JP7055592B2 - Display panel, display device, input / output device, information processing device - Google Patents

Display panel, display device, input / output device, information processing device Download PDF

Info

Publication number
JP7055592B2
JP7055592B2 JP2016238456A JP2016238456A JP7055592B2 JP 7055592 B2 JP7055592 B2 JP 7055592B2 JP 2016238456 A JP2016238456 A JP 2016238456A JP 2016238456 A JP2016238456 A JP 2016238456A JP 7055592 B2 JP7055592 B2 JP 7055592B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
display
film
display element
light
function
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016238456A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2018097024A (en
Inventor
寿雄 池田
圭 高橋
大介 久保田
哲史 瀬尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Original Assignee
Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd filed Critical Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Priority to JP2016238456A priority Critical patent/JP7055592B2/en
Publication of JP2018097024A publication Critical patent/JP2018097024A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7055592B2 publication Critical patent/JP7055592B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明の一態様は、表示パネル、表示装置、入出力装置または情報処理装置に関する。 One aspect of the present invention relates to a display panel, a display device, an input / output device, or an information processing device.

なお、本発明の一態様は、上記の技術分野に限定されない。本明細書等で開示する発明の一態様の技術分野は、物、方法、または、製造方法に関するものである。または、本発明の一態様は、プロセス、マシン、マニュファクチャ、または、組成物(コンポジション・オブ・マター)に関するものである。そのため、より具体的に本明細書で開示する本発明の一態様の技術分野としては、半導体装置、表示装置、発光装置、蓄電装置、記憶装置、それらの駆動方法、または、それらの製造方法、を一例として挙げることができる。 It should be noted that one aspect of the present invention is not limited to the above technical fields. The technical field of one aspect of the invention disclosed in the present specification and the like relates to a product, a method, or a manufacturing method. Alternatively, one aspect of the invention relates to a process, machine, manufacture, or composition (composition of matter). Therefore, more specifically, the technical fields of one aspect of the present invention disclosed in the present specification include semiconductor devices, display devices, light emitting devices, power storage devices, storage devices, driving methods thereof, or manufacturing methods thereof. Can be given as an example.

画素および端子を有する表示パネルであって、画素は第1の絶縁膜と、第1の絶縁膜の第1の開口部に配設される第1の接続部と、第1の接続部と電気的に接続される画素回路と、画素回路と電気的に接続される第2の接続部と、第1の接続部と電気的に接続される第1の表示素子と、第2の接続部と電気的に接続される第2の表示素子と、を備える表示パネルが知られている(特許文献1)。なお、第1の絶縁膜は、第1の表示素子および第2の表示素子の間に挟まれる領域を備え、第1の表示素子は入射する光を反射する機能および第2の開口部を備える反射膜と、反射する光の強さを制御する機能と、を備える。また、第2の表示素子は、第2の開口部と重なる領域を備え、第2の開口部と重なる領域は、第2の開口部に向けて光を射出する機能を備える。また、端子は、画素回路と電気的に接続され、端子は、接点として機能することができる面を備える。 In a display panel having pixels and terminals, the pixels are a first insulating film, a first connecting portion arranged in a first opening of the first insulating film, a first connecting portion, and electricity. A pixel circuit that is electrically connected to the pixel circuit, a second connection portion that is electrically connected to the pixel circuit, a first display element that is electrically connected to the first connection portion, and a second connection portion. A display panel including a second display element electrically connected is known (Patent Document 1). The first insulating film includes a region sandwiched between the first display element and the second display element, and the first display element has a function of reflecting incident light and a second opening. It has a reflective film and a function to control the intensity of reflected light. Further, the second display element includes a region overlapping the second opening, and the region overlapping the second opening has a function of emitting light toward the second opening. Further, the terminal is electrically connected to the pixel circuit, and the terminal has a surface capable of functioning as a contact.

米国特許出願公開第2016/0299387号明細書U.S. Patent Application Publication No. 2016/0299387

本発明の一態様は、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供することを課題の一とする。または、利便性または信頼性に優れた新規な表示装置を提供することを課題の一とする。または、利便性または信頼性に優れた新規な入出力装置を提供することを課題の一とする。または、利便性または信頼性に優れた新規な情報処理装置を提供することを課題の一とする。または、新規な表示パネル、新規な表示装置、新規な入出力装置、新規な情報処理装置または新規な半導体装置を提供することを課題の一とする。 One aspect of the present invention is to provide a novel display panel having excellent convenience or reliability. Another issue is to provide a new display device having excellent convenience or reliability. Another issue is to provide a new input / output device having excellent convenience or reliability. Another issue is to provide a new information processing device having excellent convenience or reliability. Alternatively, one of the tasks is to provide a new display panel, a new display device, a new input / output device, a new information processing device, or a new semiconductor device.

なお、これらの課題の記載は、他の課題の存在を妨げるものではない。なお、本発明の一態様は、これらの課題の全てを解決する必要はないものとする。なお、これら以外の課題は、明細書、図面、請求項などの記載から、自ずと明らかとなるものであり、明細書、図面、請求項などの記載から、これら以外の課題を抽出することが可能である。 The description of these issues does not preclude the existence of other issues. It should be noted that one aspect of the present invention does not need to solve all of these problems. Issues other than these are self-evident from the description of the description, drawings, claims, etc., and it is possible to extract problems other than these from the description of the specification, drawings, claims, etc. Is.

(1)本発明の一態様は、画素を有する表示パネルである。 (1) One aspect of the present invention is a display panel having pixels.

画素は入射光に含まれる一部の色の光を吸収し、他の色の光を反射する機能を備え、画素は第1の表示素子および第2の表示素子を備える。 The pixel has a function of absorbing light of a part of the color contained in the incident light and reflecting light of another color, and the pixel includes a first display element and a second display element.

第1の表示素子は、反射された光の透過を制御する機能を備える。第2の表示素子は射出光を射出する機能を備え、第2の表示素子は第1の表示素子を用いた表示を視認できる範囲の一部において、当該第2の表示素子を用いた表示を視認できるように配設される。 The first display element has a function of controlling the transmission of the reflected light. The second display element has a function of emitting emitted light, and the second display element displays the display using the second display element in a part of the range in which the display using the first display element can be visually recognized. Arranged so that it can be visually recognized.

(2)また、本発明の一態様は、上記の画素が微小共振器構造を備える表示パネルである。 (2) Further, one aspect of the present invention is a display panel in which the above-mentioned pixels have a minute resonator structure.

微小共振器構造は入射光に含まれる一部の色の光を吸収し、他の色の光を反射する特性を備える。 The microcavity structure has the property of absorbing light of some colors contained in the incident light and reflecting light of other colors.

これにより、入射光に含まれる一部の色の光を吸収し、他の色の光を反射することができる。または、他の色の光を第1の表示素子を用いて制御することができる。または、他の色の光を用いて表示をすることができる。または、その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供することができる。 As a result, it is possible to absorb the light of a part of the color contained in the incident light and reflect the light of another color. Alternatively, light of another color can be controlled by using the first display element. Alternatively, the display can be performed using light of another color. Alternatively, as a result, it is possible to provide a new display panel having excellent convenience or reliability.

(3)また、本発明の一態様は、上記の第2の表示素子が微小共振器構造を備える上記の表示パネルである。 (3) Further, one aspect of the present invention is the display panel in which the second display element has a microcavity structure.

微小共振器構造は入射光に含まれる射出光と同じ色の光を吸収する特性を備える。 The microcavity structure has the property of absorbing light of the same color as the emitted light contained in the incident light.

これにより、第2の表示素子からの射出光を用いて表示をすることができる。または、入射光に含まれる射出光と同じ色の光を吸収し、他の色の光を反射することができる。または、他の色の光を第1の表示素子を用いて制御することができる。または、他の色の光を用いて表示をすることができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供することができる。 This makes it possible to display using the emitted light from the second display element. Alternatively, it can absorb light of the same color as the emitted light contained in the incident light and reflect light of another color. Alternatively, light of another color can be controlled by using the first display element. Alternatively, the display can be performed using light of another color. As a result, it is possible to provide a new display panel having excellent convenience or reliability.

(4)また、本発明の一態様は、第1の画素と、第2の画素と、を有する上記の表示パネルである。 (4) Further, one aspect of the present invention is the above-mentioned display panel having a first pixel and a second pixel.

上記の画素はシアン色の光を反射する特性および赤色の射出光を射出する機能を備える。また、第1の画素はマゼンタ色の光を反射する特性および緑色の射出光を射出する機能を備える。また、第2の画素はイエロー色の光を反射する特性および青色の射出光を射出する機能を備える。 The above pixels have a characteristic of reflecting cyan light and a function of emitting red emitted light. In addition, the first pixel has a characteristic of reflecting magenta light and a function of emitting green emission light. In addition, the second pixel has a characteristic of reflecting yellow light and a function of emitting blue emitted light.

これにより、シアン色、マゼンタ色およびイエロー色の反射光を用いてカラー画像を表示することができる。または、反射に伴う反射光の強度の減衰を抑制することができる。または、カラー画像を明るく表示することができる。または、赤色、緑色および青色の射出光を用いてカラー画像を表示することができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供することができる。 This makes it possible to display a color image using reflected light of cyan, magenta, and yellow. Alternatively, it is possible to suppress the attenuation of the intensity of the reflected light due to the reflection. Alternatively, the color image can be displayed brightly. Alternatively, a color image can be displayed using red, green, and blue emission light. As a result, it is possible to provide a new display panel having excellent convenience or reliability.

(5)また、本発明の一態様は、上記の画素が機能層を備える表示パネルである。 (5) Further, one aspect of the present invention is a display panel in which the above pixels are provided with a functional layer.

機能層は第1の表示素子と重なる領域を備え、機能層は第2の表示素子と重なる領域を備え、機能層は画素回路および透光性領域を含む。 The functional layer comprises a region overlapping the first display element, the functional layer comprises a region overlapping the second display element, and the functional layer includes a pixel circuit and a translucent region.

画素回路は第1の表示素子および第2の表示素子と電気的に接続され、画素回路は導電膜を備え、導電膜は透光性領域に可視光を透過する領域を備える。 The pixel circuit is electrically connected to the first display element and the second display element, the pixel circuit includes a conductive film, and the conductive film includes a region through which visible light is transmitted in a translucent region.

第2の表示素子は機能層に向けて光を射出する機能を備える。 The second display element has a function of emitting light toward the functional layer.

これにより、画素回路を表示素子に重ねて配置することができる。または、画素の開口率を高めることができる。または、画素のレイアウトの自由度を高めることができる。または、表示素子が表示する表示の明るさを保ちながら、発光素子に流す電流の密度を下げることができる。または、発光素子の信頼性を高めることができる。例えば、有機EL素子を発光素子に用いることができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供することができる。 This makes it possible to superimpose the pixel circuit on the display element. Alternatively, the aperture ratio of the pixels can be increased. Alternatively, the degree of freedom in pixel layout can be increased. Alternatively, the density of the current flowing through the light emitting element can be reduced while maintaining the brightness of the display displayed by the display element. Alternatively, the reliability of the light emitting element can be improved. For example, an organic EL element can be used as a light emitting element. As a result, it is possible to provide a new display panel having excellent convenience or reliability.

(6)また、本発明の一態様は、上記の画素が、第1の導電膜と、第2の導電膜と、絶縁膜と、を有する表示パネルである。 (6) Further, one aspect of the present invention is a display panel in which the above pixels have a first conductive film, a second conductive film, and an insulating film.

絶縁膜は第1の導電膜および第2の導電膜の間に挟まれる領域を備え、絶縁膜は開口部を備える。 The insulating film comprises a region sandwiched between the first conductive film and the second conductive film, and the insulating film comprises an opening.

第1の導電膜は第1の表示素子と電気的に接続される。 The first conductive film is electrically connected to the first display element.

第2の導電膜は第1の導電膜と重なる領域を備え、第2の導電膜は開口部において第1の導電膜と電気的に接続され、第2の導電膜は画素回路と電気的に接続される。 The second conductive film has a region overlapping the first conductive film, the second conductive film is electrically connected to the first conductive film at the opening, and the second conductive film is electrically connected to the pixel circuit. Be connected.

(7)また、本発明の一態様は、表示領域を有する上記の表示パネルである。 (7) Further, one aspect of the present invention is the above-mentioned display panel having a display area.

表示領域は、一群の複数の画素、他の一群の複数の画素、走査線および信号線を備える。 The display area comprises a group of pixels, another group of pixels, scanning lines and signal lines.

一群の複数の画素は画素を含み、一群の複数の画素は行方向に配設される。 The plurality of pixels in a group includes pixels, and the plurality of pixels in a group are arranged in the row direction.

他の一群の複数の画素は画素を含み、他の一群の複数の画素は、行方向と交差する列方向に配設される。 The plurality of pixels in the other group include pixels, and the plurality of pixels in the other group are arranged in the column direction intersecting the row direction.

走査線は一群の複数の画素と電気的に接続され、信号線は他の一群の複数の画素と電気的に接続される。 The scan line is electrically connected to a plurality of pixels in a group, and the signal line is electrically connected to a plurality of pixels in another group.

これにより、例えば同一の工程を用いて形成することができる画素回路を用いて、第1の表示素子と、第1の表示素子とは異なる方法を用いて表示をする第2の表示素子と、を駆動することができる。または、絶縁膜を用いて、第1の表示素子および第2の表示素子の間または第1の表示素子および画素回路の間における不純物の拡散を抑制することができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示装置を提供することができる。 Thereby, for example, a first display element and a second display element that displays using a method different from that of the first display element by using a pixel circuit that can be formed by using the same process. Can be driven. Alternatively, the insulating film can be used to suppress the diffusion of impurities between the first display element and the second display element or between the first display element and the pixel circuit. As a result, it is possible to provide a new display device having excellent convenience or reliability.

(8)また、本発明の一態様は、上記の表示パネルと、制御部と、を有する表示装置である。 (8) Further, one aspect of the present invention is a display device including the above-mentioned display panel and a control unit.

制御部は画像情報および制御情報を供給される機能を備え、制御部は画像情報に基づいて第1の情報または第2の情報を生成する機能を備える。また、制御部は第1の情報および第2の情報を供給する機能を備える。 The control unit has a function of supplying image information and control information, and the control unit has a function of generating first information or second information based on the image information. Further, the control unit has a function of supplying the first information and the second information.

表示パネルは第1の情報および第2の情報を供給される機能を備える。 The display panel has a function of being supplied with the first information and the second information.

第1の表示素子は第1の情報に基づいて表示する機能を備え、第2の表示素子は第2の情報に基づいて表示する機能を備える。 The first display element has a function of displaying based on the first information, and the second display element has a function of displaying based on the second information.

これにより、第1の表示素子を用いて画像情報を表示することができる。または、第2の表示素子を用いて画像情報を表示することができる。または、第1の表示素子を用いて表示される画像情報と重なるように、第2の表示素子を用いて画像情報を表示することができる。または、第1の表示素子を用いて表示される画像情報を第2の表示素子を用いて補うことができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示装置を提供することができる。 This makes it possible to display image information using the first display element. Alternatively, the image information can be displayed using the second display element. Alternatively, the image information can be displayed by using the second display element so as to overlap with the image information displayed by the first display element. Alternatively, the image information displayed by using the first display element can be supplemented by using the second display element. As a result, it is possible to provide a new display device having excellent convenience or reliability.

(9)また、本発明の一態様は、入力部と、表示部と、を有する入出力装置である。 (9) Further, one aspect of the present invention is an input / output device having an input unit and a display unit.

表示部は上記の表示パネルを備える。 The display unit includes the above display panel.

