JP7078509B2 - Complex, light emitting device and method for manufacturing complex - Google Patents

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Description

本発明は、複合体、発光装置および複合体の製造方法に関する。 The present invention relates to a complex, a light emitting device and a method for producing the complex.

近年、LEDなどの半導体発光素子と、当該半導体発光素子からの光の一部を吸収し、吸収した光を長波長の波長変換光に変換して発光する蛍光体とを組み合わせた発光装置の開発が進められている。 In recent years, the development of a light emitting device that combines a semiconductor light emitting element such as an LED and a phosphor that absorbs a part of the light from the semiconductor light emitting element and converts the absorbed light into long wavelength wavelength conversion light to emit light. Is underway.

特許文献1には、半導体レーザーから発せられる励起光を蛍光に変換する蛍光体を含む波長変換部材が記載されている。特許文献1では、当該蛍光体を封止する封止材料としてガラスを用いる技術が開示されている。 Patent Document 1 describes a wavelength conversion member including a phosphor that converts excitation light emitted from a semiconductor laser into fluorescence. Patent Document 1 discloses a technique of using glass as a sealing material for sealing the phosphor.

特開2015-224299号公報JP-A-2015-224299

半導体発光素子について、さらなる小型化、高出力化が要求される一方、蛍光体と封止材料とを含む複合体については、さらなる波長変換効率の向上が求められている。本発明者は、複合体の波長変換効率を向上させるための要因を鋭意検討したところ、複合体中の封止材の結晶性が複合体の波長変換効率と密接な関係になることを見出した。特許文献1では、波長変換効率の向上に関して、蛍光体粒子をα型サイアロンを含む被覆層によって被覆する技術を開示しているが、封止材の結晶性が波長変換効率に与える影響については触れておらず、複合体の波長変換効率の向上には開発の余地が残されている。
そこで、本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、複合体の波長変換効率を向上させる技術を提供する。
While further miniaturization and higher output are required for semiconductor light emitting devices, further improvement in wavelength conversion efficiency is required for a complex containing a phosphor and a sealing material. The present inventor diligently studied the factors for improving the wavelength conversion efficiency of the complex, and found that the crystallinity of the encapsulant in the complex is closely related to the wavelength conversion efficiency of the complex. .. Patent Document 1 discloses a technique of coating phosphor particles with a coating layer containing α-type sialon for improving the wavelength conversion efficiency, but mentions the influence of the crystallinity of the encapsulant on the wavelength conversion efficiency. There is still room for development in improving the wavelength conversion efficiency of the composite.
Therefore, the present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a technique for improving the wavelength conversion efficiency of a complex.

本発明によれば、Eu元素を含有するα型サイアロン蛍光体と、前記α型サイアロン蛍光体を封止する封止材と、を含む複合体であって、前記封止材は、二酸化ケイ素を主成分として構成され、前記二酸化ケイ素の少なくとも一部が結晶化している複合体が提供される。 According to the present invention, the composite comprises an α-type sialon phosphor containing an Eu element and a sealing material for sealing the α-type sialon phosphor, wherein the sealing material contains silicon dioxide. Provided is a complex composed as a main component and in which at least a part of the silicon dioxide is crystallized.

また、本発明によれば、励起光を発する発光素子と、前記励起光の波長を変換する、上述の複合体と、を有する発光装置が提供される。 Further, according to the present invention, there is provided a light emitting device having a light emitting element that emits excitation light and the above-mentioned composite that converts the wavelength of the excitation light.

また、本発明によれば、二酸化ケイ素粉末と、発光中心として少なくともEu元素を含有するα型サイアロン蛍光体粉末とを混合する工程と、前記二酸化ケイ素粉末と前記α型サイアロン蛍光体粉末との混合物を1300℃以上1450℃以下の温度で加熱し、二酸化ケイ素の少なくとも一部に結晶領域を形成する工程とを有する、複合体の製造方法が提供される。 Further, according to the present invention, the step of mixing the silicon dioxide powder and the α-type sialon phosphor powder containing at least Eu element as a light emitting center, and the mixture of the silicon dioxide powder and the α-type sialon phosphor powder. A method for producing a composite is provided, which comprises a step of heating the silicon dioxide at a temperature of 1300 ° C. or higher and 1450 ° C. or lower to form a crystal region in at least a part of silicon dioxide.

本発明によれば、蛍光体と封止材とを含む複合体において、波長変換効率を向上させる技術を提供することができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide a technique for improving the wavelength conversion efficiency in a complex containing a phosphor and a sealing material.

実施形態に係る発光装置の構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the light emitting device which concerns on embodiment. 複合体の発光スペクトルを測定するための装置の概略図である。It is a schematic diagram of the apparatus for measuring the emission spectrum of a complex. 実施例1および比較例1の複合体で得られた発光スペクトルである。It is an emission spectrum obtained by the complex of Example 1 and Comparative Example 1.

以下、本発明の実施形態について、詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

(複合体)
実施形態に係る複合体は、Eu元素を含有するα型サイアロン蛍光体と、当該α型サイアロン蛍光体を封止する封止材と、を含む。以下、複合体を構成する各成分について説明する。
(Complex)
The complex according to the embodiment includes an α-type sialone phosphor containing an Eu element and a sealing material for sealing the α-type sialon phosphor. Hereinafter, each component constituting the complex will be described.

(α型サイアロン蛍光体)
本実施形態のα型サイアロン蛍光体は、一般式:(M)(Eu)(Si)12-(m+n)(Al)m+n(O)(N)16-n(ただし、MはLi、Mg、Ca、Y及びランタニド元素(LaとCeを除く)からなる群から選ばれる少なくともCaを含む1種以上の元素)で示されるEu元素を含有するα型サイアロン蛍光体である。
(Α-type Sialon phosphor)
The α-type sialon phosphor of the present embodiment has a general formula: (M) x (Eu) y (Si) 12- (m + n) (Al) m + n (O) n (N) 16-n (where M is Li). , Mg, Ca, Y and an α-type sialone phosphor containing an Eu element represented by at least one element containing Ca selected from the group consisting of lanthanide elements (excluding La and Ce).

