JP7066932B2 - Manufacturing method of composite resin, coating material, coating base material, insulating material, and composite resin - Google Patents

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本発明は、コンポジット樹脂、コーティング材、被覆基材、絶縁材料、及びコンポジット樹脂の製造方法に関し、より詳細には、種々の用途に利用可能なコンポジット樹脂、このコンポジット樹脂を含有するコーティング材、このコンポジット樹脂を含有するコーティング層を有する被覆基材、このコンポジット樹脂を含有する絶縁材料、及びこのコンポジット樹脂の製造方法に関する。 The present invention relates to a composite resin, a coating material, a coating base material, an insulating material, and a method for producing the composite resin. The present invention relates to a coating base material having a coating layer containing a composite resin, an insulating material containing the composite resin, and a method for producing the composite resin.

従来、アルコキシシリル基を有するフルオロアルキル基含有オリゴマーを含有する材料が知られている。 Conventionally, a material containing a fluoroalkyl group-containing oligomer having an alkoxysilyl group is known.

例えば、引用文献1には、アルコキシシリル基を有するフルオロアルキル基含有オリゴマーを縮合させた縮合物と水溶性セルロースエーテルを含むコンポジット樹脂を、油水分離材として用いることが記載されている。 For example, Reference 1 describes the use of a composite resin containing a condensate of a fluoroalkyl group-containing oligomer having an alkoxysilyl group and a water-soluble cellulose ether as an oil-water separating material.

特開第2017-160323号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-160323

本発明者らは、アルコキシシリル基を有するフルオロアルキル基含有オリゴマーを含有する新たな材料の開発を試みた。 The present inventors have attempted to develop a new material containing a fluoroalkyl group-containing oligomer having an alkoxysilyl group.

本発明の目的は、極性物質及び無極性物質に対する特異な親和性を有するコンポジット樹脂、このコンポジット樹脂を含有するコーティング材、このコンポジット樹脂を含有するコーティング層を有する被覆基材、このコンポジット樹脂を含有する絶縁材料、及びこのコンポジット樹脂の製造方法を提供することである。 An object of the present invention is a composite resin having a unique affinity for polar substances and non-polar substances, a coating material containing the composite resin, a coating base material having a coating layer containing the composite resin, and the composite resin. It is an object of the present invention to provide an insulating material to be used and a method for producing the composite resin.

本発明の一実施形態に係るコンポジット樹脂は、下記一般式(1)で表されるアルコキシシリル基を有するフルオロアルキル基含有オリゴマーを縮合させた縮合物とアミノ樹脂とを含む。 The composite resin according to the embodiment of the present invention contains a condensate obtained by condensing a fluoroalkyl group-containing oligomer having an alkoxysilyl group represented by the following general formula (1) and an amino resin.

Figure 0007066932000001
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式中、R及びRは、各々独立に-(CF)p-Y基又は-CF(CF)-[OCFCF(CF)]q-OC基を示し、Yは、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を示し、p及びqは、各々独立に0~10の整数である。R、R及びRは、各々独立に炭素数1~5の直鎖状又は分岐状のアルキル基を示す。mは2~3の整数である。 In the formula, R 1 and R 2 independently represent-(CF 2 ) p-Y group or -CF (CF 3 )-[OCF 2 CF (CF 3 )] q-OC 3 F 7 group, respectively, and Y Represents a hydrogen atom, a fluorine atom or a chlorine atom, and p and q are each independently an integer of 0 to 10. R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. m is an integer of 2 to 3.

本発明の一実施形態に係るコーティング材は、前記コンポジット樹脂を含有する。 The coating material according to the embodiment of the present invention contains the composite resin.

本発明の一実施形態に係る被覆基材は、基材と、前記基材上に設けられる前記コンポジット樹脂を含有するコーティング層と、を有する。 The coated base material according to the embodiment of the present invention has a base material and a coating layer containing the composite resin provided on the base material.

本発明の一実施形態に係る絶縁材料は、前記コンポジット樹脂を含有する。 The insulating material according to the embodiment of the present invention contains the composite resin.

本発明の一実施形態に係るコンポジット樹脂の製造方法は、下記一般式(1)で表されるアルコキシシリル基を有するフルオロアルキル基含有オリゴマーとアミノ樹脂とを含む反応原料溶液中で、前記アルコキシシリル基の加水分解反応を行う工程を含む。 The method for producing a composite resin according to an embodiment of the present invention is the alkoxysilyl in a reaction raw material solution containing a fluoroalkyl group-containing oligomer having an alkoxysilyl group represented by the following general formula (1) and an amino resin. It comprises a step of carrying out a hydrolysis reaction of a group.

Figure 0007066932000002
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式中、R及びRは、各々独立に-(CF)p-Y基又は-CF(CF)-[OCFCF(CF)]q-OC基を示し、Yは、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を示し、p及びqは、各々独立に0~10の整数である。R、R及びRは、各々独立に炭素数1~5の直鎖状又は分岐状のアルキル基を示す。mは2~3の整数である。 In the formula, R 1 and R 2 independently represent-(CF 2 ) p-Y group or -CF (CF 3 )-[OCF 2 CF (CF 3 )] q-OC 3 F 7 group, respectively, and Y Represents a hydrogen atom, a fluorine atom or a chlorine atom, and p and q are each independently an integer of 0 to 10. R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. m is an integer of 2 to 3.

本発明によれば、極性物質及び無極性物質に対する特異な親和性を有するコンポジット樹脂、このコンポジット樹脂を含有するコーティング材、このコンポジット樹脂を含有するコーティング層を有する被覆基材、このコンポジット樹脂を含有する絶縁材料、及びこのコンポジット樹脂の製造方法を得ることができる。 According to the present invention, a composite resin having a unique affinity for polar substances and non-polar substances, a coating material containing the composite resin, a coating base material having a coating layer containing the composite resin, and the composite resin are contained. It is possible to obtain an insulating material to be used and a method for producing the composite resin.

本発明を実施するための形態について説明する。 A mode for carrying out the present invention will be described.

本実施形態に係るコンポジット樹脂は、下記一般式(1)で表されるアルコキシシリル基を有するフルオロアルキル基含有オリゴマー(以下、「フルオロアルキル基含有オリゴマー」という場合がある。)を縮合させた縮合物とアミノ樹脂とを含む。 The composite resin according to this embodiment is a condensation obtained by condensing a fluoroalkyl group-containing oligomer having an alkoxysilyl group represented by the following general formula (1) (hereinafter, may be referred to as “fluoroalkyl group-containing oligomer”). Includes things and amino resins.

Figure 0007066932000003
Figure 0007066932000003

式中、R及びRは、各々独立に-(CF)p-Y基又は-CF(CF)-[OCFCF(CF)]q-OC基を示し、Yは、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を示し、p及びqは、各々独立に0~10の整数である。R、R及びRは、各々独立に炭素数1~5の直鎖状又は分岐状のアルキル基を示す。mは2~3の整数である。 In the formula, R 1 and R 2 independently represent-(CF 2 ) p-Y group or -CF (CF 3 )-[OCF 2 CF (CF 3 )] q-OC 3 F 7 group, respectively, and Y Represents a hydrogen atom, a fluorine atom or a chlorine atom, and p and q are each independently an integer of 0 to 10. R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. m is an integer of 2 to 3.

一般式(1)中のR、R及びRで示される炭素数1~5の直鎖状又は分岐状のアルキル基の例は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基等を含む。 Examples of the linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms represented by R 3 , R 4 and R 5 in the general formula (1) are methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group and pentyl. Including groups and the like.

一般式(1)中のR及びRで示される-(CF)p-Y基又は-CF(CF)-[OCFCF(CF)]q-OC基において、p及びqは、0~3の整数であることが好ましい。特に、R及びRが、-CF(CF)-OC基であることが好ましい。 In the-(CF 2 ) p-Y group or -CF (CF 3 )-[OCF 2 CF (CF 3 )] q-OC 3 F 7 group represented by R 1 and R 2 in the general formula (1). It is preferable that p and q are integers of 0 to 3. In particular, it is preferable that R 1 and R 2 are -CF (CF 3 ) -OC 3 F 7 units.

一般式(1)で表されるフルオロアルキル基含有オリゴマーは、例えば、トリメトキシビニルシラン等のトリアルコキシビニルシランを過酸化フルオロアルカノイルと反応させることによって製造することができる(例えば、特開2002-338691号公報、特開2010-77383号公報参照)。 The fluoroalkyl group-containing oligomer represented by the general formula (1) can be produced, for example, by reacting trialkoxyvinylsilane such as trimethoxyvinylsilane with fluoroalkanoyl peroxide (for example, JP-A-2002-338691). See Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-77383).

コンポジット樹脂は、フルオロアルキル基含有オリゴマーの縮合物とアミノ樹脂とを含むため、極性物質及び無極性物質に対する特異な親和性を有する。例えば、コンポジット樹脂は、金属基材、ガラス基材、樹脂基材等の種々の基材への良好な密着性を有する。フルオロアルキル基含有オリゴマーの縮合物単体ではこのような種々の基材への良好な密着性は発揮されないが、コンポジット樹脂中では、フルオロアルキル基含有オリゴマーがアミノ樹脂とコンポジット化しているため、種々の基材への良好な密着性が発現される。コンポジット樹脂中において、どのようにフルオロアルキル基含有オリゴマーとアミノ樹脂とがコンポジット化しているかというメカニズムは解明されていない。しかし、アミノ樹脂に由来するアミノ基がコンポジット樹脂中に分散していることで、種々の基材への良好な密着性といった極性物質及び無極性物質に対する特異な親和性に寄与していると推測される。 Since the composite resin contains a condensate of a fluoroalkyl group-containing oligomer and an amino resin, it has a unique affinity for polar substances and non-polar substances. For example, the composite resin has good adhesion to various substrates such as a metal substrate, a glass substrate, and a resin substrate. Although the condensate of the fluoroalkyl group-containing oligomer alone does not exhibit such good adhesion to various substrates, various fluoroalkyl group-containing oligomers are composited with the amino resin in the composite resin. Good adhesion to the substrate is exhibited. The mechanism of how the fluoroalkyl group-containing oligomer and the amino resin are composited in the composite resin has not been elucidated. However, it is speculated that the amino groups derived from the amino resin are dispersed in the composite resin, which contributes to the specific affinity for polar substances and non-polar substances such as good adhesion to various substrates. Will be done.

コンポジット樹脂に含まれるアミノ樹脂は、アミノ基を有する樹脂であれば特に限定されない。コンポジット樹脂に含まれるアミノ樹脂は、メラミン樹脂、アニリン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、及び尿素樹脂からなる群から選択される少なくとも1種を含むことが好ましい。アミノ樹脂は、メラミン樹脂を含むことが特に好ましい。 The amino resin contained in the composite resin is not particularly limited as long as it is a resin having an amino group. The amino resin contained in the composite resin preferably contains at least one selected from the group consisting of melamine resin, aniline resin, benzoguanamine resin, and urea resin. It is particularly preferable that the amino resin contains a melamine resin.

