JP7083339B2 - 光学フィルム、偏光板、および画像表示装置 - Google Patents
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Description
1つの実施形態においては、上記基材フィルムが、上記アクリル系樹脂と、上記アクリル系樹脂に分散されたコアシェル型粒子と、を含む。
1つの実施形態においては、上記基材フィルムが、上記アクリル系樹脂100重量部に対して、上記コアシェル型粒子を5重量部~50重量部含有する。
1つの実施形態においては、上記アクリル系樹脂が、グルタルイミド単位、ラクトン環単位、無水マレイン酸単位、マレイミド単位および無水グルタル酸単位からなる群から選択される少なくとも1つを有する。
1つの実施形態においては、上記表面処理層が、上記基材フィルム上に塗布された樹脂組成物の硬化層である。
1つの実施形態においては、上記表面処理層が、ハードコート層、防眩層および反射防止層からなる群から選択される少なくとも1つである。
本発明の別の局面によれば、偏光板が提供される。この偏光板は、偏光子と、上記偏光子の片側に配置された保護層と、を含み、上記保護層が上記光学フィルムである。
本発明の別の局面によれば、画像表示装置が提供される。この画像表示装置は、上記偏光板を備える。
図1は、本発明の1つの実施形態による光学フィルムの概略断面図である。光学フィルム100は、基材フィルム10と、基材フィルム10の片側に形成された表面処理層20と、を含む。基材フィルム10はアクリル系樹脂を含有する延伸フィルムである。基材フィルム10は、所定方向に98mN/minの引張荷重を加えながら24℃から150℃まで5℃/minで昇温するTMA測定において、軟化点に至るまでの最大伸び率が0.40%以上である。基材フィルムの最大伸び率は、必要に応じてTMA測定に適したサイズに裁断し、熱機械分析装置を用いて測定することができる。基材フィルムが長尺状または長方形状である場合、上記所定方向は、代表的には基材フィルムの長手方向および短手方向(長手方向に直交する方向)の少なくともいずれか一方である。基材フィルムが正方形状である場合、上記所定方向は、代表的には、基材フィルムの少なくともいずれかの辺に沿った方向である。1つの実施形態においては、基材フィルム10は、アクリル系樹脂と、アクリル系樹脂に分散されたコアシェル型粒子と、を含む。この場合、基材フィルム10は、好ましくは、アクリル系樹脂100重量部に対して、コアシェル型粒子を5重量部~50重量部含有する。アクリル系樹脂は、好ましくは、グルタルイミド単位、ラクトン環単位、無水マレイン酸単位、マレイミド単位および無水グルタル酸単位からなる群から選択される少なくとも1つを有する。表面処理層20は、代表的には、基材フィルム10上に塗布された樹脂組成物の硬化層である。表面処理層20は、好ましくは、ハードコート層、防眩層および反射防止層からなる群から選択される少なくとも1つである。上記光学フィルムによれば、表面処理層20を形成する組成物の基材フィルム10への浸透が促進され得る。その結果、アンカリング効果(アンカー効果)によって、基材フィルム10と表面処理層20との密着性が向上し得る。特に、基材フィルム10上に樹脂組成物を塗布し、樹脂組成物を乾燥および硬化させることにより表面処理層20を形成する場合に、上記樹脂組成物を低温乾燥させた場合であっても基材フィルム10と表面処理層20との十分な密着性を実現し得る。したがって、樹脂組成物を乾燥する際の熱によって基材フィルムにシワが発生することを抑制し得る。
B-1.基材フィルムの特性
基材フィルムは、上記のとおり、アクリル系樹脂を含有する延伸フィルムであり、所定方向に98mN/minの引張荷重を加えながら24℃から150℃まで5℃/minで昇温するTMA測定において、軟化点に至るまでの最大伸び率が0.40%以上である。上記最大伸び率は、好ましくは0.50%以上であり、より好ましくは0.60%以上である。一方で、上記最大伸び率の上限は、好ましくは2.0%である。上記最大伸び率が高すぎると、光学フィルムを偏光子に貼り合わせて偏光子の保護層として用いた場合に、偏光子との収縮率の差に起因して偏光子にクラックが生じる場合がある。1つの実施形態においては、基材フィルムは、アクリル系樹脂と、アクリル系樹脂に分散されたコアシェル型粒子と、を含む。基材フィルムの厚みは、好ましくは5μm~150μmであり、より好ましくは10μm~100μmである。
YI=[(1.28X-1.06Z)/Y]×100
B-2-1.アクリル系樹脂の構成
アクリル系樹脂としては、任意の適切なアクリル系樹脂が採用され得る。アクリル系樹脂は、代表的には、モノマー単位として、アルキル(メタ)アクリレートを主成分として含有する。本明細書において「(メタ)アクリル」とは、アクリルおよび/またはメタクリルを意味する。アクリル系樹脂の主骨格を構成するアルキル(メタ)アクリレートとしては、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基の炭素数1~18のものを例示できる。これらは単独であるいは組み合わせて使用することができる。さらに、アクリル系樹脂には、任意の適切な共重合モノマーを共重合により導入してもよい。このような共重合モノマーの種類、数、共重合比等は目的に応じて適切に設定され得る。アクリル系樹脂の主骨格の構成成分(モノマー単位)については、一般式(2)を参照しながら後述する。