α型サイアロンの固溶組成は、上記一般式におけるxとy及びそれに付随するSi/Al比やO/N比により決まるmとnで表され、Mの価数をaとしたとき、ax+2y=mであり、x+y≦2、0<y<0.5であり、0.3≦m<4.5、0<n<2.25である。特にMとして、Caを使用すると、幅広い組成範囲でα型サイアロンが安定化し、その一部を発光中心となるEuで置換することにより、紫外から青色の幅広い波長域の光で励起され、黄から橙色の可視発光を示す蛍光体が得られる。 The solid solution composition of α-type sialon is represented by m and n determined by x and y in the above general formula and the Si / Al ratio and O / N ratio associated therewith, and when the valence of M is a, ax + 2y = m, x + y ≦ 2, 0 <y <0.5, 0.3 ≦ m <4.5, 0 <n <2.25. In particular, when Ca is used as M, α-type sialon is stabilized in a wide composition range, and by substituting a part of it with Eu, which is the emission center, it is excited by light in a wide wavelength range from ultraviolet to blue, and from yellow. A phosphor exhibiting orange visible light is obtained.

一般に、α型サイアロンは、当該α型サイアロンとは異なる第二結晶相や不可避的に存在する非晶質相のため、組成分析等により固溶組成を厳密に規定することができない。α型サイアロンの結晶相としては、α型サイアロン単相が好ましく、他の結晶相としてβ型サイアロン、窒化アルミニウム又はそのポリタイポイド等を含んでいてもよい。 In general, since α-type sialon has a second crystal phase different from that of α-type sialon or an amorphous phase that is inevitably present, the solid solution composition cannot be strictly defined by composition analysis or the like. The crystal phase of the α-type sialon is preferably an α-type sialon single phase, and other crystal phases may include β-type sialon, aluminum nitride, or a polytypoid thereof.

α型サイアロン蛍光体の製造方法としては、窒化ケイ素、窒化アルミニウム及び侵入固溶元素の化合物からなる混合粉末を高温の窒素雰囲気中で加熱して反応させる方法がある。加熱工程で構成成分の一部が液相を形成し、この液相に物質が移動することにより、α型サイアロン固溶体が生成する。合成後のα型サイアロン蛍光体は複数の等軸状の一次粒子が焼結して塊状の二次粒子を形成する。本実施形態における一次粒子とは、粒子内の結晶方位が同一であり、単独で存在することができる最小粒子をいう。 As a method for producing an α-type sialon phosphor, there is a method in which a mixed powder composed of a compound of silicon nitride, aluminum nitride and an infiltrated solid solution element is heated and reacted in a high temperature nitrogen atmosphere. In the heating step, some of the constituents form a liquid phase, and the substance moves to this liquid phase to form an α-type sialon solid solution. In the α-type sialon phosphor after synthesis, a plurality of equiaxed primary particles are sintered to form massive secondary particles. The primary particles in the present embodiment refer to the smallest particles having the same crystal orientation in the particles and being able to exist independently.

α型サイアロン蛍光体の平均粒径の下限は、5μm以上が好ましく、10μm以上がより好ましい。また、α型サイアロン蛍光体の平均粒径の上限は、30μm以下が好ましく、20μm以下がより好ましい。α型サイアロン蛍光体の平均粒径は上記二次粒子における寸法である。α型サイアロン蛍光体の平均粒径を5μm以上とすることにより、複合体の透明性をより高めることができる。一方、α型サイアロン蛍光体の平均粒径を30μm以下とすることにより、ダイサー等で複合体を切断加工する際に、チッピングが生じることを抑制することができる。 The lower limit of the average particle size of the α-type sialon phosphor is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more. The upper limit of the average particle size of the α-type Sialon phosphor is preferably 30 μm or less, more preferably 20 μm or less. The average particle size of the α-type Sialon phosphor is the dimension of the secondary particles. By setting the average particle size of the α-type Sialon phosphor to 5 μm or more, the transparency of the complex can be further enhanced. On the other hand, by setting the average particle size of the α-type Sialon phosphor to 30 μm or less, it is possible to suppress the occurrence of chipping when the complex is cut and processed with a dicer or the like.

ここで、α型サイアロン蛍光体の平均粒径とは、レーザー回析散乱式粒度分布測定法(ベックマンコールター社製、LS13-320)により測定して得られる体積基準粒度分布において、小粒径側からの通過分積算(積算通過分率)50%の粒子径をいう。 Here, the average particle size of the α-type Sialon phosphor is the small particle size side in the volume-based particle size distribution obtained by measuring by the laser diffraction scattering type particle size distribution measurement method (LS13-320 manufactured by Beckman Coulter). It means the particle size of 50% of the accumulated passage amount (integrated passage ratio).

複合体中のα型サイアロン蛍光体の含有率の下限は、14質量%以上が好ましく、20質量%以上がより好ましい。また、複合体中のα型サイアロン蛍光体の含有率の上限は、60質量%以下が好ましく、50質量%以下がより好ましい。α型サイアロン蛍光体の含有割合を14質量%以上とすることで、複合体の波長変換効率をより一層高めることができる。一方、α型サイアロン蛍光体の含有割合を60質量%以下とすることにより、複合体の透明性をより高めつつ、波長変換効率を向上させることができる。 The lower limit of the content of the α-type sialon phosphor in the complex is preferably 14% by mass or more, more preferably 20% by mass or more. The upper limit of the content of the α-type sialon phosphor in the complex is preferably 60% by mass or less, more preferably 50% by mass or less. By setting the content ratio of the α-type sialon phosphor to 14% by mass or more, the wavelength conversion efficiency of the complex can be further improved. On the other hand, by setting the content ratio of the α-type sialon phosphor to 60% by mass or less, it is possible to improve the wavelength conversion efficiency while further increasing the transparency of the complex.

(封止材)
本実施形態の封止材は、二酸化ケイ素を主成分として構成される。ここで、二酸化ケイ素を主成分とすることは、封止材全体中に、二酸化ケイ素を90質量%以上含有することをいう。本実施形態の封止材を構成する二酸化ケイ素は、少なくとも一部が結晶化している。二酸化ケイ素の結晶化度は、後述するX線回折により評価することができる。
(Encapsulant)
The encapsulant of the present embodiment is composed mainly of silicon dioxide. Here, the fact that silicon dioxide is the main component means that the entire encapsulant contains 90% by mass or more of silicon dioxide. At least a part of silicon dioxide constituting the sealing material of the present embodiment is crystallized. The crystallinity of silicon dioxide can be evaluated by X-ray diffraction described later.

二酸化ケイ素が結晶領域を有することにより、LEDから発せられた光が散乱され、α型サイアロン蛍光体に吸収されやすくなる。言い換えると、二酸化ケイ素の結晶領域により、複合体における光の抜けが抑制される。この結果、α型サイアロン蛍光体に入射する光量が増大し、ひいては、複合体の波長変換効率を向上させることができる。 Since silicon dioxide has a crystalline region, the light emitted from the LED is scattered and easily absorbed by the α-type sialon phosphor. In other words, the crystalline region of silicon dioxide suppresses the escape of light in the complex. As a result, the amount of light incident on the α-type Sialon phosphor increases, and the wavelength conversion efficiency of the complex can be improved.

