0% by mass and 20% by mass or less, and more than 0% by mass and 10% by mass or less with respect to the total amount (100% by mass) of the flux. More preferably, it is more than 0% by mass and 3% by mass or less, and particularly preferably more than 0% by mass and 1% by mass or less.

<その他の成分>
また、本実施形態のフラックスは、ロジン、溶剤、チキソ剤及び活性剤に加えて、更に、その他の成分を含有してもよい。
その他の成分としては、例えば、界面活性剤、シランカップリング剤、着色剤が挙げられる。
<Other ingredients>
Moreover, the flux of the present embodiment may further contain other components in addition to the rosin, solvent, thixotropic agent and activator.
Other components include, for example, surfactants, silane coupling agents, and colorants.

界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤、弱カチオン系界面活性剤等が挙げられる。
ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコール共重合体、脂肪族アルコールポリオキシエチレン付加体、芳香族アルコールポリオキシエチレン付加体、多価アルコールポリオキシエチレン付加体等が挙げられる。
弱カチオン系界面活性剤としては、例えば、末端ジアミンポリエチレングリコール、末端ジアミンポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコール共重合体、脂肪族アミンポリオキシエチレン付加体、芳香族アミンポリオキシエチレン付加体、多価アミンポリオキシエチレン付加体が挙げられる。
Examples of surfactants include nonionic surfactants and weak cationic surfactants.
Examples of nonionic surfactants include polyethylene glycol, polyethylene glycol-polypropylene glycol copolymers, aliphatic alcohol polyoxyethylene adducts, aromatic alcohol polyoxyethylene adducts, polyhydric alcohol polyoxyethylene adducts, and the like. mentioned.
Examples of weak cationic surfactants include terminal diamine polyethylene glycol, terminal diamine polyethylene glycol-polypropylene glycol copolymer, aliphatic amine polyoxyethylene adduct, aromatic amine polyoxyethylene adduct, polyvalent amine polyoxy Ethylene adducts can be mentioned.

上記例示の界面活性剤以外の界面活性剤としては、例えば、ポリオキシアルキレンアセチレングリコール類、ポリオキシアルキレングリセリルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンエステル、ポリオキシアルキレンアルキルアミン、ポリオキシアルキレンアルキルアミド等が挙げられる。 Examples of surfactants other than the above-exemplified surfactants include polyoxyalkylene acetylene glycols, polyoxyalkylene glyceryl ethers, polyoxyalkylene alkyl ethers, polyoxyalkylene esters, polyoxyalkylene alkylamines, polyoxyalkylene alkyl and amides.

また、本実施形態のフラックスには、はんだ合金粉末の酸化を抑える目的で酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤としては、2,2’-メチレンビス[6-(1-メチルシクロヘキシル)-p-クレゾール]等のヒンダードフェノール系酸化防止剤を用いてもよい。 Moreover, an antioxidant may be used in the flux of the present embodiment for the purpose of suppressing oxidation of the solder alloy powder. As the antioxidant, a hindered phenolic antioxidant such as 2,2'-methylenebis[6-(1-methylcyclohexyl)-p-cresol] may be used.

本実施形態のフラックスには、更に、つや消し剤、消泡剤等の添加剤を加えてもよい。 Additives such as a matting agent and an antifoaming agent may be further added to the flux of the present embodiment.

以上説明した本実施形態のフラックスは、チキソ剤として、上記一般式(1)で表される特定のアミド化合物と、上記特定のポリアマイドとを組み合わせて用いることにより、リフローの際の加熱だれを十分に抑制することができる。特に、予備加熱の温度が高められた場合でも、例えば、190℃以上、更に200℃以上の場合であっても、この組み合わせを適用することにより、加熱だれを抑制することができる。 The flux of the present embodiment described above uses a combination of the specific amide compound represented by the general formula (1) and the specific polyamide as the thixotropic agent, so that heat sag during reflow is sufficiently reduced. can be suppressed to In particular, even when the preheating temperature is raised, for example, 190° C. or higher, or even 200° C. or higher, heat sagging can be suppressed by applying this combination.

(ソルダペースト)
本実施形態のソルダペーストは、はんだ合金粉末と、上述したフラックスと、を含有する。
(solder paste)
The solder paste of this embodiment contains solder alloy powder and the flux described above.

はんだ合金粉末は、Sn単体のはんだの粉体、または、Sn-Ag系、Sn-Cu系、Sn-Ag-Cu系、Sn-Bi系、Sn-In系等、あるいは、これらの合金にSb、Bi、In、Cu、Zn、As、Ag、Cd、Fe、Ni、Co、Au、Ge、P等を添加したはんだ合金の粉体で構成されてもよい。
はんだ合金粉末は、Sn-Pb系、あるいは、Sn-Pb系にSb、Bi、In、Cu、Zn、As、Ag、Cd、Fe、Ni、Co、Au、Ge、P等を添加したはんだ合金の粉体で構成されてもよい。
はんだ合金粉末は、Pbを含まないはんだであることが好ましい。
The solder alloy powder is a solder powder of single Sn, Sn--Ag-based, Sn--Cu-based, Sn--Ag--Cu-based, Sn--Bi-based, Sn--In-based, etc., or alloys thereof containing Sb , Bi, In, Cu, Zn, As, Ag, Cd, Fe, Ni, Co, Au, Ge, P or the like may be added to the solder alloy powder.
The solder alloy powder is a Sn--Pb system or a solder alloy obtained by adding Sb, Bi, In, Cu, Zn, As, Ag, Cd, Fe, Ni, Co, Au, Ge, P, etc. to the Sn--Pb system. powder.
The solder alloy powder is preferably a Pb-free solder.

フラックスの含有量:
ソルダペースト中、フラックスの含有量は、ソルダペーストの全質量に対して5~30質量%であることが好ましく、5~15質量%であることがより好ましい。
Flux content:
The flux content in the solder paste is preferably 5 to 30% by mass, more preferably 5 to 15% by mass, based on the total mass of the solder paste.

本実施形態のソルダペーストは、上述のフラックスを含むことにより、加熱だれが十分に抑制される。 Since the solder paste of the present embodiment contains the above-described flux, heat sagging is sufficiently suppressed.

また、本実施形態のフラックスは、上述した形態以外の、他の実施形態も挙げられる。
かかる他の実施形態において、フラックスは、ロジンと、溶剤と、特定のチキソ剤と、活性剤とを含有する。
In addition, the flux of the present embodiment may have other embodiments than those described above.
In other such embodiments, the flux contains a rosin, a solvent, certain thixotropic agents, and an activator.

<ロジン>
かかる他の実施形態のフラックスにおいて用いられるロジンとしては、上述したものが挙げられる。
ロジンは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
他の実施形態のフラックス中の、ロジンの含有量は、前記フラックスの総量(100質量%)に対して30質量%以上50質量%以下であることが好ましく、30質量%以上40質量%以下であることがより好ましい。
<Rosin>
Rosins used in the flux of such other embodiments include those described above.
One type of rosin may be used alone, or two or more types may be mixed and used.
The content of rosin in the flux of another embodiment is preferably 30% by mass or more and 50% by mass or less, more preferably 30% by mass or more and 40% by mass or less with respect to the total amount (100% by mass) of the flux. It is more preferable to have

<溶剤>
かかる他の実施形態のフラックスにおいて用いられる溶剤としては、上述したものが挙げられる。
溶剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
かかる他の実施形態のフラックス中の、溶剤の含有量は、前記フラックスの総量(100質量%)に対して30質量%以上60質量%以下であることが好ましく、35質量%以上55質量%以下であることがより好ましい。
<Solvent>
Solvents used in the flux of such other embodiments include those described above.
A solvent may be used individually by 1 type, and may be used in mixture of 2 or more types.
The content of the solvent in the flux of such another embodiment is preferably 30% by mass or more and 60% by mass or less, and 35% by mass or more and 55% by mass or less with respect to the total amount (100% by mass) of the flux. is more preferable.

<特定のチキソ剤>
かかる他の実施形態のフラックスは、特定のチキソ剤として、ポリアマイド(PA2)を含む。
ポリアマイド(PA2)は、脂肪族カルボン酸及びヒドロキシ基含有脂肪族カルボン酸からなる群より選択される1種類以上と、炭素数3~10の脂肪族アミンとの縮合物である。
すなわち、ポリアマイド(PA2)は、ポリアマイド(PA1)の原料であるアミンを、炭素数3~10の脂肪族アミンに特定したものである。
<Specific thixotropic agents>
Such other embodiment fluxes contain polyamide (PA2) as a specific thixotropic agent.
Polyamide (PA2) is a condensation product of one or more selected from the group consisting of aliphatic carboxylic acids and hydroxy group-containing aliphatic carboxylic acids and aliphatic amines having 3 to 10 carbon atoms.
That is, the polyamide (PA2) is obtained by specifying an aliphatic amine having 3 to 10 carbon atoms as the amine which is the raw material of the polyamide (PA1).

