JP7078249B2 - Assembly structure to connect the suction nozzle - Google Patents

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Description

本発明は、ウェハの吸引ノズルを接続する組立構造に係り、特に、自動的に、全体の垂直オフセットと水平ポジショナーを調整できる組立構造に関する。 The present invention relates to an assembly structure connecting a suction nozzle of a wafer, and more particularly to an assembly structure capable of automatically adjusting the overall vertical offset and horizontal positioner.

半導体のパッケージングプロセスにおいて、切断したり研削したりしウェハの吸引と放置を行う必要があるため、吸引と放置を行う装置を設けて、その装置では、ウェハの吸引と放置との間に接触があるため、固定座と吸引ノズルを設ける。 In the semiconductor packaging process, it is necessary to suck and leave the wafer by cutting or grinding, so a device for sucking and leaving is provided, and in that device, contact is made between sucking and leaving the wafer. Therefore, a fixed seat and a suction nozzle are provided.

ウェハの厚さがますます薄くなるにつれて、現在の市場でよく見られるの仕様は約30~50μmとなって、しかも、ますます薄くなっているかもしれない。そのため、吸引と放置を行う作業は、吸引ノズルの人工操作での過失で、平圧をすることにはならない、または、吸引ノズルが均等に力を加えることができないためウェハと接触面に空気を生じて、または、アンダーフィルと完全に接着することができず、更に、ウェハに損傷を与えるため、元の吸引と放置の固定座と吸引ノズルは、生産ニーズを満たすことができないが、吸引ノズルが平面方式で製作することを除いて、更に薄いウェハに対して、異なる固定座と吸引ノズルを製造することがある。 As wafers become thinner and thinner, the specifications commonly found on the market today are around 30-50 μm, and may be even thinner. Therefore, the work of sucking and leaving is a mistake in the artificial operation of the suction nozzle, and it does not result in normal pressure, or because the suction nozzle cannot apply force evenly, air is applied to the wafer and the contact surface. The original suction and neglected fixed seats and suction nozzles cannot meet the production needs because they occur or cannot be completely adhered to the underfill and also damage the wafer, but the suction nozzles. May manufacture different fixed seats and suction nozzles for thinner wafers, except that they are manufactured in a planar fashion.

従来、よく見られる吸引ノズルを接続するために使われる組立の構造は、固定座で、クランプジョーを配置して、吸引ノズルを直接にクランプジョーに埋め込ませる。しかしながら、吸引ノズルが固定座の上方に配置されているクランプジョーに埋め込まれているので、吸引ノズルが取付埋め込まれた後、取り外しにくく、これにより取り換えることが困難になる。吸引ノズルを取り付ける際には、吸引ノズルの吸引ウェハ面に接触することが避けられないが、吸引ノズルに汚染を招いて、しかも過失によって吸引ノズルを端部までに押付けることができないため、固定座の接面と張り付けて傾いてきて、従って、吸引ノズルを取り付けた後、平らでなければならずことを保証できないが、ウェハが破損する虞がある。クランプジョーと吸引ノズルとの間は、締り嵌め組み立てられて固定されるため、吸引ノズルが、クランプジョーからの圧力で変形しやすくなり、ウェハが破損する虞がある。 Traditionally, the assembly structure used to connect a common suction nozzle is a fixed seat, where the clamp jaws are placed and the suction nozzles are embedded directly into the clamp jaws. However, since the suction nozzle is embedded in the clamp jaw arranged above the fixed seat, it is difficult to remove the suction nozzle after it is attached and embedded, which makes it difficult to replace it. When installing the suction nozzle, it is inevitable that it will come into contact with the suction wafer surface of the suction nozzle, but it will cause contamination of the suction nozzle, and the suction nozzle cannot be pressed to the end by mistake, so it is fixed. It sticks to the contact surface of the seat and tilts, so it cannot be guaranteed that it must be flat after mounting the suction nozzle, but there is a risk of damaging the wafer. Since the clamp jaw and the suction nozzle are tightly fitted, assembled and fixed, the suction nozzle is easily deformed by the pressure from the clamp jaw, and the wafer may be damaged.

従来、吸引ノズルを接続するために使われる組立の構造は、固定座が、真空孔底部の凸接構造と吸引ノズルに配置されて対応する凹状構造に位置して、クランプジョーが吸引ノズルに取付けられるのは、容易であるが、吸引ノズルに対応する凹状構造を設けなければならないため、製造過程で変形しやすく、また、取付ける時、吸引ノズルが、汚染されるという問題がある。さらに、吸引ノズルがその材料によって、製造している時、より大きな公差を持つことがあって、予め設定された対応する凹凸構造を有するが、摺動や変形が容易で、ウェハが破損する虞がある。 Traditionally, the assembly structure used to connect the suction nozzle has a fixed seat located in the convex contact structure at the bottom of the vacuum hole and the corresponding concave structure located in the suction nozzle, with a clamp jaw attached to the suction nozzle. It is easy to do, but since the concave structure corresponding to the suction nozzle must be provided, it is easily deformed in the manufacturing process, and there is a problem that the suction nozzle is contaminated when it is attached. In addition, depending on the material of the suction nozzle, it may have larger tolerances during manufacturing and has a corresponding preset uneven structure, but is easy to slide and deform and may damage the wafer. There is.

対応している締付けの関係で、吸引ノズルを固定する組立構造であって、固定座の下方にも定位脚を延伸して、吸引ノズルにある定位孔と嵌合して、しかも定位脚と吸引ノズルとの間の締付け構造では、吸引ノズルの取付と取外しにも、難度がある。しかも、吸引ノズルと固定座との間は、締付けで定位して、構造には、調整できないが、取付ける時、接触で吸引ノズルが汚れる虞がある。 Due to the corresponding tightening, it is an assembly structure that fixes the suction nozzle, and the localization leg is extended below the fixed seat to fit into the localization hole in the suction nozzle, and the localization leg and suction In the tightening structure between the nozzle and the suction nozzle, it is difficult to attach and detach the suction nozzle. Moreover, the suction nozzle and the fixed seat are localized by tightening, and although the structure cannot be adjusted, there is a risk that the suction nozzle will be soiled by contact when it is attached.

従来の組立構造には、上述した対応している締付けの関係で、吸引ノズルを固定することを改良して、固定座にマグネットが埋め込まれて、吸引ノズルに吸寄せる鉄片またはステンレス鋼を設けて、締付けの組立構造を置き換える。しかしながら、締付けの組立構造を改善することができるが、他の技術的な問題も引き起こす。固定座と吸引ノズルとの間の鉄片またはステンレス鋼は、完全に、締付けて係合できないため、真空漏れ状態の可能性がある。マグネットと吸引ノズルとの間にある鉄片またはステンレス鋼の磁気吸着構造が、対応する定位箇所がなく、吸引ノズルの組立の際に、水平オフセットの問題を引き起こす。 In the conventional assembly structure, in relation to the corresponding tightening described above, the fixing of the suction nozzle is improved, and a magnet is embedded in the fixed seat to provide an iron piece or stainless steel that attracts to the suction nozzle. , Replace the tightening assembly structure. However, while the tightening assembly structure can be improved, it also causes other technical problems. The piece of iron or stainless steel between the fixed seat and the suction nozzle cannot be completely tightened and engaged, which may result in a vacuum leak. The magnetic attraction structure of the iron piece or stainless steel between the magnet and the suction nozzle has no corresponding location and causes the problem of horizontal offset when assembling the suction nozzle.

また、従来締付けの関係で、吸引ノズルを固定する組立構造は、組み立てた吸引ノズルの平面度の問題に焦点を当てた場合、吸引されたウェハに対して、吸引ノズルと平面でない垂直オフセットの問題を引き起こすなら、上述した吸引ノズルと固定座との間による平面度の構造での改良には、垂直オフセットの問題を解決できない、特にウェハの厚みが薄くなると、この問題の影響が大きくなる。 Also, due to conventional tightening, the assembly structure that fixes the suction nozzle has the problem of vertical offset between the suction nozzle and the non-flat surface with respect to the sucked wafer when focusing on the problem of flatness of the assembled suction nozzle. If the above-mentioned improvement in the structure of flatness between the suction nozzle and the fixed seat cannot solve the problem of vertical offset, the influence of this problem becomes large, especially when the thickness of the wafer is reduced.

これに鑑みて、従来の改良構造に対して、第1~3態様による吸引ノズルを接続する組立構造を提供し、吸引ノズルの組立に使われる。組立構造は、固定座と、吸引ノズル基部とを含む。固定座は、導磁の本体を有し、その上端面に係合部を設ける。係合部には、真空通路が設けられる。固定座の下端面には、中空のガイドポストが設けられる。ガイドポストは、外周に少なくとも1つの定位バンプが設けられ、真空通路と連通する。
吸引ノズル基部は、導磁の本体を有し、吸引ノズルが設けられる。吸引ノズル基部は、その本体を貫通している定位部が設けられる。定位部には、ガイドポストに対応するガイド部が設けられる。ガイド部の内部は、定位バンプに対応する定位凹溝が設けられる。定位部は、定位凹溝が定位バンプに対応している位置を介して、ガイドポストをガイド部に置かせることで、吸引ノズル基部を固定座に組立させて、または、固定座と吸引ノズル基部との組立構造上での水平変位を制限する。これによって、吸引ノズルの操作使用に役に立つ。
In view of this, an assembly structure for connecting the suction nozzles according to the first to third aspects is provided with respect to the conventional improved structure, and is used for assembling the suction nozzles. The assembly structure includes a fixed seat and a suction nozzle base. The fixed seat has a main body of magnetic conduction, and an engaging portion is provided on the upper end surface thereof. A vacuum passage is provided in the engaging portion. A hollow guide post is provided on the lower end surface of the fixed seat. The guide post is provided with at least one localization bump on the outer circumference and communicates with the vacuum passage.
The suction nozzle base has a main body of magnetic conduction, and a suction nozzle is provided. The suction nozzle base is provided with a localization portion penetrating the main body of the suction nozzle base. A guide portion corresponding to the guide post is provided in the localization portion. Inside the guide portion, a localization recess corresponding to the localization bump is provided. In the localization part, the suction nozzle base is assembled to the fixed seat by placing the guide post on the guide part through the position where the localization recess corresponds to the localization bump, or the fixed seat and the suction nozzle base. Limit the horizontal displacement on the assembly structure with. This is useful for operating and using the suction nozzle.