[二酸化ケイ素の結晶化度の評価]
二酸化ケイ素の結晶化度は、X線回折により評価することができる。二酸化ケイ素が結晶領域を有する場合には、CuKα線(1.54184Å)を用いて測定された複合体の粉末X線回折パターンにおいて、2θが30°以上40°以下の範囲に最強ピークを有するとともに、2θが21.7°以上22.7°以下の範囲、および2θが26.5°以上27.5°以下の範囲にそれぞれ回折ピークが現れる。当該回折ピークを確認することで、二酸化ケイ素に結晶領域が存在することを確かめることができる。
[Evaluation of crystallinity of silicon dioxide]
The crystallinity of silicon dioxide can be evaluated by X-ray diffraction. When silicon dioxide has a crystalline region, 2θ has the strongest peak in the range of 30 ° or more and 40 ° or less in the powder X-ray diffraction pattern of the composite measured using CuKα ray (1.54184 Å). Diffraction peaks appear in the range where 2θ is 21.7 ° or more and 22.7 ° or less, and 2θ is 26.5 ° or more and 27.5 ° or less. By confirming the diffraction peak, it can be confirmed that a crystal region exists in silicon dioxide.

2θが21.7°以上22.7°以下の範囲、および2θが26.5°以上27.5°以下の範囲にそれぞれ現れる回折ピークの強度は所定値以上であることが好ましい。 It is preferable that the intensity of the diffraction peak appearing in the range where 2θ is 21.7 ° or more and 22.7 ° or less and 2θ is 26.5 ° or more and 27.5 ° or less is a predetermined value or more.

具体的には、CuKα線(1.54184Å)を用いて測定された複合体の粉末X線回折パターンにおいて、2θが30°以上40°以下の範囲に最強ピークを有し、そのピーク強度を100%とした場合に、2θが21.7°以上22.7°以下の範囲に、相対強度1.2%以上の回折ピークを有することが好ましく、相対強度1.5%以上の回折ピークを有することがより好ましい。2θが21.7°以上22.7°以下の範囲における回折ピークの相対強度が1.2%以上である場合に、二酸化ケイ素中の結晶領域を、複合体の波長変換効率をより一層向上させるのに十分な領域とすることができる。 Specifically, in the powder X-ray diffraction pattern of the complex measured using CuKα ray (1.54184 Å), 2θ has the strongest peak in the range of 30 ° or more and 40 ° or less, and the peak intensity is 100. %, It is preferable that 2θ has a diffraction peak with a relative intensity of 1.2% or more in a range of 21.7 ° or more and 22.7 ° or less, and has a diffraction peak with a relative intensity of 1.5% or more. Is more preferable. When the relative intensity of the diffraction peak in the range where 2θ is 21.7 ° or more and 22.7 ° or less is 1.2% or more, the crystal region in silicon dioxide further improves the wavelength conversion efficiency of the complex. Can be sufficient area for.

また、CuKα線(1.54184Å)を用いて測定された複合体の粉末X線回折パターンにおいて、2θが30°以上40°以下の範囲に最強ピークを有し、そのピーク強度を100%とした場合に、2θが26.5°以上27.5°以下の範囲に、相対強度0.8%以上の回折ピークを有することが好ましく、相対強度1.2%以上の回折ピークを有することがより好ましい。2θが26.5°以上27.5°以下の範囲における回折ピークの相対強度が0.8%以上である場合に、二酸化ケイ素中の結晶領域を、複合体の波長変換効率をより一層向上させるのに十分な領域とすることができる。 Further, in the powder X-ray diffraction pattern of the complex measured using CuKα ray (1.54184 Å), 2θ had the strongest peak in the range of 30 ° or more and 40 ° or less, and the peak intensity was set to 100%. In this case, it is preferable to have a diffraction peak with a relative intensity of 0.8% or more in a range where 2θ is 26.5 ° or more and 27.5 ° or less, and it is more preferable to have a diffraction peak with a relative intensity of 1.2% or more. preferable. When the relative intensity of the diffraction peak in the range where 2θ is 26.5 ° or more and 27.5 ° or less is 0.8% or more, the crystal region in silicon dioxide further improves the wavelength conversion efficiency of the complex. Can be sufficient area for.

ここで、このような二酸化ケイ素の結晶化度は、上記回折ピークの相対強度が指標となる。本実施形態では、たとえば封止材を構成する二酸化ケイ素を含む成分の種類や配合量、二酸化ケイ素を主成分とする封止材によるα型サイアロン蛍光体の封止方法等を適切に選択することにより、上記回折ピークの相対強度を制御することが可能である。これらの中でも、たとえば、二酸化ケイ素を主成分とする封止材によりα型サイアロン蛍光体を封止する際に固相で圧力をかける条件等が、上記回折ピークの相対強度を所望の数値範囲とするための要素として挙げられる。 Here, the crystallinity of such silicon dioxide is indexed by the relative intensity of the diffraction peak. In the present embodiment, for example, the type and blending amount of the component containing silicon dioxide constituting the encapsulant, the encapsulation method of the α-type sialon phosphor with the encapsulant containing silicon dioxide as the main component, and the like are appropriately selected. Therefore, it is possible to control the relative intensity of the diffraction peak. Among these, for example, the condition of applying pressure in the solid phase when encapsulating the α-type sialon phosphor with the encapsulant containing silicon dioxide as the main component sets the relative intensity of the diffraction peak within the desired numerical range. It is mentioned as an element to do.

