JP7115540B2 - Optical film and its manufacturing method - Google Patents
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- 239000012788 optical film Substances 0.000 title claims description 164
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 44
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 52
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 48
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 claims description 29
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims description 25
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 23
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 23
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 23
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 21
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 18
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 12
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000010408 film Substances 0.000 description 63
- 238000000034 method Methods 0.000 description 40
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 34
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 29
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 27
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 23
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 12
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 11
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 11
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 9
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 7
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 description 2
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical compound C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000004439 roughness measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
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- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
- B29C59/04—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing using rollers or endless belts
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Description
本発明は、光学フィルムおよびその製造方法に関する。 The present invention relates to an optical film and its manufacturing method.
近年、スマートフォンなどの軽量化、薄膜化が要求される用途の部品において、ガラスから光学フィルムへの代替が進んでいる。この代替が実現すると、軽量化や薄膜化だけでなく、コストダウンといったメリットもある。しかし、光学フィルムがガラスの代替となるためには、光学フィルムのヘイズ値をガラスに近づける必要がある。 In recent years, there has been a growing shift from glass to optical films in the parts of smartphones and other applications that require lighter weight and thinner films. If this substitution is realized, there are merits such as not only weight reduction and thinning but also cost reduction. However, in order for an optical film to replace glass, it is necessary to make the haze value of the optical film close to that of glass.
ここで、低ヘイズの光学フィルムについては、例えば特許文献1に開示されている。特許文献1では、微粒子を表面調整剤とともに光学フィルムに含有させることにより、微粒子を光学フィルムの片面に偏在させて滑り性を付与し、これによって、微粒子の含有量を低減して、ヘイズの低い光学フィルムを実現するようにしている。
Here, a low-haze optical film is disclosed in
また、特許文献2では、微粒子を含有するポリカーボネート樹脂をダイスからフィルム状に溶融押出し、マットロールとゴムロールとからなる一対のロールで挟持加圧してマットロールのマット模様をフィルムに転写することで、低光沢のマットフィルムを得るようにしている。さらに、特許文献3では、溶液流延製膜法による光学フィルムの製造において、ウェブ中の残留溶媒量が所定範囲であるときに、ウェブの一方の面上に、微粒子を含有する微粒子分散液の液滴をインクジェットヘッド方式で吐出し、着弾、付着させて微細凸構造を形成することにより、光学フィルム中のマット剤を減量しながら滑り性を向上させるようにしている。
Further, in
ところで、従来の光学フィルムは、ヘイズが低いものでも、ガラスには及ばない。これは、製造時のハンドリング性を向上させるための有機または無機の微粒子が光学フィルムに少なからず添加されており、フィルム表面が平坦でないことによる。したがって、光学フィルムにおいて、ガラスに近い低ヘイズを実現するためには、微粒子を含有しない光学フィルムを実現することが望まれる。この点、上述した特許文献1~3の光学フィルムは、いずれも微粒子が含有されており、ガラスに近い低ヘイズを実現することが困難である。
By the way, conventional optical films, even those with low haze, are not as good as glass. This is because not a little organic or inorganic fine particles are added to the optical film in order to improve handling properties during production, and the film surface is not flat. Therefore, in order to realize a low haze close to that of glass in an optical film, it is desired to realize an optical film containing no fine particles. In this regard, the optical films of
一方、光学フィルムが微粒子を含有しない場合、光学フィルムに滑り性が付与されないため、ハンドリング性が低下し、歩留まりが低下することが懸念される。つまり、光学フィルムの滑り性が悪いと、製造時にフィルムがロール(例えば鏡面ロール)に貼り付きながら搬送されるため、小さい搬送キズがフィルム表面につく場合がある。また、滑り性の悪い光学フィルムがロールに強く貼り付くことで、複数のロール間で強いシワが発生してしまい、最悪の場合、光学フィルムが破断することがある。 On the other hand, when the optical film does not contain fine particles, the optical film is not provided with slipperiness, so there is a concern that the handleability is lowered and the yield is lowered. In other words, if the slipperiness of the optical film is poor, the film may be transported while sticking to a roll (for example, a mirror-finished roll) during production, resulting in small scratches on the surface of the film during transport. In addition, since the optical film with poor slipperiness sticks strongly to the rolls, strong wrinkles are generated between the rolls, and in the worst case, the optical film may break.
したがって、ガラスに近い低ヘイズを実現すべく、微粒子を含有しない構成であっても、製造時に搬送キズがつきにくく、シワの発生も低減することができる搬送性の良好な光学フィルムが求められるが、このような光学フィルムを従来同様の大量生産可能な製造方法で作製することは未だ実現されてはいない。 Therefore, in order to achieve a low haze close to that of glass, there is a demand for an optical film with good transportability that is less likely to be scratched during transportation and less wrinkled during production, even if it does not contain fine particles. However, it has not yet been realized to manufacture such an optical film by a mass-producible manufacturing method similar to the conventional one.
本発明は、上記の問題点を解決するためになされたものであり、その目的は、ガラスに近い低ヘイズを実現すべく、微粒子を含有しない構成であっても、製造時に搬送キズがつきにくく、シワの発生も低減することができ、これによって、大量生産可能な製法で作製できるとともに、低ヘイズと製造時の良好な搬送性とを両立させることができる光学フィルムと、その製造方法とを提供することにある。 The present invention has been made to solve the above problems, and its purpose is to realize a low haze close to that of glass, so that even if it has a structure that does not contain fine particles, it is less likely to be scratched during transportation during production. An optical film that can reduce the occurrence of wrinkles, thereby being able to be manufactured by a manufacturing method that allows mass production, and that can achieve both low haze and good transportability during manufacturing, and a method for manufacturing the same. to provide.
本発明の上記目的は、以下の製造方法または構成によって達成される。 The above object of the present invention is achieved by the following manufacturing method or configuration.
本発明の一側面に係る光学フィルムの製造方法は、微粒子非含有のドープを金属支持体上に流延してウェブを形成する流延工程と、前記ウェブを金属支持体から剥離する剥離工程と、剥離された前記ウェブの表面に、加工ロールによって凹凸形状を形成する凹凸形成工程と、前記凹凸形状を有する前記ウェブを光学フィルムとして巻き取る巻取工程とを有し、巻き取られた前記光学フィルムは、表面の250000μm2の範囲内に1個以上の凹凸を有しており、前記範囲内で前記凹凸の周囲の表面粗さSaは、1.5nm以下である。A method for producing an optical film according to one aspect of the present invention includes a casting step of casting a dope containing no fine particles on a metal support to form a web, and a peeling step of peeling the web from the metal support. a step of forming unevenness on the surface of the peeled web with a processing roll; and a winding step of winding the web having the unevenness as an optical film. The film has one or more irregularities within an area of 250000 μm 2 on the surface, and within said area, the surface roughness Sa around said irregularities is 1.5 nm or less.
本発明の他の側面に係る光学フィルムは、微粒子非含有の光学フィルムである。前記光学フィルムは、表面の250000μm2の範囲内に1個以上の凹凸を有しており、前記範囲内で前記凹凸の周囲の表面粗さSaは、1.5nm以下である。An optical film according to another aspect of the present invention is a fine particle-free optical film. The optical film has one or more irregularities within a range of 250000 μm 2 on the surface, and the surface roughness Sa around the irregularities within the range is 1.5 nm or less.
光学フィルムが微粒子を含有しない構成であっても、製造時に搬送キズがつきにくく、シワの発生も低減することができ、これによって、大量生産可能な製法(例えば溶液流延製膜法)で光学フィルムを作製できるとともに、ガラスに近い低ヘイズと、製造時の良好な搬送性とを両立させることができる。 Even if the optical film does not contain fine particles, it is less likely to be scratched during transportation and less wrinkled. A film can be produced, and at the same time, it is possible to achieve both a low haze close to that of glass and good transportability during production.
本発明の実施の一形態について、図面に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、本明細書において、数値範囲をA~Bと表記した場合、その数値範囲に下限Aおよび上限Bの値は含まれるものとする。なお、本発明は、以下の内容に限定されるわけではない。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. In this specification, when a numerical range is expressed as A to B, the lower limit A and upper limit B are included in the numerical range. In addition, the present invention is not limited to the following contents.
〔光学フィルムの製造方法〕
まず、本実施形態の光学フィルムの製造方法の概要について説明する。図1は、本実施形態の光学フィルムの製造装置1の概略の構成を示す説明図である。また、図2は、光学フィルムの製造工程の流れを示すフローチャートである。本実施形態の光学フィルムの製造方法は、溶液流延製膜法によって光学フィルムを製造する方法であり、図2に示すように、攪拌調製工程(S1)、流延工程(S2)、剥離工程(S3)、凹凸形成工程(S4)、第1乾燥工程(S5)、延伸工程(S6)、第2乾燥工程(S7)、切断工程(S8)、エンボス加工工程(S9)、巻取工程(S10)を含む。以下、各工程について説明する。[Method for producing optical film]
First, the outline of the method for manufacturing the optical film of the present embodiment will be described. FIG. 1 is an explanatory view showing a schematic configuration of an optical
<攪拌調製工程>
攪拌調製工程では、攪拌装置50の攪拌槽51にて、少なくとも樹脂および溶媒を攪拌し、支持体3上に流延するドープを調製する。支持体3は、例えばステンレス鋼(SUS)からなる金属支持体である。支持体3は、例えばエンドレスベルトで構成されるが、ドラムで構成されてもよい。本実施形態では、上記ドープに、搬送性を向上させるための微粒子(マット剤)は含有されていない。<Stirring preparation step>
In the stirring preparation step, at least the resin and the solvent are stirred in the stirring
上記樹脂としては、セルロースエステル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂(COP)、ポリイミド樹脂、ポリアリレート樹脂のいずれかを用いることができる。上記溶媒としては、良溶媒および貧溶媒の混合溶媒を用いることができる。なお、良溶媒とは、樹脂を溶解させる性質(溶解性)を有する有機溶媒を言い、1,3-ジオキソラン、THF(テトラヒドロフラン)、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸メチル、塩化メチレン(ジクロロメタン、メチレンクロライド)、トルエンなどがこれに相当する。一方、貧溶媒とは、単独では樹脂を溶解させる性質を有していない溶媒を言い、メタノールやエタノールなどがこれに相当する。 As the resin, any one of cellulose ester resin, cycloolefin resin (COP), polyimide resin, and polyarylate resin can be used. As the solvent, a mixed solvent of a good solvent and a poor solvent can be used. The good solvent refers to an organic solvent having a property (solubility) to dissolve the resin, and includes 1,3-dioxolane, THF (tetrahydrofuran), methyl ethyl ketone, acetone, methyl acetate, methylene chloride (dichloromethane, methylene chloride), Toluene and the like correspond to this. On the other hand, the poor solvent refers to a solvent that does not have the property of dissolving the resin by itself, and examples thereof include methanol and ethanol.
