JP7071279B2 - Adhesive composition, encapsulation sheet, and encapsulant - Google Patents

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Description

本発明は、水分遮断性及び接着強度に優れる接着剤組成物、この接着剤組成物を用いて形成された接着剤層を有する封止シート、及び被封止物が前記封止シートで封止されてなる封止体に関する。 In the present invention, an adhesive composition having excellent moisture barrier properties and adhesive strength, a sealing sheet having an adhesive layer formed by using this adhesive composition, and an object to be sealed are sealed with the sealing sheet. With respect to the sealed body.

近年、有機EL素子は、低電圧直流駆動による高輝度発光が可能な発光素子として注目されている。
しかし、有機EL素子には、時間の経過とともに、発光輝度、発光効率、発光均一性等の発光特性が低下し易いという問題があった。
この発光特性が低下する問題の原因として、酸素や水分等が有機EL素子の内部に浸入し、電極や有機層を劣化させることが考えられる。
そして、この対処方法として、封止材を用いる方法がいくつか提案されている。例えば、特許文献1には、融解熱量と重量平均分子量が特定の範囲内にあるオレフィン重合体と、40℃における動粘度が特定の範囲内にある炭化水素系合成油とを含むシート状封止材が記載されている。
In recent years, organic EL elements have been attracting attention as light emitting elements capable of high-luminance light emission by low-voltage direct current drive.
However, the organic EL element has a problem that the light emission characteristics such as the light emission brightness, the light emission efficiency, and the light emission uniformity tend to deteriorate with the passage of time.
It is conceivable that oxygen, water, or the like infiltrate the inside of the organic EL element to deteriorate the electrode and the organic layer as a cause of the problem that the light emission characteristic is deteriorated.
Then, as a coping method, some methods using a sealing material have been proposed. For example, Patent Document 1 describes a sheet-like encapsulation containing an olefin polymer having a heat of fusion and a weight average molecular weight within a specific range and a hydrocarbon-based synthetic oil having a kinematic viscosity at 40 ° C. within a specific range. The material is listed.

特開2015-137333号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-137333

特許文献1に記載のシート状封止材は、必要に応じて剥離が可能であるという特徴を有するものである。しかしながら、このシート状封止材は、接着強度に劣る傾向があった。
有機EL素子等の被封止物には、屋外や車内等の過酷な条件で使用される場合も多い。従って、優れた水分遮断性に加えて、接着強度にも優れる封止シートや、このような封止シートの原料として好適に用いられる接着剤組成物が要望されていた。
The sheet-shaped encapsulant described in Patent Document 1 has a feature that it can be peeled off as needed. However, this sheet-shaped encapsulant tends to be inferior in adhesive strength.
It is often used for an object to be sealed such as an organic EL element under harsh conditions such as outdoors and inside a vehicle. Therefore, there has been a demand for a sealing sheet having excellent adhesive strength in addition to excellent moisture blocking property, and an adhesive composition suitably used as a raw material for such a sealing sheet.

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、水分遮断性及び接着強度に優れる接着剤組成物、この接着剤組成物を用いて形成された接着剤層を有する封止シート、及び被封止物が前記封止シートで封止されてなる封止体を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and is an adhesive composition having excellent moisture-blocking properties and adhesive strength, a sealing sheet having an adhesive layer formed by using this adhesive composition, and a coated sheet. It is an object of the present invention to provide a sealed body in which a sealed material is sealed with the sealing sheet.

本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、変性ポリオレフィン系樹脂、多官能エポキシ化合物、硬化促進剤、及びシランカップリング剤を含有する接着剤組成物を用いて形成された接着剤層は、水分遮断性及び接着強度に優れることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventors have made an adhesive formed by using an adhesive composition containing a modified polyolefin resin, a polyfunctional epoxy compound, a curing accelerator, and a silane coupling agent. The layer has been found to be excellent in moisture-blocking property and adhesive strength, and has completed the present invention.

かくして本発明によれば、下記〔1〕~〔7〕の接着剤組成物、〔8〕~〔11〕の封止シート、及び〔12〕、〔13〕の封止体、が提供される。
〔1〕下記の(A)成分、(B)成分、(C)成分、及び(D)成分
(A)成分:変性ポリオレフィン系樹脂
(B)成分:多官能エポキシ化合物
(C)成分:硬化促進剤
(D)成分:シランカップリング剤
を含有する接着剤組成物であって、この接着剤組成物を用いて得られた試験片について180°剥離試験を行ったときに、下記式(1)で算出されるx値が、1.3以下であることを特徴とする接着剤組成物。
Thus, according to the present invention, the following adhesive compositions [1] to [7], sealing sheets [8] to [11], and sealing bodies [12] and [13] are provided. ..
[1] The following (A) component, (B) component, (C) component, and (D) component (A) component: modified polyolefin resin (B) component: polyfunctional epoxy compound (C) component: curing acceleration Agent (D) component: An adhesive composition containing a silane coupling agent, and when a 180 ° peeling test was performed on a test piece obtained by using this adhesive composition, the following formula (1) The adhesive composition, wherein the x value calculated in 1 is 1.3 or less.

Figure 0007071279000001
Figure 0007071279000001

(式中、aは、温度23℃、相対湿度50%の条件下で180°剥離試験を行って得られた接着力を表し、bは、試験片を温度60℃、相対湿度90%の条件下に100時間、次いで、温度23℃、相対湿度50%の条件下に24時間静置させた後に、温度23℃、相対湿度50%条件下で180°剥離試験を行って得られた接着力を表す。これらの180°剥離試験の試験片は、接着剤組成物を用いて得られた厚み20μmの接着剤層と厚み50μmのポリエチレンテレフタレートフィルムからなる封止シートを、前記接着剤層のもう一方の側をガラス板に重ねて、温度60℃、圧力0.2MPa、速度0.2m/分(min)の条件でラミネートさせ、次いで、得られた圧着体を100℃で2時間加熱して、その接着剤層を硬化して得られた幅25mmの積層体である。) (In the formula, a represents the adhesive strength obtained by performing a 180 ° peeling test under the conditions of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%, and b represents a condition of the test piece having a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 90%. Adhesive strength obtained by performing a 180 ° peeling test under the conditions of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50% after allowing the material to stand under the conditions of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50% for 24 hours. In these 180 ° peeling test test pieces, a sealing sheet composed of an adhesive layer having a thickness of 20 μm and a polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm obtained by using an adhesive composition is formed on the adhesive layer. One side is placed on a glass plate and laminated under the conditions of a temperature of 60 ° C., a pressure of 0.2 MPa and a speed of 0.2 m / min (min), and then the obtained crimped body is heated at 100 ° C. for 2 hours. , A laminated body having a width of 25 mm obtained by curing the adhesive layer.)

〔2〕前記(A)成分が、酸変性ポリオレフィン系樹脂である、〔1〕に記載の接着剤組成物。
〔3〕前記(B)成分の含有量が、前記(A)成分100質量部に対して10~50質量部である、〔1〕又は〔2〕に記載の接着剤組成物。
〔4〕前記(C)成分が、イミダゾール系硬化促進剤である、〔1〕~〔3〕のいずれかに記載の接着剤組成物。
〔5〕前記(C)成分の含有量が、前記(A)成分100質量部に対して0.1~10質量部である、〔1〕~〔4〕のいずれかに記載の接着剤組成物。
〔6〕前記(D)成分が、下記式(2)で示される化合物である、〔1〕~〔5〕のいずれかに記載の接着剤組成物。
[2] The adhesive composition according to [1], wherein the component (A) is an acid-modified polyolefin-based resin.
[3] The adhesive composition according to [1] or [2], wherein the content of the component (B) is 10 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A).
[4] The adhesive composition according to any one of [1] to [3], wherein the component (C) is an imidazole-based curing accelerator.
[5] The adhesive composition according to any one of [1] to [4], wherein the content of the component (C) is 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). thing.
[6] The adhesive composition according to any one of [1] to [5], wherein the component (D) is a compound represented by the following formula (2).

Figure 0007071279000002
Figure 0007071279000002

(Rは炭素数3以上のアルキレン基を表し、Rは炭素数1~10の1価の炭化水素基を表し、Rは炭素数1~4のアルキル基を表す。Zは反応性基を含有する基を表し、nは0又は1である。)
〔7〕前記(D)成分の含有量が、前記(A)成分100質量部に対して0.05~5質量部である、〔1〕~〔6〕のいずれかに記載の接着剤組成物。
〔8〕2枚の剥離フィルムと、これらの剥離フィルムに挟持された接着剤層とからなる封止シートであって、前記接着剤層が、〔1〕~〔7〕のいずれかに記載の接着剤組成物を用いて形成されたものである封止シート。
〔9〕剥離フィルム、ガスバリア性フィルム、及び、前記剥離フィルムとガスバリア性フィルムに挟持された接着剤層からなる封止シートであって、
前記接着剤層が、〔1〕~〔7〕のいずれかに記載の接着剤組成物を用いて形成されたものである封止シート。
〔10〕前記ガスバリア性フィルムが、金属箔、樹脂製フィルム、又は薄膜ガラスである〔9〕に記載の封止シート。
〔11〕接着剤層の厚みが1~50μmである、〔8〕~〔10〕のいずれかに記載の封止シート。
〔12〕被封止物が、〔8〕~〔11〕のいずれかに記載の封止シートを用いて封止されてなる封止体。
〔13〕前記被封止物が、有機EL素子、有機ELディスプレイ素子、液晶ディスプレイ素子、又は太陽電池素子である、〔12〕に記載の封止体。
(R 1 represents an alkylene group having 3 or more carbon atoms, R 2 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, R 3 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and Z represents a reactive group. Represents a group containing a group, where n is 0 or 1).
[7] The adhesive composition according to any one of [1] to [6], wherein the content of the component (D) is 0.05 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). thing.
[8] A sealing sheet composed of two release films and an adhesive layer sandwiched between the release films, wherein the adhesive layer is described in any one of [1] to [7]. A sealing sheet formed using an adhesive composition.
[9] A sealing sheet composed of a release film, a gas barrier film, and an adhesive layer sandwiched between the release film and the gas barrier film.
A sealing sheet in which the adhesive layer is formed by using the adhesive composition according to any one of [1] to [7].
[10] The sealing sheet according to [9], wherein the gas barrier film is a metal foil, a resin film, or a thin film glass.
[11] The sealing sheet according to any one of [8] to [10], wherein the thickness of the adhesive layer is 1 to 50 μm.
[12] A sealed body in which the material to be sealed is sealed using the sealing sheet according to any one of [8] to [11].
[13] The sealed body according to [12], wherein the object to be sealed is an organic EL element, an organic EL display element, a liquid crystal display element, or a solar cell element.

本発明によれば、水分遮断性及び接着強度に優れる接着剤組成物、この接着剤組成物を用いて形成された接着剤層を有する封止シート、及び被封止物が前記封止シートで封止されてなる封止体が提供される。 According to the present invention, an adhesive composition having excellent moisture blocking properties and adhesive strength, a sealing sheet having an adhesive layer formed by using this adhesive composition, and an object to be sealed are the sealing sheets. A sealed body is provided.

以下、本発明を、1)接着剤組成物、2)封止シート、及び、3)封止体、に項分けして詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail by dividing it into 1) an adhesive composition, 2) a sealing sheet, and 3) a sealing body.

1)接着剤組成物
本発明の接着剤組成物は、下記の(A)成分、(B)成分、(C)成分、及び(D)成分
(A)成分:変性ポリオレフィン系樹脂
(B)成分:多官能エポキシ化合物
(C)成分:硬化促進剤
(D)成分:シランカップリング剤
を含有する接着剤組成物であって、上記式(1)で算出されるX値が、1.3以下であることを特徴とする。
1) Adhesive composition The adhesive composition of the present invention has the following components (A), (B), (C), and (D) component (A): modified polyolefin resin (B) component. : Polyfunctional epoxy compound (C) component: Curing accelerator (D) component: An adhesive composition containing a silane coupling agent, and the X value calculated by the above formula (1) is 1.3 or less. It is characterized by being.

(A)成分:変性ポリオレフィン系樹脂
本発明の接着剤組成物は、(A)成分として、変性ポリオレフィン系樹脂を含有する。
本発明の接着剤組成物は、変性ポリオレフィン系樹脂を含有することで、接着強度に優れたものとなる。また、変性ポリオレフィン系樹脂を含有する接着剤組成物を用いることで、後述する厚みの接着剤層を効率よく形成することができる。
Component (A): Modified Polyolefin Resin The adhesive composition of the present invention contains a modified polyolefin resin as the component (A).
The adhesive composition of the present invention contains a modified polyolefin-based resin, so that the adhesive composition has excellent adhesive strength. Further, by using an adhesive composition containing a modified polyolefin resin, an adhesive layer having a thickness described later can be efficiently formed.