入力部は検知領域を備え、入力部は検知領域に近接するものを検知する機能を備える。 The input unit has a detection area, and the input unit has a function of detecting an object close to the detection area.

検知領域は画素と重なる領域を備える。 The detection area includes an area that overlaps with the pixel.

(10)また、本発明の一態様は、上記の検知領域は、制御線、検知信号線および検知素子を備える入出力装置である。 (10) Further, in one aspect of the present invention, the detection area is an input / output device including a control line, a detection signal line, and a detection element.

検知素子は制御線および検知信号線と電気的に接続される。 The detection element is electrically connected to the control line and the detection signal line.

制御線は制御信号を供給する機能を備え、検知信号線は検知信号を供給される機能を備える。 The control line has a function of supplying a control signal, and the detection signal line has a function of supplying a detection signal.

検知素子は制御信号および画素と重なる領域に近接するものとの距離に基づいて変化する検知信号を供給する機能を備える。検知素子は第1の電極と第2の電極とを備える。 The detection element has a function of supplying a control signal and a detection signal that changes based on a distance from an object close to the area overlapping the pixel. The detection element includes a first electrode and a second electrode.

第1の電極は画素と重なる領域に透光性を有する領域を備え、第1の電極は制御線と電気的に接続される。 The first electrode has a translucent region in the region overlapping the pixel, and the first electrode is electrically connected to the control line.

第2の電極は画素と重なる領域に透光性を有する領域を備え、第2の電極は検知信号線と電気的に接続され、第2の電極は画素と重なる領域に近接するものによって一部が遮られる電界を、第1の電極との間に形成するように配置される。 The second electrode has a translucent region in the region overlapping the pixel, the second electrode is electrically connected to the detection signal line, and the second electrode is partially connected to the region overlapping the pixel. Is arranged so as to form an electric field that is blocked by the first electrode.

これにより、表示部を用いて画像情報を表示しながら、表示部と重なる領域に近接するものを検知することができる。または、表示部に近接させる指などをポインタに用いて、位置情報を入力することができる。または、位置情報を表示部に表示する画像情報に関連付けることができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な入出力装置を提供することができる。 As a result, while displaying the image information using the display unit, it is possible to detect an object close to the area overlapping the display unit. Alternatively, the position information can be input by using a finger or the like close to the display unit as the pointer. Alternatively, the position information can be associated with the image information displayed on the display unit. As a result, it is possible to provide a new input / output device having excellent convenience or reliability.

(11)また、本発明の一態様は、キーボード、ハードウェアボタン、ポインティングデバイス、タッチセンサ、照度センサ、撮像装置、音声入力装置、視点入力装置、姿勢検出装置、のうち一以上と、上記の表示パネルと、を含む、情報処理装置である。 (11) Further, one aspect of the present invention includes one or more of a keyboard, a hardware button, a pointing device, a touch sensor, an illuminance sensor, an image pickup device, a voice input device, a viewpoint input device, and an attitude detection device. An information processing device, including a display panel.

これにより、さまざまな入力装置を用いて供給する情報に基づいて、画像情報または制御情報を演算装置に生成させることができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な情報処理装置を提供することができる。 This makes it possible for the arithmetic unit to generate image information or control information based on the information supplied by various input devices. As a result, it is possible to provide a new information processing apparatus having excellent convenience or reliability.

本明細書に添付した図面では、構成要素を機能ごとに分類し、互いに独立したブロックとしてブロック図を示しているが、実際の構成要素は機能ごとに完全に切り分けることが難しく、一つの構成要素が複数の機能に係わることもあり得る。 In the drawings attached to this specification, the components are classified by function and the block diagram is shown as blocks independent of each other. However, it is difficult to completely separate the actual components by function, and one component is used. Can be involved in multiple functions.

本明細書においてトランジスタが有するソースとドレインは、トランジスタの極性及び各端子に与えられる電位の高低によって、その呼び方が入れ替わる。一般的に、nチャネル型トランジスタでは、低い電位が与えられる端子がソースと呼ばれ、高い電位が与えられる端子がドレインと呼ばれる。また、pチャネル型トランジスタでは、低い電位が与えられる端子がドレインと呼ばれ、高い電位が与えられる端子がソースと呼ばれる。本明細書では、便宜上、ソースとドレインとが固定されているものと仮定して、トランジスタの接続関係を説明する場合があるが、実際には上記電位の関係に従ってソースとドレインの呼び方が入れ替わる。 In the present specification, the sources and drains of a transistor are referred to differently depending on the polarity of the transistor and the potential applied to each terminal. Generally, in an n-channel transistor, a terminal to which a low potential is given is called a source, and a terminal to which a high potential is given is called a drain. Further, in the p-channel transistor, the terminal to which a low potential is given is called a drain, and the terminal to which a high potential is given is called a source. In this specification, for convenience, the connection relationship between transistors may be described on the assumption that the source and drain are fixed, but in reality, the names of source and drain are interchanged according to the above potential relationship. ..

本明細書においてトランジスタのソースとは、活性層として機能する半導体膜の一部であるソース領域、或いは上記半導体膜に接続されたソース電極を意味する。同様に、トランジスタのドレインとは、上記半導体膜の一部であるドレイン領域、或いは上記半導体膜に接続されたドレイン電極を意味する。また、ゲートはゲート電極を意味する。 As used herein, the source of a transistor means a source region that is a part of a semiconductor film that functions as an active layer, or a source electrode connected to the semiconductor film. Similarly, the drain of a transistor means a drain region that is a part of the semiconductor film, or a drain electrode connected to the semiconductor film. Further, the gate means a gate electrode.

本明細書においてトランジスタが直列に接続されている状態とは、例えば、第1のトランジスタのソースまたはドレインの一方のみが、第2のトランジスタのソースまたはドレインの一方のみに接続されている状態を意味する。また、トランジスタが並列に接続されている状態とは、第1のトランジスタのソースまたはドレインの一方が第2のトランジスタのソースまたはドレインの一方に接続され、第1のトランジスタのソースまたはドレインの他方が第2のトランジスタのソースまたはドレインの他方に接続されている状態を意味する。 As used herein, the state in which the transistors are connected in series means, for example, a state in which only one of the source or drain of the first transistor is connected to only one of the source or drain of the second transistor. do. Further, in the state where the transistors are connected in parallel, one of the source or drain of the first transistor is connected to one of the source or drain of the second transistor, and the other of the source or drain of the first transistor is connected. It means the state of being connected to the other of the source or drain of the second transistor.

本明細書において接続とは、電気的な接続を意味しており、電流、電圧または電位が、供給可能、或いは伝送可能な状態に相当する。従って、接続している状態とは、直接接続している状態を必ずしも指すわけではなく、電流、電圧または電位が、供給可能、或いは伝送可能であるように、配線、抵抗、ダイオード、トランジスタなどの回路素子を介して間接的に接続している状態も、その範疇に含む。 As used herein, the term "connection" means an electrical connection, and corresponds to a state in which a current, a voltage, or a potential can be supplied or transmitted. Therefore, the connected state does not necessarily mean the directly connected state, and the wiring, resistance, diode, transistor, etc. so that the current, voltage, or potential can be supplied or transmitted. The state of being indirectly connected via a circuit element is also included in the category.

本明細書において回路図上は独立している構成要素どうしが接続されている場合であっても、実際には、例えば配線の一部が電極として機能する場合など、一の導電膜が、複数の構成要素の機能を併せ持っている場合もある。本明細書において接続とは、このような、一の導電膜が、複数の構成要素の機能を併せ持っている場合も、その範疇に含める。 In the present specification, even when independent components on the circuit diagram are connected to each other, in reality, one conductive film may be plural, for example, when a part of the wiring functions as an electrode. In some cases, it also has the functions of the components of. As used herein, the term "connection" includes the case where one conductive film has the functions of a plurality of components in combination.

また、本明細書中において、トランジスタの第1の電極または第2の電極の一方がソース電極を、他方がドレイン電極を指す。 Further, in the present specification, one of the first electrode or the second electrode of the transistor refers to a source electrode, and the other refers to a drain electrode.

本発明の一態様によれば、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供することができる。または、利便性または信頼性に優れた新規な表示装置を提供することができる。または、利便性または信頼性に優れた新規な入出力装置を提供することができる。または、利便性または信頼性に優れた新規な情報処理装置を提供することができる。または、新規な表示パネル、新規な表示装置、新規な入出力装置、新規な情報処理装置または新規な半導体装置を提供することができる。 According to one aspect of the present invention, it is possible to provide a novel display panel having excellent convenience or reliability. Alternatively, it is possible to provide a new display device having excellent convenience or reliability. Alternatively, it is possible to provide a new input / output device having excellent convenience or reliability. Alternatively, it is possible to provide a new information processing apparatus having excellent convenience or reliability. Alternatively, a new display panel, a new display device, a new input / output device, a new information processing device, or a new semiconductor device can be provided.

なお、これらの効果の記載は、他の効果の存在を妨げるものではない。なお、本発明の一態様は、必ずしも、これらの効果の全てを有する必要はない。なお、これら以外の効果は、明細書、図面、請求項などの記載から、自ずと明らかとなるものであり、明細書、図面、請求項などの記載から、これら以外の効果を抽出することが可能である。 The description of these effects does not preclude the existence of other effects. It should be noted that one aspect of the present invention does not necessarily have to have all of these effects. It should be noted that the effects other than these are self-evident from the description of the description, drawings, claims, etc., and it is possible to extract the effects other than these from the description of the description, drawings, claims, etc. Is.

実施の形態に係る表示パネルの画素の構成を説明する模式図および断面図。The schematic diagram and the sectional view explaining the composition of the pixel of the display panel which concerns on embodiment. 実施の形態に係る表示パネルの画素の構成を説明する上面図および断面図。A top view and a cross-sectional view illustrating the configuration of pixels of the display panel according to the embodiment. 実施の形態に係る表示パネルの構成を説明する上面図および断面図。Top view and sectional view explaining the structure of the display panel which concerns on embodiment. 実施の形態に係る表示パネルの構成を説明する断面図。The cross-sectional view explaining the structure of the display panel which concerns on embodiment. 実施の形態に係る表示パネルの構成を説明する断面図。The cross-sectional view explaining the structure of the display panel which concerns on embodiment. 実施の形態に係る表示パネルの画素の構成を説明する上面図。The top view explaining the composition of the pixel of the display panel which concerns on embodiment. 実施の形態に係る表示パネルの画素回路を説明する回路図。The circuit diagram explaining the pixel circuit of the display panel which concerns on embodiment. 実施の形態に係る表示パネルの画素と副画素を説明する上面図。The top view explaining the pixel and the sub-pixel of the display panel which concerns on embodiment. 実施の形態に係る表示パネルを用いた表示装置の構成を説明するブロック図。The block diagram explaining the structure of the display device using the display panel which concerns on embodiment. 実施の形態に係る表示パネルの構成を説明するブロック図。The block diagram explaining the structure of the display panel which concerns on embodiment. 実施の形態に係る入出力装置の構成を説明するブロック図。The block diagram explaining the structure of the input / output apparatus which concerns on embodiment. 実施の形態に係る入出力装置の構成を説明する上面図。The top view explaining the structure of the input / output apparatus which concerns on embodiment. 実施の形態に係る入出力装置の構成を説明する断面図。The cross-sectional view explaining the structure of the input / output apparatus which concerns on embodiment. 実施の形態に係る入出力装置の構成を説明する断面図。The cross-sectional view explaining the structure of the input / output apparatus which concerns on embodiment. 実施の形態に係る入出力装置の構成を説明する断面図。The cross-sectional view explaining the structure of the input / output apparatus which concerns on embodiment. 実施の形態に係る情報処理装置の構成を説明するブロック図および投影図。A block diagram and a projection drawing illustrating the configuration of the information processing apparatus according to the embodiment. 実施の形態に係る情報処理装置の駆動方法を説明するフロー図。The flow diagram explaining the driving method of the information processing apparatus which concerns on embodiment. 実施の形態に係る情報処理装置の駆動方法を説明するフロー図。The flow diagram explaining the driving method of the information processing apparatus which concerns on embodiment. 実施の形態に係る情報処理装置の構成を説明する図。The figure explaining the structure of the information processing apparatus which concerns on embodiment. 実施の形態に係る情報処理装置の構成を説明する図。The figure explaining the structure of the information processing apparatus which concerns on embodiment.

本発明の一態様の表示パネルは、画素を有し、画素は入射光に含まれる一部の色の光を吸収し、他の色の光を反射する機能を備え、画素は第1の表示素子および第2の表示素子を備える。第1の表示素子は、反射された光の透過を制御する機能を備える。また、第2の表示素子は射出光を射出する機能を備え、第2の表示素子は第1の表示素子を用いた表示を視認できる範囲の一部において、当該第2の表示素子を用いた表示を視認できるように配設される。 The display panel of one aspect of the present invention has pixels, the pixels have a function of absorbing light of a part of the color contained in the incident light and reflecting light of another color, and the pixel is a first display. It includes an element and a second display element. The first display element has a function of controlling the transmission of the reflected light. Further, the second display element has a function of emitting emitted light, and the second display element uses the second display element in a part of the range in which the display using the first display element can be visually recognized. Arranged so that the display can be visually recognized.

これにより、入射光に含まれる一部の色の光を吸収し、他の色の光を反射することができる。または、他の色の光を第1の表示素子を用いて制御することができる。または、他の色の光を用いて表示をすることができる。または、その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供することができる。 As a result, it is possible to absorb the light of a part of the color contained in the incident light and reflect the light of another color. Alternatively, light of another color can be controlled by using the first display element. Alternatively, the display can be performed using light of another color. Alternatively, as a result, it is possible to provide a new display panel having excellent convenience or reliability.

実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。但し、本発明は以下の説明に限定されず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は以下に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、以下に説明する発明の構成において、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を異なる図面間で共通して用い、その繰り返しの説明は省略する。 The embodiments will be described in detail with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following description, and it is easily understood by those skilled in the art that the form and details of the present invention can be variously changed without departing from the spirit and scope of the present invention. Therefore, the present invention is not construed as being limited to the description of the embodiments shown below. In the configuration of the invention described below, the same reference numerals are commonly used between different drawings for the same parts or parts having similar functions, and the repeated description thereof will be omitted.

(実施の形態1)
本実施の形態では、本発明の一態様の表示パネルの構成について、図1を参照しながら説明する。
(Embodiment 1)
In the present embodiment, the configuration of the display panel according to one aspect of the present invention will be described with reference to FIG.

図1は本発明の一態様の表示パネルの構成を説明する図である。図1(A)は本発明の一態様の表示パネルの画素の分解立体図であり、図1(B)は図1(A)の切断線Y1-Y2における断面図である。 FIG. 1 is a diagram illustrating a configuration of a display panel according to an aspect of the present invention. 1 (A) is an exploded view of the pixels of the display panel of one aspect of the present invention, and FIG. 1 (B) is a cross-sectional view taken along the cutting line Y1-Y2 of FIG. 1 (A).

図2は本発明の一態様の表示パネルの構成を説明する図である。図2(A)は本発明の一態様の表示パネルの画素の上面図であり、図1(B)は図2(A)の切断線Y3-Y4における断面図である。 FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration of a display panel according to an aspect of the present invention. 2 (A) is a top view of the pixels of the display panel of one aspect of the present invention, and FIG. 1 (B) is a cross-sectional view taken along the cutting line Y3-Y4 of FIG. 2 (A).