メラミン樹脂は、メラミンとホルムアルデヒドとの縮合物、又はこの縮合物を重合して得られる熱硬化性樹脂である。メラミン樹脂の具体例は、メチル化ブチル化メラミンホルムアルデヒド樹脂、メチル化メラミンホルムアルデヒド樹脂、ブチル化メラミンホルムアルデヒド樹脂等を含む。メラミン樹脂の具体的な製品としては、例えば日本サイテックインダストリーズ株式会社製の品名サイメル300、サイメル301、サイメル303、サイメル350、サイメル370、サイメル771、サイメル325、サイメル327、サイメル703、サイメル712、マイコート715、サイメル701、サイメル267、サイメル285、サイメル232、サイメル235、サイメル236、サイメル238、サイメル211、サイメル254、サイメル204、マイコート212、サイメル202、サイメル207、マイコート506、及びマイコート508;DIC株式会社製の品名AMIDIR J-820-60、AMIDIR L-109-65、AMIDIR L-117-60、AMIDIR L-127-60、AMIDIR 13-548、AMIDIR G-821-60、AMIDIR L-110-60、AMIDIR L-125-60、AMIDIR L-166-60B、AMIDIR L-105-60、AMIDIR S-695、及びAMIDIR S-683-IM;並びに株式会社三和ケミカル製の品名MW-30MLF、MW-30M、MW-30LF、MW-30、MW-22、MS-11、MW-12LF、MS-001、MZ-351、MX-730、MX-750、MX-706、及びMX-035等が挙げられる。 The melamine resin is a condensate of melamine and formaldehyde, or a thermosetting resin obtained by polymerizing the condensate. Specific examples of the melamine resin include methylated butylated melamine formaldehyde resin, methylated melamine formaldehyde resin, butylated melamine formaldehyde resin and the like. Specific products of melamine resin include, for example, product names Cymel 300, Cymel 301, Cymel 303, Cymel 350, Cymel 370, Cymel 771, Cymel 325, Cymel 327, Cymel 703, Cymel 712, and My. Coat 715, Cymel 701, Cymel 267, Cymel 285, Cymel 232, Cymel 235, Cymel 236, Cymel 238, Cymel 211, Cymel 254, Cymel 204, My Coat 212, Cymel 202, Cymel 207, My Coat 506, and My Coat. 508; Product names manufactured by DIC Corporation AMIDIR J-820-60, AMIDIR L-109-65, AMIDIR L-117-60, AMIDIR L-127-60, AMIDIR 13-548, AMIDIR G-821-60, AMIDIR L -110-60, AMIDIR L-125-60, AMIDIR L-166-60B, AMIDIR L-105-60, AMIDIR S-695, and AMIDIR S-683-IM; and product name MW-manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd. 30MLF, MW-30M, MW-30LF, MW-30, MW-22, MS-11, MW-12LF, MS-001, MZ-351, MX-730, MX-750, MX-706, and MX-035. And so on.

アニリン樹脂は、アニリンとホルムアルデヒドとの縮合物、又はこの縮合物を重合して得られる熱硬化性樹脂である。アニリン樹脂の具体例は、メチル化アニリンホルムアルデヒド樹脂、ブチル化アニリンホルムアルデヒド樹脂、メチル化ブチル化アニリンホルムアルデヒド樹脂等を含む。 The aniline resin is a condensate of aniline and formaldehyde, or a thermosetting resin obtained by polymerizing the condensate. Specific examples of the aniline resin include methylated aniline formaldehyde resin, butylated aniline formaldehyde resin, methylated butylated aniline formaldehyde resin and the like.

ベンゾグアナミン樹脂は、ベンゾグアナミンとホルムアルデヒドとの縮合物、又はこの縮合物を重合して得られる熱硬化性樹脂である。ベンゾグアナミン樹脂の具体例は、メチル化ベンゾグアナミンホルムアルデヒド樹脂、ブチル化ベンゾグアナミンホルムアルデヒド樹脂、メチル化ブチル化ベンゾグアナミンホルムアルデヒド樹脂、メチル化エチル化ベンゾグアナミンホルムアルデヒド樹脂等を含む。ベンゾグアナミン樹脂の具体的な製品としては、例えば日本サイテックインダストリーズ株式会社製の品名サイメル1123、マイコート102、マイコート105、マイコート106、及びマイコート1128;DIC株式会社製の品名AMIDIR TD-126、及びAMIDIR 15-594;並びに株式会社三和ケミカル製の品名BL-60、及びBX-4000等が挙げられる。 The benzoguanamine resin is a condensate of benzoguanamine and formaldehyde, or a thermosetting resin obtained by polymerizing this condensate. Specific examples of the benzoguanamine resin include methylated benzoguanamine formaldehyde resin, butylated benzoguanamine formaldehyde resin, methylated butylated benzoguanamine formaldehyde resin, methylated ethylened benzoguanamine formaldehyde resin and the like. Specific products of the benzoguanamine resin include, for example, the product names Cymel 1123, My Coat 102, My Coat 105, My Coat 106, and My Coat 1128 manufactured by Nippon Cytec Industries Co., Ltd .; the product name AMIDIR TD-126 manufactured by DIC Corporation. And AMIDIR 15-594; and product names BL-60, BX-4000, etc. manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.

尿素樹脂は、尿素とホルムアルデヒドとの縮合物、又はこの縮合物を重合して得られる熱硬化性樹脂である。尿素樹脂の具体例は、メチル化尿素ホルムアルデヒド樹脂、ブチル化尿素ホルムアルデヒド樹脂、メチル化ブチル化尿素ホルムアルデヒド樹脂等を含む。尿素樹脂の具体的な製品としては、例えば日本サイテックインダストリーズ株式会社製の品名UFR65、及びUFR300;並びにDIC株式会社製の品名AMIDIR P-138、AMIDIR P-196-M、及びAMIDIR G-1850等が挙げられる。 The urea resin is a condensate of urea and formaldehyde, or a thermosetting resin obtained by polymerizing the condensate. Specific examples of the urea resin include methylated urea formaldehyde resin, butylated urea formaldehyde resin, methylated butylated urea formaldehyde resin and the like. Specific products of urea resin include, for example, UFR65 and UFR300 manufactured by Cytec Industries, Ltd., and AMIDIR P-138, AMIDIR P-196-M, and AMIDIR G-1850 manufactured by DIC Corporation. Can be mentioned.

コンポジット樹脂中に含まれるアミノ樹脂の含有量は、フルオロアルキル基含有オリゴマーの縮合物100質量部に対して、0.1質量部以上1000質量部以下であることが好ましく、1質量部以上500質量部以下であることがより好ましい。アミノ樹脂の含有量がフルオロアルキル基含有オリゴマーの縮合物100質量部に対して、1質量部以上500質量部以下であることで、コンポジット樹脂は、極性物質及び無極性物質に対する特異な親和性を有しうる。 The content of the amino resin contained in the composite resin is preferably 0.1 part by mass or more and 1000 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the condensate of the fluoroalkyl group-containing oligomer, and is preferably 1 part by mass or more and 500 parts by mass. More preferably, it is less than or equal to a part. When the content of the amino resin is 1 part by mass or more and 500 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the condensate of the fluoroalkyl group-containing oligomer, the composite resin has a unique affinity for polar substances and non-polar substances. Can have.

コンポジット樹脂は、粒子状であることが好ましい。この場合、コンポジット樹脂の平均粒子径は、2000nm以下であることが好ましい。コンポジット樹脂の平均粒子径が2000nm以下であることで、コンポジット樹脂は高い透明性を有することができる。コンポジット樹脂の平均粒子径は、1000nm以下であることがより好ましい。また、コンポジット樹脂の平均粒子径は、0.01nm以上であることが好ましい。コンポジット樹脂の平均粒子径が0.01nm以上であることで、コンポジット樹脂をコーティング材や絶縁材料に用いる場合に、コンポジット樹脂は種々の分散溶媒に対する良好な分散性を有することができる。コンポジット樹脂の平均粒子径は、0.05nm以上であることがより好ましく、0.6nm以上であることが特に好ましい。コンポジット樹脂の平均粒子径は、レーザー回折・散乱法による粒度分布の測定値から算出される体積基準のメディアン径であり、市販のレーザー解析・散乱式粒度分布測定装置を用いて得られる。 The composite resin is preferably in the form of particles. In this case, the average particle size of the composite resin is preferably 2000 nm or less. When the average particle size of the composite resin is 2000 nm or less, the composite resin can have high transparency. The average particle size of the composite resin is more preferably 1000 nm or less. The average particle size of the composite resin is preferably 0.01 nm or more. When the average particle size of the composite resin is 0.01 nm or more, the composite resin can have good dispersibility in various dispersion solvents when the composite resin is used as a coating material or an insulating material. The average particle size of the composite resin is more preferably 0.05 nm or more, and particularly preferably 0.6 nm or more. The average particle size of the composite resin is a volume-based median size calculated from the measured value of the particle size distribution by the laser diffraction / scattering method, and can be obtained by using a commercially available laser analysis / scattering type particle size distribution measuring device.

本実施形態に係るコンポジット樹脂は、一般式(1)で表されるアルコキシシリル基を有するフルオロアルキル基含有オリゴマーとアミノ樹脂とを含む反応原料溶液中で、アルコキシシリル基の加水分解反応を行うことで得られることが好ましい。すなわち、本実施系形態のコンポジット樹脂の製造方法は、一般式(1)で表されるアルコキシリル基を有するフルオロアルキル基含有オリゴマーとアミノ樹脂とを含む反応原料溶液中で、アルコキシシリル基の加水分解反応を行う工程を含む。 The composite resin according to the present embodiment is subjected to a hydrolysis reaction of an alkoxysilyl group in a reaction raw material solution containing a fluoroalkyl group-containing oligomer having an alkoxysilyl group represented by the general formula (1) and an amino resin. It is preferable to obtain it in. That is, in the method for producing a composite resin of the present embodiment, the alkoxysilyl group is hydrolyzed in a reaction raw material solution containing a fluoroalkyl group-containing oligomer having an alkoxyryl group represented by the general formula (1) and an amino resin. Includes a step of performing a decomposition reaction.

コンポジット樹脂は、フルオロアルキル基含有オリゴマーとアミノ樹脂とを含む反応原料溶液中で、フルオロアルキル基含有オリゴマーのアルコキシシリル基が加水分解されることで、フルオロアルキル基含有オリゴマーとアミノ樹脂とがコンポジット化することにより得られる。コンポジット化のメカニズム、及びコンポジット化されたフルオロアルキル基含有オリゴマーとアミノ樹脂との構造については解明されていないため、コンポジット樹脂の構造又は特性を文言上特定することはできない。しかし、上述のように、コンポジット樹脂中では、アミノ樹脂に由来するアミノ基が分散されている、と推察される。このようにアミノ基が分散されていることで、アミノ基が水素結合に関与することにより、種々の基材との密着性が発揮されると考えられる。 In the composite resin, the alkoxysilyl group of the fluoroalkyl group-containing oligomer is hydrolyzed in the reaction raw material solution containing the fluoroalkyl group-containing oligomer and the amino resin, so that the fluoroalkyl group-containing oligomer and the amino resin are composited. Obtained by doing. Since the mechanism of compositing and the structure of the composited fluoroalkyl group-containing oligomer and the amino resin have not been elucidated, the structure or characteristics of the composite resin cannot be literally specified. However, as described above, it is presumed that the amino groups derived from the amino resin are dispersed in the composite resin. It is considered that the dispersion of the amino groups in this way causes the amino groups to participate in hydrogen bonds, thereby exhibiting adhesion to various substrates.

