JP7075865B2 - 光学分析装置、光学分析方法、及び光学分析システム - Google Patents
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Description
図1は、本発明に係る第1の実施形態である光学分析装置10の概要を説明するための図である。
次に、図2は、光学分析装置10の構成例を示している。光学分析装置10は、光源部11、第1受光部12、第2受光部13、計測セル14、超音波照射部15、反射板16、及び制御部20を備える。なお、XYZ座標系については図示するとおりであり、以降の図面においても同様である。
次に、図4は、光学分析装置10による分析処理の一例(以下、第1の分析処理と称する)を説明するフローチャートである。この第1の分析処理は、例えばユーザからの所定の操作に応じて開始される。
次に、図6は、本発明に係る第2の実施形態である光学分析システム30の概要を説明するための図である。
次に、図7は、光学分析装置40の構成例を示している。光学分析装置40は、光学分析装置10(図2)から導入口17をなくし、導入口41及び排出口42を追加したものである。なお、光学分析装置40の構成要素のうち、光学分析装置10の構成要素と共通するものについては同一の符号を付し、その説明を適宜省略する。
光学分析システム30による分析処理については、ポンプ34によって液体サンプルを循環させること以外、上述した第1の分析処理(図4)、または第2の分析処理(図5)と同様に実行することができる。
次に、図11は、本発明に係る第3の実施形態である光学分析装置50の構成例を示している。
次に、図12は、光学分析装置50による分析処理の一例(以下、第1の分析処理と称する)を説明するフローチャートである。光学分析装置50による第1の分析処理は、光学分析装置10(図2)による第1の分析処理(図4)におけるステップS1とステップS2との間にステップS21を追加するとともに、ステップS4とステップS5との間にステップS22を追加したものである。よって、光学分析装置50による第1の分析処理におけるステップS21,S22以外の各ステップについては、光学分析装置10(図2)による第1の分析処理(図4)と同様なのでその説明は適宜省略する。
<変形例>
また、制御線や情報線は説明上必要と考えられるものを示しており、製品上必ずしも全ての制御線や情報線を示しているとは限らない。実際には殆ど全ての構成が相互に接続されていると考えてもよい。
Claims (12)
- 液体サンプルに対して光を照射する光源部と、
前記光源部から照射され、前記液体サンプルを透過した透過光を受光する第1受光部と、
前記光源部から照射され、前記液体サンプルの中の散乱体によって散乱された散乱光を受光する第2受光部と、
前記液体サンプルに対して超音波を照射する超音波照射部と、
前記超音波照射部から照射され、前記液体サンプルを伝搬した前記超音波を反射する反射板と、
前記光源部、前記第1受光部、前記第2受光部、及び前記超音波照射部を制御する制御部と、を備え、
前記光源部による前記光の照射方向と、前記超音波照射部による前記超音波の照射方向とは直交し、
前記制御部は、
前記超音波照射部から前記超音波を照射させていない状態で前記第2受光部から前記散乱光の受光結果を取得し、
前記超音波照射部から前記超音波を照射させている状態で前記第1受光部から前記透過光の受光結果を取得する
ことを特徴とする光学分析装置。 - 請求項1に記載の光学分析装置であって、
前記制御部は、前記超音波照射部から前記超音波を照射させていない状態で前記第2受光部から取得した前記散乱光の受光結果が表す受光強度が所定の第2閾値未満である場合、前記散乱光の受光結果が表す受光強度が前記所定の第2閾値以上となるまで待機する
ことを特徴とする光学分析装置。 - 請求項2に記載の光学分析装置であって、
前記制御部は、前記超音波照射部から前記超音波を照射させていない状態で前記第2受光部から取得した前記散乱光の受光結果が表す受光強度が所定の第2閾値未満である場合、前記散乱光の受光結果が表す受光強度が前記所定の第2閾値以上となるまで待機し、前記散乱光の受光結果が表す受光強度が前記所定の第2閾値以上となった状態の受光結果に基づいて、前記液体サンプルの散乱体成分を分析する
ことを特徴とする光学分析装置。 - 請求項1に記載の光学分析装置であって、
