JP6575702B1 - Flux and solder paste - Google Patents

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Abstract

【課題】チキソ性を付与し、かつ、印刷性、印刷ダレの抑制能、加熱ダレの抑制能に優れたフラックス及びフラックスを用いたソルダペーストを提供する。【解決手段】フラックスは、チキソ剤と、酸変性ロジンと、溶剤を含み、チキソ剤は、ジカルボン酸及び/またはトリカルボン酸とジアミン及び/またはトリアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物と、モノカルボン酸、ジカルボン酸及び/またはトリカルボン酸が非環状に重縮合した非環状アミド化合物からなる。環状アミド化合物は、ジカルボン酸及びトリカルボン酸の炭素数が3以上10以下、ジアミン及びトリアミンの炭素数が2以上54以下であり、環状アミド化合物を0.1wt%以上8.0wt%以下、非環状アミド化合物を0.5wt%以上8.0wt%以下含み、かつ、環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量が1.5wt%以上10.0wt%以下である。【選択図】無しThe present invention provides a flux and a solder paste using a flux that imparts thixotropy and is excellent in printability, printing sag suppression ability, and heating sag suppression ability. A flux includes a thixotropic agent, an acid-modified rosin, and a solvent. The thixotropic agent includes a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of dicarboxylic acid and / or tricarboxylic acid and diamine and / or triamine, and monocarboxylic acid. It consists of an acyclic amide compound in which an acid, a dicarboxylic acid and / or a tricarboxylic acid are acyclic polycondensed. In the cyclic amide compound, the carbon number of the dicarboxylic acid and the tricarboxylic acid is 3 to 10 and the carbon number of the diamine and the triamine is 2 to 54, and the cyclic amide compound is 0.1 wt% to 8.0 wt%, acyclic The amide compound is contained in an amount of 0.5 wt% or more and 8.0 wt% or less, and the total amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 1.5 wt% or more and 10.0 wt% or less. [Selection figure] None

Description

本発明は、はんだ付けに用いられるフラックス及びこのフラックスを用いたソルダペーストに関する。   The present invention relates to a flux used for soldering and a solder paste using the flux.

一般的に、はんだ付けに用いられるフラックスは、はんだ及びはんだ付けの対象となる接合対象物の金属表面に存在する金属酸化物を化学的に除去し、両者の境界で金属元素の移動を可能にする効能を持つ。このため、フラックスを使用してはんだ付けを行うことで、はんだと接合対象物の金属表面との間に金属間化合物が形成できるようになり、強固な接合が得られる。   In general, the flux used for soldering chemically removes metal oxides present on the metal surface of the solder and the object to be soldered, and enables movement of metal elements at the boundary between the two. Has the effect of For this reason, by performing soldering using a flux, an intermetallic compound can be formed between the solder and the metal surface of the object to be joined, and a strong joint can be obtained.

このようなはんだ付け用フラックスと、金属粉を含むソルダペーストでは、フラックスに含まれるチキソ剤によってチキソ性が付与される。チキソ剤は、フラックス中でネットワークを構築し、チキソ性を付与する。チキソ性を有するとフラックスはせん断力が掛かると、粘度が下がるため印刷性等の作業性が向上する。また、チキソ剤を含むことで、印刷ダレと称す印刷後のソルダペーストのダレ、加熱ダレと称す加熱により溶融する際のソルダペーストのダレがチキソ剤により形成されたネットワークにより保持されることでフラックスのダレが抑制される。   In such a soldering flux and a solder paste containing metal powder, thixotropy is imparted by a thixotropic agent contained in the flux. The thixotropic agent builds a network in the flux and imparts thixotropic properties. When the flux has a thixotropy, when the shearing force is applied, the viscosity is lowered, so that workability such as printability is improved. In addition, by including a thixotropic agent, the sag of the solder paste after printing called printing sag and the sag of the solder paste when melted by heating called heating sag are retained by the network formed by the thixotropic agent. Sag is suppressed.

チキソ剤としては、チキソ性の付与、印刷性の向上、印刷ダレ、加熱ダレの抑制の観点から脂肪酸とアミンが脱水縮合したアミド化合物からなるアミド系チキソ剤が使用されている(例えば、特許文献1参照)。また、チキソ剤としては、ヒマシ硬化油からなるエステル系チキソ剤が使用されている。   As the thixotropic agent, an amide-based thixotropic agent comprising an amide compound obtained by dehydration condensation of a fatty acid and an amine is used from the viewpoint of imparting thixotropy, improving printability, suppressing printing sagging, and heating sagging (for example, Patent Documents). 1). As the thixotropic agent, an ester-based thixotropic agent made of castor oil is used.

特許第3350767号公報Japanese Patent No. 3350767

アミド系チキソ剤では、アミド結合により分子内、分子間で水素結合を形成しやすく、高分子になると相溶性も悪く、均一な分散が難しく、それにより印刷性が安定しない。また、高分子のアミド化合物の量を増やすと、極度に粘度が高くなるため、印刷性が悪くなる。更に、エステル系チキソ剤でも、加熱ダレを十分に抑制することができない。また、はんだ付け時の熱履歴の違いによって実装後の仕上がり、例えば濡れ速度等が全く違う場合がある。そのため、どのような熱履歴でも安定して仕上がりのよいはんだ付けが可能となるフラックスが求められる。   Amide-based thixotropic agents easily form hydrogen bonds within and between molecules due to amide bonds, and when they become polymers, they have poor compatibility and are difficult to disperse uniformly, thereby making printability unstable. Further, when the amount of the polymer amide compound is increased, the viscosity becomes extremely high, so that the printability is deteriorated. Furthermore, even with ester thixotropic agents, heating sag cannot be sufficiently suppressed. In addition, the finish after mounting, for example, the wetting speed may be completely different depending on the difference in thermal history during soldering. Therefore, there is a demand for a flux that enables stable soldering with a good finish regardless of the thermal history.

本発明は、このような課題を解決するためなされたもので、チキソ性を付与し、かつ、印刷性、印刷ダレの抑制能、加熱ダレの抑制能、はんだの濡れ速度に優れたフラックス及びフラックスを用いたソルダペーストを提供することを目的とする。   The present invention has been made in order to solve such problems, and provides a thixotropy and has excellent printability, ability to suppress printing sag, ability to suppress heat sag, and excellent solder wetting speed. It aims at providing the solder paste using.

環状アミド化合物と非環状アミド化合物からなるチキソ剤と、酸変性ロジンを含むフラックスでは、チキソ性を向上させ、このフラックスと金属粉を含むソルダペーストでは、印刷性を向上させ、かつ、印刷ダレと加熱ダレを抑制できることを見出した。また、このフラックスを使用してはんだ付けを行うと、はんだの濡れ速度が向上することを見出した。   A thixotropic agent composed of a cyclic amide compound and an acyclic amide compound and a flux containing an acid-modified rosin improves thixotropy. A solder paste containing this flux and metal powder improves printability, and It was found that heating sag can be suppressed. Moreover, when soldering was performed using this flux, it discovered that the wetting speed of the solder improved.

そこで、本発明は、酸変性ロジンと、チキソ剤と、溶剤を含み、酸変性ロジンを5.0wt%以上50.0wt%以下、酸変性ロジン以外の他のロジンを0wt%以上50wt%以下含み、酸変性ロジンと他のロジンの含有量の合計は35wt%以上60wt%以下であり、チキソ剤は、環状アミド化合物と非環状アミド化合物からなり、環状アミド化合物を0.1wt%以上8.0wt%以下、非環状アミド化合物を0.5wt%以上8.0wt%以下で含み、かつ、環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計が1.5wt%以上10.0wt%以下であり、環状アミド化合物は、ジカルボン酸及び/またはトリカルボン酸と、ジアミン及び/またはトリアミンが環状に重縮合した分子量が3000以下のアミド化合物であり、非環状アミド化合物は、モノカルボン酸、ジカルボン酸及び/またはトリカルボン酸と、モノアミン、ジアミン及び/またはトリアミンが非環状に縮合したアミド化合物であるフラックスである。 Therefore, the present invention includes an acid-modified rosin, a thixotropic agent, and a solvent, and includes an acid-modified rosin of 5.0 wt% to 50.0 wt% and a rosin other than the acid-modified rosin of 0 wt% to 50 wt%. The total content of the acid-modified rosin and the other rosin is 35 wt% or more and 60 wt% or less, and the thixotropic agent is composed of a cyclic amide compound and an acyclic amide compound. %, A non-cyclic amide compound is contained in an amount of 0.5 wt% or more and 8.0 wt% or less, and the total of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 1.5 wt% or more and 10.0 wt% or less. Is an amide compound having a molecular weight of 3000 or less obtained by cyclic polycondensation of dicarboxylic acid and / or tricarboxylic acid and diamine and / or triamine. Bromide compound is a flux is amide compound monocarboxylic acids, dicarboxylic acids and / or tricarboxylic acids, monoamines, diamines and / or triamines fused to acyclic.

環状アミド化合物は、ジカルボン酸及びトリカルボン酸の炭素数が3以上10以下であることが好ましく、環状アミド化合物は、ジカルボン酸及びトリカルボン酸の炭素数が6以上10以下であることがより好ましい。   The cyclic amide compound preferably has 3 to 10 carbon atoms in the dicarboxylic acid and the tricarboxylic acid, and the cyclic amide compound has more preferably 6 to 10 carbon atoms in the dicarboxylic acid and the tricarboxylic acid.

また、環状アミド化合物は、ジアミン及びトリアミンの炭素数が2以上54以下であることが好ましく、環状アミド化合物は、ジアミン及びトリアミンの炭素数が6であるであることがより好ましい。   The cyclic amide compound preferably has 2 or more and 54 or less carbon atoms in the diamine and triamine, and the cyclic amide compound more preferably has 6 carbon atoms in the diamine and triamine.

さらに、環状アミド化合物は、炭素数が3以上10以下のジカルボン酸と、炭素数が2以上54以下のジアミンが環状に重縮合したアミド化合物であることが好ましく、環状アミド化合物は、炭素数が6以上10以下のジカルボン酸と、炭素数が6のジアミンが環状に重縮合したアミド化合物であることがより好ましい。   Further, the cyclic amide compound is preferably an amide compound obtained by cyclic polycondensation of a dicarboxylic acid having 3 to 10 carbon atoms and a diamine having 2 to 54 carbon atoms, and the cyclic amide compound has a carbon number. It is more preferably an amide compound obtained by cyclic polycondensation of 6 or more and 10 or less dicarboxylic acid and a diamine having 6 carbon atoms.

また、環状アミド化合物は、ジカルボン酸及びトリカルボン酸の炭素数が3以上10以下、ジアミン及びトリアミンの炭素数が2以上54以下であり、非環状アミド化合物は、モノカルボン酸、ジカルボン酸及びトリカルボン酸の炭素数が2以上28以下、モノアミン、ジアミン及びトリアミンの炭素数が0以上54以下であることが好ましい。   The cyclic amide compound has a carbon number of dicarboxylic acid and tricarboxylic acid of 3 or more and 10 or less, and the diamine and triamine have a carbon number of 2 or more and 54 or less, and the acyclic amide compound is a monocarboxylic acid, dicarboxylic acid or tricarboxylic acid. It is preferable that carbon number of 2 or more and 28 or less, and monoamine, diamine and triamine have 0 or more and 54 or less carbon atoms.

また、チキソ剤は、さらにエステル化合物を含むことが好ましく、チキソ剤は、エステル化合物としてヒマシ硬化油を含むことがより好ましい。   Moreover, it is preferable that a thixotropic agent contains an ester compound further, and it is more preferable that a thixotropic agent contains a castor hydrogenated oil as an ester compound.

さらに、チキソ剤は、環状アミド化合物を0.5wt%以上1.5wt%以下、非環状アミド化合物を0.5wt%以上4.0wt%以下含むことが好ましく、チキソ剤は、エステル化合物を0wt%以上8.0wt%以下含むことが好ましい。   Further, the thixotropic agent preferably contains a cyclic amide compound in an amount of 0.5 wt% to 1.5 wt% and an acyclic amide compound in an amount of 0.5 wt% to 4.0 wt%, and the thixotropic agent contains an ester compound in an amount of 0 wt%. It is preferable to contain 8.0 wt% or less.

さらに、有機酸を0wt%以上10wt%以下、アミンを0wt%以上20wt%、有機ハロゲン化合物を0wt%以上5wt%以下、アミンハロゲン化水素酸塩を0wt%以上2wt%以下、酸化防止剤を0wt%以上5wt%以下含むことが好ましい。   Furthermore, the organic acid is 0 wt% or more and 10 wt% or less, the amine is 0 wt% or more and 20 wt%, the organic halogen compound is 0 wt% or more and 5 wt% or less, the amine hydrohalide is 0 wt% or more and 2 wt% or less, and the antioxidant is 0 wt%. % To 5 wt% or less is preferable.

また、本発明は、上述したフラックスと、金属粉を含むソルダペーストである。   Moreover, this invention is the solder paste containing the flux mentioned above and metal powder.

環状アミド化合物と非環状アミド化合物からなるチキソ剤では、非環状アミド化合物が低分子の環状アミド化合物で架橋されることで、本発明のフラックスでは、チキソ剤が非環状アミド化合物からなる場合と比較して、非環状アミド化合物の含有量を増やすことなく、チキソ性を向上させることができ、チキソ剤の析出を抑制することができる。また、酸変性ロジンは、はんだ付けで想定される温度域での耐熱性を有し、はんだ付け時に活性剤として機能する。   In the thixotropic agent consisting of a cyclic amide compound and a non-cyclic amide compound, the non-cyclic amide compound is cross-linked with a low-molecular cyclic amide compound. And thixotropy can be improved without increasing content of an acyclic amide compound, and precipitation of a thixotropic agent can be suppressed. The acid-modified rosin has heat resistance in the temperature range assumed for soldering and functions as an activator during soldering.

このフラックスを用いたソルダペーストでは、にじみ、かすれ等が抑制された良好な印刷性を得ることができ、また、印刷後のソルダペーストが流れる印刷ダレを抑制することができる。更に、はんだ付け時の加熱によるソルダペーストの加熱ダレを抑制することができる。また、熱負荷の大きい条件下でも良好な濡れ速度を示し、所望の濡れ速度が得られる。   With the solder paste using this flux, it is possible to obtain good printability in which bleeding, blurring and the like are suppressed, and it is possible to suppress printing sag through which the solder paste after printing flows. Furthermore, the heating sag of the solder paste due to heating during soldering can be suppressed. In addition, a good wetting rate is exhibited even under conditions with a large heat load, and a desired wetting rate is obtained.

ジカルボン酸の分子構造の概要を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the outline | summary of the molecular structure of dicarboxylic acid. ジアミンの分子構造の概要を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the outline | summary of the molecular structure of diamine. 非環状アミド化合物の分子構造の概要を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the outline | summary of the molecular structure of an acyclic amide compound. 非環状アミド化合物の分子構造の概要を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the outline | summary of the molecular structure of an acyclic amide compound. 環状アミド化合物の分子構造の概要を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the outline | summary of the molecular structure of a cyclic amide compound. 環状アミド化合物で非環状アミド化合物を架橋した分子構造の概要を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the outline | summary of the molecular structure which bridge | crosslinked the acyclic amide compound with the cyclic amide compound.

<本実施の形態のフラックスの一例>
本実施の形態のフラックスは、チキソ剤と、酸変性ロジンと、溶剤を含む。チキソ剤は、環状アミド化合物と非環状アミド化合物からなる。
<Example of flux of this embodiment>
The flux of the present embodiment includes a thixotropic agent, an acid-modified rosin, and a solvent. The thixotropic agent is composed of a cyclic amide compound and an acyclic amide compound.

環状アミド化合物は、ジカルボン酸及び/またはトリカルボン酸と、ジアミン及び/またはトリアミンが環状に重縮合した分子量が3000以下、とりわけ分子量が1000以下の低分子系アミド化合物である。また、非環状アミド化合物は、モノカルボン酸、ジカルボン酸及び/またはトリカルボン酸と、モノアミン、ジアミン及び/またはトリアミンが非環状に重縮合した分子量が3000以下の非環状アミドオリゴマーや、分子量が3000超の非環状高分子系アミドポリマーである。   The cyclic amide compound is a low molecular amide compound having a molecular weight of 3000 or less, particularly a molecular weight of 1000 or less, obtained by cyclic polycondensation of dicarboxylic acid and / or tricarboxylic acid and diamine and / or triamine. Further, the acyclic amide compound is a non-cyclic amide oligomer having a molecular weight of 3000 or less, which is a non-cyclic polycondensation of monocarboxylic acid, dicarboxylic acid and / or tricarboxylic acid and monoamine, diamine and / or triamine, or a molecular weight of more than 3000. This is an acyclic high molecular amide polymer.

図1は、ジカルボン酸の分子構造の概要を示す模式図、図2は、ジアミンの分子構造の概要を示す模式図、図3は、非環状アミド化合物の分子構造の概要を示す模式図である。図1に示すジカルボン酸と、図2に示すジアミンを重縮合(脱水縮合)させることで、図3に示すように、非環状アミド化合物が合成される。   FIG. 1 is a schematic diagram showing an outline of the molecular structure of a dicarboxylic acid, FIG. 2 is a schematic diagram showing an outline of the molecular structure of a diamine, and FIG. 3 is a schematic diagram showing an outline of the molecular structure of an acyclic amide compound. . As shown in FIG. 3, an acyclic amide compound is synthesized by polycondensation (dehydration condensation) of the dicarboxylic acid shown in FIG. 1 and the diamine shown in FIG.

図3に示す非環状アミド化合物からなるチキソ剤は、図1に示すジカルボン酸のカルボキシル基(COOH)と、図2に示すジアミンのアミノ基(NH)が重縮合によりアミド結合し、アミド基C(=O)−NHの水素(H)と酸素(O)が分子内、分子間で水素結合することでネットワークが形成される。アミド結合箇所を(A)で示し、水素結合箇所を(B)で示す。 The thixotropic agent composed of the acyclic amide compound shown in FIG. 3 is an amide group in which the carboxyl group (COOH) of the dicarboxylic acid shown in FIG. 1 and the amino group (NH 2 ) of the diamine shown in FIG. A network is formed by hydrogen bonding between hydrogen (H) and oxygen (O) in C (═O) —NH within and between molecules. The amide bond site is indicated by (A), and the hydrogen bond site is indicated by (B).

図4は、非環状アミド化合物の分子構造の概要を示す模式図である。非環状アミド化合物が高分子化した場合、図4に示すように、分子内で水素結合(B)が進行するため、フラックス中で非常に溶解性(相溶性)が悪くなり、フラックス中で粗大な析出を発生してしまう場合があり、チキソ性が悪くなる。また、このようなフラックスと金属粉が混合されたソルダペーストでは、印刷性が悪く、また、印刷ダレ、加熱ダレが発生する。   FIG. 4 is a schematic diagram showing an outline of the molecular structure of an acyclic amide compound. When the acyclic amide compound is polymerized, as shown in FIG. 4, hydrogen bonding (B) proceeds in the molecule, so that the solubility (compatibility) becomes very poor in the flux and coarse in the flux. May occur, resulting in poor thixotropy. In addition, a solder paste in which such a flux and metal powder are mixed has poor printability, and printing sagging and heating sagging occur.

そこで、環状アミド化合物を非環状アミド化合物と併用することで、環状アミド化合物で非環状アミド化合物を非共有結合性の相互作用にて架橋し、比較的均一なチキソ剤成分のネットワークを構築して、過度のチキソ剤析出を抑制する。   Therefore, by using a cyclic amide compound in combination with an acyclic amide compound, the cyclic amide compound crosslinks the acyclic amide compound with a non-covalent interaction, and constructs a relatively uniform thixotropic agent component network. Inhibits excessive thixotropic agent precipitation.

図5は、環状アミド化合物の分子構造の概要を示す模式図である。さて、図1に示すジカルボン酸と、図2に示すジアミンを重縮合させることで、図5に示すように、低分子系アミドとして環状アミド化合物が合成される。   FIG. 5 is a schematic diagram showing an outline of the molecular structure of a cyclic amide compound. Now, by dicondensing the dicarboxylic acid shown in FIG. 1 and the diamine shown in FIG. 2, a cyclic amide compound is synthesized as a low molecular amide as shown in FIG.

環状アミド化合物は、非環状アミド化合物よりも対称性が高いため、非環状の低分子系アミドと比較して、結晶化しやすいという性質を持つ。一方、非環状の低分子系アミドは、極性の末端基を有するため、フラックス中に相溶しやすく、結晶化しにくいことからネットワーク形成によるチキソ性を付与しにくい。これに対し、環状アミド化合物は、極性の末端基を有さないため、フラックス中に相溶しにくく、ネットワーク形成によるチキソ性を付与しやすい。   Since the cyclic amide compound has higher symmetry than the non-cyclic amide compound, it has a property of being easily crystallized as compared with the non-cyclic low-molecular amide. On the other hand, acyclic low molecular weight amides have polar end groups, so that they are easily compatible with the flux and difficult to crystallize, so that it is difficult to impart thixotropy due to network formation. On the other hand, since the cyclic amide compound does not have a polar end group, the cyclic amide compound is hardly compatible with the flux and easily imparts thixotropy due to network formation.

これにより、環状アミド化合物と非環状アミド化合物からなるチキソ剤では、環状アミド化合物と非環状アミド化合物との分子間での水素結合が促進され、非環状アミド化合物の分子内での水素結合が阻害されると考えられる。   As a result, in the thixotropic agent consisting of a cyclic amide compound and an acyclic amide compound, hydrogen bonding between the cyclic amide compound and the acyclic amide compound is promoted, and the hydrogen bond in the molecule of the acyclic amide compound is inhibited. It is thought that it is done.

図6は、環状アミド化合物で非環状アミド化合物を架橋した分子構造の概要を示す模式図である。環状アミド化合物と非環状アミド化合物からなるチキソ剤では、図6に示すように、環状アミド化合物と非環状アミド化合物が水素結合(B)されることで、環状アミド化合物で非環状アミド化合物が非共有結合性の相互作用にて架橋された比較的均一な成分のネットワークが構築されると考えられる。   FIG. 6 is a schematic diagram showing an outline of a molecular structure in which a non-cyclic amide compound is crosslinked with a cyclic amide compound. In the thixotropic agent comprising a cyclic amide compound and an acyclic amide compound, as shown in FIG. 6, the cyclic amide compound and the acyclic amide compound are hydrogen bonded (B), so that the cyclic amide compound is non-cyclic amide compound. It is believed that a network of relatively uniform components crosslinked by covalent interactions is constructed.

従って、環状アミド化合物と非環状アミド化合物からなるチキソ剤を含むフラックスでは、非環状アミド化合物からなるチキソ剤と比較して、チキソ剤の過度な析出が抑制され、かつ、チキソ性に優れる。また、環状アミド化合物と非環状アミド化合物からなるチキソ剤を含むフラックスと金属粉からなるソルダペーストでは、印刷性に優れ、また、印刷ダレが抑制され、更に加熱ダレが抑制される。   Therefore, in a flux containing a thixotropic agent composed of a cyclic amide compound and an acyclic amide compound, excessive precipitation of the thixotropic agent is suppressed and thixotropic properties are excellent as compared with a thixotropic agent composed of an acyclic amide compound. Further, a solder paste made of a metal powder and a flux containing a thixotropic agent composed of a cyclic amide compound and an acyclic amide compound is excellent in printability, suppresses printing sag, and further suppresses heat sag.