図3は本発明の一態様の表示パネルの構成を説明する図である。図3(A)は表示パネルの上面図であり、図3(B)は図3(A)に示す表示パネルの画素の一部を説明する上面図である。図3(C)は図3(A)に示す表示パネルの断面の構成を説明する模式図である。 FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration of a display panel according to an aspect of the present invention. 3A is a top view of the display panel, and FIG. 3B is a top view illustrating a part of the pixels of the display panel shown in FIG. 3A. FIG. 3C is a schematic diagram illustrating a configuration of a cross section of the display panel shown in FIG. 3A.

図4および図5は表示パネルの構成を説明する断面図である。図4(A)は図3(A)の切断線X1-X2、切断線X3-X4、図6の切断線X5-X6、切断線X7-X8における断面図であり、図4(B)および図4(C)はいずれも図4(A)の一部を説明する図である。 4 and 5 are cross-sectional views illustrating the configuration of the display panel. 4 (A) is a cross-sectional view taken along the cutting line X1-X2, the cutting line X3-X4, the cutting line X5-X6, and the cutting line X7-X8 of FIG. FIG. 4C is a diagram illustrating a part of FIG. 4A.

図5(A)は図6の切断線X9-X10、図3(A)の切断線X11-X12における断面図であり、図5(B)は図5(A)の一部を説明する図である。 5 (A) is a cross-sectional view taken along the cutting lines X9-X10 of FIG. 6 and the cutting lines X11-X12 of FIG. 3 (A), and FIG. 5 (B) is a diagram illustrating a part of FIG. 5 (A). Is.

図6は図3(A)に示す表示パネルの画素の一部を説明する上面図である。 FIG. 6 is a top view illustrating a part of the pixels of the display panel shown in FIG. 3 (A).

図7は本発明の一態様の表示パネルが備える画素回路の構成を説明する回路図である。 FIG. 7 is a circuit diagram illustrating a configuration of a pixel circuit included in the display panel of one aspect of the present invention.

なお、本明細書において、1以上の整数を値にとる変数を符号に用いる場合がある。例えば、1以上の整数の値をとる変数pを含む(p)を、最大p個の構成要素のいずれかを特定する符号の一部に用いる場合がある。また、例えば、1以上の整数の値をとる変数mおよび変数nを含む(m,n)を、最大m×n個の構成要素のいずれかを特定する符号の一部に用いる場合がある。 In the present specification, a variable having an integer of 1 or more as a value may be used as a code. For example, (p) containing a variable p having a value of one or more integers may be used as a part of a code for specifying any of the maximum p components. Further, for example, a variable m having a value of one or more integers and a variable (m, n) including the variable n may be used as a part of a code for specifying any of a maximum of m × n components.

<表示パネルの構成例1.>
本実施の形態で説明する表示パネル700は、画素702(i,j)を有する(図3(A)または図9(A)参照)。
<Display panel configuration example 1. >
The display panel 700 described in this embodiment has pixels 702 (i, j) (see FIG. 3A or FIG. 9A).

《画素の構成例1.》
画素702(i,j)は、入射光に含まれる一部の色の光L1を吸収し、他の色の光を反射する機能を備える(図1(A)参照)。例えば、光L1、光L2および光L3を含む入射光から、光L1を吸収し、光L2および光L3を反射する。
<< Pixel configuration example 1. 》
Pixels 702 (i, j) have a function of absorbing light L1 of a part of colors contained in incident light and reflecting light of another color (see FIG. 1A). For example, it absorbs light L1 from incident light including light L1, light L2, and light L3, and reflects light L2 and light L3.

画素702(i,j)は、第1の表示素子750(i,j)および第2の表示素子550(i,j)を備える。 Pixels 702 (i, j) include a first display element 750 (i, j) and a second display element 550 (i, j).

第1の表示素子750(i,j)は、反射された光の透過を制御する機能を備える。例えば、液晶素子を第1の表示素子750(i,j)に用いることができる。具体的には、第1の表示素子750(i,j)を反射型の液晶素子に用いることができる。 The first display element 750 (i, j) has a function of controlling the transmission of the reflected light. For example, a liquid crystal element can be used for the first display element 750 (i, j). Specifically, the first display element 750 (i, j) can be used as a reflective liquid crystal element.

第2の表示素子550(i,j)は、射出光を射出する機能を備える。例えば、有機EL素子を550(i,j)に用いることができる。 The second display element 550 (i, j) has a function of emitting emitted light. For example, an organic EL element can be used for 550 (i, j).

第2の表示素子550(i,j)は、第1の表示素子750(i,j)を用いた表示を視認できる範囲の一部において、第2の表示素子550(i,j)を用いた表示を視認できるように配設される。 The second display element 550 (i, j) uses the second display element 550 (i, j) in a part of the range in which the display using the first display element 750 (i, j) can be visually recognized. It is arranged so that the displayed display can be visually recognized.

《画素の構成例2.》
また、画素702(i,j)は、微小共振器構造を備える(図1(B)参照)。例えば、半透過・半反射膜、反射膜および透光性を有する膜を微小共振器構造に用いることができる。具体的には、所定の厚さの透光性を有する膜を半透過・半反射膜および反射膜の間に挟む積層構造を微小共振器構造に用いることができる。なお、半透過・半反射膜は、可視光の一部を透過する機能および他の一部を反射する機能を備える。具体的には、光が透過する程度に薄い金属膜を半透過・半反射膜に用いることができる。
<< Pixel configuration example 2. 》
Further, the pixel 702 (i, j) has a microcavity structure (see FIG. 1 (B)). For example, a semi-transmissive / semi-reflective film, a reflective film, and a translucent film can be used for the microcavity structure. Specifically, a laminated structure in which a translucent film having a predetermined thickness is sandwiched between a semi-transmissive / semi-reflective film and a reflective film can be used for a microcavity structure. The semi-transmissive / semi-reflective film has a function of transmitting a part of visible light and a function of reflecting another part. Specifically, a metal film thin enough to transmit light can be used for the semi-transmissive / semi-reflective film.

微小共振器構造は、入射光に含まれる一部の色の光を吸収し、他の色の光を反射する特性を備える。例えば、光L1、光L2および光L3を含む入射光から、光L1を吸収し(図1(B)の左側参照)、光L2および光L3を反射する(図1(B)の中央参照)。 The microcavity structure has the property of absorbing light of some colors contained in the incident light and reflecting light of other colors. For example, it absorbs light L1 from incident light including light L1, light L2, and light L3 (see the left side of FIG. 1B) and reflects light L2 and light L3 (see the center of FIG. 1B). ..

微小共振器構造に進入してから反射膜に反射される光L1の位相は、半透過・半反射膜に反射される光L1の位相より遅れる(図1(B)の左側参照)。例えば、反射膜に反射された光L1の位相は、半透過・半反射膜に反射される光L1の位相より180°遅れる。これにより、半透過・半反射膜に反射される光L1を打ち消すことができる。 The phase of the light L1 reflected by the reflective film after entering the microcavity structure is delayed from the phase of the light L1 reflected by the semi-transmissive / semi-reflective film (see the left side of FIG. 1 (B)). For example, the phase of the light L1 reflected by the reflective film is 180 ° behind the phase of the light L1 reflected by the semi-transmissive / semi-reflective film. This makes it possible to cancel the light L1 reflected by the semi-transmissive / semi-reflective film.

また、光L1を吸収する微小共振器構造は、光L1の波長とは異なる波長の光L2または光L3を反射する。具体的には、半透過・半反射膜に反射される光を打ち消すような位相の遅れが生じない光を反射する。 Further, the microcavity structure that absorbs the light L1 reflects the light L2 or the light L3 having a wavelength different from the wavelength of the light L1. Specifically, it reflects light that does not have a phase delay that cancels out the light reflected by the semi-transmissive / semi-reflective film.

これにより、入射光に含まれる一部の色の光を吸収し、他の色の光を反射することができる。または、他の色の光を第1の表示素子を用いて制御することができる。または、他の色の光を用いて表示をすることができる。または、その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供することができる。 As a result, it is possible to absorb the light of a part of the color contained in the incident light and reflect the light of another color. Alternatively, light of another color can be controlled by using the first display element. Alternatively, the display can be performed using light of another color. Alternatively, as a result, it is possible to provide a new display panel having excellent convenience or reliability.

《第2の表示素子の構成例1.》
第2の表示素子550(i,j)は、微小共振器構造を備える。例えば、発光性の材料を含む層553を透光性を有する膜に用い、電極551(i,j)を半透過・半反射膜に用い、電極552を反射膜に用いることができる。
<< Configuration example of the second display element 1. 》
The second display element 550 (i, j) has a microcavity structure. For example, a layer 553 containing a luminescent material can be used as a translucent film, an electrode 551 (i, j) can be used as a semi-transmissive / semi-reflective film, and an electrode 552 can be used as a reflective film.

なお、半透過・半反射性の導電膜551Aと、透光性を備える導電膜551B(i,j)とを、電極551(i,j)に用いることができる(図1(B)参照)。また、透光性を備える導電膜551B(i,j)は、半透過・半反射性の導電膜551Aおよび発光性の材料を含む層553の間に挟まれる領域を備える。この場合において、発光性の材料を含む層553および透光性を備える導電膜551B(i,j)の積層膜を透光性を有する膜とみなすことができる。 A semi-transmissive / semi-reflective conductive film 551A and a translucent conductive film 551B (i, j) can be used for the electrode 551 (i, j) (see FIG. 1 (B)). .. Further, the translucent conductive film 551B (i, j) includes a region sandwiched between the semi-transmissive / semi-reflective conductive film 551A and the layer 553 containing a luminescent material. In this case, the laminated film of the layer 553 containing the luminescent material and the conductive film 551B (i, j) having translucency can be regarded as the film having translucency.

微小共振器構造を備える第2の表示素子550(i,j)は光L1を射出する(図1(B)の右側参照)。具体的には、微小共振器構造は、透光性を有する膜の光学距離dに基づいて所定の波長の光L1を増幅し、他の波長の光を減衰する。 The second display element 550 (i, j) having a microcavity structure emits light L1 (see the right side of FIG. 1B). Specifically, the microcavity structure amplifies the light L1 having a predetermined wavelength based on the optical distance d of the translucent film, and attenuates the light having another wavelength.

微小共振器構造は、入射光に含まれる射出光と同じ色の光を吸収する特性を備える。例えば、第2の表示素子550(i,j)が光L1を射出する場合、微小共振器構造は、光L1、光L2および光L3を含む入射光から、光L1を吸収する(図1(B)の左側参照)、また、光L2および光L3を反射する(図1(B)の中央参照)。 The microcavity structure has a property of absorbing light of the same color as the emitted light contained in the incident light. For example, when the second display element 550 (i, j) emits light L1, the microresonator structure absorbs light L1 from incident light including light L1, light L2, and light L3 (FIG. 1 (FIG. 1). B) left side) and also reflects light L2 and light L3 (see center of FIG. 1B).

これにより、第2の表示素子からの射出光を用いて表示をすることができる。または、入射光に含まれる射出光と同じ色の光を吸収し、他の色の光を反射することができる。または、他の色の光を第1の表示素子を用いて制御することができる。または、他の色の光を用いて表示をすることができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供することができる。 This makes it possible to display using the emitted light from the second display element. Alternatively, it can absorb light of the same color as the emitted light contained in the incident light and reflect light of another color. Alternatively, light of another color can be controlled by using the first display element. Alternatively, the display can be performed using light of another color. As a result, it is possible to provide a new display panel having excellent convenience or reliability.

<表示パネルの構成例2.>
表示パネル700は、画素702(i,j)と、画素702(i,j+1)と、画素702(i,j+2)と、を有する(図2(A)参照)。
<Display panel configuration example 2. >
The display panel 700 has pixels 702 (i, j), pixels 702 (i, j + 1), and pixels 702 (i, j + 2) (see FIG. 2A).

画素702(i,j)はシアン色の光を反射する特性および赤色の射出光を射出する機能を備える(図2(B)参照)。例えば、赤色、緑色および青色の光を含む白色の光から赤色の光を吸収し、緑色および青色の光を反射する。これにより、シアン色の反射光を得ることができる。 Pixels 702 (i, j) have a characteristic of reflecting cyan light and a function of emitting red emission light (see FIG. 2B). For example, it absorbs red light from white light, including red, green and blue light, and reflects green and blue light. This makes it possible to obtain cyan reflected light.

または、画素702(i,j+1)はマゼンタ色の光を反射する特性および緑色の射出光を射出する機能を備える。例えば、赤色、緑色および青色の光を含む白色の光から緑色の光を吸収し、赤色および青色の光を反射する。これにより、マゼンタ色の反射光を得ることができる。 Alternatively, the pixel 702 (i, j + 1) has a characteristic of reflecting magenta light and a function of emitting green emission light. For example, it absorbs green light from white light, including red, green and blue light, and reflects red and blue light. This makes it possible to obtain magenta reflected light.

または、画素702(i,j+2)はイエロー色の光を反射する特性および青色の射出光を射出する機能を備える。例えば、赤色、緑色および青色の光を含む白色の光から青色の光を吸収し、赤色および緑色の光を反射する。これにより、イエロー色の反射光を得ることができる。 Alternatively, the pixel 702 (i, j + 2) has a characteristic of reflecting yellow light and a function of emitting blue emitted light. For example, it absorbs blue light from white light, including red, green and blue light, and reflects red and green light. Thereby, the reflected light of yellow color can be obtained.

これにより、シアン色、マゼンタ色およびイエロー色の反射光を用いてカラー画像を表示することができる。または、反射に伴う反射光の強度の減衰を抑制することができる。または、カラー画像を明るく表示することができる。または、赤色、緑色および青色の射出光を用いてカラー画像を表示することができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供することができる。 This makes it possible to display a color image using reflected light of cyan, magenta, and yellow. Alternatively, it is possible to suppress the attenuation of the intensity of the reflected light due to the reflection. Alternatively, the color image can be displayed brightly. Alternatively, a color image can be displayed using red, green, and blue emission light. As a result, it is possible to provide a new display panel having excellent convenience or reliability.

《透光性を有する膜の構成例》
例えば、白色の光を発するように積層された積層材料を発光性の材料を含む層553に用いることができる。また、共通の発光性の材料を含む層553を、表示素子550(i,j)、表示素子550(i,j+1)および表示素子550(i,j+2)に用いることができる(図2(B)参照)。
<< Configuration example of a translucent film >>
For example, a laminated material laminated so as to emit white light can be used for the layer 553 containing a luminescent material. Further, the layer 553 containing a common luminescent material can be used for the display element 550 (i, j), the display element 550 (i, j + 1), and the display element 550 (i, j + 2) (FIG. 2 (B). )reference).

具体的には、赤色の光R増幅されるように光学距離d0が調整された透光性を有する膜を用いることができる(図2(B)の左側参照)。例えば、透光性を備える導電膜551B(i,j)の厚さを用いて、光学距離d0を調整することができる。これにより、副画素702(i,j)の第1の表示素子750(i,j)を用いてシアン色の表示をし、副画素702(i,j)の第2の表示素子550(i,j)を用いて赤色の表示をすることができる。 Specifically, a film having a translucent property whose optical distance d0 is adjusted so as to amplify the red light R can be used (see the left side of FIG. 2B). For example, the optical distance d0 can be adjusted by using the thickness of the conductive film 551B (i, j) having translucency. As a result, the cyan color is displayed using the first display element 750 (i, j) of the sub-pixel 702 (i, j), and the second display element 550 (i) of the sub-pixel 702 (i, j) is displayed. , J) can be used to display red.