<流延工程>
流延工程では、攪拌調製工程で調製されたドープを、加圧型定量ギヤポンプ等を通して、導管によって流延ダイ2に送液し、支持体3上の流延位置に流延ダイ2からドープを流延する。そして、流延したドープを支持体3上で乾燥させて、流延膜としてのウェブ5を形成する。流延ダイ2の傾き、すなわち、流延ダイ2から支持体3へのドープの吐出方向は、支持体3の面(ドープが流延される面)の法線に対する角度で0°~90°の範囲内となるように適宜設定されればよい。<Casting process>
In the casting step, the dope prepared in the stirring preparation step is sent through a pressure-type metering gear pump or the like to the
支持体3は、一対のロール3a・3bおよびこれらの間に位置する複数のロール(不図示)によって保持されている。ロール3a・3bの一方または両方には、支持体3に張力を付与する駆動装置(不図示)が設けられており、これによって支持体3は張力が掛けられて張った状態で使用される。
The
流延工程では、支持体3上に流延されたドープにより形成されたウェブ5を、支持体3上で加熱し、支持体3から剥離ロール4によってウェブ5が剥離可能になるまで溶媒を蒸発させる。溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法や、支持体3の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があり、適宜、単独であるいは組み合わせて用いればよい。
In the casting step, the
<剥離工程>
上記の流延工程にて、支持体3上でウェブ5が剥離可能な膜強度となるまで乾燥固化あるいは冷却凝固させた後、剥離工程では、ウェブ5を、自己支持性を持たせたまま、支持体3から剥離ロール4によって剥離する。<Peeling process>
In the above-described casting step, after drying and solidifying or cooling and solidifying the
なお、剥離時点での支持体3上でのウェブ5の残留溶媒量は、乾燥の条件の強弱、支持体3の長さ等により、25~80質量%の範囲であることが望ましい。残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、ウェブ5が柔らか過ぎると剥離時平面性を損ね、剥離張力によるシワや縦スジが発生しやすいため、経済速度と品質との兼ね合いで剥離時の残留溶媒量が決められる。なお、残留溶媒量は、下記式で定義される。
The amount of solvent remaining in the
残留溶媒量(質量%)=(ウェブの加熱処理前質量-ウェブの加熱処理後質量)/(ウェブの加熱処理後質量)×100
ここで、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、115℃で1時間の加熱処理を行うことを表す。Residual solvent amount (mass%) = (mass of web before heat treatment - mass of web after heat treatment) / (mass of web after heat treatment) x 100
Here, the heat treatment for measuring the residual solvent amount means heat treatment at 115° C. for 1 hour.
<凹凸形成工程>
凹凸形成工程では、剥離されたウェブ5の表面に、加工ロール20によって凹凸形状を形成する。加工ロール20には、最大高さRyが2μm以上となる表面加工が施されている。回転する加工ロール20にウェブ5が接触すると、加工ロール20の表面の凸部がウェブ5の表面に食い込む。これにより、ウェブ5の表面において、加工ロール20の凸部と接触した部分が凹むと同時に、その周囲が盛り上がり、ウェブ5の表面に凹凸形状が形成される。なお、加工ロール20の最大高さRyは、少なくとも1μmあればよい。<Unevenness formation process>
In the unevenness forming step, unevenness is formed on the surface of the peeled
図3は、最大高さRyの計算方法を模式的に示す説明図である。最大高さRyは、JIS B 0601-1994で定義される値である。すなわち、最大高さRyは、粗さ曲線から、その平均線mの方向に基準長さLだけを抜き取り、この抜き取り部分の山頂線と谷底線との間隔(Ry)を、粗さ曲線の縦倍率の方向に測定し、この値をマイクロメートル(μm)で表したものである。JISは、日本工業規格を示す“Japanese Industrial Standards”の略である。 FIG. 3 is an explanatory diagram schematically showing a method of calculating the maximum height Ry. The maximum height Ry is a value defined in JIS B 0601-1994. That is, the maximum height Ry is obtained by extracting only the reference length L from the roughness curve in the direction of the average line m, and measuring the interval (Ry) between the peak line and the valley bottom line of this extracted portion as the vertical height of the roughness curve. Measured in the direction of magnification, this value is expressed in micrometers (μm). JIS is an abbreviation of "Japanese Industrial Standards" indicating Japanese Industrial Standards.
<第1乾燥工程>
加工ロール20によって表面に凹凸が形成されたウェブ5は、乾燥装置6にて乾燥される。乾燥装置6内では、複数の搬送ロールによってウェブ5が搬送され、その間にウェブ5が乾燥される。乾燥装置6での乾燥方法は、特に制限はなく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等を用いてウェブ5を乾燥させる。簡便さの点から、熱風でウェブ5を乾燥させる方法が好ましい。なお、第1乾燥工程は、必要に応じて行われればよい。<First drying step>
The
<延伸工程>
延伸工程では、乾燥装置6にて乾燥されたウェブ5を、テンター7によって延伸する。このときの延伸方向としては、フィルム搬送方向(MD方向;Machine Direction)、フィルム面内で上記搬送方向に垂直な幅手方向(TD方向;Transverse Direction)、これらの両方向、のいずれかである。延伸工程では、ウェブ5の両側縁部をクリップ等で固定して延伸するテンター方式が、フィルムの平面性や寸法安定性を向上させるために好ましい。なお、テンター7内では、延伸に加えて乾燥を行ってもよい。<Stretching process>
In the stretching step, the
なお、S6の延伸工程は、必要に応じて行われればよく、省略することが可能である。例えば、光学フィルムを巻き取った後に延伸を行う場合は、巻取前の上記延伸工程を省略することができる。 Note that the stretching step of S6 may be performed as necessary and can be omitted. For example, when the optical film is stretched after being wound, the stretching step before winding can be omitted.
<第2乾燥工程>
必要に応じてテンター7にて延伸されたウェブ5は、乾燥装置8にて乾燥される。乾燥装置8内では、複数の搬送ロールによってウェブ5が搬送され、その間にウェブ5が乾燥される。乾燥装置8での乾燥方法は、特に制限はなく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等を用いてウェブ5を乾燥させる。簡便さの点から、熱風でウェブ5を乾燥させる方法が好ましい。<Second drying step>
The
ウェブ5は、乾燥装置8にて乾燥された後、光学フィルムFとして巻取装置11に向かって搬送される。
The
<切断工程、エンボス加工工程>
乾燥装置8と巻取装置11との間には、切断部9およびエンボス加工部10がこの順で配置されている。切断部9では、製膜された光学フィルムFを搬送しながら、その幅手方向の両端部を、スリッターによって切断する切断工程が行われる。光学フィルムFにおいて、両端部の切断後に残った部分は、フィルム製品となる製品部を構成する。一方、光学フィルムFから切断された部分は、シュータにて回収され、再び原材料の一部としてフィルムの製膜に再利用される。<Cutting process, embossing process>
A
切断工程の後、光学フィルムFの幅手方向の両端部には、エンボス加工部10により、エンボス加工(ナーリング加工)が施される。エンボス加工は、加熱されたエンボスローラーを光学フィルムFの両端部に押し当てることにより行われる。エンボスローラーの表面には細かな凹凸が形成されており、エンボスローラーを光学フィルムFの両端部に押し当てることで、上記両端部に凹凸が形成される。このようなエンボス加工により、次の巻取工程での巻きズレやブロッキング(フィルム同士の貼り付き)を極力抑えることができる。
After the cutting step, both ends of the optical film F in the width direction are embossed (knurled) by the
<巻取工程>
最後に、エンボス加工が終了した光学フィルムFを、巻取装置11によって巻き取り、光学フィルムFの元巻(フィルムロール)を得る。すなわち、巻取工程では、光学フィルムFを搬送しながら巻芯に巻き取ることにより、フィルムロールが製造される。光学フィルムFの巻き取り方法は、一般に使用されているワインダーを用いればよく、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等の張力をコントロールする方法があり、それらを使い分ければよい。光学フィルムFの巻長は、1000~7200mであることが好ましい。また、その際の幅は1000~3200mm幅であることが望ましく、膜厚は10~60μmであることが望ましい。<Winding process>
Finally, the embossed optical film F is wound up by the winding
図4は、上記の製造方法によって製造された光学フィルムFの断面形状を模式的に示す断面図である。上記したように、凹凸形成工程において、加工ロール20によってウェブ5の表面に凹凸形状を形成することにより、製造された光学フィルムFの表面においては、250000μm2(500μm×500μm)の範囲内に、ウェブ5の凹凸に対応する凹凸FPVが1個以上存在している。すなわち、微粒子非含有の光学フィルムFは、表面の250000μm2の範囲内に1個以上の凹凸FPVを有する。この結果、光学フィルムFの表面には、凹凸FPVが形成された凹凸領域Faと、凹凸FPVを除く非凹凸領域Fbとが混在する。なお、上記面積の範囲内での凹凸FPVの数の上限および下限は、凹凸領域Faと非凹凸領域Fbとが混在するように、凹凸FPVの大きさ(深さ、長径)に応じて適宜設定されればよい。なお、ここでは、光学フィルムFの表面の凹部と凸部との組(ペア)を、「凹凸」と呼ぶ。したがって、例えば1個の凹凸とは、凹部と凸部とが1個ずつの組を指す。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing the cross-sectional shape of the optical film F manufactured by the manufacturing method described above. As described above, in the unevenness forming step, by forming unevenness on the surface of the
光学フィルムFの表面において、凹凸FPVの周囲(非凹凸領域Fb)の表面粗さSaは、1.5nm以下であり、ほとんど平面(平坦)に近い。本実施形態において、凹凸FPVの周囲の表面粗さSaの好ましい範囲は、0.9nm以下である。On the surface of the optical film F, the surface roughness Sa around the irregularities F PV (non-irregular regions Fb) is 1.5 nm or less, which is almost flat. In this embodiment, the preferable range of the surface roughness Sa around the unevenness F PV is 0.9 nm or less.
