JP7092461B2 - Manufacturing method of liquid crystal display device and liquid crystal table device - Google Patents

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Description

本発明は、液晶表示装置及び液晶表装置の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device and a liquid crystal table device.

液晶パネルの表示方式として、ガラス基板に形成された電極に電圧を印加して基板面と水平な方向の電界を形成することにより表示を制御するＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式が知られている。ＩＰＳ方式では、液晶パネルの視野角方向によらず見かけの液晶分子の長さ（屈折率楕円体）がほぼ一定となるため視野角特性に優れる。 As a display method for a liquid crystal panel, an IPS (In-Plane Switching) method is known in which a voltage is applied to an electrode formed on a glass substrate to form an electric field in a direction horizontal to the substrate surface to control the display. .. In the IPS method, the apparent length of the liquid crystal molecules (refractive index ellipsoid) is almost constant regardless of the viewing angle direction of the liquid crystal panel, so that the viewing angle characteristics are excellent.

液晶パネルでは、電界が印加されていない状態において液晶分子が所定の方向に沿って配向されるように、液晶分子の配向方向が強制されている。ＩＰＳ方式の液晶パネルにおいて液晶分子の配向方向を強制するための方法としては、ラビング法、光配向法等が知られている。ラビング法は、基板上にポリイミド等からなる配向膜を形成し、その配向膜の表面を布で擦るものである。光配向法は、ポリイミド膜等からなる配向膜の表面に対して直線偏光の紫外線を照射することにより、配向膜の表面に異方性を持たせるものである。従来のＩＰＳ方式の液晶パネルにおいては、液晶組成物を挟持する一対の基板の内側のそれぞれに配向膜が形成される（特許文献１）。 In the liquid crystal panel, the orientation direction of the liquid crystal molecules is forced so that the liquid crystal molecules are oriented along a predetermined direction in a state where no electric field is applied. As a method for forcing the orientation direction of liquid crystal molecules in an IPS type liquid crystal panel, a rubbing method, a photoalignment method, and the like are known. In the rubbing method, an alignment film made of polyimide or the like is formed on a substrate, and the surface of the alignment film is rubbed with a cloth. In the photoalignment method, the surface of an alignment film made of a polyimide film or the like is irradiated with linearly polarized ultraviolet rays to give anisotropy to the surface of the alignment film. In a conventional IPS liquid crystal panel, an alignment film is formed on each of the insides of a pair of substrates sandwiching the liquid crystal composition (Patent Document 1).

しかしながら、特許文献１に記載されるような従来のＩＰＳ方式の液晶パネルでは、液晶層を挟持する一対の基板にそれぞれ形成された配向膜の配向方向に微妙なずれが生じることがある。配向膜の配向方向のずれは、例えば、ラビング処理の際のずれや、両基板の貼り合わせの際のずれに起因する。このような配向方向のずれが存在すると、電圧オフ時にも液晶層の液晶分子に微小なツイストが生じる。電源オフ時の液晶分子の微小なツイストは、黒表示での光漏れの原因となり、コントラスト比の低下を招く。また、従来のＩＰＳ方式の液晶パネルでは、基板面と水平な方向の横電界を形成するための櫛歯電極上には、電圧オン時に基板面に垂直な方向の縦電界が形成される。このため、液晶分子が横方向に十分にツイストせず、その結果、櫛歯電極上での光の透過が困難となり、液晶パネルの光透過率が低下することになる。すなわち、液晶パネルの開口率が低下することになる。 However, in the conventional IPS type liquid crystal panel as described in Patent Document 1, a slight deviation may occur in the orientation direction of the alignment films formed on the pair of substrates sandwiching the liquid crystal layer. The deviation in the orientation direction of the alignment film is caused by, for example, a deviation during the rubbing process or a deviation during bonding of both substrates. If such a deviation in the orientation direction exists, a minute twist is generated in the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer even when the voltage is turned off. The minute twist of the liquid crystal molecules when the power is turned off causes light leakage in the black display and causes a decrease in the contrast ratio. Further, in the conventional IPS type liquid crystal panel, a longitudinal electric field in a direction perpendicular to the substrate surface is formed on the comb tooth electrode for forming a transverse electric field in the direction horizontal to the substrate surface when the voltage is turned on. Therefore, the liquid crystal molecules are not sufficiently twisted in the lateral direction, and as a result, it becomes difficult for light to be transmitted on the comb tooth electrode, and the light transmittance of the liquid crystal panel is lowered. That is, the aperture ratio of the liquid crystal panel is lowered.

そこで、特許文献２には、対向配置された一方の基板に弱アンカリング配向膜が形成され、他方の基板に強アンカリング配向膜が形成された液晶パネルが提案されている。特許文献２に記載された液晶パネルにおいて、弱アンカリング配向膜は、電界を印加したときの液晶分子の配向方向を拘束する拘束力が、強アンカリング配向膜よりも小さくなっている。このような構成により、特許文献２に記載された液晶パネルでは、光透過率の高い表示が実現されている。 Therefore, Patent Document 2 proposes a liquid crystal panel in which a weak anchoring alignment film is formed on one of the opposed substrates and a strong anchoring alignment film is formed on the other substrate. In the liquid crystal panel described in Patent Document 2, the weak anchoring alignment film has a smaller binding force that constrains the orientation direction of the liquid crystal molecules when an electric field is applied than the strong anchoring alignment film. With such a configuration, the liquid crystal panel described in Patent Document 2 realizes a display having high light transmittance.

特許第２９４０３５４号公報Japanese Patent No. 2940354 特開２０１６－１７０３８９号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-170389

しかしながら、特許文献２に記載された液晶パネルでは、対向配置された一方の基板に形成された弱アンカリング配向膜の全域でアンカリングエネルギーが小さくなっているため、電圧オフ時の復元力が弱くなっている。このため、電圧オフ時の応答性が低下し、電圧オフ時の応答時間（ターンオフ時間）τｏｆｆが長くなる。 However, in the liquid crystal panel described in Patent Document 2, since the anchoring energy is small in the entire area of the weak anchoring alignment film formed on one of the substrates arranged to face each other, the restoring force at the time of voltage off is weak. It has become. Therefore, the responsiveness at the time of voltage off is lowered, and the response time (turn-off time) τ off at the time of voltage off becomes long.

本発明は、光透過率及びコントラスト比を向上しつつ、電圧オフ時の応答性を改善することができる液晶表示装置を提供することを目的とする。また、本発明は、そのような液晶表示装置を工程の複雑化を伴うことなく容易に製造することができる液晶表示装置の製造方法を提供することをも目的とする。 An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device capable of improving the responsiveness at the time of voltage off while improving the light transmittance and the contrast ratio. Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a liquid crystal display device, which can easily manufacture such a liquid crystal display device without complicating the process.

本発明の一観点によれば、第１の基板と、前記第１の基板に対向する第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板とに挟まれた液晶層と、前記第１の基板の前記液晶層側の面上に形成され、前記第１の基板と水平な面内に電界を形成可能に構成された複数の電極と、前記複数の電極の直上に形成された第１の配向膜と、前記複数の電極の間の前記第１の基板上に形成された第２の配向膜と、前記第２の基板の前記液晶層側に形成された第３の配向膜とを有し、前記第１の配向膜のアンカリングエネルギーが、前記第２及び第３の配向膜のアンカリングエネルギーよりも小さく、前記第２の配向膜が、前記第１の配向膜よりも前記複数の電極間の前記第１の基板上の領域との親和性が高いことを特徴とする液晶表示装置が提供される。 According to one aspect of the present invention, the first substrate, the second substrate facing the first substrate, the liquid crystal layer sandwiched between the first substrate and the second substrate, and the said. A plurality of electrodes formed on the surface of the first substrate on the liquid crystal layer side and configured to be able to form an electric field in a plane horizontal to the first substrate, and formed directly above the plurality of electrodes. A first alignment film, a second alignment film formed on the first substrate between the plurality of electrodes, and a third alignment film formed on the liquid crystal layer side of the second substrate. The anchoring energy of the first alignment film is smaller than the anchoring energy of the second and third alignment films, and the second alignment film is smaller than the first alignment film. Provided is a liquid crystal display device characterized by having a high affinity with a region on the first substrate between the plurality of electrodes.

本発明の他の観点によれば、第１の基板と；前記第１の基板に対向する第２の基板と；前記第１の基板と前記第２の基板とに挟まれた液晶層と；前記第１の基板の前記液晶層側の面上に形成され、前記第１の基板と水平な面内に電界を形成可能に構成された複数の電極と；前記複数の電極の直上に形成された第１の配向膜と；前記複数の電極の間の前記第１の基板上に形成された第２の配向膜と；前記第２の基板の前記液晶層側に形成された第３の配向膜とを有し、前記第１の配向膜のアンカリングエネルギーが、前記第２及び第３の配向膜のアンカリングエネルギーよりも小さい液晶表示装置の製造方法であって、前記第１の基板上に、前記複数の電極を形成する工程と、前記複数の電極の直上に、前記複数の電極間の前記第１の基板上の領域よりも、光重合性材料との親和性が低い前記第１の配向膜を形成する工程と、前記第１の基板と、前記第３の配向膜が形成された前記第２の基板との間に、液晶材料中に前記光重合性材料が混合された前記液晶層を挟む工程と、光照射により前記液晶層中の前記光重合性材料を重合相分離させることにより、前記光重合性材料が重合相分離してなる重合相分離膜からなる前記第２の配向膜を前記複数の電極間の前記第１の基板上に選択的に形成する工程とを有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法が提供される。 According to another aspect of the present invention, the first substrate; the second substrate facing the first substrate; the liquid crystal layer sandwiched between the first substrate and the second substrate; A plurality of electrodes formed on the surface of the first substrate on the liquid crystal layer side and configured to be able to form an electric field in a plane horizontal to the first substrate; formed directly above the plurality of electrodes. A first alignment film; a second alignment film formed on the first substrate between the plurality of electrodes; a third orientation formed on the liquid crystal layer side of the second substrate. A method of manufacturing a liquid crystal display device having a film and having an anchoring energy of the first alignment film smaller than the anchoring energy of the second and third alignment films, wherein the liquid crystal display device is on the first substrate. In addition, the step of forming the plurality of electrodes and the first aspect having a lower affinity with the photopolymerizable material than the region on the first substrate between the plurality of electrodes directly above the plurality of electrodes. The photopolymerizable material is mixed in the liquid crystal material between the step of forming the alignment film and the second substrate on which the third alignment film is formed. The second step comprising a superposed phase separation film in which the photopolymerizable material is separated into a superposed phase by separating the photopolymerizable material in the liquid crystal layer into a superposed phase by a step of sandwiching the liquid crystal layer and irradiation with light. Provided is a method for manufacturing a liquid crystal display device, which comprises a step of selectively forming an alignment film on the first substrate between the plurality of electrodes.

