JP7091682B2 - Image forming device and control method - Google Patents
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Description
本発明は、定着器を備える画像形成装置およびその制御方法に関する。 The present invention relates to an image forming apparatus including a fuser and a control method thereof.
定着器の温度制御において、PI制御やPID制御を用いるものが知られている。これらの制御では、目標温度と現在の温度との偏差の積分値を用いた積分制御を行うので、例えば、昇温時に積分値が大きくなり、加熱部の温度が目標温度を大きく上回るオーバーシュートが発生することがある。そこで、例えば、特許文献1には、温度検出器により検出した定着ベルトの加熱開始時の温度に応じてPID演算の演算式の比例係数を変更し、これによって、定着ベルトの昇温時におけるオーバーシュートを小さくする技術が開示されている。
In the temperature control of the fuser, those using PI control or PID control are known. In these controls, integral control is performed using the integrated value of the deviation between the target temperature and the current temperature. Therefore, for example, the integrated value becomes large when the temperature rises, and the overshoot in which the temperature of the heating part greatly exceeds the target temperature occurs. May occur. Therefore, for example, in
このように定着器の温度制御においては、昇温時のオーバーシュートが小さいことが望まれる。さらに言えば、昇温時のオーバーシュートを含む、定着ベルトや加熱ローラなどのような加熱部の温度変動が小さいことが望まれる。 As described above, in the temperature control of the fuser, it is desired that the overshoot at the time of raising the temperature is small. Furthermore, it is desired that the temperature fluctuation of a heating portion such as a fixing belt or a heating roller, including overshoot at the time of temperature rise, is small.
本発明は、以上の背景に鑑みてなされたものであり、加熱部の温度変動を小さくすることができる画像形成装置および制御方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above background, and an object of the present invention is to provide an image forming apparatus and a control method capable of reducing temperature fluctuations in a heating unit.
前記した目的を達成するため、本発明の画像形成装置は、シートに現像剤像を形成する現像剤像形成部と、シートを加熱する加熱部、および、加熱部を加熱するヒータを有し、シートに現像剤像を定着させる定着器と、加熱部の温度を検出する温度検出部と、制御部と、を備える。
制御部は、目標温度と検出温度との偏差に比例する比例項と、偏差の積分値に比例する積分項との和を含む操作量を算出する算出処理と、算出処理で算出した操作量に基づいてヒータに通電する通電処理と、を実行し、算出処理において、積分項で用いる偏差を所定範囲内に制限する。
In order to achieve the above object, the image forming apparatus of the present invention has a developing agent image forming portion for forming a developing agent image on a sheet, a heating portion for heating the sheet, and a heater for heating the heating portion. It includes a fuser for fixing a developer image on a sheet, a temperature detection unit for detecting the temperature of the heating unit, and a control unit.
The control unit uses the calculation process to calculate the operation amount including the sum of the proportional term proportional to the deviation between the target temperature and the detection temperature and the integral term proportional to the integral value of the deviation, and the operation amount calculated by the calculation process. Based on this, the energization process of energizing the heater is executed, and the deviation used in the integration term in the calculation process is limited within a predetermined range.
このような構成によれば、積分項で用いる偏差の絶対値が大きくなりすぎないので、当該偏差から算出される積分値が急激に増大したり、減少したりするのを抑制することができる。これにより、加熱部の温度を上げるときにはオーバーシュートを抑制することができ、加熱部の温度を下げるときには加熱部の温度が目標温度を大きく下回るアンダーシュートを抑制することができる。すなわち、加熱部の温度変動を小さくすることができる。 According to such a configuration, since the absolute value of the deviation used in the integration term does not become too large, it is possible to suppress the sudden increase or decrease of the integral value calculated from the deviation. As a result, overshoot can be suppressed when the temperature of the heating unit is raised, and undershoot in which the temperature of the heating unit is significantly lower than the target temperature can be suppressed when the temperature of the heating unit is lowered. That is, the temperature fluctuation of the heating unit can be reduced.
前記した画像形成装置において、制御部は、算出処理において、検出温度が目標温度よりも低い切替温度未満の場合、比例項を含み、かつ、積分項を含まない操作量を算出し、検出温度が切替温度以上の場合、比例項と積分項との和を含む操作量を算出する構成とすることができる。 In the image forming apparatus described above, in the calculation process, when the detected temperature is less than the switching temperature lower than the target temperature, the control unit calculates the operation amount including the proportional term and not including the integral term, and the detected temperature is determined. When the switching temperature is equal to or higher than the switching temperature, the operation amount including the sum of the proportional term and the integral term can be calculated.
これによれば、加熱部の温度を上げるときに、偏差の積分値が急激に大きくなるのを抑制することができるので、操作量が急激に大きくなるのを抑制することができ、加熱部の温度が急激に増大するのをより抑制することができる。これにより、昇温時のオーバーシュートを良好に抑制することができる。 According to this, when the temperature of the heating unit is raised, it is possible to suppress the sudden increase in the integrated value of the deviation, so that it is possible to suppress the sudden increase in the operation amount, and it is possible to suppress the sudden increase in the operation amount of the heating unit. It is possible to further suppress the rapid increase in temperature. As a result, overshoot at the time of temperature rise can be satisfactorily suppressed.
前記した画像形成装置において、制御部は、目標温度を所定値以上異なる新たな目標温度に変更した場合、積分値をリセットする構成とすることができる。 In the image forming apparatus described above, the control unit may be configured to reset the integrated value when the target temperature is changed to a new target temperature different by a predetermined value or more.
これによれば、目標温度を低い目標温度に変更した場合には、積分値のリセットにより、加熱部の温度を新たな目標温度に早く近づけることができる。また、目標温度を高い目標温度に変更した場合には、積分値のリセットにより、加熱部の温度が急激に大きくなるのを抑制することができるので、オーバーシュートを抑制することができる。 According to this, when the target temperature is changed to a lower target temperature, the temperature of the heating unit can be quickly brought closer to the new target temperature by resetting the integrated value. Further, when the target temperature is changed to a high target temperature, it is possible to suppress the temperature of the heating portion from rapidly increasing by resetting the integrated value, so that overshoot can be suppressed.
前記した画像形成装置において、制御部は、算出処理において、偏差の微分値に比例する微分項を加算した操作量を算出する構成とすることができる。 In the image forming apparatus described above, the control unit may be configured to calculate the manipulated variable by adding the differential term proportional to the differential value of the deviation in the calculation process.