反応原料溶液中のアミノ樹脂は、コンポジット樹脂に含まれるアミノ樹脂と同様のアミノ樹脂であってよい。 The amino resin in the reaction raw material solution may be an amino resin similar to the amino resin contained in the composite resin.

反応原料溶液中のアミノ樹脂は、25℃で液状である、又は反応原料溶液中に25℃で溶解していることが好ましい。すなわち、原料として用いられるアミノ樹脂は、25℃で液状である性質、又は25℃で反応原料溶液中に溶解可能である性質を有することが好ましい。この場合、フルオロアルキル基含有オリゴマーとアミノ樹脂とがより良好にコンポジット化しうる。 The amino resin in the reaction raw material solution is preferably liquid at 25 ° C. or dissolved in the reaction raw material solution at 25 ° C. That is, it is preferable that the amino resin used as a raw material has a property of being liquid at 25 ° C. or a property of being soluble in a reaction raw material solution at 25 ° C. In this case, the fluoroalkyl group-containing oligomer and the amino resin can be better composited.

反応原料溶液中のアミノ樹脂は、メラミン樹脂、アニリン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、及び尿素樹脂からなる群から選択される少なくとも1種を含むことが好ましい。メラミン樹脂の具体例は、メチル化ブチル化メラミンホルムアルデヒド樹脂、メチル化メラミンホルムアルデヒド樹脂、ブチル化メラミンホルムアルデヒド樹脂等を含む。アニリン樹脂の具体例は、メチル化アニリンホルムアルデヒド樹脂、ブチル化アニリンホルムアルデヒド樹脂、メチル化ブチル化アニリンホルムアルデヒド樹脂等を含む。ベンゾグアナミン樹脂の具体例は、メチル化ベンゾグアナミンホルムアルデヒド樹脂、ブチル化ベンゾグアナミンホルムアルデヒド樹脂、メチル化ブチル化ベンゾグアナミンホルムアルデヒド樹脂、メチル化エチル化ベンゾグアナミンホルムアルデヒド樹脂等を含む。尿素樹脂の具体例は、メチル化尿素ホルムアルデヒド樹脂、ブチル化尿素ホルムアルデヒド樹脂、メチル化ブチル化尿素ホルムアルデヒド樹脂等を含む。アミノ樹脂は、メラミン樹脂を含むことが特に好ましい。 The amino resin in the reaction raw material solution preferably contains at least one selected from the group consisting of melamine resin, aniline resin, benzoguanamine resin, and urea resin. Specific examples of the melamine resin include methylated butylated melamine formaldehyde resin, methylated melamine formaldehyde resin, butylated melamine formaldehyde resin and the like. Specific examples of the aniline resin include methylated aniline formaldehyde resin, butylated aniline formaldehyde resin, methylated butylated aniline formaldehyde resin and the like. Specific examples of the benzoguanamine resin include methylated benzoguanamine formaldehyde resin, butylated benzoguanamine formaldehyde resin, methylated butylated benzoguanamine formaldehyde resin, methylated ethylened benzoguanamine formaldehyde resin and the like. Specific examples of the urea resin include methylated urea formaldehyde resin, butylated urea formaldehyde resin, methylated butylated urea formaldehyde resin and the like. It is particularly preferable that the amino resin contains a melamine resin.

反応原料溶液中のアミノ樹脂の含有量は、一般式(1)で表されるフルオロアルキル基含有オリゴマー100質量部に対して、0.1質量部以上1000質量部以下であることが好ましい。この場合、コンポジット樹脂は、極性物質及び無極性物質に対する特異な親和性を有しうる。アミノ樹脂の含有量は、フルオロアルキル基含有オリゴマー100質量部に対して、1質量部以上500質量部以下であることがより好ましく、2質量部以上200質量部以下であることが特に好ましい。 The content of the amino resin in the reaction raw material solution is preferably 0.1 part by mass or more and 1000 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the fluoroalkyl group-containing oligomer represented by the general formula (1). In this case, the composite resin may have a unique affinity for polar and non-polar substances. The content of the amino resin is more preferably 1 part by mass or more and 500 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the fluoroalkyl group-containing oligomer, and particularly preferably 2 parts by mass or more and 200 parts by mass or less.

反応原料溶液の調製において、フルオロアルキル基含有オリゴマー及びアミノ樹脂の添加順序は特に制限されない。 In the preparation of the reaction raw material solution, the order of adding the fluoroalkyl group-containing oligomer and the amino resin is not particularly limited.

加水分解反応を行う際の反応温度は、-5℃以上50℃以下であることが好ましい。加水分解反応を-5℃以上で行うことで、加水分解速度が遅くなりすぎることを防ぎ、反応効率を高めることができる。また、加水分解反応を50℃以下で行うことで、コンポジット樹脂の安定性を向上させることができる。加水分解反応を行う反応時間は、特に限定されず、適宜選択することができる。反応時間は、例えば1~72時間の範囲内であることが好ましく、1~50時間の範囲内であることがより好ましい。 The reaction temperature when carrying out the hydrolysis reaction is preferably −5 ° C. or higher and 50 ° C. or lower. By carrying out the hydrolysis reaction at −5 ° C. or higher, it is possible to prevent the hydrolysis rate from becoming too slow and increase the reaction efficiency. Further, by carrying out the hydrolysis reaction at 50 ° C. or lower, the stability of the composite resin can be improved. The reaction time for carrying out the hydrolysis reaction is not particularly limited and can be appropriately selected. The reaction time is preferably in the range of, for example, 1 to 72 hours, and more preferably in the range of 1 to 50 hours.

加水分解反応は、反応溶媒を用いて行うことが好ましい。すなわち、反応原料溶液は、反応溶媒を含有することが好ましい。この場合、加水分解反応を効率的に行うことができる。反応溶媒の例は、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等の低級アルコールを含む。これらの溶媒を1種単独で用いてもよく、2種以上を混合して混合溶媒として用いてもよい。特に、水とメタノールの混合溶媒を用いることが好ましい。反応原料溶液中で加水分解反応を行った後に得られるコンポジット樹脂を含有する反応液を、常法により減圧することで、反応溶媒を除去してもよい。また、加水分解反応終了後、反応溶媒を除去せずに、コンポジット樹脂を含有する反応液を、後述するコーティング材としてそのまま使用してもよい。 The hydrolysis reaction is preferably carried out using a reaction solvent. That is, the reaction raw material solution preferably contains a reaction solvent. In this case, the hydrolysis reaction can be carried out efficiently. Examples of reaction solvents include lower alcohols such as water, methanol, ethanol and isopropyl alcohol. These solvents may be used alone or in combination of two or more as a mixed solvent. In particular, it is preferable to use a mixed solvent of water and methanol. The reaction solvent may be removed by reducing the pressure of the reaction solution containing the composite resin obtained after performing the hydrolysis reaction in the reaction raw material solution by a conventional method. Further, after the completion of the hydrolysis reaction, the reaction solution containing the composite resin may be used as it is as a coating material described later without removing the reaction solvent.

加水分解反応の方法は、特に制限されず、酸触媒及び塩基触媒等の触媒下で行ってもよく、無触媒下で行ってもよい。加水分解反応における触媒の有無、及び触媒の種類に応じて、得られるコンポジット樹脂は異なる特性を発揮する。そのため、使用する用途に応じて、加水分解反応の方法を適宜選択すればよい。 The method of the hydrolysis reaction is not particularly limited, and may be carried out under a catalyst such as an acid catalyst and a base catalyst, or may be carried out under a non-catalyst. The obtained composite resin exhibits different properties depending on the presence or absence of a catalyst in the hydrolysis reaction and the type of catalyst. Therefore, the method of hydrolysis reaction may be appropriately selected according to the intended use.

加水分解反応を無触媒下で行う場合、無触媒下の加水分解反応によって得られるコンポジット樹脂は、塩基触媒下の加水分解反応によって得られるコンポジット樹脂と比較して、高い親水性及び撥油性を有しうる。無触媒下の加水分解反応によって得られるコンポジット樹脂は、後述する方法で測定されるコンポジット樹脂の水に対する接触角が90°以下となる親水性を有しうる。また、コンポジット樹脂は、後述する方法で測定されるコンポジット樹脂のドデカンに対する接触角が21°以上となる撥油性を有しうる。無触媒下での加水分解反応によって得られるコンポジット樹脂は、親水性及び撥油性を有しうるため、このコンポジット樹脂を含有するコーティング材を用いてコーティング層を形成する場合、曇り難く、指紋等の油性成分を含む汚れが付着し難いコーティング層を得ることができる。 When the hydrolysis reaction is carried out without a catalyst, the composite resin obtained by the hydrolysis reaction under the non-catalyst has higher hydrophilicity and oil repellency than the composite resin obtained by the hydrolysis reaction under the base catalyst. It can be done. The composite resin obtained by the hydrolysis reaction under a catalyst may have hydrophilicity such that the contact angle of the composite resin with water measured by the method described later is 90 ° or less. Further, the composite resin may have oil repellency such that the contact angle of the composite resin with respect to dodecane measured by the method described later is 21 ° or more. Since the composite resin obtained by the hydrolysis reaction under no catalyst can have hydrophilicity and oil repellency, when a coating material containing this composite resin is used to form a coating layer, it is difficult to fog and fingerprints and the like are formed. It is possible to obtain a coating layer to which dirt containing an oily component does not easily adhere.

また、無触媒下での加水分解反応によって得られるコンポジット樹脂は、良好な透明性を有する。そのため、このコンポジット樹脂を含有するコーティング材を用いることで、透明性の高いコーティング層を形成することができる。 In addition, the composite resin obtained by the hydrolysis reaction under no catalyst has good transparency. Therefore, by using a coating material containing this composite resin, a highly transparent coating layer can be formed.

さらに、無触媒下での加水分解反応によって得られるコンポジット樹脂は、金属基材、ガラス基材、PP(ポリプロピレン)樹脂やABS(アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体)樹脂等を含む樹脂基材といった種々の基材への良好な密着性を有する。そのため、このコンポジット樹脂を含有するコーティング材を用いることで、種々の基材への高い密着性を有するコーティング層を形成することができる。 Further, the composite resin obtained by the hydrolysis reaction under no catalyst is a resin base material containing a metal base material, a glass base material, a PP (polypropylene) resin, an ABS (acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer) resin, and the like. Has good adhesion to various substrates. Therefore, by using a coating material containing this composite resin, it is possible to form a coating layer having high adhesion to various substrates.

