JPWO2019239625A1 - Optical film and its manufacturing method - Google Patents

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    • B29C59/04Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing using rollers or endless belts

Abstract

光学フィルムの製造方法は、微粒子非含有のドープを金属支持体上に流延してウェブを形成する流延工程(S2)と、ウェブを金属支持体から剥離する剥離工程(S3)と、剥離されたウェブの表面に、加工ロールによって凹凸形状を形成する凹凸形成工程(S4)と、凹凸形状を有するウェブを光学フィルムとして巻き取る巻取工程(S10)とを有する。巻き取られた光学フィルムは、表面の250000μm2の範囲内に1個以上の凹凸を有しており、上記範囲内で上記凹凸の周囲の表面粗さSaは、1.5nm以下である。The optical film manufacturing method includes a casting step (S2) of casting a dope containing no fine particles on a metal support to form a web, a peeling step (S3) of peeling the web from the metal support, and peeling. The surface of the web is provided with a concavo-convex forming step (S4) of forming a concavo-convex shape by a processing roll and a winding step (S10) of winding the web having the concavo-convex shape as an optical film. The wound optical film has one or more irregularities within a range of 250,000 μm2 on the surface, and the surface roughness Sa around the irregularities is 1.5 nm or less within the above range.

Description

本発明は、光学フィルムおよびその製造方法に関する。 The present invention relates to an optical film and a method for producing the same.

近年、スマートフォンなどの軽量化、薄膜化が要求される用途の部品において、ガラスから光学フィルムへの代替が進んでいる。この代替が実現すると、軽量化や薄膜化だけでなく、コストダウンといったメリットもある。しかし、光学フィルムがガラスの代替となるためには、光学フィルムのヘイズ値をガラスに近づける必要がある。 In recent years, the replacement of glass with optical films has been progressing in parts for applications such as smartphones that require weight reduction and thinning. If this alternative is realized, there are merits such as cost reduction as well as weight reduction and thin film reduction. However, in order for the optical film to replace glass, it is necessary to bring the haze value of the optical film closer to that of glass.

ここで、低ヘイズの光学フィルムについては、例えば特許文献1に開示されている。特許文献1では、微粒子を表面調整剤とともに光学フィルムに含有させることにより、微粒子を光学フィルムの片面に偏在させて滑り性を付与し、これによって、微粒子の含有量を低減して、ヘイズの低い光学フィルムを実現するようにしている。 Here, an optical film having a low haze is disclosed in, for example, Patent Document 1. In Patent Document 1, by incorporating fine particles into an optical film together with a surface conditioner, the fine particles are unevenly distributed on one side of the optical film to impart slipperiness, thereby reducing the content of the fine particles and reducing the haze. I am trying to realize an optical film.

また、特許文献2では、微粒子を含有するポリカーボネート樹脂をダイスからフィルム状に溶融押出し、マットロールとゴムロールとからなる一対のロールで挟持加圧してマットロールのマット模様をフィルムに転写することで、低光沢のマットフィルムを得るようにしている。さらに、特許文献3では、溶液流延製膜法による光学フィルムの製造において、ウェブ中の残留溶媒量が所定範囲であるときに、ウェブの一方の面上に、微粒子を含有する微粒子分散液の液滴をインクジェットヘッド方式で吐出し、着弾、付着させて微細凸構造を形成することにより、光学フィルム中のマット剤を減量しながら滑り性を向上させるようにしている。 Further, in Patent Document 2, a polycarbonate resin containing fine particles is melt-extruded from a die into a film, sandwiched between a pair of rolls consisting of a mat roll and a rubber roll, and pressed to transfer the mat pattern of the mat roll to a film. I am trying to get a low gloss matte film. Further, in Patent Document 3, in the production of an optical film by a solution casting film forming method, when the amount of residual solvent in the web is within a predetermined range, a fine particle dispersion liquid containing fine particles on one surface of the web By ejecting droplets by an inkjet head method, landing and adhering them to form a fine convex structure, the amount of matting agent in the optical film is reduced and the slipperiness is improved.

特開2017−122855号公報(請求項1、段落〔0009〕、〔0010〕、〔0018〕等参照)JP-A-2017-122855 (see claim 1, paragraphs [0009], [0010], [0018], etc.) 特許第3676896号公報(請求項1、段落〔0004〕〜〔0006〕、〔0024〕、図1等参照)Japanese Patent No. 3676896 (see claim 1, paragraphs [0004] to [0006], [0024], FIG. 1 and the like). 特許第5182092号公報(請求項1、段落〔0005〕、〔0024〕、図1等参照)Japanese Patent No. 5182092 (see claim 1, paragraphs [0005], [0024], FIG. 1, etc.)

ところで、従来の光学フィルムは、ヘイズが低いものでも、ガラスには及ばない。これは、製造時のハンドリング性を向上させるための有機または無機の微粒子が光学フィルムに少なからず添加されており、フィルム表面が平坦でないことによる。したがって、光学フィルムにおいて、ガラスに近い低ヘイズを実現するためには、微粒子を含有しない光学フィルムを実現することが望まれる。この点、上述した特許文献1〜3の光学フィルムは、いずれも微粒子が含有されており、ガラスに近い低ヘイズを実現することが困難である。 By the way, even if the conventional optical film has a low haze, it is not as good as glass. This is because not a little organic or inorganic fine particles are added to the optical film to improve the handleability during manufacturing, and the film surface is not flat. Therefore, in order to realize a low haze close to that of glass in an optical film, it is desired to realize an optical film containing no fine particles. In this respect, all of the above-mentioned optical films of Patent Documents 1 to 3 contain fine particles, and it is difficult to realize a low haze close to that of glass.

一方、光学フィルムが微粒子を含有しない場合、光学フィルムに滑り性が付与されないため、ハンドリング性が低下し、歩留まりが低下することが懸念される。つまり、光学フィルムの滑り性が悪いと、製造時にフィルムがロール(例えば鏡面ロール)に貼り付きながら搬送されるため、小さい搬送キズがフィルム表面につく場合がある。また、滑り性の悪い光学フィルムがロールに強く貼り付くことで、複数のロール間で強いシワが発生してしまい、最悪の場合、光学フィルムが破断することがある。 On the other hand, when the optical film does not contain fine particles, the optical film is not imparted with slipperiness, so that there is a concern that the handleability is lowered and the yield is lowered. That is, if the optical film has poor slipperiness, the film is transported while being attached to a roll (for example, a mirror surface roll) during manufacturing, so that small transport scratches may be formed on the film surface. Further, when the optical film having poor slipperiness is strongly attached to the rolls, strong wrinkles are generated between the plurality of rolls, and in the worst case, the optical film may be broken.

したがって、ガラスに近い低ヘイズを実現すべく、微粒子を含有しない構成であっても、製造時に搬送キズがつきにくく、シワの発生も低減することができる搬送性の良好な光学フィルムが求められるが、このような光学フィルムを従来同様の大量生産可能な製造方法で作製することは未だ実現されてはいない。 Therefore, in order to realize a low haze close to that of glass, an optical film having good transportability is required, which is less likely to cause transport scratches during manufacturing and can reduce the occurrence of wrinkles even if the structure does not contain fine particles. , It has not yet been realized to produce such an optical film by the same mass-produceable manufacturing method as before.

本発明は、上記の問題点を解決するためになされたものであり、その目的は、ガラスに近い低ヘイズを実現すべく、微粒子を含有しない構成であっても、製造時に搬送キズがつきにくく、シワの発生も低減することができ、これによって、大量生産可能な製法で作製できるとともに、低ヘイズと製造時の良好な搬送性とを両立させることができる光学フィルムと、その製造方法とを提供することにある。 The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to realize a low haze close to that of glass, so that even if the structure does not contain fine particles, transport scratches are less likely to occur during manufacturing. , The occurrence of wrinkles can also be reduced, and as a result, an optical film that can be manufactured by a manufacturing method that can be mass-produced and that can achieve both low haze and good transportability during manufacturing, and a manufacturing method thereof. To provide.

本発明の上記目的は、以下の製造方法または構成によって達成される。 The above object of the present invention is achieved by the following manufacturing method or configuration.

本発明の一側面に係る光学フィルムの製造方法は、微粒子非含有のドープを金属支持体上に流延してウェブを形成する流延工程と、前記ウェブを金属支持体から剥離する剥離工程と、剥離された前記ウェブの表面に、加工ロールによって凹凸形状を形成する凹凸形成工程と、前記凹凸形状を有する前記ウェブを光学フィルムとして巻き取る巻取工程とを有し、巻き取られた前記光学フィルムは、表面の250000μm2の範囲内に1個以上の凹凸を有しており、前記範囲内で前記凹凸の周囲の表面粗さSaは、1.5nm以下である。The method for producing an optical film according to one aspect of the present invention includes a casting step of casting a dope containing no fine particles on a metal support to form a web, and a peeling step of peeling the web from the metal support. The optics that has been wound up by having a concavo-convex forming step of forming a concavo-convex shape on the surface of the peeled web by a processing roll and a winding step of winding the web having the concavo-convex shape as an optical film. The film has one or more irregularities within a range of 250,000 μm 2 on the surface, and the surface roughness Sa around the irregularities within the range is 1.5 nm or less.

本発明の他の側面に係る光学フィルムは、微粒子非含有の光学フィルムである。前記光学フィルムは、表面の250000μm2の範囲内に1個以上の凹凸を有しており、前記範囲内で前記凹凸の周囲の表面粗さSaは、1.5nm以下である。The optical film according to another aspect of the present invention is an optical film containing no fine particles. The optical film has one or more irregularities within a range of 250,000 μm 2 on the surface, and the surface roughness Sa around the irregularities within the range is 1.5 nm or less.

光学フィルムが微粒子を含有しない構成であっても、製造時に搬送キズがつきにくく、シワの発生も低減することができ、これによって、大量生産可能な製法(例えば溶液流延製膜法)で光学フィルムを作製できるとともに、ガラスに近い低ヘイズと、製造時の良好な搬送性とを両立させることができる。 Even if the optical film does not contain fine particles, it is less likely to be scratched during manufacturing and wrinkles can be reduced, which enables optical production using a mass-produceable manufacturing method (for example, solution casting film forming method). In addition to being able to produce a film, it is possible to achieve both low haze close to that of glass and good transportability during production.

本発明の実施の形態に係る光学フィルムの製造装置の概略の構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the schematic structure of the optical film manufacturing apparatus which concerns on embodiment of this invention. 上記光学フィルムの製造工程の流れを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the flow of the manufacturing process of the said optical film. 最大高さRyの計算方法を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically the calculation method of the maximum height Ry. 上記光学フィルムの断面形状を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the cross-sectional shape of the said optical film. 表面粗さSaの計算方法を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically the calculation method of the surface roughness Sa. 表面粗さRaの計算方法を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically the calculation method of the surface roughness Ra. 最大高さ粗さRzの計算方法を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically the calculation method of the maximum height roughness Rz. 実施例の光学フィルムにおける表面粗さSaの測定範囲と、凹凸個数の算出範囲との関係を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically the relationship between the measurement range of the surface roughness Sa in the optical film of an Example, and the calculation range of the number of irregularities. ツレまたはシワが生じた各フィルムの幅手方向に沿った断面形状を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically the cross-sectional shape along the width direction of each film which wrinkled or wrinkled.

本発明の実施の一形態について、図面に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、本明細書において、数値範囲をA〜Bと表記した場合、その数値範囲に下限Aおよび上限Bの値は含まれるものとする。なお、本発明は、以下の内容に限定されるわけではない。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. In this specification, when the numerical range is expressed as A to B, the numerical range includes the values of the lower limit A and the upper limit B. The present invention is not limited to the following contents.