本発明によれば、液晶表示装置において、光透過率を向上しつつ、電圧オフ時の応答性を改善することができる。また、本発明によれば、光透過率を向上しつつ、電圧オフ時の応答性を改善することができる液晶表示装置を工程の複雑化を伴うことなく容易に製造することができる。 According to the present invention, in a liquid crystal display device, it is possible to improve the responsiveness at the time of voltage off while improving the light transmittance. Further, according to the present invention, it is possible to easily manufacture a liquid crystal display device capable of improving the responsiveness at the time of voltage off while improving the light transmittance without complicating the process.

図１は、本発明の一実施形態による誘電率異方性が正（ポジ型）の液晶を用いた場合の液晶表示装置の構造を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing the structure of a liquid crystal display device when a liquid crystal having a positive dielectric anisotropy according to an embodiment of the present invention is used. 図２は、本発明の一実施形態による誘電率異方性が正（ポジ型）の液晶を用いた場合の液晶表示装置の電圧オフ時及び電圧オン時の液晶層における液晶分子の配向状態を模式的に示す断面図である。FIG. 2 shows the orientation state of liquid crystal molecules in the liquid crystal layer when the voltage of the liquid crystal display device is off and when the voltage is on when a liquid crystal having a positive dielectric anisotropy according to an embodiment of the present invention is used. It is sectional drawing which shows schematically. 図３は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す工程断面図（その１）ある。FIG. 3 is a process sectional view (No. 1) showing a method of manufacturing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. 図４は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す工程断面図（その２）ある。FIG. 4 is a process sectional view (No. 2) showing a method of manufacturing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. 図５は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す工程断面図（その３）ある。FIG. 5 is a process sectional view (No. 3) showing a method of manufacturing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. 図６は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す工程断面図（その４）ある。FIG. 6 is a process sectional view (No. 4) showing a method of manufacturing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. 図７は、本発明の一実施形態の変形例による誘電率異方性が正（ポジ型）の液晶を用いた場合の液晶表示装置の構造を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing the structure of a liquid crystal display device when a liquid crystal having a positive dielectric anisotropy (positive type) is used according to a modification of the embodiment of the present invention.

［一実施形態］
本発明の一実施形態による液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法について図１乃至図６を用いて説明する。 [One Embodiment]
A liquid crystal display device and a method for manufacturing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 6.

まず、本実施形態による液晶表示装置の構造について図１及び図２を用いて説明する。図１は、本実施形態による液晶表示装置の構造を示す断面図である。図２は、本実施形態による液晶表示装置の電圧オフ時及び電圧オン時の液晶層における液晶分子の配向状態を模式的に示す断面図である。なお、図１及び図２は、ポジ型の液晶材料を用いて液晶層を構成した場合を例示している。 First, the structure of the liquid crystal display device according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. 1 is a cross-sectional view showing the structure of a liquid crystal display device according to the present embodiment. FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing the orientation state of liquid crystal molecules in the liquid crystal layer when the voltage of the liquid crystal display device according to the present embodiment is off and when the voltage is on. Note that FIGS. 1 and 2 illustrate a case where a liquid crystal layer is formed by using a positive liquid crystal material.

本実施形態による液晶表示装置は、ＩＰＳ方式の液晶パネルを有し、基板面と水平な方向の電界を形成することにより表示を制御するものである。図１に示すように、本実施形態による液晶表示装置１０は、ＩＰＳ方式の液晶パネル１２と、バックライトユニット１４とを有している。 The liquid crystal display device according to the present embodiment has an IPS type liquid crystal panel, and controls the display by forming an electric field in a direction horizontal to the substrate surface. As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device 10 according to the present embodiment includes an IPS type liquid crystal panel 12 and a backlight unit 14.

液晶パネル１２は、対向するように配置された一対の基板１６、１８を有している。基板１６、１８は、液晶層２０を挟むように対向して配置されている。基板１６、１８は、画素を含む表示領域の周縁部に配されたシール材２２により所定の間隔を空けて互いに貼り合わされている。シール材２２により基板１６、１８の間に液晶層２０を構成する液晶が封止されている。基板１６、１８は、それぞれ透光性を有する基板であれば特にその材料が限定されるものではないが、例えばガラス基板である。また、液晶層２０を構成する液晶材料としては、例えば、誘電率異方性が正のネマティック液晶材料を用いることができ、また、誘電率異方性が負のネマティック液晶材料を用いることもできる。なお、図１では、後述の線状電極２４に対する電圧オフ時の液晶層２０における液晶分子２０２を模式的に示している。 The liquid crystal panel 12 has a pair of substrates 16 and 18 arranged so as to face each other. The substrates 16 and 18 are arranged so as to face each other so as to sandwich the liquid crystal layer 20. The substrates 16 and 18 are bonded to each other at predetermined intervals by a sealing material 22 arranged on the peripheral edge of a display area including pixels. The liquid crystal constituting the liquid crystal layer 20 is sealed between the substrates 16 and 18 by the sealing material 22. The materials of the substrates 16 and 18 are not particularly limited as long as they are transparent substrates, but they are, for example, glass substrates. Further, as the liquid crystal material constituting the liquid crystal layer 20, for example, a nematic liquid crystal material having a positive dielectric anisotropy can be used, or a nematic liquid crystal material having a negative dielectric anisotropy can also be used. .. Note that FIG. 1 schematically shows the liquid crystal molecules 202 in the liquid crystal layer 20 when the voltage with respect to the linear electrode 24 described later is off.

例えば、基板１６は、画素をスイッチングするための薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、ＴＦＴ）、ゲートライン、ソースライン等が形成されたＴＦＴ基板になっている。基板１８は、カラーフィルタ（Ｃｏｌｏｒ Ｆｉｌｔｅｒ、ＣＦ）が形成されたＣＦ基板になっている。 For example, the substrate 16 is a TFT substrate on which a thin film transistor (TFT) for switching pixels, a gate line, a source line, and the like are formed. The substrate 18 is a CF substrate on which a color filter (Color Filter, CF) is formed.

基板１６、１８のうち、バックライトユニット１４側の基板１６の液晶層２０側の面上には、複数の線状電極２４が形成されている。複数の線状電極２４は、互いに所定の間隔を空けて平行に配置されており、櫛歯電極を構成している。より具体的には、複数の線状電極２４は、櫛歯状の画素電極及び櫛歯状の共通電極を構成している。図１は、線状電極２４の長手方向に直交する断面を示している。複数の線状電極２４は、液晶層２０と基板１６の基板面と水平な方向の電界を形成可能、すなわち基板１６と水平な面内に電界を形成可能に構成されている。 Of the substrates 16 and 18, a plurality of linear electrodes 24 are formed on the surface of the substrate 16 on the backlight unit 14 side on the liquid crystal layer 20 side. The plurality of linear electrodes 24 are arranged in parallel with a predetermined distance from each other to form a comb tooth electrode. More specifically, the plurality of linear electrodes 24 constitute a comb-shaped pixel electrode and a comb-shaped common electrode. FIG. 1 shows a cross section orthogonal to the longitudinal direction of the linear electrode 24. The plurality of linear electrodes 24 are configured to be capable of forming an electric field in a direction horizontal to the substrate surface of the liquid crystal layer 20 and the substrate 16, that is, to be able to form an electric field in a surface horizontal to the substrate 16.

線状電極２４は、例えば８８％の高い光透過率Ｔを有するＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）からなる透明電極である。なお、線状電極２４の主材料は、ＩＴＯに限定されるものではない。線状電極２４は、透明導電膜又は高い光透過率を有する導電膜であることが望ましい。線状電極２４の主材料としては、ＩＴＯの代わりに、例えば、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ、Ｔ＝８５％）、ＡＺＯ（Ａｌｕｍｉｎｕｍ ｄｏｐｅｄ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ、Ｔ＝９２％）を用いることができる。また、ＧＺＯ（Ｇａｌｌｉｕｍ ｄｏｐｅｄ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ、Ｔ＝９２％）、ＡＴＯ（Ａｎｔｉｍｏｎｙ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ、Ｔ＝８７％）等を用いることもできる。 The linear electrode 24 is, for example, a transparent electrode made of ITO (Indium Tin Oxide) having a high light transmittance T of 88%. The main material of the linear electrode 24 is not limited to ITO. The linear electrode 24 is preferably a transparent conductive film or a conductive film having a high light transmittance. As the main material of the linear electrode 24, for example, IZO (Indium Zinc Oxide, T = 85%) or AZO (Aluminum dropped Zinc Oxide, T = 92%) can be used instead of ITO. Further, GZO (Gallium dropped Zinc Oxide, T = 92%), ATO (Antimony Tin Oxide, T = 87%) and the like can also be used.