[複合体中の他の成分]
複合体は、α型サイアロン蛍光体および二酸化ケイ素以外の他の成分を含んでもよい。他の成分としては、鉄、コバルト、およびニッケルからなる群より選ばれる1種以上の第一遷移金属が挙げられる。複合体中の第一遷移金属の含有率の下限は0.1ppm以上が好ましく、0.5ppm以上がより好ましく、1ppm以上がさらに好ましい。また、当該複合体中の第一遷移金属の含有率の上限は、40ppm以下が好ましく、30ppm以下がより好ましく、20ppm以下がさらに好ましい。ここで、複合体中の第一遷移金属の含有率は、元素としての第一遷移金属の含有率を意味し、の第一遷移金属の存在形態は問わないものとする。
複合体中の第一遷移金属の含有率の下限を0.1ppm以上とすることにより、複合体中にクラックが発生することや、複合体をダイサー等で複合体を切断加工する際に、チッピングが生じることを抑制しつつ、波長変換効率の向上を図ることができる。また、複合体中の第一遷移金属の含有率の上限を40ppm以下とすることにより、波長変換効率の向上を図ることができる。これは、複合体を通過する光が第一遷移金属によって吸収されることが抑制されるため、α型サイアロン蛍光体によって長波長化される光量が増加するためと推測される。
[Other components in the complex]
The complex may contain other components than the α-type sialone phosphor and silicon dioxide. Other components include one or more first transition metals selected from the group consisting of iron, cobalt, and nickel. The lower limit of the content of the first transition metal in the complex is preferably 0.1 ppm or more, more preferably 0.5 ppm or more, still more preferably 1 ppm or more. The upper limit of the content of the first transition metal in the complex is preferably 40 ppm or less, more preferably 30 ppm or less, still more preferably 20 ppm or less. Here, the content of the first transition metal in the complex means the content of the first transition metal as an element, and the existence form of the first transition metal does not matter.
By setting the lower limit of the content of the first transition metal in the complex to 0.1 ppm or more, cracks are generated in the complex, and chipping is performed when the complex is cut with a dicer or the like. It is possible to improve the wavelength conversion efficiency while suppressing the occurrence of. Further, by setting the upper limit of the content of the first transition metal in the complex to 40 ppm or less, the wavelength conversion efficiency can be improved. It is presumed that this is because the light passing through the complex is suppressed from being absorbed by the first transition metal, so that the amount of light whose wavelength is lengthened by the α-type sialon phosphor increases.

[複合体の気孔率]
複合体の気孔率は8%以下であることが好ましく、5%以下であることがより好ましい。複合体の気孔率を8%以下とすることで、複合体の透光性が損なわれることを抑制することができる。また、光の散乱性を向上させることにより、α型サイアロン蛍光体が吸収する光量を増加させ、ひいては複合体の波長変換効率を向上させることができる。
[Porosity of complex]
The porosity of the complex is preferably 8% or less, more preferably 5% or less. By setting the porosity of the complex to 8% or less, it is possible to suppress the deterioration of the translucency of the complex. Further, by improving the light scattering property, the amount of light absorbed by the α-type sialon phosphor can be increased, and the wavelength conversion efficiency of the complex can be improved.

[複合体の波長変換光]
複合体に波長455nmの青色光を照射した場合に、複合体から発せられる波長変換光のピーク波長は585nm以上605nm以下であることが好ましい。これによれば、青色光を発光する発光素子に複合体を組み合わせたときに、輝度が高いアンバー色を発光する発光装置を得ることができる。
[Wavelength conversion light of complex]
When the complex is irradiated with blue light having a wavelength of 455 nm, the peak wavelength of the wavelength conversion light emitted from the complex is preferably 585 nm or more and 605 nm or less. According to this, when a composite is combined with a light emitting element that emits blue light, it is possible to obtain a light emitting device that emits an amber color having high brightness.

(複合体の製造方法)
実施形態に係る複合体の製造方法は、二酸化ケイ素粉末と、発光中心として少なくともEu元素を含有するα型サイアロン蛍光体粉末とを混合する工程(1)と、二酸化ケイ素粉末とα型サイアロン蛍光体粉末との混合物を1300℃以上1450℃以下で加熱して二酸化ケイ素の少なくとも一部に結晶領域を形成する工程(2)とを有する。
(Manufacturing method of complex)
The method for producing the composite according to the embodiment includes a step (1) of mixing silicon dioxide powder and α-type sialon phosphor powder containing at least Eu element as a light emitting center, and silicon dioxide powder and α-type sialon phosphor. It has a step (2) of heating a mixture with powder at 1300 ° C. or higher and 1450 ° C. or lower to form a crystal region in at least a part of silicon dioxide.

工程(1)において、原料として用いる二酸化ケイ素粉末中の第一遷移金属元素の含有率は、40ppm以下であることが好ましい。ここで、第一遷移金属元素は、鉄、コバルト、ニッケルからなる群より選ばれる一種以上である。二酸化ケイ素粉末中の上記第一遷移金属元素の含有率を上記範囲とすることにより、複合体の波長変換効率をより一層向上させることができる。なお、原料として用いる二酸化ケイ素粉末は、80質量%以上が非晶質であることが好ましく、90質量%以上が非晶質であることがより好ましい。原料として用いる二酸化ケイ素粉末中の非晶質の割合を上記範囲とすることにより、緻密な複合体をより低温で加熱することにより作製することができるため、α型サイアロン蛍光体の波長変換効率が損なわれることを抑制することができる。 In the step (1), the content of the first transition metal element in the silicon dioxide powder used as a raw material is preferably 40 ppm or less. Here, the first transition metal element is one or more selected from the group consisting of iron, cobalt, and nickel. By setting the content of the first transition metal element in the silicon dioxide powder within the above range, the wavelength conversion efficiency of the complex can be further improved. The silicon dioxide powder used as a raw material is preferably amorphous in an amount of 80% by mass or more, and more preferably amorphous in an amount of 90% by mass or more. By setting the proportion of amorphous material in the silicon dioxide powder used as a raw material within the above range, it is possible to produce a dense composite by heating it at a lower temperature, so that the wavelength conversion efficiency of the α-type sialon fluorescent substance can be improved. It can be suppressed from being damaged.

工程(2)において、二酸化ケイ素粉末とα型サイアロン蛍光体粉末との混合物をプレス機などの加圧装置を用いて、5MPa以上80MPa以下の圧力範囲で加圧することが好ましく、10MPa以上70MPa以下の圧力範囲で加圧することがより好ましい。これにより、二酸化ケイ素に結晶領域を形成し易くすることができる。工程(2)における加熱温度や加圧温度を調節することにより、二酸化ケイ素中の結晶領域の割合を制御することができる。 In the step (2), it is preferable to pressurize the mixture of the silicon dioxide powder and the α-type sialon phosphor powder in a pressure range of 5 MPa or more and 80 MPa or less using a pressurizing device such as a press machine, preferably 10 MPa or more and 70 MPa or less. It is more preferable to pressurize in the pressure range. This makes it possible to easily form a crystal region in silicon dioxide. By adjusting the heating temperature and the pressurizing temperature in the step (2), the ratio of the crystal region in the silicon dioxide can be controlled.

工程(2)の後、室温まで徐冷するとともに、除圧することにより実施形態に係る複合体を製造することができる。 After the step (2), the complex can be produced according to the embodiment by slowly cooling to room temperature and depressurizing.