〔光学フィルムの製造方法〕
まず、本実施形態の光学フィルムの製造方法の概要について説明する。図1は、本実施形態の光学フィルムの製造装置1の概略の構成を示す説明図である。また、図2は、光学フィルムの製造工程の流れを示すフローチャートである。本実施形態の光学フィルムの製造方法は、溶液流延製膜法によって光学フィルムを製造する方法であり、図2に示すように、攪拌調製工程(S1)、流延工程(S2)、剥離工程(S3)、凹凸形成工程(S4)、第1乾燥工程(S5)、延伸工程(S6)、第2乾燥工程(S7)、切断工程(S8)、エンボス加工工程(S9)、巻取工程(S10)を含む。以下、各工程について説明する。
[Manufacturing method of optical film]
First, an outline of the method for manufacturing the optical film of the present embodiment will be described. FIG. 1 is an explanatory diagram showing a schematic configuration of the optical film manufacturing apparatus 1 of the present embodiment. Further, FIG. 2 is a flowchart showing the flow of the manufacturing process of the optical film. The method for producing an optical film of the present embodiment is a method for producing an optical film by a solution casting film forming method, and as shown in FIG. 2, a stirring preparation step (S1), a casting step (S2), and a peeling step. (S3), unevenness forming step (S4), first drying step (S5), stretching step (S6), second drying step (S7), cutting step (S8), embossing step (S9), winding step (S9) S10) is included. Hereinafter, each step will be described.

<攪拌調製工程>
攪拌調製工程では、攪拌装置50の攪拌槽51にて、少なくとも樹脂および溶媒を攪拌し、支持体3上に流延するドープを調製する。支持体3は、例えばステンレス鋼(SUS)からなる金属支持体である。支持体3は、例えばエンドレスベルトで構成されるが、ドラムで構成されてもよい。本実施形態では、上記ドープに、搬送性を向上させるための微粒子(マット剤)は含有されていない。
<Stirring preparation process>
In the stirring preparation step, at least the resin and the solvent are stirred in the stirring tank 51 of the stirring device 50 to prepare a dope that spreads on the support 3. The support 3 is a metal support made of, for example, stainless steel (SUS). The support 3 is composed of, for example, an endless belt, but may be composed of a drum. In the present embodiment, the dope does not contain fine particles (matting agent) for improving transportability.

上記樹脂としては、セルロースエステル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂(COP)、ポリイミド樹脂、ポリアリレート樹脂のいずれかを用いることができる。上記溶媒としては、良溶媒および貧溶媒の混合溶媒を用いることができる。なお、良溶媒とは、樹脂を溶解させる性質(溶解性)を有する有機溶媒を言い、1,3−ジオキソラン、THF(テトラヒドロフラン)、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸メチル、塩化メチレン(ジクロロメタン、メチレンクロライド)、トルエンなどがこれに相当する。一方、貧溶媒とは、単独では樹脂を溶解させる性質を有していない溶媒を言い、メタノールやエタノールなどがこれに相当する。 As the resin, any one of a cellulose ester resin, a cycloolefin resin (COP), a polyimide resin, and a polyarylate resin can be used. As the solvent, a mixed solvent of a good solvent and a poor solvent can be used. The good solvent refers to an organic solvent having the property of dissolving the resin (solubility), and includes 1,3-dioxolane, THF (tetrahydrofuran), methyl ethyl ketone, acetone, methyl acetate, methylene chloride (dichloromethane, methylene chloride), and the like. Tetrahydrofuran and the like correspond to this. On the other hand, the poor solvent means a solvent that does not have the property of dissolving the resin by itself, and methanol, ethanol, or the like corresponds to this.

<流延工程>
流延工程では、攪拌調製工程で調製されたドープを、加圧型定量ギヤポンプ等を通して、導管によって流延ダイ2に送液し、支持体3上の流延位置に流延ダイ2からドープを流延する。そして、流延したドープを支持体3上で乾燥させて、流延膜としてのウェブ5を形成する。流延ダイ2の傾き、すなわち、流延ダイ2から支持体3へのドープの吐出方向は、支持体3の面(ドープが流延される面)の法線に対する角度で0°〜90°の範囲内となるように適宜設定されればよい。
<Hypersalivation process>
In the casting step, the dope prepared in the stirring preparation step is sent to the casting die 2 by a conduit through a pressurized metering gear pump or the like, and the dope is poured from the casting die 2 to the casting position on the support 3. Postpone. Then, the cast dope is dried on the support 3 to form the web 5 as a cast film. The inclination of the casting die 2, that is, the ejection direction of the dope from the casting die 2 to the support 3, is 0 ° to 90 ° at an angle with respect to the normal of the surface of the support 3 (the surface on which the doping is spread). It may be appropriately set so as to be within the range of.

支持体3は、一対のロール3a・3bおよびこれらの間に位置する複数のロール(不図示)によって保持されている。ロール3a・3bの一方または両方には、支持体3に張力を付与する駆動装置(不図示)が設けられており、これによって支持体3は張力が掛けられて張った状態で使用される。 The support 3 is held by a pair of rolls 3a and 3b and a plurality of rolls (not shown) located between them. One or both of the rolls 3a and 3b is provided with a driving device (not shown) for applying tension to the support 3, whereby the support 3 is used in a tensioned state.

流延工程では、支持体3上に流延されたドープにより形成されたウェブ5を、支持体3上で加熱し、支持体3から剥離ロール4によってウェブ5が剥離可能になるまで溶媒を蒸発させる。溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法や、支持体3の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があり、適宜、単独であるいは組み合わせて用いればよい。 In the casting step, the web 5 formed by the dope cast on the support 3 is heated on the support 3, and the solvent is evaporated from the support 3 until the web 5 can be peeled by the peeling roll 4. Let me. To evaporate the solvent, there are a method of blowing wind from the web side, a method of transferring heat from the back surface of the support 3 with a liquid, a method of transferring heat from the front and back surfaces by radiant heat, etc., and they are used individually or in combination as appropriate. Just do it.

<剥離工程>
上記の流延工程にて、支持体3上でウェブ5が剥離可能な膜強度となるまで乾燥固化あるいは冷却凝固させた後、剥離工程では、ウェブ5を、自己支持性を持たせたまま、支持体3から剥離ロール4によって剥離する。
<Peeling process>
In the above casting step, the web 5 is dried and solidified or cooled and solidified on the support 3 until the web 5 has a peelable film strength, and then in the peeling step, the web 5 is kept self-supporting. It is peeled from the support 3 by the peeling roll 4.

なお、剥離時点での支持体3上でのウェブ5の残留溶媒量は、乾燥の条件の強弱、支持体3の長さ等により、25〜80質量%の範囲であることが望ましい。残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、ウェブ5が柔らか過ぎると剥離時平面性を損ね、剥離張力によるシワや縦スジが発生しやすいため、経済速度と品質との兼ね合いで剥離時の残留溶媒量が決められる。なお、残留溶媒量は、下記式で定義される。 The amount of residual solvent of the web 5 on the support 3 at the time of peeling is preferably in the range of 25 to 80% by mass depending on the strength of the drying conditions, the length of the support 3, and the like. When peeling at a time when the amount of residual solvent is larger, if the web 5 is too soft, the flatness at the time of peeling is impaired, and wrinkles and vertical streaks are likely to occur due to the peeling tension. The amount of solvent is determined. The amount of residual solvent is defined by the following formula.

残留溶媒量(質量%)=(ウェブの加熱処理前質量−ウェブの加熱処理後質量)/(ウェブの加熱処理後質量)×100
ここで、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、115℃で1時間の加熱処理を行うことを表す。
Residual solvent amount (mass%) = (mass before heat treatment of web-mass after heat treatment of web) / (mass after heat treatment of web) x 100
Here, the heat treatment for measuring the amount of residual solvent means that the heat treatment is performed at 115 ° C. for 1 hour.

<凹凸形成工程>
凹凸形成工程では、剥離されたウェブ5の表面に、加工ロール20によって凹凸形状を形成する。加工ロール20には、最大高さRyが2μm以上となる表面加工が施されている。回転する加工ロール20にウェブ5が接触すると、加工ロール20の表面の凸部がウェブ5の表面に食い込む。これにより、ウェブ5の表面において、加工ロール20の凸部と接触した部分が凹むと同時に、その周囲が盛り上がり、ウェブ5の表面に凹凸形状が形成される。なお、加工ロール20の最大高さRyは、少なくとも1μmあればよい。
<Concavo-convex formation process>
In the unevenness forming step, an uneven shape is formed on the surface of the peeled web 5 by a processing roll 20. The processing roll 20 is surface-treated so that the maximum height Ry is 2 μm or more. When the web 5 comes into contact with the rotating processing roll 20, the convex portion on the surface of the processing roll 20 bites into the surface of the web 5. As a result, on the surface of the web 5, the portion in contact with the convex portion of the processing roll 20 is dented, and at the same time, the periphery thereof is raised, and an uneven shape is formed on the surface of the web 5. The maximum height Ry of the processing roll 20 may be at least 1 μm.

図3は、最大高さRyの計算方法を模式的に示す説明図である。最大高さRyは、JIS B 0601−1994で定義される値である。すなわち、最大高さRyは、粗さ曲線から、その平均線mの方向に基準長さLだけを抜き取り、この抜き取り部分の山頂線と谷底線との間隔(Ry)を、粗さ曲線の縦倍率の方向に測定し、この値をマイクロメートル(μm)で表したものである。JISは、日本工業規格を示す“Japanese Industrial Standards”の略である。 FIG. 3 is an explanatory diagram schematically showing a method of calculating the maximum height Ry. The maximum height Ry is a value defined in JIS B 0601-1994. That is, the maximum height Ry is obtained by extracting only the reference length L from the roughness curve in the direction of the average line m, and determining the distance (Ry) between the peak line and the valley bottom line of the extracted portion in the vertical direction of the roughness curve. It is measured in the direction of magnification and this value is expressed in micrometers (μm). JIS is an abbreviation for "Japanese Industrial Standards", which indicates Japanese Industrial Standards.

<第1乾燥工程>
加工ロール20によって表面に凹凸が形成されたウェブ5は、乾燥装置6にて乾燥される。乾燥装置6内では、複数の搬送ロールによってウェブ5が搬送され、その間にウェブ5が乾燥される。乾燥装置6での乾燥方法は、特に制限はなく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等を用いてウェブ5を乾燥させる。簡便さの点から、熱風でウェブ5を乾燥させる方法が好ましい。なお、第1乾燥工程は、必要に応じて行われればよい。
<First drying process>
The web 5 having irregularities formed on its surface by the processing roll 20 is dried by the drying device 6. In the drying device 6, the web 5 is conveyed by a plurality of conveying rolls, and the web 5 is dried between them. The drying method in the drying device 6 is not particularly limited, and generally, the web 5 is dried using hot air, infrared rays, a heating roll, microwaves, or the like. From the viewpoint of simplicity, a method of drying the web 5 with hot air is preferable. The first drying step may be performed as needed.

<延伸工程>
延伸工程では、乾燥装置6にて乾燥されたウェブ5を、テンター7によって延伸する。このときの延伸方向としては、フィルム搬送方向(MD方向;Machine Direction)、フィルム面内で上記搬送方向に垂直な幅手方向(TD方向;Transverse Direction)、これらの両方向、のいずれかである。延伸工程では、ウェブ5の両側縁部をクリップ等で固定して延伸するテンター方式が、フィルムの平面性や寸法安定性を向上させるために好ましい。なお、テンター7内では、延伸に加えて乾燥を行ってもよい。
<Stretching process>
In the stretching step, the web 5 dried by the drying device 6 is stretched by the tenter 7. The stretching direction at this time is one of a film transport direction (MD direction; Machine Direction), a width direction (TD direction; Transverse Direction) perpendicular to the transport direction in the film plane, and both of these directions. In the stretching step, a tenter method in which both side edges of the web 5 are fixed with clips or the like and stretched is preferable in order to improve the flatness and dimensional stability of the film. In the tenter 7, drying may be performed in addition to stretching.