具体的には、緑色の光Gが増幅されるように光学距離d1が調整された透光性を有する膜を用いることができる(図2(B)の中央参照)。例えば、透光性を備える導電膜551B(i,j+1)の厚さを用いて、光学距離d1を調整することができる。これにより、副画素702(i,j+1)の第1の表示素子750(i,j+1)を用いてマゼンタ色の表示をし、副画素702(i,j+1)の第2の表示素子550(i,j+1)を用いて緑色の表示をすることができる。 Specifically, a film having a translucent property whose optical distance d1 is adjusted so that the green light G is amplified can be used (see the center of FIG. 2B). For example, the optical distance d1 can be adjusted by using the thickness of the conductive film 551B (i, j + 1) having translucency. As a result, the magenta color is displayed using the first display element 750 (i, j + 1) of the sub-pixel 702 (i, j + 1), and the second display element 550 (i, j + 1) of the sub-pixel 702 (i, j + 1) is displayed. , J + 1) can be used to display green.

具体的には、青色の光Bが増幅されるように光学距離d2が調整された透光性を有する膜を用いることができる(図2(B)の右側参照)。例えば、透光性を備える導電膜551B(i,j+2)の厚さを用いて、光学距離d2を調整することができる。これにより、副画素702(i,j+2)の第1の表示素子750(i,j+2)を用いてイエロー色の表示をし、副画素702(i,j+2)の第2の表示素子550(i,j+2)を用いて青色の表示をすることができる。 Specifically, a film having a translucent property in which the optical distance d2 is adjusted so that the blue light B is amplified can be used (see the right side of FIG. 2B). For example, the optical distance d2 can be adjusted by using the thickness of the conductive film 551B (i, j + 2) having translucency. As a result, the first display element 750 (i, j + 2) of the sub-pixel 702 (i, j + 2) is used to display a yellow color, and the second display element 550 (i, j + 2) of the sub-pixel 702 (i, j + 2) is displayed. , J + 2) can be used to display blue.

《画素の構成例3.》
画素702(i,j)は、機能層520を備える(図3(C)参照)。
<< Pixel configuration example 3. 》
Pixels 702 (i, j) include a functional layer 520 (see FIG. 3C).

《機能層の構成例1.》
機能層520は第1の表示素子750(i,j)と重なる領域を備え、機能層520は第2の表示素子550(i,j)と重なる領域を備える。また、機能層520は画素回路530(i,j)および透光性領域520Tを含む。
<< Configuration example of functional layer 1. 》
The functional layer 520 includes a region that overlaps with the first display element 750 (i, j), and the functional layer 520 includes a region that overlaps with the second display element 550 (i, j). Further, the functional layer 520 includes a pixel circuit 530 (i, j) and a translucent region 520T.

画素回路530(i,j)は、第1の表示素子750(i,j)および第2の表示素子550(i,j)と電気的に接続され、画素回路530(i,j)は導電膜を備える。当該導電膜は、透光性領域520Tに可視光を透過する領域を備える。例えば、可視光を透過する導電膜を導電膜512A、導電膜512Bおよび導電膜504に用いることができる(図4(A)および図4(B)参照)。 The pixel circuit 530 (i, j) is electrically connected to the first display element 750 (i, j) and the second display element 550 (i, j), and the pixel circuit 530 (i, j) is conductive. It has a membrane. The conductive film includes a region through which visible light is transmitted in the translucent region 520T. For example, a conductive film that transmits visible light can be used for the conductive film 512A, the conductive film 512B, and the conductive film 504 (see FIGS. 4A and 4B).

第2の表示素子550(i,j)は、機能層520に向けて光を射出する機能を備える。 The second display element 550 (i, j) has a function of emitting light toward the functional layer 520.

これにより、画素回路を表示素子に重ねて配置することができる。または、画素の開口率を高めることができる。または、画素のレイアウトの自由度を高めることができる。または、表示素子が表示する表示の明るさを保ちながら、発光素子に流す電流の密度を下げることができる。または、発光素子の信頼性を高めることができる。例えば、有機EL素子を発光素子に用いることができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供することができる。 This makes it possible to superimpose the pixel circuit on the display element. Alternatively, the aperture ratio of the pixels can be increased. Alternatively, the degree of freedom in pixel layout can be increased. Alternatively, the density of the current flowing through the light emitting element can be reduced while maintaining the brightness of the display displayed by the display element. Alternatively, the reliability of the light emitting element can be improved. For example, an organic EL element can be used as a light emitting element. As a result, it is possible to provide a new display panel having excellent convenience or reliability.

《透光性領域520Tの構成例》
透光性領域520Tは、赤色、緑色または青色のいずれかの色の光に対し60%以上、好ましくは65%以上、より好ましくは70%以上の透過率を備える。
<< Configuration example of translucent region 520T >>
The translucent region 520T has a transmittance of 60% or more, preferably 65% or more, and more preferably 70% or more with respect to light of any color of red, green, or blue.

《画素の構成例4.》
画素702(i,j)は、機能層520の一部と、第1の表示素子750(i,j)と、第2の表示素子550(i,j)と、を有する(図3(C)参照)。
<< Pixel configuration example 4. 》
Pixel 702 (i, j) has a part of the functional layer 520, a first display element 750 (i, j), and a second display element 550 (i, j) (FIG. 3 (C). )reference).

《機能層の構成例4.》
機能層520は、第1の導電膜、第2の導電膜、絶縁膜501Cおよび画素回路530(i,j)を含む(図4(A)参照)。なお、画素回路530(i,j)は、例えばトランジスタMを含む。
<< Configuration example of functional layer 4. 》
The functional layer 520 includes a first conductive film, a second conductive film, an insulating film 501C, and a pixel circuit 530 (i, j) (see FIG. 4A). The pixel circuit 530 (i, j) includes, for example, a transistor M.

機能層520は、第1の表示素子750(i,j)および第2の表示素子550(i,j)の間に挟まれる領域を備える(図3(C)参照)。当該領域は厚さD12を備え、厚さD12は30μm未満、好ましくは10μm未満、さらに好ましくは5μm未満である。 The functional layer 520 includes a region sandwiched between the first display element 750 (i, j) and the second display element 550 (i, j) (see FIG. 3C). The region comprises a thickness D12, which is less than 30 μm, preferably less than 10 μm, more preferably less than 5 μm.

これにより、第2の表示素子550(i,j)を第1の表示素子750(i,j)に近づけて配置することができる。または、第1の表示素子750(i,j)を用いる表示と第2の表示素子550(i,j)を用いる表示との間に生じる視差を少なくすることができる。または、例えば、画素702(i,j)に隣接する画素702(i,j+1)の表示に由来する、第2の表示素子550(i,j)の表示の乱れを少なくすることができる。または、例えば、画素702(i,j)に隣接する画素702(i,j+1)を用いて表示する色が、第2の表示素子550(i,j)を用いて表示する色に、意図せず混ざる現象を起こりにくくすることができる。または、第2の表示素子550(i,j)が射出する光の減衰を抑制することができる。または、表示パネルの重量を軽くすることができる。または、表示パネルの厚さを薄くすることができる。または、表示パネルを曲げやすくすることができる。 As a result, the second display element 550 (i, j) can be arranged close to the first display element 750 (i, j). Alternatively, the parallax generated between the display using the first display element 750 (i, j) and the display using the second display element 550 (i, j) can be reduced. Alternatively, for example, it is possible to reduce the disturbance of the display of the second display element 550 (i, j) resulting from the display of the pixel 702 (i, j + 1) adjacent to the pixel 702 (i, j). Alternatively, for example, the color displayed by using the pixel 702 (i, j + 1) adjacent to the pixel 702 (i, j) is intended to be the color displayed by using the second display element 550 (i, j). It is possible to make it difficult for the phenomenon of mixing to occur. Alternatively, it is possible to suppress the attenuation of the light emitted by the second display element 550 (i, j). Alternatively, the weight of the display panel can be reduced. Alternatively, the thickness of the display panel can be reduced. Alternatively, the display panel can be easily bent.

また、機能層520は、絶縁膜521、絶縁膜528、絶縁膜518、絶縁膜516または絶縁膜506等を含む(図4(A)および図4(B)参照)。 Further, the functional layer 520 includes an insulating film 521, an insulating film 528, an insulating film 518, an insulating film 516, an insulating film 506, and the like (see FIGS. 4A and 4B).

《画素回路の構成例1.》
画素回路530(i,j)は、第1の表示素子750(i,j)および第2の表示素子550(i,j)を駆動する機能を備える(図7参照)。
<< Pixel circuit configuration example 1. 》
The pixel circuit 530 (i, j) has a function of driving the first display element 750 (i, j) and the second display element 550 (i, j) (see FIG. 7).

これにより、例えば同一の工程を用いて形成することができる画素回路を用いて、第1の表示素子と、第1の表示素子とは異なる方法を用いて表示をする第2の表示素子と、を駆動することができる。具体的には、反射型の表示素子を第1の表示素子に用いて、消費電力を低減することができる。または、外光が明るい環境下において高いコントラストで画像を良好に表示することができる。または、光を射出する第2の表示素子を用いて、暗い環境下で画像を良好に表示することができる。または、絶縁膜を用いて、第1の表示素子および第2の表示素子の間または第1の表示素子および画素回路の間における不純物の拡散を抑制することができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示装置を提供することができる。 Thereby, for example, a first display element and a second display element that displays using a method different from that of the first display element by using a pixel circuit that can be formed by using the same process. Can be driven. Specifically, a reflection type display element can be used as the first display element to reduce power consumption. Alternatively, the image can be satisfactorily displayed with high contrast in an environment where the outside light is bright. Alternatively, a second display element that emits light can be used to satisfactorily display an image in a dark environment. Alternatively, the insulating film can be used to suppress the diffusion of impurities between the first display element and the second display element or between the first display element and the pixel circuit. As a result, it is possible to provide a new display device having excellent convenience or reliability.

スイッチ、トランジスタ、ダイオード、抵抗素子、インダクタまたは容量素子等を画素回路530(i,j)に用いることができる。 Switches, transistors, diodes, resistance elements, inductors, capacitive elements and the like can be used in the pixel circuit 530 (i, j).

例えば、単数または複数のトランジスタをスイッチに用いることができる。または、並列に接続された複数のトランジスタ、直列に接続された複数のトランジスタ、直列と並列が組み合わされて接続された複数のトランジスタを、一のスイッチに用いることができる。 For example, a single or multiple transistors can be used in the switch. Alternatively, a plurality of transistors connected in parallel, a plurality of transistors connected in series, and a plurality of transistors connected in combination of series and parallel can be used for one switch.

例えば、画素回路530(i,j)は、信号線S1(j)、信号線S2(j)、走査線G1(i)、走査線G2(i)、配線CSCOMおよび導電膜ANOと電気的に接続される(図7参照)。なお、導電膜512Aは、信号線S1(j)と電気的に接続される(図5(A)および図7参照)。 For example, the pixel circuit 530 (i, j) electrically includes the signal line S1 (j), the signal line S2 (j), the scanning line G1 (i), the scanning line G2 (i), the wiring CSCOM, and the conductive film ANO. Connected (see Figure 7). The conductive film 512A is electrically connected to the signal line S1 (j) (see FIGS. 5A and 7).

画素回路530(i,j)は、スイッチSW1および容量素子C11を含む(図7参照)。 The pixel circuit 530 (i, j) includes a switch SW1 and a capacitive element C11 (see FIG. 7).

画素回路530(i,j)は、スイッチSW2、トランジスタMおよび容量素子C21を含む。 The pixel circuit 530 (i, j) includes a switch SW2, a transistor M, and a capacitive element C21.

例えば、走査線G1(i)と電気的に接続されるゲート電極と、信号線S1(j)と電気的に接続される第1の電極と、を有するトランジスタを、スイッチSW1に用いることができる。 For example, a transistor having a gate electrode electrically connected to the scanning line G1 (i) and a first electrode electrically connected to the signal line S1 (j) can be used for the switch SW1. ..

容量素子C11は、スイッチSW1に用いるトランジスタの第2の電極と電気的に接続される第1の電極と、配線CSCOMと電気的に接続される第2の電極と、を有する。 The capacitive element C11 has a first electrode electrically connected to the second electrode of the transistor used for the switch SW1 and a second electrode electrically connected to the wiring CSCOM.

例えば、走査線G2(i)と電気的に接続されるゲート電極と、信号線S2(j)と電気的に接続される第1の電極と、を有するトランジスタを、スイッチSW2に用いることができる。 For example, a transistor having a gate electrode electrically connected to the scanning line G2 (i) and a first electrode electrically connected to the signal line S2 (j) can be used for the switch SW2. ..

トランジスタMは、スイッチSW2に用いるトランジスタの第2の電極と電気的に接続されるゲート電極と、導電膜ANOと電気的に接続される第1の電極と、を有する。 The transistor M has a gate electrode electrically connected to the second electrode of the transistor used for the switch SW2, and a first electrode electrically connected to the conductive film ANO.

なお、半導体膜をゲート電極との間に挟むように設けられた導電膜を備えるトランジスタを、トランジスタMに用いることができる。例えば、トランジスタMのゲート電極と同じ電位を供給することができる配線と電気的に接続される導電膜を当該導電膜に用いることができる。 A transistor having a conductive film provided so as to sandwich the semiconductor film with the gate electrode can be used for the transistor M. For example, a conductive film electrically connected to a wiring capable of supplying the same potential as the gate electrode of the transistor M can be used for the conductive film.

容量素子C21は、スイッチSW2に用いるトランジスタの第2の電極と電気的に接続される第1の電極と、トランジスタMの第1の電極と電気的に接続される第2の電極と、を有する。 The capacitive element C21 has a first electrode electrically connected to the second electrode of the transistor used for the switch SW2, and a second electrode electrically connected to the first electrode of the transistor M. ..

なお、第1の表示素子750(i,j)の電極751(i,j)を、スイッチSW1に用いるトランジスタの第2の電極と電気的に接続する。また、第1の表示素子750(i,j)の電極752を、配線VCOM1と電気的に接続する。これにより、第1の表示素子750を駆動することができる。 The electrode 751 (i, j) of the first display element 750 (i, j) is electrically connected to the second electrode of the transistor used for the switch SW1. Further, the electrode 752 of the first display element 750 (i, j) is electrically connected to the wiring VCOM1. Thereby, the first display element 750 can be driven.

また、第2の表示素子550(i,j)の電極551(i,j)をトランジスタMの第2の電極と電気的に接続し、第2の表示素子550(i,j)の電極552を導電膜VCOM2と電気的に接続する。これにより、第2の表示素子550(i,j)を駆動することができる。 Further, the electrode 551 (i, j) of the second display element 550 (i, j) is electrically connected to the second electrode of the transistor M, and the electrode 552 of the second display element 550 (i, j) is connected. Is electrically connected to the conductive film VCOM2. As a result, the second display element 550 (i, j) can be driven.

《画素回路の構成例2.》
半導体膜508は、2.5eV以上のバンドギャップを備え、画素回路530(i,j)の導電膜は、可視光を透過する領域に導電性酸化物を含む。なお、例えば、可視光を透過する導電性酸化物を、導電膜512A、導電膜512Bおよび導電膜504に用いることができる(図4(A)参照)。可視光を透過する半導体膜508の導電膜512Aが接する領域および可視光を透過する半導体膜508の導電膜512Bが接する領域は、いずれも可視光を透過する。
<< Pixel circuit configuration example 2. 》
The semiconductor film 508 has a band gap of 2.5 eV or more, and the conductive film of the pixel circuit 530 (i, j) contains a conductive oxide in a region through which visible light is transmitted. For example, a conductive oxide that transmits visible light can be used for the conductive film 512A, the conductive film 512B, and the conductive film 504 (see FIG. 4A). The region in contact with the conductive film 512A of the semiconductor film 508 that transmits visible light and the region in contact with the conductive film 512B of the semiconductor film 508 that transmits visible light both transmit visible light.

