JP7086588B2 - Cured products, optical elements, optical instruments and methods for manufacturing optical elements - Google Patents
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Description
本発明は、屈折率の分散特性及び2次分散特性(θg,F)が高い化合物を用いた硬化物、光学素子及び光学機器に関する。 The present invention relates to a cured product, an optical element, and an optical instrument using a compound having a high refractive index dispersion characteristic and secondary dispersion characteristic (θg, F).
一般に、硝材(ガラス材料)や有機樹脂等からなる光学材料は、短波長側になるにつれ徐々にその屈折率が高くなる。この屈折率の波長分散性を表す指標として、アッベ数(分散特性)(νd)や2次分散特性(θg,F)等が挙げられる。このアッベ数やθg,F値は、それぞれの光学材料固有の値であるが、多くの場合、ある一定の範囲内に収まっている。図2は、従来の光学材料(硝材及び有機材料)の2次分散特性とアッベ数との関係を示す図である。 In general, the refractive index of an optical material made of a glass material (glass material), an organic resin, or the like gradually increases as the wavelength becomes shorter. Examples of the index showing the wavelength dispersibility of the refractive index include Abbe number (dispersion characteristic) (ν d ) and secondary dispersion characteristic (θg, F). The Abbe number, θg, and F value are values peculiar to each optical material, but in many cases, they are within a certain range. FIG. 2 is a diagram showing the relationship between the secondary dispersion characteristics of conventional optical materials (glass material and organic material) and the Abbe number.
屈折光学系においては、分散特性の異なる硝材を適宜組み合わせることによって色収差を減らすことが可能である。例えば、望遠鏡等の対物レンズでは分散の小さい硝材を正レンズ、分散の大きい硝材を負レンズとして、これらを組み合わせて用いることで軸上に現れる色収差を補正している。但し、レンズの構成、枚数が制限される場合や使用される硝材が限られている場合等では、色収差を十分に補正することが困難となる場合がある。このような課題を解決する方法の一つとして、異常分散特性を有するガラス材料を活用する方法があり、この方法を利用した光学素子類の設計が行われている。 In the refractive optical system, chromatic aberration can be reduced by appropriately combining glass materials having different dispersion characteristics. For example, in an objective lens such as a telescope, a glass material having a small dispersion is used as a positive lens and a glass material having a large dispersion is used as a negative lens, and by using these in combination, chromatic aberration appearing on the axis is corrected. However, it may be difficult to sufficiently correct chromatic aberration when the lens configuration, the number of lenses, or the glass material used is limited. As one of the methods for solving such a problem, there is a method of utilizing a glass material having anomalous dispersion characteristics, and optical elements using this method are being designed.
また、色収差補正機能に優れ、その形状が非球面形状等である光学素子を製造する場合、硝材のみを材料として用いるより、球面ガラス等の硝材の上に有機材料を成形する等の方法が知られている。この方法を用いると、量産性や成形性、形状の自由度、軽量性に優れる光学素子を製造することができるという利点がある。しかし、従来の有機材料の光学特性は、図2に示すように限られた一定の範囲内(2次分散特性[θg,F]が0.700以下)に収まっており、特異な分散特性を示す有機材料は非常に少ない。 Further, when manufacturing an optical element having an excellent chromatic aberration correction function and having an aspherical shape or the like, a method such as molding an organic material on a glass material such as spherical glass is known rather than using only a glass material as a material. Has been done. Using this method has the advantages of being able to manufacture an optical element having excellent mass productivity, formability, degree of freedom in shape, and light weight. However, as shown in FIG. 2, the optical characteristics of the conventional organic material are within a limited range (secondary dispersion characteristics [θg, F] are 0.700 or less), and have peculiar dispersion characteristics. Very few organic materials are shown.
特許文献1は、スルホン(メタ)アクリレートを有し2次分散特性(高θg,F特性)を有する化合物及びこの化合物を用いた光学素子を提案している。 Patent Document 1 proposes a compound having a sulfone (meth) acrylate and having secondary dispersion characteristics (high θg, F characteristics) and an optical device using this compound.
特許文献2は、含ヘテロ芳香族化合物が汎用の有機材料だけでなく特許文献1よりも高い2次分散特性を有していることが提案されている。 Patent Document 2 proposes that a heteroaromatic compound containing a heteroaromatic compound has not only a general-purpose organic material but also a higher secondary dispersion property than Patent Document 1.
しかしながら、特許文献1に示された有機材料は、従来の汎用有機材料よりはθg,F値は高いが、ガラス基材と有機材料の密着性が低いため成形時に割れが発生していた。また、特許文献2に示された有機材料は、θg,F値は非常に高いが、その一方で透過率が非常に低い。 However, although the organic material shown in Patent Document 1 has a higher θg and F value than the conventional general-purpose organic material, the adhesion between the glass substrate and the organic material is low, so that cracks occur during molding. Further, the organic material shown in Patent Document 2 has a very high θg and F value, but on the other hand, has a very low transmittance.
本発明は、以上に述べた背景技術に鑑みてなされたものであり、屈折率の分散特性(アッベ数(νd))及び2次分散特性(θg,F)が高く、内部透過率が高い硬化物及びこの硬化物を用いた光学素子等を提供するものである。 The present invention has been made in view of the background techniques described above, and has high refractive index dispersion characteristics (Abbe number (ν d )) and secondary dispersion characteristics (θg, F), and high internal transmittance. It provides a cured product and an optical element or the like using the cured product.
本発明の硬化物は、下記の一般式(1)で表わされる化合物が重合若しくは共重合している、又は下記の一般式(1)で表される化合物が高分子材料に分散していることを特徴とする。 In the cured product of the present invention, the compound represented by the following general formula (1) is polymerized or copolymerized, or the compound represented by the following general formula (1) is dispersed in the polymer material. It is characterized by.
(一般式(1)中、R1及びR2は、下記の一般式(2)乃至(5)から選ばれる一つであり、それぞれ同じであっても異なっていても良い。 (In the general formula (1), R 1 and R 2 are one selected from the following general formulas (2) to (5), and may be the same or different from each other.
*は結合手を表す。一般式(2)乃至(5)中、Z1乃至Z4は、水素、炭素、酸素、硫黄、窒素又はハロゲンを結合原子とする分子量1以上200未満の置換基であって、それぞれ同じであっても異なっていても良い。aは1又は2であり、aが2の場合はZ1、Z3、Z4は同じであっても異なっていても良い。bは1乃至3から選ばれるいずれかの整数であり、bが2又は3の場合、Z2は同じであっても異なっていても良い。)
* Represents a bond. In the general formulas (2) to (5), Z 1 to Z 4 are substituents having a molecular weight of 1 or more and less than 200 having hydrogen, carbon, oxygen, sulfur, nitrogen or halogen as a bonding atom, and are the same. May be different. a is 1 or 2, and when a is 2, Z 1 , Z 3 , and Z 4 may be the same or different. b is any integer selected from 1 to 3, and when b is 2 or 3, Z 2 may be the same or different. )
本発明の光学素子は、上記の硬化物が成形されていることを特徴とする。 The optical element of the present invention is characterized in that the above-mentioned cured product is molded.
本発明の光学機器は、上記の光学機器を有することを特徴とする。 The optical device of the present invention is characterized by having the above-mentioned optical device.
本発明の化合物は、上記の一般式(1)で表されることを特徴とする。 The compound of the present invention is characterized by being represented by the above general formula (1).
本発明の光学素子の製造方法は、基材上又は2つの基材の間に、上記の硬化物を設ける工程と、前記硬化物を成形する工程と、を有することを特徴とする。 The method for manufacturing an optical element of the present invention is characterized by including a step of providing the above-mentioned cured product on a base material or between two base materials, and a step of molding the cured product.
本発明によれば、屈折率の分散特性(アッベ数(νd))及び2次分散特性(θg,F)が高く、透過率特性をもつ硬化物を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a cured product having high refractive index dispersion characteristics (Abbe number (ν d )) and secondary dispersion characteristics (θg, F) and having transmittance characteristics.
以下、本発明を詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
[光学組成物、化合物]
まず本発明の光学用組成物について説明する。本明細書において、光学用組成物とは、未硬化の樹脂を硬化して硬化物にする前における、未硬化の化合物と添加物とを含む組成物を言う。本実施形態の光学用組成物は、少なくとも下記の一般式(1)で表わされる化合物を含むことを特徴とする。
[Optical composition, compound]
First, the optical composition of the present invention will be described. As used herein, the optical composition refers to a composition containing an uncured compound and an additive before the uncured resin is cured into a cured product. The optical composition of the present embodiment is characterized by containing at least a compound represented by the following general formula (1).
一般式(1)で表される化合物において、R1、R2は、下記一般式(2)乃至(5)から選ばれるいずれか一つの置換基であることが好ましく、それぞれ同じであっても異なっていても良い。芳香族置換基のオルト位に水素以外の置換基があると屈折率特性が低下し、さらに他の材料に対する相溶性が光学用組成物の状態で高くかつ硬化物の状態では密着力が向上するため、これらの置換基が好ましい。 In the compound represented by the general formula (1), R 1 and R 2 are preferably any one of the substituents selected from the following general formulas (2) to (5), even if they are the same. It may be different. If a substituent other than hydrogen is present at the ortho position of the aromatic substituent, the refractive index property is deteriorated, the compatibility with other materials is high in the state of the optical composition, and the adhesion is improved in the state of the cured product. Therefore, these substituents are preferable.