ポリアマイド(PA2)が由来する前記脂肪族カルボン酸は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
前記脂肪族カルボン酸としては、例えば、モノカルボン酸、ジカルボン酸、トリカルボン酸等が挙げられる。前記脂肪族カルボン酸は、モノカルボン酸又はジカルボン酸であることが好ましく、ジカルボン酸であることがより好ましい。
前記脂肪族カルボン酸の炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状又は環状のいずれであってもよい。前記炭化水素基は、直鎖状又は分岐鎖状であることが好ましく、直鎖状であることがより好ましい。
前記炭化水素基は、飽和炭化水素基であってもよいし、不飽和炭化水素基であってもよい。前記炭化水素基は、飽和炭化水素基であることが好ましい。
前記脂肪族モノカルボン酸の炭素数としては、12~22が好ましく、14~22がより好ましく、16~22が更に好ましい。
前記脂肪族モノカルボン酸としては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキジン酸、ベヘン酸等が挙げられる。前記脂肪族モノカルボン酸は、パルミチン酸又はステアリン酸であることが好ましい。
前記脂肪族ジカルボン酸の炭素数としては、11~20が好ましく、12~18がより好ましく、12~16が更に好ましい。
前記脂肪族ジカルボン酸としては、例えば、ドデカン二酸、トリデカン二酸、テトラデカン二酸、ペンタデカン二酸等が挙げられる。前記脂肪族ジカルボン酸は、ドデカン二酸であることが好ましい。
前記脂肪族カルボン酸は、ドデカン二酸と、パルミチン酸及びステアリン酸からなる群より選択される1種以上と、を含むものであってもよい。
The aliphatic carboxylic acid from which the polyamide (PA2) is derived may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the aliphatic carboxylic acid include monocarboxylic acid, dicarboxylic acid and tricarboxylic acid. The aliphatic carboxylic acid is preferably monocarboxylic acid or dicarboxylic acid, more preferably dicarboxylic acid.
The hydrocarbon group of the aliphatic carboxylic acid may be linear, branched or cyclic. The hydrocarbon group is preferably linear or branched, more preferably linear.
The hydrocarbon group may be a saturated hydrocarbon group or an unsaturated hydrocarbon group. The hydrocarbon group is preferably a saturated hydrocarbon group.
The number of carbon atoms in the aliphatic monocarboxylic acid is preferably 12-22, more preferably 14-22, and even more preferably 16-22.
Examples of the aliphatic monocarboxylic acid include lauric acid, myristic acid, pentadecyl acid, palmitic acid, margaric acid, stearic acid, nonadecanic acid, arachidic acid, and behenic acid. The aliphatic monocarboxylic acid is preferably palmitic acid or stearic acid.
The number of carbon atoms in the aliphatic dicarboxylic acid is preferably 11-20, more preferably 12-18, even more preferably 12-16.
Examples of the aliphatic dicarboxylic acid include dodecanedioic acid, tridecanedioic acid, tetradecanedioic acid, and pentadecanedioic acid. Preferably, the aliphatic dicarboxylic acid is dodecanedioic acid.
The aliphatic carboxylic acid may include dodecanedioic acid and one or more selected from the group consisting of palmitic acid and stearic acid.

ポリアマイド(PA2)が由来する前記ヒドロキシ基含有脂肪族カルボン酸は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
前記ヒドロキシ基含有脂肪族カルボン酸の炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状又は環状のいずれであってもよい。前記炭化水素基は、直鎖状又は分岐鎖状であることが好ましく、直鎖状であることがより好ましい。
前記炭化水素基は、飽和炭化水素基であってもよいし、不飽和炭化水素基であってもよい。前記炭化水素基は、飽和炭化水素基であることが好ましい。
前記ヒドロキシ基含有脂肪族カルボン酸の炭素数としては、10~25が好ましく、15~21がより好ましい。
前記ヒドロキシ基含有脂肪族カルボン酸としては、例えば、ヒドロキシペンタデカン酸、ヒドロキシヘキサデカン酸、ヒドロキシヘプタデカン酸、ヒドロキシオクタデカン酸(ヒドロキシステアリン酸)、ヒドロキシエイコサン酸、ヒドロキシヘンエイコサン酸等が挙げられる。前記ヒドロキシ基含有脂肪族カルボン酸は、ヒドロキシステアリン酸であることが好ましく、12-ヒドロキシステアリン酸であることがより好ましい。
The hydroxy group-containing aliphatic carboxylic acid from which the polyamide (PA2) is derived may be used alone or in combination of two or more.
The hydrocarbon group of the hydroxy group-containing aliphatic carboxylic acid may be linear, branched or cyclic. The hydrocarbon group is preferably linear or branched, more preferably linear.
The hydrocarbon group may be a saturated hydrocarbon group or an unsaturated hydrocarbon group. The hydrocarbon group is preferably a saturated hydrocarbon group.
The number of carbon atoms in the hydroxy group-containing aliphatic carboxylic acid is preferably 10-25, more preferably 15-21.
Examples of the hydroxy group-containing aliphatic carboxylic acid include hydroxypentadecanic acid, hydroxyhexadecanoic acid, hydroxyheptadecanoic acid, hydroxyoctadecanoic acid (hydroxystearic acid), hydroxyeicosanoic acid, and hydroxyheneicosanoic acid. The hydroxy group-containing aliphatic carboxylic acid is preferably hydroxystearic acid, more preferably 12-hydroxystearic acid.

ポリアマイド(PA2)が由来するアミンは、炭素数3~10の脂肪族アミンである。
ポリアマイド(PA2)が由来するアミンは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
前記脂肪族アミンとしては、例えば、モノアミン、ジアミン、トリアミン、テトラアミン等が挙げられる。前記アミンは、ジアミンであることが好ましい。
前記脂肪族アミンの炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状又は環状のいずれであってもよい。前記炭化水素基は、直鎖状又は分岐鎖状であることが好ましく、直鎖状であることがより好ましい。前記脂肪族アミンの炭素数としては、4~8が好ましい。
前記炭化水素基は、飽和炭化水素基であってもよいし、不飽和炭化水素基であってもよい。前記炭化水素基は、飽和炭化水素基であることが好ましい。
前記脂肪族アミンとしては、例えば、1,3-プロパンジアミン、1,4-ブタンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ブタン-1,1,4,4-テトラアミン等が挙げられる。前記脂肪族アミンは、ヘキサメチレンジアミンであることが好ましい。
Amines from which polyamide (PA2) is derived are aliphatic amines having 3 to 10 carbon atoms.
The amines from which the polyamide (PA2) is derived may be used singly or in combination of two or more.
Examples of the aliphatic amines include monoamines, diamines, triamines and tetraamines. Preferably, the amine is a diamine.
The hydrocarbon group of the aliphatic amine may be linear, branched or cyclic. The hydrocarbon group is preferably linear or branched, more preferably linear. The number of carbon atoms in the aliphatic amine is preferably 4-8.
The hydrocarbon group may be a saturated hydrocarbon group or an unsaturated hydrocarbon group. The hydrocarbon group is preferably a saturated hydrocarbon group.
Examples of the aliphatic amine include 1,3-propanediamine, 1,4-butanediamine, hexamethylenediamine, butane-1,1,4,4-tetraamine and the like. Preferably, the aliphatic amine is hexamethylenediamine.

ポリアマイド(PA2)は、脂肪族カルボン酸と、ヒドロキシ基含有モノカルボン酸と、炭素数3~10の脂肪族ジアミンとの縮合物であることが好ましい。
ポリアマイド(PA2)は、炭素数が12~20である脂肪族ジカルボン酸と、炭素数が15~21であるヒドロキシ基含有モノカルボン酸と、炭素数が4~8である脂肪族ジアミンとの縮合物であることがより好ましい。
これらの中でも、ポリアマイド(PA2)は、ドデカン二酸と、12-ヒドロキシステアリン酸と、ヘキサメチレンジアミンとの縮合物であることが更に好ましい。
ポリアマイド(PA2)は、ドデカン二酸と、パルミチン酸及びステアリン酸からなる群より選択される1種以上と、12-ヒドロキシステアリン酸と、ヘキサメチレンジアミンとの縮合物であってもよい。
Polyamide (PA2) is preferably a condensate of an aliphatic carboxylic acid, a hydroxy group-containing monocarboxylic acid, and an aliphatic diamine having 3 to 10 carbon atoms.
Polyamide (PA2) is a condensation of an aliphatic dicarboxylic acid having 12 to 20 carbon atoms, a hydroxy group-containing monocarboxylic acid having 15 to 21 carbon atoms, and an aliphatic diamine having 4 to 8 carbon atoms. It is more preferable to be a thing.
Among these, the polyamide (PA2) is more preferably a condensate of dodecanedioic acid, 12-hydroxystearic acid and hexamethylenediamine.
Polyamide (PA2) may be a condensate of dodecanedioic acid, one or more selected from the group consisting of palmitic acid and stearic acid, 12-hydroxystearic acid, and hexamethylenediamine.

ポリアマイド(PA2)は、次の特性を有するものである。
ポリアマイド(PA2)のDSCによる測定で、50℃以上190℃以下の範囲における吸熱量は、50℃以上200℃以下の範囲における総吸熱量に対して、好ましくは90%以上であり、より好ましくは92%以上であり、更に好ましくは94%以上である。
ポリアマイド(PA2)のDSCによる測定で、50℃以上195℃以下の範囲における吸熱量は、50℃以上200℃以下の範囲における総吸熱量に対して、好ましくは96%以上であり、より好ましくは98%以上であり、更に好ましくは99%以上である。
Polyamide (PA2) has the following properties.
DSC measurement of the polyamide (PA2) shows that the endothermic amount in the range of 50°C to 190°C is preferably 90% or more, more preferably 90% or more, of the total endothermic amount in the range of 50°C to 200°C. It is 92% or more, more preferably 94% or more.
DSC measurement of the polyamide (PA2) shows that the heat absorption in the range of 50°C to 195°C is preferably 96% or more, more preferably 96% or more, of the total heat absorption in the range of 50°C to 200°C. It is 98% or more, more preferably 99% or more.

ポリアマイド(PA2)のDSCによる測定で、160℃以上200℃以下の範囲における吸熱量の割合は、50℃以上200℃以下の範囲における総吸熱量に対して、30%以上であることが好ましく、40%以上であることがより好ましく、45%以上であることが更に好ましい。
ポリアマイド(PA2)のDSCによる測定で、160℃以上200℃以下の範囲における吸熱量の割合が、前記下限値以上であることにより、リフローの際の加熱だれを十分に抑制することができる。特に、予備加熱の温度が高められた場合でも、例えば、190℃以上、更に200℃以上の場合であっても、加熱だれを抑制することができる。
本明細書において、ポリアマイドの吸熱量は、ポリアマイドのDSC曲線のピーク面積から算出することができる。
DSC measurement of the polyamide (PA2) shows that the ratio of the endothermic amount in the range of 160°C to 200°C is preferably 30% or more of the total endothermic amount in the range of 50°C to 200°C. It is more preferably 40% or more, and even more preferably 45% or more.
When the ratio of heat absorption in the range of 160° C. to 200° C. measured by DSC of the polyamide (PA2) is equal to or higher than the lower limit, heat sagging during reflow can be sufficiently suppressed. In particular, even when the preheating temperature is raised, for example, 190° C. or higher, or even 200° C. or higher, heating droop can be suppressed.
In this specification, the endothermic amount of polyamide can be calculated from the peak area of the DSC curve of polyamide.