これにより、表示パネルの使用者および表示素子の間に画素回路を、表示素子に重ねて配置することができる。または、画素の開口率を高めることができる。または、画素のレイアウトの自由度を高めることができる。または、表示素子が表示する表示の明るさを保ちながら、発光素子に流す電流の密度を下げることができる。または、発光素子の信頼性を高めることができる。例えば、有機EL素子を発光素子に用いることができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供することができる。 This makes it possible to superimpose the pixel circuit on the display element between the user of the display panel and the display element. Alternatively, the aperture ratio of the pixels can be increased. Alternatively, the degree of freedom in pixel layout can be increased. Alternatively, the density of the current flowing through the light emitting element can be reduced while maintaining the brightness of the display displayed by the display element. Alternatively, the reliability of the light emitting element can be improved. For example, an organic EL element can be used as a light emitting element. As a result, it is possible to provide a new display panel having excellent convenience or reliability.

《絶縁膜501C》
絶縁膜501Cは、第1の導電膜および第2の導電膜の間に挟まれる領域を備え、絶縁膜501Cは開口部591Aを備える(図5(A)参照)。また、絶縁膜501Cは開口部591Bおよび開口部591Cを備える(図4(A)および図5(A)参照)。
<< Insulation film 501C >>
The insulating film 501C includes a region sandwiched between the first conductive film and the second conductive film, and the insulating film 501C includes an opening 591A (see FIG. 5A). Further, the insulating film 501C includes an opening 591B and an opening 591C (see FIGS. 4A and 5A).

《第1の導電膜》
第1の導電膜は、第1の表示素子750(i,j)と電気的に接続される。具体的には、第1の表示素子750(i,j)の電極751(i,j)と電気的に接続される。なお、電極751(i,j)を、第1の導電膜に用いることができる。
<< First conductive film >>
The first conductive film is electrically connected to the first display element 750 (i, j). Specifically, it is electrically connected to the electrode 751 (i, j) of the first display element 750 (i, j). The electrode 751 (i, j) can be used as the first conductive film.

《第2の導電膜》
第2の導電膜は、第1の導電膜と重なる領域を備える。第2の導電膜は、開口部591Aにおいて第1の導電膜と電気的に接続される(図5(A)参照)。例えば、導電膜512Bを第2の導電膜に用いることができる。
<< Second conductive film >>
The second conductive film includes a region that overlaps with the first conductive film. The second conductive film is electrically connected to the first conductive film at the opening 591A (see FIG. 5A). For example, the conductive film 512B can be used as the second conductive film.

ところで、絶縁膜501Cに設けられた開口部591Aにおいて第2の導電膜と電気的に接続される第1の導電膜を、貫通電極ということができる。 By the way, the first conductive film electrically connected to the second conductive film in the opening 591A provided in the insulating film 501C can be referred to as a through electrode.

第2の導電膜は、画素回路530(i,j)と電気的に接続される。例えば、画素回路530(i,j)のスイッチSW1に用いるトランジスタのソース電極またはドレイン電極として機能する導電膜512Bを、第2の導電膜に用いることができる。 The second conductive film is electrically connected to the pixel circuit 530 (i, j). For example, a conductive film 512B that functions as a source electrode or a drain electrode of a transistor used for the switch SW1 of the pixel circuit 530 (i, j) can be used for the second conductive film.

《第2の表示素子550(i,j)の構成例2.》
第2の表示素子550(i,j)は、画素回路530(i,j)と電気的に接続される(図7参照)。第2の表示素子550(i,j)は、機能層520に向けて光を射出する機能を備える(図4(A)参照)。第2の表示素子550(i,j)は、例えば、絶縁膜501Cに向けて光を射出する機能を備える。
<< Configuration example of the second display element 550 (i, j) 2. 》
The second display element 550 (i, j) is electrically connected to the pixel circuit 530 (i, j) (see FIG. 7). The second display element 550 (i, j) has a function of emitting light toward the functional layer 520 (see FIG. 4A). The second display element 550 (i, j) has, for example, a function of emitting light toward the insulating film 501C.

第2の表示素子550(i,j)は、第1の表示素子750(i,j)を用いた表示を視認できる範囲の一部において当該第2の表示素子550(i,j)を用いた表示を視認できるように配設される。例えば、外光を反射する強度を制御して画像情報を表示する第1の表示素子750(i,j)に外光が入射し反射する方向を、破線の矢印を用いて図中に示す(図5(A)参照)。また、第1の表示素子750(i,j)を用いた表示を視認できる範囲の一部に第2の表示素子550(i,j)が光を射出する方向を、実線の矢印を用いて図中に示す(図4(A)参照)。 The second display element 550 (i, j) uses the second display element 550 (i, j) in a part of the range in which the display using the first display element 750 (i, j) can be visually recognized. It is arranged so that the displayed display can be visually recognized. For example, the direction in which the external light is incident and reflected on the first display element 750 (i, j) that controls the intensity of reflecting the external light to display the image information is shown in the figure by using the broken line arrow (dashed line arrow). See FIG. 5 (A)). Further, the direction in which the second display element 550 (i, j) emits light in a part of the range in which the display using the first display element 750 (i, j) can be visually recognized is indicated by using the solid arrow. Shown in the figure (see FIG. 4 (A)).

これにより、第1の表示素子を用いた表示を視認することができる領域の一部において、第2の表示素子を用いた表示を視認することができる。または、表示パネルの姿勢等を変えることなく使用者は表示を視認することができる。または、第1の表示素子が反射する光が表現する物体色と、第2の表示素子が射出する光が表現する光源色とを掛け合わせることができる。または、物体色および光源色を用いて絵画的な表示をすることができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供することができる。 As a result, the display using the second display element can be visually recognized in a part of the region where the display using the first display element can be visually recognized. Alternatively, the user can visually recognize the display without changing the posture of the display panel or the like. Alternatively, the object color expressed by the light reflected by the first display element can be multiplied by the light source color expressed by the light emitted by the second display element. Alternatively, a pictorial display can be made using the object color and the light source color. As a result, it is possible to provide a new display panel having excellent convenience or reliability.

例えば、第2の表示素子550(i,j)は、電極551(i,j)と、電極552と、発光性の材料を含む層553と、を備える(図4(A)参照)。 For example, the second display element 550 (i, j) includes an electrode 551 (i, j), an electrode 552, and a layer 553 containing a luminescent material (see FIG. 4A).

電極552は、電極551(i,j)と重なる領域を備える。 The electrode 552 includes a region overlapping the electrode 551 (i, j).

発光性の材料を含む層553は、電極551(i,j)および電極552の間に挟まれる領域を備える。 The layer 553 containing the luminescent material comprises a region sandwiched between the electrodes 551 (i, j) and the electrodes 552.

電極551(i,j)は、接続部522において、画素回路530(i,j)と電気的に接続される。なお、電極552は、導電膜VCOM2と電気的に接続される(図7参照)。 The electrode 551 (i, j) is electrically connected to the pixel circuit 530 (i, j) at the connection portion 522. The electrode 552 is electrically connected to the conductive film VCOM2 (see FIG. 7).

《絶縁膜521、絶縁膜528、絶縁膜518、絶縁膜516、絶縁膜506等》
絶縁膜521は、画素回路530(i,j)および第2の表示素子550(i,j)の間に挟まれる領域を備える(図4(A)参照)。
<< Insulating film 521, insulating film 528, insulating film 518, insulating film 516, insulating film 506, etc. >>
The insulating film 521 includes a region sandwiched between the pixel circuit 530 (i, j) and the second display element 550 (i, j) (see FIG. 4A).

例えば、積層膜を絶縁膜521に用いることができる。 For example, the laminated film can be used for the insulating film 521.

絶縁膜528は、絶縁膜521および基板570の間に挟まれる領域を備え、第2の表示素子550(i,j)と重なる領域に開口部を備える(図4(A)参照)。電極551(i,j)の周縁に沿って形成される絶縁膜528は、電極551(i,j)および電極552の短絡を防止する。 The insulating film 528 includes a region sandwiched between the insulating film 521 and the substrate 570, and has an opening in a region overlapping the second display element 550 (i, j) (see FIG. 4A). The insulating film 528 formed along the peripheral edge of the electrode 551 (i, j) prevents a short circuit between the electrode 551 (i, j) and the electrode 552.

絶縁膜518は、画素回路530(i,j)および絶縁膜521の間に挟まれる領域を備える。 The insulating film 518 includes a region sandwiched between the pixel circuit 530 (i, j) and the insulating film 521.

例えば、積層膜を絶縁膜518に用いることができる。 For example, the laminated film can be used for the insulating film 518.

絶縁膜516は、画素回路530(i,j)および絶縁膜518の間に挟まれる領域を備える(図4(B)参照)。 The insulating film 516 includes a region sandwiched between the pixel circuit 530 (i, j) and the insulating film 518 (see FIG. 4B).

絶縁膜506は、絶縁膜501Cおよび絶縁膜516の間に挟まれる領域を備える。 The insulating film 506 includes a region sandwiched between the insulating film 501C and the insulating film 516.

<表示パネルの構成例3.>
また、本実施の形態で説明する表示パネル700は、表示領域231を有する(図9参照)。
<Display panel configuration example 3. >
Further, the display panel 700 described in this embodiment has a display area 231 (see FIG. 9).

《表示領域231》
表示領域231は、一群の複数の画素702(i,1)乃至画素702(i,n)と、他の一群の複数の画素702(1,j)乃至画素702(m,j)と、走査線G1(i)と、信号線S1(i)と、を有する(図9参照)。また、走査線G2(i)と、配線CSCOMと、導電膜ANOと、信号線S2(j)と、を有する。なお、iは1以上m以下の整数であり、jは1以上n以下の整数であり、mおよびnは1以上の整数である。
<< Display area 231 >>
The display area 231 is scanned with a group of a plurality of pixels 702 (i, 1) to pixels 702 (i, n) and another group of a plurality of pixels 702 (1, j) to pixels 702 (m, j). It has a line G1 (i) and a signal line S1 (i) (see FIG. 9). It also has a scanning line G2 (i), a wiring CSCOM, a conductive film ANO, and a signal line S2 (j). Note that i is an integer of 1 or more and m or less, j is an integer of 1 or more and n or less, and m and n are integers of 1 or more.

一群の複数の画素702(i,1)乃至画素702(i,n)は画素702(i,j)を含み、一群の複数の画素702(i,1)乃至画素702(i,n)は行方向(図中に矢印R1で示す方向)に配設される。 A group of plurality of pixels 702 (i, 1) to pixel 702 (i, n) includes pixel 702 (i, j), and a group of plurality of pixels 702 (i, 1) to pixel 702 (i, n). It is arranged in the row direction (the direction indicated by the arrow R1 in the figure).

他の一群の複数の画素702(1,j)乃至画素702(m,j)は画素702(i,j)を含み、他の一群の複数の画素702(1,j)乃至画素702(m,j)は行方向と交差する列方向(図中に矢印C1で示す方向)に配設される。 Another group of plurality of pixels 702 (1, j) to pixel 702 (m, j) includes pixel 702 (i, j), and another group of plurality of pixels 702 (1, j) to pixel 702 (m). , J) are arranged in the column direction (direction indicated by the arrow C1 in the figure) intersecting the row direction.

走査線G1(i)および走査線G2(i)は、行方向に配設される一群の複数の画素702(i,1)乃至画素702(i,n)と電気的に接続される。 The scanning lines G1 (i) and the scanning lines G2 (i) are electrically connected to a group of a plurality of pixels 702 (i, 1) to pixels 702 (i, n) arranged in the row direction.

信号線S1(j)および信号線S2(j)は、列方向に配設される他の一群の複数の画素702(1,j)乃至画素702(m,j)と電気的に接続される。 The signal line S1 (j) and the signal line S2 (j) are electrically connected to another group of a plurality of pixels 702 (1, j) to pixels 702 (m, j) arranged in the column direction. ..

<表示パネルの構成例4.>
本実施の形態で説明する表示パネル700は、複数の画素を備える。当該複数の画素は、色相が互いに異なる色を表示する機能を備える。または、当該複数の画素を用いて、各々その画素では表示できない色相の色を、加法混色により表示することができる。
<Display panel configuration example 4. >
The display panel 700 described in this embodiment includes a plurality of pixels. The plurality of pixels have a function of displaying colors having different hues from each other. Alternatively, using the plurality of pixels, it is possible to display a hue color that cannot be displayed by each of the pixels by additive mixing.

《画素の構成例5.》
なお、色相が異なる色を表示することができる複数の画素を混色に用いる場合において、それぞれの画素を副画素と言い換えることができる。また、複数の副画素を一組にして、画素と言い換えることができる。
<< Pixel configuration example 5. 》
When a plurality of pixels capable of displaying colors having different hues are used for color mixing, each pixel can be paraphrased as a sub-pixel. Further, a plurality of sub-pixels can be combined into a set and can be paraphrased as a pixel.

例えば、画素702(i,j)を副画素と言い換えることができ、画素702(i,j)、画素702(i,j+1)および画素702(i,j+2)を一組にして、画素703(i,k)と言い換えることができる(図8参照)。 For example, the pixel 702 (i, j) can be paraphrased as a sub-pixel, and the pixel 702 (i, j), the pixel 702 (i, j + 1) and the pixel 702 (i, j + 2) are combined into a set of the pixel 703 (i, j + 2). It can be paraphrased as i, k) (see FIG. 8).

具体的には、青色を表示する副画素、緑色を表示する副画素および赤色を表示する副画素を一組にして、画素703(i,k)に用いることができる。 Specifically, a sub-pixel that displays blue, a sub-pixel that displays green, and a sub-pixel that displays red can be used as a set for the pixel 703 (i, k).

また、例えば、シアンを表示する副画素、マゼンタを表示する副画素およびイエローを表示する副画素を一組にして、画素703(i,k)に用いることができる。 Further, for example, a sub-pixel for displaying cyan, a sub-pixel for displaying magenta, and a sub-pixel for displaying yellow can be used as a set for the pixel 703 (i, k).

また、例えば、白色を表示する副画素等を上記の一組に加えて、画素に用いることができる。 Further, for example, a sub-pixel displaying white color can be added to the above set and used as a pixel.

また、例えば、シアン色を表示する第1の表示素子750(i,j)と赤色を表示する第2の表示素子550(i,j)を備える副画素、マゼンタ色を表示する第1の表示素子750(i,j+1)と緑色を表示する第2の表示素子550(i,j+1)を備える副画素およびイエロー色を表示する第1の表示素子750(i,j+2)と青色を表示する第2の表示素子550(i,j+2)を備える副画素を一組にして、画素703(i,k)に用いることができる。これにより、第1の表示素子750(i,j)乃至第1の表示素子750(i,j+2)を用いる表示を、明るくすることができる。または、第2の表示素子550(i,j)乃至第2の表示素子550(i,j+2)を用いる表示を、鮮やかにすることができる。 Further, for example, a sub-pixel having a first display element 750 (i, j) for displaying cyan color and a second display element 550 (i, j) for displaying red color, and a first display for displaying magenta color. A sub-pixel having an element 750 (i, j + 1) and a second display element 550 (i, j + 1) for displaying green, a first display element 750 (i, j + 2) for displaying yellow color, and a second display element 750 (i, j + 2) for displaying blue. A set of sub-pixels including the display element 550 (i, j + 2) of 2 can be used for the pixel 703 (i, k). Thereby, the display using the first display element 750 (i, j) to the first display element 750 (i, j + 2) can be brightened. Alternatively, the display using the second display element 550 (i, j) to the second display element 550 (i, j + 2) can be made vivid.

