JP7070128B2 - A method for manufacturing a laminate, a polyimide film, a surface material for a display, a touch panel member, a liquid crystal display device, an organic electroluminescence display device, a polyimide film, a method for manufacturing a laminate, and a method for manufacturing a surface material for a display. - Google Patents

A method for manufacturing a laminate, a polyimide film, a surface material for a display, a touch panel member, a liquid crystal display device, an organic electroluminescence display device, a polyimide film, a method for manufacturing a laminate, and a method for manufacturing a surface material for a display. Download PDF

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Description

本発明は、積層体、ポリイミドフィルム、ディスプレイ用表面材、タッチパネル部材、液晶表示装置、及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置並びにポリイミドフィルムの製造方法、積層体の製造方法及びディスプレイ用表面材の製造方法に関する。 The present invention relates to a laminate, a polyimide film, a surface material for a display, a touch panel member, a liquid crystal display device, an organic electroluminescence display device, a method for manufacturing a polyimide film, a method for manufacturing a laminate, and a method for manufacturing a surface material for a display.

一般にポリイミド樹脂は、芳香族テトラカルボン酸無水物と芳香族ジアミンとの縮合反応により得られたポリアミド酸(ポリアミック酸)を脱水閉環反応(イミド化反応)させて得られる高耐熱性の樹脂である。
ポリイミド樹脂は、一般には黄色又は褐色に着色を示すことから、ディスプレイ用途や光学用途など高い透明性が要求される分野に用いることは困難であった。
Generally, a polyimide resin is a highly heat-resistant resin obtained by subjecting a polyamic acid (polyamic acid) obtained by a condensation reaction between an aromatic tetracarboxylic acid anhydride and an aromatic diamine to a dehydration ring closure reaction (imidization reaction). ..
Since the polyimide resin is generally colored yellow or brown, it has been difficult to use it in fields requiring high transparency such as display applications and optical applications.

近年、透明性の高いポリイミドを得るための研究が進んでおり、透明性を向上させたポリイミドを、ディスプレイ部材へ適用することが検討されている。
ポリイミドフィルムは、一般に、ポリイミド前駆体であるポリアミド酸(ポリアミック酸)溶液又はポリイミド溶液を、エンドレスベルトやドラム等の支持体上に塗布して乾燥させることにより製造されている。
例えば特許文献1には、耐熱性、透明性、表面平滑性、及び光学特性に優れるポリイミドフィルムを、歩留まり良く、効率的に製造する方法として、鏡面光沢度が所定値以上であり、かつ表面粗さ(Rz)が所定値以下である金属材料の表面に積層された溶剤可溶性樹脂A層の面に、ポリイミド系樹脂B層を積層し、得られた金属積層体Bからポリイミド系樹脂B層を剥離して、ポリイミド系フィルムを得る方法が開示されている。
In recent years, research for obtaining a polyimide having high transparency has been advanced, and it is being studied to apply a polyimide having improved transparency to a display member.
The polyimide film is generally produced by applying a polyamic acid (polyamic acid) solution or a polyimide solution, which is a polyimide precursor, onto a support such as an endless belt or a drum and drying the film.
For example, Patent Document 1 describes, as a method for efficiently producing a polyimide film having excellent heat resistance, transparency, surface smoothness, and optical properties, with a mirror surface gloss of a predetermined value or more and a rough surface. The polyimide-based resin B layer is laminated on the surface of the solvent-soluble resin A layer laminated on the surface of the metal material having a (Rz) of less than or equal to a predetermined value, and the polyimide-based resin B layer is obtained from the obtained metal laminate B. A method of peeling to obtain a polyimide-based film is disclosed.

国際公開第2015/186594号パンフレットInternational Publication No. 2015/186594 Pamphlet

上記のようにポリイミドフィルムは、他の樹脂フィルムと比較して耐熱性等が優れており、特にエレクトロニクス分野において注目されている材料である。
中でも、透明性を向上させた透明ポリイミドフィルムは、ガラスに代わる材料として液晶ディスプレイや有機ELディスプレイ等への応用が期待されており、樹脂フィルムの特性を活かしたフレキシブルデバイスへの適用を目指して開発が進められている。
As described above, the polyimide film is superior in heat resistance and the like as compared with other resin films, and is a material that is particularly attracting attention in the field of electronics.
Above all, the transparent polyimide film with improved transparency is expected to be applied to liquid crystal displays, organic EL displays, etc. as a material to replace glass, and was developed with the aim of applying it to flexible devices that take advantage of the characteristics of resin films. Is underway.

ポリイミドフィルムは、その表面に、例えばハードコート層等の機能層を積層して用いることが、一般に行われている。例えば、ポリイミドフィルムをディスプレイ用途や光学用途に用いる場合には、ポリイミドフィルムが表面側に配置されることが多いため、ポリイミドフィルムの表面に、上記したハードコート層等の機能層を積層した積層体として用いることが、一般に行われている。
しかしながら、ポリイミドフィルムは、機能層に対して必ずしも十分な密着性を有していないことがあり、この場合には、積層体としての品質が低下する、又は、機能層の一部がポリイミドフィルムから剥離して、安定した製造を妨げる等の問題がある。
A polyimide film is generally used by laminating a functional layer such as a hard coat layer on the surface thereof. For example, when a polyimide film is used for display applications or optical applications, the polyimide film is often arranged on the surface side. Therefore, a laminate in which a functional layer such as the above-mentioned hard coat layer is laminated on the surface of the polyimide film. It is commonly used as.
However, the polyimide film may not always have sufficient adhesion to the functional layer, and in this case, the quality as a laminate is deteriorated, or a part of the functional layer is made of the polyimide film. There is a problem that it peels off and hinders stable production.

また、ポリイミドフィルムの積層体を、例えばディスプレイ用途や光学用途などの分野に用いる場合には、積層体としての外観の向上が求められる。しかしながら、ポリイミドフィルムの表面には、所定の方向に微細なスジが発生することがあり、このようなスジがポリイミドフィルムの表面に現れると、積層体として、外観に劣るものとなる。
また、ポリイミドフィルムの積層体を、例えばディスプレイ用途や光学用途などの分野に用いる場合には、その光学特性の向上も求められる。
Further, when the laminate of the polyimide film is used in a field such as a display application or an optical application, it is required to improve the appearance as the laminate. However, fine streaks may be generated on the surface of the polyimide film in a predetermined direction, and when such streaks appear on the surface of the polyimide film, the appearance of the laminated body is inferior.
Further, when the laminate of the polyimide film is used in a field such as a display application or an optical application, improvement of its optical characteristics is also required.

本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、ポリイミドフィルムと機能層とが優れた密着性を有し、外観が良好であり、光学特性に優れた積層体、前記積層体に用いるポリイミドフィルム、前記積層体又は前記ポリイミドフィルムであるディスプレイ用表面材、タッチパネル部材、液晶表示装置、及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置並びに前記ポリイミドフィルムの製造方法、前記ポリイミドフィルムの製造方法を含む積層体の製造方法及び前記ポリイミドフィルムの製造方法又は前記積層体の製造方法を含むディスプレイ用表面材の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and is a laminate in which the polyimide film and the functional layer have excellent adhesion, the appearance is good, and the optical characteristics are excellent, and the polyimide used in the laminate. A method for producing a laminate including a film, a surface material for a display which is the polyimide film, a touch panel member, a liquid crystal display device, an organic electroluminescence display device, a method for producing the polyimide film, and a method for producing the polyimide film. An object of the present invention is to provide a method for producing a surface material for a liquid crystal display, which comprises a method for producing the polyimide film or a method for producing the laminate.

(積層体)
本発明の積層体は、長尺状のポリイミドフィルムであって、当該ポリイミドフィルムの一方の面を第一の面としたときに、当該第一の面内の700μm×700μmの視野において、前記ポリイミドフィルムの長手方向に直交する方向に延在し、且つ前記長手方向の幅が、前記長手方向に直交する方向の長さよりも幅狭となるように任意に抽出した第一の領域(A1)の表面うねり(Wa1)の平均値(Wa1ave)と、前記ポリイミドフィルムの長手方向に沿う方向に延在し、且つ前記長手方向に直交する方向の幅が、前記長手方向の長さよりも幅狭となるように任意に抽出した第二の領域(A2)の表面うねり(Wa2)の平均値(Wa2ave)との差(Wa1ave-Wa2ave)が、20nm以下であり、当該第一の面内の71μm×95μmの視野における表面粗さ(Sa)が1nm以上10nm以下であるポリイミドフィルムと、前記ポリイミドフィルムの前記第一の面に接して積層された機能層と、を有する。
(Laminated body)
The laminate of the present invention is a long polyimide film, and when one surface of the polyimide film is used as the first surface, the polyimide is viewed in a field of 700 μm × 700 μm in the first surface. Of the first region (A1) arbitrarily extracted so as to extend in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the film and the width in the longitudinal direction is narrower than the length in the direction orthogonal to the longitudinal direction. The average value (Wa1 ave ) of the surface waviness (Wa1) and the width extending in the direction along the longitudinal direction of the polyimide film and perpendicular to the longitudinal direction are narrower than the length in the longitudinal direction. The difference (Wa1 ave -Wa2 ave ) from the average value (Wa2 ave ) of the surface waviness (Wa2) of the second region (A2) arbitrarily extracted so as to be 20 nm or less, and is in the first plane. It has a polyimide film having a surface roughness (Sa) of 1 nm or more and 10 nm or less in a field of 71 μm × 95 μm, and a functional layer laminated in contact with the first surface of the polyimide film.

本発明の積層体においては、前記機能層は、ハードコート層であってもよい。 In the laminated body of the present invention, the functional layer may be a hard coat layer.

本発明の積層体においては、前記ハードコート層は、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有することが、ポリイミドフィルムと機能層との密着性の向上の点から好ましい。 In the laminate of the present invention, the hard coat layer contains at least one polymer of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound from the viewpoint of improving the adhesion between the polyimide film and the functional layer. preferable.

本発明の積層体においては、前記ラジカル重合性化合物が(メタ)アクリロイル基を1分子中に2つ以上有する化合物であり、前記カチオン重合性化合物がエポキシ基及びオキセタニル基の少なくとも1種を1分子中に2つ以上有する化合物であることが、ポリイミドフィルムと機能層との密着性の向上の点から好ましい。 In the laminate of the present invention, the radically polymerizable compound is a compound having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule, and the cationically polymerizable compound has at least one molecule of an epoxy group and an oxetanyl group. A compound having two or more of them is preferable from the viewpoint of improving the adhesion between the polyimide film and the functional layer.

本発明の積層体においては、前記積層体は、JIS K-7105に準拠したヘイズ値が2.0以下であることが、光学特性の向上の点から好ましい。 In the laminated body of the present invention, it is preferable that the laminated body has a haze value of 2.0 or less according to JIS K-7105 from the viewpoint of improving optical characteristics.

(ポリイミドフィルム)
本発明のポリイミドフィルムは、 長尺状であり、一方の面を第一の面としたときに、当該第一の面に機能層を形成するための機能層形成用のポリイミドフィルムであって、 前記第一の面内の700μm×700μmの視野において、前記ポリイミドフィルムの長手方向に直交する方向に延在し、且つ前記長手方向の幅が、前記長手方向に直交する方向の長さよりも幅狭となるように任意に抽出した第一の領域(A1)の表面うねり(Wa1)の平均値(Wa1ave)と、前記ポリイミドフィルムの長手方向に沿う方向に延在し、且つ前記長手方向に直交する方向の幅が、前記長手方向の長さよりも幅狭となるように任意に抽出した第二の領域(A2)の表面うねり(Wa2)の平均値(Wa2ave)との差(Wa1ave-Wa2ave)が、20nm以下であり、当該第一の面内の71μm×95μmの視野における表面粗さ(Sa)が1nm以上10nm以下である。
(Polyimide film)
The polyimide film of the present invention has a long shape, and is a polyimide film for forming a functional layer for forming a functional layer on the first surface when one surface is used as the first surface. In a 700 μm × 700 μm field of view in the first plane, the polyimide film extends in a direction orthogonal to the longitudinal direction, and the width in the longitudinal direction is narrower than the length in the direction orthogonal to the longitudinal direction. The average value (Wa1 ave ) of the surface waviness (Wa1) of the first region (A1) arbitrarily extracted so as to be, extends in the direction along the longitudinal direction of the polyimide film, and is orthogonal to the longitudinal direction. Difference from the average value (Wa2 ave ) of the surface waviness (Wa2) of the second region (A2) arbitrarily extracted so that the width in the direction to be formed is narrower than the length in the longitudinal direction (Wa1 ave- ). Wa2 ave ) is 20 nm or less, and the surface roughness (Sa) in the field of view of 71 μm × 95 μm in the first plane is 1 nm or more and 10 nm or less.

本発明のポリイミドフィルムにおいては、JIS K-7105に準拠したヘイズ値が2.0以下であることが、光学特性の向上の点から好ましい。 In the polyimide film of the present invention, a haze value based on JIS K-7105 is preferably 2.0 or less from the viewpoint of improving optical characteristics.

(ディスプレイ用表面材)
本発明のディスプレイ用表面材は、前記本発明のポリイミドフィルム、又は、前記本発明の積層体である。
(Surface material for display)
The surface material for a display of the present invention is the polyimide film of the present invention or the laminate of the present invention.

本発明のディスプレイ用表面材は、フレキシブルディスプレイ用であってもよい。 The surface material for a display of the present invention may be for a flexible display.

(タッチパネル部材)
本発明のタッチパネル部材は、前記本発明のポリイミドフィルムと、前記ポリイミドフィルムの一面側に配置された、複数の導電部からなる透明電極と、前記導電部の端部の少なくとも一方側において電気的に接続される複数の取り出し線と、を備える。
(Touch panel member)
The touch panel member of the present invention is electrically formed by the polyimide film of the present invention, a transparent electrode composed of a plurality of conductive portions arranged on one surface side of the polyimide film, and at least one side of an end portion of the conductive portion. It comprises a plurality of fetch lines to be connected.

本発明のタッチパネル部材は、前記ポリイミドフィルムの前記第一の面に接して積層された機能層を有していてもよい。 The touch panel member of the present invention may have a functional layer laminated in contact with the first surface of the polyimide film.

(液晶表示装置)
本発明の液晶表示装置は、対向配置された基板の間に形成された液晶層を有する液晶表示部と、前記液晶表示部の一面側に配置された、前記本発明のポリイミドフィルムと、を有する。
(Liquid crystal display device)
The liquid crystal display device of the present invention has a liquid crystal display unit having a liquid crystal layer formed between substrates arranged so as to face each other, and the polyimide film of the present invention arranged on one side of the liquid crystal display unit. ..

本発明の液晶表示装置は、前記ポリイミドフィルムの前記第一の面に接して積層された機能層を有していてもよい。 The liquid crystal display device of the present invention may have a functional layer laminated in contact with the first surface of the polyimide film.

(有機エレクトロルミネッセンス表示装置)
本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、対向配置された基板の間に形成された有機エレクトロルミネッセンス層を有する有機エレクトロルミネッセンス表示部と、前記有機エレクトロルミネッセンス表示部の一面側に配置された、前記本発明のポリイミドフィルムと、を有する。
(Organic electroluminescence display device)
The organic electroluminescence display device of the present invention has an organic electroluminescence display unit having an organic electroluminescence layer formed between substrates arranged opposite to each other, and the book arranged on one side of the organic electroluminescence display unit. It has the polyimide film of the present invention.

本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、前記ポリイミドフィルムの前記第一の面に接して積層された機能層を有していてもよい。 The organic electroluminescence display device of the present invention may have a functional layer laminated in contact with the first surface of the polyimide film.

(ポリイミドフィルムの製造方法)
本発明のポリイミドフィルムの製造方法は、長尺状の支持体の表面を研磨することにより、当該支持体の表面の700μm×700μmの視野における、前記支持体の長手方向に直交する方向に延在し、且つ前記長手方向の幅が、前記長手方向に直交する方向の長さよりも幅狭となるように任意に抽出した第一領域(B1)の表面うねり(Wa1)の平均値(Wa1ave)と、前記支持体の長手方向に沿う方向に延在し、且つ前記長手方向に直交する方向の幅が、前記長手方向の長さよりも幅狭となるように任意に抽出した第二の領域(B2)の表面うねり(Wa2)の平均値(Wa2ave)との差(Wa1ave-Wa2ave)を、20nm以下とし、且つ、当該支持体の表面の71μm×95μmの視野における表面粗さ(Sa)を1nm以上10nm以下とする工程と、
ポリイミド前駆体と有機溶媒とを含有するポリイミド前駆体組成物を前記支持体の表面に塗布してポリイミド前駆体組成物の塗膜を形成するか、又はポリイミドと有機溶媒とを含有するポリイミド組成物を前記支持体の表面に塗布してポリイミド組成物の塗膜を形成する工程と、 前記ポリイミド前駆体組成物の塗膜から前記有機溶媒を除去し且つ前記ポリイミド前駆体組成物の塗膜に含まれる前記ポリイミド前駆体をイミド化するか、又は前記ポリイミド組成物の塗膜から前記有機溶媒を除去することにより、ポリイミドフィルムを形成する工程と、を有する。
(Manufacturing method of polyimide film)
In the method for producing a polyimide film of the present invention, the surface of a long support is polished so as to extend in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the support in a 700 μm × 700 μm field of view of the surface of the support. The average value (Wa1 ave ) of the surface waviness (Wa1) of the first region (B1) arbitrarily extracted so that the width in the longitudinal direction is narrower than the length in the direction orthogonal to the longitudinal direction. A second region (arbitrarily extracted so that the width extending along the longitudinal direction of the support and the width in the direction orthogonal to the longitudinal direction is narrower than the length in the longitudinal direction). The difference (Wa1 ave -Wa2 ave ) from the average value (Wa2 ave ) of the surface swell (Wa2) of B2) is set to 20 nm or less, and the surface roughness (Sa) of the surface of the support in a field of view of 71 μm × 95 μm. ) Is 1 nm or more and 10 nm or less, and
A polyimide precursor composition containing a polyimide precursor and an organic solvent is applied to the surface of the support to form a coating film of the polyimide precursor composition, or a polyimide composition containing a polyimide and an organic solvent. Is applied to the surface of the support to form a coating film of the polyimide composition, and the organic solvent is removed from the coating film of the polyimide precursor composition and contained in the coating film of the polyimide precursor composition. It comprises a step of forming a polyimide film by imidizing the polyimide precursor or removing the organic solvent from the coating film of the polyimide composition.

本発明のポリイミドフィルムの製造方法においては、前記ポリイミドフィルムは、JIS K-7105に準拠したヘイズ値が2.0以下であることが、光学特性の向上の点から好ましい。 In the method for producing a polyimide film of the present invention, it is preferable that the polyimide film has a haze value of 2.0 or less in accordance with JIS K-7105 from the viewpoint of improving optical characteristics.

(積層体の製造方法)
本発明の積層体の製造方法は、前記本発明のポリイミドフィルムの製造方法により得られたポリイミドフィルムを準備する工程と、前記ポリイミドフィルムの支持体と接していた側の面に、機能層形成用組成物の塗膜を形成する工程と、前記塗膜を硬化する工程と、を含む。
(Manufacturing method of laminated body)
The method for producing a laminate of the present invention includes a step of preparing a polyimide film obtained by the method for producing a polyimide film of the present invention and a surface for forming a functional layer on the surface of the polyimide film on the side in contact with the support. It includes a step of forming a coating film of the composition and a step of curing the coating film.

本発明の積層体の製造方法においては、前記機能層形成用組成物は、ハードコート層形成用組成物であってもよい。 In the method for producing a laminated body of the present invention, the composition for forming a functional layer may be a composition for forming a hard coat layer.

本発明の積層体の製造方法においては、前記ハードコート層形成用組成物は、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種を含有することが、ポリイミドフィルムと機能層との密着性の向上の点から好ましい。 In the method for producing a laminate of the present invention, the composition for forming a hard coat layer must contain at least one of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound to ensure adhesion between the polyimide film and the functional layer. It is preferable from the viewpoint of improvement.

(ディスプレイ用表面材の製造方法)
本発明のディスプレイ用表面材の製造方法は、前記本発明の製造方法によりポリイミドフィルムを製造する工程、又は、前記本発明の製造方法により積層体を製造する工程を含む。
(Manufacturing method of surface material for display)
The method for manufacturing a surface material for a display of the present invention includes a step of manufacturing a polyimide film by the manufacturing method of the present invention, or a step of manufacturing a laminate by the manufacturing method of the present invention.

本発明によれば、ポリイミドフィルムと機能層とが優れた密着性を有し、外観が良好であり、光学特性に優れた積層体、前記積層体に用いるポリイミドフィルム、前記積層体又は前記ポリイミドフィルムであるディスプレイ用表面材、タッチパネル部材、液晶表示装置、及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置並びに前記ポリイミドフィルムの製造方法、前記ポリイミドフィルムの製造方法を含む積層体の製造方法及び前記ポリイミドフィルムの製造方法又は前記積層体の製造方法を含むディスプレイ用表面材の製造方法を提供することができる。 According to the present invention, the polyimide film and the functional layer have excellent adhesion, a good appearance, and an excellent optical property, a polyimide film used for the laminate, the laminate, or the polyimide film. A surface material for a display, a touch panel member, a liquid crystal display device, an organic electroluminescence display device, a method for manufacturing the polyimide film, a method for manufacturing a laminate including the method for manufacturing the polyimide film, and a method for manufacturing the polyimide film or the above. It is possible to provide a method for manufacturing a surface material for a display including a method for manufacturing a laminate.

図1は、本発明に係る積層体が有するポリイミドフィルムの構成を説明するための平面図である。FIG. 1 is a plan view for explaining the structure of the polyimide film included in the laminate according to the present invention. 図2は、走査型白色干渉顕微鏡により取得した、ポリイミドフィルムの干渉縞画像である。FIG. 2 is an interference fringe image of a polyimide film acquired by a scanning white interference microscope. 図3は、図2に示す干渉縞画像を、測定対象であるポリイミドフィルムの長手方向に沿う方向に延在し、且つ前記長手方向に直交する方向の幅が、前記長手方向の長さよりも幅狭となるように抽出した画像である。FIG. 3 shows the interference fringe image shown in FIG. 2 extending in a direction along the longitudinal direction of the polyimide film to be measured, and the width in the direction orthogonal to the longitudinal direction is wider than the length in the longitudinal direction. It is an image extracted so as to be narrow. 図4は、本発明のタッチパネル部材10の一例を示す概略平面図である。FIG. 4 is a schematic plan view showing an example of the touch panel member 10 of the present invention. 図5は、図4(A)、図4(B)に示すタッチパネル部材10のA-A´線断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line AA'of the touch panel member 10 shown in FIGS. 4 (A) and 4 (B). 図6(A)は、第一の積層体201の概略平面図であり、図6(B)は、第二の積層体202の概略平面図である。6 (A) is a schematic plan view of the first laminated body 201, and FIG. 6 (B) is a schematic plan view of the second laminated body 202. 図7は、図6(A)に示す積層体201と図6(B)に示す積層体202とを貼り合わせて構成されるタッチパネル部材20の、図6(A)及び図6(B)中A-A´線で示す位置での断面図である。FIG. 7 is shown in FIGS. 6 (A) and 6 (B) of the touch panel member 20 formed by laminating the laminated body 201 shown in FIG. 6 (A) and the laminated body 202 shown in FIG. 6 (B). It is sectional drawing at the position shown by the line AA'. 図8は、本発明の液晶表示装置100の一例を示す概略断面図である。FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing an example of the liquid crystal display device 100 of the present invention. 図9は、本発明の液晶表示装置200の一例を示す概略断面図である。FIG. 9 is a schematic cross-sectional view showing an example of the liquid crystal display device 200 of the present invention. 図10は、本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置300の一例を示す概略断面図である。FIG. 10 is a schematic cross-sectional view showing an example of the organic electroluminescence display device 300 of the present invention. 本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置400の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the organic electroluminescence display device 400 of this invention.

I.積層体
本発明の積層体は、 長尺状のポリイミドフィルムであって、当該ポリイミドフィルムの一方の面を第一の面としたときに、当該第一の面内の700μm×700μmの視野において、前記ポリイミドフィルムの長手方向に直交する方向に延在し、且つ前記長手方向の幅が、前記長手方向に直交する方向の長さよりも幅狭となるように任意に抽出した第一の領域(A1)の表面うねり(Wa1)の平均値(Wa1ave)と、前記ポリイミドフィルムの長手方向に沿う方向に延在し、且つ前記長手方向に直交する方向の幅が、前記長手方向の長さよりも幅狭となるように任意に抽出した第二の領域(A2)の表面うねり(Wa2)の平均値(Wa2ave)との差(Wa1ave-Wa2ave)が、20nm以下であり、当該第一の面内の71μm×95μmの視野における表面粗さ(Sa)が1nm以上10nm以下であるポリイミドフィルムと、 前記ポリイミドフィルムの前記第一の面に接して積層された機能層と、を有する。
I. Laminate
The laminate of the present invention is a long polyimide film, and when one surface of the polyimide film is used as the first surface, the polyimide is viewed in a field of 700 μm × 700 μm in the first surface. Of the first region (A1) arbitrarily extracted so as to extend in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the film and the width in the longitudinal direction is narrower than the length in the direction orthogonal to the longitudinal direction. The average value (Wa1 ave ) of the surface waviness (Wa1) and the width extending in the direction along the longitudinal direction of the polyimide film and perpendicular to the longitudinal direction are narrower than the length in the longitudinal direction. The difference (Wa1 ave -Wa2 ave ) from the average value (Wa2 ave ) of the surface waviness (Wa2) of the second region (A2) arbitrarily extracted so as to be 20 nm or less, and is in the first plane. It has a polyimide film having a surface roughness (Sa) of 1 nm or more and 10 nm or less in a field of 71 μm × 95 μm, and a functional layer laminated in contact with the first surface of the polyimide film.

以下の説明において、前記ポリイミドフィルムの長手方向に直交する方向に延在し、且つ前記長手方向の幅が、前記長手方向に直交する方向の長さよりも幅狭である領域を、「長手方向に直交する方向に延在する第一の領域(A1)」(図1参照)という。
また、以下の説明において、前記ポリイミドフィルムの長手方向に沿う方向に延在し、且つ前記長手方向に直交する方向の幅が、前記長手方向の長さよりも幅狭である領域を、「長手方向に沿う方向に延在する第二の領域(A2)」(図1参照)という。
In the following description, a region extending in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the polyimide film and having a width in the longitudinal direction narrower than a length in a direction orthogonal to the longitudinal direction is defined as "in the longitudinal direction". The first region (A1) extending in the orthogonal direction is called "(see FIG. 1).
Further, in the following description, a region extending in a direction along the longitudinal direction of the polyimide film and having a width in a direction orthogonal to the longitudinal direction narrower than the length in the longitudinal direction is referred to as "longitudinal direction". The second region (A2) extending in the direction along the above line (see FIG. 1).

本発明によれば、当該ポリイミドフィルムの一方の面を第一の面としたときに、当該第一の面内の700μm×700μmの視野において任意に抽出した、「長手方向に直交する方向に延在する第一の領域(A1)」の表面うねり(Wa1)の平均値(Wa1ave)と、前記700μm×700μmの視野において任意に抽出した、「長手方向に沿う方向に延在する第二の領域(A2)」の表面うねり(Wa2)の平均値(Wa2ave)との差(Wa1ave-Wa2ave)が、20nm以下であり、且つ当該第一の面内の71μm×95μmの視野における表面粗さ(Sa)が1nm以上10nm以下であるポリイミドフィルムを有することで、ポリイミドフィルムの第一の面と機能層とが優れた密着性を有し、且つ、外観が良好であり、光学特性に優れた積層体を得ることができる。 According to the present invention, when one surface of the polyimide film is used as the first surface, it is arbitrarily extracted in a field of view of 700 μm × 700 μm in the first surface, and “extended in a direction orthogonal to the longitudinal direction”. The average value (Wa1 ave ) of the surface waviness (Wa1) of the "existing first region (A1)" and the second "extending in the longitudinal direction" arbitrarily extracted in the 700 μm × 700 μm visual field. The difference (Wa1 ave -Wa2 ave ) from the average value (Wa2 ave ) of the surface waviness (Wa2) of the region (A2) is 20 nm or less, and the surface in the field of view of 71 μm × 95 μm in the first plane. By having a polyimide film having a roughness (Sa) of 1 nm or more and 10 nm or less, the first surface of the polyimide film and the functional layer have excellent adhesion, the appearance is good, and the optical characteristics are improved. An excellent laminate can be obtained.

なお、図1において、ポリイミドフィルム1の、「長手方向に直交する方向に延在する第一の領域」をA1で示し、「長手方向に沿う方向に延在する第二の領域」をA2で示す。 In FIG. 1, the "first region extending in the direction orthogonal to the longitudinal direction" of the polyimide film 1 is indicated by A1, and the "second region extending in the longitudinal direction" is indicated by A2. show.

ポリイミドフィルムにおいては、従来より表面平滑性が求められてきた。一方、ポリイミドフィルムの表面に、例えばハードコート層等の機能層を積層する場合、ポリイミドフィルムの表面平滑性が高過ぎると、ポリイミドフィルムと機能層との密着性を十分に得ることができず、機能層の一部がポリイミドフィルムから剥離して、積層体としての品質が低下したり、安定した製造を妨げたりする等の問題がある。
ポリイミドフィルムと機能層との密着性を向上させるには、ポリイミドフィルムの機能層に対する接着面の表面平滑性を、若干低下させることが有効である。ポリイミドフィルムの表面平滑性は、その製造工程において、ポリイミド前駆体溶液であるポリアミド酸(ポリアミック酸)溶液やポリイミド溶液を塗布する支持体の研磨状態を制御して、当該支持体の表面平滑性を調整することにより、向上又は低下させることが可能である。
しかしながら、上記したようにして、表面平滑性を低下させた支持体上に、ポリアミド酸溶液やポリイミド溶液を塗布して、ポリイミドフィルムを製造すると、ポリイミドフィルムの表面には、前述したポリアミド酸溶液又はポリイミド溶液が塗布された前記支持体の流れ方向に沿う方向に延在するように、微細なスジが形成され易い。このようなスジがポリイミドフィルムの表面に顕在化した場合、ポリイミドフィルムやその積層体として、外観に劣るものとなる。
また、上記したようにして、表面平滑性を低下させた支持体上に、ポリアミド酸溶液やポリイミド溶液を塗布して、ポリイミドフィルムを製造すると、前記支持体の表面状態が反映されることで、ポリイミドフィルムのヘイズ値が上昇する等して、積層体としての光学特性が低下することがある。
Conventionally, the polyimide film has been required to have surface smoothness. On the other hand, when a functional layer such as a hard coat layer is laminated on the surface of the polyimide film, if the surface smoothness of the polyimide film is too high, sufficient adhesion between the polyimide film and the functional layer cannot be obtained. There are problems that a part of the functional layer is peeled off from the polyimide film, the quality of the laminated body is deteriorated, and stable production is hindered.
In order to improve the adhesion between the polyimide film and the functional layer, it is effective to slightly reduce the surface smoothness of the adhesive surface of the polyimide film with respect to the functional layer. The surface smoothness of the polyimide film is controlled by controlling the polishing state of the support to which the polyamic acid (polyamic acid) solution or the polyimide solution, which is the polyimide precursor solution, is applied in the manufacturing process to improve the surface smoothness of the support. It can be improved or lowered by adjusting.
However, when a polyimide film is produced by applying a polyamic acid solution or a polyimide solution on a support having reduced surface smoothness as described above, the surface of the polyimide film is covered with the above-mentioned polyamic acid solution or the polyimide solution. Fine streaks are likely to be formed so as to extend in the direction along the flow direction of the support coated with the polyimide solution. When such a streak becomes apparent on the surface of the polyimide film, the appearance of the polyimide film or its laminate is inferior.
Further, when a polyimide film is produced by applying a polyamic acid solution or a polyimide solution on a support having reduced surface smoothness as described above, the surface state of the support is reflected. The haze value of the polyimide film may increase, and the optical properties of the laminate may deteriorate.

本発明に係る積層体は、当該積層体を構成するポリイミドフィルムとして、当該ポリイミドフィルムの一方の面を第一の面としたときに、当該第一の面内の700μm×700μmの視野において任意に抽出した、「長手方向に直交する方向に延在する第一の領域(A1)」の表面うねり(Wa1)の平均値(Wa1ave)と、前記700μm×700μmの視野において任意に抽出した、「長手方向に沿う方向に延在する第二の領域(A2)」の表面うねり(Wa2)の平均値(Wa2ave)との差(Wa1ave-Wa2ave)が20nm以下であり、且つ、当該第一の面内の71μm×95μmの視野における表面粗さ(Sa)が1nm以上10nm以下であるポリイミドフィルムを有することにより、ポリイミドフィルムと機能層との間で高い密着性を得ることができ、且つ、ポリイミドフィルム表面におけるスジの顕在化が抑制され、積層体において良好な外観を得ることができ、且つ優れた光学特性を得ることができる。 The laminate according to the present invention is an arbitrary polyimide film constituting the laminate, when one surface of the polyimide film is used as the first surface, in a field of view of 700 μm × 700 μm in the first surface. The average value (Wa1 ave ) of the surface waviness (Wa1) of the extracted "first region (A1) extending in the direction orthogonal to the longitudinal direction" and the "700 μm × 700 μm" field of view were arbitrarily extracted. The difference (Wa1 ave -Wa2 ave ) from the average value (Wa2 ave ) of the surface waviness (Wa2) of the "second region (A2) extending in the longitudinal direction" is 20 nm or less, and the first By having a polyimide film having a surface roughness (Sa) of 1 nm or more and 10 nm or less in a field of view of 71 μm × 95 μm in one plane, high adhesion can be obtained between the polyimide film and the functional layer, and , The appearance of streaks on the surface of the polyimide film is suppressed, a good appearance can be obtained in the laminated body, and excellent optical characteristics can be obtained.

1.積層体の主構成
以下、本発明の積層体について詳細に説明する。
本発明の積層体は、前述した長尺状のポリイミドフィルムと、前記ポリイミドフィルムの第一の面に接して積層された機能層とを有する。
本発明の積層体は、前記ポリイミドフィルムの第一の面のみに前記機能層が接して積層されたものであってもよいし、前記ポリイミドフィルムの両面に、前記機能層が接して積層されたものであってもよい。
1. 1. Main Configuration of Laminates The laminate of the present invention will be described in detail below.
The laminate of the present invention has the above-mentioned long polyimide film and a functional layer laminated in contact with the first surface of the polyimide film.
The laminate of the present invention may be one in which the functional layer is in contact with and laminated only on the first surface of the polyimide film, or the functional layer is in contact and laminated on both sides of the polyimide film. It may be a thing.

2.ポリイミドフィルム
本発明の積層体が有するポリイミドフィルムは、長尺状のポリイミドフィルムであって、当該ポリイミドフィルムの一方の面を第一の面としたときに、当該第一の面内の700μm×700μmの視野において任意に抽出した、「長手方向に直交する方向に延在する第一の領域(A1)」の表面うねり(Wa1)の平均値(Wa1ave)と、前記700μm×700μmの視野において任意に抽出した、「長手方向に沿う方向に延在する第二の領域(A2)」の表面うねり(Wa2)の平均値(Wa2ave)との差(Wa1ave-Wa2ave)が、20nm以下であり、且つ、当該第一の面内の71μm×95μmの視野における表面粗さ(Sa)が1nm以上10nm以下である。
2. 2. Polyimide film The polyimide film possessed by the laminate of the present invention is a long polyimide film, and when one surface of the polyimide film is used as the first surface, 700 μm × 700 μm in the first surface. The average value (Wa1 ave ) of the surface swell (Wa1) of the "first region (A1) extending in the direction orthogonal to the longitudinal direction" arbitrarily extracted in the field of view of No. 1 and the field of view of 700 μm × 700 μm. The difference (Wa1 ave -Wa2 ave ) from the average value (Wa2 ave ) of the surface waviness (Wa2) of the "second region (A2) extending along the longitudinal direction" extracted in the above is 20 nm or less. Moreover, the surface roughness (Sa) in the field of view of 71 μm × 95 μm in the first plane is 1 nm or more and 10 nm or less.

以下の説明において、「表面うねり(Wa)」及び「表面粗さ(Sa)」とは、以下のように測定して決定される値をいう。
なお、以下の「表面うねりの測定方法」及び「表面粗さの測定方法」の説明で使用する用語は、ISO 25178の規定に準じる。
In the following description, "surface waviness (Wa)" and "surface roughness (Sa)" refer to values determined by measurement as follows.
The terms used in the following explanations of "method for measuring surface waviness" and "method for measuring surface roughness" are based on the provisions of ISO 25178.

(表面うねりの測定方法)
走査型白色干渉顕微鏡(例えば、株式会社日立ハイテクサイエンス製 「Vert Scan」)を使用して、測定対象物の表面について、700μm×700μmの視野領域を含む領域の干渉縞の画像を取得し(例えば、図2参照。)、取得した画像中の、700μm×700μmの視野における干渉縞画像から、測定対象物の原表面を決定する。
次いで、得られた原表面から表面フィルター(S-フィルター)処理を行い、基礎表面を求めた後、当該基礎表面に対して、所定の表面フィルター処理を行うことによって、輪郭曲面(うねり曲面)を求める。
次いで、輪郭曲面(うねり曲面)について所定の領域を定義し、定義された所定の領域の平均面をX-Y平面、高さ方向をZ軸として、輪郭曲面(うねり曲面)をZ=f1(x,y)で表わした時、下記式(1)で与えられる値をnm単位で表したものを、「表面うねり(Wa)」という。
(Measuring method of surface waviness)
Using a scanning white interference microscope (for example, "Vert Scan" manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.), an image of interference fringes in a region including a 700 μm × 700 μm visual field region is acquired on the surface of the object to be measured (for example). (See FIG. 2), the original surface of the object to be measured is determined from the interference contrast fringe image in the field of view of 700 μm × 700 μm in the acquired image.
Next, a surface filter (S-filter) treatment is performed from the obtained original surface to obtain a foundation surface, and then a predetermined surface filter treatment is performed on the foundation surface to obtain a contour curved surface (waviness curved surface). demand.
Next, a predetermined region is defined for the contour curved surface (waviness curved surface), the average plane of the defined predetermined region is the XY plane, the height direction is the Z axis, and the contour curved surface (waviness curved surface) is Z = f1 (waviness curved surface). When expressed by x, y), the value given by the following formula (1) expressed in nm units is called "surface waviness (Wa)".

Figure 0007070128000001
Figure 0007070128000001

(表面粗さの測定方法)
走査型白色干渉顕微鏡(例えば、株式会社日立ハイテクサイエンス製 「Vert Scan」)を使用して、測定対象物の表面について、71μm×95μmの視野領域を含む領域の干渉縞の画像を取得し、取得した画像中の、71μm×95μmの視野における干渉縞画像から、測定対象物の原表面を決定する。
次いで、得られた原表面から表面フィルター(S-フィルター)処理を行い、基礎表面を求めた後、当該基礎表面に対して、L-フィルター処理を行うことによって、輪郭曲面(粗さ曲面)であるS-L平面を求める。
次いで、S-L平面(輪郭曲面(粗さ曲面))について所定の領域を定義し、定義された所定の領域の平均面をX-Y平面、高さ方向をZ軸として、S-L平面(輪郭曲面(粗さ曲面))をZ=f2(x,y)で表わした時、下記式(2)で与えられる値をnm単位で表したものを、「表面粗さ(Sa)」という。
(Measuring method of surface roughness)
Using a scanning white interference microscope (for example, "Vert Scan" manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.), an image of interference fringes in a region including a viewing area of 71 μm × 95 μm is acquired and acquired on the surface of the object to be measured. The original surface of the object to be measured is determined from the interference fringe image in the field of view of 71 μm × 95 μm in the image.
Next, a surface filter (S-filter) treatment is performed from the obtained original surface to obtain a foundation surface, and then an L-filter treatment is performed on the foundation surface to obtain a contour curved surface (roughness curved surface). Find a certain SL plane.
Next, a predetermined region is defined for the SL plane (contoured curved surface (roughness curved surface)), the average plane of the defined predetermined region is the XY plane, and the height direction is the Z axis, and the SL plane is defined. When (contour curved surface (roughness curved surface)) is expressed by Z = f2 (x, y), the value given by the following equation (2) expressed in nm units is called "surface roughness (Sa)". ..

Figure 0007070128000002
Figure 0007070128000002

本発明の積層体が有するポリイミドフィルムは、71μm×95μmの視野における表面粗さ(Sa)が1nm以上10nm以下である第一の面を有する。 The polyimide film of the laminate of the present invention has a first surface having a surface roughness (Sa) of 1 nm or more and 10 nm or less in a field of view of 71 μm × 95 μm.

前記ポリイミドフィルムは、少なくとも第一の面の表面粗さ(Sa)が1nm以上であることにより、当該ポリイミドフィルムの第一の面に接触させて形成される機能層に対して、優れた密着性を有する。前記ポリイミドフィルムの機能層に対する密着性を向上する点から、第一の面の表面粗さ(Sa)は、1.1nm以上であることが好ましく、1.2nm以上であることがより好ましい。
また、前記ポリイミドフィルムは、少なくとも第一の面の表面粗さ(Sa)が10nm以下であることにより、当該ポリイミドフィルムにおける、ヘイズ値の過度な上昇が抑制されている。従って、積層体として優れた光学特性を得ることができる。前記ポリイミドフィルムのヘイズ値の上昇を抑制する点から、第一の面の表面粗さ(Sa)は、6nm以下であることが好ましく、4nm以下であることがより好ましい。
前記ポリイミドフィルムは、機能層に対する密着性を向上し、且つヘイズ値の上昇を抑制する点から、71μm×95μmの視野における第一の面の表面粗さ(Sa)が1.2nm以上4nm以下であることが好ましい。
Since the surface roughness (Sa) of at least the first surface of the polyimide film is 1 nm or more, the polyimide film has excellent adhesion to a functional layer formed in contact with the first surface of the polyimide film. Has. The surface roughness (Sa) of the first surface is preferably 1.1 nm or more, and more preferably 1.2 nm or more, from the viewpoint of improving the adhesion of the polyimide film to the functional layer.
Further, since the surface roughness (Sa) of at least the first surface of the polyimide film is 10 nm or less, an excessive increase in haze value in the polyimide film is suppressed. Therefore, excellent optical characteristics can be obtained as a laminated body. The surface roughness (Sa) of the first surface is preferably 6 nm or less, and more preferably 4 nm or less, from the viewpoint of suppressing an increase in the haze value of the polyimide film.
The polyimide film has a surface roughness (Sa) of 1.2 nm or more and 4 nm or less in a field of view of 71 μm × 95 μm from the viewpoint of improving the adhesion to the functional layer and suppressing the increase in the haze value. It is preferable to have.

本発明の積層体が有するポリイミドフィルムは、前述したように、長尺状のポリイミドフィルムであって、第一の面内の700μm×700μmの視野において任意に抽出した、「長手方向に直交する方向に延在する第一の領域(A1)」の表面うねり(Wa1)の平均値(Wa1ave)と、前記700μm×700μmの視野において任意に抽出した、「長手方向に沿う方向に延在する第二の領域(A2)」の表面うねり(Wa2)の平均値(Wa2ave)との差(Wa1ave-Wa2ave)が、20nm以下である。 As described above, the polyimide film possessed by the laminate of the present invention is a long polyimide film, which is arbitrarily extracted in the field of view of 700 μm × 700 μm in the first plane, and is “direction orthogonal to the longitudinal direction”. The average value (Wa1 ave ) of the surface waviness (Wa1) of the "first region (A1) extending in" and the "extending in the longitudinal direction" arbitrarily extracted in the 700 μm × 700 μm field of view. The difference (Wa1 ave -Wa2 ave ) from the average value (Wa2 ave ) of the surface waviness (Wa2) of the "two regions (A2)" is 20 nm or less.