これによれば、応答を早くすることができるので、加熱部の温度変動をより小さくすることができる。 According to this, since the response can be made faster, the temperature fluctuation of the heating unit can be made smaller.
前記した画像形成装置において、制御部は、算出処理において、偏差として、目標温度から検出温度を引いた値を用い、検出温度が目標温度以下であって偏差が第1制限値以上の場合、積分項で用いる偏差として第1制限値を用い、検出温度が目標温度以上であって偏差が第2制限値以下の場合、積分項で用いる偏差として第2制限値を用いる構成とすることができる。 In the image forming apparatus described above, the control unit uses a value obtained by subtracting the detected temperature from the target temperature as the deviation in the calculation process, and integrates when the detected temperature is equal to or less than the target temperature and the deviation is equal to or more than the first limit value. When the first limit value is used as the deviation used in the term and the detection temperature is equal to or higher than the target temperature and the deviation is equal to or less than the second limit value, the second limit value can be used as the deviation used in the integration term.
前記した画像形成装置において、第1制限値および第2制限値は、絶対値が2~8℃である構成とすることができる。 In the image forming apparatus described above, the first limit value and the second limit value may have an absolute value of 2 to 8 ° C.
前記した画像形成装置において、第1制限値および第2制限値は、絶対値が等しい構成とすることができる。 In the image forming apparatus described above, the first limit value and the second limit value can be configured to have the same absolute value.
前記した画像形成装置において、制御部は、通電処理において、交流正弦波の半波を単位とした波数制御により操作量に対応したデューティ比でヒータに通電し、操作量が所定操作量以上の場合、デューティ比を100%とし、操作量が0以下の場合、デューティ比を0%とする構成とすることができる。 In the image forming apparatus described above, in the energization process, the control unit energizes the heater at a duty ratio corresponding to the operation amount by controlling the number of waves in units of half waves of AC sinusoidal waves, and the operation amount is equal to or more than the predetermined operation amount. When the duty ratio is 100% and the operation amount is 0 or less, the duty ratio can be set to 0%.
また、前記した目的を達成するための本発明の制御方法は、シートに現像剤像を形成する現像剤像形成部と、シートを加熱する加熱部、および、加熱部を加熱するヒータを有し、シートに現像剤像を定着させる定着器と、を備えた画像形成装置の制御方法である。
この制御方法は、目標温度と加熱部の温度との偏差に比例する比例項と、偏差の積分値に比例する積分項との和を含む操作量を算出する算出処理と、算出処理で算出した操作量に基づいてヒータに通電する通電処理と、を含み、算出処理において、積分項で用いる偏差を所定範囲内に制限する。
Further, the control method of the present invention for achieving the above-mentioned object includes a developer image forming unit for forming a developer image on a sheet, a heating unit for heating the sheet, and a heater for heating the heating unit. , A fixing device for fixing a developer image on a sheet, and a control method for an image forming apparatus.
This control method was calculated by a calculation process for calculating an operation amount including a sum of a proportional term proportional to the deviation between the target temperature and the temperature of the heating unit and an integral term proportional to the integral value of the deviation, and a calculation process. Including the energization process of energizing the heater based on the operation amount, the deviation used in the integration term in the calculation process is limited within a predetermined range.
このような方法によれば、積分項で用いる偏差の絶対値が大きくなりすぎないので、当該偏差から算出される積分値が急激に増大したり、減少したりするのを抑制することができる。これにより、加熱部の温度を上げるときにはオーバーシュートを抑制することができ、加熱部の温度を下げるときにはアンダーシュートを抑制することができるので、加熱部の温度変動を小さくすることができる。 According to such a method, since the absolute value of the deviation used in the integration term does not become too large, it is possible to suppress the sudden increase or decrease of the integral value calculated from the deviation. As a result, overshoot can be suppressed when the temperature of the heating section is raised, and undershoot can be suppressed when the temperature of the heating section is lowered, so that the temperature fluctuation of the heating section can be reduced.
本発明によれば、加熱部の温度変動を小さくすることができる。 According to the present invention, the temperature fluctuation of the heating unit can be reduced.
以下、発明の一実施形態について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。
図1に示すように、画像形成装置の一例としてのレーザプリンタ1は、本体筐体2と、シート供給部3と、露光装置4と、現像剤像形成部5と、定着器8と、温度検出部9と、制御部100とを主に備えている。
Hereinafter, an embodiment of the invention will be described in detail with reference to the drawings as appropriate.