ポリアマイド(PA2)のDSCによる測定で、50℃以上150℃以下の範囲における吸熱量の割合は、50℃以上200℃以下の範囲における総吸熱量に対して、80%以下であることが好ましく、60%以下であることがより好ましく、50%以下であることが更に好ましい。
ポリアマイド(PA2)のDSCによる測定で、50℃以上180℃以下の範囲における吸熱量の割合は、50℃以上200℃以下の範囲における総吸熱量に対して、95%以下であることが好ましく、90%以下であることがより好ましく、85%以下であることが更に好ましい。
DSC measurement of the polyamide (PA2) shows that the ratio of the endothermic amount in the range of 50°C to 150°C is preferably 80% or less of the total endothermic amount in the range of 50°C to 200°C. It is more preferably 60% or less, even more preferably 50% or less.
DSC measurement of the polyamide (PA2) shows that the ratio of the endothermic amount in the range of 50°C or higher and 180°C or lower is preferably 95% or less of the total endothermic amount in the range of 50°C or higher and 200°C or lower. It is more preferably 90% or less, even more preferably 85% or less.

ポリアマイド(PA2)は、DSCによる測定の、120℃以上200℃以下の温度範囲において、1個又は2個以上の吸熱ピークを有する。
吸熱ピークの個数が1個の場合、その吸熱ピークの温度は、150℃以上200℃以下であることが好ましく、160℃以上200℃以下であることがより好ましく、170℃以上200℃以下であることが更に好ましく、180℃以上200℃以下であることが特に好ましい。
吸熱ピークの個数が2個以上の場合、ポリアマイド(PA2)は、例えば、最も低い温度の吸熱ピークが120℃以上200℃以下の範囲にあってもよいし、最も高い温度の吸熱ピークが120℃以上200℃以下の範囲にあってもよいし、全ての吸熱ピークが120℃以上200℃以下の範囲にあってもよい。
最も高い温度の吸熱ピークの温度は、150℃以上200℃以下であることが好ましく、160℃以上200℃以下であることがより好ましく、170℃以上200℃以下であることが更に好ましく、180℃以上200℃以下であることが特に好ましい。
Polyamide (PA2) has one or more endothermic peaks in the temperature range of 120° C. or higher and 200° C. or lower as measured by DSC.
When the number of endothermic peaks is one, the temperature of the endothermic peak is preferably 150° C. or higher and 200° C. or lower, more preferably 160° C. or higher and 200° C. or lower, and 170° C. or higher and 200° C. or lower. is more preferable, and 180° C. or more and 200° C. or less is particularly preferable.
When the number of endothermic peaks is 2 or more, the polyamide (PA2) may have, for example, the lowest endothermic peak at 120°C or higher and 200°C or lower, or the highest endothermic peak at 120°C. It may be in the range of 120° C. or higher and 200° C. or lower, or all the endothermic peaks may be in the range of 120° C. or higher and 200° C. or lower.
The temperature of the highest endothermic peak is preferably 150°C or higher and 200°C or lower, more preferably 160°C or higher and 200°C or lower, even more preferably 170°C or higher and 200°C or lower, and 180°C. It is particularly preferable that the temperature is above 200°C and below.

ポリアマイド(PA2)は、DSC曲線において、第1の吸熱ピーク、第2の吸熱ピーク及び第3の吸熱ピークからなる、3個の吸熱ピークを有することが好ましい。
第1の吸熱ピークの温度は、150℃未満であることが好ましく、120℃以上140℃以下であることがより好ましく、125℃以上135℃以下であることが更に好ましく、125℃以上130℃以下であることが特に好ましい。
第2の吸熱ピークの温度は、150℃以上であることが好ましく、155℃以上175℃以下であることがより好ましく、160℃以上170℃以下であることが更に好ましく、162℃以上167℃以下であることが特に好ましい。
第3の吸熱ピークの温度は、150℃以上であることが好ましく、180℃以上196℃以下であることがより好ましく、183℃以上195℃以下であることが更に好ましく、185℃以上193℃以下であることが特に好ましい。
The polyamide (PA2) preferably has three endothermic peaks in the DSC curve, consisting of a first endothermic peak, a second endothermic peak and a third endothermic peak.
The temperature of the first endothermic peak is preferably less than 150°C, more preferably 120°C or higher and 140°C or lower, even more preferably 125°C or higher and 135°C or lower, and 125°C or higher and 130°C or lower. is particularly preferred.
The temperature of the second endothermic peak is preferably 150°C or higher, more preferably 155°C or higher and 175°C or lower, even more preferably 160°C or higher and 170°C or lower, and 162°C or higher and 167°C or lower. is particularly preferred.
The temperature of the third endothermic peak is preferably 150°C or higher, more preferably 180°C or higher and 196°C or lower, even more preferably 183°C or higher and 195°C or lower, and 185°C or higher and 193°C or lower. is particularly preferred.

ポリアマイド(PA2)は、脂肪族ジカルボン酸と、ヒドロキシ基含有脂肪族モノカルボン酸と、脂肪族ジアミンとの縮合物である場合、これら原料のモル比は以下のような関係式を満たすことが好ましい。
ここで、ポリアマイド(PA2)の原料として用いる、脂肪族ジカルボン酸をXモル、ヒドロキシ基含有脂肪族モノカルボン酸をYモル、脂肪族ジアミンをZモルとする。
原料に含まれている化合物のアミノ基の総モル数は、カルボキシル基の総モル数と等しいか、あるいは、原料に含まれている化合物のアミノ基の総モル数は、カルボキシル基の総モル数よりも少ないことが好ましい。具体的には、2Z≦2X+Yを満たすことが好ましい。
原料間のモル比の関係は、0.2Y≦X≦2Yであることが好ましく、0.4Y≦X≦1.5Yであることがより好ましい。
原料間のモル比の関係は、0.5Y≦Z≦2Yであることが好ましく、0.8Y≦Z≦1.8Yであることがより好ましい。
When the polyamide (PA2) is a condensation product of an aliphatic dicarboxylic acid, a hydroxy group-containing aliphatic monocarboxylic acid, and an aliphatic diamine, the molar ratio of these raw materials preferably satisfies the following relational expression: .
Here, X mol of the aliphatic dicarboxylic acid, Y mol of the hydroxy group-containing aliphatic monocarboxylic acid, and Z mol of the aliphatic diamine are used as raw materials for the polyamide (PA2).
The total number of moles of amino groups in the compound contained in the raw material is equal to the total number of moles of carboxyl groups, or the total number of moles of amino groups in the compound contained in the raw material is equal to the total number of moles of carboxyl groups. preferably less than Specifically, it is preferable to satisfy 2Z≦2X+Y.
The molar ratio relationship between the raw materials is preferably 0.2Y≦X≦2Y, more preferably 0.4Y≦X≦1.5Y.
The molar ratio relationship between the raw materials is preferably 0.5Y≦Z≦2Y, more preferably 0.8Y≦Z≦1.8Y.

ポリアマイド(PA2)の含有量は、フラックスの総量(100質量%)に対して0.5質量%以上20質量%以下であることが好ましく、1質量%以上20質量%以下であることがより好ましく、2質量%以上20質量%以下が更に好ましく、5質量%以上20質量%以下が特に好ましく、15質量%以上20質量%以下が最も好ましい。 The content of the polyamide (PA2) is preferably 0.5% by mass or more and 20% by mass or less, more preferably 1% by mass or more and 20% by mass or less, relative to the total amount (100% by mass) of the flux. , more preferably 2% to 20% by mass, particularly preferably 5% to 20% by mass, and most preferably 15% to 20% by mass.

<その他の成分>
また、かかる他の実施形態のフラックスは、ロジン、溶剤、特定のチキソ剤及び活性剤に加えて、更に、その他の成分を含有してもよい。
その他の成分としては、例えば、ポリアマイド(PA2)以外のチキソ剤、界面活性剤、シランカップリング剤、着色剤が挙げられる。
その他のチキソ剤としては、例えば、ポリアマイド(PA2)以外のアマイド系チキソ剤、ワックス系チキソ剤、ソルビトール系チキソ剤等が挙げられる。
その他のチキソ剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
<Other ingredients>
Also, the flux of such other embodiments may contain other ingredients in addition to the rosin, solvent, certain thixotropic agents and activators.
Other components include, for example, thixotropic agents other than polyamide (PA2), surfactants, silane coupling agents, and colorants.
Other thixotropic agents include, for example, amide-based thixotropic agents other than polyamide (PA2), wax-based thixotropic agents, sorbitol-based thixotropic agents, and the like.
Other thixotropic agents may be used singly or in combination of two or more.

前記フラックス中の、アマイド系チキソ剤の合計の含有量は、前記フラックスの総量(100質量%)に対して0.5質量%以上30質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以上20質量%以下であることがより好ましく、5質量%以上20質量%以下であることが更に好ましい。 The total content of the amide-based thixotropic agent in the flux is preferably 0.5% by mass or more and 30% by mass or less with respect to the total amount (100% by mass) of the flux, and is 0.5% by mass or more. It is more preferably 20% by mass or less, and even more preferably 5% by mass or more and 20% by mass or less.

前記フラックス中の、ワックス系チキソ剤の含有量は、前記フラックスの総量(100質量%)に対して0質量%以上10質量%以下であることが好ましく、2質量%以上7質量%以下であることがより好ましく、3質量%以上6質量%以下であることが更に好ましい。
前記フラックス中の、ワックス系チキソ剤の含有量は、前記アマイド系チキソ剤及びワックス系チキソ剤の総量(100質量%)に対して12質量%以上100質量%以下であることが好ましく、18質量%以上100質量%以下であることがより好ましく、33質量%以上100質量%以下であることが更に好ましく、60質量%以上100質量%以下であることが特に好ましい。
The content of the wax-based thixotropic agent in the flux is preferably 0% by mass or more and 10% by mass or less, and is 2% by mass or more and 7% by mass or less with respect to the total amount (100% by mass) of the flux. is more preferable, and more preferably 3% by mass or more and 6% by mass or less.
The content of the wax-based thixotropic agent in the flux is preferably 12% by mass or more and 100% by mass or less with respect to the total amount (100% by mass) of the amide-based thixotropic agent and the wax-based thixotropic agent, and is 18% by mass. % or more and 100 mass % or less, more preferably 33 mass % or more and 100 mass % or less, and particularly preferably 60 mass % or more and 100 mass % or less.