長尺状のポリイミドフィルムの表面には、一般に、その製造工程において、ポリアミド酸溶液やポリイミド溶液を塗布した支持体の流れ方向に沿う方向、即ち、長尺状のポリイミドフィルムの長手方向に沿う方向に、スジが発生する傾向にある。このようなスジは、前記した長手方向に直交する方向に延在する第一の領域(A1)の表面うねり(Wa1)が増大し、当該表面うねり(Wa1)の平均値(Wa1ave)と、長手方向に沿う方向に延在する第二の領域(A2)の表面うねり(Wa2)の平均値(Wa2ave)との差(Wa1ave-Wa2ave)が増大するに従い、ポリイミドフィルム表面に顕在化し易くなる。
前記した表面うねり(Wa1)の平均値(Wa1ave)と表面うねり(Wa2)の平均値(Wa2ave)との差(Wa1ave-Wa2ave)が増大する原因としては、成膜後のポリイミドフィルムの表面粗さを若干高めるために、ポリイミド前駆体溶液又はポリイミド溶液を塗布する支持体の研磨状態を調整して、表面平滑性を若干低下させた支持体を用いた場合に、当該支持体の全体形状が、成膜後のポリイミドフィルムに反映されることが挙げられる。
本発明の積層体が有するポリイミドフィルムは、長手方向に直交する方向に延在する第一の領域(A1)の表面うねり(Wa1)の平均値(Wa1ave)と、長手方向に沿う方向に延在する第二の領域(A2)の表面うねり(Wa2)の平均値(Wa2ave)との差(Wa1ave-Wa2ave)が20nm以下であるため、表面粗さを前述した範囲に有しつつ、フィルム表面のスジが目立ち難いものとされている。
ポリイミドフィルムの表面におけるスジの発生を抑制する点から、前記第一の領域(A1)の表面うねり(Wa1)の平均値(Wa1ave)と、前記第二の領域(A2)の表面うねり(Wa2)の平均値(Wa2ave)との差(Wa1ave-Wa2ave)は、15nm以下であることが好ましく、10nm以下であることがより好ましく、5nm以下であることが更に好ましい。
また、ポリイミドフィルムの表面の外観の低下を抑制する点から、前記第一の領域(A1)の表面うねり(Wa1)の平均値(Wa1ave)と、前記第二の領域(A2)の表面うねり(Wa2)の平均値(Wa2ave)との差(Wa1ave-Wa2ave)は、-20nm以上であることが好ましく、-10nm以上であることがより好ましい。
Generally, the surface of the long polyimide film has a direction along the flow direction of the support coated with the polyamic acid solution or the polyimide solution in the manufacturing process, that is, a direction along the longitudinal direction of the long polyimide film. In addition, streaks tend to occur. In such a streak, the surface waviness (Wa1) of the first region (A1) extending in the direction orthogonal to the longitudinal direction is increased, and the average value (Wa1 ave ) of the surface waviness (Wa1) is increased. As the difference (Wa1 ave -Wa2 ave ) from the average value (Wa2 ave ) of the surface waviness (Wa2) of the second region (A2) extending in the longitudinal direction increases, it becomes apparent on the surface of the polyimide film. It will be easier.
The cause of the increase in the difference (Wa1 ave -Wa2 ave ) between the average value (Wa1 ave ) of the surface waviness (Wa1) and the average value (Wa2 ave ) of the surface waviness (Wa2) is the polyimide film after film formation. In order to slightly increase the surface roughness of the support, the polishing state of the support to which the polyimide precursor solution or the polyimide solution is applied is adjusted to slightly reduce the surface smoothness of the support. The overall shape is reflected in the polyimide film after film formation.
The polyimide film of the laminate of the present invention has an average value (Wa1 ave ) of surface waviness (Wa1) of the first region (A1) extending in a direction orthogonal to the longitudinal direction and extending in a direction along the longitudinal direction. Since the difference (Wa1 ave -Wa2 ave ) from the average value (Wa2 ave ) of the surface waviness (Wa2) of the existing second region (A2) is 20 nm or less, the surface roughness is kept in the above-mentioned range. , The streaks on the surface of the film are said to be inconspicuous.
From the viewpoint of suppressing the generation of streaks on the surface of the polyimide film, the average value (Wa1 ave ) of the surface waviness (Wa1) of the first region (A1) and the surface waviness (Wa2) of the second region (A2). The difference (Wa1 ave -Wa2 ave ) from the average value (Wa2 ave ) of) is preferably 15 nm or less, more preferably 10 nm or less, and further preferably 5 nm or less.
Further, from the viewpoint of suppressing deterioration of the appearance of the surface of the polyimide film, the average value (Wa1 ave ) of the surface waviness (Wa1) of the first region (A1) and the surface waviness of the second region (A2). The difference (Wa1 ave − Wa2 ave ) from the average value (Wa2 ave ) of (Wa2) is preferably −20 nm or more, and more preferably −10 nm or more.

なお、ポリイミドフィルムの長手方向に直交する方向に延在する第一の領域(A1)の表面うねり(Wa1)の平均値(Wa1ave)、及びポリイミドフィルムの長手方向に沿う方向に延在する第二の領域(A2)の表面うねり(Wa2)の平均値(Wa2ave)は、以下のようにして算出することができる。
まず、走査型白色干渉顕微鏡(例えば、株式会社日立ハイテクサイエンス製 「Vert Scan」)を使用して、ポリイミドフィルムの表面について、700μm×700μmの視野領域を含む領域の干渉縞画像を取得する(例えば、図2参照。)。
次いで、取得した画像中の、700μm×700μmの視野における干渉縞画像において、測定対象であるポリイミドフィルムの長手方向に直交する方向に延在し、且つ前記長手方向の幅が、前記長手方向に直交する方向の長さよりも幅狭となるように、第一の領域(A1)を任意に抽出する。
次いで、任意に抽出した第一の領域(A1)の干渉縞画像から、ポリイミドフィルムの原表面を決定し、得られた原表面の基礎表面から、前述した表面うねりの測定方法において説明した手順により、輪郭曲面(うねり曲面)を求める。次いで、得られた輪郭曲面(うねり曲面)から、前述した表面うねりの測定方法において説明した手順により、第一の領域(A1)の表面うねり(Wa1)を算出する。
次に、前記した、700μm×700μmの視野における干渉縞画像から、第一の領域(A1)を抽出する位置を、先の抽出位置から、測定対象であるポリイミドフィルムの長手方向にずらして抽出し、抽出した第一の領域(A1)の干渉縞画像について、上記と同様の手順を繰り返して、第一の領域(A1)の表面うねり(Wa1)を算出する。
上記した第一の領域(A1)の表面うねり(Wa1)の算出工程を、第一の領域(A1)の抽出位置をずらしながら複数回繰り返し、それぞれにおいて得られた第一の領域(A1)の表面うねり(Wa1)の平均値を算出することにより、第一の領域(A1)の表面うねり(Wa1)の平均値(Wa1ave)を得る。
The average value (Wa1 ave ) of the surface waviness (Wa1) of the first region (A1) extending in the direction orthogonal to the longitudinal direction of the polyimide film, and the second extending in the longitudinal direction of the polyimide film. The average value (Wa2 ave ) of the surface waviness (Wa2) of the second region (A2) can be calculated as follows.
First, a scanning white interference microscope (for example, "Vert Scan" manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.) is used to acquire an interference fringe image of a region including a visual field region of 700 μm × 700 μm on the surface of the polyimide film (for example). , See FIG. 2).
Next, in the interference fringe image in the field of view of 700 μm × 700 μm in the acquired image, it extends in the direction orthogonal to the longitudinal direction of the polyimide film to be measured, and the width in the longitudinal direction is orthogonal to the longitudinal direction. The first region (A1) is arbitrarily extracted so as to be narrower than the length in the direction to be used.
Next, the raw surface of the polyimide film was determined from the interference fringe image of the first region (A1) arbitrarily extracted, and from the basic surface of the obtained raw surface, the procedure described in the above-mentioned method for measuring surface waviness was used. , Find the contour curved surface (waviness curved surface). Next, from the obtained contour curved surface (waviness curved surface), the surface waviness (Wa1) of the first region (A1) is calculated by the procedure described in the above-mentioned method for measuring surface waviness.
Next, the position where the first region (A1) is extracted from the above-mentioned interference fringe image in the field of 700 μm × 700 μm is extracted by shifting it from the previous extraction position in the longitudinal direction of the polyimide film to be measured. The surface waviness (Wa1) of the first region (A1) is calculated by repeating the same procedure as above for the extracted interference fringe image of the first region (A1).
The above-mentioned step of calculating the surface waviness (Wa1) of the first region (A1) was repeated a plurality of times while shifting the extraction position of the first region (A1), and the first region (A1) obtained in each was repeated. By calculating the average value of the surface undulation (Wa1), the average value (Wa1 ave ) of the surface undulation (Wa1) of the first region (A1) is obtained.

また、ポリイミドフィルムの長手方向に沿う方向に延在する第二の領域(A2)の表面うねり(Wa2)は、上記した、第一の領域(A1)の表面うねり(Wa1)の平均値(Wa1ave)の算出の際に取得した、700μm×700μmの視野領域を含む領域の干渉縞画像(例えば、図2参照)中の、700μm×700μmの視野における干渉縞画像において、測定対象であるポリイミドフィルムの長手方向に沿う方向に延在し、且つ前記長手方向に直交する方向の幅が、前記長手方向の長さよりも幅狭となるように、第二の領域(A2)を任意に抽出し(例えば、図3参照)、抽出した第二の領域(A2)について、前記した第一の領域(A1)の表面うねり(Wa1)の算出において説明したのと同様の手順を行うことにより、算出することができる。
次に、前記した、700μm×700μmの視野における干渉縞画像から、第二の領域(A2)を抽出する位置を、先の抽出位置から、測定対象であるポリイミドフィルムの短手方向にずらして抽出し、抽出した第二の領域(A2)の干渉縞画像について、上記と同様の手順を繰り返して、第二の領域(A2)の表面うねり(Wa2)を算出する。
上記した第二の領域(A2)の表面うねり(Wa2)の算出工程を、第二の領域(A2)の抽出位置をずらしながら複数回繰り返し、それぞれにおいて得られた第二の領域(A2)の表面うねり(Wa2)の平均値を算出することにより、第二の領域(A2)の表面うねり(Wa2)の平均値(Wa2ave)を得る。
Further, the surface waviness (Wa2) of the second region (A2) extending in the longitudinal direction of the polyimide film is the average value (Wa1) of the surface waviness (Wa1) of the first region (A1) described above. The polyimide film to be measured in the interference fringe image in the 700 μm × 700 μm visual field in the interference fringe image (for example, see FIG. 2) of the region including the 700 μm × 700 μm visual field region acquired at the time of calculation of ave ). The second region (A2) is arbitrarily extracted so that the width extending along the longitudinal direction of the above-mentioned direction and the width in the direction orthogonal to the longitudinal direction is narrower than the length in the longitudinal direction (A2). For example, (see FIG. 3), the extracted second region (A2) is calculated by performing the same procedure as described in the calculation of the surface waviness (Wa1) of the first region (A1) described above. be able to.
Next, the position for extracting the second region (A2) from the above-mentioned interference fringe image in the field of 700 μm × 700 μm is extracted by shifting it from the previous extraction position in the lateral direction of the polyimide film to be measured. Then, for the extracted interference fringe image of the second region (A2), the same procedure as above is repeated to calculate the surface waviness (Wa2) of the second region (A2).
The above-mentioned step of calculating the surface waviness (Wa2) of the second region (A2) was repeated a plurality of times while shifting the extraction position of the second region (A2), and the second region (A2) obtained in each was repeated. By calculating the average value of the surface undulation (Wa2), the average value (Wa2 ave ) of the surface undulation (Wa2) of the second region (A2) is obtained.

本発明の積層体が有するポリイミドフィルムは、少なくともポリイミドを含有し、本発明の効果を損なわない範囲において、更に必要に応じて、添加剤やポリイミド以外のその他の樹脂を含有していても良い。 The polyimide film of the laminate of the present invention contains at least polyimide, and may further contain additives and other resins other than polyimide, if necessary, as long as the effects of the present invention are not impaired.

(1)ポリイミド
ポリイミドは、テトラカルボン酸成分とジアミン成分とを反応させて得られるものである。テトラカルボン酸成分とジアミン成分の重合によってポリアミド酸を得てイミド化することが好ましい。イミド化は、熱イミド化で行っても、化学イミド化で行ってもよい。また、熱イミド化と化学イミド化とを併用した方法で製造することもできる。
(1) Polyimide Polyimide is obtained by reacting a tetracarboxylic acid component with a diamine component. It is preferable to obtain polyamic acid by polymerization of a tetracarboxylic acid component and a diamine component and imidize it. The imidization may be performed by thermal imidization or chemical imidization. It can also be produced by a method in which thermal imidization and chemical imidization are used in combination.

テトラカルボン酸成分の具体例としては、テトラカルボン酸二無水物が好適に用いられ、シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキサン-3,4,3’,4’-テトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、1,1-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン二無水物、1,3-ビス〔(3,4-ジカルボキシ)ベンゾイル〕ベンゼン二無水物、1,4-ビス〔(3,4-ジカルボキシ)ベンゾイル〕ベンゼン二無水物、2,2-ビス{4-〔4-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}プロパン二無水物、2,2-ビス{4-〔3-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}プロパン二無水物、ビス{4-〔4-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}ケトン二無水物、ビス{4-〔3-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}ケトン二無水物、4,4’-ビス〔4-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕ビフェニル二無水物、4,4’-ビス〔3-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕ビフェニル二無水物、ビス{4-〔4-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}ケトン二無水物、ビス{4-〔3-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}ケトン二無水物、ビス{4-〔4-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}スルホン二無水物、ビス{4-〔3-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}スルホン二無水物、ビス{4-〔4-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}スルフィド二無水物、ビス{4-〔3-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}スルフィド二無水物、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物、3,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物、3,3’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物、2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、3,4,9,10-ぺリレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7-アントラセンテトラカルボン酸二無水物、1,2,7,8-フェナントレンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
これらは単独でも、2種以上を混合して用いることもできる。
As a specific example of the tetracarboxylic acid component, tetracarboxylic acid dianhydride is preferably used, and cyclohexanetetracarboxylic acid dianhydride, cyclopentanetetracarboxylic acid dianhydride, dicyclohexane-3, 4, 3', 4 '-Tetracarboxylic acid dianhydride, pyromellitic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, 2,2', 3,3'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride , 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxy) Phenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ) Sulfonhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) Methan dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) Carboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 1,3-bis [(3,4-dicarboxy) benzoyl] benzene dianhydride, 1,4-bis [ (3,4-dicarboxy) benzoyl] benzene dianhydride, 2,2-bis {4- [4- (1,2-dicarboxy) phenoxy] phenyl} propane dianhydride, 2,2-bis {4 -[3- (1,2-dicarboxy) phenoxy] phenyl} propane dianhydride, bis {4- [4- (1,2-dicarboxy) phenoxy] phenyl} ketone dianhydride, bis {4- [ 3- (1,2-dicarboxy) phenoxy] phenyl} ketone dianhydride, 4,4'-bis [4- (1,2-dicarboxy) phenoxy] biphenyl dianhydride, 4,4'-bis [ 3- (1,2-dicarboxy) phenoxy] biphenyl dianhydride, bis {4- [4- (1,2-dicarboxy) phenoxy] phenyl} ketone dianhydride, bis {4- [3- (1) , 2-Dicarboxy) phenoxy] phenyl} ketone dianhydride, bis {4- [4- (1,2-dicarboxy) phenoxy] phenyl} sulfonate dianhydride, bis {4- [3- (1,2) -Dicarboxy) phenoxy] phenyl} su Luhon dianhydride, bis {4- [4- (1,2-dicarboxy) phenoxy] phenyl} sulfide dianhydride, bis {4- [3- (1,2-dicarboxy) phenoxy] phenyl} sulfide dianhydride Anhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid anhydride, 3,4'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid anhydride, 3,3'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid anhydride , 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic acid dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic acid dianhydride, 1, , 2,3,4-benzenetetracarboxylic acid dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic acid dianhydride, 2,3,6,7-anthracenetetracarboxylic acid dianhydride, 1, Examples thereof include 2,7,8-phenanthrentetracarboxylic acid dianhydride.
These can be used alone or in combination of two or more.

ジアミン成分の具体例としては、p-フェニレンジアミン、m-フェニレンジアミン、o-フェニレンジアミン、3,3’-ジアミノジフェニルエーテル、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,3’-ジアミノジフェニルスルフィド、3,4’-ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’-ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、3,4’-ジアミノジフェニルスルホン、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノベンゾフェノン、4,4’-ジアミノベンゾフェノン、3,4’-ジアミノベンゾフェノン、4,4’-ジアミノベンズアニリド、3,3’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、3,4’-ジアミノジフェニルメタン、2,2-ジ(3-アミノフェニル)プロパン、2,2-ジ(4-アミノフェニル)プロパン、2-(3-アミノフェニル)-2-(4-アミノフェニル)プロパン、2,2-ジ(3-アミノフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、2,2-ジ(4-アミノフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、2-(3-アミノフェニル)-2-(4-アミノフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、1,1-ジ(3-アミノフェニル)-1-フェニルエタン、1,1-ジ(4-アミノフェニル)-1-フェニルエタン、1-(3-アミノフェニル)-1-(4-アミノフェニル)-1-フェニルエタン、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(3-アミノベンゾイル)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノベンゾイル)ベンゼン、1,4-ビス(3-アミノベンゾイル)ベンゼン、1,4-ビス(4-アミノベンゾイル)ベンゼン、1,3-ビス(3-アミノ-α,α-ジメチルベンジル)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノ-α,α-ジメチルベンジル)ベンゼン、1,4-ビス(3-アミノ-α,α-ジメチルベンジル)ベンゼン、1,4-ビス(4-アミノ-α,α-ジメチルベンジル)ベンゼン、1,3-ビス(3-アミノ-α,α-ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノ-α,α-ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、1,4-ビス(3-アミノ-α,α-ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、1,4-ビス(4-アミノ-α,α-ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、2,6-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゾニトリル、2,6-ビス(3-アミノフェノキシ)ピリジン、N,N’-ビス(4-アミノフェニル)テレフタルアミド、9,9-ビス(4-アミノフェニル)フルオレン、2,2’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、2,2’-ジトリフルオロメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジクロロ-4,4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジメトキシ-4,4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、4,4’-ビス(3-アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]ケトン、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]ケトン、ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]スルフィド、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルフィド、 Specific examples of the diamine component include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, o-phenylenediamine, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3. '-Diaminodiphenylsulfide, 3,4'-diaminodiphenylsulfide, 4,4'-diaminodiphenylsulfide, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenylsulfone , 3,3'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, 3,4'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzanilide, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,4'-Diaminodiphenylmethane, 2,2-di (3-aminophenyl) propane, 2,2-di (4-aminophenyl) propane, 2- (3-aminophenyl) -2- (4-aminophenyl) ) Benzene, 2,2-di (3-aminophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-di (4-aminophenyl) -1,1,1,3 , 3,3-Hexafluoropropane, 2- (3-aminophenyl) -2- (4-aminophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 1,1-di (3) -Aminophenyl) -1-phenylethane, 1,1-di (4-aminophenyl) -1-phenylethane, 1- (3-aminophenyl) -1- (4-aminophenyl) -1-phenylethane, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) Benzene, 1,3-bis (3-aminobenzoyl) benzene, 1,3-bis (4-aminobenzoyl) benzene, 1,4-bis (3-aminobenzoyl) benzene, 1,4-bis (4-amino) Benzoyl) benzene, 1,3-bis (3-amino-α, α-dimethylbenzyl) benzene, 1,3-bis (4-amino-α, α-dimethylbenzyl) benzene, 1,4-bis (3-) Amino-α, α-dimethylbenzyl) benzene, 1,4-bis (4-amino-α, α-dimethylbenzyl) benzene, 1,3-bis (3-amino-α, α-ditrifluoromethylbenzyl) benzene , 1,3-bis (4) -Amino-α, α-ditrifluoromethylbenzyl) benzene, 1,4-bis (3-amino-α, α-ditrifluoromethylbenzyl) benzene, 1,4-bis (4-amino-α, α-ditri) Fluoromethylbenzyl) benzene, 2,6-bis (3-aminophenoxy) benzonitrile, 2,6-bis (3-aminophenoxy) pyridine, N, N'-bis (4-aminophenyl) terephthalamide, 9, 9-Bis (4-aminophenyl) fluorene, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-ditrifluoromethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dichloro- 4,4'-Diaminobiphenyl, 3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 4,4'-bis (3-aminophenoxy) Biphenyl, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (3) -Aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfide,

ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、2,2-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[3-(3-アミノフェノキシ)フェニル]-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、1,3-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,3-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,4-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,4-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,3-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、1,3-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、1,4-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、1,4-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、4,4’-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)ベンゾイル]ジフェニルエーテル、4,4’-ビス[4-(4-アミノ-α,α-ジメチルベンジル)フェノキシ]ベンゾフェノン、4,4’-ビス[4-(4-アミノ-α,α-ジメチルベンジル)フェノキシ]ジフェニルスルホン、4,4’-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェノキシ]ジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノ-4,4’-ジフェノキシベンゾフェノン、3,3’-ジアミノ-4,4’-ジビフェノキシベンゾフェノン、3,3’-ジアミノ-4-フェノキシベンゾフェノン、3,3’-ジアミノ-4-ビフェノキシベンゾフェノン、6,6’-ビス(3-アミノフェノキシ)-3,3,3’,3’-テトラメチル-1,1’-スピロビインダン、6,6’-ビス(4-アミノフェノキシ)-3,3,3’,3’-テトラメチル-1,1’-スピロビインダン、1,3-ビス(3-アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(4-アミノブチル)テトラメチルジシロキサン、α,ω-ビス(3-アミノプロピル)ポリジメチルシロキサン、α,ω-ビス(3-アミノブチル)ポリジメチルシロキサン、ビス(アミノメチル)エーテル、ビス(2-アミノエチル)エーテル、ビス(3-アミノプロピル)エーテル、ビス(2-アミノメトキシ)エチル]エーテル、ビス[2-(2-アミノエトキシ)エチル]エーテル、ビス[2-(3-アミノプロトキシ)エチル]エーテル、 Bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- (4-amino) Phenoxy) phenyl] ether, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [3- (3-Aminophenoxy) Benzene] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3 3,3-Hexafluoropropane, 1,3-bis [4- (3-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,4-bis [ 4- (3-Aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,4-bis [4- (4-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,3-bis [4- (3-aminophenoxy) -α, α-dimethyl Benzene] Benzene, 1,3-bis [4- (4-aminophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,4-bis [4- (3-aminophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] Benzene, 1,4-bis [4- (4-aminophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 4,4'-bis [4- (4-aminophenoxy) benzoyl] diphenyl ether, 4,4'- Bis [4- (4-amino-α, α-dimethylbenzyl) phenoxy] benzophenone, 4,4'-bis [4- (4-amino-α, α-dimethylbenzyl) phenoxy] diphenylsulfone, 4,4' -Bis [4- (4-aminophenoxy) phenoxy] diphenylsulfone, 3,3'-diamino-4,4'-diphenoxybenzophenone, 3,3'-diamino-4,4'-dibiphenoxybenzophenone, 3, 3'-Diamino-4-phenoxybenzophenone, 3,3'-diamino-4-biphenoxybenzophenone, 6,6'-bis (3-aminophenoxy) -3,3,3', 3'-tetramethyl-1 , 1'-spirobiindan, 6,6'-bis (4-aminophenoxy) -3,3,3', 3'-tetramethyl-1,1'-spirobiindan, 1,3-bis (3-aminopropyl) Tetramethyldisiloxane, 1,3-bis (4-aminobutyl) tetramethyldisiloxane, α, ω -Bis (3-aminopropyl) polydimethylsiloxane, α, ω-bis (3-aminobutyl) polydimethylsiloxane, bis (aminomethyl) ether, bis (2-aminoethyl) ether, bis (3-aminopropyl) Ether, bis (2-aminomethoxy) ethyl] ether, bis [2- (2-aminoethoxy) ethyl] ether, bis [2- (3-aminoprotoxy) ethyl] ether,

trans-シクロヘキサンジアミン、trans-1,4-ビスメチレンシクロヘキサンジアミン、2,6-ビス(アミノメチル)ビシクロ[2,2,1]ヘプタン、2,5-ビス(アミノメチル)ビシクロ[2,2,1]ヘプタン、また、上記ジアミンの芳香族環上水素原子の一部若しくは全てをフルオロ基、メチル基、メトキシ基、トリフルオロメチル基、又はトリフルオロメトキシ基から選ばれた置換基で置換したジアミンも使用することができる。
なお、これらのジアミンは単独でも、2種以上を混合して用いることもできる。
trans-cyclohexanediamine, trans-1,4-bismethylenecyclohexanediamine, 2,6-bis (aminomethyl) bicyclo [2,2,1] heptane, 2,5-bis (aminomethyl) bicyclo [2,2] 1] Heptane, or a diamine in which a part or all of the hydrogen atom on the aromatic ring of the above amine is substituted with a substituent selected from a fluoro group, a methyl group, a methoxy group, a trifluoromethyl group, or a trifluoromethoxy group. Can also be used.
It should be noted that these diamines can be used alone or in combination of two or more.

中でも、作製されるポリイミドフィルムの光透過性を向上し、且つ、耐衝撃性を向上する点から、芳香族環を含み、且つ、(i)フッ素原子、(ii)脂肪族環、及び(iii)芳香族環同士をスルホニル基又はフッ素原子で置換されていても良いアルキレン基で連結した構造からなる群から選択される少なくとも1つを含むポリイミドを含有することが好ましい。ポリイミドが芳香族環を含むことにより、配向性が高まり、剛性が向上するため、耐衝撃性が向上するが、芳香族環の吸収波長によって透過率が低下する傾向がある。
ポリイミドに(i)フッ素原子を含むとポリイミド骨格内の電子状態を電荷移動し難くすることができる点からポリイミドフィルムの光透過性が向上する。
ポリイミドに(ii)脂肪族環を含むと、ポリイミド骨格内のπ電子の共役を断ち切ることで骨格内の電荷の移動を阻害することができる点からポリイミドフィルムの光透過性が向上する。
ポリイミドに(iii)芳香族環同士をスルホニル基又はフッ素原子で置換されていても良いアルキレン基で連結した構造を含むと、ポリイミド骨格内のπ電子の共役を断ち切ることで骨格内の電荷の移動を阻害することができる点からポリイミドフィルムの光透過性が向上する。
Above all, from the viewpoint of improving the light transmittance and the impact resistance of the produced polyimide film, it contains an aromatic ring, and (i) a fluorine atom, (ii) an aliphatic ring, and (iii). ) It is preferable to contain a polyimide containing at least one selected from the group consisting of a structure in which aromatic rings are linked to each other by a sulfonyl group or an alkylene group which may be substituted with a fluorine atom. Since the polyimide contains an aromatic ring, the orientation is increased and the rigidity is improved, so that the impact resistance is improved, but the transmittance tends to decrease depending on the absorption wavelength of the aromatic ring.
When (i) a fluorine atom is contained in the polyimide, it is possible to make it difficult for the electronic state in the polyimide skeleton to transfer charge, and thus the light transmittance of the polyimide film is improved.
When the (ii) aliphatic ring is contained in the polyimide, the light transmittance of the polyimide film is improved in that the transfer of charges in the skeleton can be inhibited by breaking the conjugation of π electrons in the polyimide skeleton.
When the polyimide contains a structure in which (iii) aromatic rings are linked to each other with an alkylene group which may be substituted with a sulfonyl group or a fluorine atom, the transfer of charge in the skeleton by breaking the conjugation of π electrons in the polyimide skeleton. The light transmittance of the polyimide film is improved from the point that it can inhibit the above.

中でも、芳香族環を含み、且つフッ素原子を含むポリイミドであることが、作製されるポリイミドフィルムの光透過性を向上し、且つ、耐衝撃性を向上する点から好ましく用いられる。
フッ素原子の含有割合は、ポリイミド表面をX線光電子分光法により測定したフッ素原子数(F)と炭素原子数(C)の比率(F/C)が、0.01以上であることが好ましく、更に0.05以上であることが好ましい。一方でフッ素原子の含有割合が高すぎるとポリイミド本来の耐熱性などが低下する恐れがあることから、前記フッ素原子数(F)と炭素原子数(C)の比率(F/C)が1以下であることが好ましく、更に0.8以下であることが好ましい。
ここで、X線光電子分光法(XPS)の測定による各原子の比率は、X線光電子分光装置(例えば、Thermo Scientific社 Theta Probe)を用いて測定される各原子の原子%の値から求めることができる。
Among them, a polyimide containing an aromatic ring and containing a fluorine atom is preferably used from the viewpoint of improving the light transmission property and the impact resistance of the produced polyimide film.
As for the content ratio of fluorine atoms, the ratio (F / C) of the number of fluorine atoms (F) to the number of carbon atoms (C) measured on the polyimide surface by X-ray photoelectron spectroscopy is preferably 0.01 or more. Further, it is preferably 0.05 or more. On the other hand, if the content ratio of fluorine atoms is too high, the heat resistance inherent in polyimide may deteriorate. Therefore, the ratio (F / C) of the number of fluorine atoms (F) to the number of carbon atoms (C) is 1 or less. It is preferably 0.8 or less, and more preferably 0.8 or less.
Here, the ratio of each atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) is determined from the value of the atomic% of each atom measured using an X-ray photoelectron spectrometer (for example, Theta Probe of Thermo Scientific). Can be done.

また、前記ポリイミドは、作製されるポリイミドフィルムの耐衝撃性が向上する点から、テトラカルボン酸残基及びジアミン残基の合計を100モル%としたときに、芳香族環を有するテトラカルボン酸残基及び芳香族環を有するジアミン残基の合計が50モル%以上であることが好ましく、60モル%以上であることがより好ましく、75モル%以上であることがより更に好ましい。 Further, the polyimide has a tetracarboxylic acid residue having an aromatic ring when the total of the tetracarboxylic acid residue and the diamine residue is 100 mol%, because the impact resistance of the produced polyimide film is improved. The total amount of diamine residues having a group and an aromatic ring is preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, still more preferably 75 mol% or more.

また、前記ポリイミドは、作製されるポリイミドフィルムの耐衝撃性と光透過性が向上する点から、テトラカルボン酸残基及びジアミン残基の少なくとも1つが、芳香族環とフッ素原子とを含むことが好ましく、更に、テトラカルボン酸残基及びジアミン残基の両方が、芳香族環とフッ素原子とを含むことが好ましい。
前記ポリイミドは、テトラカルボン酸残基及びジアミン残基の合計を100モル%としたときに、芳香族環及びフッ素原子を有するテトラカルボン酸残基及び芳香族環及びフッ素原子を有するジアミン残基の合計が50モル%以上であることが好ましく、60モル%以上であることがより好ましく、75モル%以上であることがより更に好ましい。
Further, in the polyimide, at least one of the tetracarboxylic acid residue and the diamine residue may contain an aromatic ring and a fluorine atom from the viewpoint of improving the impact resistance and light transmission of the produced polyimide film. It is preferable that both the tetracarboxylic acid residue and the diamine residue further contain an aromatic ring and a fluorine atom.
The polyimide has a tetracarboxylic acid residue having an aromatic ring and a fluorine atom and a diamine residue having an aromatic ring and a fluorine atom when the total of the tetracarboxylic acid residue and the diamine residue is 100 mol%. The total is preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, still more preferably 75 mol% or more.

また、ポリイミドに含まれる炭素原子に結合する水素原子の50%以上が、芳香族環に直接結合する水素原子であるポリイミドであることが、作製されるポリイミドフィルムの光透過性を向上し、且つ、剛性を向上する点から好ましく用いられる。ポリイミドに含まれる炭素原子に結合する全水素原子(個数)中の、芳香族環に直接結合する水素原子(個数)の割合は、更に、60%以上であることが好ましく、より更に70%以上であることが好ましい。
ポリイミドに含まれる炭素原子に結合する水素原子の50%以上が、芳香族環に直接結合する水素原子であるポリイミドである場合には、大気中における加熱工程を経ても、例えば200℃以上で延伸を行っても、作製されるポリイミドフィルムの光学特性、特に全光線透過率や黄色度YI値の変化が少ない点から好ましい。
ポリイミドに含まれる炭素原子に結合する水素原子の50%以上が、芳香族環に直接結合する水素原子であるポリイミドである場合には、酸素との反応性が低いため、ポリイミドの化学構造が変化し難いことが推定される。
ポリイミドフィルムはその高い耐熱性を利用し、加熱を伴う加工工程が必要なデバイスなどに用いられる場合が多いが、ポリイミドに含まれる炭素原子に結合する水素原子の50%以上が、芳香族環に直接結合する水素原子であるポリイミドである場合には、これら後工程を透明性維持のために不活性雰囲気下で実施する必要が生じないので、設備コストや雰囲気制御にかかる費用を抑制できるというメリットがある。
ここで、ポリイミドに含まれる炭素原子に結合する全水素原子(個数)中の、芳香族環に直接結合する水素原子(個数)の割合は、ポリイミドの分解物を高速液体クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフ質量分析計及びNMRを用いて求めることができる。
例えば、サンプルを、アルカリ水溶液、又は、超臨界メタノールにより分解し、得られた分解物を、高速液体クロマトグラフィーで分離し、当該分離した各ピークの定性分析をガスクロマトグラフ質量分析計及びNMR等を用いて行い、高速液体クロマトグラフィーを用いて定量することでポリイミドに含まれる全水素原子(個数)中の、芳香族環に直接結合する水素原子(個数)の割合を求めることができる。
Further, the fact that 50% or more of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms contained in the polyimide are polyimides that are hydrogen atoms directly bonded to the aromatic ring improves the light transmittance of the produced polyimide film and also. , It is preferably used from the viewpoint of improving rigidity. The ratio of the hydrogen atoms (number) directly bonded to the aromatic ring to the total hydrogen atoms (number) bonded to the carbon atoms contained in the polyimide is preferably 60% or more, more preferably 70% or more. Is preferable.
When 50% or more of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms contained in the polyimide are the hydrogen atoms directly bonded to the aromatic ring, the polyimide is stretched at, for example, 200 ° C. or higher even after being heated in the atmosphere. However, it is preferable because the optical characteristics of the produced polyimide film, particularly the change in the total light transmittance and the yellowness YI value are small.
When 50% or more of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms contained in the polyimide are the hydrogen atoms directly bonded to the aromatic ring, the reactivity with oxygen is low, so that the chemical structure of the polyimide changes. It is presumed that it is difficult to do.
Utilizing its high heat resistance, polyimide film is often used for devices that require a processing process that involves heating, but 50% or more of the hydrogen atoms bonded to carbon atoms contained in polyimide are in the aromatic ring. In the case of polyimide, which is a hydrogen atom to be directly bonded, it is not necessary to carry out these subsequent steps in an inert atmosphere in order to maintain transparency, so there is an advantage that equipment costs and costs for atmosphere control can be suppressed. There is.
Here, the ratio of the hydrogen atoms (number) directly bonded to the aromatic ring to the total hydrogen atoms (number) bonded to the carbon atoms contained in the polyimide is determined by high-speed liquid chromatography and gas chromatograph mass of the decomposition product of the polyimide. It can be determined using an analyzer and NMR.
For example, the sample is decomposed with an alkaline aqueous solution or supercritical methanol, the obtained decomposition product is separated by high performance liquid chromatography, and the qualitative analysis of each separated peak is performed by a gas chromatograph mass analyzer, NMR, etc. The ratio of hydrogen atoms (number) directly bonded to the aromatic ring can be determined from the total hydrogen atoms (number) contained in the polyimide by performing the procedure using high performance liquid chromatography and quantifying the amount.

また、耐屈曲性を向上する観点から、ケイ素原子を含むポリイミドを好ましく用いることができる。
本発明に用いられるケイ素原子を含むポリイミドとしては、中でも、ケイ素原子を有するジアミン残基を、ジアミン残基総量のうち、好ましくは1モル%以上50モル%以下、より好ましくは2.5モル%以上40モル%以下、より更に好ましくは5モル%以上30モル%以下の割合で含むポリイミドが好適に用いられる。
Further, from the viewpoint of improving the bending resistance, a polyimide containing a silicon atom can be preferably used.
As the polyimide containing a silicon atom used in the present invention, the diamine residue having a silicon atom is preferably 1 mol% or more and 50 mol% or less, more preferably 2.5 mol%, of the total amount of diamine residues. A polyimide containing 40 mol% or more, more preferably 5 mol% or more and 30 mol% or less, is preferably used.

ケイ素原子を有するジアミン残基としては、主鎖にケイ素原子を1個又は2個有するジアミン残基が好ましい。
主鎖にケイ素原子を1個有するジアミンとしては、例えば、下記一般式(A)で表されるジアミンが挙げられる。また、主鎖にケイ素原子を2個有するジアミンとしては、例えば、下記一般式(B)で表されるジアミンが挙げられる。
As the diamine residue having a silicon atom, a diamine residue having one or two silicon atoms in the main chain is preferable.
Examples of the diamine having one silicon atom in the main chain include a diamine represented by the following general formula (A). Examples of the diamine having two silicon atoms in the main chain include diamines represented by the following general formula (B).

Figure 0007070128000003

(一般式(A)及び一般式(B)において、Lはそれぞれ独立して、直接結合又は-O-結合であり、R10はそれぞれ独立して、置換基を有していても良く、酸素原子又は窒素原子を含んでいても良い炭素数1以上20以下の1価の炭化水素基を表す。R11はそれぞれ独立して、置換基を有していても良く、酸素原子又は窒素原子を含んでいても良い炭素数1以上20以下の2価の炭化水素基を表す。)
Figure 0007070128000003

(In the general formula (A) and the general formula (B), L may be an independent direct bond or an —O— bond, and R 10 may be independent and have a substituent, and oxygen may be used. It represents a monovalent hydrocarbon group having 1 or more and 20 or less carbon atoms which may contain an atom or a nitrogen atom. R 11 may independently have a substituent and may contain an oxygen atom or a nitrogen atom. It represents a divalent hydrocarbon group having 1 or more and 20 or less carbon atoms which may be contained.)

10で表される1価の炭化水素基としては、炭素数1以上20以下のアルキル基、アリール基、及びこれらの組み合わせが挙げられる。アルキル基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよく、直鎖状又は分岐状と環状の組合せであっても良い。
炭素数1以上20以下のアルキル基としては、炭素数1以上10以下のアルキル基であることが好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。前記環状のアルキル基としては、炭素数3~10のシクロアルキル基であることが好ましく、具体的には、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。前記アリール基としては、炭素数6~12のアリール基であることが好ましく、具体的には、フェニル基、トリル基、ナフチル基等が挙げられる。また、R10で表される1価の炭化水素基としては、アラルキル基であっても良く、例えば、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等が挙げられる。
酸素原子又は窒素原子を含んでいても良い炭化水素基としては、例えば後述する2価の炭化水素基と前記1価の炭化水素基とをエーテル結合、カルボニル結合、エステル結合、アミド結合、及びイミノ結合(-NH-)の少なくとも1つで結合した基が挙げられる。
10で表される1価の炭化水素基が有していても良い置換基としては、本発明の効果が損なわれない範囲で特に限定されず、例えば、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子、水酸基等が挙げられる。
Examples of the monovalent hydrocarbon group represented by R 10 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, and a combination thereof. The alkyl group may be linear, branched or cyclic, and may be linear or a combination of branched and cyclic.
The alkyl group having 1 or more and 20 or less carbon atoms is preferably an alkyl group having 1 or more and 10 or less carbon atoms, and specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, and the like. Examples thereof include a t-butyl group, a pentyl group and a hexyl group. The cyclic alkyl group is preferably a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and specific examples thereof include a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. The aryl group is preferably an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and specific examples thereof include a phenyl group, a tolyl group, and a naphthyl group. Further, the monovalent hydrocarbon group represented by R10 may be an aralkyl group, and examples thereof include a benzyl group, a phenylethyl group and a phenylpropyl group.
Examples of the hydrocarbon group that may contain an oxygen atom or a nitrogen atom include an ether bond, a carbonyl bond, an ester bond, an amide bond, and an imino of a divalent hydrocarbon group described later and the monovalent hydrogen group. Groups bonded by at least one of the bonds (-NH-) can be mentioned.
The substituent that the monovalent hydrocarbon group represented by R10 may have is not particularly limited as long as the effect of the present invention is not impaired, and for example, a halogen atom such as a fluorine atom or a chlorine atom. , Hydrocarbons and the like.

10で表される1価の炭化水素基としては、耐衝撃性及び屈曲耐性の点から、炭素数1以上3以下のアルキル基、又は炭素数6以上10以下のアリール基であることが好ましい。炭素数1以上3以下のアルキル基としては、メチル基であることがより好ましく、前記炭素数6以上10以下のアリール基としては、フェニル基であることがより好ましい。 The monovalent hydrocarbon group represented by R 10 is preferably an alkyl group having 1 or more and 3 or less carbon atoms or an aryl group having 6 or more and 10 or less carbon atoms from the viewpoint of impact resistance and bending resistance. .. The alkyl group having 1 or more and 3 or less carbon atoms is more preferably a methyl group, and the aryl group having 6 or more and 10 or less carbon atoms is more preferably a phenyl group.

11で表される2価の炭化水素基としては、炭素数1以上20以下のアルキレン基、アリーレン基、及びこれらの組み合わせの基が挙げられる。アルキレン基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよく、直鎖状又は分岐状と環状の組合せであっても良い。
炭素数1以上20以下のアルキレン基としては、炭素数1以上10以下のアルキレン基であることが好ましく、例えば、メチレン基、エチレン基、各種プロピレン基、各種ブチレン基、シクロヘキシレン基等の直鎖状又は分岐状アルキレン基と環状アルキレン基との組合せの基などを挙げることができる。
前記アリーレン基としては、炭素数6~12のアリーレン基であることが好ましく、アリーレン基としては、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基等が挙げられ、更に後述する芳香族環に対する置換基を有していても良い。
酸素原子又は窒素原子を含んでいても良い2価の炭化水素基としては、前記2価の炭化水素基同士をエーテル結合、カルボニル結合、エステル結合、アミド結合、及びイミノ結合(-NH-)の少なくとも1つで結合した基が挙げられる。
11で表される2価の炭化水素基が有していても良い置換基としては、前記R10で表される1価の炭化水素基が有していても良い置換基と同様であって良い。
Examples of the divalent hydrocarbon group represented by R 11 include an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an arylene group, and a group in combination thereof. The alkylene group may be linear, branched or cyclic, and may be linear or a combination of branched and cyclic.
The alkylene group having 1 or more and 20 or less carbon atoms is preferably an alkylene group having 1 or more and 10 or less carbon atoms. Examples thereof include a group obtained by combining a cyclic or branched alkylene group with a cyclic alkylene group.
The arylene group is preferably an arylene group having 6 to 12 carbon atoms, and examples of the arylene group include a phenylene group, a biphenylene group, a naphthylene group and the like, and further have a substituent for an aromatic ring described later. You may be.
Divalent hydrocarbon groups that may contain an oxygen atom or a nitrogen atom include ether bonds, carbonyl bonds, ester bonds, amide bonds, and imino bonds (-NH-) of the divalent hydrocarbon groups. Examples include at least one bonded group.
The substituent that the divalent hydrocarbon group represented by R11 may have is the same as the substituent that the monovalent hydrocarbon group represented by R10 may have. good.

