JP7132485B2 - Method for producing 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl methyl ether, solid-liquid heterogeneous composition and 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl methyl ether product - Google Patents

Method for producing 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl methyl ether, solid-liquid heterogeneous composition and 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl methyl ether product Download PDF

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本発明は、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルメチルエーテル(以下、HFE-356mmzともいう)の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropylmethyl ether (hereinafter also referred to as HFE-356mmz).

HFE-356mmzは、熱伝達媒体や、発泡剤、洗浄剤等に用いることができる有用な化合物として知られている。 HFE-356mmz is known as a useful compound that can be used as a heat transfer medium, foaming agent, cleaning agent, and the like.

HFE-356mmzの製造方法は、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノール(以下、HFIPともいう)とメチル化剤とアルカリ性化合物とを用いる方法が一般的である(例えば、特許文献1~2)。 HFE-356mmz is generally produced by using 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol (hereinafter also referred to as HFIP), a methylating agent and an alkaline compound ( For example, Patent Documents 1 and 2).

上述のようなHFE-356mmzの一般的な製造方法においては、HFE-356mmzは、HFIPやメチル化剤等の原料や、副生物との混合物として得られることがある。HFE-356mmzは、その用途によっては高い純度が要求されるため、精製を行う必要がある。 In the general production method of HFE-356mmz as described above, HFE-356mmz may be obtained as a mixture with raw materials such as HFIP and a methylating agent, and by-products. HFE-356mmz needs to be purified because high purity is required depending on its use.

この精製方法の一例として、特許文献3には、HFE-356mmzとHFIPの共沸性組成物を、pHを5~9とする水、アルカリ炭酸塩水溶液あるいは酸と混合し、二層分離させることの反復ステップによるHFE-356mmzの精製方法が開示されている。 As an example of this purification method, in Patent Document 3, an azeotropic composition of HFE-356mmz and HFIP is mixed with water, an alkaline carbonate aqueous solution or an acid having a pH of 5 to 9, and separated into two layers. A method for purifying HFE-356mmz by the iterative steps of is disclosed.

また、工業的に簡便な精製方法として蒸留の採用が一般的に考えられるが、特許文献4に開示されているように、HFE-356mmzとHFIPとは共沸混合物様組成物を形成することが知られている。 In addition, distillation is generally considered as an industrially convenient purification method, but as disclosed in Patent Document 4, HFE-356mmz and HFIP can form an azeotrope-like composition. Are known.

米国特許第3346448号明細書U.S. Pat. No. 3,346,448 米国特許出願公開第2010/0312019明細書U.S. Patent Application Publication No. 2010/0312019 中国特許出願公開第105566074号明細書Chinese Patent Application Publication No. 105566074 特開2015-143359号公報JP 2015-143359 A

前述のHFE-356mmzの精製方法によれば、HFE-356mmzに含まれる原料や副生物などの不純物を一定程度低減させることができるものの、HFE-356mmzが水層に溶解することでロス量が増大すること等により、必ずしも好適な精製方法とは言えない。 According to the above-mentioned HFE-356mmz purification method, although impurities such as raw materials and by-products contained in HFE-356mmz can be reduced to a certain extent, HFE-356mmz dissolves in the water layer, increasing the amount of loss. Therefore, it cannot be said that it is necessarily a suitable purification method.

本発明は、このような背景にあってなされたものであり、HFE-356mmzの精製工程を含む、高純度HFE-356mmzの効率的な製造方法を提供することを課題とする。 The present invention has been made against such a background, and an object of the present invention is to provide an efficient method for producing high-purity HFE-356mmz, including a purification step of HFE-356mmz.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討を行った。その結果、HFE-356mmzと所定の不純物とを含む組成物を、所定の吸着剤と接触させることにより、不純物の含有量を低減させて、高純度のHFE-356mmzを得ることができることを見出し、本発明を完成させた。 The present inventors have made intensive studies to solve the above problems. As a result, it was found that by contacting a composition containing HFE-356mmz and predetermined impurities with a predetermined adsorbent, the content of impurities can be reduced and high-purity HFE-356mmz can be obtained. I completed the present invention.

