JP7124437B2 - Optical member for sealing and method for manufacturing optical member for sealing - Google Patents

Optical member for sealing and method for manufacturing optical member for sealing Download PDF

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本発明は、封止用の光学部材、及封止用の光学部材の製造方法に関する。 The present invention relates to an optical member for sealing and a method for manufacturing the optical member for sealing .

例えば、光センサ等の光学デバイスを収容する筐体の開口部を閉塞する光学部材が知られている。特許文献1及び特許文献2に開示される光学部材は、光の透過性を高める反射防止層を備えている。光学部材の反射防止層には、半田等の接合材を用いて筐体に取り付ける際の取付部となる金属層が設けられる場合がある。上記文献の光学部材の金属層は、反射防止層上に設けられている。 For example, there is known an optical member that closes an opening of a housing that houses an optical device such as an optical sensor. The optical members disclosed in Patent Documents 1 and 2 are provided with an antireflection layer that enhances light transmittance. In some cases, the antireflection layer of the optical member is provided with a metal layer that serves as an attachment portion when the optical member is attached to a housing using a bonding material such as solder. The metal layer of the optical member of the above document is provided on the antireflection layer.

特開2005-079146号公報JP 2005-079146 A 特開2013-219237号公報JP 2013-219237 A

上記のような従来の反射防止層及び金属層を有する光学部材において、反射防止層の外周縁は露出していた。そして反射防止層の外周縁が露出していると、反射防止層の外周縁から反射防止層が剥離し易くなるおそれがあった。 In a conventional optical member having an antireflection layer and a metal layer as described above, the outer peripheral edge of the antireflection layer is exposed. When the outer peripheral edge of the antireflection layer is exposed, the antireflection layer may easily peel off from the outer peripheral edge of the antireflection layer.

本発明は、こうした実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、反射防止層及び金属層を有する光学部材において、反射防止層の外周縁を容易に保護することのできる封止用の光学部材、及封止用の光学部材の製造方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a sealing optical member capable of easily protecting the outer peripheral edge of the antireflection layer in an optical member having an antireflection layer and a metal layer. An object of the present invention is to provide a member and a method for manufacturing an optical member for sealing .

上記課題を解決する光学部材は、光透過部を有する光学部材であって、第1主面と前記第1主面の反対側の第2主面とを有する基板と、前記第1主面の外周縁を除く部分に設けられる反射防止層と、前記基板の平面視で前記反射防止層の外周縁に沿った枠形状を有する金属層と、を備え、前記金属層は、前記反射防止層の主面に接合される第1接合部と、前記基板の前記第1主面に接合される第2接合部とを有し、かつ前記第1接合部と前記第2接合部とが連続している。 An optical member for solving the above problems is an optical member having a light transmitting portion, comprising: a substrate having a first principal surface and a second principal surface opposite to the first principal surface; An antireflection layer provided in a portion excluding an outer peripheral edge, and a metal layer having a frame shape along the outer peripheral edge of the antireflection layer in a plan view of the substrate, wherein the metal layer is the antireflection layer. a first bonding portion bonded to a principal surface and a second bonding portion bonded to the first principal surface of the substrate, wherein the first bonding portion and the second bonding portion are continuous; there is

この構成によれば、第1接合部と第2接合部とが連続した層構造を有する金属層によって、反射防止層の外周縁を被覆することができる。すなわち、金属層とは異なる保護層を別途設けずに、金属層を利用して反射防止層の外周縁を被覆することができる。 According to this configuration, the outer peripheral edge of the antireflection layer can be covered with the metal layer having a layer structure in which the first joint portion and the second joint portion are continuous. That is, the metal layer can be used to cover the outer periphery of the antireflection layer without separately providing a protective layer different from the metal layer.

上記光学部材において、前記金属層の外周縁は、前記基板の平面視で前記基板の外周縁よりも内側に位置することが好ましい。
この構成によれば、例えば、基板の外周縁が他の部材に擦れたとしても、金属層の外周縁は他の部材に擦れ難くなる。
In the above optical member, the outer peripheral edge of the metal layer is preferably located inside the outer peripheral edge of the substrate when the substrate is viewed from above.
According to this configuration, for example, even if the outer peripheral edge of the substrate rubs against another member, the outer peripheral edge of the metal layer does not easily rub against the other member.

上記光学部材において、前記第1主面に沿った方向における前記第2接合部の幅寸法は、前記第1接合部の幅寸法よりも大きいことが好ましい。
この構成によれば、基板と金属層との密着面積をより広く確保することができる。
In the above optical member, it is preferable that the width dimension of the second joint portion in the direction along the first main surface is larger than the width dimension of the first joint portion.
According to this configuration, it is possible to ensure a wider contact area between the substrate and the metal layer.

上記光学部材において、前記基板は、ガラス基板又はサファイア基板であり、平面視で円形状を有し、前記第1主面に設けられる前記反射防止層を第1の反射防止層とした場合、前記第2主面に設けられる第2の反射防止層をさらに備えてもよい。この構成によれば、光学部材の光透過性をさらに高めることが可能となる。 In the above optical member, the substrate is a glass substrate or a sapphire substrate, and has a circular shape in plan view. A second antireflection layer provided on the second main surface may be further provided. With this configuration, it is possible to further increase the light transmittance of the optical member.

上記課題を解決する基板の製造方法は、光透過部を有する光学部材に用いられる基板の製造方法であって、第1形状を有する複数の第1板片を積層することで、第1柱状体を形成する第1工程と、前記第1柱状体の外周面を研削することで、第2形状を有する複数の第2板片から構成される第2柱状体を形成する第2工程と、前記第2柱状体を構成する前記複数の第2板片を分離することで、前記第2板片からなる基板を得る第3工程と、を備える。 A substrate manufacturing method for solving the above-described problem is a substrate manufacturing method for use in an optical member having a light transmitting portion, wherein a plurality of first plate pieces having a first shape are laminated to form a first columnar body. a second step of forming a second columnar body composed of a plurality of second plate pieces having a second shape by grinding the outer peripheral surface of the first columnar body; and a third step of obtaining a substrate composed of the second plate pieces by separating the plurality of second plate pieces forming the second columnar body.

上記基板の製造方法において、前記複数の第1板片は、ガラス板片又はサファイア板片であり、前記第1工程の前記第1柱状体を構成する前記複数のガラス板片又は前記複数のサファイア板片は、オプティカルコンタクトにより接合されることが好ましい。この方法によれば、第1柱状体の形状を容易に維持することができる。 In the method for manufacturing a substrate, the plurality of first plate pieces are glass plate pieces or sapphire plate pieces, and the plurality of glass plate pieces or the plurality of sapphire pieces constituting the first columnar bodies in the first step. The plate pieces are preferably joined by optical contact. According to this method, the shape of the first columnar body can be easily maintained.