加水分解反応を酸触媒下で行う場合、酸触媒としては、フルオロアルキル基含有オリゴマー中のアルコキシシリル基を加水分解できるものであれば特に制限されない。酸触媒の例は、硫酸、塩酸、硝酸、酢酸等を含む。 When the hydrolysis reaction is carried out under an acid catalyst, the acid catalyst is not particularly limited as long as it can hydrolyze the alkoxysilyl group in the fluoroalkyl group-containing oligomer. Examples of acid catalysts include sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, acetic acid and the like.

酸触媒下での加水分解反応によって得られるコンポジット樹脂は、無触媒下での加水分解反応によって得られるコンポジット樹脂と同様の特性を有する。すなわち、酸触媒下での加水分解反応によって得られるコンポジット樹脂は、親水性及び撥油性を有しうる。また、このコンポジット樹脂は、良好な透明性、及び金属基材、ガラス基材、PP(ポリプロピレン)樹脂やABS(アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合)樹脂等を含む樹脂基材といった種々の基材への良好な密着性を有する。 The composite resin obtained by the hydrolysis reaction under an acid catalyst has the same characteristics as the composite resin obtained by the hydrolysis reaction under a non-catalyst. That is, the composite resin obtained by the hydrolysis reaction under an acid catalyst may have hydrophilicity and oil repellency. Further, this composite resin has good transparency and can be applied to various base materials such as a metal base material, a glass base material, a resin base material containing PP (polypropylene) resin, ABS (acrylonitrile, butadiene, styrene copolymer) resin and the like. Has good adhesion.

加水分解反応を塩基触媒下で行う場合、塩基触媒としては、フルオロアルキル基含有オリゴマー中のアルコキシシリル基を加水分解できるものであれば特に制限されない。塩基触媒の例は、アンモニア水、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等を含む。 When the hydrolysis reaction is carried out under a base catalyst, the base catalyst is not particularly limited as long as it can hydrolyze the alkoxysilyl group in the fluoroalkyl group-containing oligomer. Examples of the base catalyst include aqueous ammonia, sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonium hydroxide, sodium hydrogen carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate and the like.

塩基触媒下での加水分解反応によって得られるコンポジット樹脂は、無触媒下及び酸触媒下での加水分解反応によって得られるコンポジット樹脂と比較して、高い撥水性及び親油性を有しうる。塩基触媒下での加水分解反応によって得られるコンポジット樹脂は、後述する方法で測定されるコンポジット樹脂の水に対する接触角が91°以上となる撥水性を有しうる。また、塩基触媒下での加水分解反応によって得られるコンポジット樹脂は、後述する方法で測定されるコンポジット樹脂のドデカンに対する接触角が20°以下となる親油性を有しうる。塩基触媒下での加水分解反応によって得られるコンポジット樹脂は、撥水性及び親油性を有しうるため、例えば、このコンポジット樹脂を油水分離材の用途で用いることができる。また、塩基触媒下での加水分解反応によって得られるコンポジット樹脂は、超撥水性及び超親油性を有しうる。コンポジット樹脂が超撥水性を有するとは、後述する方法で測定されるコンポジット樹脂の水に対する接触角が150°以上であることを意味する。また、コンポジット樹脂が超親油性を有するとは、後述する方法で測定されるコンポジット樹脂のドデカンに対する接触角が5°以下であることを意味する。超撥水性及び超親油性を有するコンポジット樹脂は、油水分離材の用途で特に好適に用いることができる。 The composite resin obtained by the hydrolysis reaction under a base catalyst may have high water repellency and oil-friendly property as compared with the composite resin obtained by the hydrolysis reaction under a non-catalyst and an acid catalyst. The composite resin obtained by the hydrolysis reaction under a base catalyst may have water repellency such that the contact angle of the composite resin with water measured by the method described later is 91 ° or more. Further, the composite resin obtained by the hydrolysis reaction under a base catalyst may have lipophilicity such that the contact angle of the composite resin with respect to dodecane measured by the method described later is 20 ° or less. Since the composite resin obtained by the hydrolysis reaction under a base catalyst can have water repellency and lipophilicity, for example, this composite resin can be used as an oil-water separator. Further, the composite resin obtained by the hydrolysis reaction under a base catalyst may have superhydrophobicity and superlipophilicity. The fact that the composite resin has superhydrophobicity means that the contact angle of the composite resin with water measured by the method described later is 150 ° or more. Further, the fact that the composite resin has super lipophilicity means that the contact angle of the composite resin with respect to dodecane measured by the method described later is 5 ° or less. The composite resin having superhydrophobicity and superlipophilicity can be particularly preferably used in the application of an oil-water separating material.

本発明の一実施形態に係るコーティング材について説明する。 A coating material according to an embodiment of the present invention will be described.

本実施形態のコーティング材は、コンポジット樹脂を含有する。上述のように、フルオロアルキル基含有オリゴマーとアミノ樹脂と反応溶媒とを含む反応原料溶液中のアルコキシシリル基の加水分解反応を行った後のコンポジット樹脂を含有する反応液を、反応溶媒を除去せずにコーティング材としてそのまま使用してもよい。また、コンポジット樹脂を含有する反応液から、常法により反応溶媒を除去し、コンポジット樹脂を得た後、コンポジット樹脂を分散媒に分散させた分散液をコーティング材として用いてもよい。 The coating material of this embodiment contains a composite resin. As described above, remove the reaction solvent from the reaction solution containing the composite resin after the hydrolysis reaction of the alkoxysilyl group in the reaction raw material solution containing the fluoroalkyl group-containing oligomer, the amino resin and the reaction solvent. It may be used as it is as a coating material without using it. Further, the reaction solvent may be removed from the reaction solution containing the composite resin by a conventional method to obtain the composite resin, and then the dispersion liquid in which the composite resin is dispersed in the dispersion medium may be used as the coating material.

コーティング材は、用途に応じてコンポジット樹脂以外の成分を含有してもよい。コーティング材は、例えば、シランカップリング剤等の添加剤を含有してもよい。コーティング材の用途に応じて、添加剤を適宜選択することができる。例えば、コーティング材に抗菌性シランカップリング剤を添加することで、コーティング材から形成されるコーティング層に抗菌性を付与することができる。 The coating material may contain a component other than the composite resin depending on the intended use. The coating material may contain, for example, an additive such as a silane coupling agent. Additives can be appropriately selected depending on the use of the coating material. For example, by adding an antibacterial silane coupling agent to the coating material, antibacterial properties can be imparted to the coating layer formed from the coating material.

上述のように、コンポジット樹脂は、加水分解反応における触媒の有無、及び触媒の種類に応じて、得られるコンポジット樹脂は異なる特性を発揮する。そのため、コーティング材として用いる際の用途に応じて、コンポジット樹脂の特性を選択することができる。そのため、コンポジット樹脂を含有するコーティング材は、光学製品の部品に使用される反射防止膜、光学フィルター、光学レンズ、液晶ディスプレイ、CRTディスプレイ、プロジェクションテレビ、プラズマディスプレイ、及びELディスプレイ等の光学部材、壁紙、並びに看板等に用いることができる。 As described above, the obtained composite resin exhibits different characteristics depending on the presence or absence of a catalyst in the hydrolysis reaction and the type of catalyst. Therefore, the characteristics of the composite resin can be selected according to the application when used as a coating material. Therefore, the coating material containing the composite resin is an optical member such as an antireflection film, an optical filter, an optical lens, a liquid crystal display, a CRT display, a projection television, a plasma display, and an EL display used for parts of optical products, and wallpaper. , And can be used for signs and the like.

本発明の一実施形態に係る被覆基材について説明する。 A coated substrate according to an embodiment of the present invention will be described.

本実施形態の被覆基材は、基材と、基材上に設けられるコンポジット樹脂を含有するコーティング層と、を有する。 The coating base material of the present embodiment has a base material and a coating layer containing a composite resin provided on the base material.

基材は特に限定されず、コンポジット樹脂を含有するコーティング層と良好な密着性を有するものであればよい。基材の原料の例は、金属;ガラス繊維、シリカ、シリカゲル、アルミナ、スラグウール、モレキュラーシーブ、ゼオライト、活性炭、珪藻土、砂、石綿等の無機物;セルロース、羊毛、綿、絹等の天然高分子;ポリウレタン、ポリエチレンテレフタレート、ナイロン、ポリカーボネート等の縮合系または付加系重合高分子重合体;ポリエチレン、ポリプロピレン、塩化ビニル、酢酸ビニル等のエチレン性不飽和高分子重合体を含む。 The base material is not particularly limited as long as it has good adhesion to the coating layer containing the composite resin. Examples of raw materials for base materials are metals; inorganic substances such as glass fiber, silica, silica gel, alumina, slag wool, molecular sieve, zeolite, activated charcoal, diatomaceous soil, sand, and asbestos; natural polymers such as cellulose, wool, cotton, and silk. Condensed or additive polymerized polymers such as polyurethane, polyethylene terephthalate, nylon and polycarbonate; include ethylenically unsaturated polymer polymers such as polyethylene, polypropylene, vinyl chloride and vinyl acetate.

基材の形状は特に限定されず、例えば、細片状、海綿状、リボン状、フィブリル状、ウェブ状、マット状、綿布状、不織布状等であってよい。 The shape of the base material is not particularly limited, and may be, for example, a strip-like shape, a sponge-like shape, a ribbon-like shape, a fibril-like shape, a web-like shape, a mat-like shape, a cotton cloth-like shape, a non-woven fabric-like shape, or the like.

このような基材上に、コンポジット樹脂を含有するコーティング層を形成することで、被覆基材を得ることができる。コーティング層は、上述のコンポジット樹脂を含有するコーティング材を用いて形成することができる。例えば、コーティング材を基材に塗布し、乾燥させることでコーティング層を形成することができる。 A coated base material can be obtained by forming a coating layer containing a composite resin on such a base material. The coating layer can be formed by using the coating material containing the above-mentioned composite resin. For example, a coating layer can be formed by applying a coating material to a substrate and drying it.

被覆基材は、コーティング層の特性に応じて種々の用途に使用することができる。例えば、撥水性及び親油性の高いコンポジット樹脂を含有するコーティング層が設けられた被覆基材は、水と油性成分の混合液を分離処理するための油水分離材として用いることができる。被覆基材を油水分離材として用いる場合、例えば、カラムに油水分離材として被覆基材を充填し、混合液をカラムに投入することで水と油性成分とを分離することができる。 The coated substrate can be used for various purposes depending on the characteristics of the coating layer. For example, a coated base material provided with a coating layer containing a composite resin having high water repellency and lipophilicity can be used as an oil-water separating material for separating a mixed liquid of water and an oil-based component. When the coated base material is used as the oil-water separating material, for example, the column can be filled with the coating base material as the oil-water separating material, and the mixed liquid can be charged into the column to separate water and the oil-based component.

本発明の一実施形態に係る絶縁材料について説明する。 The insulating material according to the embodiment of the present invention will be described.

本実施形態の絶縁材料は、コンポジット樹脂を含有する。コンポジット樹脂は、金属への高い密着性を有しうるため、コンポジット樹脂を含有する絶縁材料は、ソルダーレジスト、及び内層絶縁材等の用途に好適に用いることができる。 The insulating material of this embodiment contains a composite resin. Since the composite resin can have high adhesion to metal, the insulating material containing the composite resin can be suitably used for applications such as solder resist and inner layer insulating material.