変性ポリオレフィン系樹脂は、前駆体としてのポリオレフィン樹脂に、変性剤を用いて変性処理を施して得られる、官能基が導入されたポリオレフィン樹脂である。 The modified polyolefin resin is a polyolefin resin into which a functional group is introduced, which is obtained by subjecting a polyolefin resin as a precursor to a modification treatment using a modifier.

ポリオレフィン樹脂は、オレフィン系単量体由来の繰り返し単位を含む重合体である。ポリオレフィン樹脂は、オレフィン系単量体由来の繰り返し単位のみからなる重合体であってもよいし、オレフィン系単量体由来の繰り返し単位と、オレフィン系単量体と共重合可能な単量体由来の繰り返し単位とからなる重合体であってもよい。 The polyolefin resin is a polymer containing a repeating unit derived from an olefin-based monomer. The polyolefin resin may be a polymer consisting only of repeating units derived from an olefin-based monomer, or may be derived from a repeating unit derived from an olefin-based monomer and a monomer copolymerizable with the olefin-based monomer. It may be a polymer composed of the repeating unit of.

オレフィン系単量体としては、炭素数2~8のα-オレフィンが好ましく、エチレン、プロピレン、1-ブテン、イソブチレン、1-ペンテン、又は1-ヘキセンがより好ましく、エチレン又はプロピレンがさらに好ましい。
オレフィン系単量体と共重合可能な単量体としては、酢酸ビニル、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステル、スチレン等が挙げられる。ここで、(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味する。
As the olefin-based monomer, α-olefin having 2 to 8 carbon atoms is preferable, ethylene, propylene, 1-butene, isobutylene, 1-pentene, or 1-hexene is more preferable, and ethylene or propylene is further preferable.
Examples of the monomer copolymerizable with the olefin-based monomer include vinyl acetate, (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid ester, and styrene. Here, (meth) acrylic acid means acrylic acid or methacrylic acid.

ポリオレフィン樹脂としては、超低密度ポリエチレン(VLDPE)、低密度ポリエチレン(LDPE)、中密度ポリエチレン(MDPE)、高密度ポリエチレン(HDPE)、直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)、ポリプロピレン(PP)、エチレン-プロピレン共重合体、オレフィン系エラストマー(TPO)、エチレン-酢酸ビニル共重合体(EVA)、エチレン-(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン-(メタ)アクリル酸エステル共重合体等が挙げられる。 Examples of the polyolefin resin include ultra-low density polyethylene (VLDPE), low density polyethylene (LDPE), medium density polyethylene (MDPE), high density polyethylene (HDPE), linear low density polyethylene (LLDPE), polypropylene (PP), and ethylene. Examples thereof include a propylene copolymer, an olefin-based elastomer (TPO), an ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), an ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, and an ethylene- (meth) acrylic acid ester copolymer. ..

ポリオレフィン樹脂の変性処理に用いる変性剤は、分子内に、官能基、すなわち、後述する架橋反応に寄与し得る基を有する化合物である。
官能基としては、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、カルボン酸エステル基、水酸基、エポキシ基、アミド基、アンモニウム基、ニトリル基、アミノ基、イミド基、イソシアネート基、アセチル基、チオール基、エーテル基、チオエーテル基、スルホン基、ホスホン酸基、ニトロ基、ウレタン基、アルコキシシリル基、シラノール基、ハロゲン原子等が挙げられる。これらの中でも、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、カルボン酸エステル基、水酸基、アンモニウム基、アミノ基、イミド基、イソシアネート基、アルコキシシリル基が好ましく、カルボン酸無水物基、アルコキシシリル基がより好ましく、カルボン酸無水物基が特に好ましい。
官能基を有する化合物は、分子内に2種以上の官能基を有していてもよい。
The modifier used for the modification treatment of the polyolefin resin is a compound having a functional group in the molecule, that is, a group capable of contributing to a crosslinking reaction described later.
Functional groups include carboxyl group, carboxylic acid anhydride group, carboxylic acid ester group, hydroxyl group, epoxy group, amide group, ammonium group, nitrile group, amino group, imide group, isocyanate group, acetyl group, thiol group and ether group. , Thioether group, sulfone group, phosphonic acid group, nitro group, urethane group, alkoxysilyl group, silanol group, halogen atom and the like. Among these, a carboxyl group, a carboxylic acid anhydride group, a carboxylic acid ester group, a hydroxyl group, an ammonium group, an amino group, an imide group, an isocyanate group and an alkoxysilyl group are preferable, and a carboxylic acid anhydride group and an alkoxysilyl group are more preferable. , Carous acid anhydride groups are particularly preferred.
The compound having a functional group may have two or more kinds of functional groups in the molecule.

変性ポリオレフィン系樹脂としては、酸変性ポリオレフィン系樹脂、シラン変性ポリオレフィン系樹脂が挙げられ、本発明のより優れた効果が得られる観点から、酸変性ポリオレフィン系樹脂が好ましい。 Examples of the modified polyolefin-based resin include acid-modified polyolefin-based resins and silane-modified polyolefin-based resins, and acid-modified polyolefin-based resins are preferable from the viewpoint of obtaining more excellent effects of the present invention.

酸変性ポリオレフィン系樹脂とは、ポリオレフィン樹脂に対して酸でグラフト変性したものをいう。例えば、ポリオレフィン樹脂に不飽和カルボン酸を反応させて、カルボキシル基を導入(グラフト変性)したものが挙げられる。なお、本明細書において、不飽和カルボン酸とは、カルボン酸無水物の概念を含むものである。 The acid-modified polyolefin-based resin refers to a polyolefin resin graft-modified with an acid. For example, a polyolefin resin is reacted with an unsaturated carboxylic acid to introduce a carboxyl group (graft modification). In addition, in this specification, unsaturated carboxylic acid includes the concept of carboxylic acid anhydride.

酸変性ポリオレフィン樹脂は、例えば、有機過酸化物や脂肪族アゾ化合物等のラジカル重合開始剤の存在下で、ポリオレフィン樹脂に不飽和カルボン酸をグラフト重合させる方法等により得ることができる。 The acid-modified polyolefin resin can be obtained, for example, by a method of graft-polymerizing an unsaturated carboxylic acid on a polyolefin resin in the presence of a radical polymerization initiator such as an organic peroxide or an aliphatic azo compound.

ポリオレフィン樹脂に反応させる不飽和カルボン酸としては、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、グルタコン酸、テトラヒドロフタル酸、アコニット酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水グルタコン酸、無水シトラコン酸、無水アコニット酸、ノルボルネンジカルボン酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物等が挙げられる。
これらは、1種を単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、接着強度により優れる接着剤組成物が得られ易いことから、無水マレイン酸が好ましい。
As unsaturated carboxylic acids to be reacted with the polyolefin resin, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, glutaconic acid, tetrahydrophthalic acid, aconitic acid, maleic anhydride, itaconic anhydride, glutaconic anhydride, citraconic anhydride, Examples thereof include aconitic anhydride, norbornene dicarboxylic acid anhydride, tetrahydrophthalic acid anhydride and the like.
These can be used alone or in combination of two or more. Among these, maleic anhydride is preferable because it is easy to obtain an adhesive composition having better adhesive strength.

ポリオレフィン樹脂に反応させる不飽和カルボン酸の量は、ポリオレフィン樹脂100質量部に対して、好ましくは0.1~5質量部、より好ましくは0.2~3質量部、さらに好ましくは0.2~1質量部である。反応させる不飽和カルボン酸の量が上記の範囲にあることで、得られる酸変性ポリオレフィン系樹脂を含有する接着剤組成物は、接着強度により優れるものとなる。 The amount of the unsaturated carboxylic acid to be reacted with the polyolefin resin is preferably 0.1 to 5 parts by mass, more preferably 0.2 to 3 parts by mass, and further preferably 0.2 to 0.2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyolefin resin. 1 part by mass. When the amount of the unsaturated carboxylic acid to be reacted is in the above range, the obtained adhesive composition containing the acid-modified polyolefin resin becomes more excellent in adhesive strength.

酸変性ポリオレフィン系樹脂は、市販品を用いることもできる。市販品としては、例えば、アドマー(登録商標)(三井化学社製)、ユニストール(登録商標)(三井化学社製)、BondyRam(Polyram社製)、orevac(登録商標)(ARKEMA社製)、モディック(登録商標)(三菱化学社製)等が挙げられる。 As the acid-modified polyolefin resin, a commercially available product can also be used. Examples of commercially available products include Admer (registered trademark) (Mitsui Chemicals), Unistor (registered trademark) (Mitsui Chemicals), BondyRam (Polyram), orevac (registered trademark) (ARCEMA), and the like. Modic (registered trademark) (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) and the like can be mentioned.

シラン変性ポリオレフィン系樹脂は、ポリオレフィン樹脂に対して不飽和シラン化合物でグラフト変性したものである。シラン変性ポリオレフィン系樹脂は、ポリオレフィン樹脂に不飽和シラン化合物がグラフト共重合した構造を有する。 The silane-modified polyolefin-based resin is a polyolefin resin graft-modified with an unsaturated silane compound. The silane-modified polyolefin-based resin has a structure in which an unsaturated silane compound is graft-copolymerized with the polyolefin resin.

不飽和シラン化合物をポリオレフィン樹脂にグラフト重合させる場合の条件は、公知のグラフト重合の常法を採用すればよい。例えば、ポリオレフィン樹脂、不飽和シラン化合物及びラジカル発生剤を高温で溶融混合し、グラフト重合する方法が挙げられる。 As the conditions for graft-polymerizing the unsaturated silane compound on the polyolefin resin, a known conventional method of graft polymerization may be adopted. For example, a method in which a polyolefin resin, an unsaturated silane compound and a radical generator are melt-mixed at a high temperature and graft-polymerized can be mentioned.

上記ポリオレフィン樹脂に反応させる不飽和シラン化合物としては、ビニルシラン化合物が好ましく、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリプロポキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリブトキシシラン、ビニルトリペンチロキシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ビニルトリベンジルオキシシラン、ビニルトリメチレンジオキシシラン、ビニルトリエチレンジオキシシラン、ビニルプロピオニルオキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリカルボキシシラン等が挙げられる。これらは、1種を単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。 The unsaturated silane compound to be reacted with the polyolefin resin is preferably a vinylsilane compound, for example, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltripropoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltributoxysilane, vinyltripentyroxy. Examples thereof include silane, vinyltriphenoxysilane, vinyltribenzyloxysilane, vinyltrimethylenedioxysilane, vinyltriethylenedioxysilane, vinylpropionyloxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltricarboxysilane and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

ポリオレフィン樹脂に反応させる不飽和シラン化合物の量としては、ポリオレフィン樹脂100質量部に対して、0.1~10質量部であることが好ましく、0.3~7質量部であることがより好ましく、0.5~5質量部であることがさらに好ましい。反応させる不飽和シラン化合物の量が上記の範囲にあることで、得られるシラン変性ポリオレフィン系樹脂を含有する接着剤組成物は、接着強度により優れるものとなる。 The amount of the unsaturated silane compound to be reacted with the polyolefin resin is preferably 0.1 to 10 parts by mass, more preferably 0.3 to 7 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyolefin resin. It is more preferably 0.5 to 5 parts by mass. When the amount of the unsaturated silane compound to be reacted is in the above range, the obtained adhesive composition containing the silane-modified polyolefin resin becomes more excellent in adhesive strength.

シラン変性ポリオレフィン系樹脂としては、シラン変性ポリエチレン樹脂及びシラン変性エチレン-酢酸ビニル共重合体が挙げられる。なかでも、シラン変性低密度ポリエチレン、シラン変性直鎖状低密度ポリエチレン、シラン変性超低密度ポリエチレン等のシラン変性ポリエチレン樹脂が好ましい。 Examples of the silane-modified polyolefin resin include a silane-modified polyethylene resin and a silane-modified ethylene-vinyl acetate copolymer. Of these, silane-modified polyethylene resins such as silane-modified low-density polyethylene, silane-modified linear low-density polyethylene, and silane-modified ultra-low-density polyethylene are preferable.

シラン変性ポリオレフィン系樹脂は、市販品を用いることもできる。市販品としては、例えば、リンクロン(登録商標)(三菱化学社製)等が挙げられ、中でも、低密度ポリエチレン系のリンクロン、直鎖状低密度ポリエチレン系のリンクロン、超低密度ポリエチレン系のリンクロン、及びエチレン-酢酸ビニル共重合体系のリンクロンを好ましく使用することができる。 Commercially available products can also be used as the silane-modified polyolefin-based resin. Examples of commercially available products include Linkron (registered trademark) (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), among which low-density polyethylene-based Linkron, linear low-density polyethylene-based Linkron, and ultra-low-density polyethylene-based products. Wrinklon and Wrinklon of the ethylene-vinyl acetate copolymer system can be preferably used.

変性ポリオレフィン系樹脂は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。 The modified polyolefin resin can be used alone or in combination of two or more.