上記基板の製造方法において、前記複数の第1板片は、オーバーフローダウンドロー法を用いて成形されたガラス板片であることが好ましい。
この方法によれば、第1板片であるガラス板片の両主面における平滑性が高いため、上記のオプティカルコンタクトの接合強度を容易に高めることができる。
In the substrate manufacturing method described above, it is preferable that the plurality of first plate pieces are glass plate pieces formed using an overflow down-draw method.
According to this method, since both main surfaces of the glass plate piece, which is the first plate piece, have high smoothness, the bonding strength of the optical contact can be easily increased.

上記基板の製造方法において、前記第1形状は、平面視で角部を有する形状であり、前記第2工程では、前記第1柱状体を構成する前記複数の第1板片の少なくとも角部を研削してもよい。 In the substrate manufacturing method, the first shape is a shape having corners in a plan view, and in the second step, at least the corners of the plurality of first plate pieces forming the first columnar bodies are formed. It can be ground.

上記のように角部を有する形状の第1板片から、その角部を研削した形状の基板を容易に得ることができる。
上記基板の製造方法において、前記第1形状は、平面視で四角形状であり、前記第2形状は、平面視で円形状であってもよい。
As described above, a substrate having a shape in which the corners are ground can be easily obtained from the first plate piece having the corners.
In the above substrate manufacturing method, the first shape may be rectangular in plan view, and the second shape may be circular in plan view.

この方法によれば、例えば、板材を格子状の切断線に沿って切断することで、複数の第1板片を効率的に得ることができる。こうして得られた複数の第1板片から平面視で円形状の基板を得ることができる。 According to this method, for example, the plurality of first plate pieces can be efficiently obtained by cutting the plate material along grid-like cutting lines. A circular substrate in a plan view can be obtained from the plurality of first plate pieces thus obtained.

上記課題を解決する光学部材の製造方法は、光透過部を有する光学部材の製造方法であって、第1形状を有する複数の第1板片を積層することで、第1柱状体を形成する第1工程と、前記第1柱状体の外周面を研削することで、第2形状を有する複数の第2板片から構成される第2柱状体を形成する第2工程と、前記第2柱状体を構成する前記複数の第2板片を分離することで、第2板片からなるとともに第1主面と前記第1主面とは反対側の第2主面を有する基板を得る第3工程と、前記基板の前記第1主面の外周縁を除く部分に反射防止層を設ける第4工程と、前記反射防止層を設けた基板に金属層を設ける第5工程と、を備え、前記第5工程において、前記基板の平面視で前記反射防止層の外周縁に沿った枠形状となるように前記金属層を形成し、前記金属層を、前記反射防止層の主面に接合される第1接合部と、前記基板の前記第1主面に接合される第2接合部と、を有し、かつ前記第1接合部と前記第2接合部とが連続している構造とする。 A method of manufacturing an optical member that solves the above problems is a method of manufacturing an optical member having a light transmitting portion, wherein a plurality of first plate pieces having a first shape are laminated to form a first columnar body. a first step; a second step of grinding the outer peripheral surface of the first columnar body to form a second columnar body composed of a plurality of second plate pieces having a second shape; A substrate is obtained by separating the plurality of second plate pieces constituting the body to obtain a substrate comprising the second plate pieces and having a first main surface and a second main surface opposite to the first main surface. a fourth step of providing an antireflection layer on a portion of the first main surface of the substrate excluding an outer peripheral edge; and a fifth step of providing a metal layer on the substrate provided with the antireflection layer, In the fifth step, the metal layer is formed so as to have a frame shape along the outer periphery of the antireflection layer in plan view of the substrate, and the metal layer is bonded to the main surface of the antireflection layer. The structure includes a first joint portion and a second joint portion joined to the first main surface of the substrate, and the first joint portion and the second joint portion are continuous.

本発明の一態様である光学部材によれば、反射防止層及び金属層を有する光学部材において、反射防止層の外周縁を容易に保護することができる。本発明の別の態様である基板の製造方法及び光学部材の製造方法によれば、光学部材を好適に製造することができる。 According to the optical member of one aspect of the present invention, the outer peripheral edge of the antireflection layer can be easily protected in the optical member having the antireflection layer and the metal layer. According to the method for manufacturing a substrate and the method for manufacturing an optical member, which are other aspects of the present invention, an optical member can be preferably manufactured.

実施形態における光学部材を模式的に示す平面図である。1 is a plan view schematically showing an optical member in an embodiment; FIG. 図1の2-2線に沿った断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line 2-2 of FIG. 1; 光学部材の使用状態を模式的に示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing how the optical member is used; (a)は、基板の製造方法を示すフロー図であり、(b)は、光学部材の製造方法を示すフロー図である。(a) is a flow chart showing a method for manufacturing a substrate, and (b) is a flow chart showing a method for manufacturing an optical member. 第1板片の製造を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining manufacture of a 1st plate piece. 基板の製造方法を示し、(a)は、第1工程の説明図であり(b)は、第2工程の説明図であり、(c)及び(d)は、第3工程の説明図である。1 shows a substrate manufacturing method, (a) is an explanatory diagram of the first step, (b) is an explanatory diagram of the second step, and (c) and (d) are explanatory diagrams of the third step. be. 光学部材の変更例を模式的に示す断面図である。It is a sectional view showing a modification of an optical member typically.

以下、光学部材、基板の製造方法、及び光学部材の製造方法の実施形態について図面を参照して説明する。なお、図面では、説明の便宜上、構成の一部を誇張又は簡略化して示す場合がある。また、各部分の寸法比率についても、実際と異なる場合がある。 Embodiments of an optical member, a substrate manufacturing method, and an optical member manufacturing method will be described below with reference to the drawings. In the drawings, for convenience of explanation, part of the configuration may be exaggerated or simplified. Also, the dimensional ratio of each part may differ from the actual one.

図1及び図2に示すように、光学部材11は、光透過部11aを有し、基板12と、基板12上の外周縁を除く部分(中央部)に設けられる反射防止層13と、基板12の厚さ方向から見た場合に反射防止層13の外周縁に沿った枠形状を有する金属層14とを備えている。 As shown in FIGS. 1 and 2, the optical member 11 has a light transmitting portion 11a, a substrate 12, an antireflection layer 13 provided on a portion (central portion) of the substrate 12 excluding the outer periphery, and the substrate and a metal layer 14 having a frame shape along the outer periphery of the antireflection layer 13 when viewed from the thickness direction of the antireflection layer 12 .