図5は、表面粗さSaの計算方法を模式的に示す説明図である。表面粗さSaは、ISO 25178表面性状(面粗さ測定)のパラメータである。ISOは、国際標準化機構を示す“International Organization for Standardization”の略である。表面粗さSaは、表面粗さRa(線の算術平均高さ)を面に拡張したパラメータであり、表面の平均面SAVEに対する凹凸(各点の高さ)の絶対値の平均を表す。FIG. 5 is an explanatory diagram schematically showing a method of calculating the surface roughness Sa. The surface roughness Sa is a parameter of ISO 25178 surface texture (surface roughness measurement). ISO is an abbreviation for "International Organization for Standardization". The surface roughness Sa is a parameter obtained by expanding the surface roughness Ra (arithmetic average height of lines) to a plane, and represents the average of the absolute values of the unevenness (height of each point) with respect to the average plane S AVE of the surface.
図6は、参考として、上記の表面粗さRaの計算方法を模式的に示す説明図である。表面粗さRaは、算出平均粗さとも呼ばれ、JIS B0601-1994またはJIS B 0601-2001で定義される値である。表面粗さRaは、粗さ曲線から、その平均線mの方向に基準長さLだけを抜き取り、この抜き取り部分の平均線mの方向にX軸を、縦倍率の方向にY軸を取り、粗さ曲線をy=f(x)で表したときに、同図中の式によって求められる値をマイクロメートル(μm)で表したものである。 FIG. 6 is an explanatory diagram schematically showing the calculation method of the surface roughness Ra as a reference. The surface roughness Ra is also called calculated average roughness, and is a value defined in JIS B0601-1994 or JIS B 0601-2001. The surface roughness Ra is obtained by extracting only the reference length L in the direction of the average line m from the roughness curve, taking the X axis in the direction of the average line m of this extracted part, and the Y axis in the direction of the longitudinal magnification, When the roughness curve is represented by y=f(x), the value obtained by the formula in the figure is expressed in micrometers (μm).
また、光学フィルムFの表面において、凹凸FPVの長径は、5~15μmであり、最大高さ粗さRzは、100~1000nmである。凹凸FPVの長径および最大高さ粗さRzは、例えば、最大高さRyの異なる加工ロール20を複数用意しておき、複数の加工ロール20の中から適切な加工ロール20を選択して使用することによって調整できる。On the surface of the optical film F, the irregularities F PV have a major axis of 5 to 15 μm and a maximum height roughness Rz of 100 to 1000 nm. For the major diameter and maximum height roughness Rz of the unevenness F PV , for example, a plurality of processing rolls 20 having different maximum heights Ry are prepared, and an
図7は、最大高さ粗さRzの計算方法を模式的に示す説明図である。最大高さ粗さRzの定義は、最大高さRyと同じであるが、最大高さRyは、μm単位で表され、金属研磨などの分野で一般的に使われる。フィルム表面状態のパラメータとしては、nm単位で表される最大高さ粗さRzを用いることが多いため、ここでは、最大高さ粗さRzを用いて凹凸FPVを表している。FIG. 7 is an explanatory diagram schematically showing a method of calculating the maximum height roughness Rz. The definition of the maximum height roughness Rz is the same as the maximum height Ry, but the maximum height Ry is expressed in units of μm and is commonly used in fields such as metal polishing. Since the maximum height roughness Rz expressed in units of nm is often used as a parameter of the film surface condition, the maximum height roughness Rz is used to express the unevenness F PV here.
本実施形態では、上述した光学フィルムFの製造において、加工ロール20によってウェブ5の表面に凹凸形状を形成する。これにより、ウェブ5が微粒子を含有していなくても、そのウェブ5に滑り性が付与される。したがって、その後、ウェブ5が乾燥装置6およびテンター7内を各ロールによって搬送される場合でも、ウェブ5が各ロールに貼り付くのを低減することができる。その結果、ウェブ5の表面に小さい搬送キズがつきにくくなる。また、ウェブ5の滑り性が悪いと、ウェブ5の搬送時に複数のロール間で引っ張られることによって、ウェブ5にツレやシワが発生しやすくなるが、ウェブ5に滑り性が付与されて貼り付きが低減されるため、そのようなツレやシワの発生を低減しながら、ウェブ5を良好に搬送することができる。なお、ツレおよびシワの詳細な定義については後述する。
In the present embodiment, in the production of the optical film F described above, the surface of the
また、光学フィルムFの表面において、凹凸FPVの周囲(非凹凸領域Fb)の表面粗さSaは、1.5nm以下である。非凹凸領域Fbはほぼ平坦であり、表面ヘイズが小さくなるため、フィルム全体としてガラスに近い低ヘイズを実現することができる。In addition, on the surface of the optical film F, the surface roughness Sa around the unevenness FPV (non- unevenness area Fb) is 1.5 nm or less. Since the non-roughened region Fb is substantially flat and the surface haze is small, the entire film can achieve a low haze close to that of glass.
つまり、光学フィルムFが微粒子を含有しない構成であっても、製造時に搬送キズがつきにくく、ツレやシワの発生も低減することができ、これによって、大量生産可能な製法(例えば溶液流延製膜法)で光学フィルムFを作製できるとともに、ガラスに近い低ヘイズと、製造時の良好な搬送性とを両立させることができる。 In other words, even if the optical film F does not contain fine particles, it is less likely to be scratched during transportation, and the occurrence of wrinkles and wrinkles can be reduced. The optical film F can be produced by the film method), and at the same time, it is possible to achieve both a low haze close to that of glass and good transportability during production.
また、光学フィルムFを他のフィルムと貼り合わせたり、光学フィルムF上に何らかの機能層(例えばハードコート層)を塗布すべく、一旦巻き取った光学フィルムFを再度繰り出して搬送する場合でも、その光学フィルムFが搬送ロールに貼り付くのを凹凸FPVの存在によって低減することができ、光学フィルムFの良好な搬送性を実現することが可能となる。In addition, even when the optical film F once wound up is reeled out and transported again in order to bond the optical film F to another film or to apply some kind of functional layer (for example, a hard coat layer) on the optical film F. The presence of the unevenness F PV can reduce the sticking of the optical film F to the transport roll, and the optical film F can be transported well.
また、非凹凸領域Fbの表面粗さSaが0.9nm以下である場合、非凹凸領域Fbの表面ヘイズがより小さくなるため、低ヘイズの光学フィルムFを確実に実現することができる。また、光学フィルムFの表面の250000μm2の範囲内に凹凸FPVが2個以上20個以下存在する場合、凹凸領域Faと非凹凸領域Fbとがバランスよく存在するため、ヘイズ低減の効果と、製造時の良好な搬送性を確保する効果とをバランスよく得ることができる。Further, when the surface roughness Sa of the non-irregularity region Fb is 0.9 nm or less, the surface haze of the non-irregularity region Fb becomes smaller, so that the optical film F with a low haze can be reliably realized. Further, when there are 2 or more and 20 or less unevennesses FPV within the range of 250000 μm 2 on the surface of the optical film F, the unevenness areas Fa and the non- unevenness areas Fb are present in a well-balanced manner. It is possible to obtain a well-balanced effect of ensuring good transportability during manufacturing.
また、上述した方法で光学フィルムFに凹凸FPVを形成することにより、光学フィルムFを巻き取るまでは、良好な搬送性を確保するために凹凸FPVを残存させておき、上記光学フィルムFを使用する場合には、光学フィルムFを繰り出して熱処理を行うことにより、凹凸FPVを消失または緩和させることができる。これにより、微粒子非含有の光学フィルムFを、光学特性の良好なフィルムとして使用することが可能となる。なお、上記の緩和とは、凹凸FPVのサイズまたは高さが熱処理によって小さくなることを意味する。Further, by forming the unevenness F PV on the optical film F by the method described above, the unevenness F PV is left to ensure good transportability until the optical film F is wound up. is used, the unevenness F PV can be eliminated or alleviated by unrolling the optical film F and performing heat treatment. This makes it possible to use the fine particle-free optical film F as a film with good optical properties. The above relaxation means that the size or height of the unevenness F PV is reduced by heat treatment.