変性ポリオレフィン系樹脂の質量平均分子量(Mw)は10,000~2,000,000、好ましくは、20,000~1,500,000である。
変性ポリオレフィン系樹脂の質量平均分子量(Mn)は、テトラヒドロフランを溶媒として用いてゲルパーミエーションクロマトグラフィーを行い、標準ポリスチレン換算値として求めることができる。
The mass average molecular weight (Mw) of the modified polyolefin resin is 10,000 to 2,000,000, preferably 20,000 to 1,500,000.
The mass average molecular weight (Mn) of the modified polyolefin resin can be determined as a standard polystyrene-equivalent value by performing gel permeation chromatography using tetrahydrofuran as a solvent.

(B)成分:多官能エポキシ化合物
本発明の接着剤組成物は、(B)成分として、多官能エポキシ化合物を含有する。
多官能エポキシ化合物は、(A)成分と反応して架橋構造を形成するものであるため、本発明の接着剤組成物の硬化物は水蒸気遮断性に優れる。
Component (B): Polyfunctional Epoxy Compound The adhesive composition of the present invention contains a polyfunctional epoxy compound as the component (B).
Since the polyfunctional epoxy compound reacts with the component (A) to form a crosslinked structure, the cured product of the adhesive composition of the present invention is excellent in water vapor blocking property.

多官能エポキシ化合物とは、分子内に少なくともエポキシ基を2つ以上有する化合物をいう。
エポキシ基を2つ以上有するエポキシ化合物としては、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールFジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールSジグリシジルエーテル、ノボラック型エポキシ樹脂(例えばフェノール・ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エポキシ樹脂、臭素化フェノール・ノボラック型エポキシ樹脂)、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールSジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、2,2-ビス(3-グリシジル-4-グリシジルオキシフェニル)プロパン、ジメチロールトリシクロデカンジグリシジルエーテル等が挙げられる。
これらの多官能エポキシ化合物は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
The polyfunctional epoxy compound means a compound having at least two or more epoxy groups in the molecule.
Examples of the epoxy compound having two or more epoxy groups include bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, brominated bisphenol A diglycidyl ether, brominated bisphenol F diglycidyl ether, and brominated bisphenol S. Diglycidyl ether, novolac type epoxy resin (for example, phenol / novolak type epoxy resin, cresol / novolak type epoxy resin, brominated phenol / novolak type epoxy resin), hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, Hydrogenated bisphenol S diglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, hexahydrophthalic acid diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, 2,2- Examples thereof include bis (3-glycidyl-4-glycidyloxyphenyl) propane and dimethyloltricyclodecanediglycidyl ether.
These polyfunctional epoxy compounds can be used alone or in combination of two or more.

多官能エポキシ化合物の分子量は、通常、100~10,000、好ましくは200~5,000である。
多官能エポキシ化合物のエポキシ当量は、好ましくは100~2000g/eq、より好ましくは150~1500g/eqである。
The molecular weight of the polyfunctional epoxy compound is usually 100 to 10,000, preferably 200 to 5,000.
The epoxy equivalent of the polyfunctional epoxy compound is preferably 100 to 2000 g / eq, more preferably 150 to 1500 g / eq.

接着剤組成物中の多官能エポキシ化合物の含有量は、前記(A)成分100質量部に対して、好ましくは10~50質量部、より好ましくは15~40質量部である。多官能エポキシ化合物の含有量がこの範囲内にある接着剤組成物の硬化物は、水蒸気遮断性により優れる。 The content of the polyfunctional epoxy compound in the adhesive composition is preferably 10 to 50 parts by mass, more preferably 15 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). A cured product of an adhesive composition in which the content of the polyfunctional epoxy compound is within this range is superior in water vapor blocking property.

(C)成分:硬化促進剤
本発明の接着剤組成物は、(C)成分として、硬化促進剤を含有する。
硬化促進剤を含有する接着剤組成物を用いることで、高温時(例えば、60℃)においても優れた接着性を有する硬化物が得られ易くなる。
硬化促進剤は、多官能エポキシ化合物等が関与する架橋反応を促進するものであれば特に限定されない。
Component (C): Curing Accelerator The adhesive composition of the present invention contains a curing accelerator as the component (C).
By using an adhesive composition containing a curing accelerator, it becomes easy to obtain a cured product having excellent adhesiveness even at a high temperature (for example, 60 ° C.).
The curing accelerator is not particularly limited as long as it promotes a crosslinking reaction involving a polyfunctional epoxy compound or the like.

硬化促進剤としては、イミダゾ-ル系硬化促進剤、第3級アミン系硬化促進剤、ホスフィン系硬化促進剤、第4級アンモニウム塩系硬化促進剤、第4級ホスホニウム塩系硬化促進剤、金属化合物系硬化促進剤等が挙げられる。
これらの中でも、より優れた接着強度を有する硬化物が得られる観点から、イミダゾール系硬化促進剤が好ましい。
Examples of the curing accelerator include an imidazole-based curing accelerator, a tertiary amine-based curing accelerator, a phosphine-based curing accelerator, a quaternary ammonium salt-based curing accelerator, a quaternary phosphonium salt-based curing accelerator, and a metal. Examples include compound-based curing accelerators.
Among these, an imidazole-based curing accelerator is preferable from the viewpoint of obtaining a cured product having more excellent adhesive strength.

イミダゾール系硬化促進剤としては、2-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-ウンデシルイミダゾール、2-ヘプタデシルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、2-フェニル-4-メチル-5-ヒドロキシメチルイミダゾール、2-フェニル-4,5-ジヒドロキシメチルイミダゾール等が挙げられる。
第3級アミン系硬化促進剤としては、ベンジルジメチルアミン、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、シクロヘキシルジメチルアミン、トリエチルアミン及び1,8-ジアザ-ビシクロ[5.4.0]ウンデセン-7(DBU)等が挙げられる。
ホスフィン系硬化促進剤としては、トリフェニルホスフィン、亜リン酸トリフェニル等が挙げられる。
Examples of the imidazole-based curing accelerator include 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-. Examples thereof include phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole and 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole.
Examples of the tertiary amine-based curing accelerator include benzyldimethylamine, tris (dimethylaminomethyl) phenol, cyclohexyldimethylamine, triethylamine and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (DBU). Can be mentioned.
Examples of the phosphine-based curing accelerator include triphenylphosphine and triphenyl phosphite.

第4級アンモニウム塩系硬化促進剤としては、テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムブロマイド、テトラアルキルアンモニウムカルボン酸塩、ベンジルトリフェニルアンモニウムカルボン酸塩等が挙げられる。
第4級ホスホニウム塩系硬化促進剤としては、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、テトラ-n-ブチルホスホニウムブロマイド等が挙げられる。
金属化合物系硬化促進剤としては、三フッ化ホウ素、トリフェニルボレート、塩化亜鉛、塩化第二錫、アルミニウムアルコキシド、チタンアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、マグネシウムビス(アセチルアセトネート)、マグネシウムビス(エチルアセトアセテート)、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、アルミニウムビスエチルアセトアセテート・モノアセチルアセトネート等が挙げられる。
Examples of the quaternary ammonium salt-based curing accelerator include tetraethylammonium bromide, tetrabutylammonium bromide, tetraalkylammonium carboxylate, and benzyltriphenylammonium carboxylate.
Examples of the quaternary phosphonium salt-based curing accelerator include tetraphenylphosphonium bromide and tetra-n-butylphosphonium bromide.
Examples of the metal compound-based curing accelerator include boron trifluoride, triphenylborate, zinc chloride, tin chloride, aluminum alkoxide, titanium alkoxide, zirconium alkoxide, aluminum tris (acetylacetone), and aluminum tris (ethylacetacetate). , Magnesium bis (acetylacetonate), magnesium bis (ethylacetoneacetate), zirconium tetraacetylacetonate, aluminum bisethylacetate acetate, monoacetylacetonate and the like.

これらの硬化促進剤は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
接着剤組成物中の硬化促進剤の含有量は、前記(A)成分100質量部に対して、好ましくは0.1~10質量部、より好ましくは0.2~5質量部である。
硬化促進剤の含有量がこの範囲内にある接着剤組成物の硬化物は、高温時(例えば、60℃)においても優れた接着性を有する。
These curing accelerators can be used alone or in combination of two or more.
The content of the curing accelerator in the adhesive composition is preferably 0.1 to 10 parts by mass, and more preferably 0.2 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A).
A cured product of an adhesive composition having a content of a curing accelerator within this range has excellent adhesiveness even at a high temperature (for example, 60 ° C.).

(D)成分:シランカップリング剤
本発明の接着剤組成物は、(D)成分として、シランカップリング剤を含有する。
シランカップリング剤を含有する接着剤組成物を用いることで、常温(通常、20~30℃)及び高温高湿環境(例えば、60℃、相対湿度90%)下における接着性により優れた硬化物が得られ易くなる。
Component (D): Silane Coupling Agent The adhesive composition of the present invention contains a silane coupling agent as the component (D).
By using an adhesive composition containing a silane coupling agent, a cured product having better adhesiveness at room temperature (usually 20 to 30 ° C.) and in a high temperature and high humidity environment (for example, 60 ° C., relative humidity 90%). Is easy to obtain.

シランカップリング剤は、一般的には、分子内に有機材料と反応結合する官能基、及び無機材料と反応結合する官能基(ハロゲン原子、アルコキシ基等)を同時に有する有機ケイ素化合物である。シランカップリング剤としては特に限定されず、従来公知のシランカップリング剤を用いることができる。なかでも、より接着力に優れる樹脂組成物が得られる観点から、下記式(2)で示されるシラン化合物が好ましい。 The silane coupling agent is generally an organic silicon compound having a functional group that reacts with an organic material in the molecule and a functional group (halogen atom, alkoxy group, etc.) that reacts with an inorganic material at the same time. The silane coupling agent is not particularly limited, and conventionally known silane coupling agents can be used. Among them, the silane compound represented by the following formula (2) is preferable from the viewpoint of obtaining a resin composition having more excellent adhesive strength.

Figure 0007071279000003
Figure 0007071279000003

式(2)中、Rは炭素数3以上のアルキレン基を表し、Rは炭素数1~10の1価の炭化水素基を表し、Rは炭素数1~4のアルキル基を表す。Zは反応性基を含有する基を表し、nは0又は1である。In the formula (2), R 1 represents an alkylene group having 3 or more carbon atoms, R 2 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and R 3 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. .. Z represents a group containing a reactive group, and n is 0 or 1.

で表されるアルキレン基の炭素数は、3以上であり、3~20が好ましく、4~15がより好ましい。
アルキレン基の炭素数が3以上であることで、架橋反応がより起こり易くなる。
で表されるアルキレン基としては、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、ノナメチレン基、デカメチレン基等が挙げられる。
The alkylene group represented by R1 has 3 or more carbon atoms, preferably 3 to 20 and more preferably 4 to 15.
When the number of carbon atoms of the alkylene group is 3 or more, the crosslinking reaction is more likely to occur.
Examples of the alkylene group represented by R 1 include a trimethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, a heptamethylene group, an octamethylene group, a nonamethylene group, a decamethylene group and the like.

で表される1価の炭化水素基の炭素数は、1~10であり、1~6が好ましく、1~4がより好ましい。
で表される1価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基等のアルキル基;ビニル基、1-プロペニル基、2-プロペニル基、イソプロペニル基、3-ブテニル基、4-ペンテニル基、5-ヘキセニル基等のアルケニル基;エチニル基、プロパルギル基、ブチニル基等のアルキニル基;フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基等のアリール基;等が挙げられる。
The monovalent hydrocarbon group represented by R2 has 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 and more preferably 1 to 4.
The monovalent hydrocarbon group represented by R2 includes a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group and an n-pentyl group. Alkyl group such as group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group; vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, isopropenyl group, 3- Alkenyl groups such as butenyl group, 4-pentenyl group and 5-hexenyl group; alkynyl groups such as ethynyl group, propargyl group and butynyl group; aryl groups such as phenyl group, 1-naphthyl group and 2-naphthyl group; and the like. Be done.

で表されるアルキル基の炭素数は、1~4であり、1~3が好ましく、1又は2がより好ましい。
で表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基が挙げられる。
The alkyl group represented by R 3 has 1 to 4 carbon atoms, preferably 1 to 3 and more preferably 1 or 2.
Examples of the alkyl group represented by R 3 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, an isobutyl group and a t-butyl group.

Zに含まれる反応性基としては、アミノ基、水酸基、チオール基、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基等が挙げられ、エポキシ基が好ましい。
エポキシ基を含有するZとしては、エポキシ基、グリシジル基、3,4-エポキシシクロヘキシル基等が挙げられる。
Examples of the reactive group contained in Z include an amino group, a hydroxyl group, a thiol group, a vinyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, an epoxy group and the like, and an epoxy group is preferable.
Examples of Z containing an epoxy group include an epoxy group, a glycidyl group, a 3,4-epoxycyclohexyl group and the like.

式(2)で示されるシランカップリング剤としては、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、8-グリシドキシオクチルトリメトキシシラン、8-グリシドキシオクチルトリエトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン等が挙げられる。 Examples of the silane coupling agent represented by the formula (2) include 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and 3-glycidoxy. Propyltriethoxysilane, 8-glycidoxyoctyltrimethoxysilane, 8-glycidoxyoctyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) Examples thereof include ethyltriethoxysilane.