前記フラックス中の、ソルビトール系チキソ剤の含有量は、前記フラックスの総量(100質量%)に対して0質量%以上5.0質量%以下であることが好ましく、0質量%以上3.5質量%以下がより好ましい。 The content of the sorbitol-based thixotropic agent in the flux is preferably 0% by mass or more and 5.0% by mass or less with respect to the total amount (100% by mass) of the flux, and 0% by mass or more and 3.5% by mass. % or less is more preferable.

かかる他の実施形態のフラックスは、前記フラックスに含まれるポリアマイド(PA2)が、190℃、195℃において溶融し、流動性が十分に高いため、ボイドの発生を十分に抑制することができる。
また、かかる他の実施形態のフラックスは、前記フラックスに含まれるポリアマイド(PA2)が、150℃、180℃において一部溶融しないため、加熱だれを十分に抑制することができる。特に、予備加熱の温度が高められた場合でも、例えば、190℃以上、更に200℃以上の場合であっても、加熱だれを抑制することができる。
In the flux of such another embodiment, the polyamide (PA2) contained in the flux melts at 190° C. and 195° C. and has sufficiently high fluidity, so voids can be sufficiently suppressed.
Moreover, in the flux of such another embodiment, the polyamide (PA2) contained in the flux does not partially melt at 150° C. and 180° C., so heat sagging can be sufficiently suppressed. In particular, even when the preheating temperature is raised, for example, 190° C. or higher, or even 200° C. or higher, heating droop can be suppressed.

(ソルダペースト)
ソルダペーストの他の実施形態は、はんだ合金粉末と、かかる他の実施形態のフラックスと、を含有する。
(solder paste)
Other embodiments of solder pastes contain solder alloy powders and fluxes of such other embodiments.

はんだ合金粉末は、Sn単体のはんだの粉体、または、Sn-Ag系、Sn-Cu系、Sn-Ag-Cu系、Sn-Bi系、Sn-In系等、あるいは、これらの合金にSb、Bi、In、Cu、Zn、As、Ag、Cd、Fe、Ni、Co、Au、Ge、P等を添加したはんだ合金の粉体で構成されてもよい。
はんだ合金粉末は、Sn-Pb系、あるいは、Sn-Pb系にSb、Bi、In、Cu、Zn、As、Ag、Cd、Fe、Ni、Co、Au、Ge、P等を添加したはんだ合金の粉体で構成されてもよい。
はんだ合金粉末は、Pbを含まないはんだであることが好ましい。
The solder alloy powder is a solder powder of single Sn, Sn--Ag-based, Sn--Cu-based, Sn--Ag--Cu-based, Sn--Bi-based, Sn--In-based, etc., or alloys thereof containing Sb , Bi, In, Cu, Zn, As, Ag, Cd, Fe, Ni, Co, Au, Ge, P or the like may be added to the solder alloy powder.
The solder alloy powder is a Sn--Pb system or a solder alloy obtained by adding Sb, Bi, In, Cu, Zn, As, Ag, Cd, Fe, Ni, Co, Au, Ge, P, etc. to the Sn--Pb system. powder.
The solder alloy powder is preferably a Pb-free solder.

フラックスの含有量:
他の実施形態のソルダペースト中、フラックスの含有量は、ソルダペーストの全質量に対して5~30質量%であることが好ましく、5~15質量%であることがより好ましい。
Flux content:
The flux content in the solder paste of another embodiment is preferably 5 to 30% by mass, more preferably 5 to 15% by mass, based on the total mass of the solder paste.

本実施形態のソルダペーストは、かかる他の実施形態のフラックスを含むことにより、加熱だれが十分に抑制される。また、ボイドの発生が十分に抑制される。 Since the solder paste of the present embodiment contains the flux of the other embodiment, heat sagging is sufficiently suppressed. Moreover, generation of voids is sufficiently suppressed.

以下、実施例により本発明を説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples.

<ロジン>
ロジンとして、アクリル酸変性水添ロジン、重合ロジン、水添ロジンを用いた。
<Rosin>
As the rosin, acrylic acid-modified hydrogenated rosin, polymerized rosin, and hydrogenated rosin were used.

<チキソ剤>
チキソ剤として、チキソ剤A、チキソ剤B、ビスアマイド、ポリアマイドを用いた。
チキソ剤A:N,N’-ビス(2-ステアロアミドエチル)-アゼライカミド
チキソ剤Aは、下記化学式(3-1)で表される化合物である。
<Thixotropic agent>
As thixotropic agents, thixotropic agent A, thixotropic agent B, bisamide and polyamide were used.
Thixotropic agent A: N,N'-bis(2-stearoamidoethyl)-azelicamide The thixotropic agent A is a compound represented by the following chemical formula (3-1).

Figure 0007137097000006
Figure 0007137097000006

チキソ剤B:N,N’-ビス(2-ステアロアミドエチル)-セバカミド
チキソ剤Bは、下記化学式(3-2)で表される化合物である。
Thixotropic agent B: N,N'-bis(2-stearoamidoethyl)-sebacamide The thixotropic agent B is a compound represented by the following chemical formula (3-2).

Figure 0007137097000007
Figure 0007137097000007

ポリアマイドとして、次の方法により得られたもの(ポリアマイド(PA1))を用いた。
(ポリアマイド 調製例1)
12-ヒドロキシステアリン酸とドデカン二酸を加えて約100℃まで加熱し、その後ヘキサメチレンジアミンを加えて約220℃まで加熱して3時間保持し、調製例1のポリアマイドを得た。
原料として用いた、ドデカン二酸をXモル、12-ヒドロキシステアリン酸をYモル、ヘキサメチレンジアミンをZモルとする。原料のモル数は、2Z=2X+Yの関係を満たすものであった。
(ポリアマイド 調製例2)
12-ヒドロキシステアリン酸とセバシン酸を加えて約100℃まで加熱し、その後ヘキサメチレンジアミンを加えて約220℃まで加熱して3時間保持し、調製例2のポリアマイドを得た。
原料として用いた、セバシン酸をXモル、12-ヒドロキシステアリン酸をYモル、ヘキサメチレンジアミンをZモルとする。原料のモル数は、2Z=2X+Yの関係を満たすものであった。
As the polyamide, one obtained by the following method (polyamide (PA1)) was used.
(Polyamide Preparation Example 1)
12-Hydroxystearic acid and dodecanedioic acid were added and heated to about 100° C., then hexamethylenediamine was added and heated to about 220° C. and held for 3 hours to obtain a polyamide of Preparation Example 1.
Let X mol of dodecanedioic acid, Y mol of 12-hydroxystearic acid, and Z mol of hexamethylenediamine be used as raw materials. The number of moles of raw materials satisfied the relationship of 2Z=2X+Y.
(Polyamide Preparation Example 2)
12-Hydroxystearic acid and sebacic acid were added and heated to about 100°C, then hexamethylenediamine was added and heated to about 220°C and maintained for 3 hours to obtain a polyamide of Preparation Example 2.
X mol of sebacic acid, Y mol of 12-hydroxystearic acid, and Z mol of hexamethylenediamine used as raw materials. The number of moles of raw materials satisfied the relationship of 2Z=2X+Y.

得られたポリアマイドの吸熱ピークの温度は、DSC(Differential Scanning Calorimetry、示差走査熱量測定)により測定した。
より具体的な吸熱ピークの測定方法としては、窒素雰囲気下、約10mgのポリアマイドを、昇温速度を20℃/minに設定し、25℃から350℃まで昇温することにより測定した。測定機器としては、DSC7020(日立ハイテクサイエンス製)を用いた。測定結果を図1に示す。図1は、得られたポリアマイド 調製例1のDSC曲線を示す図である。ピークトップの温度を、吸熱ピークの温度と定義した。
得られたポリアマイドは、全ての吸熱ピークのピークトップの温度が120℃以上200℃以下であった。
The endothermic peak temperature of the obtained polyamide was measured by DSC (Differential Scanning Calorimetry).
As a more specific method for measuring the endothermic peak, about 10 mg of polyamide was heated from 25° C. to 350° C. under a nitrogen atmosphere at a temperature elevation rate of 20° C./min. DSC7020 (manufactured by Hitachi High-Tech Science) was used as a measuring instrument. The measurement results are shown in FIG. FIG. 1 is a diagram showing the DSC curve of the obtained polyamide preparation example 1. FIG. The peak top temperature was defined as the endothermic peak temperature.
The resulting polyamide had a peak top temperature of all endothermic peaks of 120° C. or higher and 200° C. or lower.

ビスアマイドとして、エチレンビスステアリン酸アマイド(商品名:スリパックスE)を用いた。 Ethylene bis stearamide (trade name: Slipax E) was used as the bisamide.

<活性剤>
有機酸として、アジピン酸、アゼライン酸、グルタル酸を用いた。
ハロゲン系活性剤として、トランス-2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオールを用いた。
アミンとして、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾールを用いた。
<Activator>
Adipic acid, azelaic acid, and glutaric acid were used as organic acids.
Trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol was used as the halogen-based activator.
2-phenylimidazole and 2-phenyl-4-methylimidazole were used as amines.

<溶剤>
溶剤として、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテルを用いた。
<Solvent>
Diethylene glycol monohexyl ether was used as the solvent.

<フラックスの調製>
(実施例1~15、比較例1~4)
以下の表1~表3に示す組成で、実施例及び比較例の各フラックスを調合した。
なお、表1~表3における各成分の含有量は、フラックスの全質量を100質量%とした場合の質量%であり、空欄は0質量%を意味する。
<Preparation of Flux>
(Examples 1 to 15, Comparative Examples 1 to 4)
Fluxes of Examples and Comparative Examples were prepared according to the compositions shown in Tables 1 to 3 below.
The content of each component in Tables 1 to 3 is mass % when the total mass of the flux is 100 mass %, and a blank means 0 mass %.