*は結合手を表す。一般式(2)乃至(5)中、Z1乃至Z4は、水素、炭素、酸素、硫黄、窒素又はハロゲンを結合原子とする分子量1以上200未満の置換基であって、それぞれ同じであっても異なっていても良い。aは1又は2であり、aが2の場合はZ1、Z3、Z4は同じであっても異なっていても良い。bは1乃至3から選ばれるいずれかの整数であり、bが2又は3の場合、Z2は同じであっても異なっていても良い。) * Represents a bond. In the general formulas (2) to (5), Z 1 to Z 4 are substituents having a molecular weight of 1 or more and less than 200 having hydrogen, carbon, oxygen, sulfur, nitrogen or halogen as a bonding atom, and are the same. May be different. a is 1 or 2, and when a is 2, Z 1 , Z 3 , and Z 4 may be the same or different. b is any integer selected from 1 to 3, and when b is 2 or 3, Z 2 may be the same or different. )
Z1乃至Z4の分子量が大きくなると光学性能が低下し、また、製造時の精製工程で結晶化できなくなり、光学用材料としての純度まで向上させることが難しくなる。従って、Z1乃至Z4は分子量1以上200未満の置換基であることが好ましい。分子量1以上200未満の置換基で分子量が大きい置換基を選択する場合、硬化物の光学性能を維持するためには、前記一般式(1)の純度や残留溶剤を高度に制御することが好ましい。Z1乃至Z4は、製造上の難易性を考慮すると、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、クロロメチルオキシ基、ジクロロメチルオキシ基、トリクロロメチルオキシ基、フルオロメチルオキシ基、ジフルオロメチルオキシ基、トリフルオロメチルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、(メタ)アクリロイルオキシメチル基、2-(メタ)アクリロイルオキシエトキシメチル基、3-(メタ)アクリロイルオキシプロポキシメチル基、3-(メタ)アクリロイルオキシ-2-メチルプロポキシメチル基、3-(メタ)アクリロイルオキシ-2、2-ジメチルプロポキシメチル基、4-(メタ)アクリロイルオキシブトキシメチル基、1-(メタ)アクリロイルオキシエチル基、1-(2-(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)エチル基、1-(3-(メタ)アクリロイルオキシプロポキシ)エチル基、1-(3-(メタ)アクリロイルオキシ-2-メチルプロポキシ)エチル基、1-(4-(メタ)アクリロイルオキシブトキシ)エチル基等であることがより好ましい。 When the molecular weight of Z 1 to Z 4 becomes large, the optical performance deteriorates, and it becomes impossible to crystallize in the purification process at the time of manufacturing, and it becomes difficult to improve the purity as an optical material. Therefore, Z 1 to Z 4 are preferably substituents having a molecular weight of 1 or more and less than 200. When a substituent having a large molecular weight is selected from a substituent having a molecular weight of 1 or more and less than 200, it is preferable to highly control the purity and the residual solvent of the general formula (1) in order to maintain the optical performance of the cured product. .. Considering the difficulty in manufacturing, Z 1 to Z 4 have a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a chloromethyl group, a dichloromethyl group, a trichloromethyl group, a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, and a trifluoro. Methyl group, methoxy group, ethoxy group, isopropoxy group, chloromethyloxy group, dichloromethyloxy group, trichloromethyloxy group, fluoromethyloxy group, difluoromethyloxy group, trifluoromethyloxy group, methylthio group, ethylthio group, Propylthio group, dimethylamino group, diethylamino group, dipropylamino group, (meth) acryloyloxymethyl group, 2- (meth) acryloyloxyethoxymethyl group, 3- (meth) acryloyloxypropoxymethyl group, 3- (meth) Acryloyloxy-2-methylpropoxymethyl group, 3- (meth) acryloyloxy-2, 2-dimethylpropoxymethyl group, 4- (meth) acryloyloxybutoxymethyl group, 1- (meth) acryloyloxyethyl group, 1- (2- (Meta) acryloyloxyethoxy) ethyl group, 1- (3- (meth) acryloyloxypropoxy) ethyl group, 1- (3- (meth) acryloyloxy-2-methylpropoxy) ethyl group, 1-( It is more preferably a 4- (meth) acryloyloxybutoxy) ethyl group or the like.
Z1乃至Z4は、製造上の難易度を考慮すると、水素原子、メチル基、メトキシ基、メチルチオ基、ジメチルアミノ基、(メタ)アクリロイルオキシメチル基、2-(メタ)アクリロイルオキシエトキシメチル基、3-(メタ)アクリロイルオキシプロポキシメチル基、3-(メタ)アクリロイルオキシ-2-メチルプロポキシメチル基、3-(メタ)アクリロイルオキシ-2、2-ジメチルプロポキシメチル基、4-(メタ)アクリロイルオキシブトキシメチル基、1-(メタ)アクリロイルオキシエチル基、1-(2-(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)エチル基、1-(3-(メタ)アクリロイルオキシプロポキシ)エチル基、1-(3-(メタ)アクリロイルオキシ-2-メチルプロポキシ)エチル基、1-(4-(メタ)アクリロイルオキシブトキシ)エチル基であることが更に好ましい。 Considering the difficulty in manufacturing, Z 1 to Z 4 are a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, a methylthio group, a dimethylamino group, a (meth) acryloyloxymethyl group, and a 2- (meth) acryloyloxyethoxymethyl group. , 3- (meth) acryloyloxypropoxymethyl group, 3- (meth) acryloyloxy-2-methylpropoxymethyl group, 3- (meth) acryloyloxy-2, 2-dimethylpropoxymethyl group, 4- (meth) acryloyl Oxybutoxymethyl group, 1- (meth) acryloyloxyethyl group, 1- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) ethyl group, 1- (3- (meth) acryloyloxypropoxy) ethyl group, 1- (3- (3-) It is more preferably a (meth) acryloyloxy-2-methylpropoxy) ethyl group or a 1- (4- (meth) acryloyloxybutoxy) ethyl group.
[硬化物]
次に本実施形態の硬化物について説明する。
[Cursed product]
Next, the cured product of this embodiment will be described.
本実施形態の硬化物は、少なくとも一般式(1)で表される化合物が重合若しくは共重合している、又は一般式(1)で表される化合物が高分子材料に分散していることを特徴とする。 In the cured product of the present embodiment, at least the compound represented by the general formula (1) is polymerized or copolymerized, or the compound represented by the general formula (1) is dispersed in the polymer material. It is a feature.
本発明の硬化物は、下記(A)乃至(D)の態様に大別される。
(A)一般式(1)で表わされる化合物が重合している硬化物。
(B)一般式(1)で表わされる化合物と他の共重合可能な重合性材料とが共重合している硬化物。
(C)一般式(1)で表わされる化合物を他の共重合可能重合性材料に分散させ、これらが共重合している硬化物。
(D)一般式(1)で表わされる化合物が他のマトリックスポリマーに分散している硬化物。
The cured product of the present invention is roughly classified into the following aspects (A) to (D).
(A) A cured product in which the compound represented by the general formula (1) is polymerized.
(B) A cured product obtained by copolymerizing a compound represented by the general formula (1) with another copolymerizable polymerizable material.
(C) A cured product in which a compound represented by the general formula (1) is dispersed in another copolymerizable polymerizable material, and these are copolymerized.
(D) A cured product in which the compound represented by the general formula (1) is dispersed in another matrix polymer.
[硬化物の製造方法]
また、本発明の硬化物の製造方法は、少なくとも一般式(1)で表わされる化合物を含有する光学用組成物を用意する工程と、前記光学用組成物を重合して硬化させる工程と、を有することを特徴とする硬化物の製造方法である。
[Manufacturing method of cured product]
Further, the method for producing a cured product of the present invention comprises a step of preparing an optical composition containing at least the compound represented by the general formula (1) and a step of polymerizing and curing the optical composition. It is a method for producing a cured product, which is characterized by having.
本実施形態の硬化物が(A)の硬化物である場合、硬化物は、一般式(1)で表わされる化合物と、重合開始剤とを含有する光学用組成物を重合することで製造される。尚、この光学用組成物には、必要に応じて重合禁止剤、光増感剤、耐光安定剤、耐熱安定剤、酸化防止剤、離型剤、防カビ剤等をさらに含有させてもよい。 When the cured product of the present embodiment is the cured product of (A), the cured product is produced by polymerizing an optical composition containing a compound represented by the general formula (1) and a polymerization initiator. To. The optical composition may further contain a polymerization inhibitor, a photosensitizer, a light-resistant stabilizer, a heat-resistant stabilizer, an antioxidant, a mold release agent, an antifungal agent and the like, if necessary. ..
重合開始剤には、光照射によりラジカル種やカチオン種などの活性種を発生するもの、熱によりラジカル種などの活性種を発生するものを用いることができる。 As the polymerization initiator, one that generates an active species such as a radical species or a cation species by light irradiation, or one that generates an active species such as a radical species by heat can be used.
光照射によりラジカル種を発生する重合開始剤としては、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-1-ブタノン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルホスフィンオキサイド、4-フェニルベンゾフェノン、4-フェノキシベンゾフェノン、4,4’-ジフェニルベンゾフェノン、4,4’-ジフェノキシベンゾフェノン等を用いることができる。 Examples of the polymerization initiator that generates radical species by light irradiation include 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, and 2-hydroxy-2-. Methyl-1-phenyl-Propane-1-one, Bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -Phenylphosphinoxide, 4-Phenylbenzophenone, 4-Phenyloxybenzophenone, 4,4'-Diphenylbenzophenone, 4,4' -Diphenoxybenzophenone and the like can be used.
また、光照射によりカチオン種を発生する重合開始剤としては、ヨードニウム(4-メチルフェニル)[4-(2-メチルプロピル)フェニル]-ヘキサフルオロホスフェート用いることが好ましい。 Further, as the polymerization initiator that generates a cationic species by light irradiation, it is preferable to use iodonium (4-methylphenyl) [4- (2-methylpropyl) phenyl] -hexafluorophosphate.
熱によりラジカル種を発生する重合開始剤としては、アゾビスイソブチルニトリル(AIBN)等のアゾ化合物、ベンゾイルパーオキサイド、tert-ブチルパーオキシピバレート、tert-ブチルパーオキシネオヘキサノエート、tert-ヘキシルパーオキシネオヘキサノエート、tert-ブチルパーオキシネオデカノエート、tert-ヘキシルパーオキシネオデカノエート、クミルパーオキシネオヘキサノエート、クミルパーオキシネオデカノエート等の過酸化物を用いることができる。 Examples of the polymerization initiator that generates radical species by heat include azo compounds such as azobisisobutynitrile (AIBN), benzoyl peroxide, tert-butylperoxypivalate, tert-butylperoxyneohexanoate, and tert-hexyl. Use peroxides such as peroxyneohexanoate, tert-butyl peroxyneodecanoate, tert-hexyl peroxyneodecanoate, cumylperoxyneohexanoate, and cumylperoxyneodecanoate. Can be done.