<表示パネルの構成例5.>
また、本実施の形態で説明する表示パネル700は、駆動回路GDまたは駆動回路SDを備えることができる(図3(A)および図9参照)。
<Display panel configuration example 5. >
Further, the display panel 700 described in this embodiment may include a drive circuit GD or a drive circuit SD (see FIGS. 3A and 9).

《駆動回路GD》
駆動回路GDは、制御情報に基づいて選択信号を供給する機能を有する。
<< Drive circuit GD >>
The drive circuit GD has a function of supplying a selection signal based on control information.

一例を挙げれば、制御情報に基づいて、30Hz以上、好ましくは60Hz以上の頻度で一の走査線に選択信号を供給する機能を備える。これにより、動画像をなめらかに表示することができる。 As an example, it has a function of supplying a selection signal to one scanning line at a frequency of 30 Hz or higher, preferably 60 Hz or higher, based on control information. As a result, the moving image can be displayed smoothly.

例えば、制御情報に基づいて、30Hz未満、好ましくは1Hz未満より好ましくは一分に一回未満の頻度で一の走査線に選択信号を供給する機能を備える。これにより、フリッカーが抑制された状態で静止画像を表示することができる。 For example, it has a function of supplying a selection signal to one scanning line at a frequency of less than 30 Hz, preferably less than 1 Hz, preferably less than once a minute, based on control information. This makes it possible to display a still image with flicker suppressed.

また、表示パネルは、複数の駆動回路を有することができる。例えば、表示パネル700Bは、駆動回路GDAおよび駆動回路GDBを有する(図10参照)。 Further, the display panel may have a plurality of drive circuits. For example, the display panel 700B has a drive circuit GDA and a drive circuit GDB (see FIG. 10).

また、例えば、複数の駆動回路を備える場合、駆動回路GDAが選択信号を供給する頻度と、駆動回路GDBが選択信号を供給する頻度とを、異ならせることができる。具体的には、静止画像を表示する一の領域に選択信号を供給する頻度より高い頻度で、動画像を表示する他の領域に選択信号を供給することができる。これにより、一の領域にフリッカーが抑制された状態で静止画像を表示し、他の領域に滑らかに動画像を表示することができる。 Further, for example, when a plurality of drive circuits are provided, the frequency with which the drive circuit GDA supplies the selection signal and the frequency with which the drive circuit GDB supplies the selection signal can be made different. Specifically, the selection signal can be supplied to another area for displaying the moving image at a frequency higher than the frequency for supplying the selection signal to one area for displaying the still image. As a result, a still image can be displayed in one area with flicker suppressed, and a moving image can be smoothly displayed in another area.

《駆動回路SD》
駆動回路SDは、駆動回路SD1と、駆動回路SD2と、を有する。駆動回路SD1は、情報V11に基づいて画像信号を供給する機能を有し、駆動回路SD2は、情報V12に基づいて画像信号を供給する機能を有する(図9参照)。
<< Drive circuit SD >>
The drive circuit SD includes a drive circuit SD1 and a drive circuit SD2. The drive circuit SD1 has a function of supplying an image signal based on the information V11, and the drive circuit SD2 has a function of supplying an image signal based on the information V12 (see FIG. 9).

駆動回路SD1または駆動回路SD2は、画像信号を生成する機能と、当該画像信号を一の表示素子と電気的に接続される画素回路に供給する機能を備える。具体的には、極性が反転する信号を生成する機能を備える。これにより、例えば、液晶表示素子を駆動することができる。 The drive circuit SD1 or the drive circuit SD2 has a function of generating an image signal and a function of supplying the image signal to a pixel circuit electrically connected to one display element. Specifically, it has a function of generating a signal whose polarity is inverted. Thereby, for example, the liquid crystal display element can be driven.

例えば、シフトレジスタ等のさまざまな順序回路等を駆動回路SDに用いることができる。 For example, various sequential circuits such as shift registers can be used for the drive circuit SD.

例えば、駆動回路SD1および駆動回路SD2が集積された集積回路を、駆動回路SDに用いることができる。具体的には、シリコン基板上に形成された集積回路を駆動回路SDに用いることができる。 For example, an integrated circuit in which the drive circuit SD1 and the drive circuit SD2 are integrated can be used for the drive circuit SD. Specifically, an integrated circuit formed on a silicon substrate can be used for the drive circuit SD.

例えば、COG(Chip on glass)法またはCOF(Chip on Film)法を用いて、集積回路を端子に実装することができる。具体的には、異方性導電膜を用いて、集積回路を端子に実装することができる。 For example, an integrated circuit can be mounted on a terminal by using a COG (Chip on glass) method or a COF (Chip on Film) method. Specifically, an integrated circuit can be mounted on a terminal by using an anisotropic conductive film.

<表示パネルの構成例6.>
また、本実施の形態で説明する表示パネル700は、絶縁膜573、端子519B、端子519C、機能層720、基板570、基板770、接合層505、封止材705、構造体KB1、機能膜770P、機能膜770D等を備える(図4(A)または図5(A)参照)。
<Display panel configuration example 6. >
Further, the display panel 700 described in this embodiment has an insulating film 573, a terminal 519B, a terminal 519C, a functional layer 720, a substrate 570, a substrate 770, a bonding layer 505, a sealing material 705, a structure KB1, and a functional film 770P. , A functional film 770D, etc. (see FIG. 4 (A) or FIG. 5 (A)).

《絶縁膜573》
絶縁膜573は、機能層520との間に第2の表示素子550(i,j)を挟む領域を備える(図4(A)参照)。
<< Insulating film 573 >>
The insulating film 573 includes a region sandwiching the second display element 550 (i, j) with the functional layer 520 (see FIG. 4A).

例えば、単数の膜または複数の膜を積層した積層膜を絶縁膜573に用いることができる。具体的には、絶縁膜573Aおよび絶縁膜573Bを積層した膜を絶縁膜573に用いることができる。これにより、第2の表示素子550(i,j)への不純物の拡散を抑制することができる。 For example, a single film or a laminated film obtained by laminating a plurality of films can be used as the insulating film 573. Specifically, a film obtained by laminating the insulating film 573A and the insulating film 573B can be used for the insulating film 573. This makes it possible to suppress the diffusion of impurities into the second display element 550 (i, j).

《端子519B、端子519C》
端子519Bは、例えば、導電膜511Bを備える。端子519Bは、例えば、信号線S1(j)と電気的に接続することができる。
<< Terminal 519B, Terminal 519C >>
The terminal 519B includes, for example, a conductive film 511B. The terminal 519B can be electrically connected to, for example, the signal line S1 (j).

端子519Cは、例えば、導電膜511Cを備える。導電膜511Cは、例えば、配線VCOM1と電気的に接続される。 The terminal 519C includes, for example, a conductive film 511C. The conductive film 511C is electrically connected to, for example, the wiring VCOM1.

なお、導電材料CPは、端子519Cと電極752の間に挟まれ、端子519Cと電極752を電気的に接続する機能を備える。例えば、導電性の粒子を導電材料CPに用いることができる。 The conductive material CP is sandwiched between the terminal 519C and the electrode 752, and has a function of electrically connecting the terminal 519C and the electrode 752. For example, conductive particles can be used for the conductive material CP.

《機能層720》
機能層720は、基板770および絶縁膜501Cの間に挟まれる領域を備える(図4(A)参照)。
<< Functional layer 720 >>
The functional layer 720 includes a region sandwiched between the substrate 770 and the insulating film 501C (see FIG. 4A).

機能層720は、遮光膜BMまたは絶縁膜771を備える。 The functional layer 720 includes a light-shielding film BM or an insulating film 771.

遮光膜BMは、第1の表示素子750(i,j)と重なる領域に開口部を備える(図4(A)または図5(A)参照)。 The light-shielding film BM is provided with an opening in a region overlapping with the first display element 750 (i, j) (see FIG. 4A or FIG. 5A).

絶縁膜771は、遮光膜BMと液晶材料を含む層753の間に挟まれる領域を備える。これにより、遮光膜BMの厚さに基づく凹凸を平坦にすることができる。または、遮光膜BM等から液晶材料を含む層753への不純物の拡散を、抑制することができる。 The insulating film 771 includes a region sandwiched between the light-shielding film BM and the layer 753 containing the liquid crystal material. This makes it possible to flatten the unevenness based on the thickness of the light-shielding film BM. Alternatively, it is possible to suppress the diffusion of impurities from the light-shielding film BM or the like to the layer 753 containing the liquid crystal material.

《基板570、基板770》
基板770は、基板570と重なる領域を備える。基板770は、基板570との間に機能層520を挟む領域を備える。
<< Substrate 570, Substrate 770 >>
The substrate 770 includes a region that overlaps with the substrate 570. The substrate 770 includes a region sandwiching the functional layer 520 with the substrate 570.

基板770は、第1の表示素子750(i,j)と重なる領域を備える。例えば、複屈折が抑制された材料を当該領域に用いることができる。 The substrate 770 includes a region that overlaps with the first display element 750 (i, j). For example, a material in which birefringence is suppressed can be used in the region.

《接合層505、封止材705、構造体KB1》
接合層505は、機能層520および基板570の間に挟まれる領域を備え、機能層520および基板570を貼り合せる機能を備える。
<< Bonding layer 505, Encapsulant 705, Structure KB1 >>
The bonding layer 505 includes a region sandwiched between the functional layer 520 and the substrate 570, and has a function of bonding the functional layer 520 and the substrate 570.

封止材705は、機能層520および基板770の間に挟まれる領域を備え、機能層520および基板770を貼り合わせる機能を備える。 The encapsulant 705 includes a region sandwiched between the functional layer 520 and the substrate 770, and has a function of bonding the functional layer 520 and the substrate 770.

構造体KB1は、機能層520および基板770の間に所定の間隙を設ける機能を備える。 The structure KB1 has a function of providing a predetermined gap between the functional layer 520 and the substrate 770.

《機能膜770P、機能膜770D等》
機能膜770Pは、第1の表示素子750(i,j)と重なる領域を備える。
<< Functional film 770P, functional film 770D, etc. >>
The functional film 770P includes a region overlapping with the first display element 750 (i, j).

機能膜770Dは、第1の表示素子750(i,j)と重なる領域を備える。機能膜770Dは、第1の表示素子750(i,j)との間に基板770を挟むように配設される。これにより、例えば、第1の表示素子750(i,j)が反射する光を拡散することができる。 The functional film 770D includes a region overlapping with the first display element 750 (i, j). The functional film 770D is arranged so as to sandwich the substrate 770 with the first display element 750 (i, j). Thereby, for example, the light reflected by the first display element 750 (i, j) can be diffused.

<構成要素の例>
表示パネル700は、基板570、基板770、構造体KB1、封止材705または接合層505を有する。
<Example of components>
The display panel 700 has a substrate 570, a substrate 770, a structure KB1, a sealing material 705 or a bonding layer 505.

また、表示パネル700は、機能層520、絶縁膜521、絶縁膜528、絶縁膜516または絶縁膜506を有する。 Further, the display panel 700 has a functional layer 520, an insulating film 521, an insulating film 528, an insulating film 516 or an insulating film 506.

また、表示パネル700は、信号線S1(j)、信号線S2(j)、走査線G1(i)、走査線G2(i)、配線CSCOMまたは導電膜ANOを有する。 Further, the display panel 700 has a signal line S1 (j), a signal line S2 (j), a scanning line G1 (i), a scanning line G2 (i), a wiring CSCOM, or a conductive film ANO.

また、表示パネル700は、第1の導電膜または第2の導電膜を有する。 Further, the display panel 700 has a first conductive film or a second conductive film.

また、表示パネル700は、端子519B、端子519C、導電膜511Bまたは導電膜511Cを有する。 Further, the display panel 700 has a terminal 519B, a terminal 519C, a conductive film 511B or a conductive film 511C.

また、表示パネル700は、画素回路530(i,j)またはスイッチSW1を有する。 Further, the display panel 700 has a pixel circuit 530 (i, j) or a switch SW1.

また、表示パネル700は、第1の表示素子750(i,j)、電極751(i,j)、液晶材料を含む層753または電極752を有する。 Further, the display panel 700 has a first display element 750 (i, j), an electrode 751 (i, j), a layer 753 containing a liquid crystal material, or an electrode 752.

また、表示パネル700は、配向膜AF1、配向膜AF2、遮光膜BM、絶縁膜771、機能膜770Pまたは機能膜770Dを有する。 Further, the display panel 700 has an alignment film AF1, an alignment film AF2, a light-shielding film BM, an insulating film 771, a functional film 770P or a functional film 770D.

また、表示パネル700は、第2の表示素子550(i,j)、電極551(i,j)、電極552または発光性の材料を含む層553を有する。 The display panel 700 also has a second display element 550 (i, j), electrodes 551 (i, j), electrodes 552, or a layer 553 containing a luminescent material.

また、表示パネル700は、絶縁膜501Cを有する。 Further, the display panel 700 has an insulating film 501C.

また、表示パネル700は、絶縁膜573を有する。 Further, the display panel 700 has an insulating film 573.

また、表示パネル700は、駆動回路GDまたは駆動回路SDを有する。 Further, the display panel 700 has a drive circuit GD or a drive circuit SD.

《基板570》
作製工程中の熱処理に耐えうる程度の耐熱性を有する材料を基板570に用いることができる。例えば、厚さ0.7mm以下厚さ0.1mm以上の材料を基板570に用いることができる。具体的には、厚さ0.1mm程度まで研磨した材料を用いることができる。
<< Board 570 >>
A material having heat resistance sufficient to withstand the heat treatment during the manufacturing process can be used for the substrate 570. For example, a material having a thickness of 0.7 mm or less and a thickness of 0.1 mm or more can be used for the substrate 570. Specifically, a material polished to a thickness of about 0.1 mm can be used.

例えば、第6世代(1500mm×1850mm)、第7世代(1870mm×2200mm)、第8世代(2200mm×2400mm)、第9世代(2400mm×2800mm)、第10世代(2950mm×3400mm)等の面積が大きなガラス基板を基板570に用いることができる。これにより、大型の表示装置を作製することができる。 For example, the area of the 6th generation (1500 mm × 1850 mm), the 7th generation (1870 mm × 2200 mm), the 8th generation (2200 mm × 2400 mm), the 9th generation (2400 mm × 2800 mm), the 10th generation (2950 mm × 3400 mm), etc. A large glass substrate can be used for the substrate 570. This makes it possible to manufacture a large display device.

有機材料、無機材料または有機材料と無機材料等の複合材料等を基板570に用いることができる。例えば、ガラス、セラミックス、金属等の無機材料を基板570に用いることができる。 An organic material, an inorganic material, or a composite material such as an organic material and an inorganic material can be used for the substrate 570. For example, an inorganic material such as glass, ceramics, or metal can be used for the substrate 570.

具体的には、無アルカリガラス、ソーダ石灰ガラス、カリガラス、クリスタルガラス、アルミノ珪酸ガラス、強化ガラス、化学強化ガラス、石英またはサファイア等を、基板570に用いることができる。具体的には、無機酸化物膜、無機窒化物膜または無機酸窒化物膜等を、基板570に用いることができる。例えば、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、酸化アルミニウム膜等を、基板570に用いることができる。ステンレス・スチールまたはアルミニウム等を、基板570に用いることができる。 Specifically, non-alkali glass, soda-lime glass, potash glass, crystal glass, aluminosilicate glass, tempered glass, chemically tempered glass, quartz, sapphire and the like can be used for the substrate 570. Specifically, an inorganic oxide film, an inorganic nitride film, an inorganic oxynitride film, or the like can be used for the substrate 570. For example, a silicon oxide film, a silicon nitride film, a silicon nitride film, an aluminum oxide film, or the like can be used for the substrate 570. Stainless steel, aluminum, or the like can be used for the substrate 570.