第1態様では、定位凹溝の数は、定位バンプより多い。従って、吸引ノズル基部は、選択的に定位凹溝が定位バンプに対応している位置を利用して固定座に組立させる。 In the first aspect, the number of stereotactic grooves is larger than that of the stereotaxic bumps. Therefore, the suction nozzle base is selectively assembled to the fixed seat by utilizing the position where the localization concave groove corresponds to the localization bump.

定位バンプは、円弧状の表面を有する。 The localization bump has an arcuate surface.

定位バンプは、鋼球でガイドポストの外周に接続される、または、ガイドポストで鋼球を置かせるための開口が設けられている。 The localization bump is connected to the outer periphery of the guide post by a steel ball, or is provided with an opening for placing the steel ball in the guide post.

第2態様では、吸引ノズル基部には、マグネットを設置するための凹部が設けられる。定位部は、凹部の範囲に相対して、凹部の底面から突出し、固定座と吸引ノズル基部との間は、磁気吸着により組立して接続して、磁力が吸引ノズルの下端から漏れることが防止される。また、吸引ノズル基部には、シール溝が設けられる。シール溝は、凹部の外側を囲む。シール部品は、弾性な材料を使用して、固定座と吸引ノズル基部との間の真空気密性を確保することできる。 In the second aspect, the suction nozzle base is provided with a recess for installing a magnet. The localization part protrudes from the bottom surface of the recess relative to the range of the recess, and the fixed seat and the suction nozzle base are assembled and connected by magnetic suction to prevent magnetic force from leaking from the lower end of the suction nozzle. Will be done. Further, a seal groove is provided at the base of the suction nozzle. The seal groove surrounds the outside of the recess. The sealing component can use an elastic material to ensure vacuum airtightness between the fixed seat and the suction nozzle base.

第3態様では、固定座と吸引ノズル基部との間には、シール部品が設けられる。ガイド部は、テーパ状の円錐孔道を有する。定位凹溝は、円錐孔道の内部に位置する。定位部は、円錐孔道の比較的に広い孔道に相対することで吸引ノズル基部が傾いているとき、ガイド部に必要な相対変位空間を提供して、吸引ノズルの下端面が傾斜したウェハの表面に取り付け可能である。シール部品を利用して、固定座と吸引ノズル基部との組立構造の密着度を維持する。円錐孔道の傾斜面は、垂直線との間の角度が1度から5度である。傾斜面と垂直線との間の角度は、好ましくは2度~2.5度である。 In the third aspect, a sealing component is provided between the fixed seat and the suction nozzle base. The guide portion has a tapered conical hole path. The stereotaxic groove is located inside the conical hole path. The localization section provides the necessary relative displacement space for the guide section when the suction nozzle base is tilted relative to the relatively wide hole path of the conical hole path, and the lower end surface of the suction nozzle is tilted on the surface of the wafer. Can be attached to. The sealing parts are used to maintain the close contact between the fixed seat and the suction nozzle base assembling structure. The slope of the conical path has an angle of 1 to 5 degrees with the vertical line. The angle between the inclined surface and the vertical line is preferably 2 degrees to 2.5 degrees.

吸引ノズル基部には、シール溝および凹部が設けられる。定位部は、凹部の範囲に相対して、凹部の底面からから突出する。凹部には、マグネットが設置される。固定座と吸引ノズル基部との間は、磁気吸着により組立して接続し、磁力が吸引ノズルの下端から漏れることが防止される。シール溝は、凹部の外側を囲む。シール部品は、シール溝に設けられる。シール部品は、弾性材料により形成されるので、真空気密性を確保することできる。 The suction nozzle base is provided with a seal groove and a recess. The localization portion projects from the bottom surface of the recess relative to the range of the recess. A magnet is installed in the recess. The fixed seat and the base of the suction nozzle are assembled and connected by magnetic suction to prevent magnetic force from leaking from the lower end of the suction nozzle. The seal groove surrounds the outside of the recess. The sealing component is provided in the sealing groove. Since the sealing component is made of an elastic material, vacuum airtightness can be ensured.

シール部品は、固定座の下端面と吸引ノズル基部の上端面との間に形成される調整空間に応じて、吸引ノズル基部の高さより高くなっている。調整空間の高さは、傾斜によって生じる高低差を補償する。 The sealing component is higher than the height of the suction nozzle base according to the adjustment space formed between the lower end surface of the fixed seat and the upper end surface of the suction nozzle base. The height of the adjustment space compensates for the height difference caused by the inclination.

吸引ノズル基部の両側には、取り扱いを容易にするために、それぞれハンドルが設けられる。 Handles are provided on both sides of the suction nozzle base for ease of handling.

態様による吸引ノズルを接続する組立構造は、固定座と、吸引ノズル基部と、を含む。固定座は、導磁の本体を有しその上端面に係合部が設けられる。係合部には、真空通路が設けられる。固定座の下端面には、中空のガイドポストが設けられる。ガイドポストは、真空通路と連通する。
吸引ノズル基部は、導磁の本体を有し、吸引ノズルが設けられる。吸引ノズル基部は、ガイドポストに対応して、その本体を貫通している定位部が設けられる。定位部は、ガイドポストに対応して吸引ノズル基部を固定座に組立させて、または、固定座と吸引ノズル基部との組立構造上での水平変位を制限する。これによって、吸引ノズルの操作使用に役に立つ。
The assembly structure connecting the suction nozzles according to the fourth aspect includes a fixed seat and a suction nozzle base. The fixed seat has a main body of magnetic guide and an engaging portion is provided on the upper end surface thereof. A vacuum passage is provided in the engaging portion. A hollow guide post is provided on the lower end surface of the fixed seat. The guide post communicates with the vacuum passage.
The suction nozzle base has a main body of magnetic conduction, and a suction nozzle is provided. The suction nozzle base is provided with a localization portion that penetrates the main body corresponding to the guide post. The localization portion assembles the suction nozzle base on the fixed seat corresponding to the guide post, or limits the horizontal displacement of the fixed seat and the suction nozzle base on the assembly structure. This is useful for operating and using the suction nozzle.

定位部は、テーパ状の円錐孔道を有する。吸引ノズル基部の上下端面には、それぞれ上端孔と下端孔が形成される。吸引ノズル基部は、上端孔がガイドポストに接続することで、シール部品を固定座と吸引ノズル基部との間に設けさせる。また、定位部は、円錐孔道がその上端孔の下方に位置する孔道に相対することで、吸引ノズル基部が傾いているとき、ガイドポストに必要な相対変位空間を提供して、吸引ノズルの下端面が傾斜したウェハの表面に取り付け可能である。また、シール部品を利用して、固定座と吸引ノズル基部との組立構造の密着度を維持する。円錐孔道は、垂直線との間の角度が1度から5度となる複数の傾斜面を有する。傾斜面の数は、ガイドポストの側柱面の数と同じである。傾斜面と垂直線との間の角度は、好ましくは2度~2.5度である。吸引ノズル基部には、凹部およびシール溝が設けられる。凹部には、マグネットが設けられる。シール溝は、凹部の外側を囲む。シール部品は、シール溝に設けられ弾性材料で形成されて、真空気密性を確保することできる。 The localization part has a tapered conical hole path. An upper end hole and a lower end hole are formed on the upper and lower end surfaces of the suction nozzle base, respectively. The suction nozzle base is provided with a sealing component between the fixed seat and the suction nozzle base by connecting the upper end hole to the guide post. The localization also provides the required relative displacement space for the guide post when the suction nozzle base is tilted, with the conical hole facing the hole below its upper end hole and below the suction nozzle. It can be attached to the surface of a wafer with an inclined end face. In addition, the sealing parts are used to maintain the degree of adhesion between the fixed seat and the suction nozzle base assembling structure. The conical path has a plurality of inclined surfaces having an angle of 1 to 5 degrees with the vertical line. The number of inclined surfaces is the same as the number of side column surfaces of the guide post. The angle between the inclined surface and the vertical line is preferably 2 degrees to 2.5 degrees. The suction nozzle base is provided with a recess and a seal groove. A magnet is provided in the recess. The seal groove surrounds the outside of the recess. The seal component is provided in the seal groove and is formed of an elastic material, so that vacuum airtightness can be ensured.

ガイドポストは、凸四角形または三角形のいずれかである断面形状を有する。 The guide post has a cross-sectional shape that is either a convex quadrangle or a triangle.

吸引ノズル基部には、マグネットを設置するための凹部が設けられる。定位部は、凹部の範囲に相対して、凹部の底面から突出する。固定座と吸引ノズル基部との間は、磁気吸着により組立して接続して、しかも磁力が吸引ノズルの下端から漏れることが防止される。 The suction nozzle base is provided with a recess for installing a magnet. The localization portion projects from the bottom surface of the recess relative to the range of the recess. The fixed seat and the base of the suction nozzle are assembled and connected by magnetic suction, and the magnetic force is prevented from leaking from the lower end of the suction nozzle.

