JP7057612B2 - イオン発生器 - Google Patents
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Description
イオン発生電極110と引抜電極120は、直流高電圧124で高電圧が印加される。イオンはイオン発生電極110の先鋭化された端部から引抜電極120に向かって放出され、引抜電極120の孔121を抜けて被注入体122に注入される。イオン発生電極110、引抜電極120、および被注入体122は、チャンバ132内に設置され、注入チャンバ132内は、真空ポンプ144で真空にされる。真空にした後、イオン源をガスボンベ140から注入チャンバ132内へ入れる。イオン発生電極110は、冷却器127によりイオン発生電極110を約-250℃の極低温に冷却される。イオン発生電極110に、効率良くイオン源であるガスを吸着させるためである。
発明1は、イオン発生電極と、引抜電極と、を有し、高電圧が印加されると、イオンを放出させるイオン発生器において、イオン発生電極は、放出されるイオンを有し、イオン発生電極の一方の端部には先鋭部を有するカバーを備え、カバーは、電子は絶縁しイオンを伝導させることを特徴とするイオン発生器である。発明2は、放出されるイオンは、水素イオン(H+)、銀イオン(Ag+)、銅イオン(Cu+)、リチウムイオン(Li+)、ナトリウムイオン(Na+)、カリウムイオン(K+)、ルビジウムイオン(Rb+)、セシウムイオン(Cs+)、およびフッ化物イオン(F-)からなる群より選択される一種類であることを特徴とする発明1に記載するイオン発生器である。 発明3は、カバーは、発明2に記載される放出されるイオンを含む化合物を有することを特徴とする発明2に記載するイオン発生器である。 発明4は、カバーは、水分を吸着した多孔質ガラスであることを特徴とする発明1乃至3のいずれか1つに記載するイオン発生器である。発明5は、カバーは、銀イオン(Ag+)、銅イオン(Cu+)、リチウムイオン(Li+)、ナトリウムイオン(Na+)、カリウムイオン(K+)、ルビジウムイオン(Rb+)、およびセシウムイオン(Cs+)からなる群より選択される一種類とヨウ素(I)の化合物を含む材料であることを特徴とする発明1乃至3のいずれか1つに記載するイオン発生器である。発明6は、カバーは、フッ化物イオン(F-)とジルコニウム(Zr)とバリウム(Ba)を含む化合物を含む材料であることを特徴とする発明1乃至3のいずれか1つに記載するイオン発生器である。発明7は、先鋭部は、曲率半径はR1mm以下であることを特徴とする発明1乃至6のいずれか1つに記載するイオン発生器である。発明8は、イオン発生電極を加熱する加熱装置を有することを特徴とする発明1乃至7のいずれか1つに記載するイオン発生器である。
(1)大気中でイオンが放出できる。
被注入体を真空中に設置する必要がないため、水を多く含む生体(被注入体)へのイオン照射が可能にできる。生体にイオンを注入すると接着性や活性が著しく改善すること、特に1価イオンは活性で生体活動に深く関わることが知られている。よって、新たな医療技術の開発や創薬、細胞工学など様々な分野で活用できる。
(2)小型軽量で片手でも操作でるので使い勝手が良い。
従来のイオン発生器は、真空設備(チャンバー、真空ポンプ)、ボンベによるガス源、イオン発生電極の冷却等の設備などが必要となり、大型・高額で非汎用である。
本発明は、上記の設備が不要となり、主な構成要素がイオン発生電極、高圧電源となり、ベンシル型のレーザポインターのようなイオン発生器が提供できる。よって、小型軽量で片手でも操作でるようになり、人体を含む生体、その他の物へのイオン注入が容易になる。
(3)低コスト
主な構成要素がイオン発生電極、高圧電源となり、大幅にコストダウンを可能にする。