基板12は、第1主面12aと、第1主面12aの反対側の第2主面12bを有している。基板12の具体例としては、ガラス基板、サファイア基板、樹脂基板等が挙げられる。基板12は、ガラス基板又はサファイア基板であることが好ましい。基板12の外形としては、例えば、平面視で円形状、多角形状(四角形状等)等が挙げられる。基板12の厚さは、0.1mm以上、1mm以下の範囲内であることが好ましく、より好ましくは0.2mm以上、0.5mm以下の範囲内である。 The substrate 12 has a first major surface 12a and a second major surface 12b opposite the first major surface 12a. Specific examples of the substrate 12 include a glass substrate, a sapphire substrate, a resin substrate, and the like. Substrate 12 is preferably a glass substrate or a sapphire substrate. The outer shape of the substrate 12 includes, for example, a circular shape, a polygonal shape (such as a square shape), and the like in a plan view. The thickness of the substrate 12 is preferably in the range of 0.1 mm or more and 1 mm or less, more preferably in the range of 0.2 mm or more and 0.5 mm or less.

反射防止層13は、光透過部11aの一部を構成する。反射防止層13は、周知の誘電体多層膜から構成することができる。誘電体多層膜は、高屈折率膜と、高屈折率膜よりも屈折率が低い低屈折率膜とを交互に積層した構造を有する。高屈折率膜としては、例えば、酸化ニオブ、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ランタン、酸化タングステン、及び酸化ジルコニウムから選ばれる少なくとも一種が挙げられる。低屈折率膜としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、及びフッ化マグネシウムから選ばれる少なくとも一種が挙げられる。 The antireflection layer 13 constitutes a part of the light transmitting portion 11a. The antireflection layer 13 can be composed of a well-known dielectric multilayer film. The dielectric multilayer film has a structure in which a high refractive index film and a low refractive index film having a lower refractive index than the high refractive index film are alternately laminated. Examples of the high refractive index film include at least one selected from niobium oxide, titanium oxide, tantalum oxide, lanthanum oxide, tungsten oxide, and zirconium oxide. Examples of the low refractive index film include at least one selected from silicon oxide, aluminum oxide, and magnesium fluoride.

誘電体多層膜において、高屈折率膜と低屈折率膜との合計積層数は、例えば、4層以上、60層以下である。なお、高屈折率膜から低屈折率膜に向けて屈折率が漸減または漸増する漸移層を高屈折率膜と低屈折率膜との間に設けてもよい。また、誘電体多層膜から基板12に向けて屈折率が漸減または漸増する漸移層を基板12と誘電体多層膜との間に設けてもよい。また、誘電体多層膜の積層構造では、高屈折率膜と低屈折率膜以外にも、屈折率が高屈折率膜よりも小さく、かつ、低屈折率膜よりも大きい中屈折率膜を設けてもよい。 In the dielectric multilayer film, the total number of laminated layers of the high refractive index film and the low refractive index film is, for example, 4 or more and 60 or less. A gradation layer in which the refractive index gradually decreases or increases from the high refractive index film to the low refractive index film may be provided between the high refractive index film and the low refractive index film. Also, a graded layer whose refractive index gradually decreases or increases from the dielectric multilayer film toward the substrate 12 may be provided between the substrate 12 and the dielectric multilayer film. In addition to the high refractive index film and the low refractive index film, in the laminated structure of the dielectric multilayer film, a medium refractive index film having a lower refractive index than the high refractive index film and a higher refractive index than the low refractive index film is provided. may

図3に示すように、光学部材11の金属層14は、光学部材11を筐体に取り付ける取付部11bとして構成される。光学部材11の金属層14は、筐体の開口部を取り囲むように連続した枠形状に形成される。光学部材11において、平面視で金属層14の内側の領域が光透過部11aとして構成される。 As shown in FIG. 3, the metal layer 14 of the optical member 11 is configured as a mounting portion 11b for mounting the optical member 11 to the housing. The metal layer 14 of the optical member 11 is formed in a continuous frame shape so as to surround the opening of the housing. In the optical member 11, a region inside the metal layer 14 in plan view is configured as a light transmitting portion 11a.

光学部材11の金属層14は、基板12側から順に、下地層、中間層、及び表層の三層から構成される。下地層に用いられる金属としては、例えば、Cr、Ta、W、Ti、Mo、Ni、Pt等が挙げられる。中間層に用いられる金属としては、例えば、Ni、Pt、Pd等が挙げられる。表層に用いられる金属としては、例えば、Au、Sn、Ag、Ni、Pt等が挙げられる。金属層14に用いられる金属は、単体であってもよいし、合金であってもよい。 The metal layer 14 of the optical member 11 is composed of three layers, ie, a base layer, an intermediate layer, and a surface layer, in order from the substrate 12 side. Examples of metals used for the underlayer include Cr, Ta, W, Ti, Mo, Ni, and Pt. Examples of metals used for the intermediate layer include Ni, Pt, and Pd. Examples of metals used for the surface layer include Au, Sn, Ag, Ni, and Pt. The metal used for the metal layer 14 may be a simple substance or an alloy.

図1及び図2に示すように、光学部材11の金属層14は、反射防止層13の主面(上表面)に接合される第1接合部14aと、基板12の第1主面12aに接合される第2接合部14bとを有している。光学部材11の金属層14は、第1接合部14aと第2接合部14bとが連続した構造を有している。金属層14の外周縁ME1は、基板12の平面視で基板12の外周縁BE1よりも内側(基板12の中央側)に位置する。金属層14の外周縁ME1から基板12の外周面が突出する突出長さL1は、0.01mm以上、0.1mm以下の範囲内であることが好ましく、より好ましくは0.03mm以上、0.07mm以下の範囲内である。 As shown in FIGS. 1 and 2, the metal layer 14 of the optical member 11 includes a first bonding portion 14a bonded to the main surface (upper surface) of the antireflection layer 13 and a first bonding portion 14a bonded to the first main surface 12a of the substrate 12. and a second joint portion 14b to be joined. The metal layer 14 of the optical member 11 has a structure in which a first joint portion 14a and a second joint portion 14b are continuous. The outer peripheral edge ME1 of the metal layer 14 is positioned inside the outer peripheral edge BE1 of the substrate 12 (on the center side of the substrate 12) when the substrate 12 is viewed from above. A protrusion length L1 by which the outer peripheral surface of the substrate 12 protrudes from the outer peripheral edge ME1 of the metal layer 14 is preferably in the range of 0.01 mm or more and 0.1 mm or less, more preferably 0.03 mm or more and 0.03 mm or more. 07 mm or less.

基板12の第1主面12aに沿った方向における第2接合部14bの幅寸法W2は、例えば、第1接合部14aの幅寸法W1の0.3倍以上、3倍以下の範囲内であることが好ましい。光学部材11の金属層14において、第2接合部14bの幅寸法W2は、第1接合部14aの幅寸法W1よりも大きいことがさらに好ましい。 The width dimension W2 of the second joint portion 14b in the direction along the first main surface 12a of the substrate 12 is, for example, within the range of 0.3 to 3 times the width dimension W1 of the first joint portion 14a. is preferred. In the metal layer 14 of the optical member 11, it is more preferable that the width dimension W2 of the second joint portion 14b is larger than the width dimension W1 of the first joint portion 14a.