すなわち、本発明は以下の各発明を含む。
[発明1]
(A)1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルメチルエーテルと、
(B)1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノールと、
(C)ジメチルエーテル、ハロメタンおよびパラトルエンスルホン酸メチルからなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物と、を含む組成物を、吸着剤と接触させて1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルメチルエーテルを精製する工程を含み、
前記吸着剤が、シリカ-アルミナ系の固体吸着剤である、
1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルメチルエーテルを製造する方法。
[発明2]
前記組成物が、
(D)パラトルエンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸塩、COで表される化合物および2,2,2-トリフルオロエチルメチルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物をさらに含む、発明1に記載の方法。
[発明3]
前記吸着剤が、X型ゼオライト、ZSM-5型ゼオライト、アロフェン、L型ゼオライト、ベータ型ゼオライト、モルデナイト型ゼオライト、Y型ゼオライトおよびA型ゼオライトからなる群より選ばれる少なくとも一種である、発明1または2に記載の方法。
[発明4]
前記吸着剤が、X型ゼオライト、ZSM-5型ゼオライト、アロフェン、L型ゼオライト、ベータ型ゼオライトおよびモルデナイト型ゼオライトからなる群より選ばれる少なくとも一種である、発明1~3のいずれかに記載の方法。
[発明5]
前記吸着剤が、プロトン、アルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンをカチオンとして含む、発明1~4のいずれかに記載の方法。
[発明6]
前記吸着剤が、プロトン、Naイオン、KイオンもしくはCaイオンを含むX型ゼオライト、プロトン、Naイオン、KイオンもしくはCaイオンを含むZSM-5型ゼオライト、プロトン、Naイオン、KイオンもしくはCaイオンを含むL型ゼオライト、または、アロフェンである、発明1または2に記載の方法。
[発明7]
(A)1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルメチルエーテルと、
(B)1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノールと、
(C)ジメチルエーテル、ハロメタンおよびパラトルエンスルホン酸メチルからなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物と、を含む組成物と、シリカ-アルミナ系の固体吸着剤とを含む、固液不均一組成物。
[発明8]
前記組成物が、
(D)パラトルエンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸塩、COで表される化合物および2,2,2-トリフルオロエチルメチルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物をさらに含む、発明7に記載の組成物。
[発明9]
前記シリカ-アルミナ系の固体吸着剤が、X型ゼオライト、ZSM-5型ゼオライト、アロフェン、L型ゼオライト、ベータ型ゼオライト、モルデナイト型ゼオライト、Y型ゼオライトおよびA型ゼオライトからなる群より選ばれる少なくとも一種である、発明7または8に記載の組成物。
[発明10]
前記シリカ-アルミナ系の固体吸着剤が、X型ゼオライト、ZSM-5型ゼオライト、アロフェン、L型ゼオライト、ベータ型ゼオライトおよびモルデナイト型ゼオライトからなる群より選ばれる少なくとも一種である、発明7~9のいずれかに記載の組成物。
[発明11]
前記シリカ-アルミナ系の固体吸着剤が、プロトン、アルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンをカチオンとして含む、発明7~10のいずれかに記載の組成物。
[発明12]
前記シリカ-アルミナ系の固体吸着剤が、プロトン、Naイオン、KイオンもしくはCaイオンを含むX型ゼオライト、プロトン、Naイオン、KイオンもしくはCaイオンを含むZSM-5型ゼオライト、プロトン、Naイオン、KイオンもしくはCaイオンを含むL型ゼオライト、または、アロフェンである、発明7または8に記載の組成物。
[発明13]
発明7~12に記載の固液不均一組成物と、
該固液不均一組成物と直接接触し、少なくとも接触部の材質は、ステンレス鋼、ガラスまたはフッ素樹脂である容器と、を少なくとも備える、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルメチルエーテル製品。
That is, the present invention includes the following inventions.
[Invention 1]
(A) 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl methyl ether;
(B) 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol;
(C) at least one compound selected from the group consisting of dimethyl ether, halomethane, and methyl p-toluenesulfonate is brought into contact with an adsorbent to obtain 1,1,1,3,3,3-hexafluoro purifying the isopropyl methyl ether;
The adsorbent is a silica-alumina solid adsorbent,
A method for producing 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl methyl ether.
[Invention 2]
the composition comprising:
(D) further adding at least one compound selected from the group consisting of p-toluenesulfonic acid, p-toluenesulfonate, a compound represented by C 4 H 3 F 5 O, and 2,2,2-trifluoroethyl methyl ether; The method of invention 1, comprising:
[Invention 3]
Invention 1 or wherein the adsorbent is at least one selected from the group consisting of X-type zeolite, ZSM-5-type zeolite, allophane, L-type zeolite, beta-type zeolite, mordenite-type zeolite, Y-type zeolite and A-type zeolite 2. The method described in 2.
[Invention 4]
The method according to any one of Inventions 1 to 3, wherein the adsorbent is at least one selected from the group consisting of X-type zeolite, ZSM-5-type zeolite, allophane, L-type zeolite, beta-type zeolite and mordenite-type zeolite. .
[Invention 5]
The method according to any one of inventions 1 to 4, wherein the adsorbent contains protons, alkali metal ions or alkaline earth metal ions as cations.
[Invention 6]
The adsorbent includes X-type zeolite containing protons, Na ions, K ions or Ca ions, ZSM-5 type zeolite containing protons, Na ions, K ions or Ca ions, protons, Na ions, K ions or Ca ions. The method according to invention 1 or 2, which is L-type zeolite or allophane.
[Invention 7]
(A) 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl methyl ether;
(B) 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol;
(C) A solid-liquid heterogeneous composition comprising a composition containing at least one compound selected from the group consisting of dimethyl ether, halomethane and methyl p-toluenesulfonate, and a silica-alumina solid adsorbent.
[Invention 8]
the composition comprising:
(D) further adding at least one compound selected from the group consisting of p-toluenesulfonic acid, p-toluenesulfonate, a compound represented by C 4 H 3 F 5 O, and 2,2,2-trifluoroethyl methyl ether; The composition according to invention 7, comprising:
[Invention 9]
The silica-alumina solid adsorbent is at least one selected from the group consisting of X-type zeolite, ZSM-5-type zeolite, allophane, L-type zeolite, beta-type zeolite, mordenite-type zeolite, Y-type zeolite and A-type zeolite. The composition according to Invention 7 or 8, which is
[Invention 10]
Inventions 7 to 9, wherein the silica-alumina solid adsorbent is at least one selected from the group consisting of X-type zeolite, ZSM-5-type zeolite, allophane, L-type zeolite, beta-type zeolite and mordenite-type zeolite. A composition according to any of the preceding claims.
[Invention 11]
The composition according to any one of Inventions 7 to 10, wherein the silica-alumina solid adsorbent contains protons, alkali metal ions or alkaline earth metal ions as cations.
[Invention 12]
The silica-alumina solid adsorbent is X-type zeolite containing protons, Na ions, K ions or Ca ions, ZSM-5 type zeolite containing protons, Na ions, K ions or Ca ions, protons, Na ions, The composition according to invention 7 or 8, which is an L-type zeolite containing K ions or Ca ions, or allophane.
[Invention 13]
a solid-liquid heterogeneous composition according to Inventions 7 to 12;
1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl, which is in direct contact with the solid-liquid heterogeneous composition and at least the contact portion is made of stainless steel, glass, or fluororesin. methyl ether product.