As shown in FIG. 1, a
シート供給部3は、本体筐体2内の下部に設けられ、紙などのシートSが収容されるシートトレイ31と、圧板32と、シート供給機構33とを主に有している。シートトレイ31に収容されたシートSは、圧板32により上に寄せられ、シート供給機構33により現像剤像形成部5の感光体ドラム61と転写ローラ63との間に向けて供給される。
The
露光装置4は、本体筐体2内の上部に配置され、図示しない光源装置やポリゴンミラー、レンズ、反射鏡などを有している。露光装置4では、光源装置から出射される画像データに基づく光ビーム(二点鎖線参照)が、感光体ドラム61の表面で高速走査されることで、感光体ドラム61の表面を露光する。
The
現像剤像形成部5は、シートSに現像剤像を形成する部材であり、露光装置4の下方に配置されている。現像剤像形成部5は、プロセスカートリッジとして、本体筐体2の前部に設けられたフロントカバー21を開いたときにできる開口から本体筐体2に対して着脱可能に装着される構成となっている。現像剤像形成部5は、感光体カートリッジ6と、現像カートリッジ7とを有している。
The developer
感光体カートリッジ6は、感光体ドラム61と、コロナ帯電器である帯電器62と、転写ローラ63とを主に有している。現像カートリッジ7は、感光体カートリッジ6に対して着脱自在に構成され、現像ローラ71と、供給ローラ72と、層厚規制ブレード73と、乾式トナーからなる現像剤を収容する収容部74と、アジテータ75とを主に有している。
The
現像剤像形成部5では、感光体ドラム61の表面が、帯電器62により一様に帯電された後、露光装置4からの光ビームにより露光されることで、感光体ドラム61上に画像データに基づく静電潜像が形成される。また、収容部74内の現像剤は、アジテータ75により攪拌されながら、供給ローラ72に供給され、供給ローラ72から現像ローラ71に供給される。そして、現像ローラ71の回転に伴って、現像ローラ71と層厚規制ブレード73の間に進入して一定厚さの薄層として現像ローラ71上に担持される。
In the developer
現像ローラ71上に担持された現像剤は、現像ローラ71から感光体ドラム61上に形成された静電潜像に供給される。これにより、静電潜像が可視像化され、感光体ドラム61上に現像剤像が形成される。その後、感光体ドラム61と転写ローラ63の間をシートSが通過することで感光体ドラム61上の現像剤像がシートS上に転写される。
The developer supported on the developing
定着器8は、現像剤像形成部5の後方に配置され、加熱部81と、加圧部82と、ヒータ83とを主に有している。
The
加熱部81は、金属からなる円筒状の加熱ローラであり、シートSを加熱するように構成されている。
加圧部82は、芯金の周囲に弾性層が設けられた加圧ローラであり、加熱部81に接触して押圧された状態で配置されている。
ヒータ83は、加熱部81を加熱するハロゲンランプであり、加熱部81の内側に配置されている。
The
The pressurizing
The
定着器8では、シートS上に転写された現像剤像を、シートSが加熱部81と加圧部82との間を通過する間に熱定着させている。現像剤像が熱定着されたシートSは、搬送ローラ23,24により排紙トレイ22上に排出される。
In the
制御部100は、定着器8など、レーザプリンタ1の各部を制御する装置であり、単一または複数の電気回路で構成されている。制御部100は、レーザプリンタ1の各部に制御信号や駆動電圧を出力することで、各部の制御を実行する。具体的に、制御部100は、図2に示すように、CPU110、ROM120、RAM130、ヒータコントローラ140、スイッチング回路150などを備えている。
The
ROM120には、レーザプリンタ1の各部を制御するためのプログラムや各種設定情報などのデータが記憶されている。
RAM130は、CPU110が各種のプログラムを実行する際の作業領域や、データの一時的な記憶領域として利用される。
The
The
CPU110は、レーザプリンタ1の各部の動作タイミングを指令したり、ヒータコントローラ140に目標温度TTとしての指令値を送ったりする処理を行う。
ヒータコントローラ140は、目標温度TTと、温度検出部9が検出した検出温度Tとに基づき、スイッチング回路150のデューティ比を設定する。本実施形態において、CPU110とヒータコントローラ140は、単一の半導体素子として集積されている。
スイッチング回路150は、設定されたデューティ比で交流電圧をスイッチングすることで、ヒータ83に通電する。
The
The
The
温度検出部9は、加熱部81の温度を検出するためのセンサであり、加熱部81の表面との間に所定の間隔をあけた状態で加熱部81の表面に対向して配置されている。温度検出部9は、加熱部81の温度に応じた信号を制御部100に出力する。制御部100は、温度検出部9から出力された信号から、加熱部81の表面温度の検出値(検出温度T)を取得する。温度検出部9としては、例えば、温度に応じて電気抵抗が変化するサーミスタを用いることができる。
The
制御部100は、定着器8を制御する場合、ヒータ83の操作量Uを算出する算出処理と、算出処理で算出した操作量Uに基づいてヒータ83に通電する通電処理とを主に実行する。具体的には、制御部100は、ヒータコントローラ140が、操作量Uを算出し、算出した操作量Uに対応するデューティ比でヒータ83に通電するようにスイッチング回路150を駆動させる。
When controlling the
制御部100は、算出処理において、加熱部81の目標温度TTを設定し、温度検出部9が検出した加熱部81の温度である検出温度Tが、設定した目標温度TTに追従するようにヒータ83の操作量Uを設定する。具体的には、制御部100は、目標温度TTと検出温度Tとの偏差ΔTに比例する比例項と、偏差ΔTの積分値に比例する積分項との和を含む操作量Uを算出する。
The
詳しくは、制御部100は、目標温度TTを設定した後に検出温度Tが切替温度TSに到達する前は、比例項を含み、かつ、積分項を含まない操作量Uを算出する。また、制御部100は、目標温度TTを設定した後に検出温度Tが切替温度TSに到達した後は、比例項と積分項との和を含む操作量Uを算出する。切替温度TSは、現在設定されている目標温度TT以下の温度である。
Specifically, the
本実施形態において、制御部100は、目標温度TTを設定した後に検出温度Tが切替温度TSに到達する前は、比例項KpΔTを含む以下の式(1)により操作量Uを算出する。
Un=KpΔTn ・・・(1)
ここで、Kpは、予め設定した固定値としての比例ゲインであり、正の値である。また、各変数に付したnは、変数が今回値であることを示し、n-1は、前回値であることを示している。
In the present embodiment, the
Un = K p ΔT n ... (1)
Here, K p is a proportional gain as a preset fixed value, and is a positive value. Further, n attached to each variable indicates that the variable is the current value, and n-1 indicates that the value is the previous value.
本実施形態では、偏差ΔTとして、以下の式(2)で表される、目標温度TTから検出温度Tを引いた値を用いる。
ΔTn=TTn-Tn ・・・(2)
In the present embodiment, the value obtained by subtracting the detected temperature T from the target temperature TT represented by the following equation (2) is used as the deviation ΔT.
ΔT n = TT n −T n・ ・ ・ (2)
また、制御部100は、目標温度TTを設定した後に検出温度Tが切替温度TSに到達した後は、比例項KpΔTと積分項KiIとの和を含む以下の式(3)により操作量Uを算出する。
Un=KpΔTn+KiIn ・・・(3)
ここで、Kiは、予め設定した固定値としての積分ゲインであり、正の値である。
Further, after the detection temperature T reaches the switching temperature TS after setting the target temperature TT, the
Un = K p ΔT n + K i In ... (3)
Here, K i is an integral gain as a preset fixed value, and is a positive value.
また、Iは、偏差ΔTの積分値であり、一例として、以下の式(4)により算出することができる。
In=In-1+tsΔTin ・・・(4)
ここで、tsは、サンプリングの時間間隔である。また、ΔTiは、積分項KiIで用いる偏差(以下、「積分項偏差」という。)である。積分項偏差ΔTiについては後述する。
Further, I is an integral value of the deviation ΔT, and can be calculated by the following equation (4) as an example.