本実施形態の硬化物を製造するための光学用組成物に含有される重合開始剤の添加量は、一般式(1)で表わされる化合物の総質量に対して0.01質量%以上10.00質量%以下の範囲が好ましい。尚、重合開始剤は1種類のみで使用することもできるし、2種類以上を併用して使用することもできる。尚、一般式(1)で表わされる化合物に対する重合開始剤の添加割合は、光照射量、さらには、付加的な加熱温度に応じて適宜選択してもよい。また、得られる重合体の目標とする平均分子量に応じて、調整してもよい。 The amount of the polymerization initiator added to the optical composition for producing the cured product of the present embodiment is 0.01% by mass or more with respect to the total mass of the compound represented by the general formula (1). The range of 00% by mass or less is preferable. The polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more. The ratio of the polymerization initiator added to the compound represented by the general formula (1) may be appropriately selected depending on the amount of light irradiation and the additional heating temperature. Further, it may be adjusted according to the target average molecular weight of the obtained polymer.
重合禁止剤は、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ヒドロキノンモノエチルエーテル、ヒドロキノンモノプロピルエーテル、ヒドロキノンモノブチルエーテル、ヒドロキノンモノペンチルエーテル、ヒドロキノンモノヘキシルエーテル、ヒドロキノンモノオクチルエーテル、ヒドロキノンモノへプチルエーテル等のヒドロキノン系の重合禁止剤、3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート等の置換基を有するフェノール系の重合禁止剤等を用いることができる。但し、ヒドロキノン等のヒドロキノン系の重合禁止剤、ベンゾキノン等のベンゾキノン系の重合禁止剤は、UV照射で黄変することがあるため好適ではない。 The polymerization inhibitor is a hydroquinone-based agent such as hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, hydroquinone monoethyl ether, hydroquinone monopropyl ether, hydroquinone monobutyl ether, hydroquinone monopentyl ether, hydroquinone monohexyl ether, hydroquinone monooctyl ether, and hydroquinone monoheptyl ether. A phenol-based polymerization inhibitor having a substituent such as a polymerization inhibitor, 3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, or the like can be used. However, hydroquinone-based polymerization inhibitors such as hydroquinone and benzoquinone-based polymerization inhibitors such as benzoquinone are not suitable because they may turn yellow due to UV irradiation.
重合禁止剤としては、反応時や保存時の重合抑制剤として上述したものを用いるkとができるがそれらに限定されない。添加量は、前記光学用組成物に対して、0.01質量%以上1.00質量%以下の範囲が好ましい。また、一つの重合禁止剤のみを使用しても良いし2種類以上の重合禁止剤を組み合わせて使用しても良い。着色の少なさを考慮すると具体的にはヒドロキノン系重合禁止剤を組み合わせて利用することが好ましい。 The polymerization inhibitor may be k, which uses the above-mentioned polymerization inhibitor as a polymerization inhibitor during reaction or storage, but is not limited thereto. The addition amount is preferably in the range of 0.01% by mass or more and 1.00% by mass or less with respect to the optical composition. Further, only one polymerization inhibitor may be used, or two or more kinds of polymerization inhibitors may be used in combination. Considering the amount of coloring, it is preferable to use a hydroquinone-based polymerization inhibitor in combination.
光増感剤は、ベンゾフェノン、4,4-ジエチルアミノベンゾフェノン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、p-ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4-ジメチルアミノ安息香酸メチル、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、2,2-ジエトキシアセトフェノン、o-ベンゾイル安息香酸メチル、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、アシルホスフィンオキサイド等を用いることができる。添加量は、前記光学用組成物に対して、0.01質量%以上10.00質量%以下の範囲が好ましい。 Photosensitizers include benzophenone, 4,4-diethylaminobenzophenone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, isoamyl p-dimethylaminobenzoate, methyl 4-dimethylaminobenzoate, benzoin, benzoin ethyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin isopropyl. Ether, 2,2-diethoxyacetophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, acylphosphine oxide and the like can be used. The addition amount is preferably in the range of 0.01% by mass or more and 10.00% by mass or less with respect to the optical composition.
耐光安定剤は、硬化物の光学特性に大きな影響を及ぼさないものであれば特に制限は無く、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-p-クレゾール、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4,6-ビス(1-メチル-1-フェニルエチル)フェノール、2-[5-クロロ(2H)-ベンゾトリアゾール-2-イル]-4-メチル-6-(tert-ブチル)フェノール、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4,6-ジ-tert-ペンチルフェノール、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール、2,2’-メチルレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)]-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-6-ドデシル-4-メチルフェノール等のベンゾトリアゾール系の化合物、2-シアノ-3,3-ジフェニルアクリル酸エチル、2-シアノ-3,3-ジフェニルアクリル酸 2-エチルヘキシル等のシアノアクリレート系の化合物、トリアジン系の化合物、オクタベンゾン、2,2’-4,4’-テトラヒドロベンゾフェノン等のベンゾフェノン系の化合物等を用いることができる。上記耐光安定剤が光増感剤の役割を果たす場合もあり、その場合には光増感剤は添加しなくても良い。添加量は、光学用組成物に対して、0.01質量%以上10.00質量%以下の範囲が好ましい。 The light-resistant stabilizer is not particularly limited as long as it does not significantly affect the optical properties of the cured product, and is 2- (2H-benzotriazole-2-yl) -p-cresol, 2- (2H-benzotriazole-). 2-yl) -4,6-bis (1-methyl-1-phenylethyl) phenol, 2- [5-chloro (2H) -benzotriazole-2-yl] -4-methyl-6- (tert-butyl) ) Phenol, 2- (2H-benzotriazole-2-yl) -4,6-di-tert-pentylphenol, 2- (2H-benzotriazole-2-yl) -4- (1,1,3,3) -Tetramethylbutyl) phenol, 2,2'-methyllenbis [6- (2H-benzotriazole-2-yl)]-4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol, 2- (2H-) Benzotriazole-2-yl) -6-dodecyl-4-methylphenol and other benzotriazole compounds, 2-cyano-3,3-diphenylacrylic acid ethyl, 2-cyano-3,3-diphenylacrylic acid 2- A cyanoacrylate-based compound such as ethylhexyl, a triazine-based compound, an octabenzone, a benzophenone-based compound such as 2,2'-4,4'-tetrahydrobenzophenone, and the like can be used. The light-resistant stabilizer may serve as a photosensitizer, in which case the photosensitizer may not be added. The addition amount is preferably in the range of 0.01% by mass or more and 10.00% by mass or less with respect to the optical composition.
耐熱安定剤は、硬化物の光学特性に大きな影響を及ぼさないものであれば特に制限は無く、ペンタエリスリトールテトラキス[3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)]プロピオネート、オクタデシル-3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート、3,5-ビス(1,1-ジメチルエチル)-4-ヒドロキシベンゼンプロパン酸の側鎖を有する炭素数7~9のアルキルエステル、4,6-ビス(オクチルチオメチル)-o-クレゾール、4,6-ビス(ドデシルチオメチル)-o-クレゾール、エチレンビス(オキシエチレン)ビス[3-(5-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-m-トリル)]プロピオネート、ヘキサメチレンビス[3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)]プロピオネート等のヒンダードフェノール系の化合物、トリス(2,4-ジ-tert-ブチルフェニル)ホスファイト等のリン系の化合物、ジオクタデシル-3,3’-チオジプロピオネート等の硫黄系の化合物等を用いることができる。添加量は、光学用組成物に対して、0.01質量%以上10.00質量%以下の範囲が好ましい。 The heat-resistant stabilizer is not particularly limited as long as it does not significantly affect the optical properties of the cured product, and pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)] propionate, Octadecyl-3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxybenzenepropanoic acid with side chains and 7 carbon atoms Alkyl esters of ~ 9, 4,6-bis (octylthiomethyl) -o-cresol, 4,6-bis (dodecylthiomethyl) -o-cresol, ethylene bis (oxyethylene) bis [3- (5-tert) -Butyl-4-hydroxy-m-tolyl)] propionate, hexamethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)] propionate and other hindered phenolic compounds, tris (2) , 4-Di-tert-butylphenyl) Phosphite and other phosphorus-based compounds, dioctadecyl-3,3'-thiodipropionate and other sulfur-based compounds can be used. The addition amount is preferably in the range of 0.01% by mass or more and 10.00% by mass or less with respect to the optical composition.
酸化防止剤は、硬化物の光学特性に大きな影響を及ぼさないものであれば特に制限は無く、ビス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル)[[3,5-ビス(1,1-ジメチルエチル)-4-ヒドリキシフェニル]メチル]ブチルマロネート等のヒンダードアミン系の化合物等を用いることができる。添加量は、光学用組成物に対して、0.01質量%以上10.00質量%以下の範囲が好ましい。 The antioxidant is not particularly limited as long as it does not significantly affect the optical properties of the cured product, and is bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2, 2,6,6-Pentamethyl-4-piperidyl) [[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl] A hindered amine compound such as butyl malonate can be used. can. The addition amount is preferably in the range of 0.01% by mass or more and 10.00% by mass or less with respect to the optical composition.