環状アミド化合物と非環状アミド化合物は、カルボン酸の数をn、アミンの数をnとしたとき、[n+n]型と表される。環状アミド化合物は、[1+1]型から[n+n]型が構築されるが、好ましくは、[1+1]型〜[3+3]型、特に好ましくは[2+2]型である。図5は、ジカルボン酸とジアミンが環状に重縮合した[2+2]型の一例であり、環状アミド化合物は、ジカルボン酸とジアミンが環状に重縮合した[2+2]型が好ましい。   The cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound are represented as [n + n] type, where n is the number of carboxylic acids and n is the number of amines. The cyclic amide compound is constructed from [1 + 1] type to [n + n] type, preferably [1 + 1] type to [3 + 3] type, particularly preferably [2 + 2] type. FIG. 5 shows an example of the [2 + 2] type in which dicarboxylic acid and diamine are cyclically condensed, and the cyclic amide compound is preferably [2 + 2] type in which dicarboxylic acid and diamine are cyclically condensed.

なお、環状アミド化合物は、トリカルボン酸とジアミンが環状に重縮合し、トリカルボン酸の官能基の1つが他の化合物と未結合なフリーの状態となっている[2+2]型、トリカルボン酸とジアミンが環状に重縮合してかご型構造をなす[2+3]型、ジカルボン酸とトリアミンが環状に重縮合してかご型構造をなす[3+2]型等も含まれる。   The cyclic amide compound is a [2 + 2] type in which tricarboxylic acid and diamine are polycondensed cyclically, and one of the functional groups of tricarboxylic acid is in an unbonded state with other compounds. Examples include [2 + 3] type in which a cyclic polycondensation forms a cage structure, and [3 + 2] type in which a dicarboxylic acid and triamine are polycondensed into a cage structure to form a cage structure.

これにより、環状アミド化合物は、ジカルボン酸とジアミンが環状に重縮合したアミドオリゴマー、トリカルボン酸とジアミンが環状に重縮合したアミドオリゴマー、ジカルボン酸とトリアミンが環状に重縮合したアミドオリゴマー、トリカルボン酸とトリアミンが環状に重縮合したアミドオリゴマー、ジカルボン酸及びトリカルボン酸とジアミンが環状に重縮合したアミドオリゴマー、ジカルボン酸及びトリカルボン酸とトリアミンが環状に重縮合したアミドオリゴマー、ジカルボン酸とジアミン及びトリアミンが環状に重縮合したアミドオリゴマー、トリカルボン酸とジアミン及びトリアミンが環状に重縮合したアミドオリゴマー、ジカルボン酸及びトリカルボン酸とジアミン及びトリアミンが環状に重縮合したアミドオリゴマーの何れでも良い。   Thus, the cyclic amide compound includes an amide oligomer obtained by cyclic polycondensation of dicarboxylic acid and diamine, an amide oligomer obtained by cyclic polycondensation of tricarboxylic acid and diamine, an amide oligomer obtained by cyclic polycondensation of dicarboxylic acid and triamine, and tricarboxylic acid. Amide oligomer obtained by cyclic polycondensation of triamine, amide oligomer obtained by cyclic polycondensation of dicarboxylic acid and tricarboxylic acid and diamine, amide oligomer obtained by cyclic polycondensation of dicarboxylic acid and tricarboxylic acid and triamine, dicarboxylic acid, diamine and triamine are cyclic Any of amide oligomers polycondensed to amides, amide oligomers obtained by cyclic polycondensation of tricarboxylic acid with diamine and triamine, and amide oligomers obtained by cyclic polycondensation of dicarboxylic acid and tricarboxylic acid with diamine and triamine It may be.

また、非環状アミド化合物は、モノカルボン酸とジアミン及び/またはトリアミンが非環状に重縮合したアミド化合物である場合、ジカルボン酸及び/またはトリカルボン酸とモノアミンが非環状に重縮合したアミド化合物である場合等、モノカルボン酸またはモノアミンを含むアミド化合物であると、モノカルボン酸、モノアミンがターミナル分子(terminal molecules)として機能し、分子量を小さくした非環状アミドオリゴマーとなる。また、非環状アミド化合物は、ジカルボン酸及び/またはトリカルボン酸と、ジアミン及び/またはトリアミンが非環状に重縮合したアミド化合部である場合、非環状高分子系アミドポリマーとなる。更に、非環状アミド化合物は、モノカルボン酸とモノアミンが非環状に重縮合したアミド化合物も含まれる。   Further, the acyclic amide compound is an amide compound in which a monocarboxylic acid and a diamine and / or triamine are acyclic polycondensed, and a dicarboxylic acid and / or a tricarboxylic acid and a monoamine are acyclic polycondensed. In some cases, when the amide compound contains a monocarboxylic acid or a monoamine, the monocarboxylic acid and the monoamine function as terminal molecules, resulting in an acyclic amide oligomer having a reduced molecular weight. The acyclic amide compound becomes an acyclic polymer amide polymer when it is an amide compound part in which dicarboxylic acid and / or tricarboxylic acid and diamine and / or triamine are non-cyclically polycondensed. Furthermore, the acyclic amide compound includes an amide compound obtained by polycondensing a monocarboxylic acid and a monoamine in an acyclic manner.

以下に、モノカルボン酸とモノアミンが非環状に縮合したアミド化合物がネットワークを形成できる理由を説明する。   The reason why an amide compound in which a monocarboxylic acid and a monoamine are condensed non-cyclically can form a network will be described below.

モノカルボン酸の分子構造を以下の化(1)式に示し、モノアミンの分子構造を以下の化(2)式に示し、モノカルボン酸とモノアミンが縮合した非環状アミド化合物の分子構造を以下の化(3)式に示す。   The molecular structure of the monocarboxylic acid is shown in the following chemical formula (1), the molecular structure of the monoamine is shown in the chemical formula (2) below, and the molecular structure of the acyclic amide compound in which the monocarboxylic acid and the monoamine are condensed is shown below. It is shown in the formula (3).

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化(1)式に示すモノカルボン酸のカルボキシル基(COOH)と、化(2)式に示すモノアミンのアミノ基(NH)が縮合によりアミド結合することで、化(3)式に示す非環状アミド化合物が形成される。また、非環状アミド化合物のアミド基C(=O)−NHの水素(H)と酸素(O)が、分子間で水素結合することでつながっていく。非環状アミド化合物の分子内のアミド結合箇所を(A)で示し、非環状アミド化合物の分子間の水素結合箇所を(B)で示す。 When the carboxyl group (COOH) of the monocarboxylic acid represented by the chemical formula (1) and the amino group (NH 2 ) of the monoamine represented by the chemical formula ( 2 ) are amide-bonded by condensation, the non-functionality represented by the chemical formula (3) A cyclic amide compound is formed. In addition, the hydrogen (H) and oxygen (O) of the amide group C (═O) —NH of the acyclic amide compound are connected by hydrogen bonding between molecules. The amide bond site in the molecule of the acyclic amide compound is indicated by (A), and the hydrogen bond site between the molecules of the acyclic amide compound is indicated by (B).

このように、分子内に1つのアミド基を持つモノアミド(モノアマイド)は、水素結合によりつながっていく。この水素結合によるモノアミドの集合体は超分子として取り扱わる。超分子とは、水素結合、疎水性相互作用等の非共有結合性の相互作用から構築された分子の集合体を指す。水素結合は強い相互作用を示し、安定した構造となる。   Thus, monoamides (monoamides) having one amide group in the molecule are connected by hydrogen bonds. This aggregate of monoamides by hydrogen bonding is treated as a supramolecule. A supramolecule refers to a collection of molecules constructed from non-covalent interactions such as hydrogen bonds and hydrophobic interactions. Hydrogen bonds show strong interactions and become a stable structure.

モノカルボン酸とモノアミンが縮合したモノアミドである非環状アミド化合物は、アミド結合に由来する水素結合による相互作用でつながり、加えて、水素結合による相互作用でつながった分子鎖、とりわけ、主鎖のアミド結合に由来する水素結合や、側鎖による疎水性相互作用等による分子鎖間の相互作用によって架橋部位を形成し3次元ネットワークへと成長する。   Acyclic amide compounds, which are monoamides condensed with monocarboxylic acids and monoamines, are linked by hydrogen bond interactions derived from amide bonds, and in addition, molecular chains connected by hydrogen bond interactions, especially main chain amides. A cross-linked site is formed by a hydrogen bond derived from a bond or an interaction between molecular chains by a hydrophobic interaction by a side chain, and grows into a three-dimensional network.

以上のように、モノカルボン酸とモノアミンが縮合した非環状アミド化合物は、アミド基を1つしか持たないものの、水素結合による非共有性相互作用により結合することで、ネットワークを形成できる。   As described above, an acyclic amide compound obtained by condensing a monocarboxylic acid and a monoamine has only one amide group, but can form a network by bonding by noncovalent interaction by hydrogen bonding.

これにより、非環状アミド化合物が、モノカルボン酸とモノアミンが非環状に重縮合したアミド化合物を含み得る。   Thereby, the acyclic amide compound may include an amide compound in which a monocarboxylic acid and a monoamine are polycyclicly condensed.

なお、チキソ剤として含有する環状アミド化合物は、ジカルボン酸及び/またはトリカルボン酸と、ジアミン及び/またはトリアミンが環状に重縮合したアミド化合物で、アミド基を2つ以上持つ。   The cyclic amide compound contained as a thixotropic agent is an amide compound obtained by cyclic polycondensation of dicarboxylic acid and / or tricarboxylic acid and diamine and / or triamine, and has two or more amide groups.

これにより、環状アミド化合物がチキソ剤に加わることで、水素結合による相互作用でつながったモノアミドの集合体である非環状アミド化合物が、環状アミド化合物を介してつながる。   Thereby, when a cyclic amide compound is added to the thixotropic agent, an acyclic amide compound that is an aggregate of monoamides connected by an interaction by hydrogen bonding is connected via the cyclic amide compound.

チキソ剤が環状アミド化合物と非環状アミド化合物を含むフラックスを用いたソルダペーストでは、環状アミド化合物と非環状アミド化合物がネットワークを形成することで、チキソ性が付与されると考えられる。   In a solder paste using a flux in which the thixotropic agent includes a cyclic amide compound and an acyclic amide compound, thixotropic properties are considered to be imparted by forming a network between the cyclic amide compound and the acyclic amide compound.

しかし、環状アミド化合物と非環状アミド化合物の含有量が過少であると、十分なネットワークが形成できないため、チキソ性が付与されない。   However, if the content of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is too small, a sufficient network cannot be formed, so that thixotropy is not imparted.

一方、環状アミド化合物を含まない、または、環状アミド化合物の含有量が本発明で規定される量より少ないチキソ剤では、非環状アミド化合物が過剰になると、非環状アミド化合物の分子内、分子間で過度に相互作用してしまい、凝集・析出が発生しやすくなる。   On the other hand, in a thixotropic agent that does not contain a cyclic amide compound or contains less cyclic amide compound than the amount specified in the present invention, if the acyclic amide compound is excessive, the intramolecular and intermolecular amounts of the acyclic amide compound are increased. In this case, the particles are excessively interacted with each other, and aggregation / precipitation is likely to occur.

これにより、フラックスとしてのレオロジー特性が損なわれる(結晶析出による印刷性が悪い)ことや、凝集体が形成されていない部分でチキソ剤密度が少なく、実質的に上記のようなチキソ剤不足の状態となり効果を発揮できなくなると考えられる。   As a result, the rheological properties as a flux are impaired (the printability due to crystal precipitation is poor), and the density of the thixotropic agent is low at the portion where the aggregate is not formed, and the thixotropic agent is substantially insufficient as described above. It is considered that it becomes impossible to demonstrate the effect.

これに対して、ジカルボン酸及び/またはトリカルボン酸と、ジアミン及び/またはトリアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物と、モノカルボン酸、ジカルボン酸及び/またはトリカルボン酸と、モノアミン、ジアミン及び/またはトリアミンが非環状に縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定される含有量で併用することにより、環状アミド化合物で非環状アミド化合物を非共有結合性の相互作用にて架橋し、比較的均一なチキソ剤成分のネットワークを構築して、過度のチキソ剤析出を抑制することができる。この環状アミド化合物と非環状アミド化合物を併用することによる効果は、環状アミド化合物と非環状アミド化合物の含有量が本願発明で規定される範囲であれば、非環状アミド化合物の分子量が3000以下でも、3000超でも発揮される。   On the other hand, dicarboxylic acid and / or tricarboxylic acid, cyclic amide compound in which diamine and / or triamine are polycondensed cyclically, monocarboxylic acid, dicarboxylic acid and / or tricarboxylic acid, monoamine, diamine and / or triamine By using together a non-cyclic amide compound condensed in a non-cyclic manner at a content specified in the present invention, the non-cyclic amide compound is cross-linked by a non-covalent interaction with the cyclic amide compound, and is relatively uniform. A network of thixotropic agent components can be constructed to suppress excessive thixotropic agent precipitation. As long as the content of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is within the range specified by the present invention, the effect of combining the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is that even if the molecular weight of the non-cyclic amide compound is 3000 or less. It is also demonstrated at over 3000.

また、非環状アミド化合物は、ジカルボン酸及び/またはトリカルボン酸のカルボキシル基の合計モル数と、ジアミン及び/またはトリアミンのアミノ基の合計モル数の比が1:1であれば、分子量が最大になる。これに対し、ジカルボン酸及び/またはトリカルボン酸のカルボキシル基の合計モル数と、ジアミン及び/またはトリアミンのアミノ基の合計モル数の比が1:mまたはm:1(m>1)であれば、分子量を小さくした非環状アミドオリゴマーとなる。好ましくは1:2〜2:1である。   In addition, if the ratio of the total number of moles of the carboxyl group of dicarboxylic acid and / or tricarboxylic acid to the total number of moles of the amino group of diamine and / or triamine is 1: 1, the acyclic amide compound has a maximum molecular weight. Become. On the other hand, if the ratio of the total number of moles of carboxyl groups of dicarboxylic acid and / or tricarboxylic acid to the total number of moles of amino groups of diamine and / or triamine is 1: m or m: 1 (m> 1). It becomes an acyclic amide oligomer having a small molecular weight. Preferably it is 1: 2 to 2: 1.

環状アミド化合物は、ジカルボン酸及びトリカルボン酸の炭素数が3以上10以下であり、ジカルボン酸及びトリカルボン酸の炭素数が6以上10以下であることがより好ましい。   In the cyclic amide compound, the dicarboxylic acid and the tricarboxylic acid have 3 to 10 carbon atoms, and the dicarboxylic acid and the tricarboxylic acid have 6 to 10 carbon atoms.

また、環状アミド化合物は、ジアミン及びトリアミンの炭素数が2以上54以下であり、ジアミン及びトリアミンの炭素数が6であることがより好ましい。   Moreover, as for a cyclic amide compound, it is more preferable that carbon number of diamine and a triamine is 2 or more and 54 or less, and carbon number of a diamine and a triamine is 6.

更に、非環状アミド化合物は、モノカルボン酸、ジカルボン酸及びトリカルボン酸の炭素数が2以上28以下であることが好ましく、モノカルボン酸、ジカルボン酸及びトリカルボン酸の炭素数は、より好ましくは2以上18以下、更に好ましくは2以上10以下、より更に好ましくは6以上10以下である。非環状アミド化合物は、モノアミン、ジアミン及びトリアミンの炭素数が0以上54以下であることが好ましく、モノアミン、ジアミン及びトリアミンの炭素数は、より好ましくは0以上18以下、更に好ましくは0以上10以下、より更に好ましくは6以上10以下である。   Further, in the acyclic amide compound, the monocarboxylic acid, dicarboxylic acid and tricarboxylic acid preferably have 2 to 28 carbon atoms, and the monocarboxylic acid, dicarboxylic acid and tricarboxylic acid preferably have 2 or more carbon atoms. 18 or less, more preferably 2 or more and 10 or less, and still more preferably 6 or more and 10 or less. The acyclic amide compound preferably has 0 to 54 carbon atoms of monoamine, diamine and triamine, more preferably 0 to 18 carbon atoms, still more preferably 0 to 10 carbon atoms. More preferably, it is 6 or more and 10 or less.

環状アミド化合物、非環状アミド化合物におけるジカルボン酸は、炭素数が6のアジピン酸、炭素数が10のセバシン酸等が挙げられる。   Examples of the dicarboxylic acid in the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound include adipic acid having 6 carbon atoms and sebacic acid having 10 carbon atoms.

また、環状アミド化合物、非環状アミド化合物におけるジカルボン酸は、炭素数3のマロン酸、炭素数4のコハク酸、炭素数5のグルタル酸、炭素数7のピメリン酸、炭素数8のスベリン酸、炭素数9のアゼライン酸、炭素数8のシクロヘキサンジカルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸、及び、炭素数6のフタル酸、炭素数6のテレフタル酸等の芳香族ジカルボン酸が挙げられる。   The dicarboxylic acid in the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is malonic acid having 3 carbon atoms, succinic acid having 4 carbon atoms, glutaric acid having 5 carbon atoms, pimelic acid having 7 carbon atoms, suberic acid having 8 carbon atoms, Examples thereof include aliphatic dicarboxylic acids such as azelaic acid having 9 carbon atoms and cyclohexanedicarboxylic acid having 8 carbon atoms, and aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid having 6 carbon atoms and terephthalic acid having 6 carbon atoms.

更に、環状アミド化合物、非環状アミド化合物におけるトリカルボン酸は、炭素数9のシクロヘキサントリカルボン酸、炭素数9のベンゼントリカルボン酸等が挙げられる。   Furthermore, examples of the tricarboxylic acid in the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound include cyclohexane tricarboxylic acid having 9 carbon atoms and benzene tricarboxylic acid having 9 carbon atoms.

また、非環状アミド化合物におけるモノカルボン酸は、炭素数2の酢酸、炭素数16のパルミチン酸、炭素数18のステアリン酸、炭素数18の12−ヒドロキシステアリン酸、炭素数22のベヘン酸、炭素数28のモンタン酸等が挙げられる。   In addition, the monocarboxylic acid in the acyclic amide compound includes acetic acid having 2 carbon atoms, palmitic acid having 16 carbon atoms, stearic acid having 18 carbon atoms, 12-hydroxystearic acid having 18 carbon atoms, behenic acid having 22 carbon atoms, carbon Examples include montanic acid of formula 28.

環状アミド化合物、非環状アミド化合物におけるジアミンは、1,6−ヘキサンジアミン等が挙げられる。   Examples of the diamine in the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound include 1,6-hexanediamine.

また、環状アミド化合物、非環状アミド化合物におけるジアミンは、炭素数2のエチレンジアミン、炭素数3の1,3−ジアミノプロパン、炭素数4の1,4−ジアミノブタン、炭素数36のダイマージアミン、炭素数6のフェニレンジアミン、炭素数8のメタキシリレンジアミン、炭素数8のパラキシリレンジアミン、炭素数8の2,4−ジアミノトルエン等が挙げられる。   The diamines in the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound are ethylene diamine having 2 carbon atoms, 1,3-diaminopropane having 3 carbon atoms, 1,4-diaminobutane having 4 carbon atoms, dimer diamine having 36 carbon atoms, carbon Examples thereof include phenylenediamine having 6 carbon atoms, metaxylylenediamine having 8 carbon atoms, paraxylylenediamine having 8 carbon atoms, and 2,4-diaminotoluene having 8 carbon atoms.

更に、環状アミド化合物、非環状アミド化合物におけるトリアミンは、炭素数6のトリアミノシクロヘキサン、炭素数54のトリマートリアミン等が挙げられる。   Furthermore, examples of the triamine in the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound include a triaminocyclohexane having 6 carbon atoms and a trimeric triamine having 54 carbon atoms.

また、非環状アミド化合物におけるモノアミンは、炭素数0のアンモニア、炭素数2のエチルアミン、炭素数6のヘキシルアミン、炭素数8のオクチルアミン、炭素数18のステアリルアミン等が挙げられる。   Examples of the monoamine in the acyclic amide compound include ammonia having 0 carbon atoms, ethylamine having 2 carbon atoms, hexylamine having 6 carbon atoms, octylamine having 8 carbon atoms, and stearylamine having 18 carbon atoms.

モノカルボン酸とモノアミンが縮合した[1+1]型の非環状アミド化合物としては、ステアリン酸アミド、p−トルアミド等が挙げられる。また、モノカルボン酸とジアミンが縮合した[1+1]型の非環状アミド化合物としては、エチレンジアミンモノステアリン酸アミド等が挙げられる。   Examples of the [1 + 1] -type acyclic amide compound obtained by condensing a monocarboxylic acid and a monoamine include stearic acid amide and p-toluamide. Moreover, ethylenediamine monostearic acid amide etc. are mentioned as a [1 + 1] type acyclic amide compound which monocarboxylic acid and diamine condensed.

モノカルボン酸とジアミンが縮合した[2+1]型の非環状アミド化合物としては、エチレンジアミンビスステアリン酸アミド、エチレンジアミンビスパルミチン酸アミド、メタキシリレンジアミンビスステアリン酸アミド等が挙げられる。   Examples of the [2 + 1] type acyclic amide compound in which monocarboxylic acid and diamine are condensed include ethylenediamine bisstearic acid amide, ethylenediamine bispalmitic acid amide, metaxylylenediamine bisstearic acid amide, and the like.

ジカルボン酸とモノアミンが縮合した[1+2]型の非環状アミド化合物としては、コハク酸ビスステアリルアミド、アジピン酸ビスステアリルアミド、セバシン酸ビスステアリルアミド等が挙げられる。   Examples of the [1 + 2] type acyclic amide compound in which dicarboxylic acid and monoamine are condensed include succinic acid bisstearylamide, adipic acid bisstearylamide, sebacic acid bisstearylamide, and the like.

なお、非環状アミド化合物は、ラクタムを開環重合したものでも置換でき、例えば、ε−カプロラクタムを開環重合した6−ナイロン、ラウリルラクタムを開環重合した12−ナイロン等が挙げられる。   The acyclic amide compound may be substituted even by ring-opening polymerization of lactam, and examples thereof include 6-nylon obtained by ring-opening polymerization of ε-caprolactam and 12-nylon obtained by ring-opening polymerization of lauryl lactam.

本実施の形態のフラックスは、チキソ剤として上述した環状アミド化合物を0.1wt%以上8.0wt%以下、より好ましくは、環状アミド化合物を0.5wt%以上1.5wt%以下、非環状アミド化合物を0.5wt%以上8.0wt%以下、より好ましくは、非環状アミド化合物を0.5wt%以上4.0wt%以下含み、かつ、環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計が1.5wt%以上10.0wt%以下である。   The flux of the present embodiment is 0.1 wt% or more and 8.0 wt% or less of the cyclic amide compound described above as the thixotropic agent, more preferably 0.5 wt% or more and 1.5 wt% or less of the cyclic amide compound. 0.5 wt% or more and 8.0 wt% or less of the compound, more preferably 0.5 wt% or more and 4.0 wt% or less of the acyclic amide compound, and the total of the cyclic amide compound and the acyclic amide compound is 1.5 wt% % To 10.0 wt%.

