JP7056354B2 - Recording device, wiring member and manufacturing method of wiring member - Google Patents

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Description

本発明は、記録装置、記録装置を構成する配線部材、及び、配線部材の製造方法に関する。 The present invention relates to a recording device, a wiring member constituting the recording device, and a method for manufacturing the wiring member.

記録装置の一例として、特許文献1には、ノズルからインクを吐出して画像の記録を行うプリンタが記載されている。特許文献1のプリンタでは、ヘッドユニットが複数のノズルを有する。また、ヘッドユニットには、ノズルに連通する圧力室内のインクに圧力を付与する圧電素子が、複数のノズルに対応して複数設けられている。また、特許文献1では、フレキシブルケーブルが、複数の圧電素子に接続されている。 As an example of a recording device, Patent Document 1 describes a printer that discharges ink from a nozzle to record an image. In the printer of Patent Document 1, the head unit has a plurality of nozzles. Further, the head unit is provided with a plurality of piezoelectric elements that apply pressure to the ink in the pressure chamber communicating with the nozzles, corresponding to the plurality of nozzles. Further, in Patent Document 1, the flexible cable is connected to a plurality of piezoelectric elements.

特開2017-222182号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-222182

近年、特許文献1に記載されているようなインクジェットプリンタは、産業用として用いられるなど、様々な種類の液体を吐出する用途に用いられることが多くなっている。このとき、液体の種類によっては、常温では粘度が高くノズルからの吐出に適さないことがある。この場合、例えば、ヘッドユニットを加熱するヒータを設けるなどして、ヘッドユニット内のインクを吐出に適切な粘度となる温度にすることが考えられる。特許文献1のプリンタにおいて、ヘッドユニットを加熱する構成にすると、ヘッドユニットとフレキシブルケーブルとの接続部分にも熱が伝わる。このとき、この接続部分の熱を十分に放熱することができないと、ヘッドユニットとフレキシブルケーブルとの線膨張係数の違いから、フレキシブルケーブルがヘッドユニットからはがれてしまう虞がある。 In recent years, inkjet printers as described in Patent Document 1 are often used for discharging various types of liquids, such as for industrial use. At this time, depending on the type of liquid, the viscosity is high at room temperature and may not be suitable for ejection from a nozzle. In this case, for example, it is conceivable to provide a heater for heating the head unit so that the ink in the head unit has a temperature suitable for ejection. In the printer of Patent Document 1, if the head unit is configured to be heated, heat is also transferred to the connection portion between the head unit and the flexible cable. At this time, if the heat of the connection portion cannot be sufficiently dissipated, the flexible cable may be peeled off from the head unit due to the difference in the linear expansion coefficient between the head unit and the flexible cable.

また、特許文献1では、例えば、フレキシブルケーブル上に実装されるICで発生した熱が、ヘッドユニットとフレキシブルケーブルとの接続部分に伝わることによっても、フレキシブルケーブルがヘッドユニットからはがれてしまう虞がある。 Further, in Patent Document 1, for example, the heat generated by the IC mounted on the flexible cable may be transferred to the connection portion between the head unit and the flexible cable, so that the flexible cable may be peeled off from the head unit. ..

本発明の目的は、記録ヘッドと配線部材との接続部分の熱を十分に放熱することが可能な記録装置、配線部材、及び、配線部材の製造方法を提供することである。 An object of the present invention is to provide a recording device, a wiring member, and a method for manufacturing the wiring member, which can sufficiently dissipate heat of a connection portion between the recording head and the wiring member.

本発明の記録装置は、複数の記録素子を有する記録ヘッドと、前記記録ヘッドと接続される配線部材と、を備え、前記配線部材は、可撓性を有する基材と、前記基材上に配置された複数の配線と、を備え、前記複数の配線は、前記複数の記録素子に対して個別の複数の個別配線を含み、前記複数の個別配線のうち、少なくとも一部の個別配線は、前記記録ヘッドと接続される第1配線部分と、前記第1配線部分以外の部分であって、前記第1配線部分よりも厚みが大きい第2配線部分と、を有する。 The recording apparatus of the present invention includes a recording head having a plurality of recording elements and a wiring member connected to the recording head, and the wiring member is provided on a flexible base material and the base material. A plurality of arranged wirings and the plurality of wirings include a plurality of individual wirings individually for the plurality of recording elements, and at least a part of the individual wirings among the plurality of individual wirings is. It has a first wiring portion connected to the recording head, and a second wiring portion that is a portion other than the first wiring portion and has a thickness larger than that of the first wiring portion.

本発明の実施形態に係るプリンタ1の概略的な上面図である。It is a schematic top view of the printer 1 which concerns on embodiment of this invention. インク吐出装置3の斜視図である。It is a perspective view of the ink ejection device 3. インク吐出装置3の分解斜視図である。It is an exploded perspective view of the ink ejection device 3. 図2のIV-IV線断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line IV-IV of FIG. ヘッドユニット25の平面図である。It is a top view of the head unit 25. 図5のVI-VI線断面図である。FIG. 5 is a sectional view taken along line VI-VI of FIG. (a)は、グランド配線66が配置されている部分における、COF22の長さ方向に沿った断面図であり、(b)は、個別配線67及び制御配線68が配置されている部分における、COF22の長さ方向に沿った断面図である。(A) is a cross-sectional view along the length direction of the COF 22 in the portion where the ground wiring 66 is arranged, and (b) is the COF 22 in the portion where the individual wiring 67 and the control wiring 68 are arranged. It is sectional drawing along the length direction of. (a)がCOF22の、基材61の一方の面61aにおける配線の配置を示す図であり、(b)がCOF22の、基材61の他方の面61bにおける配線の配置を示す図である。(A) is a diagram showing the arrangement of wiring on one surface 61a of the base material 61 of the COF 22, and (b) is a diagram showing the arrangement of wiring on the other surface 61b of the base material 61 of the COF 22. (a)は、図8(b)のIXA-IXA線断面図であり、(b)は、図8(b)のIXB-IXB線断面図であり、(c)は、図8(b)のIXC-IXC線断面図であり、(d)は、図8(b)のIXD-IXD線断面図である。(A) is a sectional view taken along line IXA-IXA of FIG. 8 (b), FIG. 8 (b) is a sectional view taken along line IXB-IXB of FIG. 8 (b), and FIG. IXC-IXC line cross-sectional view of FIG. 8 (d) is an IXD-IXD line cross-sectional view of FIG. 8 (b). COF22の製造の手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing procedure of COF22. (a)は、グランド配線101が配置されている部分における、変形例1のCOF100の長さ方向に沿った断面図であり、(b)は、個別配線102及び制御配線103が配置されている部分における、COF100の長さ方向に沿った断面図である。(A) is a cross-sectional view along the length direction of the COF 100 of the modified example 1 in the portion where the ground wiring 101 is arranged, and (b) is the individual wiring 102 and the control wiring 103 arranged. It is sectional drawing along the length direction of COF100 in a part. COF100の、基材61の一方の面61aにおける配線の配置を示す図である。It is a figure which shows the arrangement of the wiring on one surface 61a of the base material 61 of COF100. (a)は、COF100における、図9(a)に対応する断面図であり、(b)は、COF100における図9(b)に対応する断面図であり、(c)は、COF100における図9(c)に対応する断面図であり、(d)は、COF100における図9(d)に対応する断面図である。(A) is a sectional view corresponding to FIG. 9 (a) in COF100, (b) is a sectional view corresponding to FIG. 9B in COF100, and (c) is a sectional view corresponding to FIG. 9 (b) in COF100. It is a cross-sectional view corresponding to FIG. 9C, and FIG. 9D is a cross-sectional view corresponding to FIG. 9D in COF100. COF100の製造の手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing procedure of COF100. (a)は、第1材料層101a、102aを形成した状態を示す図であり、(b)は、第1材料層101a、103aを形成した状態を示す図であり、(c)は、保護層104を形成した状態を示す図であり、(d)は、保護層104を形成した状態を示す図であり、(e)は、第2材料層101b、102bを形成した状態を示す図であり、(f)は、第2材料層101b、103bを形成した状態を示す図である。(A) is a diagram showing a state in which the first material layers 101a and 102a are formed, (b) is a diagram showing a state in which the first material layers 101a and 103a are formed, and (c) is a diagram showing a state in which the first material layers 101a and 103a are formed, and (c) is a protection. It is a figure which shows the state which formed the layer 104, (d) is the figure which shows the state which formed the protective layer 104, (e) is the figure which shows the state which formed the second material layers 101b, 102b. Yes, (f) is a diagram showing a state in which the second material layers 101b and 103b are formed. (a)は変形例2におけるCOF110の製造の手順を示すフローチャートであり、(b)は基材61上に配線111を形成した状態を示す図であり、(c)は配線111の不要部分を除去した状態を示す図である。(A) is a flowchart showing a procedure for manufacturing COF 110 in Modification 2, (b) is a diagram showing a state in which wiring 111 is formed on a base material 61, and (c) is a diagram showing an unnecessary portion of wiring 111. It is a figure which shows the removed state. (a)は変形例3のCOF120の図12(a)に対応する断面図であり、(b)は変形例3のCOF120の図12(b)に対応する図であり、(c)は変形例3のCOF120の図12(c)に対応する図であり、(d)は変形例3のCOF120の図12(d)に対応する図である。(A) is a cross-sectional view corresponding to FIG. 12 (a) of the COF 120 of the modified example 3, (b) is a diagram corresponding to FIG. 12 (b) of the COF 120 of the modified example 3, and (c) is a modified view. FIG. 12 (c) is a diagram corresponding to FIG. 12 (c) of COF 120 of Example 3, and FIG. 12 (d) is a diagram corresponding to FIG. 12 (d) of COF 120 of Modification 3.

以下、本発明の好適な実施形態について説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described.

<プリンタの概略構成>
図1に示すように、インクジェットプリンタ1は、プラテン2と、インク吐出装置3と、カートリッジホルダ4と、搬送機構5とを備えている。なお、以下では、図1に示す前後左右の各方向をプリンタの「前」「後」「左」「右」と定義する。また、紙面手前側を「上」、紙面向こう側を「下」とそれぞれ定義する。
<Outline configuration of printer>
As shown in FIG. 1, the inkjet printer 1 includes a platen 2, an ink ejection device 3, a cartridge holder 4, and a transfer mechanism 5. In the following, each of the front, back, left, and right directions shown in FIG. 1 is defined as "front", "rear", "left", and "right" of the printer. In addition, the front side of the paper is defined as "top" and the other side of the paper is defined as "bottom".

プラテン2の上面には、被記録媒体である記録用紙Pが載置される。インク吐出装置3は、インクジェットヘッド21(本発明の「記録ヘッド」)を有する。インクジェットヘッド21は、プラテン2に載置された記録用紙Pに対してインクを吐出する4つのヘッドユニット25を備えている。インク吐出装置3は、プラテン2と対向する領域において2本のガイドレール11,12に沿って左右方向(以下、走査方向ともいう)に往復移動可能に構成されている。インク吐出装置3には無端ベルト13が連結され、駆動モータ14によって無端ベルト13が駆動されることで、インク吐出装置3は走査方向に移動する。インク吐出装置3は、走査方向に移動しながら、各ヘッドユニット25のノズル30(図5参照)からプラテン2に載置された記録用紙Pへ向けてインクを吐出する。インク吐出装置3の詳細構成については後述する。 The recording paper P, which is the recording medium, is placed on the upper surface of the platen 2. The ink ejection device 3 has an inkjet head 21 (the "recording head" of the present invention). The inkjet head 21 includes four head units 25 that eject ink to the recording paper P placed on the platen 2. The ink ejection device 3 is configured to be reciprocally movable in the left-right direction (hereinafter, also referred to as a scanning direction) along the two guide rails 11 and 12 in the region facing the platen 2. An endless belt 13 is connected to the ink ejection device 3, and the endless belt 13 is driven by the drive motor 14, so that the ink ejection device 3 moves in the scanning direction. The ink ejection device 3 ejects ink from the nozzle 30 (see FIG. 5) of each head unit 25 toward the recording paper P placed on the platen 2 while moving in the scanning direction. The detailed configuration of the ink ejection device 3 will be described later.

カートリッジホルダ4には、4色(ブラック、イエロー、シアン、マゼンタ)のインクカートリッジ15が、それぞれ取り外し可能に装着される。カートリッジホルダ4は、図示しないチューブによって、インク吐出装置3と接続されている。カートリッジホルダ4の4つのインクカートリッジ15にそれぞれ貯留された4色のインクは、チューブを介してインク吐出装置3に供給される。 Ink cartridges 15 of four colors (black, yellow, cyan, magenta) are detachably mounted on the cartridge holder 4. The cartridge holder 4 is connected to the ink ejection device 3 by a tube (not shown). The four-color inks stored in the four ink cartridges 15 of the cartridge holder 4 are supplied to the ink ejection device 3 via the tube.

搬送機構5は、前後方向にプラテン2を挟むように配置された2つの搬送ローラ16,17を有する。2つの搬送ローラ16,17は、図示しない搬送モータによって互いに同期して駆動される。搬送機構5は、2つの搬送ローラ16,17によって、プラテン2に載置された記録用紙Pを前方(以下、搬送方向ともいう)に搬送する。 The transport mechanism 5 has two transport rollers 16 and 17 arranged so as to sandwich the platen 2 in the front-rear direction. The two transfer rollers 16 and 17 are driven in synchronization with each other by a transfer motor (not shown). The transport mechanism 5 transports the recording paper P placed on the platen 2 forward (hereinafter, also referred to as a transport direction) by the two transport rollers 16 and 17.

<インク吐出装置>
次に、インク吐出装置3の詳細構成について説明する。図2~図6に示すように、インク吐出装置3は、ヘッドホルダ20と、4つのヘッドユニット25を有するインクジェットヘッド21と、4枚のCOF22(本発明の「配線部材」)と、リジッド基板23とを備えている。
<Ink ejection device>
Next, the detailed configuration of the ink ejection device 3 will be described. As shown in FIGS. 2 to 6, the ink ejection device 3 includes a head holder 20, an inkjet head 21 having four head units 25, four COF 22s (“wiring members” of the present invention), and a rigid substrate. It is equipped with 23.

<ヘッドホルダ20>
ヘッドホルダ20は、走査方向に長い矩形の平面形状を有する部材である。ヘッドホルダ20は、駆動モータ14によって駆動される無端ベルト13(図1参照)に連結されており、ガイドレール11,12に沿って走査方向に移動可能である。図4に示すように、ヘッドホルダ20の下部には凹状のユニット収容部20aが形成され、ユニット収容部20aにインクジェットヘッド21の4つのヘッドユニット25が収容される。また、ヘッドホルダ20の上部には凹状の基板収容部20bが形成され、基板収容部20b内には、リジッド基板23が収容されている。
<Head holder 20>
The head holder 20 is a member having a rectangular planar shape long in the scanning direction. The head holder 20 is connected to an endless belt 13 (see FIG. 1) driven by a drive motor 14, and can move in the scanning direction along the guide rails 11 and 12. As shown in FIG. 4, a concave unit accommodating portion 20a is formed in the lower portion of the head holder 20, and the four head units 25 of the inkjet head 21 are accommodated in the unit accommodating portion 20a. Further, a concave substrate accommodating portion 20b is formed in the upper part of the head holder 20, and the rigid substrate 23 is accommodated in the substrate accommodating portion 20b.