本実施形態の硬化物が(B)の態様である場合、硬化物は、一般式(1)で表わされる化合物と共重合可能な重合性材料とからなる光学用組成物を重合することで製造される。該光学用組成物中の一般式(1)で表わされる化合物物の含有量は、1.0質量%以上99.9質量%以下が好ましい。硬化物の分散特性及び2次分散特性が光学設計上有用な範囲とするために、一般式(1)で表わされる化合物は、50.0質量%以上99.9質量%以下含有することが好ましい。尚、この光学用組成物には、必要に応じて重合禁止剤、光増感剤、耐光安定剤、耐熱安定剤、酸化防止剤、離型剤、防カビ剤等をさらに含有させてもよい。 When the cured product of the present embodiment is the embodiment (B), the cured product is produced by polymerizing an optical composition composed of a copolymerizable material and a compound represented by the general formula (1). Will be done. The content of the compound represented by the general formula (1) in the optical composition is preferably 1.0% by mass or more and 99.9% by mass or less. The compound represented by the general formula (1) is preferably contained in an amount of 50.0% by mass or more and 99.9% by mass or less in order to keep the dispersion characteristics and the secondary dispersion characteristics of the cured product in a range useful in optical design. .. The optical composition may further contain a polymerization inhibitor, a photosensitizer, a light-resistant stabilizer, a heat-resistant stabilizer, an antioxidant, a mold release agent, an antifungal agent and the like, if necessary. ..
共重合可能な重合性材料としては、例えば(メタ)アクリル系モノマーを用いることができる。例えば、1,3-アダマンタンジオールジメタクリレート、1,3-アダマンタンジメタノールジメタクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジメタクリレート、トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリアクリレート、2-(2-エトキシエトキシ)エチルアクリレート、ステアリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、2-フェノキシエチルアクリレート、イソデシルアクリレート、イソボニルアクリレート、イソボニルメタクリレート、1,3-ブチレングリコールジアクリレート、1,4-ブタンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、1,4-ブタンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、9,9-ビス[4-(2-アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン、9,9-ビス[4-(2-メタクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン、9,9-ビス[4-(2-アクリロイルオキシ)フェニル]フルオレン、9,9-ビス[4-(2-メタクリロイルオキシ)フェニル]フルオレン、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシメチルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシメチルメタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、エチレングリコールビスグリシジルアクリレート、エチレングリコールビスグリシジルメタクリレート、ビスフェノールAジアクリレート、ビスフェノールAジメタクリレート、2,2-ビス(4-アクリロキシエトキシフェニル)プロパン、2,2-ビス(4-メタクリロキシエトキシフェニル)プロパン、2,2-ビス(4-アクリロキシジエトキシフェニル)プロパン、2,2-ビス(4-メタクリロキシジエトキシフェニル)プロパン、ビスフェノールFジアクリレート、ビスフェノールFジメタクリレート、1,1-ビス(4-アクリロキシエトキシフェニル)メタン、1,1-ビス(4-メタクリロキシエトキシフェニル)メタン、1,1-ビス(4-アクリロキシジエトキシフェニル)メタン、1,1-ビス(4-メタクリロキシジエトキシフェニル)メタン、1,1-ビス(4-アクリロキシエトキシフェニル)スルホン、1,1-ビス(4-メタクリロキシエトキシフェニル)スルホン、1,1-ビス(4-アクリロキシジエトキシフェニル)スルホン、1,1-ビス(4-メタクリロキシジエトキシフェニル)スルホン、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、グリセロールジアクリレート、グリセロールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、メチルチオアクリレート、メチルチオメタクリレート、フェニルチオアクリレート、ベンジルチオメタクリレート、キシリレンジチオールジアクリレート、キシリレンジチオールジメタクリレート、メルカプトエチルスルフィドジアクリレート、メルカプトエチルスルフィドジメタクリレート等の(メタ)アクリレート化合物、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、ジアリルテレフタレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルカーボネート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等のアリル化合物、スチレン、クロロスチレン、メチルスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ジビニルベンゼン、3,9-ジビニルスピロビ(m-ジオキサン)等のビニル化合物、ジイソプロペニルベンゼン等を用いることができるが、これらに限定されない。 As the copolymerizable polymerizable material, for example, a (meth) acrylic monomer can be used. For example, 1,3-adamantandiol dimethacrylate, 1,3-adamantandimethanol dimethacrylate, tricyclodecanedimethanol diacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, propoxylated neopentyl glycol diacrylate, dipropylene glycol diacrylate, ethoxylated. Bisphenol A dimethacrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl acrylate, stearyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, isodecyl acrylate, isobonyl acrylate, Isobonyl methacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, dipropylene glycol Diacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, tripropylene glycol dimethacrylate, dipropylene Glycoldimethacrylate, Trimethylol Propanetrimethacrylate, 9,9-bis [4- (2-acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-methacryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene, 9, 9-bis [4- (2-acryloyloxy) phenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-methacryloyloxy) phenyl] fluorene, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, butoxyethyl acrylate, butoxymethyl methacrylate, cyclohexyl acrylate , Cyclohexyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxymethyl methacrylate, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, phenoxyethyl acrylate, phenoxyethyl methacrylate, phenyl methacrylate, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, dietile Ethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate. , Ethylene glycol bisglycidyl acrylate, ethylene glycol bisglycidyl methacrylate, bisphenol A diacrylate, bisphenol A dimethacrylate, 2,2-bis (4-acryloxyethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-methacryloxyethoxyphenyl) ) Propane, 2,2-bis (4-acryloxydiethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-methacryloxydiethoxyphenyl) propane, bisphenol F diacrylate, bisphenol F dimethacrylate, 1,1-bis (4-Acryloxyethoxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-methacryloxyethoxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-acryloxydiethoxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-methacrylate) Loxydiethoxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-acryloxyethoxyphenyl) sulfone, 1,1-bis (4-methacryloxyethoxyphenyl) sulfone, 1,1-bis (4-acryloxydiethoxyphenyl) ) Sulfon, 1,1-bis (4-methacryloxydiethoxyphenyl) sulfone, dimethyloltricyclodecanediacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, glycerol diacrylate, glycerol dimethacrylate, pentaerythritol tri Aacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, methylthioacrylate, methylthiomethacrylate, phenylthioacrylate, benzylthiomethacrylate, xylylene dithioldiacrylate, xylylene dithioldimethacrylate, mercaptoethylsulfide diacrylate, mercaptoethylsulfide dimethacrylate, etc. (Meta) acrylate compound, allyl glycidyl ether, diallyl phthalate, diallyl terephthalate, diallyl isophthalate, diallyl carbonate, di Use allyl compounds such as ethylene glycol bisallyl carbonate, vinyl compounds such as styrene, chlorostyrene, methylstyrene, bromostyrene, dibromostyrene, divinylbenzene, 3,9-divinylspirobi (m-dioxane), diisopropenylbenzene and the like. However, it is not limited to these.
共重合可能な重合性材料の添加量は、前記光学用組成物の質量に対して、0.10質量%以上80.00質量%以下の範囲が好ましい。硬化物の分散特性及び2次分散特性が光学設計上有用な範囲になることを考慮すると好ましくは0.10質量%以上30.00質量%以下である。 The amount of the copolymerizable polymerizable material added is preferably in the range of 0.10% by mass or more and 80.00% by mass or less with respect to the mass of the optical composition. Considering that the dispersion characteristics and the secondary dispersion characteristics of the cured product are in a range useful for optical design, it is preferably 0.10% by mass or more and 30.00% by mass or less.
(B)の態様の硬化物を製造するための光学用組成物に含有される重合開始剤は、(A)の態様において示した重合開始剤を(A)の態様により示した添加割合で用いることが出来る。また、(B)の態様の硬化物を製造するための光学用組成物に含有される重合禁止剤、光増感剤、耐光安定剤、耐熱安定剤、酸化防止剤を用いる場合には、(A)の態様において示したものを(A)の態様により示した添加割合で用いることが出来る。 As the polymerization initiator contained in the optical composition for producing the cured product of the aspect (B), the polymerization initiator shown in the aspect of (A) is used in the addition ratio shown in the aspect of (A). Can be done. Further, when a polymerization inhibitor, a photosensitizer, a light-resistant stabilizer, a heat-resistant stabilizer, or an antioxidant contained in the optical composition for producing the cured product of the aspect (B) is used, ( What is shown in the aspect of A) can be used in the addition ratio shown in the aspect of (A).
本発明の硬化物が、(C)の態様の硬化物である場合、硬化物は、一般式(1)で表わされる化合物が共重合可能な重合性材料に分散されている光学用組成物を重合することで製造される。光学用組成物に含有される共重合可能な重合性材料の含有量は、1.0質量%以上99.0質量%以下であることが好ましい。得られる硬化物の分散特性及び2次分散特性、また一般式(1)で表わされる化合物と重合性材料との相溶性を考慮すると、一般式(1)で表わされる化合物の含有量は、50.0質量%以上99.9質量%以下が好ましい。 When the cured product of the present invention is the cured product of the aspect (C), the cured product is an optical composition in which the compound represented by the general formula (1) is dispersed in a copolymerizable polymerizable material. Manufactured by polymerization. The content of the copolymerizable polymerizable material contained in the optical composition is preferably 1.0% by mass or more and 99.0% by mass or less. Considering the dispersion characteristics and secondary dispersion characteristics of the obtained cured product and the compatibility between the compound represented by the general formula (1) and the polymerizable material, the content of the compound represented by the general formula (1) is 50. It is preferably 9.0% by mass or more and 99.9% by mass or less.
尚、この光学用組成物には、必要に応じて重合禁止剤、光増感剤、耐光安定剤、耐熱安定剤、酸化防止剤、離型剤、防カビ剤等をさらに含有させてもよい。 The optical composition may further contain a polymerization inhibitor, a photosensitizer, a light-resistant stabilizer, a heat-resistant stabilizer, an antioxidant, a mold release agent, an antifungal agent and the like, if necessary. ..
重合性材料としては、硬化物の分散特性及び2次分散特性が光学設計上有用な範囲になるのであれば特に制限はない。具体的には、(B)の態様において示された(メタ)アクリル系モノマー、アリル化合物、ビニル化合物、ジイソプロペニルベンゼン化合物、エポキシ化合物、チイラン化合物等を用いることが出来る。 The polymerizable material is not particularly limited as long as the dispersion characteristics and the secondary dispersion characteristics of the cured product are within the useful range in optical design. Specifically, the (meth) acrylic monomer, allyl compound, vinyl compound, diisopropenylbenzene compound, epoxy compound, thylane compound and the like shown in the embodiment (B) can be used.