図1に本発明の実施形態のイオン発生器1の構成を示す。イオン発生器1は、イオン発生電極10、引抜電極20、高圧電源24を有し、イオン発生電極10は、先鋭化部12を有する。先鋭化部12には、カバー14が取り付けられる。実施形態において、イオン源はイオン発生電極10に含有される。例えば、銀イオン(Ag+)を放出させるときは、銀をガラス等のイオン発生電極10に含有させる。また、銀のみで電極を構成させても良い。カバー14は、電子を絶縁しイオンを伝導させる特性を有する。銀イオン(Ag+)の場合、絶縁特性を有するガラスに銀を含有する銀系ガラスとなる。即ち、絶縁特性を有するベース材料(ガラス)に、放出されるイオン(イオン源)の材料を含有させることにより、電子を絶縁しイオンを伝導させる特性を有する。カバー14は先鋭部15を有する。高圧電源24により、イオン発生電極10と引抜電極20に直流高電圧が印加されると、イオン発生電極10に含有されるイオン源が、イオン3と電子に分解される。イオン3は、引抜電極20に電気的に引寄せられ先鋭化部12に移動する。先鋭化部12において、カバー14により電子は絶縁され、イオン3は伝導されるので、イオン3が引抜電極20に引寄せられ大気中へ放出される。放出されたイオン3は、引抜電極20の孔22を通り抜け被注入体30に照射されイオン注入箇所32となる。
H2→2H++2e- (1)
水素イオン(H+)の場合のイオン発生電極10とカバー14の例として、イオン発生電極10を、触媒作用をする白金を塗布させたカーボンの布をロール状に巻くことで構成し、一方の端部にカバー14として、先鋭部15を有する水分を吸着した多孔質ガラスで構成する。この構成のイオン発生機1のイオン発生電極10に水素ガスを吹き付けるとカバー14の先鋭部15より水素イオン(H+)が放出される。この場合、イオン発生電極10とカバー14は、水素イオン(H+)が伝導できるように接触していれば良い。よって、イオン発生電極10は先鋭化部12は無くてもよい(図8A参照)。
F = V / (k×R) (2)
ここでVは電圧、kは形状因子と呼ばれる定数で5程度の値である。カバー14の先鋭部15の曲率半径をR、直流高圧電源の電圧をVとすると、電界強度はV/Rに比例するため、先鋭部15の曲率半径Rは小さい程良い。本実施形態では、カバー14の先鋭部15の先端の曲率半径Rを1mm以下に先鋭化する。これにより先端に電界が集中する効果があり、より低い数キロボルト/cmの電界でイオンが発生するイオン発生器1が提供できる。
「カチオンの1価イオン」の場合:
水素イオン(H+)のカバー14の材料は、水分を吸着した多孔質ガラスを用いることができる。多孔質ガラスは吸着水を含み、この吸着水の中をイオンが伝導するため、0℃以上の室温で先端からイオンを放出させることができる。多孔質ガラスとして、例えばゾルーゲル法によって作製したプロトンを伝導するケイ酸塩ガラス(たとえばxP2O5・(100-x)SiO2 :xはモルパーセント単位で0から70まで)やケイ酸塩ガラスと有機物との複合体などを用いることができる。
銀イオン(Ag+)のカバー14の材料は、例えばxAgI・yAg2O・zB2O3:x、y、zはモルパーセント単位でx+y+z=100)で表され、60AgI・25Ag2O・15B2O3(モル%)などを用いることができる。
銀イオン(Ag+)のカバー14の材料は、例えばxAgI・yAg2O・zB2O3もしくはxAgI・yAg2O・zP2O5:x、y、zはモルパーセント単位でx+y+z=100)で表され、、60AgI・25Ag2O・15B2O3(モル%)などを用いることができる。特に、x=30~65、y=20~35、Z=35~15の組み合わせ時、室温でのイオン放出が良好であった。
銅イオン(Cu+)のカバー14の材料は、例えばxCuI・yCu2O・zP2O5:x、y、zはモルパーセント単位でx+y+z=100)で表され、33CUI・33Cu2O・34P2O5(モル%)などを用いることができる。
銅イオン(Cu+)のカバー14の材料は、例えばxCuI・yCu2O・zB2O3もしくはxCuI・yCu2O・zP2O5:x、y、zはモルパーセント単位でx+y+z=100)で表され、33CuI・33Cu2O・34P2O5(モル%)などを用いることができる。特に、x=30~65、y=20~35、Z=35~15の組み合わせ時、室温でのイオン放出が良好であった。
リチウムイオン(Li+)のカバー14の材料は、例えばxLiI・yLi2O・zB2O3:x、y、zはモルパーセント単位でx+y+z=100)で表され、60LiI・25Li2O・15B2O3(モル%)などを用いることができる。