図3、図4に示すように、ヘッドホルダ20の基板収容部20b内には、基板収容部20bの底面から上方に延び、インク流路が形成された8つの筒状流路部27が設けられている。8つの筒状流路部27は、後述するインクジェットヘッド21の4つのヘッドユニット25の8つのノズル列31にそれぞれ対応している。 As shown in FIGS. 3 and 4, in the substrate accommodating portion 20b of the head holder 20, eight cylindrical flow path portions 27 extending upward from the bottom surface of the substrate accommodating portion 20b and forming an ink flow path are provided. Has been done. The eight cylindrical flow path portions 27 correspond to the eight nozzle rows 31 of the four head units 25 of the inkjet head 21, which will be described later.

図4に示すように、インク吐出装置3の上方には、流路部材81が配置されている。流路部材81には、8つの筒状流路部27に接続される図示しないインク流路が形成されている。流路部材81は、図示しないチューブ等を介して、カートリッジホルダ4(図1参照)と接続され、8つの筒状流路部27には、カートリッジホルダ4の4つのインクカートリッジ15にそれぞれ貯留された4色のインクが供給される。なお、1つのインクカートリッジ15からの1色のインクは、2つの筒状流路部27に供給される。また、流路部材81の上面には、ヒータ82(本発明の「加熱部」)が配置されている。ヒータ82は、流路部材81内を流れるインクを加熱する。なお、ヒータ82は、インクを加熱可能な位置であれば別の位置に配置されていてもよい。ヒータ82の温度は、常温でのインクの粘度と、吐出時の所望のインクの粘度とに応じて、例えば40~60℃程度に設定される。 As shown in FIG. 4, a flow path member 81 is arranged above the ink ejection device 3. The flow path member 81 is formed with ink flow paths (not shown) connected to the eight cylindrical flow path portions 27. The flow path member 81 is connected to the cartridge holder 4 (see FIG. 1) via a tube or the like (not shown), and is stored in each of the four ink cartridges 15 of the cartridge holder 4 in the eight tubular flow path portions 27. Only four colors of ink are supplied. One color of ink from one ink cartridge 15 is supplied to the two tubular flow path portions 27. Further, a heater 82 (“heating unit” of the present invention) is arranged on the upper surface of the flow path member 81. The heater 82 heats the ink flowing in the flow path member 81. The heater 82 may be arranged at another position as long as the ink can be heated. The temperature of the heater 82 is set to, for example, about 40 to 60 ° C., depending on the viscosity of the ink at room temperature and the viscosity of the desired ink at the time of ejection.

また、図4において図示は省略するが、ヘッドホルダ20内には、8つの筒状流路部27と4つのヘッドユニット25を接続する、インク流路が形成されている。また、図3、図4に示すように、ヘッドホルダ20には、4つのヘッドユニット25に対応した4枚のCOF22がそれぞれ通過する、4つの通過穴20cも形成されている。 Further, although not shown in FIG. 4, an ink flow path connecting the eight cylindrical flow path portions 27 and the four head units 25 is formed in the head holder 20. Further, as shown in FIGS. 3 and 4, the head holder 20 is also formed with four passing holes 20c through which the four COFs 22 corresponding to the four head units 25 pass.

<インクジェットヘッド21>
図3、図4に示すように、インクジェットヘッド21は、4つのヘッドユニット25と、4つのヘッドユニット25を保持するユニット保持板26とを有する。4つのヘッドユニット25は、ヘッドホルダ20のユニット収容部20a内において、走査方向に間隔を空けて並んだ状態で収容されている。
<Inkjet head 21>
As shown in FIGS. 3 and 4, the inkjet head 21 has four head units 25 and a unit holding plate 26 for holding the four head units 25. The four head units 25 are housed in the unit housing portion 20a of the head holder 20 in a state of being arranged side by side at intervals in the scanning direction.

図5、図6に示すように、各ヘッドユニット25は、その下面に配置された複数のノズル30を備えている。ヘッドユニット25の下面の、複数のノズル30の吐出口が形成された領域を、以下、インク吐出面25aと称する。インク吐出面25aの複数のノズル30は、搬送方向に配列され、且つ、走査方向に並ぶ2つのノズル列31を構成している。 As shown in FIGS. 5 and 6, each head unit 25 includes a plurality of nozzles 30 arranged on the lower surface thereof. The region on the lower surface of the head unit 25 in which the ejection ports of the plurality of nozzles 30 are formed is hereinafter referred to as an ink ejection surface 25a. The plurality of nozzles 30 on the ink ejection surface 25a form two nozzle rows 31 arranged in the transport direction and arranged in the scanning direction.

1つのヘッドユニット25が2つのノズル列31を有することから、インクジェットヘッド21は、合計8つのノズル列31を有する。8つのノズル列31とヘッドホルダ20の8つの筒状流路部27とはそれぞれ対応しており、各ノズル列31には、対応する筒状流路部27から、4色のインクの何れかが供給される。すなわち、1つのインクカートリッジ15(図1参照)からインク吐出装置3に供給された1色のインクは、2つの筒状流路部27を介して、8つのノズル列31のうちの2つのノズル列31に供給される。なお、8つのノズル列31の各々がどの色のインクを吐出するかについては、特定の組み合わせに限定されるものではなく、適宜選択することができる。例えば、1つのヘッドユニット25の2つのノズル列31が、同じ色を吐出するノズル列31であってもよい。あるいは、4色のインクをそれぞれ吐出する4種類のノズル列31が、走査方向において左右対称に配置されてもよい。例えば、4種類のノズル列31が、走査方向における中央から左右両側に向けて、ブラック、マゼンタ、シアン、イエローの順でそれぞれ配置されてもよい。 Since one head unit 25 has two nozzle rows 31, the inkjet head 21 has a total of eight nozzle rows 31. The eight nozzle rows 31 and the eight tubular flow path portions 27 of the head holder 20 correspond to each other, and each nozzle row 31 has one of four colors of ink from the corresponding tubular flow path portion 27. Is supplied. That is, the one-color ink supplied from one ink cartridge 15 (see FIG. 1) to the ink ejection device 3 passes through the two tubular flow path portions 27 to two nozzles out of the eight nozzle rows 31. Supply to column 31. It should be noted that the color of ink ejected by each of the eight nozzle rows 31 is not limited to a specific combination, and can be appropriately selected. For example, the two nozzle rows 31 of one head unit 25 may be the nozzle rows 31 that eject the same color. Alternatively, four types of nozzle rows 31 for ejecting four colors of ink may be arranged symmetrically in the scanning direction. For example, the four types of nozzle rows 31 may be arranged in the order of black, magenta, cyan, and yellow from the center to the left and right sides in the scanning direction.

図3、図4に示すように、ユニット保持板26は、4つのヘッドユニット25のインク吐出面25aをそれぞれ露出させる4つの開口部26aを有する。このユニット保持板26は、4つのヘッドユニット25を下方から覆うように、スペーサ49を挟んでヘッドホルダ20の下側に配置されている。但し、各ヘッドユニット25のインク吐出面25aは、ユニット保持板26の開口部26aから露出している。 As shown in FIGS. 3 and 4, the unit holding plate 26 has four openings 26a that expose the ink ejection surfaces 25a of the four head units 25, respectively. The unit holding plate 26 is arranged under the head holder 20 with a spacer 49 interposed therebetween so as to cover the four head units 25 from below. However, the ink ejection surface 25a of each head unit 25 is exposed from the opening 26a of the unit holding plate 26.

<ヘッドユニット25>
次に、ヘッドユニット25の構造について具体的に説明する。図5に示すように、ヘッドユニット25は、搬送方向に長尺な、平面視でほぼ矩形状の外形形状を有する。また、図6に示すように、ヘッドユニット25は、ホルダ部材32と、このホルダ部材32に保持されたヘッド本体部33とを有する。ホルダ部材32には、2つのインク供給流路34が形成されている。これら2つのインク供給流路34は、ヘッドホルダ20内に形成されたインク流路(図示省略)を介して、2つの筒状流路部27と接続されている。
<Head unit 25>
Next, the structure of the head unit 25 will be specifically described. As shown in FIG. 5, the head unit 25 has an outer shape that is long in the transport direction and has a substantially rectangular shape in a plan view. Further, as shown in FIG. 6, the head unit 25 has a holder member 32 and a head main body portion 33 held by the holder member 32. Two ink supply flow paths 34 are formed in the holder member 32. These two ink supply flow paths 34 are connected to the two tubular flow path portions 27 via an ink flow path (not shown) formed in the head holder 20.

ヘッド本体部33は、第1流路基板36、第2流路基板37、ノズルプレート38、複数の圧電素子39、保護部材40等を有する。 The head main body 33 includes a first flow path substrate 36, a second flow path substrate 37, a nozzle plate 38, a plurality of piezoelectric elements 39, a protective member 40, and the like.

第1流路基板36には、複数の圧力室41が形成されている。複数の圧力室41は、複数のノズル30に対応して搬送方向に配列され、且つ、走査方向に並ぶ2つの圧力室列を構成している。また、第1流路基板36は、複数の圧力室41を覆う振動膜45を有する。 A plurality of pressure chambers 41 are formed on the first flow path substrate 36. The plurality of pressure chambers 41 are arranged in the transport direction corresponding to the plurality of nozzles 30 and form two pressure chamber rows arranged in the scanning direction. Further, the first flow path substrate 36 has a vibrating film 45 that covers a plurality of pressure chambers 41.

第2流路基板37は、第1流路基板36の下面に接合されている。この第2流路基板37には、ホルダ部材32の2つのインク供給流路34とそれぞれ連通する、2つのマニホールド42が形成されている。インクカートリッジ15(図1参照)から流路部材81を介して筒状流路部27へ供給されたインクは、ホルダ部材32のインク供給流路34を介して、マニホールド42へ供給される。 The second flow path substrate 37 is joined to the lower surface of the first flow path substrate 36. The second flow path substrate 37 is formed with two manifolds 42 that communicate with the two ink supply flow paths 34 of the holder member 32, respectively. The ink supplied from the ink cartridge 15 (see FIG. 1) to the tubular flow path portion 27 via the flow path member 81 is supplied to the manifold 42 via the ink supply flow path 34 of the holder member 32.

2つのマニホールド42は、第1流路基板36の複数の圧力室41と重なる領域において、搬送方向(図6の紙面垂直方向)にそれぞれ延びている。各マニホールド42の下端は、合成樹脂製のフィルム46によって覆われている。また、フィルム46の下側には、スペーサ49を挟んでヘッドユニット25を保持するユニット保持板26が配置されている。これにより、フィルム46とユニット保持板26との間にダンパ室48が形成され、フィルム46が変形可能となる。そして、フィルム46が変形することによって、マニホールド42の圧力変動が抑制される。 The two manifolds 42 extend in the transport direction (vertical to the paper surface in FIG. 6) in the region overlapping the plurality of pressure chambers 41 of the first flow path substrate 36. The lower end of each manifold 42 is covered with a synthetic resin film 46. Further, on the lower side of the film 46, a unit holding plate 26 for holding the head unit 25 with the spacer 49 interposed therebetween is arranged. As a result, the damper chamber 48 is formed between the film 46 and the unit holding plate 26, and the film 46 can be deformed. Then, the pressure fluctuation of the manifold 42 is suppressed by the deformation of the film 46.

第2流路基板37には、マニホールド42と複数の圧力室41とをそれぞれ連通させる、複数の連通孔43が形成されている。さらに、第2流路基板37には、複数の圧力室41と、次述のノズルプレート38に形成された複数のノズル30とをそれぞれ連通させる、複数の連通孔44も形成されている。 The second flow path substrate 37 is formed with a plurality of communication holes 43 for communicating the manifold 42 and the plurality of pressure chambers 41, respectively. Further, the second flow path substrate 37 is also formed with a plurality of communication holes 44 for communicating the plurality of pressure chambers 41 and the plurality of nozzles 30 formed in the nozzle plate 38 described below.

ノズルプレート38は、第2流路基板37の下面に接合されている。ノズルプレート38には、搬送方向に配列された複数のノズル30が形成されている。上述したように、複数のノズル30は2つのノズル列31を構成している。各ノズル30は、第2流路基板37に形成された連通孔44を介して、第1流路基板36の圧力室41と連通している。 The nozzle plate 38 is joined to the lower surface of the second flow path substrate 37. A plurality of nozzles 30 arranged in the transport direction are formed on the nozzle plate 38. As described above, the plurality of nozzles 30 constitute two nozzle rows 31. Each nozzle 30 communicates with the pressure chamber 41 of the first flow path substrate 36 via the communication hole 44 formed in the second flow path substrate 37.

複数の圧電素子39は、インク吐出面25aと平行な振動膜45の上面に配置されている。複数の圧電素子39は、複数の圧力室41にそれぞれ対応して搬送方向に配列されており、走査方向に並ぶ2列の圧電素子列を構成している。圧電素子39は、印加電圧が変化するときの圧電歪を利用して振動膜45を振動させ、圧力室41内のインクに、ノズル30から吐出させるための吐出エネルギーを付与する。各圧電素子39には、圧電素子39に所定の駆動電圧を印加するための駆動配線47が接続されている。駆動配線47は、各圧電素子39から、走査方向における内側に引き出されている。各駆動配線47の、圧電素子39とは反対側の端部には、次述のCOF22が接続される駆動接点47aが設けられている。複数の駆動配線47の駆動接点47aは、第1流路基板36の振動膜45の上面の、2つの圧電素子列の間の領域に配置されている。なお、本実施形態では、各圧電素子39と、この圧電素子39に対応する圧力室41、ノズル30及びこれらを接続するインク流路と、この圧力室の上面を覆っている振動膜45の部分とを合わせたものが、本発明の「記録素子」に相当する。 The plurality of piezoelectric elements 39 are arranged on the upper surface of the vibrating film 45 parallel to the ink ejection surface 25a. The plurality of piezoelectric elements 39 are arranged in the transport direction corresponding to the plurality of pressure chambers 41, respectively, and form two rows of piezoelectric elements arranged in the scanning direction. The piezoelectric element 39 vibrates the vibrating film 45 by utilizing the piezoelectric strain when the applied voltage changes, and imparts ejection energy for ejecting from the nozzle 30 to the ink in the pressure chamber 41. A drive wiring 47 for applying a predetermined drive voltage to the piezoelectric element 39 is connected to each piezoelectric element 39. The drive wiring 47 is drawn inward from each piezoelectric element 39 in the scanning direction. At the end of each drive wiring 47 on the opposite side of the piezoelectric element 39, a drive contact 47a to which the COF 22 described below is connected is provided. The drive contacts 47a of the plurality of drive wirings 47 are arranged in the region between the two piezoelectric element rows on the upper surface of the vibration film 45 of the first flow path substrate 36. In this embodiment, each piezoelectric element 39, a pressure chamber 41 corresponding to the piezoelectric element 39, a nozzle 30, an ink flow path connecting these, and a portion of a vibrating film 45 covering the upper surface of the pressure chamber. The combination of the above corresponds to the "recording element" of the present invention.

第1流路基板36の振動膜45の上面には、2つの圧電素子列をそれぞれ覆う2つの保護部材40が配置されている。保護部材40は、圧電素子39を外気から遮断して、湿気に触れることを防止する等の目的で設けられている。 Two protective members 40 that cover each of the two piezoelectric element rows are arranged on the upper surface of the vibrating film 45 of the first flow path substrate 36. The protective member 40 is provided for the purpose of blocking the piezoelectric element 39 from the outside air and preventing it from coming into contact with moisture.