(C)の態様の硬化物を製造するための光学用組成物に含有される重合開始剤は、(A)の態様において示した重合開始剤を(A)の態様により示した添加割合で用いることが出来る。また、(C)の態様の硬化物を製造するための光学用組成物に含有される重合禁止剤、光増感剤、耐光安定剤、耐熱安定剤、酸化防止剤を用いる場合には、(A)の態様において示したものを(A)の態様により示した添加割合で用いることが出来る。 As the polymerization initiator contained in the optical composition for producing the cured product according to the aspect (C), the polymerization initiator shown in the aspect (A) is used in the addition ratio shown in the aspect (A). Can be done. Further, when a polymerization inhibitor, a photosensitizer, a light-resistant stabilizer, a heat-resistant stabilizer, or an antioxidant contained in the optical composition for producing the cured product of the aspect (C) is used, ( What is shown in the aspect of A) can be used in the addition ratio shown in the aspect of (A).
本発明の硬化物が、(D)の態様の硬化物である場合、硬化物は、一般式(1)で表わされる化合物と、一般式(1)で表わされる化合物で表わされる化合物と分散可能なマトリックスポリマーとからなる光学用組成物を重合或いは成形することで製造される。光学用組成物に含有されるマトリックスポリマー化合物の含有量は、1.0質量%以上99.0質量%以下であることが好ましい。得られる硬化物の分散特性及び2次分散特性、また一般式(1)で表わされる化合物とマトリックスポリマーとの相溶性を考慮すると、マトリックスポリマーの含有量は、1.0質量%以上50.0質量%以下が好ましい。尚、この光学用組成物には、必要に応じて重合禁止剤、光増感剤、耐光安定剤、耐熱安定剤、酸化防止剤、離型剤、防カビ剤等をさらに含有させてもよい。 When the cured product of the present invention is the cured product of the embodiment (D), the cured product can be dispersed with a compound represented by the general formula (1) and a compound represented by the compound represented by the general formula (1). It is produced by polymerizing or molding an optical composition composed of a matrix polymer. The content of the matrix polymer compound contained in the optical composition is preferably 1.0% by mass or more and 99.0% by mass or less. Considering the dispersion characteristics and secondary dispersion characteristics of the obtained cured product, and the compatibility between the compound represented by the general formula (1) and the matrix polymer, the content of the matrix polymer is 1.0% by mass or more and 50.0. It is preferably mass% or less. The optical composition may further contain a polymerization inhibitor, a photosensitizer, a light-resistant stabilizer, a heat-resistant stabilizer, an antioxidant, a mold release agent, an antifungal agent and the like, if necessary. ..
マトリックスポリマーとしては、(メタ)アクリル系ポリマー;アリル系ポリマー;エチレン単独重合体、エチレンとプロピレン、1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、4-メチル-1-ペンテン等の1種または2種以上のα-オレフィンとのランダムまたはブロック共重合体、エチレンと酢酸ビニル、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチルとの1種または2種以上のランダムまたはブロック共重合体、プロピレン単独重合体、プロピレンとプロピレン以外の1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、4-メチル-1-ペンテン等の1種または2種以上のα-オレフィンとのランダムまたはブロック共重合体、1-ブテン単独重合体、アイオノマー樹脂、さらにこれら重合体の混合物等のポリオレフィン系樹脂;石油樹脂、テルペン樹脂等の炭化水素系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂;ナイロン6、ナイロン66、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン610、ナイロン6/66、ナイロン66/610、ナイロンMXD等ポリアミド系樹脂;ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂;ポリスチレン、スチレン-アクリロニトリル共重合体、スチレン-アクリロニトリル-ブタジエン共重合体、ポリアクリロニトリル等のスチレン、アクリロニトリル系樹脂;ポリビニルアルコール、エチレン-ビニルアルコール共重合体等のポリビニルアルコール系樹脂;ポリカーボネート樹脂;ポリケトン樹脂;ポリメチレンオキシド樹脂;ポリスルホン樹脂;ポリイミド樹脂;ポリアミドイミド樹脂等が挙げられるがこれらに限定されない。これらの樹脂は1種類を単独で使用してもよいし、2種類以上を混合して用いてもよい。またこれらマトリックスポリマーは、一般式(1)で表わされる化合物との相溶性や硬化物の分散特性及び2次分散特性を考慮した上で適宜選択される。 The matrix polymer may be one or two (meth) acrylic polymer; allyl polymer; ethylene homopolymer, ethylene and propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 4-methyl-1-pentene and the like. Random or block copolymers with one or more α-olefins, one or more random or block copolymers with ethylene and vinyl acetate, acrylic acid, methacrylic acid, methyl acrylate, methyl methacrylate, propylene Homopolymer, random or block copolymer with one or more α-olefins such as propylene and 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 4-methyl-1-pentene, etc., 1 -Conduit-based resins such as butene homopolymers, ionomer resins, and mixtures of these polymers; hydrocarbon-based resins such as petroleum resins and terpene resins; polyester-based resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; nylon. 6, Nylon 66, Nylon 11, Nylon 12, Nylon 610, Nylon 6/66, Nylon 66/610, Nylon MXD and other polyamide-based resins; Acrylic resins such as polymethylmethacrylate; Polystyrene, styrene-acrylonitrile copolymers, styrene -Acrylonitrile-butadiene copolymer, styrene such as polyacrylonitrile, acrylonitrile resin; polyvinyl alcohol, polyvinyl alcohol resin such as ethylene-vinyl alcohol copolymer; polycarbonate resin; polyketone resin; polymethylene oxide resin; polysulfone resin; polyimide Resin; Polymerimide resin and the like can be mentioned, but the present invention is not limited thereto. One type of these resins may be used alone, or two or more types may be mixed and used. Further, these matrix polymers are appropriately selected in consideration of compatibility with the compound represented by the general formula (1), dispersion characteristics of the cured product, and secondary dispersion characteristics.
(D)の態様の硬化物を製造するための光学用組成物に含有される重合開始剤は、(A)の態様において示した重合開始剤を(A)の態様により示した添加割合で用いることが出来る。また、(D)の態様の硬化物を製造するための光学用組成物に含有される重合禁止剤、光増感剤、耐光安定剤、耐熱安定剤、酸化防止剤を用いる場合には、(A)の態様において示したものを(A)の態様により示した添加割合で用いることが出来る。 As the polymerization initiator contained in the optical composition for producing the cured product according to the aspect (D), the polymerization initiator shown in the aspect (A) is used in the addition ratio shown in the aspect (A). Can be done. Further, when a polymerization inhibitor, a photosensitizer, a light-resistant stabilizer, a heat-resistant stabilizer, or an antioxidant contained in the optical composition for producing the cured product of the aspect (D) is used, ( What is shown in the aspect of A) can be used in the addition ratio shown in the aspect of (A).
各種添加剤や汎用モノマー及びマトリックスポリマーとの混合方法は、均一に混合できるのであれば特に制限はない。例えば、溶剤等に全ての材料を混合後、溶剤を除去する方法、材料を加熱して溶融しそのまま混合する方法等を用いることができる。(A)、(B)、(C)の態様の硬化物を得るための光学用組成物を調製する際には、溶剤中で混合する方法が均一になるので好ましい。(D)の態様の硬化物を得るための光学用組成物を調製する際には、マトリックスモノマーの溶剤への低い溶解度を考慮すると材料を加熱してそのまま混合する方法が好ましい。 The mixing method with various additives, general-purpose monomers and matrix polymers is not particularly limited as long as they can be mixed uniformly. For example, a method of mixing all the materials with a solvent or the like and then removing the solvent, a method of heating the materials to melt them and mixing them as they are can be used. When preparing the optical composition for obtaining the cured product according to the embodiments (A), (B) and (C), the method of mixing in a solvent is preferable because it becomes uniform. When preparing the optical composition for obtaining the cured product according to the aspect (D), a method of heating the material and mixing it as it is is preferable in consideration of the low solubility of the matrix monomer in the solvent.
溶剤を除去する方法としては、光学用組成物中の残留溶剤量が少なくなるのであれば特に制限はなく、減圧留去法や蒸留法等を用いることができる。減圧留去法では、減圧下で重合反応が促進される可能性もあるため、酸素を含んだ気体を流通させながら減圧留去することが好ましい。また蒸留法では、加熱により重合反応が促進される可能性もあるため、重合禁止剤の追加や加熱温度を適宜調整することが好ましい。 The method for removing the solvent is not particularly limited as long as the amount of the residual solvent in the optical composition is small, and a vacuum distillation method, a distillation method, or the like can be used. In the vacuum distillation method, since the polymerization reaction may be promoted under reduced pressure, it is preferable to distill under reduced pressure while circulating a gas containing oxygen. Further, in the distillation method, since the polymerization reaction may be promoted by heating, it is preferable to add a polymerization inhibitor and adjust the heating temperature as appropriate.
本実施形態の光学用組成物を重合し、(A)乃至(D)の態様の硬化物を製造する場合、重合反応は光学用組成物中の重合開始剤により開始される。重合開始剤が光照射により活性種を発生する光重合開始剤である場合、前記光重合開始剤が活性種を発生する好適な波長の光を照射することで、本発明の硬化物の製造を行う。好適な波長の光としては、例えば、紫外光または可視光が挙げられる。また、重合開始剤が加熱により活性種を発生する熱重合開始剤である場合、前記熱重合開始剤が活性種を発生する好適な温度に加熱することで、本発明の硬化物の製造を行う。好適な温度としては、例えば80℃以上180°以下である。 When the optical composition of the present embodiment is polymerized to produce the cured product according to the embodiments (A) to (D), the polymerization reaction is initiated by the polymerization initiator in the optical composition. When the polymerization initiator is a photopolymerization initiator that generates an active species by light irradiation, the cured product of the present invention can be produced by irradiating the photopolymerization initiator with light having a suitable wavelength for generating an active species. conduct. Examples of light having a suitable wavelength include ultraviolet light or visible light. When the polymerization initiator is a thermal polymerization initiator that generates an active species by heating, the cured product of the present invention is produced by heating the thermal polymerization initiator to a suitable temperature for generating an active species. .. The suitable temperature is, for example, 80 ° C. or higher and 180 ° C. or lower.