(発光装置)
図1は、実施形態に係る発光装置の構造を示す概略断面図である。図1に示すように、発光装置10は、発光素子20、基板30、ダム40、封止材50および複合体80を備える。配線(図示せず)を有する基板30上に発光素子20が実装された、チップオンボード(COB)型の発光装置である。
基板30は、アルミニウムの陽極酸化皮膜などの絶縁膜が表面に形成されたアルミニウム基板である。基板30には、基板30上の所定の領域を取り囲むダム40が設けられている。基板30を平面視したときのダム40の形状は、たとえば円環状である。ダム40は透明であることが好ましい。
(Light emitting device)
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the structure of the light emitting device according to the embodiment. As shown in FIG. 1, the light emitting device 10 includes a light emitting element 20, a substrate 30, a dam 40, a sealing material 50, and a complex 80. It is a chip-on-board (COB) type light emitting device in which a light emitting element 20 is mounted on a substrate 30 having wiring (not shown).
The substrate 30 is an aluminum substrate having an insulating film such as an anodic oxide film of aluminum formed on the surface thereof. The substrate 30 is provided with a dam 40 that surrounds a predetermined region on the substrate 30. The shape of the dam 40 when the substrate 30 is viewed in a plan view is, for example, an annular shape. The dam 40 is preferably transparent.

発光素子20は、基板30上のダム40の内側に実装されている。発光素子20は、励起光を発する半導体素子である。発光素子20としては、近紫外から青色光に相当する300nm以上500nm以下の波長の光を発生するLEDチップを使用することができる。発光素子20の素子電極(図示せず)は、基板30上のダム40の内側に露出した接続用端子(図示せず)とボンディングワイヤ(図示せず)により電気的に接続される。
封止材50は、ダム40の内側に充填されており、封止材50により発光素子20が封止される。封止材50は、たとえばエポキシ樹脂やシリコーン樹脂などの透明樹脂材料で形成される。
The light emitting element 20 is mounted inside the dam 40 on the substrate 30. The light emitting element 20 is a semiconductor element that emits excitation light. As the light emitting element 20, an LED chip that generates light having a wavelength of 300 nm or more and 500 nm or less, which corresponds to blue light from near-ultraviolet light, can be used. The element electrode (not shown) of the light emitting element 20 is electrically connected to a connection terminal (not shown) exposed inside the dam 40 on the substrate 30 by a bonding wire (not shown).
The sealing material 50 is filled inside the dam 40, and the light emitting element 20 is sealed by the sealing material 50. The sealing material 50 is formed of a transparent resin material such as an epoxy resin or a silicone resin.

複合体80は、発光素子20の上方に位置し、ダム40および封止材50の上に設置されている。複合体80は、発光素子20から発せられる励起光の波長を長波長化するプレート状の波長変換部材である。複合体80として、上述した複合体が用いられ、二酸化ケイ素を主成分とし、当該二酸化ケイ素の一部が結晶化した封止材84中にEu元素を含有するα型サイアロン蛍光体82が分散されている。発光装置10は、発光素子20の光と、この発光素子20の光を吸収し励起されるα型サイアロン蛍光体82から発生する光との混合色を発する。 The complex 80 is located above the light emitting element 20 and is installed on the dam 40 and the encapsulant 50. The complex 80 is a plate-shaped wavelength conversion member that lengthens the wavelength of the excitation light emitted from the light emitting element 20. As the composite 80, the above-mentioned composite is used, and the α-type sialon phosphor 82 containing silicon dioxide as a main component and Eu element contained in the encapsulant 84 in which a part of the silicon dioxide is crystallized is dispersed. ing. The light emitting device 10 emits a mixed color of the light of the light emitting element 20 and the light generated from the α-type sialon phosphor 82 that is excited by absorbing the light of the light emitting element 20.

発光装置10では、複合体80の外表面が発光面となる。すなわち、発光素子20と発光面との間に複合体80が配されている。発光面における、発光素子20から発せられる励起光のピーク値をP1とし、複合体80により励起光の波長が変換された波長変換光のピーク値をP2としたとき、強度比P1/P2は0.06以下であることが好ましい。これによれば、発光装置10から発せられる光の色を波長変換光の色に近づけることができる。たとえば、波長変換光がアンバー色の場合に、発光装置10から発せられる光もアンバー色とすることができる。 In the light emitting device 10, the outer surface of the complex 80 is the light emitting surface. That is, the complex 80 is arranged between the light emitting element 20 and the light emitting surface. When the peak value of the excitation light emitted from the light emitting element 20 on the light emitting surface is P1 and the peak value of the wavelength conversion light obtained by converting the wavelength of the excitation light by the composite 80 is P2, the intensity ratio P1 / P2 is 0. It is preferably .06 or less. According to this, the color of the light emitted from the light emitting device 10 can be brought close to the color of the wavelength conversion light. For example, when the wavelength conversion light is amber, the light emitted from the light emitting device 10 can also be amber.

以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。 Although the embodiments of the present invention have been described above, these are examples of the present invention, and various configurations other than the above can be adopted.

以下、本発明を実施例および比較例により説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto.

(実施例1)
α型サイアロン蛍光体粉末が二酸化ケイ素の一部が結晶化した封止材(マトリックス)に分散したものを実施例1の複合体とした。実施例1の複合体の具体的な作製方法について以下に記載する。
(Example 1)
The composite of Example 1 was obtained by dispersing the α-type Sialon fluorescent powder in a sealing material (matrix) in which a part of silicon dioxide was crystallized. A specific method for producing the complex of Example 1 will be described below.

実施例1の複合体の原料として、SiO粉末(デンカ株式会社製、FB-5SDCグレード)とCa-α型サイアロン蛍光体粉末(デンカ株式会社製、アロンブライト/YL-600Bグレード、平均粒径:15μm)を用いた。SiO粉末を4.354g、Ca-α型サイアロン蛍光体粉末を2.723g秤量し、メノウ乳鉢により乾式混合した。混合後の原料を目開き75μmのナイロン製メッシュの篩を通し、原料混合粉末を得た。 As raw materials for the composite of Example 1, SiO 2 powder (manufactured by Denka Co., Ltd., FB-5SDC grade) and Ca-α type Sialon fluorescent powder (manufactured by Denka Co., Ltd., Aron Bright / YL-600B grade, average particle size). : 15 μm) was used. Weighed 4.354 g of SiO 2 powder and 2.723 g of Ca-α type sialon phosphor powder, and dry-mixed them with an agate mortar. The raw material after mixing was passed through a sieve of a nylon mesh having an opening of 75 μm to obtain a raw material mixed powder.