環状アミド化合物の量が0.1wt%未満であると、チキソ性が悪くなる。また、印刷ダレ、加熱ダレを抑制できない。一方、環状アミド化合物の量が8.0wt%超であると、アミド系チキソ剤の合計量が多くなることで、フラックス中で析出が発生し、印刷性が悪くなる。環状アミド化合物の量が0.1wt%であっても、環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計が1.5wt%未満であると、チキソ性が悪くなる。また、印刷ダレ、加熱ダレを抑制できない。なお、環状アミド化合物の量が0.1wt%未満であっても、非環状アミド化合物の含有量が増加すると、チキソ性、印刷ダレ、加熱ダレが改善するが、フラックス中で析出が発生し、印刷性が悪くなる。   If the amount of the cyclic amide compound is less than 0.1 wt%, the thixotropy is deteriorated. Further, it is not possible to suppress printing sag and heating sag. On the other hand, when the amount of the cyclic amide compound is more than 8.0 wt%, the total amount of the amide-based thixotropic agent is increased, so that precipitation occurs in the flux and printability is deteriorated. Even if the amount of the cyclic amide compound is 0.1 wt%, if the total of the cyclic amide compound and the acyclic amide compound is less than 1.5 wt%, the thixotropy is deteriorated. Further, it is not possible to suppress printing sag and heating sag. In addition, even if the amount of the cyclic amide compound is less than 0.1 wt%, if the content of the acyclic amide compound is increased, thixotropy, printing sag, and heat sag are improved, but precipitation occurs in the flux, Printability deteriorates.

また、本実施の形態のフラックスは酸変性ロジンを5.0wt%以上50.0wt%以下含む。酸変性ロジンは、はんだ付けで想定される温度域での耐熱性を有し、はんだ付け時に活性剤として機能する。酸変性ロジンの含有量が5.0wt%未満であると、はんだの濡れ速度が低下する。酸変性ロジンは、アクリル酸変性ロジン、アクリル酸変性水添ロジン、マレイン酸変性ロジン、マレイン酸変性水添ロジン等が挙げられ、これらの1種または2種以上を使用することができる。   Further, the flux of the present embodiment contains 5.0 wt% or more and 50.0 wt% or less of acid-modified rosin. The acid-modified rosin has heat resistance in a temperature range assumed for soldering and functions as an activator during soldering. When the content of the acid-modified rosin is less than 5.0 wt%, the solder wetting rate decreases. Examples of the acid-modified rosin include acrylic acid-modified rosin, acrylic acid-modified hydrogenated rosin, maleic acid-modified rosin, and maleic acid-modified hydrogenated rosin, and one or more of these can be used.

また、本実施の形態のフラックスは、酸変性ロジン以外の他のロジンを0wt%以上50wt%以下、より好ましくは、他のロジンを25wt%以上45wt%以下含む。他のロジンの含有量が0wt%超である場合、酸変性ロジンと他のロジンの含有量の合計は60wt%以下である。   The flux of the present embodiment contains other rosins other than acid-modified rosin in an amount of 0 wt% to 50 wt%, more preferably 25 wt% to 45 wt%. When the content of other rosins exceeds 0 wt%, the total content of the acid-modified rosin and other rosins is 60 wt% or less.

他のロジンとしては、例えば、ガムロジン、ウッドロジン及びトール油ロジン等の原料ロジン、並びに該原料ロジンから得られる誘導体が挙げられる。該誘導体としては、例えば、精製ロジン、水添ロジン、不均化ロジン、重合ロジン、フェノール変性ロジン及びα,β不飽和カルボン酸変性物(アクリル化ロジン、マレイン化ロジン、フマル化ロジン等)、並びに該重合ロジンの精製物、水素化物及び不均化物、並びに該α,β不飽和カルボン酸変性物の精製物、水素化物及び不均化物等が挙げられ、これらの1種または2種以上を使用することができる。   Examples of other rosins include raw material rosins such as gum rosin, wood rosin and tall oil rosin, and derivatives obtained from the raw rosin. Examples of the derivatives include purified rosin, hydrogenated rosin, disproportionated rosin, polymerized rosin, phenol-modified rosin and α, β-unsaturated carboxylic acid-modified products (acrylic rosin, maleated rosin, fumarated rosin, etc.), And a purified product, a hydride and a disproportionate of the polymerized rosin, and a purified product, a hydride and a disproportionate of the α, β-unsaturated carboxylic acid modified product. Can be used.

本実施の形態のフラックスは、さらに、有機酸、アミン、ハロゲンを含んでも良く、有機酸を0wt%以上10wt%以下、より好ましくは、有機酸を0.2wt%以上5wt%以下、アミンを0wt%以上20wt%以下、より好ましくは、アミンを0wt%以上5wt%以下、ハロゲンとして有機ハロゲン化合物を0wt%以上5wt%以下、アミンハロゲン化水素酸塩を0wt%以上2wt%以下含む。   The flux of the present embodiment may further contain an organic acid, an amine, and a halogen. The organic acid is 0 wt% or more and 10 wt% or less, more preferably, the organic acid is 0.2 wt% or more and 5 wt% or less, and the amine is 0 wt%. % To 20 wt%, more preferably 0 to 5 wt% of amine, 0 to 5 wt% of organic halogen compound as halogen, and 0 to 2 wt% of amine hydrohalide.

本実施の形態のフラックスは、チキソ剤としてエステル化合物を含んでも良く、エステル化合物を0wt%以上8.0wt%以下、より好ましくは、エステル化合物を0wt%以上4.0wt%以下含む。   The flux of the present embodiment may contain an ester compound as a thixotropic agent, and contains 0 wt% or more and 8.0 wt% or less of the ester compound, more preferably 0 wt% or more and 4.0 wt% or less.

本実施の形態のフラックスは、さらに、酸化防止剤を含んでも良く、酸化防止剤を0wt%以上5wt%以下含む。本実施の形態のフラックスは、残部が溶剤である。   The flux of the present embodiment may further contain an antioxidant, and contains 0 wt% or more and 5 wt% or less of the antioxidant. The balance of the flux of the present embodiment is a solvent.

有機酸としては、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、エイコサン二酸、クエン酸、グリコール酸、コハク酸、サリチル酸、ジグリコール酸、ジピコリン酸、ジブチルアニリンジグリコール酸、スベリン酸、セバシン酸、チオグリコール酸、テレフタル酸、ドデカン二酸、パラヒドロキシフェニル酢酸、ピコリン酸、フェニルコハク酸、フタル酸、フマル酸、マレイン酸、マロン酸、ラウリン酸、安息香酸、酒石酸、イソシアヌル酸トリス(2−カルボキシエチル)、グリシン、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)ブタン酸、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、2,4−ジエチルグルタル酸、2−キノリンカルボン酸、3−ヒドロキシ安息香酸、リンゴ酸、p−アニス酸、ステアリン酸、12−ヒドロキシステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸等が挙げられる。   Organic acids include glutaric acid, adipic acid, azelaic acid, eicosane diacid, citric acid, glycolic acid, succinic acid, salicylic acid, diglycolic acid, dipicolinic acid, dibutylaniline diglycolic acid, suberic acid, sebacic acid, thioglycol Acid, terephthalic acid, dodecanedioic acid, parahydroxyphenylacetic acid, picolinic acid, phenylsuccinic acid, phthalic acid, fumaric acid, maleic acid, malonic acid, lauric acid, benzoic acid, tartaric acid, tris (2-carboxyethyl) isocyanurate Glycine, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) butanoic acid, 2,3-dihydroxybenzoic acid, 2,4-diethylglutaric acid 2-quinolinecarboxylic acid, 3-hydroxybenzoic acid, malic acid, - anisic acid, stearic acid, 12-hydroxystearic acid, oleic acid, linoleic acid, and linolenic acid.

また、有機酸としては、モノカルボン酸の反応物で2量体であるダイマー酸、ダイマー酸に水素を添加した水添ダイマー酸、モノカルボン酸の反応物で3量体であるトリマー酸、トリマー酸に水素を添加した水添トリマー酸が挙げられる。   Examples of the organic acid include dimer acid that is a dimer of a reaction product of monocarboxylic acid, hydrogenated dimer acid obtained by adding hydrogen to dimer acid, trimer acid that is a trimer of a reaction product of monocarboxylic acid, and trimer acid. Examples thereof include hydrogenated trimer acid obtained by adding hydrogen to an acid.

ダイマー酸、トリマー酸は、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸、オレイン酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸の反応物であるトリマー酸、メタクリル酸の反応物であるダイマー酸、メタクリル酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸とメタクリル酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸とメタクリル酸の反応物であるトリマー酸、オレイン酸の反応物であるダイマー酸、オレイン酸の反応物であるトリマー酸、リノール酸の反応物であるダイマー酸、リノール酸の反応物であるトリマー酸、リノレン酸の反応物であるダイマー酸、リノレン酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸とオレイン酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸とオレイン酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸とリノレン酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸とリノレン酸の反応物であるトリマー酸、メタクリル酸とオレイン酸の反応物であるダイマー酸、メタクリル酸とオレイン酸の反応物であるトリマー酸、メタクリル酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸、メタクリル酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸、メタクリル酸とリノレン酸の反応物であるダイマー酸、メタクリル酸とリノレン酸の反応物であるトリマー酸、オレイン酸とリノレン酸の反応物であるダイマー酸、オレイン酸とリノレン酸の反応物であるトリマー酸、リノール酸とリノレン酸の反応物であるダイマー酸、リノール酸とリノレン酸の反応物であるトリマー酸、上述した各ダイマー酸の水添物である水添ダイマー酸、上述した各トリマー酸の水添物である水添トリマー酸等が挙げられる。例えば、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸は、炭素数が36の2量体である。また、オレイン酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸は、炭素数が54の3量体である。   Dimer acid and trimer acid are dimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid, trimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid, dimer acid which is a reaction product of acrylic acid, and a reaction product of acrylic acid. Dimer acid, a reaction product of trimer acid, methacrylic acid, trimer acid, a reaction product of methacrylic acid, dimer acid, a reaction product of acrylic acid and methacrylic acid, trimer acid, a reaction product of acrylic acid and methacrylic acid, olein Dimer acid that is a reaction product of acid, trimer acid that is a reaction product of oleic acid, dimer acid that is a reaction product of linoleic acid, trimer acid that is a reaction product of linoleic acid, dimer acid that is a reaction product of linolenic acid, linolenic acid Trimer acid that is a reaction product of acid, dimer acid that is a reaction product of acrylic acid and oleic acid, and a reaction product of acrylic acid and oleic acid. Trimer acid, dimer acid which is a reaction product of acrylic acid and linoleic acid, trimer acid which is a reaction product of acrylic acid and linoleic acid, dimer acid which is a reaction product of acrylic acid and linolenic acid, reaction of acrylic acid and linolenic acid Trimer acid, a reaction product of methacrylic acid and oleic acid, dimer acid, a reaction product of methacrylic acid and oleic acid, dimer acid, a reaction product of methacrylic acid and linoleic acid, methacrylic acid and linoleic acid Trimer acid, reaction product of methacrylic acid and linolenic acid, dimer acid, reaction product of methacrylic acid and linolenic acid, dimer acid, reaction product of oleic acid and linolenic acid, and oleic acid Trimer acid, a reaction product of linolenic acid, dimer acid, a reaction product of linoleic acid and linolenic acid, and linoleic acid Trimer acid is a reaction product of alkylene acid, hydrogenated dimer acid which is a hydrogenation product of the dimer acid as described above, hydrogenated trimer acid, and the like are hydrogenated products of the trimer acid described above. For example, dimer acid, which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid, is a dimer having 36 carbon atoms. Further, trimer acid, which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid, is a trimer having 54 carbon atoms.

アミンとしては、モノエタノールアミン、ジフェニルグアニジン、エチルアミン、トリエチルアミン、エチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、2−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4−ジアミノ−6−[2′−メチルイミダゾリル−(1′)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2′−ウンデシルイミダゾリル−(1′)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2′−エチル−4′−メチルイミダゾリル−(1′)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2′−メチルイミダゾリル−(1′)]−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾール、1−ドデシル−2−メチル−3−ベンジルイミダゾリウムクロライド、2−メチルイミダゾリン、2−フェニルイミダゾリン、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2,4−ジアミノ−6−メタクリロイルオキシエチル−s−トリアジン、エポキシ−イミダゾールアダクト、2−メチルベンゾイミダゾール、2−オクチルベンゾイミダゾール、2−ペンチルベンゾイミダゾール、2−(1−エチルペンチル)ベンゾイミダゾール、2−ノニルベンゾイミダゾール、2−(4−チアゾリル)ベンゾイミダゾール、ベンゾイミダゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−tert−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2′−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−tert−オクチルフェノール]、6−(2−ベンゾトリアゾリル)−4−tert−オクチル−6′−tert−ブチル−4′−メチル−2,2′−メチレンビスフェノール、1,2,3−ベンゾトリアゾール、1−[N,N−ビス(2−エチルヘキシル)アミノメチル]ベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、1−[N,N−ビス(2−エチルヘキシル)アミノメチル]メチルベンゾトリアゾール、2,2′−[[(メチル−1H−ベンゾトリアゾール−1−イル)メチル]イミノ]ビスエタノール、1−(1′,2′−ジカルボキシエチル)ベンゾトリアゾール、1−(2,3−ジカルボキシプロピル)ベンゾトリアゾール、1−[(2−エチルヘキシルアミノ)メチル]ベンゾトリアゾール、2,6−ビス[(1H−ベンゾトリアゾール−1−イル)メチル]−4−メチルフェノール、5−メチルベンゾトリアゾール、5−フェニルテトラゾール等が挙げられる。   Examples of amines include monoethanolamine, diphenylguanidine, ethylamine, triethylamine, ethylenediamine, triethylenetetramine, 2-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, and 2-ethyl-4. -Methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2 -Undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellite 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-Undecylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-ethyl-4'-methylimidazolyl- (1')]-ethyl-s- Triazine, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-4,5- Dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazo 1-dodecyl-2-methyl-3-benzylimidazolium chloride, 2-methylimidazoline, 2-phenylimidazoline, 2,4-diamino-6-vinyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-vinyl -S-triazine isocyanuric acid adduct, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-s-triazine, epoxy-imidazole adduct, 2-methylbenzimidazole, 2-octylbenzimidazole, 2-pentylbenzimidazole, 2- (1-ethylpentyl) benzimidazole, 2-nonylbenzimidazole, 2- (4-thiazolyl) benzimidazole, benzimidazole, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2 ' -Hydroxy-3'-tert- Butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-amylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'- tert-octylphenyl) benzotriazole, 2,2'-methylenebis [6- (2H-benzotriazol-2-yl) -4-tert-octylphenol], 6- (2-benzotriazolyl) -4-tert- Octyl-6'-tert-butyl-4'-methyl-2,2'-methylenebisphenol, 1,2,3-benzotriazole, 1- [N, N-bis (2-ethylhexyl) aminomethyl] benzotriazole, Carboxybenzotriazole, 1- [N, N-bis (2-ethylhexyl) aminomethyl] methylbenzotria 2,2 '-[[(Methyl-1H-benzotriazol-1-yl) methyl] imino] bisethanol, 1- (1', 2'-dicarboxyethyl) benzotriazole, 1- (2, 3-dicarboxypropyl) benzotriazole, 1-[(2-ethylhexylamino) methyl] benzotriazole, 2,6-bis [(1H-benzotriazol-1-yl) methyl] -4-methylphenol, 5-methyl Examples include benzotriazole and 5-phenyltetrazole.

有機ハロゲン化合物としては、trans−2,3−ジブロモ−1,4−ブテンジオール、トリアリルイソシアヌレート6臭化物、1−ブロモ−2−ブタノール、1−ブロモ−2−プロパノール、3−ブロモ−1−プロパノール、3−ブロモ−1,2−プロパンジオール、1,4−ジブロモ−2−ブタノール、1,3−ジブロモ−2−プロパノール、2,3−ジブロモ−1−プロパノール、2,3−ジブロモ−1,4−ブタンジオール、2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール等が挙げられる。   Examples of the organic halogen compound include trans-2,3-dibromo-1,4-butenediol, triallyl isocyanurate hexabromide, 1-bromo-2-butanol, 1-bromo-2-propanol, 3-bromo-1- Propanol, 3-bromo-1,2-propanediol, 1,4-dibromo-2-butanol, 1,3-dibromo-2-propanol, 2,3-dibromo-1-propanol, 2,3-dibromo-1 , 4-butanediol, 2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, and the like.

アミンハロゲン化水素酸塩は、アミンとハロゲン化水素を反応させた化合物であり、アニリン塩化水素、アニリン臭化水素等が挙げられる。アミンハロゲン化水素酸塩のアミンとしては、上述したアミンを用いることができ、エチルアミン、エチレンジアミン、トリエチルアミン、メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール等が挙げられ、ハロゲン化水素としては、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素の水素化物(塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素、フッ化水素)が挙げられる。また、アミンハロゲン化水素酸塩に代えて、あるいはアミンハロゲン化水素酸塩と合わせてホウフッ化物を含んでも良く、ホウフッ化物としてホウフッ化水素酸等が挙げられる。   An amine hydrohalide is a compound obtained by reacting an amine with a hydrogen halide, and examples thereof include aniline hydrogen chloride and aniline hydrogen bromide. As the amine of the amine hydrohalide, the above-described amines can be used, and examples include ethylamine, ethylenediamine, triethylamine, methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, and the like. Examples include hydrides of bromine, iodine, and fluorine (hydrogen chloride, hydrogen bromide, hydrogen iodide, hydrogen fluoride). Further, a borofluoride may be included instead of the amine hydrohalide or together with the amine hydrohalide, and examples of the borofluoride include borohydrofluoric acid.

溶剤としては、水、アルコール系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、テルピネオール類等が挙げられる。アルコール系溶剤としてはイソプロピルアルコール、1,2−ブタンジオール、イソボルニルシクロヘキサノール、2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオール、2,5−ジメチル−3−ヘキシン−2,5−ジオール、2,3−ジメチル−2,3−ブタンジオール、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)エタン、2−エチル−2−ヒドロキシメチル−1,3−プロパンジオール、2,2′−オキシビス(メチレン)ビス(2−エチル−1,3−プロパンジオール)、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1,3−プロパンジオール、1,2,6−トリヒドロキシヘキサン、ビス[2,2,2−トリス(ヒドロキシメチル)エチル]エーテル、1−エチニル−1−シクロヘキサノール、1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、エリトリトール、トレイトール、グアヤコールグリセロールエーテル、3,6−ジメチル−4−オクチン−3,6−ジオール、2,4,7,9−テトラメチル−5−デシン−4,7−ジオール等が挙げられる。グリコールエーテル系溶剤としては、ヘキシルジグリコール、ジエチレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、2−メチルペンタン−2,4−ジオール、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。チキソ剤としてのエステル化合物としては、ヒマシ硬化油が挙げられる。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系酸化防止剤等が挙げられる。   Examples of the solvent include water, alcohol solvents, glycol ether solvents, terpineols and the like. As alcohol solvents, isopropyl alcohol, 1,2-butanediol, isobornylcyclohexanol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 2,5 -Dimethyl-2,5-hexanediol, 2,5-dimethyl-3-hexyne-2,5-diol, 2,3-dimethyl-2,3-butanediol, 1,1,1-tris (hydroxymethyl) Ethane, 2-ethyl-2-hydroxymethyl-1,3-propanediol, 2,2'-oxybis (methylene) bis (2-ethyl-1,3-propanediol), 2,2-bis (hydroxymethyl) -1,3-propanediol, 1,2,6-trihydroxyhexane, bis [2,2,2-tris (hydroxymethyl) ethyl] ate 1-ethynyl-1-cyclohexanol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, erythritol, threitol, guaiacol glycerol ether, 3,6-dimethyl-4-octyne-3,6-diol, 2,4,7,9-tetramethyl-5-decyne-4,7-diol and the like. Examples of the glycol ether solvent include hexyl diglycol, diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, 2-methylpentane-2,4-diol, diethylene glycol dibutyl ether, and triethylene glycol monobutyl ether. Examples of the ester compound as a thixotropic agent include castor oil. Examples of the antioxidant include hindered phenol antioxidants.

<本実施の形態のソルダペーストの一例>
本実施の形態のソルダペーストは、上述したフラックスと、金属粉を含む。金属粉は、Sn単体のはんだの粉体、または、Sn−Ag系、Sn−Cu系、Sn−Ag−Cu系、Sn−Bi系、Sn-In系等、あるいは、これらの合金にSb、Bi、In、Cu、Zn、As、Ag、Cd、Fe、Ni、Co、Au、Ge、P、Pb等を添加したはんだ合金の粉体で構成される。
<Example of solder paste of this embodiment>
The solder paste of the present embodiment includes the above-described flux and metal powder. The metal powder may be Sn powder of Sn alone, Sn—Ag, Sn—Cu, Sn—Ag—Cu, Sn—Bi, Sn—In, etc., or an alloy of these with Sb, Bi, In, Cu, Zn, As, Ag, Cd, Fe, Ni, Co, Au, Ge, P, Pb, etc. are used to form a solder alloy powder.

はんだ合金は、As:25質量ppm以上300質量ppm以下、並びにSb:0質量ppm超3000質量ppm以下、Bi:0質量ppm超10000質量ppm以下、及びPb:0質量ppm超5100質量ppm以下の少なくとも1種、並びに残部がSnからなる合金組成を有することが好ましい。はんだ合金は、Ag:0質量%以上4質量%以下及びCu:0質量%以上0.9質量%以下の少なくとも1種を更に含有していてもよい。   The solder alloy has As: 25 mass ppm to 300 mass ppm, Sb: more than 0 mass ppm to 3000 mass ppm, Bi: more than 0 mass ppm to 10000 mass ppm, and Pb: more than 0 mass ppm to less than 5100 mass ppm. It is preferable to have an alloy composition of at least one kind and the balance being Sn. The solder alloy may further contain at least one of Ag: 0% by mass to 4% by mass and Cu: 0% by mass to 0.9% by mass.

Asは、ソルダペーストの粘度の経時変化を抑制することができる元素である。Asは、フラックスとの反応性が低く、またSnに対して貴な元素であるために増粘抑制効果を発揮することができると推察される。As含有量の下限は、例えば25質量ppm以上であり、好ましくは50質量ppm以上であり、より好ましくは100質量ppm以上である。一方、Asが多すぎるとはんだ合金の濡れ性が劣化する。As含有量の上限は、例えば300質量ppm以下であり、好ましくは250質量ppm以下であり、より好ましくは200質量ppm以下である。   As is an element that can suppress the change with time of the viscosity of the solder paste. It is presumed that As has a low reactivity with the flux and is a noble element with respect to Sn, and thus can exhibit a thickening suppressing effect. The lower limit of the As content is, for example, 25 ppm by mass or more, preferably 50 ppm by mass or more, and more preferably 100 ppm by mass or more. On the other hand, when there is too much As, the wettability of the solder alloy deteriorates. The upper limit of As content is 300 mass ppm or less, for example, Preferably it is 250 mass ppm or less, More preferably, it is 200 mass ppm or less.