本発明によれば、HFE-356mmzと所定の不純物とを含む組成物から不純物の含有量を低減させ、これにより、高純度HFE-356mmzの効率的な製造方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to reduce the content of impurities from a composition containing HFE-356mmz and predetermined impurities, thereby providing an efficient method for producing high-purity HFE-356mmz.

以下、本発明について詳細に説明するが、本発明は、以下に示す実施の形態や、実施例の記載内容に限定して解釈されるべきではない。 Although the present invention will be described in detail below, the present invention should not be construed as being limited to the description of the embodiments and examples below.

本発明のHFE-356mmzを製造する方法は(以下、本発明の方法と呼ぶことがある。)、所定のHFE-356mmzの精製工程を含む。 The method for producing HFE-356mmz of the present invention (hereinafter sometimes referred to as the method of the present invention) includes a predetermined purification step of HFE-356mmz.

(HFE-356mmzの精製工程)
HFE-356mmzの精製工程においては、所定の組成物からHFE-356mmzを精製する。この組成物(以下、粗HFE-356mmzともいう)には、以下の(A)成分と(B)成分と(C)成分とが少なくとも含まれる:
(A)HFE-356mmz;
(B)HFIP;
(C)ジメチルエーテル、ハロメタンおよびパラトルエンスルホン酸メチルからなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物。
(Purification process of HFE-356mmz)
In the purification step of HFE-356mmz, HFE-356mmz is purified from a given composition. This composition (hereinafter also referred to as crude HFE-356mmz) contains at least the following components (A), (B) and (C):
(A) HFE-356mmz;
(B) HFIP;
(C) at least one compound selected from the group consisting of dimethyl ether, halomethane and methyl p-toluenesulfonate;

粗HFE-356mmzは、どのような経緯で得られた組成物であってもよく、一般的には、HFIPとメチル化剤との反応により得られるが、この限りではない。メチル化剤としては、硫酸ジメチル、ハロメタン、p-トルエンスルホン酸メチル(以下、PTSMともいう)等が挙げられるが、この限りではない。ここで、ハロメタンとは、具体的には、フルオロメタン、クロロメタン、ブロモメタン、ヨードメタンをいい、より具体的には、クロロメタン、ヨードメタンをいう。 Crude HFE-356mmz may be a composition obtained by any process, and is generally obtained by reaction of HFIP and a methylating agent, but is not limited to this. Examples of the methylating agent include, but are not limited to, dimethyl sulfate, halomethane, methyl p-toluenesulfonate (hereinafter also referred to as PTSM), and the like. Here, halomethane specifically means fluoromethane, chloromethane, bromomethane and iodomethane, more specifically chloromethane and iodomethane.

本明細書において、粗HFE-356mmzに含まれる(B)成分および(C)成分を総称して不純物と呼ぶことがある。 In this specification, the (B) component and the (C) component contained in the crude HFE-356mmz are sometimes collectively referred to as impurities.

HFE-356mmzの一般的な製造方法においては、上記(A)成分、(B)成分、(C)成分の他に、(D)パラトルエンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸塩、組成式COで表される化合物、2,2,2-トリフルオロエチルメチルエーテル(CFCHOCH)等が反応生成物中に含まれることがある。本発明において、粗HFE-356mmzには、このような(D)成分等のその他の成分が含まれていてもよい。 In a general method for producing HFE-356mmz, in addition to the above components (A), (B), and (C), (D) p-toluenesulfonic acid, p-toluenesulfonate, composition formula C 4 H A compound represented by 3 F 5 O, 2,2,2-trifluoroethyl methyl ether (CF 3 CH 2 OCH 3 ) and the like may be contained in the reaction product. In the present invention, crude HFE-356mmz may contain other components such as component (D).

粗HFE-356mmzには、その他の成分として水分が含まれていてもよい。いくつかの実施態様において、粗HFE-356mmzに含まれる水分量は少ないことが好ましく、例えば、粗HFE-356mmz中の水分量は5質量%以下、3質量%以下あるいは1質量%以下が好ましい。 The crude HFE-356mmz may contain water as another component. In some embodiments, it is preferred that the crude HFE-356mmz contain a low amount of water, for example, the amount of water in the crude HFE-356mmz is preferably 5% by weight or less, 3% by weight or less, or 1% by weight or less.

粗HFE-356mmzにおいて、HFE-356mmzと不純物の含有量は特に制限されない。通常、HFE-356mmzは80質量%以上、99.9999質量%以下、不純物とその他の成分の合計が0.0001質量%以上、20質量%以下である。不純物やその他の成分の総量は少なければ少ないほど好ましく、例えば0.0001質量%以上、10質量%以下が好ましい。 The contents of HFE-356mmz and impurities in the crude HFE-356mmz are not particularly limited. Usually, HFE-356mmz is 80% by mass or more and 99.9999% by mass or less, and the total of impurities and other components is 0.0001% by mass or more and 20% by mass or less. The smaller the total amount of impurities and other components, the better.