ナトリウムイオン(Na+)のカバー14の材料は、例えばxNaI・yNa2O・zB2O3:x、y、zはモルパーセント単位でx+y+z=100)で表され、60NaI・25Na2O・15B2O3(モル%)などを用いることができる。
カリウムイオン(K+)のカバー14の材料は、例えばxKI・yK2O・zB2O3:x、y、zはモルパーセント単位でx+y+z=100)で表され、60KI・25K2O・15B2O3(モル%)などを用いることができる。
ルビジウムイオン(Rb+)のカバー14の材料は、例えばxRbI・yRb2O・zB2O3:x、y、zはモルパーセント単位でx+y+z=100)で表され、60RbI・25Rb2O・15B2O3(モル%)などを用いることができる。
セシウムイオン(Cs+)のカバー14の材料は、例えばxCsI・yCs2O・zB2O3:x、y、zはモルパーセント単位でx+y+z=100)で表され、60CsI・25Cs2O・15B2O3(モル%)などを用いることができる。
フッ化物イオン(F-)のカバー14の材料は、ZrF4とBaF2を含むガラスから構成され、例えば構成比率が(ZrF4)0.5(BaF2)0.35(CsF)0.15の材料を溶融して作成する。
以上より、水素イオン(H+)を放出させる場合は、カバー14の材料は、水分を吸着した多孔質ガラスを用いる。また、銀イオン(Ag+)、銅イオン(Cu+)、リチウムイオン(Li+)、ナトリウムイオン(Na+)、カリウムイオン(K+)、ルビジウムイオン(Rb+)、セシウムイオン(Cs+)のいずれか1つのイオンを放出させる場合は、カバー14の材料は、その放出イオン、即ち銀イオン(Ag+)、銅イオン(Cu+)、リチウムイオン(Li+)、ナトリウムイオン(Na+)、カリウムイオン(K+)、ルビジウムイオン(Rb+)、およびセシウムイオン(Cs+)からなる群より選択される一種類ととヨウ素(I)の化合物を含む材料を用いる。フッ化物イオン(F-)を放出させる場合は、カバー14の材料は、フッ化物イオン(F-)とジルコニウム(Zr)とバリウム)Ba)を含む化合物を有する材料を用いる。
またはイオン発生電極10は、水分を吸着した多孔質ガラスまたはイオン伝導性ガラスにおいて、水素イオン(H+)、または銀イオン(Ag+)、銅イオン(Cu+)、またはリチウムイオン(Li+)、またはナトリウムイオン(Na+)、またはカリウムイオン(K+)、またはルビジウムイオン(Rb+),またはセシウムイオン(Cs+)、またはフッ化物イオン(F-)のいずれかを含んでいるものを用いても良い。
本実施形態は、上記の設備が不要となり、主な構成要素がイオン発生電極、高圧電源となり、ベンシル型のレーザポインターのようなイオン発生器が提供できる。よって、小型軽量で人間の手のひらサイズにできるので、片手でも操作でるようになり作業性が大幅に向上し、人体を含む生体、その他の物へのイオン注入が容易になる。本実施形態は、主な構成要素がイオン発生電極、高圧電源となり、大幅にコストダウンを可能にする。
図2に、実施例として銀により製作したイオン発生電極10とカバー14を示す。カバー14は、先鋭部15を有する。先鋭部15の先端の曲率半径Rを1mm以下にした。イオン発生電極10は直径3mmの円柱形状の銀の棒を用いた。カバー14は、AgI-Ag2O-B2O3系ガラス(60AgI・25Ag2O・15B2O3 (モル%))を使用した。
図3に、イオン発生電極10による大気中で銀イオン(Ag+)を放出させたときのイオン電流の実測値を示す。
先鋭部15と引抜電極20との距離は、1mm程度、孔22の直径は3mmを選定して、放出されたイオンの到達距離である先鋭化部12と被注入体30との距離が約5mm以上であることを確認した。高圧電源24により、イオン発生電極10と引抜電極20に電圧を印加することで放電を確認した。放出された銀イオン(Ag+)のイオン電流をピコアンメーターで測定し、機器制御・データ集録にはナショナルインスツルメンツ社のLabVIEWを用いた。図3に示すように、イオン放電電流は、印可電圧1kVまでは、1から2pAである、その後、1kVから4.8kV迄は印可電圧にほぼ比例して約48pAまで増加する。4.8kVでカバー14が絶縁破壊して放電した。よって、本実施形態の放出イオン電流値は、従来の数ピコアンペア程度と比べ、数10ピコアンペア以上と、約5倍大きくすることができる。尚、印可電圧は高電圧であり、直流の500V以上、望ましくは1000V以上がよい。