シール部品は、固定座の下端面と吸引ノズル基部の上端面との間に形成される調整空間に応じて、吸引ノズル基部の高さより高くなっている。調整空間の高さは、傾斜によって生じる高低差を補償する。 The sealing component is higher than the height of the suction nozzle base according to the adjustment space formed between the lower end surface of the fixed seat and the upper end surface of the suction nozzle base. The height of the adjustment space compensates for the height difference caused by the inclination.

吸引ノズル基部の両側には、取り扱いを容易にするためにそれぞれハンドルが設けられる。 Handles are provided on both sides of the suction nozzle base for ease of handling.

本発明は、従来の技術と比べると、下記の効果がある。 The present invention has the following effects as compared with the conventional technique.

本発明の組立構造には、固定座は、ガイドポストに設けられた定位バンプを利用して、吸引ノズル基部の定位凹溝に合わせて、定位バンプが定位凹溝に対応して差置きする対応の構造関係となっており、固定座を組み立てると吸引ノズル基部の水平定位として、それによって、吸着ノズルの水平変位の問題をなくさせる。 In the assembly structure of the present invention, the fixed seat uses the localization bump provided on the guide post, and the localization bump is placed in accordance with the localization concave groove at the base of the suction nozzle. When the fixed seat is assembled, the suction nozzle base is horizontally localized, thereby eliminating the problem of horizontal displacement of the suction nozzle.

また、吸引ノズルは、吸引ノズル基部に直接平らで貼り付けられているため、しっかり吸引ノズルを組み立てる構造に合わせるの代わりに、吸引ノズルの変形問題が生じない。 Further, since the suction nozzle is directly and flatly attached to the base of the suction nozzle, the problem of deformation of the suction nozzle does not occur instead of fitting the suction nozzle firmly to the structure for assembling the suction nozzle.

組立構造にある吸引ノズルは、シール溝にシール部品が設けられ、シール部品の弾性を利用して、固定部、吸引ノズル、吸引ノズル基部、ウェハまたはその吸着物等に関連する様々な凹凸や傾斜を修正する。これによって、平面度を確保するために、吸引ノズルを平坦に吸着されるようにするか、または平坦にウェハ或いは吸着物に貼り付けさせる。 The suction nozzle in the assembled structure has a seal component provided in the seal groove, and by utilizing the elasticity of the seal component, various irregularities and inclinations related to the fixed portion, suction nozzle, suction nozzle base, wafer or its adsorbent, etc. To fix. Thereby, in order to secure the flatness, the suction nozzle is made to be adsorbed flatly, or is attached flatly to the wafer or the adsorbed material.

組立構造にある吸引ノズル基部には、マグネットが設けられ、透磁率を有する固定座および吸引ノズル基部を合わせて、固定座と吸引ノズル基部との間は、磁気吸着により組立して接続する。吸引ノズル基部にはハンドルが設けられ、ハンドルを利用して吸引ノズル基部を組み立てるため、作業者が吸引ノズルの下端面に触れないように、迅速で簡便に吸引ノズル基部と吸引ノズルを固定部に取付け、または、固定部から取り外し可能である。また、ウェハ面を吸引するための吸引ノズルの下端面を汚染せず、固定部を取り付けまたは取り外す必要はない。 A magnet is provided at the suction nozzle base in the assembled structure, and the fixed seat having magnetic permeability and the suction nozzle base are combined, and the fixed seat and the suction nozzle base are assembled and connected by magnetic suction. A handle is provided on the base of the suction nozzle, and the base of the suction nozzle is assembled using the handle. It can be attached or removed from the fixed part. Further, the lower end surface of the suction nozzle for sucking the wafer surface is not contaminated, and it is not necessary to attach or remove the fixing portion.

操作環境の温度は、マグネットの磁力に影響を与える虞があるが、吸引ノズルの寿命がより短いために、それを取り換える必要がある前に、磁力に及ぼす温度の影響は、吸引ノズルの耐用年数が終了して、マグネットが、キュリー温度で完全に消磁されていない限り、ウェハを吸引と放置する作業に影響しない。 The temperature of the operating environment can affect the magnetic force of the magnet, but the effect of temperature on the magnetic force is the useful life of the suction nozzle before it needs to be replaced due to the shorter life of the suction nozzle. Does not affect the work of attracting and leaving the wafer, unless the magnet is completely demagnetized at the Curie temperature.

吸引ノズル基部は、そのガイド部に円錐孔道が設けられる。円錐孔道は、傾斜面で囲まれたテーパ状の円錐状の構造空間ある。吸引ノズル基部が傾いているとき、固定座の位置が変わらないため、ガイドポストが必要な相対変位空間を提供できる。これによって、吸引ノズル基部は、シール部品を合わせることができて、傾斜を介して、全体の組立またはウェハや或いは他の原因等で生じられた垂直オフセットに対応して、補正を行う。吸引ノズル基部は、その傾斜面と垂直線との間の角度が、固定部と、吸引ノズルと、ウェハ等のすべての可能な垂直オフセットの最大傾斜度を考えて設計されて、垂直オフセットを発生したとき、シール部品と組み合わせることに役に立って、オフセットを平坦度に補正することができる。 The suction nozzle base is provided with a conical hole path at the guide portion thereof. The conical hole path is a tapered conical structural space surrounded by an inclined surface. Since the position of the fixed seat does not change when the suction nozzle base is tilted, the guide post can provide the required relative displacement space. Thereby, the suction nozzle base can be fitted with the sealing component and compensates for the vertical offset caused by the whole assembly or the wafer or other causes through the tilt. The suction nozzle base is designed with the angle between its tilted surface and the vertical line taking into account the maximum tilt of the fixed part, the suction nozzle, and all possible vertical offsets of the wafer etc. to generate the vertical offset. When this is done, the offset can be corrected to flatness, which is useful in combination with the sealing parts.

吸引ノズル基部は、傾いているとき、その固定座と、傾斜で高さが異なっていても、シール部品が、2つの間の気密性を維持するために使用される。 The suction nozzle base is used to maintain airtightness between the fixed seat when tilted and the sealing component even if the height differs due to tilting.

固定座のガイドポストおよび吸引ノズル基部の円錐孔道は、固定座と吸引ノズル基部との中央に設けられる。従って、固定座の規格は、ウェハサイズが変化したとき、吸引ノズル基部と吸引ノズルを変更するだけで、固定座の規格を変更することがないように、簡略化可能である。これによって、固定座は、ウェハのサイズに合わせて変更する必要がなく、長い期間で使用できる。 The guide post of the fixed seat and the conical hole path at the base of the suction nozzle are provided at the center of the fixed seat and the base of the suction nozzle. Therefore, the standard of the fixed seat can be simplified so that the standard of the fixed seat is not changed only by changing the suction nozzle base and the suction nozzle when the wafer size changes. As a result, the fixed seat does not need to be changed according to the size of the wafer and can be used for a long period of time.

本発明の第1実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造の斜視図である。It is a perspective view of the assembly structure which connects the suction nozzle by 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造の底面を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the bottom surface of the assembly structure which connects the suction nozzle by 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造の分解斜視図である。It is an exploded perspective view of the assembly structure which connects the suction nozzle by 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造の底面図である。It is a bottom view of the assembly structure which connects the suction nozzle by 1st Embodiment of this invention. 図4のA-A線に沿った断面図を示す図である。It is a figure which shows the cross-sectional view along the line AA of FIG. 図5の部分拡大図である。It is a partially enlarged view of FIG. 図4のB-B線に沿った断面図を示す図である。It is a figure which shows the cross-sectional view along the line BB of FIG. 図6の部分拡大図である。It is a partially enlarged view of FIG. 図1のC-C線に沿った断面図を示す図である。It is a figure which shows the cross-sectional view along the line CC of FIG. 本発明の第1実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造の垂直オフセットの調整を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the adjustment of the vertical offset of the assembly structure connecting the suction nozzle by 1st Embodiment of this invention. 図8の部分拡大図である。It is a partially enlarged view of FIG. 本発明の第2実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造の分解斜視図である。It is an exploded perspective view of the assembly structure which connects the suction nozzle by 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造の分解斜視図である。It is an exploded perspective view of the assembly structure which connects the suction nozzle by the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造の断面図である。It is sectional drawing of the assembly structure connecting the suction nozzle by 3rd Embodiment of this invention. 図11の部分拡大図である。It is a partially enlarged view of FIG.

本発明の第1実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造を図1~図3を参照して説明する。図1~図3は、本発明の第1実施形態の斜視図と分解斜視図であって、吸引ノズルを接続する組立構造の中の組立構造は、固定座10と、吸引ノズル基部20とを含み、吸引ノズル基部20の下方は、吸引ノズル30を設けて、吸引ノズル30は、その下端面がウェハ40を吸引するためのものである。 The assembly structure for connecting the suction nozzles according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3. 1 to 3 are a perspective view and an exploded perspective view of the first embodiment of the present invention, and the assembly structure in the assembly structure connecting the suction nozzles includes a fixed seat 10 and a suction nozzle base 20. A suction nozzle 30 is provided below the suction nozzle base 20, and the lower end surface of the suction nozzle 30 is for sucking the wafer 40.

固定座10は、磁気伝導体である金属本体を有し、真空アスピレータ(図示せず)に係合するために、その上端面には係合部11が配置される。係合部11には、真空通路111が設けられる。真空通路111は、係合部11と下方の固定座10を貫通している。 The fixed seat 10 has a metal body which is a magnetic conductor, and an engaging portion 11 is arranged on the upper end surface thereof in order to engage with a vacuum ejector (not shown). The engaging portion 11 is provided with a vacuum passage 111. The vacuum passage 111 penetrates the engaging portion 11 and the lower fixed seat 10.