絶縁材料は、例えば、コンポジット樹脂を含有する樹脂組成物であってよい。樹脂組成物は、コンポジット樹脂に加えて、熱硬化性樹脂及び光硬化性樹脂のうちの少なくとも一つを含有することができる。樹脂組成物は、例えば、コンポジット樹脂に加えて、カルボキシル基含有樹脂、エチレン性不飽和結合を一分子中に少なくとも一つ有する不飽和化合物、光重合開始剤、エポキシ化合物、有機フィラー、カップリング剤、及び溶媒等の成分を含有することができる。樹脂組成物は、更に無機フィラー、硬化剤、密着性付与剤、硬化促進剤、着色剤、レベリング剤、チクソトロピー剤、重合禁止剤、ハレーション防止剤、難燃剤、消泡剤、酸化防止剤、界面活性剤、高分子分散剤等の成分を必要に応じて含有してもよい。 The insulating material may be, for example, a resin composition containing a composite resin. The resin composition can contain at least one of a thermosetting resin and a photocurable resin in addition to the composite resin. The resin composition includes, for example, a carboxyl group-containing resin, an unsaturated compound having at least one ethylenically unsaturated bond in one molecule, a photopolymerization initiator, an epoxy compound, an organic filler, and a coupling agent, in addition to the composite resin. , And components such as solvents can be contained. The resin composition further includes an inorganic filler, a curing agent, an adhesion imparting agent, a curing accelerator, a coloring agent, a leveling agent, a thixotropic agent, a polymerization inhibitor, an antihalation agent, a flame retardant, an antifoaming agent, an antioxidant, and a surfactant. Ingredients such as an activator and a polymer dispersant may be contained as needed.

例えば、絶縁層と導体配線とを備えるプリント配線板の導体配線上に、コンポジット樹脂を含有する樹脂組成物から皮膜を形成し、この皮膜を熱硬化及び光硬化のうちの少なくとも一つの方法で硬化させて硬化皮膜を形成することができる。例えば、樹脂組成物から形成された皮膜に露光及び現像処理を施した後、熱硬化処理を施すことでソルダーレジスト層を形成することができる。 For example, a film is formed from a resin composition containing a composite resin on a conductor wiring of a printed wiring board provided with an insulating layer and a conductor wiring, and this film is cured by at least one method of thermal curing and photocuring. It can be allowed to form a cured film. For example, a solder resist layer can be formed by subjecting a film formed from a resin composition to an exposure and development treatment and then a thermosetting treatment.

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

(1)フルオロアルキル基含有オリゴマー
フルオロアルキル基含有オリゴマー(以下、「VM」ということがある)として、下記表1のものを使用した。
(1) Fluoroalkyl group-containing oligomer As the fluoroalkyl group-containing oligomer (hereinafter, may be referred to as “VM”), the one shown in Table 1 below was used.

Figure 0007066932000004
Figure 0007066932000004

表1中、分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC、ポリスチレン換算)による平均分子量である。 In Table 1, the molecular weight is the average molecular weight by gel permeation chromatography (GPC, polystyrene conversion).

(2)コンポジット樹脂の合成
(2-1)合成例1~9
VM、メチル化ブチル化メラミンホルムアルデヒド樹脂(日本サイテックインダストリーズ株式会社製、品名サイメル235、数平均分子量630、重合度1.4、25℃で液状)、及びメタノールを後掲の表2に示す量で容器に仕込み、反応原料溶液を調製した。次いで、マグネチックスターラーを用いて反応原料溶液を25℃で5分間攪拌した。その後、合成例1~3の反応原料溶液においては、マグネチックスターラーを用いて25℃で更に12時間攪拌を行い、これを反応液試料とした。合成例4~6の反応原料溶液においては、後掲の表2に示す量で25wt%aq.NHを添加し、反応原料溶液を、マグネチックスターラーを用いて25℃で12時間攪拌した。これによって得られた反応液を合成例4~6の反応液試料とした。合成例7~9の反応原料溶液においては、後掲の表2に示す量で1mol/LのHCLを添加し、反応原料溶液を、マグネチックスターラーを用いて25℃で12時間攪拌した。これによって得られた反応液を、合成例7~9の反応液試料とした。
(2) Synthesis of composite resin (2-1) Synthesis examples 1-9
VM, methylated butylated melamine formaldehyde resin (manufactured by Nippon Cytec Industries Co., Ltd., product name Cymel 235, number average molecular weight 630, degree of polymerization 1.4, liquid at 25 ° C), and methanol in the amounts shown in Table 2 below. It was charged in a container and a reaction raw material solution was prepared. Then, the reaction raw material solution was stirred at 25 ° C. for 5 minutes using a magnetic stirrer. Then, in the reaction raw material solutions of Synthesis Examples 1 to 3, stirring was further performed at 25 ° C. for 12 hours using a magnetic stirrer, and this was used as a reaction solution sample. In the reaction raw material solutions of Synthesis Examples 4 to 6, the amount shown in Table 2 below was 25 wt% aq. NH 3 was added and the reaction raw material solution was stirred at 25 ° C. for 12 hours using a magnetic stirrer. The reaction solution thus obtained was used as a reaction solution sample of Synthesis Examples 4 to 6. In the reaction raw material solutions of Synthesis Examples 7 to 9, 1 mol / L HCl was added in the amount shown in Table 2 below, and the reaction raw material solution was stirred at 25 ° C. for 12 hours using a magnetic stirrer. The reaction solution thus obtained was used as a reaction solution sample of Synthesis Examples 7 to 9.

合成例1~9の反応液試料に含まれるコンポジット樹脂の平均粒子径を、レーザー解析・散乱式粒度分布測定装置(大塚電子株式会社製、品番ELSZ-2000ZS)を用いて測定した。合成例1、2、4、5、7及び8の反応液試料に含まれるコンポジット樹脂の平均粒子径は、検出限界である0.6nm未満であったため、測定できなかった。合成例3、6、9の反応液試料に含まれるコンポジット樹脂の平均粒子径は後掲の表2に示す通りである。 The average particle size of the composite resin contained in the reaction solution samples of Synthesis Examples 1 to 9 was measured using a laser analysis / scattering type particle size distribution measuring device (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., product number ELSZ-2000ZS). Since the average particle size of the composite resin contained in the reaction solution samples of Synthesis Examples 1, 2, 4, 5, 7 and 8 was less than the detection limit of 0.6 nm, it could not be measured. The average particle size of the composite resin contained in the reaction solution samples of Synthesis Examples 3, 6 and 9 is as shown in Table 2 below.

(2-2)合成例10
VM、メタノールを後掲の表2に示す量で容器に仕込み、反応原料溶液を調製した。次いで、マグネチックスターラーを用いて反応原料溶液を25℃で5分間攪拌した。その後、マグネチックスターラーを用いて25℃で更に12時間攪拌を行い、これを反応液試料とした。
(2-2) Synthesis Example 10
VM and methanol were charged in a container in the amounts shown in Table 2 below to prepare a reaction raw material solution. Then, the reaction raw material solution was stirred at 25 ° C. for 5 minutes using a magnetic stirrer. Then, the mixture was further stirred at 25 ° C. for 12 hours using a magnetic stirrer, and this was used as a reaction solution sample.

Figure 0007066932000005
Figure 0007066932000005

(3)テストピースの作製
(3-1)実施例1~9及び比較例1
実施例1~9及び比較例1のテストピースを、次のようにして作製した。合成例1~10の反応液試料の各々に、ガラス基板、PP(ポリプロピレン)基板、ABS(アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体)基板を25℃で1分間浸漬した。それぞれの基板を反応液試料から引き上げた後、自然乾燥し、更に20℃で一晩真空乾燥を行い、基板上に反応液から形成された層が設けられた実施例1~9及び比較例1のテストピースを得た。
(3) Preparation of test piece (3-1) Examples 1 to 9 and Comparative Example 1
The test pieces of Examples 1 to 9 and Comparative Example 1 were prepared as follows. A glass substrate, a PP (polypropylene) substrate, and an ABS (acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer) substrate were immersed in each of the reaction solution samples of Synthesis Examples 1 to 10 at 25 ° C. for 1 minute. After each substrate was pulled up from the reaction solution sample, it was naturally dried, and further vacuum dried at 20 ° C. overnight, and Examples 1 to 9 and Comparative Example 1 in which a layer formed from the reaction solution was provided on the substrate. I got a test piece of.

(3-2)実施例10~18及び比較例2
実施例10~18及び比較例2のテストピースを、次のようにして作製した。合成例1~10の反応液試料の各々に、ガラス基板、PP(ポリプロピレン)基板、ABS(アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体)基板を25℃で1分間浸漬した。それぞれの基板を反応液試料から引き上げた後、自然乾燥し、更に20℃で一晩真空乾燥を行った。その後、ガラス基板には150℃で1時間、PP基板には80℃で1時間、ABS基板には60℃で1時間の加熱処理を行った。これにより、基板上に反応液から形成された層が設けられた実施例10~18及び比較例2のテストピースを得た。
(3-2) Examples 10 to 18 and Comparative Example 2
The test pieces of Examples 10 to 18 and Comparative Example 2 were prepared as follows. A glass substrate, a PP (polypropylene) substrate, and an ABS (acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer) substrate were immersed in each of the reaction solution samples of Synthesis Examples 1 to 10 at 25 ° C. for 1 minute. After pulling up each substrate from the reaction solution sample, it was naturally dried, and further vacuum dried at 20 ° C. overnight. Then, the glass substrate was heat-treated at 150 ° C. for 1 hour, the PP substrate was heat-treated at 80 ° C. for 1 hour, and the ABS substrate was heat-treated at 60 ° C. for 1 hour. As a result, the test pieces of Examples 10 to 18 and Comparative Example 2 in which the layer formed from the reaction solution was provided on the substrate were obtained.