約7gの原料混合粉末をカーボン製下パンチをセットした内径30mmのカーボン製ダイスに充填し、カーボン製上パンチをセットし、原料粉末を挟みこんだ。尚、原料混合粉末とカーボン治具の間には固着防止のために、厚み0.127mmのカーボンシート(GraTech社製、GRAFOIL)をセットした。 About 7 g of the raw material mixed powder was filled in a carbon die having an inner diameter of 30 mm in which a carbon lower punch was set, a carbon upper punch was set, and the raw material powder was sandwiched. A carbon sheet (GRAFOIL manufactured by GraTech) having a thickness of 0.127 mm was set between the raw material mixed powder and the carbon jig to prevent sticking.

この原料混合粉末を充填したホットプレス治具をカーボンヒーターの多目的高温炉(富士電波工業株式会社製、ハイマルチ5000)にセットした。炉内を0.1Pa・G以下まで真空排気し、減圧状態を保ったまま、上下パンチを15MPaのプレス圧で加圧した。加圧状態を維持したまま、室温から毎分20℃の速度で昇温し、800℃で窒素ガスを炉内へ導入し、炉内雰囲気圧力を0.1MPa・Gとした。窒素ガス導入後は毎分5℃の速度で1375℃まで昇温し、1375℃で15分間保持した。
その後、毎分5℃の速度で室温まで降温し、除圧した後、外径30mmの焼成物を回収し、平面研削盤と円筒研削盤を用いて、外周部を研削し、直径25mm、厚さ0.23mmの円板状の複合体を得た。
The hot press jig filled with this raw material mixed powder was set in a multipurpose high temperature furnace (manufactured by Fuji Dempa Kogyo Co., Ltd., High Multi 5000) of a carbon heater. The inside of the furnace was evacuated to 0.1 Pa · G or less, and the upper and lower punches were pressurized with a press pressure of 15 MPa while maintaining the reduced pressure state. While maintaining the pressurized state, the temperature was raised from room temperature at a rate of 20 ° C. per minute, nitrogen gas was introduced into the furnace at 800 ° C., and the atmospheric pressure in the furnace was set to 0.1 MPa · G. After the introduction of nitrogen gas, the temperature was raised to 1375 ° C. at a rate of 5 ° C. per minute and maintained at 1375 ° C. for 15 minutes.
After that, the temperature is lowered to room temperature at a rate of 5 ° C. A disk-shaped composite having a diameter of 0.23 mm was obtained.

実施例1の複合体のかさ密度をJIS-R1634:1998に準じた方法により測定したところ、2.44g/cmであった。複合体の真密度は、次の方法で測定した。まず、同一条件で作製した複合体をメノウ乳鉢で粉砕し、全量を目開き45μmの篩を通過させた。この粉砕粉の真密度を乾式密度計(島津製作所製、アキュピックII1340-10CC)で測定した。得られた真密度は2.58g/cmであった。実施例1の複合体の相対密度(かさ密度/真密度)は94.6%で気孔率は5.4%であった。 The bulk density of the complex of Example 1 was measured by a method according to JIS-R1634: 1998 and found to be 2.44 g / cm 3 . The true density of the complex was measured by the following method. First, the complex prepared under the same conditions was crushed in an agate mortar, and the whole amount was passed through a sieve having an opening of 45 μm. The true density of this pulverized powder was measured with a dry densitometer (Acupic II 1340-10CC, manufactured by Shimadzu Corporation). The true density obtained was 2.58 g / cm 3 . The relative density (bulk density / true density) of the complex of Example 1 was 94.6%, and the porosity was 5.4%.

(比較例1)
α型サイアロン蛍光体粉末を二酸化ケイ素全体がアモルファス状態の封止材(マトリックス)に分散したものを比較例1の複合体とした。比較例1の複合体の作製方法は、SiO原料粉末をデンカ製SFP-30Mグレードとしたことを除いては、実施例1の複合体の作製方法と同様である。
(Comparative Example 1)
The composite of Comparative Example 1 was obtained by dispersing the α-type Sialon fluorescent powder in a sealing material (matrix) in which the entire silicon dioxide was in an amorphous state. The method for producing the complex of Comparative Example 1 is the same as the method for producing the complex of Example 1 except that the SiO 2 raw material powder is an SFP-30M grade manufactured by Denka.

比較例1の複合体のかさ密度および真密度を実施例1の複合体のかさ密度および真密度の測定方法と同様に測定した。その結果、比較例1の複合体のかさ密度および真密度は、それぞれ、2.34g/cm、2.60g/cmであった。比較例1の複合体の相対密度(かさ密度/真密度)は90.0%で気孔率は10.0%であった。 The bulk density and true density of the complex of Comparative Example 1 were measured in the same manner as in the method for measuring the bulk density and true density of the complex of Example 1. As a result, the bulk density and the true density of the complex of Comparative Example 1 were 2.34 g / cm 3 and 2.60 g / cm 3 , respectively. The relative density (bulk density / true density) of the complex of Comparative Example 1 was 90.0%, and the porosity was 10.0%.

[結晶構造解析]
実施例1および比較例1の複合体の結晶構造解析をX線回折装置(製品名:Ultima-IV、株式会社リガク製)を用いて実施した。
得られた粉末X線回折パターンから、以下の手順にて結晶化度を評価した。
(1)CuKα線(1.54184Å)を用いて測定された粉末X線回折パターンにおいて、2θが30°以上40°以下の範囲にある、粉末X線回折パターンにおける最強ピークのピーク強度をP0とした。
(2)2θが21.7°以上22.7°以下の範囲にあるピークのピーク強度P1および2θが26.5°以上27.5°以下の範囲にあるピークのピーク強度P2を求めた。ピーク強度P0を100%とした場合のピーク強度P1、ピーク強度P2の相対強度(%)をそれぞれ求めた。
[Crystal structure analysis]
Crystal structure analysis of the complex of Example 1 and Comparative Example 1 was carried out using an X-ray diffractometer (product name: Ultima-IV, manufactured by Rigaku Co., Ltd.).
From the obtained powder X-ray diffraction pattern, the crystallinity was evaluated by the following procedure.
(1) In the powder X-ray diffraction pattern measured using CuKα ray (1.54184 Å), the peak intensity of the strongest peak in the powder X-ray diffraction pattern in which 2θ is in the range of 30 ° or more and 40 ° or less is P0. did.
(2) The peak intensities P1 of the peaks in which 2θ was in the range of 21.7 ° or more and 22.7 ° or less and the peak intensities P2 of the peaks in which 2θ was in the range of 26.5 ° or more and 27.5 ° or less were obtained. The relative intensities (%) of the peak intensities P1 and the peak intensities P2 when the peak intensities P0 were set to 100% were obtained.