前記制御部は、前記超音波照射部から前記超音波を照射させている状態で前記第1受光部から取得した前記透過光の受光結果が表す受光強度が所定の第1閾値未満である場合、前記透過光の受光結果が表す受光強度が前記所定の第1閾値以上となるように、前記超音波照射部による前記超音波の照射条件を変更する
ことを特徴とする光学分析装置。 - 請求項4に記載の光学分析装置であって、
前記制御部は、前記超音波照射部から前記超音波を照射させている状態で前記第1受光部から取得した前記透過光の受光結果が表す受光強度が所定の第1閾値未満である場合、前記透過光の受光結果が表す受光強度が前記所定の第1閾値以上となるように、前記超音波照射部による前記超音波の照射条件を変更し、前記透過光の受光結果が表す受光強度が前記所定の第1閾値以上となった状態の受光結果に基づいて、前記液体サンプルの溶液成分を分析する
ことを特徴とする光学分析装置。 - 請求項1に記載の光学分析装置であって、
前記制御部は、
前記超音波照射部から前記超音波を照射させていない状態で前記第2受光部から前記散乱光の受光結果を取得した後、
前記超音波照射部から前記超音波の照射を開始させた状態で前記第1受光部から前記透過光の受光結果を取得する
ことを特徴とする光学分析装置。 - 請求項1に記載の光学分析装置であって、
前記制御部は、
前記超音波照射部から前記超音波を照射させた状態で前記第1受光部から前記透過光の受光結果を取得した後、
前記超音波照射部から前記超音波の照射を停止させた状態で前記第2受光部から前記散乱光の受光結果を取得する
ことを特徴とする光学分析装置。 - 請求項1に記載の光学分析装置であって、
前記第1受光部及び前記第2受光部の一方は他方を兼ね、
前記一方の位置を移動させる移動部を、備える
ことを特徴とする光学分析装置。 - 請求項1に記載の光学分析装置であって、
前記液体サンプルが収容される計測セルを、備え、
前記計測セルは、
前記液体サンプルを導入する導入口と、
前記液体サンプルを排出する排出口と、を有する
ことを特徴とする光学分析装置。 - 光学分析方法であって、
液体サンプルに対して光を照射する光照射ステップと、
前記液体サンプルに対して超音波を照射する超音波照射ステップと、
前記超音波が照射されている状態で照射された前記光が前記液体サンプルを透過した透過光を受光する第1受光ステップと、
前記超音波が照射されていない状態で照射された前記光が前記液体サンプルの中の散乱体によって散乱された散乱光を受光する第2受光ステップと、
含み、
前記光照射ステップにおける前記光の照射方向と、前記超音波照射ステップにおける前記超音波の照射方向とは直交する
ことを特徴とする光学分析方法。 - 請求項10に記載の光学分析方法であって、
前記液体サンプルが蓄積される反応槽と、前記液体サンプルが収容される計測セルとの間で前記液体サンプルを循環させる循環ステップを、
含むことを特徴とする光学分析方法。 - 液体サンプルが蓄積される反応槽と、
配管を介して前記液体サンプルが循環可能に前記反応槽と接続された光学分析装置と、
を備え、
前記光学分析装置は、
液体サンプルに対して光を照射する光源部と、
前記光源部から照射され、前記液体サンプルを透過した透過光を受光する第1受光部と、
前記光源部から照射され、前記液体サンプルの中の散乱体によって散乱された散乱光を受光する第2受光部と、
前記液体サンプルに対して超音波を照射する超音波照射部と、
前記超音波照射部から照射され、前記液体サンプルを伝搬した前記超音波を反射する反射板と、
前記光源部、前記第1受光部、前記第2受光部、及び前記超音波照射部を制御する制御部と、を有し、
前記光源部による前記光の照射方向と、前記超音波照射部による前記超音波の照射方向とは直交し、
前記制御部は、
前記超音波照射部から前記超音波を照射させていない状態で前記第2受光部から前記散乱光の受光結果を取得し、
前記超音波照射部から前記超音波を照射させている状態で前記第1受光部から前記透過光の受光結果を取得し、
前記反応槽は、
前記液体サンプルを前記配管を介して前記光学分析装置に供給する流出口と、
前記光学分析装置から排出される前記液体サンプルが前記配管を介して流入される流入口と、を有する
ことを特徴とする光学分析システム。
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