なお、S6の延伸工程は、必要に応じて行われればよく、省略することが可能である。例えば、光学フィルムを巻き取った後に延伸を行う場合は、巻取前の上記延伸工程を省略することができる。 The stretching step of S6 may be performed as needed and can be omitted. For example, when the optical film is wound and then stretched, the stretching step before winding can be omitted.

<第2乾燥工程>
必要に応じてテンター7にて延伸されたウェブ5は、乾燥装置8にて乾燥される。乾燥装置8内では、複数の搬送ロールによってウェブ5が搬送され、その間にウェブ5が乾燥される。乾燥装置8での乾燥方法は、特に制限はなく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等を用いてウェブ5を乾燥させる。簡便さの点から、熱風でウェブ5を乾燥させる方法が好ましい。
<Second drying process>
If necessary, the web 5 stretched by the tenter 7 is dried by the drying device 8. In the drying device 8, the web 5 is conveyed by a plurality of conveying rolls, and the web 5 is dried between them. The drying method in the drying device 8 is not particularly limited, and generally, the web 5 is dried using hot air, infrared rays, a heating roll, microwaves, or the like. From the viewpoint of simplicity, a method of drying the web 5 with hot air is preferable.

ウェブ5は、乾燥装置8にて乾燥された後、光学フィルムFとして巻取装置11に向かって搬送される。 After being dried by the drying device 8, the web 5 is conveyed as an optical film F toward the winding device 11.

<切断工程、エンボス加工工程>
乾燥装置8と巻取装置11との間には、切断部9およびエンボス加工部10がこの順で配置されている。切断部9では、製膜された光学フィルムFを搬送しながら、その幅手方向の両端部を、スリッターによって切断する切断工程が行われる。光学フィルムFにおいて、両端部の切断後に残った部分は、フィルム製品となる製品部を構成する。一方、光学フィルムFから切断された部分は、シュータにて回収され、再び原材料の一部としてフィルムの製膜に再利用される。
<Cutting process, embossing process>
A cutting portion 9 and an embossing portion 10 are arranged in this order between the drying device 8 and the winding device 11. In the cutting portion 9, a cutting step is performed in which both ends in the width direction of the optical film F, which has been formed into a film, are cut by a slitter while being conveyed. In the optical film F, the portion remaining after cutting both ends constitutes a product portion to be a film product. On the other hand, the portion cut from the optical film F is recovered by a shooter and reused as a part of the raw material for film formation.

切断工程の後、光学フィルムFの幅手方向の両端部には、エンボス加工部10により、エンボス加工(ナーリング加工)が施される。エンボス加工は、加熱されたエンボスローラーを光学フィルムFの両端部に押し当てることにより行われる。エンボスローラーの表面には細かな凹凸が形成されており、エンボスローラーを光学フィルムFの両端部に押し当てることで、上記両端部に凹凸が形成される。このようなエンボス加工により、次の巻取工程での巻きズレやブロッキング(フィルム同士の貼り付き)を極力抑えることができる。 After the cutting step, both ends of the optical film F in the width direction are embossed (knurled) by the embossing portion 10. The embossing process is performed by pressing a heated embossing roller against both ends of the optical film F. Fine irregularities are formed on the surface of the embossing roller, and by pressing the embossing roller against both ends of the optical film F, the irregularities are formed on both ends. By such embossing, winding misalignment and blocking (sticking between films) in the next winding process can be suppressed as much as possible.

<巻取工程>
最後に、エンボス加工が終了した光学フィルムFを、巻取装置11によって巻き取り、光学フィルムFの元巻(フィルムロール)を得る。すなわち、巻取工程では、光学フィルムFを搬送しながら巻芯に巻き取ることにより、フィルムロールが製造される。光学フィルムFの巻き取り方法は、一般に使用されているワインダーを用いればよく、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等の張力をコントロールする方法があり、それらを使い分ければよい。光学フィルムFの巻長は、1000〜7200mであることが好ましい。また、その際の幅は1000〜3200mm幅であることが望ましく、膜厚は10〜60μmであることが望ましい。
<Winding process>
Finally, the optical film F for which the embossing process has been completed is wound by the winding device 11 to obtain the original winding (film roll) of the optical film F. That is, in the winding step, a film roll is manufactured by winding the optical film F around the winding core while conveying it. As the winding method of the optical film F, a commonly used winder may be used, and there are methods for controlling the tension such as a constant torque method, a constant tension method, a taper tension method, and a program tension control method with a constant internal stress. You can use them properly. The winding length of the optical film F is preferably 1000 to 7200 m. Further, the width at that time is preferably 1000 to 3200 mm, and the film thickness is preferably 10 to 60 μm.

図4は、上記の製造方法によって製造された光学フィルムFの断面形状を模式的に示す断面図である。上記したように、凹凸形成工程において、加工ロール20によってウェブ5の表面に凹凸形状を形成することにより、製造された光学フィルムFの表面においては、250000μm2(500μm×500μm)の範囲内に、ウェブ5の凹凸に対応する凹凸FPVが1個以上存在している。すなわち、微粒子非含有の光学フィルムFは、表面の250000μm2の範囲内に1個以上の凹凸FPVを有する。この結果、光学フィルムFの表面には、凹凸FPVが形成された凹凸領域Faと、凹凸FPVを除く非凹凸領域Fbとが混在する。なお、上記面積の範囲内での凹凸FPVの数の上限および下限は、凹凸領域Faと非凹凸領域Fbとが混在するように、凹凸FPVの大きさ(深さ、長径)に応じて適宜設定されればよい。なお、ここでは、光学フィルムFの表面の凹部と凸部との組(ペア)を、「凹凸」と呼ぶ。したがって、例えば1個の凹凸とは、凹部と凸部とが1個ずつの組を指す。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing the cross-sectional shape of the optical film F manufactured by the above manufacturing method. As described above, in the unevenness forming step, the surface of the optical film F produced by forming the uneven shape on the surface of the web 5 by the processing roll 20 is within the range of 250,000 μm 2 (500 μm × 500 μm). unevenness F PV corresponding to the unevenness of the web 5 is present 1 or more. That is, the optical film F of the particulate-free has one or more irregularities F PV within the 250000Myuemu 2 surface. As a result, on the surface of the optical film F, the concavo-convex region Fa on which the concavo- convex F PV is formed and the non-concavo-convex region Fb excluding the concavo-convex F PV coexist. The number of upper and lower limits of irregularities F PV within the range of the area, so that the irregular region Fa and the non-shaped regions Fb mixed, the magnitude of the irregularities F PV (depth, diameter) in accordance with the It may be set as appropriate. Here, the pair of the concave portion and the convex portion on the surface of the optical film F is referred to as "concavo-convex". Therefore, for example, one unevenness means a set of one concave portion and one convex portion.

光学フィルムFの表面において、凹凸FPVの周囲(非凹凸領域Fb)の表面粗さSaは、1.5nm以下であり、ほとんど平面(平坦)に近い。本実施形態において、凹凸FPVの周囲の表面粗さSaの好ましい範囲は、0.9nm以下である。The surface of the optical film F, the surface roughness Sa of the peripheral (non-shaped regions Fb) of irregularities F PV is at 1.5nm or less, most close to the plane (flat). In this embodiment, the preferred range of the surface roughness Sa of the surrounding asperities F PV is less 0.9 nm.

図5は、表面粗さSaの計算方法を模式的に示す説明図である。表面粗さSaは、ISO 25178表面性状(面粗さ測定)のパラメータである。ISOは、国際標準化機構を示す“International Organization for Standardization”の略である。表面粗さSaは、表面粗さRa(線の算術平均高さ)を面に拡張したパラメータであり、表面の平均面SAVEに対する凹凸(各点の高さ)の絶対値の平均を表す。FIG. 5 is an explanatory diagram schematically showing a calculation method of the surface roughness Sa. Surface roughness Sa is a parameter of ISO 25178 surface texture (surface roughness measurement). ISO is an abbreviation for "International Organization for Standardization", which indicates the International Organization for Standardization. The surface roughness Sa is a parameter obtained by extending the surface roughness Ra (arithmetic mean height of the line) to the surface, and represents the average of the absolute values of the unevenness (height of each point ) with respect to the average surface SAVE of the surface.

図6は、参考として、上記の表面粗さRaの計算方法を模式的に示す説明図である。表面粗さRaは、算出平均粗さとも呼ばれ、JIS B0601−1994またはJIS B 0601−2001で定義される値である。表面粗さRaは、粗さ曲線から、その平均線mの方向に基準長さLだけを抜き取り、この抜き取り部分の平均線mの方向にX軸を、縦倍率の方向にY軸を取り、粗さ曲線をy=f(x)で表したときに、同図中の式によって求められる値をマイクロメートル(μm)で表したものである。 FIG. 6 is an explanatory diagram schematically showing the above-mentioned calculation method of the surface roughness Ra for reference. The surface roughness Ra, also called an arithmetic mean roughness, is a value defined by JIS B0601-1994 or JIS B0601-2001. For the surface roughness Ra, only the reference length L is extracted from the roughness curve in the direction of the average line m, the X axis is taken in the direction of the average line m of the extracted portion, and the Y axis is taken in the direction of the longitudinal magnification. When the roughness curve is expressed by y = f (x), the value obtained by the formula in the figure is expressed in micrometer (μm).

また、光学フィルムFの表面において、凹凸FPVの長径は、5〜15μmであり、最大高さ粗さRzは、100〜1000nmである。凹凸FPVの長径および最大高さ粗さRzは、例えば、最大高さRyの異なる加工ロール20を複数用意しておき、複数の加工ロール20の中から適切な加工ロール20を選択して使用することによって調整できる。Further, the surface of the optical film F, the major axis of the unevenness F PV, a 5 to 15 [mu] m, the maximum height roughness Rz is 100 to 1000 nm. Major axis and a maximum height roughness Rz of the unevenness F PV, for example, by selecting the maximum of different working roll 20 height Ry leave plurality prepared, appropriate work roll 20 from a plurality of work rolls 20 using It can be adjusted by doing.

図7は、最大高さ粗さRzの計算方法を模式的に示す説明図である。最大高さ粗さRzの定義は、最大高さRyと同じであるが、最大高さRyは、μm単位で表され、金属研磨などの分野で一般的に使われる。フィルム表面状態のパラメータとしては、nm単位で表される最大高さ粗さRzを用いることが多いため、ここでは、最大高さ粗さRzを用いて凹凸FPVを表している。FIG. 7 is an explanatory diagram schematically showing a method of calculating the maximum height roughness Rz. The definition of the maximum height roughness Rz is the same as the maximum height Ry, but the maximum height Ry is expressed in μm units and is generally used in fields such as metal polishing. The parameters of the film surface state, are often used maximum height roughness Rz expressed in nm, here, it represents the unevenness F PV by using the maximum height roughness Rz.