00℃にて焼成した後、先端をフッ酸と有機溶媒の2相界面を利用したメニスカスエッチング法にて先鋭化した。イオン発生電極10とカバー14は、互いの平面部を接触させてイオン伝導ができるようにした。相対湿度100%、室温30℃(イオン発生電極10、カバー14、先端部15も室温と同等の温度)の時、導電率は、10―3S/cmである。
イオン放出は、印加電圧1kVから増加する。印加電圧2.5kVにて放出イオン3が水素イオン(H+)であることを図8B、図8C、図8Dにて確認した。図8Bは、被注入体30の構成を示す。シリコン基板の上に被注入体30であるポリアニンを乗せ、その上に直径3mmの円形の孔を有するアルミニウムシートを乗せた。アルミニウムシートにより放出イオン3である水素イオン(H+)は、被注入体30のポリアミンに円形で注入される。
図9Aに上記の銀イオン(Ag+)照射の実験と同じ条件で、被注入体30であるシリコン(Si)基板に銅イオン(Cu+)を照射したときの電子顕微鏡写真を示す。白い部分がイオン注入箇所32であり、黒い部分が非イオン注入箇所34である。円枠で示すイオン注入箇所32及び非イオン注入箇所34は、分析した箇所を示す。
を示す。分析は銀イオン(Ag+)の場合と同様である。図9B(a)が照射をしなかった非イオン注入箇所34の場合で、シリコン(Si)のみが検出された。一方、図9B(b)の銅イオン(Cu+)が照射されたイオン注入箇所32では、シリコンに加えて銅が検出された。よって、照射されたのが銅イオン(Cu+)であることが確認された。
図10に、フッ化物イオン伝導性ガラスの電気抵抗と温度の関係を示す。電気抵抗は温度に反比例する。ここで、電気抵抗が下がるほど放出されるフッ化物イオン(F-)のイオン電流値が上昇する。よって、電気抵抗が小さくなる200℃程度(もしくはそれ以上)に、イオン発生電極10(先鋭化部12)を加熱すると、フッ化物イオン(F-)の放出量を更に増やすことができる。即ち、加熱により電気抵抗を20MΩ以下にできると印加電圧が低くでき高圧電源24等が簡素化できる。この電気抵抗をが20MΩ以下になる200℃は、ガラス転移点温度より低い温度である。また、フッ化物イオン以外の水素イオン(H+)、銀イオン(Ag+)、銅イオン(Cu+)、リチウムイオン(Li+)、ナトリウムイオン(Na+)、カリウムイオン(K+)、ルビジウムイオン(Rb+)、セシウムイオン(Cs+)においても同様の電気抵抗は温度に反比例する特性がある。よって、イオン発生電極10(先鋭化部12)に電気ヒータ等の加熱装置(図示しない)を取り付け加熱して、電気抵抗を小さくするイオン発生器1としてもよい。
放電電流は以下のように流れる。
カチオンイオンの場合、水素イオン(H+)を例とすると、高圧電源24により、イオン発生電極10にプラス、引抜電極20にマイナスの直流高電圧が印加される。イオン発生電極10の水素が、水素イオン(H+)と電子に分解する(式1参照)。引抜電極20にはマイナス電圧がかけられているので、水素イオン(H+)は、カバー14の内部に引き寄せられ、先鋭部15から引抜電極20に向けて放出される。一方、電子は、引抜電極20に反発すると共に高圧電源24(プラス端子)に向かって流れる。
アニオンイオンの場合、フッ化物イオン(F-)を例とすると、高圧電源24により、イオン発生電極10にマイナス、引抜電極20にプラスの直流高電圧が印加される。イオン発生電極10のフッ化物が、高圧電源24(マイナス端子)から電子の供給を受けフッ化物イオン(F-)となる。引抜電極20にはプラス電圧がかけられているので、フッ化物イオン(F-)は、カバー14の内部に引き寄せられ、先鋭部15から引抜電極20に向けて放出される。即ち、電子は、高圧電源24(マイナス端子)から電子はイオン発生電極10に向かって流れる。