例えば、シリコンや炭化シリコンからなる単結晶半導体基板、多結晶半導体基板、シリコンゲルマニウム等の化合物半導体基板、SOI基板等を基板570に用いることができる。これにより、半導体素子を基板570に形成することができる。 For example, a single crystal semiconductor substrate made of silicon or silicon carbide, a polycrystalline semiconductor substrate, a compound semiconductor substrate such as silicon germanium, an SOI substrate, or the like can be used for the substrate 570. As a result, the semiconductor element can be formed on the substrate 570.

例えば、樹脂、樹脂フィルム、プラスチック等の有機材料を基板570に用いることができる。具体的には、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネートまたはアクリル樹脂等の樹脂フィルムまたは樹脂板を、基板570に用いることができる。 For example, an organic material such as a resin, a resin film, or a plastic can be used for the substrate 570. Specifically, a resin film or resin plate such as polyester, polyolefin, polyamide, polyimide, polycarbonate or acrylic resin can be used for the substrate 570.

例えば、金属板、薄板状のガラス板または無機材料等の膜を樹脂フィルム等に貼り合わせた複合材料を基板570に用いることができる。例えば、繊維状または粒子状の金属、ガラスもしくは無機材料等を樹脂フィルムに分散した複合材料を、基板570に用いることができる。例えば、繊維状または粒子状の樹脂もしくは有機材料等を無機材料に分散した複合材料を、基板570に用いることができる。 For example, a composite material in which a film such as a metal plate, a thin glass plate, or an inorganic material is bonded to a resin film or the like can be used for the substrate 570. For example, a composite material in which a fibrous or particulate metal, glass, or an inorganic material is dispersed in a resin film can be used for the substrate 570. For example, a composite material in which a fibrous or particulate resin or an organic material is dispersed in an inorganic material can be used for the substrate 570.

また、単層の材料または複数の層が積層された材料を、基板570に用いることができる。例えば、基材と基材に含まれる不純物の拡散を防ぐ絶縁膜等が積層された材料を、基板570に用いることができる。具体的には、ガラスとガラスに含まれる不純物の拡散を防ぐ酸化シリコン層、窒化シリコン層または酸化窒化シリコン層等から選ばれた一または複数の膜が積層された材料を、基板570に用いることができる。または、樹脂と樹脂を透過する不純物の拡散を防ぐ酸化シリコン膜、窒化シリコン膜または酸化窒化シリコン膜等が積層された材料を、基板570に用いることができる。 Further, a single-layer material or a material in which a plurality of layers are laminated can be used for the substrate 570. For example, a material in which a base material and an insulating film for preventing the diffusion of impurities contained in the base material are laminated can be used for the substrate 570. Specifically, a material in which one or more films selected from glass and a silicon oxide layer, a silicon nitride layer, a silicon oxynitride layer, or the like that prevent diffusion of impurities contained in the glass is laminated is used for the substrate 570. Can be done. Alternatively, a material in which a silicon oxide film, a silicon nitride film, a silicon nitride film, or the like that prevents the diffusion of the resin and impurities that permeate the resin can be laminated can be used for the substrate 570.

具体的には、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネート若しくはアクリル樹脂等の樹脂フィルム、樹脂板または積層材料等を基板570に用いることができる。 Specifically, a resin film such as polyester, polyolefin, polyamide, polyimide, polycarbonate or acrylic resin, a resin plate, a laminated material, or the like can be used for the substrate 570.

具体的には、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド(ナイロン、アラミド等)、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリウレタン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂もしくはシリコーン等のシロキサン結合を有する樹脂を含む材料を基板570に用いることができる。 Specifically, a material containing a resin having a siloxane bond such as polyester, polyolefin, polyamide (nylon, aramid, etc.), polyimide, polycarbonate, polyurethane, acrylic resin, epoxy resin, or silicone can be used for the substrate 570.

具体的には、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルサルフォン(PES)またはアクリル等を基板570に用いることができる。または、シクロオレフィンポリマー(COP)、シクロオレフィンコポリマー(COC)等を用いることができる。 Specifically, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyether sulfone (PES), acrylic or the like can be used for the substrate 570. Alternatively, a cycloolefin polymer (COP), a cycloolefin copolymer (COC), or the like can be used.

また、紙、木材またはセルロースナノファイバーなどを基板570に用いることができる。 Further, paper, wood, cellulose nanofibers and the like can be used for the substrate 570.

例えば、可撓性を有する基板を基板570に用いることができる。 For example, a flexible substrate can be used for the substrate 570.

なお、トランジスタまたは容量素子等を基板に直接形成する方法を用いることができる。また、例えば作製工程中に加わる熱に耐熱性を有する工程用の基板にトランジスタまたは容量素子等を形成し、形成されたトランジスタまたは容量素子等を基板570に転置する方法を用いることができる。これにより、例えば可撓性を有する基板にトランジスタまたは容量素子等を形成できる。 A method of directly forming a transistor, a capacitive element, or the like on a substrate can be used. Further, for example, a method can be used in which a transistor or a capacitive element or the like is formed on a substrate for a process having heat resistance to heat applied during the manufacturing process, and the formed transistor or the capacitive element or the like is transposed to the substrate 570. Thereby, for example, a transistor, a capacitive element, or the like can be formed on a flexible substrate.

《基板770》
例えば、基板570に用いることができる材料を基板770に用いることができる。例えば、基板570に用いることができる材料から選択された透光性を備える材料を、基板770に用いることができる。または、片側の表面に、例えば1μm以下の反射防止膜が形成された材料を基板770に用いることができる。具体的には、誘電体を3層以上、好ましくは5層以上、より好ましくは15層以上積層した積層膜を基板770に用いることができる。これにより、反射率を0.5%以下好ましくは0.08%以下に抑制することができる。または、基板570に用いることができる材料から選択された複屈折が抑制された材料を、基板770に用いることができる。
<< Board 770 >>
For example, a material that can be used for the substrate 570 can be used for the substrate 770. For example, a material having translucency selected from the materials that can be used for the substrate 570 can be used for the substrate 770. Alternatively, a material having an antireflection film of, for example, 1 μm or less formed on one surface can be used for the substrate 770. Specifically, a laminated film in which three or more layers, preferably five or more layers, and more preferably 15 or more layers of dielectrics are laminated can be used for the substrate 770. Thereby, the reflectance can be suppressed to 0.5% or less, preferably 0.08% or less. Alternatively, a material with suppressed birefringence selected from the materials that can be used for the substrate 570 can be used for the substrate 770.

例えば、アルミノ珪酸ガラス、強化ガラス、化学強化ガラスまたはサファイア等を、表示パネルの使用者に近い側に配置される基板770に好適に用いることができる。これにより、使用に伴う表示パネルの破損や傷付きを防止することができる。 For example, aluminosilicate glass, tempered glass, chemically tempered glass, sapphire, or the like can be suitably used for the substrate 770 arranged on the side closer to the user of the display panel. This makes it possible to prevent the display panel from being damaged or scratched due to use.

例えば、シクロオレフィンポリマー(COP)、シクロオレフィンコポリマー(COC)、トリアセチルセルロース(TAC)等の樹脂フィルムを、基板770に好適に用いることができる。これにより、重量を低減することができる。または、例えば、落下に伴う破損等の発生頻度を低減することができる。 For example, a resin film such as a cycloolefin polymer (COP), a cycloolefin copolymer (COC), or a triacetyl cellulose (TAC) can be suitably used for the substrate 770. This makes it possible to reduce the weight. Alternatively, for example, it is possible to reduce the frequency of occurrence of damage due to dropping.

また、例えば、厚さ0.7mm以下厚さ0.1mm以上の材料を基板770に用いることができる。具体的には、厚さを薄くするために研磨した基板を用いることができる。これにより、機能膜770Dを第1の表示素子750(i,j)に近づけて配置することができる。その結果、画像のボケを低減し、画像を鮮明に表示することができる。 Further, for example, a material having a thickness of 0.7 mm or less and a thickness of 0.1 mm or more can be used for the substrate 770. Specifically, a polished substrate can be used to reduce the thickness. As a result, the functional film 770D can be arranged close to the first display element 750 (i, j). As a result, blurring of the image can be reduced and the image can be displayed clearly.

《構造体KB1》
例えば、有機材料、無機材料または有機材料と無機材料の複合材料を構造体KB1に用いることができる。これにより、所定の間隔を、構造体KB1等を挟む構成の間に設けることができる。
<< Structure KB1 >>
For example, an organic material, an inorganic material, or a composite material of an organic material and an inorganic material can be used for the structure KB1. Thereby, a predetermined interval can be provided between the configurations sandwiching the structure KB1 and the like.

具体的には、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリシロキサン若しくはアクリル樹脂等またはこれらから選択された複数の樹脂の複合材料などを構造体KB1に用いることができる。また、感光性を有する材料を用いて形成してもよい。 Specifically, polyester, polyolefin, polyamide, polyimide, polycarbonate, polysiloxane, acrylic resin, etc., or a composite material of a plurality of resins selected from these can be used for the structure KB1. Further, it may be formed by using a material having photosensitivity.

《封止材705》
無機材料、有機材料または無機材料と有機材料の複合材料等を封止材705に用いることができる。
<< Encapsulant 705 >>
An inorganic material, an organic material, a composite material of an inorganic material and an organic material, or the like can be used for the sealing material 705.

例えば、熱溶融性の樹脂または硬化性の樹脂等の有機材料を、封止材705に用いることができる。 For example, an organic material such as a heat-meltable resin or a curable resin can be used for the sealing material 705.

例えば、反応硬化型接着剤、光硬化型接着剤、熱硬化型接着剤または/および嫌気型接着剤等の有機材料を封止材705に用いることができる。 For example, organic materials such as reaction curable adhesives, photocurable adhesives, thermosetting adhesives and / and anaerobic adhesives can be used for the encapsulant 705.

具体的には、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、イミド樹脂、PVC(ポリビニルクロライド)樹脂、PVB(ポリビニルブチラル)樹脂、EVA(エチレンビニルアセテート)樹脂等を含む接着剤を封止材705に用いることができる。 Specifically, an adhesive containing an epoxy resin, an acrylic resin, a silicone resin, a phenol resin, a polyimide resin, an imide resin, a PVC (polyvinyl chloride) resin, a PVB (polyvinyl butyral) resin, an EVA (ethylene vinyl acetate) resin and the like. Can be used for the sealing material 705.

《接合層505》
例えば、封止材705に用いることができる材料を接合層505に用いることができる。
<< Joint layer 505 >>
For example, a material that can be used for the sealing material 705 can be used for the joining layer 505.

《絶縁膜521》
例えば、絶縁性の無機材料、絶縁性の有機材料または無機材料と有機材料を含む絶縁性の複合材料を、絶縁膜521に用いることができる。
<< Insulating film 521 >>
For example, an insulating inorganic material, an insulating organic material, or an insulating composite material containing an inorganic material and an organic material can be used for the insulating film 521.

具体的には、無機酸化物膜、無機窒化物膜または無機酸化窒化物膜等またはこれらから選ばれた複数を積層した積層材料を、絶縁膜521に用いることができる。 Specifically, an inorganic oxide film, an inorganic nitride film, an inorganic nitride film, or a laminated material selected from these, in which a plurality of laminated materials are laminated, can be used for the insulating film 521.

例えば、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、酸化アルミニウム膜等またはこれらから選ばれた複数を積層した積層材料を含む膜を、絶縁膜521に用いることができる。 For example, a film containing a silicon oxide film, a silicon nitride film, a silicon nitride film, an aluminum oxide film, or a laminated material selected from these can be used as the insulating film 521.

なお、窒化シリコン膜は緻密な膜であり、不純物の拡散を抑制する機能に優れる。これにより、特に窒化シリコン膜を絶縁膜521等に好適に用いることができる。 The silicon nitride film is a dense film and has an excellent function of suppressing the diffusion of impurities. This makes it possible to particularly preferably use the silicon nitride film as the insulating film 521 or the like.

例えば、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリシロキサン若しくはアクリル樹脂等またはこれらから選択された複数の樹脂の積層材料もしくは複合材料などを絶縁膜521に用いることができる。また、感光性を有する材料を用いて形成してもよい。これにより、絶縁膜521は、例えば、絶縁膜521と重なるさまざまな構造に由来する段差を平坦化することができる。 For example, polyester, polyolefin, polyamide, polyimide, polycarbonate, polysiloxane, acrylic resin, etc., or a laminated material or a composite material of a plurality of resins selected from these can be used for the insulating film 521. Further, it may be formed by using a material having photosensitivity. Thereby, the insulating film 521 can, for example, flatten the step derived from various structures overlapping with the insulating film 521.

なお、ポリイミドは熱的安定性、絶縁性、靱性、低誘電率、低熱膨張率、耐薬品性などの特性において他の有機材料に比べて優れた特性を備える。これにより、特にポリイミドを絶縁膜521等に好適に用いることができる。 In addition, polyimide has excellent properties such as thermal stability, insulating property, toughness, low dielectric constant, low coefficient of thermal expansion, and chemical resistance as compared with other organic materials. This makes it possible to particularly preferably use polyimide for the insulating film 521 and the like.

《絶縁膜528》
例えば、絶縁膜521に用いることができる材料を絶縁膜528等に用いることができる。具体的には、厚さ1μmのポリイミドを含む膜を絶縁膜528に用いることができる。
<< Insulating film 528 >>
For example, a material that can be used for the insulating film 521 can be used for the insulating film 528 and the like. Specifically, a film containing a polyimide having a thickness of 1 μm can be used for the insulating film 528.

《絶縁膜518》
例えば、絶縁膜521に用いることができる材料を絶縁膜518に用いることができる。
<< Insulating film 518 >>
For example, a material that can be used for the insulating film 521 can be used for the insulating film 518.

例えば、酸素、水素、水、アルカリ金属、アルカリ土類金属等の拡散を抑制する機能を備える材料を絶縁膜518に用いることができる。具体的には、窒化物絶縁膜を絶縁膜518に用いることができる。例えば、窒化シリコン、窒化酸化シリコン、窒化アルミニウム、窒化酸化アルミニウム等を絶縁膜518に用いることができる。これにより、トランジスタの半導体膜への不純物の拡散を抑制することができる。例えば、トランジスタの半導体膜に用いる酸化物半導体膜からトランジスタの外部への酸素の拡散を抑制することができる。または、トランジスタの外部から酸化物半導体膜への水素または水等の拡散を抑制することができる。 For example, a material having a function of suppressing diffusion of oxygen, hydrogen, water, alkali metal, alkaline earth metal and the like can be used for the insulating film 518. Specifically, the nitride insulating film can be used for the insulating film 518. For example, silicon nitride, silicon nitride oxide, aluminum nitride, aluminum nitride and the like can be used for the insulating film 518. This makes it possible to suppress the diffusion of impurities into the semiconductor film of the transistor. For example, it is possible to suppress the diffusion of oxygen from the oxide semiconductor film used for the semiconductor film of the transistor to the outside of the transistor. Alternatively, it is possible to suppress the diffusion of hydrogen, water, or the like from the outside of the transistor to the oxide semiconductor film.

例えば、水素または窒素を供給する機能を有する材料を絶縁膜518に用いることができる。これにより、絶縁膜518に接する膜に水素または窒素を供給することができる。例えば、酸化物半導体膜に接するように絶縁膜518を形成し、当該酸化物半導体膜に水素または窒素を供給することができる。または、当該酸化物半導体膜に導電性を付与することができる。または、当該酸化物半導体膜を第2のゲート電極に用いることができる。 For example, a material having a function of supplying hydrogen or nitrogen can be used for the insulating film 518. As a result, hydrogen or nitrogen can be supplied to the film in contact with the insulating film 518. For example, the insulating film 518 can be formed so as to be in contact with the oxide semiconductor film, and hydrogen or nitrogen can be supplied to the oxide semiconductor film. Alternatively, conductivity can be imparted to the oxide semiconductor film. Alternatively, the oxide semiconductor film can be used for the second gate electrode.