次に、光学部材の使用方法及び用途について説明する。
図3に示すように、光学部材11は、筐体Cの開口部に取り付けられることで、筐体Cの開口部を封止する。詳述すると、光学部材11の金属層14は、筐体Cの開口部に接合材BMを用いて接合される。接合材BMは、半田材(例えば、リフロー半田材)やろう材として市販されるものを用いることができる。接合材BMとしては、例えば、Au-Sn合金、Pb-Sn合金、Au-Ge合金等が挙げられる。光学部材11は、筐体C内の気密性を保つように、接合材BMを用いて筐体Cに取り付けられる。筐体Cの材質としては、例えば、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、炭化ケイ素、窒化ケイ素等のセラミックス、Fe-Ni-Co合金、Cu-W合金、Kovar(登録商標)等の合金等が挙げられる。筐体Cの開口部には、必要に応じて金属層を設けることができる。例えば、筐体Cがセラミックスから構成される場合、筐体Cの開口部に接合材BMを構成する金属元素を含む金属層を設けることで、接合材との密着性(接合強度)を高めることができる。
Next, the usage method and application of the optical member will be described.
As shown in FIG. 3, the optical member 11 is attached to the opening of the housing C to seal the opening of the housing C. As shown in FIG. Specifically, the metal layer 14 of the optical member 11 is bonded to the opening of the housing C using the bonding material BM. As the bonding material BM, a commercially available solder material (for example, reflow solder material) or brazing material can be used. Examples of the bonding material BM include Au--Sn alloy, Pb--Sn alloy, and Au--Ge alloy. The optical member 11 is attached to the housing C using a bonding material BM so as to keep the inside of the housing C airtight. Examples of the material of the housing C include ceramics such as aluminum nitride, aluminum oxide, silicon carbide, and silicon nitride, alloys such as Fe—Ni—Co alloy, Cu—W alloy, Kovar (registered trademark), and the like. A metal layer can be provided in the opening of the housing C as required. For example, when the casing C is made of ceramics, a metal layer containing a metal element constituting the bonding material BM is provided in the opening of the casing C to increase the adhesion (bonding strength) with the bonding material. can be done.

筐体C内には、図示を省略するが、レーザーモジュール、光センサ、撮像素子、光スイッチ等の光学デバイスが収容される。
上記のように光学部材11を用いることで、電子部品パッケージを得ることができる。すなわち、電子部品パッケージは、筐体Cと、筐体C内に収容される光学デバイスと、筐体Cに取り付けられる光学部材11とを備えている。
Although not shown, the housing C accommodates optical devices such as a laser module, an optical sensor, an imaging device, and an optical switch.
An electronic component package can be obtained by using the optical member 11 as described above. That is, the electronic component package includes a housing C, an optical device housed in the housing C, and an optical member 11 attached to the housing C. As shown in FIG.

次に、基板12の製造方法について説明する。
図4(a)に示すように、基板12の製造方法では、まず第1板片を準備するステップS10を行う。図5に示すように、ステップS10の第1板片の準備では、母材となる板材15を図5の破線で示す格子状の切断線に沿って切断することで、図6(a)に示すように平面視で四角形状(正方形状)の第1板片16を複数形成する。
Next, a method for manufacturing the substrate 12 will be described.
As shown in FIG. 4A, in the method for manufacturing the substrate 12, first, step S10 of preparing the first plate piece is performed. As shown in FIG. 5, in the preparation of the first plate piece in step S10, the plate material 15 serving as the base material is cut along grid-like cutting lines indicated by broken lines in FIG. As shown, a plurality of first plate pieces 16 having a quadrangular (square) shape in plan view are formed.

図6(a)に示すように、基板12の製造方法では、上記複数の第1板片16を積層する第1工程を行う(ステップS11)。図6(b)に示すように、ステップS11の第1工程では、第1板片16が積層されてなる第1柱状体17(角柱状体)を形成する。 As shown in FIG. 6A, in the method for manufacturing the substrate 12, a first step of stacking the plurality of first plate pieces 16 is performed (step S11). As shown in FIG. 6(b), in the first process of step S11, the first columnar body 17 (prismic body) is formed by laminating the first plate pieces 16. As shown in FIG.

ステップS11の第1工程において、第1板片16がガラス板片又はサファイア板片であり、かつこれら板片の両主面がオプティカルコンタクト可能な平滑性を有する場合、複数の板片をオプティカルコンタクトにより接合して第1柱状体17を形成することができる。また、オーバーフローダウンドロー法を用いて成形されたガラス板片は、両主面の平滑性が高いため、両主面の研磨を簡略化又は省略したとしても、第1柱状体17を構成する複数の第1板片16(ガラス板片)をオプティカルコンタクトにより接合することができる。 In the first process of step S11, when the first plate piece 16 is a glass plate piece or a sapphire plate piece and both main surfaces of these plate pieces have smoothness that allows optical contact, the plurality of plate pieces are brought into optical contact. can be joined to form the first columnar body 17 . In addition, since the glass plate piece formed by the overflow down-draw method has high smoothness on both main surfaces, even if the polishing of both main surfaces is simplified or omitted, the plurality of pieces constituting the first columnar body 17 can be can be joined by optical contact.

図6(b)に示すように、基板12の製造方法では、第1柱状体17の外周面を研削する第2工程を行う(ステップS12)。図6(c)に示すように、ステップS12の第2工程では、平面視で円形状を有する複数の第2板片18から構成される第2柱状体19を形成する。 As shown in FIG. 6B, in the method for manufacturing the substrate 12, a second step of grinding the outer peripheral surface of the first columnar body 17 is performed (step S12). As shown in FIG. 6C, in the second step of step S12, the second columnar body 19 is formed by a plurality of second plate pieces 18 having a circular shape in plan view.

図6(b)に示すように、第2工程では、中心軸回りに回転させた第1柱状体17の外周面に研削刃BLを当接することで、第1柱状体17の外周面(第1柱状体17の角部)を研削する。第1柱状体17は、例えば、第1柱状体17の上下面を挟持する支持具を回転駆動させることで、中心軸回りに回転させることができる。なお、第2工程では、研削刃BLを第1柱状体17の周方向に沿って移動させて第1柱状体17の外周面を研削することもできる。すなわち、第2工程では、第1柱状体17と研削刃BLとを相対移動させることで、第1柱状体17を研削する。 As shown in FIG. 6(b), in the second step, the grinding blade BL is brought into contact with the outer peripheral surface of the first columnar body 17 rotated about the central axis, whereby the outer peripheral surface of the first columnar body 17 (second 1 corners of the columnar body 17) are ground. The first columnar body 17 can be rotated around the central axis by, for example, rotationally driving a support that clamps the upper and lower surfaces of the first columnar body 17 . In the second step, it is also possible to grind the outer peripheral surface of the first columnar body 17 by moving the grinding blade BL along the circumferential direction of the first columnar body 17 . That is, in the second step, the first columnar body 17 is ground by relatively moving the first columnar body 17 and the grinding blade BL.