11で表される2価の炭化水素基としては、耐衝撃性及び屈曲耐性の点から、炭素数1以上6以下のアルキレン基、又は炭素数6以上10以下のアリーレン基であることが好ましく、更に、炭素数2以上4以下のアルキレン基であることがより好ましい。 The divalent hydrocarbon group represented by R 11 is preferably an alkylene group having 1 or more and 6 or less carbon atoms or an arylene group having 6 or more and 10 or less carbon atoms from the viewpoint of impact resistance and bending resistance. Further, it is more preferably an alkylene group having 2 or more and 4 or less carbon atoms.

主鎖にケイ素原子を1個又は2個有するジアミンとしては、中でも、ケイ素原子を2個有するジアミンが、光透過性の点、及び耐衝撃性及び屈曲耐性の点から好ましく、更に、1,3-ビス(3-アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(4-アミノブチル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(5-アミノペンチル)テトラメチルジシロキサン等が、入手容易性や光透過性と耐衝撃性の両立の観点から好ましい。 As the diamine having one or two silicon atoms in the main chain, the diamine having two silicon atoms is preferable from the viewpoint of light transmission, impact resistance and bending resistance, and further 1, 3 -Bis (3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane, 1,3-bis (4-aminobutyl) tetramethyldisiloxane, 1,3-bis (5-aminopentyl) tetramethyldisiloxane, etc. are easily available. It is preferable from the viewpoint of achieving both light transmission and impact resistance.

耐衝撃性及び屈曲耐性の点から、主鎖にケイ素原子を1個又は2個有するジアミン残基の分子量は、1000以下であることが好ましく、800以下であることがより好ましく、500以下であることがより更に好ましく、300以下であることが特に好ましい。
主鎖にケイ素原子を1個又は2個有するジアミン残基は単独でも、2種以上を混合して用いることもできる。
From the viewpoint of impact resistance and bending resistance, the molecular weight of the diamine residue having one or two silicon atoms in the main chain is preferably 1000 or less, more preferably 800 or less, and more preferably 500 or less. It is even more preferable, and it is particularly preferable that it is 300 or less.
The diamine residue having one or two silicon atoms in the main chain may be used alone or in combination of two or more.

前記ポリイミドフィルムに含まれるポリイミドとしては、例えば、下記一般式(1)で表される構造を有するポリイミドが挙げられる。 Examples of the polyimide contained in the polyimide film include a polyimide having a structure represented by the following general formula (1).

Figure 0007070128000004

(一般式(1)において、Rはテトラカルボン酸残基である4価の基を表し、Rはジアミン残基である2価の基を表す。nは繰り返し単位数を表す。)
Figure 0007070128000004

(In the general formula (1), R 1 represents a tetravalent group which is a tetracarboxylic acid residue, R 2 represents a divalent group which is a diamine residue, and n represents the number of repeating units.)

ここで、テトラカルボン酸残基とは、テトラカルボン酸から、4つのカルボキシル基を除いた残基をいい、テトラカルボン酸二無水物から酸二無水物構造を除いた残基と同じ構造を表す。また、ジアミン残基とは、ジアミンから2つのアミノ基を除いた残基をいう。 Here, the tetracarboxylic acid residue means a residue obtained by removing four carboxyl groups from the tetracarboxylic acid, and represents the same structure as the residue obtained by removing the acid dianhydride structure from the tetracarboxylic acid dianhydride. .. Further, the diamine residue means a residue obtained by removing two amino groups from the diamine.

前記一般式(1)におけるRとしては、例えば、上述したテトラカルボン酸成分から4つのカルボキシル基又は酸二無水物構造を除いた残基が挙げられ、前記一般式(1)におけるRとしては、例えば、上述したジアミン成分から2つのアミノ基を除いた残基が挙げられる。 Examples of R 1 in the general formula (1) include residues obtained by removing four carboxyl groups or an acid dianhydride structure from the above-mentioned tetracarboxylic acid component, and as R 2 in the general formula (1). For example, a residue obtained by removing two amino groups from the above-mentioned diamine component can be mentioned.

また、前記一般式(1)のRとしては、例えば下記一般式(2)で表される2価の基が挙げられる。 Further, as the R 2 of the general formula (1), for example, a divalent group represented by the following general formula (2) can be mentioned.

Figure 0007070128000005

(一般式(2)において、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又はパーフルオロアルキル基を表す。)
Figure 0007070128000005

(In the general formula (2), Ra and R b independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or a perfluoroalkyl group.)

前記一般式(1)で表される構造において、nは繰り返し単位数を表し、1以上である。ポリイミドにおける繰り返し単位数nは、例えばポリイミドフィルムが後述する好ましいガラス転移温度を示すように、構造に応じて適宜選択することができ、特に限定されない。
平均繰り返し単位数は、通常10~2000であり、更に15~1000であることが好ましい。
In the structure represented by the general formula (1), n represents the number of repeating units and is 1 or more. The number of repeating units n in the polyimide can be appropriately selected depending on the structure so that the polyimide film shows a preferable glass transition temperature described later, and is not particularly limited.
The average number of repeating units is usually 10 to 2000, and more preferably 15 to 1000.

また、前記ポリイミドは、前記一般式(1)で表される構造が、ポリイミドの全繰り返し単位数の95%以上であることが好ましく、98%以上であることがより好ましく、100%であることがより更に好ましい。
前記ポリイミドは、本発明の効果が損なわれない限り、その一部に前記一般式(1)で表される構造とは異なる構造を有していても良い。前記一般式(1)で表される構造とは異なる構造としては、例えば、ポリアミド構造が挙げられる。含んでいても良いポリアミド構造としては、例えば、トリメリット酸無水物のようなトリカルボン酸残基を含むポリアミドイミド構造や、テレフタル酸のようなジカルボン酸残基を含むポリアミド構造が挙げられる。
Further, in the polyimide, the structure represented by the general formula (1) is preferably 95% or more, more preferably 98% or more, and 100% of the total number of repeating units of the polyimide. Is even more preferable.
The polyimide may have a structure different from the structure represented by the general formula (1) in a part thereof as long as the effect of the present invention is not impaired. Examples of the structure different from the structure represented by the general formula (1) include a polyamide structure. Examples of the polyamide structure that may be contained include a polyamide-imide structure containing a tricarboxylic acid residue such as trimellitic acid anhydride and a polyamide structure containing a dicarboxylic acid residue such as terephthalic acid.

前記ポリイミドフィルムは、ポリイミドフィルム全量に対する前記ポリイミドの含有量が、50質量%以上であることが好ましく、更に60質量%以上であることが好ましい。前記ポリイミドの含有量の上限は含有成分により適宜調整されればよい。 The polyimide film preferably has a polyimide content of 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, based on the total amount of the polyimide film. The upper limit of the content of the polyimide may be appropriately adjusted depending on the contained components.

前記ポリイミドフィルムに含まれるポリイミドは、耐熱性の点から、ガラス転移温度が250℃以上であることが好ましく、更に、270℃以上であることが好ましい。一方、ベーク温度低減の点から、ガラス転移温度が400℃以下であることが好ましい。
ポリイミドのガラス転移温度は、動的粘弾性測定装置 RSA-G2(ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン(株))を用い、測定範囲を-150℃以上490℃以下として、変形様式として引張りを選定し、周波数1Hz、昇温速度5℃/min、サンプル幅を5mm、チャック間距離を20mmとして動的粘弾性測定を行い、tanδ(tanδ=損失弾性率(E’’)/貯蔵弾性率(E’))の曲線を得て、ピークの頂点の温度を求める。動的粘弾性測定装置の測定条件は以下のように設定する。tanδ曲線のピークが複数存在する場合、ピークの極大値が最大であるピークの頂点の温度をガラス転移温度とする。ピーク及び変曲点の解析時は、目視評価せず、データを数値化して、数値から解析する。
<RSA-G2の測定条件>
(Initial value)
Axial force : 3.0 g
Sensitivity : 1.0 g
Proportional force Mode : Force Tracking
Axial Force > Dynamic Force : 1.5 %
Minimum axial force : 2.0 g
Programmed Extension Below : 0 Pa
(Auto strain)
Mode : Enabled
Strain adjust : 20.0 %
Minimum strain : 0.01 %
Maximum strain : 3.0 %
Minimum force : 1.5 g
Maximum force : 200.0 g
(Test parameters)
Sampling rate : 10pts/s
Strain % : 0.1%
周波数 : Single point
Frequency 1Hz
なお、tanδ曲線を測定するサンプルとしては、23℃±2℃ RH30~50%の環境下に24時間静置したポリイミドフィルムを10cm角以上にサンプリングしたフィルムのさらに中央部を、剃刀またはメスにて5mm幅にスリットの入った切り出し治具を用いて、幅5mm×長さ50mmに(チャック時にサンプル長が20mmとなるように)切り出した物を用いる。幅の測定はノギスを用いて、位置を変えて3回計測した平均値を記録する。この際、幅測定の一部に平均値の3%以上の変動幅のある場合、そのサンプルは使用しない。
From the viewpoint of heat resistance, the polyimide contained in the polyimide film preferably has a glass transition temperature of 250 ° C. or higher, more preferably 270 ° C. or higher. On the other hand, from the viewpoint of reducing the baking temperature, the glass transition temperature is preferably 400 ° C. or lower.
For the glass transition temperature of polyimide, use a dynamic viscoelastic modulus measuring device RSA-G2 (TA Instruments Japan Co., Ltd.), set the measuring range to -150 ° C or higher and 490 ° C or lower, and use tension as a deformation mode. Select, perform dynamic viscoelastic measurement with a frequency of 1 Hz, a temperature rise rate of 5 ° C / min, a sample width of 5 mm, and a chuck-to-chuck distance of 20 mm. Obtain the curve of E')) and obtain the temperature of the peak peak. The measurement conditions of the dynamic viscoelasticity measuring device are set as follows. When there are a plurality of peaks on the tanδ curve, the temperature at the apex of the peak having the maximum peak value is defined as the glass transition temperature. When analyzing peaks and inflections, the data is quantified and analyzed from the numerical values without visual evaluation.
<Measurement conditions for RSA-G2>
(Initial value)
Axial force: 3.0 g
Sensitivity: 1.0 g
Proportional force Mode: Force Tracking
Axial Force> Dynamic Force: 1.5%
Minimum axial force: 2.0 g
Projected Extension Below: 0 Pa
(Auto stream)
Mode: Embedded
Strine adjust: 20.0%
Minimum strine: 0.01%
Maximum stripe: 3.0%
Minimum force: 1.5 g
Maximum force: 200.0 g
(Test parameters)
Sampling rate: 10pts / s
Straight%: 0.1%
Frequency: Single point
Frequency 1Hz
As a sample for measuring the tan δ curve, a polyimide film that was left to stand in an environment of 23 ° C ± 2 ° C RH 30 to 50% for 24 hours was sampled to a size of 10 cm square or more, and the central part of the film was sampled with a razor or a scalpel. Using a cutting jig with a slit in a width of 5 mm, a material cut into a width of 5 mm × a length of 50 mm (so that the sample length becomes 20 mm at the time of chucking) is used. The width is measured using a caliper, and the average value measured three times at different positions is recorded. At this time, if a part of the width measurement has a fluctuation range of 3% or more of the average value, the sample is not used.

(2)添加剤
前記ポリイミドフィルムは、前記ポリイミドの他に、必要に応じて更に添加剤を含有していてもよい。前記添加剤としては、例えば、巻き取りを円滑にするためのシリカフィラーや、製膜性や脱泡性を向上させる界面活性剤等が挙げられる。
(2) Additives The polyimide film may further contain additives, if necessary, in addition to the polyimide. Examples of the additive include a silica filler for facilitating winding, a surfactant for improving film forming property and defoaming property, and the like.

また、前記ポリイミドフィルムは、本発明の効果を損なわない範囲において、ポリイミド以外のその他の樹脂を含有していても良い。前記その他の樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ガラス-エポキシ樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂、ポリノルボルネン等のポリシクロオレフィン等が挙げられる。
前記ポリイミドフィルムがポリイミド以外のその他の樹脂を含有する場合、当該その他の樹脂の含有量は、ポリイミド層全量に対して、50質量%以下であることが好ましく、30質量%以下であることがより好ましく、0質量%であることが特に好ましい。
Further, the polyimide film may contain a resin other than polyimide as long as the effect of the present invention is not impaired. Examples of the other resin include polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyimide resins, polyamide resins, polyamideimide resins, polyphenylene sulfide resins, polyether ether ketone resins, and polyether sulfone resins. , Polycarbonate resin, polyetherimide resin, epoxy resin, phenol resin, glass-epoxy resin, polyphenylene ether resin, acrylic resin, polyolefin resin such as polyethylene and polypropylene, polycycloolefin such as polynorbornene and the like.
When the polyimide film contains a resin other than polyimide, the content of the other resin is preferably 50% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, based on the total amount of the polyimide layer. It is preferably 0% by mass, and particularly preferably 0% by mass.

(3)ポリイミドフィルムの特性
本発明の積層体が有するポリイミドフィルムは、JIS K7361-1に準拠して測定する全光線透過率が90%以上であることが好ましく、91%以上であることが更に好ましい。このように透過率が高いことから、透明性が良好になり、ガラス代替材料とすることができる。
なお、本発明の積層体が有するポリイミドフィルムは、厚み5μm以上100μm以下において、前記JIS K7361-1に準拠して測定する全光線透過率が、90%以上であることが好ましく、更に91%以上であることが好ましい。
また、本発明の積層体が有するポリイミドフィルムは、厚み50μm±5μmにおいて、前記JIS K7361-1に準拠して測定する全光線透過率が、90%以上であることが好ましく、更に91%以上であることが好ましい。
JIS K7361-1に準拠して測定する全光線透過率は、例えば、ヘイズメーター(例えば村上色彩技術研究所製 HM150)により測定することができる。なお、ある厚みの全光線透過率の測定値から、異なる厚みの全光線透過率は、ランベルトベールの法則により換算値を求めることができ、それを利用することができる。
(3) Characteristics of Polyimide Film The polyimide film contained in the laminate of the present invention preferably has a total light transmittance of 90% or more, and further preferably 91% or more, as measured in accordance with JIS K7361-1. preferable. Since the transmittance is high as described above, the transparency is improved and the material can be used as a substitute for glass.
The polyimide film contained in the laminate of the present invention preferably has a total light transmittance of 90% or more, more preferably 91% or more, as measured in accordance with JIS K7361-1 when the thickness is 5 μm or more and 100 μm or less. Is preferable.
Further, the polyimide film of the laminate of the present invention preferably has a total light transmittance of 90% or more, and further 91% or more, as measured in accordance with JIS K7631-1 at a thickness of 50 μm ± 5 μm. It is preferable to have.
The total light transmittance measured according to JIS K7361-1 can be measured by, for example, a haze meter (for example, HM150 manufactured by Murakami Color Technology Laboratory). From the measured value of the total light transmittance of a certain thickness, the converted value of the total light transmittance of different thickness can be obtained by Lambertbert's law, and it can be used.

具体的には、ランベルトベールの法則によれば、透過率Tは、
Log10(1/T)=kcb
(k=物質固有の定数、c=濃度、b=光路長)で表される。
フィルムの透過率の場合、膜厚が変化しても密度が一定であると仮定するとcも定数となるので、上記式は、定数fを用いて
Log10(1/T)=fb
(f=kc)と表すことができる。ここで、ある膜厚の時の透過率がわかれば、各物質の固有の定数fを求めることができる。従って、T=1/10f・b の式を用いて、fに固有の定数、bに目標の膜厚を代入すれば、所望の膜厚の時の透過率を求めることができる。
Specifically, according to Lambert-Beer's law, the transmittance T is
Log10 (1 / T) = kcb
It is represented by (k = substance-specific constant, c = concentration, b = optical path length).
In the case of film transmittance, c is also a constant assuming that the density is constant even if the film thickness changes. Therefore, in the above equation, Log10 (1 / T) = fb using the constant f.
It can be expressed as (f = kc). Here, if the transmittance at a certain film thickness is known, the unique constant f of each substance can be obtained. Therefore, by substituting the constant unique to f and the target film thickness into b using the equation of T = 1/10 f · b, the transmittance at the desired film thickness can be obtained.

また、本発明の積層体が有するポリイミドフィルムは、JIS K-7105に準拠したヘイズ値が、光透過性の点から、2.0以下であることが好ましく、1.2以下であることがより好ましく、1.0以下であることが更に好ましく、0.5以下であることがより更に好ましい。このようにヘイズ値が低いことにより、光透過性が向上し、ガラス代替材料となり得る。
当該ヘイズ値は、ポリイミドフィルムの厚みが5μm以上100μm以下において達成できることが好ましい。
また、本発明の積層体が有するポリイミドフィルムは、厚み50μm±5μmにおいて、JIS K-7105に準拠したヘイズ値が、2.0以下であることが好ましく、1.2以下であることがより好ましく、1.0以下であることが更に好ましく、0.5以下であることがより更に好ましい。
前記ヘイズ値は、JIS K-7105に準拠した方法で測定することができ、例えば村上色彩技術研究所製のヘイズメーターHM150により測定することができる。
なお、ある厚みのヘイズ値の測定値から、異なる厚みのヘイズ値は、ある特定の膜厚のサンプルの380nm以上780nm以下の間の5nm間隔で測定された各波長におけるヘイズ値と、前記方法により測定される各波長の全光線透過率から、各波長の拡散透過率を算出し、前記全光線透過率と同様にランベルトベールの法則により異なる厚みの各波長における拡散透過率の換算値を求め、ヘイズ値を全光線透過率に対する拡散透過率の比として算出し用いることができる。
Further, the polyimide film contained in the laminate of the present invention preferably has a haze value based on JIS K-7105 of 2.0 or less, more preferably 1.2 or less, from the viewpoint of light transmission. It is more preferably 1.0 or less, and even more preferably 0.5 or less. Such a low haze value improves light transmission and can be a substitute for glass.
It is preferable that the haze value can be achieved when the thickness of the polyimide film is 5 μm or more and 100 μm or less.
Further, the polyimide film of the laminate of the present invention preferably has a haze value of 2.0 or less, more preferably 1.2 or less, in accordance with JIS K-7105 at a thickness of 50 μm ± 5 μm. , 1.0 or less, and even more preferably 0.5 or less.
The haze value can be measured by a method according to JIS K-7105, and can be measured by, for example, a haze meter HM150 manufactured by Murakami Color Technology Laboratory.
From the measured value of the haze value of a certain thickness, the haze value of a different thickness is determined by the haze value at each wavelength measured at 5 nm intervals between 380 nm and 780 nm of a sample of a specific film thickness and the above method. The diffusion transmittance of each wavelength is calculated from the total light transmittance of each measured wavelength, and the converted value of the diffusion transmittance at each wavelength having a different thickness is obtained according to Lambert-Bale's law as in the case of the total light transmittance. The haze value can be calculated and used as the ratio of the diffuse transmittance to the total light transmittance.

また、本発明の積層体が有するポリイミドフィルムは、JIS K7373-2006に準拠して算出される黄色度(YI値)が、5.0以下であることが好ましく、3.0以下であることがより好ましく、2.0以下であることが更に好ましい。
本発明の積層体が有するポリイミドフィルムは、このように黄色度が低いことにより、黄色味の着色が抑制され、光透過性が向上し、ガラス代替材料となり得る。
本発明の積層体が有するポリイミドフィルムは、厚み5μm以上100μm以下において、前記JIS K7373-2006に準拠して算出される黄色度(YI値)が5.0以下であることが好ましく、3.0以下であることがより好ましく、2.0以下であることが更に好ましい。
また、本発明の積層体が有するポリイミドフィルムは、厚み50μm±5μmにおいて、前記JIS K7373-2006に準拠して算出される黄色度(YI値)が、5.0以下であることが好ましく、3.0以下であることがより好ましく、2.0以下であることが更に好ましい。
なお、黄色度(YI値)は、JIS K7373-2006に準拠して、紫外可視近赤外分光光度計(日本分光(株) V-7100)を用い、分光測色方法により、補助イルミナントC、2度視野を用いて、250nm以上800nm以下の範囲を1nm間隔で測定した透過率をもとに、XYZ表色系における三刺激値X,Y,Zを求め、そのX,Y,Zの値から以下の式より算出することができる。
YI=100(1.2769X-1.0592Z)/Y
なお、ある厚みの黄色度の測定値から、異なる厚みの黄色度は、ある特定の膜厚のサンプルの380nm以上780nm以下の間の5nm間隔で測定された各波長における各透過率について、前記全光線透過率と同様にランベルトベールの法則により異なる厚みの各波長における各透過率の換算値を求め、それを元に算出し用いることができる。
Further, the polyimide film of the laminate of the present invention preferably has a yellowness (YI value) of 5.0 or less, preferably 3.0 or less, calculated in accordance with JIS K7373-2006. More preferably, it is more preferably 2.0 or less.
Since the polyimide film of the laminate of the present invention has such a low yellowness, yellowish coloring is suppressed, light transmission is improved, and it can be used as a glass substitute material.
The polyimide film of the laminate of the present invention preferably has a yellowness (YI value) of 5.0 or less, preferably 3.0 or less, when the thickness is 5 μm or more and 100 μm or less, and the yellowness (YI value) calculated in accordance with the JIS K7373-2006 is 5.0 or less. It is more preferably 0 or less, and further preferably 2.0 or less.
Further, the polyimide film of the laminate of the present invention preferably has a thickness of 50 μm ± 5 μm and a yellowness (YI value) of 5.0 or less calculated in accordance with the JIS K7373-2006. It is more preferably 0.0 or less, and further preferably 2.0 or less.
The yellowness (YI value) is based on JIS K7373-2006, using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer (Nippon Spectroscopy Co., Ltd. V-7100), and by a spectrophotometric method, auxiliary illumination C. Tristimulus values X, Y, Z in the XYZ colorimetric system were obtained based on the transmittance measured at 1 nm intervals in the range of 250 nm or more and 800 nm or less using a two-degree visual field, and the values of X, Y, Z were obtained. It can be calculated from the following formula.
YI = 100 (1.2769X-1.592Z) / Y
From the measured value of the yellowness of a certain thickness, the yellowness of a different thickness is the above-mentioned total for each transmittance at each wavelength measured at 5 nm intervals between 380 nm and 780 nm of a sample of a specific film thickness. Similar to the light transmittance, the converted value of each transmittance at each wavelength having a different thickness can be obtained by Lambertvale's law, and can be calculated and used based on the converted value.

本発明の積層体が有するポリイミドフィルムの好ましい一形態としては、ポリイミドフィルムのX線光電子分光法により測定した、フィルム表面のフッ素原子数(F)と炭素原子数(C)の比率(F/C)が、0.01以上1以下であることが好ましく、更に0.05以上0.8以下であることが好ましい。
また、本発明の積層体が有するポリイミドフィルムのX線光電子分光法により測定した、フィルム表面のフッ素原子数(F)と窒素原子数(N)の比率(F/N)が、0.1以上20以下であることが好ましく、更に0.5以上15以下であることが好ましい。
また、本発明の積層体が有するポリイミドフィルムのX線光電子分光法により測定した、フィルム表面のフッ素原子数(F)とケイ素原子数(Si)の比率(F/Si)が、1以上50以下であることが好ましく、更に3以上30以下であることが好ましい。
ここで、X線光電子分光法(XPS)の測定による上記比率は、X線光電子分光装置(例えば、Thermo Scientific社 Theta Probe)を用いて測定されるポリイミドフィルムの各原子の原子%の値から求めることができる。
A preferable form of the polyimide film possessed by the laminate of the present invention is the ratio (F / C) of the number of fluorine atoms (F) to the number of carbon atoms (C) on the film surface measured by X-ray photoelectron spectroscopy of the polyimide film. ) Is preferably 0.01 or more and 1 or less, and more preferably 0.05 or more and 0.8 or less.
Further, the ratio (F / N) of the number of fluorine atoms (F) to the number of nitrogen atoms (N) on the film surface measured by the X-ray photoelectron spectroscopy of the polyimide film of the laminate of the present invention is 0.1 or more. It is preferably 20 or less, and more preferably 0.5 or more and 15 or less.
Further, the ratio (F / Si) of the number of fluorine atoms (F) to the number of silicon atoms (Si) on the film surface measured by X-ray photoelectron spectroscopy of the polyimide film of the laminate of the present invention is 1 or more and 50 or less. It is preferable that the amount is 3 or more and 30 or less.
Here, the above ratio measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) is determined from the value of the atomic% of each atom of the polyimide film measured using an X-ray photoelectron spectrometer (for example, Theta Probe of Thermo Scientific). be able to.

また、本発明の積層体が有するポリイミドフィルムのX線光電子分光法により測定した、フィルム表面のケイ素原子(Si)の原子%は0.1以上10以下が好ましく、0.2以上5以下がさらに好ましい。
本発明において、X線光電子分光法(XPS)により測定されるポリイミドフィルムの各原子濃度は、X線光電子分光装置(例えば、Thermo Scientific社 Theta Probe)を用いて測定することができる。
Further, the atomic% of the silicon atom (Si) on the surface of the film measured by X-ray photoelectron spectroscopy of the polyimide film of the laminate of the present invention is preferably 0.1 or more and 10 or less, and more preferably 0.2 or more and 5 or less. preferable.
In the present invention, each atomic concentration of the polyimide film measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) can be measured using an X-ray photoelectron spectroscope (for example, Thetera Probe of Thermo Scientific).

また、本発明の積層体が有するポリイミドフィルムのガラス転移温度は、耐熱性の点から150℃以上であることが好ましく、更に、200℃以上であることが好ましい。一方、ベーク温度を低減できる点から、400℃以下であることが好ましく、更に、380℃以下であることが好ましい。また、本発明の積層体が有するポリイミドフィルムは、150℃以上400℃以下の温度領域に1つのガラス転移温度を有することが好ましい。
なお、前記ガラス転移温度は、動的粘弾性測定装置 RSA-G2(ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン(株))を用い、測定範囲を-150℃以上490℃以下として、変形様式として引張りを選定し、周波数1Hz、昇温速度5℃/min、サンプル幅を5mm、チャック間距離を20mmとして動的粘弾性測定を行い、tanδ(tanδ=損失弾性率(E’’)/貯蔵弾性率(E’))の曲線を得て、ピークの頂点の温度を求める。動的粘弾性測定装置の測定条件は以下のように設定する。tanδ曲線のピークが複数存在する場合、ピークの極大値が最大であるピークの頂点の温度をガラス転移温度とする。ピーク及び変曲点の解析時は、目視評価せず、データを数値化して、数値から解析する。
<RSA-G2の測定条件>
(Initial value)
Axial force : 3.0 g
Sensitivity : 1.0 g
Proportional force Mode : Force Tracking
Axial Force > Dynamic Force : 1.5 %
Minimum axial force : 2.0 g
Programmed Extension Below : 0 Pa
(Auto strain)
Mode : Enabled
Strain adjust : 20.0 %
Minimum strain : 0.01 %
Maximum strain : 3.0 %
Minimum force : 1.5 g
Maximum force : 200.0 g
(Test parameters)
Sampling rate : 10pts/s
Strain % : 0.1%
周波数 : Single point
Frequency 1Hz
なお、tanδ曲線を測定するサンプルとしては、23℃±2℃ RH30~50%の環境下に24時間静置したポリイミドフィルムを10cm角以上にサンプリングしたフィルムのさらに中央部を、剃刀またはメスにて5mm幅にスリットの入った切り出し治具を用いて、幅5mm×長さ50mmに(チャック時にサンプル長が20mmとなるように)切り出した物を用いる。幅の測定はノギスを用いて、位置を変えて3回計測した平均値を記録する。この際、幅測定の一部に平均値の3%以上の変動幅のある場合、そのサンプルは使用しない。
Further, the glass transition temperature of the polyimide film of the laminate of the present invention is preferably 150 ° C. or higher, and more preferably 200 ° C. or higher, from the viewpoint of heat resistance. On the other hand, from the viewpoint of reducing the baking temperature, it is preferably 400 ° C. or lower, and more preferably 380 ° C. or lower. Further, the polyimide film of the laminate of the present invention preferably has one glass transition temperature in a temperature range of 150 ° C. or higher and 400 ° C. or lower.
For the glass transition temperature, a dynamic viscoelastic modulus measuring device RSA-G2 (TA Instruments Japan Co., Ltd.) was used, the measuring range was set to -150 ° C or higher and 490 ° C or lower, and tension was applied as a deformation mode. The dynamic viscoelastic modulus was measured with a frequency of 1 Hz, a temperature rise rate of 5 ° C./min, a sample width of 5 mm, and a chuck-to-chuck distance of 20 mm. Obtain the curve of (E')) and obtain the temperature of the peak peak. The measurement conditions of the dynamic viscoelasticity measuring device are set as follows. When there are a plurality of peaks on the tanδ curve, the temperature at the apex of the peak having the maximum peak value is defined as the glass transition temperature. When analyzing peaks and inflections, the data is quantified and analyzed from the numerical values without visual evaluation.
<Measurement conditions for RSA-G2>
(Initial value)
Axial force: 3.0 g
Sensitivity: 1.0 g
Proportional force Mode: Force Tracking
Axial Force> Dynamic Force: 1.5%
Minimum axial force: 2.0 g
Projected Extension Below: 0 Pa
(Auto stream)
Mode: Embedded
Strine adjust: 20.0%
Minimum strine: 0.01%
Maximum stripe: 3.0%
Minimum force: 1.5 g
Maximum force: 200.0 g
(Test parameters)
Sampling rate: 10pts / s
Straight%: 0.1%
Frequency: Single point
Frequency 1Hz
As a sample for measuring the tan δ curve, a polyimide film that was left to stand in an environment of 23 ° C ± 2 ° C RH 30 to 50% for 24 hours was sampled to a size of 10 cm square or more, and the central part of the film was sampled with a razor or a scalpel. Using a cutting jig with a slit in a width of 5 mm, a material cut into a width of 5 mm × a length of 50 mm (so that the sample length becomes 20 mm at the time of chucking) is used. The width is measured using a caliper, and the average value measured three times at different positions is recorded. At this time, if a part of the width measurement has a fluctuation range of 3% or more of the average value, the sample is not used.

また、本発明の積層体が有するポリイミドフィルムは、15mm×40mmの試験片をJIS K7127-1989に準拠し、引張り速度を10mm/分、チャック間距離を20mmとして測定する25℃における引張弾性率が、1.8GPa以上であることが好ましい。引張弾性率が高いことにより、保護フィルムとして十分な表面硬度が得られるため、本発明の積層体が有するポリイミドフィルムを表面材として好適に用いることができる。前記引張弾性率は、2.0GPa以上であることが好ましく、2.4GPa以上であることが更に好ましい。
前記引張弾性率は、引張り試験機(例えば島津製作所製:オートグラフAG-X 1N、ロードセル:SBL-1KN)を用い、幅15mm×長さ40mmの試験片をポリイミドフィルムから切り出して、25℃で、引張り速度10mm/min、チャック間距離は20mmとして測定することができる。前記引張弾性率を求める際のポリイミドフィルムは厚みが50μm±5μmであることが好ましい。
Further, the polyimide film possessed by the laminate of the present invention has a tensile elastic modulus at 25 ° C., which is measured by measuring a 15 mm × 40 mm test piece in accordance with JIS K7127-1989 with a tensile speed of 10 mm / min and a chuck distance of 20 mm. It is preferably 1.8 GPa or more. Since the high tensile elastic modulus provides sufficient surface hardness as a protective film, the polyimide film of the laminate of the present invention can be suitably used as a surface material. The tensile elastic modulus is preferably 2.0 GPa or more, and more preferably 2.4 GPa or more.
The tensile elastic modulus was determined by cutting a test piece having a width of 15 mm and a length of 40 mm from a polyimide film using a tensile tester (for example, manufactured by Shimadzu Corporation: Autograph AG-X 1N, load cell: SBL-1KN) and at 25 ° C. The tensile speed is 10 mm / min, and the distance between chucks is 20 mm. The thickness of the polyimide film used to determine the tensile elastic modulus is preferably 50 μm ± 5 μm.

また、本発明の積層体が有するポリイミドフィルムにおいては、屈曲耐性に優れる点から、下記静的屈曲試験方法に従って、静的屈曲試験を行った場合に、当該試験で測定される内角が120°以上であることが好ましく、125°以上であることがより好ましく、130°以上であることがより更に好ましい。
[静的屈曲試験方法]
15mm×40mmに切り出したポリイミドフィルムの試験片を、長辺の半分の位置で折り曲げ、当該試験片の長辺の両端部が厚み6mmの金属片(100mm×30mm×6mm)を上下面から挟むようにして配置し、当該試験片の両端部と金属片との上下面での重なりしろが各々10mmずつになるようにテープで固定した状態で、上下からガラス板(100mm×100mm×0.7mm)で挟み、当該試験片を内径6mmで屈曲した状態で固定する。その際に、金属片とガラス板の間で当該試験片がない部分には、ダミーの試験片を挟み込み、ガラス板が平行になるようにテープで固定する。このようにして屈曲した状態で固定した当該試験片を、60±2℃、93±2%相対湿度(RH)の環境下で24時間静置した後、ガラス板と固定用のテープを外し、当該試験片にかかる力を解放する。その後、当該試験片の一方の端部を固定し、試験片にかかる力を解放してから30分後の試験片の内角を測定する。
Further, in the polyimide film possessed by the laminate of the present invention, the internal angle measured in the test is 120 ° or more when the static bending test is performed according to the following static bending test method because of its excellent bending resistance. It is preferably 125 ° or more, more preferably 130 ° or more, and even more preferably 130 ° or more.
[Static bending test method]
A polyimide film test piece cut into a size of 15 mm × 40 mm is bent at the position of half of the long side, and a metal piece (100 mm × 30 mm × 6 mm) having a thickness of 6 mm is sandwiched between both ends of the long side of the test piece from the upper and lower surfaces. Arranged and fixed with tape so that the overlap margins on both ends of the test piece and the upper and lower surfaces of the metal piece are 10 mm each, sandwiched between glass plates (100 mm x 100 mm x 0.7 mm) from above and below. , The test piece is fixed in a bent state with an inner diameter of 6 mm. At that time, a dummy test piece is sandwiched between the metal piece and the glass plate where the test piece does not exist, and the glass plate is fixed with tape so as to be parallel to each other. The test piece fixed in the bent state in this way was allowed to stand for 24 hours in an environment of 60 ± 2 ° C. and 93 ± 2% relative humidity (RH), and then the glass plate and the fixing tape were removed. Release the force applied to the test piece. Then, one end of the test piece is fixed, and the internal angle of the test piece is measured 30 minutes after the force applied to the test piece is released.

また、本発明の積層体が有するポリイミドフィルムにおいては、耐吸湿性に優れ、高湿下での屈曲耐性に優れる点から、下記動的屈曲試験方法に従って、動的屈曲試験を行った場合に、試験片の内角が155°以上であることが好ましく、160°以上であることが更に好ましい。
[動的屈曲試験方法]
20mm×100mmの大きさに切り出したポリイミドフィルムの試験片を、恒温恒湿器内耐久試験システム(ユアサシステム機器製、面状体無負荷U字伸縮試験治具 DMX-FS)にテープで固定する。試験片を前記静的屈曲試験と同様の屈曲した状態、すなわち、屈曲した状態の試験片の長辺の両端部間の距離が6mmとなるように設定(内径6mmで屈曲した状態で固定)した後、60±2℃、93±2%相対湿度(RH)の環境下で1分間に90回の屈曲回数で、20万回屈曲を繰り返す。
その後、試験片を取り外し、得られた試験片の一方の端部を固定し、20万回屈曲を繰り返してから30分後の試験片の内角を測定する。
Further, the polyimide film of the laminate of the present invention has excellent hygroscopicity and bending resistance under high humidity. Therefore, when the dynamic bending test is performed according to the following dynamic bending test method, the polyimide film has excellent bending resistance. The internal angle of the test piece is preferably 155 ° or more, and more preferably 160 ° or more.
[Dynamic bending test method]
The test piece of the polyimide film cut out to a size of 20 mm × 100 mm is fixed to the endurance test system in a constant temperature and humidity chamber (manufactured by Yuasa System Equipment, planar body no-load U-shaped expansion and contraction test jig DMX-FS) with tape. .. The test piece was set so that the distance between both ends of the long side of the test piece in a bent state similar to the static bending test, that is, the bent state was 6 mm (fixed in a bent state with an inner diameter of 6 mm). Then, in an environment of 60 ± 2 ° C. and 93 ± 2% relative humidity (RH), bending is repeated 200,000 times at 90 times per minute.
Then, the test piece is removed, one end of the obtained test piece is fixed, and the internal angle of the test piece is measured 30 minutes after repeating bending 200,000 times.

また、本発明の積層体が有するポリイミドフィルムにおいては、下記密着性試験方法に従って、密着性試験を行った場合に、塗膜の剥がれが生じないことが、ポリイミドフィルムと機能層の一種であるハードコート層との密着性の点及びポリイミドフィルムに隣接して、機能層であるハードコート層を積層した積層体の表面硬度の点から好ましい。
[密着性試験方法]
ペンタエリスリトールトリアクリレートの40質量%メチルイソブチルケトン溶液に、ペンタエリスリトールトリアクリレート100質量部に対して10質量部の1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトンを添加して調製した密着性評価用組成物を、10cm×10cmに切り出したポリイミドフィルムの試験片上に塗布し、紫外線を窒素気流下200mJ/cmの露光量で照射し硬化させることにより、10μm膜厚の硬化膜を形成する。当該硬化膜について、JIS K 5600-5-6に準拠したクロスカット試験を行い、テープによる剥離操作を繰り返し5回実施した後、塗膜の剥がれの有無を観察する。
Further, in the polyimide film of the laminate of the present invention, when the adhesion test is performed according to the following adhesion test method, the coating film does not peel off, which is a kind of the polyimide film and the functional layer. It is preferable from the viewpoint of adhesion to the coat layer and the surface hardness of the laminated body in which the hard coat layer, which is a functional layer, is laminated adjacent to the polyimide film.
[Adhesion test method]
A composition for adhesion evaluation prepared by adding 10 parts by mass of 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone to 100 parts by mass of pentaerythritol triacrylate to a 40% by mass methyl isobutyl ketone solution of pentaerythritol triacrylate. A cured film having a thickness of 10 μm is formed by applying it on a test piece of a polyimide film cut into a size of 10 cm × 10 cm and irradiating it with ultraviolet rays at an exposure amount of 200 mJ / cm 2 under a nitrogen stream to cure it. A cross-cut test based on JIS K 5600-5-6 is performed on the cured film, and after repeating the peeling operation with tape 5 times, the presence or absence of peeling of the coating film is observed.

本発明の積層体が有するポリイミドフィルムにおいて、鉛筆硬度は2B以上であることが好ましく、B以上であることがより好ましく、HB以上であることがより更に好ましい。
前記ポリイミドフィルムの鉛筆硬度は、測定サンプルを温度25℃、相対湿度60%の条件で2時間調湿した後、JIS-S-6006が規定する試験用鉛筆を用いて、JIS K5600-5-4(1999)に規定する鉛筆硬度試験(0.98N荷重)をフィルム表面に行い、傷がつかない最も高い鉛筆硬度を評価することにより行うことができる。例えば東洋精機(株)製 鉛筆引っかき塗膜硬さ試験機を用いることができる。
In the polyimide film of the laminate of the present invention, the pencil hardness is preferably 2B or more, more preferably B or more, and even more preferably HB or more.
The pencil hardness of the polyimide film is determined by adjusting the humidity of the measurement sample for 2 hours under the conditions of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, and then using a test pencil specified by JIS-S-6006, JIS K5600-5-4. It can be performed by performing a pencil hardness test (0.98 N load) specified in (1999) on the film surface and evaluating the highest pencil hardness that does not damage the film. For example, a pencil scratch coating film hardness tester manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd. can be used.

また、本発明の積層体が有するポリイミドフィルムは、前記波長590nmにおける厚み方向の複屈折率が0.020以下であることが好ましい。
前記複屈折率が小さいことにより、光学的歪みが低減するため、ポリイミドフィルムをディスプレイ用表面材として用いた場合に、ディスプレイの表示品質の低下を抑制することができる。前記波長590nmにおける厚み方向の複屈折率は、より小さい方が好ましく、0.015以下であることが好ましく、更に0.010以下であることが好ましく、より更に0.008未満であることが好ましい。
なお、本発明の積層体が有するポリイミドフィルムの前記波長590nmにおける厚み方向の複屈折率は、以下のように求めることができる。
まず、位相差測定装置(例えば、王子計測機器株式会社製、製品名「KOBRA-WR」)を用いて、25℃、波長590nmの光で、ポリイミドフィルムの厚み方向位相差値(Rth)を測定する。
厚み方向位相差値(Rth)は、0度入射の位相差値と、斜め40度入射の位相差値を測定し、これらの位相差値から厚み方向位相差値Rthを算出する。前記斜め40度入射の位相差値は、位相差フィルムの法線から40度傾けた方向から、波長590nmの光を位相差フィルムに入射させて測定する。
ポリイミドフィルムの厚み方向の複屈折率は、式:Rth/dに代入して求めることができる。前記dは、ポリイミドフィルムの膜厚(nm)を表す。
なお、厚み方向位相差値は、フィルムの面内方向における遅相軸方向(フィルム面内方向における屈折率が最大となる方向)の屈折率をnx、フィルム面内における進相軸方向(フィルム面内方向における屈折率が最小となる方向)の屈折率をny、及びフィルムの厚み方向の屈折率をnzとしたときに、Rth[nm]={(nx+ny)/2-nz}×dと表すことができる。
Further, the polyimide film of the laminate of the present invention preferably has a birefringence of 0.020 or less in the thickness direction at the wavelength of 590 nm.
Since the optical distortion is reduced due to the small birefringence, it is possible to suppress the deterioration of the display quality of the display when the polyimide film is used as the surface material for the display. The birefringence index in the thickness direction at a wavelength of 590 nm is preferably smaller, preferably 0.015 or less, more preferably 0.010 or less, and even more preferably less than 0.008. ..
The birefringence in the thickness direction of the polyimide film of the laminate of the present invention at a wavelength of 590 nm can be determined as follows.
First, the thickness direction retardation value (Rth) of the polyimide film is measured with light at 25 ° C. and a wavelength of 590 nm using a phase difference measuring device (for example, manufactured by Oji Measuring Instruments Co., Ltd., product name “KOBRA-WR”). do.
For the thickness direction retardation value (Rth), the phase difference value incident at 0 degree and the phase difference value incident at an angle of 40 degrees are measured, and the thickness direction retardation value Rth is calculated from these phase difference values. The retardation value of the oblique 40-degree incident is measured by injecting light having a wavelength of 590 nm onto the retardation film from a direction inclined by 40 degrees from the normal of the retardation film.
The birefringence in the thickness direction of the polyimide film can be obtained by substituting it into the formula: Rth / d. The d represents the film thickness (nm) of the polyimide film.
The thickness direction retardation value is nx for the refractive index in the slow-phase axial direction (the direction in which the refractive index is maximized in the in-plane direction of the film) in the in-plane direction of the film, and the phase-advancing axial direction (the film surface) in the film surface. When the refractive index in the inward direction (the direction in which the refractive index is minimized) is ny and the refractive index in the thickness direction of the film is nz, it is expressed as Rth [nm] = {(nx + ny) /2-nz} × d. be able to.