イミド化率Im(%)={B/(A+B)}×100
上記アクリル系樹脂は、例えば、以下の方法で製造することができる。この方法は、(I)一般式(2)で表されるアルキル(メタ)アクリレート単位に対応するアルキル(メタ)アクリレート単量体と、不飽和カルボン酸単量体および/またはその前駆体単量体と、を共重合して共重合体(a)を得ること;および、(II)該共重合体(a)をイミド化剤にて処理することにより、当該共重合体(a)中のアルキル(メタ)アクリレート単量体単位と不飽和カルボン酸単量体および/またはその前駆体単量体単位の分子内イミド化反応を行い、一般式(1)で表されるグルタルイミド単位を共重合体中に導入すること;を含む。
本発明の実施形態においては、上記アクリル系樹脂と他の樹脂とを併用してもよい。すなわち、アクリル系樹脂を構成するモノマー成分と他の樹脂を構成するモノマー成分とを共重合し、当該共重合体をB-4項で後述するフィルム形成に供してもよく;アクリル系樹脂と他の樹脂とのブレンドをフィルム形成に供してもよい。他の樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリアセタール、ポリイミド、ポリエーテルイミドなどの他の熱可塑性樹脂、フェノール系樹脂、メラミン系樹脂、ポリエステル系樹脂、シリコーン系樹脂、エポキシ系樹脂などの熱硬化性樹脂が挙げられる。併用する樹脂の種類および配合量は、目的および得られるフィルムに所望される特性等に応じて適切に設定され得る。例えば、スチレン系樹脂(好ましくは、アクリロニトリル-スチレン共重合体)は、位相差制御剤として併用され得る。
上記基材フィルムにおいて、コアシェル型粒子は、アクリル系樹脂100重量部に対して、好ましくは5重量部~50重量部、より好ましくは5重量部~40重量部配合される。これにより、基材フィルム上に表面処理層を形成した場合に、表面処理層を形成する組成物の基材フィルムへの浸透がさらに促進され得、基材フィルムと表面処理層との密着性が高い光学フィルムが得られ得る。
本発明の実施形態による基材フィルムは、代表的には、上記アクリル系樹脂(その他の樹脂を併用する場合には、当該その他の樹脂とのブレンド)およびコアシェル型粒子を含む組成物をフィルム形成することを含む方法により形成され得る。さらに、基材フィルムを形成する方法は、上記フィルムを延伸することを含み得る。
表面処理層は、光学フィルムに求められる機能に応じて基材フィルムの片側に形成された任意の適切な機能層である。表面処理層の具体例としては、ハードコート層、防眩層、および反射防止層等が挙げられる。表面処理層の厚みは、好ましくは3μm~20μmであり、より好ましくは5μm~15μmである。
ハードコート層は、基材フィルムの表面に耐擦傷性および耐薬品性等を付与する層である。ハードコート層は、鉛筆硬度試験で好ましくはH以上、より好ましくは3H以上の硬度を有する。鉛筆硬度試験は、JIS K 5400に準じて測定され得る。ハードコート層形成用の樹脂組成物は、例えば、熱、光(紫外線等)または電子線等により硬化し得る硬化性化合物を含み得る。ハードコート層およびハードコート層形成用の樹脂組成物の詳細は、例えば特開2014-240955号公報に記載されている。当該公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。
防眩層は、光を散乱して反射させることで、外光の映り込みを防止するための層である。防眩層形成用の樹脂組成物は、例えば、熱、光(紫外線等)または電子線等により硬化し得る硬化性化合物を含み得る。防眩層は、代表的には、表面に微細凹凸形状を有する。このような微細凹凸形状を形成する方法としては、例えば、上記硬化性化合物に微粒子を含有させる方法が挙げられる。防眩層および防眩層形成用の樹脂組成物の詳細は、例えば特開2017-32711号公報に記載されている。当該公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。
反射防止層は、外光の反射を防止するための層である。反射防止層形成用の樹脂組成物は、例えば、熱、光(紫外線等)または電子線等により硬化し得る硬化性化合物を含み得る。反射防止層は、1層のみからなる単層であっても良いし、2層以上からなる複数層であっても良い。反射防止層および反射防止層形成用の樹脂組成物の詳細は、例えば特開2012-155050号公報に記載されている。当該公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。
上記AからC項に記載の光学フィルムは、偏光板に適用され得る。したがって、本発明は、そのような光学フィルムを用いた偏光板も包含する。代表的には、偏光板は、偏光子と、偏光子の片側に配置された本発明の光学フィルムと、を有する。光学フィルムは、その基材フィルム側が偏光子と貼り合わせられ、偏光子の保護層として機能し得る。