図6(c)及び図6(d)に示すように、基板12の製造方法では、第2柱状体19を構成する複数の第2板片18を分離する第3工程を行う(ステップS13)。ステップS13の第3工程では、第2板片18からなる複数の基板12が得られる。 As shown in FIGS. 6(c) and 6(d), in the method for manufacturing the substrate 12, a third step of separating the plurality of second plate pieces 18 forming the second columnar bodies 19 is performed (step S13). . In the third process of step S13, a plurality of substrates 12 made up of second plate pieces 18 are obtained.

次に、光学部材11の製造方法について説明する。
図4(b)に示すように、光学部材11の製造方法では、上記の基板12の製造方法で得られた基板12に反射防止層13を設ける第4工程を行う(ステップS14)。ステップS14の第4工程では、基板12の第1主面12aに上述した誘電体多層膜を成膜する。誘電体多層膜の成膜方法としては、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンアシスト又はイオンプレーティングを用いた真空蒸着法、及びCVD法が挙げられる。これらの成膜方法の中でも、各層の厚さを高精度で制御することができるとともに、安定した膜質の誘電体多層膜が得られることから、イオンアシストを用いた真空蒸着法、又はスパッタリング法が好ましい。基板12の第1主面12aにおける所定の位置に反射防止層13を形成するには、基板12の第1主面12aの所定の位置(外周縁部分)を覆うマスクを用いればよい。
Next, a method for manufacturing the optical member 11 will be described.
As shown in FIG. 4B, in the method for manufacturing the optical member 11, a fourth step of forming the antireflection layer 13 on the substrate 12 obtained by the method for manufacturing the substrate 12 is performed (step S14). In the fourth process of step S14, the dielectric multilayer film described above is formed on the first main surface 12a of the substrate 12. As shown in FIG. Methods for forming a dielectric multilayer film include, for example, a sputtering method, a vacuum deposition method, a vacuum deposition method using ion assist or ion plating, and a CVD method. Among these film forming methods, the vacuum vapor deposition method using ion assist or the sputtering method is preferred because the thickness of each layer can be controlled with high precision and a dielectric multilayer film with stable film quality can be obtained. preferable. In order to form the antireflection layer 13 at a predetermined position on the first main surface 12a of the substrate 12, a mask covering the predetermined position (outer peripheral portion) of the first main surface 12a of the substrate 12 may be used.

次に、光学部材11の製造方法では、反射防止層13を設けた基板12に金属層14を設ける第5工程を行う(ステップS15)。ステップS15の第5工程では、上述した金属層14の配置となるように、反射防止層13を設けた基板12の第1主面12a側の一部に金属膜を成膜する。金属膜の成膜方法としては、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンアシスト又はイオンプレーティングを用いた真空蒸着法、及びCVD法が挙げられる。 Next, in the method for manufacturing the optical member 11, the fifth step of providing the metal layer 14 on the substrate 12 provided with the antireflection layer 13 is performed (step S15). In the fifth step of step S15, a metal film is formed on a part of the first main surface 12a side of the substrate 12 provided with the antireflection layer 13 so as to arrange the metal layer 14 as described above. Methods for forming a metal film include, for example, a sputtering method, a vacuum deposition method, a vacuum deposition method using ion assist or ion plating, and a CVD method.

反射防止層13を設けた基板12の所定の位置に金属層14を形成するには、基板12及び反射防止層13の所定の位置を覆うマスクを用いればよい。
次に、本実施形態の作用及び効果について説明する。
In order to form the metal layer 14 at a predetermined position of the substrate 12 provided with the antireflection layer 13, a mask covering the predetermined positions of the substrate 12 and the antireflection layer 13 may be used.
Next, the operation and effects of this embodiment will be described.

(1)光透過部11aを有する光学部材11は、基板12と、基板12の第1主面12aに設けられる反射防止層13と、基板12の平面視で反射防止層13の外周縁に沿った枠形状を有する金属層14とを備えている。光学部材11の金属層14は、反射防止層13の主面に接合される第1接合部14aと、基板12の第1主面12aに接合される第2接合部14bとを有している。光学部材11の金属層14において、第1接合部14aと第2接合部14bとは連続している。 (1) The optical member 11 having the light transmitting portion 11a includes the substrate 12, the antireflection layer 13 provided on the first main surface 12a of the substrate 12, and the antireflection layer 13 along the outer peripheral edge of the antireflection layer 13 in plan view of the substrate 12. and a metal layer 14 having a frame shape. The metal layer 14 of the optical member 11 has a first joint portion 14a joined to the main surface of the antireflection layer 13 and a second joint portion 14b joined to the first main surface 12a of the substrate 12. . In the metal layer 14 of the optical member 11, the first joint portion 14a and the second joint portion 14b are continuous.

この構成によれば、第1接合部14aと第2接合部14bとが連続した層構造を有する金属層14によって、反射防止層13の外周縁を被覆することができる。すなわち、金属層14とは異なる保護層を別途設けずに、金属層14を利用して反射防止層13の外周縁を被覆することができる。従って、反射防止層13及び金属層14を有する光学部材11において、反射防止層13の外周縁を容易に保護することができる。これにより、反射防止層13の剥離を抑えることができる。 According to this configuration, the outer periphery of the antireflection layer 13 can be covered with the metal layer 14 having a layer structure in which the first joint portion 14a and the second joint portion 14b are continuous. That is, the metal layer 14 can be used to cover the outer periphery of the antireflection layer 13 without providing a separate protective layer different from the metal layer 14 . Therefore, in the optical member 11 having the antireflection layer 13 and the metal layer 14, the outer peripheral edge of the antireflection layer 13 can be easily protected. As a result, peeling of the antireflection layer 13 can be suppressed.

また、光学部材11の金属層14は、反射防止層13の主面(外面)、反射防止層13の側面、及び基板12の第1主面12aにわたって設けられている。このため、例えば、平面視で所定の幅の金属層14を反射防止層13の主面のみ、又は基板12の第1主面12aのみに設ける場合よりも、金属層14の密着面積が広くなるため、金属層14の密着強度を高めることが可能となる。 Also, the metal layer 14 of the optical member 11 is provided over the main surface (outer surface) of the antireflection layer 13 , side surfaces of the antireflection layer 13 , and the first main surface 12 a of the substrate 12 . Therefore, for example, the contact area of the metal layer 14 becomes wider than when the metal layer 14 having a predetermined width in plan view is provided only on the main surface of the antireflection layer 13 or only on the first main surface 12a of the substrate 12. Therefore, the adhesion strength of the metal layer 14 can be increased.