本発明の積層体が有するポリイミドフィルムの厚さは、用途により適宜選択されれば良いが、1μm以上であることが好ましく、更に5μm以上であることが好ましく、より更に10μm以上であることが好ましい。一方、200μm以下であることが好ましく、更に150μm以下であることが好ましく、より更に100μm以下であることが好ましい。
厚みが薄いと強度が低下し破断しやすくなり、厚みが厚いと屈曲時の内径と外径の差が大きくなり、フィルムへの負荷が大きくなることから屈曲耐性が低下する恐れがある。
The thickness of the polyimide film of the laminate of the present invention may be appropriately selected depending on the intended use, but is preferably 1 μm or more, more preferably 5 μm or more, still more preferably 10 μm or more. .. On the other hand, it is preferably 200 μm or less, more preferably 150 μm or less, and further preferably 100 μm or less.
If the thickness is thin, the strength is lowered and the film is easily broken, and if the thickness is thick, the difference between the inner diameter and the outer diameter at the time of bending becomes large, and the load on the film becomes large, so that the bending resistance may decrease.

なお、本発明の積層体が有するポリイミドフィルムには、例えば、けん化処理、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線処理、火炎処理等の表面処理が施されていてもよい。 The polyimide film of the laminate of the present invention may be subjected to surface treatment such as saponification treatment, glow discharge treatment, corona discharge treatment, ultraviolet treatment, and flame treatment.

3.機能層
本発明の積層体が有する機能層は、前述したポリイミドフィルムの第一の面に接して積層される層である。
機能層としては、例えば、ポリイミドフィルムの表面硬度の向上のために積層される、ハードコート層が挙げられる。
3. 3. Functional layer The functional layer of the laminate of the present invention is a layer that is laminated in contact with the first surface of the polyimide film described above.
Examples of the functional layer include a hard coat layer laminated for improving the surface hardness of the polyimide film.

ハードコート層としては、例えば、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有する層を用いることができる。 As the hard coat layer, for example, a layer containing at least one polymer of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound can be used.

(1)ラジカル重合性化合物
ラジカル重合性化合物とは、ラジカル重合性基を有する化合物である。前記ラジカル重合性化合物が有するラジカル重合性基としては、ラジカル重合反応を生じ得る官能基であればよく、特に限定されないが、例えば、炭素-炭素不飽和二重結合を含む基などが挙げられ、具体的には、ビニル基、(メタ)アクリロイル基などが挙げられる。なお、前記ラジカル重合性化合物が2個以上のラジカル重合性基を有する場合、これらのラジカル重合性基はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
(1) Radical polymerizable compound The radically polymerizable compound is a compound having a radically polymerizable group. The radically polymerizable group contained in the radically polymerizable compound may be any functional group capable of causing a radical polymerization reaction, and is not particularly limited, and examples thereof include a group containing a carbon-carbon unsaturated double bond. Specific examples thereof include a vinyl group and a (meth) acryloyl group. When the radically polymerizable compound has two or more radically polymerizable groups, these radically polymerizable groups may be the same or different from each other.

前記ラジカル重合性化合物が1分子中に有するラジカル重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、2つ以上であることが好ましく、更に3つ以上であることが好ましい。
前記ラジカル重合性化合物としては、反応性の高さの点から、中でも(メタ)アクリロイル基を有する化合物が好ましく、1分子中に2~6個の(メタ)アクリロイル基を有する多官能アクリレートモノマーと称される化合物やウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレートと称される分子内に数個の(メタ)アクリロイル基を有する分子量が数百から数千のオリゴマーを好ましく使用できる。
なお、本明細書において、(メタ)アクリロイルとは、アクリロイル及びメタクリロイルの各々を表し、(メタ)アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートの各々を表す。
The number of radically polymerizable groups contained in one molecule of the radically polymerizable compound is preferably two or more, and more preferably three or more, from the viewpoint of improving the hardness of the hard coat layer.
As the radically polymerizable compound, a compound having a (meth) acryloyl group is preferable from the viewpoint of high reactivity, and a polyfunctional acrylate monomer having 2 to 6 (meth) acryloyl groups in one molecule is used. Preferred compounds have a molecular weight of several hundred to several thousand and have several (meth) acryloyl groups in the molecule called a compound called, urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, or epoxy (meth) acrylate. Can be used.
In addition, in this specification, (meth) acryloyl represents each of acryloyl and methacryloyl, and (meth) acrylate represents each of acrylate and methacrylate.

前記ラジカル重合性化合物としては、具体的には、例えば、ジビニルベンゼンなどのビニル化合物;エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAエポキシジ(メタ)アクリレート、9,9-ビス[4-(2-(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン、アルキレンオキサイド変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート(例えば、エトキシ化(エチレンオキサイド変性)ビスフェノールAジ(メタ)アクリレートなど)、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等のポリオールポリアクリレート類、ビスフェノールAジグリシジルエーテルのジアクリレート、ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのジアクリレート等のエポキシアクリレート類、ポリイソシナネートとヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有アクリレートの反応によって得られるウレタンアクリレート等を挙げることができる。 Specific examples of the radically polymerizable compound include vinyl compounds such as divinylbenzene; ethylene glycol di (meth) acrylate, bisphenol A epoxy di (meth) acrylate, and 9,9-bis [4- (2-(2-(. Meta) acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene, alkylene oxide-modified bisphenol A di (meth) acrylate (for example, ethoxylated (ethylene oxide modified) bisphenol A di (meth) acrylate), trimethyl propantri (meth) acrylate, tri Methylol ethanetri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate , Polyacrylate polyacrylates such as dipentaerythritol hexa (meth) acrylates, diacrylates such as bisphenol A diglycidyl ether diacrylates, epoxy acrylates such as hexanediol diglycidyl ether diacrylates, hydroxyl groups such as polyisocinates and hydroxyethyl acrylates. Examples thereof include urethane acrylate obtained by the reaction of the contained acrylate.

(2)カチオン重合性化合物
カチオン重合性化合物とは、カチオン重合性基を有する化合物である。前記カチオン重合性化合物が有するカチオン重合性基としては、カチオン重合反応を生じ得る官能基であればよく、特に限定されないが、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基などが挙げられる。なお、前記カチオン重合性化合物が2個以上のカチオン重合性基を有する場合、これらのカチオン重合性基はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
(2) Cationicly polymerizable compound The cationically polymerizable compound is a compound having a cationically polymerizable group. The cationically polymerizable group contained in the cationically polymerizable compound may be any functional group capable of causing a cationic polymerization reaction, and is not particularly limited, and examples thereof include an epoxy group, an oxetanyl group, and a vinyl ether group. When the cationically polymerizable compound has two or more cationically polymerizable groups, the cationically polymerizable groups may be the same or different from each other.

前記カチオン重合性化合物が1分子中に有するカチオン重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、2つ以上であることが好ましく、更に3つ以上であることが好ましい。
また、前記カチオン重合性化合物としては、中でも、カチオン重合性基としてエポキシ基及びオキセタニル基の少なくとも1種を有する化合物が好ましい。エポキシ基、オキセタニル基等の環状エーテル基は、重合反応に伴う収縮が小さいという点から好ましい。また、環状エーテル基のうちエポキシ基を有する化合物は多様な構造の化合物が入手し易く、得られたハードコート層の耐久性に悪影響を与えず、ラジカル重合性化合物との相溶性もコントロールし易いという利点がある。また、環状エーテル基のうちオキセタニル基は、エポキシ基と比較して重合度が高い、低毒性であり、得られたハードコート層をエポキシ基を有する化合物と組み合わせた際に塗膜中でのカチオン重合性化合物から得られるネットワーク形成速度を早め、ラジカル重合性化合物と混在する領域でも未反応のモノマーを膜中に残さずに独立したネットワークを形成する等の利点がある。
The number of cationically polymerizable groups contained in one molecule of the cationically polymerizable compound is preferably two or more, and more preferably three or more, from the viewpoint of improving the hardness of the hardcoat layer.
Further, as the cationically polymerizable compound, a compound having at least one of an epoxy group and an oxetanyl group as the cationically polymerizable group is preferable. A cyclic ether group such as an epoxy group or an oxetanyl group is preferable because the shrinkage associated with the polymerization reaction is small. Further, among the cyclic ether groups, compounds having an epoxy group are easily available, compounds having various structures are easily available, the durability of the obtained hard coat layer is not adversely affected, and compatibility with radically polymerizable compounds is easily controlled. There is an advantage. Of the cyclic ether groups, the oxetanyl group has a higher degree of polymerization than the epoxy group and has low toxicity, and when the obtained hard coat layer is combined with a compound having an epoxy group, the cation in the coating film There are advantages such as increasing the network formation rate obtained from the polymerizable compound and forming an independent network without leaving unreacted monomers in the film even in a region mixed with the radically polymerizable compound.

エポキシ基を有するカチオン重合性化合物としては、例えば、脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル又は、シクロヘキセン環、シクロペンテン環含有化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化する事によって得られる脂環族エポキシ樹脂;脂肪族多価アルコール、又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジル(メタ)アクリレートのホモポリマー、コポリマーなどの脂肪族エポキシ樹脂;ビスフェノールA、ビスフェノールFや水添ビスフェノールA等のビスフェノール類、又はそれらのアルキレンオキサイド付加体、カプロラクトン付加体等の誘導体と、エピクロルヒドリンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル、及びノボラックエポキシ樹脂等でありビスフェノール類から誘導されるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂等が挙げられる。 Examples of the cationically polymerizable compound having an epoxy group include polyglycidyl ether of a polyhydric alcohol having an alicyclic ring, or a cyclohexene ring or cyclopentene ring-containing compound with an appropriate oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid. Alicyclic epoxy resin obtained by epoxidation; polyglycidyl ether of aliphatic polyhydric alcohol or its alkylene oxide adduct, polyglycidyl ester of aliphatic long chain polybasic acid, homopolymer of glycidyl (meth) acrylate, An aliphatic epoxy resin such as a copolymer; a glycidyl ether produced by reacting bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F and hydrogenated bisphenol A, or derivatives such as alkylene oxide adducts and caprolactone adducts thereof with epichlorohydrin. And novolak epoxy resin and the like, and examples thereof include glycidyl ether type epoxy resin derived from bisphenols.

上記脂環族エポキシ樹脂としては、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(UVR-6105、UVR-6107、UVR-6110)、ビス-3,4-エポキシシクロヘキシルメチルアディペート(UVR-6128)(以上、カッコ内は商品名で、ダウ・ケミカル製である。)が挙げられる。 Examples of the alicyclic epoxy resin include 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (UVR-6105, UVR-6107, UVR-6110) and bis-3,4-epoxycyclohexylmethyl adipate. (UVR-6128) (The above is the trade name in parentheses and is manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.).

また、上記グリシジルエーテル型エポキシ樹脂としては、ソルビトールポリグリシジルエーテル(デナコールEX-611、デナコールEX-612、デナコールEX-614、デナコールEX-614B、デナコールEX-622)、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル(デナコールEX-512、デナコールEX-521)、ペンタエリスリトルポリグリシジルエーテル(デナコールEX-411)、ジグリセロールポリグリシジルエーテル(デナコールEX-421)、グリセロールポリグリシジルエーテル(デナコールEX-313、デナコールEX-314)、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル(デナコールEX-321)、レソルチノールジグリシジルエーテル(デナコールEX-201)、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル(デナコールEX-211)、1,6ヘキサンジオールジグリシジルエーテル(デナコールEX―212)、ヒドロジビスフェノールAジグリシジルエーテル(デナコールEX-252)、エチレングリコールジグリシジルエーテル(デナコールEX-810、デナコールEX-811)、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル(デナコールEX―850、デナコールEX―851、デナコールEX―821)、
プロピレングリコールグリシジルエーテル(デナコールEX―911)、ポリプロピレングリコールグリシジルエーテル(デナコールEX―941、デナコールEX-920)、アリルグリシジルエーテル(デナコールEX-111)、2-エチルヘキシルグリシジルエーテル(デナコールEX-121)、フェニルグリシジルエーテル(デナコールEX-141)、フェノールグリシジルエーテル(デナコールEX-145)、ブチルフェニルグリシジルエーテル(デナコールEX-146)、ジグリシジルフタレート(デナコールEX-721)、ヒドロキノンジグリシジルエーテル(デナコールEX-203)、ジグリシジルテレフタレート(デナコールEX-711)、グリシジルフタルイミド(デナコールEX-731)、ジブロモフェニルグリシジルエーテル(デナコールEX-147)、ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル(デナコールEX-221) (以上、カッコ内は商品名で、ナガセケムテックス製である。)が挙げられる。
Examples of the glycidyl ether type epoxy resin include sorbitol polyglycidyl ether (Denacol EX-611, Denacol EX-612, Denacol EX-614, Denacol EX-614B, Denacol EX-622) and polyglycerol polyglycidyl ether (Denacol EX). -512, Denacol EX-521), Pentaeryth Little Polyglycidyl Ether (Denacol EX-411), Diglycerol Polyglycidyl Ether (Denacol EX-421), Gglycerol Polyglycidyl Ether (Denacol EX-313, Denacol EX-314), Trimethylol Propanepolyglycidyl Ether (Denacol EX-321), Resoltinol Diglycidyl Ether (Denacol EX-201), Neopentyl Glycol Diglycidyl Ether (Denacol EX-211), 1,6 Hexanodiol Diglycidyl Ether (Denacol EX-) 212), Hydrodibisphenol A Diglycidyl Ether (Denacol EX-252), Ethylene Glycol Diglycidyl Ether (Denacol EX-810, Denacol EX-811), Polyethylene Glycol Diglycidyl Ether (Denacol EX-850, Denacol EX-851, Denacol EX-821),
Propropylene glycol glycidyl ether (Denacol EX-911), Polypropylene glycol glycidyl ether (Denacol EX-941, Denacol EX-920), Allyl glycidyl ether (Denacol EX-111), 2-Ethylhexyl glycidyl ether (Denacol EX-121), phenyl Glycyzyl ether (Denacol EX-141), Phenol glycidyl ether (Denacol EX-145), Butylphenyl glycidyl ether (Denacol EX-146), Diglycidyl phthalate (Denacol EX-721), Hydroquinone diglycidyl ether (Denacol EX-203) , Diglycidyl terephthalate (Denacol EX-711), Glycidyl phthalimide (Denacol EX-731), Dibromophenyl glycidyl ether (Denacol EX-147), Dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether (Denacol EX-221) The product name is made by Nagase Chemtex.).

また、その他の市販品のエポキシ樹脂としては、商品名エピコート825、エピコート827、エピコート828、エピコート828EL、エピコート828XA、エピコート834、エピコート801、エピコート801P、エピコート802、エピコート815、エピコート815XA、エピコート816A、エピコート819、エピコート834X90、エピコート1001B80、エピコート1001X70、エピコート1001X75、エピコート1001T75、エピコート806、エピコート806P、エピコート807、エピコート152、エピコート154、エピコート871、エピコート191P、エピコートYX310、エピコートDX255、エピコートYX8000、エピコートYX8034等(以上商品名、ジャパンエポキシレジン製)が挙げられる。 Other commercially available epoxy resins include Epicoat 825, Epicoat 827, Epicoat 828, Epicoat 828EL, Epicoat 828XA, Epicoat 834, Epicoat 801 and Epicoat 801P, Epicoat 802, Epicoat 815, Epicoat 815XA, and Epicoat 816A. Epicoat 819, Epicoat 834X90, Epicoat 1001B80, Epicoat 1001X70, Epicoat 1001X75, Epicoat 1001T75, Epicoat 806, Epicoat 806P, Epicoat 807, Epicoat 152, Epicoat 154, Epicoat 871, Epicoat 191P, Epicoat YX310, Epicoat DX255, Epicoat YX8000 Etc. (The above product name is made by Japan Epoxy Resin).

オキセタニル基を有するカチオン重合性化合物としては、例えば、3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタン(OXT-101)、1,4-ビス-3-エチルオキセタン-3-イルメトキシメチルベンゼン(OXT-121)、ビス-1-エチル-3-オキセタニルメチルエーテル(OXT-221)、3-エチル-3-2-エチルへキシロキシメチルオキセタン(OXT-212)、3-エチル-3-フェノキシメチルオキセタン(OXT-211)(以上、カッコ内は商品名で東亜合成製である。)や、商品名エタナコールEHO、エタナコールOXBP、エタナコールOXTP、エタナコールOXMA(以上商品名、宇部興産製)が挙げられる。 Examples of the cationically polymerizable compound having an oxetanyl group include 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane (OXT-101) and 1,4-bis-3-ethyloxetane-3-ylmethoxymethylbenzene (OXT-121). , Bis-1-ethyl-3-oxetanylmethyl ether (OXT-221), 3-ethyl-3--2-ethylhexyloxymethyloxetane (OXT-212), 3-ethyl-3-phenoxymethyloxetane (OXT-) 211) (above, the trade name in parentheses is made by Toa Synthetic), and the trade names include Ethanacole EHO, Ethanacole OXBP, Ethanacole OXTP, and Ethanacole OXMA (above, trade name, manufactured by Ube Kosan).

(3)重合開始剤
本発明の積層体が有するハードコート層が含有する前記ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物は、例えば、前記ラジカル重合性化合物及び前記カチオン重合性化合物の少なくとも1種に、必要に応じて重合開始剤を添加して、公知の方法で重合反応させることにより得ることができる。
(3) Polymerization Initiator The polymer of at least one of the radically polymerizable compound and the cationically polymerizable compound contained in the hard coat layer of the laminate of the present invention is, for example, the radically polymerizable compound and the cationically polymerizable compound. It can be obtained by adding a polymerization initiator to at least one of the compounds, if necessary, and carrying out a polymerization reaction by a known method.

前記重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等を適宜選択して用いることができる。これらの重合開始剤は、光照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカル若しくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。 As the polymerization initiator, a radical polymerization initiator, a cationic polymerization initiator, a radical, a cationic polymerization initiator and the like can be appropriately selected and used. These polymerization initiators are decomposed by at least one of light irradiation and heating to generate radicals or cations to promote radical polymerization and cation polymerization.

ラジカル重合開始剤は、光照射及び加熱の少なくともいずれかによりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であれば良い。例えば、光ラジカル重合開始剤としては、イミダゾール誘導体、ビスイミダゾール誘導体、N-アリールグリシン誘導体、有機アジド化合物、チタノセン類、アルミナート錯体、有機過酸化物、N-アルコキシピリジニウム塩、チオキサントン誘導体等が挙げられ、更に具体的には、
1,3-ジ(tert-ブチルジオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラキス(tert-ブチルジオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3-フェニル-5-イソオキサゾロン、2-メルカプトベンズイミダゾール、ビス(2,4,5-トリフェニル)イミダゾール、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン(商品名イルガキュア651、チバ・ジャパン(株)製)、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン(商品名イルガキュア184、チバ・ジャパン(株)製)、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-ブタン-1-オン(商品名イルガキュア369、チバ・ジャパン(株)製)、ビス(η5-2,4-シクロペンタジエン-1-イル)-ビス(2,6-ジフルオロ-3-(1H-ピロール-1-イル)-フェニル)チタニウム)(商品名イルガキュア784、チバ・ジャパン(株)製)等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
The radical polymerization initiator may be any kind as long as it can release a substance that initiates radical polymerization by at least one of light irradiation and heating. For example, examples of the photoradical polymerization initiator include imidazole derivatives, bisimidazole derivatives, N-arylglycine derivatives, organic azido compounds, titanosenes, aluminate complexes, organic peroxides, N-alkoxypyridinium salts, thioxanthone derivatives and the like. And more specifically,
1,3-Di (tert-butyldioxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetrakis (tert-butyldioxycarbonyl) benzophenone, 3-phenyl-5-isooxazolone, 2-mercaptobenzimidazole , Bis (2,4,5-triphenyl) imidazole, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one (trade name: Irgacure 651, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.), 1-hydroxy-cyclohexyl -Phenyl-ketone (trade name: IrgaCure 184, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.), 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butane-1-one (trade name: Irgacure 369, Ciba) -Japan Co., Ltd.), bis (η5-2,4-cyclopentadiene-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrole-1-yl) -phenyl) titanium) (commodity Examples include, but are not limited to, Irugacure 784, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd., etc.

上記以外にも、市販品が使用でき、具体的には、チバ・ジャパン(株)製のイルガキュア907、イルガキュア379、イルガキュア819、イルガキュア127、イルガキュア500、イルガキュア754、イルガキュア250、イルガキュア1800、イルガキュア1870、イルガキュアOXE01、DAROCUR TPO、DAROCUR1173、日本シイベルヘグナー(株)製のSpeedcureMBB、SpeedcurePBZ、SpeedcureITX、SpeedcureCTX、SpeedcureEDB、Esacure ONE、Esacure KIP150、Esacure KTO46、日本化薬(株)製のKAYACURE DETX-S、KAYACURE CTX、KAYACURE BMS、KAYACURE DMBI等が挙げられる。 In addition to the above, commercially available products can be used, specifically, Irgacure 907, Irgacure 379, Irgacure 819, Irgacure 127, Irgacure 500, Irgacure 754, Irgacure 250, Irgacure 1800, Irgacure 1870 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd. 、イルガキュアOXE01、DAROCUR TPO、DAROCUR1173、日本シイベルヘグナー(株)製のSpeedcureMBB、SpeedcurePBZ、SpeedcureITX、SpeedcureCTX、SpeedcureEDB、Esacure ONE、Esacure KIP150、Esacure KTO46、日本化薬(株)製のKAYACURE DETX-S、KAYACURE CTX , KAYACURE BMS, KAYACURE DMBI and the like.

また、カチオン重合開始剤は、光照射及び加熱の少なくともいずれかによりカチオン重合を開始させる物質を放出することが可能であれば良い。カチオン重合開始剤としては、スルホン酸エステル、イミドスルホネート、ジアルキル-4-ヒドロキシスルホニウム塩、アリールスルホン酸-p-ニトロベンジルエステル、シラノール-アルミニウム錯体、(η6-ベンゼン)(η5-シクロペンタジエニル)鉄(II)等が例示され、さらに具体的には、ベンゾイントシレート、2,5-ジニトロベンジルトシレート、N-トシフタル酸イミド等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Further, the cationic polymerization initiator may be any material as long as it can release a substance that initiates cationic polymerization by at least one of light irradiation and heating. Examples of the cationic polymerization initiator include sulfonic acid ester, imide sulfonate, dialkyl-4-hydroxysulfonium salt, aryl sulfonic acid-p-nitrobenzyl ester, silanol-aluminum complex, (η6-benzene) (η5-cyclopentadienyl). Examples thereof include iron (II), and more specific examples thereof include, but are not limited to, benzointosilate, 2,5-dinitrobenzyltosylate, and N-tosiphthalateimide.

ラジカル重合開始剤としても、カチオン重合開始剤としても用いられるものとしては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、トリアジン化合物、鉄アレーン錯体等が例示され、更に具体的には、ジフェニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、ビス(p-tert-ブチルフェニル)ヨードニウム、ビス(p-クロロフェニル)ヨードニウム等のヨードニウムのクロリド、ブロミド、ホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩等のヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム、4-tert-ブチルトリフェニルスルホニウム、トリス(4-メチルフェニル)スルホニウム等のスルホニウムのクロリド、ブロミド、ホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩等のスルホニウム塩、2,4,6-トリス(トリクロロメチル)-1,3,5-トリアジン、2-フェニル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-1,3,5-トリアジン、2-メチル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-1,3,5-トリアジン等の2,4,6-置換-1,3,5トリアジン化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Examples of the agent used as both the radical polymerization initiator and the cationic polymerization initiator include aromatic iodonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic diazonium salts, aromatic phosphonium salts, triazine compounds, iron arene complexes and the like. More specifically, chlorides, bromides, borofluorides, hexafluorosulfonium salts, hexafluorosylides of iodoniums such as diphenyliodonium, ditriliodonium, bis (p-tert-butylphenyl) iodonium, and bis (p-chlorophenyl) iodonium. Iodonium salts such as antimonate salts, sulfonium chlorides such as triphenylsulfonium, 4-tert-butyltriphenylsulfonium, tris (4-methylphenyl) sulfonium, bromides, borofluoride salts, hexafluorophosphate salts, hexafluoroantimonates. Sulfonium salts such as salts, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- Examples thereof include, but are not limited to, 2,4,6-substituted-1,3,5 triazine compounds such as methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine. ..

(4)添加剤
本発明の積層体が有するハードコート層は、前記重合物の他に、必要に応じて、帯電防止剤、防眩剤、防汚剤、硬度を向上させるための無機又は有機微粒子、レべリング剤、各種増感剤等の添加剤を含有していてもよい。
(4) Additive The hard coat layer of the laminate of the present invention is, if necessary, an antistatic agent, an antiglare agent, an antifouling agent, and an inorganic or organic material for improving hardness, in addition to the polymer. It may contain additives such as fine particles, a leveling agent, and various sensitizers.

なお、前記ハードコート層は、反射防止性、防眩性等の機能が付与されたものであってもよい。当該機能は、例えば、前記ハードコート層に公知の表面処理を施したり、無機又は有機微粒子等の添加剤を含有させること等により付与することができる。 The hard coat layer may be provided with functions such as antireflection property and antiglare property. The function can be imparted, for example, by subjecting the hard coat layer to a known surface treatment or by incorporating an additive such as inorganic or organic fine particles.

また、本発明の積層体は、本発明の効果を損なわない範囲で、前記ポリイミドフィルム及び前記ハードコート層の他に、機能層として、更にウレタンやアクリル樹脂などを含むゲル等の他の層が積層されたものであってもよい。 Further, in the laminated body of the present invention, in addition to the polyimide film and the hard coat layer, other layers such as gel containing urethane, acrylic resin and the like are further added as a functional layer as long as the effect of the present invention is not impaired. It may be laminated.

また、機能層としては、ハードコート層には限定されず、例えば反射防止層、防眩層であってもよく、ポリイミドフィルムとハードコート層との密着性を向上させるためのプライマー層であってもよい。
また、機能層は、単層であってもよく、複数の層を含んでいてもよい。また、機能層としては、単一の機能を有する層であってもよく、互いに異なる機能を有する層を含んでいてもよい。
Further, the functional layer is not limited to the hard coat layer, and may be, for example, an antireflection layer or an antiglare layer, and is a primer layer for improving the adhesion between the polyimide film and the hard coat layer. May be good.
Further, the functional layer may be a single layer or may include a plurality of layers. Further, the functional layer may be a layer having a single function, or may include a layer having different functions from each other.

本発明の積層体の全体厚さは、用途により適宜選択されれば良いが、強度の点から、10μm以上であることが好ましく、更に40μm以上であることが好ましい。一方、屈曲耐性の点から、300μm以下であることが好ましく、更に250μm以下であることが好ましい。
また、本発明の積層体において、各機能層の厚さは、用途により適宜選択されれば良いが、2μm以上80μm以下であることが好ましく、3μm以上50μm以下であることがより好ましい。また、カール防止の観点からポリイミドフィルムの両面に、例えばハードコート層等の機能層を形成しても良い。
The overall thickness of the laminate of the present invention may be appropriately selected depending on the intended use, but is preferably 10 μm or more, and more preferably 40 μm or more from the viewpoint of strength. On the other hand, from the viewpoint of bending resistance, it is preferably 300 μm or less, and more preferably 250 μm or less.
Further, in the laminated body of the present invention, the thickness of each functional layer may be appropriately selected depending on the intended use, but is preferably 2 μm or more and 80 μm or less, and more preferably 3 μm or more and 50 μm or less. Further, from the viewpoint of curl prevention, functional layers such as a hard coat layer may be formed on both sides of the polyimide film.

(5)積層体の特性
本発明の積層体は、積層体側表面の鉛筆硬度がHB以上であることが好ましく、F以上であることがより好ましく、H以上であることがより更に好ましい。
本発明の積層体の鉛筆硬度は、前記ポリイミドフィルムの鉛筆硬度と同様にして測定することができる。
(5) Characteristics of Laminated Body The laminated body of the present invention preferably has a pencil hardness of the surface on the laminated body side of HB or more, more preferably F or more, and even more preferably H or more.
The pencil hardness of the laminate of the present invention can be measured in the same manner as the pencil hardness of the polyimide film.

本発明の積層体は、JIS K7361-1に準拠して測定する全光線透過率が、85%以上であることが好ましく、更に88%以上であることが好ましく、より更に90%以上であることが好ましい。このように透過率が高いことから、透明性が良好になり、ガラス代替材料となり得る。
本発明の積層体の前記全光線透過率は、前記ポリイミドフィルムのJIS K7361-1に準拠して測定する全光線透過率と同様にして測定することができる。
The laminated body of the present invention preferably has a total light transmittance of 85% or more, more preferably 88% or more, and further more than 90%, as measured in accordance with JIS K7361-1. Is preferable. Since the transmittance is high as described above, the transparency is improved and the material can be used as a substitute for glass.
The total light transmittance of the laminate of the present invention can be measured in the same manner as the total light transmittance measured in accordance with JIS K7361-1 of the polyimide film.

本発明の積層体は、JIS K7373-2006に準拠して算出される黄色度(YI値)が、5.0以下であることが好ましく、3.0以下であることがより好ましく、2.0以下であることがより更に好ましい。
本発明の積層体は、の前記黄色度(YI値)は、前記ポリイミドフィルムのJIS K7373-2006に準拠して算出される黄色度(YI値)と同様にして測定することができる。
The laminate of the present invention preferably has a yellowness (YI value) calculated in accordance with JIS K7373-2006 of 5.0 or less, more preferably 3.0 or less, and 2.0 or less. The following is even more preferable.
In the laminated body of the present invention, the yellowness (YI value) can be measured in the same manner as the yellowness (YI value) calculated in accordance with JIS K7373-2006 of the polyimide film.

本発明の積層体のJIS K-7105に準拠したヘイズ値は、光透過性の点から、5.0以下であることが好ましく、2.0以下であることがより好ましく、1.2以下であることがより好ましく、1.0以下であることが更に好ましく、0.5以下であることがより更に好ましい。
本発明の積層体のJIS K-7105に準拠したヘイズ値は、前記ポリイミドフィルムのヘイズ値と同様にして測定することができる。
The haze value of the laminate of the present invention according to JIS K-7105 is preferably 5.0 or less, more preferably 2.0 or less, and 1.2 or less from the viewpoint of light transmission. It is more preferably 1.0 or less, still more preferably 0.5 or less.
The haze value of the laminate of the present invention according to JIS K-7105 can be measured in the same manner as the haze value of the polyimide film.

本発明の積層体の波長590nmにおける厚み方向の複屈折率は、0.020以下であることが好ましく、0.015以下であることが好ましく、更に0.010以下であることが好ましく、より更に0.008未満であることが好ましい。
本発明の積層体の前記複屈折率は、前記ポリイミドフィルムの波長590nmにおける厚み方向の複屈折率と同様にして測定することができる。
The birefringence in the thickness direction of the laminate of the present invention at a wavelength of 590 nm is preferably 0.020 or less, preferably 0.015 or less, more preferably 0.010 or less, and even more. It is preferably less than 0.008.
The birefringence of the laminate of the present invention can be measured in the same manner as the birefringence in the thickness direction of the polyimide film at a wavelength of 590 nm.

(6)積層体の用途
本発明の積層体の用途は特に限定されるものではなく、従来薄い板ガラス等ガラス製品が用いられていた基材や表面材等の部材として用いることができる。本発明の積層体は、ポリイミドフィルムと機能層との密着性、外観及び光学特性が向上したものであるため、ディスプレイ用の基材や表面材等の部材として好適に用いることができる。
本発明の積層体は、具体的には例えば、薄くて曲げられるフレキシブルタイプの有機ELディスプレイや、スマートフォンや腕時計型端末などの携帯端末、自動車内部の表示装置、腕時計などに使用するフレキシブルパネル等に好適に用いることができる。また、本発明の積層体は、液晶表示装置、有機EL表示装置等の画像表示装置用部材や、タッチパネル用部材、フレキシブルプリント基板、表面保護膜や基板材料等の太陽電池パネル用部材、光導波路用部材、その他半導体関連部材等に適用することもできる。
(6) Use of Laminated Body The use of the laminated body of the present invention is not particularly limited, and it can be used as a member such as a base material or a surface material in which a glass product such as a thin plate glass has been conventionally used. Since the laminate of the present invention has improved adhesion, appearance, and optical characteristics between the polyimide film and the functional layer, it can be suitably used as a member such as a base material or a surface material for a display.
Specifically, the laminate of the present invention is used for, for example, a thin and bendable flexible type organic EL display, a mobile terminal such as a smartphone or a wristwatch type terminal, a display device inside an automobile, a flexible panel used for a wristwatch, or the like. It can be suitably used. Further, the laminate of the present invention includes a member for an image display device such as a liquid crystal display device and an organic EL display device, a member for a touch panel, a flexible printed substrate, a member for a solar cell panel such as a surface protective film and a substrate material, and an optical waveguide. It can also be applied to members for materials and other semiconductor-related members.

II.ポリイミドフィルム
本発明のポリイミドフィルムは、長尺状であり、一方の面を第一の面としたときに、当該第一の面に機能層を形成するための機能層形成用のポリイミドフィルムであって、前記第一の面内の700μm×700μmの視野において、前記ポリイミドフィルムの長手方向に直交する方向に延在し、且つ前記長手方向の幅が、前記長手方向に直交する方向の長さよりも幅狭となるように任意に抽出した第一の領域(A1)の表面うねり(Wa1)の平均値(Wa1ave)と、前記ポリイミドフィルムの長手方向に沿う方向に延在し、且つ前記長手方向に直交する方向の幅が、前記長手方向の長さよりも幅狭となるように任意に抽出した第二の領域(A2)の表面うねり(Wa2)の平均値(Wa2ave)との差(Wa1ave-Wa2ave)が、20nm以下であり、当該第一の面内の71μm×95μmの視野における表面粗さ(Sa)が1nm以上10nm以下である。
本発明のポリイミドフィルムの具体的な構成は、「I.積層体」において説明したポリイミドフィルムの構成及び特性と同様であるため、詳細な説明を省略する。
本発明のポリイミドフィルムは、機能層に対して優れた密着性を示し、且つ、外観が良好であり、光学特性に優れている。
II. Polyimide film The polyimide film of the present invention has a long shape, and is a polyimide film for forming a functional layer for forming a functional layer on the first surface when one surface is used as the first surface. In the field of 700 μm × 700 μm in the first plane, the polyimide film extends in a direction orthogonal to the longitudinal direction, and the width in the longitudinal direction is larger than the length in the direction orthogonal to the longitudinal direction. The average value (Wa1 ave ) of the surface waviness (Wa1) of the first region (A1) arbitrarily extracted so as to be narrow, and the polyimide film extending in the longitudinal direction and extending in the longitudinal direction. The difference (Wa1) from the average value (Wa2 ave ) of the surface waviness (Wa2) of the second region (A2) arbitrarily extracted so that the width in the direction orthogonal to is narrower than the length in the longitudinal direction. ave -Wa2 ave ) is 20 nm or less, and the surface roughness (Sa) in the field of 71 μm × 95 μm in the first plane is 1 nm or more and 10 nm or less.
Since the specific structure of the polyimide film of the present invention is the same as the structure and characteristics of the polyimide film described in "I. Laminate", detailed description thereof will be omitted.
The polyimide film of the present invention exhibits excellent adhesion to the functional layer, has a good appearance, and has excellent optical characteristics.

本発明のポリイミドフィルムの用途は特に限定されるものではなく、例えば、前述した本発明の積層体の用途と同様の用途に用いることができる。 The use of the polyimide film of the present invention is not particularly limited, and for example, it can be used in the same manner as the above-mentioned use of the laminate of the present invention.

III.ポリイミドフィルムの製造方法
本発明のポリイミドフィルムの製造方法は、長尺状の支持体の表面を研磨することにより、当該支持体の表面の700μm×700μmの視野における、前記支持体の長手方向に直交する方向に延在し、且つ前記長手方向の幅が、前記長手方向に直交する方向の長さよりも幅狭となるように任意に抽出した第一領域(B1)の表面うねり(Wa1)の平均値(Wa1ave)と、前記支持体の長手方向に沿う方向に延在し、且つ前記長手方向に直交する方向の幅が、前記長手方向の長さよりも幅狭となるように任意に抽出した第二の領域(B2)の表面うねり(Wa2)の平均値(Wa2ave)との差(Wa1ave-Wa2ave)を、20nm以下とし、且つ、当該支持体の表面の71μm×95μmの視野における表面粗さ(Sa)を1nm以上10nm以下とする工程と、
ポリイミド前駆体と有機溶媒とを含有するポリイミド前駆体組成物を前記支持体の表面に塗布してポリイミド前駆体組成物の塗膜を形成するか、又はポリイミドと有機溶媒とを含有するポリイミド組成物を前記支持体の表面に塗布してポリイミド組成物の塗膜を形成する工程と、
前記ポリイミド前駆体組成物の塗膜から前記有機溶媒を除去し且つ前記ポリイミド前駆体組成物の塗膜に含まれる前記ポリイミド前駆体をイミド化するか、又は前記ポリイミド組成物の塗膜から前記有機溶媒を除去することにより、ポリイミドフィルムを形成する工程と、を有する。
III. Method for manufacturing a polyimide film In the method for manufacturing a polyimide film of the present invention, the surface of a long support is polished so as to be orthogonal to the longitudinal direction of the support in a 700 μm × 700 μm field of view of the surface of the support. The average of the surface waviness (Wa1) of the first region (B1) arbitrarily extracted so as to extend in the direction in which the surface is formed and the width in the longitudinal direction is narrower than the length in the direction orthogonal to the longitudinal direction. The value (Wa1 ave ) and the width extending along the longitudinal direction of the support and orthogonal to the longitudinal direction were arbitrarily extracted so as to be narrower than the length in the longitudinal direction. The difference (Wa1 ave -Wa2 ave ) from the average value (Wa2 ave ) of the surface waviness (Wa2) of the second region (B2) is set to 20 nm or less, and in a field of view of 71 μm × 95 μm on the surface of the support. A step of setting the surface roughness (Sa) to 1 nm or more and 10 nm or less, and
A polyimide precursor composition containing a polyimide precursor and an organic solvent is applied to the surface of the support to form a coating film of the polyimide precursor composition, or a polyimide composition containing a polyimide and an organic solvent. To form a coating film of the polyimide composition by applying
The organic solvent is removed from the coating film of the polyimide precursor composition and the polyimide precursor contained in the coating film of the polyimide precursor composition is imidized, or the organic is said from the coating film of the polyimide composition. It comprises a step of forming a polyimide film by removing the solvent.

(第一の製造方法)
本発明のポリイミドフィルムの製造方法は、例えば、第一の製造方法として、長尺状の支持体の表面を研磨することにより、当該支持体の表面の700μm×700μmの視野における、前記支持体の長手方向に直交する方向に延在し、且つ前記長手方向の幅が、前記長手方向に直交する方向の長さよりも幅狭となるように任意に抽出した第一領域(B1)の表面うねり(Wa1)の平均値(Wa1ave)と、前記支持体の長手方向に沿う方向に延在し、且つ前記長手方向に直交する方向の幅が、前記長手方向の長さよりも幅狭となるように任意に抽出した第二の領域(B2)の表面うねり(Wa2)の平均値(Wa2ave)との差(Wa1ave-Wa2ave)を、20nm以下とし、且つ、当該支持体の表面の71μm×95μmの視野における表面粗さ(Sa)を1nm以上10nm以下とする工程((1-1)支持体の表面研磨工程)と、
ポリイミド前駆体と有機溶媒とを含むポリイミド前駆体組成物を調製する工程((1-2)ポリイミド前駆体組成物調製工程)と、
前記ポリイミド前駆体組成物を前記支持体のの表面に塗布してポリイミド前駆体組成物の塗膜を形成する工程((1-3)ポリイミド前駆体組成物塗膜形成工程)と、
前記ポリイミド前駆体組成物の塗膜から前記有機溶媒を除去し且つ前記ポリイミド前駆体組成物の塗膜に含まれる前記ポリイミド前駆体をイミド化する工程((1-4)ポリイミド前駆体組成物塗膜乾燥工程及び(1-5)イミド化工程)と、を有する製造方法が挙げられる。
(First manufacturing method)
The method for producing a polyimide film of the present invention is, for example, as a first production method, in which the surface of a long support is polished so that the surface of the support has a visual field of 700 μm × 700 μm. The surface waviness of the first region (B1) arbitrarily extracted so as to extend in the direction orthogonal to the longitudinal direction and to have the width in the longitudinal direction narrower than the length in the direction orthogonal to the longitudinal direction (B1). The average value (Wa1 ave ) of Wa1) and the width extending along the longitudinal direction of the support and perpendicular to the longitudinal direction are narrower than the length in the longitudinal direction. The difference (Wa1 ave -Wa2 ave ) from the average value (Wa2 ave ) of the surface waviness (Wa2) of the second region (B2) arbitrarily extracted is 20 nm or less, and 71 μm × 71 μm on the surface of the support. A step of setting the surface roughness (Sa) to 1 nm or more and 10 nm or less in a field of view of 95 μm ((1-1) surface polishing step of the support) and
A step of preparing a polyimide precursor composition containing a polyimide precursor and an organic solvent ((1-2) polyimide precursor composition preparation step) and
A step of applying the polyimide precursor composition to the surface of the support to form a coating film of the polyimide precursor composition ((1-3) a step of forming a coating film of the polyimide precursor composition).
A step of removing the organic solvent from the coating film of the polyimide precursor composition and imidizing the polyimide precursor contained in the coating film of the polyimide precursor composition ((1-4) coating of the polyimide precursor composition). A production method comprising a film drying step and (1-5) imidization step) can be mentioned.

(1-1)支持体の表面研磨工程
支持体としては、表面が平滑で耐熱性及び耐溶剤性を有する材料であれば、特に制限なく用いることができる。支持体の材料としては、例えばガラス板などの無機材料、表面を鏡面処理した金属板、合成樹脂等が挙げられる。
また支持体の形状は塗布方式によって選択され、例えば板状や箔状であってもよく、またドラム状やベルト状であってもよく、ロールに巻き取り可能なシート状等であってもよい。ロールtoロール加工等の連続生産性等から、支持体の形状は、シート状、箔状等が好ましい。
(1-1) Surface Polishing Step of Support As the support, any material having a smooth surface and having heat resistance and solvent resistance can be used without particular limitation. Examples of the material of the support include an inorganic material such as a glass plate, a metal plate whose surface is mirror-treated, a synthetic resin, and the like.
The shape of the support is selected by the coating method, and may be, for example, a plate shape or a foil shape, a drum shape or a belt shape, a sheet shape that can be wound on a roll, or the like. .. From the viewpoint of continuous productivity such as roll-to-roll processing, the shape of the support is preferably sheet-like, foil-like, or the like.