本実施形態では、上述した光学フィルムFの製造において、加工ロール20によってウェブ5の表面に凹凸形状を形成する。これにより、ウェブ5が微粒子を含有していなくても、そのウェブ5に滑り性が付与される。したがって、その後、ウェブ5が乾燥装置6およびテンター7内を各ロールによって搬送される場合でも、ウェブ5が各ロールに貼り付くのを低減することができる。その結果、ウェブ5の表面に小さい搬送キズがつきにくくなる。また、ウェブ5の滑り性が悪いと、ウェブ5の搬送時に複数のロール間で引っ張られることによって、ウェブ5にツレやシワが発生しやすくなるが、ウェブ5に滑り性が付与されて貼り付きが低減されるため、そのようなツレやシワの発生を低減しながら、ウェブ5を良好に搬送することができる。なお、ツレおよびシワの詳細な定義については後述する。 In the present embodiment, in the production of the optical film F described above, the processing roll 20 forms an uneven shape on the surface of the web 5. As a result, even if the web 5 does not contain fine particles, the web 5 is imparted with slipperiness. Therefore, even when the web 5 is subsequently conveyed by each roll in the drying device 6 and the tenter 7, it is possible to reduce the sticking of the web 5 to each roll. As a result, small transport scratches are less likely to occur on the surface of the web 5. Further, if the slipperiness of the web 5 is poor, the web 5 is easily pulled between a plurality of rolls during transportation, and the web 5 is likely to have wrinkles or wrinkles. However, the web 5 is imparted with slipperiness and sticks to the web 5. Therefore, the web 5 can be satisfactorily transported while reducing the occurrence of such wrinkles and wrinkles. The detailed definitions of wrinkles and wrinkles will be described later.

また、光学フィルムFの表面において、凹凸FPVの周囲(非凹凸領域Fb)の表面粗さSaは、1.5nm以下である。非凹凸領域Fbはほぼ平坦であり、表面ヘイズが小さくなるため、フィルム全体としてガラスに近い低ヘイズを実現することができる。Further, the surface of the optical film F, the surface roughness Sa of the surrounding asperities F PV (non-shaped regions Fb) is 1.5nm or less. Since the non-concavo-convex region Fb is substantially flat and the surface haze is small, it is possible to realize a low haze close to that of glass as a whole film.

つまり、光学フィルムFが微粒子を含有しない構成であっても、製造時に搬送キズがつきにくく、ツレやシワの発生も低減することができ、これによって、大量生産可能な製法(例えば溶液流延製膜法)で光学フィルムFを作製できるとともに、ガラスに近い低ヘイズと、製造時の良好な搬送性とを両立させることができる。 That is, even if the optical film F does not contain fine particles, it is difficult to cause transport scratches during manufacturing, and it is possible to reduce the occurrence of creases and wrinkles, whereby a manufacturing method capable of mass production (for example, solution casting) The optical film F can be produced by the film method), and both low haze close to that of glass and good transportability during production can be achieved at the same time.

また、光学フィルムFを他のフィルムと貼り合わせたり、光学フィルムF上に何らかの機能層(例えばハードコート層)を塗布すべく、一旦巻き取った光学フィルムFを再度繰り出して搬送する場合でも、その光学フィルムFが搬送ロールに貼り付くのを凹凸FPVの存在によって低減することができ、光学フィルムFの良好な搬送性を実現することが可能となる。Further, even when the optical film F once wound up is re-rolled out and conveyed in order to bond the optical film F to another film or to apply some functional layer (for example, a hard coat layer) on the optical film F, the optical film F may be unwound and conveyed. can optical film F is reduced by the presence of irregularities F PV from sticking to conveyor roll, it is possible to achieve a good transport of the optical film F.

また、非凹凸領域Fbの表面粗さSaが0.9nm以下である場合、非凹凸領域Fbの表面ヘイズがより小さくなるため、低ヘイズの光学フィルムFを確実に実現することができる。また、光学フィルムFの表面の250000μm2の範囲内に凹凸FPVが2個以上20個以下存在する場合、凹凸領域Faと非凹凸領域Fbとがバランスよく存在するため、ヘイズ低減の効果と、製造時の良好な搬送性を確保する効果とをバランスよく得ることができる。Further, when the surface roughness Sa of the non-concavo-convex region Fb is 0.9 nm or less, the surface haze of the non-concavo-convex region Fb becomes smaller, so that the optical film F having a low haze can be surely realized. Also, if uneven F PV exists 20 or less 2 or more in the range of 250000Myuemu 2 of surface of the optical film F, because the concave-convex region Fa and the non-shaped regions Fb present good balance, and the effect of haze reduction, The effect of ensuring good transportability during manufacturing can be obtained in a well-balanced manner.

また、上述した方法で光学フィルムFに凹凸FPVを形成することにより、光学フィルムFを巻き取るまでは、良好な搬送性を確保するために凹凸FPVを残存させておき、上記光学フィルムFを使用する場合には、光学フィルムFを繰り出して熱処理を行うことにより、凹凸FPVを消失または緩和させることができる。これにより、微粒子非含有の光学フィルムFを、光学特性の良好なフィルムとして使用することが可能となる。なお、上記の緩和とは、凹凸FPVのサイズまたは高さが熱処理によって小さくなることを意味する。 Further, by forming the concavo-convex F PV on the optical film F by the method described above, the concavo-convex F PV is left in order to ensure good transportability until the optical film F is wound, and the concavo-convex F PV is left. When the optical film F is used, the uneven FPV can be eliminated or alleviated by feeding out the optical film F and performing heat treatment. This makes it possible to use the optical film F containing no fine particles as a film having good optical characteristics. Incidentally, the above relaxation, the size or height of the irregularity F PV which means that smaller by heat treatment.

ここで、熱処理によって凹凸FPVを消失または緩和させる原理については、以下のように推察している。すなわち、支持体3は、金属製であり、支持体3上に流延したドープ中の溶媒は、支持体3には浸透しない。このように溶媒が浸透しない支持体3上に製膜したウェブ5は、支持体3からの剥離後、表面の近傍のみ乾燥して固くなるが、その内部は、溶媒が多く残留しているため柔らかい。その状態で、ウェブ5が加工ロール20上で搬送されると、ウェブ5には加工ロール20によって凹凸が形成されるが、その凹みは内部の柔らかい部分が押しつぶされた状態になっている。上記のようにして形成された凹凸に対して、樹脂のガラス転移温度(Tg)以上の高温で熱処理すると、光学フィルムFにおける上記部分(押しつぶされた部分)が分子運動によって元の形(状態)に復元しようとし、これによって凹凸FPVが消失するか、緩和される。Here, the principle of eliminating or alleviating the uneven F PV by heat treatment, are inferred as follows. That is, the support 3 is made of metal, and the solvent in the dope cast on the support 3 does not permeate the support 3. The web 5 formed on the support 3 in which the solvent does not permeate in this way dries and hardens only in the vicinity of the surface after peeling from the support 3, but since a large amount of solvent remains inside the web 5. soft. In this state, when the web 5 is conveyed on the processing roll 20, unevenness is formed on the web 5 by the processing roll 20, but the dent is in a state where the soft portion inside is crushed. When the unevenness formed as described above is heat-treated at a high temperature equal to or higher than the glass transition temperature (Tg) of the resin, the above-mentioned portion (crushed portion) in the optical film F is restored to its original shape (state) by molecular motion. trying to restore, this depending on whether the irregularities F PV is lost, is relaxed.

また、凹凸形成工程では、最大高さRyが2μm以上となる表面加工が施された加工ロール20によって、ウェブ5の表面に凹凸形状を形成するため、最終的な光学フィルムFとして、表面の250000μm2の範囲内に凹凸FPVが1個以上存在し、凹凸FPVの周囲の表面粗さSaが1.5nm以下である光学フィルムFを確実に実現することができる。Further, in the unevenness forming step, the uneven shape is formed on the surface of the web 5 by the processing roll 20 which has been surface-treated so that the maximum height Ry is 2 μm or more, so that the final optical film F is 250,000 μm on the surface. there uneven F PV or more one within 2 range, the surface roughness Sa of the surrounding asperities F PV can be reliably realize an optical film F is 1.5nm or less.

また、最大高さRyが2μm未満である加工ロール20を用いてウェブ5の表面に凹凸を形成した場合、上記凹凸の長径および最大高さ粗さRzが小さくなって、ウェブ5の搬送時の貼り付き低減効果が小さくなり、搬送性を向上させる効果が小さくなることが懸念される。加工ロール20の最大高さRyが2μm以上であることにより、ウェブ5の搬送性向上の効果を確実に得ることができる。なお、ウェブ5の搬送性向上の効果をより確実に得る観点では、加工ロール20の最大高さRyは、4μm以上であることが望ましい。 Further, when unevenness is formed on the surface of the web 5 by using a processing roll 20 having a maximum height Ry of less than 2 μm, the major axis and the maximum height roughness Rz of the unevenness become small, and the web 5 is transported. There is a concern that the effect of reducing sticking will be reduced and the effect of improving transportability will be reduced. When the maximum height Ry of the processing roll 20 is 2 μm or more, the effect of improving the transportability of the web 5 can be surely obtained. From the viewpoint of more reliably obtaining the effect of improving the transportability of the web 5, it is desirable that the maximum height Ry of the processing roll 20 is 4 μm or more.

上記のように、最大高さRyが2μm以上の加工ロール20を用いてウェブ5の表面に凹凸形状を形成すると、長径が5〜15μmで、最大高さ粗さRzが100〜1000nmの凹凸FPVが表面に形成された光学フィルムFが得られることが、後述する実施例からわかっている。したがって、光学フィルムFの表面において、凹凸FPVの長径が5〜15μmであり、最大高さ粗さRzが100〜1000nmであれば、光学フィルムFの製造時(ウェブ5の搬送時)における搬送性向上の効果を確実に得ることができると言える。As described above, when a concavo-convex shape is formed on the surface of the web 5 using a processing roll 20 having a maximum height Ry of 2 μm or more, a concavo-convex F having a major axis of 5 to 15 μm and a maximum height roughness Rz of 100 to 1000 nm. It is known from the examples described later that an optical film F in which PV is formed on the surface can be obtained. Thus, the surface of the optical film F, a major diameter 5~15μm of irregularities F PV, if the maximum height roughness Rz of 100 to 1000 nm, the transport during manufacture of the optical film F (during conveyance of the web 5) It can be said that the effect of improving sexuality can be surely obtained.

ところで、凹凸形成工程において、加工ロール20によって凹凸を形成するときのウェブ5の残留溶媒量が5質量%未満であると、ウェブ5が硬くなり、加工ロール20との接触によってウェブ5に凹凸が形成されにくくなる。このため、光学フィルムFにおいて、凹凸FPVの長径および最大高さ粗さRzが小さくなり、搬送性向上の効果が得られにくくなる。逆に、上記残留溶媒量が35質量%を超えると、ウェブ5が柔らかくなり、加工ロール20との接触によってウェブ5に凹凸が形成されやすくなる。このため、光学フィルムFにおいて、凹凸FPVの長径および最大高さ粗さRzが大きくなり、その後の熱処理によって凹凸FPVを消失または緩和させる効果が得られにくくなる。By the way, in the unevenness forming step, if the residual solvent amount of the web 5 when forming the unevenness by the processing roll 20 is less than 5% by mass, the web 5 becomes hard and the web 5 becomes uneven due to contact with the processing roll 20. It becomes difficult to form. Therefore, in the optical film F, the smaller the diameter and the maximum height roughness Rz of the unevenness F PV, the effect of transportability improver is not easily obtained. On the contrary, when the residual solvent amount exceeds 35% by mass, the web 5 becomes soft and unevenness is likely to be formed on the web 5 by contact with the processing roll 20. Therefore, in the optical film F, the long diameter and a maximum height roughness Rz of the unevenness F PV increases, the effect of eliminating or alleviating the uneven F PV by subsequent heat treatment becomes difficult to obtain.

したがって、以上のことから、凹凸形成工程において、加工ロール20によって凹凸を形成するときのウェブ5の残留溶媒量は、5〜35質量%であることが望ましい。なお、上記残留溶媒量のさらに望ましい範囲は、6〜33質量%である。 Therefore, from the above, it is desirable that the amount of residual solvent in the web 5 when the unevenness is formed by the processing roll 20 in the unevenness forming step is 5 to 35% by mass. A more desirable range of the residual solvent amount is 6 to 33% by mass.