<リジッド基板23>
図2~図4に示すように、リジッド基板23は、ヘッドホルダ20を挟んで4つのヘッドユニット25の上方に配置され、ヘッドホルダ20の基板収容部20bに収容されている。リジッド基板23は、上下方向において、4つのヘッドユニット25と重なるように配置されている。図2~図4に示すように、リジッド基板23の左端部と右端部の上面には、コネクタ53(53a,53b)がそれぞれ設けられている。また、ヘッドホルダ20の左壁部と右壁部には、リジッド基板23と図示しない制御装置とを接続するための図示しないFFCが挿入される、挿入口20dがそれぞれ形成されている。なお、コネクタ53は、リジッド基板23の下面に設けられてもよいし、上面と下面の両方に設けられてもよい。リジッド基板23には、下方の4つのヘッドユニット25から延びている4枚のCOF22が貫通する4つの貫通穴50a~50dが、走査方向に並んで形成されている。また、リジッド基板23には、ヘッドホルダ20の8つの筒状流路部27が貫通する8つの流路穴51a~51hも形成されている。なお、本実施形態では、図3に示すように、8つの流路穴51a~51hのうち、6つの流路穴51b~51gは、貫通穴50と繋がっているが、貫通穴50と流路穴51とが繋がっておらず、互いに独立して設けられていてもよい。
<Rigid board 23>
As shown in FIGS. 2 to 4, the rigid substrate 23 is arranged above the four head units 25 with the head holder 20 interposed therebetween, and is accommodated in the substrate accommodating portion 20b of the head holder 20. The rigid substrate 23 is arranged so as to overlap the four head units 25 in the vertical direction. As shown in FIGS. 2 to 4, connectors 53 (53a, 53b) are provided on the upper surfaces of the left end portion and the right end portion of the rigid substrate 23, respectively. Further, an insertion port 20d into which an FFC (not shown) for connecting a rigid substrate 23 and a control device (not shown) is inserted is formed in the left wall portion and the right wall portion of the head holder 20, respectively. The connector 53 may be provided on the lower surface of the rigid substrate 23, or may be provided on both the upper surface and the lower surface. In the rigid substrate 23, four through holes 50a to 50d through which the four COFs 22 extending from the lower four head units 25 pass are formed side by side in the scanning direction. Further, the rigid substrate 23 is also formed with eight flow path holes 51a to 51h through which the eight cylindrical flow path portions 27 of the head holder 20 penetrate. In the present embodiment, as shown in FIG. 3, of the eight flow path holes 51a to 51h, the six flow path holes 51b to 51g are connected to the through hole 50, but the through hole 50 and the flow path are connected. The holes 51 may not be connected to each other and may be provided independently of each other.

図4に示すように、リジッド基板23の上面の、4つの貫通穴50a~50dの縁部近傍には、4つの接続端子52がそれぞれ設けられている。より詳細には、左側に位置する2つの貫通穴50a,50bに対しては、それらの左側(コネクタ53a側)に、接続端子52が設けられている。また、右側に位置する2つの貫通穴50c,50dに対しては、それらの右側(コネクタ53b側)に、接続端子52が設けられている。左側の2つの接続端子52は、リジッド基板23上に配置された図示しない配線や回路素子を介して、左側のコネクタ53aと接続されている。同様に、右側の2つの接続端子52は、リジッド基板23上に配置された図示しない配線や回路素子を介して、右側のコネクタ53bと接続されている。各COF22は、対応する貫通穴50を通過して、リジッド基板23の上面に設けられた接続端子52に接続されている。 As shown in FIG. 4, four connection terminals 52 are provided near the edges of the four through holes 50a to 50d on the upper surface of the rigid substrate 23, respectively. More specifically, the connection terminals 52 are provided on the left side (connector 53a side) of the two through holes 50a and 50b located on the left side. Further, for the two through holes 50c and 50d located on the right side, a connection terminal 52 is provided on the right side (connector 53b side) of the through holes 50c and 50d. The two connection terminals 52 on the left side are connected to the connector 53a on the left side via wiring or circuit elements (not shown) arranged on the rigid substrate 23. Similarly, the two connection terminals 52 on the right side are connected to the connector 53b on the right side via wiring or circuit elements (not shown) arranged on the rigid substrate 23. Each COF 22 passes through the corresponding through hole 50 and is connected to a connection terminal 52 provided on the upper surface of the rigid substrate 23.

<COF>
次に、COF22について、詳細に説明する。図4に示すように、各ヘッドユニット25とリジッド基板23とは、COF(Chip On Film)22によって電気的に接続されている。COF22は、各ヘッドユニット25において、COF22の長さ方向の一方の端部が左右2つの圧電素子列の間に配置され、ヘッドユニット25の複数の駆動接点47aが配置された部分に接合されている。また、図3、図4に示すように、4枚のCOF22は、走査方向に並んだ状態で4つのヘッドユニット25からそれぞれ、ヘッドホルダ20の通過穴20c及びリジッド基板23の貫通穴50a~50dを通ってリジッド基板23の上面まで上方へ延びている。そして、COF22の長さ方向の他方側の端部が、リジッド基板23の接続端子52が配置された部分に接合されている。
<COF>
Next, COF22 will be described in detail. As shown in FIG. 4, each head unit 25 and the rigid substrate 23 are electrically connected by a COF (Chip On Film) 22. The COF 22 is joined to a portion of each head unit 25 in which one end in the length direction of the COF 22 is arranged between two left and right piezoelectric element trains and a plurality of drive contacts 47a of the head unit 25 are arranged. There is. Further, as shown in FIGS. 3 and 4, the four COFs 22 are arranged in the scanning direction from the four head units 25, respectively, from the through holes 20c of the head holder 20 and the through holes 50a to 50d of the rigid substrate 23, respectively. It extends upward through to the upper surface of the rigid substrate 23. The other end of the COF 22 in the length direction is joined to the portion of the rigid substrate 23 where the connection terminal 52 is arranged.

図7~図9に示すように、COF22は、基材61と、ドライバIC62と、2本のグランド配線66と、複数の個別配線67と、複数の制御配線68とを備えている。基材61は、ポリイミド等の合成樹脂材料からなる、可撓性を有するフィルム状の部材である。基材61は、長さ方向の一方の端部において、一方の面61aが、ヘッドユニット25の上面の導通接点47aが配置された部分に接合されている。また、基材61は、ヘッドユニット25との接合部分近傍の第1折り曲げ部71において折り曲げられ、上述したように、ヘッドホルダ20の通過穴20c及びリジッド基板23の貫通穴50a~50dを通ってリジッド基板23よりも上方まで延びている。また、基材61は、リジッド基板23よりも上方の第2折り曲げ部72において折り曲げられている。そして、基材61は、長さ方向の他方の端部において、一方の面61aが、リジッド基板23の上面の接続端子52が配置された部分に接合されている。 As shown in FIGS. 7 to 9, the COF 22 includes a base material 61, a driver IC 62, two ground wirings 66, a plurality of individual wirings 67, and a plurality of control wirings 68. The base material 61 is a flexible film-like member made of a synthetic resin material such as polyimide. At one end of the base material 61 in the length direction, one surface 61a is joined to a portion of the upper surface of the head unit 25 where the conduction contact 47a is arranged. Further, the base material 61 is bent at the first bent portion 71 near the joint portion with the head unit 25, and as described above, passes through the through holes 20c of the head holder 20 and the through holes 50a to 50d of the rigid substrate 23. It extends above the rigid substrate 23. Further, the base material 61 is bent at the second bent portion 72 above the rigid substrate 23. Then, at the other end of the base material 61 in the length direction, one surface 61a is joined to a portion of the upper surface of the rigid substrate 23 where the connection terminal 52 is arranged.

ドライバIC62は、基材61の一方の面61aの、上下方向に延びている部分に実装されている。2本のグランド配線66は、基材61の幅方向(搬送方向)の両端部に配置され、基材61の長さ方向に沿って延びている。グランド配線66は、一方側配線層66aと他方側配線層66bとを有している。一方側配線層66aは、Cuなどの導電性材料からなり、基材61の一方の面61aに配置されており、基材61の長さ方向のほぼ全長にわたって延びている。 The driver IC 62 is mounted on a portion of one surface 61a of the base material 61 that extends in the vertical direction. The two ground wirings 66 are arranged at both ends in the width direction (transport direction) of the base material 61 and extend along the length direction of the base material 61. The ground wiring 66 has a wiring layer 66a on one side and a wiring layer 66b on the other side. The one-side wiring layer 66a is made of a conductive material such as Cu, is arranged on one surface 61a of the base material 61, and extends over almost the entire length in the length direction of the base material 61.

他方側配線層66bは、Cu等の導電性材料からなり、基材61の他方の面61bのうち、第1折り曲げ部71と第2折り曲げ部72との間に位置する上下方向に延びた部分に配置されている。基材61の他方の面61bとは、基材61の一方の面61aと反対側の面のことである。他方側配線層66bは、一方側配線層66aのうち、第1折り曲げ部71と第2折り曲げ部72との間に位置する上下方向に延びた部分と、基材61の厚み方向に重なっている。また、一方側配線層66aと他方側配線層66bとは、基材61に形成された複数のスルーホール73を介して接続されている。複数のスルーホール73は、例えば、基材61の長さ方向に沿って50~100μm程度の間隔で配置されている。あるいは、複数のスルーホール73は、例えば、これよりも大きい1mm程度の間隔で配置されていてもよい。 The other side wiring layer 66b is made of a conductive material such as Cu, and is a portion of the other surface 61b of the base material 61 that extends in the vertical direction located between the first bent portion 71 and the second bent portion 72. Is located in. The other surface 61b of the base material 61 is a surface opposite to one surface 61a of the base material 61. The other-side wiring layer 66b overlaps with a vertically extending portion of the one-side wiring layer 66a located between the first bent portion 71 and the second bent portion 72 in the thickness direction of the base material 61. .. Further, the one-side wiring layer 66a and the other-side wiring layer 66b are connected to each other via a plurality of through holes 73 formed in the base material 61. The plurality of through holes 73 are arranged, for example, at intervals of about 50 to 100 μm along the length direction of the base material 61. Alternatively, the plurality of through holes 73 may be arranged at intervals of about 1 mm, which is larger than this, for example.

複数の個別配線67は、複数の圧電素子39に対して個別の配線である。複数の個別配線67は、基材61の、ヘッドユニット25との接合部分と、ドライバIC62が実装された部分との間の部分のうち、基材61の幅方向における2本のグランド配線66の間の部分に配置されている。複数の個別配線67は、それぞれが基材61の長さ方向に沿って延び、基材61の幅方向に間隔をあけて並んでいる。また、基材61の幅方向において、個別配線67同士の間隔D2(例えば、30~50μm程度)は、最も外側の個別配線67とグランド配線66との間隔D1(例えば、100μm程度)よりも小さい。 The plurality of individual wirings 67 are individual wirings for the plurality of piezoelectric elements 39. The plurality of individual wirings 67 are two ground wirings 66 in the width direction of the base material 61 among the parts of the base material 61 between the joint portion with the head unit 25 and the portion on which the driver IC 62 is mounted. It is placed in the middle part. Each of the plurality of individual wirings 67 extends along the length direction of the base material 61, and is arranged at intervals in the width direction of the base material 61. Further, in the width direction of the base material 61, the distance D2 between the individual wirings 67 (for example, about 30 to 50 μm) is smaller than the distance D1 between the outermost individual wirings 67 and the ground wiring 66 (for example, about 100 μm). ..

個別配線67は、一方側配線層67aと他方側配線層67bとを有している。一方側配線層67aは、Cu等の導電性材料からなり、基材61の一方の面61aに配置されている。個別配線67は、基材61の長さ方向において、基材61の、ヘッドユニット25との接合部分と、ドライバIC62が実装された部分との間において、その全長にわたって延びている。 The individual wiring 67 has a wiring layer 67a on one side and a wiring layer 67b on the other side. The one-side wiring layer 67a is made of a conductive material such as Cu and is arranged on one surface 61a of the base material 61. The individual wiring 67 extends over the entire length between the joint portion of the base material 61 with the head unit 25 and the portion on which the driver IC 62 is mounted in the length direction of the base material 61.

他方側配線層67bは、Cuなどの導電性材料からなり、基材61の他方の面61bのうち、第1折り曲げ部71と、ドライバIC62が実装された部分との間に位置する、上下方向に延びた部分に配置されている。他方側配線層67bは、一方側配線層67aのうち、第1折り曲げ部71と、ドライバIC62が実装された部分との間に位置する上下方向に延びた部分と、基材61の厚み方向に重なっている。また、一方側配線層67aと他方側配線層67bとは、基材61に形成された複数のスルーホール74を介して接続されている。複数のスルーホール74は、例えば、基材61の長さ方向に沿って、50~100μm程度の間隔で配置されている。 The other side wiring layer 67b is made of a conductive material such as Cu, and is located between the first bent portion 71 and the portion on which the driver IC 62 is mounted in the other surface 61b of the base material 61 in the vertical direction. It is placed in the part that extends to. The other side wiring layer 67b is a portion of the one side wiring layer 67a extending in the vertical direction located between the first bent portion 71 and the portion on which the driver IC 62 is mounted, and the thickness direction of the base material 61. overlapping. Further, the one-side wiring layer 67a and the other-side wiring layer 67b are connected to each other via a plurality of through holes 74 formed in the base material 61. The plurality of through holes 74 are arranged, for example, along the length direction of the base material 61 at intervals of about 50 to 100 μm.

複数の制御配線68は、基材61の、ドライバIC62が実装された部分と、リジッド基板23との接合部分との間の部分のうち、基材61の幅方向における2本のグランド配線66の間の部分に配置されている。複数の制御配線68は、それぞれが基材61の長さ方向に沿って延び、基材61の幅方向に間隔をあけて並んでいる。また、制御配線68の本数は、個別配線67の本数よりも少なく、基材61の幅方向において、制御配線68同士の間隔D4(例えば、100μm程度)は、個別配線67同士の間隔D2よりも大きく、最も外側の個別配線67とグランド配線66との間隔D1、及び、最も外側の制御配線68とグランド配線66との間隔D3(例えば、85μm程度)よりも小さい。 The plurality of control wirings 68 are the two ground wirings 66 in the width direction of the base material 61 among the parts of the base material 61 between the portion where the driver IC 62 is mounted and the joint portion with the rigid substrate 23. It is placed in the middle part. Each of the plurality of control wirings 68 extends along the length direction of the base material 61, and is arranged at intervals in the width direction of the base material 61. Further, the number of control wirings 68 is smaller than the number of individual wirings 67, and the distance D4 between the control wirings 68 (for example, about 100 μm) in the width direction of the base material 61 is larger than the distance D2 between the individual wirings 67. It is larger and smaller than the distance D1 between the outermost individual wiring 67 and the ground wiring 66 and the distance D3 between the outermost control wiring 68 and the ground wiring 66 (for example, about 85 μm).

制御配線68は、一方側配線層68aと他方側配線層68bとを有している。一方側配線層68aは、Cu等の導電性材料からなり、基材61の一方の面61aに配置されている。制御配線68は、基材61の長さ方向において、基材61の、ドライバIC62が実装された部分と、リジッド基板23との接合部分との間において、その全長にわたって延びている。 The control wiring 68 has a wiring layer 68a on one side and a wiring layer 68b on the other side. The one-side wiring layer 68a is made of a conductive material such as Cu and is arranged on one surface 61a of the base material 61. The control wiring 68 extends over the entire length of the base material 61 between the portion of the base material 61 on which the driver IC 62 is mounted and the joint portion with the rigid substrate 23 in the length direction of the base material 61.