In = In -1 + tsΔTi n ... (4)
Here, ts is a sampling time interval. Further, ΔTi is a deviation used in the integral term K i I (hereinafter, referred to as “integral term deviation”). The integral term deviation ΔTi will be described later.
また、制御部100は、目標温度TT(TTn-1)を所定値TTth以上異なる新たな目標温度TT(TTn)に変更した場合、積分値Iを第1の値にリセットする。本実施形態において、第1の値は0であり、リセットが行なわれると積分項KiIの値は0となる。また、所定値TTthは、10℃以上であることが望ましく、一例として、15~20℃に設定することができる。
Further, when the target temperature TT (TT n-1 ) is changed to a new target temperature TT (TT n ) different by a predetermined value TTth or more, the
以上の制御部100による制御をより具体的に説明すると、図3に示すように、制御部100は、目標温度TTを、例えば、第1の目標温度TT1に設定し、検出温度Tが第1の切替温度TS1に到達する前、すなわち、検出温度Tが第1の切替温度TS1未満の場合は、比例項KpΔTを含み、かつ、積分項KiIを含まない上記の式(1)により操作量Uを算出するP制御を実行する。
To explain the control by the
第1の切替温度TS1は、第1の目標温度TT1よりも低い温度として設定されている。一例として、第1の切替温度TS1は、第1の目標温度TT1よりも10~40℃低い温度として設定することができる。この場合、第1の切替温度TS1は、第1の目標温度TT1よりも15~20℃低い温度として設定することが望ましい。
The first switching temperature TS1 is set as a temperature lower than the first target temperature TT1. As an example, the first switching temperature TS1 can be set as a temperature 10 to 40 ° C. lower than the first target temperature TT1. In this case, it is desirable that the first switching temperature TS1 is set to a
制御部100は、目標温度TTを第1の目標温度TT1に設定した後に、検出温度Tが第1の切替温度TS1に到達した後、すなわち、検出温度Tが第1の切替温度TS1以上となった場合は、その後、比例項KpΔTと積分項KiIとの和を含む上記の式(3)により操作量Uを算出するPI制御を実行する。
After setting the target temperature TT to the first target temperature TT1, the
また、制御部100は、目標温度TTを、第1の目標温度TT1から、所定値TTth以上低い(TT1-TT2≧TTthを満たす)新たな第2の目標温度TT2に変更した場合、積分値Iを0にリセットする。制御部100は、目標温度TTを第2の目標温度TT2に設定し、検出温度Tが第2の切替温度TS2に到達する前、すなわち、検出温度Tが第2の切替温度TS2よりも高い場合は、上記の式(1)により操作量Uを算出するP制御を実行する。
Further, when the
第2の切替温度TS2は、第2の目標温度TT2以下の温度として設定されている。本実施形態では、第2の目標温度TT2と第2の切替温度TS2は、等しい温度に設定されている。第1の目標温度TT1、第1の切替温度TS1、第2の目標温度TT2、第2の切替温度TS2は、以下の式(5)を満たすような値に設定されている。
TT1-TS1>TT2-TS2 ・・・(5)
The second switching temperature TS2 is set as a temperature equal to or lower than the second target temperature TT2. In the present embodiment, the second target temperature TT2 and the second switching temperature TS2 are set to the same temperature. The first target temperature TT1, the first switching temperature TS1, the second target temperature TT2, and the second switching temperature TS2 are set to values satisfying the following equation (5).
TT1-TS1> TT2-TS2 ... (5)
制御部100は、目標温度TTを第2の目標温度TT2に設定した後に、検出温度Tが第2の切替温度TS2に到達した後、すなわち、検出温度Tが第2の切替温度TS2以下となった場合は、その後、上記の式(3)により操作量Uを算出するPI制御を実行する。
After setting the target temperature TT to the second target temperature TT2, the
また、図4に示すように、制御部100は、目標温度TTを、第1の目標温度TT1から、所定値TTth以上高い(TT3-TT1≧TTthを満たす)新たな第3の目標温度TT3に変更した場合、積分値Iを0にリセットする(図示省略)。制御部100は、目標温度TTを第3の目標温度TT3に設定し、検出温度Tが第3の切替温度TS3に到達する前、すなわち、検出温度Tが第3の切替温度TS3未満の場合は、上記の式(1)により操作量Uを算出するP制御を実行する。
Further, as shown in FIG. 4, the
第3の切替温度TS3は、第3の目標温度TT3よりも低い温度として設定されている。一例として、第3の切替温度TS3は、第3の目標温度TT3よりも10~40℃低い温度として設定することができる。この場合、第3の切替温度TS3は、第3の目標温度TT3よりも15~20℃低い温度として設定することが望ましい。
The third switching temperature TS3 is set as a temperature lower than the third target temperature TT3. As an example, the third switching temperature TS3 can be set as a temperature 10 to 40 ° C. lower than the third target temperature TT3. In this case, it is desirable that the third switching temperature TS3 is set to a
制御部100は、目標温度TTを第3の目標温度TT3に設定した後に、検出温度Tが第3の切替温度TS3に到達した後、すなわち、検出温度Tが第3の切替温度TS3以上となった場合は、その後、上記の式(3)により操作量Uを算出するPI制御を実行する。
After setting the target temperature TT to the third target temperature TT3, the
図3および図4に示すように、制御部100は、目標温度TT(TT1)を所定値TTth以上異なる新たな目標温度TT(TT2またはTT3)に変更し、積分値Iを0にリセットしたときにフラグFLを0とする。また、制御部100は、目標温度TTを設定した後に検出温度Tが切替温度TSに到達したときにフラグFLを1とする。制御部100は、フラグFLが0の場合、上記の式(1)により操作量Uを算出するP制御を実行し、フラグFLが1の場合、上記の式(3)により操作量Uを算出するPI制御を実行する。なお、フラグFLの初期値は0である。
As shown in FIGS. 3 and 4, when the
制御部100は、上記の式(3)により操作量Uを算出するPI制御において、積分項偏差ΔTiを所定範囲内に制限する。具体的には、制御部100は、検出温度Tが目標温度TT以下(すなわち、ΔT≧0)であって偏差ΔTが第1制限値L1以上の場合(ΔT≧L1)、積分項偏差ΔTiとして第1制限値L1を用いる。また、制御部100は、検出温度Tが目標温度TT以上(すなわち、ΔT≦0)であって偏差ΔTが第2制限値-L2以下の場合(ΔT≦-L2(L2は正の値とする。))、積分項偏差ΔTiとして第2制限値-L2を用いる。
The
また、制御部100は、偏差ΔTが第2制限値-L2よりも大きく、かつ、第1制限値L1未満の場合(-L2<ΔT<L1)、積分項偏差ΔTiとして偏差ΔTを用いる。このように、制御部100は、積分項偏差ΔTiを、第1制限値L1以下、かつ、第2制限値-L2以上の範囲内に制限する(-L2≦ΔTi≦L1)。
Further, when the deviation ΔT is larger than the second limit value −L2 and is less than the first limit value L1 (−L2 <ΔT <L1), the
本実施形態において、第1制限値L1および第2制限値-L2は、予め設定された温度差を示す値である。第1制限値L1および第2制限値-L2は、絶対値L1,L2が2~8℃であることが望ましい。また、本実施形態において、第1制限値L1および第2制限値-L2は、絶対値L1,L2が等しい値に設定されている(L1=L2)。一例として、第1制限値L1および第2制限値-L2は、絶対値L1,L2が5℃である。 In the present embodiment, the first limit value L1 and the second limit value −L2 are values indicating a preset temperature difference. It is desirable that the absolute values L1 and L2 of the first limit value L1 and the second limit value −L2 are 2 to 8 ° C. Further, in the present embodiment, the first limit value L1 and the second limit value −L2 are set to values in which the absolute values L1 and L2 are equal (L1 = L2). As an example, the absolute values L1 and L2 of the first limit value L1 and the second limit value −L2 are 5 ° C.