金属板を構成する金属材料は、特に限定されないが、銅、SUS、アルミ、スチール、ニッケル及びこれらを複合した複合金属などを使用することができる。また、前記した金属材料の表面を、亜鉛やクロム化合物など他の金属材料で処理したものを、支持体として用いることもできる。これらの中でも、使用し易さの点から、SUSを好適に用いることができる。
また、金属材料としては、例えば、上記したSUSを冷間圧延した後、光輝熱鈍処理を行い、更に軽い冷間圧延処理を施して得られる、ステンレス鋼BA材を用いることも可能である。
The metal material constituting the metal plate is not particularly limited, but copper, SUS, aluminum, steel, nickel, a composite metal obtained by combining these, and the like can be used. Further, a material obtained by treating the surface of the above-mentioned metal material with another metal material such as zinc or a chromium compound can also be used as a support. Among these, SUS can be preferably used from the viewpoint of ease of use.
Further, as the metal material, for example, it is also possible to use a stainless steel BA material obtained by cold-rolling the above-mentioned SUS, performing a brilliant heat blunting treatment, and further performing a light cold-rolling treatment.

たとえば、支持体が箔状の場合、特に限定されないが、銅箔、スチール箔、SUS箔、アルミニウム箔、ニッケル箔などを使用することができる。また、これらを複合した複合金属箔、亜鉛やクロム化合物など他の金属で処理した金属箔などについても使用することができる。これらの中でも、使用し易さの点から、SUS箔を好適に用いることができる。 For example, when the support is in the form of a foil, copper foil, steel foil, SUS foil, aluminum foil, nickel foil and the like can be used without particular limitation. Further, a composite metal foil obtained by combining these, a metal foil treated with another metal such as zinc or a chromium compound, or the like can also be used. Among these, SUS foil can be preferably used from the viewpoint of ease of use.

当該金属箔は、カットシート状、ロール状、又はエンドレスベルト状などの種々の形状で使用できる。当該金属箔は、好ましくロール状がよい。 The metal leaf can be used in various shapes such as a cut sheet shape, a roll shape, or an endless belt shape. The metal foil is preferably in the form of a roll.

支持体が、ロール状の金属箔や、その他ロールに巻き取り可能なシート状である場合、その長さは特に限定されない。
また、支持体が、ロール状の金属箔や、その他ロールに巻き取り可能なシート状である場合、その幅も特に限定されないが、100mm以上3000mm以下がよく、好ましくは300mm以上2000mm以下であり、より好ましくは500mm以上1500mm以下であり、特に好ましくは500mm以上1300mm以下である。
When the support is a roll-shaped metal leaf or a sheet that can be wound around a roll, its length is not particularly limited.
When the support is a roll-shaped metal leaf or a sheet that can be wound around a roll, the width thereof is not particularly limited, but is preferably 100 mm or more and 3000 mm or less, preferably 300 mm or more and 2000 mm or less. It is more preferably 500 mm or more and 1500 mm or less, and particularly preferably 500 mm or more and 1300 mm or less.

支持体の材料として、ガラス板などの無機材料や合成樹脂を用いる場合、後述する乾燥工程やイミド化工程における加熱温度よりも高いガラス転移温度を有するものを用いることが好ましい。具体的には、60℃以上、より好ましくは110℃以上のガラス転移温度を有する無機材料や合成樹脂を用いることが好ましい。
支持体として、後述する乾燥工程やイミド化工程における加熱温度よりも高いガラス転移温度を有するものを用いることで、当該乾燥工程やイミド化工程において加熱処理を行ったときに、支持体の粘性が過度に上昇して、支持体からポリイミドフィルムを剥離する際に支持体が内部で分離して、その一部がポリイミドフィルムに付着する現象を抑制することができる。
ガラス転移温度の測定は、前記ポリイミドフィルムにおいて説明した、ガラス転移温度の測定と同様にして行うことができる。
When an inorganic material such as a glass plate or a synthetic resin is used as the material of the support, it is preferable to use a material having a glass transition temperature higher than the heating temperature in the drying step and the imidization step described later. Specifically, it is preferable to use an inorganic material or synthetic resin having a glass transition temperature of 60 ° C. or higher, more preferably 110 ° C. or higher.
By using a support having a glass transition temperature higher than the heating temperature in the drying step and the imidization step described later, the viscosity of the support becomes high when the heat treatment is performed in the drying step and the imidization step. It is possible to suppress a phenomenon in which the support rises excessively and the support is separated internally when the polyimide film is peeled from the support, and a part of the support adheres to the polyimide film.
The measurement of the glass transition temperature can be performed in the same manner as the measurement of the glass transition temperature described in the polyimide film.

支持体の表面研磨工程では、上記した支持体の表面を研磨することにより、当該支持体の表面の700μm×700μmの視野における、前記支持体の長手方向に直交する方向に延在し、且つ前記長手方向の幅が、前記長手方向に直交する方向の長さよりも幅狭となるように任意に抽出した第一領域(B1)の表面うねり(Wa1)の平均値(Wa1ave)と、前記支持体の長手方向に沿う方向に延在し、且つ前記長手方向に直交する方向の幅が、前記長手方向の長さよりも幅狭となるように任意に抽出した第二の領域(B2)の表面うねり(Wa2)の平均値(Wa2ave)との差(Wa1ave-Wa2ave)を、20nm以下とし、且つ、当該支持体の表面の71μm×95μmの視野における表面粗さ(Sa)を1nm以上10nm以下とする。 In the surface polishing step of the support, by polishing the surface of the support described above, the surface of the support extends in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the support in a field of view of 700 μm × 700 μm, and is described above. The average value (Wa1 ave ) of the surface waviness (Wa1) of the first region (B1) arbitrarily extracted so that the width in the longitudinal direction is narrower than the length in the direction orthogonal to the longitudinal direction, and the support. The surface of the second region (B2) arbitrarily extracted so that the width extending along the longitudinal direction of the body and the width in the direction orthogonal to the longitudinal direction is narrower than the length in the longitudinal direction. The difference (Wa1 ave -Wa2 ave ) from the average value (Wa2 ave ) of the swell (Wa2) is 20 nm or less, and the surface roughness (Sa) of the surface of the support in a field of view of 71 μm × 95 μm is 1 nm or more. It should be 10 nm or less.

なお、支持体の第一の領域(B1)の表面うねり(Wa1)及びその平均値(Wa1ave)の算出、支持体の第二の領域(B2)の表面うねり(Wa2)及びその平均値(Wa2ave)の算出、支持体の表面粗さ(Sa)の算出は、それぞれ、前記ポリイミドフィルムにおいて説明した、ポリイミドフィルムの第一の領域(A1)の表面うねり(Wa1)及びその平均値(Wa1ave)の算出、ポリイミドフィルムの第二の領域(A2)の表面うねり(Wa2)及びその平均値(Wa2ave)の算出、ポリイミドフィルムの表面粗さ(Sa)の算出と、同様にして行うことができる。 The surface waviness (Wa1) of the first region (B1) of the support and its average value (Wa1 ave ) are calculated, and the surface waviness (Wa2) of the second region (B2) of the support and its average value (Wa2) are calculated. The calculation of Wa2 ave ) and the calculation of the surface roughness (Sa) of the support are the surface waviness (Wa1) of the first region (A1) of the polyimide film and its average value (Wa1), respectively, as described in the above-mentioned polyimide film. Ave ) is calculated, the surface waviness (Wa2) of the second region (A2) of the polyimide film and its average value (Wa2 ave ) are calculated, and the surface roughness (Sa) of the polyimide film is calculated in the same manner. Can be done.

得られるポリイミドフィルムの表面におけるスジの発生を抑制する点から、前記第一領域(B1)の表面うねり(Wa1)の平均値(Wa1ave)と、前記第二の領域(B2)の表面うねり(Wa2)の平均値(Wa2ave)との差(Wa1ave-Wa2ave)は、15nm以下であることが好ましく、10nm以下であることがより好ましく、5nm以下であることが更に好ましい。
また、得られるポリイミドフィルムの表面の外観の低下を抑制する点から、前記第一領域(B1)の表面うねり(Wa1)の平均値(Wa1ave)と、前記第二の領域(B2)の表面うねり(Wa2)の平均値(Wa2ave)との差(Wa1ave-Wa2ave)は、-20nm以上であることが好ましく、-10nm以上であることがより好ましい。
From the viewpoint of suppressing the generation of streaks on the surface of the obtained polyimide film, the average value (Wa1 ave ) of the surface waviness (Wa1) of the first region (B1) and the surface waviness of the second region (B2) (B2). The difference (Wa1 ave -Wa2 ave ) from the average value (Wa2 ave ) of Wa2) is preferably 15 nm or less, more preferably 10 nm or less, and further preferably 5 nm or less.
Further, from the viewpoint of suppressing deterioration of the appearance of the surface of the obtained polyimide film, the average value (Wa1 ave ) of the surface waviness (Wa1) of the first region (B1) and the surface of the second region (B2). The difference (Wa1 ave − Wa2 ave ) from the average value (Wa2 ave ) of the swell (Wa2) is preferably −20 nm or more, and more preferably −10 nm or more.

支持体の表面を研磨する方法としては、支持体の形状に応じて適宜選択することができ、例えば、ロール研磨、バフ研磨、電解砥粒研磨等により行うことができる。 The method for polishing the surface of the support can be appropriately selected according to the shape of the support, and can be performed by, for example, roll polishing, buffing, electrolytic abrasive grain polishing, or the like.

例えば、巻取り可能な長尺状の支持体(例えば、SUS箔)をロール研磨する場合、支持体を送り出す巻出しロールと、支持体を巻き取る巻取りロールとの間に、研磨ロールを配置し、回転する研磨ロールの表面を支持体が擦過するように、研磨ロールの表面に支持体を接触させながら移動させて、巻取りロールで巻き取ることで、研磨を行うことができる。
また、研磨ロールに対向させて配置した押さえロールと研磨ロールとの間に、支持体を通過させることで、支持体の表面を研磨するようにしてもよい。
For example, when rolling a long windable support (for example, SUS foil), a polishing roll is placed between the unwinding roll that sends out the support and the winding roll that winds up the support. Polishing can be performed by moving the support while contacting the surface of the polishing roll so that the support scratches the surface of the rotating polishing roll, and winding the support with the take-up roll.
Further, the surface of the support may be polished by passing the support between the pressing roll and the polishing roll arranged so as to face the polishing roll.

この場合、例えば研磨ロールに対する支持体の面圧や、支持体に与える張力、支持体の移動速度を調整することにより、支持体の表面状態を、上記のように調整することができる。
支持体の面圧は、特に限定されないが、例えば0.1~10kg/500mm、好ましくは1~5kg/500mmの範囲で調整することが好ましい。また、支持体に与える張力としては、10~50N/mの範囲で調整することが好ましい。また、支持体の移動速度は、5~40m/minの範囲で調整することが好ましい。
In this case, the surface state of the support can be adjusted as described above by, for example, adjusting the surface pressure of the support with respect to the polishing roll, the tension applied to the support, and the moving speed of the support.
The surface pressure of the support is not particularly limited, but is preferably adjusted in the range of, for example, 0.1 to 10 kg / 500 mm, preferably 1 to 5 kg / 500 mm. The tension applied to the support is preferably adjusted in the range of 10 to 50 N / m. Further, it is preferable to adjust the moving speed of the support in the range of 5 to 40 m / min.

巻取り可能な長尺状の支持体(例えば、SUS箔やステンレス鋼BA材)をバフ研磨する場合には、例えば以下のようにして行うことができる。
まず、研磨機の支持台に、機械的チャック又は真空チャックにより支持体を固定する。次いで、バフの表面又は支持体の表面にバフ研磨剤を塗布した後、当該バフを広幅の研磨ヘッドに設置し、当該研磨ヘッドを往復動させながら、バフを高速回転させつつ支持体の表面に接触させることにより、表面研磨を行うことができる。
When buffing a long windable support (for example, SUS foil or stainless steel BA material), the following can be performed, for example.
First, the support is fixed to the support base of the polishing machine by a mechanical chuck or a vacuum chuck. Next, after applying a buff abrasive to the surface of the buff or the surface of the support, the buff is placed on a wide polishing head, and the buff is rotated at high speed while reciprocating the polishing head on the surface of the support. The surface can be polished by contacting them.

また、巻取り可能な長尺状の支持体(例えば、SUS箔やステンレス鋼BA材)をバフ研磨する場合には、例えば以下のようにして行うことができる。
まず、搬送ベルト等の搬送部材の表面に支持体を載置した後、当該搬送部材により、支持体を一定方向に移動させる。次いで、バフの表面又は支持体の表面にバフ研磨剤を塗布した後、当該バフを広幅の研磨ヘッドに設置し、当該研磨ヘッドを所定の位置に固定した状態でバフを高速回転させながら、一定方向に移動する支持体の表面に当該バフを接触させることにより、表面研磨を行うことができる。
Further, when buffing a long windable support (for example, SUS foil or stainless steel BA material), the following can be performed, for example.
First, a support is placed on the surface of a transport member such as a transport belt, and then the support is moved in a certain direction by the transport member. Next, after applying a buff abrasive to the surface of the buff or the surface of the support, the buff is placed on a wide polishing head, and the buff is constantly rotated at a high speed with the polishing head fixed at a predetermined position. Surface polishing can be performed by bringing the buff into contact with the surface of the support that moves in the direction.

バフとしては、例えば綿バフ、鉄バフ、サイザル麻バフ、ネルバフ、フェルトバフ等が挙げられる。
バフの種類は、繊維方向や積層構成の違いにより、ばらバフ、バイアスバフ、固バフ、縫いバフ及びひだバフ等に分類されるが、これらのいずれも使用することが可能である。
中でもバイアスバフは、厚さの調整等を行い易いため、好適に用いることができる。また、ひだバフは、ひだの折り込み具合を調整することにより研磨強度を調整できるため、好適に用いることができる。
Examples of the buff include cotton buff, iron buff, sisal buff, nerbuff, felt buff and the like.
The types of buffs are classified into loose buffs, bias buffs, solid buffs, sewing buffs, fold buffs, etc., depending on the fiber direction and the laminated composition, and any of these can be used.
Among them, the bias buff can be preferably used because it is easy to adjust the thickness and the like. Further, the fold buff can be suitably used because the polishing strength can be adjusted by adjusting the folding condition of the fold.

バフ研磨剤としては、固形バフ研磨剤(棒状バフ研磨剤)と液状バフ研磨剤とに大別され、いずれも使用することが可能である。
固形バフ研磨剤(棒状バフ研磨剤)としては、油脂性の固形バフ研磨剤又は非油脂性の固形バフ研磨剤が挙げられるが、一般には、油脂性の固形バフ研磨剤が用いられる。油脂性の固形バフ研磨剤は、例えば脂肪酸、硬化油又は松脂等の、動物性、植物性又は鉱物性等の油脂類と、研磨材とをそれぞれ適量ずつ配合し、混合して棒状等に成形したものを用いることができる。研磨材としては、例えばトリポリ、ケイ石微粉、酸化鉄、アルミナ(焼成アルミナ、溶融アルミナ微粉)、酸化クロム、珪藻土等を用いることができる。
また、研磨材の粒径は、用途に応じて適宜選択して用いることができる。
The buffing agent is roughly classified into a solid buffing agent (rod-shaped buffing agent) and a liquid buffing agent, and any of them can be used.
Examples of the solid buff abrasive (rod-shaped buff abrasive) include oil-based solid buff abrasives and non-oil-based solid buff abrasives, but oil-based solid buff abrasives are generally used. The oil-based solid buffing agent is formed into a rod shape or the like by blending an appropriate amount of each of animal, vegetable or mineral oils and fats such as fatty acid, hydrogenated oil or pine oil and an abrasive. Can be used. As the abrasive, for example, tripoli, diatomaceous earth fine powder, iron oxide, alumina (calcined alumina, molten alumina fine powder), chromium oxide, diatomaceous earth and the like can be used.
Further, the particle size of the abrasive can be appropriately selected and used according to the intended use.

バフ面に対する潤滑作用及び飛散防止効果と、研磨能力との両立を図る点から、棒状バフ研磨剤(固形バフ研磨剤)の全量に対する油脂類の重量比率は、20~30%であることが好ましい。
棒状バフ研磨剤(固形バフ研磨剤)のバフ表面への塗布は、作業者が手塗りで行ってもよいし、固形バフ研磨剤自動塗布装置を用いて行ってもよい。
The weight ratio of oils and fats to the total amount of the rod-shaped buff abrasive (solid buff abrasive) is preferably 20 to 30% from the viewpoint of achieving both the lubricating action and the scattering prevention effect on the buff surface and the polishing ability. ..
The rod-shaped buffing agent (solid buffing agent) may be applied to the buff surface by hand by an operator or by using an automatic solid buffing agent applying device.

例えば上記した油脂性の固形バフ研磨剤を、バフの表面に押し付けると、押し付けの際に生じる摩擦熱により、固形バフ研磨剤に含まれる油脂が溶け出し、当該固形バフ研磨剤に含まれる研磨材がバフの表面に移動する。このような状態で、支持体にバフの表面を接触させると、支持体の表面には、溶け出した油脂の油膜が形成される。このため、支持体表面への研磨材の食い込みを防止しつつ、支持体表面を平滑に研磨することが可能となる。 For example, when the above-mentioned oil-based solid buff abrasive is pressed against the surface of the buff, the oil and fat contained in the solid buff abrasive is melted by the frictional heat generated during the pressing, and the abrasive contained in the solid buff abrasive is used. Moves to the surface of the buff. When the surface of the buff is brought into contact with the support in such a state, an oil film of melted oil and fat is formed on the surface of the support. Therefore, it is possible to smoothly polish the surface of the support while preventing the polishing material from biting into the surface of the support.

液状バフ研磨剤としては、例えば、上記した固形バフ研磨剤(棒状バフ研磨剤)で用いたのと同様の研磨材及び油脂類を、水と混合してエマルジョン化させたエマルジョン型の研磨剤を好適に用いることができる。
また、液状バフ研磨剤としては、エマルジョン型以外のものとして、例えば油脂性又は非油脂性のものを用いることも可能である。
The liquid buffing agent is, for example, an emulsion-type polishing agent obtained by mixing the same abrasives and oils and fats used in the above-mentioned solid buffing agent (rod-shaped buffing agent) with water and emulsifying them. It can be suitably used.
Further, as the liquid buffing agent, it is also possible to use, for example, a greasy or non-greasy type as a liquid buffing agent other than the emulsion type.

バフ面に対する潤滑作用及び飛散防止効果と、研磨能力との両立を図る点から、液状バフ研磨剤の全量に対する油脂類の重量比率は、20~30%であることが好ましい。
液状バフ研磨剤のバフ表面又は被加工物表面への塗布は、エアスプレ、エアレススプレ、又はスプレーガン内増圧スプレ等を用いた噴射塗布により行ってもよく、ハケ塗り又はロールコート等により行ってもよい。
The weight ratio of the fats and oils to the total amount of the liquid buff abrasive is preferably 20 to 30% from the viewpoint of achieving both the lubricating action and the scattering prevention effect on the buff surface and the polishing ability.
The liquid buffing agent may be applied to the buff surface or the surface of the workpiece by spray application using an air spray, an airless spray, a pressure-increasing spray in a spray gun, or the like, or by brush coating or roll coating. May be good.

バフ研磨を行う場合、例えば、研磨ヘッドの往復動回数や、搬送部材の搬送速度を調整したり、研磨剤に配合する研磨材の種類や粒径を適宜選択することによって、支持体の表面状態を上記のように調整することができる。
研磨ヘッドの往復動回数や、搬送部材の搬送速度は、目標とする支持体の表面状態に応じて適宜調整すればよい。
When buffing is performed, for example, the surface condition of the support is adjusted by adjusting the number of reciprocating movements of the polishing head, the transport speed of the transport member, and appropriately selecting the type and particle size of the abrasive to be mixed with the polishing agent. Can be adjusted as described above.
The number of reciprocating movements of the polishing head and the transport speed of the transport member may be appropriately adjusted according to the surface condition of the target support.

(1-2)ポリイミド前駆体組成物調製工程
前記第1の製造方法において調製するポリイミド前駆体組成物は、ポリイミド前駆体と、有機溶媒とを含有し、必要に応じて添加剤等を含有していてもよい。
ポリイミド前駆体は、テトラカルボン酸成分とジアミン成分との重合によって得られるポリアミド酸である。前記第1の製造方法において、ポリイミド前駆体に用いられるテトラカルボン酸成分及びジアミン成分は特に限定はされず、例えば、上述したテトラカルボン酸成分及びジアミン成分を挙げることができる。
(1-2) Polyimide Precursor Composition Preparation Step The polyimide precursor composition prepared in the first production method contains a polyimide precursor and an organic solvent, and if necessary, contains additives and the like. May be.
The polyimide precursor is a polyamic acid obtained by polymerizing a tetracarboxylic acid component and a diamine component. In the first production method, the tetracarboxylic acid component and the diamine component used in the polyimide precursor are not particularly limited, and examples thereof include the above-mentioned tetracarboxylic acid component and the diamine component.

ポリイミド前駆体の数平均分子量は、フィルムとした際の強度の点から、2000以上であることが好ましく、更に4000以上であることが好ましい。一方、数平均分子量が大きすぎると、高粘度となり作業性が低下の恐れがある点から、1000000以下であることが好ましく、更に500000以下であることが好ましい。
ポリイミド前駆体の数平均分子量は、NMR(例えば、BRUKER製、AVANCEIII)により求めることができる。例えば、ポリイミド前駆体溶液をガラス板に塗布して100℃で5分乾燥後、固形分10mgをジメチルスルホキシド-d6溶媒7.5mlに溶解し、NMR測定を行い、芳香族環に結合している水素原子のピーク強度比から数平均分子量を算出することができる。
The number average molecular weight of the polyimide precursor is preferably 2000 or more, and more preferably 4000 or more, from the viewpoint of the strength of the film. On the other hand, if the number average molecular weight is too large, the viscosity becomes high and the workability may be deteriorated. Therefore, it is preferably 1,000,000 or less, and more preferably 500,000 or less.
The number average molecular weight of the polyimide precursor can be determined by NMR (for example, manufactured by BRUKER, AVANCE III). For example, a polyimide precursor solution is applied to a glass plate and dried at 100 ° C. for 5 minutes, then 10 mg of solid content is dissolved in 7.5 ml of a dimethyl sulfoxide-d6 solvent, NMR measurement is performed, and the mixture is bonded to an aromatic ring. The number average molecular weight can be calculated from the peak intensity ratio of hydrogen atoms.

また、ポリイミド前駆体は、フィルムとした際の強度の点から、重量平均分子量が、2000以上であることが好ましく、4000以上であることがより好ましい。一方、重量平均分子量が大きすぎると、高粘度となり、ろ過などの作業性が低下の恐れがある点から、1000000以下であることが好ましく、更に500000以下であることが好ましい。
ポリイミド前駆体の重量平均分子量は、ポリイミド前駆体を0.5重量%の濃度のN-メチルピロリドン(NMP)溶液とし、その溶液をシリンジフィルター(孔径:0.45μm)に通じて濾過させ、展開溶媒として、含水量500ppm以下の10mmol%LiBr-NMP溶液を用い、GPC装置(東ソー製、HLC-8120、検出器:示差屈折率(RID)検出器、使用カラム:SHODEX製GPC LF-804を2本直列に接続)を用い、サンプル打ち込み量50μL、溶媒流量0.4mL/分、カラム温度37℃、検出器温度37℃の条件で測定を行う。ポリイミドの重量平均分子量は、サンプルと同濃度のポリスチレン標準サンプル(重量平均分子量:364,700、204,000、103,500、44,360,27,500、13,030、6,300、3,070)を基準に測定した標準ポリスチレンに対する換算値とする。溶出時間を検量線と比較し、重量平均分子量を求める。
Further, the polyimide precursor preferably has a weight average molecular weight of 2000 or more, and more preferably 4000 or more, from the viewpoint of strength when formed into a film. On the other hand, if the weight average molecular weight is too large, the viscosity becomes high and the workability such as filtration may be deteriorated. Therefore, it is preferably 1,000,000 or less, and more preferably 500,000 or less.
For the weight average molecular weight of the polyimide precursor, the polyimide precursor is prepared as a solution of N-methylpyrrolidone (NMP) having a concentration of 0.5% by weight, and the solution is filtered through a syringe filter (pore size: 0.45 μm) to develop the solution. As a solvent, a 10 mmol% LiBr-NMP solution having a water content of 500 ppm or less was used, and a GPC device (HLC-8120 manufactured by Tosoh Co., Ltd., detector: differential refractometer (RID) detector, column used: GPC LF-804 manufactured by SHODEX) was used. (Connected in series), the measurement is performed under the conditions of a sample injection amount of 50 μL, a solvent flow rate of 0.4 mL / min, a column temperature of 37 ° C., and a detector temperature of 37 ° C. The weight average molecular weight of the polyimide is a polystyrene standard sample having the same concentration as the sample (weight average molecular weight: 364,700, 204,000, 103,500, 44,360,27,500, 13,030, 6,300, 3, It is a conversion value with respect to the standard polystyrene measured with reference to 070). Compare the elution time with the calibration curve to determine the weight average molecular weight.

ポリイミド前駆体溶液は、上述のテトラカルボン酸成分とジアミン成分とを、有機溶媒中で反応させて得ることができる。
ポリイミド前駆体(ポリアミド酸)の合成に用いる有機溶媒としては、上述のテトラカルボン酸成分及びジアミン成分を溶解可能であれば特に制限はなく、例えば非プロトン性極性溶剤又は水溶性アルコール系溶剤等を用い得る。本発明においては、中でも、N-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等の窒素原子を含む有機溶媒;γ-ブチロラクトン等を用いることが好ましい。中でも、窒素原子を含む有機溶媒を用いることが好ましく、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン若しくはこれらの組み合わせを用いることがより好ましい。なお、有機溶媒とは、炭素原子を含む溶媒である。
なお、ポリイミド前駆体溶液は、予め合成された固体のポリイミド前駆体を有機溶媒に溶解させることにより、準備してもよい。
The polyimide precursor solution can be obtained by reacting the above-mentioned tetracarboxylic acid component and diamine component in an organic solvent.
The organic solvent used for the synthesis of the polyimide precursor (polyamic acid) is not particularly limited as long as the above-mentioned tetracarboxylic acid component and diamine component can be dissolved, and for example, an aprotonic polar solvent or a water-soluble alcohol solvent may be used. Can be used. In the present invention, among others, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, hexamethylphosphoramide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, etc. It is preferable to use an organic solvent containing a nitrogen atom of γ-butyrolactone or the like. Among them, it is preferable to use an organic solvent containing a nitrogen atom, and it is more preferable to use N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone or a combination thereof. The organic solvent is a solvent containing a carbon atom.
The polyimide precursor solution may be prepared by dissolving a pre-synthesized solid polyimide precursor in an organic solvent.

また、前記ポリイミド前駆体溶液を、2種以上のジアミンを組み合わせて調製する場合、2種以上のジアミンの混合溶液に酸二無水物を添加し、ポリアミド酸を合成してもよいし、2種以上のジアミン成分を適切なモル比で段階を踏んで反応液に添加し、ある程度、各原料が高分子鎖へ組み込まれるシーケンスをコントロールしてもよい。
主鎖にケイ素原子を1個又は2個有するジアミンを用いる場合は、たとえば、主鎖にケイ素原子を1個又は2個有するジアミンが溶解された反応液に、主鎖にケイ素原子を1個又は2個有するジアミンの0.5等量のモル比の酸二無水物を投入し反応させることで、酸二無水物の両端に主鎖にケイ素原子を1個又は2個有するジアミンが反応したアミド酸を合成し、そこへ、残りのジアミンを全部、又は一部投入し、酸二無水物を加えてポリアミド酸を重合しても良い。
この方法で重合すると、主鎖にケイ素原子を1個又は2個有するジアミンが1つの酸二無水物を介して、連結した形でポリアミド酸の中に導入される。このような方法でポリアミド酸を重合することは、主鎖にケイ素原子を1個又は2個有するアミド酸の位置関係がある程度特定され、耐衝撃性及び屈曲耐性の優れた膜を得易い点から好ましい。
Further, when the polyimide precursor solution is prepared by combining two or more kinds of diamines, an acid dianhydride may be added to a mixed solution of two or more kinds of diamines to synthesize polyamic acid, or two kinds of diamines may be synthesized. The above diamine components may be added to the reaction solution step by step at an appropriate molar ratio to control the sequence in which each raw material is incorporated into the polymer chain to some extent.
When a diamine having one or two silicon atoms in the main chain is used, for example, one silicon atom or one silicon atom in the main chain is used in a reaction solution in which a diamine having one or two silicon atoms in the main chain is dissolved. By adding an acid dianhydride having a molar ratio of 0.5 equal to that of two diamines and reacting them, an amide reacted with a diamine having one or two silicon atoms in the main chain at both ends of the acid dianhydride. An acid may be synthesized, the remaining diamine may be added in whole or in part thereof, and an acid dianhydride may be added to polymerize the polyamic acid.
When polymerized by this method, a diamine having one or two silicon atoms in the main chain is introduced into the polyamic acid in a linked form via one acid dianhydride. Polymerizing a polyamic acid by such a method is from the viewpoint that the positional relationship of the amic acid having one or two silicon atoms in the main chain can be specified to some extent, and a film having excellent impact resistance and bending resistance can be easily obtained. preferable.

ポリイミド前駆体(ポリアミド酸)を合成する際に、前述した有機溶媒中で重合させる、ジアミン成分のモル数をX、テトラカルボン酸成分のモル数をYとしたとき、Y/Xを0.9以上1.1以下とすることが好ましく、0.95以上1.05以下とすることがより好ましく、0.97以上1.03以下とすることがさらに好ましく、0.99以上1.01以下とすることが特に好ましい。このような範囲とすることにより得られるポリアミド酸の分子量(重合度)を適度に調整することができる。
重合反応の手順は、公知の方法を適宜選択して用いることができ、特に限定されない。
When synthesizing the polyimide precursor (polyamic acid), Y / X is 0.9 when the number of moles of the diamine component to be polymerized in the above-mentioned organic solvent is X and the number of moles of the tetracarboxylic acid component is Y. It is preferably 1.1 or more, more preferably 0.95 or more and 1.05 or less, further preferably 0.97 or more and 1.03 or less, and 0.99 or more and 1.01 or less. It is particularly preferable to do so. Within such a range, the molecular weight (degree of polymerization) of the polyamic acid obtained can be appropriately adjusted.
The procedure of the polymerization reaction can be appropriately selected and used by a known method, and is not particularly limited.

ポリイミド前駆体組成物は、合成反応により得られたポリイミド前駆体溶液をそのまま用い、そこに必要に応じて他の成分を混合して調製しても良いし、ポリイミド前駆体溶液の有機溶媒を乾燥させ、別の有機溶媒に溶解して調製しても良い。 The polyimide precursor composition may be prepared by using the polyimide precursor solution obtained by the synthetic reaction as it is and mixing it with other components as needed, or drying the organic solvent of the polyimide precursor solution. It may be prepared by dissolving it in another organic solvent.

前記ポリイミド前駆体組成物は、前記ポリイミド前駆体溶液に、必要に応じて添加剤を含有していてもよい。前記添加剤としては、前述のポリイミドフィルムにおいて説明したものと同様のものを用いることができる。 The polyimide precursor composition may contain an additive in the polyimide precursor solution, if necessary. As the additive, the same one as described in the above-mentioned polyimide film can be used.

前記ポリイミド前駆体組成物に用いられる有機溶媒は、前記ポリイミド前駆体が溶解可能であれば特に制限はない。例えば、N-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等の窒素原子を含む有機溶媒;γ-ブチロラクトン;及びこれらの混合溶媒等を用いることができるが、中でも、窒素原子を含む有機溶媒を用いることが好ましい。 The organic solvent used in the polyimide precursor composition is not particularly limited as long as the polyimide precursor can be dissolved. For example, it contains nitrogen atoms such as N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, hexamethylphosphoramide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone. Organic solvents; γ-butylolactone; and mixed solvents thereof can be used, but among them, it is preferable to use an organic solvent containing a nitrogen atom.

前記ポリイミド前駆体組成物中の前記ポリイミド前駆体の含有量は、均一な塗膜及びハンドリング可能な強度を有するポリイミドフィルムを形成する点から、前記ポリイミド前駆体組成物の固形分中に50質量%以上であることが好ましく、更に60質量%以上であることが好ましく、上限は含有成分により適宜調整されればよい。
前記ポリイミド前駆体組成物中の有機溶媒は、均一な塗膜及びポリイミドフィルムを形成する点から、前記ポリイミド前駆体組成物中に40質量%以上であることが好ましく、更に50質量%以上であることが好ましく、また99質量%以下であることが好ましい。
The content of the polyimide precursor in the polyimide precursor composition is 50% by mass in the solid content of the polyimide precursor composition from the viewpoint of forming a polyimide film having a uniform coating film and handleable strength. The above is preferable, and more preferably 60% by mass or more, and the upper limit may be appropriately adjusted depending on the contained components.
The organic solvent in the polyimide precursor composition is preferably 40% by mass or more, more preferably 50% by mass or more in the polyimide precursor composition from the viewpoint of forming a uniform coating film and a polyimide film. It is preferably 99% by mass or less.

また、前記ポリイミド前駆体組成物は、含有水分量が1000ppm以下であることが、ポリイミド前駆体組成物の保存安定性が良好になり、生産性を向上することができる点から好ましい。ポリイミド前駆体組成物中に水分を多く含むと、ポリイミド前駆体が分解しやすくなる恐れがある。
なお、ポリイミド前駆体組成物の含有水分量は、カールフィッシャー水分計(例えば、三菱化学株式会社製、微量水分測定装置CA-200型)を用いて求めることができる。
Further, it is preferable that the water content of the polyimide precursor composition is 1000 ppm or less because the storage stability of the polyimide precursor composition is improved and the productivity can be improved. If the polyimide precursor composition contains a large amount of water, the polyimide precursor may be easily decomposed.
The water content of the polyimide precursor composition can be determined using a Karl Fisher Moisture Meter (for example, Mitsubishi Chemical Corporation, trace moisture measuring device CA-200 type).

前記ポリイミド前駆体組成物の25℃での粘度は、均一な塗膜及びポリイミドフィルムを形成する点から、500cps以上100000cps以下であることが好ましい。
ポリイミド前駆体組成物の粘度は、粘度計(例えば、TVE-22HT、東機産業株式会社)を用いて、25℃で、サンプル量0.8mlとして測定することができる。
The viscosity of the polyimide precursor composition at 25 ° C. is preferably 500 cps or more and 100,000 cps or less from the viewpoint of forming a uniform coating film and a polyimide film.
The viscosity of the polyimide precursor composition can be measured using a viscometer (for example, TVE-22HT, Toki Sangyo Co., Ltd.) at 25 ° C. with a sample volume of 0.8 ml.

(1-3)ポリイミド前駆体組成物塗膜形成工程
前記(1-1)支持体の表面研磨工程において表面研磨した前記支持体の表面に、前記ポリイミド前駆体組成物を塗布して、前記ポリイミド前駆体組成物の塗膜を形成する。
(1-3) Polyimide precursor composition coating film forming step The polyimide precursor composition is applied to the surface of the support whose surface has been polished in the surface polishing step of the support (1-1), and the polyimide is applied. A coating film of the precursor composition is formed.

前記塗布手段は目的とする膜厚で塗布可能な方法であれば特に制限はなく、例えばダイコータ、コンマコータ、ロールコータ、グラビアコータ、カーテンコータ、スプレーコータ、リップコータ等の公知のものを用いることができる。
塗布は、枚葉式の塗布装置により行ってもよく、ロールtoロール方式の塗布装置により行ってもよい。
The coating means is not particularly limited as long as it can be coated with a desired film thickness, and for example, known ones such as a die coater, a comma coater, a roll coater, a gravure coater, a curtain coater, a spray coater, and a lip coater can be used. ..
The coating may be performed by a single-wafer coating device or a roll-to-roll coating device.

(1-4)ポリイミド前駆体組成物塗膜乾燥工程
ポリイミド前駆体組成物を支持体に塗布した後は、塗膜がタックフリーとなるまで、150℃以下の温度、好ましくは30℃以上120℃以下で前記塗膜中の有機溶媒を乾燥する。有機溶媒の乾燥温度を150℃以下とすることにより、ポリアミド酸のイミド化を抑制することができる。
(1-4) Polyimide precursor composition coating film drying step After the polyimide precursor composition is applied to the support, the temperature is 150 ° C. or lower, preferably 30 ° C. or higher and 120 ° C. until the coating film becomes tack-free. The organic solvent in the coating film is dried below. By setting the drying temperature of the organic solvent to 150 ° C. or lower, the imidization of the polyamic acid can be suppressed.

乾燥時間は、ポリイミド前駆体塗膜の膜厚や、有機溶媒の種類、乾燥温度等に応じて適宜調整されれば良いが、通常1分~60分、好ましくは2分~30分とすることが好ましい。上限値を超える場合には、ポリイミドフィルムの作製効率の面から好ましくない。一方、下限値を下回る場合には、急激な有機溶媒の乾燥によって、得られるポリイミドフィルムの外観等に影響を与える恐れがある。 The drying time may be appropriately adjusted according to the film thickness of the polyimide precursor coating film, the type of organic solvent, the drying temperature, etc., but is usually 1 minute to 60 minutes, preferably 2 minutes to 30 minutes. Is preferable. If it exceeds the upper limit, it is not preferable from the viewpoint of the production efficiency of the polyimide film. On the other hand, if it is below the lower limit, the appearance of the obtained polyimide film may be affected by the rapid drying of the organic solvent.

有機溶媒の乾燥方法は、上記温度で有機溶媒の乾燥が可能であれば特に制限はなく、例えばオーブンや、乾燥炉、ホットプレート、赤外線加熱等を用いることが可能である。
光学特性の高度な管理が必要な場合、有機溶媒の乾燥時の雰囲気は、不活性ガス雰囲気下であることが好ましい。不活性ガス雰囲気下としては、窒素雰囲気下であることが好ましく、酸素濃度が100ppm以下であることが好ましく、50ppm以下であることがより好ましい。大気下で熱処理を行うと、フィルムが酸化され、着色したり、性能が低下する可能性がある。
The method for drying the organic solvent is not particularly limited as long as the organic solvent can be dried at the above temperature, and for example, an oven, a drying oven, a hot plate, infrared heating, or the like can be used.
When a high degree of control of optical properties is required, the atmosphere of the organic solvent during drying is preferably an inert gas atmosphere. The inert gas atmosphere is preferably a nitrogen atmosphere, preferably an oxygen concentration of 100 ppm or less, and more preferably 50 ppm or less. Heat treatment in the air can oxidize the film, causing it to color or reduce its performance.

(1-5)イミド化工程
前記ポリイミド前駆体組成物に含まれる前記ポリイミド前駆体をイミド化する。当該製造方法において、延伸工程を有する場合、イミド化工程は、延伸工程前の前記ポリイミド前駆体塗膜中のポリイミド前駆体に対して行っても良いし、延伸工程後の前記ポリイミド前駆体塗膜中のポリイミド前駆体に対して行っても良いし、延伸工程前の前記ポリイミド前駆体塗膜中のポリイミド前駆体及び延伸工程後の膜中に存在するポリイミド前駆体の両方に対して行っても良い。
前記第一の製造方法においては、加熱をすることにより、前記ポリイミド前駆体をイミド化する。イミド化の温度は、ポリイミド前駆体の構造に合わせて適宜選択されれば良い。通常、昇温開始温度を30℃以上とすることが好ましく、100℃以上とすることがより好ましい。一方、昇温終了温度は250℃以上とすることが好ましい。
光学特性、吸湿性、寸法安定性、耐溶剤性等の点から、昇温終了温度をポリイミド前駆体をイミド化したポリイミドのガラス転移温度±30℃の範囲内とすることが好ましく、ポリイミドのガラス転移温度±20℃の範囲内とすることがより好ましく、ポリイミドのガラス転移温度±15℃の範囲内とすることがより更に好ましい。イミド化の温度が高すぎると、ポリイミド乃至ポリイミド前駆体の骨格内で酸化することにより、ポリイミドフィルムが着色する場合があり、イミド化の温度が低すぎると、イミド化が十分に進行しない場合がある。
(1-5) Imidization Step The polyimide precursor contained in the polyimide precursor composition is imidized. When the manufacturing method has a stretching step, the imidization step may be performed on the polyimide precursor in the polyimide precursor coating before the stretching step, or the polyimide precursor coating after the stretching step. It may be performed on the polyimide precursor inside, or on both the polyimide precursor in the polyimide precursor coating film before the stretching step and the polyimide precursor existing in the film after the stretching step. good.
In the first production method, the polyimide precursor is imidized by heating. The imidization temperature may be appropriately selected according to the structure of the polyimide precursor. Usually, the temperature rise start temperature is preferably 30 ° C. or higher, and more preferably 100 ° C. or higher. On the other hand, the temperature rise end temperature is preferably 250 ° C. or higher.
From the viewpoint of optical characteristics, moisture absorption, dimensional stability, solvent resistance, etc., it is preferable that the temperature rise end temperature is within the range of the glass transition temperature of the polyimide imimized with the polyimide precursor ± 30 ° C., and the polyimide glass. The transition temperature is more preferably within the range of ± 20 ° C., and the transition temperature is more preferably within the range of ± 15 ° C. of the glass transition temperature of the polyimide. If the imidization temperature is too high, the polyimide film may be colored by oxidation in the skeleton of the polyimide or the polyimide precursor, and if the imidization temperature is too low, the imidization may not proceed sufficiently. be.

昇温速度は、得られるポリイミド層の膜厚によって適宜選択することが好ましく、ポリイミド層の膜厚が厚い場合には、昇温速度を遅くすることが好ましい。
ポリイミドフィルムの製造効率の点から、5℃/分以上とすることが好ましく、10℃/分以上とすることが更に好ましい。一方、昇温速度の上限は、通常50℃/分とされ、好ましくは40℃/分以下、さらに好ましくは30℃/分以下である。上記昇温速度とすることが、フィルムの外観不良や強度低下の抑制、イミド化反応に伴う白化をコントロールでき、光透過性が向上する点から好ましい。
The temperature rising rate is preferably appropriately selected depending on the film thickness of the obtained polyimide layer, and when the film thickness of the polyimide layer is thick, it is preferable to slow down the temperature rising rate.
From the viewpoint of the production efficiency of the polyimide film, the temperature is preferably 5 ° C./min or more, and more preferably 10 ° C./min or more. On the other hand, the upper limit of the temperature rising rate is usually 50 ° C./min, preferably 40 ° C./min or less, and more preferably 30 ° C./min or less. It is preferable to set the temperature rise rate from the viewpoint of suppressing poor appearance and decrease in strength of the film, controlling whitening due to the imidization reaction, and improving light transmission.

昇温は、連続的でも段階的でもよいが、連続的とすることが、フィルムの外観不良や強度低下の抑制、イミド化反応に伴う白化のコントロールの面から好ましい。また、上述の全温度範囲において、昇温速度を一定としてもよく、また途中で変化させてもよい。 The temperature rise may be continuous or stepwise, but it is preferable to raise the temperature continuously from the viewpoints of suppressing poor appearance and strength deterioration of the film and controlling whitening associated with the imidization reaction. Further, the temperature rising rate may be constant or may be changed in the middle of the above-mentioned entire temperature range.