(3-3)実施例19及び比較例3
(3-3-1)カルボキシル基含有樹脂の合成
還流冷却器、温度計、空気吹き込み管及び攪拌機を取付けた四つ口フラスコ内に、ビスフェノールフルオレン型エポキシ化合物(下記式(2)で示され、式(2)中のR~Rがすべて水素である、エポキシ当量250g/eqのエポキシ化合物)250質量部、アクリル酸72質量部、トリフェニルフォスフィン1.5質量部、メチルハイドロキノン0.2質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート60質量部、及びジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート140質量部を加えた。これらをエアバブリング下で攪拌することで混合物を調製した。この混合物をフラスコ内でエアバブリング下で攪拌しながら、115℃で12時間加熱した。これにより、中間体の溶液を調製した。続いて、フラスコ内の中間体の溶液に1,2,3,6-テトラヒドロ無水フタル酸60.8質量部、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物58.8質量部、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート38.7質量部を投入した。これらをエアバブリング下で攪拌しながら115℃で6時間加熱し、さらに、エアバブリング下で攪拌しながら80℃で1時間加熱した。これにより、カルボキシル基含有樹脂の65質量%溶液を得た。カルボキシル基含有樹脂の多分散度(Mw/Mn)は2.15であり、重量平均分子量(Mw)は3096であり、酸価は105mgKOH/gであった。
(3-3) Example 19 and Comparative Example 3
(3-3-1) Synthesis of carboxyl group-containing resin A bisphenol fluorene-type epoxy compound (represented by the following formula (2)) is placed in a four-necked flask equipped with a reflux cooler, a thermometer, an air blow tube and a stirrer. Epoxy compounds having an epoxy equivalent of 250 g / eq, in which R 1 to R 8 in the formula (2) are all hydrogen) 250 parts by mass, acrylic acid 72 parts by mass, triphenylphosphine 1.5 parts by mass, methylhydroquinone 0. 2 parts by mass, 60 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate, and 140 parts by mass of diethylene glycol monoethyl ether acetate were added. A mixture was prepared by stirring these under air bubbling. The mixture was heated at 115 ° C. for 12 hours with stirring in the flask under air bubbling. This prepared a solution of the intermediate. Subsequently, 60.8 parts by mass of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, 58.8 parts by mass of 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride was added to the solution of the intermediate in the flask. 38.7 parts by mass and 38.7 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate were added. These were heated at 115 ° C. for 6 hours while stirring under air bubbling, and further heated at 80 ° C. for 1 hour while stirring under air bubbling. As a result, a 65% by mass solution of the carboxyl group-containing resin was obtained. The degree of polydispersity (Mw / Mn) of the carboxyl group-containing resin was 2.15, the weight average molecular weight (Mw) was 3096, and the acid value was 105 mgKOH / g.

Figure 0007066932000006
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(3-3-2)感光性樹脂組成物の調製
後掲の表5の「組成」欄に示す成分を、フラスコ内で35℃で攪拌混合することで、実施例19及び比較例3で用いる感光性樹脂組成物を得た。
(3-3-2) Preparation of Photosensitive Resin Composition The components shown in the “Composition” column of Table 5 below are used in Example 19 and Comparative Example 3 by stirring and mixing in a flask at 35 ° C. A photosensitive resin composition was obtained.

表5の「組成」に示される成分の詳細は次の通りである。
・不飽和化合物:トリメチロールプロパントリアクリレート。
・光重合開始剤A:2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイド、BASF社製、品番Irgacure TPO。
・光重合開始剤B:1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、BASF社製、品番Irgacure 184。
・光重合開始剤C:4,4’-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン。
・エポキシ樹脂A:ビフェニル型結晶性エポキシ樹脂、三菱化学株式会社製、品番YX-4000、融点105℃、エポキシ当量187g/eq。
・エポキシ樹脂B:ビスフェノール型結晶性エポキシ樹脂、新日鉄住金化学株式会社製、品番YSLV-80XY、融点75~85℃、エポキシ当量192g/eq。
・エポキシ樹脂Cの溶液:長鎖炭素鎖含有ビスフェノールA型エポキシ樹脂(DIC株式会社製、品番EPICLON EXA-4816、液状樹脂、エポキシ当量410g/eq)を固形分90%でジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートに溶解させた溶液(固形分90%換算のエポキシ当量は、455.56g/eq)。
・有機フィラーの分散液:平均一次粒子径0.07μmの架橋ゴム(NBR)を、分散液全量に対して含有量15重量%で、メチルエチルケトン中に分散させた分散液(JSR株式会社製、品番XER-91-MEK、酸価10.0mgKOH/g)。
・シランカップリング剤:3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン。
・酸化防止剤:ヒンダードフェノール系酸化防止剤、BASF社製、品番IRGANOX 1010。
・界面活性剤:DIC株式会社製、品番メガファックF-477。
・VM/アミノコンポジット溶液:合成例2の反応液。
・溶剤:ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート。
The details of the components shown in "Composition" in Table 5 are as follows.
-Unsaturated compound: trimethylolpropane triacrylate.
-Photopolymerization initiator A: 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, manufactured by BASF, product number Irgacure TPO.
-Photopolymerization initiator B: 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, manufactured by BASF, product number Irgacure 184.
-Photopolymerization initiator C: 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone.
Epoxy resin A: Biphenyl-type crystalline epoxy resin, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, product number YX-4000, melting point 105 ° C., epoxy equivalent 187 g / eq.
Epoxy resin B: Bisphenol type crystalline epoxy resin, manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd., product number YSLV-80XY, melting point 75-85 ° C., epoxy equivalent 192 g / eq.
-Epoxy resin C solution: A long-chain carbon chain-containing bisphenol A type epoxy resin (manufactured by DIC Co., Ltd., product number EPICLON EXA-4816, liquid resin, epoxy equivalent 410 g / eq) is converted into diethylene glycol monoethyl ether acetate with a solid content of 90%. Dissolved solution (epoxy equivalent in terms of solid content 90% is 455.56 g / eq).
-Dispersion liquid of organic filler: A dispersion liquid (manufactured by JSR Corporation, product number) in which crosslinked rubber (NBR) having an average primary particle diameter of 0.07 μm is dispersed in methyl ethyl ketone at a content of 15% by weight based on the total amount of the dispersion liquid. XER-91-MEK, acid value 10.0 mgKOH / g).
-Silane coupling agent: 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane.
-Antioxidant: Hindered phenolic antioxidant, manufactured by BASF, product number IRGANOX 1010.
-Surfactant: DIC Corporation, product number Megafuck F-477.
-VM / amino composite solution: Reaction solution of Synthesis Example 2.
-Solvent: Diethylene glycol monoethyl ether acetate.

(3-3-3)テストピースの作製
実施例19及び比較例3の感光性樹脂組成物を用いて、次のようにしてテストピースを作製した。
(3-3-3) Preparation of Test Piece Using the photosensitive resin compositions of Example 19 and Comparative Example 3, a test piece was prepared as follows.

感光性樹脂組成物を、ポリエチレンテレフタレート製のフィルム上にアプリケータで塗布してから、95℃で25分加熱することで乾燥させることにより、フィルム上に厚み30μmのドライフィルムを形成した。 The photosensitive resin composition was applied to a film made of polyethylene terephthalate with an applicator and then dried by heating at 95 ° C. for 25 minutes to form a dry film having a thickness of 30 μm on the film.

厚み17.5μmの銅箔を備えるガラスエポキシ銅張積層板(FR-4タイプ)を用意した。このガラスエポキシ銅張積層板にサブトラクティブ法で導体配線としてライン幅/スペース幅が30μm/30μmであるくし型電極を形成し、これによりコア材を得た。このコア材の導体配線における厚み1μm程度の表層部分を、エッチング剤(メック株式会社製の有機酸系マイクロエッチング剤、品番CZ-8101)で溶解除去することにより、導体配線を粗化した。このコア材の一面全面にドライフィルムを真空ラミネーターで加熱ラミネートした。加熱ラミネートの条件は、0.5MPa、80℃、1分間である。これにより、コア材上にドライフィルムからなる膜厚30μmの皮膜を形成した。この皮膜に、ポリエチレンテレフタレート製のフィルム上から、直径60μmの円形形状を含むパターンの非露光部を有するネガマスクを直接当てがった状態で、ネガマスクを介して皮膜に250mJ/cmの条件で紫外線を照射した。露光後、ドライフィルム(皮膜)からポリエチレンテレフタレート製のフィルムを剥離した。次いで、露光後の皮膜に現像処理を施した。現像処理に当たっては、皮膜に30℃の1%NaCO水溶液を0.2MPaの噴射圧で90秒間噴射した。続いて皮膜に純水を0.2MPaの噴射圧で90秒間噴射することで洗浄した。これにより、皮膜における露光されていない部分を除去した。続いて、皮膜を180℃で120分間加熱した。これにより、コア材上に感光性樹脂組成物の硬化物(ドライフィルムの硬化物ともいえる)からなる層を形成した。これによりテストピースを得た。 A glass epoxy copper-clad laminate (FR-4 type) provided with a copper foil having a thickness of 17.5 μm was prepared. A comb-shaped electrode having a line width / space width of 30 μm / 30 μm was formed as a conductor wiring on this glass epoxy copper-clad laminate by a subtractive method, thereby obtaining a core material. The conductor wiring was roughened by dissolving and removing the surface layer portion of the conductor wiring of the core material having a thickness of about 1 μm with an etching agent (organic acid-based micro-etching agent manufactured by MEC Co., Ltd., product number CZ-8101). A dry film was heat-laminated on the entire surface of this core material with a vacuum laminator. The conditions for heat laminating are 0.5 MPa, 80 ° C., and 1 minute. As a result, a film having a film thickness of 30 μm made of a dry film was formed on the core material. A negative mask having a non-exposed portion of a pattern including a circular shape with a diameter of 60 μm is directly applied to this film from a polyethylene terephthalate film, and ultraviolet rays are applied to the film via the negative mask under the condition of 250 mJ / cm 2 . Was irradiated. After the exposure, the polyethylene terephthalate film was peeled off from the dry film (film). Next, the film after exposure was subjected to a developing treatment. In the development treatment, a 1% Na 2 CO 3 aqueous solution at 30 ° C. was sprayed onto the film at an injection pressure of 0.2 MPa for 90 seconds. Subsequently, the film was washed by injecting pure water at an injection pressure of 0.2 MPa for 90 seconds. As a result, the unexposed portion of the film was removed. Subsequently, the film was heated at 180 ° C. for 120 minutes. As a result, a layer made of a cured product of the photosensitive resin composition (which can be said to be a cured product of the dry film) was formed on the core material. This gave a test piece.

(4)評価試験
(4-1)透明性
実施例1~18及び比較例1~2のテストピースの各々について、反応液から形成された層が設けられていない元の基板(ガラス基板、PP基板、及びABS基板)と比較して、目視により透明性を下記の評価基準で評価し、後掲の表3及び4の「透明性」欄に示す。
A:元の基板と同等の透明性を有する。
B:元の基板よりも低い透明性を有する。
(4) Evaluation test (4-1) Transparency For each of the test pieces of Examples 1 to 18 and Comparative Examples 1 and 2, the original substrate (glass substrate, PP) on which the layer formed from the reaction solution was not provided was provided. Compared with the substrate and ABS substrate), the transparency is visually evaluated according to the following evaluation criteria, and is shown in the “Transparency” column of Tables 3 and 4 below.
A: It has the same transparency as the original substrate.
B: Has lower transparency than the original substrate.

(4-2)密着性
JIS K 5600-5-6に準拠し、実施例1~18及び比較例1~2のテストピースの各々に25マスの切れ込みを入れ、その上から粘着テープを貼りつけた後、5分以内に粘着テープを剥がした。反応液から形成された層の剥がれを目視で確認した。その結果を次のように評価し、後掲の表3及び4の「密着性」欄に示す。
A:25マス中22マス以上において、反応液から形成された層が剥がれずに残った。
B:25マス中10マス以上22マス未満において、反応液から形成された層が剥がれずに残った。
C:25マス中10マス未満において、反応液から形成された層が剥がれずに残った。
(4-2) Adhesiveness In accordance with JIS K 5600-5-6, make a notch of 25 squares in each of the test pieces of Examples 1 to 18 and Comparative Examples 1 and 2, and attach an adhesive tape on them. After that, the adhesive tape was peeled off within 5 minutes. The peeling of the layer formed from the reaction solution was visually confirmed. The results are evaluated as follows and are shown in the "Adhesion" column of Tables 3 and 4 below.
A: In 22 or more of the 25 cells, the layer formed from the reaction solution remained without peeling.
B: In 10 or more and less than 22 cells out of 25 cells, the layer formed from the reaction solution remained without peeling.
C: In less than 10 cells out of 25 cells, the layer formed from the reaction solution remained without peeling.