シランカップリング剤は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
接着剤組成物中のシランカップリング剤の含有量は、前記(A)成分100質量部に対して、好ましくは0.05~5質量部、より好ましくは0.1~3質量部である。
シランカップリング剤の含有量がこの範囲内にある接着剤組成物の硬化物は、高温時(例えば、60℃)においても優れた接着性を有する。
The silane coupling agent can be used alone or in combination of two or more.
The content of the silane coupling agent in the adhesive composition is preferably 0.05 to 5 parts by mass, more preferably 0.1 to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A).
A cured product of an adhesive composition having a silane coupling agent content within this range has excellent adhesiveness even at high temperatures (for example, 60 ° C.).

本発明の接着剤組成物は、前記(A)~(D)成分以外の成分を含有してもよい。
(A)~(D)成分以外の成分としては、溶媒、各種添加剤が挙げられる。
溶媒としては、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;n-ペンタン、n-ヘキサン、n-ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒;シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素系溶媒;等が挙げられる。
これらの溶媒は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
溶媒の使用量は、塗工性等を考慮して適宜決定することができる。
The adhesive composition of the present invention may contain components other than the above-mentioned components (A) to (D).
Examples of the components other than the components (A) to (D) include solvents and various additives.
As the solvent, aromatic hydrocarbon solvents such as benzene and toluene; ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; n-pentane, n-hexane and n- An aliphatic hydrocarbon solvent such as heptane; an alicyclic hydrocarbon solvent such as cyclopentane, cyclohexane, and methylcyclohexane; and the like can be mentioned.
These solvents can be used alone or in combination of two or more.
The amount of the solvent used can be appropriately determined in consideration of coatability and the like.

添加剤としては、粘着付与剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、光安定剤、酸化防止剤、樹脂安定剤、充填剤、顔料、増量剤、軟化剤等が挙げられる。
これらは1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明の接着剤組成物がこれらの添加剤を含有する場合、その含有量は、目的に合わせて適宜決定することができる。
Examples of the additive include a tackifier, an ultraviolet absorber, an antistatic agent, a light stabilizer, an antioxidant, a resin stabilizer, a filler, a pigment, a bulking agent, a softening agent and the like.
These can be used alone or in combination of two or more.
When the adhesive composition of the present invention contains these additives, the content thereof can be appropriately determined according to the purpose.

本発明の接着剤組成物は、所定の成分を、常法に従って適宜混合・攪拌することにより調製することができる。 The adhesive composition of the present invention can be prepared by appropriately mixing and stirring predetermined components according to a conventional method.

本発明の接着剤組成物は、水分遮断性に優れるものである。本発明の接着剤組成物から形成された接着剤層を硬化処理して得られる層(硬化処理後の接着剤層)の水蒸気透過率は、通常、0.1~200g・m-2・day-1、好ましくは1~150g・m-2・day-1である。
接着剤層の水蒸気透過率は、JIS K 7129:2008記載の乾湿センサー法(Lyssy法)にて測定することができる。
The adhesive composition of the present invention has excellent moisture blocking properties. The water vapor permeability of the layer (adhesive layer after the curing treatment) obtained by curing the adhesive layer formed from the adhesive composition of the present invention is usually 0.1 to 200 g · m -2 · day. -1 , preferably 1 to 150 g · m − 2 · day -1 .
The water vapor permeability of the adhesive layer can be measured by the dry / wet sensor method (Lyssy method) described in JIS K 7129: 2008.

本発明の接着剤組成物は、接着強度に優れるものである。特に、接着後、高温高湿条件下に置かれた場合であっても、接着力の低下が生じにくいという特徴を有する。
例えば、本発明の接着剤組成物を用いて得られた試験片について180°剥離試験を行ったときに、下記式(1)で算出されるx値が1.3以下であり、より好ましくは1.2以下であり、特に好ましくは1.0未満である。x値の下限は0.6以上が好ましく0.8以上がより好ましい。
The adhesive composition of the present invention has excellent adhesive strength. In particular, it has a feature that the adhesive strength is unlikely to decrease even when it is placed under high temperature and high humidity conditions after adhesion.
For example, when a 180 ° peeling test is performed on a test piece obtained by using the adhesive composition of the present invention, the x value calculated by the following formula (1) is 1.3 or less, more preferably. It is 1.2 or less, and particularly preferably less than 1.0. The lower limit of the x value is preferably 0.6 or more, more preferably 0.8 or more.

Figure 0007071279000004
Figure 0007071279000004

式(1)中、aは、温度23℃、相対湿度50%の条件下で180°剥離試験を行って得られた接着力を表し、bは、試験片を温度60℃、相対湿度90%の条件下に100時間、次いで、温度23℃、相対湿度50%の条件下に24時間静置させた後に、温度23℃、相対湿度50%条件下で180°剥離試験を行って得られた接着力を表す。 In formula (1), a represents the adhesive strength obtained by performing a 180 ° peeling test under the conditions of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%, and b represents a test piece having a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 90%. It was obtained by allowing it to stand for 100 hours under the conditions of 1) and then for 24 hours under the conditions of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%, and then performing a 180 ° peeling test under the conditions of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%. Represents adhesive strength.

aの値は、通常、1~100N/25mm、好ましくは10~50N/25mmである。
bの値は、通常、1~100N/25mm、好ましくは10~50N/25mmである。
aの値とbの値の関係は、b>aであることが好ましい。
The value of a is usually 1 to 100 N / 25 mm, preferably 10 to 50 N / 25 mm.
The value of b is usually 1 to 100 N / 25 mm, preferably 10 to 50 N / 25 mm.
The relationship between the value of a and the value of b is preferably b> a.

これらの180°剥離試験の試験片は、接着剤組成物を用いて得られた厚み20μmの接着剤層と厚み50μmのポリエチレンテレフタレートフィルムからなる封止シートを、前記封止シートの接着剤層のもう一方の側を(ポリエチレンテレフタレートフィルムに隣接していない側の面がガラス板に対向するように)ガラス板に重ねて、温度60℃、圧力0.2MPa、速度0.2m/分の条件でラミネートさせ、次いで、得られた圧着体を100℃で2時間加熱して、その接着剤層を硬化して得られた幅25mmの積層体である。
Xが1.3以下の接着剤組成物は、接着時に接着剤組成物と被着体の界面強度が強く、水の浸入を防ぐことができる。
前記試験片の作製に用いるガラス板の材質は特に限定されないが、通常、無アルカリガラスを用いる。また、その厚みも特に限定されないが、例えば、0.7mm厚のものを使用することができる。
For these 180 ° peeling test test pieces, a sealing sheet made of an adhesive layer having a thickness of 20 μm and a polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm obtained by using an adhesive composition was used as an adhesive layer of the sealing sheet. Lay the other side on the glass plate (so that the side not adjacent to the polyethylene terephthalate film faces the glass plate) at a temperature of 60 ° C., a pressure of 0.2 MPa, and a speed of 0.2 m / min. It is a laminated body having a width of 25 mm obtained by laminating and then heating the obtained crimped body at 100 ° C. for 2 hours to cure the adhesive layer.
An adhesive composition having an X of 1.3 or less has a strong interface strength between the adhesive composition and the adherend at the time of adhesion, and can prevent the infiltration of water.
The material of the glass plate used for producing the test piece is not particularly limited, but non-alkali glass is usually used. Further, the thickness thereof is not particularly limited, but for example, a thickness of 0.7 mm can be used.

このような物性を有する接着剤組成物は、(A)成分中の官能基、(B)成分中のエポキシ基、(C)成分中の反応性基のバランスをとることで得られ易くなる。
(A)成分中の官能基はエポキシ樹脂と反応可能な反応性基で、特にカルボン酸無水物基が好ましい。
また、(B)成分中のエポキシ基は、(A)成分の反応性基と反応して架橋することで強固な構造を形成する。従って、(A)成分の反応性基に対して十分な量のエポキシ基が必要となる。具体的には、(A)成分の反応性基に対してエポキシ基が10~100当量になるように(B)成分の量を調整することが好ましい。
(C)成分は、(A)成分と(B)成分の架橋構造中に取り込まれることによって、接着剤組成物と被着体を強く密着させるものである。従って、(C)成分の反応性基は(B)成分と同様の反応性を持つグリシジル基であることが好ましい。
An adhesive composition having such physical characteristics can be easily obtained by balancing the functional group in the component (A), the epoxy group in the component (B), and the reactive group in the component (C).
The functional group in the component (A) is a reactive group capable of reacting with the epoxy resin, and a carboxylic acid anhydride group is particularly preferable.
Further, the epoxy group in the component (B) reacts with the reactive group of the component (A) and crosslinks to form a strong structure. Therefore, a sufficient amount of epoxy group is required for the reactive group of the component (A). Specifically, it is preferable to adjust the amount of the component (B) so that the amount of the epoxy group is 10 to 100 equivalents with respect to the reactive group of the component (A).
The component (C) is incorporated into the crosslinked structure of the component (A) and the component (B) to strongly adhere the adhesive composition to the adherend. Therefore, the reactive group of the component (C) is preferably a glycidyl group having the same reactivity as the component (B).

本発明の接着剤組成物は、水分遮断性及び接着強度に優れるため、本発明の接着剤組成物は、封止材を形成する際に好適に用いられる。 Since the adhesive composition of the present invention is excellent in moisture blocking property and adhesive strength, the adhesive composition of the present invention is suitably used when forming a sealing material.

2)封止シート
本発明の封止シートは、下記の封止シート(α)又は封止シート(β)である。
封止シート(α):2枚の剥離フィルムと、これらの剥離フィルムに挟持された接着剤層とからなる封止シートであって、前記接着剤層が、本発明の接着剤組成物を用いて形成されたものであることを特徴とするもの
封止シート(β):剥離フィルムと、ガスバリア性フィルムと、前記剥離フィルムと前記ガスバリア性フィルムに挟持された接着剤層とからなる封止シートであって、前記接着剤層が、本発明の接着剤組成物を用いて形成されたものであることを特徴とするもの
なお、これらの封止シートは使用前の状態を表したものであり、本発明の封止シートを使用する際は、通常、剥離フィルムは剥離除去される。
2) Encapsulation sheet The encapsulation sheet of the present invention is the following encapsulation sheet (α) or encapsulation sheet (β).
Sealing sheet (α): A sealing sheet composed of two release films and an adhesive layer sandwiched between these release films, wherein the adhesive layer uses the adhesive composition of the present invention. Sealing sheet (β): A sealing sheet composed of a release film, a gas barrier film, and an adhesive layer sandwiched between the release film and the gas barrier film. The adhesive layer is formed by using the adhesive composition of the present invention. It should be noted that these sealing sheets represent the state before use. When using the sealing sheet of the present invention, the release film is usually peeled off.

〔封止シート(α)〕
封止シート(α)を構成する剥離フィルムは、封止シート(α)の製造工程においては支持体として機能するとともに、封止シート(α)を使用するまでの間は、接着剤層の保護シートとして機能する。
[Sealing sheet (α)]
The release film constituting the sealing sheet (α) functions as a support in the manufacturing process of the sealing sheet (α) and protects the adhesive layer until the sealing sheet (α) is used. Functions as a sheet.

剥離フィルムとしては、従来公知のものを利用することができる。例えば、剥離フィルム用の基材上に、剥離剤により剥離処理された剥離層を有するものが挙げられる。
剥離フィルム用の基材としては、グラシン紙、コート紙、上質紙等の紙基材;これらの紙基材にポリエチレン等の熱可塑性樹脂をラミネートしたラミネート紙;ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂等のプラスチックフィルム;等が挙げられる。
剥離剤としては、シリコーン系樹脂、オレフィン系樹脂、イソプレン系樹脂、ブタジエン系樹脂等のゴム系エラストマー、長鎖アルキル系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等が挙げられる。
As the release film, a conventionally known one can be used. For example, a base material for a release film having a release layer that has been peeled with a release agent can be mentioned.
As the base material for the release film, paper base materials such as glassin paper, coated paper, and high-quality paper; laminated paper obtained by laminating a thermoplastic resin such as polyethylene on these paper base materials; polyethylene terephthalate resin, polybutylene terephthalate resin, etc. Plastic films such as polyethylene naphthalate resin, polypropylene resin, and polyethylene resin; and the like.
Examples of the release agent include rubber-based elastomers such as silicone-based resins, olefin-based resins, isoprene-based resins, and butadiene-based resins, long-chain alkyl-based resins, alkyd-based resins, and fluorine-based resins.