Sbは、フラックスとの反応性が低く増粘抑制効果を示す元素である。はんだ合金がSbを含有する場合、Sb含有量の下限は、例えば0質量ppm超であり、好ましくは25質量ppm以上であり、より好ましくは50質量ppm以上であり、さらに好ましくは100質量ppm以上であり、特に好ましくは300質量ppm以上である。一方、Sb含有量が多すぎると、濡れ性が劣化するため、適度な含有量にする必要がある。Sb含有量の上限は、例えば3000質量ppm以下であり、好ましくは1150質量ppm以下であり、より好ましくは500質量ppm以下である。   Sb is an element that has low reactivity with the flux and exhibits a thickening suppressing effect. When the solder alloy contains Sb, the lower limit of the Sb content is, for example, more than 0 ppm by mass, preferably 25 ppm by mass or more, more preferably 50 ppm by mass or more, and further preferably 100 ppm by mass or more. Especially preferably, it is 300 mass ppm or more. On the other hand, if the Sb content is too large, the wettability deteriorates, so it is necessary to adjust the content appropriately. The upper limit of Sb content is 3000 mass ppm or less, for example, Preferably it is 1150 mass ppm or less, More preferably, it is 500 mass ppm or less.

Bi及びPbは、Sbと同様に、フラックスとの反応性が低く増粘抑制効果を示す元素である。また、Bi及びPbは、はんだ合金の液相線温度を下げるとともに溶融はんだの粘性を低減させるため、Asによる濡れ性の劣化を抑えることができる元素である。   Bi and Pb are elements that have a low reactivity with the flux and exhibit a thickening suppressing effect, as in Sb. Bi and Pb are elements that can suppress deterioration of wettability due to As in order to lower the liquidus temperature of the solder alloy and reduce the viscosity of the molten solder.

Sb、Bi及びPbの少なくとも1元素が存在すれば、Asによる濡れ性の劣化を抑えることができる。はんだ合金がBiを含有する場合、Bi含有量の下限は、例えば0質量ppm超であり、好ましくは25質量ppm以上であり、より好ましくは50質量ppm以上であり、さらに好ましくは75質量ppm以上であり、特に好ましくは100質量ppm以上であり、最も好ましくは250質量ppm以上である。はんだ合金がPbを含有する場合、Pb含有量の下限は0質量ppm超であり、好ましくは25質量ppm以上であり、より好ましくは50質量ppm以上であり、さらに好ましくは75質量ppm以上であり、特に好ましくは100質量ppm以上であり、最も好ましくは250質量ppm以上である。   If at least one element of Sb, Bi and Pb is present, deterioration of wettability due to As can be suppressed. When the solder alloy contains Bi, the lower limit of the Bi content is, for example, more than 0 ppm by mass, preferably 25 ppm by mass or more, more preferably 50 ppm by mass or more, and further preferably 75 ppm by mass or more. And is particularly preferably 100 ppm by mass or more, and most preferably 250 ppm by mass or more. When the solder alloy contains Pb, the lower limit of the Pb content is more than 0 ppm by mass, preferably 25 ppm by mass or more, more preferably 50 ppm by mass or more, and further preferably 75 ppm by mass or more. Particularly preferred is 100 ppm by mass or more, and most preferred is 250 ppm by mass or more.

一方、これらの元素の含有量が多すぎると、固相線温度が著しく低下するため、液相線温度と固相線温度との温度差であるΔTが広くなりすぎる。ΔTが広すぎると、溶融はんだの凝固過程において、BiやPbの含有量が少ない高融点の結晶相が析出するために液相のBiやPbが濃縮される。その後、さらに溶融はんだの温度が低下すると、BiやPbの濃度が高い低融点の結晶相が偏析してしまう。このため、はんだ合金の機械的強度等が劣化し、信頼性が劣ることになる。特に、Bi濃度が高い結晶相は硬くて脆いため、はんだ合金中で偏析すると信頼性が著しく低下する。   On the other hand, if the content of these elements is too large, the solidus temperature is remarkably lowered, so that ΔT, which is the temperature difference between the liquidus temperature and the solidus temperature, becomes too wide. If ΔT is too wide, a liquid phase Bi or Pb is concentrated because a high melting point crystal phase with a small content of Bi or Pb is precipitated in the solidification process of the molten solder. Thereafter, when the temperature of the molten solder further decreases, a low melting point crystal phase having a high concentration of Bi or Pb is segregated. For this reason, the mechanical strength and the like of the solder alloy are deteriorated, and the reliability is inferior. In particular, since the crystal phase with a high Bi concentration is hard and brittle, the segregation in the solder alloy significantly reduces the reliability.

このような観点から、はんだ合金がBiを含有する場合、Bi含有量の上限は、例えば10000質量ppm以下であり、好ましくは1000質量ppm以下であり、より好ましくは600質量ppm以下であり、さらに好ましくは500質量ppm以下である。はんだ合金がPbを含有する場合、Pb含有量の上限は、例えば5100質量ppm以下であり、好ましくは5000質量ppm以下であり、より好ましくは1000質量ppm以下であり、さらに好ましくは850質量ppm以下であり、特に好ましくは500質量ppm以下である。   From such a viewpoint, when the solder alloy contains Bi, the upper limit of the Bi content is, for example, 10000 mass ppm or less, preferably 1000 mass ppm or less, more preferably 600 mass ppm or less, Preferably it is 500 mass ppm or less. When the solder alloy contains Pb, the upper limit of the Pb content is, for example, 5100 mass ppm or less, preferably 5000 mass ppm or less, more preferably 1000 mass ppm or less, and even more preferably 850 mass ppm or less. And particularly preferably 500 ppm by mass or less.

はんだ合金は、下記の数(1)式を満たすことが好ましい。   The solder alloy preferably satisfies the following formula (1).

275≦2As+Sb+Bi+Pb・・・(1)
上記の数(1)式中、As、Sb、Bi、及びPbは各々合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
275 ≦ 2As + Sb + Bi + Pb (1)
In the above formula (1), As, Sb, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.

As、Sb、Bi及びPbは、いずれも増粘抑制効果を示す元素である。これらの合計が275質量ppm以上であることが好ましい。数(1)式中、As含有量を2倍にしたのは、AsがSbやBiやPbと比較して増粘抑制効果が高いためである。   As, Sb, Bi, and Pb are all elements that exhibit a thickening suppressing effect. The total of these is preferably 275 ppm by mass or more. The reason why the As content is doubled in the equation (1) is that As has a higher viscosity-inhibiting effect than Sb, Bi, and Pb.

数(1)式の下限は、好ましくは350以上であり、より好ましくは1200以上である。一方、(1)の上限は、増粘抑制効果の観点では特に限定されることはないが、ΔTを適した範囲にする観点から、好ましくは25200以下であり、より好ましくは10200以下であり、さらに好ましくは5300以下であり、特に好ましくは3800以下である。   The lower limit of the formula (1) is preferably 350 or more, more preferably 1200 or more. On the other hand, the upper limit of (1) is not particularly limited in terms of the effect of suppressing thickening, but is preferably 25200 or less, more preferably 10200 or less, from the viewpoint of making ΔT a suitable range. More preferably, it is 5300 or less, Most preferably, it is 3800 or less.

上記好ましい態様の中から上限及び下限を適宜選択したものが、下記の数(1a)式及び数(1b)式である。   Those in which the upper limit and the lower limit are appropriately selected from the above preferred embodiments are the following formulas (1a) and (1b).

275≦2As+Sb+Bi+Pb≦25200・・・(1a)
275≦2As+Sb+Bi+Pb≦5300・・・(1b)
上記の数(1a)及び数(1b)式中、As、Sb、Bi、及びPbは各々合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
275 ≦ 2As + Sb + Bi + Pb ≦ 25200 (1a)
275 ≦ 2As + Sb + Bi + Pb ≦ 5300 (1b)
In the above formulas (1a) and (1b), As, Sb, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.

はんだ合金は、下記の数(2)式を満たすことが好ましい。   The solder alloy preferably satisfies the following formula (2).

0.01≦(2As+Sb)/(Bi+Pb)≦10.00・・・(2)
上記の数(2)式中、As、Sb、Bi、及びPbは各々合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
0.01 ≦ (2As + Sb) / (Bi + Pb) ≦ 10.00 (2)
In the above formula (2), As, Sb, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.

As及びSbは含有量が多いとはんだ合金の濡れ性が劣化する。一方、Bi及びPbは、Asを含有することによる濡れ性の劣化を抑制するが、含有量が多すぎるとΔTが上昇してしまう。特に、Bi及びPbを同時に含有する合金組成では、ΔTが上昇しやすい。これらを鑑みると、Bi及びPbの含有量を増加させて過度に濡れ性を向上させようとするとΔTが広がってしまう。一方、AsやSbの含有量を増加させて増粘抑制効果を向上させようとすると濡れ性が劣化してしまう。そこで、As及びSbのグループ、Bi及びPbのグループに分け、両グループの合計量が適正な所定の範囲内である場合に、増粘抑制効果、ΔTの狭窄化、及び濡れ性のすべてが同時に満たされるのである。   When the content of As and Sb is large, the wettability of the solder alloy deteriorates. On the other hand, Bi and Pb suppress deterioration of wettability due to containing As, but if the content is too large, ΔT increases. In particular, in an alloy composition containing Bi and Pb simultaneously, ΔT tends to increase. In view of these, if the Bi and Pb contents are increased to excessively improve the wettability, ΔT spreads. On the other hand, when the content of As or Sb is increased to improve the thickening suppressing effect, the wettability deteriorates. Therefore, when it is divided into the group of As and Sb and the group of Bi and Pb, and the total amount of both groups is within an appropriate predetermined range, the thickening suppression effect, the narrowing of ΔT, and the wettability are all simultaneously. It is satisfied.

数(2)式が0.01未満であると、Bi及びPbの含有量の合計がAs及びPbの含有量の合計と比較して相対的に多くなるため、ΔTが広がってしまう。数(2)式の下限は、好ましくは0.02以上であり、より好ましくは0.41以上であり、さらに好ましくは0.90以上であり、特に好ましくは1.00以上であり、最も好ましくは1.40以上である。一方、数(2)式が10.00を超えると、As及びSbの含有量の合計がBi及びPbの含有量の合計より相対的に多くなるため、濡れ性が劣化してしまう。(2)の上限は、好ましくは5.33以下であり、より好ましくは4.50以下であり、さらに好ましくは2.67以下であり、特に好ましくは2.30以下である。   If the formula (2) is less than 0.01, the total content of Bi and Pb is relatively larger than the total content of As and Pb, and therefore ΔT spreads. The lower limit of the formula (2) is preferably 0.02 or more, more preferably 0.41 or more, further preferably 0.90 or more, particularly preferably 1.00 or more, and most preferably. Is 1.40 or more. On the other hand, if the formula (2) exceeds 10.00, the sum of the contents of As and Sb becomes relatively larger than the sum of the contents of Bi and Pb, so that the wettability deteriorates. The upper limit of (2) is preferably 5.33 or less, more preferably 4.50 or less, still more preferably 2.67 or less, and particularly preferably 2.30 or less.

なお、数(2)式の分母は「Bi+Pb」であり、これらを含有しないと数(2)式が成立しない。そのため、はんだ合金は、Bi及びPbの少なくとも1種を含有することが好ましい。Bi及びPbを含有しない合金組成は、前述のように、濡れ性が劣る。   The denominator of the equation (2) is “Bi + Pb”, and the equation (2) is not established unless these are included. Therefore, it is preferable that the solder alloy contains at least one of Bi and Pb. The alloy composition not containing Bi and Pb has poor wettability as described above.

上記好ましい態様の中から上限及び下限を適宜選択したものが、下記の数(2a)式である。   What selected the upper limit and the lower limit appropriately from the above preferred embodiments is the following formula (2a).

0.31≦(2As+Sb)/(Bi+Pb)≦10.00・・・(2a)
上記の数(2a)式中、As、Sb、Bi及びPbは各々合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
0.31 ≦ (2As + Sb) / (Bi + Pb) ≦ 10.00 (2a)
In the above formula (2a), As, Sb, Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.

Agは、結晶界面にAg3Snを形成してはんだ合金の信頼性を向上させることができる任意元素である。また、Agはイオン化係数がSnに対して貴な元素であり、As、Pb、及びBiと共存することによりこれらの増粘抑制効果を助長する。Ag含有量は好ましくは0質量%以上4質量%以下であり、より好ましくは0.5質量%以上3.5質量%以下であり、さらに好ましくは1.0質量%以上3.0質量%以下である。   Ag is an optional element that can improve the reliability of the solder alloy by forming Ag3Sn at the crystal interface. Further, Ag is an element having an ionization coefficient that is noble with respect to Sn, and promotes these thickening suppressing effects by coexisting with As, Pb, and Bi. The Ag content is preferably 0% by mass to 4% by mass, more preferably 0.5% by mass to 3.5% by mass, and still more preferably 1.0% by mass to 3.0% by mass. It is.

Cuは、はんだ継手の接合強度を向上させることができる任意元素である。また、Cuはイオン化係数がSnに対して貴な元素であり、As、Pb、及びBiと共存することによりこれらの増粘抑制効果を助長する。Cu含有量は好ましくは0質量%以上0.9質量%以下であり、より好ましくは0.1質量%以上0.8質量%以下であり、さらに好ましくは0.2質量%以上0.7質量%以下である。   Cu is an optional element that can improve the joint strength of the solder joint. Further, Cu is an element having an ionization coefficient that is noble with respect to Sn, and coexists with As, Pb, and Bi to promote these thickening suppressing effects. The Cu content is preferably 0% by mass to 0.9% by mass, more preferably 0.1% by mass to 0.8% by mass, and further preferably 0.2% by mass to 0.7% by mass. % Or less.

はんだ合金の残部はSnであることが好ましい。はんだ合金は、前述の元素の他に不可避的不純物を含有してもよい。不可避的不純物を含有する場合であっても、前述の効果に影響することはない。Inは、含有量が多すぎるとΔTが広がるため、1000質量ppm以下であれば前述の効果に影響することはない。   The balance of the solder alloy is preferably Sn. The solder alloy may contain inevitable impurities in addition to the aforementioned elements. Even when inevitable impurities are contained, the above-mentioned effects are not affected. If the content of In is too large, ΔT spreads. Therefore, if the content is 1000 ppm by mass or less, the above-described effects are not affected.

<本実施の形態のフラックス及びソルダペーストの作用効果例>
チキソ剤と、ダイマー酸、水添ダイマー酸、トリマー酸、水添トリマー酸の何れか、あるいは、ダイマー酸、水添ダイマー酸、トリマー酸、水添トリマー酸の2種以上と、ロジンと、溶剤を含み、チキソ剤が、環状アミド化合物と非環状アミド化合物からなるフラックスでは、チキソ剤が非環状アミド化合物からなる場合と比較して、非環状アミド化合物の含有量を増やすことなく、チキソ性を向上させることができ、チキソ剤の析出を抑制することができる。このフラックスを用いたソルダペーストでは、にじみ、かすれ等が抑制された良好な印刷性を得ることができ、また、印刷後のソルダペーストが流れる印刷ダレを抑制することができる。更に、はんだ付け時の加熱によるソルダペーストの加熱ダレを抑制することができる。
<Examples of effects of flux and solder paste of this embodiment>
Thixotropic agent, dimer acid, hydrogenated dimer acid, trimer acid, hydrogenated trimer acid, or two or more of dimer acid, hydrogenated dimer acid, trimer acid, hydrogenated trimer acid, rosin, solvent The thixotropic agent is a flux comprising a cyclic amide compound and a non-cyclic amide compound, and thixotropy can be increased without increasing the content of the non-cyclic amide compound compared to the case where the thixotropic agent is comprised of a non-cyclic amide compound. It can be improved, and precipitation of thixotropic agents can be suppressed. With the solder paste using this flux, it is possible to obtain good printability in which bleeding, blurring and the like are suppressed, and it is possible to suppress printing sag through which the solder paste after printing flows. Furthermore, the heating sag of the solder paste due to heating during soldering can be suppressed.

また、酸変性ロジンは、はんだ付けで想定される温度域での耐熱性を有し、はんだ付け時に活性剤として機能する。これにより、酸変性ロジンを含むフラックス、及び、このフラックスを用いたソルダペーストでは、はんだの濡れ速度が向上し、所望の濡れ速度が得られる。   The acid-modified rosin has heat resistance in the temperature range assumed for soldering and functions as an activator during soldering. Thereby, in the flux containing acid-modified rosin and the solder paste using this flux, the wetting speed of the solder is improved and a desired wetting speed is obtained.

以下の表1、表2、表3に示す組成で実施例と比較例のフラックスを調合し、このフラックスを使用してソルダペーストを調合して、フラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能、印刷性、加熱ダレの抑制能、はんだの濡れ速度について検証した。なお、表1、表2、表3における組成率は、フラックスの全量を100とした場合のwt(重量)%である。   In the compositions shown in Table 1, Table 2, and Table 3 below, the fluxes of Examples and Comparative Examples are prepared, and the solder paste is prepared using this flux to suppress the thixotropy of the flux and the printing sag of the solder paste. Performance, printability, ability to suppress heat sag, and solder wetting speed. In addition, the composition ratio in Table 1, Table 2, and Table 3 is wt (weight)% when the total amount of flux is 100.

ソルダペーストは、フラックスが11.0wt%、金属粉が89.0wt%である。また、ソルダペースト中の金属粉は、金属粉の全量を100としたとき、Agが3.0質量%、Cuが0.5質量%、残部がSnであるSn−Ag−Cu系のはんだ合金であり、金属粉の粒径の平均はφ20μmである。   The solder paste has a flux of 11.0 wt% and metal powder of 89.0 wt%. Further, the metal powder in the solder paste is Sn-Ag-Cu based solder alloy in which Ag is 3.0% by mass, Cu is 0.5% by mass and the balance is Sn when the total amount of the metal powder is 100. The average particle diameter of the metal powder is φ20 μm.

<フラックスのチキソ性の評価>
(1)検証方法
チキソ性の評価は、JIS Z3284−3 4.2に準拠し、スパイラル方式粘度計を用いて行った。粘度計の回転速度を3rpmと30rpmに設定し、所定時間回転後の粘度を読み取ってチキソ比を算出した。
<Evaluation of flux thixotropy>
(1) Verification method The thixotropy was evaluated using a spiral viscometer in accordance with JIS Z3284-3 4.2. The rotation speed of the viscometer was set to 3 rpm and 30 rpm, the viscosity after rotation for a predetermined time was read, and the thixo ratio was calculated.

(2)判定基準
〇〇:チキソ比が0.60以上
〇 :チキソ比が0.30以上0.60未満
× :チキソ比が0.30未満
(2) Criteria 〇〇: Thixo ratio is 0.60 or more 〇: Thixo ratio is 0.30 or more and less than 0.60 ×: Thixo ratio is less than 0.30

<ソルダペーストの印刷ダレ抑制能の評価>
(1)検証方法
ソルダペーストの印刷ダレ抑制能の評価は、JIS Z3284−3 4.3に準拠し、所定のパターンでソルダペースト印刷部が形成されたステンレス製メタルマスクを使用して銅板にソルダペーストを印刷し、メタルマスクを取り除いた後、室温25±5℃、相対湿度50±10%で10〜20分間保管し、印刷された各パターンのうち、印刷されたソルダペースト全てが一体にならない最小間隔を目視により確認した。メタルマスクの厚みは0.2mm、ソルダペースト印刷部は四角形の開口で、大きさは3.0×1.5mmとなっている。ソルダペースト印刷部は、同じ大きさの複数の開口が間隔を異ならせて並び、開口の間隔Lは0.2−0.3−0.4−0.5−0.6−0.7−0.8−0.9−1.0−1.1−1.2mmとなっている。
<Evaluation of printing sag suppression ability of solder paste>
(1) Verification method The evaluation of the ability to suppress the printing sag of the solder paste is based on JIS Z3284-3 4.3, using a stainless steel metal mask in which the solder paste printing part is formed with a predetermined pattern on the copper plate. After the paste is printed and the metal mask is removed, it is stored at room temperature 25 ± 5 ° C. and relative humidity 50 ± 10% for 10-20 minutes. Of the printed patterns, all the printed solder pastes are not integrated. The minimum spacing was confirmed visually. The thickness of the metal mask is 0.2 mm, the solder paste printing part is a rectangular opening, and the size is 3.0 × 1.5 mm. In the solder paste printing section, a plurality of openings of the same size are arranged at different intervals, and the interval L of the openings is 0.2-0.3-0.4-0.5-0.6-0.7- 0.8-0.9-1.0-1.1-1.2 mm.

(2)判定基準
〇:印刷後、一体にならない最小間隔が0.2mm以下
×:印刷後、一体にならない最小間隔が0.2mm超
(2) Judgment criteria ○: Minimum interval that does not become integrated after printing is 0.2 mm or less ×: Minimum interval that does not become integrated after printing exceeds 0.2 mm

<ソルダペーストの印刷性の評価>
(1)検証方法
ソルダペーストの印刷性の評価は、JIS Z3284−3 4.1に準拠し、所定のパターンでソルダペースト印刷部が形成されたステンレス製メタルマスクを使用して銅板にソルダペーストを印刷し、印刷初期及び連続印刷時において、にじみ、かすれがないかを目視により確認した。
<Evaluation of printability of solder paste>
(1) Verification method The evaluation of the printability of the solder paste is based on JIS Z3284-3 4.1, and the solder paste is applied to the copper plate using a stainless steel metal mask in which the solder paste printing part is formed in a predetermined pattern. After printing, it was visually confirmed whether there was any blur or blurring at the initial printing stage or during continuous printing.

(2)判定基準
〇:印刷後、にじみ・かすれがない
×:印刷後、にじみ・かすれがある
(2) Criteria ◯: No smearing or blurring after printing ×: Smearing or blurring after printing

<ソルダペーストの加熱ダレ抑制能の評価>
(1)検証方法
ソルダペーストの加熱ダレ抑制能の評価は、JIS Z3284−3 4.4に準拠し、所定のパターンでソルダペースト印刷部が形成されたステンレス製メタルマスクを使用して銅板にソルダペーストを印刷し、メタルマスクを取り除いた後、150±10℃にて10分間加熱を行い、印刷された各パターンのうち、印刷されたソルダペースト全てが一体にならない最小間隔を目視により確認した。メタルマスクの厚みは0.2mm、ソルダペースト印刷部は四角形の開口で、大きさは3.0×1.5mmとなっている。ソルダペースト印刷部は、同じ大きさの複数の開口が間隔を異ならせて並び、開口の間隔Lは0.2−0.3−0.4−0.5−0.6−0.7−0.8−0.9−1.0−1.1−1.2mmとなっている。
<Evaluation of heat sag suppression ability of solder paste>
(1) Verification method The evaluation of the heat sag suppressing ability of the solder paste is based on JIS Z3284-3 4.4, and the solder is applied to the copper plate using a stainless steel metal mask in which the solder paste printing part is formed with a predetermined pattern. After the paste was printed and the metal mask was removed, heating was performed at 150 ± 10 ° C. for 10 minutes, and among the printed patterns, the minimum interval at which all the printed solder paste was not integrated was visually confirmed. The thickness of the metal mask is 0.2 mm, the solder paste printing part is a rectangular opening, and the size is 3.0 × 1.5 mm. In the solder paste printing section, a plurality of openings of the same size are arranged at different intervals, and the interval L of the openings is 0.2-0.3-0.4-0.5-0.6-0.7- 0.8-0.9-1.0-1.1-1.2 mm.