図3に示すように、固定座10の下端面には、中空のガイドポスト12が設けられる。ガイドポスト12は、真空通路111と連通しており、その外周に少なくとも1つの定位バンプ13を設ける。 As shown in FIG. 3, a hollow guide post 12 is provided on the lower end surface of the fixed seat 10. The guide post 12 communicates with the vacuum passage 111, and at least one localization bump 13 is provided on the outer periphery thereof.

本実施形態のガイドポスト12は、円筒状の中空円筒体となっている。定位バンプ13は、円弧状の表面を有するバンプであって、一体的にガイドポスト12の外周に形成される。実際のニーズに応じて、定位バンプ13は、鋼球でガイドポスト12の外周に接続されて、または、ガイドポスト12で鋼球を配置するための開口が設けられて、ガイドポスト12の外周に円弧状の表面を形成する構造を提供してもよい。ガイドポスト12は、楕円筒状の中空円筒体となる。 The guide post 12 of the present embodiment is a cylindrical hollow cylindrical body. The localization bump 13 is a bump having an arcuate surface, and is integrally formed on the outer periphery of the guide post 12. Depending on the actual needs, the localization bump 13 is connected to the outer circumference of the guide post 12 with a steel ball, or is provided with an opening for arranging the steel ball with the guide post 12 on the outer circumference of the guide post 12. A structure may be provided that forms an arcuate surface. The guide post 12 is a hollow cylindrical body having an elliptical cylinder shape.

吸引ノズル基部20には、その本体を貫通している定位部21が設けられる。定位部21は、固定座10の真空通路111と連通する。定位部21は、ガイド部22と定位凹溝23を含む。定位部21には、ガイドポスト12に対応してガイド部22が設けられる。また、ガイド部22の内部には、定位バンプ13に対応する定位凹溝23が設けられる。 The suction nozzle base 20 is provided with a localization portion 21 penetrating the main body thereof. The localization portion 21 communicates with the vacuum passage 111 of the fixed seat 10. The localization portion 21 includes a guide portion 22 and a localization recessed groove 23. The localization portion 21 is provided with a guide portion 22 corresponding to the guide post 12. Further, inside the guide portion 22, a localization recessed groove 23 corresponding to the localization bump 13 is provided.

図6の断面は、図4のB-B線に沿った断面図を示す図であって、断面の位置は、ちょうど固定座10の定位バンプ13が設けられる箇所である。図6に示すように、吸引ノズル基部20は、定位バンプ13と定位凹溝23とが対応し、ガイドポスト12のガイド部22を置かせることのために提供される。なお、図6Aに示すように、ガイド部22の円錐孔道220とガイドポスト12との間は、垂直線と角度θとなる傾斜面を有し、定位凹溝23と定位バンプ13との間は、垂直な当接面であり、構造対応の定位に役に立つ。 The cross section of FIG. 6 is a view showing a cross-sectional view taken along the line BB of FIG. 4, and the position of the cross section is exactly the place where the localization bump 13 of the fixed seat 10 is provided. As shown in FIG. 6, the suction nozzle base 20 is provided so that the localization bump 13 and the localization concave groove 23 correspond to each other and the guide portion 22 of the guide post 12 is placed. As shown in FIG. 6A, there is an inclined surface having a vertical line and an angle θ between the conical hole path 220 of the guide portion 22 and the guide post 12, and the space between the localization recess 23 and the localization bump 13 is , A vertical contact surface, useful for structural localization.

吸引ノズル基部20は、その両側にそれぞれハンドル25が設けられ、その下端面には、定位部21に連通する固定凹部26が設けられる。固定凹部26は、吸引ノズル30が接着固定するために設けられる。吸引ノズル30は、吸引ノズル基部20の下方に平らで貼り付けて固着されているため、吸引ノズル30の平面度を確保することができる。 The suction nozzle base 20 is provided with handles 25 on both sides thereof, and a fixed recess 26 communicating with the localization portion 21 is provided on the lower end surface thereof. The fixing recess 26 is provided for the suction nozzle 30 to be adhesively fixed. Since the suction nozzle 30 is flatly attached and fixed below the suction nozzle base 20, the flatness of the suction nozzle 30 can be ensured.

吸引ノズル基部20は、定位部21が固定座10の下方に対応することを利用して、図6Aに示すように、定位部21は、定位凹溝23が定位バンプ13対応する位置でガイドポスト12をガイド部22の内部に置かせる。それによって、吸引ノズル基部20を固定座10に組立させる。定位バンプ13と定位凹溝23との間が相対応する形状で固定座10と吸引ノズル基部20との組立構造にある水平変位を制限させて、2つの相対位置が制限されて、左右に移動することができないようにするため、吸引ノズル30が、真空下での操作使用に役に立つ。 The suction nozzle base 20 utilizes the fact that the localization portion 21 corresponds to the lower part of the fixed seat 10, and as shown in FIG. 6A, the localization portion 21 has a guide post at a position where the localization recess 23 corresponds to the localization bump 13. 12 is placed inside the guide portion 22. Thereby, the suction nozzle base 20 is assembled to the fixed seat 10. The horizontal displacement in the assembly structure of the fixed seat 10 and the suction nozzle base 20 is restricted by the shape in which the localization bump 13 and the localization concave groove 23 correspond to each other, and the two relative positions are restricted to move left and right. The suction nozzle 30 is useful for operational use under vacuum so that it cannot be used.

本実施形態では、定位バンプ13と定位凹溝23とは、一対一の相応で設置されるが、要求に応じて、選択的に相対応する構造の数を増やすこともできるし、或いは、1つの定位バンプ13が2つの定位凹溝23に対応することで、異なる吸引ノズル基部20の方向を選択して固定座10に組立させる。 In the present embodiment, the localization bump 13 and the localization concave groove 23 are installed in a one-to-one manner, but the number of structures that selectively correspond to each other can be selectively increased, or 1 Since the two localization bumps 13 correspond to the two localization recesses 23, the directions of the different suction nozzle bases 20 are selected and assembled into the fixed seat 10.

図5および図5Aに示すように、ガイド部22は、固定座10を貫通して、幅がテーパとなる円錐孔道220を有する。円錐孔道220の内部は、定位凹溝23と相互に接続して、図7に示すように定位部21の開き穴の形状を形成する。 As shown in FIGS. 5 and 5A, the guide portion 22 has a conical hole path 220 that penetrates the fixed seat 10 and tapers in width. The inside of the conical hole path 220 is interconnected with the localization concave groove 23 to form the shape of the opening hole of the localization portion 21 as shown in FIG. 7.

図5にある断面は、図4のA-A線に沿った断面図を示す図であって、断面線は、固定座10の定位バンプ13が設けられていない箇所であるため、ガイドポスト12をガイド部22の内部に置かせることが図に示されている。図5Aに示すように、円錐孔道220は、垂直線に対して角度θをなす傾斜面を有するため、ガイド部22がガイドポスト12に対する両側は、幅がテーパとなる傾斜面を呈する。図5Aでは、他の面の上の定位バンプ13は、破線で示す。ガイド部22の円錐孔道220は、垂直線とのなす角度が1度~5度である傾斜面を有する。実際の要求に応じて、円錐孔道120の傾斜面と垂直線との間の夾角θは、2度、2.5度、3度、3.5度、4度または4.5度となって、夾角θの好ましい範囲は、2度~2.5度である。 The cross section in FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 4, and the cross-sectional line is a portion where the localization bump 13 of the fixed seat 10 is not provided, so that the guide post 12 Is shown in the figure to be placed inside the guide portion 22. As shown in FIG. 5A, since the conical hole path 220 has an inclined surface having an angle θ with respect to the vertical line, both sides of the guide portion 22 with respect to the guide post 12 exhibit an inclined surface having a tapered width. In FIG. 5A, the localization bump 13 on the other surface is indicated by a broken line. The conical hole path 220 of the guide portion 22 has an inclined surface having an angle of 1 degree to 5 degrees with the vertical line. Depending on the actual requirements, the deviation angle θ between the inclined surface of the conical hole 120 and the vertical line can be 2 degrees, 2.5 degrees, 3 degrees, 3.5 degrees, 4 degrees or 4.5 degrees. The preferred range of the angle θ is 2 degrees to 2.5 degrees.

本実施形態にある固定座10および吸引ノズル基部20は、同様に導磁性を備えている。吸引ノズル基部20の上端面には、シール溝27および凹部28が設けられる。図3および図7に示すように、定位部21は、凹部28の範囲に相対して、凹部28の底面から突出する。凹部28に、マグネット29を設置することで、固定座10と吸引ノズル基部20との間は、磁気吸着により組立して接続される。固定座10および吸引ノズル基部20は、導磁材料であるため、磁力が吸引ノズル30の下端から漏れることが防止される。 The fixed seat 10 and the suction nozzle base 20 in the present embodiment are similarly provided with magnetic conduction. A seal groove 27 and a recess 28 are provided on the upper end surface of the suction nozzle base 20. As shown in FIGS. 3 and 7, the localization portion 21 projects from the bottom surface of the recess 28 relative to the range of the recess 28. By installing the magnet 29 in the recess 28, the fixed seat 10 and the suction nozzle base 20 are assembled and connected by magnetic suction. Since the fixed seat 10 and the suction nozzle base 20 are magnetically conductive materials, magnetic force is prevented from leaking from the lower end of the suction nozzle 30.

なお、吸引ノズル基部20は、磁性で固定座10に吸着されて、従来の埋め込み式の組立構造を改良することができる。設置時には、不用意に吸引ノズル基部20を最底面に押し付けて固定座10に平らで貼り付けさせて、吸引ノズル基部20に組み付けられた吸引ノズル30は、同時に傾斜しており、吸着されたウェハ40が作業中に破損するという問題がある。 The suction nozzle base 20 is magnetically attracted to the fixed seat 10 to improve the conventional embedded assembly structure. At the time of installation, the suction nozzle base 20 is inadvertently pressed against the bottommost surface to be flatly attached to the fixed seat 10, and the suction nozzle 30 assembled to the suction nozzle base 20 is tilted at the same time and is attracted to the wafer. There is a problem that 40 is damaged during work.