上記D項に記載の偏光板は、画像表示装置に適用され得る。したがって、本発明は、そのような偏光板を用いた画像表示装置も包含する。画像表示装置の代表例としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネセンス(EL)表示装置が挙げられる。画像表示装置は業界で周知の構成が採用されるので、詳細な説明は省略する。
(1)基材フィルムの最大伸び率(TMA測定)
基材フィルムを幅4mm×長さ20mmのサイズに裁断して、初期長さが20mmの測定サンプルとした。なお、基材フィルムの長手方向が長さ方向となるように裁断して得られる測定サンプルAと、基材フィルムの長手方向に直交する方向が長さ方向となるように裁断して得られる測定サンプルBとを用意した。
測定サンプルAおよび測定サンプルBのそれぞれについて、熱機械分析装置(日立ハイテクサイエンス社製、型番「TMA7100」)を用いて、測定サンプルを測定冶具に取り付け、測定サンプルの長さ方向に98mN/minの引張荷重を加えながら24℃から150℃まで5℃/minで昇温したときの、軟化点に至るまでの最大伸び率を測定した。
なお、最大伸び率は以下の式を用いて算出した。
最大伸び率(%)=(最大伸び時のサンプル長-初期サンプル長)/初期サンプル長×100
測定サンプルAの最大伸び率は、基材フィルムの長手方向の最大伸び率に対応し、測定サンプルBの最大伸び率は、基材フィルムの短手方向(長手方向に直交する方向)の最大伸び率に対応する。
(2)密着性評価
表面処理層の基材フィルムに対する密着性を、JIS K-5400の碁盤目剥離試験(碁盤目数:100個)に準じて評価し、以下の指標により判定した。
〇:碁盤目剥離数が0個
×:碁盤目剥離数が1個以上
表面処理層形成用の樹脂組成物として、以下の組成物A~Cを用意した。
(1)組成物A
4-HBA(大阪有機化学工業(株)製)16重量部、NKオリゴUA-53H-80BK(新中村化学工業(株)製)32重量部、ビスコート#300(大阪有機化学工業(株)製)48重量部、A-GLY-9E(新中村化学工業(株)製)4重量部、IRGACURE907(BASF製)2.4重量部を混合し、それぞれMIBK:PGM=50:50の溶媒で固形分濃度42.0%となるよう希釈して得られるUV硬化性樹脂。
(2)組成物B
ビスコート#300(大阪有機化学工業(株)製)100重量部、IRGACURE907(BASF製)2.4重量部を混合し、MIBK:PGM=50:50の溶媒で固形分濃度42.0%となるよう希釈して得られるUV硬化性樹脂。
(3)組成物C
4-HBA(大阪有機化学工業(株)製)20重量部、NKオリゴUA-53H-80BK(新中村化学工業(株)製)40重量部、ビスコート#300(大阪有機化学工業(株)製)60重量部、IRGACURE907(BASF製)5重量部、テクポリマーSSX-103DXE(積水化成品工業(株)製)0.5重量部を混合し、それぞれトルエン:MEK=70:30の溶媒で固形分濃度40.0%となるよう希釈して得られるUV硬化性樹脂。
1.基材フィルムの作製
MS樹脂(MS-200;メタクリル酸メチル/スチレン(モル比)=80/20の共重合体,新日鐵化学(株)製)をモノメチルアミンでイミド化(イミド化率:5%)した。得られたイミド化MS樹脂は、一般式(1)で表されるグルタルイミド単位(R1およびR3はメチル基、R2は水素原子である)、一般式(2)で表される(メタ)アクリル酸エステル単位(R4およびR5はメチル基である)、およびスチレン単位を有していた。なお、上記イミド化には、口径15mmの噛合い型同方向回転式二軸押出機を用いた。押出機の各温調ゾーンの設定温度を230℃、スクリュー回転数150rpmとし、MS樹脂を2.0kg/hrで供給し、モノメチルアミンの供給量はMS樹脂100重量部に対して2重量部とした。ホッパーからMS樹脂を投入し、ニーディングブロックによって樹脂を溶融および充満させた後、ノズルからモノメチルアミンを注入した。反応ゾーンの末端にはシールリングを入れて樹脂を充満させた。反応後の副生成物および過剰のメチルアミンを、ベント口の圧力を-0.08MPaに減圧して脱揮した。押出機出口に設けられたダイスからストランドとして出てきた樹脂は、水槽で冷却した後、ペレタイザでペレット化した。得られたイミド化MS樹脂のイミド化率は5.0%、酸価は0.5mmol/gであった。
上記で得られたイミド化MS樹脂100重量部とコアシェル型粒子10重量部とを単軸押出機に投入して溶融混合し、Tダイを通してフィルム形成することにより押出フィルムを得た。得られた押出フィルムを、延伸温度160℃で長さ方向および幅方向にそれぞれ2倍に同時二軸延伸した。延伸速度は、長さ方向および幅方向ともに10%/秒であった。