HFE-356mmzの精製工程において、吸着剤としては、シリカ-アルミナ系の固体吸着剤を用いる。シリカ-アルミナ系の固体吸着剤としては、ゼオライトや粘土(例えば、アロフェン)が挙げられ、これらを組み合わせて用いてもよい。 In the purification process of HFE-356mmz, a silica-alumina solid adsorbent is used as the adsorbent. Silica-alumina solid adsorbents include zeolites and clays (eg, allophane), which may be used in combination.

用いる吸着剤の形状には特に制限はなく、例えば、粉末、顆粒、造粒品等の何れの形状のものであってもよく、当業者は粗HFE-356mmzとの接触の態様に応じて適宜選択可能である。 The shape of the adsorbent to be used is not particularly limited, and for example, it may be in any shape such as powder, granules, granules, etc., and those skilled in the art will appropriately determine the shape depending on the mode of contact with crude HFE-356mmz. It is selectable.

用いる吸着剤のシリカ/アルミナ(SiO/Al)比は、特に制限はない。例えば、1~3000が好ましく、1.5~2000がより好ましい。
通常は吸着剤の種類によりシリカ/アルミナ比の値が決定されるが、当業者の所望により、処方を変えることによって、細孔分布やシリカ/アルミナ比やその他の金属の含有量を変化させることも可能であり、このような吸着剤を用いてもよい。このような処方は公知である。
The silica/alumina (SiO 2 /Al 2 O 3 ) ratio of the adsorbent used is not particularly limited. For example, 1 to 3000 is preferable, and 1.5 to 2000 is more preferable.
Normally, the type of adsorbent determines the value of the silica/alumina ratio, but if desired by those skilled in the art, the pore distribution, silica/alumina ratio, and other metal content can be changed by changing the formulation. is also possible, and such adsorbents may be used. Such formulations are known.

使用可能なゼオライトとしては、公知の天然ゼオライト、合成ゼオライト、人工ゼオライトを適用することができる。具体的には以下のものが挙げられるが、これらに限定されない:
3A、4A、5A等のA型;フェリエライト;MCM-22;ZSM-5;ZSM-11;SAPO-11;モルデナイト;ベータ型;10X、13X等のX型;Y型;L型;R型;S型;T型;チャバザイト;オフレタイト;クリノプチロライト(斜プチロル沸石);モルデナイト(モルデン沸石);菱沸石;ナトロライト;ゴンナルダイト;エディングトナイト;アナルシム;リューサイト;ユガワラライト;ギスモンダイン;ポーリンジャイト;フィリップサイト;エリオナイト;フォージャサイト;ミューティナアイト;チェルニヒアイト;ヒューランダイト;スティルバイト;コウレサイト;アルミノケイ酸塩;ベリロケイ酸塩(ロギアナイト、シャンハライト等);ジンコケイ酸塩(ガウルタイト)。
Usable zeolites include known natural zeolites, synthetic zeolites, and artificial zeolites. Specific examples include, but are not limited to:
A types such as 3A, 4A, 5A; ferrierite; MCM-22; ZSM-5; ZSM-11; SAPO-11; Clinoptilolite (clinoptilolite); mordenite (mordenite); chabazite; natrolite; gonnarudite; Cyte; erionite; faujasite; mutinaite; chernihiite;

使用可能なゼオライトとしては、該ゼオライト中に、プロトン、アルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンをカチオンとして含むものが好ましく、プロトン、Naイオン、KイオンまたはCaイオンを含むものが特に好ましい。 Zeolites that can be used preferably contain protons, alkali metal ions or alkaline earth metal ions as cations, and particularly preferably zeolites containing protons, Na ions, K ions or Ca ions.

本発明の一態様において、HFE-356mmzの精製工程において使用する吸着剤としては、X型ゼオライト、ZSM-5型ゼオライト、アロフェン(セカード)、L型ゼオライト、ベータ型ゼオライト、モルデナイト型ゼオライト、Y型ゼオライト、A型ゼオライトが挙げられ、これらを組み合わせてもよい。中でも、(B)成分と(C)成分の両方をより顕著に低減できることから、X型ゼオライト、ZSM-5型ゼオライト、アロフェン(セカード)、L型ゼオライト、ベータ型ゼオライト、モルデナイト型ゼオライトが好ましく、プロトン、Naイオン、KイオンまたはCaイオンを含むX型ゼオライト、プロトン、Naイオン、KイオンまたはCaイオンを含むZSM-5型ゼオライト、プロトン、Naイオン、KイオンまたはCaイオンを含むL型ゼオライト、アロフェン(セカード)が特に好ましい。 In one aspect of the present invention, the adsorbent used in the purification step of HFE-356mmz includes X-type zeolite, ZSM-5-type zeolite, allophane (Secado), L-type zeolite, beta-type zeolite, mordenite-type zeolite, and Y-type zeolite. Examples include zeolite and A-type zeolite, and these may be combined. Among them, X-type zeolite, ZSM-5-type zeolite, allophane (Secado), L-type zeolite, beta-type zeolite, and mordenite-type zeolite are preferable because they can significantly reduce both the (B) component and the (C) component. X-type zeolite containing protons, Na ions, K ions or Ca ions, ZSM-5 type zeolite containing protons, Na ions, K ions or Ca ions, L-type zeolite containing protons, Na ions, K ions or Ca ions, Allophane (Secado) is particularly preferred.