ここで、熱処理によって凹凸FPVを消失または緩和させる原理については、以下のように推察している。すなわち、支持体3は、金属製であり、支持体3上に流延したドープ中の溶媒は、支持体3には浸透しない。このように溶媒が浸透しない支持体3上に製膜したウェブ5は、支持体3からの剥離後、表面の近傍のみ乾燥して固くなるが、その内部は、溶媒が多く残留しているため柔らかい。その状態で、ウェブ5が加工ロール20上で搬送されると、ウェブ5には加工ロール20によって凹凸が形成されるが、その凹みは内部の柔らかい部分が押しつぶされた状態になっている。上記のようにして形成された凹凸に対して、樹脂のガラス転移温度(Tg)以上の高温で熱処理すると、光学フィルムFにおける上記部分(押しつぶされた部分)が分子運動によって元の形(状態)に復元しようとし、これによって凹凸FPVが消失するか、緩和される。Here, the principle of eliminating or relaxing the unevenness F PV by heat treatment is speculated as follows. That is, the
また、凹凸形成工程では、最大高さRyが2μm以上となる表面加工が施された加工ロール20によって、ウェブ5の表面に凹凸形状を形成するため、最終的な光学フィルムFとして、表面の250000μm2の範囲内に凹凸FPVが1個以上存在し、凹凸FPVの周囲の表面粗さSaが1.5nm以下である光学フィルムFを確実に実現することができる。Further, in the step of forming unevenness, the surface of the
また、最大高さRyが2μm未満である加工ロール20を用いてウェブ5の表面に凹凸を形成した場合、上記凹凸の長径および最大高さ粗さRzが小さくなって、ウェブ5の搬送時の貼り付き低減効果が小さくなり、搬送性を向上させる効果が小さくなることが懸念される。加工ロール20の最大高さRyが2μm以上であることにより、ウェブ5の搬送性向上の効果を確実に得ることができる。なお、ウェブ5の搬送性向上の効果をより確実に得る観点では、加工ロール20の最大高さRyは、4μm以上であることが望ましい。
In addition, when unevenness is formed on the surface of the
上記のように、最大高さRyが2μm以上の加工ロール20を用いてウェブ5の表面に凹凸形状を形成すると、長径が5~15μmで、最大高さ粗さRzが100~1000nmの凹凸FPVが表面に形成された光学フィルムFが得られることが、後述する実施例からわかっている。したがって、光学フィルムFの表面において、凹凸FPVの長径が5~15μmであり、最大高さ粗さRzが100~1000nmであれば、光学フィルムFの製造時(ウェブ5の搬送時)における搬送性向上の効果を確実に得ることができると言える。As described above, when the uneven shape is formed on the surface of the
ところで、凹凸形成工程において、加工ロール20によって凹凸を形成するときのウェブ5の残留溶媒量が5質量%未満であると、ウェブ5が硬くなり、加工ロール20との接触によってウェブ5に凹凸が形成されにくくなる。このため、光学フィルムFにおいて、凹凸FPVの長径および最大高さ粗さRzが小さくなり、搬送性向上の効果が得られにくくなる。逆に、上記残留溶媒量が35質量%を超えると、ウェブ5が柔らかくなり、加工ロール20との接触によってウェブ5に凹凸が形成されやすくなる。このため、光学フィルムFにおいて、凹凸FPVの長径および最大高さ粗さRzが大きくなり、その後の熱処理によって凹凸FPVを消失または緩和させる効果が得られにくくなる。By the way, in the unevenness forming step, if the amount of residual solvent in the
したがって、以上のことから、凹凸形成工程において、加工ロール20によって凹凸を形成するときのウェブ5の残留溶媒量は、5~35質量%であることが望ましい。なお、上記残留溶媒量のさらに望ましい範囲は、6~33質量%である。
Therefore, from the above, it is desirable that the amount of residual solvent in the
また、支持体3上に流延するドープは、樹脂および溶媒を含み、上記樹脂は、シクロオレフィン系樹脂(COP)であってもよい。この場合、COPを用い、溶液流延製膜法によって光学フィルムFを製造する場合において、上述した本実施形態の効果を得ることができる。
Also, the dope cast on the
〔実施例〕
以下、本発明の実施例について、比較例も挙げながら説明する。なお、本発明は、以下の実施例には限定されない。〔Example〕
EXAMPLES Hereinafter, examples of the present invention will be described with reference to comparative examples. In addition, the present invention is not limited to the following examples.
<実施例1>
(ドープの調製)
シクロオレフィン系樹脂(G7810、JSR株式会社製)
120質量部
ジクロロメタン 357質量部
エタノール 19質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙(株)製の安積濾紙No.24を使用して濾過し、ドープを調製した。<Example 1>
(Preparation of dope)
Cycloolefin resin (G7810, manufactured by JSR Corporation)
120 parts by mass Dichloromethane 357 parts by mass Ethanol 19 parts by mass The above ingredients are placed in a sealed container, heated and stirred to dissolve completely, and then mixed with Azumi Filter Paper No. 1 (manufactured by Azumi Filter Paper Co., Ltd.). 24 to prepare a dope.
次に、ベルト流延製膜装置(図1の製造装置1)を用い、ステンレスバンド支持体(支持体3)上に、微粒子非含有のドープを均一に流延した。支持体上で、残留溶媒量が40質量%になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上からウェブを剥離した。その後、残留溶媒量が12質量%の状態で、最大高さRy=4μmの加工ロールを用いてウェブに凹凸形状を付与した。その後、得られたウェブを130℃の乾燥装置内を多数のローラーで搬送させながら15分間乾燥させた後、1.0m幅にスリットし、巻芯に巻き取り、シクロオレフィン系樹脂からなる光学フィルム101を得た。光学フィルム101の厚さは15μm、巻長は5000mであった。
Next, using a belt casting film forming apparatus (
(表面粗さSaの測定)
白色干渉顕微鏡Zygoを用い、巻き取り後の光学フィルム101の両面の表面粗さSaを測定した。より具体的には、光学フィルム101の表面上で無作為に5箇所を選び、選んだ各箇所で凹凸が含まれない視野(約85μm×85μmの範囲)において、白色干渉顕微鏡Zygoによって表面粗さSaをそれぞれ(5箇所)測定し、その平均値を最終的な表面粗さSaとした。その結果、両面の表面粗さSaは0.9nmであった。なお、顕微鏡の接眼レンズの倍率は2倍であり、対物レンズの倍率は50倍であった。(Measurement of surface roughness Sa)
Using a white interference microscope Zygo, the surface roughness Sa of both surfaces of the wound
(凹凸個数の測定)
光学顕微鏡(レンズ20倍、微分干渉フィルタを使用)を用い、視野内で見える光学フィルム101の凹凸の個数を測定し、これを500μm×500μm=250000μm2の領域での個数に換算した。このとき、光学フィルム101の表面上で無作為に5箇所を選び、選んだ各箇所で凹凸の個数を測定し、上記領域での個数に換算した後、5箇所の平均値を算出し、最終的な凹凸の個数とした。この結果、光学フィルム101の凹凸の個数は、250000μm2あたり4個であった。ちなみに、図8は、光学フィルム101における表面粗さSaの測定範囲と、凹凸個数の算出範囲との関係を模式的に示している。(Measurement of number of irregularities)
Using an optical microscope (20x lens, using a differential interference filter), the number of irregularities on the
(凹凸の長径、最大高さ粗さRzの測定)
光学フィルム101の表面上で凹凸箇所を無作為に5箇所選び、選んだ各箇所で、凹凸の長径および最大高さ粗さRzを、白色干渉顕微鏡Zygoによって測定した。そして、5箇所の平均値を最終的な凹凸の長径および最大高さ粗さRzとした。その結果、凹凸の長径は10μmであり、最大高さ粗さRzは200nmであった。なお、顕微鏡の接眼レンズの倍率は2倍であり、対物レンズの倍率は50倍であった。(Measurement of long diameter of unevenness and maximum height roughness Rz)
Five irregularities were randomly selected on the surface of the
<比較例1>
支持体として、表面に意図的に凹凸状の打痕を付けた支持体(PET製)を用い、この支持体上に、実施例1と同様のドープを流延し、ウェブを剥離した後、加工ロールによる凹凸の付与を行わずにウェブを搬送した。それ以外については実施例1と同様にして、光学フィルム201を作製した。ウェブには支持体の表面の凹凸が転写されるが、このときのウェブの残留溶媒量は、200質量%であった。<Comparative Example 1>
As a support, a support (made of PET) intentionally provided with uneven dents on the surface was used. The web was transported without being roughened by the processing rolls. An optical film 201 was produced in the same manner as in Example 1 except for the above. The irregularities on the surface of the support were transferred to the web, and the amount of residual solvent in the web at this time was 200% by mass.
この光学フィルム201に対して、実施例1と同様の方法で、表面粗さSa、凹凸個数、凹凸の長径および最大高さ粗さRzを測定した。その結果、両面の表面粗さSaは1.8nmであり、凹凸の個数は、250000μm2あたり3個であり、凹凸の長径は10μmであり、最大高さ粗さRzは240nmであった。For this optical film 201, the same method as in Example 1 was used to measure the surface roughness Sa, the number of irregularities, the major axis of the irregularities, and the maximum height roughness Rz. As a result, the surface roughness Sa of both surfaces was 1.8 nm, the number of irregularities was 3 per 250000 μm 2 , the major axis of the irregularities was 10 μm, and the maximum height roughness Rz was 240 nm.