このようにして、基材フィルムAを作製した。得られた基材フィルムAの厚みは30μmであった。基材フィルムAの長手方向の最大伸び率および短手方向の最大伸び率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムAの片側に、硬化後の厚みが6μmとなるように組成物Aを塗布して塗布層を形成した。次いで、上記塗布層を、70℃で乾燥させるとともにUV硬化させることにより、基材フィルムAの片側にハードコート層が形成された光学フィルム1を得た。上記光学フィルム1を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
上記基材フィルムAの片側に、組成物Bを塗布して乾燥および硬化させることによりハードコート層を形成したこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムAの片側にハードコート層が形成された光学フィルム2を得た。上記光学フィルム2を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
上記基材フィルムAの片側に、組成物Cを塗布して硬化させることにより防眩層を形成したこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムAの片側に防眩層が形成された光学フィルム3を得た。上記光学フィルム3を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
1.基材フィルムの作製
コアシェル型粒子の配合量を15重量部としたこと、および押出フィルムの延伸温度を152℃としたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムBを作製した。基材フィルムBの長手方向の最大伸び率および短手方向の最大伸び率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムBを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムBの片側にハードコート層が形成された光学フィルム4を得た。上記光学フィルム4を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
1.基材フィルムの作製
上記で得られたイミド化MS樹脂100重量部とコアシェル型粒子10重量部とを単軸押出機に投入して溶融混合し、Tダイを通してフィルム形成することにより押出フィルムを得た。得られた押出フィルムを、延伸温度160℃で長さ方向および幅方向にそれぞれ2倍に同時二軸延伸した。延伸速度は、長さ方向および幅方向ともに10%/秒であった。
このようにして、基材フィルムCを作製した。得られた基材フィルムCの厚みは40μmであった。基材フィルムCの長手方向の最大伸び率および短手方向の最大伸び率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムCを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムCの片側にハードコート層が形成された光学フィルム5を得た。上記光学フィルム5を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
1.基材フィルムの作製
上記で得られたイミド化MS樹脂100重量部とコアシェル型粒子10重量部とを単軸押出機に投入して溶融混合し、Tダイを通してフィルム形成することにより押出フィルムを得た。得られた押出フィルムを、延伸温度160℃で長さ方向および幅方向にそれぞれ2倍に同時二軸延伸した。延伸速度は、長さ方向および幅方向ともに10%/秒であった。
このようにして、基材フィルムDを作製した。得られた基材フィルムDの厚みは35μmであった。基材フィルムDの長手方向の最大伸び率および短手方向の最大伸び率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムDを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムDの片側にハードコート層が形成された光学フィルム6を得た。上記光学フィルム6を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
1.基材フィルムの作製
押出フィルムの延伸温度を150℃としたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムEを作製した。基材フィルムEの長手方向の最大伸び率および短手方向の最大伸び率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムEを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムEの片側にハードコート層が形成された光学フィルム7を得た。上記光学フィルム7を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
1.基材フィルムの作製