(4-3)接触角(ドデカン)
実施例1~18及び比較例1~2のテストピースの各々に、ドデカンを接触させ、30分後の接触角を、接触角計(協和界面科学株式会社製、Drop Master.300)を用いて測定した。その結果を、後掲の表3及び4の「接触角(ドデカン)」欄に示す。なお、反応液から形成された層が設けられていない元のガラス基板、PP基板、及びABS基板のドデカンに対する接触角は、それぞれ0°、0°、9°であった。
(4-3) Contact angle (Dodecane)
Dodecane was brought into contact with each of the test pieces of Examples 1 to 18 and Comparative Examples 1 and 2, and the contact angle after 30 minutes was measured using a contact angle meter (Drop Master.300, manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). It was measured. The results are shown in the "Dodecane" column of Tables 3 and 4 below. The contact angles of the original glass substrate, PP substrate, and ABS substrate without the layer formed from the reaction solution with respect to dodecane were 0 °, 0 °, and 9 °, respectively.

表3及び4の「接触角(ドデカン)」欄におけるN/Aは、ドデカンに対する接触角が測定されなかったことを意味する。 N / A in the "contact angle (dodecane)" column of Tables 3 and 4 means that the contact angle with respect to dodecane was not measured.

(4-4)接触角(水)
実施例1~18及び比較例1~2のテストピースの各々に、水を接触させ、30分後の接触角を、接触角計(協和界面科学株式会社製、Drop Master.300)を用いて測定した。その結果を、後掲の表3及び4の「接触角(ドデカン)」欄に示す。なお、反応液から形成された層が設けられていない元のガラス基板、PP基板、及びABS基板の水に対する接触角は、それぞれ29°、38°、80°であった。
(4-4) Contact angle (water)
Water was brought into contact with each of the test pieces of Examples 1 to 18 and Comparative Examples 1 and 2, and the contact angle after 30 minutes was measured using a contact angle meter (Drop Master.300, manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). It was measured. The results are shown in the "Dodecane" column of Tables 3 and 4 below. The contact angles of the original glass substrate, PP substrate, and ABS substrate without the layer formed from the reaction solution with respect to water were 29 °, 38 °, and 80 °, respectively.

表3及び4の「接触角(水)」欄におけるN/Aは、水に対する接触角が測定されなかったことを意味する。 N / A in the "contact angle (water)" column of Tables 3 and 4 means that the contact angle with respect to water was not measured.

(4-5)耐メッキ性
実施例19及び比較例3のテストピースの導体配線における外部に露出する部分の上に、市販の無電解ニッケルメッキ浴を用いてニッケルメッキ層を形成してから、市販の無電解金メッキ浴を用いて金メッキ層を形成した。これにより、ニッケルメッキ層及び金メッキ層からなる金属層を形成した。硬化物からなる層及び金属層を目視で観察した。また、硬化物からなる層に対してセロハン粘着テープ剥離試験をおこなった。その結果を次のように評価し、後掲の表5の「耐メッキ性」欄に示す。
A:硬化物からなる層及び金属層の外観に異常は認められず、セロハン粘着テープ剥離試験による硬化物からなる層の剥離は生じなかった。
B:硬化物からなる層に変色が認められるが、セロハン粘着テープ剥離試験による硬化物からなる層の剥離は生じなかった。
C:硬化物からなる層の浮き上がりが認められ、セロハン粘着テープ剥離試験による硬化物からなる層の剥離が生じた。
(4-5) Plating resistance After forming a nickel plating layer on the externally exposed portion of the conductor wiring of the test pieces of Example 19 and Comparative Example 3 using a commercially available electroless nickel plating bath, A gold-plated layer was formed using a commercially available electroless gold-plated bath. As a result, a metal layer composed of a nickel-plated layer and a gold-plated layer was formed. The layer made of the cured product and the metal layer were visually observed. In addition, a cellophane adhesive tape peeling test was performed on the layer made of the cured product. The results are evaluated as follows and are shown in the "Plating resistance" column of Table 5 below.
A: No abnormality was observed in the appearance of the layer made of the cured product and the metal layer, and the layer made of the cured product was not peeled off by the cellophane adhesive tape peeling test.
B: Discoloration was observed in the layer made of the cured product, but the layer made of the cured product was not peeled off by the cellophane adhesive tape peeling test.
C: Lifting of the layer made of the cured product was observed, and the layer made of the cured product was peeled off by the cellophane adhesive tape peeling test.

(4-6)線間絶縁性
実施例19及び比較例3のテストピースにおける導体配線(くし型電極)にDC30Vのバイアス電圧を印加しながら、テストピースを121℃、97%R.H.の試験環境下に120時間曝露した。この試験環境下における硬化物からなる層のくし型電極間の電気抵抗値を常時測定し、その結果を次の評価基準により評価し、後掲の表5の「線間絶縁性」欄に示す。
A:試験開始時から100時間経過するまでの間、電気抵抗値が常に10Ω以上を維持した。
B:試験開始時から80時間経過するまでは電気抵抗値が常に10Ω以上を維持したが、試験開始時から100時間経過する前に電気抵抗値が10Ω未満となった。
D:試験開始時から80時間経過する前に電気抵抗値が10Ω未満となった。
(4-6) Line Insulation While applying a bias voltage of DC30V to the conductor wiring (comb-shaped electrode) in the test pieces of Example 19 and Comparative Example 3, the test piece was heated at 121 ° C. and 97% R. H. Was exposed to the test environment for 120 hours. The electrical resistance values between the comb-shaped electrodes of the cured product layer under this test environment are constantly measured, and the results are evaluated according to the following evaluation criteria, and are shown in the "Line insulation" column of Table 5 below. ..
A: From the start of the test to the elapse of 100 hours, the electrical resistance value was always maintained at 106 Ω or higher.
B: The electric resistance value was always maintained at 106 Ω or more from the start of the test until 80 hours passed, but the electric resistance value became less than 106 Ω before 100 hours passed from the start of the test.
D: The electrical resistance value became less than 106 Ω before 80 hours had passed from the start of the test.

(4-7)PCT(プレッシャクッカー試験)
実施例19及び比較例3のテストピースを121℃、100%R.H.の環境下で100時間放置した後、硬化物からなる層の外観を次の評価基準により評価し、その結果を後掲の表5の「PCT」欄に示す。
A:硬化物からなる層に異常は見られなかった。
B:硬化物からなる層に変色が見られた。
C:硬化物からなる層に大きな変色が見られ、一部膨れが発生していた。
(4-7) PCT (Pressure Cooker Test)
The test pieces of Example 19 and Comparative Example 3 were heated at 121 ° C. and 100% R. H. After being left in the above environment for 100 hours, the appearance of the layer made of the cured product is evaluated according to the following evaluation criteria, and the results are shown in the “PCT” column of Table 5 below.
A: No abnormality was found in the layer made of the cured product.
B: Discoloration was observed in the layer made of the cured product.
C: A large discoloration was observed in the layer made of the cured product, and some swelling occurred.

(4-8)粗化耐性
実施例19及び比較例3のテストピースについて、硬化物からなる層の外表面を、めっき処理の前工程において一般的なデスミア処理に基づいて下記手順で粗化させた。デスミア用膨潤液として市販されている膨潤処理液(アトテックジャパン株式会社製、スウェリング・ディップ・セキュリガンスP)を用いて膨潤処理を60℃で5分間行い、硬化物からなる層の表面を膨潤させた。次いで、この膨潤された表面に対して湯洗を行った。続いて、過マンガン酸カリウムを含有する、デスミア液として市販されている酸化剤(アトテックジャパン株式会社製、コンセントレート・コンパクトCP)を用いて80℃で10分間粗化処理を行い、湯洗後の硬化物からなる層の表面を粗化した。粗化された硬化物からなる層の表面に対して、湯洗を行い、更にこの硬化物からなる層の表面に、中和液(アトテックジャパン株式会社製、リダクションソリューション・セキュリガントP)を用いて40℃で5分間中和処理を行うことで、デスミア液の残渣を除去した。その後、中和後の硬化物からなる層の表面を水洗し、表面が粗化された感光性樹脂組成物の硬化物からなる層の厚みを測定した。その結果を、デスミア液に対する粗化耐性として次の評価基準により評価し、後掲の表5の「粗化耐性」欄に示す。
A:粗化による硬化物からなる層の厚みの減少が3μm未満である。
B:粗化による硬化物からなる層の厚みの減少が3μm以上6μm未満である。
C:粗化による硬化物からなる層の厚みの減少が6μm以上である。
(4-8) Roughing resistance With respect to the test pieces of Example 19 and Comparative Example 3, the outer surface of the layer made of a cured product is roughened by the following procedure based on the desmear treatment that is common in the pre-plating process. rice field. The swelling treatment is performed at 60 ° C. for 5 minutes using a swelling treatment liquid (Atotech Japan Co., Ltd., Swering Dip Security Guns P) commercially available as a swelling liquid for desmia, and the surface of the layer made of the cured product is swelled. I let you. Then, the swollen surface was washed with hot water. Subsequently, a roughening treatment was performed at 80 ° C. for 10 minutes using an oxidizing agent (Atotech Japan Co., Ltd., Concentrate Compact CP) containing potassium permanganate, which is commercially available as a desmia solution, and after washing with hot water. The surface of the layer made of the cured product of No. 1 was roughened. The surface of the layer made of the roughened cured product is washed with hot water, and a neutralizing solution (Reduction Solution Security P manufactured by Atotech Japan Co., Ltd.) is used on the surface of the layer made of the cured product. The residue of the desmear solution was removed by performing a neutralization treatment at 40 ° C. for 5 minutes. Then, the surface of the layer made of the cured product after neutralization was washed with water, and the thickness of the layer made of the cured product of the photosensitive resin composition having a roughened surface was measured. The results are evaluated as the roughening resistance to the Desmia liquid according to the following evaluation criteria, and are shown in the "Roughing resistance" column of Table 5 below.
A: The decrease in the thickness of the layer made of the cured product due to roughening is less than 3 μm.
B: The decrease in the thickness of the layer made of the cured product due to roughening is 3 μm or more and less than 6 μm.
C: The decrease in the thickness of the layer made of the cured product due to roughening is 6 μm or more.