(2)判定基準
〇:一体にならない最小間隔が1.0mm以下
×:一体にならない最小間隔が1.0mm超
(2) Criteria ◯: Minimum interval not integrated is 1.0 mm or less ×: Minimum interval not integrated is over 1.0 mm

<濡れ速度の評価>
(1)検証方法
濡れ速度の評価は、酸化銅板にフラックスを塗布し、メニスコグラフ法によりゼロクロスタイムを測定した。測定条件は以下の通りである。
<Evaluation of wetting speed>
(1) Verification method For evaluating the wetting rate, a flux was applied to a copper oxide plate, and the zero cross time was measured by the menisograph method. The measurement conditions are as follows.

固体試料:酸化銅板、幅5mm×長さ25mm、厚さ0.5mm、150 ℃ 1h
はんだ組成:Sn−3.0Ag−0.5Cu(Sn96.5wt%、Ag3.0wt%、Cu0.5wt%)
はんだ槽温度:250℃ JIS Z 3198−4
浸せき速度:5mm/sec JIS Z 3198−4
浸せき深さ:2mm JIS Z 3198−4
測定時間:10sec JIS Z 3198−4
フラックス塗布量:酸化銅板の浸せき深さ3mmまでフラックスが酸化銅版表面を覆うよう針先にてフラックス塗布
Solid sample: copper oxide plate, width 5 mm × length 25 mm, thickness 0.5 mm, 150 ° C. 1 h
Solder composition: Sn-3.0Ag-0.5Cu (Sn 96.5 wt%, Ag 3.0 wt%, Cu 0.5 wt%)
Solder bath temperature: 250 ° C. JIS Z 3198-4
Immersion speed: 5 mm / sec JIS Z 3198-4
Immersion depth: 2mm JIS Z 3198-4
Measurement time: 10 sec JIS Z 3198-4
Flux application amount: Flux application at the needle tip so that the flux covers the surface of the copper oxide plate until the immersion depth of the copper oxide plate is 3 mm

(2)判定基準
○:ゼロクロスタイム値が2.5秒以下であった。
×:ゼロクロスタイム値が2.5秒超であった。
(2) Criteria ◯: Zero cross time value was 2.5 seconds or less.
X: The zero cross time value was more than 2.5 seconds.

<総合評価>
〇:フラックスのチキソ性の評価が〇〇または〇、かつ、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能の評価、ソルダペーストの印刷性の評価、ソルダペーストの加熱ダレ抑制能の評価、はんだの濡れ速度の評価の何れも〇であった
×:フラックスのチキソ性の評価、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能の評価、ソルダペーストの印刷性の評価、ソルダペーストの加熱ダレ抑制能の評価、はんだの濡れ速度の評価の何れか、または全てが×であった
<Comprehensive evaluation>
○: Evaluation of flux thixotropy ○○ or ○, evaluation of solder paste printing sag suppression ability, evaluation of solder paste printing ability, evaluation of solder paste heating sag suppression ability, evaluation of solder wetting speed ×: Evaluation of flux thixotropy, evaluation of solder paste print sag suppression, evaluation of solder paste printability, evaluation of solder paste heat sag suppression, evaluation of solder wetting speed Any or all of was X

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実施例1〜実施例3は、酸変性ロジンの量を変えたもので、実施例1では、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、炭素数が10のジカルボン酸であるセバシン酸と、炭素数が6のジアミンである1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、炭素数が10のジカルボン酸であるセバシン酸と、炭素数が6のジアミンである1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計の含有量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で44.0wt%含む。   Examples 1 to 3 were obtained by changing the amount of acid-modified rosin. In Example 1, acrylic acid-modified rosin was contained as an acid-modified rosin within a range defined by the present invention, and contained 25.0 wt%. As another rosin, a polymerized rosin is contained at 25.0 wt% within the range defined by the present invention. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as the thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid, which is a dicarboxylic acid having 10 carbon atoms, and 1,6-hexanediamine, which is a diamine having 6 carbon atoms, is defined in the present invention. An acyclic amide compound in which sebacic acid, which is 2.0% by weight within the range, is a dicarboxylic acid having 10 carbon atoms, and 1,6-hexanediamine, which is a diamine having 6 carbon atoms, is acyclically condensed. The content is 4.0 wt% within the range specified in the invention. The total content of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. 44.0 wt% of tetraethylene glycol monomethyl ether is contained within the range defined by the present invention with the balance being the solvent.

実施例1では、チキソ比が0.60以上であり、フラックスのチキソ性を向上させることができ、チキソ性に対して十分な効果が得られ、チキソ剤の析出を抑制することができた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、印刷後、一体にならない最小間隔が0.2mm以下であり、印刷後のソルダペーストが流れる印刷ダレを抑制することができ、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷後、にじみ・かすれがみられず、にじみ、かすれ等が抑制された良好な印刷性を得ることができ、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱後、一体にならない最小間隔が1.0mm以下であり、はんだ付け時の加熱によるソルダペーストの加熱ダレを抑制することができ、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、ゼロクロスタイム値が2.5秒以下で、濡れ速度が上述した判定基準を満たし、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   In Example 1, the thixo ratio was 0.60 or more, the thixotropy of the flux could be improved, a sufficient effect on the thixotropy was obtained, and precipitation of the thixotropic agent could be suppressed. Moreover, in the solder paste using this flux, the minimum gap that is not integrated after printing is 0.2 mm or less, and it is possible to suppress the printing sag through which the solder paste after printing flows, and to suppress the printing sag of the solder paste. A sufficient effect on the performance was obtained. Further, after printing, no blur or blur was observed, and good printability with suppressed blur, blur and the like was obtained, and a sufficient effect on printability was obtained. In addition, the minimum gap that is not integrated after heating is 1.0 mm or less, and it is possible to suppress the heating sagging of the solder paste due to the heating at the time of soldering, and a sufficient effect is obtained for the ability to suppress the heating sagging. It was. Furthermore, when the zero cross time value was 2.5 seconds or less, the wetting rate satisfied the above-described criteria, and a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例2では、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で増やして50.0wt%含み、他のロジンを含まない。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計の含有量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で44.0wt%含む。   In Example 2, an acrylic acid-modified rosin is added as an acid-modified rosin within the range defined by the present invention, and 50.0 wt% is contained, and no other rosin is contained. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is contained within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. In the range specified by the present invention, 4.0 wt% of the non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained. The total content of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. 44.0 wt% of tetraethylene glycol monomethyl ether is contained within the range defined by the present invention with the balance being the solvent.

実施例2では、酸変性ロジンの含有量を本発明で規定される範囲内で増やすことで、他のロジンを含まなくても、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   In Example 2, by increasing the content of the acid-modified rosin within the range defined by the present invention, a sufficient effect on thixotropy was obtained even if other rosins were not included. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例3では、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で減らして5.0wt%含み、他のロジンとして水添ロジンを、本発明で規定される範囲内で45.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計の含有量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で44.0wt%含む。   In Example 3, the acrylic acid-modified rosin is reduced as the acid-modified rosin within the range defined by the present invention to include 5.0 wt%, and the hydrogenated rosin as the other rosin is within the range defined by the present invention. Contains 45.0 wt%. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is contained within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. In the range specified by the present invention, 4.0 wt% of the non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained. The total content of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. 44.0 wt% of tetraethylene glycol monomethyl ether is contained within the range defined by the present invention with the balance being the solvent.

実施例3では、酸変性ロジンの含有量を本発明で規定される範囲内で減らしても、他のロジンを含むことで、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   In Example 3, even if the content of the acid-modified rosin was reduced within the range defined by the present invention, a sufficient effect on thixotropy was obtained by including other rosins. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例4〜実施例6は、酸変性ロジンの種類を変えたもので、実施例4では、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性水添ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計の含有量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で44.0wt%含む。   In Examples 4 to 6, the kind of acid-modified rosin was changed. In Example 4, acrylic acid-modified hydrogenated rosin was used as the acid-modified rosin within the range defined by the present invention, and the content was 25.0 wt%. In addition, 25.0 wt% of a polymerized rosin is contained within the range defined by the present invention as another rosin. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is contained within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. In the range specified by the present invention, 4.0 wt% of the non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained. The total content of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. 44.0 wt% of tetraethylene glycol monomethyl ether is contained within the range defined by the present invention with the balance being the solvent.

実施例4でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 4, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例5では、酸変性ロジンとしてマレイン酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計の含有量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で44.0wt%含む。   In Example 5, maleic acid-modified rosin is contained as an acid-modified rosin within a range specified by the present invention in an amount of 25.0 wt%, and polymerized rosin as another rosin within a range specified by the present invention is 25.0 wt%. % Is included. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is contained within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. In the range specified by the present invention, 4.0 wt% of the non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained. The total content of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. 44.0 wt% of tetraethylene glycol monomethyl ether is contained within the range defined by the present invention with the balance being the solvent.

実施例5でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 5, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例6では、酸変性ロジンとしてマレイン酸変性水添ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤としてセバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計の含有量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で44.0wt%含む。   In Example 6, maleic acid-modified hydrogenated rosin was contained as an acid-modified rosin in an amount of 25.0 wt% within the range specified by the present invention, and polymerized rosin was added as another rosin within the range specified by the present invention. 0.0wt% is included. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is included within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. The non-cyclic polycondensed non-cyclic amide compound is contained in an amount of 4.0 wt% within the range specified in the present invention. The total content of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. 44.0 wt% of tetraethylene glycol monomethyl ether is contained within the range defined by the present invention with the balance being the solvent.

実施例6でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 6, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例7は、酸変性ロジンを複合添加したもので、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で10.0wt%、アクリル酸変性水添ロジンを、本発明で規定される範囲内で5.0wt%、マレイン酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で5.0wt%、マレイン酸変性水添ロジンを、本発明で規定される範囲内で5.0wt%含む。酸変性ロジンの合計の含有量は25wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計の含有量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で44.0wt%含む。   In Example 7, acid-modified rosin was added in combination. As acid-modified rosin, acrylic acid-modified rosin was used within the range defined by the present invention, and 10.0 wt% acrylic acid-modified hydrogenated rosin. 5.0 wt% maleic acid-modified rosin within the specified range, 5.0 wt% maleic acid-modified hydrogenated rosin within the range specified by the present invention, and 5. within the range specified by the present invention. Contains 0 wt%. The total content of acid-modified rosin is 25 wt%, and is within the range defined by the present invention. Moreover, 25.0 wt% of polymerized rosins are contained in the range prescribed | regulated by this invention as another rosin. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is contained within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. In the range specified by the present invention, 4.0 wt% of the non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained. The total content of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. 44.0 wt% of tetraethylene glycol monomethyl ether is contained within the range defined by the present invention with the balance being the solvent.

実施例7でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 7, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例8〜実施例10は、酸変性ロジンの種類を変えて、他のロジンを複合添加したもので、実施例8では、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性水添ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。また、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で10.0wt%、水添ロジンを、本発明で規定される範囲内で10.0wt%、不均化ロジンを、本発明で規定される範囲内で5.0wt%含む。他のロジンの合計の含有量は25wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計の含有量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で44.0wt%含む。   Examples 8 to 10 are obtained by changing the kind of acid-modified rosin and adding other rosin in combination. In Example 8, acrylic acid-modified hydrogenated rosin is defined as the acid-modified rosin in the present invention. 25.0 wt% in the range. Further, as other rosin, polymerized rosin, 10.0 wt% within the range specified in the present invention, hydrogenated rosin, 10.0 wt% within the range specified by the present invention, disproportionated rosin, 5.0 wt% is included within the range specified by the invention. The total content of other rosins is 25 wt%, and is within the range defined by the present invention. The total content of the acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is contained within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. In the range specified by the present invention, 4.0 wt% of the non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained. The total content of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. 44.0 wt% of tetraethylene glycol monomethyl ether is contained within the range defined by the present invention with the balance being the solvent.

実施例8でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   In Example 8, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例9では、酸変性ロジンとしてマレイン酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。また、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で10.0wt%、水添ロジンを、本発明で規定される範囲内で10.0wt%、不均化ロジンを、本発明で規定される範囲内で5.0wt%含む。他のロジンの合計の含有量は25wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計の含有量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で44.0wt%含む。   In Example 9, 25.0 wt% of maleic acid-modified rosin is contained as the acid-modified rosin within the range defined by the present invention. Further, as other rosin, polymerized rosin, 10.0 wt% within the range specified in the present invention, hydrogenated rosin, 10.0 wt% within the range specified by the present invention, disproportionated rosin, 5.0 wt% is included within the range specified by the invention. The total content of other rosins is 25 wt%, and is within the range defined by the present invention. The total content of the acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is contained within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. In the range specified by the present invention, 4.0 wt% of the non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained. The total content of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. 44.0 wt% of tetraethylene glycol monomethyl ether is contained within the range defined by the present invention with the balance being the solvent.

実施例9でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Even in Example 9, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例10では、酸変性ロジンとしてマレイン酸変性水添ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。また、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で10.0wt%、水添ロジンを、本発明で規定される範囲内で10.0wt%、不均化ロジンを、本発明で規定される範囲内で5.0wt%含む。他のロジンの合計の含有量は25wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計の含有量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で44.0wt%含む。   In Example 10, maleic acid-modified hydrogenated rosin is contained as an acid-modified rosin within a range specified by the present invention at 25.0 wt%. Further, as other rosin, polymerized rosin, 10.0 wt% within the range specified in the present invention, hydrogenated rosin, 10.0 wt% within the range specified by the present invention, disproportionated rosin, 5.0 wt% is included within the range specified by the invention. The total content of other rosins is 25 wt%, and is within the range defined by the present invention. The total content of the acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is contained within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. In the range specified by the present invention, 4.0 wt% of the non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained. The total content of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. 44.0 wt% of tetraethylene glycol monomethyl ether is contained within the range defined by the present invention with the balance being the solvent.

実施例10でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Even in Example 10, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例11は、酸変性ロジン及び他のロジンを複合添加したもので、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で10.0wt%、アクリル酸変性水添ロジンを、本発明で規定される範囲内で5.0wt%、マレイン酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で5.0wt%、マレイン酸変性水添ロジンを、本発明で規定される範囲内で5.0wt%含む。酸変性ロジンの合計の含有量は25wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で10.0wt%、水添ロジンを、本発明で規定される範囲内で10.0wt%、不均化ロジンを、本発明で規定される範囲内で5.0wt%含む。他のロジンの合計の含有量は25wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計の含有量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で44.0wt%含む。   In Example 11, acid-modified rosin and other rosins were added in combination. As the acid-modified rosin, acrylic acid-modified rosin was added within the range specified by the present invention, and 10.0 wt% acrylic acid-modified hydrogenated rosin. Within the range specified by the present invention, 5.0 wt% maleic acid-modified rosin, within the range specified by the present invention 5.0 wt% maleic acid-modified hydrogenated rosin, the range specified by the present invention Including 5.0 wt%. The total content of acid-modified rosin is 25 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as other rosin, polymerized rosin, 10.0 wt% within the range specified in the present invention, hydrogenated rosin, 10.0 wt% within the range specified by the present invention, disproportionated rosin, 5.0 wt% is included within the range specified by the invention. The total content of other rosins is 25 wt%, and is within the range defined by the present invention. Furthermore, the total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is contained within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. In the range specified by the present invention, 4.0 wt% of the non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained. The total content of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. 44.0 wt% of tetraethylene glycol monomethyl ether is contained within the range defined by the present invention with the balance being the solvent.

実施例11でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Even in Example 11, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例12は、有機酸を添加したもので、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計の含有量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で41.0wt%含む。   In Example 12, an organic acid was added, and acrylic acid-modified rosin was contained as an acid-modified rosin within a range defined by the present invention in an amount of 25.0 wt%, and polymerized rosin was defined as another rosin according to the present invention. Within the range, 25.0 wt% is included. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is contained within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. In the range specified by the present invention, 4.0 wt% of the non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained. The total content of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, glutaric acid is included as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and the remainder as a solvent includes tetraethylene glycol monomethyl ether within a range specified by the present invention as 41.0 wt%.

実施例12でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 12, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例13、実施例14は、環状アミド化合物と非環状アミド化合物の添加量を変えたもので、実施例13では、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で0.5wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で8.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は8.5wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で38.5wt%含む。   In Examples 13 and 14, the addition amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound was changed. In Example 13, acrylic acid-modified rosin was used as the acid-modified rosin within the range defined by the present invention. It contains 25.0 wt%, and polymerized rosin as another rosin is contained within the range specified in the present invention, 25.0 wt%. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as the thixotropic agent, 0.5% by weight of a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is included within the range specified by the present invention, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. The non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained in an amount of 8.0 wt% within the range specified in the present invention. The total amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 8.5 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, glutaric acid is contained as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and the balance is tetraethylene glycol monomethyl ether as a solvent within a range specified by the present invention in an amount of 38.5 wt%.

実施例13では、環状アミド化合物を0.5wt%含むことで、非環状アミド化合物を8wt%含んでも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   In Example 13, by including 0.5 wt% of the cyclic amide compound, a sufficient effect on thixotropy was obtained even when 8 wt% of the acyclic amide compound was included. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例14では、環状アミド化合物と非環状アミド化合物の添加量を変えたもので、実施例13では、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で8.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で2.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は10.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で37.0wt%含む。   In Example 14, the addition amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound was changed. In Example 13, acrylic acid-modified rosin was used as the acid-modified rosin within the range specified by the present invention, and 25.0 wt%. In addition, 25.0 wt% of a polymerized rosin is contained within the range defined by the present invention as another rosin. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is contained within a range specified by the present invention in an amount of 8.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. The non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained in an amount of 2.0 wt% within the range specified in the present invention. The total amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 10.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, glutaric acid is included as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and the balance is tetraethylene glycol monomethyl ether as a solvent within a range specified by the present invention.

実施例14でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。このように、実施例14では、環状アミド化合物を8.0wt%含むことでも、フラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレの抑制能、濡れ速度が阻害されず、これらに対して十分な効果が得られた。これにより、酸変性ロジン、あるいは酸変性ロジンと他のロジン、及び、炭素数が10のジカルボン酸と炭素数が6のジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物と、炭素数が10のジカルボン酸と炭素数が6のジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で含むことで、フラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレ抑制能、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Even in Example 14, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained. Thus, in Example 14, even if the cyclic amide compound is contained at 8.0 wt%, the thixotropy of the flux, the solder paste printing sag suppressing ability, the printing ability, the heating sag suppressing ability, and the wetting speed are not inhibited. A sufficient effect was obtained for these. Thus, acid-modified rosin, or acid-modified rosin and other rosins, and cyclic amide compounds in which a dicarboxylic acid having 10 carbon atoms and a diamine having 6 carbon atoms are cyclically condensed, and a dicarboxylic acid having 10 carbon atoms And an acyclic amide compound in which a diamine having 6 carbons is acyclic polycondensed within the range specified in the present invention, the thixotropy of the flux, the ability to suppress the printing sag of the solder paste, the printability, and the heating Sufficient effects were obtained on sagging suppression ability and wetting speed.

実施例15は、環状アミド化合物及び非環状アミド化合物の種類を変えたもので、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、炭素数が6のジカルボン酸であるアジピン酸と、炭素数が6のジアミンである1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を2.0wt%含み、炭素数が6のジカルボン酸であるアジピン酸と、炭素数が6のジアミンである1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で41.0wt%含む。   In Example 15, the types of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound were changed. The acid-modified rosin contained 25.0 wt% of acrylic acid-modified rosin within the range defined by the present invention. The polymerized rosin is contained at 25.0 wt% within the range defined by the present invention. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. The thixotropic agent contains 2.0 wt% of a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of adipic acid, which is a dicarboxylic acid having 6 carbon atoms, and 1,6-hexanediamine, which is a diamine having 6 carbon atoms, It contains 4.0 wt% of an acyclic amide compound obtained by acyclic polycondensation of adipic acid, which is a dicarboxylic acid having 6 carbon atoms, and 1,6-hexanediamine, which is a diamine having 6 carbon atoms. The total amount of the cyclic amide compound and the acyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, glutaric acid is included as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and the remainder as a solvent includes tetraethylene glycol monomethyl ether within a range specified by the present invention as 41.0 wt%.

実施例15でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。このように、実施例15では、チキソ剤として、アジピン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物と、アジピン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で含むことでも、フラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレの抑制能、濡れ広速度が阻害されず、これらに対して十分な効果が得られた。これにより、酸変性ロジン、あるいは酸変性ロジンと他のロジン、及び、炭素数が6のジカルボン酸と炭素数が6のジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物と、炭素数が6のジカルボン酸と炭素数が6のジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で含むことでも、フラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレ抑制能、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Even in Example 15, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained. Thus, in Example 15, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of adipic acid and 1,6-hexanediamine and a non-cyclic polycondensation of adipic acid and 1,6-hexanediamine were prepared. Even if the cyclic amide compound is included within the range specified in the present invention, the thixotropy of the flux, the printing sag suppressing ability of the solder paste, the printing ability, the ability to suppress the heating sag, and the wetting wide speed are not inhibited. A sufficient effect was obtained. Thus, acid-modified rosin, or acid-modified rosin and other rosins, and cyclic amide compounds obtained by cyclic polycondensation of a dicarboxylic acid having 6 carbon atoms and a diamine having 6 carbon atoms, and a dicarboxylic acid having 6 carbon atoms And acyclic amide compounds in which a diamine having 6 carbon atoms is acyclically polycondensed within the range specified by the present invention, the thixotropy of the flux, the ability to suppress the printing sag of the solder paste, the printability, and the heating Sufficient effects were obtained on sagging suppression ability and wetting speed.

実施例16〜実施例18は、他の有機酸の種類を変えたもので、実施例16では、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてコハク酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で41.0wt%含む。   Examples 16 to 18 were obtained by changing the types of other organic acids. In Example 16, acrylic acid-modified rosin was contained as an acid-modified rosin within a range defined by the present invention, and contained 25.0 wt%. As another rosin, 25.0 wt% of a polymerized rosin is included within the range defined by the present invention. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is contained within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. In the range specified by the present invention, 4.0 wt% of the non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained. The total amount of the cyclic amide compound and the acyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, succinic acid is included as an organic acid within a range specified by the present invention, and 3.0 wt% within the range specified in the present invention, and tetraethylene glycol monomethyl ether as a solvent is included within a range specified by the present invention as 41.0 wt%.

実施例16でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 16, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例17では、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてアジピン酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で41.0wt%含む。   In Example 17, acrylic acid-modified rosin is contained as an acid-modified rosin within a range specified by the present invention in an amount of 25.0 wt%, and polymerized rosin as another rosin within a range specified by the present invention is 25.0 wt%. % Is included. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is contained within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. In the range specified by the present invention, 4.0 wt% of the non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained. The total amount of the cyclic amide compound and the acyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, adipic acid is included as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and the remainder as a solvent includes tetraethylene glycol monomethyl ether within a range specified by the present invention as 41.0 wt%.