コアシェル型粒子の配合量を23重量部としたこと、および押出フィルムの延伸温度を152℃としたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムFを作製した。基材フィルムFの長手方向の最大伸び率および短手方向の最大伸び率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムFを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムFの片側にハードコート層が形成された光学フィルム8を得た。上記光学フィルム8を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
1.基材フィルムの作製
コアシェル型粒子を配合しなかったこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムGを作製した。基材フィルムGの長手方向の最大伸び率および短手方向の最大伸び率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムGを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムGの片側にハードコート層が形成された光学フィルム9を得た。上記光学フィルム9を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
1.基材フィルムの作製
押出フィルムの延伸温度を140℃としたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムHを作製した。基材フィルムHの長手方向の最大伸び率および短手方向の最大伸び率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムHを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムHの片側にハードコート層が形成された光学フィルム10を得た。上記光学フィルム10を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
1.基材フィルムの作製
コアシェル型粒子の配合量を23重量部としたこと、および押出フィルムの延伸温度を137℃としたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムIを作製した。基材フィルムIの長手方向の最大伸び率および短手方向の最大伸び率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムIを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムIの片側にハードコート層が形成された光学フィルム11を得た。上記光学フィルム11を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
1.基材フィルムの作製
コアシェル型粒子を配合しなかったこと、および押出フィルムの延伸温度を155℃としたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムJを作製した。基材フィルムJの長手方向の最大伸び率および短手方向の最大伸び率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムJを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムJの片側にハードコート層が形成された光学フィルム12を得た。上記光学フィルム12を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
1.基材フィルムの作製
コアシェル型粒子の配合量を5重量部としたこと、および押出フィルムの延伸温度を140℃としたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムKを作製した。基材フィルムKの長手方向の最大伸び率および短手方向の最大伸び率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムKを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムKの片側にハードコート層が形成された光学フィルム13を得た。上記光学フィルム13を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
1.基材フィルムの作製
コアシェル型粒子を配合しなかったこと、および押出フィルムの延伸温度を150℃としたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムLを作製した。基材フィルムLの長手方向の最大伸び率および短手方向の最大伸び率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムLを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムLの片側にハードコート層が形成された光学フィルム14を得た。上記光学フィルム14を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