<比較例2>
特許文献2に記載の方法により、光学フィルム202を作製した。具体的には、溶融流延製膜法を用い、実施例1で用いた樹脂をペレット化したものをTダイスからフィルム状に溶融押出し、マットロールとゴムロールとで挟持加圧して、マットロールのマット模様をフィルム表面に転写することにより、光学フィルム202を作製した。このとき、マットロールの表面の最大高さRyは、75μmであった。<Comparative Example 2>
An optical film 202 was produced by the method described in
この光学フィルム202に対して、実施例1と同様の方法で、両面の表面粗さSaを測定した。その結果、フィルムにおけるマットロールとの接触側の表面粗さSaは5.0nmであり、反対側の表面粗さSaは1.5nmであった。なお、光学フィルム202の表面全体が凹凸状態であるため、凹凸の個数等は計測不能であった。 The surface roughness Sa of both surfaces of the optical film 202 was measured in the same manner as in Example 1. As a result, the surface roughness Sa on the side of the film in contact with the mat roll was 5.0 nm, and the surface roughness Sa on the opposite side was 1.5 nm. Since the entire surface of the optical film 202 is uneven, it was impossible to measure the number of unevenness.
<比較例3>
実施例1で用いたドープ中に、無機系の微粒子(アエロジル R812)を1.0質量部添加し、このドープを支持体上に流延し、ウェブを剥離した後、加工ロールによる凹凸の付与を行わずにウェブを搬送した。それ以外については実施例1と同様にして、光学フィルム203を作製した。<Comparative Example 3>
In the dope used in Example 1, 1.0 parts by mass of inorganic fine particles (Aerosil R812) was added, the dope was cast on a support, the web was peeled off, and unevenness was imparted with a processing roll. The web was conveyed without An optical film 203 was produced in the same manner as in Example 1 except for the above.
この光学フィルム203に対して、実施例1と同様の方法で、表面粗さSa、凹凸個数を測定した。その結果、両面の表面粗さSaは2.3nmであった。また、凹凸は、250000μm2の領域内では見つからなかった。The surface roughness Sa and the number of irregularities of the optical film 203 were measured in the same manner as in Example 1. As a result, the surface roughness Sa of both surfaces was 2.3 nm. Also, no irregularities were found within the area of 250000 μm 2 .
<比較例4>
特許文献3に記載の方法により、光学フィルム204を作製した。具体的には、支持体上に実施例1と同様のドープを流延してウェブを形成し、ウェブの残留溶媒量が200質量%であるときに、平均粒経が25~200nmの微粒子を含有する微粒子分散液をインクジェットヘッドから液滴として吐出し、ウェブの一方の面上に、着弾、付着させて、微細凸構造を形成した。そして、ウェブを剥離した後、加工ロールによる凹凸の付与を行わずにウェブを搬送した。それ以外については実施例1と同様にして、光学フィルム204を作製した。<Comparative Example 4>
An optical film 204 was produced by the method described in
この光学フィルム204に対して、実施例1と同様の方法で、表面粗さSa、凹凸個数、凹凸の長径および最大高さ粗さRzを測定した。その結果、凹凸付与面の表面粗さSaは8.3nmであり、凹凸の個数は、250000μm2あたり50個であり、凹凸の長径は10μmであり、最大高さ粗さRzは120nmであった。For this optical film 204, the surface roughness Sa, the number of irregularities, the major axis of the irregularities, and the maximum height roughness Rz were measured in the same manner as in Example 1. As a result, the surface roughness Sa of the uneven surface was 8.3 nm, the number of unevenness was 50 per 250000 μm 2 , the major diameter of the unevenness was 10 μm, and the maximum height roughness Rz was 120 nm. .
<評価>
(搬送性)
〈ツレ、シワ〉
一旦巻き取った光学フィルムを後工程において繰り出し搬送させた際の搬送中の光学フィルムの表面を目視で観察して、ツレおよびシワ(折れシワ)の発生の有無を確認し、以下の基準に基づいて、フィルムの品質を評価した。なお、ここでは、光学フィルムの搬送速度を20m/minとし、搬送張力を100Nとし、鏡面ロールに90°の角度でフィルムが抱かれて搬送されている箇所を観察した。<Evaluation>
(transportability)
<tresses, wrinkles>
When the optical film that has been wound up is unwound and conveyed in a post-process, the surface of the optical film during conveyance is visually observed to check for the occurrence of creases and wrinkles (folding wrinkles). to evaluate film quality. Here, the transport speed of the optical film was set to 20 m/min, the transport tension was set to 100 N, and the locations where the film was transported while being held by mirror rolls at an angle of 90° were observed.
なお、上記のツレとは、発生しても跡が残らない(元に戻る)フィルム変形を指し、英語では例えば“wrinkle”がこれに相当する。また、上記のシワとは、発生すると跡が残るフィルム変形(折れシワ)を指し、英語では例えば“crease”がこれに相当する。図9は、ツレまたはシワが生じた各フィルムの幅手方向に沿った断面形状を模式的に示している。同図に示すように、断面が波状となるフィルム変形は、フィルムがロールに抱かれると(フィルムがロールの外周面と接触すると)、元の変形のない断面形状に戻るため、このようなフィルム変形はツレである。一方、フィルムが折れ込むような変形は、ロールに抱かれた後も残るため(元の変形のない断面形状には戻らないため)、シワである。
《評価基準》
◎:ツレおよびシワが全く確認されなかった。
○:ツレが1箇所確認されたが、シワは確認されず、問題はない。
△:ツレが複数箇所確認されたが、シワは確認されず、問題はない。
×:シワが発生していることが確認された。The wrinkle mentioned above refers to film deformation that does not leave a trace (returns to its original state) even if it occurs, and corresponds to "wrinkle" in English, for example. The wrinkles mentioned above refer to film deformation (folding wrinkles) that leave traces when they occur, and for example, "crease" corresponds to this in English. FIG. 9 schematically shows the cross-sectional shape along the width direction of each film in which crimps or wrinkles are generated. As shown in the figure, when the film is held by the roll (when the film comes into contact with the outer peripheral surface of the roll), it returns to its original cross-sectional shape without deformation. Deformation is tsure. On the other hand, deformation such as folding of the film remains after being held by the rolls (because it does not return to the original cross-sectional shape without deformation), so it is a wrinkle.
"Evaluation criteria"
⊚: No creases or wrinkles were observed.
◯: One spot of wrinkles was observed, but no wrinkles were observed, and there was no problem.
Δ: A plurality of wrinkles were observed, but no wrinkles were observed, and there was no problem.
x: It was confirmed that wrinkles were generated.
〈搬送キズ〉
巻き取った光学フィルムを繰り出して、目視にてキズの発生(耐傷性)の有無を下記の方法で調べた。すなわち、繰り出した光学フィルムに対して、その巻外側から、暗室にてナトリウムランプ(KNL-35D、株式会社ライテスト社製)と市販の三波長蛍光灯を点灯させて光を照射し、フィルム表面で長さ2mm以上の方向性のある欠陥をキズとして認定した。なお、キズの認定は、フィルムの端部から5cmの範囲を除いた部分(上記範囲よりもフィルム内側の表面部分)で行った。そして、以下の基準に基づいて、キズ(搬送キズ)を評価した。
《評価基準》
◎:キズが全く確認されなかった。
○:キズがほとんど確認されなかった。
△:キズが軽微に確認されたが、実用上問題はない。
×:キズが明らかに発生しており、実用上問題がある。<Conveyor Scratches>
The wound optical film was unwound, and the presence or absence of scratches (scratch resistance) was visually examined by the following method. That is, from the outside of the wound optical film, a sodium lamp (KNL-35D, manufactured by Lightest Co., Ltd.) and a commercially available three-wavelength fluorescent lamp are turned on in a dark room to irradiate the film with light. A directional defect with a length of 2 mm or more was recognized as a flaw. Note that the evaluation of scratches was performed on a portion of the film excluding a range of 5 cm from the end of the film (the surface portion of the film inside the above range). Scratches (conveyance scratches) were evaluated based on the following criteria.
"Evaluation criteria"
⊚: No scratches were observed at all.
◯: Almost no scratches were observed.
Δ: Slight scratches were observed, but no problem in practical use.
x: Scratches are clearly generated, and there is a problem in practical use.
(ヘイズ)
ヘイズメーター(日本電色工業(株)製、NDH2000)を用いて光学フィルムのヘイズを測定した。そして、以下の評価基準に基づいてヘイズを評価した。
《評価基準》
◎:ヘイズ値が0.10%未満である。
○:ヘイズ値が0.10%以上0.20%未満である。
△:ヘイズ値が0.20%以上0.30%未満である。
×:ヘイズ値が0.30%以上である。(Haze)
The haze of the optical film was measured using a haze meter (NDH2000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.). Then, haze was evaluated based on the following evaluation criteria.
"Evaluation criteria"
A: The haze value is less than 0.10%.
○: The haze value is 0.10% or more and less than 0.20%.
Δ: The haze value is 0.20% or more and less than 0.30%.
x: Haze value is 0.30% or more.