図2に示すように、制御部100は、通電処理において、算出処理で算出した操作量Uに対応したデューティ比を設定し、設定したデューティ比に基づいてヒータ83への通電を制御する。図5に示すように、制御部100は、交流正弦波SWの半波HWを単位とした波数制御により、設定したデューティ比でヒータ83に通電する。
As shown in FIG. 2, in the energization process, the
一例として、制御部100は、デューティ比が33%の場合、連続する3つの半波HWのうち1つの半波HWで通電を行い、他の2つの半波HWで通電を行わない。また、デューティ比が40%の場合、連続する5つの半波HWのうち2つの半波HWで通電を行い、他の3つの半波HWで通電を行わない。また、制御部100は、デューティ比が43%の場合、連続する7つの半波HWのうち3つの半波HWで通電を行い、他の4つの半波HWで通電を行わない。また、デューティ比が50%の場合、連続する2つの半波HWのうち一方の半波HWで通電を行い、他方の半波HWで通電を行わない。
As an example, when the duty ratio is 33%, the
制御部100のヒータコントローラ140は、図6に示すようなマップによってスイッチング回路150を駆動させる。図6に示すように、制御部100は、算出処理で算出した操作量Uが所定操作量Uth以上の場合、デューティ比を100%とする。また、制御部100は、操作量Uが所定操作量Uth未満の場合、図6のマップに基づき、デューティ比を段階的に小さい値とする。また、制御部100は、操作量Uが0以下の場合、デューティ比を0%とする。
The
次に、制御部100の動作(レーザプリンタ1の制御方法)について説明する。制御部100は、図7に示す動作を所定の制御サイクル(時間ts)ごとに繰り返し実行している。
図7に示すように、制御部100は、目標温度TTnが目標温度TTn-1に対し所定値TTth以上であるか否かを判定する(S11)。
Next, the operation of the control unit 100 (control method of the laser printer 1) will be described. The
As shown in FIG. 7, the
目標温度TTnが目標温度TTn-1に対し所定値TTth以上である場合(S11,Yes)、すなわち、目標温度TTn-1を所定値TTth以上異なる新たな目標温度TTnに変更した場合、制御部100は、積分値Inを0にリセットし(S12)、フラグFLを0とする(S13)。その後、制御部100は、ステップS15に進む。
When the target temperature TT n is equal to or higher than the predetermined value TTth with respect to the target temperature TT n-1 (S11, Yes), that is, when the target temperature TT n-1 is changed to a new target temperature TT n different from the predetermined value TTth. , The
また、目標温度TTnが目標温度TTn-1に対し所定値TTth以上でない場合(S11,No)、具体的には、目標温度TTnを目標温度TTn-1から変更していない場合や、目標温度TTnを目標温度TTn-1から変更はしたが変更幅が所定値TTth未満である場合、制御部100は、フラグFLが1であるか否かを判定する(S14)。そして、フラグFLが1でない場合(S14,No)、すなわち、フラグFLが0である場合、制御部100は、ステップS15に進む。
Further, when the target temperature TT n is not equal to or higher than the predetermined value TTth with respect to the target temperature TT n-1 (S11, No), specifically, when the target temperature TT n is not changed from the target temperature TT n-1 . When the target temperature TT n is changed from the target temperature TT n-1 but the change width is less than the predetermined value TTth, the
ステップS15において、制御部100は、検出温度Tnが切替温度TSに到達したか否かを判定する(S15)。そして、検出温度Tnが切替温度TSに到達していない場合(S15,No)、制御部100は、ステップS23に進み、積分値Inが0であるため、上記の式(1)により操作量Unを算出する算出処理を実行する(S23)。
In step S15, the
一方、ステップS15において、検出温度Tnが切替温度TSに到達した場合(S15,Yes)、制御部100は、フラグFLを1とし(S16)、ステップS17に進む。また、ステップS14において、フラグFLが1である場合(S14,No)、制御部100は、ステップS17に進む。
On the other hand, in step S15, when the detection temperature T n reaches the switching temperature TS (S15, Yes), the
ステップS17において、制御部100は、偏差ΔTnが第1制限値L1以上であるか否かを判定する(S17)。そして、制御部100は、偏差ΔTnが第1制限値L1以上である場合(S17,Yes)、積分項偏差ΔTinを第1制限値L1とし(S19)、偏差ΔTnが第1制限値L1以上でない場合(S17,No)、偏差ΔTnが第2制限値-L2以下であるか否かを判定する(S18)。制御部100は、偏差ΔTnが第2制限値-L2以下である場合(S18,Yes)、積分項偏差ΔTinを第2制限値-L2とし(S21)、偏差ΔTnが第2制限値-L2以下でない場合(S18,No)、積分項偏差ΔTinを偏差ΔTnとする(S20)。
In step S17, the
ステップS19~S21において、積分項偏差ΔTinを決定した後、制御部100は、積分値Inを算出する(S22)。そして、制御部100は、上記の式(3)により操作量Unを算出する算出処理を実行する(S23)。
After determining the integral term deviation ΔTi n in steps S19 to S21, the
算出処理を実行した後、制御部100は、算出した操作量Unと図6のマップからデューティ比を設定する(S24)。そして、制御部100は、波数制御により設定したデューティ比でヒータ83に通電する通電処理を実行し(S25)、今回の動作を終了する。
After executing the calculation process, the
以上説明した本実施形態によれば、積分項偏差ΔTiを所定範囲内(-L2≦ΔTi≦L1)に制限することで、例えば、図8に示すような、加熱部81の温度を上げる場合において、積分項偏差ΔTiが大きくなりすぎないので、当該積分項偏差ΔTiから算出される積分値Iが急激に増大するのを抑制することができる。なお、図9は、積分項偏差ΔTiとして偏差ΔTを用い、積分項偏差ΔTiを制限しない場合のシミュレーション結果であるが、積分値Iが、図8に示した実施形態の場合よりも大きくなっている。本実施形態では、積分値Iが急激に増大するのを抑制できることで、加熱部81の温度を上げるときに、図9に示す積分項偏差ΔTiを制限しない場合と比較して、オーバーシュート(特に一番最初のオーバーシュート)を抑制することができる。