実施例17でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   In Example 17, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例18では、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸として水添ダイマー酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で41.0wt%含む。   In Example 18, the acid-modified rosin contains acrylic acid-modified rosin within a range specified by the present invention in an amount of 25.0 wt%, and other rosin contains a polymerized rosin within a range specified by the present invention of 25.0 wt%. % Is included. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is contained within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. In the range specified by the present invention, 4.0 wt% of the non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained. The total amount of the cyclic amide compound and the acyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, hydrogenated dimer acid as an organic acid is contained in an amount of 3.0 wt% within the range specified in the present invention, and the remainder is used as a solvent with tetraethylene glycol monomethyl ether in a range specified by the present invention as 41.0 wt%. Including.

実施例18でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   In Example 18, sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例19は、有機酸を複合添加したもので、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてコハク酸を、本発明で規定される範囲内で1.0wt%、グルタル酸を、本発明で規定される範囲内で1.0wt%、水添ダイマー酸を、本発明で規定される範囲内で1.0wt%含む。2種以上の有機酸の合計量も、本発明で規定される範囲内である。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で41.0wt%含む。   In Example 19, an organic acid was added in a composite, and acrylic acid-modified rosin was contained as an acid-modified rosin within a range defined by the present invention in an amount of 25.0 wt%, and polymerized rosin as another rosin. 25.0 wt% is included within the specified range. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is contained within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. In the range specified by the present invention, 4.0 wt% of the non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained. The total amount of the cyclic amide compound and the acyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, succinic acid as an organic acid, 1.0 wt% within the range defined by the present invention, glutaric acid within the range defined by the present invention, 1.0 wt%, hydrogenated dimer acid, It contains 1.0 wt% within the specified range. The total amount of the two or more organic acids is also within the range defined by the present invention. 41.0 wt% of tetraethylene glycol monomethyl ether is contained within the range defined by the present invention with the balance being the solvent.

実施例19でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 19, sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例20は、有機酸の添加量を変えたもので、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%、水添ダイマー酸を、本発明で規定される範囲内で8.0wt%含む。2種以上の有機酸の合計量も、本発明で規定される範囲内である。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で34.0wt%含む。   In Example 20, the addition amount of the organic acid was changed, and acrylic acid-modified rosin was contained as an acid-modified rosin within a range defined by the present invention in an amount of 25.0 wt%, and polymerized rosin was used as another rosin. 25.0 wt% is included within the range specified by the invention. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is contained within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. In the range specified by the present invention, 4.0 wt% of the non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained. The total amount of the cyclic amide compound and the acyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Furthermore, glutaric acid is contained as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and hydrogenated dimer acid is included within a range specified by the present invention in an amount of 8.0 wt%. The total amount of the two or more organic acids is also within the range defined by the present invention. Tetraethylene glycol monomethyl ether containing 34.0 wt% within the range specified in the present invention is used with the balance being the solvent.

実施例20でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 20, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例16〜実施例20に示すように、酸変性ロジン、あるいは酸変性ロジンと他のロジン、及び、チキソ剤として環状アミド化合物と非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で含むことで、本発明で規定された範囲内で有機酸の種類を変える、複数種類の有機酸を組み合わせる、有機酸の量を変えることでも、フラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレ抑制能、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   As shown in Example 16 to Example 20, acid-modified rosin, or acid-modified rosin and other rosins, and cyclic amide compounds and acyclic amide compounds as thixotropic agents are included within the range specified in the present invention. Therefore, changing the type of organic acid within the range specified in the present invention, combining multiple types of organic acids, changing the amount of organic acid, flux thixotropy, solder paste printing droop suppression ability, printing Sufficient effect on the properties, heat sagging suppression ability, and wetting speed were obtained.

実施例21は、アミンを添加したもので、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、アミンとして2−フェニルイミダゾールを、本発明で規定される範囲内で5.0wt%含む。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で36.0wt%含む。   Example 21 was prepared by adding an amine, containing 25.0 wt% of acrylic acid-modified rosin as the acid-modified rosin within the range defined by the present invention, and polymerized rosin as the other rosin. 25.0 wt% in the range. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is contained within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. In the range specified by the present invention, 4.0 wt% of the non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained. The total amount of the cyclic amide compound and the acyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, glutaric acid is included as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and 2-phenylimidazole is included as an amine within a range specified by the present invention in an amount of 5.0 wt%. Tetraethylene glycol monomethyl ether is contained 36.0 wt% within the range defined by the present invention with the balance being the solvent.

実施例21でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 21, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例22は、アミンの種類を変えたもので、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、アミンとして2−フェニル−4−メチルイミダゾールを、本発明で規定される範囲内で5.0wt%含む。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で36.0wt%含む。   In Example 22, the type of amine was changed, and acrylic acid-modified rosin was contained as an acid-modified rosin within a range defined by the present invention in an amount of 25.0 wt%, and polymerized rosin as another rosin. 25.0 wt% is included within the specified range. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is contained within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. In the range specified by the present invention, 4.0 wt% of the non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained. The total amount of the cyclic amide compound and the acyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Furthermore, glutaric acid is included as an organic acid within a range specified by the present invention at 3.0 wt%, and 2-phenyl-4-methylimidazole is included as an amine within a range specified by the present invention at 5.0 wt%. . Tetraethylene glycol monomethyl ether is contained 36.0 wt% within the range defined by the present invention with the balance being the solvent.

実施例22でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 22, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例21〜実施例22に示すように、酸変性ロジン、あるいは酸変性ロジンと他のロジン、及び、チキソ剤として環状アミド化合物と非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で含むことで、本発明で規定された範囲内でアミンを含むことでも、フラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレ抑制能、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   As shown in Example 21 to Example 22, acid-modified rosin, or acid-modified rosin and other rosins, and cyclic amide compounds and acyclic amide compounds as thixotropic agents are included within the range specified in the present invention. Therefore, even if the amine is contained within the range specified in the present invention, sufficient effects can be obtained with respect to the thixotropy of the flux, the printing sag suppressing ability of the solder paste, the printing property, the heating sag suppressing ability, and the wetting speed. It was.

実施例23は、ハロゲンを添加したもので、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、アミンハロゲン化水素酸塩としてジフェニルグアニジン・HBrを、本発明で規定された範囲内で2.0wt%含む。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で39.0wt%含む。   Example 23 was obtained by adding halogen, containing 25.0 wt% of acrylic acid-modified rosin as the acid-modified rosin within the range defined by the present invention, and polymerized rosin as the other rosin. 25.0 wt% in the range. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is contained within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. In the range specified by the present invention, 4.0 wt% of the non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained. The total amount of the cyclic amide compound and the acyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, glutaric acid is included as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and diphenylguanidine / HBr is included as an amine hydrohalide within a range specified by the present invention. Including. 39.0 wt% of tetraethylene glycol monomethyl ether is contained within the range defined by the present invention with the balance being the solvent.

実施例23でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 23, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例24は、ハロゲンの種類を変えたもので、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、有機ハロゲン化合物としてtrans−2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオールを、本発明で規定される範囲内で5.0wt%含む。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で36.0wt%含む。   In Example 24, the kind of halogen was changed, and acrylic acid-modified rosin was contained as an acid-modified rosin within a range defined by the present invention in an amount of 25.0 wt%, and polymerized rosin as another rosin. 25.0 wt% is included within the specified range. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is contained within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. In the range specified by the present invention, 4.0 wt% of the non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained. The total amount of the cyclic amide compound and the acyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Furthermore, glutaric acid is included as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol is included as an organic halogen compound in the present invention. Within the specified range, 5.0 wt% is included. Tetraethylene glycol monomethyl ether is contained 36.0 wt% within the range defined by the present invention with the balance being the solvent.

実施例24でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 24, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例23〜実施例24に示すように、酸変性ロジン、あるいは酸変性ロジンと他のロジン、及び、チキソ剤として環状アミド化合物と非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で含むことで、本発明で規定された範囲内でハロゲンを含むことでも、フラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレ抑制能、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   As shown in Examples 23 to 24, an acid-modified rosin, or an acid-modified rosin and other rosins, and a cyclic amide compound and an acyclic amide compound as a thixotropic agent are included within the range specified in the present invention. Thus, even if halogen is contained within the range specified in the present invention, sufficient effects can be obtained with respect to flux thixotropy, solder paste printing sag suppression ability, printability, heating sag suppression ability, and wetting speed. It was.

実施例25は、酸化防止剤を添加したもので、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、酸化防止剤としてヒンダードフェノール系酸化防止剤を、本発明で規定された範囲内で5.0wt%含む。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で36.0wt%含む。   In Example 25, an antioxidant was added, and acrylic acid-modified rosin was contained as an acid-modified rosin within a range specified by the present invention in an amount of 25.0 wt%, and polymerized rosin as another rosin. 25.0 wt% is included within the specified range. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is contained within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. In the range specified by the present invention, 4.0 wt% of the non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained. The total amount of the cyclic amide compound and the acyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Furthermore, glutaric acid is included as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and a hindered phenol antioxidant as an antioxidant is included within a range specified by the present invention at 5.0 wt%. Including. Tetraethylene glycol monomethyl ether is contained 36.0 wt% within the range defined by the present invention with the balance being the solvent.

実施例25でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 25, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例25に示すように、酸変性ロジン、あるいは酸変性ロジンと他のロジン、及び、チキソ剤として環状アミド化合物と非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で含むことで、本発明で規定された範囲内で酸化防止剤を含むことでも、フラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレ抑制能、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   As shown in Example 25, an acid-modified rosin, or an acid-modified rosin and another rosin, and a cyclic amide compound and an acyclic amide compound as a thixotropic agent within the range defined by the present invention Even when the antioxidant is contained within the range specified in the invention, sufficient effects are obtained with respect to the thixotropy of the flux, the ability to suppress the printing sag of the solder paste, the printability, the heating sag suppressing ability, and the wetting speed.

実施例26は、アミン、ハロゲン、酸化防止剤を添加したもので、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてコハク酸を、本発明で規定される範囲内で0.2wt%含み、アミンとして2−フェニルイミダゾールを、本発明で規定される範囲内で5.0wt%含み、アミンハロゲン化水素酸塩としてジフェニルグアニジン・HBrを、本発明で規定された範囲内で1.0wt%含み、有機ハロゲン化合物としてtrans−2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオールを、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、酸化防止剤としてヒンダードフェノール系酸化防止剤を、本発明で規定された範囲内で3.0wt%含む。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で31.8wt%含む。   In Example 26, an amine, a halogen, and an antioxidant were added, and acrylic acid-modified rosin was contained as an acid-modified rosin within a range defined by the present invention, and 25.0 wt%, and polymerized rosin as another rosin. 25.0 wt% is included within the range specified by the present invention. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is contained within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. In the range specified by the present invention, 4.0 wt% of the non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained. The total amount of the cyclic amide compound and the acyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, succinic acid is included as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 0.2 wt%, and 2-phenylimidazole is included as an amine within a range specified by the present invention in an amount of 5.0 wt%. In the present invention, diphenylguanidine · HBr is contained in the range specified by the present invention in an amount of 1.0 wt% as a hydrogen salt, and trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol is present in the present invention as an organic halogen compound. In the range specified in (1), 3.0 wt% is included, and as the antioxidant, a hindered phenol-based antioxidant is included in the range specified in the present invention (3.0 wt%). 31.8 wt% of tetraethylene glycol monomethyl ether is contained within the range defined by the present invention with the balance being the solvent.

実施例26でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 26, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例26に示すように、酸変性ロジン、あるいは酸変性ロジンと他のロジン、及び、チキソ剤として環状アミド化合物と非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で含むことで、本発明で規定された範囲内でアミン、ハロゲン、酸化防止剤を含むことでも、フラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレ抑制能、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   As shown in Example 26, an acid-modified rosin, or an acid-modified rosin and another rosin, and a cyclic amide compound and an acyclic amide compound as a thixotropic agent within the range defined by the present invention Even if it contains amine, halogen, and antioxidant within the range specified in the invention, it has sufficient effect on flux thixotropy, solder paste print sag suppression ability, printability, heat sag suppression ability, and wetting speed. Obtained.

実施例27、実施例28は、酸変性ロジン及び他のロジンの量を変えたもので、実施例27は、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で10.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は35.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で56.0wt%含む。   In Examples 27 and 28, the amounts of acid-modified rosin and other rosins were changed. In Example 27, acrylic acid-modified rosin was used as the acid-modified rosin within the range defined by the present invention. It contains 0 wt% and contains 25.0 wt% of polymerized rosin as another rosin within the range defined by the present invention. The total content of the acid-modified rosin and other rosins is 35.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is contained within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. In the range specified by the present invention, 4.0 wt% of the non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained. The total amount of the cyclic amide compound and the acyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, glutaric acid is included as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and the balance is tetraethylene glycol monomethyl ether as a solvent within a range specified by the present invention as 56.0 wt%.

実施例27でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 27, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例28は、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で30.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で30.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は60.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で31.0wt%含む。   Example 28 contains 30.0 wt% of acrylic acid-modified rosin as the acid-modified rosin within the range defined by the present invention, and polymerized rosin as the other rosin within the range defined by the present invention of 30.0 wt%. % Is included. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 60.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is contained within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. In the range specified by the present invention, 4.0 wt% of the non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained. The total amount of the cyclic amide compound and the acyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Furthermore, glutaric acid is contained as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and the remainder is contained as a solvent and tetraethylene glycol monomethyl ether is contained within a range specified by the present invention at 31.0 wt%.

実施例28でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 28, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例29〜実施例47は、さらにチキソ剤としてエステル化合物を添加したもので、実施例29では、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で1.5wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で2.5wt%含み、チキソ剤としてのエステル化合物としてヒマシ硬化油を、本発明で規定された範囲内で2.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は4.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてコハク酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で41.0wt%含む。   In Examples 29 to 47, an ester compound was further added as a thixotropic agent. In Example 29, acrylic acid-modified rosin was contained as an acid-modified rosin within a range specified by the present invention in an amount of 25.0 wt%. As another rosin, 25.0 wt% of a polymerized rosin is included within the range defined by the present invention. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, 1.5% by weight of a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is included within the range specified by the present invention, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. Of non-cyclic polycondensed acyclic amide compound within a range specified by the present invention in an amount of 2.5 wt%, castor oil as an ester compound as a thixotropic agent, and within a range specified by the present invention 2 0.0wt% is included. The total amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 4.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, succinic acid is included as an organic acid within a range specified by the present invention, and 3.0 wt% within the range specified in the present invention, and tetraethylene glycol monomethyl ether as a solvent is included within a range specified by the present invention as 41.0 wt%.

実施例29でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 29, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例30では、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で1.5wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で2.5wt%含み、チキソ剤としてのエステル化合物としてヒマシ硬化油を、本発明で規定された範囲内で2.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は4.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてアジピン酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で41.0wt%含む。   In Example 30, the acid-modified rosin contains acrylic acid-modified rosin within a range specified by the present invention in an amount of 25.0 wt%, and other rosin contains a polymerized rosin within a range specified by the present invention of 25.0 wt%. % Is included. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, 1.5% by weight of a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is included within the range specified by the present invention, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. Of non-cyclic polycondensed acyclic amide compound within a range specified by the present invention in an amount of 2.5 wt%, castor oil as an ester compound as a thixotropic agent, and within a range specified by the present invention 2 0.0wt% is included. The total amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 4.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, adipic acid is included as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and the remainder as a solvent includes tetraethylene glycol monomethyl ether within a range specified by the present invention as 41.0 wt%.

実施例30でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 30, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例31では、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で1.5wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で2.5wt%含み、チキソ剤としてのエステル化合物としてヒマシ硬化油を、本発明で規定された範囲内で2.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は4.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸として水添ダイマー酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で41.0wt%含む。   In Example 31, acrylic acid-modified rosin was contained as an acid-modified rosin within a range specified by the present invention in an amount of 25.0 wt%, and polymerized rosin as another rosin within a range specified by the present invention was 25.0 wt%. % Is included. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, 1.5% by weight of a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is included within the range specified by the present invention, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. Of non-cyclic polycondensed acyclic amide compound within a range specified by the present invention in an amount of 2.5 wt%, castor oil as an ester compound as a thixotropic agent, and within a range specified by the present invention 2 0.0wt% is included. The total amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 4.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, hydrogenated dimer acid as an organic acid is contained in an amount of 3.0 wt% within the range specified in the present invention, and the remainder is used as a solvent with tetraethylene glycol monomethyl ether in a range specified by the present invention as 41.0 wt%. Including.

実施例31でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 31, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例32は、有機酸を複合添加したもので、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で1.5wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で2.5wt%含み、チキソ剤としてのエステル化合物としてヒマシ硬化油を、本発明で規定された範囲内で2.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は4.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてコハク酸を、本発明で規定される範囲内で1.0wt%、グルタル酸を、本発明で規定される範囲内で1.0wt%、水添ダイマー酸を、本発明で規定される範囲内で1.0wt%含む。2種以上の有機酸の合計量も、本発明で規定される範囲内である。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で41.0wt%含む。   In Example 32, an organic acid was added in a composite, and acrylic acid-modified rosin was contained as an acid-modified rosin within a range defined by the present invention in an amount of 25.0 wt%, and polymerized rosin as another rosin. 25.0 wt% is included within the specified range. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, 1.5% by weight of a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is included within the range specified by the present invention, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. Of non-cyclic polycondensed acyclic amide compound within a range specified by the present invention in an amount of 2.5 wt%, castor oil as an ester compound as a thixotropic agent, and within a range specified by the present invention 2 0.0wt% is included. The total amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 4.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, succinic acid as an organic acid, 1.0 wt% within the range defined by the present invention, glutaric acid within the range defined by the present invention, 1.0 wt%, hydrogenated dimer acid, It contains 1.0 wt% within the specified range. The total amount of the two or more organic acids is also within the range defined by the present invention. 41.0 wt% of tetraethylene glycol monomethyl ether is contained within the range defined by the present invention with the balance being the solvent.

実施例32でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 32, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例33は、有機酸の添加量を変えたもので、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で1.5wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で2.5wt%含み、チキソ剤としてのエステル化合物としてヒマシ硬化油を、本発明で規定された範囲内で2.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は4.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%、水添ダイマー酸を、本発明で規定される範囲内で8.0wt%含む。2種以上の有機酸の合計量も、本発明で規定される範囲内である。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で34.0wt%含む。   In Example 33, the addition amount of the organic acid was changed. The acid-modified rosin contained acrylic acid-modified rosin in an amount of 25.0 wt% within the range defined by the present invention, and the other rosin was polymerized rosin. 25.0 wt% is included within the range specified by the invention. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, 1.5% by weight of a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is included within the range specified by the present invention, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. Of non-cyclic polycondensed acyclic amide compound within a range specified by the present invention in an amount of 2.5 wt%, castor oil as an ester compound as a thixotropic agent, and within a range specified by the present invention 2 0.0wt% is included. The total amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 4.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Furthermore, glutaric acid is contained as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and hydrogenated dimer acid is included within a range specified by the present invention in an amount of 8.0 wt%. The total amount of the two or more organic acids is also within the range defined by the present invention. Tetraethylene glycol monomethyl ether containing 34.0 wt% within the range specified in the present invention is used with the balance being the solvent.

実施例33でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 33, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例29〜実施例33に示すように、酸変性ロジン、あるいは酸変性ロジンと他のロジン、及び、チキソ剤として環状アミド化合物と非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で含むことで、有機酸を、本発明で想定される範囲内で含み、チキソ剤としてさらにエステル化合物を、本発明で規定される範囲内で含むことでも、フラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレ抑制能、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   As shown in Examples 29 to 33, acid-modified rosin, or acid-modified rosin and other rosins, and cyclic amide compounds and acyclic amide compounds as thixotropic agents are included within the range specified in the present invention. Therefore, even if the organic acid is included within the range assumed in the present invention, and the ester compound is further included within the range defined by the present invention as a thixotropic agent, the thixotropy of the flux and the printing sagging of the solder paste are suppressed. A sufficient effect was obtained with respect to performance, printability, ability to suppress heat sag, and wetting speed.

実施例34は、アミンを添加したもので、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で1.5wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で2.5wt%含み、チキソ剤としてのエステル化合物としてヒマシ硬化油を、本発明で規定された範囲内で2.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は4.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、アミンとして2−フェニルイミダゾールを、本発明で規定される範囲内で5.0wt%含む。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で36.0wt%含む。   In Example 34, an amine was added, and acrylic acid-modified rosin was contained as an acid-modified rosin within a range defined by the present invention in an amount of 25.0 wt%. Polymerized rosin was defined as another rosin according to the present invention. 25.0 wt% in the range. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, 1.5% by weight of a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is included within the range specified by the present invention, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. Of non-cyclic polycondensed acyclic amide compound within a range specified by the present invention in an amount of 2.5 wt%, castor oil as an ester compound as a thixotropic agent, and within a range specified by the present invention 2 0.0wt% is included. The total amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 4.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, glutaric acid is included as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and 2-phenylimidazole is included as an amine within a range specified by the present invention in an amount of 5.0 wt%. Tetraethylene glycol monomethyl ether is contained 36.0 wt% within the range defined by the present invention with the balance being the solvent.

実施例34でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 34, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例35は、アミンの種類を変えたもので、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で1.5wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で2.5wt%含み、チキソ剤としてのエステル化合物としてヒマシ硬化油を、本発明で規定された範囲内で2.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は4.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、アミンとして2−フェニル−4−メチルイミダゾールを、本発明で規定される範囲内で5.0wt%含む。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で36.0wt%含む。   In Example 35, the type of amine was changed, and acrylic acid-modified rosin was contained as an acid-modified rosin within a range defined by the present invention in an amount of 25.0 wt%, and polymerized rosin as another rosin. 25.0 wt% is included within the specified range. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, 1.5% by weight of a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is included within the range specified by the present invention, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. Of non-cyclic polycondensed acyclic amide compound within a range specified by the present invention in an amount of 2.5 wt%, castor oil as an ester compound as a thixotropic agent, and within a range specified by the present invention 2 0.0wt% is included. The total amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 4.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Furthermore, glutaric acid is included as an organic acid within a range specified by the present invention at 3.0 wt%, and 2-phenyl-4-methylimidazole is included as an amine within a range specified by the present invention at 5.0 wt%. . Tetraethylene glycol monomethyl ether is contained 36.0 wt% within the range defined by the present invention with the balance being the solvent.

実施例35でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 35, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例34〜実施例35に示すように、酸変性ロジン、あるいは酸変性ロジンと他のロジン、及び、チキソ剤として環状アミド化合物と非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で含むことで、本発明で規定された範囲内でアミンを含み、チキソ剤としてさらにエステル化合物を、本発明で規定される範囲内で含むことでも、フラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレ抑制能、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   As shown in Examples 34 to 35, an acid-modified rosin, or an acid-modified rosin and other rosins, and a cyclic amide compound and an acyclic amide compound as a thixotropic agent are included within the range specified in the present invention. Thus, including an amine within the range specified in the present invention, and further including an ester compound as a thixotropic agent within the range specified by the present invention, the thixotropy of the flux, the ability to suppress printing sag of the solder paste, Sufficient effects were obtained for printability, heat sagging suppression ability, and wetting speed.