吸着剤は種々市販されており、例えば、東ソー株式会社製のHSZシリーズ、同社製のゼオラム(登録商標)シリーズ、和光純薬株式会社製のMSシリーズ、品川化成株式会社製のセカードシリーズ等が挙げられるが、これらに限定されない。 Various adsorbents are commercially available, for example, the HSZ series manufactured by Tosoh Corporation, the Zeorum (registered trademark) series manufactured by the same company, the MS series manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., and the Secard series manufactured by Shinagawa Kasei Co., Ltd. include, but are not limited to.

用いる吸着剤には水分が含まれていてもよいが、少ないことが好ましい。いくつかの実施態様において、吸着剤は、例えば乾燥などの方法により水分を低減させたものを用いる。
粗HFE-356mmzを吸着剤と接触させる方法は、HFE-356mmzが精製されれば、特に制限されない。例えば、容器中に粗HFE-356mmzと吸着剤を投入し、一定時間接触させて粗HFE-356mmz中の不純物を吸着剤に吸着させるバッチ方式、吸着剤を充填した充填塔に粗HFE-356mmzを流通させる流通方式等が挙げられるが、この限りではない。
The adsorbent to be used may contain water, but it is preferably less. In some embodiments, sorbents are used that have had their moisture content reduced by methods such as drying.
The method of contacting the crude HFE-356mmz with the adsorbent is not particularly limited as long as the HFE-356mmz is purified. For example, a batch method in which crude HFE-356mmz and an adsorbent are put into a container and contacted for a certain period of time to adsorb impurities in the crude HFE-356mmz to the adsorbent, and crude HFE-356mmz is placed in a packed tower filled with adsorbent. Examples include a distribution method and the like, but are not limited to these.

用意する粗HFE-356mmzは、吸着剤との接触の際に、液体であってもよいし、気体であってもよい。 The crude HFE-356mmz provided can be a liquid or a gas upon contact with the adsorbent.

吸着剤との接触の際に、当該吸着剤とともに、その他の吸着剤も用いてもよい。そのようなその他の吸着剤としては、前述のゼオライト以外のゼオライト、粘土、アルミナ、シリカ、シリカアルミナ、活性炭、これらの複合材や混合物等が挙げられる。 Other adsorbents may also be used along with the adsorbent in contact with the adsorbent. Such other adsorbents include zeolites other than the aforementioned zeolites, clay, alumina, silica, silica-alumina, activated carbon, composites and mixtures thereof, and the like.

ここで、粗HFE-356mmzと吸着剤との接触操作の一例を示すが、この限りではない。温度や圧力は、特に限定されないが、通常、粗HFE-356mmzが液体状態あるいは気体状態で接触を行う。圧力は常圧近傍での操作が簡便であるが、減圧下や加圧下でもよい。 Here, an example of the contact operation between the crude HFE-356mmz and the adsorbent is shown, but not limited to this. The temperature and pressure are not particularly limited, but the crude HFE-356mmz is usually contacted in a liquid state or a gaseous state. The pressure can be easily operated near normal pressure, but may be under reduced pressure or increased pressure.

本発明の方法においては、HFE-356mmzの精製工程の他に、その他の工程を含んでもよい。例えば、所望により、HFE-356mmzの精製工程の前、後あるいは両方において、洗浄操作や蒸留操作を行ってもよいし、前述のその他の吸着剤と接触させる操作を行ってもよい。 The method of the present invention may include other steps in addition to the step of purifying HFE-356mmz. For example, if desired, before, after, or both of the purification steps of HFE-356mmz, a washing operation, a distillation operation, or an operation of contacting with other adsorbents described above may be performed.

吸着剤は使用前のフレッシュな状態では、吸着できる量、吸着速度ともに大きいが、多くの不純物を吸着した後の状態では低下する。この場合は、脱着操作と呼ばれる手法で吸着剤を再生することができる。具体的には、吸着剤を減圧することによって、吸着剤を再生することができる。この際、減圧後に吸着剤を加熱してもよい。加熱する場合の温度は、特に制限はないが、30℃以上、300℃以下が好ましい。また、脱着操作時に生成したガス分を冷却捕集することによって、吸着剤が吸着していた不純物の濃縮物を得ることができる。 When the adsorbent is fresh before use, both the amount that can be adsorbed and the adsorption rate are large, but after adsorbing a large amount of impurities, they decrease. In this case, the adsorbent can be regenerated by a technique called desorption operation. Specifically, the adsorbent can be regenerated by decompressing the adsorbent. At this time, the adsorbent may be heated after the pressure is reduced. The temperature for heating is not particularly limited, but is preferably 30° C. or higher and 300° C. or lower. Also, by cooling and collecting the gas generated during the desorption operation, it is possible to obtain a concentrate of the impurities adsorbed by the adsorbent.