吸引ノズル基部20のシール溝27は、凹部28の外側に設けられる。図3に示すように、シール溝27は、凹部28の外側を囲む。図7に示すように、シール溝27中に付着係合して、シール部品271を設ける。シール部品271は、組立後、固定座10と吸引ノズル基部20との間で挟まれシール部品271の上端は、固定座10の底面に係合する。シール部品271は、シール溝27と対応して同様の外形に形成される。 The seal groove 27 of the suction nozzle base 20 is provided on the outside of the recess 28. As shown in FIG. 3, the seal groove 27 surrounds the outside of the recess 28. As shown in FIG. 7, the seal component 271 is provided by adhering and engaging in the seal groove 27. After assembly, the seal component 271 is sandwiched between the fixed seat 10 and the suction nozzle base 20, and the upper end of the seal component 271 engages with the bottom surface of the fixed seat 10. The seal component 271 is formed to have a similar outer shape to correspond to the seal groove 27.

図7の断面は、図1のC-C線に沿った断面図を示す図であって、断面線は、吸引ノズル基部20全体を横断方向である。図7は、定位部21を示す。定位部21は、ガイド部22と定位凹溝23と接続することにより形成される開口の形状を有する。マグネット29は、凹部28の底面から突出する定位部21とシール部品271で、内外に囲まれる。 The cross section of FIG. 7 is a view showing a cross-sectional view taken along the line CC of FIG. 1, and the cross-sectional line is a cross-sectional direction of the entire suction nozzle base 20. FIG. 7 shows the localization unit 21. The localization portion 21 has the shape of an opening formed by connecting the guide portion 22 and the localization recessed groove 23. The magnet 29 is surrounded inside and outside by a localization portion 21 protruding from the bottom surface of the recess 28 and a sealing component 271.

シール部品271は、弾性を有し、同時に、固定座10と吸引ノズル基部20との間の気密構造を確保にすることができ(図6及び図8参照)、真空操作の下で2つの間の真空度を維持できる。従って、吸引ノズル30が真空下で操作使用することに役に立つ。シール部品271の弾性材質は、固定座10と、吸引ノズル基部20と、吸引ノズル30と、ウェハ40に関する様々な構造上に生じた不規則性又は傾斜を修正することができ、吸引ノズル30が、ウェハ40に平坦に吸着することまたは平らで貼り付けることができる。 The sealing component 271 is elastic and at the same time can ensure an airtight structure between the fixed seat 10 and the suction nozzle base 20 (see FIGS. 6 and 8), between the two under vacuum operation. The degree of vacuum can be maintained. Therefore, the suction nozzle 30 is useful for operation and use under vacuum. The elastic material of the sealing component 271 can correct irregularities or tilts that occur in the fixed seat 10, the suction nozzle base 20, the suction nozzle 30, and the various structures of the wafer 40, and the suction nozzle 30 , Can be attached flat to the wafer 40 or attached flat.

実際には、温度は、吸引ノズル基部20のマグネット29に影響を及ぼす可能性があり、更に磁力に影響を与える。しかしながら、吸引ノズル30の寿命が短いため、吸引ノズル30を交換する必要がある前に、マグネット29に対する温度の影響は、吸引ノズル30の耐用年数が終了する前にマグネット29が、キュリー温度で完全に消磁されていない限り、吸引と放置する作業に影響を及ぼさない。 In practice, the temperature can affect the magnet 29 of the suction nozzle base 20 and further affect the magnetic force. However, due to the short life of the suction nozzle 30, the effect of temperature on the magnet 29 before the suction nozzle 30 needs to be replaced is that the magnet 29 is completely at Curie temperature before the end of the useful life of the suction nozzle 30. It does not affect suction and leaving work unless it is demagnetized.

図5、図6、および図8に示すように、吸引ノズル基部20の下端面には、吸引ノズル30が固定される。吸引ノズル30の頂面は、通路31と、複数の吸引ノズル30の貫通孔32とを含む。貫通孔32は、通路31を通って、固定座10の下端面のガイドポスト12と連通して、また真空通路111と連通させて、真空通路111と貫通孔32とが空気通路を形成する。それによって、吸引ノズル30は、真空吸着装置(図示せず)を利用して吸気するとき、真空通路111が、生じた真空吸力を通って、ウェハ40を吸着する。このとき、ウェハ40は、吸引ノズル30が組立後、ウェハ40を吸着するための下端面33に取り付けられる。 As shown in FIGS. 5, 6 and 8, the suction nozzle 30 is fixed to the lower end surface of the suction nozzle base 20. The top surface of the suction nozzle 30 includes a passage 31 and through holes 32 of the plurality of suction nozzles 30. The through hole 32 communicates with the guide post 12 on the lower end surface of the fixed seat 10 through the passage 31, and also communicates with the vacuum passage 111, so that the vacuum passage 111 and the through hole 32 form an air passage. As a result, when the suction nozzle 30 sucks air using a vacuum suction device (not shown), the vacuum passage 111 sucks the wafer 40 through the generated vacuum suction force. At this time, the wafer 40 is attached to the lower end surface 33 for sucking the wafer 40 after the suction nozzle 30 is assembled.

通常の使用条件では、吸引ノズル30の下端面33は、直接にウェハ40取り付けることができる。しかしながら、ウェハ40の表面が平坦でない場合やウェハ40が異常に配置された場合には、ウェハ40の表面が相対に吸引ノズル30の下端面33と傾斜状態となることを起こす。 Under normal usage conditions, the lower end surface 33 of the suction nozzle 30 can be directly attached to the wafer 40. However, when the surface of the wafer 40 is not flat or when the wafer 40 is arranged abnormally, the surface of the wafer 40 is relatively inclined with the lower end surface 33 of the suction nozzle 30.

このような状況において、吸引ノズル30の下端面33が相対的に傾斜を呈するウェハ40の表面に貼り付けさせるために、吸引ノズル30と吸引ノズル基部20とを一緒に傾斜させる必要があり、ウェハ40の構造を損なうことなくようにウェハ40と貼り付けるのを維持できる。 In such a situation, in order to attach the lower end surface 33 of the suction nozzle 30 to the surface of the wafer 40 which is relatively inclined, it is necessary to incline the suction nozzle 30 and the suction nozzle base 20 together, and the wafer needs to be inclined. It can be maintained to be attached to the wafer 40 without damaging the structure of the 40.

本実施形態の組立構造には、ガイド部22の円錐孔道220は、定位バンプ13の下方に相対して、徐々に広がった孔道を有する。これは、円錐孔道220の傾斜面で囲まれた幅がテーパとなる円錐状の構造空間である。吸引ノズル基部20は、傾いた時、固定座10は、元の位置を維持しているが、ガイドポスト12は、傾けられないため、円錐孔道220は、吸引ノズル基部20が傾いているとき、ガイドポスト12に必要な相対変位空間を提供して、吸引ノズル基部20を傾斜方向に応じて上下に垂直調整させる。 In the assembled structure of the present embodiment, the conical hole path 220 of the guide portion 22 has a hole path that gradually widens toward the lower side of the localization bump 13. This is a conical structural space with a tapered width surrounded by an inclined surface of the conical hole path 220. When the suction nozzle base 20 is tilted, the fixed seat 10 maintains its original position, but the guide post 12 is not tilted, so that the conical hole 220 is when the suction nozzle base 20 is tilted. The guide post 12 is provided with the necessary relative displacement space to vertically adjust the suction nozzle base 20 up and down according to the tilt direction.

吸引ノズル基部20は、傾いているとき、固定座10との傾きによる高低差があり、この場合、固定座10と吸引ノズル基部20との間に挟まれたシール部品271を利用して、その2つの密着度を維持する。 When the suction nozzle base 20 is tilted, there is a height difference due to the tilt with the fixed seat 10. In this case, the seal component 271 sandwiched between the fixed seat 10 and the suction nozzle base 20 is used. Maintain two degrees of adhesion.

シール部品271は、吸引ノズル基部20の高さより高くなっており、固定座10の下端面と吸引ノズル基部20の上端面との間に予め保留した調整空間14が形成される。その高さは、ウェハ40自体とウェハ40が吸引と放置することに必要なそれぞれの構成部品の組立の公差を考慮して設定される。同時にシール部品271の弾性を利用して、傾斜によって生じた垂直高低差を補償することができるので、吸引ノズル基部20は、傾斜している間に全体の構造にある気密度を維持できて、組み立てることによって累積された垂直許容オフセットを自動的に調整すると同時に、吸引ノズル30の水平ポジショナーとなる。 The seal component 271 is higher than the height of the suction nozzle base 20, and a pre-reserved adjustment space 14 is formed between the lower end surface of the fixed seat 10 and the upper end surface of the suction nozzle base 20. The height is set in consideration of the assembly tolerance of the wafer 40 itself and the respective components required for the wafer 40 to be sucked and left. At the same time, the elasticity of the sealing component 271 can be used to compensate for the vertical height difference caused by the tilt, so that the suction nozzle base 20 can maintain the airtightness of the entire structure while tilting. Assembling automatically adjusts the accumulated vertical allowable offset and at the same time serves as a horizontal positioner for the suction nozzle 30.