実施例36は、ハロゲンを添加したもので、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で1.5wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で2.5wt%含み、チキソ剤としてのエステル化合物としてヒマシ硬化油を、本発明で規定された範囲内で2.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は4.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、アミンハロゲン化水素酸塩としてジフェニルグアニジン・HBrを、本発明で規定された範囲内で2.0wt%含む。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で39.0wt%含む。   Example 36 was obtained by adding halogen, containing 25.0 wt% of acrylic acid-modified rosin as the acid-modified rosin within the range defined by the present invention, and polymerized rosin as the other rosin. 25.0 wt% in the range. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, 1.5% by weight of a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is included within the range specified by the present invention, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. Of non-cyclic polycondensed acyclic amide compound within a range specified by the present invention in an amount of 2.5 wt%, castor oil as an ester compound as a thixotropic agent, and within a range specified by the present invention 2 0.0wt% is included. The total amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 4.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, glutaric acid is included as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and diphenylguanidine / HBr is included as an amine hydrohalide within a range specified by the present invention. Including. 39.0 wt% of tetraethylene glycol monomethyl ether is contained within the range defined by the present invention with the balance being the solvent.

実施例36でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 36, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例37は、ハロゲンの種類を変えたもので、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で1.5wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で2.5wt%含み、チキソ剤としてのエステル化合物としてヒマシ硬化油を、本発明で規定された範囲内で2.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は4.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、有機ハロゲン化合物としてtrans−2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオールを、本発明で規定される範囲内で5.0wt%含む。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で36.0wt%含む。   In Example 37, the halogen type was changed, and acrylic acid-modified rosin was contained as an acid-modified rosin within a range defined by the present invention in an amount of 25.0 wt%, and polymerized rosin as another rosin. 25.0 wt% is included within the specified range. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, 1.5% by weight of a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is included within the range specified by the present invention, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. Of non-cyclic polycondensed acyclic amide compound within a range specified by the present invention in an amount of 2.5 wt%, castor oil as an ester compound as a thixotropic agent, and within a range specified by the present invention 2 0.0wt% is included. The total amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 4.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Furthermore, glutaric acid is included as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol is included as an organic halogen compound in the present invention. Within the specified range, 5.0 wt% is included. Tetraethylene glycol monomethyl ether is contained 36.0 wt% within the range defined by the present invention with the balance being the solvent.

実施例37でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 37, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例36〜実施例37に示すように、酸変性ロジン、あるいは酸変性ロジンと他のロジン、及び、チキソ剤として環状アミド化合物と非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で含むことで、本発明で規定された範囲内でハロゲンを含み、チキソ剤としてさらにエステル化合物を、本発明で規定される範囲内で含むことでも、フラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレ抑制能、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   As shown in Examples 36 to 37, an acid-modified rosin, or an acid-modified rosin and other rosins, and a cyclic amide compound and an acyclic amide compound as a thixotropic agent are included within the range specified in the present invention. Therefore, including the halogen within the range specified in the present invention, and further including an ester compound as a thixotropic agent within the range specified by the present invention, the thixotropy of the flux, the ability to suppress printing sag of the solder paste, Sufficient effects were obtained for printability, heat sagging suppression ability, and wetting speed.

実施例38は、酸化防止剤を添加したもので、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で1.5wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で2.5wt%含み、チキソ剤としてのエステル化合物としてヒマシ硬化油を、本発明で規定された範囲内で2.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は4.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、酸化防止剤としてヒンダードフェノール系酸化防止剤を、本発明で規定された範囲内で5.0wt%含む。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で36.0wt%含む。   In Example 38, an antioxidant was added, and acrylic acid-modified rosin was contained as an acid-modified rosin within a range defined by the present invention in an amount of 25.0 wt%, and polymerized rosin as another rosin. 25.0 wt% is included within the specified range. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, 1.5% by weight of a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is included within the range specified by the present invention, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. Of non-cyclic polycondensed acyclic amide compound within a range specified by the present invention in an amount of 2.5 wt%, castor oil as an ester compound as a thixotropic agent, and within a range specified by the present invention 2 0.0wt% is included. The total amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 4.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Furthermore, glutaric acid is included as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and a hindered phenol antioxidant as an antioxidant is included within a range specified by the present invention at 5.0 wt%. Including. Tetraethylene glycol monomethyl ether is contained 36.0 wt% within the range defined by the present invention with the balance being the solvent.

実施例38でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 38, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例38に示すように、酸変性ロジン、あるいは酸変性ロジンと他のロジン、及び、チキソ剤として環状アミド化合物と非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で含むことで、本発明で規定された範囲内で酸化防止剤を含み、チキソ剤としてさらにエステル化合物を、本発明で規定される範囲内で含むことでも、フラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレ抑制能、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   As shown in Example 38, an acid-modified rosin, or an acid-modified rosin and other rosins, and a cyclic amide compound and an acyclic amide compound as thixotropic agents within the scope defined by the present invention Even if it contains an antioxidant within the range specified by the invention and further contains an ester compound as a thixotropic agent within the range specified by the present invention, the thixotropy of the flux, the ability to suppress the printing sag of the solder paste, and the printability Sufficient effects were obtained with respect to the heat sag suppressing ability and the wetting speed.

実施例39は、アミン、ハロゲン、酸化防止剤を添加したもので、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で1.5wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で2.5wt%含み、チキソ剤としてのエステル化合物としてヒマシ硬化油を、本発明で規定された範囲内で2.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は4.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてコハク酸を、本発明で規定される範囲内で0.2wt%含み、アミンとして2−フェニルイミダゾールを、本発明で規定される範囲内で5.0wt%含み、アミンハロゲン化水素酸塩としてジフェニルグアニジン・HBrを、本発明で規定された範囲内で1.0wt%含み、有機ハロゲン化合物としてtrans−2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオールを、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、酸化防止剤としてヒンダードフェノール系酸化防止剤を、本発明で規定された範囲内で3.0wt%含む。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で31.8wt%含む。   In Example 39, an amine, a halogen, and an antioxidant were added. As the acid-modified rosin, acrylic acid-modified rosin was contained within the range specified by the present invention in an amount of 25.0 wt%, and polymerized rosin was contained as another rosin. 25.0 wt% is included within the range specified by the present invention. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, 1.5% by weight of a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is included within the range specified by the present invention, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. Of non-cyclic polycondensed acyclic amide compound within a range specified by the present invention in an amount of 2.5 wt%, castor oil as an ester compound as a thixotropic agent, and within a range specified by the present invention 2 0.0wt% is included. The total amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 4.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, succinic acid is included as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 0.2 wt%, and 2-phenylimidazole is included as an amine within a range specified by the present invention in an amount of 5.0 wt%. In the present invention, diphenylguanidine · HBr is contained in the range specified by the present invention in an amount of 1.0 wt% as a hydrogen salt, and trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol is present in the present invention as an organic halogen compound. In the range specified in (1), 3.0 wt% is included, and as the antioxidant, a hindered phenol-based antioxidant is included in the range specified in the present invention (3.0 wt%). 31.8 wt% of tetraethylene glycol monomethyl ether is contained within the range defined by the present invention with the balance being the solvent.

実施例39でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 39, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例39に示すように、酸変性ロジン、あるいは酸変性ロジンと他のロジン、及び、チキソ剤として環状アミド化合物と非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で含むことで、本発明で規定された範囲内でアミン、ハロゲン、酸化防止剤を含み、チキソ剤としてさらにエステル化合物を、本発明で規定される範囲内で含むことでも、フラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレ抑制能、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   As shown in Example 39, acid-modified rosin, or acid-modified rosin and other rosins, and cyclic amide compounds and acyclic amide compounds as thixotropic agents within the scope defined by the present invention Including the amine, halogen, and antioxidant within the range specified in the invention, and further including an ester compound as a thixotropic agent within the range specified in the present invention, the thixotropy of the flux and the suppression of the printing sag of the solder paste A sufficient effect was obtained with respect to performance, printability, ability to suppress heat sag, and wetting speed.

実施例40、実施例41は、酸変性ロジン及び他のロジンの量を変えたもので、実施例40は、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で10.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は35.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で1.5wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で2.5wt%含み、チキソ剤としてのエステル化合物としてヒマシ硬化油を、本発明で規定された範囲内で2.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は4.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で56.0wt%含む。   In Examples 40 and 41, the amounts of acid-modified rosin and other rosins were changed. In Example 40, acrylic acid-modified rosin was used as the acid-modified rosin within the range defined by the present invention. It contains 0 wt% and contains 25.0 wt% of polymerized rosin as another rosin within the range defined by the present invention. The total content of the acid-modified rosin and other rosins is 35.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, 1.5% by weight of a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is included within the range specified by the present invention, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. Of non-cyclic polycondensed acyclic amide compound within a range specified by the present invention in an amount of 2.5 wt%, castor oil as an ester compound as a thixotropic agent, and within a range specified by the present invention 2 0.0wt% is included. The total amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 4.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, glutaric acid is included as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and the balance is tetraethylene glycol monomethyl ether as a solvent within a range specified by the present invention as 56.0 wt%.

実施例40でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 40, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例41は、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で30.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で30.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は60.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で1.5wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で2.5wt%含み、チキソ剤としてのエステル化合物としてヒマシ硬化油を、本発明で規定された範囲内で2.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は4.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で31.0wt%含む。   Example 41 contains 30.0 wt% of acrylic acid-modified rosin as the acid-modified rosin within the range defined by the present invention, and polymerized rosin as the other rosin within the range defined by the present invention of 30.0 wt. % Is included. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 60.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, 1.5% by weight of a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is included within the range specified by the present invention, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. Of non-cyclic polycondensed acyclic amide compound within a range specified by the present invention in an amount of 2.5 wt%, castor oil as an ester compound as a thixotropic agent, and within a range specified by the present invention 2 0.0wt% is included. The total amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 4.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Furthermore, glutaric acid is contained as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and the remainder is contained as a solvent and tetraethylene glycol monomethyl ether is contained within a range specified by the present invention at 31.0 wt%.

実施例41でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 41, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例42では、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含み、チキソ剤としてのエステル化合物としてヒマシ硬化油を、本発明で規定された範囲内で0.5wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で40.5wt%含む。   In Example 42, the acid-modified rosin contains acrylic acid-modified rosin within a range specified by the present invention in an amount of 25.0 wt%, and other rosin contains a polymerized rosin within a range specified by the present invention of 25.0 wt%. % Is included. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is contained within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. Is a non-cyclic polycondensed acyclic amide compound within a range specified by the present invention in an amount of 4.0 wt%, and castor oil as an ester compound as a thixotropic agent is 0% within the range specified by the present invention. .5 wt% included. The total amount of the cyclic amide compound and the acyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Furthermore, glutaric acid is contained as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and the balance is tetraethylene glycol monomethyl ether as a solvent within a range specified by the present invention in an amount of 40.5 wt%.

実施例42でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 42, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例43では、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で0.5wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で1.0wt%含み、チキソ剤としてのエステル化合物としてヒマシ硬化油を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は1.5wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で41.5wt%含む。   In Example 43, the acid-modified rosin contains 25.0 wt% of acrylic acid-modified rosin within the range defined by the present invention, and the polymerized rosin as another rosin within the range defined by the present invention 25.0 wt%. % Is included. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as the thixotropic agent, 0.5% by weight of a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is included within the range specified by the present invention, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. Is a non-cyclic polycondensed acyclic amide compound within a range specified by the present invention in an amount of 1.0 wt%, and castor oil as an ester compound as a thixotropic agent is added within the range specified by the present invention. 0.0wt% is included. The total amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 1.5 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, glutaric acid is contained as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and the remainder as a solvent contains tetraethylene glycol monomethyl ether within a range specified by the present invention as 41.5 wt%.

実施例43でも、チキソ比が0.30以上0.60未満であり、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 43, the thixo ratio was 0.30 or more and less than 0.60, and a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例44では、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で1.5wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で0.5wt%含み、チキソ剤としてのエステル化合物としてヒマシ硬化油を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は2.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で41.0wt%含む。   In Example 44, acrylic acid-modified rosin was contained as an acid-modified rosin within a range specified by the present invention in an amount of 25.0 wt%, and polymerized rosin as another rosin within a range specified by the present invention was 25.0 wt%. % Is included. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, 1.5% by weight of a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is included within the range specified by the present invention, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. Is a non-cyclic polycondensed acyclic amide compound within the range specified by the present invention in an amount of 0.5 wt%, and castor oil as an ester compound as a thixotropic agent is added within the range specified by the present invention. 0.0wt% is included. The total amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 2.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, glutaric acid is included as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and the remainder as a solvent includes tetraethylene glycol monomethyl ether within a range specified by the present invention as 41.0 wt%.

実施例44でも、チキソ比が0.30以上0.60未満であり、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 44, the thixo ratio was 0.30 or more and less than 0.60, and a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例45では、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で0.5wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で1.5wt%含み、チキソ剤としてのエステル化合物としてヒマシ硬化油を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は2.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で41.0wt%含む。   In Example 45, the acid-modified rosin contains acrylic acid-modified rosin within a range specified by the present invention in an amount of 25.0 wt%, and other rosin contains a polymerized rosin within a range specified by the present invention of 25.0 wt%. % Is included. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as the thixotropic agent, 0.5% by weight of a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is included within the range specified by the present invention, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. Is a non-cyclic polycondensed acyclic amide compound within a range specified by the present invention in an amount of 1.5 wt%, and castor oil as an ester compound as a thixotropic agent is added within a range specified by the present invention. 0.0wt% is included. The total amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 2.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, glutaric acid is included as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and the remainder as a solvent includes tetraethylene glycol monomethyl ether within a range specified by the present invention as 41.0 wt%.

実施例45でも、チキソ比が0.30以上0.60未満であり、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 45, the thixo ratio was 0.30 or more and less than 0.60, and a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例46では、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で0.1wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で2.5wt%含み、チキソ剤としてのエステル化合物としてヒマシ硬化油を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は2.6wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で40.4wt%含む。   In Example 46, acrylic acid-modified rosin was contained as an acid-modified rosin within a range specified by the present invention in an amount of 25.0 wt%, and polymerized rosin as another rosin within a range specified by the present invention was 25.0 wt%. % Is included. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, 0.1% by weight of a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is included within the range specified by the present invention, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. Of non-cyclic polycondensed non-cyclic amide compound within the range specified in the present invention, 2.5 wt%, castor oil as an ester compound as a thixotropic agent, 4 within the range specified in the present invention. 0.0wt% is included. The total amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 2.6 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, glutaric acid is contained as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and the balance is tetraethylene glycol monomethyl ether as a solvent within a range specified by the present invention in an amount of 40.4 wt%.

実施例46でも、チキソ比が0.30以上0.60未満であり、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 46, the thixo ratio was 0.30 or more and less than 0.60, and a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例47では、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で0.3wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で2.5wt%含み、チキソ剤としてのエステル化合物としてヒマシ硬化油を、本発明で規定された範囲内で3.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は2.8wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で41.2wt%含む。   In Example 47, the acid-modified rosin contains acrylic acid-modified rosin within a range specified by the present invention in an amount of 25.0 wt%, and other rosin contains a polymerized rosin within a range specified by the present invention of 25.0 wt%. % Is included. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, it contains 0.3 wt% of a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine within the range defined by the present invention, and contains sebacic acid and 1,6-hexanediamine. Of non-cyclic polycondensed acyclic amide compound within a range specified by the present invention in an amount of 2.5 wt%, castor oil as an ester compound as a thixotropic agent, within a range specified by the present invention. 0.0wt% is included. The total amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 2.8 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, glutaric acid is included as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and the balance is tetraethylene glycol monomethyl ether as a solvent within a range specified by the present invention.

実施例47でも、チキソ比が0.30以上0.60未満であり、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 47, the thixo ratio was 0.30 or more and less than 0.60, and a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

実施例48は、環状アミド化合物と非環状アミド化合物の添加量を変えたもので、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で0.3wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で8.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は8.3wt%で、本発明で規定される範囲内である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で38.7wt%含む。   In Example 48, the addition amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound was changed. As the acid-modified rosin, acrylic acid-modified rosin was contained at 25.0 wt% within the range defined by the present invention. As a polymerized rosin, 25.0 wt% is contained within the range specified in the present invention. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, it contains 0.3 wt% of a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine within the range defined by the present invention, and contains sebacic acid and 1,6-hexanediamine. The non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained in an amount of 8.0 wt% within the range specified in the present invention. The total amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 8.3 wt%, which is within the range defined by the present invention. Further, glutaric acid is contained as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and the balance is tetraethylene glycol monomethyl ether as a solvent within a range specified by the present invention.

実施例48でも、チキソ性に対して十分な効果が得られた。また、このフラックスを用いたソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、印刷性に対して十分な効果が得られた。また、加熱ダレの抑制能に対して十分な効果が得られた。更に、濡れ速度に対して十分な効果が得られた。   Also in Example 48, a sufficient effect on thixotropy was obtained. Moreover, with the solder paste using this flux, a sufficient effect was obtained with respect to the ability to suppress the sagging of the solder paste. Furthermore, a sufficient effect on printability was obtained. In addition, a sufficient effect on the ability to suppress heating sag was obtained. Furthermore, a sufficient effect on the wetting rate was obtained.

これに対し、比較例1は、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で0.1wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲外で0.1wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は0.2wt%で、本発明で規定される範囲外である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で46.8wt%含む。   On the other hand, Comparative Example 1 contains acrylic acid-modified rosin as acid-modified rosin within a range specified by the present invention at 25.0 wt%, and polymerized rosin as other rosin within the range specified by the present invention. 25.0 wt%. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, 0.1% by weight of a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is included within the range specified by the present invention, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. The non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained in an amount of 0.1 wt% outside the range specified in the present invention. The total amount of the cyclic amide compound and the acyclic amide compound is 0.2 wt%, which is outside the range specified in the present invention. Further, glutaric acid is contained as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and the remainder is contained as a solvent, and tetraethylene glycol monomethyl ether is contained within a range specified by the present invention as 46.8 wt%.

環状アミド化合物の含有量が、本発明で規定される範囲内であっても、非環状アミド化合物の含有量が、本発明で規定される範囲未満であり、環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量が、本発明で規定される範囲未満である比較例1では、フラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレ抑制能に対して効果が得られなかった。   Even if the content of the cyclic amide compound is within the range specified by the present invention, the content of the acyclic amide compound is less than the range specified by the present invention, and the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound In Comparative Example 1 in which the total amount is less than the range specified in the present invention, no effect was obtained with respect to the thixotropy of the flux, the printing sagging suppression ability of the solder paste, the printing ability, and the heating sagging suppression ability.

比較例2は、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で0.1wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で0.5wt%含む。但し、環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は0.6wt%で、本発明で規定される範囲外である。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で46.4wt%含む。   Comparative Example 2 contains acrylic acid-modified rosin as an acid-modified rosin within a range specified by the present invention in an amount of 25.0 wt%, and polymerized rosin as another rosin within a range specified by the present invention in an amount of 25.0 wt. % Is included. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, 0.1% by weight of a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is included within the range specified by the present invention, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. The non-cyclic amide compound obtained by polycondensing non-cyclically is contained in an amount of 0.5 wt% within the range specified in the present invention. However, the total amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is 0.6 wt%, which is outside the range defined in the present invention. Further, glutaric acid is contained as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and the remainder as a solvent contains tetraethylene glycol monomethyl ether within a range specified by the present invention as 46.4 wt%.

環状アミド化合物及び非環状アミド化合物の含有量が、本発明で規定される範囲内であっても、環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量が、本発明で規定される範囲未満である比較例2では、フラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレ抑制能に対して効果が得られなかった。   Comparison in which the total amount of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is less than the range specified in the present invention even if the content of the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound is within the range specified in the present invention. In Example 2, the effect was not acquired with respect to the thixotropy of a flux, the printing droop suppression capability of a solder paste, printability, and a heating droop suppression capability.

比較例3は、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、環状アミド化合物を含まず、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲外で15.0wt%含む。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で32.0wt%含む。   Comparative Example 3 contains acrylic acid-modified rosin as acid-modified rosin within a range specified by the present invention in an amount of 25.0 wt%, and polymerized rosin as another rosin within a range specified by the present invention in an amount of 25.0 wt. % Is included. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, the thixotropic agent does not contain a cyclic amide compound, but contains 15.0 wt% of an acyclic amide compound in which sebacic acid and 1,6-hexanediamine are polycyclicly condensed outside the range specified in the present invention. Further, glutaric acid as an organic acid is contained in an amount of 3.0 wt% within the range specified in the present invention, and the remainder is contained as a solvent in an amount of 32.0 wt% of tetraethylene glycol monomethyl ether within the range specified in the present invention.

環状アミド化合物を含まない比較例3では、非環状アミド化合物の添加量を、本発明で規定される範囲を超えて増やすことで、フラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、加熱ダレ抑制能に対して効果が得られたが、ソルダペーストの印刷性に対して効果が得られなかった。   In Comparative Example 3 that does not contain a cyclic amide compound, the amount of acyclic amide compound added is increased beyond the range specified in the present invention, so that the thixotropy of the flux, the printing sag suppressing ability of the solder paste, and the heating sag suppression are suppressed. The effect was obtained on the performance of the solder paste, but not on the printability of the solder paste.

比較例4は、酸変性ロジンとしてアクリル酸変性ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含み、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で25.0wt%含む。酸変性ロジンと他のロジンの合計の含有量は50.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。また、チキソ剤として、環状アミド化合物、非環状アミド化合物を含まず、エステル化合物としてのヒマシ硬化油を、本発明で規定された範囲内で5.0wt%含む。更に、有機酸としてグルタル酸を、本発明で規定される範囲内で3.0wt%含み、残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で42.0wt%含む。   Comparative Example 4 contains acrylic acid-modified rosin as an acid-modified rosin within a range specified by the present invention in an amount of 25.0 wt%, and polymerized rosin as another rosin within a range specified by the present invention in an amount of 25.0 wt. % Is included. The total content of acid-modified rosin and other rosins is 50.0 wt%, and is within the range defined by the present invention. Further, the thixotropic agent does not contain a cyclic amide compound or a non-cyclic amide compound, and 5.0% by weight of castor hardened oil as an ester compound is included within the range specified in the present invention. Further, glutaric acid is contained as an organic acid within a range specified by the present invention in an amount of 3.0 wt%, and the balance is tetraethylene glycol monomethyl ether as a solvent within a range specified by the present invention in an amount of 42.0 wt%.

環状アミド化合物、非環状アミド化合物を含まない比較例4では、チキソ剤としてエステル化合物を、本発明で規定される範囲内で含むことで、フラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性に対して効果が得られたが、ソルダペーストの加熱ダレ抑制能に対して効果が得られなかった。   In Comparative Example 4 which does not contain a cyclic amide compound or a non-cyclic amide compound, by containing an ester compound as a thixotropic agent within the range specified in the present invention, the thixotropy of the flux, the ability to suppress printing sag of the solder paste, Although the effect was obtained with respect to the property, the effect was not obtained with respect to the ability to suppress the heat sag of the solder paste.