(2)光学部材11の金属層14の外周縁ME1は、基板12の平面視で基板12の外周縁BE1よりも内側に位置している。この場合、例えば、基板12の外周縁BE1が他の部材に擦れたとしても、金属層14の外周縁ME1は他の部材に擦れ難くなる。従って、金属層14の剥離を抑えることができる。 (2) The outer peripheral edge ME1 of the metal layer 14 of the optical member 11 is located inside the outer peripheral edge BE1 of the substrate 12 when viewed from above. In this case, for example, even if the outer peripheral edge BE1 of the substrate 12 rubs against another member, the outer peripheral edge ME1 of the metal layer 14 does not easily rub against the other member. Therefore, peeling of the metal layer 14 can be suppressed.

(3)光学部材11の金属層14において、第2接合部14bの幅寸法W2が、第1接合部14aの幅寸法W1よりも大きい場合、基板12と金属層14との密着面積をより広く確保することができる。従って、基板12に対する金属層14の密着性を利用して金属層14の剥離を抑えることができる。 (3) In the metal layer 14 of the optical member 11, when the width dimension W2 of the second joint portion 14b is larger than the width dimension W1 of the first joint portion 14a, the adhesion area between the substrate 12 and the metal layer 14 is increased. can be secured. Therefore, the adhesion of the metal layer 14 to the substrate 12 can be used to prevent the metal layer 14 from peeling off.

(4)基板12の製造方法は、第1形状を有する複数の第1板片16を積層することで、第1柱状体17を形成する第1工程と、第1柱状体17の外周面を研削することで、第2形状を有する複数の第2板片18から構成される第2柱状体19を形成する第2工程とを備えている。基板12の製造方法は、第2柱状体19を構成する複数の第2板片18を分離することで、第2板片18からなる基板12を得る第3工程をさらに備えている。 (4) The method for manufacturing the substrate 12 includes a first step of forming the first columnar bodies 17 by laminating a plurality of first plate pieces 16 having a first shape, and and a second step of forming a second columnar body 19 composed of a plurality of second plate pieces 18 having a second shape by grinding. The method for manufacturing the substrate 12 further includes a third step of obtaining the substrate 12 composed of the second plate pieces 18 by separating the plurality of second plate pieces 18 forming the second columnar bodies 19 .

この方法によれば、例えば、異なる寸法や異なる外形の第1板片16を予め準備しておくことで、異なる寸法や異なる外形の第2板片18(基板12)を製造することができる。 According to this method, for example, by preparing first plate pieces 16 having different dimensions and different external shapes in advance, it is possible to manufacture second plate pieces 18 (substrates 12) having different dimensions and different external shapes.

(5)基板12の製造方法において、複数の第1板片16は、ガラス板片又はサファイア板片であり、第1工程の第1柱状体17を構成する複数のガラス板片又はサファイア板片は、オプティカルコンタクトにより接合されることが好ましい。この場合、第1柱状体17の形状を容易に維持することができる。なお、積層状態とした複数の第1板片16の最上層の上面および最下層の下面を各々積層方向に押圧して挟持することで第1柱状体17の形状を維持してもよい。また、オプティカルコンタクトで接合した状態で上記押圧挟持を行ってもよい。 (5) In the method for manufacturing the substrate 12, the plurality of first plate pieces 16 are glass plate pieces or sapphire plate pieces, and the plurality of glass plate pieces or sapphire plate pieces forming the first columnar bodies 17 in the first step. are preferably joined by optical contact. In this case, the shape of the first columnar body 17 can be easily maintained. The shape of the first columnar body 17 may be maintained by pressing the top surface of the top layer and the bottom surface of the bottom layer of the plurality of first plate pieces 16 in the stacking state and sandwiching them in the stacking direction. Moreover, the pressing and clamping may be performed in a state where they are joined by optical contact.

(6)基板12の製造方法において、複数の第1板片16は、オーバーフローダウンドロー法を用いて成形されたガラス板片であることが好ましい。この場合、第1板片16であるガラス板片の両主面における平滑性が高いため、上記のオプティカルコンタクトの接合強度を容易に高めることができる。 (6) In the method for manufacturing the substrate 12, the plurality of first plate pieces 16 are preferably glass plate pieces formed using the overflow down-draw method. In this case, since both main surfaces of the glass plate piece, which is the first plate piece 16, have high smoothness, the bonding strength of the optical contact can be easily increased.

(7)基板12の製造方法において、複数の第1板片16の第1形状は、平面視で角部を有する形状であり、第2工程では、第1柱状体17を構成する複数の第1板片16の少なくとも角部を研削している。このように角部を有する形状の第1板片16から、その角部を研削した形状の基板12を容易に得ることができる。 (7) In the method for manufacturing the substrate 12, the first shape of the plurality of first plate pieces 16 is a shape having corners in a plan view. At least the corners of one plate piece 16 are ground. From the first plate piece 16 having such corners, it is possible to easily obtain the substrate 12 having the corners ground.

(8)基板12の製造方法において、第1形状は、平面視で四角形状であり、第2形状は、平面視で円形状である。この場合、例えば、板材15を格子状の切断線に沿って切断することで、複数の第1板片16を効率的に得ることができる。こうして得られた複数の第1板片16から平面視で円形状の基板12を得ることができる。 (8) In the method for manufacturing the substrate 12, the first shape is rectangular in plan view, and the second shape is circular in plan view. In this case, for example, the plurality of first plate pieces 16 can be efficiently obtained by cutting the plate material 15 along grid-like cutting lines. A circular substrate 12 in a plan view can be obtained from the plurality of first plate pieces 16 thus obtained.

(変更例)
本実施形態は、以下のように変更して実施することができる。本実施形態及び以下の変更例は、技術的に矛盾しない範囲で互いに組み合わせて実施することができる。
(Change example)
This embodiment can be implemented with the following modifications. This embodiment and the following modified examples can be implemented in combination with each other within a technically consistent range.

・図7に示すように、光学部材11は、基板12の第1主面12aに設けられる反射防止層13を第1の反射防止層13とした場合、基板12の第2主面12bに設けられる第2の反射防止層20をさらに備えてもよい。この光学部材11では、第2の反射防止層20は、基板12の厚さ方向において第1の反射防止層13と向かい合う位置に配置され、基板12、第1の反射防止層13、及び第2の反射防止層20から光透過部11aが構成されている。この場合、光学部材11の光透過性をさらに高めることが可能となる。従って、筐体C内に収容される光学デバイスの性能をより発揮させることができる。 - As shown in FIG. A second antireflection layer 20 may be further provided. In this optical member 11, the second antireflection layer 20 is arranged at a position facing the first antireflection layer 13 in the thickness direction of the substrate 12, and the substrate 12, the first antireflection layer 13, and the second antireflection layer 13 The light transmitting portion 11a is composed of the anti-reflection layer 20 of . In this case, it is possible to further improve the light transmittance of the optical member 11 . Therefore, the performance of the optical device accommodated in the housing C can be exhibited more effectively.