他方側配線層68bは、Cu等の導電性材料からなり、基材61の他方の面61bのうち、ドライバIC62が実装された部分と、第2折り曲げ部72との間に位置する、上下方向に延びた部分に配置されている。他方側配線層68bは、一方側配線層68aのうち、ドライバIC62が実装された部分と、第2折り曲げ部72との間に位置する上下方向に延びた部分と、基材61の厚み方向に重なっている。また、一方側配線層68aと他方側配線層68bとは、基材61に形成された複数のスルーホール75を介して接続されている。複数のスルーホール75は、例えば、基材61の長さ方向に沿って、50~100μm程度の間隔で配置されている。 The other side wiring layer 68b is made of a conductive material such as Cu, and is located between the portion of the other surface 61b of the base material 61 on which the driver IC 62 is mounted and the second bent portion 72 in the vertical direction. It is placed in the part that extends to. The other-side wiring layer 68b includes a portion of the one-side wiring layer 68a on which the driver IC 62 is mounted, a portion extending in the vertical direction located between the second bent portion 72, and a portion in the thickness direction of the base material 61. overlapping. Further, the one-side wiring layer 68a and the other-side wiring layer 68b are connected to each other via a plurality of through holes 75 formed in the base material 61. The plurality of through holes 75 are arranged at intervals of about 50 to 100 μm along the length direction of the base material 61, for example.

また、配線66~68の一方側配線層66a~68aの厚みは全て同じT11(例えば、8μm程度であり、配線66~68の他方側配線層66b~68bの厚みは全て同じT12である。厚みT12は、厚みT11と同じであってもよいし、厚みT11と異なっていてもよい。ここで、厚みが同じであることには、製造誤差の範囲で厚みに多少のばらつき(例えば1~2%以下のばらつきがあることも含む。以下の厚みについての説明でも同様である。 Further, the thicknesses of the wiring layers 66a to 68a on one side of the wirings 66 to 68 are all the same T11 (for example, about 8 μm, and the thicknesses of the wiring layers 66b to 68b on the other side of the wirings 66 to 68 are all the same T12. T12 may be the same as the thickness T11 or may be different from the thickness T11. Here, the fact that the thickness is the same means that the thickness varies slightly (for example, 1 to 2) within the range of manufacturing error. It also includes variations of% or less. The same applies to the following description of the thickness.

そして、本実施形態では、グランド配線66のうち、基材61の、第1折り曲げ部71と第2折り曲げ部72との間に位置する中央部分66c(本発明の「第2配線部分」)の厚みが、一方側配線層66aの厚みT11と他方側配線層66bの厚みT12とを合わせた厚み[T11+T12](例えば、16~32μm程度)となる。これに対して、グランド配線66のうち、中央部分66c以外の部分の厚みが、一方側配線層66aの厚みT11となる。すなわち、グランド配線66は、中央部分66cの厚みが、中央部分66c以外の部分の厚みよりも大きくなっている。 Then, in the present embodiment, of the ground wiring 66, the central portion 66c (“second wiring portion” of the present invention) of the base material 61 located between the first bent portion 71 and the second bent portion 72. The thickness is the sum of the thickness T11 of the one-side wiring layer 66a and the thickness T12 of the other-side wiring layer 66b [T11 + T12] (for example, about 16 to 32 μm). On the other hand, the thickness of the portion of the ground wiring 66 other than the central portion 66c is the thickness T11 of the one-side wiring layer 66a. That is, in the ground wiring 66, the thickness of the central portion 66c is larger than the thickness of the portions other than the central portion 66c.

同様に、個別配線67のうち、基材61の、第1折り曲げ部71とドライバIC62が実装された部分との間に位置する中央部分67c(本発明の「第2配線部分」)の厚みが、一方側配線層67aの厚みT11と他方側配線層67bの厚みT12とを合わせた厚み[T11+T12]となる。これに対して、個別配線67のうち、中央部分67c以外の部分の厚みが、一方側配線層67aの厚みT11となる。すなわち、個別配線67は、中央部分67cの厚みが、中央部分67c以外の部分の厚みよりも大きくなっている。 Similarly, of the individual wiring 67, the thickness of the central portion 67c (“second wiring portion” of the present invention) located between the first bent portion 71 and the portion on which the driver IC 62 is mounted on the base material 61 is thick. , The thickness [T11 + T12] is the sum of the thickness T11 of the one-side wiring layer 67a and the thickness T12 of the other-side wiring layer 67b. On the other hand, the thickness of the portion of the individual wiring 67 other than the central portion 67c is the thickness T11 of the one-side wiring layer 67a. That is, in the individual wiring 67, the thickness of the central portion 67c is larger than the thickness of the portions other than the central portion 67c.

同様に、制御配線68のうち、基材61の、ドライバIC62が実装された部分と第2折り曲げ部72との間に位置する中央部分68c(本発明の「第2配線部分」)の厚みが、一方側配線層68aの厚みT11と他方側配線層68bの厚みT12とを合わせた厚み[T11+T12]となる。これに対して、制御配線68のうち、中央部分68c以外の部分の厚みが、一方側配線層68aの厚みT11となる。すなわち、制御配線68は、中央部分68cの厚みが、中央部分68c以外の部分の厚みよりも大きくなっている。 Similarly, of the control wiring 68, the thickness of the central portion 68c (“second wiring portion” of the present invention) located between the portion of the base material 61 on which the driver IC 62 is mounted and the second bent portion 72 is thick. , The thickness [T11 + T12] is the sum of the thickness T11 of the one-side wiring layer 68a and the thickness T12 of the other-side wiring layer 68b. On the other hand, the thickness of the portion of the control wiring 68 other than the central portion 68c is the thickness T11 of the one-side wiring layer 68a. That is, in the control wiring 68, the thickness of the central portion 68c is larger than the thickness of the portions other than the central portion 68c.

また、上述したように、基材61上に、複数の配線66~68が配置されていることにより、グランド配線66及び個別配線67のうち、基材61のヘッドユニット25との接合部分に配置された接続部分66d、67d(本発明の「第1配線部分」)が、ヘッドユニット25と電気的に接続されている。また、グランド配線66及び制御配線68のうち、基材61のリジッド基板23との接合部分に配置された接続部分66e、68dが、リジッド基板23と電気的に接続されている。 Further, as described above, since the plurality of wirings 66 to 68 are arranged on the base material 61, they are arranged at the joint portion of the base material 61 with the head unit 25 among the ground wiring 66 and the individual wirings 67. The connection portions 66d and 67d (“first wiring portion” of the present invention) are electrically connected to the head unit 25. Further, of the ground wiring 66 and the control wiring 68, the connection portions 66e and 68d arranged at the joint portion of the base material 61 with the rigid substrate 23 are electrically connected to the rigid substrate 23.

そして、これにより、複数の制御配線68を介して、リジッド基板23からドライバIC62に、ドライバIC62を制御するための信号を伝送することができる。また、複数の個別配線67を介して、ドライバIC62からヘッドユニット25の複数の圧電素子39に対して個別に駆動信号を伝送して、圧電素子39に印加する電圧を変化させることができる。また、グランド配線66は、リジッド基板23を介して図示しない電源のグランド端子に接続されている。 As a result, a signal for controlling the driver IC 62 can be transmitted from the rigid board 23 to the driver IC 62 via the plurality of control wirings 68. Further, the drive signal can be individually transmitted from the driver IC 62 to the plurality of piezoelectric elements 39 of the head unit 25 via the plurality of individual wirings 67 to change the voltage applied to the piezoelectric element 39. Further, the ground wiring 66 is connected to a ground terminal of a power supply (not shown) via a rigid board 23.

また、基材61の一方の面61aには、2本のグランド配線66の一方側配線層66a、複数の個別配線67の一方側配線層67a、及び、複数の制御配線68の一方側配線層68aを覆うソルダーレジスト76が配置されている。ただし、一方側配線層66a、67aのうち、接続部分66d、67dを形成している部分、及び、一方側配線層66a、68aのうち、接続部分66e、68dを形成している部分については、ソルダーレジスト76で覆われておらず、露出している。また、基材61の他方の面61bには、2本のグランド配線66の他方側配線層66b、複数の個別配線67の他方側配線層67b、及び、複数の制御配線68の他方側配線層68bを覆うソルダーレジスト77が配置されている。 Further, on one surface 61a of the base material 61, one side wiring layer 66a of the two ground wirings 66, one side wiring layer 67a of the plurality of individual wirings 67, and one side wiring layer of the plurality of control wirings 68. A solder resist 76 covering 68a is arranged. However, of the one-side wiring layers 66a and 67a, the portions forming the connection portions 66d and 67d, and the portions of the one-side wiring layers 66a and 68a forming the connection portions 66e and 68d are provided. It is not covered with solder resist 76 and is exposed. Further, on the other surface 61b of the base material 61, the other side wiring layer 66b of the two ground wirings 66, the other side wiring layer 67b of the plurality of individual wirings 67, and the other side wiring layer of the plurality of control wirings 68. A solder resist 77 covering 68b is arranged.

<COF22の製造方法>
次に、COF22の製造方法について説明する。図10に示すように、COF22を製造するには、まず、基材61に複数のスルーホール73~75を形成する(S101)。続いて、基材61の一方の面61aに配線66~68の一方側配線層66a~68aを形成する(S102、本発明の「一方側配線層形成工程」)。S102では、例えば、基材61の一方の面61aの全域にCuなどの導電性材料の膜を形成した後、この導電性材料の膜のうち、不要な部分をエッチングにより除去することによって、一方側配線層66a~68aを形成する。続いて、複数のスルーホール73~75内にCu等の導電性材料を形成し(S103)、基材61の一方の面61aにソルダーレジスト76を形成する(S104)。
<Manufacturing method of COF22>
Next, a method for producing COF22 will be described. As shown in FIG. 10, in order to produce COF22, first, a plurality of through holes 73 to 75 are formed in the base material 61 (S101). Subsequently, one side wiring layers 66a to 68a of the wirings 66 to 68 are formed on one surface 61a of the base material 61 (S102, "one side wiring layer forming step" of the present invention). In S102, for example, after forming a film of a conductive material such as Cu over the entire area of one surface 61a of the base material 61, an unnecessary portion of the film of the conductive material is removed by etching. The side wiring layers 66a to 68a are formed. Subsequently, a conductive material such as Cu is formed in the plurality of through holes 73 to 75 (S103), and a solder resist 76 is formed on one surface 61a of the base material 61 (S104).

続いて、基材61の他方の面61bに配線66~68の他方側配線層66b~68bを形成する(S105、本発明の「他方側配線層形成工程」)。S105でも、例えば、基材61の他方の面61bの全域にCuなどの導電性材料の膜を形成した後、この導電性材料の膜のうち、不要な部分をエッチングにより除去することによって、他方側配線層66b~68bを形成する。続いて、基材61の一方の面61aにソルダーレジスト77を形成し(S106)、基材61の一方の面61aにドライバIC62を実装する(S107)。 Subsequently, the other side wiring layers 66b to 68b of the wirings 66 to 68 are formed on the other surface 61b of the base material 61 (S105, "the other side wiring layer forming step" of the present invention). Also in S105, for example, after forming a film of a conductive material such as Cu over the entire area of the other surface 61b of the base material 61, an unnecessary portion of the film of the conductive material is removed by etching to remove the other. The side wiring layers 66b to 68b are formed. Subsequently, a solder resist 77 is formed on one surface 61a of the base material 61 (S106), and the driver IC 62 is mounted on one surface 61a of the base material 61 (S107).

<効果>
ここで、本実施形態では、ヒータ82によってインクを加熱しているが、ヒータ82で発生した熱は、COF22とヘッドユニット25との接合部分、及び、COF22とリジッド基板23との接合部分にも伝達される。また、ヘッドユニット25の駆動時には、ドライバIC62が発熱するが、ドライバIC62で発生した熱も、COF22とヘッドユニット25との接合部分、及び、COF22とリジッド基板23との接合部分に伝達される。COF22とヘッドユニット25との接合部分に熱が伝達すると、COF22とヘッドユニット25との線膨張係数の違いにより、COF22がヘッドユニット25からはがれてしまう虞がある。COF22とリジッド基板23との接合部分に熱が伝達すると、COF22とリジッド基板23との線膨張係数の違いにより、COF22がリジッド基板23からはがれてしまう虞がある。例えば、COF22の線膨張係数が5ppm/℃程度であるのに対して、ヘッドユニット25を構成するシリコンの線膨張係数が3.4ppm/℃程度であり、リジット基板の線膨張係数が10~15ppm/℃程度である。
<Effect>
Here, in the present embodiment, the ink is heated by the heater 82, but the heat generated by the heater 82 is also applied to the joint portion between the COF 22 and the head unit 25 and the joint portion between the COF 22 and the rigid substrate 23. Be transmitted. Further, when the head unit 25 is driven, the driver IC 62 generates heat, but the heat generated by the driver IC 62 is also transmitted to the joint portion between the COF 22 and the head unit 25 and the joint portion between the COF 22 and the rigid substrate 23. When heat is transferred to the joint portion between the COF 22 and the head unit 25, the COF 22 may be peeled off from the head unit 25 due to the difference in the linear expansion coefficient between the COF 22 and the head unit 25. When heat is transferred to the joint portion between the COF 22 and the rigid substrate 23, the COF 22 may be peeled off from the rigid substrate 23 due to the difference in the coefficient of linear expansion between the COF 22 and the rigid substrate 23. For example, the coefficient of linear expansion of COF22 is about 5 ppm / ° C, while the coefficient of linear expansion of silicon constituting the head unit 25 is about 3.4 ppm / ° C, and the coefficient of linear expansion of the rigid substrate is about 10 to 15 ppm. It is about / ° C.

そこで、本実施形態では、配線66~68において、中央部分66c~68cの厚みを、それ以外の部分の厚みよりも大きくしている。これにより、配線66~68における放熱効果が高くなり、COF22とヘッドユニット25との接合部分、の温度が高くなりにくい。その結果、COF22がヘッドユニット25あるいはリジッド基板23からはがれてしまうのを防止することができる。 Therefore, in the present embodiment, in the wirings 66 to 68, the thickness of the central portion 66c to 68c is made larger than the thickness of the other portions. As a result, the heat dissipation effect in the wirings 66 to 68 is enhanced, and the temperature of the joint portion between the COF 22 and the head unit 25 is unlikely to increase. As a result, it is possible to prevent the COF 22 from being peeled off from the head unit 25 or the rigid substrate 23.

ここで、COF22では、複数の圧電素子39に対して個別に設けられた個別配線67の本数(例えば、400~2000本程度)は、グランド配線66の本数(2本)、及び、制御配線68の本数(例えば、10~50本程度)と比較して十分に多い。そのため、複数の個別配線67の表面積の合計は、2本のグランド配線66の表面積の合計、及び、複数の制御配線68の表面積の合計と比較して十分に大きい。したがって、複数の個別配線67において、中央部分67cの厚みを、それ以外の部分の厚みよりも大きくすることによる放熱効果は、特に高いものとなる。 Here, in the COF 22, the number of individual wirings 67 individually provided for the plurality of piezoelectric elements 39 (for example, about 400 to 2000) is the number of ground wirings 66 (2) and the control wiring 68. It is sufficiently large compared to the number of (for example, about 10 to 50). Therefore, the total surface area of the plurality of individual wirings 67 is sufficiently larger than the total surface area of the two ground wirings 66 and the total surface area of the plurality of control wirings 68. Therefore, in the plurality of individual wirings 67, the heat dissipation effect by making the thickness of the central portion 67c larger than the thickness of the other portions is particularly high.

また、配線66~68において、中央部分66c~68cの厚みを大きくすることにより、配線66~68の電気抵抗が小さくなる。これにより、配線66~68に電流が流れたときに、配線66~68において熱が発生しにくくなる。これによっても、COF22とヘッドユニット25との接合部分、及び、COF22とリジッド基板23との接合部分の温度が高くなりにくい。 Further, in the wirings 66 to 68, by increasing the thickness of the central portions 66c to 68c, the electric resistance of the wirings 66 to 68 becomes smaller. As a result, when a current flows through the wirings 66 to 68, heat is less likely to be generated in the wirings 66 to 68. Even with this, the temperature of the joint portion between the COF 22 and the head unit 25 and the joint portion between the COF 22 and the rigid substrate 23 is unlikely to increase.