イミド化の昇温時の雰囲気は、不活性ガス雰囲気下であることが好ましい。不活性ガス雰囲気下としては、窒素雰囲気下であることが好ましく、酸素濃度が500ppm以下であることが好ましく、200ppm以下であることがより好ましく、100ppm以下であることがより好ましい。大気下で熱処理を行うと、フィルムが酸化され、着色したり、性能が低下する可能性がある。
ただし、ポリイミドに含まれる炭素原子に結合する水素原子の50%以上が、芳香族環に直接結合する水素原子である場合は、光学特性に対する酸素の影響が少なく、不活性ガス雰囲気を用いなくても光透過性の高いポリイミドが得られる。
The atmosphere at the time of temperature rise of imidization is preferably an inert gas atmosphere. The inert gas atmosphere is preferably a nitrogen atmosphere, preferably an oxygen concentration of 500 ppm or less, more preferably 200 ppm or less, and even more preferably 100 ppm or less. Heat treatment in the air can oxidize the film, causing it to color or reduce its performance.
However, when 50% or more of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms contained in the polyimide are hydrogen atoms directly bonded to the aromatic ring, the influence of oxygen on the optical properties is small, and an inert gas atmosphere is not used. A polyimide having high light transmittance can be obtained.

イミド化のための加熱方法は、上記温度で昇温が可能であれば特に制限はなく、例えばオーブンや、加熱炉、赤外線加熱、電磁誘導加熱等を用いることが可能である。 The heating method for imidization is not particularly limited as long as the temperature can be raised at the above temperature, and for example, an oven, a heating furnace, infrared heating, electromagnetic induction heating or the like can be used.

中でも、延伸工程前に、ポリイミド前駆体のイミド化率を50%以上とすることがより好ましい。延伸工程前にイミド化率を50%以上とすることにより、当該工程後に延伸を行い、その後さらに高い温度で一定時間加熱を行い、イミド化を行った場合であっても、フィルムの外観不良や白化が抑制される。中でもポリイミドフィルムの耐衝撃性が向上する点から、延伸工程前に、当該イミド化工程において、イミド化率を80%以上とすることが好ましく、90%以上、さらには100%まで反応を進行させることが好ましい。イミド化後に延伸することにより、剛直な高分子鎖が配向しやすいことから耐衝撃性が向上すると推定される。
なお、イミド化率の測定は、赤外測定(IR)によるスペクトルの分析等により行うことができる。
Above all, it is more preferable to set the imidization ratio of the polyimide precursor to 50% or more before the stretching step. By setting the imidization ratio to 50% or more before the stretching step, even when stretching is performed after the step and then heating is performed at a higher temperature for a certain period of time to perform imidization, the appearance of the film may be poor. Whitening is suppressed. Above all, from the viewpoint of improving the impact resistance of the polyimide film, it is preferable to set the imidization ratio to 80% or more, further to 90% or more, and further to 100% in the imidization step before the stretching step. Is preferable. It is presumed that the impact resistance is improved by stretching after imidization because the rigid polymer chains are easily oriented.
The imidization rate can be measured by analyzing the spectrum by infrared measurement (IR) or the like.

最終的なポリイミドフィルムを得るには、イミド化を90%以上、さらには95%以上、さらには100%まで反応を進行させることが好ましい。
イミド化を90%以上、さらには100%まで反応を進行させるには、昇温終了温度で一定時間保持することが好ましく、当該保持時間は、通常1分~180分、更に、5分~150分とすることが好ましい。
In order to obtain the final polyimide film, it is preferable to proceed the reaction to 90% or more, further 95% or more, and further 100% of imidization.
In order to allow the reaction to proceed to 90% or more and even 100% of imidization, it is preferable to keep the temperature at the end temperature for a certain period of time, and the holding time is usually 1 minute to 180 minutes, further 5 minutes to 150 minutes. It is preferably a minute.

(1-6)延伸工程
第一の製造方法は、前記ポリイミド前駆体塗膜、及び、前記ポリイミド前駆体塗膜をイミド化したイミド化後塗膜の少なくとも一方を延伸する延伸工程を有していてもよい。当該延伸工程を有する場合は、中でも、イミド化後塗膜を延伸する工程を含むことが、ポリイミドフィルムの表面硬度が向上する点から好ましい。
(1-6) Stretching Step The first manufacturing method includes a stretching step of stretching at least one of the polyimide precursor coating film and the imidized coating film obtained by imidizing the polyimide precursor coating film. You may. When the stretching step is provided, it is particularly preferable to include a step of stretching the coating film after imidization from the viewpoint of improving the surface hardness of the polyimide film.

第一の製造方法では、延伸を実施する前の初期の寸法を100%とした時に101%以上10000%以下延伸する工程を、80℃以上で加熱しながら行うことが好ましい。
延伸時の加熱温度は、ポリイミド乃至ポリイミド前駆体のガラス転移温度±50℃の範囲内であることが好ましく、ガラス転移温度±40℃の範囲内であることが好ましい。延伸温度が低すぎるとフィルムが変形せず充分に配向を誘起できない恐れがある。一方で、延伸温度が高すぎると延伸によって得られた配向が温度で緩和し、充分な配向が得られない恐れがある。
延伸工程は、イミド化工程と同時に行っても良い。イミド化率80%以上、更に90%
以上、より更に95%以上、特に実質的に100%イミド化を行った後のイミド化後塗膜を延伸することが、ポリイミドフィルムの表面硬度を向上する点から好ましい。
In the first production method, it is preferable to carry out the step of stretching 101% or more and 10000% or less while heating at 80 ° C. or higher when the initial size before the stretching is set to 100%.
The heating temperature during stretching is preferably in the range of the glass transition temperature of the polyimide or the polyimide precursor ± 50 ° C., and preferably in the range of the glass transition temperature ± 40 ° C. If the stretching temperature is too low, the film may not be deformed and sufficient orientation may not be induced. On the other hand, if the stretching temperature is too high, the orientation obtained by stretching may be relaxed by the temperature, and sufficient orientation may not be obtained.
The stretching step may be performed at the same time as the imidization step. Imidization rate of 80% or more, further 90%
As described above, it is preferable to stretch the imidized coating film after imidization of 95% or more, particularly substantially 100%, from the viewpoint of improving the surface hardness of the polyimide film.

ポリイミドフィルムの延伸倍率は、好ましくは101%以上10000%以下であり、
さらに好ましくは101%以上500%以下である。上記範囲で延伸を行うことにより、
得られるポリイミドフィルムの耐衝撃性をより向上することができる。
The draw ratio of the polyimide film is preferably 101% or more and 10000% or less.
More preferably, it is 101% or more and 500% or less. By stretching in the above range,
The impact resistance of the obtained polyimide film can be further improved.

延伸時におけるポリイミドフィルムの固定方法は、特に制限はなく、延伸装置の種類等に合わせて選択される。また、延伸方法は特に制限はなく、例えばテンター等の搬送装置を有する延伸装置を用い、加熱炉を通しながら延伸することが可能である。ポリイミドフィルムは、一方向のみに延伸(縦延伸又は横延伸)してもよく、また同時2軸延伸、若しくは逐次2軸延伸、斜め延伸等によって、二方向に延伸処理を行ってもよい。 The method for fixing the polyimide film at the time of stretching is not particularly limited, and is selected according to the type of stretching device and the like. Further, the stretching method is not particularly limited, and it is possible to stretch while passing through a heating furnace by using a stretching device having a transport device such as a tenter, for example. The polyimide film may be stretched in only one direction (longitudinal stretching or transverse stretching), or may be stretched in two directions by simultaneous biaxial stretching, sequential biaxial stretching, diagonal stretching, or the like.

(第二の製造方法)
本発明のポリイミドフィルムの製造方法は、例えば、第二の製造方法として、長尺状の支持体の表面を研磨することにより、当該支持体の表面の700μm×700μmの視野における、前記支持体の長手方向に直交する方向に延在し、且つ前記長手方向の幅が、前記長手方向に直交する方向の長さよりも幅狭となるように任意に抽出した第一領域(B1)の表面うねり(Wa1)の平均値(Wa1ave)と、
前記支持体の長手方向に沿う方向に延在し、且つ前記長手方向に直交する方向の幅が、前記長手方向の長さよりも幅狭となるように任意に抽出した第二の領域(B2)の表面うねり(Wa2)の平均値(Wa2ave)との差(Wa1ave-Wa2ave)を、20nm以下とし、且つ、当該支持体の表面の71μm×95μmの視野における表面粗さ(Sa)を1nm以上10nm以下とする工程((2-1)支持体の表面研磨工程)と、
ポリイミドと有機溶媒とを含むポリイミド組成物を調製する工程((2-2)ポリイミド組成物調製工程)と、
前記ポリイミド組成物を前記支持体の表面に塗布してポリイミド組成物の塗膜を形成する工程((2-3)ポリイミド組成物塗膜形成工程)と、
前記ポリイミド組成物の塗膜から前記有機溶媒を除去することにより、ポリイミドフィルムを形成する工程((2-4)ポリイミド組成物塗膜乾燥工程)と、を有する。
(Second manufacturing method)
The method for producing a polyimide film of the present invention is, for example, as a second production method, in which the surface of a long support is polished so that the surface of the support has a field of view of 700 μm × 700 μm. The surface waviness of the first region (B1) arbitrarily extracted so as to extend in the direction orthogonal to the longitudinal direction and to have the width in the longitudinal direction narrower than the length in the direction orthogonal to the longitudinal direction (B1). The average value of Wa1) (Wa1 ave ) and
A second region (B2) arbitrarily extracted so that the width extending along the longitudinal direction of the support and the width in the direction orthogonal to the longitudinal direction is narrower than the length in the longitudinal direction. The difference (Wa1 ave -Wa2 ave ) from the average value (Wa2 ave ) of the surface waviness (Wa2) of the support is 20 nm or less, and the surface roughness (Sa) of the surface of the support in a field of view of 71 μm × 95 μm is set. A step of 1 nm or more and 10 nm or less ((2-1) surface polishing step of the support) and
A step of preparing a polyimide composition containing a polyimide and an organic solvent ((2-2) polyimide composition preparation step) and
A step of applying the polyimide composition to the surface of the support to form a coating film of the polyimide composition ((2-3) polyimide composition coating film forming step).
It comprises a step of forming a polyimide film by removing the organic solvent from the coating film of the polyimide composition ((2-4) step of drying the polyimide composition coating film).

第二の製造方法は、使用するポリイミドが、25℃で有機溶媒に5質量%以上溶解するような溶剤溶解性を有する場合に、好適に用いることができる。 The second production method can be preferably used when the polyimide to be used has a solvent solubility such that it dissolves in an organic solvent at 25 ° C. in an amount of 5% by mass or more.

前記第二の製造方法において、(2-1)支持体の表面研磨工程は、前記第一の製造方法の(1-1)支持体の表面研磨工程と同様とすることができる。また、前記第二の製造方法に用いられる支持体としては、前記第一の製造方法に用いられる支持体と同様のものが挙げられる。
以下、前記第二の製造方法における、ポリイミド組成物を調製する工程(以下、(2-2)ポリイミド組成物調製工程という)と、前記ポリイミド組成物の塗膜を形成する工程(以下、(2-3)ポリイミド組成物塗膜形成工程という)と、前記ポリイミド組成物の塗膜から前記有機溶媒を除去する工程(以下、(2-4)ポリイミド組成物塗膜乾燥工程という)と、について、詳細に説明する。
In the second manufacturing method, the (2-1) surface polishing step of the support can be the same as the (1-1) surface polishing step of the support of the first manufacturing method. In addition, examples of the support used in the second manufacturing method include the same supports as those used in the first manufacturing method.
Hereinafter, in the second production method, a step of preparing a polyimide composition (hereinafter, referred to as (2-2) polyimide composition preparation step) and a step of forming a coating film of the polyimide composition (hereinafter, (2). -3) The step of forming the polyimide composition coating film) and the step of removing the organic solvent from the coating film of the polyimide composition (hereinafter referred to as (2-4) polyimide composition coating film drying step). This will be explained in detail.

(2-2)ポリイミド組成物調製工程
前記第二の製造方法のポリイミド組成物調製工程において用いられるポリイミドは、前述したポリイミドフィルムにおいて説明したのと同様のポリイミドの中から、前述した溶剤溶解性を有するポリイミドを選択して用いることができる。イミド化する方法としては、ポリイミド前駆体の脱水閉環反応について、加熱脱水の代わりに、化学イミド化剤を用いて行う化学イミド化を用いることが好ましい。化学イミド化を行う場合は、脱水触媒としてピリジンやβ―ピコリン酸等のアミン、ジシクロヘキシルカルボジイミドなどのカルボジイミド、無水酢酸等の酸無水物等、公知の化合物を用いても良い。
酸無水物としては無水酢酸に限らず、プロピオン酸無水物、n-酪酸無水物、安息香酸無水物、トリフルオロ酢酸無水物等が挙げられるが特に限定されない。また、その際にピリジンやβ―ピコリン酸等の3級アミンを併用してもよい。ただし、これらアミン類は、フィルム中に残存すると光学特性、特に黄色度(YI値)を低下させるため、前駆体からポリイミドへと反応させた反応液をそのままキャストして製膜するのではなく、再沈殿などにより精製し、ポリイミド以外の成分をそれぞれ、ポリイミド全重量の100ppm以下まで除去してから製膜することが好ましい。
(2-2) Polyimide Composition Preparation Step The polyimide used in the polyimide composition preparation step of the second manufacturing method has the above-mentioned solvent solubility from the same polyimides as described in the above-mentioned polyimide film. The polyimide to be possessed can be selected and used. As a method for imidization, it is preferable to use chemical imidization using a chemical imidizing agent instead of heat dehydration for the dehydration ring closure reaction of the polyimide precursor. When performing chemical imidization, known compounds such as amines such as pyridine and β-picolinic acid, carbodiimides such as dicyclohexylcarbodiimide, and acid anhydrides such as acetic anhydride may be used as the dehydration catalyst.
The acid anhydride is not limited to acetic anhydride, and examples thereof include propionic acid anhydride, n-butyric acid anhydride, benzoic acid anhydride, and trifluoroacetic anhydride, but the acid anhydride is not particularly limited. At that time, a tertiary amine such as pyridine or β-picolinic acid may be used in combination. However, since these amines deteriorate the optical properties, especially the yellowness (YI value) when they remain in the film, the reaction solution reacted from the precursor to the polyimide is not cast as it is to form a film. It is preferable to purify by reprecipitation or the like to remove components other than polyimide to 100 ppm or less of the total weight of the polyimide before forming a film.

なお、前記第二の製造方法のポリイミド組成物調製工程において用いられるポリイミドは、必ずしも、化学イミド化剤を用いて行う、化学イミド化によりイミド化したものに限られず、加熱脱水によりイミド化したものを用いることもできる。 The polyimide used in the polyimide composition preparation step of the second production method is not necessarily limited to imidized by chemical imidization using a chemical imidizing agent, but is imidized by heat dehydration. Can also be used.

前記第二の製造方法のポリイミド組成物調製工程において用いられる有機溶媒としては、前記第一の製造方法における前記ポリイミド前駆体組成物調製工程において説明したものと同様のものを用いることができる。 As the organic solvent used in the polyimide composition preparation step of the second production method, the same one as described in the polyimide precursor composition preparation step of the first production method can be used.

前記ポリイミド組成物は、必要に応じて添加剤を含有していてもよい。前記添加剤としては、前記第一の製造方法における前記ポリイミド前駆体組成物調製工程において説明したものと同様のものを用いることができる。 The polyimide composition may contain an additive, if necessary. As the additive, the same additive as described in the polyimide precursor composition preparation step in the first production method can be used.

前記ポリイミド組成物中の前記ポリイミドの含有量の好適な範囲は、前記ポリイミド前駆体組成物中の前記ポリイミド前駆体の含有量の好適な範囲と同様であってよく、前記ポリイミド組成物の含有水分量の好適な範囲は、前記ポリイミド前駆体組成物の含有水分量の好適な範囲と同様であってよく、前記ポリイミド組成物の25℃での粘度の好適な範囲は、前記ポリイミド前駆体組成物の25℃での粘度の好適な範囲と同様であってよい。 The preferred range of the polyimide content in the polyimide composition may be the same as the preferred range of the polyimide precursor content in the polyimide precursor composition, and the water content of the polyimide composition may be the same. A suitable range of the amount may be the same as a suitable range of the water content of the polyimide precursor composition, and a suitable range of the viscosity of the polyimide composition at 25 ° C. is the polyimide precursor composition. May be similar to the preferred range of viscosity at 25 ° C.

(2-3)ポリイミド組成物塗膜形成工程
ポリイミド組成物塗膜形成工程においては、前記支持体の表面研磨工程において表面研磨した前記支持体の表面に、前記ポリイミド組成物を塗布して、前記ポリイミド組成物の塗膜を形成する。
前記第二の製造方法におけるポリイミド組成物塗膜形成工程において、塗布方法は、前記第一の製造方法のポリイミド前駆体組成物塗膜形成工程において説明したものと同様のものを用いることができる。
(2-3) Polyimide composition coating film forming step In the polyimide composition coating film forming step, the polyimide composition is applied to the surface of the support surface-polished in the surface polishing step of the support, and the above-mentioned Form a coating film of the polyimide composition.
In the polyimide composition coating film forming step in the second manufacturing method, the same coating method as described in the polyimide precursor composition coating film forming step in the first manufacturing method can be used.

(2-4)ポリイミド組成物塗膜乾燥工程
前記第二の製造方法におけるポリイミド組成物塗膜乾燥工程における乾燥方法は、前記第一の製造方法のポリイミド前駆体組成物塗膜乾燥工程において説明したものと同様のものを用いることができる。
前記ポリイミド組成物塗膜乾燥工程において、乾燥温度としては、常圧下では80℃以上150℃以下とすることが好ましい。減圧下では10℃以上100℃以下の範囲とすることが好ましい。
前記ポリイミド組成物塗膜乾燥工程における乾燥時間及び乾燥時の雰囲気は、前記第一の製造方法のポリイミド前駆体組成物塗膜乾燥工程において説明した乾燥時間及び乾燥時の雰囲気と同様であってよい。
(2-4) Polyimide Composition Coating Drying Step The drying method in the polyimide composition coating drying step in the second manufacturing method was described in the polyimide precursor composition coating drying step in the first manufacturing method. The same thing as the one can be used.
In the polyimide composition coating film drying step, the drying temperature is preferably 80 ° C. or higher and 150 ° C. or lower under normal pressure. Under reduced pressure, the temperature is preferably in the range of 10 ° C. or higher and 100 ° C. or lower.
The drying time and the atmosphere at the time of drying in the polyimide composition coating film drying step may be the same as the drying time and the atmosphere at the time of drying described in the polyimide precursor composition coating film drying step of the first production method. ..

(2-5)延伸工程
また、前記第二の製造方法は、全てのポリイミド組成物塗膜を形成した後、ポリイミド組成物塗膜の積層体を延伸する延伸工程を有していてもよい。当該延伸工程は、前記第一の製造方法における延伸工程と同様にすることができる。
(2-5) Stretching Step Further, the second manufacturing method may include a stretching step of stretching the laminate of the polyimide composition coating film after forming all the polyimide composition coating films. The stretching step can be the same as the stretching step in the first manufacturing method.

また、本発明のポリイミドフィルムの製造方法は、上述した工程により得られたポリイミドフィルムに、例えば、けん化処理、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線処理、火炎処理等の表面処理を施してもよい。 Further, in the method for producing a polyimide film of the present invention, the polyimide film obtained by the above-mentioned step may be subjected to surface treatment such as saponification treatment, glow discharge treatment, corona discharge treatment, ultraviolet treatment, flame treatment and the like. ..

以上説明した、本発明のポリイミドフィルムの製造方法によれば、前記ポリイミドフィルムにおいて説明したのと同様の特性を有するポリイミドフィルムを得ることができる。 According to the method for producing a polyimide film of the present invention described above, it is possible to obtain a polyimide film having the same characteristics as those described in the polyimide film.

本発明のポリイミドフィルムの製造方法によれば、機能層に対して優れた密着性を示し、且つ、外観が良好であり、光学特性に優れたポリイミドフィルムを得ることができる。 According to the method for producing a polyimide film of the present invention, it is possible to obtain a polyimide film which exhibits excellent adhesion to a functional layer, has a good appearance, and has excellent optical characteristics.

IV.積層体の製造方法
本発明の積層体の製造方法は、前述した本発明のポリイミドフィルムの製造方法により得られたポリイミドフィルムを準備する工程(以下、ポリイミドフィルム準備工程という)と、前記ポリイミドフィルムの支持体と接していた側の面に、機能層形成用組成物の塗膜を形成する工程(以下、機能層用塗膜形成工程という)と、前記塗膜を硬化する工程(以下、塗膜硬化工程という)と、を含む。
IV. Method for Manufacturing Laminates The method for manufacturing a laminate of the present invention includes a step of preparing a polyimide film obtained by the above-mentioned method for manufacturing a polyimide film of the present invention (hereinafter referred to as a polyimide film preparation step) and a step of preparing the polyimide film. A step of forming a coating film of the composition for forming a functional layer on the surface in contact with the support (hereinafter referred to as a coating film forming step for a functional layer) and a step of curing the coating film (hereinafter referred to as a coating film). The curing process) and.

本発明の積層体の製造方法は、前述した本発明の製造方法により得られるポリイミドフィルムを用いるため、製造される積層体は、ポリイミドフィルムの前記支持体と接していた側の面と機能層とが優れた密着性を有し、且つ、外観が良好であり、光学特性に優れたものである。 Since the method for producing the laminate of the present invention uses the polyimide film obtained by the above-mentioned production method of the present invention, the produced laminate has a surface and a functional layer on the side of the polyimide film in contact with the support. Has excellent adhesion, has a good appearance, and has excellent optical characteristics.

(1)ポリイミドフィルム準備工程
本発明の積層体の製造方法において、ポリイミドフィルムを準備する工程では、前述した本発明のポリイミドフィルムの製造方法を用いることができるので、ここでの説明を省略する。
(1) Polyimide Film Preparation Step In the method for manufacturing a laminate of the present invention, the above-mentioned method for manufacturing a polyimide film of the present invention can be used in the step of preparing a polyimide film, and thus the description thereof is omitted here.

(2)機能層用塗膜形成工程
本発明の積層体の製造方法において、機能層用塗膜形成工程では、前述したポリイミドフィルムの前記支持体と接していた側の面に、機能層形成用組成物の塗膜を形成する。
機能層形成用組成物としては、例えば、ポリイミドフィルムの表面硬度の向上のために積層される、ハードコート層形成用組成物が挙げられる。
(2) Functional layer coating film forming step In the functional layer coating film forming step in the method for producing a laminated body of the present invention, the functional layer is formed on the surface of the polyimide film described above in contact with the support. Form a coating film of the composition.
Examples of the composition for forming a functional layer include a composition for forming a hard coat layer, which is laminated to improve the surface hardness of a polyimide film.

前記ハードコート層形成用組成物は、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種を含有し、必要に応じて更に重合開始剤、溶剤及び添加剤等その他の成分を含有するものを用いることができる。 The composition for forming a hard coat layer contains at least one of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound, and if necessary, further contains other components such as a polymerization initiator, a solvent and an additive. be able to.

ここで、前記ハードコート層形成用組成物が含有するラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物、重合開始剤及び添加剤については、前記ハードコート層において説明したものと同様のものを用いることができ、溶剤は、公知の溶剤から適宜選択して用いることができる。 Here, as the radically polymerizable compound, the cationically polymerizable compound, the polymerization initiator and the additive contained in the composition for forming the hard coat layer, the same ones as described in the above hard coat layer can be used. , The solvent can be appropriately selected from known solvents and used.

ポリイミドフィルムの少なくとも前記支持体と接していた側の面に、前記ハードコート層形成用組成物の塗膜を形成する方法としては、例えば、ポリイミドフィルムの少なくとも前記支持体と接していた側の面に、前記ハードコート層形成用組成物を、公知の塗布手段により塗布する方法が挙げられる。
前記塗布手段は、目的とする膜厚で塗布可能な方法であれば特に制限はなく、例えば、
前記ポリイミド前駆体組成物を支持体に塗布する手段と同様のものが挙げられる。
なお、前記ハードコート層形成用組成物の塗膜は、ポリイミドフィルムの前記支持体と接していた側の面のみに形成してもよいし、ポリイミドフィルムの両面に形成してもよい。
As a method of forming the coating film of the composition for forming the hard coat layer on at least the surface of the polyimide film on the side in contact with the support, for example, the surface of the polyimide film on at least the side in contact with the support. In addition, a method of applying the composition for forming a hard coat layer by a known coating means can be mentioned.
The coating means is not particularly limited as long as it can be coated with a target film thickness, and is, for example,
Examples thereof include the same means as those for applying the polyimide precursor composition to the support.
The coating film of the composition for forming the hard coat layer may be formed only on the surface of the polyimide film that is in contact with the support, or may be formed on both sides of the polyimide film.

前記ハードコート層用硬化性組成物の塗膜は必要に応じて乾燥することにより溶剤を除去する。乾燥方法としては、例えば、減圧乾燥又は加熱乾燥、更にはこれらの乾燥を組み合わせる方法等が挙げられる。また、常圧で乾燥させる場合は、30℃以上110℃以下で乾燥させることが好ましい。 The solvent is removed by drying the coating film of the curable composition for the hard coat layer, if necessary. Examples of the drying method include vacuum drying, heat drying, and a method of combining these drying methods. When drying at normal pressure, it is preferable to dry at 30 ° C. or higher and 110 ° C. or lower.

(3)塗膜硬化工程
機能層形成用組成物として、例えば前記ハードコート層用硬化性組成物を塗布、必要に応じて乾燥させた塗膜に対し、当該硬化性組成物に含まれるラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の重合性基に応じて、光照射及び加熱の少なくともいずれかにより塗膜を硬化させることにより、ポリイミドフィルムの少なくとも前記支持体と接していた側の面に、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有するハードコート層を形成することができる。
(3) Coating film curing step As a composition for forming a functional layer, for example, the curable composition for a hard coat layer is applied and dried as necessary, and radical polymerization contained in the curable composition is applied to the coating film. Depending on the polymerizable group of the sex compound and the cationically polymerizable compound, the coating film is cured by at least one of light irradiation and heating, whereby radical polymerization is carried out on at least the surface of the polyimide film on the side in contact with the support. A hard coat layer containing at least one polymer of a sex compound and a cationically polymerizable compound can be formed.

光照射には、主に、紫外線、可視光、電子線、電離放射線等が使用される。紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等を使用する。エネルギー線源の照射量は、紫外線波長365nmでの積算露光量として、50~5000mJ/cm程度である。
加熱をする場合は、通常40℃以上120℃以下の温度にて処理する。また、室温(2
5℃)で24時間以上放置することにより反応を行っても良い。
Ultraviolet rays, visible light, electron beams, ionizing radiation and the like are mainly used for light irradiation. In the case of ultraviolet curing, ultraviolet rays emitted from light rays such as ultra-high pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, low pressure mercury lamps, carbon arcs, xenon arcs, and metal halide lamps are used. The irradiation amount of the energy radiation source is about 50 to 5000 mJ / cm 2 as the integrated exposure amount at the ultraviolet wavelength of 365 nm.
When heating, it is usually treated at a temperature of 40 ° C. or higher and 120 ° C. or lower. Also, room temperature (2)
The reaction may be carried out by leaving it at 5 ° C.) for 24 hours or more.

また、本発明の積層体の製造方法は、本発明の効果を損なわない範囲で、例えば、更にウレタンやアクリル樹脂などを含むゲル等の他の層を形成する工程、及び、公知の表面処理を施す工程等を含むものであってもよい。 Further, the method for producing a laminated body of the present invention comprises, for example, a step of further forming another layer such as a gel containing urethane or an acrylic resin, and a known surface treatment as long as the effect of the present invention is not impaired. It may include a step of applying.

なお、前記ハードコート層は、反射防止性、防眩性等の機能を付与して形成してもよい。当該機能は、例えば、前記ハードコート層に公知の表面処理を施したり、前記ハードコート層用硬化性組成物に、無機又は有機微粒子等の添加剤を含有させること等により付与することができる。 The hard coat layer may be formed by imparting functions such as antireflection property and antiglare property. The function can be imparted, for example, by subjecting the hardcoat layer to a known surface treatment, or by incorporating an additive such as an inorganic or organic fine particle into the curable composition for the hardcoat layer.

また、前述した積層体の製造方法では、機能層としてハードコート層を形成する場合を例に説明したが、機能層は必ずしもハードコート層には限定されない。例えば、機能層として反射防止層、防眩層を形成してもよく、ポリイミドフィルムとハードコート層との密着性を向上させるためのプライマー層を形成してもよい。
また、機能層は、単層として形成してもよく、複数の層として形成してもよい。また、機能層としては、単一の機能を有する層として形成してもよく、互いに異なる機能を有する層として形成してもよい。
Further, in the above-described method for manufacturing a laminated body, a case where a hard coat layer is formed as a functional layer has been described as an example, but the functional layer is not necessarily limited to the hard coat layer. For example, an antireflection layer and an antiglare layer may be formed as the functional layer, or a primer layer for improving the adhesion between the polyimide film and the hardcoat layer may be formed.
Further, the functional layer may be formed as a single layer or may be formed as a plurality of layers. Further, the functional layer may be formed as a layer having a single function or may be formed as a layer having different functions from each other.

V.ディスプレイ用表面材
本発明のディスプレイ用表面材は、前述した本発明のポリイミドフィルム又は前述し本発明の積層体である。
V. Surface material for display The surface material for display of the present invention is the polyimide film of the present invention described above or the laminate of the present invention described above.

本発明のディスプレイ用表面材は、各種ディスプレイの表面に位置するように配置し用いられる。
本発明のディスプレイ用表面材は、前述した本発明の積層体と同様に、ポリイミドフィルムの第一の面と機能層とが優れた密着性を有し、且つ、外観が良好であり、光学特性に優れたものであるため、フレキシルディスプレイ用として特に好適に用いることができる。
また、本発明のディスプレイ用表面材は、前述した本発明のポリイミドフィルムと同様に、機能層に対して優れた密着性を示し、且つ、外観が良好であり、光学特性に優れているため、フレキシルディスプレイ用として特に好適に用いることができる。
The surface material for a display of the present invention is arranged and used so as to be located on the surface of various displays.
Similar to the above-mentioned laminate of the present invention, the surface material for a display of the present invention has excellent adhesion between the first surface of the polyimide film and the functional layer, has a good appearance, and has optical characteristics. Therefore, it can be particularly preferably used for a flexible display.
Further, the surface material for a display of the present invention, like the polyimide film of the present invention described above, exhibits excellent adhesion to the functional layer, has a good appearance, and has excellent optical characteristics. It can be particularly preferably used for a flexible display.

また、本発明のディスプレイ用表面材をディスプレイの表面に配置する方法としては、特に限定はされないが、例えば、接着層を介する方法等が挙げられる。前記接着層としては、ディスプレイ用表面材の接着に用いることができる従来公知の接着層を用いることができる。 Further, the method for arranging the surface material for a display of the present invention on the surface of a display is not particularly limited, and examples thereof include a method via an adhesive layer. As the adhesive layer, a conventionally known adhesive layer that can be used for adhering a surface material for a display can be used.

VI.ディスプレイ用表面材の製造方法
本発明のディスプレイ用表面材の製造方法は、前述した本発明の製造方法によりポリイミドフィルムを製造する工程、又は、前述した本発明の製造方法により積層体を製造する工程を含む。すなわち、本発明の製造方法により得られるディスプレイ用表面材は、前述した本発明の製造方法により得られるポリイミドフィルム、又は、前述した本発明の製造方法により得られる積層体である。
VI. Method for Manufacturing Surface Material for Display The method for manufacturing a surface material for display of the present invention is a step of manufacturing a polyimide film by the above-mentioned manufacturing method of the present invention, or a step of manufacturing a laminate by the above-mentioned manufacturing method of the present invention. including. That is, the surface material for a display obtained by the manufacturing method of the present invention is a polyimide film obtained by the manufacturing method of the present invention described above, or a laminate obtained by the manufacturing method of the present invention described above.

本発明の製造方法により得られるディスプレイ用表面材は、各種ディスプレイの表面に位置するように配置して用いられる。
本発明の製造方法により得られるディスプレイ用表面材は、前述した本発明の製造方法により得られる積層体と同様に、ポリイミドフィルムの第一の面と機能層とが優れた密着性を有し、且つ、外観が良好であり、光学特性に優れたものであるため、フレキシブルディスプレイ用として好適に用いることができる。
また、本発明の製造方法により得られるディスプレイ用表面材は、前述した本発明の製造方法により得られるポリイミドフィルムと同様に、機能層に対して優れた密着性を示し、且つ、外観が良好であり、光学特性に優れているため、フレキシブルディスプレイ用として好適に用いることができる。
The surface material for a display obtained by the manufacturing method of the present invention is arranged and used so as to be located on the surface of various displays.
The surface material for a display obtained by the manufacturing method of the present invention has excellent adhesion between the first surface of the polyimide film and the functional layer, similarly to the laminate obtained by the manufacturing method of the present invention described above. Moreover, since it has a good appearance and excellent optical characteristics, it can be suitably used for a flexible display.
Further, the surface material for a display obtained by the manufacturing method of the present invention exhibits excellent adhesion to a functional layer and has a good appearance, similar to the polyimide film obtained by the manufacturing method of the present invention described above. Since it has excellent optical characteristics, it can be suitably used for flexible displays.

また、本発明の製造方法により得られるディスプレイ用表面材をディスプレイの表面に配置する方法としては、前述したディスプレイ用表面材で説明したのと同様にして行うことができる。 Further, as a method of arranging the display surface material obtained by the manufacturing method of the present invention on the surface of the display, it can be performed in the same manner as described in the above-mentioned display surface material.

本発明のディスプレイ用表面材及び本発明の製造方法により得られるディスプレイ用表面材は、公知の各種ディスプレイに用いることができ、特に限定はされないが、例えば、前記本発明の積層体の用途で説明したディスプレイ等に用いることができる。 The surface material for a display of the present invention and the surface material for a display obtained by the manufacturing method of the present invention can be used for various known displays, and are not particularly limited. It can be used for displays and the like.

なお、本発明のディスプレイ用表面材及び本発明の製造方法により得られるディスプレイ用表面材が前記本発明の積層体である場合、ディスプレイの表面に配置した後の最表面となる面は、ポリイミドフィルム側の表面であってもよいし、ハードコート層側の表面であってもよいが、ハードコート層側の表面が最表面となるように本発明のディスプレイ用表面材を配置することが好ましい。また、本発明のディスプレイ用表面材及び本発明の製造方法により得られるディスプレイ用表面材は、最表面に指紋付着防止層を有するものであっても良い。 When the surface material for a display of the present invention and the surface material for a display obtained by the manufacturing method of the present invention are the laminate of the present invention, the outermost surface after being arranged on the surface of the display is a polyimide film. It may be the surface on the side or the surface on the hard coat layer side, but it is preferable to arrange the surface material for a display of the present invention so that the surface on the hard coat layer side is the outermost surface. Further, the display surface material of the present invention and the display surface material obtained by the production method of the present invention may have a fingerprint adhesion prevention layer on the outermost surface.

VII.タッチパネル部材
本発明のタッチパネル部材は、前述した本発明のポリイミドフィルムと、前記ポリイミドフィルムの一面側に配置された、複数の導電部からなる透明電極と、前記導電部の端部の少なくとも一方側において電気的に接続される複数の取り出し線と、を備える。
VII. Touch panel member The touch panel member of the present invention comprises the polyimide film of the present invention described above, a transparent electrode composed of a plurality of conductive portions arranged on one surface side of the polyimide film, and at least one side of an end portion of the conductive portion. It comprises a plurality of electrically connected take-out wires.

図4(A)、図4(B)は、本発明のタッチパネル部材10の概略平面図であり、図5は、図4(A)、図4(B)に示すタッチパネル部材10のA-A´線断面図である。
本発明のタッチパネル部材10は、図5に示すように、前述した本発明のポリイミドフィルム1と、ポリイミドフィルム1の第一の面11に接して積層された機能層2と、前記機能層2に接して配置された第一の透明電極4と、を有している。すなわち、第一の透明電極4は、ポリイミドフィルム1の第一の面11の上に、前記機能層2を介して配置されている。
4 (A) and 4 (B) are schematic plan views of the touch panel member 10 of the present invention, and FIG. 5 shows AA of the touch panel member 10 shown in FIGS. 4 (A) and 4 (B). ´Line cross section.
As shown in FIG. 5, the touch panel member 10 of the present invention is formed on the polyimide film 1 of the present invention described above, the functional layer 2 laminated in contact with the first surface 11 of the polyimide film 1, and the functional layer 2. It has a first transparent electrode 4 arranged in contact with it. That is, the first transparent electrode 4 is arranged on the first surface 11 of the polyimide film 1 via the functional layer 2.

また、タッチパネル部材10は、さらに、ポリイミドフィルム1の第一の面11と反対側の第二の面12に接して積層されたハードコート層3と、前記ハードコート層3に接して配置された第二の透明電極5と、を有している。すなわち、第二の透明電極5は、ポリイミドフィルム1の第二の面12の上に、前記ハードコート層3を介して配置されている。
機能層2としては、前述した「I.積層体」の項で説明したのと同様のものを用いることができる。
Further, the touch panel member 10 is further arranged in contact with the hard coat layer 3 laminated in contact with the second surface 12 on the side opposite to the first surface 11 of the polyimide film 1 and the hard coat layer 3. It has a second transparent electrode 5. That is, the second transparent electrode 5 is arranged on the second surface 12 of the polyimide film 1 via the hard coat layer 3.
As the functional layer 2, the same one as described in the above-mentioned "I. Laminated body" section can be used.

図4(A)は、ポリイミドフィルム1の第一の面11側の、タッチパネル部材10の概略平面図であり、図4(B)は、ポリイミドフィルム1の第二の面12側の、タッチパネル部材10の概略平面図である。
図4(A)に示すように、タッチパネル部材10は、ポリイミドフィルム1の第一の面11に接して積層された機能層2上に、ポリイミドフィルム1の長手方向に直交する方向(図4(A)中X軸方向)に伸長するように延在する複数の短冊状の電極片(以下、第一の導電部41という)が、ポリイミドフィルム1の長手方向(図4(A)中Y軸方向)に所定の間隔を空けて配設されており、当該複数の第一の導電部41により、第一の透明電極4が形成されている。即ち、第一の透明電極4は、第一の導電部41と第一の非導電部42とが、ポリイミドフィルム1の長手方向に交互に配設されて構成されている。
FIG. 4A is a schematic plan view of the touch panel member 10 on the first surface 11 side of the polyimide film 1, and FIG. 4B is a touch panel member on the second surface 12 side of the polyimide film 1. It is a schematic plan view of 10.
As shown in FIG. 4A, the touch panel member 10 is placed on the functional layer 2 laminated in contact with the first surface 11 of the polyimide film 1 in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the polyimide film 1 (FIG. 4 (A). A plurality of strip-shaped electrode pieces (hereinafter referred to as the first conductive portion 41) extending so as to extend in the middle X-axis direction) are formed in the longitudinal direction of the polyimide film 1 (the middle Y-axis in FIG. 4A). The first transparent electrode 4 is formed by the plurality of first conductive portions 41, which are arranged at predetermined intervals in the direction). That is, the first transparent electrode 4 is configured such that the first conductive portion 41 and the first non-conductive portion 42 are alternately arranged in the longitudinal direction of the polyimide film 1.

第一の導電部41には、その長手方向端部のいずれか一方において、当該第一の導電部41と電気的に接続する第一の取出し線7が接続されている。第一の取り出し線7は、ポリイミドフィルム1の4辺のうち、第一の導電部41の長手方向に平行な方向に延びる二辺のうちの任意の辺(図4(A)では、ポリイミドフィルム1の端縁13)まで延設されている。即ち、第一の取出し線7は、ポリイミドフィルム1の第二の面12側に形成された、後述する複数の第二の導電部51の長手方向の端部のいずれか一方の側のポリイミドフィルム1の端縁13まで延在させた、長尺配線とすることができる。 A first take-out wire 7 that is electrically connected to the first conductive portion 41 is connected to the first conductive portion 41 at any one of its longitudinal end portions. The first take-out line 7 is any of the four sides of the polyimide film 1 and any of the two sides extending in the direction parallel to the longitudinal direction of the first conductive portion 41 (in FIG. 4A, the polyimide film). It extends to the edge 13) of 1. That is, the first take-out wire 7 is a polyimide film on either side of the longitudinal end portions of the plurality of second conductive portions 51, which will be described later, formed on the second surface 12 side of the polyimide film 1. It can be a long wiring extending to the end edge 13 of 1.

ポリイミドフィルム1の端縁13まで延設された第一の取出し線7の端部には、外部回路と電気的に接続するための第一の端子71を設けることがよい。 A first terminal 71 for electrically connecting to an external circuit may be provided at the end of the first take-out wire 7 extending to the end edge 13 of the polyimide film 1.

第一の導電部41と第一の取出し線7とは、一般には、タッチパネルの使用者が視認可能なアクティブエリア14の外側に位置する、非アクティブエリア15内において接続される。
第一の導電部41と第一の取出し線7との接続は、例えば図4(A)に示すように、接続部16を介在させた接続構造を採用することができる。接続部16は、具体的には、第一の導電部41の長手方向端部から、非アクティブエリア15内の所定の位置まで導電性材料の層を延設することにより形成することができる。さらに、当該接続部16上に、第一の取出し線7の少なくとも一部を重ねることにより、第一の導電部41と第一の取出し線7との接続構造を形成することができる。このように、接続部16を有する接続構造とすることにより、第一の取出し線7と第一の導電部41とを確実に接続し、かつ第一の取出し線7が非アクティブエリア15内に入り込むことを抑制することが可能となる。
The first conductive portion 41 and the first take-out line 7 are generally connected in an inactive area 15 located outside the active area 14 visible to the user of the touch panel.
For the connection between the first conductive portion 41 and the first take-out wire 7, for example, as shown in FIG. 4A, a connection structure in which the connecting portion 16 is interposed can be adopted. Specifically, the connecting portion 16 can be formed by extending a layer of the conductive material from the longitudinal end portion of the first conductive portion 41 to a predetermined position in the inactive area 15. Further, by superimposing at least a part of the first take-out wire 7 on the connection portion 16, a connection structure between the first conductive portion 41 and the first take-out wire 7 can be formed. In this way, by adopting the connection structure having the connection portion 16, the first take-out line 7 and the first conductive portion 41 are surely connected, and the first take-out line 7 is in the inactive area 15. It is possible to suppress entry.

第一導電部41と第一の取出し線7との接続は、図4(A)に示すような、接続部16を形成する構造には限定されない。例えば、図示省略するが、第一の導電部41の長手方向端部を非アクティブエリア15まで伸長させ、非アクティブエリア15内において、当該非アクティブエリア15まで伸長させた第一の導電部41の端部に、第一の取出し線7を乗り上げさせることによって、両者を電気的に接続させてもよい。
なお、図4(A)では、第一の導電部41の長手方向端部のいずれか一方と、第一の取出し線7とを接続する形態を示したが、本発明においては、一つの第一の導電部41の長手方向の両端に、それぞれ、第一の取出し線7を電気的に接続する形態としてもよい。
The connection between the first conductive portion 41 and the first take-out wire 7 is not limited to the structure forming the connecting portion 16 as shown in FIG. 4A. For example, although not shown, the longitudinal end of the first conductive portion 41 is extended to the inactive area 15, and in the inactive area 15, the first conductive portion 41 is extended to the inactive area 15. The two may be electrically connected by riding the first take-out wire 7 on the end portion.
In addition, in FIG. 4A, one of the longitudinal end portions of the first conductive portion 41 and the first take-out wire 7 are connected to each other, but in the present invention, one first is The first take-out wire 7 may be electrically connected to both ends of one conductive portion 41 in the longitudinal direction.