[複合体の量子効率測定]
円板状に加工した複合体の反射蛍光・透過蛍光を独立に評価するシステムを有する量子効率測定システム(大塚電子社製、QE-2100HMB)により、複合体の量子効率を評価した。励起光は、波長455nmの青色光とし、円板状の複合体の吸収率、内部量子効率、外部量子効率を算出した。複合体の量子効率の測定結果を表1に示す。
[Measurement of quantum efficiency of complex]
The quantum efficiency of the complex was evaluated by a quantum efficiency measurement system (QE-2100HMB manufactured by Otsuka Denshi Co., Ltd.) having a system for independently evaluating the reflected fluorescence and the transmitted fluorescence of the composite processed into a disk shape. The excitation light was blue light having a wavelength of 455 nm, and the absorption rate, the internal quantum efficiency, and the external quantum efficiency of the disk-shaped complex were calculated. Table 1 shows the measurement results of the quantum efficiency of the complex.

[発光特性の評価]
図2は、複合体の発光スペクトルを測定するための装置の概略図である。凹部102が形成されたアルミ基板100を用意し、この凹部102に青色発光光源として青色LED110を実装し、チップオンボード型(COB型)のLEDパッケージとした。凹部102の底面の径φを13.5mmとし、凹部102の開口部の径φを16mmとした。凹部102を塞ぐように、青色LED110の上部に円形状の複合体120を設置した。
[Evaluation of emission characteristics]
FIG. 2 is a schematic diagram of an apparatus for measuring the emission spectrum of a complex. An aluminum substrate 100 having a recess 102 formed therein was prepared, and a blue LED 110 was mounted in the recess 102 as a blue light emitting light source to form a chip-on-board type (COB type) LED package. The diameter φ of the bottom surface of the recess 102 was 13.5 mm, and the diameter φ of the opening of the recess 102 was 16 mm. A circular complex 120 was installed above the blue LED 110 so as to close the recess 102.

青色LED110を点灯した際の透過光を全光束測定システム(HalfMoon/φ1000mm積分球システム、大塚電子社製)を用いて測定した。実施例1および比較例1の複合体で得られた発光スペクトルを図3に示す。発光スペクトルのピーク波長は600nmであった。尚、図3の縦軸の発光強度は実施例1の最大発光強度を100としたときの相対値である。 The transmitted light when the blue LED 110 was turned on was measured using a total luminous flux measurement system (HalfMoon / φ1000 mm integrating sphere system, manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.). The emission spectra obtained from the complex of Example 1 and Comparative Example 1 are shown in FIG. The peak wavelength of the emission spectrum was 600 nm. The emission intensity on the vertical axis of FIG. 3 is a relative value when the maximum emission intensity of Example 1 is 100.

また、図2から分かるように、実施例1および比較例1とも、波長450nm付近に青色LED110の透過光に由来するスペクトルが観測された。発光スペクトルにおける波長595nm以上605nm以下の発光強度の最大値を1としたときの波長445nm以上465nm以下の発光強度の最大値を青色光の透過量とした。発光特性の評価結果を表1に示す。
なお、図2の装置例では、複合体120の外表面が発光面であり、青色LED110の透過光は、当該発光面から発せられる励起光である。また、波長595nm以上605nm以下の光は、発光面から発せられる波長変換光である。すなわち、上述の青色光の透過量は、発光面から発せられる波長変換光のピークに対する励起光のピークの強度比に相当する。

Figure 0007078509000001
Further, as can be seen from FIG. 2, in both Example 1 and Comparative Example 1, a spectrum derived from the transmitted light of the blue LED 110 was observed near a wavelength of 450 nm. The maximum value of the emission intensity of the wavelength 445 nm or more and 465 nm or less when the maximum value of the emission intensity of the wavelength 595 nm or more and 605 nm or less in the emission spectrum was set to 1 was defined as the transmitted amount of blue light. Table 1 shows the evaluation results of the light emission characteristics.
In the device example of FIG. 2, the outer surface of the complex 120 is a light emitting surface, and the transmitted light of the blue LED 110 is the excitation light emitted from the light emitting surface. Further, the light having a wavelength of 595 nm or more and 605 nm or less is wavelength conversion light emitted from the light emitting surface. That is, the above-mentioned amount of transmitted blue light corresponds to the intensity ratio of the peak of the excitation light to the peak of the wavelength conversion light emitted from the light emitting surface.
Figure 0007078509000001

10 発光装置
20 発光素子
30 基板
40 反射板
50 第1リードフレーム
60 第2リードフレーム
70 ボンディングワイヤ
80 複合体
82 α型サイアロン蛍光体
84 封止材
100 アルミ基板
110 青色LED
120 複合体
10 Light emitting device 20 Light emitting element 30 Substrate 40 Reflector 50 First lead frame 60 Second lead frame 70 Bonding wire 80 Composite 82 α-type Sialon phosphor 84 Encapsulant 100 Aluminum substrate 110 Blue LED
120 complex

Claims (11)