また、支持体3上に流延するドープは、樹脂および溶媒を含み、上記樹脂は、シクロオレフィン系樹脂(COP)であってもよい。この場合、COPを用い、溶液流延製膜法によって光学フィルムFを製造する場合において、上述した本実施形態の効果を得ることができる。 Further, the dope flowing on the support 3 contains a resin and a solvent, and the resin may be a cycloolefin-based resin (COP). In this case, when the optical film F is produced by the solution casting film forming method using COP, the effect of the present embodiment described above can be obtained.

〔実施例〕
以下、本発明の実施例について、比較例も挙げながら説明する。なお、本発明は、以下の実施例には限定されない。
〔Example〕
Hereinafter, examples of the present invention will be described with reference to comparative examples. The present invention is not limited to the following examples.

<実施例1>
(ドープの調製)
シクロオレフィン系樹脂(G7810、JSR株式会社製)
120質量部
ジクロロメタン 357質量部
エタノール 19質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙(株)製の安積濾紙No.24を使用して濾過し、ドープを調製した。
<Example 1>
(Preparation of doping)
Cycloolefin resin (G7810, manufactured by JSR Corporation)
120 parts by mass Dichloromethane 357 parts by mass Ethanol 19 parts by mass or more was put into a closed container, and it was completely dissolved while heating and stirring. 24 was used for filtration to prepare a dope.

次に、ベルト流延製膜装置(図1の製造装置1)を用い、ステンレスバンド支持体(支持体3)上に、微粒子非含有のドープを均一に流延した。支持体上で、残留溶媒量が40質量%になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上からウェブを剥離した。その後、残留溶媒量が12質量%の状態で、最大高さRy=4μmの加工ロールを用いてウェブに凹凸形状を付与した。その後、得られたウェブを130℃の乾燥装置内を多数のローラーで搬送させながら15分間乾燥させた後、1.0m幅にスリットし、巻芯に巻き取り、シクロオレフィン系樹脂からなる光学フィルム101を得た。光学フィルム101の厚さは15μm、巻長は5000mであった。 Next, using a belt casting film forming apparatus (manufacturing apparatus 1 in FIG. 1), a fine particle-free dope was uniformly spread on the stainless band support (support 3). The solvent was evaporated on the support until the residual solvent amount reached 40% by mass, and the web was peeled off from the stainless band support. Then, in a state where the residual solvent amount was 12% by mass, a processing roll having a maximum height of Ry = 4 μm was used to impart an uneven shape to the web. Then, the obtained web was dried for 15 minutes while being conveyed in a drying device at 130 ° C. by a large number of rollers, slit to a width of 1.0 m, wound around a winding core, and an optical film made of a cycloolefin resin. 101 was obtained. The thickness of the optical film 101 was 15 μm, and the winding length was 5000 m.

(表面粗さSaの測定)
白色干渉顕微鏡Zygoを用い、巻き取り後の光学フィルム101の両面の表面粗さSaを測定した。より具体的には、光学フィルム101の表面上で無作為に5箇所を選び、選んだ各箇所で凹凸が含まれない視野(約85μm×85μmの範囲)において、白色干渉顕微鏡Zygoによって表面粗さSaをそれぞれ(5箇所)測定し、その平均値を最終的な表面粗さSaとした。その結果、両面の表面粗さSaは0.9nmであった。なお、顕微鏡の接眼レンズの倍率は2倍であり、対物レンズの倍率は50倍であった。
(Measurement of surface roughness Sa)
Using a white interference microscope Zygo, the surface roughness Sa on both sides of the optical film 101 after winding was measured. More specifically, five locations were randomly selected on the surface of the optical film 101, and the surface roughness was measured by the white interference microscope Zygo in a field of view (range of about 85 μm × 85 μm) in which irregularities were not included in each selected location. Sa was measured at each (5 points), and the average value was taken as the final surface roughness Sa. As a result, the surface roughness Sa on both sides was 0.9 nm. The magnification of the eyepiece of the microscope was 2 times, and the magnification of the objective lens was 50 times.

(凹凸個数の測定)
光学顕微鏡(レンズ20倍、微分干渉フィルタを使用)を用い、視野内で見える光学フィルム101の凹凸の個数を測定し、これを500μm×500μm=250000μm2の領域での個数に換算した。このとき、光学フィルム101の表面上で無作為に5箇所を選び、選んだ各箇所で凹凸の個数を測定し、上記領域での個数に換算した後、5箇所の平均値を算出し、最終的な凹凸の個数とした。この結果、光学フィルム101の凹凸の個数は、250000μm2あたり4個であった。ちなみに、図8は、光学フィルム101における表面粗さSaの測定範囲と、凹凸個数の算出範囲との関係を模式的に示している。
(Measurement of the number of irregularities)
Using an optical microscope (lens 20 times, using a differential interference filter), the number of irregularities of the optical film 101 visible in the field of view was measured, and this was converted into the number in the region of 500 μm × 500 μm = 250,000 μm 2. At this time, five locations are randomly selected on the surface of the optical film 101, the number of irregularities is measured at each selected location, converted into the number in the above region, and then the average value of the five locations is calculated, and the final value is calculated. The number of unevenness was set. As a result, the number of irregularities of the optical film 101 was 4 per 250,000 μm 2. Incidentally, FIG. 8 schematically shows the relationship between the measurement range of the surface roughness Sa of the optical film 101 and the calculation range of the number of irregularities.

(凹凸の長径、最大高さ粗さRzの測定)
光学フィルム101の表面上で凹凸箇所を無作為に5箇所選び、選んだ各箇所で、凹凸の長径および最大高さ粗さRzを、白色干渉顕微鏡Zygoによって測定した。そして、5箇所の平均値を最終的な凹凸の長径および最大高さ粗さRzとした。その結果、凹凸の長径は10μmであり、最大高さ粗さRzは200nmであった。なお、顕微鏡の接眼レンズの倍率は2倍であり、対物レンズの倍率は50倍であった。
(Measurement of major axis of unevenness, maximum height roughness Rz)
Five uneven parts were randomly selected on the surface of the optical film 101, and the major axis and the maximum height roughness Rz of the uneven parts were measured by a white interference microscope Zygo at each of the selected parts. Then, the average value of the five points was taken as the major axis of the final unevenness and the maximum height roughness Rz. As a result, the major axis of the unevenness was 10 μm, and the maximum height roughness Rz was 200 nm. The magnification of the eyepiece of the microscope was 2 times, and the magnification of the objective lens was 50 times.

<比較例1>
支持体として、表面に意図的に凹凸状の打痕を付けた支持体(PET製)を用い、この支持体上に、実施例1と同様のドープを流延し、ウェブを剥離した後、加工ロールによる凹凸の付与を行わずにウェブを搬送した。それ以外については実施例1と同様にして、光学フィルム201を作製した。ウェブには支持体の表面の凹凸が転写されるが、このときのウェブの残留溶媒量は、200質量%であった。
<Comparative example 1>
As the support, a support (manufactured by PET) with intentionally uneven dents on the surface is used, the same dope as in Example 1 is cast on the support, the web is peeled off, and then the web is peeled off. The web was transported without adding unevenness by the processing roll. The optical film 201 was produced in the same manner as in Example 1 except for the above. The unevenness of the surface of the support was transferred to the web, and the amount of residual solvent in the web at this time was 200% by mass.

この光学フィルム201に対して、実施例1と同様の方法で、表面粗さSa、凹凸個数、凹凸の長径および最大高さ粗さRzを測定した。その結果、両面の表面粗さSaは1.8nmであり、凹凸の個数は、250000μm2あたり3個であり、凹凸の長径は10μmであり、最大高さ粗さRzは240nmであった。For this optical film 201, the surface roughness Sa, the number of irregularities, the major axis of the irregularities, and the maximum height roughness Rz were measured by the same method as in Example 1. As a result, the surface roughness Sa on both sides was 1.8 nm, the number of irregularities was 3 per 250,000 μm 2 , the major axis of the irregularities was 10 μm, and the maximum height roughness Rz was 240 nm.

<比較例2>
特許文献2に記載の方法により、光学フィルム202を作製した。具体的には、溶融流延製膜法を用い、実施例1で用いた樹脂をペレット化したものをTダイスからフィルム状に溶融押出し、マットロールとゴムロールとで挟持加圧して、マットロールのマット模様をフィルム表面に転写することにより、光学フィルム202を作製した。このとき、マットロールの表面の最大高さRyは、75μmであった。
<Comparative example 2>
The optical film 202 was produced by the method described in Patent Document 2. Specifically, using the melt casting film forming method, pelletized resin used in Example 1 is melt-extruded from a T-die into a film, sandwiched between a mat roll and a rubber roll, and pressed to form a mat roll. The optical film 202 was produced by transferring the matte pattern to the film surface. At this time, the maximum height Ry of the surface of the mat roll was 75 μm.

この光学フィルム202に対して、実施例1と同様の方法で、両面の表面粗さSaを測定した。その結果、フィルムにおけるマットロールとの接触側の表面粗さSaは5.0nmであり、反対側の表面粗さSaは1.5nmであった。なお、光学フィルム202の表面全体が凹凸状態であるため、凹凸の個数等は計測不能であった。 The surface roughness Sa on both sides of the optical film 202 was measured in the same manner as in Example 1. As a result, the surface roughness Sa on the contact side with the mat roll in the film was 5.0 nm, and the surface roughness Sa on the opposite side was 1.5 nm. Since the entire surface of the optical film 202 is in an uneven state, the number of irregularities and the like cannot be measured.

<比較例3>
実施例1で用いたドープ中に、無機系の微粒子(アエロジル R812)を1.0質量部添加し、このドープを支持体上に流延し、ウェブを剥離した後、加工ロールによる凹凸の付与を行わずにウェブを搬送した。それ以外については実施例1と同様にして、光学フィルム203を作製した。
<Comparative example 3>
Inorganic fine particles (Aerosil R812) were added in an amount of 1.0 part by mass to the dope used in Example 1, the dope was cast on the support, the web was peeled off, and then unevenness was added by a processing roll. Transported the web without doing. The optical film 203 was produced in the same manner as in Example 1 except for the above.

この光学フィルム203に対して、実施例1と同様の方法で、表面粗さSa、凹凸個数を測定した。その結果、両面の表面粗さSaは2.3nmであった。また、凹凸は、250000μm2の領域内では見つからなかった。The surface roughness Sa and the number of irregularities were measured on the optical film 203 by the same method as in Example 1. As a result, the surface roughness Sa on both sides was 2.3 nm. In addition, no unevenness was found in the region of 250,000 μm 2.

<比較例4>
特許文献3に記載の方法により、光学フィルム204を作製した。具体的には、支持体上に実施例1と同様のドープを流延してウェブを形成し、ウェブの残留溶媒量が200質量%であるときに、平均粒経が25〜200nmの微粒子を含有する微粒子分散液をインクジェットヘッドから液滴として吐出し、ウェブの一方の面上に、着弾、付着させて、微細凸構造を形成した。そして、ウェブを剥離した後、加工ロールによる凹凸の付与を行わずにウェブを搬送した。それ以外については実施例1と同様にして、光学フィルム204を作製した。
<Comparative example 4>
The optical film 204 was produced by the method described in Patent Document 3. Specifically, the same dope as in Example 1 is cast on the support to form a web, and when the residual solvent amount of the web is 200% by mass, fine particles having an average grain diameter of 25 to 200 nm are formed. The contained fine particle dispersion was ejected as droplets from the inkjet head and landed and adhered to one surface of the web to form a fine convex structure. Then, after the web was peeled off, the web was conveyed without imparting unevenness by a processing roll. An optical film 204 was produced in the same manner as in Example 1 except for the above.