ガイド部22の円錐孔道220は、シール部品271を合わせて、構造上に組み立てた垂直許容オフセットを修正して、ウェハ40の表面が、吸引ノズル30と傾斜となる使用状況下で操作を調整できて、しかも、円錐孔道220が接続する定位凹溝23とガイドポスト12の外周にある定位バンプ13の間に対応する構造関係は、同時に全体組立構造を相対の水平変位にさせない。円錐孔道220の傾斜面と垂直線との間の角度θは、固定座10と、吸引ノズル基部20と、吸引ノズル30と、ウェハ40等の可能な垂直オフセットの最大傾きを考慮に入れて設定される。 The conical hole path 220 of the guide portion 22 can adjust the operation under the usage situation where the surface of the wafer 40 is inclined with the suction nozzle 30 by adjusting the vertical allowable offset assembled on the structure together with the sealing component 271. Moreover, the corresponding structural relationship between the localization recess 23 to which the conical hole 220 is connected and the localization bump 13 on the outer periphery of the guide post 12 does not simultaneously cause the overall assembly structure to be in relative horizontal displacement. The angle θ between the inclined surface of the conical hole 220 and the vertical line is set in consideration of the fixed seat 10, the suction nozzle base 20, the suction nozzle 30, and the maximum inclination of the possible vertical offset of the wafer 40 and the like. Will be done.

第1実施形態による組立構造を組み立てているときに、シール部品271をシール溝27に入れる。次に、マグネット29を吸引ノズル基部20の凹部28に配置する。そして、吸引ノズル30を吸引ノズル基部20の固定凹部26に付着させる。最後に、手で吸引ノズル基部20の両側に設置されているハンドル25を掴み、定位凹溝23を定位バンプ13の位置に合わせることで、ガイド部22をガイドポスト12に接続されて、マグネット29の吸引力で、吸引ノズル基部20と付着した吸引ノズル30を固定座10に吸着させて、ウェハ載置装置を組み立てる。一方、取り外すとき、手で吸引ノズル基部20のハンドル25をつかんで引き出すことができて、即ち、吸引ノズル基部20と吸引ノズル30を一緒に取り外すことができる。 When assembling the assembly structure according to the first embodiment, the seal component 271 is inserted into the seal groove 27. Next, the magnet 29 is arranged in the recess 28 of the suction nozzle base 20. Then, the suction nozzle 30 is attached to the fixed recess 26 of the suction nozzle base 20. Finally, by grasping the handles 25 installed on both sides of the suction nozzle base 20 by hand and aligning the localization concave groove 23 with the position of the localization bump 13, the guide portion 22 is connected to the guide post 12 and the magnet 29 is connected. The suction nozzle base 20 and the attached suction nozzle 30 are attracted to the fixed seat 10 by the suction force of the above, and the wafer mounting device is assembled. On the other hand, when removing, the handle 25 of the suction nozzle base 20 can be grasped and pulled out by hand, that is, the suction nozzle base 20 and the suction nozzle 30 can be removed together.

吸引ノズル基部20のハンドル25を利用して、作業者が吸引ノズル30の下端面33に触れないように、吸引ノズル30を直接に固定座10に設置させて、または、固定座10から取り外すことができる。これによって、吸引ノズル30の下端面33を汚染することがなく、設備上にある固定座10を取り外す必要はないため、迅速に吸引ノズル30を固定座10に設置することができる。 Using the handle 25 of the suction nozzle base 20, the suction nozzle 30 is directly installed on the fixed seat 10 or removed from the fixed seat 10 so that the operator does not touch the lower end surface 33 of the suction nozzle 30. Can be done. As a result, the lower end surface 33 of the suction nozzle 30 is not contaminated, and it is not necessary to remove the fixed seat 10 on the equipment, so that the suction nozzle 30 can be quickly installed on the fixed seat 10.

(第2実施形態)
本発明の第2実施形態を、図9を参照して説明する。第2実施形態の構造は、第1実施形態とほぼ同様であり、同様の機能を有するものであり、説明を簡略化するために、同一の符号を付して説明を省略する。
(Second Embodiment)
A second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The structure of the second embodiment is substantially the same as that of the first embodiment and has the same function. In order to simplify the description, the same reference numerals are given and the description thereof will be omitted.

第2実施形態と第1実施形態の相違点は、第2実施形態の吸引ノズル基部20Aの定位部21Aが、ガイド部22の内部に形成される2つの定位凹溝231、232に接続する定位凹溝231又は定位凹溝232で定位バンプ13に対応してガイドポスト12をガイド部22の内部に置かせて、同様に吸引ノズル基部20が相対的に固定座10の下方に組み立てるようガイドすることができる。 The difference between the second embodiment and the first embodiment is that the localization portion 21A of the suction nozzle base 20A of the second embodiment is connected to the two localization recesses 231 and 232 formed inside the guide portion 22. The guide post 12 is placed inside the guide portion 22 corresponding to the localization bump 13 by the concave groove 231 or the localization concave groove 232, and similarly guides the suction nozzle base 20 to be relatively assembled below the fixed seat 10. be able to.

(第3実施形態)
本発明の第3実施形態を、図10および図11を参照して説明する。第3実施形態の構造は、第1実施形態とほぼ同様であり、同様の機能を有するものであり、説明を簡略化するために、同一の符号を付して説明を省略する。
(Third Embodiment)
A third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 10 and 11. The structure of the third embodiment is substantially the same as that of the first embodiment and has the same function. In order to simplify the description, the same reference numerals are given and the description thereof will be omitted.

第3実施形態と第1実施形態の相違点は、第3実施形態の固定座10Bのガイドポスト12Bは、四角柱状の中空円筒である。ガイドポスト12Bの側柱上には、第1実施形態の定位バンプ13が設けられない。 The difference between the third embodiment and the first embodiment is that the guide post 12B of the fixed seat 10B of the third embodiment is a hollow cylinder having a square columnar shape. The localization bump 13 of the first embodiment is not provided on the side pillar of the guide post 12B.

吸引ノズル基部20Bの定位部21Bは、ガイドポスト12Bと相互に接続できるように、ガイドポスト12Bとに対応する形状に形成される。図11および図11Aに示すような四角形の定位部21Bは、ピラミッド状のような幅がテーパとなる円錐孔道210Bを有する。吸引ノズル基部20Bの上下端面には、それぞれ上端孔211Bおよび下端孔212Bが形成される。また、吸引ノズル基部20Bは、孔径がより小さい上端孔211Bでガイドポスト12Bと接続する。 The localization portion 21B of the suction nozzle base 20B is formed in a shape corresponding to the guide post 12B so as to be interconnected with the guide post 12B. The quadrangular localization portion 21B as shown in FIGS. 11 and 11A has a conical hole path 210B having a tapered width such as a pyramid shape. An upper end hole 211B and a lower end hole 212B are formed on the upper and lower end surfaces of the suction nozzle base 20B, respectively. Further, the suction nozzle base 20B is connected to the guide post 12B by an upper end hole 211B having a smaller hole diameter.

定位部21Bの円錐孔道210Bは、4つの連続する傾斜面であり、傾斜面の数は、ガイドポスト12Bの側柱面の数と同じである。円錐孔道210Bの傾斜面と垂直線とのなす角度θは、第1実施形態と同じである。第3実施形態のガイドポスト12Bの柱体は、必要に応じて凸四角形または三角形のいずれかの断面形状を有するように予め設けられる。 The conical hole path 210B of the localization portion 21B is four continuous inclined surfaces, and the number of inclined surfaces is the same as the number of side pillar surfaces of the guide post 12B. The angle θ formed by the inclined surface of the conical hole path 210B and the vertical line is the same as that of the first embodiment. The pillar body of the guide post 12B of the third embodiment is provided in advance so as to have a cross-sectional shape of either a convex quadrangle or a triangle, if necessary.

固定座10Bと吸引ノズル基部20Bとの間には、シール部品271が設けられる。図11および図11Aに示すように、定位部21Bの円錐孔道210Bは、上端孔211Bの下方に相対してより広い孔道を有する。吸引ノズル基部20が傾いているとき、より広い孔道でガイドポスト12Bに必要な相対変位空間を提供して、吸引ノズル30の下端面33が傾斜したウェハの表面に取り付けられるような場合に有利である。シール部品271を利用して、固定座10Bと吸引ノズル基部20Bとの組立構造の密着度を維持する。 A sealing component 271 is provided between the fixed seat 10B and the suction nozzle base 20B. As shown in FIGS. 11 and 11A, the conical hole 210B of the localization portion 21B has a wider hole below the upper end hole 211B. It is advantageous when the suction nozzle base 20 is tilted to provide the required relative displacement space for the guide post 12B in a wider hole and the lower end surface 33 of the suction nozzle 30 is attached to the surface of the tilted wafer. be. The sealing component 271 is used to maintain the degree of adhesion between the fixed seat 10B and the suction nozzle base 20B.

本実施形態による組立構造には、ガイドポスト12、12Bおよび定位部21、21Bは、全て予め固定座10、10Bと吸引ノズル基部20、20A、20Bとの中央に位置する。従って、固定座10の規格を1つに簡略化することができるが、ウェハ40のサイズを変更する場合に、それに応じて、適当な吸引ノズル基部20、20A、20Bと吸引ノズル30を取り換えるだけでよく、固定座10、10Bの規格を変更することないように簡単化できる。これによって、固定座10、10Bを長時間使用することができ、固定座10、10Bを取り換えるための時間とコストを節約することができる。 In the assembly structure according to the present embodiment, the guide posts 12, 12B and the localization portions 21, 21B are all preliminarily located at the center of the fixed seats 10, 10B and the suction nozzle bases 20, 20A, 20B. Therefore, the standard of the fixed seat 10 can be simplified to one, but when the size of the wafer 40 is changed, only the appropriate suction nozzle bases 20, 20A, 20B and the suction nozzle 30 are replaced accordingly. It can be simplified so as not to change the standard of the fixed seats 10 and 10B. As a result, the fixed seats 10 and 10B can be used for a long time, and the time and cost for replacing the fixed seats 10 and 10B can be saved.