液晶表示装置１０の制御部（図示せず）は、基板１６の線状電極２４に電圧を印加して基板１６の基板面と水平な方向の電界を形成して液晶層２０の液晶分子を回転させることにより、液晶パネル１２の表示を制御する。 The control unit (not shown) of the liquid crystal display device 10 applies a voltage to the linear electrode 24 of the substrate 16 to form an electric field in a direction horizontal to the substrate surface of the substrate 16 to rotate the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 20. By doing so, the display of the liquid crystal panel 12 is controlled.

液晶パネル１２には、基板１６、１８を挟み込むように、偏光板２８、３０が外側のそれぞれの面に設けられている。偏光板２８、３０の偏光軸の向きは、線状電極２４に電圧が印加されたときにバックライトユニット１４から照明される光が通過するように設定されている。例えば、偏光板２８、３０の偏光軸の向きは互いに直交している。なお、偏光板２８、３０の偏光軸の向きは、線状電極２４に電圧が印加されたときにバックライトユニット１４から照明される光が遮断されるように設定されていてもよい。 The liquid crystal panel 12 is provided with polarizing plates 28 and 30 on the outer surfaces thereof so as to sandwich the substrates 16 and 18. The orientation of the polarization axes of the polarizing plates 28 and 30 is set so that the light illuminated from the backlight unit 14 passes when a voltage is applied to the linear electrode 24. For example, the directions of the polarization axes of the polarizing plates 28 and 30 are orthogonal to each other. The orientation of the polarization axes of the polarizing plates 28 and 30 may be set so as to block the light illuminated from the backlight unit 14 when a voltage is applied to the linear electrode 24.

基板１８の液晶層２０側の面には、液晶層２０の全面にわたって、配向膜として、強アンカリング膜３２が形成されている。強アンカリング膜３２は、例えば、ラビング法による配向処理が行われたポリイミド膜からなるものである。強アンカリング膜３２は、後述の基板１６側の強アンカリング膜３６とともに、線状電極２４に対する電圧オフ時の液晶層２０の液晶分子の配向を揃える。電圧オフ時の液晶層２０の液晶分子の配向方向は、例えば、線状電極２４の長手方向に沿った方向又は線状電極２４の長手方向に対して所定の角度をなす方向である。 A strong anchoring film 32 is formed as an alignment film on the surface of the substrate 18 on the liquid crystal layer 20 side over the entire surface of the liquid crystal layer 20. The strong anchoring film 32 is made of, for example, a polyimide film that has been oriented by a rubbing method. The strong anchoring film 32, together with the strong anchoring film 36 on the substrate 16 side described later, aligns the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 20 with respect to the linear electrode 24 when the voltage is off. The orientation direction of the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 20 when the voltage is off is, for example, a direction along the longitudinal direction of the linear electrode 24 or a direction forming a predetermined angle with respect to the longitudinal direction of the linear electrode 24.

一方、基板１６と液晶層２０との間において、基板１６上に形成された複数の線状電極２４の上には、配向膜として、弱アンカリング膜３４が形成されている。弱アンカリング膜３４は、複数の線状電極２４の直上に形成されている。弱アンカリング膜３４は、基板１８側の強アンカリング膜３２及び以下に述べる強アンカリング膜３６よりもアンカリングエネルギーが小さい配向膜である。なお、強アンカリング膜３２、３６、弱アンカリング膜３４にいうアンカリングは方位角方向のアンカリングに関するものであり、アンカリングエネルギーの大小関係は方位角方向のアンカリングエネルギーに関する大小関係である。弱アンカリング膜３４は、互いに平行に配置された複数の線状電極２４のそれぞれの直上に形成されている。弱アンカリング膜３４は、樹脂膜からなるものあり、より具体的には、後述するように露光された感光性樹脂膜５６ａからなるものである。弱アンカリング膜３４は、複数の線状電極２４の間の基板１６上の領域、より具体的に以下に述べる下地膜３８よりも、以下に述べる強アンカリング膜３６及び強アンカリング膜３６を構成する材料との親和性が低いものである。 On the other hand, between the substrate 16 and the liquid crystal layer 20, a weak anchoring film 34 is formed as an alignment film on the plurality of linear electrodes 24 formed on the substrate 16. The weak anchoring film 34 is formed directly above the plurality of linear electrodes 24. The weak anchoring film 34 is an alignment film having a smaller anchoring energy than the strong anchoring film 32 on the substrate 18 side and the strong anchoring film 36 described below. The anchoring referred to in the strong anchoring films 32 and 36 and the weak anchoring film 34 is related to anchoring in the azimuth direction, and the magnitude relationship of the anchoring energy is the magnitude relationship related to the anchoring energy in the azimuth direction. .. The weak anchoring film 34 is formed directly above each of the plurality of linear electrodes 24 arranged in parallel with each other. The weak anchoring film 34 is made of a resin film, and more specifically, is made of a photosensitive resin film 56a exposed as described later. The weak anchoring film 34 includes the strong anchoring film 36 and the strong anchoring film 36 described below rather than the region on the substrate 16 between the plurality of linear electrodes 24, more specifically the underlying film 38 described below. It has a low affinity with the constituent materials.

弱アンカリング膜３４が上に形成された線状電極２４の間の基板１６上には、配向膜として、強アンカリング膜３６が形成されている。強アンカリング膜３６と基板１６との間には、下地膜３８が形成されている。強アンカリング膜３６及び強アンカリング膜３６を構成するＵＶ重合性モノマーは、弱アンカリング膜３４との親和性よりも、複数の線状電極２４の間の基板１６上の領域の下地膜３８との親和性が高いものである。 A strong anchoring film 36 is formed as an alignment film on the substrate 16 between the linear electrodes 24 on which the weak anchoring film 34 is formed. An undercoat film 38 is formed between the strong anchoring film 36 and the substrate 16. The UV polymerizable monomer constituting the strong anchoring film 36 and the strong anchoring film 36 has a base film 38 in the region on the substrate 16 between the plurality of linear electrodes 24 rather than the affinity with the weak anchoring film 34. It has a high affinity with.

下地膜３８は、樹脂膜からなるものであり、より具体的には、後述するように未露光の感光性樹脂膜５６からなるものである。強アンカリング膜３６は、下地膜３８に接するように下地膜３８上に直接形成されている。強アンカリング膜３６のアンカリングエネルギーは、例えば、強アンカリング膜３２のアンカリングエネルギーと同程度となっている。 The undercoat film 38 is made of a resin film, and more specifically, it is made of an unexposed photosensitive resin film 56 as will be described later. The strong anchoring film 36 is formed directly on the base film 38 so as to be in contact with the base film 38. The anchoring energy of the strong anchoring film 36 is, for example, about the same as the anchoring energy of the strong anchoring film 32.

強アンカリング膜３６は、後述するように、液晶層２０を構成する液晶材料中に混合された光重合性モノマーであるＵＶ重合性モノマーが重合相分離してなる重合相分離膜からなるものである。複数の線状電極２４の間の基板１６上には、上述のように下地膜３８が形成されている。強アンカリング膜３６及びその材料となるＵＶ重合性モノマーは、弱アンカリング膜３４との親和性よりも下地膜３８との親和性が高い。このため、強アンカリング膜３６は、下地膜３８上に選択的に形成されており、弱アンカリング膜３４上には形成されていない。 As will be described later, the strong anchoring film 36 is composed of a polymerized phase separation film obtained by separating a UV polymerizable monomer, which is a photopolymerizable monomer mixed in a liquid crystal material constituting the liquid crystal layer 20, into a polymerized phase. be. As described above, the undercoat film 38 is formed on the substrate 16 between the plurality of linear electrodes 24. The strong anchoring film 36 and the UV polymerizable monomer as a material thereof have a higher affinity with the undercoat film 38 than with the weak anchoring film 34. Therefore, the strong anchoring film 36 is selectively formed on the undercoat film 38, and is not formed on the weak anchoring film 34.

強アンカリング膜３６を構成するＵＶ重合性モノマーである重合性液晶は、液晶材料の中に混合されており、セルに注入後は、液晶材料と同様、基板１８側の強アンカリング膜３２の配向規制力により一定方向にホモジニアス配向している。 The polymerizable liquid crystal, which is a UV polymerizable monomer constituting the strong anchoring film 36, is mixed in the liquid crystal material, and after being injected into the cell, the strong anchoring film 32 on the substrate 18 side is formed like the liquid crystal material. It is homogenically oriented in a certain direction due to the orientation regulating force.

セルにＵＶが照射されると、重合性液晶は重合を開始し、ある重合度に達した段階で液晶から相分離し始める。相分離した重合性液晶（液晶高分子）は、液晶層の配向乱れによるエネルギーの増加を最小限に抑えるために液晶／下地膜３８界面に優先的に排出される。このとき、重合性液晶の重合物である液晶高分子は、周囲の液晶と同一の配向方向を維持したまま液晶／下地膜３８界面に相分離し、下地膜３８上には基板１８上の強アンカリング膜３２と同一方向に配向規制力を有する強アンカリング膜３６が形成される。 When the cell is irradiated with UV, the polymerizable liquid crystal starts polymerization, and when it reaches a certain degree of polymerization, it starts phase separation from the liquid crystal. The phase-separated polymerizable liquid crystal (liquid crystal polymer) is preferentially discharged to the liquid crystal / base film 38 interface in order to minimize the increase in energy due to the disorder of the orientation of the liquid crystal layer. At this time, the liquid crystal polymer, which is a polymer of the polymerizable liquid crystal, undergoes phase separation at the liquid crystal / base film 38 interface while maintaining the same orientation direction as the surrounding liquid crystal, and the strong on the base film 38 is on the substrate 18. A strong anchoring film 36 having an orientation restricting force in the same direction as the anchoring film 32 is formed.