この光学フィルム204に対して、実施例1と同様の方法で、表面粗さSa、凹凸個数、凹凸の長径および最大高さ粗さRzを測定した。その結果、凹凸付与面の表面粗さSaは8.3nmであり、凹凸の個数は、250000μm2あたり50個であり、凹凸の長径は10μmであり、最大高さ粗さRzは120nmであった。For this optical film 204, the surface roughness Sa, the number of irregularities, the major axis of the irregularities, and the maximum height roughness Rz were measured by the same method as in Example 1. As a result, the surface roughness Sa of the unevenness-imparted surface was 8.3 nm, the number of irregularities was 50 per 250,000 μm 2 , the major axis of the irregularities was 10 μm, and the maximum height roughness Rz was 120 nm. ..

<評価>
(搬送性)
〈ツレ、シワ〉
一旦巻き取った光学フィルムを後工程において繰り出し搬送させた際の搬送中の光学フィルムの表面を目視で観察して、ツレおよびシワ(折れシワ)の発生の有無を確認し、以下の基準に基づいて、フィルムの品質を評価した。なお、ここでは、光学フィルムの搬送速度を20m/minとし、搬送張力を100Nとし、鏡面ロールに90°の角度でフィルムが抱かれて搬送されている箇所を観察した。
<Evaluation>
(Transportability)
<Tsure, wrinkles>
Visually observe the surface of the optical film being transported when the once wound optical film is unwound and transported in a subsequent process to confirm the presence or absence of wrinkles and wrinkles, and based on the following criteria. The quality of the film was evaluated. Here, the transfer speed of the optical film was set to 20 m / min, the transfer tension was set to 100 N, and the portion where the film was conveyed while being held by the mirror surface roll at an angle of 90 ° was observed.

なお、上記のツレとは、発生しても跡が残らない(元に戻る)フィルム変形を指し、英語では例えば“wrinkle”がこれに相当する。また、上記のシワとは、発生すると跡が残るフィルム変形(折れシワ)を指し、英語では例えば“crease”がこれに相当する。図9は、ツレまたはシワが生じた各フィルムの幅手方向に沿った断面形状を模式的に示している。同図に示すように、断面が波状となるフィルム変形は、フィルムがロールに抱かれると(フィルムがロールの外周面と接触すると)、元の変形のない断面形状に戻るため、このようなフィルム変形はツレである。一方、フィルムが折れ込むような変形は、ロールに抱かれた後も残るため(元の変形のない断面形状には戻らないため)、シワである。
《評価基準》
◎:ツレおよびシワが全く確認されなかった。
○:ツレが1箇所確認されたが、シワは確認されず、問題はない。
△:ツレが複数箇所確認されたが、シワは確認されず、問題はない。
×:シワが発生していることが確認された。
The above-mentioned wrinkle refers to a film deformation that does not leave a mark (returns to the original state) even if it occurs, and in English, for example, "wrinkle" corresponds to this. Further, the above-mentioned wrinkle refers to a film deformation (folded wrinkle) that leaves a mark when it occurs, and in English, for example, "crease" corresponds to this. FIG. 9 schematically shows a cross-sectional shape of each film having wrinkles or wrinkles along the width direction. As shown in the figure, the film deformation having a wavy cross section returns to the original non-deformed cross-sectional shape when the film is held by the roll (when the film comes into contact with the outer peripheral surface of the roll). The deformation is a twist. On the other hand, the deformation such that the film folds is wrinkled because it remains even after being held by the roll (because it does not return to the original cross-sectional shape without deformation).
"Evaluation criteria"
⊚: No wrinkles or wrinkles were confirmed.
◯: One spot was confirmed, but no wrinkles were confirmed, and there was no problem.
Δ: Multiple spots were confirmed, but no wrinkles were confirmed, and there was no problem.
X: It was confirmed that wrinkles were generated.

〈搬送キズ〉
巻き取った光学フィルムを繰り出して、目視にてキズの発生(耐傷性)の有無を下記の方法で調べた。すなわち、繰り出した光学フィルムに対して、その巻外側から、暗室にてナトリウムランプ(KNL−35D、株式会社ライテスト社製)と市販の三波長蛍光灯を点灯させて光を照射し、フィルム表面で長さ2mm以上の方向性のある欠陥をキズとして認定した。なお、キズの認定は、フィルムの端部から5cmの範囲を除いた部分(上記範囲よりもフィルム内側の表面部分)で行った。そして、以下の基準に基づいて、キズ(搬送キズ)を評価した。
《評価基準》
◎:キズが全く確認されなかった。
○:キズがほとんど確認されなかった。
△:キズが軽微に確認されたが、実用上問題はない。
×:キズが明らかに発生しており、実用上問題がある。
<Transport scratches>
The wound optical film was unwound, and the presence or absence of scratches (scratch resistance) was visually inspected by the following method. That is, the unwound optical film is irradiated with light from the outside of the film by lighting a sodium lamp (KNL-35D, manufactured by Lytest Co., Ltd.) and a commercially available three-wavelength fluorescent lamp in a dark room, and irradiating the film surface. A directional defect with a length of 2 mm or more was recognized as a scratch. The scratches were identified at the portion excluding the range of 5 cm from the edge of the film (the surface portion inside the film from the above range). Then, the scratches (transportation scratches) were evaluated based on the following criteria.
"Evaluation criteria"
⊚: No scratches were confirmed.
◯: Almost no scratches were confirmed.
Δ: Scratches were slightly confirmed, but there is no problem in practical use.
X: Scratches are clearly generated and there is a problem in practical use.

(ヘイズ)
ヘイズメーター(日本電色工業(株)製、NDH2000)を用いて光学フィルムのヘイズを測定した。そして、以下の評価基準に基づいてヘイズを評価した。
《評価基準》
◎:ヘイズ値が0.10%未満である。
○:ヘイズ値が0.10%以上0.20%未満である。
△:ヘイズ値が0.20%以上0.30%未満である。
×:ヘイズ値が0.30%以上である。
(Haze)
The haze of the optical film was measured using a haze meter (NDH2000, manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd.). Then, the haze was evaluated based on the following evaluation criteria.
"Evaluation criteria"
⊚: The haze value is less than 0.10%.
◯: The haze value is 0.10% or more and less than 0.20%.
Δ: The haze value is 0.20% or more and less than 0.30%.
X: The haze value is 0.30% or more.

(熱処理による凹凸消失)
作製した光学フィルムに対して、Tgを樹脂のガラス転移温度として、Tg+5℃以上の温度下で、固定端状態で5分以上加熱して熱処理を行った。そして、光学フィルムの表面における熱処理後の凹凸の個数について、光学顕微鏡を用いて上記と同様の方法で測定し、250000μm2での領域の個数に換算した。また、光学フィルムの凹凸の最大高さ粗さRzを、白色干渉顕微鏡Zygoを用いて上記と同様の方法で測定した。そして、以下の評価基準に基づいて、熱処理による凹凸の消失(緩和)の効果について評価した。
《評価基準》
◎:250000μm2の範囲で、凹凸が一切見つからなかった。
○:250000μm2の範囲で、凹凸の個数が3個以下であり、最大高さ粗さRzが50nm以下であった。
△:250000μm2の範囲で、凹凸の個数が5個以下であり、最大高さ粗さRzが150nm以下であった。
×:250000μm2の範囲で、凹凸の個数が6個以上であり、最大高さ粗さRzが150nmよりも大きかった。
(Disappearance of unevenness due to heat treatment)
The produced optical film was heat-treated by heating it at a fixed end state for 5 minutes or more at a temperature of Tg + 5 ° C. or higher, with Tg as the glass transition temperature of the resin. Then, the number of irregularities on the surface of the optical film after the heat treatment was measured by the same method as above using an optical microscope, and converted into the number of regions at 250,000 μm 2. Further, the maximum height roughness Rz of the unevenness of the optical film was measured by the same method as described above using a white interference microscope Zygo. Then, based on the following evaluation criteria, the effect of eliminating (relaxing) unevenness by heat treatment was evaluated.
"Evaluation criteria"
⊚: No unevenness was found in the range of 250,000 μm 2.
◯: In the range of 250,000 μm 2 , the number of irregularities was 3 or less, and the maximum height roughness Rz was 50 nm or less.
Δ: In the range of 250,000 μm 2 , the number of irregularities was 5 or less, and the maximum height roughness Rz was 150 nm or less.
X: In the range of 250,000 μm 2 , the number of irregularities was 6 or more, and the maximum height roughness Rz was larger than 150 nm.

表1は、作製した実施例1の光学フィルム101、比較例1〜4の光学フィルム201〜204についての評価の結果を示している。 Table 1 shows the evaluation results of the optical film 101 of Example 1 and the optical films 201 to 204 of Comparative Examples 1 to 4.

Figure 2019239625
Figure 2019239625

表1より、比較例1では、フィルムのヘイズ値が高くなっている。これは、支持体の表面凹凸をウェブに転写する方法では、ウェブの表面の平滑性が極端に低くなるためと考えられる。また、比較例2では、マットロールによってフィルム全面に隙間なく凹凸が形成されるため、フィルムのヘイズ値が高くなっていると考えられる。さらに、比較例2では、熱処理による凹凸の消失効果が得られていない。溶融流延製膜法では、溶媒を用いないため、形成された凹凸が硬く、熱処理によって凹凸を変形させて平坦にすることができないためと考えられる。また、比較例3では、フィルムに微粒子が含有されているため、ヘイズ値が高くなっていると考えられる。比較例4では、インクジェット方式でフィルムに表面凹凸を形成しているが、凹凸の個数が多いため、ヘイズ値が高くなっていると考えられる。また、インクジェット方式で形成される表面凹凸は、フィルムの変形によるものではないため、熱処理によってフィルム変形が元に戻るということはなく、熱処理による凹凸の消失効果は全くない。 From Table 1, in Comparative Example 1, the haze value of the film is high. It is considered that this is because the smoothness of the surface of the web becomes extremely low in the method of transferring the surface unevenness of the support to the web. Further, in Comparative Example 2, it is considered that the haze value of the film is high because the matte roll forms irregularities on the entire surface of the film without gaps. Further, in Comparative Example 2, the effect of eliminating the unevenness by the heat treatment is not obtained. It is considered that the melt casting film forming method does not use a solvent, so that the formed irregularities are hard and cannot be flattened by deforming the irregularities by heat treatment. Further, in Comparative Example 3, it is considered that the haze value is high because the film contains fine particles. In Comparative Example 4, the surface irregularities are formed on the film by the inkjet method, but it is considered that the haze value is high because the number of irregularities is large. Further, since the surface unevenness formed by the inkjet method is not due to the deformation of the film, the film deformation is not restored by the heat treatment, and there is no effect of eliminating the unevenness by the heat treatment.

これに対して、実施例1では、搬送性(ツレ、シワ、搬送キズ)、ヘイズ、熱処理による凹凸の消失効果のいずれについても、良好な結果が得られている。実施例1では、フィルム表面において、凹凸が250000μm2の範囲内に1個以上存在しているため、ウェブが微粒子を含有していなくても、上記凹凸によってウェブに滑り性が付与され、その結果、ウェブに搬送キズが付きにくくなるとともに、ツレやシワも発生しにくくなり、搬送性が良好になると考えられる。また、凹凸の周囲の表面粗さSaが0.9nmであり、ほぼ平坦な面であるため、表面ヘイズが小さくなり、ガラスに近い低ヘイズを実現できていると考えられる。また、上記した凹凸の個数(密度)では、熱処理によって凹凸を消失または緩和させることができるため、使用時には、巻き取ったフィルムを再度繰り出して熱処理を行い、表面の凹凸を消失または緩和させて光学特性の良好なフィルムを得ることが可能になると言える。また、フィルムを繰り出して熱処理を行うまでは、フィルム表面に凹凸が残っているため、良好な搬送性を確保することも可能である。On the other hand, in Example 1, good results were obtained in all of the transportability (scratches, wrinkles, transport scratches), haze, and the effect of eliminating unevenness by heat treatment. In Example 1, since one or more irregularities are present on the film surface within the range of 250,000 μm 2 , even if the web does not contain fine particles, the unevenness imparts slipperiness to the web, and as a result. It is considered that the web is less likely to be scratched and less likely to be scratched or wrinkled, resulting in better transportability. Further, since the surface roughness Sa around the unevenness is 0.9 nm and the surface is almost flat, it is considered that the surface haze is small and low haze close to that of glass can be realized. Further, with the above-mentioned number (density) of irregularities, the irregularities can be eliminated or alleviated by heat treatment. Therefore, at the time of use, the wound film is unwound again to perform heat treatment to eliminate or alleviate the irregularities on the surface and perform optics. It can be said that it is possible to obtain a film having good characteristics. Further, since the surface of the film has irregularities until the film is unwound and heat-treated, it is possible to ensure good transportability.