(熱処理による凹凸消失)
作製した光学フィルムに対して、Tgを樹脂のガラス転移温度として、Tg+5℃以上の温度下で、固定端状態で5分以上加熱して熱処理を行った。そして、光学フィルムの表面における熱処理後の凹凸の個数について、光学顕微鏡を用いて上記と同様の方法で測定し、250000μm2での領域の個数に換算した。また、光学フィルムの凹凸の最大高さ粗さRzを、白色干渉顕微鏡Zygoを用いて上記と同様の方法で測定した。そして、以下の評価基準に基づいて、熱処理による凹凸の消失(緩和)の効果について評価した。
《評価基準》
◎:250000μm2の範囲で、凹凸が一切見つからなかった。
○:250000μm2の範囲で、凹凸の個数が3個以下であり、最大高さ粗さRzが50nm以下であった。
△:250000μm2の範囲で、凹凸の個数が5個以下であり、最大高さ粗さRzが150nm以下であった。
×:250000μm2の範囲で、凹凸の個数が6個以上であり、最大高さ粗さRzが150nmよりも大きかった。(Disappearance of irregularities due to heat treatment)
The produced optical film was subjected to heat treatment by heating at a temperature of Tg+5° C. or higher in a fixed end state for 5 minutes or longer, where Tg is the glass transition temperature of the resin. Then, the number of irregularities on the surface of the optical film after heat treatment was measured using an optical microscope in the same manner as above, and converted to the number of regions at 250000 μm 2 . Further, the maximum height roughness Rz of the unevenness of the optical film was measured using a white interference microscope Zygo in the same manner as above. Then, based on the following evaluation criteria, the effect of eliminating (relieving) unevenness due to heat treatment was evaluated.
"Evaluation criteria"
A: No unevenness was found in the range of 250,000 μm 2 .
◯: The number of irregularities was 3 or less in the range of 250000 μm 2 , and the maximum height roughness Rz was 50 nm or less.
Δ: In the range of 250,000 μm 2 , the number of irregularities was 5 or less, and the maximum height roughness Rz was 150 nm or less.
x: In the range of 250,000 μm 2 , the number of irregularities was 6 or more, and the maximum height roughness Rz was larger than 150 nm.
表1は、作製した実施例1の光学フィルム101、比較例1~4の光学フィルム201~204についての評価の結果を示している。
Table 1 shows the evaluation results of the
表1より、比較例1では、フィルムのヘイズ値が高くなっている。これは、支持体の表面凹凸をウェブに転写する方法では、ウェブの表面の平滑性が極端に低くなるためと考えられる。また、比較例2では、マットロールによってフィルム全面に隙間なく凹凸が形成されるため、フィルムのヘイズ値が高くなっていると考えられる。さらに、比較例2では、熱処理による凹凸の消失効果が得られていない。溶融流延製膜法では、溶媒を用いないため、形成された凹凸が硬く、熱処理によって凹凸を変形させて平坦にすることができないためと考えられる。また、比較例3では、フィルムに微粒子が含有されているため、ヘイズ値が高くなっていると考えられる。比較例4では、インクジェット方式でフィルムに表面凹凸を形成しているが、凹凸の個数が多いため、ヘイズ値が高くなっていると考えられる。また、インクジェット方式で形成される表面凹凸は、フィルムの変形によるものではないため、熱処理によってフィルム変形が元に戻るということはなく、熱処理による凹凸の消失効果は全くない。 From Table 1, in Comparative Example 1, the haze value of the film is high. This is probably because the smoothness of the surface of the web is extremely low in the method of transferring the unevenness of the surface of the support to the web. Further, in Comparative Example 2, the haze value of the film is considered to be high because unevenness is formed on the entire surface of the film without gaps by the mat roll. Furthermore, in Comparative Example 2, the effect of eliminating irregularities by heat treatment is not obtained. This is probably because the melt-casting film forming method does not use a solvent, so that the formed irregularities are hard and cannot be flattened by deforming the irregularities by heat treatment. In Comparative Example 3, the haze value is considered to be high because the film contains fine particles. In Comparative Example 4, the surface irregularities were formed on the film by the inkjet method, and it is considered that the haze value is high because the number of irregularities is large. Further, since the unevenness of the surface formed by the inkjet method is not caused by the deformation of the film, the deformation of the film is not restored by the heat treatment, and the unevenness is completely eliminated by the heat treatment.
これに対して、実施例1では、搬送性(ツレ、シワ、搬送キズ)、ヘイズ、熱処理による凹凸の消失効果のいずれについても、良好な結果が得られている。実施例1では、フィルム表面において、凹凸が250000μm2の範囲内に1個以上存在しているため、ウェブが微粒子を含有していなくても、上記凹凸によってウェブに滑り性が付与され、その結果、ウェブに搬送キズが付きにくくなるとともに、ツレやシワも発生しにくくなり、搬送性が良好になると考えられる。また、凹凸の周囲の表面粗さSaが0.9nmであり、ほぼ平坦な面であるため、表面ヘイズが小さくなり、ガラスに近い低ヘイズを実現できていると考えられる。また、上記した凹凸の個数(密度)では、熱処理によって凹凸を消失または緩和させることができるため、使用時には、巻き取ったフィルムを再度繰り出して熱処理を行い、表面の凹凸を消失または緩和させて光学特性の良好なフィルムを得ることが可能になると言える。また、フィルムを繰り出して熱処理を行うまでは、フィルム表面に凹凸が残っているため、良好な搬送性を確保することも可能である。On the other hand, in Example 1, good results were obtained with respect to all of transportability (wrinkles, wrinkles, transport scratches), haze, and effect of eliminating unevenness due to heat treatment. In Example 1, since one or more unevennesses existed within the range of 250000 μm 2 on the film surface, even if the web did not contain fine particles, the unevenness imparted slipperiness to the web. It is believed that the web is less likely to be scratched during transportation, and less prone to crimps and wrinkles, resulting in improved transportability. In addition, the surface roughness Sa around the irregularities was 0.9 nm, and since the surface was substantially flat, the surface haze was reduced, and it is considered that a low haze close to that of glass could be achieved. In addition, with the number (density) of the unevenness described above, the unevenness can be eliminated or alleviated by heat treatment. It can be said that it becomes possible to obtain a film with good properties. In addition, since the unevenness remains on the film surface until the film is unwound and heat-treated, it is possible to ensure good transportability.
なお、凹凸の周囲の表面粗さSaが実施例1の0.9nmであるときに、ヘイズを低減する効果があり、上記表面粗さSaが比較例1の1.8nmであるときに、上記効果がないことから、実施例1の0.9nmと比較例1の1.8nmとの間(例えば1.5nm)に、上記効果が得られる臨界点があると考えられる。したがって、上記効果を得るためには、上記表面粗さSaは1.5nm以下であればよく、0.9nm以下であることがより望ましいと言える。 In addition, when the surface roughness Sa around the unevenness is 0.9 nm in Example 1, there is an effect of reducing haze, and when the surface roughness Sa is 1.8 nm in Comparative Example 1, the above Since there is no effect, it is considered that there is a critical point between 0.9 nm in Example 1 and 1.8 nm in Comparative Example 1 (for example, 1.5 nm) at which the above effect is obtained. Therefore, in order to obtain the above effects, the surface roughness Sa should be 1.5 nm or less, and more preferably 0.9 nm or less.
<実施例2~7>
表2に記載の最大高さRyを有する加工ロールでウェブの表面に凹凸を形成した以外は、実施例1と同様にして、実施例2~7の光学フィルム102~107をそれぞれ作製した。そして、作製した光学フィルム102~107に対して、実施例1と同様の方法で、表面粗さSa、凹凸個数、凹凸の長径および最大高さ粗さRzを測定した。<Examples 2 to 7>
Optical films 102 to 107 of Examples 2 to 7 were produced in the same manner as in Example 1, except that unevenness was formed on the surface of the web using a processing roll having the maximum height Ry shown in Table 2. Then, the optical films 102 to 107 produced were measured in the same manner as in Example 1 for the surface roughness Sa, the number of irregularities, the major axis of the irregularities, and the maximum height roughness Rz.
表2は、作製した実施例2~7の光学フィルム102~107についての評価の結果を、実施例1の光学フィルム101についての結果と併せて示している。なお、実施例2は、本発明の単なる参考例であり、本発明の範囲には属さないものである。
Table 2 shows the evaluation results of the optical films 102 to 107 of Examples 2 to 7 produced together with the results of the
表2より、実施例2では、他の実施例3等に比べると、搬送性を良好にする効果が小さい。実施例2では、加工ロールの最大高さRyが1μmと小さいことから、ウェブの表面を加工ロールの凹凸で抉って(引っ掻いて)、ウェブの表面に適切な大きさの凹凸を形成することができず、搬送時のウェブのロールへの貼り付きを低減する効果が小さくなるためと考えられる。これに対して、実施例1、3~7では、搬送性を良好にする効果が高い。実施例1、3~5では、加工ロールの最大高さRyがいずれも2μm以上であることから、ウェブの表面を加工ロールの凹凸で抉って、ウェブの表面に適切な大きさの凹凸が形成され、これによって、搬送時のウェブのロールへの貼り付き低減効果が大きくなるためと考えられる。 As can be seen from Table 2, in Example 2, the effect of improving the transportability is smaller than in Example 3 and the like. In Example 2, since the maximum height Ry of the processing rolls is as small as 1 μm, the surface of the web can be gouged (scratched) by the unevenness of the processing rolls to form unevenness of an appropriate size on the surface of the web. This is thought to be because the effect of reducing the sticking of the web to the roll during transport is reduced. On the other hand, Examples 1 and 3 to 7 are highly effective in improving transportability. In Examples 1, 3 to 5, since the maximum height Ry of the processing rolls is 2 μm or more, the unevenness of the processing rolls gouged the surface of the web to form unevenness of an appropriate size on the surface of the web. It is believed that this increases the effect of reducing sticking of the web to the rolls during transport.
加工ロールの最大高さRyがいずれも2μm以上である場合、フィルムの表面には、長径5~15μmで、最大高さ粗さRzが100~1000nmの凹凸が形成されていることがわかる。したがって、このような凹凸がフィルムの表面に形成されることにより、搬送性を良好にする効果を高めることができると言える。 When the maximum height Ry of the processing rolls is 2 μm or more, the surface of the film has irregularities with a major diameter of 5 to 15 μm and a maximum height roughness Rz of 100 to 1000 nm. Therefore, it can be said that the effect of improving transportability can be enhanced by forming such unevenness on the surface of the film.