また、本実施形態では、配線66~68の中央部分66c~68cの厚みを大きくすることによって、放熱効果を高めている。したがって、別途ヒートシンクを設ける場合と比較して、装置を小型化することもできる。 Further, in the present embodiment, the heat dissipation effect is enhanced by increasing the thickness of the central portions 66c to 68c of the wirings 66 to 68. Therefore, the device can be downsized as compared with the case where a heat sink is separately provided.

ここで、上記のような放熱効果を高くすることだけを考えれば、配線66~68の中央部分66c~68c以外の部分の厚みも大きくすることも考えられる。 Here, considering only increasing the heat dissipation effect as described above, it is conceivable to increase the thickness of the portions other than the central portions 66c to 68c of the wirings 66 to 68.

しかしながら、COF22をヘッドユニット25に接着する際には、これらの接合部分を加熱するのに対して、配線66、67の接続部分66d、67dの厚みを大きくすると、COF22とヘッドユニット25との接着時に、これらの接合部分から熱が逃げやすくなり、接着温度のコントロールが難しくなる。同様に、COF22をリジッド基板23に接着する際には、これらの接合部分を加熱するのに対して、配線66、68の接続部分66e、68dの厚みを大きくすると、COF22とリジッド基板23との接着時に、これらの接合部分から熱が逃げやすくなり、接着温度のコントロールが難しくなる。 However, when the COF 22 is adhered to the head unit 25, these joint portions are heated, whereas when the thickness of the connecting portions 66d and 67d of the wirings 66 and 67 is increased, the COF 22 and the head unit 25 are adhered to each other. Occasionally, heat can easily escape from these joints, making it difficult to control the bond temperature. Similarly, when the COF 22 is bonded to the rigid substrate 23, these joint portions are heated, whereas when the thickness of the connection portions 66e and 68d of the wirings 66 and 68 is increased, the COF 22 and the rigid substrate 23 are bonded to each other. During bonding, heat tends to escape from these joints, making it difficult to control the bonding temperature.

同様に、基材61にドライバIC62を実装する際には、これらの接合部分を加熱するのに対して、配線67、68のドライバIC62との接続部分の厚みを大きくすると、ドライバIC62の基材61への実装時に、これらの接合部分から熱が逃げやすくなり、実装時の温度のコントロールが難しくなる。 Similarly, when the driver IC 62 is mounted on the base material 61, these joint portions are heated, whereas when the thickness of the connection portion of the wirings 67 and 68 with the driver IC 62 is increased, the base material of the driver IC 62 is increased. At the time of mounting on 61, heat easily escapes from these joint portions, and it becomes difficult to control the temperature at the time of mounting.

また、配線66、67のうち、第1折り曲げ部71に配置された部分の厚みを大きくすると、第1折り曲げ部71の剛性が高くなり、第1折り曲げ部71においてCOF22を折り曲げにくい。また、配線66、68のうち、第2折り曲げ部72に配置された部分の厚みを大きくすると、第2折り曲げ部の剛性が高くなり、第2折り曲げ部72においてCOF22を折り曲げにくい。 Further, if the thickness of the portion of the wiring 66, 67 arranged in the first bent portion 71 is increased, the rigidity of the first bent portion 71 becomes high, and it is difficult to bend the COF 22 in the first bent portion 71. Further, when the thickness of the portion of the wiring 66 and 68 arranged in the second bent portion 72 is increased, the rigidity of the second bent portion is increased and the COF 22 is difficult to bend in the second bent portion 72.

これらのことから、本実施形態では、上述したように、配線66~68において、中央部分66c~68c以外の部分については厚みを小さくしている。これにより、配線同士がショートしてしまうことを防止することができる。また、第1、第2折り曲げ部71、72においてCOF22を折り曲げやすい。 For these reasons, in the present embodiment, as described above, in the wirings 66 to 68, the thickness of the portions other than the central portions 66c to 68c is reduced. This makes it possible to prevent the wiring from being short-circuited. Further, it is easy to bend the COF 22 at the first and second bent portions 71 and 72.

また、本実施形態では、基材61の一方の面61aに、配線66~68の全域にわたって延びる、一方側配線層66a~68aを配置する。また、基材61の他方の面61bに、一方側配線層66a~68aの一部分と、基材61の厚み方向に重なる他方側配線層66b~68bを配置する。これにより、配線66~68を、中央部分66c~68cの厚みが中央部分66c~68c以外の部分の厚みよりも大きいものとすることができる。 Further, in the present embodiment, the one-side wiring layers 66a to 68a extending over the entire area of the wirings 66 to 68 are arranged on one surface 61a of the base material 61. Further, on the other surface 61b of the base material 61, a part of the one-side wiring layers 66a to 68a and the other-side wiring layers 66b to 68b overlapping in the thickness direction of the base material 61 are arranged. Thereby, the thickness of the central portion 66c to 68c of the wiring 66 to 68 can be made larger than the thickness of the portion other than the central portion 66c to 68c.

また、この場合には、基材61の一方の面61aに配置された一方側配線層66a~68aと、基材61の他方の面61bに配置された他方側配線層66b~68bとが、基材61の厚み方向に重なって、上述の第2配線部分が形成されている。そのため、後述の変形例1のように、基材61の一方の面61aにのみ配線を配置し、その一部分である第2配線部分の厚みを大きくする場合と比較して、第2配線部分の基材61からの突出量を小さくすることができる。これにより、COF22に外力が加わったときに、複数の配線の第2配線部分が互いに近づく方向に撓んでも配線同士が接触しにくい。 Further, in this case, the one-side wiring layers 66a to 68a arranged on one surface 61a of the base material 61 and the other-side wiring layers 66b to 68b arranged on the other surface 61b of the base material 61 are formed. The above-mentioned second wiring portion is formed so as to overlap with each other in the thickness direction of the base material 61. Therefore, as compared with the case where the wiring is arranged only on one surface 61a of the base material 61 and the thickness of the second wiring portion which is a part thereof is increased as in the modification 1 described later, the second wiring portion The amount of protrusion from the base material 61 can be reduced. As a result, when an external force is applied to the COF 22, even if the second wiring portions of the plurality of wirings bend in a direction approaching each other, it is difficult for the wirings to come into contact with each other.

また、本実施形態では、基材61の一方の面61aに配置された一方側配線層66a~68aと、基材61の他方の面61bに配置された他方側配線層66b~68bとを、それぞれ、基材61に形成されたスルーホール73~75を介して簡単に接続することができる。 Further, in the present embodiment, the one-side wiring layers 66a to 68a arranged on one surface 61a of the base material 61 and the other-side wiring layers 66b to 68b arranged on the other surface 61b of the base material 61 are provided. Each can be easily connected via the through holes 73 to 75 formed in the base material 61.

また、本実施形態のCOF22は、上述したように、基材61にスルーホール73~75を形成し、基材61の一方の面61aに一方側配線層66a~68aを形成し、基材61の他方の面61bに他方側配線層66b~68bを形成することによって簡単に製造することができる。 Further, in the COF 22 of the present embodiment, as described above, through holes 73 to 75 are formed in the base material 61, and one side wiring layers 66a to 68a are formed on one surface 61a of the base material 61, and the base material 61 is formed. It can be easily manufactured by forming the other side wiring layers 66b to 68b on the other surface 61b of the above.

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は、上述の実施形態に限られるものではなく、特許請求の範囲に記載の限りにおいて様々な変更が可能である。 Although the preferred embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made as long as it is described in the claims.

上述の実施形態では、配線66~68のいずれにおいても、一方側配線層66a~68aと他方側配線層66b~68bとが、基材61に形成されたスルーホール73~75を介して接続されていたが、これには限られない。例えば、COF22上に配置される配線66~68のうち、グランド配線66が、基材61の幅方向において最も外側に位置しているのに対応して、スルーホール73の代わりに、基材61の幅方向の縁部を回り込むように延びて、一方側配線層66aと他方側配線層66bとを接続する接続用のパターンを設けてもよい。 In the above-described embodiment, in any of the wirings 66 to 68, the one-side wiring layers 66a to 68a and the other-side wiring layers 66b to 68b are connected via through holes 73 to 75 formed in the base material 61. It was, but it is not limited to this. For example, of the wirings 66 to 68 arranged on the COF 22, the ground wiring 66 is located on the outermost side in the width direction of the base material 61, and instead of the through hole 73, the base material 61 A pattern for connection may be provided so as to extend around the edge portion in the width direction of the above and connect the one-side wiring layer 66a and the other-side wiring layer 66b.

また、上述の実施形態では、配線66~68を、それぞれ、基材61の一方の面61aに配置された一方側配線層66a~68aと、基材61の他方の面61bに配置された他方側配線層66b~68bとを有するものとしたが、これには限られない。 Further, in the above-described embodiment, the wirings 66 to 68 are arranged on one side wiring layer 66a to 68a arranged on one surface 61a of the base material 61 and the other side arranged on the other surface 61b of the base material 61, respectively. It is assumed that the side wiring layers 66b to 68b are provided, but the present invention is not limited to this.

変形例1では、図11(a)、図12、図13(a)~(d)に示すように、COF100において、グランド配線101が、第1材料層101aと第2材料層101bとを有している。第1材料層101aは、例えばCuなどの導電性を有する第1材料からなり、基材61の一方の面61aに配置されている。第1材料層101aの位置は、上述の実施形態の一方側配線層66aと同様である。第2材料層101bは、第1材料層101aの基材61と反対側の面のうち、基材61の第1折り曲げ部71と第2折り曲げ部72との間に位置する上下方向に延びた部分に配置されている。第2材料層101bは、例えばAg、Auなど、導電性を有し、且つ、第1材料層101aよりも熱伝導率の高い第2材料からなる。 In the first modification, as shown in FIGS. 11 (a), 12 (a) and 13 (a) to (d), in the COF 100, the ground wiring 101 includes the first material layer 101a and the second material layer 101b. are doing. The first material layer 101a is made of a conductive first material such as Cu, and is arranged on one surface 61a of the base material 61. The position of the first material layer 101a is the same as that of the one-side wiring layer 66a of the above-described embodiment. The second material layer 101b extends in the vertical direction located between the first bent portion 71 and the second bent portion 72 of the base material 61 on the surface of the first material layer 101a opposite to the base material 61. It is placed in the part. The second material layer 101b is made of a second material such as Ag or Au, which has conductivity and has a higher thermal conductivity than the first material layer 101a.

また、図11(b)、図12、図13(a)、(b)に示すように、個別配線102が、第1材料層102aと第2材料層102bとを有している。第1材料層102aは、上記第1材料からなり、基材61の一方の面61aに配置されている。第1材料層102aの位置は、上述の実施形態の一方側配線層67aと同様である。第2材料層102bは、上記第2材料からなり、第1材料層102aの基材61と反対側の面のうち、基材61の第1折り曲げ部71と、ドライバIC62が実装された部分との間に位置する、上下方向に延びた部分に配置されている。 Further, as shown in FIGS. 11 (b), 12 (a), and 13 (b), the individual wiring 102 has a first material layer 102a and a second material layer 102b. The first material layer 102a is made of the first material and is arranged on one surface 61a of the base material 61. The position of the first material layer 102a is the same as that of the one-side wiring layer 67a of the above-described embodiment. The second material layer 102b is made of the above-mentioned second material, and has a surface on the opposite side of the first material layer 102a from the base material 61, a first bent portion 71 of the base material 61, and a portion on which the driver IC 62 is mounted. It is located in the part extending in the vertical direction, which is located between the two.

また、図11(b)、図12、図13(c)、(d)に示すように、制御配線103が、第1材料層103aと第2材料層103bとを有している。第1材料層103aは、上記第1材料からなり、基材61の一方の面61aに配置されている。第1材料層103aの位置は、上述の実施形態の一方側配線層68aと同様である。第2材料層103bは、上記第2材料からなり、第1材料層103aの基材61と反対側の面のうち、基材61のドライバIC62が実装された部分と第2折り曲げ部72との間に位置する、上下方向に延びた部分に配置されている。 Further, as shown in FIGS. 11 (b), 12 (c), and 13 (d), the control wiring 103 has a first material layer 103a and a second material layer 103b. The first material layer 103a is made of the first material and is arranged on one surface 61a of the base material 61. The position of the first material layer 103a is the same as that of the one-side wiring layer 68a of the above-described embodiment. The second material layer 103b is made of the above-mentioned second material, and has a portion of the surface of the first material layer 103a opposite to the base material 61 on which the driver IC 62 of the base material 61 is mounted and the second bent portion 72. It is located in the part extending in the vertical direction, which is located between them.

また、変形例1では、第1材料層101a~103aの厚みが全てT21(例えば、8μm程度)であり、第2材料層101b~103bの厚みが全てT22である。厚みT22は、厚みT21と同じであってもよいし、厚みT21と異なっていてもよい。 Further, in the first modification, the thicknesses of the first material layers 101a to 103a are all T21 (for example, about 8 μm), and the thicknesses of the second material layers 101b to 103b are all T22. The thickness T22 may be the same as the thickness T21 or may be different from the thickness T21.

そして、変形例1では、グランド配線101のうち、第1折り曲げ部71と第2折り曲げ部72との間に位置する中央部分101c(本発明の「第2配線部分」)の厚みが、第1材料層101aの厚みT21と、第2材料層101bの厚みT22とを合わせた厚み[T21+T22](例えば、16~32μm程度)となる。これに対して、グランド配線101のうち、中央部分101c以外の部分の厚みが、第1材料層101aの厚みT21となる。すなわち、グランド配線101は、中央部分101cの厚みが、中央部分101c以外の部分の厚みよりも大きくなっている。 In the first modification, the thickness of the central portion 101c (“second wiring portion” of the present invention) located between the first bent portion 71 and the second bent portion 72 of the ground wiring 101 is the first. The total thickness of the material layer 101a T21 and the thickness T22 of the second material layer 101b is [T21 + T22] (for example, about 16 to 32 μm). On the other hand, the thickness of the portion of the ground wiring 101 other than the central portion 101c is the thickness T21 of the first material layer 101a. That is, in the ground wiring 101, the thickness of the central portion 101c is larger than the thickness of the portions other than the central portion 101c.

同様に、個別配線102のうち、基材61の、第1折り曲げ部71と、ドライバIC62が実装された部分との間に位置する中央部分102c(本発明の「第2配線部分」)の厚みが、第1材料層102aの厚みT21と、第2材料層102bの厚みT22とを合わせた厚み[T21+T22]となる。これに対して、個別配線102のうち、中央部分102c以外の部分の厚みが、第1材料層102aの厚みT21となる。すなわち、個別配線102は、中央部分102cの厚みが、中央部分102c以外の部分の厚みよりも大きくなっている。 Similarly, of the individual wiring 102, the thickness of the central portion 102c (“second wiring portion” of the present invention) located between the first bent portion 71 of the base material 61 and the portion on which the driver IC 62 is mounted. Is the total thickness [T21 + T22] of the thickness T21 of the first material layer 102a and the thickness T22 of the second material layer 102b. On the other hand, the thickness of the portion of the individual wiring 102 other than the central portion 102c is the thickness T21 of the first material layer 102a. That is, in the individual wiring 102, the thickness of the central portion 102c is larger than the thickness of the portion other than the central portion 102c.