[固液不均一組成物]
当業者の所望により、容器に、粗HFE-356mmzと吸着剤を導入し、粗HFE-356mmzと吸着剤との固液不均一組成物(以下、固液不均一組成物ともいう)として保管・輸送することもできる。これにより、粗HFE-356mmzに含まれる不純物が低減された、HFE-356mmz製品を提供することが可能となる。
[Solid-liquid heterogeneous composition]
At the request of a person skilled in the art, crude HFE-356mmz and an adsorbent are introduced into a container, and stored and stored as a solid-liquid heterogeneous composition of crude HFE-356mmz and adsorbent (hereinafter also referred to as a solid-liquid heterogeneous composition). It can also be transported. This makes it possible to provide HFE-356mmz products with reduced impurities contained in crude HFE-356mmz.

このような容器としては、固液不均一組成物の保管・輸送に適しているものであれば特に限定されない。例えば、固液不均一組成物との接触部の材質が、ステンレス鋼、ガラス、フッ素樹脂等が挙げられるが、この限りではない。 Such a container is not particularly limited as long as it is suitable for storing and transporting the heterogeneous solid-liquid composition. For example, the material of the contact portion with the solid-liquid heterogeneous composition includes stainless steel, glass, fluororesin, etc., but is not limited to these.

容器内に導入される固液不均一組成物の量は、特に限定されない。吸着剤の嵩比重にも依存するが、通常は、粗HFE-356mmz/吸着剤の質量比が0.1以上、200以下であればよく、好ましくは1以上、100以下である。 The amount of the solid-liquid heterogeneous composition introduced into the container is not particularly limited. Although it depends on the bulk specific gravity of the adsorbent, the mass ratio of crude HFE-356mmz/adsorbent is usually 0.1 or more and 200 or less, preferably 1 or more and 100 or less.

容器内に固液不均一組成物を保管・輸送を行う場合は、低温度の環境が望ましい。具体的には-30℃以上、50℃以下であり、好ましくは-20℃以上、30℃以下である。また、固液不均一組成物の保管・輸送環境が、高湿度の場合には、容器が金属製の場合には湿気によって腐食したり、容器の開閉時に水分が容器内に入ることが懸念されるので、低湿度が好ましい。 A low-temperature environment is desirable when storing and transporting a solid-liquid heterogeneous composition in a container. Specifically, it is -30°C or higher and 50°C or lower, preferably -20°C or higher and 30°C or lower. In addition, if the storage and transportation environment of the solid-liquid heterogeneous composition is high humidity, there is a concern that if the container is made of metal, it will corrode due to humidity, or moisture will enter the container when opening and closing the container. Therefore, low humidity is preferred.

以下、実施例により本発明の方法を詳細に説明するが、本発明の方法はこれに限定されるものではない。 EXAMPLES The method of the present invention will be described in detail below with reference to Examples, but the method of the present invention is not limited thereto.

HFE-356mmzと不純物の組成比は、FID検出器によるガスクロマトグラフィーにより測定した。 The composition ratio of HFE-356mmz and impurities was measured by gas chromatography using an FID detector.

[実施例1~10]
表2に示す接触処理前の粗HFE-356mmz(50g)に、表2に示す吸着剤(5g)を添加し、室温(23℃)大気圧下で6時間攪拌した。攪拌終了後、濾過してHFE-356mmzを得た。
[Examples 1 to 10]
The adsorbent (5 g) shown in Table 2 was added to crude HFE-356mmz (50 g) before contact treatment shown in Table 2, and the mixture was stirred at room temperature (23° C.) and atmospheric pressure for 6 hours. After stirring, the mixture was filtered to obtain HFE-356mmz.

上記のようにして処理したHFE-356mmzをガスクロマトグラフィーにより分析し、ジメチルエーテル(MeO)、HFIP、2,2,2-トリフルオロエチルメチルエーテル(CFCHOCH)およびHFE-356mmzのGC面積%が処理前後でどのように変化したかを表2にまとめた。表2中のMeO除去率、HFIP除去率、CFCHOCH除去率およびHFE-356mmz保持率は、それぞれ以下の式により求めたものである。
MeO除去率=100×[1-(処理後Me2OのGC%/処理前MeOのGC%)]
HFIP除去率=100×[1-(処理後HFIPのGC%/処理前HFIPのGC%]
CFCHOCH除去率=100×[1-(処理後CFCHOCHのGC%/処理前CFCHOCHのGC%]
HFE-356mmz保持率=100×(処理後HFE-356mmzのGC%/処理前HFE-356mmzのGC%)
HFE-356mmz treated as described above was analyzed by gas chromatography to reveal dimethyl ether (Me 2 O), HFIP, 2,2,2-trifluoroethyl methyl ether (CF 3 CH 2 OCH 3 ) and HFE-356mmz. Table 2 summarizes how the GC area % of the film changed before and after the treatment. The Me 2 O removal rate, HFIP removal rate, CF 3 CH 2 OCH 3 removal rate, and HFE-356mmz retention rate in Table 2 were obtained by the following equations.
Me 2 O removal rate = 100 x [1 - (GC % of Me 2 O after treatment/GC % of Me 2 O before treatment)]
HFIP removal rate = 100 x [1-(GC% of HFIP after treatment/GC% of HFIP before treatment]
CF 3 CH 2 OCH 3 removal rate = 100 x [1 - (GC% of CF 3 CH 2 OCH 3 after treatment/GC% of CF 3 CH 2 OCH 3 before treatment]
HFE-356mmz retention rate = 100 × (GC% of HFE-356mmz after treatment / GC% of HFE-356mmz before treatment)

Figure 0007132485000001
Figure 0007132485000001

Figure 0007132485000002
Figure 0007132485000002

[実施例11~13]
表3に示す接触処理前の粗HFE-356mmz(50g)に、表3に示す吸着剤(5g)を添加した以外は、実施例1~10と同様の処理を行った。その結果を表3にまとめた。
[Examples 11 to 13]
The same treatment as in Examples 1 to 10 was performed except that the adsorbent (5 g) shown in Table 3 was added to the crude HFE-356mmz (50 g) before contact treatment shown in Table 3. The results are summarized in Table 3.