・光学部材11において、金属層14における第2接合部14bの幅寸法W2は、第1接合部14aの幅寸法W1と同一であってもよいし、第1接合部14aの幅寸法W1よりも小さくてもよい。第2接合部14bの幅寸法W2を第1接合部14aの幅寸法W1よりも小さくした場合、基板12の外周縁部分を利用して成膜治具に容易に着脱することが可能となる。これにより、例えば、光学部材11の生産性を高めることが可能となる。 In the optical member 11, the width dimension W2 of the second joint portion 14b in the metal layer 14 may be the same as the width dimension W1 of the first joint portion 14a, or may be larger than the width dimension W1 of the first joint portion 14a. It can be small. When the width dimension W2 of the second joint portion 14b is smaller than the width dimension W1 of the first joint portion 14a, the substrate 12 can be easily attached to and detached from the film forming jig using the outer peripheral portion thereof. Thereby, for example, the productivity of the optical member 11 can be improved.

・光学部材11において、金属層14の外周縁ME1は、基板12の平面視で基板12の外周縁BE1よりも内側に位置しているが、金属層14の外周縁ME1の位置は、基板12の外周縁BE1と重なる位置に変更することもできる。 In the optical member 11, the outer peripheral edge ME1 of the metal layer 14 is located inside the outer peripheral edge BE1 of the substrate 12 when viewed from above. can also be changed to a position overlapping with the outer peripheral edge BE1 of .

・上記基板12の製造方法において、第1形状を有する第1板片16は、板材15を打ち抜くことで形成してもよい。また、上記基板12を柱状であり、かつ断面が第1形状の基材に変更し、その基材を径方向に沿って切断することで、第1形状を有する第1板片16を形成してもよい。 - In the method of manufacturing the substrate 12 described above, the first plate piece 16 having the first shape may be formed by punching the plate material 15 . Further, the substrate 12 is changed to a base material having a columnar shape and a cross section of the first shape, and the base material is cut along the radial direction to form the first plate piece 16 having the first shape. may

・基板12は、上記基板12の製造方法ではなく、別の製造方法によって得ることができる。例えば、板材15に予め反射防止層13を設けてもよい。すなわち、反射防止層13付き板材15を切断することで、反射防止層13付き第1板片16を形成した後、この反射防止層13付き第1板片16の外周面を研削することで、反射防止層13付き基板12を得ることができる。このようにして得られた反射防止層13付き基板12に金属層14を設けることで、上記光学部材11を得ることができる。なお、反射防止層13に加えて金属層14を設けた板材15を用いて上記光学部材11を得ることもできる。但し、反射防止層13等予め板材15に設けた場合、反射防止層13付き板材15を切断する際に板材15から反射防止層13が剥離するおそれがあることから、上記実施形態における基板12の製造方法が好ましい。 - The substrate 12 can be obtained by a different manufacturing method than the method for manufacturing the substrate 12 described above. For example, the plate member 15 may be provided with the antireflection layer 13 in advance. That is, after forming the first plate piece 16 with the antireflection layer 13 by cutting the plate material 15 with the antireflection layer 13, by grinding the outer peripheral surface of the first plate piece 16 with the antireflection layer 13, A substrate 12 with an antireflection layer 13 can be obtained. By providing the metal layer 14 on the substrate 12 with the antireflection layer 13 thus obtained, the optical member 11 can be obtained. The optical member 11 can also be obtained by using the plate material 15 provided with the metal layer 14 in addition to the antireflection layer 13 . However, if the antireflection layer 13 or the like is provided on the plate 15 in advance, the antireflection layer 13 may peel off from the plate 15 when the plate 15 with the antireflection layer 13 is cut. Manufacturing methods are preferred.

・基板12の製造方法において、第1板片16であるガラス板片は、オーバーフローダウンドロー法以外の方法を用いて成形された板ガラスであってもよい。オーバーフローダウンドロー法以外の方法としては、例えば、ロールアウト法、リドロー法、スロットダウンドロー法、フロート法等が挙げられる。なお、各種方法で得られたガラス板片をオプティカルコンタクトにより接合して第1柱状体17を形成する場合、ガラス板片の両主面をオプティカルコンタクト可能な平滑面となるまで研磨すればよい。また、ガラス板片の両主面の平滑性を高めるにつれて、オプティカルコンタクトを用いたガラス板片同士の接合強度を高めることができる。 - In the manufacturing method of the board|substrate 12, the plate glass shape|molded using methods other than the overflow down-draw method may be sufficient as the glass plate piece which is the 1st plate piece 16. FIG. Methods other than the overflow downdraw method include, for example, the rollout method, the redraw method, the slot downdraw method, the float method, and the like. When glass plate pieces obtained by various methods are joined by optical contact to form the first columnar body 17, both main surfaces of the glass plate pieces may be polished until they become smooth surfaces enabling optical contact. Further, as the smoothness of both main surfaces of the glass plate pieces is increased, the bonding strength between the glass plate pieces using optical contact can be increased.

・基板12の製造方法において、第1板片16の形状は、三角形状、六角形状等の多角形状であってもよいし、円形状であってもよい。第2板片18の形状についても、各種形状の基板(光学部材)に応じて変更することができる。 - In the manufacturing method of the board|substrate 12, the shape of the 1st plate piece 16 may be polygonal shapes, such as triangular shape and hexagonal shape, and circular shape may be sufficient as it. The shape of the second plate piece 18 can also be changed according to various shapes of substrates (optical members).

11…光学部材、11a…光透過部、12…基板、12a…第1主面、12b…第2主面、13…第1の反射防止層、14…金属層、14a…第1接合部、14b…第2接合部、16…第1板片、17…第1柱状体、18…第2板片、19…第2柱状体、20…第2の反射防止層、ME1,BE1…外周縁、W1,W2…幅寸法。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11... Optical member 11a... Light transmission part 12... Substrate 12a... First main surface 12b... Second main surface 13... First antireflection layer 14... Metal layer 14a... First joining part, 14b... Second joint portion 16... First plate piece 17... First columnar body 18... Second plate piece 19... Second columnar body 20... Second antireflection layer ME1, BE1... Periphery edge , W1, W2 . . . width dimensions.