(4-9)銅メッキ層への密着性
実施例19及び比較例3のテストピースについて、上記(4-8)で行ったのと同様の方法で硬化物からなる層に粗化処理を行った。次いで、市販の薬液を用いて、粗化された硬化物からなる層の表面に無電解銅メッキ処理で初期配線を形成した。この初期配線が設けられたテストピースを、150℃で1時間加熱した。次に、電解銅メッキ処理により、2A/dmの電流密度で、市販の薬液から初期配線に厚さ33μmの銅を直接析出させ、続いて銅を析出させたテストピースを180℃で30分間加熱して銅メッキ層を形成した。形成された銅メッキ層と硬化物からなる層との密着性を、次の評価基準により評価し、その結果を後掲の表5の「銅メッキ層への密着性」欄に示す。なお、無電解銅メッキ処理後、及び電解銅メッキ処理後の両方の加熱時にテストピースにブリスターが確認されない場合、銅メッキ層と硬化物からなる層との密着強度を、JIS C6481に準拠して測定した。
A:無電解銅メッキ処理後の加熱時、及び電解銅メッキ処理後の加熱時のいずれにおいてもブリスターが確認されず、密着強度は0.6kN/m以上であった。
B:無電解銅メッキ処理後の加熱時、及び電解銅メッキ処理後の加熱時のいずれにおいてもブリスターが確認されず、密着強度は0.6kN/m未満であった。
C:無電解銅メッキ処理後の加熱時、又は電解銅メッキ処理後の加熱時のいずれかにおいてブリスターが確認された。
(4-9) Adhesion to Copper Plated Layer The test pieces of Example 19 and Comparative Example 3 were roughened in the same manner as in (4-8) above. rice field. Then, using a commercially available chemical solution, initial wiring was formed on the surface of the layer made of the roughened cured product by electroless copper plating. The test piece provided with this initial wiring was heated at 150 ° C. for 1 hour. Next, by electrolytic copper plating treatment, copper having a thickness of 33 μm was directly deposited on the initial wiring from a commercially available chemical solution at a current density of 2 A / dm 2 , and then a test piece on which copper was deposited was deposited at 180 ° C. for 30 minutes. It was heated to form a copper-plated layer. The adhesion between the formed copper-plated layer and the layer made of the cured product is evaluated according to the following evaluation criteria, and the results are shown in the "Adhesion to the copper-plated layer" column of Table 5 below. If blister is not confirmed on the test piece during both heating after electroless copper plating and electrolytic copper plating, the adhesion strength between the copper plating layer and the cured product is determined in accordance with JIS C6481. It was measured.
A: No blister was confirmed during heating after the electroless copper plating treatment and during heating after the electrolytic copper plating treatment, and the adhesion strength was 0.6 kN / m or more.
B: No blister was confirmed during heating after the electroless copper plating treatment and during heating after the electrolytic copper plating treatment, and the adhesion strength was less than 0.6 kN / m.
C: Blister was confirmed either during heating after electroless copper plating treatment or during heating after electrolytic copper plating treatment.

Figure 0007066932000007
Figure 0007066932000007

Figure 0007066932000008
Figure 0007066932000008

Figure 0007066932000009
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表3及び4に示す透明性の評価試験結果が示す通り、無触媒下及び酸触媒下でコンポジット化されたコンポジット樹脂は、良好な透明性を有する。一方、塩基触媒下でコンポジット化されたコンポジット樹脂の透明性は、無触媒下及び酸触媒下でコンポジット化されたコンポジット樹脂よりも低い。このため、無触媒下及び酸触媒下でコンポジット化されたコンポジット樹脂は、高い透明性が必要とされる用途に好適に用いることができる。 As the results of the transparency evaluation test shown in Tables 3 and 4, the composite resin composited under the non-catalyst and the acid catalyst has good transparency. On the other hand, the transparency of the composite resin composited under the base catalyst is lower than that of the composite resin composited under the non-catalyst and the acid catalyst. Therefore, the composite resin composited under a non-catalyst and an acid catalyst can be suitably used for applications requiring high transparency.

実施例1~18のコンポジット樹脂は、比較例1~2のコンポジット化されていないフルオロアルキル基含有オリゴマーと比較して、ガラス基板、PP基板、及びABS基板に対して優れた密着性を有する。さらに、無触媒下及び酸触媒下でコンポジット化されたコンポジット樹脂は、塩基触媒下でコンポジット化されたコンポジット樹脂と比較して、更に優れたガラス基板、PP基板、及びABS基板に対する密着性を有する。 The composite resins of Examples 1 to 18 have excellent adhesion to glass substrates, PP substrates, and ABS substrates as compared to the non-composited fluoroalkyl group-containing oligomers of Comparative Examples 1 and 2. Furthermore, the composite resin composited under the non-catalyst and the acid catalyst has better adhesion to the glass substrate, PP substrate, and ABS substrate as compared with the composite resin composited under the base catalyst. ..

無触媒下及び酸触媒下でコンポジット化されたコンポジット樹脂は、撥油性を有する傾向にある。また、無触媒下及び酸触媒下でコンポジット化されたコンポジット樹脂は、塩基触媒下でコンポジット化されたコンポジット樹脂と比較して、親水性が高い。一方、塩基触媒下でコンポジット化されたコンポジット樹脂は、無触媒下及び酸触媒下でコンポジット化されたコンポジット樹脂と比較して、撥油性が低い。また、塩基触媒下でコンポジット化されたコンポジット樹脂は高い撥水性を有する傾向にある。特に、ガラス基板上にコンポジット樹脂を含有する反応液から形成された層が設けられた実施例5及び14は、超撥水性及び超親油性を有するため、このような被覆基材は、油水分離用途に特に好適に用いることができる。 Composite resins composited under non-catalyst and acid catalyst tend to have oil repellency. Further, the composite resin composited under a non-catalyst and an acid catalyst has higher hydrophilicity than the composite resin composited under a base catalyst. On the other hand, the composite resin composited under a base catalyst has lower oil repellency than the composite resin composited under a non-catalyst and an acid catalyst. Further, the composite resin composited under the base catalyst tends to have high water repellency. In particular, Examples 5 and 14 in which a layer formed from a reaction solution containing a composite resin is provided on a glass substrate have superhydrophobicity and superlipophilicity, so that such a coating substrate is oil-water separated. It can be used particularly preferably for the application.

Claims (13)

下記一般式(1)で表されるアルコキシシリル基を有するフルオロアルキル基含有オリゴマーを縮合させた縮合物とアミノ樹脂とを含
前記フルオロアルキル基含有オリゴマーと前記アミノ樹脂とを含む反応原料溶液中で、前記アルコキシシリル基の加水分解反応を行うことで得られる、
コンポジット樹脂。
Figure 0007066932000010
(式中、R及びRは、各々独立にCF(CF)-[OCFCF(CF)]q-OC基を示し、は、~10の整数である。R、R及びRは、各々独立に炭素数1~5の直鎖状又は分岐状のアルキル基を示す。mは2~3の整数である。)
It contains a condensate obtained by condensing a fluoroalkyl group-containing oligomer having an alkoxysilyl group represented by the following general formula (1) and an amino resin.
It is obtained by subjecting the alkoxysilyl group to a hydrolysis reaction in a reaction raw material solution containing the fluoroalkyl group-containing oligomer and the amino resin.
Composite resin.
Figure 0007066932000010
(In the formula, R 1 and R 2 each independently indicate −CF (CF 3 ) [OCF 2 CF (CF 3 )] q-OC 3 F 7 groups, and q is an integer of 0 to 10. R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. M is an integer of 2 to 3).
前記一般式(1)の式中のR及びRが、-CF(CF)-OC基である、
請求項1に記載のコンポジット樹脂。
R 1 and R 2 in the formula of the general formula (1) are -CF (CF 3 ) -OC 3 F 7 units.
The composite resin according to claim 1.
前記アミノ樹脂は、メラミン樹脂、アニリン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、及び尿素樹脂からなる群から選択される少なくとも1種を含む、
請求項1又は2に記載のコンポジット樹脂。
The amino resin contains at least one selected from the group consisting of melamine resin, aniline resin, benzoguanamine resin, and urea resin.
The composite resin according to claim 1 or 2.
前記コンポジット樹脂は、粒子状である、
請求項1~3のいずれか1項に記載のコンポジット樹脂。
The composite resin is in the form of particles.
The composite resin according to any one of claims 1 to 3.
前記コンポジット樹脂の平均粒子径は、2000nm以下である、請求項4に記載のコンポジット樹脂。 The composite resin according to claim 4, wherein the average particle size of the composite resin is 2000 nm or less. 前記反応原料溶液中の前記アミノ樹脂は、25℃で液状である、又は前記反応原料溶液中に25℃で溶解している、
請求項1~5のいずれか一項に記載のコンポジット樹脂。
The amino resin in the reaction raw material solution is liquid at 25 ° C. or dissolved in the reaction raw material solution at 25 ° C.
The composite resin according to any one of claims 1 to 5 .
前記加水分解反応を無触媒下で行う、
請求項1~6のいずれか一項に記載のコンポジット樹脂。
The hydrolysis reaction is carried out without a catalyst.
The composite resin according to any one of claims 1 to 6 .
前記加水分解反応を酸触媒下で行う、
請求項1~6のいずれか一項に記載のコンポジット樹脂。
The hydrolysis reaction is carried out under an acid catalyst.
The composite resin according to any one of claims 1 to 6 .
前記加水分解反応を塩基触媒下で行う、
請求項1~6のいずれか一項に記載のコンポジット樹脂。
The hydrolysis reaction is carried out under a base catalyst.
The composite resin according to any one of claims 1 to 6 .
請求項1~のいずれか1項に記載のコンポジット樹脂を含有する、コーティング材。 A coating material containing the composite resin according to any one of claims 1 to 9 . 基材と、
前記基材上に設けられる請求項1~のいずれか1項に記載のコンポジット樹脂を含有するコーティング層と、
を有する、被覆基材。
With the base material
A coating layer containing the composite resin according to any one of claims 1 to 9 provided on the substrate, and a coating layer.
Has a coated substrate.
請求項1~のいずれか1項に記載のコンポジット樹脂を含有する、絶縁材料。 An insulating material containing the composite resin according to any one of claims 1 to 9 . 下記一般式(1)で表されるアルコキシシリル基を有するフルオロアルキル基含有オリゴマーとアミノ樹脂とを含む反応原料溶液中で、前記アルコキシシリル基の加水分解反応を行う工程を含む、コンポジット樹脂の製造方法。
Figure 0007066932000011
(式中、R及びRは、各々独立にCF(CF)-[OCFCF(CF)]q-OC基を示し、は、~10の整数である。R、R及びRは、各々独立に炭素数1~5の直鎖状又は分岐状のアルキル基を示す。mは2~3の整数である。)
Production of a composite resin comprising a step of hydrolyzing the alkoxysilyl group in a reaction raw material solution containing a fluoroalkyl group-containing oligomer having an alkoxysilyl group represented by the following general formula (1) and an amino resin. Method.
Figure 0007066932000011
(In the formula, R 1 and R 2 each independently indicate −CF (CF 3 ) [OCF 2 CF (CF 3 )] q-OC 3 F 7 groups, and q is an integer of 0 to 10. R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. M is an integer of 2 to 3).
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JP2017160322A (en) 2016-03-09 2017-09-14 日本化学工業株式会社 Composite particle and method of producing the same
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