<ソルダペーストの調製>
各例のフラックスと、下記のはんだ合金粉末とをそれぞれ混合してソルダペーストを調合した。
はんだ合金粉末として、Agが3.0質量%、Cuが0.5質量%、残部がSnであるSn-Ag-Cu系のはんだ合金を用いた。
はんだ合金粉末は、JIS Z 3284-1:2014における粉末サイズの分類(表2)において記号4を満たすサイズ(粒度分布)のものを用いた。
調合したソルダペーストは、いずれも、フラックスを11質量%、はんだ合金粉末を89質量%とした。
<Preparation of Solder Paste>
A solder paste was prepared by mixing the flux of each example and the following solder alloy powder.
As the solder alloy powder, a Sn--Ag--Cu solder alloy containing 3.0% by mass of Ag, 0.5% by mass of Cu, and the balance of Sn was used.
The solder alloy powder used had a size (particle size distribution) satisfying symbol 4 in the powder size classification (Table 2) in JIS Z 3284-1:2014.
All of the prepared solder pastes contained 11% by mass of flux and 89% by mass of solder alloy powder.

<印刷だれの評価>
ソルダペーストの印刷時のだれを評価した。この結果を表1~表3に示した。
<Evaluation of print droop>
The drooping of the solder paste during printing was evaluated. The results are shown in Tables 1-3.

測定方法:
得られたソルダペーストについて、JIS Z 3284-3:2014の「印刷時のだれ試験」に記載された方法に従って、印刷だれを評価した。「印刷時のだれ試験」の図6中のI(孔のサイズ 3.0×0.7)に示すパターン孔を配したメタルマスクを用いて、ソルダペーストを印刷して試験板を得た。試験板について、印刷されたソルダペースト全てが一体にならない最小間隔を評価した。
Measuring method:
The resulting solder paste was evaluated for printing sagging according to the method described in JIS Z 3284-3:2014, "Test for sagging during printing." Solder paste was printed using a metal mask having patterned holes shown in FIG. The test boards were evaluated for the minimum spacing at which all of the printed solder paste did not come together.

<加熱だれの評価>
フラックスと、はんだ合金粉末とをそれぞれ混合して得られたソルダペーストの加熱時のだれを評価した。この結果を表1~表3に示した。
<Evaluation of heating sauce>
A solder paste obtained by mixing a flux and a solder alloy powder was evaluated for drooping during heating. The results are shown in Tables 1-3.

測定方法:
得られたソルダペーストについて、JIS Z 3284-3:2014の「加熱時のだれ試験」に記載された方法に従って、加熱だれを評価した。まず、「印刷時のだれ試験」の図6中のI(孔のサイズ 3.0×0.7)に示すパターン孔を配したメタルマスクを用いて、ソルダペーストを印刷して試験板を得た。得られた試験板を、空気循環式加熱炉において200℃に加熱した。加熱後の試験板について、印刷されたソルダペースト全てが一体にならない最小間隔を評価した。
Measuring method:
Heat sagging was evaluated for the obtained solder paste according to the method described in JIS Z 3284-3:2014, "Test for sagging during heating". First, solder paste was printed using a metal mask having patterned holes shown in I (hole size 3.0×0.7) in FIG. rice field. The obtained test plate was heated to 200° C. in an air circulation heating furnace. After heating, the test board was evaluated for the minimum spacing at which all of the printed solder paste did not come together.

<加熱だれ抑制能の評価>
判定基準:
〇:加熱だれの評価値が0.5mm以下であるか、加熱だれの評価値と印刷だれの評価値との差が0.2mm以下である。
×:加熱だれの評価値が0.6mm以上であるか、加熱だれの評価値と印刷だれの評価値との差が0.3mm以上である。
<Evaluation of Heat Sagging Suppression Ability>
criterion:
Good: The evaluation value of heat smear is 0.5 mm or less, or the difference between the evaluation value of heat smear and the evaluation value of print smear is 0.2 mm or less.
x: The evaluation value of heat smear is 0.6 mm or more, or the difference between the evaluation value of heat smear and the evaluation value of print smear is 0.3 mm or more.

Figure 0007137097000008
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Figure 0007137097000009
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Figure 0007137097000010
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実施例1に示すように、ロジンとしてアクリル酸変性水添ロジンを含み、チキソ剤としてチキソ剤A及びポリアマイド(調製例1)を含み、活性剤としてアジピン酸、アゼライン酸、トランス-2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール、2-フェニルイミダゾール及び2-フェニル-4-メチルイミダゾールを含み、溶剤としてジエチレングリコールモノヘキシルエーテルを含むフラックスは、加熱だれ抑制能を十分なものとすることができた。 As shown in Example 1, acrylic acid-modified hydrogenated rosin is included as rosin, thixotropic agent A and polyamide (Preparation Example 1) are included as thixotropic agent, and adipic acid, azelaic acid, trans-2,3- Flux containing dibromo-2-butene-1,4-diol, 2-phenylimidazole and 2-phenyl-4-methylimidazole and containing diethylene glycol monohexyl ether as a solvent should have sufficient ability to suppress heat sagging. was made.

実施例2に示すように、ロジンの種類を変更して、重合ロジンを含み、チキソ剤としてチキソ剤A及びポリアマイド(調製例1)を含み、活性剤としてアジピン酸、アゼライン酸、トランス-2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール、2-フェニルイミダゾール及び2-フェニル-4-メチルイミダゾールを含み、溶剤としてジエチレングリコールモノヘキシルエーテルを含むフラックスは、加熱だれ抑制能を十分なものとすることができた。 As shown in Example 2, the type of rosin was changed to include polymerized rosin, thixotropic agent A and polyamide (Preparation Example 1) were included as thixotropic agents, and adipic acid, azelaic acid, trans-2, trans-2, A flux containing 3-dibromo-2-butene-1,4-diol, 2-phenylimidazole and 2-phenyl-4-methylimidazole and containing diethylene glycol monohexyl ether as a solvent has a sufficient ability to suppress heat sagging. We were able to.

実施例3に示すように、ロジンの種類を変更して、水添ロジンを含み、チキソ剤としてチキソ剤A及びポリアマイド(調製例1)を含み、活性剤としてアジピン酸、アゼライン酸、トランス-2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール、2-フェニルイミダゾール及び2-フェニル-4-メチルイミダゾールを含み、溶剤としてジエチレングリコールモノヘキシルエーテルを含むフラックスは、加熱だれ抑制能を十分なものとすることができた。 As shown in Example 3, the type of rosin was changed to include hydrogenated rosin, thixotropic agent A and polyamide (Preparation Example 1) were included as thixotropic agents, and adipic acid, azelaic acid and trans-2 were used as active agents. ,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, 2-phenylimidazole and 2-phenyl-4-methylimidazole, and diethylene glycol monohexyl ether as a solvent have sufficient heat sag suppression ability. I was able to

実施例4に示すように、ロジンとしてアクリル酸変性水添ロジンを含み、チキソ剤Aの含有量を減らし、ポリアマイド(調製例1)を含み、活性剤としてアジピン酸、アゼライン酸、トランス-2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール、2-フェニルイミダゾール及び2-フェニル-4-メチルイミダゾールを含み、溶剤としてジエチレングリコールモノヘキシルエーテルを含むフラックスは、加熱だれ抑制能を十分なものとすることができた。 As shown in Example 4, acrylic acid-modified hydrogenated rosin is included as rosin, the content of thixotropic agent A is reduced, polyamide (Preparation Example 1) is included, and activators are adipic acid, azelaic acid, trans-2, A flux containing 3-dibromo-2-butene-1,4-diol, 2-phenylimidazole and 2-phenyl-4-methylimidazole and containing diethylene glycol monohexyl ether as a solvent has a sufficient ability to suppress heat sagging. We were able to.

実施例5に示すように、ロジンとしてアクリル酸変性水添ロジンを含み、チキソ剤Aの含有量を増やし、ポリアマイド(調製例1)を含み、活性剤としてアジピン酸、アゼライン酸、トランス-2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール、2-フェニルイミダゾール及び2-フェニル-4-メチルイミダゾールを含み、溶剤としてジエチレングリコールモノヘキシルエーテルを含むフラックスは、加熱だれ抑制能を十分なものとすることができた。 As shown in Example 5, acrylic acid-modified hydrogenated rosin is contained as rosin, the content of thixotropic agent A is increased, polyamide (Preparation Example 1) is contained, and adipic acid, azelaic acid, trans-2, trans-2, A flux containing 3-dibromo-2-butene-1,4-diol, 2-phenylimidazole and 2-phenyl-4-methylimidazole and containing diethylene glycol monohexyl ether as a solvent has a sufficient ability to suppress heat sagging. We were able to.

実施例6に示すように、ロジンとしてアクリル酸変性水添ロジンを含み、チキソ剤の種類を変更して、チキソ剤B及びポリアマイド(調製例1)を含み、活性剤としてアジピン酸、アゼライン酸、トランス-2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール、2-フェニルイミダゾール及び2-フェニル-4-メチルイミダゾールを含み、溶剤としてジエチレングリコールモノヘキシルエーテルを含むフラックスは、加熱だれ抑制能を十分なものとすることができた。 As shown in Example 6, acrylic acid-modified hydrogenated rosin is included as rosin, the type of thixotropic agent is changed to include thixotropic agent B and polyamide (Preparation Example 1), and adipic acid, azelaic acid, and adipic acid are used as activators. A flux containing trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, 2-phenylimidazole and 2-phenyl-4-methylimidazole and containing diethylene glycol monohexyl ether as a solvent has an ability to suppress heat sagging. was able to suffice.

実施例7に示すように、ロジンとしてアクリル酸変性水添ロジンを含み、チキソ剤Bの含有量を減らし、ポリアマイド(調製例1)を含み、活性剤としてアジピン酸、アゼライン酸、トランス-2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール、2-フェニルイミダゾール及び2-フェニル-4-メチルイミダゾールを含み、溶剤としてジエチレングリコールモノヘキシルエーテルを含むフラックスは、加熱だれ抑制能を十分なものとすることができた。 As shown in Example 7, acrylic acid-modified hydrogenated rosin is contained as rosin, the content of thixotropic agent B is reduced, polyamide (Preparation Example 1) is contained, and activators are adipic acid, azelaic acid, trans-2, A flux containing 3-dibromo-2-butene-1,4-diol, 2-phenylimidazole and 2-phenyl-4-methylimidazole and containing diethylene glycol monohexyl ether as a solvent has a sufficient ability to suppress heat sagging. We were able to.