Figure 0007132485000003
Figure 0007132485000003

[実施例14~26]
表4に示す接触処理前の粗HFE-356mmz(50g)に、表4に示す吸着剤(5g)を添加し、室温(23℃)大気圧下で6時間攪拌した。攪拌終了後、濾過してHFE-356mmzを得た。
[Examples 14 to 26]
The adsorbent (5 g) shown in Table 4 was added to crude HFE-356mmz (50 g) before contact treatment shown in Table 4, and the mixture was stirred at room temperature (23° C.) under atmospheric pressure for 6 hours. After stirring, the mixture was filtered to obtain HFE-356mmz.

上記のようにして処理したHFE-356mmzをガスクロマトグラフィーにより分析し、クロロメタン(CHCl)、HFIP、2,2,2-トリフルオロエチルメチルエーテル(CFCHOCH)およびHFE-356mmzのGC面積%が処理前後でどのように変化したかを表4にまとめた。表4中のCHCl除去率、HFIP除去率およびHFE-356mmz保持率は、それぞれ以下の式により求めたものである。
CHCl除去率=100×[1-(処理後CHClのGC%/処理前CHClのGC%)]
(ただし、CHCl除去率が負の値となる場合については、CHCl除去率を0.0%とする。)
HFIP除去率=100×[1-(処理後HFIPのGC%/処理前HFIPのGC%]
HFE-356mmz保持率=100×(処理後HFE-356mmzのGC%/処理前HFE-356mmzのGC%)
HFE-356mmz treated as described above was analyzed by gas chromatography to reveal chloromethane (CH 3 Cl), HFIP, 2,2,2-trifluoroethyl methyl ether (CF 3 CH 2 OCH 3 ) and HFE- Table 4 summarizes how the 356 mmz GC area % changed before and after the treatment. The CH 3 Cl removal rate, HFIP removal rate, and HFE-356mmz retention rate in Table 4 were obtained by the following equations.
CH 3 Cl removal rate=100×[1−(GC % of CH 3 Cl after treatment/GC % of CH 3 Cl before treatment)]
(However, if the CH 3 Cl removal rate is a negative value, the CH 3 Cl removal rate shall be 0.0%.)
HFIP removal rate = 100 x [1-(GC% of HFIP after treatment/GC% of HFIP before treatment]
HFE-356mmz retention rate = 100 × (GC% of HFE-356mmz after treatment / GC% of HFE-356mmz before treatment)

Figure 0007132485000004
Figure 0007132485000004

Claims (12)