上述のように、基板１８側では、配向膜として強アンカリング膜３２が形成されている。一方、基板１６側では、複数の線状電極２４のそれぞれの直上に配向膜として弱アンカリング膜３４が形成されている。また、基板１６側では、複数の線上電極２４間の基板１６上に配向膜として強アンカリング膜３６が形成されている。 As described above, the strong anchoring film 32 is formed as the alignment film on the substrate 18 side. On the other hand, on the substrate 16 side, a weak anchoring film 34 is formed as an alignment film directly above each of the plurality of linear electrodes 24. Further, on the substrate 16 side, a strong anchoring film 36 is formed as an alignment film on the substrate 16 between the plurality of linear electrodes 24.

弱アンカリング膜３４のアンカリングエネルギーは、強アンカリング膜３２、３６のアンカリングエネルギーよりも小さく、好ましくは１０－６Ｊ／ｍ２以下である。強アンカリング膜３２、３６のアンカリングエネルギーは、弱アンカリング膜３４のアンカリングエネルギーよりも大きく、好ましくは１０－４Ｊ／ｍ２以上である。 The anchoring energy of the weak anchoring film 34 is smaller than the anchoring energy of the strong anchoring films 32 and 36, preferably 10-6 J / m 2 or less. The anchoring energy of the strong anchoring films 32 and 36 is larger than the anchoring energy of the weak anchoring films 34, preferably 10 -4 J / m 2 or more.

基板１８と強アンカリング膜３２との間には、カラーフィルタ４０が設けられている。カラーフィルタ４０は、カラーレジストのＲ（赤）／Ｇ（緑）／Ｂ（青）の３原色のパターン、ブラックマトリックス、保護膜等により構成され、バックライトユニット１４から照明される光のうちＲ／Ｇ／Ｂの３原色の波長域の光を通過させる。 A color filter 40 is provided between the substrate 18 and the strong anchoring film 32. The color filter 40 is composed of a pattern of the three primary colors of R (red) / G (green) / B (blue) of the color resist, a black matrix, a protective film, and the like, and is R of the light illuminated by the backlight unit 14. Passes light in the wavelength range of the three primary colors of / G / B.

バックライトユニット１４は、液晶パネル１２を照明する光を発する照明装置である。バックライトユニット１４は、エッジライト方式であってもよいし、直下型方式であってもよい。なお、バックライトユニット１４と液晶パネル１２との間には、光拡散シートやプリズムシートが配置されていてもよい。 The backlight unit 14 is a lighting device that emits light that illuminates the liquid crystal panel 12. The backlight unit 14 may be of an edge light type or a direct type type. A light diffusion sheet or a prism sheet may be arranged between the backlight unit 14 and the liquid crystal panel 12.

本実施形態による液晶表示装置１０は、基板１６の基板面と水平な方向の横電界を形成し、液晶分子を液晶層２０の面内で回転させて表示を制御するＩＰＳ方式のものである。しかし、仮に、上記の構成において、前述の特許文献１に記載される従来の構成のように線状電極２４の直上を含む基板１６側の全面に強アンカリング膜を形成した場合、線状電極２４の直上の液晶分子を十分に回転させることができない。これは、電界を形成するための線状電極２４の直上における電界の基板面に水平方向の成分が、強アンカリング膜の束縛に打ち勝って液晶分子を回転させることができる程に大きくないためである。したがって、この場合、白表示における光透過率が低下してしまう。 The liquid crystal display device 10 according to the present embodiment is an IPS system that controls display by forming a horizontal electric field in a horizontal direction with the substrate surface of the substrate 16 and rotating liquid crystal molecules in the surface of the liquid crystal layer 20. However, in the above configuration, when a strong anchoring film is formed on the entire surface of the substrate 16 side including directly above the linear electrode 24 as in the conventional configuration described in the above-mentioned Patent Document 1, the linear electrode is used. The liquid crystal molecule directly above 24 cannot be sufficiently rotated. This is because the horizontal component of the electric field directly above the linear electrode 24 for forming the electric field on the substrate surface is not large enough to overcome the binding of the strong anchoring film and rotate the liquid crystal molecules. be. Therefore, in this case, the light transmittance in the white display is lowered.

一方、仮に、上記の構成において、前述の特許文献２に記載される従来の構成のように基板１６側の全面に弱アンカリング膜を形成した場合、基板１６側の配向規制力を弱めることで、高い光透過率を実現して白表示における十分な光透過率を確保しうる。しかしながら、この場合、線状電極２４に対する電圧オフ時における液晶分子の復元力が低下するため、電圧オフ時の応答性が低下し、電圧オフ時の応答時間τｏｆｆが長くなる。 On the other hand, in the above configuration, when a weak anchoring film is formed on the entire surface of the substrate 16 side as in the conventional configuration described in the above-mentioned Patent Document 2, the orientation restricting force on the substrate 16 side is weakened. , High light transmittance can be realized and sufficient light transmittance can be secured in white display. However, in this case, since the restoring force of the liquid crystal molecules with respect to the linear electrode 24 at the time of voltage off decreases, the responsiveness at the time of voltage off decreases, and the response time τ off at the time of voltage off becomes long.

上記従来の構成に対して、本実施形態による液晶表示装置１０では、複数の線状電極２４のそれぞれの直上に、アンカリングエネルギーが比較的に小さい弱アンカリング膜３４が形成されている。弱アンカリング膜３４が形成された線状電極２４上では、強アンカリング膜３６が形成された領域と比較して配向規制力が弱くなっている。このため、本実施形態による液晶表示装置１０では、電界の横方向成分が小さい場合であっても、線状電極２４の直上の液晶分子が回転するため、その線状電極２４の直上においても十分な光透過率を確保することができる。これにより、本実施形態による液晶表示装置１０は、光透過率を向上することができる。 In contrast to the conventional configuration, in the liquid crystal display device 10 according to the present embodiment, a weak anchoring film 34 having a relatively small anchoring energy is formed directly above each of the plurality of linear electrodes 24. On the linear electrode 24 on which the weak anchoring film 34 is formed, the orientation restricting force is weaker than in the region where the strong anchoring film 36 is formed. Therefore, in the liquid crystal display device 10 according to the present embodiment, even when the lateral component of the electric field is small, the liquid crystal molecules directly above the linear electrode 24 rotate, so that the liquid crystal display device 10 is sufficient even directly above the linear electrode 24. It is possible to secure a high light transmittance. As a result, the liquid crystal display device 10 according to the present embodiment can improve the light transmittance.

図２（ａ）は、線状電極２４に対する電圧オフ時の液晶表示装置１０の液晶層２０における液晶分子２０２の配向状態を模式的に示している。図２（ａ）に示す電圧オフ時において、液晶分子２０２は、図２（ａ）の紙面裏面から紙面表面に向かう方向に沿って配向している。 FIG. 2A schematically shows the orientation state of the liquid crystal molecules 202 in the liquid crystal layer 20 of the liquid crystal display device 10 when the voltage with respect to the linear electrode 24 is off. When the voltage shown in FIG. 2A is off, the liquid crystal molecules 202 are oriented along the direction from the back surface of the paper surface to the front surface of the paper surface in FIG. 2A.

一方、図２（ｂ）は、線状電極２４に対する電圧オン時の液晶表示装置１０の液晶層２０における液晶分子２０２の配向状態を模式的に示している。図２（ｂ）に示す電圧オン時において、液晶分子２０２は、線状電極２４の直上に弱アンカリング膜３４が形成されているため、液晶層２０の面内で十分に回転している。このため、液晶表示装置１０では、電圧オン時の光透過率を向上することができる。 On the other hand, FIG. 2B schematically shows the orientation state of the liquid crystal molecules 202 in the liquid crystal layer 20 of the liquid crystal display device 10 when the voltage is turned on with respect to the linear electrode 24. When the voltage shown in FIG. 2B is turned on, the liquid crystal molecules 202 are sufficiently rotated in the plane of the liquid crystal layer 20 because the weak anchoring film 34 is formed directly above the linear electrode 24. Therefore, in the liquid crystal display device 10, the light transmittance when the voltage is turned on can be improved.

また、弱アンカリング膜３４が形成されていることにより、線状電極２４の直上では、基板１６側での液晶分子の配向方向と基板１８側での液晶分子の配向方向のずれによる電圧オフ時の液晶分子の微小ツイストを抑制することができる。これにより、黒輝度を低減することができ、光透過率の向上と相俟って、コントラスト比を向上することができる。 Further, due to the formation of the weak anchoring film 34, when the voltage is off due to the deviation between the orientation direction of the liquid crystal molecules on the substrate 16 side and the orientation direction of the liquid crystal molecules on the substrate 18 side directly above the linear electrode 24. It is possible to suppress the minute twist of the liquid crystal molecule. As a result, the black brightness can be reduced, and the contrast ratio can be improved in combination with the improvement of the light transmittance.