(光学素子、光学素子の製造方法)
次に、本実施形態の光学素子及びその製造方法について図を参照しながら説明する。
(Optical element, manufacturing method of optical element)
Next, the optical element of the present embodiment and the manufacturing method thereof will be described with reference to the drawings.
本実施形態の光学素子は、上記(A)乃至(D)の態様の硬化物を成形してなることを特徴とする。図2は、本発明の光学素子の例としての光学レンズを示す概略図である。図2(a)の光学素子は、本発明の硬化物を成形加工してなる薄膜(光学部材10)が基材である基材20の片方の面上に設けられている。図2(b)の光学素子は、本発明の硬化物を成形加工してなる薄膜(光学部材10)が2つの基材の間、すなわち基板30と基板40との間に設けられている。
The optical element of the present embodiment is characterized in that it is formed by molding a cured product according to the above embodiments (A) to (D). FIG. 2 is a schematic view showing an optical lens as an example of the optical element of the present invention. In the optical element of FIG. 2A, a thin film (optical member 10) formed by molding a cured product of the present invention is provided on one surface of a
基材20,30,40としては、プラスチック基材やガラス基材や樹脂基材を用いることができる。これらの中で、耐環境性能を考慮するとガラス基材を用いるこが好ましい。ガラス基材を用いることがまたその形状は限定されることはなく、平面、曲面、凹面、凸面、フィルム状であっても良い。
As the
本実施形態の光学素子は、一般式(1)の化合物を含む硬化物を有しているので、高い2次分散性と高い透過率とを両立している。従来、2次分散特性の高い材料は電子供与性置換基や大きな共役構造を有していたが、一般式(1)の化合物は芳香族性ヘテロ環を導入することで電子供与性置換基や大きな共役構造をもたなくても高い2次分散特性を発現する。また、本実施形態の光学素子は、透過率の極端な低下を抑制するとともに、基材と硬化物との密着性が高く割れが発生しにくい。 Since the optical element of the present embodiment has a cured product containing the compound of the general formula (1), it has both high secondary dispersibility and high transmittance. Conventionally, a material having a high secondary dispersion property has an electron-donating substituent or a large conjugated structure, but the compound of the general formula (1) has an electron-donating substituent by introducing an aromatic heterocycle. It exhibits high secondary dispersion characteristics without having a large conjugated structure. In addition, the optical element of the present embodiment suppresses an extreme decrease in transmittance, has high adhesion between the base material and the cured product, and is less likely to crack.
図1(a)の光学素子を製造する方法としては、例えば、光透過性材料からなる基材上に膜厚の薄い層構造の本発明の硬化物を形成する方法が挙げられる。具体的には、金属材料等からなる型をガラス基板から一定の距離を置いて設け、この型とガラス基板20との間にある空隙に流動性の本発明の光学用組成物を充填する。その後、前記型を軽く抑えることで、型成形を行う。そして型を抑えつけたまま、光学用組成物の重合を行う。重合反応は光照射または加熱により行われる。
Examples of the method for manufacturing the optical element of FIG. 1A include a method of forming a cured product of the present invention having a thin layer structure on a substrate made of a light-transmitting material. Specifically, a mold made of a metal material or the like is provided at a certain distance from the glass substrate, and the void between the mold and the
光重合により光学用組成物の重合を行う場合、例えば、前記基板として利用する光透過性材料、具体的にはガラス基板20を介して、成形されている光学用組成物のモノマー等の原料に対して、均一に光照射を実施する。照射される光量は、光重合開始剤を利用した反応機構に応じて、また、含有される光重合開始剤の含有比率に応じて、適宜選択される。
When the optical composition is polymerized by photopolymerization, for example, it is used as a raw material such as a monomer of the optical composition formed via a light transmissive material used as the substrate, specifically, a
前述のように、かかる光重合反応による光学用組成物の硬化物の製造においては、照射される光が型成形されているモノマー等の原料の全体に均一に照射されることがより好ましい。従って、利用される光照射は、基板に利用する光透過性材料、例えばガラス基板を介して、均一に行うことが可能な波長の光を選択することが一層好ましい。この際、光透過性材料の基板上に形成する光学用組成物の厚さを薄くすると、製造時の光照射量が少なく軽量になり、さらに硬化物の熱膨張や吸湿による変形も低減できる光学素子になるので好ましい。 As described above, in the production of a cured product of an optical composition by such a photopolymerization reaction, it is more preferable that the irradiated light uniformly irradiates the entire raw material such as a monomer to be molded. Therefore, it is more preferable to select light having a wavelength that can be uniformly irradiated through a light transmissive material used for the substrate, for example, a glass substrate. At this time, if the thickness of the optical composition formed on the substrate of the light-transmitting material is reduced, the amount of light irradiation during manufacturing is reduced and the weight is reduced, and the deformation due to thermal expansion and moisture absorption of the cured product can be reduced. It is preferable because it becomes an element.
また、熱重合により光学用組成物の重合を行う場合、前記型を加熱することにより光学用組成物の重合を行ってもよく、型成形された光学用組成物をオーブン等の加熱機器中で加熱することで光学用組成物の重合を行ってもよい。加熱温度は、熱重合開始剤を利用した反応機構に応じて、また、含有される光重合開始剤の含有比率に応じて、適宜選択される。 When the optical composition is polymerized by thermal polymerization, the optical composition may be polymerized by heating the mold, and the molded optical composition is placed in a heating device such as an oven. The optical composition may be polymerized by heating. The heating temperature is appropriately selected according to the reaction mechanism using the thermal polymerization initiator and according to the content ratio of the photopolymerization initiator contained therein.
光重合反応による光学用組成物の硬化物の製造と同様に、熱が型成形されている光学用組成物の原料の全体に均一に加えられることがより好ましい。従って、利用される加熱方法は、型成形された光学用組成物を加熱機器中で均一に加熱することが一層好ましい。また、型上に形成する硬化物の厚さを薄くすることで、型を加熱することにより光学用組成物の重合する製造方法でも、光学用組成物を均一に加熱することができる。 Similar to the production of a cured product of an optical composition by a photopolymerization reaction, it is more preferable that heat is uniformly applied to the entire raw material of the optical composition to be molded. Therefore, it is more preferable that the heating method used is to uniformly heat the molded optical composition in the heating device. Further, by reducing the thickness of the cured product formed on the mold, the optical composition can be uniformly heated even in a production method in which the optical composition is polymerized by heating the mold.
図2(b)の光学素子を製造する方法としては、例えば、基板30と基板40との間に、未硬化の本発明の光学用組成物等を流し込み、軽く抑えることで成形を行う。そしてこの状態に保ったまま未硬化の樹脂組成物の光重合を行うことで、硬化物とする。それにより本発明の硬化物が基板30及び基板40に挟まれた光学素子を得ることができる。
As a method for manufacturing the optical element of FIG. 2 (b), for example, an uncured optical composition of the present invention or the like is poured between the substrate 30 and the
また、熱重合法による硬化物の形成を行うこともできる。この場合、全体の温度をより均一とすることが望ましく、光透過性材料の基板上に形成する重合性組成物の硬化物の膜厚を薄くすることが、本発明の光学素子にはより好適なものとなる。 It is also possible to form a cured product by a thermal polymerization method. In this case, it is desirable to make the overall temperature more uniform, and it is more preferable for the optical device of the present invention to reduce the film thickness of the cured product of the polymerizable composition formed on the substrate of the light-transmitting material. It will be something like that.
また形成する硬化物を厚くする場合には、膜厚、樹脂成分の光吸収などを考慮した光の照射量、光の照射強度、光源など、及び加熱温度、加熱時間などを適宜選択することで、硬化物を厚くすることが可能である。 When thickening the cured product to be formed, the film thickness, the amount of light irradiated in consideration of the light absorption of the resin component, the intensity of light irradiation, the light source, etc., and the heating temperature, heating time, etc. can be appropriately selected. , It is possible to thicken the cured product.
一方、本発明の硬化物を上記(C)の態様で用いる場合、該硬化物の成形方法として溶融成形法を用いることができる。溶融成形法を用いることで、低複屈折性、機械強度及び寸法精度等の特性に優れた成形物を得ることができる。溶融成形法としては、プレス成形、押し出し成形、射出成形等が挙げられるが、成形性及び生産性の観点から射出成形が好ましい。 On the other hand, when the cured product of the present invention is used in the embodiment (C) above, a melt molding method can be used as the molding method for the cured product. By using the melt molding method, it is possible to obtain a molded product having excellent characteristics such as low birefringence, mechanical strength and dimensional accuracy. Examples of the melt molding method include press molding, extrusion molding, injection molding and the like, but injection molding is preferable from the viewpoint of moldability and productivity.
また、成形工程における成形条件は、使用目的または成形方法により適宜選択される。射出成形における硬化物の温度は、150℃から400℃の範囲であることが好ましく、200℃から350℃の範囲であることがより好ましく、200℃から330℃の範囲であることが特に好ましい。前記温度範囲で硬化物を成形することにより、成形時に適度な流動性を樹脂に付与して成形物である本発明の光学素子のヒケやひずみの発生を防止することができる。また、前記温度範囲で硬化物を成形することにより、硬化物の熱分解によるシルバーストリークの発生を防止し、さらには、光学素子の黄変を効果的に防止することができる。 Further, the molding conditions in the molding step are appropriately selected depending on the purpose of use or the molding method. The temperature of the cured product in injection molding is preferably in the range of 150 ° C to 400 ° C, more preferably in the range of 200 ° C to 350 ° C, and particularly preferably in the range of 200 ° C to 330 ° C. By molding the cured product in the above temperature range, it is possible to impart appropriate fluidity to the resin during molding and prevent the occurrence of sink marks and strain of the optical element of the present invention which is a molded product. Further, by molding the cured product in the above temperature range, it is possible to prevent the generation of silver streak due to the thermal decomposition of the cured product, and further to effectively prevent the yellowing of the optical element.