上述したのは、本発明の好ましい実施形態であって、本発明は、上記実施形態において説明したものに限定されるものではなく、かつ発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々の設計変更、補正、替代、組合、簡単化、等価的に置き換えることが可能であることは当然のことである。 The above is a preferred embodiment of the present invention, and the present invention is not limited to the one described in the above embodiment, and various design changes and corrections are made without departing from the gist of the invention. , Substitution, union, simplification, and equivalent replacement is of course possible.

10・・・固定座
10B・・・固定座
11・・・係合部
111・・・真空通路
12・・・ガイドポスト
12B・・・ガイドポスト
120・・・円錐孔道
13・・・定位バンプ
14・・・調整空間
20・・・吸引ノズル基部
20A・・・吸引ノズル基部
20B・・・吸引ノズル基部
21・・・定位部
21B・・・定位部
210B・・・円錐孔道
211B・・・上端孔
212B・・・下端孔
22・・・ガイド部
220・・・円錐孔道
23・・・定位凹溝
25・・・ハンドル
26・・・固定凹部
27・・・シール溝
271・・・シール部品
28・・・凹部
29・・・マグネット
30・・・吸引ノズル
31・・・通路
32・・・貫通孔
33・・・下端面
40・・・ウェハ
10 ... Fixed seat 10B ... Fixed seat 11 ... Engagement part 111 ... Vacuum passage 12 ... Guide post 12B ... Guide post 120 ... Conical hole path 13 ... Localization bump 14・ ・ ・ Adjustment space 20 ・ ・ ・ Suction nozzle base 20A ・ ・ ・ Suction nozzle base 20B ・ ・ ・ Suction nozzle base 21 ・ ・ ・ Localization part 21B ・ ・ ・ Localization part 210B ・ ・ ・ Conical hole path 211B ・ ・ ・ Upper end hole 212B ・ ・ ・ Lower end hole 22 ・ ・ ・ Guide part 220 ・ ・ ・ Conical hole path 23 ・ ・ ・ Localized concave groove 25 ・ ・ ・ Handle 26 ・ ・ ・ Fixed concave part 27 ・ ・ ・ Seal groove 271 ・ ・ ・ Seal parts 28 ・・ ・ Recess 29 ・ ・ ・ Magnet 30 ・ ・ ・ Suction nozzle 31 ・ ・ ・ Passage 32 ・ ・ ・ Through hole 33 ・ ・ ・ Lower end surface 40 ・ ・ ・ Wafer

Claims (17)