さらに、本実施形態による液晶表示装置１０では、線状電極２４の間の基板１６上に、強アンカリング膜３６が形成されている。このように複数の線状電極２４のそれぞれの直上以外の領域にアンカリングエネルギーが比較的に大きい強アンカリング膜３６が形成されていることで、線状電極２４に対する電圧オフ時における液晶分子の復元力はほとんど低下しない。したがって、本実施形態による液晶表示装置１０は、特許文献２に記載されるように基板１６側の全面に弱アンカリング膜が形成された従来の構成と比較して、電圧オフ時の液晶表示の応答性を改善することができ、電圧オフ時の応答時間τｏｆｆを短縮することができる。また、線状電極２４間に形成された強アンカリング膜３６は、基板１８上の強アンカリング膜３２と同一方向に配向規制力を有するため、 基板１６側での液晶分子の配向方向と基板１８側での液晶分子の配向方向のずれによる電圧オフ時の液晶分子の微小ツイストを抑制することができる。これにより、黒輝度を低減することができ、コントラスト比を向上することができる。 Further, in the liquid crystal display device 10 according to the present embodiment, the strong anchoring film 36 is formed on the substrate 16 between the linear electrodes 24. As described above, the strong anchoring film 36 having a relatively large anchoring energy is formed in the region other than directly above each of the plurality of linear electrodes 24, so that the liquid crystal molecules of the liquid crystal molecules when the voltage is turned off with respect to the linear electrodes 24 Restoring force is hardly reduced. Therefore, the liquid crystal display device 10 according to the present embodiment has a liquid crystal display when the voltage is off, as compared with a conventional configuration in which a weak anchoring film is formed on the entire surface of the substrate 16 side as described in Patent Document 2. The responsiveness can be improved, and the response time τ off when the voltage is off can be shortened. Further, since the strong anchoring film 36 formed between the linear electrodes 24 has an orientation restricting force in the same direction as the strong anchoring film 32 on the substrate 18, the orientation direction of the liquid crystal molecules on the substrate 16 side and the substrate It is possible to suppress a minute twist of the liquid crystal molecules when the voltage is turned off due to the deviation of the liquid crystal molecules in the orientation direction on the 18 side. As a result, the black brightness can be reduced and the contrast ratio can be improved.

また、後述するように、強アンカリング膜３６は、インクジェット法等の特別の方法を用いることなく、液晶層２０を構成する液晶材料に混合されたＵＶ重合性モノマーの重合相分離により形成することができる。したがって、本実施形態による液晶表示装置１０は、工程の複雑化を伴うことなく容易に製造することができる。 Further, as will be described later, the strong anchoring film 36 is formed by separating the polymerized phase of the UV polymerizable monomer mixed with the liquid crystal material constituting the liquid crystal layer 20 without using a special method such as an inkjet method. Can be done. Therefore, the liquid crystal display device 10 according to the present embodiment can be easily manufactured without complicating the process.

こうして、本実施形態による液晶表示装置１０は、光透過率及びコントラスト比を向上しつつ、電圧オフ時の応答性を改善することができ、液晶表示の明るさと応答性とを両立することができる。 In this way, the liquid crystal display device 10 according to the present embodiment can improve the responsiveness at the time of voltage off while improving the light transmittance and the contrast ratio, and can achieve both the brightness and the responsiveness of the liquid crystal display. ..

次に、本実施形態による液晶表示装置の製造方法について図３乃至図６を用いて説明する。図２乃至図６は、本実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す工程断面図である。 Next, a method of manufacturing the liquid crystal display device according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 3 to 6. 2 to 6 are process cross-sectional views showing a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present embodiment.

まず、基板１６の液晶層２０側となる面上に、基板１６の基板面と水平な方向に電界（横電界）を形成するための櫛歯電極として、例えばＩＴＯからなる透明導電膜５０を形成する（図３（ａ））。なお、基板１６には、画素をスイッチングするためのＴＦＴ、ゲートライン、ソースライン等が形成されている。 First, a transparent conductive film 50 made of, for example, ITO is formed on the surface of the substrate 16 on the liquid crystal layer 20 side as a comb tooth electrode for forming an electric field (transverse electric field) in a direction horizontal to the substrate surface of the substrate 16. (Fig. 3 (a)). The substrate 16 is formed with a TFT, a gate line, a source line, and the like for switching pixels.

次いで、透明導電膜５０上に、例えばスピンコート法によりネガ型のフォトレジスト材料を塗布してプリベークを行い、フォトレジスト膜５２を形成する（図３（ｂ））。 Next, a negative type photoresist material is applied onto the transparent conductive film 50 by, for example, a spin coating method, and prebaking is performed to form a photoresist film 52 (FIG. 3 (b)).

次いで、マスク５４を用い、フォトレジスト膜５２にマスク５４のマスクパターンを露光する（図３（ｃ））。マスク５４は、マスクパターンとして、複数の線状電極２４のパターン５４２を有している。なお、露光光としては、フォトレジスト膜５２の種類に応じて紫外光等を選択することができる。こうして、マスク５４を用いた露光により、フォトレジスト膜５２のうちのフォトレジスト膜５２ａにパターン５４２が露光される。 Next, the mask 54 is used to expose the photoresist film 52 to the mask pattern of the mask 54 (FIG. 3 (c)). The mask 54 has a pattern 542 of a plurality of linear electrodes 24 as a mask pattern. As the exposure light, ultraviolet light or the like can be selected depending on the type of the photoresist film 52. In this way, the pattern 542 is exposed on the photoresist film 52a of the photoresist film 52 by the exposure using the mask 54.

次いで、フォトレジスト膜５２を現像して未露光のフォトレジスト膜５２を除去し、その後、ポストベークを行う。これにより、透明導電膜５０上に、フォトレジスト膜５２ａが形成される（図４（ａ）） Next, the photoresist film 52 is developed to remove the unexposed photoresist film 52, and then post-baking is performed. As a result, the photoresist film 52a is formed on the transparent conductive film 50 (FIG. 4A).

次いで、フォトレジスト膜５２ａをマスクとして、例えばウェットエッチングにより、透明導電膜５０をエッチングしてパターニングする。これにより、透明導電膜５０からなる複数の線状電極２４を形成する（図４（ｂ））。 Next, using the photoresist film 52a as a mask, the transparent conductive film 50 is etched and patterned by, for example, wet etching. As a result, a plurality of linear electrodes 24 made of the transparent conductive film 50 are formed (FIG. 4 (b)).

次いで、例えば剥離液中に浸漬させたりすることにより、線状電極２４上のフォトレジスト膜５２ａを除去する（図４（ｃ））。 Then, for example, the photoresist film 52a on the linear electrode 24 is removed by immersing it in a stripping solution (FIG. 4 (c)).

次いで、線状電極２４上及び線状電極２４の間の基板１６上に、例えばスピンコート法により、感光性樹脂材料を塗布してプリベークを行い、感光性樹脂膜５６を形成する（図５（ａ））。感光性樹脂５６は、露光された結果、アンカリングエネルギーが低下し、弱アンカリング材となるとともに、強アンカリング膜３６及び強アンカリング膜３６を構成する材料であるＵＶ重合性モノマーとの親和性が低下するように設計されている。 Next, a photosensitive resin material is applied onto the linear electrode 24 and the substrate 16 between the linear electrodes 24 by, for example, a spin coating method and prebaked to form a photosensitive resin film 56 (FIG. 5 (FIG. 5). a)). As a result of exposure, the photosensitive resin 56 has a reduced anchoring energy, becomes a weak anchoring material, and has an affinity with the strong anchoring film 36 and the UV polymerizable monomer which is a material constituting the strong anchoring film 36. It is designed to be less sexual.

次いで、図３（ｃ）に示すフォトレジスト膜５２の露光に用いたマスク５４と同一のマスク５４を用い、感光性樹脂膜５６のうち、線状電極２４上の感光性樹脂膜５６ａを選択的に露光する（図５（ｂ））。この際、線状電極２４の間の基板１６上の感光性樹脂膜５６は、露光されずに未露光のままとなる。 Next, the same mask 54 as the mask 54 used for the exposure of the photoresist film 52 shown in FIG. 3C was used, and among the photosensitive resin films 56, the photosensitive resin film 56a on the linear electrode 24 was selectively selected. (Fig. 5 (b)). At this time, the photosensitive resin film 56 on the substrate 16 between the linear electrodes 24 is not exposed and remains unexposed.

線状電極２４上の感光性樹脂膜５６ａは、露光された結果、アンカリングエネルギーが低下し、弱アンカリング材となるとともに、強アンカリング膜３６及び強アンカリング膜３６を構成する材料であるＵＶ重合性モノマーとの親和性が低下する。この結果、複数の線状電極２４の間の基板１６上の未露光の感光性樹脂膜５６は、線状電極２４上の感光性樹脂膜５６ａよりも、強アンカリング膜３６及び強アンカリング膜３６を構成する材料であるＵＶ重合性モノマーとの親和性が高くなる。 As a result of exposure, the photosensitive resin film 56a on the linear electrode 24 has a reduced anchoring energy and becomes a weak anchoring material, and is a material constituting the strong anchoring film 36 and the strong anchoring film 36. The affinity with the UV polymerizable monomer is reduced. As a result, the unexposed photosensitive resin film 56 on the substrate 16 between the plurality of linear electrodes 24 has a stronger anchoring film 36 and a stronger anchoring film than the photosensitive resin film 56a on the linear electrodes 24. The affinity with the UV polymerizable monomer which is the material constituting 36 is increased.

こうして、複数の線状電極２４のそれぞれの直上に、露光された感光性樹脂膜５６ａからなる弱アンカリング膜３４が形成されるとともに、線状電極２４の間の基板１６上に、未露光の感光性樹脂膜５６からなる下地膜３８が形成される（図５（ｃ））。下地膜３８は、図５（ｂ）に示す露光の結果、線状電極２４上の弱アンカリング膜３４よりも、強アンカリング膜３６及び強アンカリング膜３６を構成する材料であるＵＶ重合性モノマーとの親和性が高くなっている。すなわち、弱アンカリング膜３４は、下地膜３８よりも、強アンカリング膜３６及びこれを構成する材料との親和性が低くなっている。 In this way, a weak anchoring film 34 made of the exposed photosensitive resin film 56a is formed directly above each of the plurality of linear electrodes 24, and the substrate 16 between the linear electrodes 24 is unexposed. An undercoat film 38 made of a photosensitive resin film 56 is formed (FIG. 5 (c)). As a result of the exposure shown in FIG. 5B, the undercoat film 38 is more UV-polymerizable as a material constituting the strong anchoring film 36 and the strong anchoring film 36 than the weak anchoring film 34 on the linear electrode 24. The affinity with the monomer is high. That is, the weak anchoring film 34 has a lower affinity with the strong anchoring film 36 and the materials constituting the strong anchoring film 36 than the underlying film 38.