(光学機器)
本実施形態の光学機器は、例えば光学レンズを有するカメラ、双眼鏡、望遠鏡などに使用できる。
(Optical equipment)
The optical device of this embodiment can be used, for example, for a camera having an optical lens, binoculars, a telescope, and the like.
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下に説明する実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the present invention is not limited to the examples described below as long as the gist of the present invention is not exceeded.
(化合物A~E)
下記化合物A乃至化合物Eは特開2014-43565号公報及び特開2012-167019号公報を参考にして合成した。
(Compounds A to E)
The following compounds A to E were synthesized with reference to JP-A-2014-43565 and JP-A-2012-1670119.
一例として、化合物Dは下記の合成法で製造した。 As an example, compound D was produced by the following synthetic method.
ジフェニルスルホン-4,4’-ジイルビス(トリフルオロメタンスルホナート)44g、5-ホルミル-2-フランボロン酸30g、炭酸ナトリウム45g、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2’,4’,6’-トリイソプロピルビフェニル1.6g、1,4-ジオキサン400ml、純水200mlの溶液を脱気した後、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム1.0gを添加し80℃で5時間加熱撹拌し後処理することでカップリング体を得た。得られたカップリング体14gのテトラヒドロフラン400ml、メタノール400mlの混合溶液を0℃に冷却し、水素化ホウ素ナトリウム3.2gを少しずつ添加し、5時間かけて24℃まで昇温した。液体クロマトグラフィーで反応の終点を確認後、水を添加して反応を停止させ後処理することで還元体を得た。得られた還元体の水酸基を2-(2-ブロモエトキシ)テトラヒドロ-2H-ピランと水素化ナトリウムで反応後、酸性水溶液で後処理することで化合物Dの前駆体を得た。化合物Dの前駆体5gの酢酸エチル50ml、ピリジン10ml溶液を0℃に冷却し、メタクリル酸無水物5.6gをゆっくり滴下することで化合物Dを合成した。得られた化合物Dは1HNMRによりその構造を確認した。
1H-NMR(CDCl3;TMS):δ 1.92(s、6H)、3.21(t、4H)、4.34(t、4H)、4.58(s、4H)、5.61(s、2H)、6.11(s、2H)、6.70(d、2H)、7.07(d、2H)、7.76-7.78(m、4H)、7.91-7.98(m、4H)
Diphenylsulfone-4,4'-diylbis (trifluoromethanesulfonate) 44g, 5-formyl-2-franboronic acid 30g, sodium carbonate 45g, 2-dicyclohexylphosphino-2', 4', 6'-triisopropylbiphenyl 1 After degassing a solution of .6 g, 1,4-dioxane 400 ml, and pure water 200 ml, 1.0 g of bis (dibenzilidenacetone) palladium is added, and the mixture is heated and stirred at 80 ° C. for 5 hours for post-treatment. Got A mixed solution of 14 g of the obtained coupling body, 400 ml of tetrahydrofuran and 400 ml of methanol, was cooled to 0 ° C., 3.2 g of sodium borohydride was added little by little, and the temperature was raised to 24 ° C. over 5 hours. After confirming the end point of the reaction by liquid chromatography, water was added to stop the reaction and post-treatment was performed to obtain a reduced product. The hydroxyl group of the obtained reduced product was reacted with 2- (2-bromoethoxy) tetrahydro-2H-pyran with sodium hydride and then post-treated with an acidic aqueous solution to obtain a precursor of compound D. A solution of 5 g of the precursor of compound D in 50 ml of ethyl acetate and 10 ml of pyridine was cooled to 0 ° C., and 5.6 g of methacrylic anhydride was slowly added dropwise to synthesize compound D. The structure of the obtained compound D was confirmed by 1 HNMR.
1 1 H-NMR (CDCl3; TMS): δ 1.92 (s, 6H), 3.21 (t, 4H), 4.34 (t, 4H), 4.58 (s, 4H), 5.61 (S, 2H), 6.11 (s, 2H), 6.70 (d, 2H), 7.07 (d, 2H), 7.76-7.78 (m, 4H), 7.91- 7.98 (m, 4H)
また、前記一般式(1)からなる光学用組成物は、必要な材料全てが溶解する溶剤中で混合し、溶剤を減圧留去して製造した。その際、光学用組成物の重合を抑制するため5%の酸素を含んだ気体を液中に通しながら行った。 The optical composition according to the general formula (1) was produced by mixing in a solvent in which all necessary materials were dissolved and distilling off the solvent under reduced pressure. At that time, in order to suppress the polymerization of the optical composition, a gas containing 5% oxygen was passed through the liquid.
(評価サンプルの作製手順)
(1)光学用組成物の調製
一般式(1)で表わされる化合物の含有量が、各実施例または各比較例に示される含有量となるように、それぞれの材料を秤量し混合した。その混合物に対し、0.1質量%の重合禁止剤としての4-メトキシフェノール、1.0質量%の重合開始剤としての1-ヒドロキシ-シクロヘキシルフェニルケトン(IRGACURE 184/BASF社(旧チバ社)製)を秤量した。上記混合物と秤量した化合物とを、一般式(1)の3倍量のアセトンに全ての材料を溶解させて混合した後、アセトンを留去することで光学用組成物を調製した。残留溶剤量を少なくするため溶媒留去の最終工程は5%の酸素を含んだ気体を液中に通しながら80℃で15分間減圧留去した。
(Procedure for preparing evaluation samples)
(1) Preparation of Optical Composition Each material was weighed and mixed so that the content of the compound represented by the general formula (1) was the content shown in each Example or each Comparative Example. For the mixture, 0.1% by mass of 4-methoxyphenol as a polymerization inhibitor and 1.0% by mass of 1-hydroxy-cyclohexylphenyl ketone as a polymerization initiator (IRGACURE 184 / BASF (formerly Ciba)). Made) was weighed. The above mixture and the weighed compound were mixed by dissolving all the materials in 3 times the amount of acetone of the general formula (1), and then the acetone was distilled off to prepare an optical composition. In the final step of distilling off the solvent in order to reduce the amount of residual solvent, a gas containing 5% oxygen was passed through the liquid and distilled off under reduced pressure at 80 ° C. for 15 minutes.
(2)評価用サンプルの作製
(2a)屈折率測定用サンプル
直径30mmの円板型のガラス基板を2枚用意して、測定対象となる重合禁止剤、重合開始剤等を含む前記光学用組成物を、厚さが500μmで均一になるように、スペーサーを設置したガラス基板で挟んだ。サンプルに紫外光を照射することで2枚のガラス基板に挟まっている前記光学用組成物を硬化させ、屈折率測定用サンプルを製造した。
(2) Preparation of evaluation sample (2a) Refractive index measurement sample The optical composition in which two disk-shaped glass substrates having a diameter of 30 mm are prepared and contains a polymerization inhibitor, a polymerization initiator, etc. to be measured. The object was sandwiched between glass substrates on which spacers were installed so that the thickness was uniform at 500 μm. By irradiating the sample with ultraviolet light, the optical composition sandwiched between the two glass substrates was cured to produce a sample for measuring the refractive index.
(2b)透過率測定用サンプル
直径30mmの円板型のガラス基板を4枚用意して、測定対象となる重合禁止剤、重合開始剤等を含む前記光学用組成物を、厚さが500μm及び200μmで均一になるように、スペーサーを設置したガラス基板で挟んだ。それぞれのサンプルに紫外光を照射することで2枚のガラス基板に挟まっている前記光学用組成物を硬化させ、透過率測定用サンプルを製造した。
(2b) Sample for transmittance measurement Four disk-shaped glass substrates having a diameter of 30 mm are prepared, and the optical composition containing a polymerization inhibitor, a polymerization initiator, etc. to be measured has a thickness of 500 μm. It was sandwiched between glass substrates with spacers so that it would be uniform at 200 μm. By irradiating each sample with ultraviolet light, the optical composition sandwiched between the two glass substrates was cured to produce a sample for transmittance measurement.
(2c)密着力測定用サンプル
直径30mm、厚さ1mmの円板型のガラス基板、直径15mm、厚さ5mmの円板型のガラス基板を用意して、測定対象となる重合禁止剤、重合開始剤等を含む前記光学用組成物を、厚さ50μmになるようにスペーサーを設置して前記ガラス基板で挟んだ。そこに紫外光を照射することで2枚のガラス基板に挟まっている前記光学用組成物を硬化させ、密着力測定用サンプルを製造した。
(2c) Sample for adhesion force measurement A disk-shaped glass substrate with a diameter of 30 mm and a thickness of 1 mm and a disk-shaped glass substrate with a diameter of 15 mm and a thickness of 5 mm are prepared, and the polymerization inhibitor to be measured and the polymerization start. The optical composition containing the agent and the like was sandwiched between the glass substrates by installing spacers so as to have a thickness of 50 μm. By irradiating it with ultraviolet light, the optical composition sandwiched between two glass substrates was cured, and a sample for measuring adhesion was produced.
(作製サンプルの評価方法)
(2)測定及び評価
(2a)屈折率、分散特性(アッベ数)、2次分散特性(θg,F)
アッベ屈折計(カルニュー光学工業)を用いて測定し、表には波長587.6nmでの屈折率並びに下記式より算出した分散特性及び2次分散特性を示す。
アッベ数(分散特性) :[νd]=(nd-1)/(nF-nC)
2次分散特性 :[θg,F]=(ng-nF)/(nF-nC)
(Evaluation method of prepared sample)
(2) Measurement and evaluation (2a) Refractive index, dispersion characteristics (Abbe number), secondary dispersion characteristics (θg, F)
Measured using an Abbe refractometer (Carnew Optical Industry), the table shows the refractive index at a wavelength of 587.6 nm, and the dispersion characteristics and secondary dispersion characteristics calculated from the following formula.