(A)1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルメチルエーテルと、
(B)1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノールと、
(C)ジメチルエーテル
(D)パラトルエンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸塩、C Oで表される化合物および2,2,2-トリフルオロエチルメチルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物と、を含む組成物を、吸着剤と接触させて1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルメチルエーテルを精製する工程を含み、
前記吸着剤が、プロトン、Naイオン、KイオンもしくはCaイオンを含むX型ゼオライト、プロトン、Naイオン、KイオンもしくはCaイオンを含むZSM-5型ゼオライト、プロトン、Naイオン、KイオンもしくはCaイオンを含むL型ゼオライト、または、アロフェンである、
1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルメチルエーテルを製造する方法。
(A) 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl methyl ether;
(B) 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol;
(C) dimethyl ether ;
(D) at least one compound selected from the group consisting of p-toluenesulfonic acid, p-toluenesulfonate, a compound represented by C 4 H 3 F 5 O, and 2,2,2-trifluoroethyl methyl ether; contacting a composition comprising with an adsorbent to purify 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl methyl ether;
The adsorbent includes X-type zeolite containing protons, Na ions, K ions or Ca ions, ZSM-5 type zeolite containing protons, Na ions, K ions or Ca ions, protons, Na ions, K ions or Ca ions. L-type zeolite comprising, or allophane ,
A method for producing 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl methyl ether.
前記吸着剤が、プロトン、Naイオン、KイオンもしくはCaイオンを含むX型ゼオライト、プロトン、Naイオン、KイオンもしくはCaイオンを含むZSM-5型ゼオライト、または、アロフェンである、The adsorbent is X-type zeolite containing protons, Na ions, K ions or Ca ions, ZSM-5 type zeolite containing protons, Na ions, K ions or Ca ions, or allophane.
請求項1に記載の方法。The method of claim 1.
(A)1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルメチルエーテルと、(A) 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl methyl ether;
(B)1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノールと、(B) 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol;
(C)ハロメタンと、(C) a halomethane;
を含む組成物を、吸着剤と接触させて1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルメチルエーテルを精製する工程を含み、contacting a composition comprising with an adsorbent to purify 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl methyl ether;
前記吸着剤が、プロトン、Naイオン、KイオンもしくはCaイオンを含むZSM-5型ゼオライトである、The adsorbent is ZSM-5 type zeolite containing protons, Na ions, K ions or Ca ions,
1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルメチルエーテルを製造する方法。A method for producing 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl methyl ether.
前記組成物が、the composition comprising:
(D)パラトルエンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸塩、C(D) p-toluenesulfonic acid, p-toluenesulfonate, C 4 H. 3 F. 5 Oで表される化合物および2,2,2-トリフルオロエチルメチルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物をさらに含む、請求項3に記載の方法。4. The method according to claim 3, further comprising at least one compound selected from the group consisting of a compound represented by O and 2,2,2-trifluoroethylmethyl ether.
(A)1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルメチルエーテルと、(A) 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl methyl ether;
(B)1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノールと、(B) 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol;
(C)ジメチルエーテル、ハロメタンおよびパラトルエンスルホン酸メチルからなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物と、(C) at least one compound selected from the group consisting of dimethyl ether, halomethane and methyl p-toluenesulfonate;
を含む組成物を、吸着剤と接触させて1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルメチルエーテルを精製する工程を含み、contacting a composition comprising with an adsorbent to purify 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl methyl ether;
前記吸着剤が、プロトン、Naイオン、KイオンもしくはCaイオンを含むZSM-5型ゼオライトである、The adsorbent is ZSM-5 type zeolite containing protons, Na ions, K ions or Ca ions,
1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルメチルエーテルを製造する方法。A method for producing 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl methyl ether.
前記組成物が、the composition comprising:
(D)パラトルエンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸塩、C(D) p-toluenesulfonic acid, p-toluenesulfonate, C 4 H. 3 F. 5 Oで表される化合物および2,2,2-トリフルオロエチルメチルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物をさらに含む、請求項5に記載の方法。6. The method according to claim 5, further comprising at least one compound selected from the group consisting of a compound represented by O and 2,2,2-trifluoroethylmethyl ether.
(A)1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルメチルエーテルと、
(B)1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノール
(C)ジメチルエーテルと、
(D)パラトルエンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸塩、C Oで表される化合物および2,2,2-トリフルオロエチルメチルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物と、を含む組成物と、
プロトン、Naイオン、KイオンもしくはCaイオンを含むX型ゼオライト、プロトン、Naイオン、KイオンもしくはCaイオンを含むZSM-5型ゼオライト、プロトン、Naイオン、KイオンもしくはCaイオンを含むL型ゼオライト、または、アロフェンとを含む、固液不均一組成物。
(A) 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl methyl ether;
(B) 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol ;
(C) dimethyl ether;
(D) at least one compound selected from the group consisting of p-toluenesulfonic acid, p-toluenesulfonate, a compound represented by C 4 H 3 F 5 O, and 2,2,2-trifluoroethyl methyl ether; a composition comprising
X-type zeolite containing protons, Na ions, K ions or Ca ions, ZSM-5 type zeolite containing protons, Na ions, K ions or Ca ions, L-type zeolite containing protons, Na ions, K ions or Ca ions, Alternatively, a solid-liquid heterogeneous composition containing allophane .
(A)1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルメチルエーテルと、(A) 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl methyl ether;
(B)1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノールと、(B) 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol;
(C)ハロメタンと、を含む組成物と、(C) a halomethane; and
プロトン、Naイオン、KイオンもしくはCaイオンを含むZSM-5型ゼオライトとを含む、固液不均一組成物。ZSM-5 type zeolite containing protons, Na ions, K ions or Ca ions, and a solid-liquid heterogeneous composition.
前記組成物が、the composition comprising:
(D)パラトルエンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸塩、C(D) p-toluenesulfonic acid, p-toluenesulfonate, C 4 H. 3 F. 5 Oで表される化合物および2,2,2-トリフルオロエチルメチルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物をさらに含む、請求項8に記載の固液不均一組成物。9. The solid-liquid heterogeneous composition according to claim 8, further comprising at least one compound selected from the group consisting of a compound represented by O and 2,2,2-trifluoroethylmethyl ether.
(A)1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルメチルエーテルと、(A) 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl methyl ether;
(B)1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノールと、(B) 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol;
(C)ジメチルエーテル、ハロメタンおよびパラトルエンスルホン酸メチルからなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物と、を含む組成物と、(C) at least one compound selected from the group consisting of dimethyl ether, halomethane and methyl p-toluenesulfonate;
プロトン、Naイオン、KイオンもしくはCaイオンを含むZSM-5型ゼオライトとを含む、固液不均一組成物。ZSM-5 type zeolite containing protons, Na ions, K ions or Ca ions, and a solid-liquid heterogeneous composition.
前記組成物が、the composition comprising:
(D)パラトルエンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸塩、C(D) p-toluenesulfonic acid, p-toluenesulfonate, C 4 H. 3 F. 5 O表される化合物および2,2,2-トリフルオロエチルメチルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物をさらに含む、請求項10に記載の固液不均一組成物。11. The solid-liquid heterogeneous composition according to claim 10, further comprising at least one compound selected from the group consisting of a compound represented by O and 2,2,2-trifluoroethylmethyl ether.
請求項7~11のいずれか一項に記載の固液不均一組成物と、
該固液不均一組成物と直接接触し、少なくとも接触部の材質は、ステンレス鋼、ガラスまたはフッ素樹脂である容器と、を少なくとも備える、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルメチルエーテル製品。
A solid-liquid heterogeneous composition according to any one of claims 7 to 11 ,
1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl, which is in direct contact with the solid-liquid heterogeneous composition and at least the contact portion is made of stainless steel, glass, or fluororesin. methyl ether product.
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