ナトリウムイオン(Na+)やカリウムイオン(K+)は生命活動に深く関係しており、ナトリウムイオン(Na+)は体内の水分量の調整、またカリウムイオン(K+)は筋肉や神経の働きに関係する。これらのイオンを局所的に注入可能となれば、新たな治療法の開発などが期待される。
セシウムイオン(Cs+)を注入すると、被注入体表面の仕事関数を下げる効果があり、被注入体から負イオンが出やすくなる。この原理は二次イオン質量分析法などで利用され、ppm~ppb程度の不純物まで検出可能となる。
銀イオン(Ag+)は抗菌性を付与することが可能であり、歯科治療などの応用が考えられる。また注入した銀イオン(Ag+)を還元すればAgナノ粒子が生成する。Agナノ粒子は表面増強ラマン散乱など光学活性に効果がある。これまでAgナノ粒子を作製する手法は様々開発されているが、Agナノ粒子を周期的に配列する汎用技術は無い。銀イオン(Ag+)イオン銃によってAgナノ粒子配列が期待される。
銅イオン(Cu+)もまた抗菌性を付与することが可能であり、抗菌繊維製品にも取り入れられている。上述の銀イオンと同様に還元すればCuナノ粒子やCu2O、CuOナノ粒子を作製することができる。
一方、フッ素は表面エネルギを下げる効果がり、フッ化物イオン(F-)を注入することで表面の撥水化が期待される。また骨や歯の主成分であるハイドロキシアパタイトとフッ化物イオン(F-)が反応するとフルオロアパタイトが生成する。フルオロアパタイトはハイドロキシアパタイトに比べて酸に溶けにくく、フッ化物イオン(F-)注入による歯科治療の用途が広がる。
放出イオン 3
イオン発生電極 10
先鋭化部 12
カバー 14
先鋭部(カバー) 15
引抜電極 20
孔 22
高圧電源 24
被注入体 30
イオン注入箇所 32
非イオン注入箇所 34
Claims (8)
- イオン発生電極と、引抜電極と、を有し、高電圧が印加されると、イオンを放出させるイオン発生器において、前記イオン発生電極は、放出されるイオンを有し、前記イオン発生電極の一方の端部には先鋭部を有するカバーを備え、前記カバーは、前記先鋭化部にガラスをコートし、電子は絶縁し前記イオンを伝導させることを特徴とするイオン発生器。
- 前記放出されるイオンは、水素イオン(H+)、銀イオン(Ag+)、銅イオン(Cu+)、リチウムイオン(Li+)、ナトリウムイオン(Na+)、カリウムイオン(K+)、ルビジウムイオン(Rb+)、セシウムイオン(Cs+)、およびフッ化物イオン(F-)からなる群より選択される一種類であることを特徴とする請求項1に記載するイオン発生器。
- 前記カバーは、前項に記載される放出されるイオンを含む化合物を有することを特徴とする請求項2に記載するイオン発生器。
- 前記カバーは、水分を吸着した多孔質ガラスであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1つに記載するイオン発生器。
- 前記カバーは、銀イオン(Ag+)、銅イオン(Cu+)、リチウムイオン(Li+)、ナトリウムイオン(Na+)、カリウムイオン(K+)、ルビジウムイオン(Rb+)、およびセシウムイオン(Cs+)からなる群より選択される一種類とヨウ素(I)の化合物を含む材料であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1つに記載するイオン発生器。
- 前記カバーは、フッ化物イオン(F-)とジルコニウム(Zr)とバリウム(Ba)を含む化合物を含む材料であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1つに記載するイオン発生器。
- 前記先鋭部は、曲率半径Rが1mm以下であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1つに記載するイオン発生器。
- 前記イオン発生電極を加熱する加熱装置を有することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1つに記載するイオン発生器。
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