実施例8に示すように、ロジンとしてアクリル酸変性水添ロジンを含み、チキソ剤Bの含有量を増やし、ポリアマイド(調製例1)を含み、活性剤としてアジピン酸、アゼライン酸、トランス-2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール、2-フェニルイミダゾール及び2-フェニル-4-メチルイミダゾールを含み、溶剤としてジエチレングリコールモノヘキシルエーテルを含むフラックスは、加熱だれ抑制能を十分なものとすることができた。 As shown in Example 8, acrylic acid-modified hydrogenated rosin is included as rosin, the content of thixotropic agent B is increased, polyamide (Preparation Example 1) is included, and adipic acid, azelaic acid, trans-2, A flux containing 3-dibromo-2-butene-1,4-diol, 2-phenylimidazole and 2-phenyl-4-methylimidazole and containing diethylene glycol monohexyl ether as a solvent has a sufficient ability to suppress heat sagging. We were able to.

実施例9に示すように、アクリル酸変性水添ロジンの含有量を減らし、チキソ剤としてチキソ剤A及びポリアマイド(調製例1)を含み、活性剤としてアジピン酸、アゼライン酸、トランス-2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール、2-フェニルイミダゾール及び2-フェニル-4-メチルイミダゾールを含み、溶剤としてジエチレングリコールモノヘキシルエーテルを含むフラックスは、加熱だれ抑制能を十分なものとすることができた。 As shown in Example 9, the content of acrylic acid-modified hydrogenated rosin was reduced, thixotropic agent A and polyamide (Preparation Example 1) were included as thixotropic agents, and adipic acid, azelaic acid and trans-2,3 were used as active agents. Flux containing dibromo-2-butene-1,4-diol, 2-phenylimidazole and 2-phenyl-4-methylimidazole and containing diethylene glycol monohexyl ether as a solvent has sufficient ability to suppress heat sagging. I was able to

実施例10に示すように、アクリル酸変性水添ロジンの含有量を増やし、チキソ剤としてチキソ剤A及びポリアマイド(調製例1)を含み、活性剤としてアジピン酸、アゼライン酸、トランス-2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール、2-フェニルイミダゾール及び2-フェニル-4-メチルイミダゾールを含み、溶剤としてジエチレングリコールモノヘキシルエーテルを含むフラックスは、加熱だれ抑制能を十分なものとすることができた。 As shown in Example 10, the content of acrylic acid-modified hydrogenated rosin was increased, thixotropic agent A and polyamide (Preparation Example 1) were included as thixotropic agents, and adipic acid, azelaic acid and trans-2,3 were used as active agents. Flux containing dibromo-2-butene-1,4-diol, 2-phenylimidazole and 2-phenyl-4-methylimidazole and containing diethylene glycol monohexyl ether as a solvent has sufficient ability to suppress heat sagging. I was able to

実施例11に示すように、ロジンとしてアクリル酸変性水添ロジンを含み、チキソ剤としてチキソ剤A、チキソ剤B及びポリアマイド(調製例1)を含み、チキソ剤A及びチキソ剤Bの合計の含有量を減らし、活性剤としてアジピン酸、アゼライン酸、トランス-2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール、2-フェニルイミダゾール及び2-フェニル-4-メチルイミダゾールを含み、溶剤としてジエチレングリコールモノヘキシルエーテルを含むフラックスは、加熱だれ抑制能を十分なものとすることができた。 As shown in Example 11, acrylic acid-modified hydrogenated rosin is included as rosin, thixotropic agent A, thixotropic agent B and polyamide (Preparation Example 1) are included as thixotropic agents, and thixotropic agent A and thixotropic agent B are contained in total. Adipic acid, azelaic acid, trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, 2-phenylimidazole and 2-phenyl-4-methylimidazole as active agents and diethylene glycol as solvent. A flux containing monohexyl ether was able to achieve a sufficient ability to suppress heat sagging.

実施例12に示すように、ロジンとしてアクリル酸変性水添ロジンを含み、チキソ剤としてチキソ剤A、チキソ剤B及びポリアマイド(調製例1)を含み、チキソ剤A及びチキソ剤Bの合計の含有量を増やし、活性剤としてアジピン酸、アゼライン酸、トランス-2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール、2-フェニルイミダゾール及び2-フェニル-4-メチルイミダゾールを含み、溶剤としてジエチレングリコールモノヘキシルエーテルを含むフラックスは、加熱だれ抑制能を十分なものとすることができた。 As shown in Example 12, an acrylic acid-modified hydrogenated rosin is included as a rosin, and thixotropic agent A, thixotropic agent B and polyamide (Preparation Example 1) are included as thixotropic agents, and the total content of thixotropic agent A and thixotropic agent B is included. increased amounts to include adipic acid, azelaic acid, trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, 2-phenylimidazole and 2-phenyl-4-methylimidazole as activators and diethylene glycol as solvent A flux containing monohexyl ether was able to achieve a sufficient ability to suppress heat sagging.

実施例13に示すように、ロジンとしてアクリル酸変性水添ロジンを含み、チキソ剤としてチキソ剤A、ビスアマイド及びポリアマイド(調製例1)を含み、活性剤としてアジピン酸、アゼライン酸、トランス-2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール、2-フェニルイミダゾール及び2-フェニル-4-メチルイミダゾールを含み、溶剤としてジエチレングリコールモノヘキシルエーテルを含むフラックスは、加熱だれ抑制能を十分なものとすることができた。 As shown in Example 13, acrylic acid-modified hydrogenated rosin is included as rosin, thixotropic agent A, bisamide and polyamide (Preparation Example 1) are included as thixotropic agents, and adipic acid, azelaic acid, trans-2, trans-2, A flux containing 3-dibromo-2-butene-1,4-diol, 2-phenylimidazole and 2-phenyl-4-methylimidazole and containing diethylene glycol monohexyl ether as a solvent has a sufficient ability to suppress heat sagging. We were able to.

実施例14に示すように、ロジンとしてアクリル酸変性水添ロジンを含み、チキソ剤としてチキソ剤A及びポリアマイド(調製例1)を含み、活性剤としてグルタル酸、トランス-2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール、2-フェニルイミダゾール及び2-フェニル-4-メチルイミダゾールを含み、溶剤としてジエチレングリコールモノヘキシルエーテルを含むフラックスは、加熱だれ抑制能を十分なものとすることができた。 As shown in Example 14, acrylic acid-modified hydrogenated rosin is included as rosin, thixotropic agent A and polyamide (Preparation Example 1) are included as thixotropic agents, and glutaric acid and trans-2,3-dibromo-2 are used as active agents. A flux containing -butene-1,4-diol, 2-phenylimidazole and 2-phenyl-4-methylimidazole and containing diethylene glycol monohexyl ether as a solvent was able to achieve a sufficient ability to suppress heat sagging. .

実施例15に示すように、ロジンとしてアクリル酸変性水添ロジンを含み、チキソ剤としてチキソ剤A及びポリアマイド(調製例2)を含み、活性剤としてアジピン酸、アゼライン酸、トランス-2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール、2-フェニルイミダゾール及び2-フェニル-4-メチルイミダゾールを含み、溶剤としてジエチレングリコールモノヘキシルエーテルを含むフラックスは、加熱だれ抑制能を十分なものとすることができた。 As shown in Example 15, acrylic acid-modified hydrogenated rosin is included as rosin, thixotropic agent A and polyamide (Preparation Example 2) are included as thixotropic agents, and adipic acid, azelaic acid, trans-2,3- Flux containing dibromo-2-butene-1,4-diol, 2-phenylimidazole and 2-phenyl-4-methylimidazole and containing diethylene glycol monohexyl ether as a solvent should have sufficient ability to suppress heat sagging. was made.

実施例1~14のフラックスは、上記一般式(1)で表される化合物及びポリアマイド(調製例1)を含むことで、200℃の加熱だれ抑制能を十分なものとすることができた。
実施例15のフラックスは、上記一般式(1)で表される化合物及びポリアマイド(調製例2)を含むことで、200℃の加熱だれ抑制能を十分なものとすることができた。
これに対し、比較例1、4のフラックスは、チキソ剤A及びチキソ剤Bを含まず、200℃の加熱だれ抑制能が不十分であった。
また、比較例2、3のフラックスは、ポリアマイド(調製例1)及びポリアマイド(調製例2)を含まず、200℃の加熱だれ抑制能が不十分であった。
これらの結果から、一般式(1)で表される化合物及びポリアマイドを含むことにより、加熱だれ抑制能を十分なものとすることができることが明らかになった。
The fluxes of Examples 1 to 14 contained the compound represented by the above general formula (1) and the polyamide (Preparation Example 1), and were able to achieve a sufficient ability to suppress heating sagging at 200°C.
Since the flux of Example 15 contained the compound represented by the above general formula (1) and polyamide (Preparation Example 2), it was possible to achieve a sufficient ability to suppress heating sagging at 200°C.
On the other hand, the fluxes of Comparative Examples 1 and 4 did not contain the thixotropic agent A and the thixotropic agent B, and had an insufficient ability to suppress heating sagging at 200°C.
In addition, the fluxes of Comparative Examples 2 and 3 did not contain polyamide (Preparation Example 1) and polyamide (Preparation Example 2), and had insufficient ability to suppress heating sagging at 200°C.
From these results, it has been clarified that by including the compound represented by the general formula (1) and the polyamide, it is possible to obtain a sufficient ability to suppress heat sagging.

以下に示すように、調製例1のポリアマイド、調製例2のポリアマイドを調製した。これらのポリアマイドを用いて、フラックス及びソルダペーストを調製し、加熱だれ、ボイドの発生について、評価した。 As shown below, the polyamide of Preparation Example 1 and the polyamide of Preparation Example 2 were prepared. Using these polyamides, flux and solder paste were prepared and evaluated for heat sagging and void generation.