According to the present embodiment described above, by limiting the integral term deviation ΔTi within a predetermined range (−L2 ≦ ΔTi ≦ L1), for example, when the temperature of the
また、本実施形態では、検出温度Tが目標温度TTよりも低い切替温度TS未満の場合、積分項KiIを含まない上記の式(1)により操作量Uを算出するので、加熱部81の温度を上げるときに積分値Iが急激に大きくなるのを抑制することができる。これにより、操作量Uが急激に大きくなるのを抑制することができるので、加熱部81の温度が急激に増大するのをより抑制することができ、昇温時のオーバーシュートを良好に抑制することができる。
Further, in the present embodiment, when the detected temperature T is less than the switching temperature TS lower than the target temperature TT, the operation amount U is calculated by the above equation (1) not including the integral term Ki I , so that the
また、図示は省略するが、目標温度TTを低い新たな目標温度TTに設定して、加熱部81の温度を下げる場合においても、積分項偏差ΔTiを所定範囲内(-L2≦ΔTi≦L1)に制限することで、積分項偏差ΔTiの絶対値が大きくなりすぎないので、当該積分項偏差ΔTiから算出される積分値Iが急激に減少するのを抑制することができる。これにより、加熱部81の温度を下げるときに、アンダーシュートを抑制することができる。このように、本実施形態によれば、加熱部81の温度を上げるとき、下げるときのいずれもおいても、加熱部81の温度変動を小さくすることができる。
Although not shown, the integral term deviation ΔTi is within a predetermined range (−L2 ≦ ΔTi ≦ L1) even when the target temperature TT is set to a new low target temperature TT to lower the temperature of the
また、本実施形態では、目標温度TTを所定値TTth以上異なる新たな目標温度TTに変更した場合に積分値Iをリセットするので、目標温度TTを低い目標温度TTに変更した場合には、積分値Iのリセットにより、加熱部81の温度を新たな目標温度TTに早く近づけることができる。また、目標温度TTを高い目標温度TTに変更した場合には、積分値Iのリセットにより、加熱部81の温度が急激に大きくなるのを抑制することができるので、オーバーシュートを抑制することができる。
Further, in the present embodiment, the integral value I is reset when the target temperature TT is changed to a new target temperature TT different by a predetermined value TTth or more. Therefore, when the target temperature TT is changed to a lower target temperature TT, the integral value I is reset. By resetting the value I, the temperature of the
以上に発明の一実施形態について説明したが、本発明は前記実施形態に限定されるものではない。具体的な構成については、下記のように発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更が可能である。 Although one embodiment of the invention has been described above, the present invention is not limited to the above embodiment. The specific configuration can be appropriately changed as described below without departing from the spirit of the invention.
例えば、制御部100は、算出処理において、偏差ΔTの微分値に比例する微分項KdDを加算した操作量Uを算出する構成であってもよい。
For example, the
具体的には、制御部100は、目標温度TTを設定した後に検出温度Tが切替温度TSに到達する前は、以下の式(1)’により操作量Uを算出するPD制御を実行する。すなわち、制御部100は、比例項KpΔTと、微分項KdDとの和を含む操作量Uを算出する。
Un=KpΔTn+KdDn ・・・(1)’
ここで、Kdは、予め設定した固定値としての微分ゲインであり、負の値である。
Specifically, the
Un = K p ΔT n + K d D n ... (1)'
Here, K d is a differential gain as a preset fixed value, and is a negative value.
また、Dは、偏差ΔTの微分値であり、一例として、以下の式(6)により算出することができる。
Dn=(Tn-Tn-1)/ts ・・・(6)
Further, D is a differential value of the deviation ΔT, and can be calculated by the following equation (6) as an example.
D n = (T n −T n-1 ) / ts ・ ・ ・ (6)
また、制御部100は、目標温度TTを設定した後に検出温度Tが切替温度TSに到達した後は、以下の式(3)’により操作量Uを算出するPID制御を実行する。すなわち、制御部100は、比例項KpΔTと、積分項KiIと、微分項KdDとの和を含む操作量Uを算出する。
Un=KpΔTn+KiIn+KdDn ・・・(3)’
Further, after the detection temperature T reaches the switching temperature TS after setting the target temperature TT, the
Un = K p ΔT n + K i In + K d D n・ ・ ・ (3)'
このような構成によれば、応答を早くすることができるので、加熱部81の温度変動をより小さくすることができる。
According to such a configuration, the response can be made faster, so that the temperature fluctuation of the
また、前記実施形態では、第1制限値L1および第2制限値-L2の絶対値L1,L2が等しい値であったが、これに限定されず、第1制限値および第2制限値は、絶対値が異なる値であってもよい。 Further, in the above embodiment, the absolute values L1 and L2 of the first limit value L1 and the second limit value −L2 are equal values, but the first limit value and the second limit value are not limited to this. The absolute values may be different.