Claims (6)

光透過部を有する封止用の光学部材であって、
第1主面と前記第1主面の反対側の第2主面とを有する基板と、
前記第1主面の外周縁を除く部分に設けられる反射防止層と、
前記基板の平面視で前記反射防止層の外周縁に沿った枠形状を有する金属層と、を備え、
前記金属層は、電子部品パッケージの筐体に取り付ける取付部として構成され、
前記金属層は、前記反射防止層の主面に接合される第1接合部と、前記基板の前記第1主面に接合される第2接合部とを有し、かつ前記第1接合部と前記第2接合部とが連続していることを特徴とする封止用の光学部材。
An optical member for sealing having a light transmitting portion,
a substrate having a first major surface and a second major surface opposite the first major surface;
an antireflection layer provided on a portion of the first main surface excluding the outer periphery;
a metal layer having a frame shape along the outer peripheral edge of the antireflection layer in plan view of the substrate,
The metal layer is configured as an attachment portion attached to the housing of the electronic component package,
The metal layer has a first bonding portion bonded to the main surface of the antireflection layer and a second bonding portion bonded to the first main surface of the substrate, and the first bonding portion and An optical member for sealing , wherein the second joint portion is continuous with the second joint portion.
前記金属層の外周縁は、前記基板の平面視で前記基板の外周縁よりも内側に位置することを特徴とする請求項1に記載の封止用の光学部材。 2. The optical member for sealing according to claim 1, wherein the outer peripheral edge of the metal layer is located inside the outer peripheral edge of the substrate when the substrate is viewed from above. 前記第1主面に沿った方向における前記第2接合部の幅寸法は、前記第1接合部の幅寸法よりも大きいことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の封止用の光学部材。 3. The sealing material according to claim 1, wherein the width dimension of the second joint portion in the direction along the first main surface is larger than the width dimension of the first joint portion. optical components. 前記基板は、ガラス基板又はサファイア基板であり、平面視で円形状を有し、
前記第1主面に設けられる前記反射防止層を第1の反射防止層とした場合、前記第2主面に設けられる第2の反射防止層をさらに備えることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の封止用の光学部材。
The substrate is a glass substrate or a sapphire substrate and has a circular shape in plan view,
If the antireflection layer provided on the first main surface is the first antireflection layer, the antireflection layer further includes a second antireflection layer provided on the second main surface. 4. The optical member for sealing according to any one of items 3.
前記金属層は、前記基板側から順に、下地層、中間層、及び表層の三層から構成されることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の封止用の光学部材。5. The sealing material according to any one of claims 1 to 4, wherein the metal layer is composed of three layers, an underlying layer, an intermediate layer, and a surface layer, in order from the substrate side. optical components. 光透過部を有する封止用の光学部材の製造方法であって、
第1形状を有する複数の第1板片を積層することで、第1柱状体を形成する第1工程と、
前記第1柱状体の外周面を研削することで、第2形状を有する複数の第2板片から構成される第2柱状体を形成する第2工程と、
前記第2柱状体を構成する前記複数の第2板片を分離することで、第2板片からなるとともに第1主面と前記第1主面とは反対側の第2主面を有する基板を得る第3工程と、
前記基板の前記第1主面の外周縁を除く部分に反射防止層を設ける第4工程と、
前記反射防止層を設けた基板に電子部品パッケージの筐体に取り付ける取付部として構成される金属層を設ける第5工程と、を備え、
前記第5工程において、前記基板の平面視で前記反射防止層の外周縁に沿った枠形状となるように前記金属層を形成し、
前記金属層を、前記反射防止層の主面に接合される第1接合部と、前記基板の前記第1主面に接合される第2接合部と、を有し、かつ前記第1接合部と前記第2接合部とが連続している構造とすることを特徴とする封止用の光学部材の製造方法。
A method for manufacturing an optical member for sealing having a light transmitting portion,
a first step of forming a first columnar body by stacking a plurality of first plate pieces having a first shape;
a second step of grinding the outer peripheral surface of the first columnar body to form a second columnar body composed of a plurality of second plate pieces having a second shape;
By separating the plurality of second plate pieces forming the second columnar body, a substrate comprising the second plate pieces and having a first principal surface and a second principal surface opposite to the first principal surface a third step of obtaining
a fourth step of providing an antireflection layer on a portion of the first main surface of the substrate excluding an outer peripheral edge;
A fifth step of providing a metal layer configured as a mounting portion to be attached to the housing of the electronic component package on the substrate provided with the antireflection layer,
In the fifth step, the metal layer is formed so as to have a frame shape along the outer peripheral edge of the antireflection layer in plan view of the substrate,
a first joint where the metal layer is joined to the main surface of the antireflection layer; and a second joint where the metal layer is joined to the first main surface of the substrate, and the first joint and the second joint portion are continuous with each other.
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Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005347416A (en) 2004-06-01 2005-12-15 Sharp Corp Solid-state imaging apparatus, semiconductor wafer, and camera module
JP2008311429A (en) 2007-06-14 2008-12-25 Mitsubishi Electric Corp Package, and manufacturing method thereof
JP2013219237A (en) 2012-04-10 2013-10-24 Mitsubishi Electric Corp Vacuum package and manufacturing method of the same
JP2014172770A (en) 2013-03-07 2014-09-22 Asahi Glass Co Ltd Optical glass
JP2014231438A (en) 2013-05-28 2014-12-11 日本電気硝子株式会社 Strengthened glass and production method thereof
JP2015134695A (en) 2014-01-17 2015-07-27 日本電気硝子株式会社 Plate glass cutting method
JP2017081782A (en) 2015-10-28 2017-05-18 日本電気硝子株式会社 Manufacturing method and manufacturing apparatus of sheet glass
JP2017208468A (en) 2016-05-19 2017-11-24 キヤノン株式会社 Electronic component

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3292957B2 (en) * 1991-08-15 2002-06-17 チューナー株式会社 Radio receiver
JPH0548361U (en) * 1991-11-29 1993-06-25 ホーヤ株式会社 Photoelectric conversion device
JPH06106469A (en) * 1992-09-29 1994-04-19 Nippon Electric Glass Co Ltd Corner part chamfering work for glass plate and chamfering work jig
JPH1152875A (en) * 1997-07-31 1999-02-26 Sumitomo Chem Co Ltd Front surface plate

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005347416A (en) 2004-06-01 2005-12-15 Sharp Corp Solid-state imaging apparatus, semiconductor wafer, and camera module
JP2008311429A (en) 2007-06-14 2008-12-25 Mitsubishi Electric Corp Package, and manufacturing method thereof
JP2013219237A (en) 2012-04-10 2013-10-24 Mitsubishi Electric Corp Vacuum package and manufacturing method of the same
JP2014172770A (en) 2013-03-07 2014-09-22 Asahi Glass Co Ltd Optical glass
JP2014231438A (en) 2013-05-28 2014-12-11 日本電気硝子株式会社 Strengthened glass and production method thereof
JP2015134695A (en) 2014-01-17 2015-07-27 日本電気硝子株式会社 Plate glass cutting method
JP2017081782A (en) 2015-10-28 2017-05-18 日本電気硝子株式会社 Manufacturing method and manufacturing apparatus of sheet glass
JP2017208468A (en) 2016-05-19 2017-11-24 キヤノン株式会社 Electronic component

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