ポリアマイドとして、次の方法により得られたもの(ポリアマイド(PA2))を用いた。
(ポリアマイド 調製例1)
12-ヒドロキシステアリン酸とドデカン二酸を加えて約100℃まで加熱し、その後ヘキサメチレンジアミンを加えて約220℃まで加熱して3時間保持し、調製例1のポリアマイドを得た。
原料として用いた、ドデカン二酸をXモル、12-ヒドロキシステアリン酸をYモル、ヘキサメチレンジアミンをZモルとする。原料のモル数は、2Z=2X+Yの関係を満たすものであった。
(ポリアマイド 調製例2)
12-ヒドロキシステアリン酸とセバシン酸を加えて約100℃まで加熱し、その後ヘキサメチレンジアミンを加えて約220℃まで加熱して3時間保持し、調製例2のポリアマイドを得た。
原料として用いた、セバシン酸をXモル、12-ヒドロキシステアリン酸をYモル、ヘキサメチレンジアミンをZモルとする。原料のモル数は、2Z=2X+Yの関係を満たすものであった。
As the polyamide, one obtained by the following method (polyamide (PA2)) was used.
(Polyamide Preparation Example 1)
12-Hydroxystearic acid and dodecanedioic acid were added and heated to about 100° C., then hexamethylenediamine was added and heated to about 220° C. and held for 3 hours to obtain a polyamide of Preparation Example 1.
Let X mol of dodecanedioic acid, Y mol of 12-hydroxystearic acid, and Z mol of hexamethylenediamine be used as raw materials. The number of moles of raw materials satisfied the relationship of 2Z=2X+Y.
(Polyamide Preparation Example 2)
12-Hydroxystearic acid and sebacic acid were added and heated to about 100°C, then hexamethylenediamine was added and heated to about 220°C and maintained for 3 hours to obtain a polyamide of Preparation Example 2.
X mol of sebacic acid, Y mol of 12-hydroxystearic acid, and Z mol of hexamethylenediamine used as raw materials. The number of moles of raw materials satisfied the relationship of 2Z=2X+Y.

<吸熱ピークの測定>
調製例1及び調製例2のポリアマイドの吸熱ピークの温度は、DSC(Differential Scanning Calorimetry、示差走査熱量測定)により測定した。
より具体的な吸熱ピークの測定方法としては、窒素雰囲気下、約7mgの調製例1及び調製例2の各ポリアマイドを、昇温速度を20℃/minに設定し、30℃から220℃まで昇温することにより測定した。測定機器としては、DSC7020(日立ハイテクサイエンス製)を用いた。ピークトップの温度を、吸熱ピークの温度と定義した。
測定結果を図2、3に示す。
図2は、調製例1のポリアマイドの吸熱ピークであり、図3は、調製例2のポリアマイドの吸熱ピークである。
<Measurement of endothermic peak>
The endothermic peak temperatures of the polyamides of Preparation Examples 1 and 2 were measured by DSC (Differential Scanning Calorimetry).
As a more specific method for measuring the endothermic peak, about 7 mg of each of the polyamides of Preparation Examples 1 and 2 was heated from 30° C. to 220° C. at a rate of 20° C./min under a nitrogen atmosphere. It was measured by heating. DSC7020 (manufactured by Hitachi High-Tech Science) was used as a measuring instrument. The peak top temperature was defined as the endothermic peak temperature.
Measurement results are shown in FIGS.
2 shows the endothermic peak of the polyamide of Preparation Example 1, and FIG. 3 shows the endothermic peak of the polyamide of Preparation Example 2. FIG.

<吸熱量の割合の評価>
調製例1及び調製例2のポリアマイドについて、ある特定温度における吸熱量の割合を次のように算出した。
ポリアマイドの吸熱量は、ポリアマイドのDSC曲線のピーク面積から算出した。
ここで、「ある特定温度における吸熱量の割合」とは、50℃以上200℃以下の範囲における総吸熱量に対する、50℃以上特定温度以下の範囲における吸熱量を意味する。
結果を図4~7に示す。
図4は、調製例1のポリアマイドの吸熱量の割合と温度との関係を示すグラフであり、図5は、調製例2のポリアマイドの吸熱量の割合と温度との関係を示すグラフである。
図6は、図4の一部を拡大した、調製例1のポリアマイドの吸熱量の割合と温度の関係を示すグラフである。
図7は、図5の一部を拡大した、調製例2のポリアマイドの吸熱量の割合と温度の関係を示すグラフである。
<Evaluation of heat absorption ratio>
For the polyamides of Preparation Examples 1 and 2, the ratio of endothermic amount at a certain specific temperature was calculated as follows.
The endothermic amount of polyamide was calculated from the peak area of the DSC curve of polyamide.
Here, the "ratio of heat absorption at a specific temperature" means the heat absorption in the range of 50°C or higher and the specific temperature or lower with respect to the total heat absorption in the range of 50°C or higher and 200°C or lower.
The results are shown in Figures 4-7.
4 is a graph showing the relationship between the heat absorption rate and temperature of the polyamide of Preparation Example 1, and FIG. 5 is a graph showing the relationship between the heat absorption rate and temperature of the polyamide of Preparation Example 2.
FIG. 6 is a graph showing the relationship between the heat absorption ratio of the polyamide of Preparation Example 1 and the temperature, which is an enlarged part of FIG.
FIG. 7 is a graph showing the relationship between the heat absorption ratio of the polyamide of Preparation Example 2 and the temperature, which is an enlarged part of FIG.

調製例1のポリアマイドは、190℃における吸熱量の割合が90%以上であり、195℃における吸熱量の割合は98%以上であった。
これに対し、調製例2のポリアマイドは、190℃における吸熱量の割合が90%未満であり、195℃における吸熱量の割合は98%未満であった。
調製例1のポリアマイドの195℃以上200℃以下における吸熱量の割合は、調製例2のポリアマイドの195℃以上200℃以下の吸熱量の割合と比べて、小さいことが明らかになった。
The polyamide of Preparation Example 1 had an endothermic rate of 90% or more at 190°C and an endothermic rate of 98% or more at 195°C.
In contrast, the polyamide of Preparation Example 2 had an endothermic rate of less than 90% at 190°C and an endothermic rate of less than 98% at 195°C.
It was found that the ratio of the endothermic amount of the polyamide of Preparation Example 1 at 195° C. or higher and 200° C. or lower was smaller than that of the polyamide of Preparation Example 2 at 195° C. or higher and 200° C. or lower.

<ロジン>
ロジンとして、アクリル酸変性水添ロジン、重合ロジン、水添ロジンを用いた。
<Rosin>
As the rosin, acrylic acid-modified hydrogenated rosin, polymerized rosin, and hydrogenated rosin were used.

<チキソ剤>
チキソ剤として、調製例1及び調製例2のポリアマイド、ヘキサメチレンビスヒドロキシステアリン酸アマイド、硬化ひまし油を用いた。
<Thixotropic agent>
As thixotropic agents, the polyamides of Preparation Examples 1 and 2, hexamethylenebishydroxystearic acid amide, and hydrogenated castor oil were used.

<活性剤>
有機酸として、アジピン酸、スベリン酸、水添ダイマー酸を用いた。
ハロゲン系活性剤として、トランス-2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオールを用いた。
アミンとして、2-フェニルイミダゾールを用いた。
<Activator>
Adipic acid, suberic acid, and hydrogenated dimer acid were used as organic acids.
Trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol was used as the halogen-based activator.
2-phenylimidazole was used as the amine.

<溶剤>
溶剤として、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテルを用いた。
<Solvent>
Diethylene glycol monohexyl ether was used as the solvent.

<フラックスの調製>
(試験例1~14)
以下の表4に示す組成で、試験例の各フラックスを調合した。
試験例1~13のフラックスは、ロジンと、溶剤と、ポリアマイド(PA2)と、活性剤とを含有する。
試験例14のフラックスは、ロジンと、溶剤と、活性剤とを含有し、ポリアマイド(PA2)を含有しない。
なお、表4における各成分の含有量は、フラックスの全質量を100質量%とした場合の質量%であり、空欄は0質量%を意味する。
<Preparation of Flux>
(Test Examples 1 to 14)
Each flux of the test example was prepared with the composition shown in Table 4 below.
The fluxes of Test Examples 1-13 contain rosin, solvent, polyamide (PA2), and activator.
The flux of Test Example 14 contains rosin, solvent, and activator, but does not contain polyamide (PA2).
The content of each component in Table 4 is mass % when the total mass of the flux is 100 mass %, and a blank means 0 mass %.

<ソルダペーストの調製>
各例のフラックスと、下記のはんだ合金粉末とをそれぞれ混合してソルダペーストを調合した。
はんだ合金粉末として、Agが3.0質量%、Cuが0.5質量%、残部がSnであるSn-Ag-Cu系のはんだ合金を用いた。
はんだ合金粉末は、JIS Z 3284-1:2014における粉末サイズの分類(表2)において記号4を満たすサイズ(粒度分布)のものを用いた。
調合したソルダペーストは、いずれも、フラックスを11質量%、はんだ合金粉末を89質量%とした。
<Preparation of Solder Paste>
A solder paste was prepared by mixing the flux of each example and the following solder alloy powder.
As the solder alloy powder, a Sn--Ag--Cu solder alloy containing 3.0% by mass of Ag, 0.5% by mass of Cu, and the balance of Sn was used.
The solder alloy powder used had a size (particle size distribution) satisfying symbol 4 in the powder size classification (Table 2) in JIS Z 3284-1:2014.
All of the prepared solder pastes contained 11% by mass of flux and 89% by mass of solder alloy powder.

<加熱だれの評価>
フラックスと、はんだ合金粉末とをそれぞれ混合して得られたソルダペーストの加熱時のだれを評価した。
<Evaluation of heating sauce>
A solder paste obtained by mixing a flux and a solder alloy powder was evaluated for drooping during heating.