比較例5は、酸変性ロジンを含まず、他のロジンとして重合ロジンを、本発明で規定される範囲内で50.0wt%含む。また、チキソ剤として、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物を、本発明で規定される範囲内で2.0wt%含み、セバシン酸と1,6−ヘキサンジアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物を、本発明で規定された範囲内で4.0wt%含む。環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計量は6.0wt%で、本発明で規定される範囲内である。残部を溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテルを、本発明で規定された範囲内で44.0wt%含む。   Comparative Example 5 does not contain an acid-modified rosin and contains 50.0 wt% of a polymerized rosin as another rosin within the range defined by the present invention. Further, as a thixotropic agent, a cyclic amide compound obtained by cyclic polycondensation of sebacic acid and 1,6-hexanediamine is contained within a range specified by the present invention in an amount of 2.0 wt%, and sebacic acid and 1,6-hexanediamine are included. In the range specified by the present invention, 4.0 wt% of the non-cyclic amide compound in which is non-cyclically polycondensed is contained. The total amount of the cyclic amide compound and the acyclic amide compound is 6.0 wt%, which is within the range defined by the present invention. 44.0 wt% of tetraethylene glycol monomethyl ether is contained within the range defined by the present invention with the balance being the solvent.

酸変性ロジンを含まない比較例5では、濡れ速度に対して効果が得られなかった。   In Comparative Example 5 containing no acid-modified rosin, no effect was obtained on the wetting rate.

なお、チキソ剤が、ジカルボン酸としてマロン酸、コハク酸、グルタル酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、フタル酸またはテレフタル酸等を使用した環状アミド化合物、非環状アミド化合物を含むことでも、フラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレ抑制能に対して十分な効果が得られた。   The thixotropic agent includes cyclic amide compounds and acyclic amide compounds using malonic acid, succinic acid, glutaric acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, phthalic acid or terephthalic acid as the dicarboxylic acid. Even in this case, sufficient effects were obtained with respect to the thixotropy of the flux, the ability of the solder paste to suppress printing sag, the printability, and the ability to suppress heat sag.

また、チキソ剤が、トリカルボン酸としてシクロヘキサントリカルボン酸、ベンゼントリカルボン酸等を使用した環状アミド化合物、非環状アミド化合物を含むことでも、フラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレ抑制能に対して十分な効果が得られた。   In addition, the thixotropic agent contains a cyclic amide compound and a non-cyclic amide compound using cyclohexane tricarboxylic acid, benzene tricarboxylic acid, etc. as tricarboxylic acid, so that the thixotropy of flux, the ability to suppress printing sag of solder paste, printability, heating A sufficient effect was obtained on the ability to suppress sagging.

更に、チキソ剤が、ジアミンとしてエチレンジアミン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタン、ダイマージアミン、フェニレンジアミン、メタキシリレンジアミン、パラキシリレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン等を使用した環状アミド化合物、非環状アミド化合物を含むことでも、フラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレ抑制能に対して十分な効果が得られた。   Furthermore, thixotropic agents used ethylenediamine, 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminobutane, dimer diamine, phenylenediamine, metaxylylenediamine, paraxylylenediamine, 2,4-diaminotoluene and the like as diamines. Even when the cyclic amide compound and the non-cyclic amide compound were included, sufficient effects were obtained with respect to the thixotropy of the flux, the printing sag suppressing ability of the solder paste, the printing property, and the heating sag suppressing ability.

また、チキソ剤が、トリアミンとしてトリアミノシクロヘキサン、トリマートリアミン等を使用した環状アミド化合物、非環状アミド化合物を含むことでも、フラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレ抑制能に対して十分な効果が得られた。   Also, thixotropic agents include cyclic amide compounds and acyclic amide compounds that use triaminocyclohexane, trimer triamine, etc. as triamines, so that flux thixotropy, solder paste printing sag suppression ability, printability, heat sag suppression A sufficient effect on the performance was obtained.

更に、チキソ剤が、モノカルボン酸として酢酸、パルミチン酸、ステアリン酸、12−ヒドロキシステアリン酸、ベヘン酸、モンタン酸等を使用した非環状アミド化合物を含むことでも、フラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレ抑制能に対して十分な効果が得られた。   Further, the thixotropic agent contains an acyclic amide compound using acetic acid, palmitic acid, stearic acid, 12-hydroxystearic acid, behenic acid, montanic acid or the like as a monocarboxylic acid. Sufficient effects were obtained for printing sag suppressing ability, printability, and heating sag suppressing ability.

また、チキソ剤が、モノアミンとしてアンモニア、エチルアミン、ヘキシルアミン、オクチルアミン、ステアリルアミン等を使用した非環状アミド化合物を含むことでも、フラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレ抑制能に対して十分な効果が得られた。   In addition, thixotropic agents contain acyclic amide compounds that use ammonia, ethylamine, hexylamine, octylamine, stearylamine, etc. as monoamines, so that the thixotropy of flux, the ability to suppress printing sag of solder paste, printability, heating A sufficient effect was obtained on the ability to suppress sagging.

更に、チキソ剤が、ラクタムを開環重合した非環状アミド化合物を含むことでも、フラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレ抑制能に対して十分な効果が得られた。   Furthermore, even if the thixotropic agent contains an acyclic amide compound obtained by ring-opening polymerization of lactam, sufficient effects are obtained with respect to the thixotropy of the flux, the ability to suppress the printing sag of the solder paste, the printing property, and the ability to suppress sag of heating. It was.

<ソルダペーストの増粘抑制効果の評価>
上述した各実施例のフラックスと、以下の表4に示す組成のはんだ合金を使用して調合したソルダペーストの増粘抑制効果についても検証した。
<Evaluation of thickening suppression effect of solder paste>
It verified also about the thickening suppression effect of the solder paste prepared using the flux of each Example mentioned above and the solder alloy of the composition shown in the following Table 4.

(1)検証方法
得られたソルダペーストについて、JIS Z 3284−3の「4.2 粘度特性試験」に記載された方法に従って、回転粘度計(PCU−205、株式会社マルコム製)を用い、回転数:10rpm、測定温度:25℃にて、粘度を12時間測定し続けた。そして、初期粘度(撹拌30分後の粘度)と12時間後の粘度とを比較し、以下の基準に基づいて増粘抑制効果の評価を行った。
(2)判定基準
〇:13時間後の粘度≦初期粘度×1.2:経時での粘度上昇が小さく良好
×:13時間後の粘度>初期粘度×1.2:経時での粘度上昇が大きく不良
(1) Verification method About the obtained solder paste, according to the method described in "4.2 Viscosity characteristic test" of JIS Z 3284-3, it was rotated using a rotational viscometer (PCU-205, manufactured by Malcolm Co., Ltd.). The viscosity was continuously measured for 12 hours at a number of 10 rpm and a measurement temperature of 25 ° C. Then, the initial viscosity (viscosity after 30 minutes of stirring) was compared with the viscosity after 12 hours, and the thickening suppression effect was evaluated based on the following criteria.
(2) Criteria ◯: Viscosity after 13 hours ≦ Initial viscosity × 1.2: Small increase in viscosity over time is good x: Viscosity after 13 hours> Initial viscosity × 1.2: Large increase in viscosity over time Bad

Figure 0006575702
Figure 0006575702

表1〜表3に示す各実施例のフラックスと、上記の数(1)式及び数(2)式を満たす表4に示す各実施例のはんだ合金を使用したソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレ抑制能、濡れ速度の向上性に加えて、増粘抑制効果に対して十分な効果が得られた。   In the solder paste using the solder of the respective examples shown in Table 4 satisfying the fluxes of the respective examples shown in Tables 1 to 3 and the above formulas (1) and (2), the solder paste is printed. In addition to sagging suppression ability, printability, heating sagging suppression ability, and improvement in wetting speed, a sufficient effect was obtained with respect to the thickening suppression effect.

これに対し、表1〜表3に示す各実施例のフラックスと、上記の数(1)式及び数(2)式を満たさない表4に示す各比較例のはんだ合金を使用したソルダペーストでは、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレ抑制能、濡れ速度の向上性に対して効果が得られたが、増粘抑制効果に対して効果が得られなかった。   On the other hand, in the solder paste using the flux of each example shown in Tables 1 to 3 and the solder alloy of each comparative example shown in Table 4 that does not satisfy the above formulas (1) and (2) In addition, an effect was obtained with respect to the printing sag suppressing ability, printability, heating sag suppressing ability, and improvement of the wetting speed of the solder paste, but no effect was obtained with respect to the thickening inhibiting effect.

以上のことから、酸変性ロジンと、チキソ剤と、溶剤を含み、チキソ剤は、ジカルボン酸及び/またはトリカルボン酸とジアミン及び/またはトリアミンが環状に重縮合した環状アミド化合物と、モノカルボン酸、ジカルボン酸及び/またはトリカルボン酸とモノアミン、ジアミン及び/またはトリアミンが非環状に重縮合した非環状アミド化合物、または、ラクタムを開環重合した非環状アミド化合物からなり、環状アミド化合物は、ジカルボン酸及びトリカルボン酸の炭素数が3以上10以下、ジアミン及びトリアミンの炭素数が2以上54以下であり、非環状アミド化合物は、モノカルボン酸、ジカルボン酸及びトリカルボン酸の炭素数が2以上28以下、モノアミン、ジアミン及びトリアミンの炭素数が0以上54以下であり、環状アミド化合物を0.1wt%以上8.0wt%以下、より好ましくは、環状アミド化合物を0.5wt%以上1.5wt%以下、非環状アミド化合物を0.5wt%以上8.0wt%以下、より好ましくは、非環状アミド化合物を0.5wt%以上4.0wt%以下含み、かつ、環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計が1.5wt%以上10.0wt%以下である本発明に係るフラックスでは、チキソ剤が非環状アミド化合物からなる場合と比較して、非環状アミド化合物の含有量を増やすことなく、チキソ性を向上させることができ、チキソ剤の析出を抑制することができた。   From the above, the acid-modified rosin, the thixotropic agent, and the solvent include a thixotropic agent, a dicarboxylic acid and / or a tricarboxylic acid and a diamine and / or a triamine cyclically condensed with a cyclic amide compound, a monocarboxylic acid, It consists of an acyclic amide compound obtained by acyclic polycondensation of dicarboxylic acid and / or tricarboxylic acid and monoamine, diamine and / or triamine, or an acyclic amide compound obtained by ring-opening polymerization of lactam. The carbon number of the tricarboxylic acid is 3 or more and 10 or less, the carbon number of the diamine and the triamine is 2 or more and 54 or less, and the acyclic amide compound is a monoamine, dicarboxylic acid or tricarboxylic acid having 2 or more and 28 or less carbon atoms. , Diamine and triamine have 0 to 54 carbon atoms, cyclic 0.1 wt% to 8.0 wt% of the amide compound, more preferably 0.5 wt% to 1.5 wt% of the cyclic amide compound, 0.5 wt% to 8.0 wt% of the non-cyclic amide compound, and more Preferably, the flux according to the present invention contains 0.5 wt% or more and 4.0 wt% or less of an acyclic amide compound, and the total of the cyclic amide compound and the acyclic amide compound is 1.5 wt% or more and 10.0 wt% or less. Then, compared with the case where a thixotropic agent consists of an acyclic amide compound, thixotropy could be improved and the precipitation of a thixotropic agent could be suppressed, without increasing the content of an acyclic amide compound.

このフラックスを用いたソルダペーストでは、にじみ、かすれ等が抑制された良好な印刷性を得ることができ、また、印刷後のソルダペーストが流れる印刷ダレを抑制することができた。更に、はんだ付け時の加熱によるソルダペーストの加熱ダレを抑制することができた。   With the solder paste using this flux, it was possible to obtain good printability in which bleeding, blurring and the like were suppressed, and it was possible to suppress printing sag through which the solder paste after printing flowed. Furthermore, the heating sag of the solder paste due to heating during soldering could be suppressed.

また、酸変性ロジンを5.0wt%以上50.0wt%以下含むことで、熱負荷の大きい条件下でも良好な濡れ速度を示し、どのような熱履歴でも安定して仕上がりのよいはんだ付けが可能となるフラックスを提供できた。   In addition, by containing 5.0 wt% or more and 50.0 wt% or less of acid-modified rosin, it exhibits a good wetting rate even under conditions of high heat load, enabling stable finishing with any heat history. We were able to provide the flux.

さらに、本発明に係るフラックスは、酸変性ロジン以外の他のロジンを0wt%以上50wt%以下、より好ましくは、ロジンを25wt%以上45wt%以下含み、他のロジンの含有量が0wt%超である場合、酸変性ロジンと他のロジンの含有量の合計は60wt%以下であることでも、チキソ剤に環状アミド化合物と非環状アミド化合物を含むことによるフラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレの抑制能、酸変性ロジンを含むことによる濡れ速度の向上性が阻害されず、これらに対して十分な効果が得られた。   Further, the flux according to the present invention contains 0 to 50 wt% of rosin other than acid-modified rosin, more preferably 25 to 45 wt% of rosin, and the content of other rosin exceeds 0 wt%. In some cases, even if the total content of acid-modified rosin and other rosins is 60 wt% or less, the thixotropic agent contains a cyclic amide compound and a non-cyclic amide compound, thereby reducing the thixotropy of the flux and preventing the solder paste from printing Performance, printability, ability to suppress heat sag, and improvement in wetting rate due to the inclusion of acid-modified rosin were not hindered, and sufficient effects were obtained.

また、本発明に係るフラックスは、チキソ剤としてエステル化合物を0wt%以上8.0wt%以下、より好ましくは、エステル化合物を0wt%以上4.0wt%以下、有機酸を0wt%以上10wt%以下、より好ましくは、有機酸を0.2wt%以上5wt%以下、アミンを0wt%以上20.0wt%以下、より好ましくは、アミンを0wt%以上5.0wt%以下、有機ハロゲン化合物を0wt%以上5.0wt%以下、アミンハロゲン化水素酸塩を0wt%以上2.0wt%以下、酸化防止剤を0wt%以上5.0wt%以下で含み、残部が溶剤である。このような組成とすることで、チキソ剤に環状アミド化合物と非環状アミド化合物を含むことによるフラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレの抑制能、酸変性ロジンを含むことによる濡れ速度の向上性が阻害されず、これらに対して十分な効果が得られた。   In addition, the flux according to the present invention includes an ester compound as a thixotropic agent in an amount of 0 wt% to 8.0 wt%, more preferably an ester compound of 0 wt% to 4.0 wt%, an organic acid of 0 wt% to 10 wt%, More preferably, the organic acid is 0.2 wt% to 5 wt%, the amine is 0 wt% to 20.0 wt%, more preferably the amine is 0 wt% to 5.0 wt%, and the organic halogen compound is 0 wt% to 5 wt%. 0.0 wt% or less, an amine hydrohalide salt is contained in an amount of 0 wt% or more and 2.0 wt% or less, an antioxidant is contained in an amount of 0 wt% or more and 5.0 wt% or less, and the balance is a solvent. With such a composition, the thixotropic agent contains a cyclic amide compound and a non-cyclic amide compound, so that the flux thixotropy, solder paste printing sag suppression ability, printability, heating sag suppression ability, and acid-modified rosin The improvement of the wetting rate due to inclusion was not hindered, and sufficient effects were obtained for these.

さらに、このフラックスと、As:25質量ppm以上300質量ppm以下、並びにSb:0質量ppm超3000質量ppm以下、Bi:0質量ppm超10000質量ppm以下、及びPb:0質量ppm超5100質量ppm以下の少なくとも1種、及びAg:0質量%以上4質量%以下、Cu:0質量%以上0.9質量%以下並びに残部がSnからなり、かつ、上記の数(1)式及び数(2)式を満たすはんだ合金を用いたソルダペーストでは、チキソ剤に環状アミド化合物と非環状アミド化合物を含むことによるフラックスのチキソ性、ソルダペーストの印刷ダレ抑制能、印刷性、加熱ダレの抑制能、酸変性ロジンを含むことによる濡れ速度の向上性が阻害されず、増粘抑制効果に対して十分な効果が得られた。   Furthermore, with this flux, As: 25 mass ppm or more and 300 mass ppm or less, Sb: more than 0 mass ppm or more and 3000 mass ppm or less, Bi: more than 0 mass ppm or more and 10,000 mass ppm or less, and Pb: more than 0 mass ppm or more than 5100 mass ppm. At least one of the following, and Ag: 0% by mass to 4% by mass, Cu: 0% by mass to 0.9% by mass, and the balance is Sn, and the above formula (1) and formula (2 ) Solder paste using a solder alloy that satisfies the formula, the thixotropic agent contains a cyclic amide compound and a non-cyclic amide compound, the flux thixotropy, solder paste printing sag suppression, printability, heating sag suppression, The improvement of the wetting rate due to the inclusion of the acid-modified rosin was not hindered, and a sufficient effect was obtained with respect to the effect of suppressing the thickening.

Claims (14)

酸変性ロジンと、チキソ剤と、溶剤を含み、
酸変性ロジンを5.0wt%以上50.0wt%以下、
酸変性ロジン以外の他のロジンを0wt%以上50wt%以下含み、
酸変性ロジンと他のロジンの含有量の合計は35wt%以上60wt%以下であり、
チキソ剤は、環状アミド化合物と非環状アミド化合物からなり、環状アミド化合物を0.1wt%以上8.0wt%以下、非環状アミド化合物を0.5wt%以上8.0wt%以下で含み、かつ、環状アミド化合物と非環状アミド化合物の合計が1.5wt%以上10.0wt%以下であり、
環状アミド化合物は、ジカルボン酸及び/またはトリカルボン酸と、ジアミン及び/またはトリアミンが環状に重縮合した分子量が3000以下のアミド化合物であり、
非環状アミド化合物は、モノカルボン酸、ジカルボン酸及び/またはトリカルボン酸と、モノアミン、ジアミン及び/またはトリアミンが非環状に縮合したアミド化合物である
ことを特徴とするフラックス。
Contains acid-modified rosin, thixotropic agent, solvent,
5.0 wt% or more and 50.0 wt% or less of acid-modified rosin,
Containing 0 wt% or more and 50 wt% or less of rosin other than acid-modified rosin,
The total content of acid-modified rosin and other rosin is 35 wt% or more and 60 wt% or less,
The thixotropic agent is composed of a cyclic amide compound and an acyclic amide compound, contains the cyclic amide compound in an amount of 0.1 wt% to 8.0 wt%, the acyclic amide compound in an amount of 0.5 wt% to 8.0 wt%, and The total of the cyclic amide compound and the acyclic amide compound is 1.5 wt% or more and 10.0 wt% or less,
The cyclic amide compound is an amide compound having a molecular weight of 3000 or less obtained by cyclic polycondensation of dicarboxylic acid and / or tricarboxylic acid and diamine and / or triamine.
The flux characterized in that the acyclic amide compound is an amide compound in which a monocarboxylic acid, dicarboxylic acid and / or tricarboxylic acid and monoamine, diamine and / or triamine are condensed non-cyclically.
環状アミド化合物は、ジカルボン酸及びトリカルボン酸の炭素数が3以上10以下である
ことを特徴とする請求項1に記載のフラックス。
The flux according to claim 1, wherein the cyclic amide compound has 3 or more and 10 or less carbon atoms of dicarboxylic acid and tricarboxylic acid.
環状アミド化合物は、ジカルボン酸及びトリカルボン酸の炭素数が6以上10以下である
ことを特徴とする請求項1に記載のフラックス。
The flux according to claim 1, wherein the cyclic amide compound has 6 to 10 carbon atoms of dicarboxylic acid and tricarboxylic acid.
環状アミド化合物は、ジアミン及びトリアミンの炭素数が2以上54以下である
ことを特徴とする請求項2または請求項3に記載のフラックス。
The flux according to claim 2 or 3, wherein the cyclic amide compound has 2 or more and 54 or less carbon atoms of diamine and triamine.
環状アミド化合物は、ジアミン及びトリアミンの炭素数が6である
ことを特徴とする請求項2または請求項3に記載のフラックス。
The flux according to claim 2 or 3, wherein the cyclic amide compound has 6 carbon atoms in diamine and triamine.
環状アミド化合物は、炭素数が3以上10以下のジカルボン酸と、炭素数が2以上54以下のジアミンが環状に重縮合したアミド化合物である
ことを特徴とする請求項1に記載のフラックス。
The flux according to claim 1, wherein the cyclic amide compound is an amide compound obtained by cyclic polycondensation of a dicarboxylic acid having 3 to 10 carbon atoms and a diamine having 2 to 54 carbon atoms.
環状アミド化合物は、炭素数が6以上10以下のジカルボン酸と、炭素数が6のジアミンが環状に重縮合したアミド化合物である
ことを特徴とする請求項1に記載のフラックス。
The flux according to claim 1, wherein the cyclic amide compound is an amide compound obtained by cyclic polycondensation of a dicarboxylic acid having 6 to 10 carbon atoms and a diamine having 6 carbon atoms.
環状アミド化合物は、ジカルボン酸及びトリカルボン酸の炭素数が3以上10以下、ジアミン及びトリアミンの炭素数が2以上54以下であり、
非環状アミド化合物は、モノカルボン酸、ジカルボン酸及びトリカルボン酸の炭素数が2以上28以下、モノアミン、ジアミン及びトリアミンの炭素数が0以上54以下である
ことを特徴とする請求項1に記載のフラックス。
In the cyclic amide compound, the carbon number of the dicarboxylic acid and the tricarboxylic acid is 3 or more and 10 or less, and the carbon number of the diamine and the triamine is 2 or more and 54 or less,
The carbon number of monocarboxylic acid, dicarboxylic acid and tricarboxylic acid is 2 or more and 28 or less, and the number of carbon atoms of monoamine, diamine and triamine is 0 or more and 54 or less. flux.
チキソ剤は、さらにエステル化合物を含む
ことを特徴とする請求項1〜請求項8の何れか1項に記載のフラックス。
The flux according to any one of claims 1 to 8, wherein the thixotropic agent further contains an ester compound.
チキソ剤は、エステル化合物としてヒマシ硬化油を含む
ことを特徴とする請求項9に記載のフラックス。
The flux according to claim 9, wherein the thixotropic agent includes castor oil as an ester compound.
チキソ剤は、環状アミド化合物を0.5wt%以上1.5wt%以下、非環状アミド化合物を0.5wt%以上4.0wt%以下含む
ことを特徴とする請求項1に記載のフラックス。
The thixotropic agent contains 0.5 wt% or more and 1.5 wt% or less of a cyclic amide compound and 0.5 wt% or more and 4.0 wt% or less of an acyclic amide compound.
チキソ剤は、エステル化合物を0wt%以上8.0wt%以下含む
ことを特徴とする請求項9または請求項10に記載のフラックス。
The flux according to claim 9 or 10, wherein the thixotropic agent contains 0 wt% or more and 8.0 wt% or less of an ester compound.
さらに、有機酸を0wt%以上10wt%以下、
アミンを0wt%以上20wt%、
有機ハロゲン化合物を0wt%以上5wt%以下、
アミンハロゲン化水素酸塩を0wt%以上2wt%以下、
酸化防止剤を0wt%以上5wt%以下含む
ことを特徴とする請求項1〜請求項12の何れか1項に記載のフラックス。
Furthermore, 0 wt% or more and 10 wt% or less of organic acid,
0 wt% or more and 20 wt% of amine,
Organohalogen compounds in an amount of 0 wt% to 5 wt%
0 to 2 wt% of amine hydrohalide,
The flux according to any one of claims 1 to 12, comprising an antioxidant in an amount of 0 wt% to 5 wt% .
請求項1〜請求項13の何れか1項に記載のフラックスと、金属粉を含むThe flux according to any one of claims 1 to 13 and metal powder.
ことを特徴とするソルダペースト。Solder paste characterized by that.
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