一方、基板１８上には、カラーフィルタ４０を形成する。続いて、カラーフィルタ４０上に、ポリイミド膜を形成する。続いて、ポリイミド膜に対して、例えば、ラビング法、光配向法等による配向処理を行う。こうして、カラーフィルタ４０上に、ポリイミド膜からなる強アンカリング膜３２を形成する（図５（ｃ））。 On the other hand, a color filter 40 is formed on the substrate 18. Subsequently, a polyimide film is formed on the color filter 40. Subsequently, the polyimide film is subjected to an alignment treatment by, for example, a rubbing method, a photo-alignment method, or the like. In this way, a strong anchoring film 32 made of a polyimide film is formed on the color filter 40 (FIG. 5 (c)).

次いで、以下のようにして、ＯＤＦ（Ｏｎｅ Ｄｒｏｐ Ｆｉｌｌ）法により基板１６、１８間に液晶層２０を封止するとともに、強アンカリング膜３６を下地膜３８上に選択的に形成する。 Next, the liquid crystal layer 20 is sealed between the substrates 16 and 18 by the ODF (One Drop Fill) method as follows, and the strong anchoring film 36 is selectively formed on the undercoat film 38.

まず、表示領域の周縁部における基板１６、１８のうちの一方の上に、紫外線硬化性樹脂からなるシール材２２を塗布する。続いて、シール材２２を塗布した基板１６、１８のうちの一方の上に液晶材料を滴下する。ここで、滴下する液晶材料には、強アンカリング膜３６を構成する材料であるＵＶ重合性モノマーを混合しておく。続いて、液晶材料が滴下された基板１６、１８のうちの一方と、基板１６、１８のうちの他方とをシール材２２により貼り合わせる（図６（ａ））。基板１６、１８間には、滴下した液晶材料からなる液晶層２０が形成される。液晶層２０中には、液晶分子２０２とともにＵＶ重合性モノマー３６２が含まれている。 First, a sealing material 22 made of an ultraviolet curable resin is applied onto one of the substrates 16 and 18 at the peripheral edge of the display area. Subsequently, the liquid crystal material is dropped onto one of the substrates 16 and 18 coated with the sealing material 22. Here, the liquid crystal material to be dropped is mixed with a UV polymerizable monomer which is a material constituting the strong anchoring film 36. Subsequently, one of the substrates 16 and 18 on which the liquid crystal material is dropped and the other of the substrates 16 and 18 are bonded to each other by the sealing material 22 (FIG. 6A). A liquid crystal layer 20 made of a dropped liquid crystal material is formed between the substrates 16 and 18. The liquid crystal layer 20 contains the UV polymerizable monomer 362 together with the liquid crystal molecules 202.

基板１６と基板１８とを貼り合わせた図６（ａ）に示す状態において、液晶層２０における液晶分子２０２は、基板１８側の強アンカリング膜３２の配向規制力により、線状電極２４の長手方向に沿って一軸配向する。液晶材料に混合されたＵＶ重合性モノマー３６２も、液晶分子２０２が一軸配向する配向方向に沿って配向する。 In the state shown in FIG. 6A in which the substrate 16 and the substrate 18 are bonded together, the liquid crystal molecules 202 in the liquid crystal layer 20 have the longitudinal length of the linear electrode 24 due to the orientation restricting force of the strong anchoring film 32 on the substrate 18 side. Uniaxially oriented along the direction. The UV polymerizable monomer 362 mixed with the liquid crystal material is also oriented along the orientation direction in which the liquid crystal molecules 202 are uniaxially oriented.

続いて、紫外光を照射することにより、シール材２２を硬化させる。また、シール材２２を硬化させるための紫外線を照射することにより、液晶層２０中の光重合性材料であるＵＶ重合性モノマー３６２が重合相分離する。ここで、弱アンカリング膜３４よりも下地膜３８の方がＵＶ重合性モノマー３６２との親和性が高くなっている。このため、ＵＶ重合性モノマー３６２が重合相分離した重合体は、複数の線状電極２４の間の下地膜３８上に密着する一方、複数の線状電極２４上の弱アンカリング膜３４には密着しない。また、ＵＶ重合性モノマー３６２は、液晶分子２０２が一軸配向する配向方向に沿って配向した状態で重合相分離する。このため、ＵＶ重合性モノマー３６２が重合相分離した重合体は、ラビング法等による配向処理を必要とすることなく、液晶分子２０２に対する強い配向規制力を有するものとなる。このようにして、紫外線照射により液晶層２０中のＵＶ重合性モノマー３６２が重合相分離してなる強アンカリング膜３６が下地膜３８上に選択的に形成される（図６（ｂ））。なお、ＵＶ重合性モノマー３６２を重合相分離させるための紫外線照射は、シール材２２を硬化させるための紫外線照射とは別個に行うこともできる。 Subsequently, the sealing material 22 is cured by irradiating with ultraviolet light. Further, by irradiating with ultraviolet rays for curing the sealing material 22, the UV polymerizable monomer 362, which is a photopolymerizable material in the liquid crystal layer 20, is separated from the polymerized phase. Here, the base film 38 has a higher affinity with the UV polymerizable monomer 362 than the weak anchoring film 34. Therefore, the polymer in which the UV polymerizable monomer 362 is separated from the polymerized phase adheres to the undercoat film 38 between the plurality of linear electrodes 24, while the weak anchoring film 34 on the plurality of linear electrodes 24 adheres to the polymer. Does not adhere. Further, the UV polymerizable monomer 362 undergoes polymerization phase separation in a state where the liquid crystal molecules 202 are oriented along the orientation direction in which the liquid crystal molecules 202 are uniaxially oriented. Therefore, the polymer in which the UV polymerizable monomer 362 is separated from the polymerized phase does not require an orientation treatment by a rubbing method or the like, and has a strong orientation regulating force with respect to the liquid crystal molecule 202. In this way, a strong anchoring film 36 in which the UV polymerizable monomer 362 in the liquid crystal layer 20 is separated from each other by the polymerization phase is selectively formed on the undercoat film 38 by ultraviolet irradiation (FIG. 6 (b)). The ultraviolet irradiation for separating the polymerized phase of the UV polymerizable monomer 362 can also be performed separately from the ultraviolet irradiation for curing the sealing material 22.

こうして、ＯＤＦ法により、液晶材料からなる液晶層２０を挟むように基板１６と基板１８とを貼り合わせて基板１６、１８間に液晶層２０を封止するとともに、強アンカリング膜３６を下地膜３８上に選択的に形成する。 In this way, by the ODF method, the substrate 16 and the substrate 18 are bonded so as to sandwich the liquid crystal layer 20 made of the liquid crystal material, the liquid crystal layer 20 is sealed between the substrates 16 and 18, and the strong anchoring film 36 is formed as a base film. It is selectively formed on 38.

以後、通常のプロセスにより、基板１６、１８への偏光板２８、３０の貼り付け、ドライバＩＣの実装、バックライトユニット１４の配置等を行う。こうして、図１に示す本実施形態による液晶表示装置１０が製造される。 After that, the polarizing plates 28 and 30 are attached to the substrates 16 and 18, the driver IC is mounted, the backlight unit 14 is arranged, and the like by a normal process. In this way, the liquid crystal display device 10 according to the present embodiment shown in FIG. 1 is manufactured.

このように、本実施形態では、ＵＶ重合性モノマー３６２の重合相分離により、複数の線状電極２４の間の下地膜３８上に強アンカリング膜３６を選択的に形成する。したがって、本実施形態では、インクジェット法等の特別の方法を用いることなく、弱アンカリング膜３４が直上に形成された複数の線状電極２４の間に強アンカリング膜３６を選択的に形成することができる。したがって、本実施形態によれば、工程の複雑化を伴うことなく、図１に示す液晶表示装置１０を容易に製造することができる。 As described above, in the present embodiment, the strong anchoring film 36 is selectively formed on the base film 38 between the plurality of linear electrodes 24 by the polymerization phase separation of the UV polymerizable monomer 362. Therefore, in the present embodiment, the strong anchoring film 36 is selectively formed between the plurality of linear electrodes 24 on which the weak anchoring film 34 is formed, without using a special method such as an inkjet method. be able to. Therefore, according to the present embodiment, the liquid crystal display device 10 shown in FIG. 1 can be easily manufactured without complicating the process.

このように、本実施形態によれば、液晶表示装置１０において、光透過率及びコントラスト比を向上しつつ、電圧オフ時の応答性を改善することができる。また、本実施形態によれば、光透過率及びコントラスト比を向上しつつ、電圧オフ時の応答性を改善することができる液晶表示装置１０を工程の複雑化を伴うことなく容易に製造することができる。 As described above, according to the present embodiment, in the liquid crystal display device 10, it is possible to improve the responsiveness at the time of voltage off while improving the light transmittance and the contrast ratio. Further, according to the present embodiment, it is possible to easily manufacture a liquid crystal display device 10 capable of improving the responsiveness at the time of voltage off while improving the light transmittance and the contrast ratio without complicating the process. Can be done.

（変形例）
次に、本実施形態の変形例による液晶表示装置について図７を用いて説明する。図７は、本実施形態の変形例による液晶表示装置の構造を示す断面図である。 (Modification example)
Next, a liquid crystal display device according to a modified example of the present embodiment will be described with reference to FIG. 7. FIG. 7 is a cross-sectional view showing the structure of the liquid crystal display device according to the modified example of the present embodiment.