測定方法:
得られたソルダペーストについて、JIS Z 3284-3:2014の「加熱時のだれ試験」に記載された方法に従って、加熱だれを評価した。まず、「印刷時のだれ試験」の図6中のI(孔のサイズ 3.0×0.7)、及び、図6中のII(孔のサイズ 3.0×1.5)に示すパターン孔を配したメタルマスクを用いて、ソルダペーストを印刷して試験板を得た。得られた試験板を、空気循環式加熱炉において150℃又は200℃に加熱した。加熱後の試験板について、印刷されたソルダペースト全てが一体にならない最小間隔(単位はmm)を評価した。この結果を表4に示した。
Measuring method:
Heat sagging was evaluated for the obtained solder paste according to the method described in JIS Z 3284-3:2014, "Test for sagging during heating". First, patterns shown in I (hole size 3.0×0.7) in FIG. 6 and II (hole size 3.0×1.5) in FIG. A test board was obtained by printing a solder paste using a metal mask with holes. The obtained test plates were heated to 150° C. or 200° C. in an air circulation heating furnace. The test board after heating was evaluated for the minimum distance (unit: mm) at which all the printed solder pastes were not integrated. The results are shown in Table 4.

<ボイド発生の評価>
メタルマスク(開口径0.30mm、マスク厚0.12mm)を用いて、基板(Cu-OSP処理ガラスエポキシ基板)にソルダペーストを印刷し、LGA(Land Grid Array:端子処理Auフラッシュ、ピッチ:0.5mm、φ:0.3mm、バンプ数:160個)を搭載した。
続いて、大気リフローにより、40~150℃まで3~4℃/秒で昇温し、150~175℃で80~90秒間保持し、175~240℃まで1~2℃/秒で昇温し、220℃以上で35~45秒間保持した。
続いて、X線観察装置(マーストーケンソリューション製 TUX-3200)を用いて、LGA搭載部を撮影した。3個のLGA(総計480個のバンプ)について、同様にデータを取得した。
480個の各バンプにおいて、それぞれ、バンプのランド面積に対するボイドの総面積の割合を算出した。得られた割合の平均値を算出し、ボイド面積率とした。この結果を表4に示した。
また、バンプの総数(480個)に対する、ボイドを有しないバンプの個数の割合を算出し、これをボイド未発生率とした。この結果を表4に示した。
<Evaluation of void generation>
Using a metal mask (opening diameter 0.30 mm, mask thickness 0.12 mm), solder paste is printed on the substrate (Cu-OSP treated glass epoxy substrate), LGA (Land Grid Array: terminal processing Au flash, pitch: 0 .5 mm, φ: 0.3 mm, number of bumps: 160).
Subsequently, by atmospheric reflow, the temperature was raised from 40 to 150°C at a rate of 3 to 4°C/sec, held at 150 to 175°C for 80 to 90 seconds, and then raised to 175 to 240°C at a rate of 1 to 2°C/sec. , and held at 220° C. or higher for 35 to 45 seconds.
Subsequently, the LGA mounting part was imaged using an X-ray observation device (TUX-3200 manufactured by Mars Thoken Solution). Data were similarly acquired for 3 LGAs (480 bumps total).
For each of the 480 bumps, the ratio of the total area of voids to the land area of the bump was calculated. The average value of the obtained ratios was calculated and used as the void area ratio. The results are shown in Table 4.
Also, the ratio of the number of bumps having no void to the total number of bumps (480) was calculated, and this was taken as the non-void generation rate. The results are shown in Table 4.

ボイド面積率の判定基準:
○:ボイド面積率が、1.2%以下である。
×:ボイド面積率が、1.2%超である。
Judgment criteria for void area ratio:
○: The void area ratio is 1.2% or less.
x: The void area ratio is more than 1.2%.

ボイド未発生率の判定基準:
○:ボイド未発生率が、35%以上である。
×:ボイド未発生率が、35%未満である。
Criteria for non-void occurrence rate:
○: The void non-occurrence rate is 35% or more.
x: The void non-occurrence rate is less than 35%.

Figure 0007137097000011
Figure 0007137097000011

試験例1~6、8~13は、調製例1のポリアマイドを含み、200℃の加熱だれの抑制能が十分であった。
試験例14は、ポリアマイドを含まず、200℃の加熱だれの抑制能が不十分であった。
試験例1~12は、調製例1のポリアマイドを含み、ボイドの発生の抑制能が十分であった。
試験例13は、調製例2のポリアマイドを含み、ボイドの発生の抑制能が不十分であった。
Test Examples 1 to 6 and 8 to 13 contained the polyamide of Preparation Example 1, and had a sufficient ability to suppress heating sagging at 200°C.
Test Example 14 did not contain polyamide, and had an insufficient ability to suppress heat drooping at 200°C.
Test Examples 1 to 12 contained the polyamide of Preparation Example 1, and had a sufficient ability to suppress the generation of voids.
Test Example 13 contained the polyamide of Preparation Example 2, and was insufficient in suppressing the generation of voids.

調製例1のポリアマイドは、炭素数が12であるドデカン二酸を原料として用いて調製されたものである。
調製例2のポリアマイドは、炭素数が10であるセバシン酸を原料として用いて調製されたものである。
一般に、脂質等の有機化合物は、炭素数が多いほど、融点は高くなる。
意外にも、調製例1のポリアマイドは、50℃以上190℃以下の吸熱量の割合、50℃以上195℃以下の吸熱量の割合が十分に高いため、試験例1~12は、ボイドの発生の抑制能が十分であった。
また、調製例2のポリアマイドは、50℃以上190℃以下の吸熱量の割合、50℃以上195℃以下の吸熱量の割合が十分に高くないため、試験例13は、ボイドの発生の抑制能が不十分であった。
The polyamide of Preparation Example 1 was prepared using dodecanedioic acid having 12 carbon atoms as a starting material.
The polyamide of Preparation Example 2 was prepared using sebacic acid having 10 carbon atoms as a starting material.
In general, organic compounds such as lipids have a higher melting point as the number of carbon atoms increases.
Surprisingly, in the polyamide of Preparation Example 1, the ratio of the amount of heat absorption at 50° C. or higher and 190° C. or lower and the ratio of the amount of heat absorption at 50° C. or higher and 195° C. or lower are sufficiently high. was sufficient to suppress the
In addition, the polyamide of Preparation Example 2 does not have a sufficiently high ratio of the amount of heat absorbed at 50°C or higher and 190°C or lower and the ratio of the amount of heat absorbed at 50°C or higher and 195°C or lower. was insufficient.

調製例1のポリアマイドは、190℃、195℃における流動性が十分に高いため、試験例1~12は、ボイドの発生の抑制能が十分であったと推測される。
調製例2のポリアマイドは、190℃、195℃における流動性が十分に高くないため、試験例13は、ボイドの発生の抑制能が不十分であったと推測される。
Since the polyamide of Preparation Example 1 has sufficiently high fluidity at 190° C. and 195° C., it is presumed that Test Examples 1 to 12 had sufficient ability to suppress the generation of voids.
Since the polyamide of Preparation Example 2 does not have sufficiently high fluidity at 190° C. and 195° C., it is presumed that Test Example 13 was insufficient in suppressing the generation of voids.

本発明によれば、リフローの際の加熱だれを十分に抑制することができるフラックス及びソルダペーストを提供することができる。このフラックス及びソルダペーストは、面積が大きい基板のはんだ付けに好適に用いることができる。 According to the present invention, it is possible to provide a flux and a solder paste that can sufficiently suppress heat sagging during reflow. This flux and solder paste can be suitably used for soldering a substrate having a large area.

Claims (3)

ロジンと、溶剤と、チキソ剤と、活性剤とを含有し、
前記チキソ剤は、下記一般式(3)で表される化合物及びポリアマイドを含み、
前記ポリアマイドは、脂肪族カルボン酸と、ヒドロキシ基含有脂肪族カルボン酸と、アミンとの縮合物であり、且つ、示差走査熱量測定による吸熱ピークの温度が120℃以上200℃以下であり、
前記脂肪族カルボン酸は、ジカルボン酸を含み、
前記ロジンの含有量は、フラックスの総質量に対して30質量%以上50質量%以下であり、
下記一般式(3)で表される化合物の含有量は、フラックスの総質量に対して1質量%以上10質量%以下であり、
前記ポリアマイドの含有量は、フラックスの総質量に対して1質量%以上15質量%以下である、フラックス。
Figure 0007137097000012
[式中、R11及びR11’は、それぞれ独立に、炭素数14~20の炭化水素基を表す。R0a及びR0a’は、それぞれ、水素原子を表す。R0b2は、炭素数6~9の炭化水素基を表す。R21及びR21’は、それぞれ独立に、炭素数2~6のアルキレン基を表す。R0c及びR0c’は、それぞれ、単結合を表す。]
containing a rosin, a solvent, a thixotropic agent and an activator;
The thixotropic agent contains a compound and a polyamide represented by the following general formula (3),
The polyamide is a condensate of an aliphatic carboxylic acid, a hydroxy group-containing aliphatic carboxylic acid, and an amine, and has an endothermic peak temperature of 120° C. or higher and 200° C. or lower by differential scanning calorimetry,
The aliphatic carboxylic acid includes a dicarboxylic acid,
The content of the rosin is 30% by mass or more and 50% by mass or less with respect to the total mass of the flux,
The content of the compound represented by the following general formula (3) is 1% by mass or more and 10% by mass or less with respect to the total mass of the flux,
The flux, wherein the content of the polyamide is 1% by mass or more and 15% by mass or less with respect to the total mass of the flux.
Figure 0007137097000012
[In the formula, R 11 and R 11′ each independently represent a hydrocarbon group having 14 to 20 carbon atoms. R 0a and R 0a' each represent a hydrogen atom. R 0b2 represents a hydrocarbon group having 6 to 9 carbon atoms. R 21 and R 21′ each independently represent an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms. R 0c and R 0c' each represent a single bond. ]
前記一般式(3)で表される化合物は、N,N’-ビス(2-ステアロアミドエチル)-セバカミド又はN,N’-ビス(2-ステアロアミドエチル)-アゼライカミドである、請求項1に記載のフラックス。 wherein the compound represented by the general formula (3) is N,N'-bis(2-stearamidoethyl)-sebacamide or N,N'-bis(2-stearoamidoethyl)-azelicamide; Item 1. The flux according to item 1. はんだ合金粉末と、請求項1又は2に記載のフラックスと、を含有する、ソルダペースト。 A solder paste containing solder alloy powder and the flux according to claim 1 or 2 .
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