同様に、制御配線103のうち、基材61の、ドライバIC62が実装された部分と、第2折り曲げ部72との間に位置する中央部分103c(本発明の「第2配線部分」)の厚みが、第1材料層103aの厚みT21と、第2材料層103bの厚みT22とを合わせた厚み[T21+T22]となる。これに対して、制御配線103のうち、中央部分103c以外の部分の厚みが、第1材料層103aの厚みT21となる。すなわち、制御配線103は、中央部分103cの厚みが、中央部分103c以外の部分の厚みよりも大きくなっている。 Similarly, in the control wiring 103, the thickness of the central portion 103c (“second wiring portion” of the present invention) located between the portion of the base material 61 on which the driver IC 62 is mounted and the second bent portion 72. Is the total thickness [T21 + T22] of the thickness T21 of the first material layer 103a and the thickness T22 of the second material layer 103b. On the other hand, the thickness of the portion of the control wiring 103 other than the central portion 103c is the thickness T21 of the first material layer 103a. That is, in the control wiring 103, the thickness of the central portion 103c is larger than the thickness of the portions other than the central portion 103c.

なお、変形例1では、グランド配線101のうち、基材61のヘッドユニット25との接合部分に配置され、ヘッドユニット25と電気的に接続される接続部分101d、及び、個別配線102のうち、基材61のヘッドユニット25との接合部分に配置され、ヘッドユニット25と電気的に接続される接続部分102dが、本発明の「第1配線部分」に相当する。 In the first modification, of the ground wiring 101, the connection portion 101d arranged at the joint portion of the base material 61 with the head unit 25 and electrically connected to the head unit 25, and the individual wiring 102. The connection portion 102d arranged at the joint portion of the base material 61 with the head unit 25 and electrically connected to the head unit 25 corresponds to the “first wiring portion” of the present invention.

また、図13(a)~(d)に示すように、基材61の一方の面61aには、保護層104が配置されている。さらに、基材61の一方の面61aには、配線101~103及び保護層104を覆うソルダーレジスト105が配置されている。 Further, as shown in FIGS. 13 (a) to 13 (d), the protective layer 104 is arranged on one surface 61a of the base material 61. Further, on one surface 61a of the base material 61, a solder resist 105 covering the wirings 101 to 103 and the protective layer 104 is arranged.

保護層104は、基材61の一方の面61aのうち、配線101~103が配置された部分以外の部分に配置されている。これにより、保護層104は、隣接する個別配線102の間、隣接する制御配線103の間、グランド配線101と個別配線102との間、及び、グランド配線101と制御配線103との間に配置される。保護層104の厚みは、第1材料層101a~103aの厚みと同じT21である。これにより、基材61の厚み方向において、第2材料層101b~103bが、保護層104よりも第1材料層101a~103aと反対側に突出している。また、保護層104は、例えばエポキシ樹脂等、ソルダーレジスト105よりも剛性の高い材料からなる。 The protective layer 104 is arranged on one surface 61a of the base material 61 other than the portion where the wirings 101 to 103 are arranged. As a result, the protective layer 104 is arranged between the adjacent individual wirings 102, between the adjacent control wirings 103, between the ground wirings 101 and the individual wirings 102, and between the ground wirings 101 and the control wirings 103. The wiring. The thickness of the protective layer 104 is T21, which is the same as the thickness of the first material layers 101a to 103a. As a result, the second material layers 101b to 103b protrude from the protective layer 104 on the side opposite to the first material layers 101a to 103a in the thickness direction of the base material 61. Further, the protective layer 104 is made of a material having higher rigidity than the solder resist 105, such as epoxy resin.

COF100を製造するには、図14、図15(a)、(b)に示すように、まず、基材61の一方の面61aに、第1材料層101a~103aを形成する(S201、本発明の「第1材料層形成工程」)。第1材料層101a~103aを形成する方法は、上述の実施形態で一方側配線層66a~68aを形成する方法と同様である。 In order to manufacture the COF100, as shown in FIGS. 14, 15 (a) and 15 (b), first, the first material layers 101a to 103a are first formed on one surface 61a of the base material 61 (S201, book). The "first material layer forming step" of the invention). The method for forming the first material layers 101a to 103a is the same as the method for forming the one-side wiring layers 66a to 68a in the above-described embodiment.

続いて、図15(c)、(d)に示すように、基材61の一方の面61aに保護層104を形成する(S202、本発明の「保護層形成工程」)。S202では、例えばスピンコート法によって保護層104を形成する。スピンコート法によって保護層104を形成すれば、第1材料層101a~103bとほぼ同じ厚みの保護層104が形成され、第1材料層101a~103bの基材61と反対側の面が保護層104に覆われない。 Subsequently, as shown in FIGS. 15 (c) and 15 (d), the protective layer 104 is formed on one surface 61a of the base material 61 (S202, "protective layer forming step" of the present invention). In S202, the protective layer 104 is formed by, for example, a spin coating method. When the protective layer 104 is formed by the spin coating method, the protective layer 104 having substantially the same thickness as the first material layers 101a to 103b is formed, and the surface of the first material layers 101a to 103b opposite to the base material 61 is the protective layer. Not covered by 104.

あるいは、S202において、スピンコート法以外の方法によって保護層104を形成してもよい。ただし、保護層104の形成方法によっては、第1材料層101a~103bの表面が保護層104に覆われてしまうことがある。その場合には、保護層104を形成した後、形成した保護層104の一部を除去して第1材料層101a~103bの表面を露出させる。 Alternatively, in S202, the protective layer 104 may be formed by a method other than the spin coating method. However, depending on the method of forming the protective layer 104, the surface of the first material layers 101a to 103b may be covered with the protective layer 104. In that case, after the protective layer 104 is formed, a part of the formed protective layer 104 is removed to expose the surfaces of the first material layers 101a to 103b.

続いて、図15(e)、(f)に示すように、第1材料層101a~103aの基材61と反対側の面に、第2材料層101b~103bを形成する(S203)。S203では、第1材料層101a~103a及び保護層104の、基材61と反対側の面の全域に第2材料の膜を形成し、その後、エッチングによって、上記第2材料の膜の不要な部分を除去することによって第2材料層101b~103bを形成する。 Subsequently, as shown in FIGS. 15 (e) and 15 (f), the second material layers 101b to 103b are formed on the surface of the first material layers 101a to 103a opposite to the base material 61 (S203). In S203, a film of the second material is formed on the entire surface of the first material layers 101a to 103a and the protective layer 104 on the opposite side of the base material 61, and then by etching, the film of the second material is unnecessary. The second material layers 101b to 103b are formed by removing the portions.

そして、この後、基材61の一方の面61aに、ソルダーレジスト105を形成し(S204)、ドライバIC62を実装する(S205)。S205では、例えばスピンコート法によってソルダーレジスト105を形成する。なお、このときには、形成されたソルダーレジスト105によって配線101~103が覆われるように、基材61の一方の面61a上に多めにソルダーレジストの材料を配置したうえで、基材61を回転させることによってソルダーレジスト105を形成する。 After that, the solder resist 105 is formed on one surface 61a of the base material 61 (S204), and the driver IC 62 is mounted (S205). In S205, the solder resist 105 is formed, for example, by a spin coating method. At this time, the base material 61 is rotated after arranging a large amount of the solder resist material on one surface 61a of the base material 61 so that the wirings 101 to 103 are covered with the formed solder resist 105. This forms the solder resist 105.

変形例1でも、配線101~103において、中央部分101c~103cの厚みを、中央部分101c~103c以外の部分の厚みよりも大きくしている。これにより、配線101~103における放熱効果が高くなり、COF100とヘッドユニット25との接合部分、及び、COF100とリジッド基板23との接合部分の温度が高くなりにくい。その結果、COF100がヘッドユニット25やリジッド基板23からはがれてしまうのを防止することができる。 Also in the first modification, in the wirings 101 to 103, the thickness of the central portions 101c to 103c is made larger than the thickness of the portions other than the central portions 101c to 103c. As a result, the heat dissipation effect in the wirings 101 to 103 is enhanced, and the temperature of the joint portion between the COF 100 and the head unit 25 and the joint portion between the COF 100 and the rigid substrate 23 is unlikely to increase. As a result, it is possible to prevent the COF 100 from being peeled off from the head unit 25 or the rigid substrate 23.

また、配線101~103において、中央部分101c~103cの厚みを大きくすることにより、配線101~103の電気抵抗が小さくなる。これにより、配線101~103に電流が流れたときに、配線101~103において熱が発生しにくくなる。これによっても、COF100とヘッドユニット25との接合部分、及び、COF100とリジッド基板23との接合部分の温度が高くなりにくい。 Further, in the wirings 101 to 103, by increasing the thickness of the central portions 101c to 103c, the electric resistance of the wirings 101 to 103 becomes smaller. As a result, when a current flows through the wirings 101 to 103, heat is less likely to be generated in the wirings 101 to 103. Even with this, the temperature of the joint portion between the COF 100 and the head unit 25 and the joint portion between the COF 100 and the rigid substrate 23 is unlikely to increase.

ここで、上記のような効果を高くすることだけを考えて、配線101~103の中央部分101c~103c以外の部分の厚みを大きくすることも考えられる。 Here, it is conceivable to increase the thickness of the portions other than the central portions 101c to 103c of the wirings 101 to 103 only in consideration of increasing the above-mentioned effect.

しかしながら、配線101、102のうち、基材61のヘッドユニット25との接合部分に配置される接続部分101d、102d(本発明の「第1配線部分」)の厚みを大きくすると、COF100をヘッドユニット25に接合するために、COF100をヘッドユニット25に向けて押し付けたときに、COF100に加えられた力によって、隣接する配線101、102の接続部分101d、102dが基材61の幅方向に互いに近づくように撓み、配線同士が接触してショートしてしまう虞がある。 However, if the thickness of the connection portions 101d and 102d (“first wiring portion” of the present invention) arranged at the joint portion of the base material 61 with the head unit 25 among the wirings 101 and 102 is increased, the COF 100 can be head united. When the COF 100 is pressed toward the head unit 25 in order to be joined to the 25, the connecting portions 101d and 102d of the adjacent wirings 101 and 102 approach each other in the width direction of the base material 61 due to the force applied to the COF 100. There is a risk that the wiring will come into contact with each other and cause a short circuit.

また、配線101、103のうち、基材61のリジッド基板23との接合部分に配置される部分101e、103dの厚みを大きくすると、COF100をリジッド基板23に接合するために、COF100をリジッド基板23に向けて押し付けたときに、COF100に加えられた力によって、隣接する配線101、103の部分101e、103dが基材61の幅方向に互いに近づくように撓み、配線同士が接触してショートしてしまう虞がある。 Further, when the thickness of the portions 101e and 103d arranged at the joint portion of the base material 61 with the rigid substrate 23 of the wirings 101 and 103 is increased, the COF 100 is bonded to the rigid substrate 23 in order to bond the COF 100 to the rigid substrate 23. Due to the force applied to the COF 100, the portions 101e and 103d of the adjacent wirings 101 and 103 bend so as to approach each other in the width direction of the base material 61, and the wirings come into contact with each other and short-circuit. There is a risk that it will end up.

また、配線102、103のうちドライバIC62との接続部分の厚みを大きくすると、ドライバIC62を基材61に実装するために、ドライバIC62を基材61に押し付けたときに、隣接する個別配線102あるいは隣接する制御配線103の、ドライバIC62との接続部分が基材61の幅方向に互いに近づくように撓み、配線同士が接触してショートしてしまう虞がある。 Further, if the thickness of the connection portion of the wirings 102 and 103 with the driver IC 62 is increased, when the driver IC 62 is pressed against the base material 61 in order to mount the driver IC 62 on the base material 61, the adjacent individual wirings 102 or There is a risk that the connection portions of the adjacent control wiring 103 with the driver IC 62 will bend so as to approach each other in the width direction of the base material 61, and the wirings will come into contact with each other and cause a short circuit.

また、配線101、102のうち、第1折り曲げ部71に配置された部分の厚みが大きいと、第1折り曲げ部71の剛性が高くなり、第1折り曲げ部71においてCOF100を折り曲げにくい。また、配線101、103のうち、第2折り曲げ部72に配置された部分の厚みが大きいと、第2折り曲げ部72の剛性が高くなり、第2折り曲げ部72においてCOF100を折り曲げにくい。 Further, if the thickness of the portion of the wirings 101 and 102 arranged in the first bent portion 71 is large, the rigidity of the first bent portion 71 becomes high, and it is difficult to bend the COF 100 in the first bent portion 71. Further, if the thickness of the portion of the wirings 101 and 103 arranged in the second bent portion 72 is large, the rigidity of the second bent portion 72 becomes high, and it is difficult to bend the COF 100 in the second bent portion 72.

これらのことから、変形例1では、上述したように、配線101~103において、中央部分101c~103c以外の部分については厚みを小さくしている。これにより、配線同士がショートしてしまうことを防止することができる。また、第1、第2折り曲げ部71、72においてCOF100を折り曲げやすくなる。 For these reasons, in the modified example 1, as described above, in the wirings 101 to 103, the thickness of the portions other than the central portions 101c to 103c is reduced. This makes it possible to prevent the wiring from being short-circuited. In addition, the COF 100 can be easily bent at the first and second bent portions 71 and 72.

また、変形例1では、基材61の一方の面61aに、配線101~103の全域にわたって延びる、第1材料層101a~103aを配置する。また、第1材料層101a~103aの基材61と反対側の面の一部分に、第2材料層101b~103bを配置する。これにより、配線101~103を、中央部分101c~103cの厚みが、中央部分101c~103c以外の部分の厚みよりも大きいものとすることができる。 Further, in the first modification, the first material layers 101a to 103a extending over the entire area of the wirings 101 to 103 are arranged on one surface 61a of the base material 61. Further, the second material layers 101b to 103b are arranged on a part of the surface of the first material layers 101a to 103a on the opposite side of the base material 61. Thereby, the thickness of the central portion 101c to 103c of the wiring 101 to 103 can be made larger than the thickness of the portion other than the central portion 101c to 103c.

また、変形例1では、第2材料層101b~103bを構成する第2材料を、第1材料層101a~103aを構成する第1材料よりも熱伝導率の高い材料とすることにより、配線101~103における放熱効果をさらに高くすることができる。 Further, in the first modification, the wiring 101 is made by using the second material constituting the second material layers 101b to 103b as a material having a higher thermal conductivity than the first material constituting the first material layers 101a to 103a. The heat dissipation effect in ~ 103 can be further enhanced.

また、配線101~103のうち、厚みの大きい中央部分101c~103cにおいては、COF100に外力が加わったときに、中央部分101c~103cが基材61の幅方向に撓んでショートしてしまう虞がある。変形例1では、隣接する第1材料層101a~103aの間に保護層104が配置されている。これにより、COF100に外力が加わったときに、中央部分101c~103cが基材61の幅方向に撓むのが、保護層104によって抑えられ、配線同士が接触してしまうのを防止することができる。 Further, in the central portions 101c to 103c having a large thickness among the wirings 101 to 103, when an external force is applied to the COF 100, the central portions 101c to 103c may bend in the width direction of the base material 61 and short-circuit. be. In the first modification, the protective layer 104 is arranged between the adjacent first material layers 101a to 103a. As a result, when an external force is applied to the COF 100, the central portions 101c to 103c are prevented from bending in the width direction of the base material 61 by the protective layer 104, and the wirings can be prevented from coming into contact with each other. can.

また、変形例1のCOF100は、上述したように、基材61の一方の面61aに第1材料層101a~103aを形成し、第1材料層101a~103aの基材61と反対側の面の一部分に第2材料層101b~103bを形成することによって簡単に製造することができる。 Further, in the COF 100 of the modified example 1, as described above, the first material layers 101a to 103a are formed on one surface 61a of the base material 61, and the surface of the first material layers 101a to 103a on the opposite side to the base material 61. It can be easily manufactured by forming the second material layers 101b to 103b in a part of the above.