封止シート(α)における2枚の剥離フィルムは同一であっても、相異なっていてもよいが、2枚の剥離フィルムは異なる剥離力を有するものが好ましい。2枚の剥離フィルムの剥離力が異なることで、封止シートの使用時に問題が発生し難くなる。例えば、2枚の剥離フィルムとして剥離力が異なるものを用い、最初に剥離力の弱い剥離フィルムを剥離するようにして、剥離フィルムを剥離する工程をより効率よく行うことができる。 The two release films in the sealing sheet (α) may be the same or different from each other, but it is preferable that the two release films have different release forces. Since the peeling forces of the two release films are different, problems are less likely to occur when the sealing sheet is used. For example, it is possible to more efficiently perform the step of peeling the release film by using two release films having different release forces and first peeling the release film having a weak release force.

封止シート(α)の接着剤層の厚みは、通常、1~50μmであり、好ましくは5~30μmである。厚みが上記範囲内にある接着剤層は、封止材として好適に用いられる。 The thickness of the adhesive layer of the sealing sheet (α) is usually 1 to 50 μm, preferably 5 to 30 μm. An adhesive layer having a thickness within the above range is suitably used as a sealing material.

封止シート(α)の接着剤層は、本発明の接着剤組成物を用いて形成されたものであるため熱硬化性を有する。
封止シート(α)を使用する場合、例えば、次のようにして封止体を得ることができる。まず、封止シート(α)から剥離フィルムを剥離して、接着剤層を露出させ、次いで、露出した接着剤層を未硬化の状態で被着体を覆うように圧着させ、その後、得られた積層物を所定温度に加熱して、前記接着剤層を熱硬化させることで封止体を得ることができる。
なお、得られた封止体上に別の層を更に積層する場合には、前記封止シート(α)の残された剥離シートを剥離して、露出した接着剤層上に別の層を積層させればよい。この操作は、接着剤層が未硬化の状態で実施しても、硬化させた後に実施してもよい。
Since the adhesive layer of the sealing sheet (α) is formed by using the adhesive composition of the present invention, it has thermosetting property.
When the sealing sheet (α) is used, for example, the sealing body can be obtained as follows. First, the release film is peeled off from the sealing sheet (α) to expose the adhesive layer, and then the exposed adhesive layer is crimped so as to cover the adherend in an uncured state, and then obtained. A sealed body can be obtained by heating the laminated laminate to a predetermined temperature and thermosetting the adhesive layer.
When another layer is further laminated on the obtained sealing body, the remaining release sheet of the sealing sheet (α) is peeled off, and another layer is formed on the exposed adhesive layer. It may be laminated. This operation may be performed with the adhesive layer uncured, or may be performed after the adhesive layer has been cured.

被着体に接着剤層を圧着させる条件は特に限定されない。
温度は、通常、23~100℃、好ましくは40~80℃である。
圧力は、通常、0.1~0.5MPa、好ましくは0.2~0.3MPaである。
The conditions for crimping the adhesive layer to the adherend are not particularly limited.
The temperature is usually 23 to 100 ° C, preferably 40 to 80 ° C.
The pressure is usually 0.1 to 0.5 MPa, preferably 0.2 to 0.3 MPa.

接着剤層を熱硬化させる際の条件は特に限定されない。
加熱温度は、通常、80~200℃、好ましくは90~150℃である。
加熱時間は、通常、30分から12時間、好ましくは1~6時間である。
The conditions for thermosetting the adhesive layer are not particularly limited.
The heating temperature is usually 80 to 200 ° C, preferably 90 to 150 ° C.
The heating time is usually 30 minutes to 12 hours, preferably 1 to 6 hours.

硬化処理後の接着剤層について、180°剥離試験を23℃で行った場合、接着力は、通常、1~100N/25mm、好ましくは、10~50N/25mmである。この180°剥離試験は、実施例に記載の方法にしたがって行うことができる。
また、硬化処理後の接着剤層は水分遮断性に優れる。硬化処理後の接着剤層の水蒸気透過率は、通常、0.1~200g・m-2・day-1、好ましくは1~150g・m-2・day-1である。
接着剤層の水蒸気透過率は、JIS K 7129:2008記載の乾湿センサー法(Lyssy法)にて測定することができる。
When the 180 ° peeling test is performed on the adhesive layer after the curing treatment at 23 ° C., the adhesive strength is usually 1 to 100 N / 25 mm, preferably 10 to 50 N / 25 mm. This 180 ° peel test can be performed according to the method described in Examples.
In addition, the adhesive layer after the curing treatment has excellent moisture blocking properties. The water vapor permeability of the adhesive layer after the curing treatment is usually 0.1 to 200 g · m -2 · day -1 , preferably 1 to 150 g · m -2 · day -1 .
The water vapor permeability of the adhesive layer can be measured by the dry / wet sensor method (Lyssy method) described in JIS K 7129: 2008.

封止シート(α)の製造方法は特に限定されない。例えば、キャスト法を用いて、封止シート(α)を製造することができる。
封止シート(α)をキャスト法により製造する場合、公知の方法を用いて、本発明の接着剤組成物を剥離フィルムの剥離処理面に塗工し、得られた塗膜を乾燥することで、剥離フィルム付接着剤層を製造し、次いで、もう1枚の剥離フィルムを接着剤層上に重ねることで、封止シート(α)を得ることができる。
The method for producing the sealing sheet (α) is not particularly limited. For example, a sealing sheet (α) can be produced by using a casting method.
When the sealing sheet (α) is produced by the casting method, the adhesive composition of the present invention is applied to the peeled surface of the release film by a known method, and the obtained coating film is dried. The sealing sheet (α) can be obtained by producing an adhesive layer with a release film and then superimposing another release film on the adhesive layer.

接着剤組成物を塗工する方法としては、例えば、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法等が挙げられる。
塗膜を乾燥するときの乾燥条件としては、例えば80~150℃で30秒~5分間が挙げられる。
Examples of the method for applying the adhesive composition include a spin coating method, a spray coating method, a bar coating method, a knife coating method, a roll coating method, a blade coating method, a die coating method, and a gravure coating method.
Examples of the drying conditions for drying the coating film include 30 seconds to 5 minutes at 80 to 150 ° C.

〔封止シート(β)〕
封止シート(β)は、剥離フィルムと、ガスバリア性フィルムと、前記剥離フィルムと前記ガスバリア性フィルムに挟持された接着剤層とからなる封止シートであって、前記接着剤層が、本発明の接着剤組成物を用いて形成されたものであることを特徴とする。
なお、これらの封止シートは使用前の状態を表したものであり、本発明の封止シートを使用する際は、通常、剥離フィルムは剥離除去される。
[Sealing sheet (β)]
The sealing sheet (β) is a sealing sheet composed of a release film, a gas barrier film, and an adhesive layer sandwiched between the release film and the gas barrier film, and the adhesive layer is the present invention. It is characterized in that it is formed by using the adhesive composition of.
It should be noted that these sealing sheets represent a state before use, and when the sealing sheet of the present invention is used, the release film is usually peeled off.

封止シート(β)における2枚の剥離フィルムは同一であっても、相異なっていてもよいが、2枚の剥離フィルムは異なる剥離力を有するものが好ましい。2枚の剥離フィルムの剥離力が異なることで、封止シートの使用時に問題が発生し難くなる。例えば、最初に剥離力の弱い剥離フィルムを剥離すれば、剥離フィルムを剥離する工程をより効率よく行うことができる。 The two release films in the sealing sheet (β) may be the same or different from each other, but it is preferable that the two release films have different release forces. Since the peeling forces of the two release films are different, problems are less likely to occur when the sealing sheet is used. For example, if the release film having a weak peeling force is first peeled off, the step of peeling off the release film can be performed more efficiently.

ガスバリア性フィルムは、水分遮断性を有するフィルムであれば特に限定されない。
ガスバリア性フィルムは、温度40℃、相対湿度90%(以下、「90%RH」と略記する。)の環境下における水蒸気透過率が0.1g/m/day以下であることが好ましく、0.05g/m/day以下であることがより好ましく、0.005g/m/day以下であることがさらに好ましい。
ガスバリア性フィルムの温度40℃、90%RHの環境下における水蒸気透過率が0.1g/m/day以下であることで、透明基板上に形成された有機EL素子等の素子内部に酸素や水分等が浸入し、電極や有機層が劣化することを効果的に抑制することができる。
ガスバリア性フィルムの水蒸気等の透過率は、公知のガス透過率測定装置を使用して測定することができる。
The gas barrier film is not particularly limited as long as it is a film having a moisture barrier property.
The gas barrier film preferably has a water vapor permeability of 0.1 g / m 2 / day or less in an environment of a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90% (hereinafter, abbreviated as “90% RH”), and is 0. It is more preferably 0.05 g / m 2 / day or less, and further preferably 0.005 g / m 2 / day or less.
When the water vapor transmittance of the gas barrier film in an environment of 40 ° C. and 90% RH is 0.1 g / m 2 / day or less, oxygen or oxygen can be contained in the organic EL element or the like formed on the transparent substrate. It is possible to effectively suppress the deterioration of the electrode and the organic layer due to the infiltration of water and the like.
The transmittance of the gas barrier film such as water vapor can be measured using a known gas permeability measuring device.

ガスバリア性フィルムとしては、金属箔、樹脂製フィルム、薄膜ガラス等が挙げられる。これらの中でも、樹脂製フィルムが好ましく、樹脂製フィルム(基材)とガスバリア層とを有するガスバリア性フィルムがより好ましい。 Examples of the gas barrier film include metal foil, resin film, thin film glass and the like. Among these, a resin film is preferable, and a gas barrier film having a resin film (base material) and a gas barrier layer is more preferable.

金属箔の金属としては、例えば、銅、ニッケル、アルミニウム等の金属材料;ステンレス又はアルミニウム合金等の合金材料;等が挙げられる。 Examples of the metal of the metal foil include metal materials such as copper, nickel and aluminum; alloy materials such as stainless steel or aluminum alloys; and the like.

薄膜ガラスの成分・組成は特に限定されないが、より安定なフレキシブル性が得られる点で、無アルカリのホウケイ酸ガラスが好ましい。
薄膜ガラスは、薄膜ガラスを単体として用いてもよいが、アルミ箔等の金属箔や樹脂フィルムを、薄膜ガラスに積層あるいはラミネートしたものを用いてもよい。
また、薄膜ガラスとしては、厚みが10~200μm程度のフレキシブル性を有するものが好ましい。
The composition and composition of the thin film glass are not particularly limited, but non-alkali borosilicate glass is preferable in that more stable flexibility can be obtained.
As the thin film glass, the thin film glass may be used as a single unit, or a metal foil such as an aluminum foil or a resin film laminated or laminated on the thin film glass may be used.
Further, as the thin film glass, one having flexibility having a thickness of about 10 to 200 μm is preferable.

基材とガスバリア層とを有するガスバリア性フィルムにおいて、基材を構成する樹脂成分としては、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、アクリル系樹脂、シクロオレフィン系ポリマー、芳香族系重合体、ポリウレタン系ポリマー等が挙げられる。
基材の厚みは、特に制限はないが、取り扱い易さの観点から、好ましくは0.5~500μm、より好ましくは1~200μm、さらに好ましくは5~100μmである。
In a gas barrier film having a base material and a gas barrier layer, the resin components constituting the base material include polyimide, polyamide, polyamideimide, polyphenylene ether, polyether ketone, polyether ether ketone, polyolefin, polyester, polycarbonate, polysulfone, and the like. Examples thereof include polyether sulfone, polyphenylene sulfide, polyarylate, acrylic resin, cycloolefin polymer, aromatic polymer, polyurethane polymer and the like.
The thickness of the base material is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 500 μm, more preferably 1 to 200 μm, and even more preferably 5 to 100 μm from the viewpoint of ease of handling.

ガスバリア層は、所望のガスバリア性を付与することができるものであれば、その材質等は特に限定されない。ガスバリア層としては、無機膜や、高分子化合物を含む層に改質処理を施して得られる層等が挙げられる。これらの中でも、厚みが薄く、ガスバリア性に優れる層を効率よく形成できることから、ガスバリア層は、無機膜からなるガスバリア層、及び高分子化合物を含む層にイオンを注入して得られるガスバリア層が好ましい。 The material of the gas barrier layer is not particularly limited as long as it can impart desired gas barrier properties. Examples of the gas barrier layer include an inorganic film and a layer obtained by subjecting a layer containing a polymer compound to a modification treatment. Among these, the gas barrier layer is preferably a gas barrier layer made of an inorganic film or a gas barrier layer obtained by injecting ions into a layer containing a polymer compound because a layer having a thin thickness and excellent gas barrier properties can be efficiently formed. ..

無機膜としては、特に制限されず、例えば、無機蒸着膜が挙げられる。
無機蒸着膜としては、無機化合物や金属の蒸着膜が挙げられる。
無機化合物の蒸着膜の原料としては、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ等の無機酸化物;窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化チタン等の無機窒化物;無機炭化物;無機硫化物;酸化窒化ケイ素等の無機酸化窒化物;無機酸化炭化物;無機窒化炭化物;無機酸化窒化炭化物等が挙げられる。
金属の蒸着膜の原料としては、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、及びスズ等が挙げられる。
The inorganic film is not particularly limited, and examples thereof include an inorganic thin-film film.
Examples of the inorganic vapor deposition film include a vapor deposition film of an inorganic compound or a metal.
Inorganic oxides such as silicon oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, zinc oxide, indium oxide, and tin oxide; inorganic nitrides such as silicon nitride, aluminum nitride, and titanium nitride; inorganic carbides; Examples thereof include inorganic sulfides; inorganic oxynitrides such as silicon oxide nitride; inorganic oxidative carbides; inorganic nitriding carbides; and inorganic oxynitride carbides.
Examples of the raw material of the metal vapor deposition film include aluminum, magnesium, zinc, tin and the like.