図4(B)に示すように、タッチパネル部材10は、ポリイミドフィルム1の第二の面12に接して積層されたハードコート層3上に、ポリイミドフィルム1の長手方向(図4(B)中Y軸方向)に伸長するように延在する複数の短冊状の電極片(以下、第二の導電部51という)が、ポリイミドフィルム1の長手方向に直交する方向(図4(B)中X軸方向)に所定の間隔を空けて配設されており、当該複数の第二の導電部51により、第二の透明電極5が形成されている。即ち、第二の透明電極5は、第二の導電部51と第二の非導電部52とが、ポリイミドフィルム1の短手方向に交互に配設されて構成されている。 As shown in FIG. 4B, the touch panel member 10 is placed on the hard coat layer 3 laminated in contact with the second surface 12 of the polyimide film 1 in the longitudinal direction of the polyimide film 1 (in FIG. 4B). A plurality of strip-shaped electrode pieces (hereinafter referred to as the second conductive portion 51) extending so as to extend in the Y-axis direction) are orthogonal to the longitudinal direction of the polyimide film 1 (X in FIG. 4B). The second transparent electrode 5 is formed by the plurality of second conductive portions 51, which are arranged at predetermined intervals in the axial direction). That is, the second transparent electrode 5 is configured such that the second conductive portion 51 and the second non-conductive portion 52 are alternately arranged in the lateral direction of the polyimide film 1.

第二の導電部51には、その長手方向端部の一方において、当該第二の導電部51と電気的に接続する第二の取出し線8が接続されている。
第二の取出し線8は、ポリイミドフィルム1の4辺のうち、前述した第一の取出し線7が延設された、ポリイミドフィル1の端縁13における、第一の端子71と重ならない位置まで延設されている。即ち、第二の取出し線8は、複数の第二の導電部51の長手方向端部のうち、前述したポリイミドフィルム1の端縁13側の端部に、当該第二の取出し線8の一方の端部を電気的に接続させるとともに、前記ポリイミドフィルム1の端縁13まで、第二の取出し線8の他方の端部を伸長させた、短尺配線とすることができる。
A second take-out wire 8 that is electrically connected to the second conductive portion 51 is connected to the second conductive portion 51 at one of its longitudinal end portions.
The second take-out wire 8 extends to the position of the end edge 13 of the polyimide fill 1 where the first take-out wire 7 described above does not overlap with the first terminal 71 among the four sides of the polyimide film 1. It has been extended. That is, the second take-out line 8 is one of the second take-out lines 8 at the end portion on the end edge 13 side of the polyimide film 1 described above among the longitudinal end portions of the plurality of second conductive portions 51. It is possible to form a short wiring in which the other end portion of the second take-out wire 8 is extended to the end edge 13 of the polyimide film 1 while electrically connecting the end portions of the second take-out wire 8.

ポリイミドフィルム1の端縁13まで延設された第二の取出し線8の端部には、外部回路と電気的に接続するための第二の端子81を設けることがよい。 A second terminal 81 for electrically connecting to an external circuit may be provided at the end of the second take-out wire 8 extending to the end edge 13 of the polyimide film 1.

なお、第二の導電部51と第二の取出し線8との電気的な接続は、第一の取出し線7と第一の導電部41との電気的な接続と同様の形態を適用することができるため、ここでの説明を省略する。 The electrical connection between the second conductive portion 51 and the second take-out wire 8 shall be the same as the electrical connection between the first take-out wire 7 and the first conductive portion 41. Therefore, the description here is omitted.

なお、図4(A)、(B)に示すような、第一取出し線7を長尺配線とし、第二取出し線8を短尺配線とするパターンは、本発明のタッチパネル部材10の一実施形態に過ぎず、例えば、第一の取出し線7を短尺配線とし、第二の取出し線8を長尺配線とするパターンとすることも可能である。
また、第一の取出し線7は、第一の導電部41の長手方向の端部のいずれの端部に接続されていてもよく、第二の取出し線8は、第二の導電部51の長手方向の端部のいずれの端部に接続されていてもよい。また、第一の取出し線7の伸長方向及び第二の取出し線8の伸長方向も、図4(A)、(B)に示す方向に限られず、任意に設計することが可能である。
The pattern in which the first take-out wire 7 is a long wiring and the second take-out wire 8 is a short wiring as shown in FIGS. 4A and 4B is an embodiment of the touch panel member 10 of the present invention. For example, it is possible to use a pattern in which the first take-out wire 7 is a short wiring and the second take-out wire 8 is a long wiring.
Further, the first take-out wire 7 may be connected to any end of the longitudinal end of the first conductive portion 41, and the second take-out wire 8 may be connected to any end of the second conductive portion 51. It may be connected to any end of the longitudinal end. Further, the extension direction of the first take-out line 7 and the extension direction of the second take-out line 8 are not limited to the directions shown in FIGS. 4A and 4B, and can be arbitrarily designed.

図4(A)、(B)に示す、第一の導電部41および第二の導電部51のパターンは、本発明のタッチパネル部材10の構成を限定するものではない。
また、第一の導電部41および第二の導電部51としては、ポリイミドフィルム1の表面又はポリイミドフィルム1上に形成された機能層2等の他の層の表面に形成される電極であって、タッチパネル部材10において透明電極を構成するものであれば、適宜選択して適用してよい。例えば、静電容量方式によって、指などの接触または接触に近い状態による電気容量の変化を検知可能な透明電極のパターンであれば、適宜選択して適用することができる。例えば、円形状あるいはひし形状などの電極素片を配列し、所定の方向(図4(A)、(B)では第一の導電部41はX軸方向、第二の導電部51はY軸方向)に、上記電極素片を電気的に接続するよう繋げて導電部を複数形成し、当該導電部によって、透明電極を構成してもよい。
The patterns of the first conductive portion 41 and the second conductive portion 51 shown in FIGS. 4A and 4B do not limit the configuration of the touch panel member 10 of the present invention.
The first conductive portion 41 and the second conductive portion 51 are electrodes formed on the surface of the polyimide film 1 or the surface of another layer such as the functional layer 2 formed on the polyimide film 1. , If the touch panel member 10 constitutes a transparent electrode, it may be appropriately selected and applied. For example, any pattern of a transparent electrode capable of detecting a change in electric capacity due to contact with a finger or the like or a state close to contact by a capacitance method can be appropriately selected and applied. For example, electrode pieces having a circular shape or a diamond shape are arranged, and the first conductive portion 41 is in the X-axis direction and the second conductive portion 51 is in the Y-axis in a predetermined direction (in FIGS. 4A and 4B). In the direction), a plurality of conductive portions may be formed by connecting the electrode elements so as to be electrically connected, and the transparent electrode may be formed by the conductive portions.

第一の透明電極4を構成する第一の導電部41及び第二の透明電極5を構成する第二の導電部51は、主としてタッチパネル部材10のアクティブエリア14内に設けられるため、光透過性の材料で形成される。
第一の導電部41、第二の導電部51は、一般的には、インジウム錫オキサイド(ITO)、酸化インジウム、インジウム亜鉛オキサイド(IZO)等を主たる構成成分とする酸化インジウム系透明電極材料、酸化錫(SnO)、酸化亜鉛(ZnO)等を主たる構成成分とする透明導電膜、ポリアニリン、ポリアセチレン等の導電性高分子化合物等を用いて形成することができる。但し、第一の導電部41、第二の導電部51の材料は、上記した材料には限定されない。
Since the first conductive portion 41 constituting the first transparent electrode 4 and the second conductive portion 51 constituting the second transparent electrode 5 are mainly provided in the active area 14 of the touch panel member 10, light transmission is transmitted. Formed from the material of.
The first conductive portion 41 and the second conductive portion 51 are generally indium tin oxide-based transparent electrode materials containing indium tin oxide (ITO), indium oxide, indium zinc oxide (IZO) and the like as main constituents. It can be formed by using a transparent conductive film containing tin oxide (SnO 2 ), zinc oxide (ZnO) or the like as a main component, or a conductive polymer compound such as polyaniline or polyacetylene. However, the materials of the first conductive portion 41 and the second conductive portion 51 are not limited to the above-mentioned materials.

なお、第一の導電部41、第二の導電部51の厚みは、特に限定されないが、例えば第一の導電部41、第二の導電部51をフォトリソグラフィ手法により形成する場合には、一般的には、10nm~500nm程度に形成することができる。また、第一の導電部41及び第二の導電部51は、互いに同種の導電性材料を用いて形成してもよいし、異種の材料を用いて形成してもよい。特に同種の導電性材料を用いて第一の導電部41及び第二導電部51を形成すると、タッチパネル部材10の反りや歪みの発生をより効果的に抑制できる観点で、好ましい。 The thicknesses of the first conductive portion 41 and the second conductive portion 51 are not particularly limited, but are generally used when the first conductive portion 41 and the second conductive portion 51 are formed by a photolithography method, for example. Specifically, it can be formed to be about 10 nm to 500 nm. Further, the first conductive portion 41 and the second conductive portion 51 may be formed by using the same kind of conductive materials as each other, or may be formed by using different materials. In particular, it is preferable to form the first conductive portion 41 and the second conductive portion 51 using the same kind of conductive material from the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of warpage and distortion of the touch panel member 10.

第一の取出し線7、第二の取出し線8は、一般的には非アクティブエリア15に形成されるため、これらを構成する導電材料は、光透過性の有無を問わない。一般的には、第一の取出し線7、第二の取出し線8は、高い導電性を有する銀や銅などの金属材料を用いて形成することができる。
第一の取出し線7、第二の取出し線8を構成する金属材料としては、具体的には、金属単体、金属の複合体、金属と金属化合物の複合体、金属合金を挙げることができる。
金属単体としては、銀、銅、金、クロム、プラチナ、アルミニウムの単体などを例示することができる。金属の複合体としては、MAM(Mo-Al-Mo、すなわちモリブデン・アルミニウム・モリブデンの3層構造体)等を例示することができる。金属と金属化合物の複合体としては、酸化クロム/クロム積層体等を例示することができる。金属合金としては、銀合金や銅合金が汎用される。また、金属合金としては、APC(Au・Pd・Cu、即ち銀・パラジウム・銅)等を例示することができる。
Since the first take-out line 7 and the second take-out line 8 are generally formed in the inactive area 15, the conductive material constituting them may or may not have light transmission. Generally, the first take-out wire 7 and the second take-out wire 8 can be formed by using a metal material such as silver or copper having high conductivity.
Specific examples of the metal material constituting the first take-out wire 7 and the second take-out wire 8 include a simple substance of a metal, a composite of metals, a composite of a metal and a metal compound, and a metal alloy.
Examples of the simple substance of metal include silver, copper, gold, chromium, platinum, and simple substance of aluminum. As the metal complex, MAM (Mo-Al-Mo, that is, a three-layer structure of molybdenum, aluminum, and molybdenum) and the like can be exemplified. As the composite of the metal and the metal compound, a chromium oxide / chromium laminate or the like can be exemplified. As the metal alloy, silver alloys and copper alloys are widely used. Further, as the metal alloy, APC (Au, Pd, Cu, that is, silver, palladium, copper) and the like can be exemplified.

なお、第一の取出し線7、第二の取出し線8には、前述した金属材料に、適宜樹脂成分が混在していてもよい。
例えば、第一の取出し線7、第二の取出し線8を、フォトリソグラフィ手法により形成する場合には、形成材料として、銀、白金及び銅からなるAPC材料が汎用されるが、第一の取出し線7、第二の取出し線8の形成方法は、これに限定されない。
例えば、スクリーン印刷などの印刷方法によって第一の取出し線7、第二の取出し線8を形成する場合には、数十nm~数μmの粒径を有する銀や銅などの金属粒子と、樹脂バインダとを、溶媒に配合して適度な濃度に調整した金属粒子含有ペーストが汎用されるが、これに限定されない。金属粒子含有ペーストに配合する樹脂バインダとしては、例えば、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン等の樹脂材料を単体で又はこれらの樹脂材料を二種以上混合した混合物として用いることができる。
In the first take-out line 7 and the second take-out line 8, a resin component may be appropriately mixed with the above-mentioned metal material.
For example, when the first take-out line 7 and the second take-out line 8 are formed by a photolithography method, an APC material made of silver, platinum, and copper is widely used as the forming material, but the first take-out line is used. The method for forming the wire 7 and the second take-out wire 8 is not limited to this.
For example, when the first take-out line 7 and the second take-out line 8 are formed by a printing method such as screen printing, metal particles such as silver and copper having a particle size of several tens of nm to several μm and a resin are used. A metal particle-containing paste prepared by blending a binder with a solvent to an appropriate concentration is widely used, but is not limited thereto. As the resin binder to be blended in the metal particle-containing paste, for example, a resin material such as epoxy resin, polyester resin, polyvinyl chloride, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, and polystyrene may be used alone or a mixture of two or more of these resin materials. It can be used as a mixture.

前述したように、第一の端子71、第二の端子81は、第一の取出し線7、第二の取出し線8の端部に設けられる。このため、第一の端子71、第二の端子81は、第一の取出し線7、第二の取出し線8の形成工程において、第一の取出し線7、第二の取出し線8の形成材料と同じ材料を用いて形成することができる。なお、第一の端子71、第二の端子81は、第一の取出し線7、第二の取出し線8の形成工程とは、異なる工程において形成することも可能である。
第一の取出し線7、第二の取出し線8の厚み、及び幅寸法は、特に限定されないが、例えば第一の取出し線7、第二の取出し線8をフォトリソグラフィ手法により形成する場合には、一般的には、厚みは10nm~1000nm程度に形成され、幅寸法は5μm~200μm程度に形成される。
また、第一の取出し線7、第二の取出し線8の厚み、及び幅寸法は、特に限定されないが、第一の取出し線7、第二の取出し線8を、スクリーン印刷などの印刷により形成する場合には、一般的には、厚みは5μm~20μm程度に形成され、幅寸法は20μm~300μm程度に形成される。
As described above, the first terminal 71 and the second terminal 81 are provided at the ends of the first take-out line 7 and the second take-out line 8. Therefore, the first terminal 71 and the second terminal 81 are made of a material for forming the first take-out wire 7 and the second take-out wire 8 in the process of forming the first take-out wire 7 and the second take-out wire 8. It can be formed using the same material as. The first terminal 71 and the second terminal 81 can be formed in a process different from the process of forming the first take-out wire 7 and the second take-out wire 8.
The thickness and width of the first take-out line 7 and the second take-out line 8 are not particularly limited, but for example, when the first take-out line 7 and the second take-out line 8 are formed by a photolithography method. Generally, the thickness is formed to be about 10 nm to 1000 nm, and the width dimension is formed to be about 5 μm to 200 μm.
The thickness and width of the first take-out line 7 and the second take-out line 8 are not particularly limited, but the first take-out line 7 and the second take-out line 8 are formed by printing such as screen printing. In this case, the thickness is generally formed to be about 5 μm to 20 μm, and the width dimension is formed to be about 20 μm to 300 μm.

本発明のタッチパネル部材は、図4~5に示す形態には限られず、例えば図6~7に示すように、第一の透明電極4と、第二の透明電極5とが、それぞれ別個のポリイミドフィルムの上に積層されて構成されるものであってもよい。
図7に示すタッチパネル部材20は、前述した本発明のポリイミドフィルムである第一のポリイミドフィルム1aと、第一のポリイミドフィルム1aの第一の面11に接して積層された機能層2aと、第一のポリイミドフィルム1aの第二の面12に接して積層されたハードコート層3aと、第一のポリイミドフィルム1aの第一の面11の上に、機能層2aを介して配置された、複数の短冊状の電極片(第一の導電部41)からなる第一の透明電極4と、を有する第一の積層体201と、前述した本発明のポリイミドフィルムである第二のポリイミドフィルム1bと、第二のポリイミドフィルム1bの第一の面11に接して積層された機能層2bと、第二のポリイミドフィルム1bの第二の面12に接して積層されたハードコート層3bと、第二のポリイミドフィルム1bの第一の面11の上に、機能層2bを介して配置された、複数の短冊状の電極片(第二の導電部51)からなる第二の透明電極5と、を有する第二の積層体202と、を具備する。
機能層2a、2bとしては、前述した「I.積層体」の項で説明したのと同様のものを用いることができる。
The touch panel member of the present invention is not limited to the form shown in FIGS. 4 to 5, and as shown in FIGS. 6 to 7, for example, the first transparent electrode 4 and the second transparent electrode 5 are separate polyimides. It may be configured by being laminated on a film.
The touch panel member 20 shown in FIG. 7 includes a first polyimide film 1a, which is the polyimide film of the present invention described above, a functional layer 2a laminated in contact with the first surface 11 of the first polyimide film 1a, and a second. A plurality of hard coat layers 3a laminated in contact with the second surface 12 of one polyimide film 1a and a plurality of layers arranged on the first surface 11 of the first polyimide film 1a via the functional layer 2a. A first laminated body 201 having a first transparent electrode 4 composed of a strip-shaped electrode piece (first conductive portion 41), and a second polyimide film 1b which is the above-mentioned polyimide film of the present invention. , The functional layer 2b laminated in contact with the first surface 11 of the second polyimide film 1b, the hard coat layer 3b laminated in contact with the second surface 12 of the second polyimide film 1b, and the second. A second transparent electrode 5 composed of a plurality of strip-shaped electrode pieces (second conductive portion 51) arranged via a functional layer 2b on the first surface 11 of the polyimide film 1b of the above. The second laminate 202 and the like are provided.
As the functional layers 2a and 2b, the same ones as described in the above-mentioned "I. Laminated body" section can be used.

タッチパネル部材20は、図7に示すように、第一の積層体201のハードコート層3aと、第二の積層体202の第二の透明電極5とが、接着層6を介して貼り合わせて構成されている。接着層6としては、ハードコート層や透明電極等の各種の層の接着に用いることができる従来公知の接着層を用いることができる。 In the touch panel member 20, as shown in FIG. 7, the hard coat layer 3a of the first laminated body 201 and the second transparent electrode 5 of the second laminated body 202 are bonded to each other via the adhesive layer 6. It is configured. As the adhesive layer 6, a conventionally known adhesive layer that can be used for adhering various layers such as a hard coat layer and a transparent electrode can be used.

図6(A)は、第一の積層体201の概略平面図であり、図6(B)は、第二の積層体202の概略平面図である。
図7は、図6(A)に示す積層体201と図6(B)に示す積層体202とを貼り合わせて構成されるタッチパネル部材の、図6(A)及び図6(B)中A-A´線で示す位置での断面図である。
図6(A)に示すように、第一の積層体201の第一の導電部41には、その長手方向端部のいずれか一方において、当該第一の導電部41と電気的に接続する第一の取出し線7が接続されている。第一の取出し線7の端部には、図6(A)に示すように、外部回路と電気的に接続するための第一の端子71を設けることがよい。
また、図6(B)に示すように、第二の積層体202の第二の導電部51には、その長手方向端部の一方において、当該第二の導電部51と電気的に接続する第二の取出し線8が接続されている。第二の取出し線8の端部には、図6(B)に示すように、外部回路と電気的に接続するための第二の端子81を設けることがよい。
6 (A) is a schematic plan view of the first laminated body 201, and FIG. 6 (B) is a schematic plan view of the second laminated body 202.
7 is A in FIGS. 6A and 6B of a touch panel member formed by laminating the laminate 201 shown in FIG. 6A and the laminate 202 shown in FIG. 6B. It is sectional drawing at the position shown by -A'line.
As shown in FIG. 6A, the first conductive portion 41 of the first laminated body 201 is electrically connected to the first conductive portion 41 at any one of its longitudinal end portions. The first take-out line 7 is connected. As shown in FIG. 6A, a first terminal 71 for electrically connecting to an external circuit may be provided at the end of the first take-out wire 7.
Further, as shown in FIG. 6B, the second conductive portion 51 of the second laminated body 202 is electrically connected to the second conductive portion 51 at one of its longitudinal end portions. The second take-out line 8 is connected. As shown in FIG. 6B, a second terminal 81 for electrically connecting to an external circuit may be provided at the end of the second take-out wire 8.

なお、第一の積層体201における、第一の透明電極4、第一の取出し線7及び第一の端子71の構成及び構成材料は、図4(A)に示すタッチパネル部材10における、第一の透明電極4、第一の取出し線7及び第一の端子71の構成及び構成材料と同様とすることができる。
また、第二の積層体202における、第二の透明電極5、第二の取出し線8及び第二の端子81の構成及び構成材料は、図4(B)に示すタッチパネル部材10における、第二の透明電極5、第二の取出し線8及び第二の端子81の構成及び構成材料と同様とすることができる。このため、これらの詳細な説明は省略する。
The configuration and constituent materials of the first transparent electrode 4, the first take-out wire 7, and the first terminal 71 in the first laminated body 201 are the first in the touch panel member 10 shown in FIG. 4 (A). The same can be applied to the configuration and constituent materials of the transparent electrode 4, the first take-out wire 7, and the first terminal 71.
Further, the configuration and constituent materials of the second transparent electrode 5, the second take-out wire 8 and the second terminal 81 in the second laminated body 202 are the second in the touch panel member 10 shown in FIG. 4 (B). The same can be applied to the configuration and constituent materials of the transparent electrode 5, the second take-out wire 8 and the second terminal 81. Therefore, these detailed explanations will be omitted.

なお、図4~図7においては、第一の透明電極4、第二の透明電極5が、いずれも、前述した本発明のポリイミドフィルムの第一の面11の上に、機能層2、2a若しくは2b又はハードコート層3を介して配置されている構成を示したが、本発明のタッチパネル部材は、第一の透明電極4、第二の透明電極5が、当該ポリイミドフィルムの表面に接して配置されていてもよい。
また、図4~図7においては、前述した本発明のポリイミドフィルムの第一の面11に接して積層された機能層2、2a又は2bを有する形態を示したが、本発明のタッチパネル部材は、必ずしも、当該ポリイミドフィルムの第一の面に接して積層される機能層を有していなくてもよい。
In FIGS. 4 to 7, the first transparent electrode 4 and the second transparent electrode 5 are both functional layers 2 and 2a on the first surface 11 of the polyimide film of the present invention described above. Alternatively, although the configuration shown is arranged via 2b or the hard coat layer 3, in the touch panel member of the present invention, the first transparent electrode 4 and the second transparent electrode 5 are in contact with the surface of the polyimide film. It may be arranged.
Further, FIGS. 4 to 7 show a form having the functional layers 2, 2a or 2b laminated in contact with the first surface 11 of the polyimide film of the present invention described above, but the touch panel member of the present invention is , It is not always necessary to have a functional layer laminated in contact with the first surface of the polyimide film.

前述した本発明のタッチパネル部材は、各種ディスプレイの表面に位置するように配置し用いられる。
本発明のタッチパネル部材は、当該タッチパネル部材に含まれる本発明のポリイミドフィルムが、機能層に対して優れた密着性を示し、且つ、外観が良好であり、光学特性に優れているため、フレキシルディスプレイ用として特に好適に用いることができる。
また、本発明のタッチパネル部材は、当該タッチパネル部材に含まれる本発明のポリイミドフィルムの第一の面に接触させて積層した機能層を有する場合には、当該ポリイミドフィルムと機能層とが優れた密着性を有し、且つ、外観が良好であり、光学特性に優れたものであるため、フレキシルディスプレイ用として特に好適に用いることができる。
The touch panel member of the present invention described above is arranged and used so as to be located on the surface of various displays.
The touch panel member of the present invention is flexible because the polyimide film of the present invention contained in the touch panel member exhibits excellent adhesion to the functional layer, has a good appearance, and has excellent optical characteristics. It can be particularly preferably used for a display.
Further, when the touch panel member of the present invention has a functional layer laminated in contact with the first surface of the polyimide film of the present invention contained in the touch panel member, the polyimide film and the functional layer have excellent adhesion. Since it has properties, has a good appearance, and has excellent optical characteristics, it can be particularly preferably used for a flexible display.

VIII.液晶表示装置
本発明の液晶表示装置は、対向配置された基板の間に形成された液晶層を有する液晶表示部と、前記液晶表示部の一面側に配置された、前述した本発明のポリイミドフィルムと、を有する。
VIII. Liquid crystal display device The liquid crystal display device of the present invention has a liquid crystal display unit having a liquid crystal layer formed between substrates arranged opposite to each other and the polyimide film of the present invention arranged on one side of the liquid crystal display unit. And have.

図8は、本発明の液晶表示装置100の一例を示す概略断面図である。
液晶表示装置100は、液晶表示部30と、タッチパネル部材10と、接着層6と、前述した本発明のポリイミドフィルム1と、前記ポリイミドフィルム1の第一の面11に接して積層された機能層2とが、この順に積層されて構成されている。
液晶表示装置100が有するタッチパネル部材10は、図4~5に示すタッチパネル部材10と同様の構成を有している。即ち、液晶表示装置100は、タッチパネル部材10において、本発明のポリイミドフィルム1と、前記ポリイミドフィルム1の第一の面11に接して積層された機能層2とを有している。
FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing an example of the liquid crystal display device 100 of the present invention.
The liquid crystal display device 100 is a functional layer laminated in contact with the liquid crystal display unit 30, the touch panel member 10, the adhesive layer 6, the polyimide film 1 of the present invention described above, and the first surface 11 of the polyimide film 1. 2 and 2 are laminated in this order.
The touch panel member 10 included in the liquid crystal display device 100 has the same configuration as the touch panel member 10 shown in FIGS. 4 to 5. That is, the liquid crystal display device 100 has the polyimide film 1 of the present invention and the functional layer 2 laminated in contact with the first surface 11 of the polyimide film 1 in the touch panel member 10.

液晶表示部30は、図示省略するが、対向配置された基板の間に形成された液晶層を有している。液晶表示部30としては、当該対向配置された基板の間に、さらに複数色の着色層や、画素を画定する遮光部を有していてもよい。また、液晶表示部30は、対向配置された基板の外側の、タッチパネル部材10とは反対側の位置に、発光素子や蛍光体を有するバックライト部を有していてもよい。また、対向配置された基板の外表面には、それぞれ偏光板を有していてもよい。 Although not shown, the liquid crystal display unit 30 has a liquid crystal layer formed between the substrates arranged so as to face each other. The liquid crystal display unit 30 may further have a colored layer of a plurality of colors and a light-shielding unit that defines pixels between the substrates arranged opposite to each other. Further, the liquid crystal display unit 30 may have a backlight unit having a light emitting element or a phosphor at a position on the outside of the substrate arranged opposite to each other on the side opposite to the touch panel member 10. Further, a polarizing plate may be provided on the outer surface of the substrates arranged so as to face each other.

本発明の液晶表示装置は、図8に示す形態には限られず、例えば図9に示すように、第一の透明電極4と、第二の透明電極5とが、それぞれ別個のポリイミドフィルムの上に配置されて構成されたタッチパネル部材20を具備するものであってもよい。
図9は、本発明の液晶表示装置200の一例を示す概略断面図である。液晶表示装置200は、液晶表示部30と、タッチパネル部材20と、接着層6と、前述した本発明のポリイミドフィルム1と、前記ポリイミドフィルム1の第一の面11に接して積層された機能層2とが、この順に積層されて構成されている。
液晶表示装置200が有するタッチパネル部材20は、図6~7に示すタッチパネル部材20と同様の構成を有している。即ち、液晶表示装置200は、タッチパネル部材20の第一の積層体201において、本発明のポリイミドフィルムである第一のポリイミドフィルム1aと、当該第一のポリイミドフィルム1aの第一の面11に接して積層された機能層2aとを有しており、タッチパネル部材20の第二の積層体202において、本発明のポリイミドフィルムである第二のポリイミドフィルム1bと、当該第二のポリイミドフィルム1bの第一の面11に接して積層された機能層2bとを有している。
なお、液晶表示部30の構成は、図8に示す液晶表示部30と同様であるため、詳細な説明を省略する。
The liquid crystal display device of the present invention is not limited to the form shown in FIG. 8, for example, as shown in FIG. 9, the first transparent electrode 4 and the second transparent electrode 5 are on separate polyimide films. It may be provided with the touch panel member 20 arranged and configured in.
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view showing an example of the liquid crystal display device 200 of the present invention. The liquid crystal display device 200 is a functional layer laminated in contact with the liquid crystal display unit 30, the touch panel member 20, the adhesive layer 6, the polyimide film 1 of the present invention described above, and the first surface 11 of the polyimide film 1. 2 and 2 are laminated in this order.
The touch panel member 20 included in the liquid crystal display device 200 has the same configuration as the touch panel member 20 shown in FIGS. 6 to 7. That is, the liquid crystal display device 200 is in contact with the first polyimide film 1a, which is the polyimide film of the present invention, and the first surface 11 of the first polyimide film 1a in the first laminated body 201 of the touch panel member 20. In the second laminated body 202 of the touch panel member 20, the second polyimide film 1b, which is the polyimide film of the present invention, and the second polyimide film 1b, which are laminated with each other, are provided. It has a functional layer 2b laminated in contact with one surface 11.
Since the configuration of the liquid crystal display unit 30 is the same as that of the liquid crystal display unit 30 shown in FIG. 8, detailed description thereof will be omitted.

なお、図8~9においては、本発明のポリイミドフィルムが、液晶表示部30の上に、ハードコート層3及び第二の透明電極5、又はハードコート層3bを介して配置された構成を示したが、本発明の液晶表示装置は、本発明のポリイミドフィルムが、液晶表示部30に接して配置された構成としてもよい。 8 to 9 show a configuration in which the polyimide film of the present invention is arranged on the liquid crystal display unit 30 via the hard coat layer 3 and the second transparent electrode 5, or the hard coat layer 3b. However, the liquid crystal display device of the present invention may have a configuration in which the polyimide film of the present invention is arranged in contact with the liquid crystal display unit 30.

本発明の液晶表示装置は、当該液晶表示装置に含まれる本発明のポリイミドフィルムが、機能層に対して優れた密着性を示し、且つ、外観が良好であり、光学特性に優れているため、フレキシルディスプレイとして好適である。 また、本発明の液晶表示装置は、当該液晶表示装置に含まれる本発明のポリイミドフィルムの第一の面に接触させて積層した機能層を有する場合には、当該ポリイミドフィルムと機能層とが優れた密着性を有し、且つ、外観が良好であり、光学特性に優れたものであるため、フレキシルディスプレイとして好適である。 In the liquid crystal display device of the present invention, the polyimide film of the present invention contained in the liquid crystal display device exhibits excellent adhesion to the functional layer, has a good appearance, and is excellent in optical characteristics. Suitable as a liquid crystal display. Further, when the liquid crystal display device of the present invention has a functional layer laminated in contact with the first surface of the polyimide film of the present invention contained in the liquid crystal display device, the polyimide film and the functional layer are excellent. It is suitable as a liquid crystal display because it has good adhesion, has a good appearance, and has excellent optical characteristics.

IX.有機エレクトロルミネッセンス表示装置
本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、対向配置された基板の間に形成された有機エレクトロルミネッセンス層を有する有機エレクトロルミネッセンス表示部と、前記有機エレクトロルミネッセンス表示部の一面側に配置された、前述した本発明のポリイミドフィルムと、を有する。
IX. Organic electroluminescence display device The organic electroluminescence display device of the present invention is arranged on one side of an organic electroluminescence display unit having an organic electroluminescence layer formed between substrates arranged opposite to each other and the organic electroluminescence display unit. It has the above-mentioned electroluminescent film of the present invention.

図10は、本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の一例を示す概略断面図である。
有機エレクトロルミネッセンス表示装置300は、有機エレクトロルミネッセンス表示部40と、タッチパネル部材10と、接着層6と、前述した本発明のポリイミドフィルム1と、前記ポリイミドフィルム1の第一の面11に接して積層された機能層2とが、この順に積層されて構成されている。
有機エレクトロルミネッセンス表示装置300が有するタッチパネル部材10は、図4~5に示すタッチパネル部材10と同様の構成を有している。即ち、有機エレクトロルミネッセンス表示装置300は、タッチパネル部材10において、本発明のポリイミドフィルム1と、前記ポリイミドフィルム1の第一の面11に接して積層された機能層2とを有している。
FIG. 10 is a schematic cross-sectional view showing an example of the organic electroluminescence display device of the present invention.
The organic electroluminescence display device 300 is laminated in contact with the organic electroluminescence display unit 40, the touch panel member 10, the adhesive layer 6, the polyimide film 1 of the present invention described above, and the first surface 11 of the polyimide film 1. The functional layers 2 are laminated in this order.
The touch panel member 10 included in the organic electroluminescence display device 300 has the same configuration as the touch panel member 10 shown in FIGS. 4 to 5. That is, the organic electroluminescence display device 300 has the polyimide film 1 of the present invention and the functional layer 2 laminated in contact with the first surface 11 of the polyimide film 1 in the touch panel member 10.

有機エレクトロルミネッセンス表示部40は、図示省略するが、対向配置された基板の間に形成された有機エレクトロルミネッセンス層を有している。有機エレクトロルミネッセンス表示部40は、さらに、支持基板と、有機EL層並びに有機EL層を挟持する陽極層及び陰極層を含む有機EL素子と、有機EL素子を封止する封止基材と、を有していてもよい。
前記有機EL層としては、少なくとも有機EL発光層を有するものであれば良いが、例えば、上記陽極層側から、正孔注入層、正孔輸送層、有機EL発光層、電子輸送層および電子注入層がこの順で積層した構造を有するものを有するものを用いることができる。
Although not shown, the organic electroluminescence display unit 40 has an organic electroluminescence layer formed between the substrates arranged so as to face each other. The organic electroluminescence display unit 40 further comprises a support substrate, an organic EL element including an anode layer and a cathode layer sandwiching the organic EL layer, and a sealing base material for sealing the organic EL element. You may have.
The organic EL layer may be any one having at least an organic EL light emitting layer, and for example, from the anode layer side, a hole injection layer, a hole transport layer, an organic EL light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection. Those having a structure in which the layers are laminated in this order can be used.

本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、図10に示す形態には限られず、例えば図11に示すように、第一の透明電極4と、第二の透明電極5とが、それぞれ別個のポリイミドフィルムの上に配置されて構成されたタッチパネル部材20を具備するものであってもよい。
図11は、本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置400の一例を示す概略断面図である。有機エレクトロルミネッセンス表示装置400は、有機エレクトロルミネッセンス表示部40と、タッチパネル部材20と、接着層6と、前述した本発明のポリイミドフィルム1と、前記ポリイミドフィルム1の第一の面11に接して積層された機能層2とが、この順に積層されて構成されている。
有機エレクトロルミネッセンス表示装置400が有するタッチパネル部材20は、図6~7に示すタッチパネル部材20と同様の構成を有している。即ち、有機エレクトロルミネッセンス表示装置400は、タッチパネル部材20の第一の積層体201において、本発明のポリイミドフィルムである第一のポリイミドフィルム1aと、当該第一のポリイミドフィルム1aの第一の面11に接して積層された機能層2aとを有しており、タッチパネル部材20の第二の積層体202において、本発明のポリイミドフィルムである第二のポリイミドフィルム1bと、当該第二のポリイミドフィルム1bの第一の面11に接して積層された機能層2bとを有している。
なお、有機エレクトロルミネッセンス表示部40の構成は、前述した有機エレクトロルミネッセンス表示装置300の有機エレクトロルミネッセンス表示部40と同様であるため、詳細な説明を省略する。
The organic electroluminescence display device of the present invention is not limited to the form shown in FIG. 10, and as shown in FIG. 11, for example, the first transparent electrode 4 and the second transparent electrode 5 are separate polyimide films. It may be provided with the touch panel member 20 arranged and configured on the surface.
FIG. 11 is a schematic cross-sectional view showing an example of the organic electroluminescence display device 400 of the present invention. The organic electroluminescence display device 400 is laminated in contact with the organic electroluminescence display unit 40, the touch panel member 20, the adhesive layer 6, the polyimide film 1 of the present invention described above, and the first surface 11 of the polyimide film 1. The functional layers 2 are laminated in this order.
The touch panel member 20 included in the organic electroluminescence display device 400 has the same configuration as the touch panel member 20 shown in FIGS. 6 to 7. That is, in the organic electroluminescence display device 400, in the first laminated body 201 of the touch panel member 20, the first polyimide film 1a, which is the polyimide film of the present invention, and the first surface 11 of the first polyimide film 1a. The second polyimide film 1b, which is the polyimide film of the present invention, and the second polyimide film 1b in the second laminated body 202 of the touch panel member 20 have a functional layer 2a laminated in contact with the touch panel member 20. It has a functional layer 2b laminated in contact with the first surface 11 of the above.
Since the configuration of the organic electroluminescence display unit 40 is the same as that of the organic electroluminescence display unit 40 of the organic electroluminescence display device 300 described above, detailed description thereof will be omitted.

なお、図10~11においては、本発明のポリイミドフィルムが、有機エレクトロルミネッセンス表示部40の上に、ハードコート層3及び第二の透明電極5、又はハードコート層3bを介して配置された構成を示したが、本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、本発明のポリイミドフィルムが、有機エレクトロルミネッセンス表示部40に接して配置された構成としてもよい。 In FIGS. 10 to 11, the polyimide film of the present invention is arranged on the organic electroluminescence display unit 40 via the hard coat layer 3 and the second transparent electrode 5, or the hard coat layer 3b. However, the organic electroluminescence display device of the present invention may have a configuration in which the polyimide film of the present invention is arranged in contact with the organic electroluminescence display unit 40.

本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、当該有機エレクトロルミネッセンス表示装置に含まれる本発明のポリイミドフィルムが、機能層に対して優れた密着性を示し、且つ、外観が良好であり、光学特性に優れているため、フレキシルディスプレイとして好適である。
また、本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、当該有機エレクトロルミネッセンス表示装置に含まれる本発明のポリイミドフィルムの第一の面に接触させて積層した機能層を有する場合には、当該ポリイミドフィルムと機能層とが優れた密着性を有し、且つ、外観が良好であり、光学特性に優れたものであるため、フレキシルディスプレイとして好適である。
In the organic electroluminescence display device of the present invention, the polyimide film of the present invention contained in the organic electroluminescence display device exhibits excellent adhesion to the functional layer, has a good appearance, and has excellent optical characteristics. Therefore, it is suitable as a flexible display.
Further, when the organic electroluminescence display device of the present invention has a functional layer laminated in contact with the first surface of the polyimide film of the present invention contained in the organic electroluminescence display device, the polyimide film and the function thereof. It is suitable as a flexible display because it has excellent adhesion to the layer, has a good appearance, and has excellent optical characteristics.

[評価方法]
<表面うねり>
走査型白色干渉顕微鏡を使用して、測定対象物の表面について、以下の測定条件により、700μm×700μmの視野における干渉縞の画像を取得した。
[測定条件]
表面うねり(Wa)測定
・製品名 :VertScan(走査型白色干渉顕微鏡)、株式会社日立ハイテクサイエンス製
・対物レンズ :5倍
・CCDカメラ :製品名 HR-50 1/3、ソニー株式会社製
・波長フィルタ :530White
・視野サイズ(pixels) :640×480
・測定モード:wave
・測定範囲(z軸方向) :Start 10μm、Stop -50μm
・XYサイズ:約941μm×706μm
[Evaluation methods]
<Surface swell>
Using a scanning white interference microscope, an image of interference fringes in a field of view of 700 μm × 700 μm was acquired on the surface of the object to be measured under the following measurement conditions.
[Measurement condition]
Surface waviness (Wa) measurement-Product name: VertScan (scanning white interference microscope), Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.-Objective lens: 5x-CCD camera: Product name HR-50 1/3, Sony Corporation-Wavelength Filter: 530 White
-Field of view size (pixels): 640 x 480
-Measurement mode: wave
-Measurement range (z-axis direction): Start 10 μm, Stop -50 μm
-XY size: Approximately 941 μm × 706 μm

(第一の領域の表面うねり(Wa1)の平均値Wa1ave
次いで、700μm×700μmの視野について得られた干渉縞画像において、測定対象物の長手方向に直交する方向に延在し、且つ前記長手方向の幅が、前記長手方向に直交する方向の長さよりも幅狭となるように、第一の領域を任意に抽出した。
具体的には、測定対象物の表面について取得した干渉縞画像(例えば、図2参照)中の、700μm×700μmの視野における干渉縞画像から、開始位置(pixels)をX1:0、 Y1:0として、X:480、Y:20でサイズ指定(pixels)を行い、第一の領域を抽出した。
次いで、任意に抽出した第一の領域の干渉縞画像から、測定対象物の原表面を決定し、得られた原表面から表面フィルター(S-フィルター)処理を行い、基礎表面を求めた後、当該基礎表面に対して、所定の表面フィルター処理(カットオフ値λ=10μm)を行うことによって、輪郭曲面(うねり曲面)を求めた。
次いで、輪郭曲面(うねり曲面)について定義された所定の領域の平均面をX-Y平面、高さ方向をZ軸として、輪郭曲面(うねり曲面)をZ=f1(x,y)で表わした時、上記式(1)で与えられる値をnm単位で表したものを、第一の領域の表面うねり(Wa1)として算出した。
次に、700μm×700μmの視野について得られた干渉縞画像から第一の領域を抽出する位置を、先の抽出位置から、前記測定対象物の長手方向(Y軸方向)に20pixels刻みで移動させて抽出し、抽出した第一の領域の干渉縞画像について、上記と同様の手順を繰り返して、第一の領域の表面うねり(Wa1)を算出した。
上記した表面うねり(Wa1)の算出工程を、24回繰り返し、それぞれにおいて得られた表面うねり(Wa1)の平均値を算出することにより、「第一の領域の表面うねり(Wa1)の平均値Wa1ave」を得た。
(Mean value of surface waviness (Wa1) in the first region Wa1 ave )
Next, in the interference fringe image obtained for the field of view of 700 μm × 700 μm, the interference fringe image extends in the direction orthogonal to the longitudinal direction of the object to be measured, and the width in the longitudinal direction is larger than the length in the direction orthogonal to the longitudinal direction. The first region was arbitrarily extracted so as to be narrow.
Specifically, the start positions (pixels) are set to X1: 0 and Y1: 0 from the interference fringe image in the field of view of 700 μm × 700 μm in the interference fringe image (for example, see FIG. 2) acquired for the surface of the object to be measured. The size was specified (pixels) at X: 480 and Y: 20, and the first region was extracted.
Next, the original surface of the object to be measured is determined from the interference fringe image of the first region arbitrarily extracted, and the obtained original surface is subjected to surface filter (S-filter) treatment to obtain the basic surface. A contour curved surface (waviness curved surface) was obtained by performing a predetermined surface filtering treatment (cutoff value λ c = 10 μm) on the basic surface.
Next, the contour curved surface (waviness curved surface) is represented by Z = f1 (x, y) with the average plane of a predetermined region defined for the contour curved surface (waviness curved surface) as the XY plane and the height direction as the Z axis. At that time, the value given by the above equation (1) expressed in nm units was calculated as the surface waviness (Wa1) of the first region.
Next, the position where the first region is extracted from the interference fringe image obtained for the field of 700 μm × 700 μm is moved from the previous extraction position in the longitudinal direction (Y-axis direction) of the measurement object in increments of 20 pixels. The surface waviness (Wa1) of the first region was calculated by repeating the same procedure as above for the interference fringe image of the extracted first region.
By repeating the above-mentioned calculation step of the surface waviness (Wa1) 24 times and calculating the average value of the surface waviness (Wa1) obtained in each, "the average value Wa1 of the surface waviness (Wa1) in the first region". " Ave " was obtained.