Eu元素を含有するα型サイアロン蛍光体と、前記α型サイアロン蛍光体を封止する封止材と、
を含む複合体であって、
前記封止材は、二酸化ケイ素を主成分として構成され、前記二酸化ケイ素の少なくとも一部が結晶化していることを特徴とする複合体。
An α-type sialon phosphor containing an Eu element, a sealing material for sealing the α-type sialon phosphor, and a sealant.
Is a complex containing
The encapsulant is a complex having silicon dioxide as a main component and having at least a part of the silicon dioxide crystallized.
CuKα線(1.54184Å)を用いて測定された粉末X線回折パターンにおいて、2θが30°以上40°以下の範囲に最強ピークを有し、そのピーク強度を100%とした場合に、2θが21.7°以上22.7°以下の範囲に、相対強度1.2%以上の回折ピークを有する請求項1に記載の複合体。 In the powder X-ray diffraction pattern measured using CuKα ray (1.54184 Å), when 2θ has the strongest peak in the range of 30 ° or more and 40 ° or less and the peak intensity is 100%, 2θ is The complex according to claim 1, which has a diffraction peak with a relative intensity of 1.2% or more in the range of 21.7 ° or more and 22.7 ° or less. CuKα線(1.54184Å)を用いて測定された粉末X線回折パターンにおいて、2θが30°以上40°以下の範囲に最強ピークを有し、そのピーク強度を100%とした場合に、2θが26.5°以上27.5°以下の範囲に、相対強度0.8%以上の回折ピークを有する請求項1または2に記載の複合体。 In the powder X-ray diffraction pattern measured using CuKα ray (1.54184 Å), when 2θ has the strongest peak in the range of 30 ° or more and 40 ° or less and the peak intensity is 100%, 2θ is The complex according to claim 1 or 2, which has a diffraction peak with a relative intensity of 0.8% or more in the range of 26.5 ° or more and 27.5 ° or less. 気孔率が8%以下である請求項1乃至3のいずれか1項に記載の複合体。 The complex according to any one of claims 1 to 3, wherein the porosity is 8% or less. 波長455nmの青色光を照射した場合の波長変換光のピーク波長が585nm以上605nm以下である請求項1乃至4のいずれか1項に記載の複合体。 The complex according to any one of claims 1 to 4, wherein the peak wavelength of the wavelength conversion light when irradiated with blue light having a wavelength of 455 nm is 585 nm or more and 605 nm or less. 前記α型サイアロン蛍光体の平均粒径が5μm以上30μm以下である請求項1乃至5のいずれか1項に記載の複合体。 The complex according to any one of claims 1 to 5, wherein the α-type sialone phosphor has an average particle size of 5 μm or more and 30 μm or less. 前記複合体中に14質量%以上60質量%以下の前記α型サイアロン蛍光体を含む請求項1乃至6のいずれか1項に記載の複合体。 The complex according to any one of claims 1 to 6, wherein the complex contains 14% by mass or more and 60% by mass or less of the α-type sialone phosphor. 励起光を発する発光素子と、
前記励起光の波長を変換する請求項1乃至7のいずれか1項に記載の複合体と、
を有する発光装置。
A light emitting element that emits excitation light and
The complex according to any one of claims 1 to 7, which converts the wavelength of the excitation light, and the complex.
A light emitting device having.
前記発光素子と発光面との間に前記複合体が配され、
前記発光面から発せられる、前記複合体により前記励起光の波長が変換された波長変換光のピーク値に対する前記励起光のピーク値の強度比が0.06以下である請求項8に記載の発光装置。
The complex is arranged between the light emitting element and the light emitting surface, and the complex is arranged.
The light emission according to claim 8, wherein the intensity ratio of the peak value of the excitation light to the peak value of the wavelength conversion light whose wavelength of the excitation light is converted by the complex emitted from the light emitting surface is 0.06 or less. Device.
二酸化ケイ素粉末と、発光中心として少なくともEu元素を含有するα型サイアロン蛍光体粉末とを混合する工程と、
前記二酸化ケイ素粉末と前記α型サイアロン蛍光体粉末との混合物を1300℃以上1450℃以下で加熱し、二酸化ケイ素の少なくとも一部に結晶領域を形成する工程と、
を有する、複合体の製造方法。
A step of mixing silicon dioxide powder and α-type sialon phosphor powder containing at least Eu element as a light emitting center,
A step of heating a mixture of the silicon dioxide powder and the α-type sialon phosphor powder at 1300 ° C. or higher and 1450 ° C. or lower to form a crystal region in at least a part of silicon dioxide.
A method for producing a complex.
前記二酸化ケイ素粉末の80質量%以上が非晶質である請求項10に記載の複合体の製造方法。 The method for producing a complex according to claim 10, wherein 80% by mass or more of the silicon dioxide powder is amorphous.
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220145852A (en) 2020-03-04 2022-10-31 덴카 주식회사 Phosphor plate and light emitting device
DE112021003768T5 (en) * 2020-08-25 2023-04-27 Denka Company Limited Fluorescent powder and light emitting device
CN115917773A (en) 2020-08-25 2023-04-04 电化株式会社 Method for producing phosphor powder, and light-emitting device

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004081140A1 (en) 2003-03-13 2004-09-23 Nichia Corporation Light emitting film, luminescent device, method for manufacturing light emitting film and method for manufacturing luminescent device
JP2007326773A (en) 2006-06-06 2007-12-20 Schott Ag Sintered glass ceramic and method for producing the same
JP2009286681A (en) 2008-05-30 2009-12-10 Ohara Inc Luminescent glass and luminescent crystallized glass
JP2014220289A (en) 2013-05-02 2014-11-20 独立行政法人物質・材料研究機構 Manufacturing method of light wavelength conversion glass, light wavelength conversion glass and light-emitting apparatus
JP2015119046A (en) 2013-12-18 2015-06-25 スタンレー電気株式会社 Light-emitting device and light source for projector using the same
JP2015220431A (en) 2014-05-21 2015-12-07 日亜化学工業株式会社 Method of manufacturing light emission device and light emission device
JP2018505560A (en) 2014-10-27 2018-02-22 ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェンHenkel AG & Co. KGaA Optical semiconductor device manufacturing method and silicone resin composition therefor

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009013186A (en) * 2007-06-29 2009-01-22 Mitsubishi Chemicals Corp Coated phosphor particles, method for producing coated phosphor particles, phosphor-containing composition, light emitting device, image display device and illuminating device
JP2009057554A (en) * 2007-08-08 2009-03-19 Mitsubishi Chemicals Corp Method for producing fluorescent material, fluorescent material obtained by the same, fluorescent material-containing composition using the fluorescent material, light emitting device, lighting device and image display device
TWI434913B (en) * 2011-07-12 2014-04-21 Bell Ceramics Co Ltd Fluorescent layer and its preparation method and uses
JP6560534B2 (en) * 2014-08-01 2019-08-14 信越石英株式会社 Quartz glass member for wavelength conversion and manufacturing method thereof
JP2017005163A (en) * 2015-06-12 2017-01-05 日本碍子株式会社 Wavelength conversion member and light-emitting device
JP6880528B2 (en) * 2016-06-27 2021-06-02 日本電気硝子株式会社 Wavelength conversion member and light emitting device using it

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004081140A1 (en) 2003-03-13 2004-09-23 Nichia Corporation Light emitting film, luminescent device, method for manufacturing light emitting film and method for manufacturing luminescent device
JP2007326773A (en) 2006-06-06 2007-12-20 Schott Ag Sintered glass ceramic and method for producing the same
JP2009286681A (en) 2008-05-30 2009-12-10 Ohara Inc Luminescent glass and luminescent crystallized glass
JP2014220289A (en) 2013-05-02 2014-11-20 独立行政法人物質・材料研究機構 Manufacturing method of light wavelength conversion glass, light wavelength conversion glass and light-emitting apparatus
JP2015119046A (en) 2013-12-18 2015-06-25 スタンレー電気株式会社 Light-emitting device and light source for projector using the same
JP2015220431A (en) 2014-05-21 2015-12-07 日亜化学工業株式会社 Method of manufacturing light emission device and light emission device
JP2018505560A (en) 2014-10-27 2018-02-22 ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェンHenkel AG & Co. KGaA Optical semiconductor device manufacturing method and silicone resin composition therefor

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