無機膜の形成方法としては、真空蒸着法、EB蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ラミネート法、プラズマ気相成長法(CVD法)等が挙げられる。
無機膜の厚みは、無機材料の種類や構成により適宜選択されるが、通常、1~500であり、好ましくは、2~300nmである。
Examples of the method for forming the inorganic film include a vacuum vapor deposition method, an EB vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a laminating method, and a plasma vapor deposition method (CVD method).
The thickness of the inorganic film is appropriately selected depending on the type and composition of the inorganic material, but is usually 1 to 500, preferably 2 to 300 nm.

高分子化合物を含む層(以下、「高分子層」ということがある)にイオン注入して得られるガスバリア層において、用いる高分子化合物としては、ポリオルガノシロキサン、ポリシラザン系化合物等のケイ素含有高分子化合物、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、アクリル系樹脂、シクロオレフィン系ポリマー、芳香族系重合体等が挙げられる。これらの高分子化合物は1種単独で、あるいは2種以上を組合せて用いることができる。
これらの中でも、優れたガスバリア性を有するガスバリア層を形成できる観点から、ケイ素含有高分子化合物が好ましく、ポリシラザン系化合物がより好ましい。
In the gas barrier layer obtained by ionizing a layer containing a polymer compound (hereinafter, may be referred to as a "polymer layer"), the polymer compound used is a silicon-containing polymer such as polyorganosiloxane or polysilazane-based compound. Compounds, polyimides, polyamides, polyamideimides, polyphenylene ethers, polyether ketones, polyether ether ketones, polyolefins, polyesters, polycarbonates, polysulfones, polyethersulfones, polyphenylene sulfides, polyarylates, acrylic resins, cycloolefin polymers, aromatics Examples include system polymers. These polymer compounds can be used alone or in combination of two or more.
Among these, silicon-containing polymer compounds are preferable, and polysilazane-based compounds are more preferable, from the viewpoint of being able to form a gas barrier layer having excellent gas barrier properties.

ポリシラザン系化合物は、分子内に-Si-N-結合(シラザン結合)を含む繰り返し単位を有する高分子化合物である。具体的には、式(3) A polysilazane-based compound is a polymer compound having a repeating unit containing a —Si—N— bond (silazane bond) in the molecule. Specifically, equation (3)

Figure 0007071279000005
Figure 0007071279000005

で表される繰り返し単位を有する化合物が好ましい。また、用いるポリシラザン系化合物の数平均分子量は、特に限定されないが、100~50,000であるのが好ましい。 A compound having a repeating unit represented by is preferable. The number average molecular weight of the polysilazane compound used is not particularly limited, but is preferably 100 to 50,000.

前記式(3)中、rは任意の自然数を表す。
Rx、Ry、Rzは、それぞれ独立して、水素原子、無置換若しくは置換基を有するアルキル基、無置換若しくは置換基を有するシクロアルキル基、無置換若しくは置換基を有するアルケニル基、無置換若しくは置換基を有するアリール基又はアルキルシリル基等の非加水分解性基を表す。これらの中でも、Rx、Ry、Rzとしては、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、又はフェニル基が好ましく、水素原子が特に好ましい。前記式(3)で表される繰り返し単位を有するポリシラザン系化合物としては、Rx、Ry、Rzが全て水素原子である無機ポリシラザン、Rx、Ry、Rzの少なくとも1つが水素原子ではない有機ポリシラザンのいずれであってもよい。
In the above equation (3), r represents an arbitrary natural number.
Rx, Ry and Rz are independently hydrogen atom, alkyl group having unsubstituted or substituent, cycloalkyl group having unsubstituted or substituent, alkenyl group having unsubstituted or substituent, unsubstituted or substituted. Represents a non-hydrolytable group such as an aryl group having a group or an alkylsilyl group. Among these, as Rx, Ry, and Rz, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a phenyl group is preferable, and a hydrogen atom is particularly preferable. The polysilazane compound having a repeating unit represented by the formula (3) is any of inorganic polysilazane in which Rx, Ry and Rz are all hydrogen atoms, and organic polysilazane in which at least one of Rx, Ry and Rz is not a hydrogen atom. May be.

ポリシラザン系化合物は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。本発明においては、ポリシラザン系化合物として、ポリシラザン変性物を用いることもできる。また、本発明においては、ポリシラザン系化合物としては、ガラスコーティング材等として市販されている市販品をそのまま使用することもできる。 The polysilazane-based compound can be used alone or in combination of two or more. In the present invention, a modified polysilazane can also be used as the polysilazane compound. Further, in the present invention, as the polysilazane-based compound, a commercially available product commercially available as a glass coating material or the like can be used as it is.

前記高分子層は、上述した高分子化合物の他に、本発明の目的を阻害しない範囲で他の成分を含んでいてもよい。他の成分としては、硬化剤、他の高分子、老化防止剤、光安定剤、難燃剤等が挙げられる。
高分子層中の高分子化合物の含有量は、より優れたガスバリア性を有するガスバリア層が得られることから、50質量%以上が好ましく、70質量%以上がより好ましい。
In addition to the above-mentioned polymer compound, the polymer layer may contain other components as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of other components include curing agents, other polymers, antiaging agents, light stabilizers, flame retardants and the like.
The content of the polymer compound in the polymer layer is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, because a gas barrier layer having more excellent gas barrier properties can be obtained.

高分子層の厚みは特に制限されないが、好ましくは50~300nm、より好ましくは50~200nmの範囲である。
本発明においては、高分子層の厚みがナノオーダーであっても、充分なガスバリア性を有する封止シートを得ることができる。
The thickness of the polymer layer is not particularly limited, but is preferably in the range of 50 to 300 nm, more preferably 50 to 200 nm.
In the present invention, even if the thickness of the polymer layer is on the nano-order, a sealing sheet having sufficient gas barrier properties can be obtained.

高分子層を形成する方法としては、例えば、高分子化合物の少なくとも1種、所望により他の成分、及び溶剤等を含有する層形成用溶液を、スピンコーター、ナイフコーター、グラビアコーター等の公知の装置を使用し、塗布し、得られた塗膜を適度に乾燥して形成する方法が挙げられる。 As a method for forming a polymer layer, for example, a known layer-forming solution containing at least one polymer compound, optionally other components, a solvent and the like, such as a spin coater, a knife coater, and a gravure coater. Examples thereof include a method of applying using an apparatus and appropriately drying and forming the obtained coating film.

高分子層の改質処理としては、イオン注入処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、熱処理等が挙げられる。
イオン注入処理は、後述するように、高分子層にイオンを注入して、高分子層を改質する方法である。
プラズマ処理は、高分子層をプラズマ中に晒して、高分子層を改質する方法である。例えば、特開2012-106421号公報に記載の方法に従って、プラズマ処理を行うことができる。
紫外線照射処理は、高分子層に紫外線を照射して高分子層を改質する方法である。例えば、特開2013-226757号公報に記載の方法に従って、紫外線改質処理を行うことができる。
これらの中でも、高分子層の表面を荒らすことなく、その内部まで効率よく改質し、よりガスバリア性に優れるガスバリア層を形成できることから、イオン注入処理が好ましい。
Examples of the polymer layer modification treatment include ion implantation treatment, plasma treatment, ultraviolet irradiation treatment, heat treatment and the like.
The ion implantation treatment is a method of modifying the polymer layer by injecting ions into the polymer layer, as will be described later.
Plasma treatment is a method of modifying a polymer layer by exposing the polymer layer to plasma. For example, plasma treatment can be performed according to the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-106421.
The ultraviolet irradiation treatment is a method of irradiating a polymer layer with ultraviolet rays to modify the polymer layer. For example, the ultraviolet modification treatment can be performed according to the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-226757.
Among these, the ion implantation treatment is preferable because it can efficiently modify the inside of the polymer layer without roughening the surface and form a gas barrier layer having more excellent gas barrier properties.

高分子層に注入されるイオンとしては、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等の希ガスのイオン;フルオロカーボン、水素、窒素、酸素、二酸化炭素、塩素、フッ素、硫黄等のイオン;
メタン、エタン等のアルカン系ガス類のイオン;エチレン、プロピレン等のアルケン系ガス類のイオン;ペンタジエン、ブタジエン等のアルカジエン系ガス類のイオン;アセチレン等のアルキン系ガス類のイオン;ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系ガス類のイオン;シクロプロパン等のシクロアルカン系ガス類のイオン;シクロペンテン等のシクロアルケン系ガス類のイオン;金属のイオン;有機ケイ素化合物のイオン;等が挙げられる。
これらのイオンは1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、より簡便にイオンを注入することができ、特に優れたガスバリア性を有するガスバリア層が得られることから、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等の希ガスのイオンが好ましい。
The ions injected into the polymer layer include rare gas ions such as argon, helium, neon, krypton, and xenon; ions such as fluorocarbon, hydrogen, nitrogen, oxygen, carbon dioxide, chlorine, fluorine, and sulfur;
Alkane-based gas ions such as methane and ethane; Alken-based gas ions such as ethylene and propylene; Alkene-based gas ions such as pentadiene and butadiene; Alkin-based gas ions such as acetylene; Benzene, toluene, etc. Aromatic hydrocarbon gas ions; cycloalkane gas ions such as cyclopropane; cycloalkene gas ions such as cyclopentene; metal ions; organic silicon compound ions; and the like.
These ions can be used alone or in combination of two or more.
Among these, rare gas ions such as argon, helium, neon, krypton, and xenon are preferable because ions can be injected more easily and a gas barrier layer having particularly excellent gas barrier properties can be obtained.

イオンを注入する方法としては、特に限定されない。例えば、電界により加速されたイオン(イオンビーム)を照射する方法、プラズマ中のイオン(プラズマ生成ガスのイオン)を注入する方法等が挙げられ、簡便にガスバリア層が得られることから、後者のプラズマイオンを注入する方法が好ましい。プラズマイオン注入法は、例えば、プラズマ生成ガスを含む雰囲気下でプラズマを発生させ、イオンを注入する層に負の高電圧パルスを印加することにより、該プラズマ中のイオン(陽イオン)を、イオンを注入する層の表面部に注入して行うことができる。 The method of injecting ions is not particularly limited. For example, a method of irradiating ions (ion beams) accelerated by an electric field, a method of injecting ions in plasma (ions of plasma-producing gas), and the like can be mentioned. Since a gas barrier layer can be easily obtained, the latter plasma. The method of injecting ions is preferable. In the plasma ion injection method, for example, plasma is generated in an atmosphere containing a plasma generating gas, and a negative high voltage pulse is applied to the layer into which the ions are injected to generate ions (cations) in the plasma. Can be injected into the surface of the layer to be injected with.

前記ガスバリア性フィルムは、基材とガスバリア層との間にプライマー層を設けたものであってもよい。プライマー層を設けることにより、基材とガスバリア層との密着性を高めることができる場合がある。 The gas barrier film may have a primer layer provided between the base material and the gas barrier layer. By providing the primer layer, it may be possible to improve the adhesion between the base material and the gas barrier layer.

プライマー層を構成する材料としては、特に限定されず、公知のものが使用できる。例えば、ケイ素含有化合物;光重合性モノマー及び/又は光重合性プレポリマーからなる光重合性化合物、及び少なくとも可視光域の光でラジカルを発生する重合開始剤を含む光重合性組成物;ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂(特にポリアクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール等とイソシアネート化合物との2液硬化型樹脂)、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール系樹脂、ニトロセルロース系樹脂等の樹脂類;アルキルチタネート;ポリエチレンイミン;等が挙げられる。これらの材料は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
プライマー層は、プライマー層形成用溶液の塗布方法、及び得られた塗膜の乾燥、加熱方法としては、それぞれ、高分子層を形成する方法として先に示したものを用いることができる。プライマー層を形成する場合、プライマー層の厚みは、通常、10~1000nmである。
The material constituting the primer layer is not particularly limited, and known materials can be used. For example, a silicon-containing compound; a photopolymerizable composition comprising a photopolymerizable monomer and / or a photopolymerizable prepolymer, and a polymerization initiator that generates radicals in light at least in the visible light region; polyester-based. Resins, polyurethane resins (particularly polyacrylic polyols, polyester polyols, polyether polyols, etc. and isocyanate compounds, two-component curable resins), acrylic resins, polycarbonate resins, vinyl chloride / vinyl acetate copolymers, polyvinyl butyral-based Resins such as resins and nitrocellulose resins; alkyl titanates; polyethyleneimine; and the like can be mentioned. These materials can be used alone or in combination of two or more.
As the primer layer, the methods shown above can be used as the method for applying the solution for forming the primer layer and the method for drying and heating the obtained coating film, respectively, as the method for forming the polymer layer. When forming a primer layer, the thickness of the primer layer is usually 10 to 1000 nm.