吸引ノズルを接続する組立構造であって、吸引ノズルの組立に使われて、前記組立構造は、固定座と、吸引ノズル基部とを含み、
前記固定座は、導磁の本体を有し、その上端面には係合部が設けられ、前記係合部には真空通路が設けられ、前記固定座の下端面には中空のガイドポストが設けられ、前記ガイドポストは、外周に少なくとも1つの定位バンプが設けられ前記真空通路と連通し、
前記吸引ノズル基部は、導磁の本体を有し、前記吸引ノズルが設けられ、
前記吸引ノズル基部には、その本体を貫通している定位部が設けられ、前記定位部には、前記ガイドポストに対応するガイド部が設けられ、前記ガイド部の内部には、前記定位バンプに対応する定位凹溝が設けられ、前記定位部は、前記定位凹溝が前記定位バンプに対応している位置を介して、前記ガイドポストを前記ガイド部に置かせることで、前記吸引ノズル基部を前記固定座に組立させて、または、前記固定座と前記吸引ノズル基部との組立構造上での水平変位を制限し、
前記定位凹溝の数は、前記定位バンプより多く、
前記吸引ノズル基部は、選択的に前記定位凹溝が前記定位バンプに対応している位置を利用して前記固定座に組立させることを特徴とする吸引ノズルを接続する組立構造。
An assembly structure connecting suction nozzles, used for assembling suction nozzles, said assembly structure comprising a fixed seat and a suction nozzle base.
The fixed seat has a magnetic guiding body, an engaging portion is provided on the upper end surface thereof, a vacuum passage is provided on the engaging portion, and a hollow guide post is provided on the lower end surface of the fixed seat. The guide post is provided so that the guide post is provided with at least one localization bump on the outer periphery and communicates with the vacuum passage.
The suction nozzle base has a main body of magnetism, and the suction nozzle is provided.
The suction nozzle base is provided with a localization portion penetrating the main body, the localization portion is provided with a guide portion corresponding to the guide post, and the localization portion is inside the guide portion. A localization recess corresponding to the bump is provided, and the localization portion is formed by placing the guide post on the guide portion via a position where the localization recess corresponds to the localization bump, whereby the suction nozzle is provided. Assemble the base to the fixed seat, or limit the horizontal displacement of the fixed seat and the suction nozzle base on the assembly structure .
The number of the localization recesses is larger than that of the localization bumps.
The suction nozzle base is an assembly structure for connecting a suction nozzle, which comprises selectively assembling the suction nozzle to the fixed seat by utilizing the position where the localization concave groove corresponds to the localization bump .
前記定位バンプは、円弧状の表面を有することを特徴とする請求項1に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。 The assembly structure for connecting the suction nozzle according to claim 1, wherein the localization bump has an arcuate surface. 前記定位バンプは、鋼球で前記ガイドポストの外周に接続される、または、前記ガイドポストで鋼球を配置するための開口が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。 The suction nozzle according to claim 1, wherein the localization bump is connected to the outer periphery of the guide post by a steel ball, or is provided with an opening for arranging the steel ball in the guide post. Assembly structure to connect. 吸引ノズルを接続する組立構造であって、吸引ノズルの組立に使われて、前記組立構造は、固定座と、吸引ノズル基部とを含み、
前記固定座は、導磁の本体を有し、その上端面には係合部が設けられ、前記係合部には真空通路が設けられ、前記固定座の下端面には中空のガイドポストが設けられ、前記ガイドポストは、外周に少なくとも1つの定位バンプが設けられ前記真空通路と連通し、
前記吸引ノズル基部は、導磁の本体を有し、前記吸引ノズルが設けられ、
前記吸引ノズル基部には、その本体を貫通している定位部が設けられ、前記定位部には、前記ガイドポストに対応するガイド部が設けられ、前記ガイド部の内部には、前記定位バンプに対応する定位凹溝が設けられ、前記定位部は、前記定位凹溝が前記定位バンプに対応している位置を介して、前記ガイドポストを前記ガイド部に置かせることで、前記吸引ノズル基部を前記固定座に組立させて、または、前記固定座と前記吸引ノズル基部との組立構造上での水平変位を制限し、
前記吸引ノズル基部には、マグネットを設置するための凹部が設けられ、
前記定位部は、前記凹部の範囲に相対して、前記凹部の底面から突出し、
前記固定座と前記吸引ノズル基部とは、磁気吸着により組立して接続し、
前記吸引ノズル基部には、シール溝が設けられ、
前記シール溝には、前記凹部の外側を囲んで形成され、シール部品が設けられ、
前記シール部品は、弾性材料により形成されることを特徴とする吸引ノズルを接続する組立構造。
An assembly structure connecting suction nozzles, used for assembling suction nozzles, said assembly structure comprising a fixed seat and a suction nozzle base.
The fixed seat has a magnetic guiding body, an engaging portion is provided on the upper end surface thereof, a vacuum passage is provided on the engaging portion, and a hollow guide post is provided on the lower end surface of the fixed seat. The guide post is provided so that the guide post is provided with at least one localization bump on the outer periphery and communicates with the vacuum passage.
The suction nozzle base has a main body of magnetism, and the suction nozzle is provided.
The suction nozzle base is provided with a localization portion penetrating the main body, the localization portion is provided with a guide portion corresponding to the guide post, and the localization portion is inside the guide portion. A localization recess corresponding to the bump is provided, and the localization portion is formed by placing the guide post on the guide portion via a position where the localization recess corresponds to the localization bump, whereby the suction nozzle is provided. Assemble the base to the fixed seat, or limit the horizontal displacement of the fixed seat and the suction nozzle base on the assembly structure .
The suction nozzle base is provided with a recess for installing a magnet.
The localization portion protrudes from the bottom surface of the recess with respect to the range of the recess.
The fixed seat and the suction nozzle base are assembled and connected by magnetic adsorption, and are connected.
A seal groove is provided at the base of the suction nozzle.
The seal groove is formed so as to surround the outside of the recess, and a seal component is provided.
The sealing component is an assembly structure for connecting a suction nozzle, which is characterized by being formed of an elastic material .
吸引ノズルを接続する組立構造であって、吸引ノズルの組立に使われて、前記組立構造は、固定座と、吸引ノズル基部とを含み、
前記固定座は、導磁の本体を有し、その上端面には係合部が設けられ、前記係合部には真空通路が設けられ、前記固定座の下端面には中空のガイドポストが設けられ、前記ガイドポストは、外周に少なくとも1つの定位バンプが設けられ前記真空通路と連通し、
前記吸引ノズル基部は、導磁の本体を有し、前記吸引ノズルが設けられ、
前記吸引ノズル基部には、その本体を貫通している定位部が設けられ、前記定位部には、前記ガイドポストに対応するガイド部が設けられ、前記ガイド部の内部には、前記定位バンプに対応する定位凹溝が設けられ、前記定位部は、前記定位凹溝が前記定位バンプに対応している位置を介して、前記ガイドポストを前記ガイド部に置かせることで、前記吸引ノズル基部を前記固定座に組立させて、または、前記固定座と前記吸引ノズル基部との組立構造上での水平変位を制限し、
前記固定座と前記吸引ノズル基部との間には、シール部品が設けられ、
前記ガイド部は、テーパ状の円錐孔道を有し、
前記定位凹溝は、前記円錐孔道の内部に位置し、
前記定位部は、前記円錐孔道の比較的に広い側に相対することで前記吸引ノズル基部が傾いているとき、前記ガイドポストに必要な相対変位空間を提供して、前記吸引ノズルの下端面が傾斜したウェハの表面に取り付け可能であって、前記シール部品を利用して、前記固定座と前記吸引ノズル基部との組立構造の密着度を維持することを特徴とする吸引ノズルを接続する組立構造。
An assembly structure connecting suction nozzles, used for assembling suction nozzles, said assembly structure comprising a fixed seat and a suction nozzle base.
The fixed seat has a magnetic guiding body, an engaging portion is provided on the upper end surface thereof, a vacuum passage is provided on the engaging portion, and a hollow guide post is provided on the lower end surface of the fixed seat. The guide post is provided so that the guide post is provided with at least one localization bump on the outer periphery and communicates with the vacuum passage.
The suction nozzle base has a main body of magnetism, and the suction nozzle is provided.
The suction nozzle base is provided with a localization portion penetrating the main body, the localization portion is provided with a guide portion corresponding to the guide post, and the localization portion is inside the guide portion. A localization recess corresponding to the bump is provided, and the localization portion is formed by placing the guide post on the guide portion via a position where the localization recess corresponds to the localization bump, whereby the suction nozzle is provided. Assemble the base to the fixed seat, or limit the horizontal displacement of the fixed seat and the suction nozzle base on the assembly structure .
A sealing component is provided between the fixed seat and the suction nozzle base.
The guide portion has a tapered conical hole path and has a tapered conical hole path.
The stereotactic groove is located inside the conical hole and is located inside.
The localization portion faces a relatively wide side of the conical hole path to provide the relative displacement space required for the guide post when the suction nozzle base is tilted so that the lower end surface of the suction nozzle is tilted. An assembly structure for connecting a suction nozzle , which can be attached to the surface of an inclined wafer and uses the sealing component to maintain a close contact between the fixed seat and the suction nozzle base. ..
前記円錐孔道の傾斜面は、垂直線との間の角度が1度から5度であることを特徴とする請求項に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。 The assembly structure for connecting a suction nozzle according to claim 5 , wherein the inclined surface of the conical hole path has an angle of 1 degree to 5 degrees from the vertical line. 前記傾斜面と前記垂直線との間の角度は、2度~2.5度であることを特徴とする請求項に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。 The assembly structure for connecting the suction nozzles according to claim 6 , wherein the angle between the inclined surface and the vertical line is 2 degrees to 2.5 degrees. 前記吸引ノズル基部には、シール溝および凹部が設けられ、
前記定位部は、前記凹部の範囲に相対して、前記凹部の底面からから突出し、
前記凹部には、マグネットが設置され、
前記固定座と前記吸引ノズル基部との間は、磁気吸着により組立して接続し、
前記シール溝は前記凹部の外側を囲み、前記シール部品は前記シール溝に設けられることを特徴とする請求項に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。
The suction nozzle base is provided with a seal groove and a recess.
The localization portion projects from the bottom surface of the recess relative to the range of the recess.
A magnet is installed in the recess.
The fixed seat and the suction nozzle base are assembled and connected by magnetic adsorption.
The assembly structure for connecting a suction nozzle according to claim 5 , wherein the seal groove surrounds the outside of the recess, and the seal component is provided in the seal groove.
前記シール部品は、弾性材料により形成されることを特徴とする請求項に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。 The assembly structure for connecting a suction nozzle according to claim 8 , wherein the sealing component is formed of an elastic material. 吸引ノズルを接続する組立構造であって、吸引ノズルの組立に使われて、前記組立構造は、固定座と、吸引ノズル基部とを含み、
前記固定座は、導磁の本体を有し、その上端面には係合部が設けられ、前記係合部には真空通路が設けられ、前記固定座の下端面は、中空のガイドポストが設けられ、前記ガイドポストは、前記真空通路と連通しており、
前記吸引ノズル基部は、導磁の本体を有して、前記吸引ノズルが設けられ、
前記吸引ノズル基部には、前記ガイドポストに対応してその本体を貫通している定位部が設けられ、前記定位部は、前記ガイドポストに対応して前記吸引ノズル基部を前記固定座に組立させて、または、前記固定座と前記吸引ノズル基部との組立構造上での水平変位を制限し、
前記定位部は、テーパ状の円錐孔道を有し、
前記吸引ノズル基部の上下端面には、それぞれ上端孔と下端孔が形成されて、
前記吸引ノズル基部は、前記上端孔が前記ガイドポストに接続することで、シール部品を前記固定座と前記吸引ノズル基部との間に設けさせて、
前記定位部は、前記円錐孔道が前記上端孔の下方に位置する孔道に相対することで前記吸引ノズル基部が傾いているとき、前記ガイドポストに必要な相対変位空間を提供して、前記吸引ノズルの下端面が傾斜したウェハの表面に取り付け可能であって、前記シール部品を利用して、前記固定座と前記吸引ノズル基部との組立構造の密着度を維持する吸引ノズルを接続する組立構造。
An assembly structure connecting suction nozzles, used for assembling suction nozzles, said assembly structure comprising a fixed seat and a suction nozzle base.
The fixed seat has a magnetic guiding body, an engaging portion is provided on the upper end surface thereof, a vacuum passage is provided on the engaging portion, and a hollow guide post is provided on the lower end surface of the fixed seat. The guide post is provided and communicates with the vacuum passage.
The suction nozzle base has a main body of magnetism, and the suction nozzle is provided.
The suction nozzle base is provided with a localization portion corresponding to the guide post and penetrating the main body thereof, and the localization portion has the suction nozzle base assembled to the fixed seat corresponding to the guide post. Or, limit the horizontal displacement of the fixed seat and the suction nozzle base on the assembly structure .
The localization portion has a tapered conical hole path and has a tapered conical hole path.
An upper end hole and a lower end hole are formed on the upper and lower end surfaces of the suction nozzle base, respectively.
The suction nozzle base is provided with a sealing component between the fixed seat and the suction nozzle base by connecting the upper end hole to the guide post.
The localization portion provides the relative displacement space required for the guide post when the suction nozzle base is tilted by the conical hole path facing the hole path located below the upper end hole, and the suction nozzle is provided. An assembly structure that can be attached to the surface of a wafer whose lower end surface is inclined, and that uses the sealing component to connect a suction nozzle that maintains the degree of adhesion between the fixed seat and the suction nozzle base .
前記円錐孔道は、垂直線との間の角度が1度から5度となる複数の傾斜面を有し、
傾斜面の数は、前記ガイドポストの側柱面の数と同じであることを特徴とする請求項10に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。
The conical path has a plurality of inclined surfaces having an angle of 1 to 5 degrees from the vertical line.
The assembly structure for connecting suction nozzles according to claim 10 , wherein the number of inclined surfaces is the same as the number of side pillar surfaces of the guide post.
前記傾斜面と前記垂直線との間の角度は、2度~2.5度であることを特徴とする請求項11に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。 The assembly structure for connecting a suction nozzle according to claim 11 , wherein the angle between the inclined surface and the vertical line is 2 degrees to 2.5 degrees. 前記ガイドポストの柱体は、凸四角形または三角形のいずれかの断面形状を設けられることを特徴とする請求項10または11に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。 The assembly structure for connecting a suction nozzle according to claim 10 , wherein the pillar body of the guide post is provided with a cross-sectional shape of either a convex quadrangle or a triangle. 前記吸引ノズル基部には、マグネットを設置するための凹部が設けられ、
前記定位部は、前記凹部の範囲に相対して、前記凹部の底面からから突出し、
前記固定座と前記吸引ノズル基部との間は、磁気吸着により組立して接続することを特徴とする請求項10に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。
The suction nozzle base is provided with a recess for installing a magnet.
The localization portion projects from the bottom surface of the recess relative to the range of the recess.
The assembly structure for connecting a suction nozzle according to claim 10 , wherein the fixed seat and the suction nozzle base are assembled and connected by magnetic suction.
前記吸引ノズル基部には、凹部およびシール溝が設けられ、
前記凹部には、マグネットが設けられ、
前記シール溝は、前記凹部の外側を囲み、
前記シール部品は、弾性材料により形成され、前記シール溝に設けられることを特徴とする請求項10に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。
The suction nozzle base is provided with a recess and a seal groove.
A magnet is provided in the recess.
The seal groove surrounds the outside of the recess and
The assembly structure for connecting a suction nozzle according to claim 10 , wherein the seal component is formed of an elastic material and is provided in the seal groove.
前記シール部品は、
前記固定座の下端面と前記吸引ノズル基部の上端面との間に形成される調整空間に応じて、前記吸引ノズル基部の高さより高くなっており、
前記調整空間の高さは、傾斜によって生じる高低差を補償することを特徴とする請求項、請求項、請求項のいずれか一項に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。
The seal parts are
It is higher than the height of the suction nozzle base according to the adjustment space formed between the lower end surface of the fixed seat and the upper end surface of the suction nozzle base.
The assembly structure for connecting the suction nozzles according to any one of claims 4 , 5 , and 8 , wherein the height of the adjustment space compensates for the height difference caused by the inclination.
前記吸引ノズル基部の両側には、ハンドルが設けられることを特徴とする請求項1、4、5、8、10のいずれか一項に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。 The assembly structure for connecting the suction nozzles according to any one of claims 1, 4, 5, 8 and 10, wherein handles are provided on both sides of the suction nozzle base.
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