なお、加工ロールの最大高さRyが実施例2の1μmであっても(フィルムの表面に長径4μmで最大高さ粗さRzが85nmの凹凸が形成される場合であっても)、搬送性について実用上問題のない結果が得られている。このことから、加工ロールの最大高さRyは1μm以上であればよく、フィルムの表面には、長径4μm以上で最大高さ粗さRzが85nm以上の凹凸が形成されていればよいと言える。 In addition, even if the maximum height Ry of the processing roll is 1 μm as in Example 2 (even if irregularities having a major diameter of 4 μm and a maximum height roughness Rz of 85 nm are formed on the surface of the film), the transportability The result that there is no problem in practical use is obtained. From this, it is sufficient that the maximum height Ry of the processing roll is 1 μm or more, and that the surface of the film should be formed with irregularities having a major axis of 4 μm or more and a maximum height roughness Rz of 85 nm or more.
<実施例8~14>
表3に記載の最大高さRyを有する加工ロールでウェブの表面に凹凸を形成するとともに、加工ロールによる凹凸付与時の残留溶媒量を表3のように変化させた以外は、実施例1と同様にして、実施例8~14の光学フィルム108~114をそれぞれ作製した。そして、作製した光学フィルム108~114に対して、実施例1と同様の方法で、表面粗さSa、凹凸個数、凹凸の長径および最大高さ粗さRzを測定した。<Examples 8 to 14>
In addition to forming unevenness on the surface of the web with the processing roll having the maximum height Ry described in Table 3, the amount of residual solvent at the time of imparting unevenness by the processing roll was changed as shown in Table 3. Optical films 108 to 114 of Examples 8 to 14 were produced in the same manner. Then, the optical films 108 to 114 produced were measured in the same manner as in Example 1 for the surface roughness Sa, the number of irregularities, the length of the irregularities, and the maximum height roughness Rz.
表3は、作製した実施例8~14の光学フィルム108~114についての評価の結果を、実施例1の光学フィルム101についての結果と併せて示している。なお、実施例12は、本発明の単なる参考例であり、本発明の範囲には属さないものである。
Table 3 shows the evaluation results of the optical films 108 to 114 of Examples 8 to 14 produced together with the results of the
表3より、実施例10、12では、搬送性を良好にする効果が小さい。この理由として、実施例10、12では、加工ロールによる凹凸付与時のウェブの残留溶媒量が4質量%と小さいため、ウェブが硬く、加工ロールとの接触によってウェブに凹凸が形成されにくくなり、搬送時のウェブのロールへの貼り付き低減効果が小さくなることが考えられる。また、実施例11、14では、熱処理による凹凸の消失効果が小さい。実施例11、14では、凹凸付与時のウェブの残留溶媒量が37質量%と大きいため、ウェブが柔らかく、加工ロールとの接触によって長径および最大高さ粗さRzの大きい凹凸がウェブに形成されやすくなる。このため、その後の熱処理を行っても、上記凹凸が消失しにくくなり、緩和されるとしてもその量が微小になることが考えられる。 From Table 3, in Examples 10 and 12, the effect of improving the transportability is small. The reason for this is that in Examples 10 and 12, the amount of residual solvent in the web when the unevenness was imparted by the processing roll was as small as 4% by mass, so the web was hard and unevenness was hardly formed on the web due to contact with the processing roll. It is conceivable that the effect of reducing sticking of the web to the rolls during transportation is reduced. Further, in Examples 11 and 14, the effect of eliminating unevenness due to heat treatment is small. In Examples 11 and 14, since the amount of residual solvent in the web was as large as 37% by mass when the unevenness was applied, the web was soft, and unevenness having a large major diameter and a large maximum height roughness Rz was formed on the web by contact with the processing roll. easier. For this reason, even if the subsequent heat treatment is performed, the unevenness is unlikely to disappear, and even if the unevenness is alleviated, the amount of the unevenness will be very small.
これに対して、実施例8、9、13では、搬送性を良好にする効果と、熱処理による凹凸の消失効果とがバランスよく得られている。実施例8、9、13では、凹凸付与時のウェブの残留溶媒量が6~33質量%であることから、搬送時のウェブのロールへの貼り付きを低減するとともに、熱処理によって凹凸を消失させるのに適切な大きさの凹凸がウェブに形成されるためと考えられる。 On the other hand, in Examples 8, 9, and 13, the effect of improving the transportability and the effect of eliminating unevenness due to the heat treatment are obtained in a well-balanced manner. In Examples 8, 9, and 13, the amount of residual solvent in the web at the time of imparting unevenness was 6 to 33% by mass, so that the sticking of the web to the rolls during transportation was reduced, and the unevenness was eliminated by heat treatment. This is considered to be due to the formation of irregularities of suitable sizes on the web.
なお、凹凸付与時のウェブの残留溶媒量が実施例10、12の4質量%であるときに、搬送性を良好にする効果が小さく、上記残留溶媒量が実施例8の6質量%であるときに、上記効果が大きいことから、実施例10、12の4質量%と実施例8の6質量%との間(例えば5質量%)に、上記効果を大きくする臨界点があると考えられる。したがって、上記効果を大きくする観点からは、上記残留溶媒量は5質量%以上であることが望ましく、6質量%以上であることがさらに望ましいと言える。 In addition, when the residual solvent amount of the web at the time of imparting unevenness is 4% by mass as in Examples 10 and 12, the effect of improving the transportability is small, and the residual solvent amount is 6% by mass as in Example 8. Sometimes, the above effect is large, so it is considered that there is a critical point between 4% by weight of Examples 10 and 12 and 6% by weight of Example 8 (for example, 5% by weight) to increase the above effect. . Therefore, from the viewpoint of increasing the effect, the residual solvent amount is preferably 5% by mass or more, and more preferably 6% by mass or more.
また、凹凸付与時のウェブの残留溶媒量が実施例11、14の37質量%であるときに、熱処理による凹凸の消失効果が小さく、上記残留溶媒量が実施例9、13の33質量%であるときに、上記消失効果が大きいことから、実施例11、14の37質量%と実施例9、13の33質量%との間(例えば35質量%)に、上記消失効果を大きくする臨界点があると考えられる。したがって、上記消失効果を大きくする観点からは、上記残留溶媒量は35質量%以下であることが望ましく、33質量%以下であることがさらに望ましいと言える。 Further, when the residual solvent amount of the web at the time of imparting unevenness is 37% by mass as in Examples 11 and 14, the effect of eliminating unevenness by heat treatment is small, and the residual solvent amount is 33% by mass as in Examples 9 and 13. At some point, since the disappearance effect is large, the critical point for increasing the disappearance effect is between 37% by mass of Examples 11 and 14 and 33% by mass of Examples 9 and 13 (for example, 35% by mass). It is thought that there is Therefore, from the viewpoint of increasing the elimination effect, the residual solvent amount is preferably 35% by mass or less, and more preferably 33% by mass or less.
なお、上記残留溶媒量が実施例10、12の4質量%であっても、搬送性について実用上問題のない結果が得られており、上記残留溶媒量が実施例11、14の37質量%であっても、上記消失効果について実用上問題のない結果が得られている。このことから、上記残留溶媒量は、4質量%以上であってもよく、37質量%以下であってもよいと言える。 In addition, even when the residual solvent amount is 4% by mass in Examples 10 and 12, practically no problem in transportability is obtained, and the residual solvent amount is 37% by mass in Examples 11 and 14. However, practically no problems have been obtained with respect to the disappearance effect. From this, it can be said that the residual solvent amount may be 4% by mass or more and may be 37% by mass or less.
したがって、上記残留溶媒量の適切な範囲としては、上記した下限(4質量%、5質量%、6質量%)と、上記した上限(37質量%、35質量%、33質量%)との組み合わせで設定することができる。例えば、上記残留溶媒量としては、4~37質量%(4質量%以上37質量%以下)であってもよいが、望ましくは、5~35質量%(5質量%以上35質量%以下)であり、より望ましくは、6~33質量%(6質量%以上33質量%以下)であると言うことができる。 Therefore, the appropriate range of the residual solvent amount is a combination of the above lower limits (4% by mass, 5% by mass, 6% by mass) and the above upper limits (37% by mass, 35% by mass, 33% by mass). can be set with For example, the residual solvent amount may be 4 to 37% by mass (4% by mass or more and 37% by mass or less), but is preferably 5 to 35% by mass (5% by mass or more and 35% by mass or less). and more preferably 6 to 33 mass % (6 mass % or more and 33 mass % or less).
〔その他〕
以上で説明した本実施形態の光学フィルムおよびその製造方法は、以下のように表現することができる。〔others〕
The optical film of this embodiment described above and the method for manufacturing the same can be expressed as follows.
1.微粒子非含有のドープを金属支持体上に流延してウェブを形成する流延工程と、
前記ウェブを金属支持体から剥離する剥離工程と、
剥離された前記ウェブの表面に、加工ロールによって凹凸形状を形成する凹凸形成工程と、
前記凹凸形状を有する前記ウェブを光学フィルムとして巻き取る巻取工程とを有し、
巻き取られた前記光学フィルムは、表面の250000μm2の範囲内に1個以上の凹凸を有しており、
前記範囲内で前記凹凸の周囲の表面粗さSaは、1.5nm以下であることを特徴とする光学フィルムの製造方法。1. a casting step of casting the particulate-free dope onto a metal support to form a web;
a peeling step of peeling the web from a metal support;
An unevenness forming step of forming an uneven shape on the surface of the peeled web with a processing roll;
a winding step of winding the web having the uneven shape as an optical film;
The wound optical film has one or more unevennesses within a range of 250000 μm 2 on the surface,
A method for producing an optical film, wherein the surface roughness Sa around the unevenness is 1.5 nm or less within the above range.