封止シート(β)の製造方法は特に限定されない。例えば、先に説明した封止シート(α)の製造方法において、剥離フィルムの1枚をガスバリア性フィルムに置き換えることで封止シート(β)を製造することができる。
また、封止シート(α)を製造した後、その1枚の剥離フィルムを剥離し、露出した接着剤層とガスバリア性フィルムとを貼着することにより、封止シート(β)を製造することもできる。この場合、封止シート(α)が、異なる剥離力を有する2枚の剥離フィルムを有する場合には、取扱い性の観点から、剥離力の小さい方の剥離フィルムを剥離するのが好ましい。
The method for producing the sealing sheet (β) is not particularly limited. For example, in the method for producing the sealing sheet (α) described above, the sealing sheet (β) can be produced by replacing one of the release films with a gas barrier film.
Further, after the sealing sheet (α) is manufactured, the sealing sheet (β) is manufactured by peeling off one of the release films and attaching the exposed adhesive layer and the gas barrier film. You can also. In this case, when the sealing sheet (α) has two release films having different release forces, it is preferable to release the release film having the smaller release force from the viewpoint of handleability.

本発明の封止シートの接着剤層は、接着強度及び水分遮断性に優れる。このため、本発明の封止シートを用いて有機EL素子を封止することで、その劣化を効率よく抑えることができる。 The adhesive layer of the sealing sheet of the present invention is excellent in adhesive strength and moisture blocking property. Therefore, by sealing the organic EL element using the sealing sheet of the present invention, its deterioration can be efficiently suppressed.

3)封止体
本発明の封止体は、被封止物が、本発明の封止シートを用いて封止されてなるものである。
「本発明の封止シートを用いて封止されてなる」とは、本発明の封止シートを構成する剥離フィルムを除去して接着剤層を露出させ、その接着剤層を被封止物に密着させて、被封止物を覆うことをいう。
本発明の封止体としては、例えば、透明基板と、該透明基板上に形成された素子(被封止物)と、該素子を封止するための封止材とを備えるものであって、前記封止材が、本発明の封止シート(α)又は(β)の接着剤層により封止されてなるものが挙げられる。
3) Encapsulant In the encapsulation body of the present invention, the object to be sealed is sealed by using the encapsulation sheet of the present invention.
"Sealed using the sealing sheet of the present invention" means that the release film constituting the sealing sheet of the present invention is removed to expose the adhesive layer, and the adhesive layer is used as an object to be sealed. It means to cover the object to be sealed by making it adhere to.
The encapsulant of the present invention includes, for example, a transparent substrate, an element (object to be sealed) formed on the transparent substrate, and a sealing material for encapsulating the element. , The sealing material is sealed by the adhesive layer of the sealing sheet (α) or (β) of the present invention.

本発明の封止体の層構成の具体例としては、次のものが挙げられるが、以下のものに限定されるものではない。なお、以下においては、剥離フィルムを剥離除去した態様で記載する。
(i)透明基板/該透明基板上に形成された素子(被封止物)/接着剤層
(ii)透明基板/該透明基板上に形成された素子(被封止物)/接着剤層/ガスバリア層
(iii)透明基板/該透明基板上に形成された素子(被封止物)/接着剤層/ガスバリア層/基材フィルム
(iv)透明基板/該透明基板上に形成された素子(被封止物)/接着剤層/ガスバリア層/プライマー層/基材フィルム
Specific examples of the layer structure of the sealed body of the present invention include, but are not limited to, the following. In the following, the description will be made in a manner in which the release film is peeled off and removed.
(I) Transparent substrate / Element (encapsulated object) formed on the transparent substrate / Adhesive layer (ii) Transparent substrate / Element (encapsulated object) formed on the transparent substrate / Adhesive layer / Gas barrier layer (iii) transparent substrate / element formed on the transparent substrate (object to be sealed) / adhesive layer / gas barrier layer / base film (iv) transparent substrate / element formed on the transparent substrate (Material to be sealed) / Adhesive layer / Gas barrier layer / Primer layer / Base film

透明基板は、特に限定されるものではなく、種々の基板材料を用いることができる。特に可視光の透過率が高い基板材料を用いることが好ましい。また、素子外部から浸入しようとする水分やガスを阻止する遮断性能が高く、耐溶剤性や耐候性に優れている材料が好ましい。具体的には、石英やガラス等の透明無機材料;ポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフタラート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリフェニレンスルフィド、ポリフッ化ビニリデン、アセチルセルロース、ブロム化フェノキシ、アラミド類、ポリイミド類、ポリスチレン類、ポリアリレート類、ポリスルホン類、ポリオレフィン類等の透明プラスチック、前述したガスバリア性フィルム;が挙げられる。
透明基板の厚みは特に制限されず、光の透過率や、素子内外を遮断する性能を勘案して、適宜選択することができる。
The transparent substrate is not particularly limited, and various substrate materials can be used. In particular, it is preferable to use a substrate material having a high visible light transmittance. Further, a material having high blocking performance to block moisture and gas from the outside of the element and having excellent solvent resistance and weather resistance is preferable. Specifically, transparent inorganic materials such as quartz and glass; polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polystyrene, polyethylene, polypropylene, polyphenylene sulfide, polyvinylidene fluoride, acetylcellulose, brominated phenoxy, aramids, polyimides, etc. Examples thereof include transparent plastics such as polystyrenes, polyarylates, polysulfones and polyolefins, and the above-mentioned gas barrier film.
The thickness of the transparent substrate is not particularly limited, and can be appropriately selected in consideration of the light transmittance and the performance of blocking the inside and outside of the element.

被封止物としては、有機EL素子、有機ELディスプレイ素子、液晶ディスプレイ素子、太陽電池素子等が挙げられる。 Examples of the object to be sealed include an organic EL element, an organic EL display element, a liquid crystal display element, a solar cell element and the like.

本発明の封止体の製造方法は特に限定されない。例えば、本発明の封止シートの接着剤層を被封止物上に重ねた後、加熱することにより、封止シートの接着剤層と被封止物を接着させる。
次いで、この接着剤層を硬化させることにより、本発明の封止体を製造することができる。
The method for producing the sealed body of the present invention is not particularly limited. For example, the adhesive layer of the sealing sheet of the present invention is layered on the object to be sealed, and then heated to bond the adhesive layer of the sealing sheet and the object to be sealed.
Then, by curing this adhesive layer, the sealed body of the present invention can be produced.

封止シートの接着剤層と被封止物を密着させる際、及び接着剤層を硬化させる際の硬化条件としては、先に説明した条件を利用することができる。 The conditions described above can be used as the curing conditions when the adhesive layer of the sealing sheet and the object to be sealed are brought into close contact with each other and when the adhesive layer is cured.

本発明の封止体は、被封止物が、本発明の封止シートで封止されてなるものである。
したがって、本発明の封止体においては、長期にわたって被封止物の性能が維持される。
In the sealed body of the present invention, the object to be sealed is sealed with the sealing sheet of the present invention.
Therefore, in the sealed body of the present invention, the performance of the object to be sealed is maintained for a long period of time.

以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。但し、本発明は、以下の実施例になんら限定されるものではない。
各例中の部及び%は、特に断りのない限り、質量基準である。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples.
Parts and% in each example are based on mass unless otherwise specified.

実施例又は比較例で用いた化合物は以下のとおりである。
酸変性ポリオレフィン系樹脂(1):変性α-オレフィン重合体、質量平均分子量:52,000、三井化学株式会社製、商品名:ユニストールH-200
多官能エポキシ化合物(1):水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、共栄社化学株式会社製、商品名:エポライト4000、分子量:470、エポキシ当量:235g/eq
多官能エポキシ化合物(2):ジメチロールトリシクロデカンジグリシジルエーテル、株式会社ADEKA製、商品名:アデカレジン、EP-4088L、分子量:330、エポキシ当量:165g/eq
多官能エポキシ化合物(3):水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、三菱化学株式会社製、商品名:jER YX8034、分子量:540、エポキシ当量:270g/eq
イミダゾール系硬化促進剤(1):2-エチル-4-メチルイミダゾール、四国化成株式会社製、商品名:キュアゾール2E4MZ
シランカップリング剤(1):8-グリシドキシオクチルトリメトキシシラン、信越化学工業株式会社製、商品名:KBM4803
シランカップリング剤(2):3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業株式会社製、商品名:KBM403
The compounds used in the examples or comparative examples are as follows.
Acid-modified polyolefin resin (1): modified α-olefin polymer, mass average molecular weight: 52,000, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., trade name: Unitol H-200
Polyfunctional epoxy compound (1): hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trade name: Epolite 4000, molecular weight: 470, epoxy equivalent: 235 g / eq
Polyfunctional epoxy compound (2): Dimethyloltricyclodecanediglycidyl ether, manufactured by ADEKA Corporation, trade name: ADEKA REGIN, EP-4088L, molecular weight: 330, epoxy equivalent: 165 g / eq
Polyfunctional epoxy compound (3): hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, trade name: jER YX8034, molecular weight: 540, epoxy equivalent: 270 g / eq
Imidazole-based curing accelerator (1): 2-ethyl-4-methylimidazole, manufactured by Shikoku Chemicals Corporation, trade name: Curesol 2E4MZ
Silane coupling agent (1): 8-glycidoxyoctyltrimethoxysilane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: KBM4803
Silane coupling agent (2): 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: KBM403

〔実施例1〕
酸変性ポリオレフィン系樹脂(1)100部、多官能エポキシ化合物(1)25部、イミダゾール系硬化促進剤(1)0.25部、及び、シランカップリング剤(1)0.1部をメチルエチルケトンに溶解し、固形分濃度18%の接着剤組成物(1)を調製した。
この接着剤組成物(1)を剥離フィルム(リンテック株式会社製、商品名:SP-PET382150)の剥離処理面上に塗工し、得られた塗膜を100℃で2分間乾燥し、厚みが20μmの接着剤層を形成し、その上に、もう1枚の剥離フィルム(リンテック株式会社製、商品名:SP-PET381031)の剥離処理面を貼り合わせて封止シート(1)を得た。
[Example 1]
Add 100 parts of acid-modified polyolefin resin (1), 25 parts of polyfunctional epoxy compound (1), 0.25 part of imidazole-based curing accelerator, and 0.1 part of silane coupling agent (1) to methyl ethyl ketone. It was dissolved to prepare an adhesive composition (1) having a solid content concentration of 18%.
This adhesive composition (1) is applied onto the peeled surface of a release film (manufactured by Lintec Corporation, trade name: SP-PET382150), and the obtained coating film is dried at 100 ° C. for 2 minutes to increase the thickness. A 20 μm adhesive layer was formed, and a peeling-treated surface of another release film (manufactured by Lintec Corporation, trade name: SP-PET381031) was bonded thereto to obtain a sealing sheet (1).

〔実施例2〕
実施例1において、多官能エポキシ化合物(1)に代えて、多官能エポキシ化合物(2)を使用したことを除き、実施例1と同様にして封止シート(2)を得た。
[Example 2]
A sealing sheet (2) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the polyfunctional epoxy compound (2) was used instead of the polyfunctional epoxy compound (1).

〔実施例3〕
実施例1において、多官能エポキシ化合物(1)に代えて、多官能エポキシ化合物(3)を使用したことを除き、実施例1と同様にして封止シート(3)を得た。
[Example 3]
A sealing sheet (3) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the polyfunctional epoxy compound (3) was used instead of the polyfunctional epoxy compound (1).

〔実施例4〕
実施例1において、シランカップリング剤(1)に代えて、シランカップリング剤(2)を使用したことを除き、実施例1と同様にして封止シート(4)を得た。
[Example 4]
A sealing sheet (4) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the silane coupling agent (2) was used instead of the silane coupling agent (1) in Example 1.

〔比較例1〕
実施例1において、シランカップリング剤を使用しない点を除き、実施例1と同様にして封止シート(5)を得た。
[Comparative Example 1]
In Example 1, a sealing sheet (5) was obtained in the same manner as in Example 1 except that a silane coupling agent was not used.

〔比較例2〕
実施例2において、シランカップリング剤を使用しない点を除き、実施例2と同様にして封止シート(6)を得た。
[Comparative Example 2]
In Example 2, a sealing sheet (6) was obtained in the same manner as in Example 2 except that a silane coupling agent was not used.

〔比較例3〕
実施例1において、多官能エポキシ化合物とイミダゾール系硬化触媒を使用しない点を除き、実施例1と同様にして封止シート(7)を得た。
[Comparative Example 3]
A sealing sheet (7) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the polyfunctional epoxy compound and the imidazole-based curing catalyst were not used.