Abbe number (dispersion characteristic): [ν d ] = (n d -1) / (n F −n C )
Secondary dispersion characteristics: [θg, F ] = ( ng -nF) / ( nF - nC )
2次分散特性(θg,F)は、下記の基準で評価した。
A:0.75以上(色収差補正効果が非常に高く、また薄膜にしてもその効果を発揮することができるため耐久性の観点においても非常に有用である。)
B:0.68以上0.75未満(色収差補正効果は高いが効果を十分に発揮させるためにはレンズの膜厚を厚くする必要があるため耐久性に注意する必要がある。)
C:0.68未満(膜厚を厚くしても色収差補正効果が低い。)
The secondary dispersion characteristics (θg, F) were evaluated according to the following criteria.
A: 0.75 or more (It is very useful from the viewpoint of durability because it has a very high chromatic aberration correction effect and can exert its effect even with a thin film).
B: 0.68 or more and less than 0.75 (Although the chromatic aberration correction effect is high, it is necessary to pay attention to the durability because it is necessary to increase the film thickness of the lens in order to fully exert the effect).
C: Less than 0.68 (The chromatic aberration correction effect is low even if the film thickness is increased.)
(2b)透過率
日立ハイテクノロジー社製分光光度計U-4000(製品名)を用いて、500μm、200μmのサンプルをそれぞれ測定した。それぞれのデータから500μmの内部透過率を算出し、波長430nmでの透過率を計算した。透過率は、下記の基準で評価した。
A:透過率が98%以上(硝材と組み合わせて使用する光学系において、数多くの機種の光学系に組み込むことが可能である。)
B:透過率が93%以上98%未満(透過率の高い硝材を使用した特定の光学系においてのみ使用可能である。)
C:透過率が93%未満(薄膜化することで特定の光学系においてのみ使用すること可能である。)
(2b) Transmittance Using a spectrophotometer U-4000 (product name) manufactured by Hitachi High-Technology Co., Ltd., samples of 500 μm and 200 μm were measured, respectively. The internal transmittance of 500 μm was calculated from each data, and the transmittance at a wavelength of 430 nm was calculated. The transmittance was evaluated according to the following criteria.
A: Transmittance is 98% or more (in an optical system used in combination with a glass material, it can be incorporated into many types of optical systems).
B: Transmittance is 93% or more and less than 98% (it can be used only in a specific optical system using a glass material having high transmittance).
C: Transmittance is less than 93% (it can be used only in a specific optical system by making it thinner).
(2c)密着力
治具を使用して直径30mmの基板、直径15mmの基板を固定し、インストロンジャパン製の引張試験機5581を用い、0.1mm/minで引張試験を行うことで樹脂層の密着力を測定し、破断時の最大荷重を求めた。密着性は下記の基準で評価した。
A:最大荷重が140N以上(離型力が高い時でもはがれることなく成形することが可能であり、さらに信頼性試験時でもはがれることがほとんどない。)
B:最大荷重が100N以上140N未満(離型力が高い時に稀にはがれることがあるが信頼性試験時でははがれることがほとんどない。)
C:最大荷重が100N未満(離型時にはがれやすく離型剤を使用することが好ましく、信頼性試験でもはがれることがある。)
(2c) Adhesion force A resin layer is formed by fixing a substrate with a diameter of 30 mm and a substrate with a diameter of 15 mm using a jig and performing a tensile test at 0.1 mm / min using a tensile tester 5581 manufactured by Instron Japan. The adhesion force was measured and the maximum load at the time of breakage was determined. Adhesion was evaluated according to the following criteria.
A: The maximum load is 140 N or more (it is possible to mold without peeling even when the mold release force is high, and it hardly peels even during the reliability test).
B: Maximum load is 100N or more and less than 140N (It may rarely peel off when the mold release force is high, but it hardly peels off during the reliability test).
C: Maximum load is less than 100N (It is easy to peel off at the time of mold release, it is preferable to use a mold release agent, and it may peel off even in the reliability test).
(実施例1~7)
表1に記載の添加割合でそれぞれの材料を秤量し、重合開始剤及び重合禁止剤を更に秤量し、上記の方法で調製及び評価を行った。評価結果を表1に示す。
(Examples 1 to 7)
Each material was weighed at the addition ratio shown in Table 1, the polymerization initiator and the polymerization inhibitor were further weighed, and the preparation and evaluation were carried out by the above method. The evaluation results are shown in Table 1.
(比較例1~3)
表1に記載の添加割合でそれぞれの材料を秤量し、重合開始剤及び重合禁止剤を更に秤量し、前記の方法で調製及び評価を行った。評価結果を表1に示す。
(Comparative Examples 1 to 3)
Each material was weighed at the addition ratio shown in Table 1, the polymerization initiator and the polymerization inhibitor were further weighed, and the preparation and evaluation were carried out by the above method. The evaluation results are shown in Table 1.
本発明の光学素子は、レンズ、プリズムに用いることができる。また、本発明の光学機器は、本発明の光学素子を有する望遠鏡、双眼鏡、カメラ等に用いることができる。 The optical element of the present invention can be used for a lens and a prism. Further, the optical device of the present invention can be used for a telescope, binoculars, a camera or the like having the optical element of the present invention.
10 光学部材
20、30、40 基板
10
Claims (12)
(一般式(1)中、R1及びR2は、下記の一般式(2)乃至(5)から選ばれる一つであり、それぞれ同じであっても異なっていても良い。
*は結合手を表す。一般式(2)乃至(5)中、Z1乃至Z4は、水素、炭素、酸素、硫黄、窒素又はハロゲンを結合原子とする分子量1以上200未満の置換基であって、それぞれ同じであっても異なっていても良い。aは1又は2であり、aが2の場合はZ1、Z3、Z4は同じであっても異なっていても良い。bは1乃至3から選ばれるいずれかの整数であり、bが2又は3の場合、Z2は同じであっても異なっていても良い。) A cured product characterized in that the compound represented by the following general formula (1) is polymerized or copolymerized, or the compound represented by the following general formula (1) is dispersed in a polymer material.
(In the general formula (1), R 1 and R 2 are one selected from the following general formulas (2) to (5), and may be the same or different from each other.
* Represents a bond. In the general formulas (2) to (5), Z 1 to Z 4 are substituents having a molecular weight of 1 or more and less than 200 having hydrogen, carbon, oxygen, sulfur, nitrogen or halogen as a bonding atom, and are the same. May be different. a is 1 or 2, and when a is 2, Z 1 , Z 3 , and Z 4 may be the same or different. b is any integer selected from 1 to 3, and when b is 2 or 3, Z 2 may be the same or different. )
(一般式(1)中、R1、R2は、下記の一般式(2)乃至(5)から選ばれるいずれか一つであり、それぞれ同じであっても異なっていても良い。
*は結合手を表す。前記一般式(2)乃至(5)中、Z1乃至Z4は、水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、(メタ)アクリロイルオキシメチル基、2-(メタ)アクリロイルオキシエトキシメチル基、3-(メタ)アクリロイルオキシプロポキシメチル基、3-(メタ)アクリロイルオキシ-2-メチルプロポキシメチル基、3-(メタ)アクリロイルオキシ-2、2-ジメチルプロポキシメチル基、4-(メタ)アクリロイルオキシブトキシメチル基、1-(メタ)アクリロイルオキシエチル基、1-(2-(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)エチル基、1-(3-(メタ)アクリロイルオキシプロポキシ)エチル基、1-(3-(メタ)アクリロイルオキシ-2-メチルプロポキシ)エチル基、1-(4-(メタ)アクリロイルオキシブトキシ)エチル基より選ばれるいずれか一つであって、それぞれ同じであっても異なっていても良い。aは1又は2であり、aが2の場合はZ1、Z3、Z4は同じであっても異なっていても良い。bは1乃至3から選ばれる一つであり、bが2又は3の場合、Z2は同じであっても異なっていても良い。) A compound characterized by being represented by the following general formula (1).
(In the general formula (1), R 1 and R 2 are any one selected from the following general formulas (2) to (5), and may be the same or different from each other.
* Represents a bond. In the general formulas (2) to (5), Z 1 to Z 4 are a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a methylthio group, an ethylthio group, a dimethylamino group, a diethylamino group, (meth). Acryloyloxymethyl group, 2- (meth) acryloyloxyethoxymethyl group, 3- (meth) acryloyloxypropoxymethyl group, 3- (meth) acryloyloxy-2-methylpropoxymethyl group, 3- (meth) acryloyloxy- 2,2-Dimethylpropoxymethyl group, 4- (meth) acryloyloxybutoxymethyl group, 1- (meth) acryloyloxyethyl group, 1- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) ethyl group, 1- (3- (3-) Any one selected from (meth) acryloyloxypropoxy) ethyl group, 1- (3- (meth) acryloyloxy-2-methylpropoxy) ethyl group, 1- (4- (meth) acryloyloxybutoxy) ethyl group. However, they may be the same or different from each other. a is 1 or 2, and when a is 2, Z 1 , Z 3 , and Z 4 may be the same or different. b is one selected from 1 to 3, and when b is 2 or 3, Z 2 may be the same or different. )
前記硬化物を成形する工程と、を有することを特徴とすることを特徴とする光学素子の製造方法。 The step of providing the cured product according to any one of claims 1 to 4 on the substrate or between two substrates.
A method for manufacturing an optical element, which comprises a step of molding the cured product.
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JEON, Soon Ok et al.,New sulfone-based electron-transport materials with high triplet energy for highly efficient blue phosphorescent organic light-emitting diodes ,Journal of Materials Chemistry C: Materials for Optical and Electronic Devices,2014年,2,10129-10137,DOI:10.1039/C4TC01474J |
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