また、前記実施形態では、第2の目標温度TT2と第2の切替温度TS2が等しい温度であったが、これに限定されず、第2の切替温度TS2は、第2の目標温度TT2よりも低い温度であってもよい。 Further, in the above embodiment, the second target temperature TT2 and the second switching temperature TS2 are equal to each other, but the temperature is not limited to this, and the second switching temperature TS2 is higher than the second target temperature TT2. It may be at a low temperature.
また、前記実施形態では、目標温度TTを所定値TTth以上異なる新たな目標温度TTに変更した場合に積分値Iを0にリセットしたが、これに限定されない。例えば、0以外の値にリセットしてもよい。また、目標温度を所定値以上異なる新たな目標温度に変更した場合も積分値をリセットせずに、そのときの積分値をそのまま保持し、次のPI制御が開始されたときに、保持していた積分値を用いて操作量を算出するようにしてもよい。 Further, in the above embodiment, when the target temperature TT is changed to a new target temperature TT different by a predetermined value TTth or more, the integrated value I is reset to 0, but the present invention is not limited to this. For example, it may be reset to a value other than 0. Also, even if the target temperature is changed to a new target temperature that differs by a predetermined value or more, the integrated value at that time is retained as it is without resetting, and is retained when the next PI control is started. The operation amount may be calculated using the integrated value.
また、前記実施形態では、温度検出部9が、加熱部81の温度を直接検出するように設けられていたが、これに限定されない。例えば、温度検出部は、加圧部に対向して配置され、加熱部から熱が伝達される加圧部の温度を検出することで、加圧部を介して加熱部の温度を間接的に検出するものであってもよい。また、温度検出部は、ヒータの温度を直接検出するように設けられていてもよい。また、温度検出部は、サーミスタ以外の温度センサなどであってもよい。なお、温度センサは、非接触式の温度センサであってもよいし、接触式の温度センサであってもよい。
Further, in the above embodiment, the
また、前記実施形態では、加熱部81として加熱ローラを例示したが、これに限定されず、例えば、加熱部は、ベルト定着方式の定着器に設けられる無端状の定着ベルトなどであってもよい。また、前記実施形態では、加圧部82として加圧ローラを例示したが、これに限定されず、例えば、加圧部は、ベルト状の部材などであってもよい。
Further, in the above embodiment, the heating roller is exemplified as the
また、前記実施形態では、ヒータ83として、輻射熱を利用するハロゲンランプを例示したが、これに限定されず、例えば、抵抗体の発熱を利用するセラミックヒータやカーボンヒータなどであってもよい。また、ヒータは、加熱部を誘導加熱するIHヒータなどであってもよい。また、ヒータは、加熱部の内側ではなく、加熱部の外側に配置されていてもよい。
Further, in the above embodiment, the halogen lamp utilizing radiant heat is exemplified as the
また、前記実施形態では、画像形成装置として、シートSにモノクロの画像を形成するレーザプリンタ1を例示したが、これに限定されず、例えば、シートにカラーの画像を形成可能に構成されたプリンタであってもよい。また、画像形成装置は、プリンタに限定されず、例えば、フラットベッドスキャナなどの原稿読取装置を備える複写機や複合機などであってもよい。
Further, in the above-described embodiment, the
また、前記実施形態では、現像剤像形成部5としてプロセスカートリッジを例示したが、これに限定されない。例えば、画像形成装置が、シートにカラーの画像を形成可能であり、配列された複数の感光体ドラムを有するプロセスユニットと、複数の感光体ドラムに形成された現像剤像をシートに転写するための転写ベルトなどを有する転写ユニットとを備える場合には、現像剤像形成部は、プロセスユニットと転写ユニットを含む構成とすることができる。
Further, in the above embodiment, the process cartridge is exemplified as the developer
また、前記した実施形態および変形例で説明した各要素は、適宜組み合わせて実施することが可能である。 In addition, the elements described in the above-described embodiments and modifications can be combined and implemented as appropriate.
1 レーザプリンタ
5 現像剤像形成部
8 定着器
9 温度検出部
81 加熱部
83 ヒータ
100 制御部
S シート
1
Claims (10)
シートを加熱する加熱部、および、前記加熱部を加熱するヒータを有し、シートに現像剤像を定着させる定着器と、
前記加熱部の温度を検出する温度検出部と、
制御部と、を備え、
前記制御部は、
前記ヒータの操作量を算出する算出処理と、
前記算出処理で算出した操作量に基づいて前記ヒータに通電する通電処理と、を実行し、
前記算出処理において、
目標温度と検出温度との偏差に比例する比例項を含み、かつ、前記偏差の積分値に比例する積分項を含まない操作量を算出するP制御と、
前記比例項と前記積分項との和を含む操作量を算出するPI制御と、を実行可能であり、
前記積分項で用いる偏差を所定範囲内に制限し、
前記目標温度を、第1の目標温度から、所定値以上低い第2の目標温度に変更し、前記第2の目標温度で前記PI制御を実行して前記加熱部の温度を前記第2の目標温度に維持する場合、
前記検出温度が前記第2の目標温度以下の切替温度よりも高い場合は、前記P制御を実行し、
前記検出温度が前記切替温度以下となった場合は、前記PI制御を実行することを特徴とする画像形成装置。 A developer image forming unit that forms a developer image on the sheet,
A fuser having a heating unit for heating the sheet and a heater for heating the heating unit to fix the developer image on the sheet.
A temperature detection unit that detects the temperature of the heating unit,
With a control unit,
The control unit
Calculation processing to calculate the operation amount of the heater and
The energization process of energizing the heater based on the operation amount calculated in the calculation process is executed.
In the calculation process
P-control that calculates an operation amount that includes a proportional term proportional to the deviation between the target temperature and the detected temperature and does not include an integral term proportional to the integral value of the deviation.
It is possible to execute PI control for calculating an operation amount including the sum of the proportional term and the integral term.
The deviation used in the integration term is limited to a predetermined range, and the deviation is limited to a predetermined range.
The target temperature is changed from the first target temperature to a second target temperature lower than a predetermined value, the PI control is executed at the second target temperature, and the temperature of the heating unit is set to the second target. If you want to keep the temperature
When the detected temperature is higher than the switching temperature equal to or lower than the second target temperature, the P control is executed.
An image forming apparatus, characterized in that the PI control is executed when the detected temperature becomes equal to or lower than the switching temperature .