実施例1~4、比較例1~3で得た封止シート(1)~(7)について、以下の試験を行った。
〔試験片の作製〕
幅が25mmの封止シートの剥離フィルムを1枚剥がして露出させた接着剤層を、厚みが50μm、幅が25mmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡株式会社製、商品名「コスモシャイン PET50A4300)に重ねた。次いで、もう1枚の剥離フィルムを剥がして露出させた接着剤層をガラス板に重ねて、温度60℃、圧力0.2MPa、速度0.2m/分の条件でラミネートして圧着体を得た。得られた圧着体を100℃で2時間加熱して、その接着剤層を硬化させ、試験片をそれぞれ2枚ずつ得た。
〔接着力測定〕
剥離試験(a)として、試験片を、温度23℃、相対湿度50%の条件下で180°剥離試験を行った。
剥離試験(b)として、試験片を、温度60℃、相対湿度90%の条件下に100時間、次いで、温度23℃、相対湿度50%の条件下に24時間静置させた後に、温度23℃、相対湿度50%条件下で180°剥離試験を行った。
この剥離試験において、上述した試験条件以外は、JIS Z0237:2000に記載の粘着力の測定方法に準じて行った。
The following tests were performed on the sealing sheets (1) to (7) obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3.
[Preparation of test piece]
An adhesive layer exposed by peeling off one release film of a sealing sheet having a width of 25 mm was layered on a polyethylene terephthalate film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name "Cosmo Shine PET50A4300") having a thickness of 50 μm and a width of 25 mm. Next, another release film was peeled off and the exposed adhesive layer was placed on a glass plate and laminated under the conditions of a temperature of 60 ° C., a pressure of 0.2 MPa, and a speed of 0.2 m / min to obtain a pressure-bonded body. The obtained crimped body was heated at 100 ° C. for 2 hours to cure the adhesive layer, and two test pieces were obtained for each.
[Adhesive strength measurement]
As the peeling test (a), the test piece was subjected to a 180 ° peeling test under the conditions of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%.
As a peeling test (b), the test piece was allowed to stand for 100 hours under the conditions of a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 90%, and then for 24 hours under the conditions of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%, and then the temperature was 23. A 180 ° peeling test was performed under the conditions of ° C. and relative humidity of 50%.
In this peeling test, except for the above-mentioned test conditions, the adhesive strength was measured according to the method for measuring the adhesive strength described in JIS Z0237: 2000.

〔有機EL素子の評価試験〕
酸化インジウムスズ(ITO)膜(厚み:100nm、シート抵抗:50Ω/□:ohms per square)が成膜されたガラス基板を陽極として有する有機EL素子を、以下の方法により作製した。
まず、前記ガラス基板のITO膜上に、N,N’-ビス(ナフタレン-1-イル)-N,N’-ビス(フェニル)-ベンジジン)(Luminescence Technology社製)を50nm、トリス(8-ヒドロキシ-キノリネート)アルミニウム(Luminescence Technology社製)を50nm、0.1~0.2nm/分の速度で順次蒸着させ、発光層を形成した。
得られた発光層上に、電子注入材料として、フッ化リチウム(LiF)(高純度化学研究所社製)を0.1nm/分の速度で4nm、次いでアルミニウム(Al)(高純度化学研究所社製)を0.1nm/分の速度で100nm蒸着させて陰極を形成し、有機EL素子を得た。
なお、蒸着時の真空度は、全て1×10-4Pa以下であった。
[Evaluation test of organic EL element]
An organic EL element having a glass substrate on which an indium tin oxide (ITO) film (thickness: 100 nm, sheet resistance: 50 Ω / □: ohms per square) was formed as an anode was produced by the following method.
First, on the ITO film of the glass substrate, N, N'-bis (naphthalen-1-yl) -N, N'-bis (phenyl) -benzidine (manufactured by Luminesis Technology) was placed at 50 nm and Tris (8-). Hydroxy-quinolinate) aluminum (manufactured by Luminesis Technology) was sequentially vapor-deposited at a rate of 50 nm and 0.1 to 0.2 nm / min to form a light emitting layer.
Lithium fluoride (LiF) (manufactured by High Purity Chemical Laboratory) was added to the obtained light emitting layer as an electron injection material at a rate of 0.1 nm / min at a rate of 4 nm, and then aluminum (Al) (High Purity Chemical Laboratory). A cathode was formed by vapor-depositing 100 nm at a rate of 0.1 nm / min to obtain an organic EL element.
The degree of vacuum at the time of vapor deposition was 1 × 10 -4 Pa or less.

実施例又は比較例で得た封止シートの剥離フィルムを1枚剥がし、露出した接着剤層を金属箔フィルム上に重ね、ヒートラミネーターを用いてこれらを60℃で接着した。次いで、もう1枚の剥離フィルムを剥離し、露出した接着剤層を、ガラス基板上に形成された有機EL素子を覆うように重ね、ヒートラミネーターを用いてこれらを60℃で接着した。次いで、100℃で2時間加熱して接着剤層を硬化させ、有機EL素子が封止されたボトムエミッション型の電子デバイスを得た。
この電子デバイスを、温度60℃、相対湿度90%の環境下に250時間静置させた後、有機EL素子を起動させ、ダークスポット(非発光箇所)の有無を観察し、以下の基準で評価した。
◎:ダークスポットが発光面積の40%未満
○:ダークスポットが発光面積の40%以上50%未満
×:ダークスポットが発光面積の50%以上
One release film of the sealing sheet obtained in Examples or Comparative Examples was peeled off, an exposed adhesive layer was layered on a metal foil film, and these were bonded at 60 ° C. using a heat laminator. Next, another release film was peeled off, the exposed adhesive layer was layered so as to cover the organic EL element formed on the glass substrate, and these were bonded at 60 ° C. using a heat laminator. Then, the adhesive layer was cured by heating at 100 ° C. for 2 hours to obtain a bottom emission type electronic device in which an organic EL element was sealed.
After allowing this electronic device to stand in an environment with a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 90% for 250 hours, the organic EL element is activated, the presence or absence of dark spots (non-light emitting parts) is observed, and the evaluation is made according to the following criteria. bottom.
⊚: Dark spot is less than 40% of the light emitting area ○: Dark spot is 40% or more and less than 50% of the light emitting area ×: Dark spot is 50% or more of the light emitting area

Figure 0007071279000006
Figure 0007071279000006

第1表から以下のことがわかる。
実施例1~4の封止シートは、高温高湿条件静置(60℃、相対湿度90%、100時間静置)後においても優れた接着強度が維持され、また、封止性に優れている。
一方、比較例1~3の封止シートは、高温高湿条件に置く(60℃、相対湿度90%、100時間静置)と、接着強度が大きく低下し、また、封止性に劣っている。
The following can be seen from Table 1.
The sealing sheets of Examples 1 to 4 maintain excellent adhesive strength even after being allowed to stand under high temperature and high humidity conditions (60 ° C., relative humidity 90%, standing for 100 hours), and have excellent sealing properties. There is.
On the other hand, when the sealing sheets of Comparative Examples 1 to 3 are placed under high temperature and high humidity conditions (60 ° C., relative humidity 90%, standing for 100 hours), the adhesive strength is greatly reduced and the sealing performance is inferior. There is.

Claims (12)

下記の(A)成分、(B)成分、(C)成分、及び(D)成分
(A)成分:変性ポリオレフィン系樹脂
(B)成分:多官能エポキシ化合物
(C)成分:硬化促進剤
(D)成分:下記式(2)で示されるシランカップリング剤
Figure 0007071279000007
(R は炭素数4~15のアルキレン基を表し、R は炭素数1~10の1価の炭化水素基を表し、R は炭素数1~4のアルキル基を表す。Zはエポキシ基を有する基を表し、nは0又は1である。)
を含有する接着剤組成物であって、この接着剤組成物を用いて得られた試験片について180°剥離試験を行ったときに、下記式(1)で算出されるx値が、1.3以下であることを特徴とする接着剤組成物。
Figure 0007071279000008
(式中、aは、温度23℃、相対湿度50%の条件下で180°剥離試験を行って得られた接着力を表し、bは、試験片を温度60℃、相対湿度90%の条件下に100時間、次いで、温度23℃、相対湿度50%の条件下に24時間静置させた後に、温度23℃、相対湿度50%条件下で180°剥離試験を行って得られた接着力を表す。これらの180°剥離試験の試験片は、接着剤組成物を用いて得られた厚み20μmの接着剤層と厚み50μmのポリエチレンテレフタレートフィルムから成る封止シートを、前記接着剤層のもう一方の側をガラス板に重ねて、温度60℃、圧力0.2MPa、速度0.2m/分の条件でラミネートさせ、次いで、得られた圧着体を100℃で2時間加熱して、その接着剤層を硬化して得られた幅25mmの積層体である。)
The following components (A), (B), (C), and (D) component (A) component: modified polyolefin resin (B) component: polyfunctional epoxy compound (C) component: curing accelerator (D) ) Ingredient: Silane coupling agent represented by the following formula (2)
Figure 0007071279000007
(R 1 represents an alkylene group having 4 to 15 carbon atoms, R 2 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, R 3 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and Z represents an epoxy. Represents a group having a group, where n is 0 or 1).
When a 180 ° peeling test is performed on a test piece obtained by using this adhesive composition, the x value calculated by the following formula (1) is 1. An adhesive composition characterized by being 3 or less.
Figure 0007071279000008
(In the formula, a represents the adhesive force obtained by performing a 180 ° peeling test under the conditions of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%, and b represents a condition of the test piece having a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 90%. Adhesive strength obtained by performing a 180 ° peeling test under the conditions of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50% after allowing the material to stand under the conditions of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50% for 24 hours. In these 180 ° peeling test test pieces, a sealing sheet composed of an adhesive layer having a thickness of 20 μm and a polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm obtained by using an adhesive composition is formed on the adhesive layer. One side is placed on a glass plate and laminated under the conditions of a temperature of 60 ° C., a pressure of 0.2 MPa and a speed of 0.2 m / min, and then the obtained crimped body is heated at 100 ° C. for 2 hours to bond the obtained crimped body. It is a laminated body having a width of 25 mm obtained by curing the agent layer.)
前記(A)成分が、酸変性ポリオレフィン系樹脂である、請求項1に記載の接着剤組成物。 The adhesive composition according to claim 1, wherein the component (A) is an acid-modified polyolefin resin. 前記(B)成分の含有量が、前記(A)成分100質量部に対して10~50質量部である、請求項1又は2に記載の接着剤組成物。 The adhesive composition according to claim 1 or 2, wherein the content of the component (B) is 10 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). 前記(C)成分が、イミダゾール系硬化促進剤である、請求項1~3のいずれかに記載の接着剤組成物。 The adhesive composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the component (C) is an imidazole-based curing accelerator. 前記(C)成分の含有量が、前記(A)成分100質量部に対して0.1~10質量部である、請求項1~4のいずれかに記載の接着剤組成物。 The adhesive composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the content of the component (C) is 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). 前記(D)成分の含有量が、前記(A)成分100質量部に対して0.05~5質量部である、請求項1~のいずれかに記載の接着剤組成物。 The adhesive composition according to any one of claims 1 to 5 , wherein the content of the component (D) is 0.05 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). 2枚の剥離フィルムと、これらの剥離フィルムに挟持された接着剤層とからなる封止シートであって、
前記接着剤層が、請求項1~のいずれかに記載の接着剤組成物を用いて形成されたものである封止シート。
A sealing sheet composed of two release films and an adhesive layer sandwiched between these release films.
A sealing sheet in which the adhesive layer is formed by using the adhesive composition according to any one of claims 1 to 6 .
剥離フィルム、ガスバリア性フィルム、及び、前記剥離フィルムとガスバリア性フィルムに挟持された接着剤層からなる封止シートであって、
前記接着剤層が、請求項1~のいずれかに記載の接着剤組成物を用いて形成されたものである封止シート。
A sealing sheet composed of a release film, a gas barrier film, and an adhesive layer sandwiched between the release film and the gas barrier film.
A sealing sheet in which the adhesive layer is formed by using the adhesive composition according to any one of claims 1 to 6 .
前記ガスバリア性フィルムが、金属箔、樹脂製フィルム、又は薄膜ガラスである請求項に記載の封止シート。 The sealing sheet according to claim 8 , wherein the gas barrier film is a metal foil, a resin film, or a thin film glass. 接着剤層の厚みが1~50μmである、請求項のいずれかに記載の封止シート。 The sealing sheet according to any one of claims 7 to 9 , wherein the adhesive layer has a thickness of 1 to 50 μm. 被封止物が、請求項10のいずれかに記載の封止シートを用いて封止されてなる封止体。 A sealed body in which the material to be sealed is sealed using the sealing sheet according to any one of claims 7 to 10 . 前記被封止物が、有機EL素子、有機ELディスプレイ素子、液晶ディスプレイ素子、又は太陽電池素子である、請求項11に記載の封止体。 The sealed body according to claim 11 , wherein the object to be sealed is an organic EL element, an organic EL display element, a liquid crystal display element, or a solar cell element.
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