2.前記表面粗さSaは、0.9nm以下であることを特徴とする前記1に記載の光学フィルムの製造方法。 2. 2. The method for producing an optical film as described in 1 above, wherein the surface roughness Sa is 0.9 nm or less.
3.前記凹凸形成工程では、最大高さRyが2μm以上となる表面加工が施された前記加工ロールによって、前記ウェブの表面に前記凹凸形状を形成することを特徴とする前記1または2に記載の光学フィルムの製造方法。 3. 3. The optical system according to 1 or 2 above, wherein in the unevenness forming step, the unevenness is formed on the surface of the web by the processing roll that has undergone surface processing such that the maximum height Ry is 2 μm or more. Film production method.
4.前記光学フィルムの表面において、
前記凹凸の長径は、5~15μmであり、
最大高さ粗さRzが、100~1000nmであることを特徴とする前記1から3のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。4. On the surface of the optical film,
The major axis of the unevenness is 5 to 15 μm,
4. The method for producing an optical film as described in any one of 1 to 3 above, wherein the maximum height roughness Rz is 100 to 1000 nm.
5.前記凹凸形成工程において、前記加工ロールによって前記凹凸形状を形成するときの前記ウェブの残留溶媒量が、5~35質量%であることを特徴とする前記1から4のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。 5. 5. The optical film as described in any one of 1 to 4 above, wherein in the unevenness forming step, the amount of residual solvent in the web when the unevenness is formed by the processing roll is 5 to 35% by mass. manufacturing method.
6.前記光学フィルムは、表面の250000μm2の範囲内に2個以上20個以下の前記凹凸を有していることを特徴とする前記1から5のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。6. 6. The method for producing an optical film as described in any one of 1 to 5 above, wherein the optical film has 2 or more and 20 or less of the unevenness within a range of 250000 μm 2 on the surface.
7.前記ドープは、樹脂および溶媒を含み、
前記樹脂は、シクロオレフィン系樹脂であることを特徴とする前記1から6のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。7. The dope contains a resin and a solvent,
7. The method for producing an optical film as described in any one of 1 to 6 above, wherein the resin is a cycloolefin resin.
8.微粒子非含有の光学フィルムであって、
前記光学フィルムは、表面の250000μm2の範囲内に1個以上の凹凸を有しており、
前記範囲内で前記凹凸の周囲の表面粗さSaは、1.5nm以下であることを特徴とする光学フィルム。8. An optical film containing no fine particles,
The optical film has one or more unevenness within a range of 250000 μm 2 on the surface,
The optical film, wherein the surface roughness Sa around the irregularities is 1.5 nm or less within the above range.
9.前記表面粗さSaは、0.9nm以下であることを特徴とする前記8に記載の光学フィルム。 9. 9. The optical film as described in 8 above, wherein the surface roughness Sa is 0.9 nm or less.
10.前記光学フィルムの表面において、
前記凹凸の長径は、5~15μmであり、
最大高さ粗さRzが、100~1000nmであることを特徴とする前記8または9に記載の光学フィルム。10. On the surface of the optical film,
The major axis of the unevenness is 5 to 15 μm,
10. The optical film as described in 8 or 9 above, wherein the maximum height roughness Rz is 100 to 1000 nm.
11.前記光学フィルムは、表面の250000μm2の範囲内に2個以上20個以下の前記凹凸を有していることを特徴とする前記8から10のいずれかに記載の光学フィルム。11. 11. The optical film as described in any one of 8 to 10 above, wherein the optical film has 2 or more and 20 or less of the irregularities within a range of 250000 μm 2 on the surface.
12.シクロオレフィン系樹脂を含むことを特徴とする前記8から11のいずれかに記載の光学フィルム。 12. 12. The optical film as described in any one of 8 to 11 above, which contains a cycloolefin resin.
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明の範囲はこれに限定されるものではなく、発明の主旨を逸脱しない範囲で拡張または変更して実施することができる。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the scope of the present invention is not limited thereto, and can be implemented by being expanded or modified without departing from the gist of the invention.
本発明は、微粒子非含有の光学フィルムを溶液流延製膜法によって製造する場合に利用可能である。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be used when producing an optical film containing no fine particles by a solution casting method.
3 支持体(金属支持体)
5 ウェブ
20 加工ロール
FPV 凹凸
Fb 非凹凸領域
F 光学フィルム3 support (metal support)
5
Claims (11)
前記ウェブを金属支持体から剥離する剥離工程と、
剥離された前記ウェブの表面に、加工ロールによって凹凸形状を形成する凹凸形成工程と、
前記凹凸形状を有する前記ウェブを光学フィルムとして巻き取る巻取工程とを有し、
巻き取られた前記光学フィルムは、表面の250000μm2の範囲内に1個以上の凹凸を有しており、
前記範囲内で前記凹凸の周囲の表面粗さSaは、1.5nm以下であり、
前記凹凸形成工程では、最大高さRyが2μm以上となる表面加工が施された前記加工ロールによって、前記ウェブの表面に前記凹凸形状を形成する、光学フィルムの製造方法。 a casting step of casting the particulate-free dope onto a metal support to form a web;
a peeling step of peeling the web from a metal support;
An unevenness forming step of forming an uneven shape on the surface of the peeled web with a processing roll;
a winding step of winding the web having the uneven shape as an optical film;
The wound optical film has one or more unevennesses within a range of 250000 μm 2 on the surface,
Within the range, the surface roughness Sa around the unevenness is 1.5 nm or less ,
In the unevenness forming step, the unevenness is formed on the surface of the web by the processing roll that has been surface-treated so that the maximum height Ry is 2 μm or more .
前記ウェブを金属支持体から剥離する剥離工程と、a peeling step of peeling the web from a metal support;
剥離された前記ウェブの表面に、加工ロールによって凹凸形状を形成する凹凸形成工程と、An unevenness forming step of forming an uneven shape on the surface of the peeled web with a processing roll;
前記凹凸形状を有する前記ウェブを光学フィルムとして巻き取る巻取工程とを有し、a winding step of winding the web having the uneven shape as an optical film;
巻き取られた前記光学フィルムは、表面の250000μmThe wound optical film has a surface area of 250000 μm 22 の範囲内に1個以上の凹凸を有しており、has one or more unevenness within the range of
前記範囲内で前記凹凸の周囲の表面粗さSaは、1.5nm以下であり、Within the range, the surface roughness Sa around the unevenness is 1.5 nm or less,
前記光学フィルムの表面において、On the surface of the optical film,
前記凹凸の長径は、5~15μmであり、The major axis of the unevenness is 5 to 15 μm,
最大高さ粗さRzが、100~1000nmである、光学フィルムの製造方法。A method for producing an optical film, wherein the maximum height roughness Rz is 100 to 1000 nm.
前記樹脂は、シクロオレフィン系樹脂である、請求項1から6のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。 The dope contains a resin and a solvent,
The method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 6, wherein the resin is a cycloolefin resin.
前記光学フィルムは、表面の250000μm2の範囲内に1個以上の凹凸を有しており、
前記範囲内で前記凹凸の周囲の表面粗さSaは、1.5nm以下であり、
前記光学フィルムの表面において、
前記凹凸の長径は、5~15μmであり、
最大高さ粗さRzが、100~1000nmである、光学フィルム。 An optical film containing no fine particles,
The optical film has one or more unevenness within a range of 250000 μm 2 on the surface,
Within the range, the surface roughness Sa around the unevenness is 1.5 nm or less ,
On the surface of the optical film,
The major axis of the unevenness is 5 to 15 μm,
An optical film having a maximum height roughness Rz of 100 to 1000 nm .
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018113768 | 2018-06-14 | ||
JP2018113768 | 2018-06-14 | ||
PCT/JP2019/001994 WO2019239625A1 (en) | 2018-06-14 | 2019-01-23 | Optical film and method for manufacturing same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2019239625A1 JPWO2019239625A1 (en) | 2021-06-24 |
JP7115540B2 true JP7115540B2 (en) | 2022-08-09 |
Family
ID=68842456
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020525231A Active JP7115540B2 (en) | 2018-06-14 | 2019-01-23 | Optical film and its manufacturing method |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7115540B2 (en) |
WO (1) | WO2019239625A1 (en) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006240228A (en) | 2005-03-07 | 2006-09-14 | Konica Minolta Opto Inc | Optical film and its manufacturing method |
WO2008026454A1 (en) | 2006-08-31 | 2008-03-06 | Konica Minolta Opto, Inc. | Optical film, method for manufacturing the optical film, polarizing plate, and liquid crystal display device |
JP2009073106A (en) | 2007-09-21 | 2009-04-09 | Konica Minolta Opto Inc | Optical film, method for producing optical film, polarizing plate using optical film, and display |
JP2017217866A (en) | 2016-06-09 | 2017-12-14 | 大日本印刷株式会社 | Heat-sealing resin film and manufacturing method thereof, laminate and packaging material |
-
2019
- 2019-01-23 JP JP2020525231A patent/JP7115540B2/en active Active
- 2019-01-23 WO PCT/JP2019/001994 patent/WO2019239625A1/en active Application Filing
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2009073106A (en) | 2007-09-21 | 2009-04-09 | Konica Minolta Opto Inc | Optical film, method for producing optical film, polarizing plate using optical film, and display |
JP2017217866A (en) | 2016-06-09 | 2017-12-14 | 大日本印刷株式会社 | Heat-sealing resin film and manufacturing method thereof, laminate and packaging material |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2019239625A1 (en) | 2019-12-19 |
JPWO2019239625A1 (en) | 2021-06-24 |
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