前記目標温度を、前記第1の目標温度から、所定値以上高い第3の目標温度に変更し、前記第3の目標温度で前記PI制御を実行して前記加熱部の温度を前記第3の目標温度に維持する場合、The target temperature is changed from the first target temperature to a third target temperature higher than a predetermined value, the PI control is executed at the third target temperature, and the temperature of the heating unit is changed to the third target temperature. When maintaining the target temperature,
前記検出温度が前記第3の目標温度よりも低い切替温度未満の場合は、前記P制御を実行し、If the detected temperature is less than the switching temperature lower than the third target temperature, the P control is executed.
前記検出温度が前記切替温度以上となった場合は、前記PI制御を実行することを特徴とする請求項1に記載の画像形成装置。The image forming apparatus according to claim 1, wherein when the detected temperature becomes equal to or higher than the switching temperature, the PI control is executed.
前記目標温度を、前記第1の目標温度に設定し、前記第1の目標温度で前記PI制御を実行して前記加熱部の温度を前記第1の目標温度に維持する場合、
前記検出温度が前記第1の目標温度よりも低い切替温度未満の場合は、前記P制御を実行し、
前記検出温度が前記切替温度以上となった場合は、前記PI制御を実行することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の画像形成装置。 The control unit is in the calculation process.
When the target temperature is set to the first target temperature and the PI control is executed at the first target temperature to maintain the temperature of the heating unit at the first target temperature.
If the detected temperature is less than the switching temperature lower than the first target temperature , the P control is executed .
The image forming apparatus according to claim 1 or 2 , wherein when the detected temperature becomes equal to or higher than the switching temperature, the PI control is executed .
前記偏差として、前記目標温度から前記検出温度を引いた値を用い、
前記検出温度が前記目標温度以下であって前記偏差が第1制限値以上の場合、前記積分項で用いる偏差として前記第1制限値を用い、
前記検出温度が前記目標温度以上であって前記偏差が第2制限値以下の場合、前記積分項で用いる偏差として前記第2制限値を用いることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の画像形成装置。 The control unit is in the calculation process.
As the deviation, a value obtained by subtracting the detected temperature from the target temperature is used.
When the detected temperature is equal to or lower than the target temperature and the deviation is equal to or greater than the first limit value, the first limit value is used as the deviation used in the integration term.
Any of claims 1 to 5 , wherein when the detected temperature is equal to or higher than the target temperature and the deviation is equal to or less than the second limit value, the second limit value is used as the deviation used in the integration term. The image forming apparatus according to claim 1.
交流正弦波の半波を単位とした波数制御により操作量に対応したデューティ比で前記ヒータに通電し、
操作量が所定操作量以上の場合、デューティ比を100%とし、
操作量が0以下の場合、デューティ比を0%とすることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の画像形成装置。 The control unit is used in the energization process.
The heater is energized at a duty ratio corresponding to the amount of operation by controlling the wave number in units of half an AC sine wave.
When the operation amount is equal to or more than the specified operation amount, the duty ratio is set to 100%.
The image forming apparatus according to any one of claims 1 to 8 , wherein when the operation amount is 0 or less, the duty ratio is set to 0%.
前記ヒータの操作量を算出する算出処理と、
前記算出処理で算出した操作量に基づいて前記ヒータに通電する通電処理と、を含み、
前記算出処理において、
目標温度と検出温度との偏差に比例する比例項を含み、かつ、前記偏差の積分値に比例する積分項を含まない操作量を算出するP制御と、
前記比例項と前記積分項との和を含む操作量を算出するPI制御と、を実行可能であり、
前記積分項で用いる偏差を所定範囲内に制限し、
前記目標温度を、第1の目標温度から、所定値以上低い第2の目標温度に変更し、前記第2の目標温度で前記PI制御を実行して前記加熱部の温度を前記第2の目標温度に維持する場合、
前記検出温度が前記第2の目標温度以下の切替温度よりも高い場合は、前記P制御を実行し、
前記検出温度が前記切替温度以下となった場合は、前記PI制御を実行することを特徴とする制御方法。 It is provided with a developer image forming section for forming a developer image on the sheet, a heating section for heating the sheet, and a fixing device having a heater for heating the heating section and fixing the developer image on the sheet. It is a control method of the image forming apparatus.
Calculation processing to calculate the operation amount of the heater and
The energization process of energizing the heater based on the operation amount calculated in the calculation process is included.
In the calculation process
P-control that calculates an operation amount that includes a proportional term proportional to the deviation between the target temperature and the detected temperature and does not include an integral term proportional to the integral value of the deviation.
It is possible to execute PI control for calculating an operation amount including the sum of the proportional term and the integral term.
The deviation used in the integration term is limited to a predetermined range, and the deviation is limited to a predetermined range.
The target temperature is changed from the first target temperature to a second target temperature lower than a predetermined value, the PI control is executed at the second target temperature, and the temperature of the heating unit is set to the second target. If you want to keep the temperature
When the detected temperature is higher than the switching temperature equal to or lower than the second target temperature, the P control is executed.
A control method comprising executing the PI control when the detected temperature becomes equal to or lower than the switching temperature .
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004240815A (en) | 2003-02-07 | 2004-08-26 | Nitto Denko Corp | Process control method |
JP2006171480A (en) | 2004-12-17 | 2006-06-29 | Canon Finetech Inc | Image forming apparatus |
JP2008185652A (en) | 2007-01-26 | 2008-08-14 | Kyocera Mita Corp | Method and apparatus for controlling temperature of fixing device in image forming apparatus |
JP2017053956A (en) | 2015-09-08 | 2017-03-16 | キヤノン株式会社 | Image forming apparatus |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3922593B2 (en) * | 1995-11-09 | 2007-05-30 | 株式会社堀場製作所 | Temperature control method in gas analyzer |
-
2018
- 2018-02-05 JP JP2018018684A patent/JP7091682B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004240815A (en) | 2003-02-07 | 2004-08-26 | Nitto Denko Corp | Process control method |
JP2006171480A (en) | 2004-12-17 | 2006-06-29 | Canon Finetech Inc | Image forming apparatus |
JP2008185652A (en) | 2007-01-26 | 2008-08-14 | Kyocera Mita Corp | Method and apparatus for controlling temperature of fixing device in image forming apparatus |
JP2017053956A (en) | 2015-09-08 | 2017-03-16 | キヤノン株式会社 | Image forming apparatus |
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