なお、凹凸の周囲の表面粗さSaが実施例1の0.9nmであるときに、ヘイズを低減する効果があり、上記表面粗さSaが比較例1の1.8nmであるときに、上記効果がないことから、実施例1の0.9nmと比較例1の1.8nmとの間(例えば1.5nm)に、上記効果が得られる臨界点があると考えられる。したがって、上記効果を得るためには、上記表面粗さSaは1.5nm以下であればよく、0.9nm以下であることがより望ましいと言える。 It should be noted that when the surface roughness Sa around the unevenness is 0.9 nm in Example 1, there is an effect of reducing haze, and when the surface roughness Sa is 1.8 nm in Comparative Example 1, the above Since there is no effect, it is considered that there is a critical point where the above effect can be obtained between 0.9 nm of Example 1 and 1.8 nm of Comparative Example 1 (for example, 1.5 nm). Therefore, in order to obtain the above effect, the surface roughness Sa may be 1.5 nm or less, and more preferably 0.9 nm or less.

<実施例2〜7>
表2に記載の最大高さRyを有する加工ロールでウェブの表面に凹凸を形成した以外は、実施例1と同様にして、実施例2〜7の光学フィルム102〜107をそれぞれ作製した。そして、作製した光学フィルム102〜107に対して、実施例1と同様の方法で、表面粗さSa、凹凸個数、凹凸の長径および最大高さ粗さRzを測定した。
<Examples 2 to 7>
Optical films 102 to 107 of Examples 2 to 7 were produced in the same manner as in Example 1 except that irregularities were formed on the surface of the web with the processing roll having the maximum height Ry shown in Table 2. Then, the surface roughness Sa, the number of irregularities, the major axis of the irregularities, and the maximum height roughness Rz were measured for the produced optical films 102 to 107 in the same manner as in Example 1.

表2は、作製した実施例2〜7の光学フィルム102〜107についての評価の結果を、実施例1の光学フィルム101についての結果と併せて示している。 Table 2 shows the evaluation results of the produced optical films 102 to 107 of Examples 2 to 7 together with the results of the optical films 101 of Example 1.

Figure 2019239625
Figure 2019239625

表2より、実施例2では、他の実施例3等に比べると、搬送性を良好にする効果が小さい。実施例2では、加工ロールの最大高さRyが1μmと小さいことから、ウェブの表面を加工ロールの凹凸で抉って(引っ掻いて)、ウェブの表面に適切な大きさの凹凸を形成することができず、搬送時のウェブのロールへの貼り付きを低減する効果が小さくなるためと考えられる。これに対して、実施例1、3〜7では、搬送性を良好にする効果が高い。実施例1、3〜5では、加工ロールの最大高さRyがいずれも2μm以上であることから、ウェブの表面を加工ロールの凹凸で抉って、ウェブの表面に適切な大きさの凹凸が形成され、これによって、搬送時のウェブのロールへの貼り付き低減効果が大きくなるためと考えられる。 From Table 2, the effect of improving the transportability of Example 2 is smaller than that of other Examples 3 and the like. In Example 2, since the maximum height Ry of the processing roll is as small as 1 μm, it is possible to scoop (scratch) the surface of the web with the unevenness of the processing roll to form unevenness of an appropriate size on the surface of the web. This is probably because the effect of reducing the sticking of the web to the roll during transportation is reduced. On the other hand, in Examples 1, 3 to 7, the effect of improving the transportability is high. In Examples 1, 3 to 5, since the maximum height Ry of the processing roll is 2 μm or more, the surface of the web is scooped out by the unevenness of the processing roll to form unevenness of an appropriate size on the surface of the web. It is considered that this is because the effect of reducing the sticking of the web to the roll during transportation is increased.

加工ロールの最大高さRyがいずれも2μm以上である場合、フィルムの表面には、長径5〜15μmで、最大高さ粗さRzが100〜1000nmの凹凸が形成されていることがわかる。したがって、このような凹凸がフィルムの表面に形成されることにより、搬送性を良好にする効果を高めることができると言える。 When the maximum height Ry of the processing rolls is 2 μm or more, it can be seen that irregularities having a major axis of 5 to 15 μm and a maximum height roughness Rz of 100 to 1000 nm are formed on the surface of the film. Therefore, it can be said that the effect of improving the transportability can be enhanced by forming such irregularities on the surface of the film.

なお、加工ロールの最大高さRyが実施例2の1μmであっても(フィルムの表面に長径4μmで最大高さ粗さRzが85nmの凹凸が形成される場合であっても)、搬送性について実用上問題のない結果が得られている。このことから、加工ロールの最大高さRyは1μm以上であればよく、フィルムの表面には、長径4μm以上で最大高さ粗さRzが85nm以上の凹凸が形成されていればよいと言える。 Even if the maximum height Ry of the processing roll is 1 μm of Example 2 (even when irregularities having a major axis of 4 μm and a maximum height roughness Rz of 85 nm are formed on the surface of the film), the transportability The results are not practically problematic. From this, it can be said that the maximum height Ry of the processing roll may be 1 μm or more, and that the surface of the film may have irregularities having a major axis of 4 μm or more and a maximum height roughness Rz of 85 nm or more.

<実施例8〜14>
表3に記載の最大高さRyを有する加工ロールでウェブの表面に凹凸を形成するとともに、加工ロールによる凹凸付与時の残留溶媒量を表3のように変化させた以外は、実施例1と同様にして、実施例8〜14の光学フィルム108〜114をそれぞれ作製した。そして、作製した光学フィルム108〜114に対して、実施例1と同様の方法で、表面粗さSa、凹凸個数、凹凸の長径および最大高さ粗さRzを測定した。
<Examples 8 to 14>
Except for forming irregularities on the surface of the web with the processing roll having the maximum height Ry shown in Table 3 and changing the amount of residual solvent at the time of applying the irregularities by the processing roll as shown in Table 3, the same as in Example 1. In the same manner, the optical films 108 to 114 of Examples 8 to 14 were produced, respectively. Then, the surface roughness Sa, the number of irregularities, the major axis of the irregularities, and the maximum height roughness Rz were measured for the produced optical films 108 to 114 in the same manner as in Example 1.

表3は、作製した実施例8〜14の光学フィルム108〜114についての評価の結果を、実施例1の光学フィルム101についての結果と併せて示している。 Table 3 shows the evaluation results of the produced optical films 108 to 114 of Examples 8 to 14 together with the results of the optical films 101 of Example 1.

Figure 2019239625
Figure 2019239625

表3より、実施例10、12では、搬送性を良好にする効果が小さい。この理由として、実施例10、12では、加工ロールによる凹凸付与時のウェブの残留溶媒量が4質量%と小さいため、ウェブが硬く、加工ロールとの接触によってウェブに凹凸が形成されにくくなり、搬送時のウェブのロールへの貼り付き低減効果が小さくなることが考えられる。また、実施例11、14では、熱処理による凹凸の消失効果が小さい。実施例11、14では、凹凸付与時のウェブの残留溶媒量が37質量%と大きいため、ウェブが柔らかく、加工ロールとの接触によって長径および最大高さ粗さRzの大きい凹凸がウェブに形成されやすくなる。このため、その後の熱処理を行っても、上記凹凸が消失しにくくなり、緩和されるとしてもその量が微小になることが考えられる。 From Table 3, in Examples 10 and 12, the effect of improving the transportability is small. The reason for this is that in Examples 10 and 12, since the amount of residual solvent in the web when the unevenness is applied by the processing roll is as small as 4% by mass, the web is hard and the unevenness is less likely to be formed on the web due to contact with the processing roll. It is considered that the effect of reducing the sticking of the web to the roll during transportation is reduced. Further, in Examples 11 and 14, the effect of eliminating the unevenness by the heat treatment is small. In Examples 11 and 14, since the amount of residual solvent in the web at the time of applying the unevenness is as large as 37% by mass, the web is soft, and unevenness having a large major axis and maximum height roughness Rz is formed on the web by contact with the processing roll. It will be easier. Therefore, even if the heat treatment is performed after that, it is considered that the unevenness is hard to disappear, and even if it is alleviated, the amount thereof becomes very small.

これに対して、実施例8、9、13では、搬送性を良好にする効果と、熱処理による凹凸の消失効果とがバランスよく得られている。実施例8、9、13では、凹凸付与時のウェブの残留溶媒量が6〜33質量%であることから、搬送時のウェブのロールへの貼り付きを低減するとともに、熱処理によって凹凸を消失させるのに適切な大きさの凹凸がウェブに形成されるためと考えられる。 On the other hand, in Examples 8, 9 and 13, the effect of improving the transportability and the effect of eliminating the unevenness by the heat treatment are obtained in a well-balanced manner. In Examples 8, 9 and 13, since the residual solvent amount of the web at the time of applying the unevenness is 6 to 33% by mass, the sticking of the web to the roll during transportation is reduced and the unevenness is eliminated by heat treatment. It is considered that the unevenness of an appropriate size is formed on the web.

なお、凹凸付与時のウェブの残留溶媒量が実施例10、12の4質量%であるときに、搬送性を良好にする効果が小さく、上記残留溶媒量が実施例8の6質量%であるときに、上記効果が大きいことから、実施例10、12の4質量%と実施例8の6質量%との間(例えば5質量%)に、上記効果を大きくする臨界点があると考えられる。したがって、上記効果を大きくする観点からは、上記残留溶媒量は5質量%以上であることが望ましく、6質量%以上であることがさらに望ましいと言える。 When the amount of residual solvent on the web at the time of imparting unevenness was 4% by mass of Examples 10 and 12, the effect of improving transportability was small, and the amount of residual solvent was 6% by mass of Example 8. Occasionally, since the above effect is large, it is considered that there is a critical point for increasing the above effect between 4% by mass of Examples 10 and 12 and 6% by mass of Example 8 (for example, 5% by mass). .. Therefore, from the viewpoint of increasing the effect, the residual solvent amount is preferably 5% by mass or more, and more preferably 6% by mass or more.

また、凹凸付与時のウェブの残留溶媒量が実施例11、14の37質量%であるときに、熱処理による凹凸の消失効果が小さく、上記残留溶媒量が実施例9、13の33質量%であるときに、上記消失効果が大きいことから、実施例11、14の37質量%と実施例9、13の33質量%との間(例えば35質量%)に、上記消失効果を大きくする臨界点があると考えられる。したがって、上記消失効果を大きくする観点からは、上記残留溶媒量は35質量%以下であることが望ましく、33質量%以下であることがさらに望ましいと言える。 Further, when the residual solvent amount of the web at the time of applying the unevenness was 37% by mass of Examples 11 and 14, the effect of eliminating the unevenness by the heat treatment was small, and the residual solvent amount was 33% by mass of Examples 9 and 13. At some point, since the disappearance effect is large, a critical point for increasing the disappearance effect is between 37% by mass of Examples 11 and 14 and 33% by mass of Examples 9 and 13 (for example, 35% by mass). It is thought that there is. Therefore, from the viewpoint of increasing the disappearance effect, the residual solvent amount is preferably 35% by mass or less, and more preferably 33% by mass or less.