上記図１に示す液晶表示装置１０では、線状電極２４の間の下地膜３８上に強アンカリング膜３６が選択的に形成されていたが、これに限定されるものではない。強アンカリング膜３６は、下地膜３８を介することなく直接、複数の線状電極２４の間の基板１６上に選択的に形成することもできる。 In the liquid crystal display device 10 shown in FIG. 1, the strong anchoring film 36 is selectively formed on the base film 38 between the linear electrodes 24, but the present invention is not limited to this. The strong anchoring film 36 can also be selectively formed on the substrate 16 between the plurality of linear electrodes 24 directly without the intervention of the underlying film 38.

図７に示す変形例による液晶表示装置１００では、強アンカリング膜３６が、下地膜３８を介することなく直接、線状電極２４の間の基板１６上に選択的に形成されている。 In the liquid crystal display device 100 according to the modification shown in FIG. 7, the strong anchoring film 36 is selectively formed on the substrate 16 between the linear electrodes 24 directly without passing through the base film 38.

例えば線状電極２４の間に形成されている無機絶縁膜や有機絶縁膜は、弱アンカリング膜３４よりも、強アンカリング膜３６を構成する材料であるＵＶ重合性モノマー３６２との親和性が高い。したがって、図６（ａ）に示す状態において下地膜３８が形成されておらず、複数の線状電極２４の間に基板１６が露出している場合も、複数の線状電極２４の間に強アンカリング膜３６を選択的に形成することができる。すなわち、紫外線照射により重合相分離したＵＶ重合性モノマー３６２の重合体は、複数の線状電極２４の間の無機絶縁膜や有機絶縁膜に密着する一方、複数の線状電極２４上の弱アンカリング膜３４には密着しない。このようにして、紫外線照射により液晶層２０中のＵＶ重合性モノマー３６２が重合相分離してなる強アンカリング膜３６が複数の線状電極２４の間の基板１６上に選択的に直接形成される。 For example, the inorganic insulating film or the organic insulating film formed between the linear electrodes 24 has a higher affinity with the UV polymerizable monomer 362, which is a material constituting the strong anchoring film 36, than the weak anchoring film 34. high. Therefore, even when the substrate film 38 is not formed in the state shown in FIG. 6A and the substrate 16 is exposed between the plurality of linear electrodes 24, it is strong between the plurality of linear electrodes 24. The anchoring film 36 can be selectively formed. That is, the polymer of the UV polymerizable monomer 362 separated from the polymerized phase by ultraviolet irradiation adheres to the inorganic insulating film or the organic insulating film between the plurality of linear electrodes 24, while the weak anchors on the plurality of linear electrodes 24 are weak. It does not adhere to the ring film 34. In this way, the strong anchoring film 36 in which the UV polymerizable monomer 362 in the liquid crystal layer 20 is separated by the polymerization phase by ultraviolet irradiation is selectively and directly formed on the substrate 16 between the plurality of linear electrodes 24. Ru.

なお、線状電極２４の間に下地膜３８が形成されておらず、線状電極２４の直上に弱アンカリング膜３４が形成された状態の基板１６は、例えば次のようにして用意することができる。すなわち、図４（ｃ）に示すように線状電極２４を形成した後、例えばインクジェット法等により、弱アンカリング膜３４を線状電極２４の上に選択的に形成することができる。また、感光性樹脂膜５６としてネガ型のレジスト膜を用い、図５（ｂ）に示すように感光性樹脂膜５６ａを露光した後、線状電極２４の間の未露光の感光性樹脂膜５６を現像により除去することもできる。なお、弱アンカリング膜３４の線状電極２４上への形成方法は、これに限定されるものではない。 The substrate 16 in which the base film 38 is not formed between the linear electrodes 24 and the weak anchoring film 34 is formed directly above the linear electrodes 24 is prepared, for example, as follows. Can be done. That is, after the linear electrode 24 is formed as shown in FIG. 4C, the weak anchoring film 34 can be selectively formed on the linear electrode 24 by, for example, an inkjet method. Further, a negative resist film is used as the photosensitive resin film 56, and after the photosensitive resin film 56a is exposed as shown in FIG. 5B, the unexposed photosensitive resin film 56 between the linear electrodes 24 is exposed. Can also be removed by development. The method for forming the weak anchoring film 34 on the linear electrode 24 is not limited to this.

以後、図５（ｃ）、図６（ａ）及び図６（ｂ）と同様の工程等を行うことにより、図７に示す液晶表示装置１００を製造することができる。 After that, the liquid crystal display device 100 shown in FIG. 7 can be manufactured by performing the same steps as those in FIGS. 5 (c), 6 (a) and 6 (b).

（評価結果）
次に、本実施形態による液晶表示装置の評価結果について説明する。 (Evaluation results)
Next, the evaluation result of the liquid crystal display device according to this embodiment will be described.

実施例１及び比較例１、２による液晶表示装置のそれぞれについて、シミュレーションを行い、最大透過率Ｔｍａｘ、コントラスト比ＣＲ、電圧オフ時の応答時間τｏｆｆ等を計算した。各実施例及び比較例による液晶表示装置のセルの構成は、以下のとおりである。 Simulations were performed for each of the liquid crystal display devices according to Example 1 and Comparative Examples 1 and 2, and the maximum transmittance T max , the contrast ratio CR , the response time τ off when the voltage was turned off, and the like were calculated. The cell configuration of the liquid crystal display device according to each Example and Comparative Example is as follows.

実施例１のセル構成は、図１に示す液晶表示装置１０のセルに対応し、基板１６側において、線状電極２４の直上に弱アンカリング膜３４が設けられ、線状電極２４の間に強アンカリング膜３６が設けられたものである。櫛歯電極は、幅３μｍの線状電極２４を１０μｍの間隔で配置したものとした。 The cell configuration of the first embodiment corresponds to the cell of the liquid crystal display device 10 shown in FIG. 1, and a weak anchoring film 34 is provided directly above the linear electrode 24 on the substrate 16 side, and the weak anchoring film 34 is provided between the linear electrodes 24. A strong anchoring film 36 is provided. As the comb tooth electrode, linear electrodes 24 having a width of 3 μm were arranged at intervals of 10 μm.

比較例１のセル構成は、図１に示す液晶表示装置１０のセルにおいて、基板１６側において弱アンカリング膜３４及び強アンカリング膜３６が設けられていることに代えて、基板１６側の全面に強アンカリング膜が設けられたものである。 In the cell configuration of Comparative Example 1, instead of the weak anchoring film 34 and the strong anchoring film 36 being provided on the substrate 16 side in the cell of the liquid crystal display device 10 shown in FIG. 1, the entire surface on the substrate 16 side is provided. A strong anchoring film is provided on the surface.

比較例２の構成は、図１に示す液晶表示装置１０のセルにおいて、基板１６側において弱アンカリング膜３４及び強アンカリング膜３６が設けられていることに代えて、基板１６側の全面に弱アンカリング膜が設けられたものである。 In the configuration of Comparative Example 2, instead of the weak anchoring film 34 and the strong anchoring film 36 being provided on the substrate 16 side in the cell of the liquid crystal display device 10 shown in FIG. 1, the entire surface on the substrate 16 side is configured. It is provided with a weak anchoring film.

実施例１及び比較例１、２のそれぞれについて、閾値電圧Ｖｔｈ、最大透過率Ｔｍａｘを与える電圧Ｖｍａｘ、最小透過率Ｔ０、最大透過率Ｔｍａｘ、コントラスト比ＣＲ、電圧オフ時の応答時間τｏｆｆを表１に示す。なお、閾値電圧Ｖｔｈは、Ｔｍａｘの２％に相当する透過率を実現する電圧Ｖ２％と定義する。また、比較例１、２の最小透過率Ｔ０には実測値を用いた。実施例１の最小透過率Ｔ０は原理的に比較例２の最小透過率Ｔ０と同一値になると考えられるため、実施例１の最小透過率Ｔ０には比較例１の最小透過率Ｔ０の実測値を用いた。 For each of Example 1 and Comparative Examples 1 and 2, the threshold voltage V th , the voltage V max that gives the maximum transmittance T max , the minimum transmittance T 0 , the maximum transmittance T max , the contrast ratio CR, and the response when the voltage is off. The time τ off is shown in Table 1. The threshold voltage V th is defined as a voltage V 2% that realizes a transmittance corresponding to 2% of T max . Further, the measured value was used for the minimum transmittance T 0 of Comparative Examples 1 and 2. Since the minimum transmittance T 0 of Example 1 is considered to be the same value as the minimum transmittance T 0 of Comparative Example 2 in principle, the minimum transmittance T 0 of Example 1 is the minimum transmittance T of Comparative Example 1. The measured value of 0 was used.

Figure 0007092461000001
Figure 0007092461000001

表１に示されるように、実施例１では、最大透過率Ｔｍａｘが、基板１６側の全面に強アンカリング膜を形成した比較例１の１．２５倍に向上されている。また、実施例１では、コントラスト比ＣＲが、比較例１の１．６倍に向上されている。また、実施例１では、基板１６側の全面に弱アンカリング膜を形成した比較例２と比較して、電圧オフ時の応答時間τｏｆｆが６３％短縮されている。 As shown in Table 1, in Example 1, the maximum transmittance T max is improved to 1.25 times that of Comparative Example 1 in which a strong anchoring film is formed on the entire surface on the substrate 16 side. Further, in Example 1, the contrast ratio CR is improved to 1.6 times that of Comparative Example 1. Further, in the first embodiment, the response time τ off at the time of voltage off is shortened by 63% as compared with the comparative example 2 in which the weak anchoring film is formed on the entire surface on the substrate 16 side.