また、変形例1では、COF100を製造するときに、第1材料層101a~103aを形成した後、保護層104を形成すると、第1材料層101a~103aの基材61と反対側の面、及び、保護層104の、基材61と反対側の面によって、連続した平坦な面が形成される。これにより、この後、第2材料層101b~103bとなる第2材料の膜を簡単に形成することができる。 Further, in the first modification, when the first material layers 101a to 103a are formed and then the protective layer 104 is formed when the COF 100 is manufactured, the surface of the first material layers 101a to 103a opposite to the base material 61 is formed. A continuous flat surface is formed by the surface of the protective layer 104 opposite to the base material 61. Thereby, after that, the film of the second material to be the second material layers 101b to 103b can be easily formed.

また、変形例1では、第1材料層101a~103aの厚みが全て同じT21であり、第2材料層101b~103bの厚みが全て同じT22であるため、上述したようにしてCOF100を製造する際に、配線101~103を簡単に形成することができる。 Further, in the first modification, the thicknesses of the first material layers 101a to 103a are all the same T21, and the thicknesses of the second material layers 101b to 103b are all the same T22. Therefore, when the COF100 is manufactured as described above. In addition, wirings 101 to 103 can be easily formed.

また、変形例1では、基材61の一方の面61aに保護層104が配置されていたが、保護層104はなくてもよい。 Further, in the first modification, the protective layer 104 is arranged on one surface 61a of the base material 61, but the protective layer 104 may not be provided.

また、変形例1では、第2材料層101b~103bを構成する第2材料が、第1材料層101a~103aを構成する第1材料よりも熱伝導率の高いものであったが、これには限られない。第2材料は、第1材料よりも熱伝導率の小さい材料であってもよい。この場合でも、配線101~103を、第1材料層101a~103aによってのみ形成され、第2材料層101b~103bがないものとする場合と比較すれば、放熱効果を高くすることができる。 Further, in the first modification, the second material constituting the second material layers 101b to 103b has a higher thermal conductivity than the first material constituting the first material layers 101a to 103a. Is not limited. The second material may be a material having a lower thermal conductivity than the first material. Even in this case, the heat dissipation effect can be enhanced as compared with the case where the wirings 101 to 103 are formed only by the first material layers 101a to 103a and the second material layers 101b to 103b are absent.

また、変形例1では、第1材料からなる第1材料層101a~103aの、基材61と反対側の面に、第1材料と異なる第2材料からなる第2材料層101b~103bが配置されていたが、これには限られない。例えば、変形例1において、配線101~103の全ての部分が同じ材料によって形成され、配線101~103のうち、上述の第2配線部分の厚みが、配線101~103の第2配線以外の部分(上述の第1配線部分を含む部分)の厚みよりも大きくなっていてもよい。また、この場合でも、変形例1と同様の手順でCOFを製造することができる。ただし、この場合には、S201とS203とで同じ材料を用いて、配線101~103の各部分を形成する。 Further, in the first modification, the second material layers 101b to 103b made of a second material different from the first material are arranged on the surface of the first material layers 101a to 103a made of the first material opposite to the base material 61. It was, but it is not limited to this. For example, in the first modification, all the portions of the wirings 101 to 103 are formed of the same material, and the thickness of the above-mentioned second wiring portion of the wirings 101 to 103 is the portion other than the second wiring of the wirings 101 to 103. It may be larger than the thickness of (the portion including the above-mentioned first wiring portion). Further, even in this case, the COF can be manufactured by the same procedure as in the first modification. However, in this case, the same material is used for S201 and S203 to form each portion of the wiring 101 to 103.

また、配線全体が同じ材料からなる場合には、変形例1とは異なる手順でCOFを製造することもできる。例えば、変形例2では、COF110を製造するために、図16(a)、(b)に示すように、まず、基材61の一方の面61aに配線111を形成する(S301、本発明の「配線形成工程」)。このとき、配線111全体の厚みを、例えば、変形例1の上記第2配線部分での配線101~103の厚みと同じT22とする。続いて、図16(c)に示すように、エッチングにより、S301で形成した配線111のうち、第2配線部分以外の部分の、厚み方向における基材61と反対側の部分を除去することによって、配線111のこの部分の厚みを小さくする(S302、本発明の「除去工程」)。そして、この後、変形例1と同様に、基材61の一方の面61aに、ソルダーレジストを形成し(S303)、ドライバIC62を実装する(S304)。 Further, when the entire wiring is made of the same material, the COF can be manufactured by a procedure different from that of the first modification. For example, in the second modification, in order to manufacture the COF 110, first, as shown in FIGS. 16A and 16B, a wiring 111 is first formed on one surface 61a of the base material 61 (S301, the present invention). "Wiring formation process"). At this time, the thickness of the entire wiring 111 is set to, for example, T22, which is the same as the thickness of the wirings 101 to 103 in the second wiring portion of the first modification. Subsequently, as shown in FIG. 16C, by etching, the portion of the wiring 111 formed in S301 other than the second wiring portion, which is opposite to the base material 61 in the thickness direction, is removed. , The thickness of this portion of the wiring 111 is reduced (S302, "removal step" of the present invention). Then, similarly to the first modification, a solder resist is formed on one surface 61a of the base material 61 (S303), and the driver IC 62 is mounted (S304).

このように、全体の厚みの大きい配線を形成しておき、形成した配線の一部分を除去することによっても、第2配線部分において、第1配線部分よりも厚みの大きい配線を形成することができる。 By forming a wiring having a large thickness as a whole and removing a part of the formed wiring in this way, it is possible to form a wiring having a thickness larger than that of the first wiring portion in the second wiring portion. ..

また、以上の例では、グランド配線と個別配線と制御配線とで、基材61の長さ方向の位置が同じ部分での厚みを同じとしたが、これには限られない。例えば、変形例3では、図17(a)~(d)に示すように、COF120が、変形例1のCOF100において、グランド配線101をグランド配線121に置き換えたものとなっている。グランド配線121は、第1材料層121aと第2材料層121bとを有する。第1材料層121aの厚みは、第1材料層102a、103aの厚みと同じT21よりも大きいT31となっている。第2材料層121bの厚みは、第2材料層102b、103bの厚みT22よりも大きいT32となっている。例えば、厚みT21、T22が8μm程度であるのに対して、厚みT31、T32が16μm程度となっている。第1材料層121a及び第2材料層121bは、厚み以外については、それぞれ、第1材料層101a及び第2材料層101bと同様のものである。 Further, in the above example, the ground wiring, the individual wiring, and the control wiring have the same thickness at the portion where the position of the base material 61 in the length direction is the same, but the thickness is not limited to this. For example, in the modified example 3, as shown in FIGS. 17 (a) to 17 (d), the COF 120 replaces the ground wiring 101 with the ground wiring 121 in the COF 100 of the modified example 1. The ground wiring 121 has a first material layer 121a and a second material layer 121b. The thickness of the first material layer 121a is T31, which is larger than T21, which is the same as the thickness of the first material layers 102a and 103a. The thickness of the second material layer 121b is T32, which is larger than the thickness T22 of the second material layers 102b and 103b. For example, the thicknesses T21 and T22 are about 8 μm, while the thicknesses T31 and T32 are about 16 μm. The first material layer 121a and the second material layer 121b are the same as the first material layer 101a and the second material layer 101b, respectively, except for the thickness.

そして、これにより、COF120では、基材61の長さ方向の位置が同じ部分同士で比較したときに、グランド配線111の厚みが、個別配線102及び制御配線103の厚みよりも大きくなる。 As a result, in the COF 120, the thickness of the ground wiring 111 becomes larger than the thickness of the individual wiring 102 and the control wiring 103 when the portions of the base material 61 in the length direction are compared with each other.

変形例3の場合には、グランド配線111の厚みを個別配線102及び制御配線103の厚みよりも大きくすることによって、放熱効果を高くすることができる。また、基材61の幅方向において、グランド配線111と個別配線102との間隔D1、及び、グランド配線111と制御配線103との間隔D3が、個別配線102同士の間隔D2及び制御配線103同士の間隔D4よりも大きいため、厚みの大きいグランド配線111が基材61の幅方向に撓んでも、グランド配線111と個別配線102あるいは制御配線103とが接触してショートしてしまうということは起こりにくい。 In the case of the modification 3, the heat dissipation effect can be enhanced by making the thickness of the ground wiring 111 larger than the thickness of the individual wiring 102 and the control wiring 103. Further, in the width direction of the base material 61, the distance D1 between the ground wiring 111 and the individual wiring 102 and the distance D3 between the ground wiring 111 and the control wiring 103 are the distance D2 between the individual wiring 102 and the control wiring 103. Since the distance is larger than D4, even if the thick ground wiring 111 bends in the width direction of the base material 61, it is unlikely that the ground wiring 111 and the individual wiring 102 or the control wiring 103 come into contact with each other and cause a short circuit. ..

また、変形例3では、第1材料層120aの厚みを第1材料層102a、103aの厚みT21よりも大きいT31とし、第2材料層120bの厚みを第2材料層102b、103bの厚みT22よりも大きいT32としたが、これには限られない。例えば、第1材料層120aの厚みを第1材料層102a、103aの厚みT21よりも大きくし、第2材料層120bの厚みについては、第2材料層102b、103bの厚みと同じT22としてもよい。あるいは、第1材料層120aの厚みについては、第1材料層102a、103aの厚みと同じT21とし、第2材料層120bの厚みを、第2材料層102b、103bの厚みT22よりも大きくしてもよい。 Further, in the third modification, the thickness of the first material layer 120a is T31, which is larger than the thickness T21 of the first material layers 102a and 103a, and the thickness of the second material layer 120b is larger than the thickness T22 of the second material layers 102b and 103b. T32 is also large, but it is not limited to this. For example, the thickness of the first material layer 120a may be made larger than the thickness T21 of the first material layers 102a and 103a, and the thickness of the second material layer 120b may be T22 which is the same as the thickness of the second material layers 102b and 103b. .. Alternatively, the thickness of the first material layer 120a is set to T21, which is the same as the thickness of the first material layers 102a and 103a, and the thickness of the second material layer 120b is made larger than the thickness T22 of the second material layers 102b and 103b. May be good.

また、変形例3では、基材61の一方の面61aにのみ配線が配置される場合について説明したが、これには限られない。上述の実施形態のように、基材61の一方の面61aに一方側配線層が形成され、基材61の他方の面61bに他方側配線層が形成される場合においても、グランド配線において、個別配線及び制御配線よりも、一方側配線部分及び他方側配線部分の少なくとも片方の厚みを大きくしてもよい。 Further, in the modified example 3, the case where the wiring is arranged only on one surface 61a of the base material 61 has been described, but the present invention is not limited to this. Even in the case where the one-side wiring layer is formed on one surface 61a of the base material 61 and the other-side wiring layer is formed on the other surface 61b of the base material 61 as in the above-described embodiment, in the ground wiring, The thickness of at least one of the wiring portion on one side and the wiring portion on the other side may be larger than that of the individual wiring and the control wiring.

また、以上の例では、配線のうち、基材61の、第1折り曲げ部71、第2折り曲げ部72、ヘッドユニット25との接合部分、及び、リジッド基板23との接合部分に配置された部分を除いた部分を、厚みの大きい第2配線部分としたが、これには限られない。 Further, in the above example, of the wiring, the portion of the base material 61 arranged at the first bent portion 71, the second bent portion 72, the joint portion with the head unit 25, and the joint portion with the rigid substrate 23. The portion excluding the above is used as the thick second wiring portion, but the present invention is not limited to this.

例えば、COFを第1折り曲げ部において多少折り曲げにくくはなるが、配線のうち、第1折り曲げ部71に配置された部分を、第2配線部分に含めてもよい。あるいは、COFを第2折り曲げ部において多少折り曲げにくくはなるが、配線のうち、第2折り曲げ部72に配置された部分を、第2配線部分に含めてもよい。 For example, although it becomes difficult to bend the COF in the first bent portion, the portion of the wiring arranged in the first bent portion 71 may be included in the second wiring portion. Alternatively, although it becomes somewhat difficult to bend the COF at the second bent portion, the portion of the wiring arranged at the second bent portion 72 may be included in the second wiring portion.

あるいは、配線のうち、基材61のリジッド基板23との接合部分に配置された部分を、厚みの大きい第2配線部分に含めてもよい。制御配線同士の間隔は、個別配線同士の間隔よりも大きい。したがって、COFを接続端子52に接合するために、COFを接続端子52に向けて押圧したしたときに、隣接する制御配線が互いに近づく方向に撓んだとしても、制御配線同士は接触しにくい。 Alternatively, the portion of the wiring arranged at the joint portion of the base material 61 with the rigid substrate 23 may be included in the thick second wiring portion. The distance between the control wires is larger than the distance between the individual wires. Therefore, when the COF is pressed toward the connection terminal 52 in order to join the COF to the connection terminal 52, even if the adjacent control wirings bend in a direction approaching each other, the control wirings are unlikely to come into contact with each other.

あるいは、配線のうち、基材61のドライバIC62が実装される部分に配置された部分を、厚みの大きい第2配線部分に含めてもよい。あるいは、配線部材として、ドライバICが実装されたCOFの代わりに、ドライバICが実装されていないFPCを用いてもよい。 Alternatively, the portion of the wiring arranged in the portion where the driver IC 62 of the base material 61 is mounted may be included in the thick second wiring portion. Alternatively, as the wiring member, an FPC on which the driver IC is not mounted may be used instead of the COF on which the driver IC is mounted.

また、以上の例では、COF上の全ての個別配線及びグランド配線が、ヘッドユニット25と接続される第1配線部分と、第1配線部分よりも厚みの大きい第2配線部分をと有していたが、これには限られない。COF上の複数の個別配線のうち、少なくとも一部の個別配線が、第1配線部分と第2配線部分とを有していれば、それ以外の配線は第1配線部分を有し、且つ、第2配線部分を有さないものであってもよい。また、このとき、複数の個別配線のうち、半分以上の個別配線が第1配線部分と第2配線部分とを有するものとすることが好ましい。COFでは、複数の個別配線の表面積の合計が、グランド配線の表面積の合計や、制御配線の表面積の合計と比較して十分に大きい。したがって、半分以上の個別配線を、第1配線部分と第2配線部分とを有するものとすれば、放熱効果を十分に高いものとすることができる。 Further, in the above example, all the individual wirings and the ground wiring on the COF have a first wiring portion connected to the head unit 25 and a second wiring portion having a thickness larger than that of the first wiring portion. However, it is not limited to this. If at least a part of the individual wirings on the COF has the first wiring portion and the second wiring portion, the other wirings have the first wiring portion and It may not have a second wiring portion. Further, at this time, it is preferable that more than half of the individual wirings have the first wiring portion and the second wiring portion among the plurality of individual wirings. In the COF, the total surface area of the plurality of individual wirings is sufficiently large compared to the total surface area of the ground wiring and the total surface area of the control wiring. Therefore, if more than half of the individual wirings have a first wiring portion and a second wiring portion, the heat dissipation effect can be sufficiently high.

また、上述の実施形態では、ヒータ82により流路部材81内のインクを加熱したが、ヒータ82はなくてもよい。この場合でも、例えば、ヘッドユニット25の駆動時にドライバIC62が発熱し、この熱が、COFとヘッドユニット25との接合部分に伝達する。したがって、ヒータ82がない場合でも、第2配線部分の厚みを第1配線部分の厚みよりも大きくすることによって、放熱効率を高くする意義がある。 Further, in the above-described embodiment, the ink in the flow path member 81 is heated by the heater 82, but the heater 82 may not be used. Even in this case, for example, the driver IC 62 generates heat when the head unit 25 is driven, and this heat is transferred to the joint portion between the COF and the head unit 25. Therefore, even if there is no heater 82, it is significant to increase the heat dissipation efficiency by making the thickness of the second wiring portion larger than the thickness of the first wiring portion.