なお、上記残留溶媒量が実施例10、12の4質量%であっても、搬送性について実用上問題のない結果が得られており、上記残留溶媒量が実施例11、14の37質量%であっても、上記消失効果について実用上問題のない結果が得られている。このことから、上記残留溶媒量は、4質量%以上であってもよく、37質量%以下であってもよいと言える。 Even if the amount of the residual solvent is 4% by mass of Examples 10 and 12, the result that there is no practical problem in transportability is obtained, and the amount of the residual solvent is 37% by mass of Examples 11 and 14. Even so, practically no problem has been obtained with respect to the above-mentioned disappearance effect. From this, it can be said that the residual solvent amount may be 4% by mass or more and 37% by mass or less.

したがって、上記残留溶媒量の適切な範囲としては、上記した下限(4質量%、5質量%、6質量%)と、上記した上限(37質量%、35質量%、33質量%)との組み合わせで設定することができる。例えば、上記残留溶媒量としては、4〜37質量%(4質量%以上37質量%以下)であってもよいが、望ましくは、5〜35質量%(5質量%以上35質量%以下)であり、より望ましくは、6〜33質量%(6質量%以上33質量%以下)であると言うことができる。 Therefore, the appropriate range of the residual solvent amount is a combination of the above-mentioned lower limit (4% by mass, 5% by mass, 6% by mass) and the above-mentioned upper limit (37% by mass, 35% by mass, 33% by mass). Can be set with. For example, the amount of the residual solvent may be 4 to 37% by mass (4% by mass or more and 37% by mass or less), but preferably 5 to 35% by mass (5% by mass or more and 35% by mass or less). Yes, and more preferably, it can be said that it is 6 to 33% by mass (6% by mass or more and 33% by mass or less).

〔その他〕
以上で説明した本実施形態の光学フィルムおよびその製造方法は、以下のように表現することができる。
[Other]
The optical film of the present embodiment described above and the method for producing the same can be expressed as follows.

1.微粒子非含有のドープを金属支持体上に流延してウェブを形成する流延工程と、
前記ウェブを金属支持体から剥離する剥離工程と、
剥離された前記ウェブの表面に、加工ロールによって凹凸形状を形成する凹凸形成工程と、
前記凹凸形状を有する前記ウェブを光学フィルムとして巻き取る巻取工程とを有し、
巻き取られた前記光学フィルムは、表面の250000μm2の範囲内に1個以上の凹凸を有しており、
前記範囲内で前記凹凸の周囲の表面粗さSaは、1.5nm以下であることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
1. 1. A casting step of casting a fine particle-free dope onto a metal support to form a web,
A peeling step of peeling the web from the metal support,
An unevenness forming step of forming an uneven shape on the surface of the peeled web by a processing roll,
It has a winding step of winding the web having the uneven shape as an optical film.
The wound optical film has one or more irregularities within a range of 250,000 μm 2 on the surface.
A method for producing an optical film, wherein the surface roughness Sa around the unevenness within the above range is 1.5 nm or less.

2.前記表面粗さSaは、0.9nm以下であることを特徴とする前記1に記載の光学フィルムの製造方法。 2. The method for producing an optical film according to 1 above, wherein the surface roughness Sa is 0.9 nm or less.

3.前記凹凸形成工程では、最大高さRyが2μm以上となる表面加工が施された前記加工ロールによって、前記ウェブの表面に前記凹凸形状を形成することを特徴とする前記1または2に記載の光学フィルムの製造方法。 3. 3. The optics according to 1 or 2, wherein in the uneven forming step, the uneven shape is formed on the surface of the web by the processing roll subjected to the surface processing having a maximum height Ry of 2 μm or more. Film manufacturing method.

4.前記光学フィルムの表面において、
前記凹凸の長径は、5〜15μmであり、
最大高さ粗さRzが、100〜1000nmであることを特徴とする前記1から3のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
4. On the surface of the optical film
The major axis of the unevenness is 5 to 15 μm.
The method for producing an optical film according to any one of 1 to 3 above, wherein the maximum height roughness Rz is 100 to 1000 nm.

5.前記凹凸形成工程において、前記加工ロールによって前記凹凸形状を形成するときの前記ウェブの残留溶媒量が、5〜35質量%であることを特徴とする前記1から4のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。 5. The optical film according to any one of 1 to 4, wherein the amount of residual solvent in the web when the uneven shape is formed by the processing roll in the uneven forming step is 5 to 35% by mass. Manufacturing method.

6.前記光学フィルムは、表面の250000μm2の範囲内に2個以上20個以下の前記凹凸を有していることを特徴とする前記1から5のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。6. The method for producing an optical film according to any one of 1 to 5, wherein the optical film has 2 or more and 20 or less of the irregularities within a range of 250,000 μm 2 on the surface.

7.前記ドープは、樹脂および溶媒を含み、
前記樹脂は、シクロオレフィン系樹脂であることを特徴とする前記1から6のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
7. The dope contains a resin and a solvent.
The method for producing an optical film according to any one of 1 to 6, wherein the resin is a cycloolefin-based resin.

8.微粒子非含有の光学フィルムであって、
前記光学フィルムは、表面の250000μm2の範囲内に1個以上の凹凸を有しており、
前記範囲内で前記凹凸の周囲の表面粗さSaは、1.5nm以下であることを特徴とする光学フィルム。
8. An optical film that does not contain fine particles
The optical film has one or more irregularities within a range of 250,000 μm 2 on the surface.
An optical film having a surface roughness Sa around the unevenness within the above range of 1.5 nm or less.

9.前記表面粗さSaは、0.9nm以下であることを特徴とする前記8に記載の光学フィルム。 9. The optical film according to 8, wherein the surface roughness Sa is 0.9 nm or less.

10.前記光学フィルムの表面において、
前記凹凸の長径は、5〜15μmであり、
最大高さ粗さRzが、100〜1000nmであることを特徴とする前記8または9に記載の光学フィルム。
10. On the surface of the optical film
The major axis of the unevenness is 5 to 15 μm.
8. The optical film according to 8 or 9, wherein the maximum height roughness Rz is 100 to 1000 nm.

11.前記光学フィルムは、表面の250000μm2の範囲内に2個以上20個以下の前記凹凸を有していることを特徴とする前記8から10のいずれかに記載の光学フィルム。11. The optical film according to any one of 8 to 10, wherein the optical film has 2 or more and 20 or less of the irregularities within a range of 250,000 μm 2 on the surface.

12.シクロオレフィン系樹脂を含むことを特徴とする前記8から11のいずれかに記載の光学フィルム。 12. The optical film according to any one of 8 to 11 above, which comprises a cycloolefin-based resin.

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明の範囲はこれに限定されるものではなく、発明の主旨を逸脱しない範囲で拡張または変更して実施することができる。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the scope of the present invention is not limited to this, and can be extended or modified within a range that does not deviate from the gist of the invention.

本発明は、微粒子非含有の光学フィルムを溶液流延製膜法によって製造する場合に利用可能である。 The present invention can be used when an optical film containing no fine particles is produced by a solution casting film forming method.

3 支持体(金属支持体)
5 ウェブ
20 加工ロール
PV 凹凸
Fb 非凹凸領域
F 光学フィルム
3 Support (metal support)
5 Web 20 Processing roll F PV Concavo-convex Fb Non-concave area F Optical film

Claims (12)

微粒子非含有のドープを金属支持体上に流延してウェブを形成する流延工程と、
前記ウェブを金属支持体から剥離する剥離工程と、
剥離された前記ウェブの表面に、加工ロールによって凹凸形状を形成する凹凸形成工程と、
前記凹凸形状を有する前記ウェブを光学フィルムとして巻き取る巻取工程とを有し、
巻き取られた前記光学フィルムは、表面の250000μm2の範囲内に1個以上の凹凸を有しており、
前記範囲内で前記凹凸の周囲の表面粗さSaは、1.5nm以下である、光学フィルムの製造方法。
A casting step of casting a fine particle-free dope onto a metal support to form a web,
A peeling step of peeling the web from the metal support,
An unevenness forming step of forming an uneven shape on the surface of the peeled web by a processing roll,
It has a winding step of winding the web having the uneven shape as an optical film.
The wound optical film has one or more irregularities within a range of 250,000 μm 2 on the surface.
A method for producing an optical film, wherein the surface roughness Sa around the unevenness within the above range is 1.5 nm or less.
前記表面粗さSaは、0.9nm以下である、請求項1に記載の光学フィルムの製造方法。 The method for producing an optical film according to claim 1, wherein the surface roughness Sa is 0.9 nm or less. 前記凹凸形成工程では、最大高さRyが2μm以上となる表面加工が施された前記加工ロールによって、前記ウェブの表面に前記凹凸形状を形成する、請求項1または2に記載の光学フィルムの製造方法。 The production of the optical film according to claim 1 or 2, wherein in the uneven forming step, the uneven shape is formed on the surface of the web by the processing roll subjected to the surface processing having a maximum height Ry of 2 μm or more. Method. 前記光学フィルムの表面において、
前記凹凸の長径は、5〜15μmであり、
最大高さ粗さRzが、100〜1000nmである、請求項1から3のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
On the surface of the optical film
The major axis of the unevenness is 5 to 15 μm.
The method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 3, wherein the maximum height roughness Rz is 100 to 1000 nm.
前記凹凸形成工程において、前記加工ロールによって前記凹凸形状を形成するときの前記ウェブの残留溶媒量が、5〜35質量%である、請求項1から4のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。 The method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 4, wherein in the uneven forming step, the amount of residual solvent in the web when the uneven shape is formed by the processing roll is 5 to 35% by mass. .. 前記光学フィルムは、表面の250000μm2の範囲内に2個以上20個以下の前記凹凸を有している、請求項1から5のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。The method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 5, wherein the optical film has 2 or more and 20 or less of the irregularities within a range of 250,000 μm 2 on the surface. 前記ドープは、樹脂および溶媒を含み、
前記樹脂は、シクロオレフィン系樹脂である、請求項1から6のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
The dope contains a resin and a solvent.
The method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 6, wherein the resin is a cycloolefin-based resin.
微粒子非含有の光学フィルムであって、
前記光学フィルムは、表面の250000μm2の範囲内に1個以上の凹凸を有しており、
前記範囲内で前記凹凸の周囲の表面粗さSaは、1.5nm以下である、光学フィルム。
An optical film that does not contain fine particles
The optical film has one or more irregularities within a range of 250,000 μm 2 on the surface.
An optical film having a surface roughness Sa around the unevenness within the above range of 1.5 nm or less.
前記表面粗さSaは、0.9nm以下である、請求項8に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 8, wherein the surface roughness Sa is 0.9 nm or less. 前記光学フィルムの表面において、
前記凹凸の長径は、5〜15μmであり、
最大高さ粗さRzが、100〜1000nmである、請求項8または9に記載の光学フィルム。
On the surface of the optical film
The major axis of the unevenness is 5 to 15 μm.
The optical film according to claim 8 or 9, wherein the maximum height roughness Rz is 100 to 1000 nm.
前記光学フィルムは、表面の250000μm2の範囲内に2個以上20個以下の前記凹凸を有している、請求項8から10のいずれかに記載の光学フィルム。The optical film according to any one of claims 8 to 10, wherein the optical film has 2 or more and 20 or less of the irregularities within a range of 250,000 μm 2 on the surface. シクロオレフィン系樹脂を含む、請求項8から11のいずれかに記載の光学フィルム。 The optical film according to any one of claims 8 to 11, which comprises a cycloolefin-based resin.
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