上記評価結果により、実施例１では、光透過率を向上するとともに、電圧オフ時の応答性を改善することができたことわかる。 From the above evaluation results, it can be seen that in Example 1, the light transmittance could be improved and the responsiveness at the time of voltage off could be improved.

［変形実施形態］
本発明は、上記実施形態に限らず、種々の変形が可能である。 [Modification Embodiment]
The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications are possible.

例えば、上記実施形態では、複数の線状電極２４を形成する場合を例に説明したが、これに限定されるものではない。複数の線状電極２４に代えて、種々の形状を有する電極を形成することができる。 For example, in the above embodiment, the case where a plurality of linear electrodes 24 are formed has been described as an example, but the present invention is not limited thereto. Instead of the plurality of linear electrodes 24, electrodes having various shapes can be formed.

また、上記実施形態では、強アンカリング膜３２として、ポリイミド膜からなる配向膜を形成する場合を例に説明したが、これに限定されるものではない。強アンカリング膜３２として、種々の材料からなる配向膜を形成することができる。 Further, in the above embodiment, the case where the alignment film made of the polyimide film is formed as the strong anchoring film 32 has been described as an example, but the present invention is not limited to this. As the strong anchoring film 32, an alignment film made of various materials can be formed.

また、上記実施形態では、光重合性モノマーとしてＵＶ重合性モノマー３６２を用いてその重合相分離により強アンカリング膜３６を形成する場合を例に説明したが、これに限定されるものではない。ＵＶ重合性モノマー３６２のほか、種々の光重合性モノマーを用いてその重合相分離により強アンカリング膜３６を形成することができる。また、強アンカリング膜３６を形成するための材料は、光照射により重合する光重合性材料であればよい。光重合性材料は、光重合性モノマーのほか、ＵＶ重合性オリゴマー等の光重合性オリゴマーであってもよい。 Further, in the above embodiment, the case where the UV polymerizable monomer 362 is used as the photopolymerizable monomer and the strong anchoring film 36 is formed by the polymerization phase separation thereof is described as an example, but the present invention is not limited thereto. In addition to the UV polymerizable monomer 362, various photopolymerizable monomers can be used to form a strong anchoring film 36 by phase separation thereof. Further, the material for forming the strong anchoring film 36 may be any photopolymerizable material that polymerizes by light irradiation. The photopolymerizable material may be a photopolymerizable oligomer such as a UV-polymerizable oligomer in addition to the photopolymerizable monomer.

１０…液晶表示装置
１２…液晶パネル
１６…基板
１８…基板
２０…液晶層
２４…線状電極
３２…強アンカリング膜
３４…弱アンカリング膜
３６…強アンカリング膜
３８…下地膜 10 ... Liquid crystal display device 12 ... Liquid crystal panel 16 ... Substrate 18 ... Substrate 20 ... Liquid crystal layer 24 ... Linear electrode 32 ... Strong anchoring film 34 ... Weak anchoring film 36 ... Strong anchoring film 38 ... Underlayer film

Claims (10)

第１の基板と、
前記第１の基板に対向する第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板とに挟まれた液晶層と、
前記第１の基板の前記液晶層側の面上に形成され、前記第１の基板と水平な面内に電界を形成可能に構成された複数の電極と、
前記複数の電極の直上に形成された第１の配向膜と、
前記複数の電極の間の前記第１の基板上に形成された第２の配向膜と、
前記第２の基板の前記液晶層側に形成された第３の配向膜と、
前記複数の電極間の前記第１の基板と前記第２の配向膜との間に形成された下地膜とを有し、
前記第１の配向膜のアンカリングエネルギーが、前記第２及び第３の配向膜のアンカリングエネルギーよりも小さく、
前記第２の配向膜が、前記第１の配向膜よりも前記複数の電極間の前記第１の基板上の領域との親和性が高く、
前記第２の配向膜が、前記第１の配向膜よりも前記下地膜との親和性が高いことを特徴とする液晶表示装置。 The first board and
The second substrate facing the first substrate and
A liquid crystal layer sandwiched between the first substrate and the second substrate,
A plurality of electrodes formed on the surface of the first substrate on the liquid crystal layer side and configured to be able to form an electric field in a plane horizontal to the first substrate.
A first alignment film formed directly above the plurality of electrodes,
A second alignment film formed on the first substrate between the plurality of electrodes, and a second alignment film.
A third alignment film formed on the liquid crystal layer side of the second substrate, and
It has a base film formed between the first substrate and the second alignment film between the plurality of electrodes.
The anchoring energy of the first alignment film is smaller than the anchoring energy of the second and third alignment films.
The second alignment film has a higher affinity with the region on the first substrate between the plurality of electrodes than the first alignment film.
A liquid crystal display device characterized in that the second alignment film has a higher affinity with the undercoat film than the first alignment film. 前記第２の配向膜が、前記複数の電極の間の前記第１の基板上に選択的に形成された重合相分離膜からなることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the second alignment film comprises a polymerization phase separation film selectively formed on the first substrate between the plurality of electrodes. 前記下地膜が、未露光の感光性樹脂膜からなることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the base film is made of an unexposed photosensitive resin film. 前記第１の配向膜が、露光された前記感光性樹脂膜からなることを特徴とする請求項３記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 3, wherein the first alignment film is made of the exposed photosensitive resin film. 前記複数の電極が、それぞれ線状電極であり、櫛歯電極を構成することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 4 , wherein each of the plurality of electrodes is a linear electrode and constitutes a comb tooth electrode. 前記第１の配向膜のアンカリングエネルギーが、１０－６Ｊ／ｍ２以下であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 5 , wherein the anchoring energy of the first alignment film is 10-6 J / m 2 or less. 前記第２の配向膜のアンカリングエネルギーが、前記第３の配向膜のアンカリングエネルギーと等しいことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 6 , wherein the anchoring energy of the second alignment film is equal to the anchoring energy of the third alignment film. 前記複数の電極の主材料が、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＡＺＯ、ＧＺＯ及びＡＴＯのうちのいずれかであることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 7 , wherein the main material of the plurality of electrodes is any one of ITO, IZO, AZO, GZO and ATO. 第１の基板と；前記第１の基板に対向する第２の基板と；前記第１の基板と前記第２の基板とに挟まれた液晶層と；前記第１の基板の前記液晶層側の面上に形成され、前記第１の基板と水平な面内に電界を形成可能に構成された複数の電極と；前記複数の電極の直上に形成された第１の配向膜と；前記複数の電極の間の前記第１の基板上に形成された第２の配向膜と；前記第２の基板の前記液晶層側に形成された第３の配向膜とを有し、前記第１の配向膜のアンカリングエネルギーが、前記第２及び第３の配向膜のアンカリングエネルギーよりも小さい液晶表示装置の製造方法であって、
前記第１の基板上に、前記複数の電極を形成する工程と、
前記複数の電極の直上に、前記複数の電極間の前記第１の基板上の領域よりも、光重合性材料との親和性が低い前記第１の配向膜を形成する工程と、
前記第１の基板と、前記第３の配向膜が形成された前記第２の基板との間に、液晶材料中に前記光重合性材料が混合された前記液晶層を挟む工程と、
光照射により前記液晶層中の前記光重合性材料を重合相分離させることにより、前記光重合性材料が重合相分離してなる重合相分離膜からなる前記第２の配向膜を前記複数の電極間の前記第１の基板上に選択的に形成する工程と
を有し、
前記第１の配向膜を形成する工程は、
前記第１の基板上及び前記複数の電極上に感光性樹脂膜を形成する工程と、
前記複数の電極の直上の前記感光性樹脂膜を選択的に露光することにより、前記複数の電極間の前記第１の基板上に未露光の前記感光性樹脂膜からなる下地膜を形成するとともに、前記複数の電極の直上に、前記下地膜よりも前記光重合性材料との親和性が低い前記感光性樹脂膜からなる前記第１の配向膜を形成する工程とを有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 A first substrate; a second substrate facing the first substrate; a liquid crystal layer sandwiched between the first substrate and the second substrate; the liquid crystal layer side of the first substrate. A plurality of electrodes formed on the surface of the surface and configured to be able to form an electric field in a plane horizontal to the first substrate; a first alignment film formed directly above the plurality of electrodes; the plurality of electrodes. It has a second alignment film formed on the first substrate between the electrodes; and a third alignment film formed on the liquid crystal layer side of the second substrate. A method for manufacturing a liquid crystal display in which the anchoring energy of the alignment film is smaller than the anchoring energy of the second and third alignment films.
The step of forming the plurality of electrodes on the first substrate and
A step of forming the first alignment film having a lower affinity for a photopolymerizable material than the region on the first substrate between the plurality of electrodes directly above the plurality of electrodes.
A step of sandwiching the liquid crystal layer in which the photopolymerizable material is mixed in the liquid crystal material between the first substrate and the second substrate on which the third alignment film is formed.
By separating the photopolymerizable material in the liquid crystal layer by light irradiation, the second alignment film made of a polymerization phase separation film obtained by separating the photopolymerizable material from the polymerization phase is formed on the plurality of electrodes. It has a step of selectively forming on the first substrate in between.
The step of forming the first alignment film is
A step of forming a photosensitive resin film on the first substrate and on the plurality of electrodes, and
By selectively exposing the photosensitive resin film directly above the plurality of electrodes, a base film made of the unexposed photosensitive resin film is formed on the first substrate between the plurality of electrodes. It is characterized by having a step of forming the first alignment film made of the photosensitive resin film having a lower affinity with the photopolymerizable material than the undercoat film directly above the plurality of electrodes. A method for manufacturing a liquid crystal display device. 前記光重合性材料が、紫外線重合性モノマーであることを特徴とする請求項９に記載の液晶表示装置の製造方法。 The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 9 , wherein the photopolymerizable material is an ultraviolet polymerizable monomer.
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