1.基材フィルムの作製
コアシェル型粒子の配合量を3重量部としたこと、および押出フィルムの延伸温度を140℃としたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムMを作製した。基材フィルムMの長手方向の最大伸び率および短手方向の最大伸び率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムMを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムMの片側にハードコート層が形成された光学フィルム15を得た。上記光学フィルム15を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
1.基材フィルムの作製
コアシェル型粒子を配合しなかったこと、および押出フィルムの延伸温度を140℃としたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムNを作製した。基材フィルムNの長手方向の最大伸び率および短手方向の最大伸び率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムNを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムNの片側にハードコート層が形成された光学フィルム16を得た。上記光学フィルム16を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
上記基材フィルムNの片側に、組成物Bを塗布して乾燥および硬化させることによりハードコート層を形成したこと以外は比較例2と同様にして、基材フィルムNの片側にハードコート層が形成された光学フィルム17を得た。上記光学フィルム17を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
上記基材フィルムNの片側に、組成物Cを塗布して乾燥および硬化させることにより防眩層を形成したこと以外は比較例2と同様にして、基材フィルムNの片側に防眩層が形成された光学フィルム18を得た。上記光学フィルム18を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
1.基材フィルムの作製
コアシェル型粒子を配合しなかったこと、および押出フィルムの延伸温度を130℃としたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムOを作製した。基材フィルムOの長手方向の最大伸び率および短手方向の最大伸び率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムOを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムOの片側にハードコート層が形成された光学フィルム19を得た。上記光学フィルム19を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
20 表面処理層
100 光学フィルム
Claims (7)
- アクリル系樹脂を含有する延伸フィルムである基材フィルムと、該基材フィルムの片側に形成された表面処理層とを含む光学フィルムであり、
前記光学フィルム中の基材フィルムは、98mN/minの引張荷重を加えながら24℃から150℃まで5℃/minで昇温するTMA測定において、軟化点に至るまでの最大伸び率が0.40%以上であり、
前記表面処理層が、前記基材フィルム上に塗布された樹脂組成物の硬化層である、光学フィルム。 - 前記基材フィルムが、前記アクリル系樹脂と、該アクリル系樹脂に分散されたコアシェル型粒子と、を含む、請求項1に記載の光学フィルム。
- 前記基材フィルムが、前記アクリル系樹脂100重量部に対して、前記コアシェル型粒子を5重量部~50重量部含有する、請求項2に記載の光学フィルム。
- 前記アクリル系樹脂が、グルタルイミド単位、ラクトン環単位、無水マレイン酸単位、マレイミド単位および無水グルタル酸単位からなる群から選択される少なくとも1つを有する、請求項1から3のいずれかに記載の光学フィルム。
- 前記表面処理層が、ハードコート層、防眩層および反射防止層からなる群から選択される少なくとも1つである、請求項1から4のいずれかに記載の光学フィルム。
- 偏光子と、該偏光子の片側に配置された保護層と、を含み、
前記保護層が請求項1から5のいずれかに記載の光学フィルムである、偏光板。 - 請求項6に記載の偏光板を備える、画像表示装置。
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