(第二の領域の表面うねり(Wa2)の平均値Wa2ave
前記した第一の領域の表面うねり(Wa1)の算出において取得した干渉縞画像において、測定対象物の長手方向に沿う方向に延在し、且つ前記長手方向に直交する方向の幅が、前記長手方向に沿う方向の長さよりも幅狭となるように、第二の領域を任意に抽出した。
具体的には、測定対象物の表面について取得した干渉縞画像(例えば、図2参照)中の、700μm×700μmの視野における干渉縞画像から、開始位置(pixels)をX1:0、 Y1:0として、X:20、Y:480でサイズ指定(pixels)を行い、第二の領域を抽出した(例えば、図3参照)。
次いで、任意に抽出した第二の領域の干渉縞画像から、測定対象物の表面形状を決定し、得られた表面形状の断面曲線から、上記第一の領域の表面うねり(Wa1)の算出で説明したのと同様の手順により、輪郭曲線(うねり曲線)を求め、得られた輪郭曲線(うねり曲線)から、上記第一の領域の表面うねり(Wa1)の算出で説明したのと同様の手順により、第二の領域の表面うねり(Wa2)を算出した。
次に、700μm×700μmの視野について得られた干渉縞画像から第二の領域を抽出する位置を、先の抽出位置から、前記測定対象物の短手方向(X軸方向)に20pixels刻みで移動させて抽出し、抽出した第二の領域の干渉縞画像について、上記と同様の手順を繰り返して、第二の領域の表面うねり(Wa2)を算出した。
上記した、表面うねり(Wa2)の算出工程を32回繰り返し、それぞれにおいて得られた表面うねり(Wa2)の平均値を算出することにより、「第二の領域の表面うねり(Wa2)の平均値Wa2ave」を得た。
(Mean value of surface waviness (Wa2) in the second region Wa2 ave )
In the interference fringe image acquired in the calculation of the surface waviness (Wa1) of the first region described above, the width extending in the direction along the longitudinal direction of the object to be measured and perpendicular to the longitudinal direction is the longitudinal direction. A second region was arbitrarily extracted so that it was narrower than the length along the direction.
Specifically, the start positions (pixels) are set to X1: 0 and Y1: 0 from the interference fringe image in the field of view of 700 μm × 700 μm in the interference fringe image (for example, see FIG. 2) acquired for the surface of the object to be measured. The size was specified (pixels) at X: 20 and Y: 480, and the second region was extracted (see, for example, FIG. 3).
Next, the surface shape of the object to be measured is determined from the interference fringe image of the second region arbitrarily extracted, and the surface waviness (Wa1) of the first region is calculated from the cross-sectional curve of the obtained surface shape. The contour curve (waviness curve) is obtained by the same procedure as described, and the same procedure as described in the calculation of the surface waviness (Wa1) of the first region from the obtained contour curve (waviness curve). The surface swell (Wa2) of the second region was calculated.
Next, the position where the second region is extracted from the interference fringe image obtained for the field of 700 μm × 700 μm is moved from the previous extraction position in the lateral direction (X-axis direction) of the measurement object in 20pixels increments. The surface waviness (Wa2) of the second region was calculated by repeating the same procedure as above for the interference fringe image of the extracted second region.
By repeating the above-mentioned calculation step of the surface waviness (Wa2) 32 times and calculating the average value of the surface waviness (Wa2) obtained in each, "the average value Wa2 of the surface waviness (Wa2) in the second region". " Ave " was obtained.

<表面粗さ>
走査型白色干渉顕微鏡を使用して、測定対象物の表面について、以下の測定条件により、95μm×71μmの視野における干渉縞の画像を取得した。
[測定条件]
表面粗さ(Sa)の測定
・製品名 :VertScan(走査型白色干渉顕微鏡)、株式会社日立ハイテクサイエンス製
・対物レンズ :50倍
・CCDカメラ :製品名 HR-50 1/3、ソニー株式会社製
・波長フィルタ : 530White
・視野サイズ(pixels) :640×480
・測定モード : wave
・測定範囲(z軸方向) : Start 10μm、Stop -50μm
・XYサイズ :約95μm×71μm
<Surface roughness>
Using a scanning white interference microscope, an image of interference fringes in a field of view of 95 μm × 71 μm was acquired on the surface of the object to be measured under the following measurement conditions.
[Measurement condition]
Surface roughness (Sa) measurement-Product name: VertScan (scanning white interference microscope), manufactured by Hitachi High-Tech Science Corporation
・ Objective lens: 50x
・ CCD camera: Product name HR-50 1/3, manufactured by Sony Corporation ・ Wavelength filter: 530 White
-Field of view size (pixels): 640 x 480
-Measurement mode: wave
-Measurement range (z-axis direction): Start 10 μm, Stop -50 μm
-XY size: Approximately 95 μm x 71 μm

次いで、95μm×71μmの視野について得られた干渉縞画像から、測定対象物の原表面を決定し、得られた原表面から表面フィルター(S-フィルター)処理を行い、基礎表面を求めた後、当該基礎表面に対して、L-フィルター処理(カットオフ値λ=10μm)を行うことによって、輪郭曲面(粗さ曲面)であるS-L平面を求めた。
次いで、S-L平面(輪郭曲面(粗さ曲面))について定義された所定の領域の平均面をX-Y平面、高さ方向をZ軸として、S-L平面(輪郭曲面(粗さ曲面))をZ=f2(x,y)で表わした時、上記式(2)で与えられる値をnm単位で表したものを、表面粗さ(Sa)として算出した。
Next, the original surface of the object to be measured was determined from the interference fringe image obtained for the field of view of 95 μm × 71 μm, and the obtained original surface was subjected to surface filter (S-filter) treatment to obtain the basic surface. The SL plane, which is a contour curved surface (roughness curved surface), was obtained by performing an L-filter treatment (cutoff value λ c = 10 μm) on the basic surface.
Next, the XY plane is the average plane of a predetermined region defined for the SL plane (contour curved surface (roughness curved surface)), and the height direction is the Z axis, and the SL plane (contour curved surface (roughness curved surface)). )) Was expressed by Z = f2 (x, y), and the value given by the above equation (2) expressed in nm units was calculated as the surface roughness (Sa).

<ポリイミド前駆体の重量平均分子量>
ポリイミド前駆体の重量平均分子量は、ポリイミド前駆体を0.5重量%の濃度のN-メチルピロリドン(NMP)溶液とし、その溶液をシリンジフィルター(孔径:0.45μm)に通じて濾過させ、展開溶媒として、含水量500ppm以下の10mmol%LiBr-NMP溶液を用い、GPC装置(東ソー製、HLC-8120、検出器:示差屈折率(RID)検出器、使用カラム:SHODEX製GPC LF-804を2本直列に接続)を用い、サンプル打ち込み量50μL、溶媒流量0.4mL/分、カラム温度37℃、検出器温度37℃の条件で測定を行った。ポリイミドの重量平均分子量は、サンプルと同濃度のポリスチレン標準サンプル(重量平均分子量:364,700、204,000、103,500、44,360,27,500、13,030、6,300、3,070)を基準に測定した標準ポリスチレンに対する換算値とした。溶出時間を検量線と比較し、重量平均分子量を求めた。
<Weight average molecular weight of polyimide precursor>
For the weight average molecular weight of the polyimide precursor, the polyimide precursor is prepared as a solution of N-methylpyrrolidone (NMP) having a concentration of 0.5% by weight, and the solution is filtered through a syringe filter (pore size: 0.45 μm) to develop the solution. As a solvent, a 10 mmol% LiBr-NMP solution having a water content of 500 ppm or less was used, and a GPC device (HLC-8120 manufactured by Tosoh Co., Ltd., detector: differential refractometer (RID) detector, column used: GPC LF-804 manufactured by SHODEX) was used. The measurement was carried out under the conditions of a sample injection amount of 50 μL, a solvent flow rate of 0.4 mL / min, a column temperature of 37 ° C., and a detector temperature of 37 ° C. using (connected in series). The weight average molecular weight of the polyimide is a polystyrene standard sample having the same concentration as the sample (weight average molecular weight: 364,700, 204,000, 103,500, 44,360,27,500, 13,030, 6,300, 3, It was used as a conversion value with respect to standard polystyrene measured based on 070). The elution time was compared with the calibration curve to determine the weight average molecular weight.

<ヘイズ値>
JIS K-7105に準拠して、ヘイズメーター(村上色彩技術研究所製 HM150)により測定した。
<Haze value>
It was measured by a haze meter (HM150 manufactured by Murakami Color Technology Research Institute) in accordance with JIS K-7105.

<密着性>
後述する[積層体の作製]において形成したハードコート層について、JIS K 5600-5-6に準拠したクロスカット試験を行い、テープによる剥離操作を繰り返し5回実施した後、塗膜(ハードコート層)の剥がれの有無を観察した。
○:ハードコート層の剥がれ無し
×:ハードコート層の剥がれ有り
<Adhesion>
A cross-cut test based on JIS K 5600-5-6 was performed on the hard coat layer formed in [Preparation of laminated body] described later, and the peeling operation with tape was repeated 5 times, and then the coating film (hard coat layer) was performed. ) Was observed for peeling.
○: No peeling of the hard coat layer ×: There is peeling of the hard coat layer

<外観>
[積層体の作製]において作製した積層体を、光源の前に設置し、スクリーンに映し出された投影画像を目視で観察した。そして、目視で観察される投影画像を、外観検査用フィルムと比較して、以下の評価基準に従って、外観の評価を行った。
◎:積層体の表面にスジが確認されなかった
○:積層体の表面に若干スジが確認されたものの、目視では殆ど目立たないレベルであった
×:積層体表面に目視で明確に確認できるレベルのスジが確認された
<Appearance>
The laminate produced in [Preparation of the laminate] was placed in front of the light source, and the projected image projected on the screen was visually observed. Then, the projected image visually observed was compared with the appearance inspection film, and the appearance was evaluated according to the following evaluation criteria.
⊚: No streaks were found on the surface of the laminate ○: Some streaks were found on the surface of the laminate, but the level was almost inconspicuous visually. ×: Level that can be clearly confirmed visually on the surface of the laminate. The streaks were confirmed

(合成例1)
500mlのセパラブルフラスコに、脱水されたジメチルアセトアミド3081g、及び、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(TFMB)322g(1.00mol)を入れ、TFMBを溶解させた溶液の液温が30℃に制御されたところへ、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物(6FDA)443g(1.00mol)を温度上昇が2℃以下になるように数回に分けて徐々に投入し、ポリイミド前駆体1が溶解したポリイミド前駆体溶液1(固形分20重量%)を合成した。ポリイミド前駆体溶液1(固形分20重量%)の25℃における粘度は34920cpsであり、GPCによって測定したポリイミド前駆体1の重量平均分子量は408500であった。
(Synthesis Example 1)
In a 500 ml separable flask, 3081 g of dehydrated dimethylacetamide and 322 g (1.00 mol) of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB) were placed, and the solution temperature of the solution in which TFMB was dissolved was increased. To the place controlled to 30 ° C, 443 g (1.00 mol) of 4,4'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid anhydride (6FDA) was gradually divided into several times so that the temperature rise was 2 ° C or less. A polyimide precursor solution 1 (solid content 20% by weight) in which the polyimide precursor 1 was dissolved was synthesized. The viscosity of the polyimide precursor solution 1 (solid content 20% by weight) at 25 ° C. was 34920 cps, and the weight average molecular weight of the polyimide precursor 1 measured by GPC was 408500.

(実施例1)
(支持体の研磨工程)
厚み100μm、幅500mmのSUS箔(日新製鋼社製)を、以下の手順によりバフ研磨して、表面研磨を行った。
まず、研磨機の支持台に、真空チャックによりSUS箔を固定した。次いで、バイアス綿バフの表面に、固形バフ研磨剤(棒状バフ研磨剤)を塗布した後、当該バイアス綿バフを広幅の研磨ヘッドに設置し、当該研磨ヘッドを往復動させながら、バフを高速回転させつつ、支持台に固定されたSUS箔の表面に接触させて、表面研磨を行った。表面研磨は、研磨ヘッドの往復を12回行うことにより行った。固形バフ研磨剤(棒状バフ研磨剤)としては、研磨材として、焼成アルミナを配合したものを使用した。
研磨後のSUS箔について、前記評価方法で説明した方法を用いて、表面粗さ(Sa)の測定、第一の領域の表面うねり(Wa1)の平均値Wa1aveの算出、第二の領域の表面うねり(Wa2)の平均値Wa2aveの算出を行った。
研磨後のSUS箔の表面粗さ(Sa)は1.5nmであり、第一の領域の表面うねり(Wa1)の平均値Wa1aveは、4.3nmであり、第二の領域の表面うねり(Wa2)の平均値Wa2aveは、3.4nmであった。
(Example 1)
(Support polishing process)
A SUS foil (manufactured by Nissin Steel Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm and a width of 500 mm was buffed according to the following procedure to polish the surface.
First, the SUS foil was fixed to the support base of the polishing machine by a vacuum chuck. Next, after applying a solid buff polishing agent (rod-shaped buff polishing agent) to the surface of the bias cotton buff, the bias cotton buff is placed on a wide polishing head, and the buff is rotated at high speed while reciprocating the polishing head. The surface was polished by contacting the surface of the SUS foil fixed to the support base. The surface polishing was performed by reciprocating the polishing head 12 times. As the solid buffing agent (rod-shaped buffing agent), a material containing calcined alumina was used as the polishing material.
For the SUS foil after polishing, the surface roughness (Sa) was measured, the average value of the surface waviness (Wa1) in the first region (Wa1) was calculated, and the average value Wa1 ave of the second region was calculated by using the method described in the evaluation method. The average value Wa2 ave of the surface waviness (Wa2) was calculated.
The surface roughness (Sa) of the SUS foil after polishing is 1.5 nm, the average value Wa1 ave of the surface waviness (Wa1) in the first region is 4.3 nm, and the surface waviness in the second region (Wa1). The average value of Wa2), Wa2 ave , was 3.4 nm.

(ポリイミドフィルムの作製)
(1)前記支持体の研磨工程にて表面研磨したSUS箔を、支持体として用い、当該SUS箔の表面粗さの測定面上に、ポリイミド前駆体溶液1を塗布して、ポリイミド前駆体溶液1の塗膜を形成した後、120℃の循環オーブンで10分乾燥した。
(2)窒素気流下(酸素濃度100ppm以下)、昇温速度10℃/分で、350℃まで昇温し、1時間保持後、室温まで冷却した。
(3)SUS箔より剥離し、ポリイミドフィルム1を得た。ポリイミドフィルム1の膜厚は51μmであった。
(Preparation of polyimide film)
(1) The SUS foil whose surface has been polished in the polishing step of the support is used as a support, and the polyimide precursor solution 1 is applied on the surface roughness measurement surface of the SUS foil to apply the polyimide precursor solution 1. After forming the coating film of No. 1, it was dried in a circulation oven at 120 ° C. for 10 minutes.
(2) The temperature was raised to 350 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min under a nitrogen stream (oxygen concentration of 100 ppm or less), held for 1 hour, and then cooled to room temperature.
(3) The polyimide film 1 was obtained by peeling from the SUS foil. The film thickness of the polyimide film 1 was 51 μm.

[積層体の作製]
ペンタエリスリトールトリアクリレートの40重量%メチルイソブチルケトン溶液に、ペンタエリスリトールトリアクリレート100重量部に対して10重量部の1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン(BASF製、イルガキュア184)を添加して、ハードコート層形成用組成物を調製した。
実施例1で得られたポリイミドフィルム1を10cm×10cmに切り出し、切り出したポリイミドフィルム1のSUS箔と接触していた側の面に、前記ハードコート層形成用組成物を塗布し、紫外線を窒素気流下200mJ/cmの露光量で照射し硬化させ、10μm膜厚の硬化膜であるハードコート層を形成し、積層体1を作製した。積層体1の厚さは61μmであった。
[Preparation of laminated body]
To a 40 wt% methyl isobutyl ketone solution of pentaerythritol triacrylate, 10 parts by weight of 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (BASF, Irgacure 184) was added to 100 parts by weight of pentaerythritol triacrylate to make a hard product. A composition for forming a coat layer was prepared.
The polyimide film 1 obtained in Example 1 was cut into a size of 10 cm × 10 cm, and the composition for forming a hard coat layer was applied to the surface of the cut polyimide film 1 in contact with the SUS foil, and ultraviolet rays were emitted from nitrogen. A hard coat layer, which is a cured film having a thickness of 10 μm, was formed by irradiating and curing the film with an exposure amount of 200 mJ / cm 2 under an air stream to prepare a laminated body 1. The thickness of the laminated body 1 was 61 μm.

(実施例2)
研磨ヘッドの往復動回数を8回に変更したこと以外は、実施例1と同様にして、バフ研磨を行った。
研磨後のSUS箔の表面粗さ(Sa)は4.2nm、第一の領域の表面うねり(Wa1)の平均値Wa1aveは10.8nm、第二の領域の表面うねり(Wa2)の平均値Wa2aveは5.2nmであった。当該SUS箔を支持体として用いたこと以外は、実施例1と同様にして、ポリイミドフィルム2を得た。ポリイミドフィルム2の膜厚は50μmであった。
次いで、ポリイミドフィルム2のSUS箔と接触していた側の面に、実施例1と同様にして、前記ハードコート層形成用組成物を塗布し、実施例1と同様にして硬化させて、ハードコート層を形成し、積層体2を作製した。積層体2の厚さは60μmであった。
(Example 2)
Buffing was performed in the same manner as in Example 1 except that the number of reciprocating movements of the polishing head was changed to eight.
The surface roughness (Sa) of the SUS foil after polishing is 4.2 nm, the average value of the surface waviness (Wa1) in the first region is 10.8 nm, and the average value of the surface waviness ( Wa2 ) in the second region. Wa2 ave was 5.2 nm. A polyimide film 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the SUS foil was used as a support. The film thickness of the polyimide film 2 was 50 μm.
Next, the composition for forming the hard coat layer was applied to the surface of the polyimide film 2 on the side in contact with the SUS foil in the same manner as in Example 1, and cured in the same manner as in Example 1 to harden. A coat layer was formed to prepare a laminated body 2. The thickness of the laminated body 2 was 60 μm.

(実施例3)
研磨ヘッドの往復動回数を4回に変更したこと以外は、実施例1と同様にして、バフ研磨を行った。
研磨後のSUS箔の表面粗さ(Sa)は8.8nm、第一の領域の表面うねり(Wa1)の平均値Wa1aveは38.1nm、第二の領域の表面うねり(Wa2)の平均値Wa2aveは23.5nmであった。当該SUS箔を支持体として用いたこと以外は、実施例1と同様にして、ポリイミドフィルム3を得た。ポリイミドフィルム3の膜厚は50μmであった。
次いで、ポリイミドフィルム3のSUS箔と接触していた側の面に、実施例1と同様にして、前記ハードコート層形成用組成物を塗布し、実施例1と同様にして硬化させて、ハードコート層を形成し、積層体3を作製した。積層体3の厚さは60μmであった。
(Example 3)
Buffing was performed in the same manner as in Example 1 except that the number of reciprocating movements of the polishing head was changed to 4.
The surface roughness (Sa) of the SUS foil after polishing is 8.8 nm, the average value of the surface waviness (Wa1) in the first region is 38.1 nm, and the average value of the surface waviness ( Wa2 ) in the second region. Wa2 ave was 23.5 nm. A polyimide film 3 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the SUS foil was used as a support. The film thickness of the polyimide film 3 was 50 μm.
Next, the composition for forming the hard coat layer was applied to the surface of the polyimide film 3 on the side in contact with the SUS foil in the same manner as in Example 1, and cured in the same manner as in Example 1 to harden. A coat layer was formed to prepare a laminated body 3. The thickness of the laminated body 3 was 60 μm.

(比較例1)
研磨ヘッドの往復動回数を16回に変更したこと以外は、実施例1と同様にして、バフ研磨を行った。
研磨後のSUS箔の表面粗さ(Sa)は0.9nm、第一の領域の表面うねり(Wa1)の平均値Wa1aveは4.2nm、第二の領域の表面うねり(Wa2)の平均値Wa2aveは3.9nmであった。当該SUS箔を支持体として用いたこと以外は、実施例1と同様にして、ポリイミドフィルム4を得た。ポリイミドフィルム4の膜厚は50μmであった。
次いで、ポリイミドフィルム4のSUS箔と接触していた側の面に、実施例1と同様にして、前記ハードコート層形成用組成物を塗布し、実施例1と同様にして硬化させて、ハードコート層を形成し、積層体4を作製した。積層体4の厚さは60μmであった。
(Comparative Example 1)
Buffing was performed in the same manner as in Example 1 except that the number of reciprocating movements of the polishing head was changed to 16.
The surface roughness (Sa) of the SUS foil after polishing is 0.9 nm, the average value of the surface waviness (Wa1) in the first region, Wa1 ave is 4.2 nm, and the average value of the surface waviness (Wa2) in the second region. Wa2 ave was 3.9 nm. A polyimide film 4 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the SUS foil was used as a support. The film thickness of the polyimide film 4 was 50 μm.
Next, the composition for forming the hard coat layer was applied to the surface of the polyimide film 4 on the side in contact with the SUS foil in the same manner as in Example 1, and cured in the same manner as in Example 1 to harden. A coat layer was formed to prepare a laminated body 4. The thickness of the laminated body 4 was 60 μm.

(比較例2)
研磨ヘッドの往復動回数を6回に変更し、固形バフ研磨剤(棒状バフ研磨剤)として、実施例1で用いた固形バフ研磨剤(棒状バフ研磨剤)に配合されている研磨材よりも、粒径の小さい研磨材が配合されたものを用いたこと以外は、実施例1と同様にして、バフ研磨を行った。
研磨後のSUS箔の表面粗さ(Sa)は7.5nm、第一の領域の表面うねり(Wa1)の平均値Wa1aveは42.7nm、第二の領域の表面うねり(Wa2)の平均値Wa2aveは18.0nmであった。当該SUS箔を支持体として用いたこと以外は、実施例1と同様にして、ポリイミドフィルム5を得た。ポリイミドフィルム5の膜厚は51μmであった。
次いで、ポリイミドフィルム5のSUS箔と接触していた側の面に、実施例1と同様にして、前記ハードコート層形成用組成物を塗布し、実施例1と同様にして硬化させて、ハードコート層を形成し、積層体5を作製した。積層体5の厚さは61μmであった。
(Comparative Example 2)
The number of reciprocating movements of the polishing head was changed to 6 times, and the solid buff polishing agent (rod-shaped buff polishing agent) was more than the polishing material blended in the solid buff polishing agent (rod-shaped buff polishing agent) used in Example 1. Buffing was performed in the same manner as in Example 1 except that a polishing material having a small particle size was used.
The surface roughness (Sa) of the SUS foil after polishing is 7.5 nm, the average value of the surface waviness (Wa1) in the first region is 42.7 nm, and the average value of the surface waviness ( Wa2 ) in the second region. Wa2 ave was 18.0 nm. A polyimide film 5 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the SUS foil was used as a support. The film thickness of the polyimide film 5 was 51 μm.
Next, the composition for forming the hard coat layer was applied to the surface of the polyimide film 5 on the side in contact with the SUS foil in the same manner as in Example 1, and cured in the same manner as in Example 1 to harden. A coat layer was formed to prepare a laminated body 5. The thickness of the laminated body 5 was 61 μm.

(比較例3)
研磨ヘッドの往復動回数を3回に変更し、固形バフ研磨剤(棒状バフ研磨剤)として、実施例1で用いた固形バフ研磨剤(棒状バフ研磨剤)に配合されている研磨材よりも、粒径の大きい研磨材が配合されたものを用いたこと以外は、実施例1と同様にして、バフ研磨を行った。
研磨後のSUS箔の表面粗さ(Sa)は15.4nm、第一の領域の表面うねり(Wa1)の平均値Wa1aveは113.7nm、第二の領域の表面うねり(Wa2)の平均値Wa2aveは130.1nmであった。当該SUS箔を支持体として用いたこと以外は、実施例1と同様にして、ポリイミドフィルム6を得た。ポリイミドフィルム6の膜厚は50μmであった。
次いで、ポリイミドフィルム6のSUS箔と接触していた側の面に、実施例1と同様にして、前記ハードコート層形成用組成物を塗布し、実施例1と同様にして硬化させて、ハードコート層を形成し、積層体6を作製した。積層体6の厚さは60μmであった。
(Comparative Example 3)
The number of reciprocating movements of the polishing head was changed to 3 times, and the solid buff polishing agent (rod-shaped buff polishing agent) was more than the polishing material blended in the solid buff polishing agent (rod-shaped buff polishing agent) used in Example 1. Buffing was performed in the same manner as in Example 1 except that a polishing material having a large particle size was used.
The surface roughness (Sa) of the SUS foil after polishing is 15.4 nm, the average value of the surface waviness (Wa1) in the first region is 113.7 nm, and the average value of the surface waviness ( Wa2 ) in the second region. Wa2 ave was 130.1 nm. A polyimide film 6 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the SUS foil was used as a support. The film thickness of the polyimide film 6 was 50 μm.
Next, the composition for forming the hard coat layer was applied to the surface of the polyimide film 6 on the side in contact with the SUS foil in the same manner as in Example 1, and cured in the same manner as in Example 1 to harden. A coat layer was formed to prepare a laminated body 6. The thickness of the laminated body 6 was 60 μm.

実施例1~3及び実施例1~3で得られた、[積層体の作製]を行う前のポリイミドフィルム1~6について、前記評価方法を用いて、ヘイズ値、SUS箔との接触面の表面粗さ(Sa)の測定、第一の領域の表面うねり(Wa1)の平均値Wa1aveの算出、第二の領域の表面うねり(Wa2)の平均値Wa2aveの算出を行った。評価結果を表1に示す。
また、実施例1~3及び実施例1~3で得られた積層体1~6について、前記評価方法を用いて、密着性、外観及びヘイズ値の評価を行った。評価結果を表1に示す。
With respect to the polyimide films 1 to 6 obtained in Examples 1 to 3 and Examples 1 to 3 before performing [Preparation of laminated body], the haze value and the contact surface with the SUS foil were determined by using the above evaluation method. The surface roughness (Sa) was measured, the average value Wa1 ave of the surface waviness (Wa1) in the first region was calculated, and the average value Wa2 ave of the surface waviness (Wa2) in the second region was calculated. The evaluation results are shown in Table 1.
Further, with respect to the laminates 1 to 6 obtained in Examples 1 to 3 and Examples 1 to 3, the adhesion, appearance and haze value were evaluated by using the above evaluation method. The evaluation results are shown in Table 1.

Figure 0007070128000006
Figure 0007070128000006

表1より、700μm×700μmの視野における、第一の領域の表面うねり(Wa1)の平均値Wa1aveと第二の領域の表面うねり(Wa2)の平均値Wa2aveとの差(Wa1ave-Wa2ave)が、20nm以下であり、且つ、71μm×95μmの視野における第一の面の表面粗さ(Sa)が1nm以上10nm以下であるポリイミドフィルムを有する実施例1~3のポリイミドフィルムは、ポリイミドフィルムのSUS箔との接触面と機能層とが優れた密着性を有しており、且つ、積層体においてスジの発生が抑制され、外観が良好であり、また、ヘイズ値が低く光学特性に優れていた。。
一方、比較例1の積層体4は、ポリイミドフィルム4の表面粗さ(Sa)が、1nm未満であったため、ハードコート層との密着性に劣り、一部にハードコート層の剥がれが発生した。
また、比較例2の積層体5は、ポリイミドフィルム5の、第一の領域の表面うねり(Wa1)の平均値Wa1aveと第二の領域の表面うねり(Wa2)の平均値Wa2aveとの差(Wa1ave-Wa2ave)が、20nmを超えていたため、スジの発生が生じ、外観に劣るものであった。
また、比較例3の積層体6は、ポリイミドフィルム6の表面粗さ(Sa)が10nm以下を超えていたため、ヘイズ値が4.1%と高く、半透明であり、光学特性に劣るものであった。
From Table 1, the difference between the average value Wa1 ave of the surface undulation (Wa1) in the first region and the average value Wa2 ave of the surface undulation (Wa2) in the second region in the field of view of 700 μm × 700 μm (Wa1 ave -Wa2). The polyimide films of Examples 1 to 3 having a polyimide film having an ave ) of 20 nm or less and a surface roughness (Sa) of the first surface of 1 nm or more and 10 nm or less in a field of view of 71 μm × 95 μm are polyimide. The contact surface of the film with the SUS foil and the functional layer have excellent adhesion, the generation of streaks is suppressed in the laminated body, the appearance is good, the haze value is low, and the optical characteristics are improved. It was excellent. ..
On the other hand, in the laminated body 4 of Comparative Example 1, since the surface roughness (Sa) of the polyimide film 4 was less than 1 nm, the adhesion to the hard coat layer was inferior, and the hard coat layer was partially peeled off. ..
Further, in the laminated body 5 of Comparative Example 2, the difference between the average value Wa1 ave of the surface waviness (Wa1) in the first region and the average value Wa2 ave of the surface waviness (Wa2) in the second region of the polyimide film 5. Since (Wa1 ave -Wa2 ave ) exceeded 20 nm, streaks were generated and the appearance was inferior.
Further, in the laminated body 6 of Comparative Example 3, since the surface roughness (Sa) of the polyimide film 6 exceeded 10 nm, the haze value was as high as 4.1%, it was translucent, and it was inferior in optical characteristics. there were.

1 ポリイミドフィルム
1a 第一のポリイミドフィルム
1b 第二のポリイミドフィルム
A1 長手方向に直交する方向に延在する第一の領域
A2 長手方向に沿う方向に延在する第二の領域
11 第一の面
12 第二の面
2、2a、2b 機能層
3、3a3b ハードコート層
4 第一の透明電極
41 第一の導電部
5 第二の透明電極
51 第二の導電部
6 接着層
7 第一の取出し線
71 第一の端子
8 第二の取出し線
81 第二の端子
13 ポリイミドフィルム1の端縁
14 アクティブエリア
15 非アクティブエリア
16 接続部
10、20 タッチパネル部材
201 第一の積層体
202 第二の積層体
30 液晶表示部
40 有機エレクトロルミネッセンス表示部
100、200 液晶表示装置
300、400 有機エレクトロルミネッセンス表示装置
1 Polyimide film 1a First polyimide film 1b Second polyimide film A1 First region extending in the direction orthogonal to the longitudinal direction A2 Second region extending in the direction along the longitudinal direction 11 First surface 12 Second surface 2, 2a, 2b Functional layer 3, 3a3b Hard coat layer 4 First transparent electrode 41 First conductive part 5 Second transparent electrode 51 Second conductive part 6 Adhesive layer 7 First take-out wire 71 First terminal 8 Second take-out wire 81 Second terminal 13 Edge edge of polyimide film 1 14 Active area 15 Inactive area 16 Connection part 10, 20 Touch panel member 201 First laminated body 202 Second laminated body 30 Liquid crystal display 40 Organic polyimide display 100, 200 Liquid crystal display 300, 400 Organic polyimide display

Claims (21)

長尺状のポリイミドフィルムであって、当該ポリイミドフィルムの一方の面を第一の面としたときに、当該第一の面内の700μm×700μmの視野において、前記ポリイミドフィルムの長手方向に直交する方向に延在し、且つ前記長手方向の幅が、前記長手方向に直交する方向の長さよりも幅狭となるように任意に抽出した第一の領域(A1)の表面うねり(Wa1)の平均値(Wa1ave)と、前記ポリイミドフィルムの長手方向に沿う方向に延在し、且つ前記長手方向に直交する方向の幅が、前記長手方向の長さよりも幅狭となるように任意に抽出した第二の領域(A2)の表面うねり(Wa2)の平均値(Wa2ave)との差(Wa1ave-Wa2ave)が、20nm以下であり、当該第一の面内の71μm×95μmの視野における表面粗さ(Sa)が1nm以上10nm以下であるポリイミドフィルムと、
前記ポリイミドフィルムの前記第一の面に接して積層された機能層と、を有することを特徴とする積層体。
A long polyimide film that is orthogonal to the longitudinal direction of the polyimide film in a 700 μm × 700 μm field of view in the first surface when one surface of the polyimide film is used as the first surface. The average of the surface waviness (Wa1) of the first region (A1) arbitrarily extracted so as to extend in the direction and the width in the longitudinal direction is narrower than the length in the direction orthogonal to the longitudinal direction. The value (Wa1 ave ) and the width extending along the longitudinal direction of the polyimide film and perpendicular to the longitudinal direction were arbitrarily extracted so as to be narrower than the length in the longitudinal direction. The difference (Wa1 ave -Wa2 ave ) from the average value (Wa2 ave ) of the surface waviness (Wa2) of the second region (A2) is 20 nm or less, and in the field of view of 71 μm × 95 μm in the first plane. A polyimide film having a surface roughness (Sa) of 1 nm or more and 10 nm or less,
A laminated body having a functional layer laminated in contact with the first surface of the polyimide film.
前記機能層は、ハードコート層である、請求項1に記載の積層体。 The laminate according to claim 1, wherein the functional layer is a hard coat layer. 前記ハードコート層は、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有する、請求項に記載の積層体。 The laminate according to claim 2 , wherein the hard coat layer contains at least one polymer of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound. 前記ラジカル重合性化合物が(メタ)アクリロイル基を1分子中に2つ以上有する化合物であり、前記カチオン重合性化合物がエポキシ基及びオキセタニル基の少なくとも1種を1分子中に2つ以上有する化合物である、請求項に記載の積層体。 The radically polymerizable compound is a compound having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule, and the cationically polymerizable compound is a compound having at least one of an epoxy group and an oxetanyl group in one molecule. The laminated body according to claim 3 . 前記積層体は、JIS K-7105に準拠したヘイズ値が2.0以下である、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の積層体。 The laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the laminate has a haze value of 2.0 or less according to JIS K-7105. 長尺状であり、一方の面を第一の面としたときに、当該第一の面に機能層を形成するための機能層形成用のポリイミドフィルムであって、
前記第一の面内の700μm×700μmの視野において、前記ポリイミドフィルムの長手方向に直交する方向に延在し、且つ前記長手方向の幅が、前記長手方向に直交する方向の長さよりも幅狭となるように任意に抽出した第一の領域(A1)の表面うねり(Wa1)の平均値(Wa1ave)と、前記ポリイミドフィルムの長手方向に沿う方向に延在し、且つ前記長手方向に直交する方向の幅が、前記長手方向の長さよりも幅狭となるように任意に抽出した第二の領域(A2)の表面うねり(Wa2)の平均値(Wa2ave)との差(Wa1ave-Wa2ave)が、20nm以下であり、当該第一の面内の71μm×95μmの視野における表面粗さ(Sa)が1nm以上10nm以下である、ことを特徴とするポリイミドフィルム。
It is a polyimide film having a long shape and for forming a functional layer on the first surface when one surface is used as the first surface.
In the field of view of 700 μm × 700 μm in the first plane, the polyimide film extends in a direction orthogonal to the longitudinal direction, and the width in the longitudinal direction is narrower than the length in the direction orthogonal to the longitudinal direction. The average value (Wa1 ave ) of the surface waviness (Wa1) of the first region (A1) arbitrarily extracted so as to extend in the direction along the longitudinal direction of the polyimide film and orthogonal to the longitudinal direction. The difference (Wa1 ave ) from the average value (Wa2 ave ) of the surface waviness (Wa2) of the second region (A2) arbitrarily extracted so that the width in the direction to be performed is narrower than the length in the longitudinal direction. Wa2 ave ) is 20 nm or less, and the surface roughness (Sa) in the field of view of 71 μm × 95 μm in the first plane is 1 nm or more and 10 nm or less.
前記ポリイミドフィルムは、JIS K-7105に準拠したヘイズ値が2.0以下である、請求項6に記載のポリイミドフィルム。 The polyimide film according to claim 6, wherein the polyimide film has a haze value of 2.0 or less according to JIS K-7105. 前記請求項6又は7に記載のポリイミドフィルム、又は、前記請求項1乃至5のいずれか一項に記載の積層体である、ディスプレイ用表面材。 A surface material for a display, which is the polyimide film according to claim 6 or 7, or the laminate according to any one of claims 1 to 5. フレキシブルディスプレイ用である、請求項8に記載のディスプレイ用表面材。 The display surface material according to claim 8, which is for a flexible display. 請求項6又は7に記載のポリイミドフィルムと、
前記ポリイミドフィルムの一面側に配置された、複数の導電部からなる透明電極と、
前記導電部の端部の少なくとも一方側において電気的に接続される複数の取り出し線と、を備えるタッチパネル部材。
The polyimide film according to claim 6 or 7, and the polyimide film.
A transparent electrode composed of a plurality of conductive parts arranged on one surface side of the polyimide film, and
A touch panel member comprising a plurality of take-out wires electrically connected on at least one side of the end of the conductive portion.
前記ポリイミドフィルムの前記第一の面に接して積層された機能層を有する、請求項10に記載のタッチパネル部材。 The touch panel member according to claim 10, further comprising a functional layer laminated in contact with the first surface of the polyimide film. 対向配置された基板の間に形成された液晶層を有する液晶表示部と、
前記液晶表示部の一面側に配置された、請求項6又は7に記載のポリイミドフィルムと、を有する液晶表示装置。
A liquid crystal display unit having a liquid crystal layer formed between the substrates arranged so as to face each other,
The liquid crystal display device comprising the polyimide film according to claim 6 or 7, which is arranged on one side of the liquid crystal display unit.
前記ポリイミドフィルムの前記第一の面に接して積層された機能層を有する、請求項12に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 12, which has a functional layer laminated in contact with the first surface of the polyimide film. 対向配置された基板の間に形成された有機エレクトロルミネッセンス層を有する有機エレクトロルミネッセンス表示部と、
前記有機エレクトロルミネッセンス表示部の一面側に配置された、請求項6又は7に記載のポリイミドフィルムと、を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
An organic electroluminescence display unit having an organic electroluminescence layer formed between substrates arranged to face each other, and an organic electroluminescence display unit.
The organic electroluminescence display device comprising the polyimide film according to claim 6 or 7, which is arranged on one side of the organic electroluminescence display unit.
前記ポリイミドフィルムの前記第一の面に接して積層された機能層を有する、請求項14に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。 The organic electroluminescence display device according to claim 14, further comprising a functional layer laminated in contact with the first surface of the polyimide film. 長尺状の支持体の表面を研磨することにより、当該支持体の表面の700μm×700μmの視野における、前記支持体の長手方向に直交する方向に延在し、且つ前記長手方向の幅が、前記長手方向に直交する方向の長さよりも幅狭となるように任意に抽出した第一領域(B1)の表面うねり(Wa1)の平均値(Wa1ave)と、前記支持体の長手方向に沿う方向に延在し、且つ前記長手方向に直交する方向の幅が、前記長手方向の長さよりも幅狭となるように任意に抽出した第二の領域(B2)の表面うねり(Wa2)の平均値(Wa2ave)との差(Wa1ave-Wa2ave)を、20nm以下とし、且つ、当該支持体の表面の71μm×95μmの視野における表面粗さ(Sa)を1nm以上10nm以下とする工程と、
ポリイミド前駆体と有機溶媒とを含有するポリイミド前駆体組成物を前記支持体の表面に塗布してポリイミド前駆体組成物の塗膜を形成するか、又はポリイミドと有機溶媒とを含有するポリイミド組成物を前記支持体の表面に塗布してポリイミド組成物の塗膜を形成する工程と、
前記ポリイミド前駆体組成物の塗膜から前記有機溶媒を除去し且つ前記ポリイミド前駆体組成物の塗膜に含まれる前記ポリイミド前駆体をイミド化するか、又は前記ポリイミド組成物の塗膜から前記有機溶媒を除去することにより、ポリイミドフィルムを形成する工程と、
を有することを特徴とする、ポリイミドフィルムの製造方法。
By polishing the surface of the elongated support, the surface of the support extends in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the support in a field of view of 700 μm × 700 μm, and the width in the longitudinal direction is increased. The average value (Wa1 ave ) of the surface waviness (Wa1) of the first region (B1) arbitrarily extracted so as to be narrower than the length in the direction orthogonal to the longitudinal direction, and along the longitudinal direction of the support. The average of the surface waviness (Wa2) of the second region (B2) arbitrarily extracted so that the width extending in the direction and orthogonal to the longitudinal direction is narrower than the length in the longitudinal direction. The step of setting the difference (Wa1 ave -Wa2 ave ) from the value (Wa2 ave ) to 20 nm or less and setting the surface roughness (Sa) of the surface of the support to 71 μm × 95 μm in a visual field of 1 nm or more and 10 nm or less. ,
A polyimide precursor composition containing a polyimide precursor and an organic solvent is applied to the surface of the support to form a coating film of the polyimide precursor composition, or a polyimide composition containing a polyimide and an organic solvent. To form a coating film of the polyimide composition by applying
The organic solvent is removed from the coating film of the polyimide precursor composition and the polyimide precursor contained in the coating film of the polyimide precursor composition is imidized, or the organic is said from the coating film of the polyimide composition. The process of forming a polyimide film by removing the solvent,
A method for producing a polyimide film.
前記ポリイミドフィルムは、JIS K-7105に準拠したヘイズ値が2.0以下である、請求項16に記載のポリイミドフィルムの製造方法。 The method for producing a polyimide film according to claim 16, wherein the polyimide film has a haze value of 2.0 or less according to JIS K-7105. 請求項16又は17に記載のポリイミドフィルムの製造方法により得られたポリイミドフィルムを準備する工程と、
前記ポリイミドフィルムの支持体と接していた側の面に、機能層形成用組成物の塗膜を形成する工程と、
前記塗膜を硬化する工程と、を含む積層体の製造方法。
A step of preparing a polyimide film obtained by the method for producing a polyimide film according to claim 16 or 17.
A step of forming a coating film of the composition for forming a functional layer on the surface on the side in contact with the support of the polyimide film, and
A method for producing a laminate including the step of curing the coating film.
前記機能層形成用組成物は、ハードコート層形成用組成物である、請求項18に記載の積層体の製造方法。 The method for producing a laminate according to claim 18, wherein the composition for forming a functional layer is a composition for forming a hardcourt layer. 前記ハードコート層形成用組成物は、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種を含有する、請求項19に記載の積層体の製造方法。 The method for producing a laminate according to claim 19 , wherein the composition for forming a hard coat layer contains at least one of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound. 前記請求項16又は17に記載の製造方法によりポリイミドフィルムを製造する工程、又は、前記請求項18乃至20のいずれか一項に記載の製造方法により積層体を製造する工程を含む、ディスプレイ用表面材の製造方法。 A surface for a display, comprising a step of manufacturing a polyimide film by the manufacturing method according to claim 16 or 17, or a step of manufacturing a laminate by the manufacturing method according to any one of claims 18 to 20. Material manufacturing method.
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