また、以上では、ノズルからインクを吐出するインクジェットヘッドを備えたインクジェットプリンタに本発明を適用した例について説明したが、これには限られない。例えば、サーマルヘッド等、ノズルからインクを吐出する以外の方法で記録を行う記録ヘッドを備えた記録装置や、記録装置を構成する配線部材に本発明を適用することも可能である。 Further, in the above, an example in which the present invention is applied to an inkjet printer provided with an inkjet head that ejects ink from a nozzle has been described, but the present invention is not limited thereto. For example, the present invention can be applied to a recording device such as a thermal head provided with a recording head that records by a method other than ejecting ink from a nozzle, or to a wiring member constituting the recording device.

1 プリンタ
21 インクジェットヘッド
22 COF
23 リジッド基板
61 基材
61a 一方の面
61b 他方の面
66 グランド配線
66a 一方側配線層
66b 他方側配線層
67 個別配線
67a 一方側配線層
67b 他方側配線層
68 制御配線
71 第1折り曲げ部
72 第2折り曲げ部
82 ヒータ
100 COF
101 グランド配線
101a 第1材料層
101b 第2材料層
102 個別配線
102a 第1材料層
102b 第2材料層
103 制御配線
104 保護層
110 COF
111 グランド配線
111a 第1材料層
111b 第2材料層
120 COF
121 グランド配線
1 Printer 21 Inkjet head 22 COF
23 Rigid board 61 Base material 61a One side 61b The other side 66 Ground wiring 66a One side wiring layer 66b The other side wiring layer 67 Individual wiring 67a One side wiring layer 67b The other side wiring layer 68 Control wiring 71 First bent part 72 No. 2 Bent part 82 Heater 100 COF
101 Ground wiring 101a 1st material layer 101b 2nd material layer 102 Individual wiring 102a 1st material layer 102b 2nd material layer 103 Control wiring 104 Protective layer 110 COF
111 Ground wiring 111a First material layer 111b Second material layer 120 COF
121 Ground wiring

Claims (19)

複数の記録素子を有する記録ヘッドと、
前記記録ヘッドと接続される配線部材と、を備え、
前記配線部材は、
可撓性を有する基材と、
前記基材上に配置された複数の配線と、を備え、
前記複数の配線は、
前記複数の記録素子に対して個別の複数の個別配線を含み、
前記複数の個別配線のうち、少なくとも一部の個別配線は、
前記記録ヘッドと接続される第1配線部分と、
前記第1配線部分以外の部分であって、前記第1配線部分よりも厚みが大きい第2配線部分と、を有することを特徴とする記録装置。
A recording head with multiple recording elements and
A wiring member connected to the recording head is provided.
The wiring member is
With a flexible substrate,
With a plurality of wirings arranged on the substrate,
The plurality of wirings
The plurality of individual wirings individually for the plurality of recording elements are included.
Of the plurality of individual wirings, at least a part of the individual wirings
The first wiring portion connected to the recording head and
A recording device having a portion other than the first wiring portion and having a second wiring portion having a thickness larger than that of the first wiring portion.
前記複数の個別配線のうち、半分以上の個別配線が、前記第1配線部分と、前記第2配線部分とを有することを特徴とする請求項1に記載の記録装置。 The recording device according to claim 1, wherein more than half of the individual wirings of the plurality of individual wirings have the first wiring portion and the second wiring portion. 前記少なくとも一部の個別配線は、
前記基材の一方の面に配置され、前記第1配線部分及び第2配線部分に共通の一方側配線層と、
前記基材の他方の面に配置され、前記基材の厚み方向において、前記一方側配線層の前記第2配線部分を形成する部分と重なる他方側配線層と、を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の記録装置。
At least some of the individual wiring is
A one-side wiring layer arranged on one surface of the base material and common to the first wiring portion and the second wiring portion,
A claim characterized by having a other side wiring layer arranged on the other surface of the base material and overlapping with a portion of the one side wiring layer forming the second wiring portion in the thickness direction of the base material. Item 2. The recording device according to Item 1 or 2.
前記一方側配線層の前記第2配線部分を形成する部分と、前記他方側配線層とが、前記基材に形成されたスルーホールを介して接続されていることを特徴とする請求項3に記載の記録装置。 3. The third aspect of the present invention is characterized in that the portion of the one-side wiring layer forming the second wiring portion and the other-side wiring layer are connected via a through hole formed in the base material. The recording device described. 前記第1配線部分及び前記第2配線部分が前記基材の一方の面に配置され、
前記基材の前記一方の面に配置された前記第2配線部分の厚みが、前記基材の前記一方の面に配置された前記第1配線部分の厚みよりも大きいことを特徴とする請求項1又は2に記載の記録装置。
The first wiring portion and the second wiring portion are arranged on one surface of the base material, and the first wiring portion and the second wiring portion are arranged on one surface of the base material.
The claim is characterized in that the thickness of the second wiring portion arranged on the one surface of the base material is larger than the thickness of the first wiring portion arranged on the one surface of the base material. The recording device according to 1 or 2.
前記少なくとも一部の個別配線は、
前記基材の前記一方の面に配置され、第1導電性材料からなり、前記第1配線部分及び前記第2配線部分に共通の第1材料層と、
前記第1導電性材料と異なる第2導電性材料からなり、前記第1材料層のうち、前記第2配線部分を形成する部分の前記基材と反対側の面に配置された第2材料層と、を有することを特徴とする請求項5に記載の記録装置。
At least some of the individual wiring is
A first material layer arranged on the one surface of the base material, made of a first conductive material, and common to the first wiring portion and the second wiring portion,
A second material layer made of a second conductive material different from the first conductive material and arranged on the surface of the first material layer opposite to the base material of the portion forming the second wiring portion. The recording device according to claim 5, wherein the recording device has.
前記第2導電性材料が、前記第1導電性材料よりも熱伝導率の高い材料であることを特徴とする請求項6に記載の記録装置。 The recording device according to claim 6, wherein the second conductive material is a material having a higher thermal conductivity than the first conductive material. 前記配線部材は、
前記基材上に配置され、隣接する前記配線の前記第1材料層の間に位置する保護層、を有することを特徴とする請求項6又は7に記載の記録装置。
The wiring member is
The recording apparatus according to claim 6 or 7, wherein the recording device is arranged on the substrate and has a protective layer located between the first material layers of the adjacent wiring.
前記配線部材は、
前記基材上に実装され、前記配線と接続されたドライバIC、を有し、
前記配線のうち、前記基材の厚み方向に前記ドライバICと重なる部分は、前記第2配線部分よりも厚みが小さいことを特徴とする請求項1~8のいずれかに記載の記録装置。
The wiring member is
It has a driver IC, which is mounted on the substrate and connected to the wiring.
The recording device according to any one of claims 1 to 8, wherein the portion of the wiring that overlaps with the driver IC in the thickness direction of the base material is smaller in thickness than the second wiring portion.
前記配線部材は、第1折り曲げ部において折り曲げられて延び、
前記第2配線部分は、前記第1折り曲げ部よりも前記第1配線部分と反対側に位置していることを特徴とする請求項1~9のいずれかに記載の記録装置。
The wiring member is bent and extended at the first bent portion, and the wiring member is bent and extended.
The recording device according to any one of claims 1 to 9, wherein the second wiring portion is located on the opposite side of the first bending portion to the first wiring portion.
前記配線部材を介して前記記録ヘッドと接続されるリジッド基板、を備え、
前記配線部材は、前記第1折り曲げ部よりも前記リジッド基板側の第2折り曲げ部において折り曲げられて延び、
前記第2配線部分は、前記第1折り曲げ部と前記第2折り曲げ部との間に位置していることを特徴とする請求項10に記載の記録装置。
A rigid substrate, which is connected to the recording head via the wiring member, is provided.
The wiring member is bent and extended at the second bent portion on the rigid substrate side of the first bent portion.
The recording device according to claim 10, wherein the second wiring portion is located between the first bent portion and the second bent portion.
前記複数の配線は、
前記基材の幅方向の両端部に配置され、グランド電位に保持される2本のグランド配線と、
前記基材の幅方向において、前記2本のグランド配線の間に配置され、前記基材の幅方向に並んだ前記複数の個別配線と、を含み、
前記2本のグランド配線が、前記第1配線部分と前記第2配線部分とを有し、
前記基材の幅方向において、前記グランド配線と、前記グランド配線に最も近い個別配線との距離が、個別配線同士の距離よりも大きく、
前記グランド配線の厚みが、前記個別配線の厚みよりも大きいことを特徴とする請求項1~11のいずれかに記載の記録装置。
The plurality of wirings
Two ground wires arranged at both ends in the width direction of the base material and held at the ground potential, and
Including the plurality of individual wirings arranged between the two ground wirings in the width direction of the substrate and arranged in the width direction of the substrate.
The two ground wirings have the first wiring portion and the second wiring portion.
In the width direction of the base material, the distance between the ground wiring and the individual wiring closest to the ground wiring is larger than the distance between the individual wirings.
The recording device according to any one of claims 1 to 11, wherein the thickness of the ground wiring is larger than the thickness of the individual wiring.
前記記録ヘッドは、複数の記録素子を有し、
前記複数の配線は、
前記基材の幅方向の両端部に配置され、グランド電位に保持される2本のグランド配線と、
前記基材の幅方向において前記2本のグランド配線の間に配置され、前記基材の幅方向に並んだ前記複数の個別配線と、を含み、
前記2本のグランド配線が、前記第1配線部分と前記第2配線部分とを有し、
前記グランド配線の厚みと、前記個別配線の厚みとが同じであることを特徴とする請求項1~11のいずれかに記載の記録装置。
The recording head has a plurality of recording elements and has a plurality of recording elements.
The plurality of wirings
Two ground wires arranged at both ends in the width direction of the base material and held at the ground potential, and
Includes the plurality of individual wires arranged between the two ground wires in the width direction of the substrate and aligned in the width direction of the substrate.
The two ground wirings have the first wiring portion and the second wiring portion.
The recording device according to any one of claims 1 to 11, wherein the thickness of the ground wiring and the thickness of the individual wiring are the same.
前記記録ヘッドは、液体を吐出するノズルを有し、
前記液体を加熱する加熱部、を備えていることを特徴とする請求項1~13のいずれかに記載の記録装置。
The recording head has a nozzle for ejecting a liquid.
The recording device according to any one of claims 1 to 13, further comprising a heating unit for heating the liquid.
複数の記録素子を有する記録ヘッドに接続される配線部材であって
可撓性を有する基材と、
前記基材上に配置され、前記記録ヘッドと接続される複数の配線と、を備え、
前記複数の配線は、
前記複数の記録素子に対して個別の複数の個別配線を含み、
前記複数の個別配線のうち、少なくとも一部の個別配線は、
前記記録ヘッドと接続される第1配線部分と、
前記第1配線部分以外の部分であって、前記第1配線部分よりも厚みが大きい第2配線部分と、を有することを特徴とする配線部材。
配線部材。
A flexible base material that is a wiring member connected to a recording head having a plurality of recording elements,
A plurality of wirings arranged on the substrate and connected to the recording head.
The plurality of wirings
The plurality of individual wirings individually for the plurality of recording elements are included.
Of the plurality of individual wirings, at least a part of the individual wirings
The first wiring portion connected to the recording head and
A wiring member having a portion other than the first wiring portion and having a second wiring portion having a thickness larger than that of the first wiring portion.
Wiring member.
複数の記録素子を有する記録ヘッドに接続される配線部材の製造方法であって、
可撓性を有する基材の一方側の面に、前記複数の記録素子に個別の複数の個別配線のうち少なくとも一部の個別配線の、前記記録ヘッドと接続される第1配線部分、及び、前記第1配線部分以外の第2配線部分に共通の一方側配線層を形成する一方側配線層形成工程と、
前記基材の他方側の面に、前記基材の厚み方向において、前記一方側配線層の前記第2配線部分を形成する部分と重なる他方側配線層を形成する他方側配線層形成工程と、を備えていることを特徴とする配線部材の製造方法。
A method for manufacturing a wiring member connected to a recording head having a plurality of recording elements.
On one surface of the flexible substrate, a first wiring portion connected to the recording head of at least a part of the individual wirings of the plurality of individual wirings individual to the plurality of recording elements, and A one-sided wiring layer forming step of forming a common one-sided wiring layer in a second wiring portion other than the first wiring portion,
A step of forming the other side wiring layer on the other side surface of the base material so as to form the other side wiring layer overlapping the portion of the one side wiring layer forming the second wiring portion in the thickness direction of the base material. A method for manufacturing a wiring member, which comprises.
複数の記録素子を有する記録ヘッドに接続される配線部材の製造方法であって、
可撓性を有する基材上に、前記複数の記録素子に個別の複数の個別配線のうち少なくとも一部の個別配線の、前記記録ヘッドと接続される第1配線部分、及び、前記第1配線部分以外の第2配線部分に共通の、第1導電材料からなる第1材料層を形成する第1材料層形成工程と、
前記少なくとも一部の個別配線の前記第1材料層のうち、前記第2配線部分を形成する部分の、前記基材と反対側の面に、前記第1導電材料と異なる第2導電材料からなる第2材料層を形成する第2材料層形成工程と、を備えていることを特徴とする配線部材の製造方法。
A method for manufacturing a wiring member connected to a recording head having a plurality of recording elements.
On a flexible substrate, a first wiring portion of at least a part of the individual wirings of the plurality of individual wirings individual to the plurality of recording elements, connected to the recording head, and the first wiring. A first material layer forming step for forming a first material layer made of a first conductive material, which is common to the second wiring portion other than the portion.
Of the first material layer of at least a part of the individual wiring, the surface of the portion forming the second wiring portion on the opposite side of the base material is made of a second conductive material different from the first conductive material. A method for manufacturing a wiring member, which comprises a second material layer forming step for forming a second material layer.
前記第1材料層形成工程において、前記基材の幅方向に並ぶ前記第1材料層を形成し、
前記第1材料層形成工程の後、前記第2材料層形成工程の前に、前記基材上に、隣接する前記第1材料層の間に位置する保護層を形成する保護層形成工程、をさらに備えていることを特徴とする請求項17に記載の配線部材の製造方法。
In the first material layer forming step, the first material layer arranged in the width direction of the base material is formed.
After the first material layer forming step and before the second material layer forming step, a protective layer forming step of forming a protective layer located between the adjacent first material layers on the base material is performed. The method for manufacturing a wiring member according to claim 17, further comprising.
複数の記録素子を有する記録ヘッドに接続される配線部材の製造方法であって、
可撓性を有する基材の表面に、前記複数の記録素子に個別の複数の個別配線のうち少なくとも一部の個別配線を形成する配線形成工程と、
前記少なくとも一部の個別配線の、前記記録ヘッドと接続される第1配線部分の厚み方向における一部分を除去することによって、前記第1配線部分の厚みを、前記配線の前記第1配線部分以外の第2配線部分の厚みよりも小さくする除去工程と、を備えていることを特徴とする配線部材の製造方法。
A method for manufacturing a wiring member connected to a recording head having a plurality of recording elements.
A wiring forming step of forming at least a part of individual wirings among a plurality of individual wirings individually for the plurality of recording elements on the surface of a flexible base material.
By removing a part of the at least a part of the individual wiring in the thickness direction of the first wiring portion connected to the recording head, the thickness of the first wiring portion can be reduced to a thickness other than the first wiring portion of the wiring. A method for manufacturing a wiring member, which comprises a removal step of making the thickness of the second wiring portion smaller than the thickness of the wiring portion.
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