《絶縁膜516》
例えば、絶縁膜521に用いることができる材料を絶縁膜516に用いることができる。具体的には、作製方法が異なる膜を積層した積層膜を絶縁膜516に用いることができる。
<< Insulating film 516 >>
For example, a material that can be used for the insulating film 521 can be used for the insulating film 516. Specifically, a laminated film in which films manufactured by different manufacturing methods are laminated can be used as the insulating film 516.

例えば、厚さが5nm以上150nm以下、好ましくは5nm以上50nm以下の酸化シリコンまたは酸化窒化シリコン等を含む第1の膜と、厚さが30nm以上500nm以下、好ましくは50nm以上400nm以下の、酸化シリコンまたは酸化窒化シリコン等を含む第2の膜とを積層した積層膜を、絶縁膜516に用いることができる。 For example, a first film containing silicon oxide or silicon oxide having a thickness of 5 nm or more and 150 nm or less, preferably 5 nm or more and 50 nm or less, and silicon oxide having a thickness of 30 nm or more and 500 nm or less, preferably 50 nm or more and 400 nm or less. Alternatively, a laminated film in which a second film containing silicon oxide or the like is laminated can be used for the insulating film 516.

具体的には、ESR測定により観測することができるシリコンのダングリングボンドに由来するg=2.001に現れる信号のスピン密度が3×1017spins/cm以下である膜を第1の膜に用いると好ましい。これにより、例えば、トランジスタの半導体膜に用いる酸化物半導体膜を、絶縁膜の形成にともなう損傷から、保護することができる。または、シリコンの欠陥に捉えられる酸素を低減することができる。または、酸素の透過または移動を容易にすることができる。 Specifically, the first film is a film in which the spin density of the signal appearing at g = 2.001 derived from the dangling bond of silicon that can be observed by ESR measurement is 3 × 10 17 spins / cm 3 or less. It is preferable to use it in. Thereby, for example, the oxide semiconductor film used for the semiconductor film of the transistor can be protected from the damage caused by the formation of the insulating film. Alternatively, oxygen trapped in silicon defects can be reduced. Alternatively, oxygen can be easily permeated or transferred.

また、例えば、ESR測定により観測することができるシリコンのダングリングボンドに由来するg=2.001に現れる信号のスピン密度が1.5×1018spins/cm未満、さらには1×1018spins/cm以下である材料を第2の膜に用いると好ましい。 Further, for example, the spin density of the signal appearing at g = 2.001 derived from the dangling bond of silicon that can be observed by ESR measurement is less than 1.5 × 10 18 spins / cm 3 , and further 1 × 10 18 It is preferable to use a material having spins / cm 3 or less for the second film.

《絶縁膜506》
例えば、絶縁膜521に用いることができる材料を絶縁膜506に用いることができる。具体的には、酸素の透過を抑制する機能を備える第1の膜と、酸素を供給する機能を備える第2の膜とを積層した積層膜を、絶縁膜506に用いることができる。これにより、例えば、トランジスタの半導体膜に用いる酸化物半導体膜に酸素を拡散することができる。
<< Insulating film 506 >>
For example, a material that can be used for the insulating film 521 can be used for the insulating film 506. Specifically, a laminated film obtained by laminating a first film having a function of suppressing oxygen permeation and a second film having a function of supplying oxygen can be used for the insulating film 506. Thereby, for example, oxygen can be diffused into the oxide semiconductor film used for the semiconductor film of the transistor.

具体的には、酸化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、窒化酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、酸化アルミニウム膜、酸化ハフニウム膜、酸化イットリウム膜、酸化ジルコニウム膜、酸化ガリウム膜、酸化タンタル膜、酸化マグネシウム膜、酸化ランタン膜、酸化セリウム膜または酸化ネオジム膜を含む膜を絶縁膜506に用いることができる。 Specifically, silicon oxide film, silicon nitride film, silicon nitride film, silicon nitride film, aluminum oxide film, hafnium oxide film, yttrium oxide film, zirconium oxide film, gallium oxide film, tantalum oxide film, magnesium oxide film. A film containing a lanthanum oxide film, a cerium oxide film or a neodymium oxide film can be used for the insulating film 506.

例えば、酸素雰囲気下において形成された膜を第2の膜に用いることができる。または、成膜後に酸素を導入した膜を第2の膜に用いることができる。具体的には、イオン注入法、イオンドーピング法、プラズマイマージョンイオン注入法、プラズマ処理等を用いて成膜後に酸素を導入することができる。 For example, a film formed in an oxygen atmosphere can be used as the second film. Alternatively, a film into which oxygen has been introduced after the film formation can be used as the second film. Specifically, oxygen can be introduced after film formation by using an ion implantation method, an ion doping method, a plasma immersion ion implantation method, a plasma treatment, or the like.

《絶縁膜573》
例えば、絶縁膜521に用いることができる材料を絶縁膜573に用いることができる。具体的には、絶縁膜573Aおよび絶縁膜573Bを積層した積層膜を絶縁膜573に用いることができる。
<< Insulating film 573 >>
For example, a material that can be used for the insulating film 521 can be used for the insulating film 573. Specifically, a laminated film in which the insulating film 573A and the insulating film 573B are laminated can be used for the insulating film 573.

例えば、酸化物または窒化物を絶縁膜573に用いることができる。具体的には、酸化アルミニウム、酸化ガリウム、酸化ゲルマニウム、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化ランタン、酸化ネオジム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、窒化シリコンまたは窒化アルミニウム等を絶縁膜573に用いることができる。 For example, oxides or nitrides can be used for the insulating film 573. Specifically, aluminum oxide, gallium oxide, germanium oxide, yttrium oxide, zirconium oxide, lanthanum oxide, neodymium oxide, hafnium oxide, tantalum oxide, silicon nitride, aluminum nitride and the like can be used for the insulating film 573.

具体的には、1×10-2g/(m・day)未満、好ましくは、5×10-3g/(m・day)以下、好ましくは1×10-4g/(m・day)以下、好ましくは1×10-5g/(m・day)以下、好ましくは1×10-6g/(m・day)以下の水蒸気透過率を備える膜を、絶縁膜573に用いる。 Specifically, it is less than 1 × 10 −2 g / (m 2 · day), preferably 5 × 10 -3 g / (m 2 · day) or less, preferably 1 × 10 -4 g / (m 2 ). A film having a water vapor transmittance of 1 × 10 -5 g / (m 2 · day) or less, preferably 1 × 10 -6 g / (m 2 · day) or less, preferably an insulating film 573. Used for.

例えば、スパッタリング法を用いて形成することができる膜を絶縁膜573Aに用いることができる。また、原子層堆積法(Atomic Layer Deposition法;ALD法)を用いて形成することができる膜を絶縁膜573Bに用いることができる。これにより、例えば、スパッタリング法を用いて形成される絶縁膜に生じる密度が低い領域を、原子層堆積法を用いて形成される緻密な絶縁膜で覆うことができる。または、スパッタリング法を用いて形成される絶縁膜に生じる不純物が拡散しやすい領域を、原子層堆積法を用いて形成される不純物の拡散しにくい膜で覆うことができる。または、外部から第2の表示素子への不純物の拡散を抑制することができる。 For example, a film that can be formed by using a sputtering method can be used for the insulating film 573A. Further, a film that can be formed by using an atomic layer deposition method (ALD method) can be used for the insulating film 573B. Thereby, for example, a region having a low density generated in the insulating film formed by the sputtering method can be covered with a dense insulating film formed by the atomic layer deposition method. Alternatively, the region where impurities generated in the insulating film formed by the sputtering method is likely to diffuse can be covered with a film formed by the atomic layer deposition method in which impurities are difficult to diffuse. Alternatively, it is possible to suppress the diffusion of impurities from the outside to the second display element.

具体的には、50nm以上1000nm以下、好ましくは100nm以上300nm以下の厚さの酸化アルミニウムを含む膜を、絶縁膜573Aに用いることができる。また、1nm以上100nm以下、好ましくは5nm以上50nm以下の厚さの酸化アルミニウムを含む膜を、絶縁膜573Aに用いることができる。 Specifically, a film containing aluminum oxide having a thickness of 50 nm or more and 1000 nm or less, preferably 100 nm or more and 300 nm or less can be used for the insulating film 573A. Further, a film containing aluminum oxide having a thickness of 1 nm or more and 100 nm or less, preferably 5 nm or more and 50 nm or less, can be used for the insulating film 573A.

《絶縁膜501C》
例えば、絶縁膜521に用いることができる材料を絶縁膜501Cに用いることができる。具体的には、シリコンおよび酸素を含む材料を絶縁膜501Cに用いることができる。これにより、画素回路または第2の表示素子等への不純物の拡散を抑制することができる。
<< Insulation film 501C >>
For example, a material that can be used for the insulating film 521 can be used for the insulating film 501C. Specifically, a material containing silicon and oxygen can be used for the insulating film 501C. This makes it possible to suppress the diffusion of impurities into the pixel circuit, the second display element, or the like.

例えば、シリコン、酸素および窒素を含む厚さ200nmの膜を絶縁膜501Cに用いることができる。 For example, a 200 nm thick film containing silicon, oxygen and nitrogen can be used as the insulating film 501C.

《配線、端子、導電膜》
導電性を備える材料を配線等に用いることができる。具体的には、導電性を備える材料を、信号線S1(j)、信号線S2(j)、走査線G1(i)、走査線G2(i)、配線CSCOM、導電膜ANO、端子519B、端子519C、導電膜511Bまたは導電膜511C等に用いることができる。
<< Wiring, terminals, conductive film >>
A material having conductivity can be used for wiring and the like. Specifically, the material having conductivity is a signal line S1 (j), a signal line S2 (j), a scanning line G1 (i), a scanning line G2 (i), a wiring CSCOM, a conductive film ANO, a terminal 519B, and the like. It can be used for the terminal 519C, the conductive film 511B, the conductive film 511C, or the like.

例えば、無機導電性材料、有機導電性材料、金属または導電性セラミックスなどを配線等に用いることができる。 For example, an inorganic conductive material, an organic conductive material, a metal, a conductive ceramic, or the like can be used for wiring or the like.

具体的には、アルミニウム、金、白金、銀、銅、クロム、タンタル、チタン、モリブデン、タングステン、ニッケル、鉄、コバルト、パラジウムまたはマンガンから選ばれた金属元素などを、配線等に用いることができる。または、上述した金属元素を含む合金などを、配線等に用いることができる。特に、銅とマンガンの合金がウエットエッチング法を用いた微細加工に好適である。 Specifically, a metal element selected from aluminum, gold, platinum, silver, copper, chromium, tantalum, titanium, molybdenum, tungsten, nickel, iron, cobalt, palladium or manganese can be used for wiring and the like. .. Alternatively, the above-mentioned alloy containing a metal element or the like can be used for wiring or the like. In particular, an alloy of copper and manganese is suitable for microfabrication using a wet etching method.

具体的には、アルミニウム膜上にチタン膜を積層する二層構造、窒化チタン膜上にチタン膜を積層する二層構造、窒化チタン膜上にタングステン膜を積層する二層構造、窒化タンタル膜または窒化タングステン膜上にタングステン膜を積層する二層構造、チタン膜と、そのチタン膜上にアルミニウム膜を積層し、さらにその上にチタン膜を形成する三層構造等を配線等に用いることができる。 Specifically, a two-layer structure in which a titanium film is laminated on an aluminum film, a two-layer structure in which a titanium film is laminated on a titanium nitride film, a two-layer structure in which a tungsten film is laminated on a titanium nitride film, a tantalum nitride film or A two-layer structure in which a titanium film is laminated on a tungsten nitride film, a titanium film, and a three-layer structure in which an aluminum film is laminated on the titanium film and a titanium film is formed on the titanium film can be used for wiring and the like. ..

具体的には、酸化インジウム、インジウム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化物、酸化亜鉛、ガリウムを添加した酸化亜鉛などの導電性酸化物を、配線等に用いることができる。 Specifically, conductive oxides such as indium oxide, indium tin oxide, indium zinc oxide, zinc oxide, and zinc oxide added with gallium can be used for wiring and the like.

具体的には、グラフェンまたはグラファイトを含む膜を配線等に用いることができる。 Specifically, a film containing graphene or graphite can be used for wiring or the like.

例えば、酸化グラフェンを含む膜を形成し、酸化グラフェンを含む膜を還元することにより、グラフェンを含む膜を形成することができる。還元する方法としては、熱を加える方法や還元剤を用いる方法等を挙げることができる。 For example, a film containing graphene can be formed by forming a film containing graphene oxide and reducing the film containing graphene oxide. Examples of the method of reduction include a method of applying heat and a method of using a reducing agent.

例えば、金属ナノワイヤーを含む膜を配線等に用いることができる。具体的には、銀を含むナノワイヤーを用いることができる。 For example, a film containing metal nanowires can be used for wiring and the like. Specifically, nanowires containing silver can be used.

具体的には、導電性高分子を配線等に用いることができる。 Specifically, a conductive polymer can be used for wiring and the like.

なお、例えば、導電材料ACF1を用いて、端子519Bとフレキシブルプリント基板FPC1を電気的に接続することができる。 For example, the conductive material ACF1 can be used to electrically connect the terminal 519B and the flexible printed substrate FPC1.

《第1の導電膜、第2の導電膜》
例えば、配線等に用いることができる材料を第1の導電膜または第2の導電膜に用いることができる。
<< 1st conductive film, 2nd conductive film >>
For example, a material that can be used for wiring or the like can be used for the first conductive film or the second conductive film.

また、電極751(i,j)または配線等を第1の導電膜に用いることができる。 Further, the electrode 751 (i, j), wiring, or the like can be used for the first conductive film.

また、スイッチSW1に用いることができるトランジスタのソース電極またはドレイン電極として機能する導電膜512Bまたは配線等を第2の導電膜に用いることができる。 Further, a conductive film 512B or wiring that functions as a source electrode or a drain electrode of a transistor that can be used for the switch SW1 can be used for the second conductive film.

《第1の表示素子750(i,j)》
例えば、光の反射または透過を制御する機能を備える表示素子を、第1の表示素子750(i,j)に用いることができる。例えば、液晶素子と偏光板を組み合わせた構成またはシャッター方式のMEMS表示素子、光干渉方式のMEMS表示素子等を用いることができる。反射型の表示素子を用いることにより、表示パネルの消費電力を抑制することができる。例えば、マイクロカプセル方式、電気泳動方式、エレクトロウエッティング方式などを用いる表示素子を、第1の表示素子750(i,j)に用いることができる。具体的には、反射型の液晶表示素子を第1の表示素子750(i,j)に用いることができる。
<< First display element 750 (i, j) >>
For example, a display element having a function of controlling the reflection or transmission of light can be used for the first display element 750 (i, j). For example, a configuration in which a liquid crystal element and a polarizing plate are combined, a shutter type MEMS display element, an optical interference type MEMS display element, or the like can be used. By using the reflective display element, the power consumption of the display panel can be suppressed. For example, a display element using a microcapsule method, an electrophoresis method, an electrowetting method, or the like can be used for the first display element 750 (i, j). Specifically, a reflective liquid crystal display element can be used for the first display element 750 (i, j).

例えば、IPS(In-Plane-Switching)モード、TN(Twisted Nematic)モード、FFS(Fringe Field Switching)モード、ASM(Axially Symmetric aligned Micro-cell)モード、OCB(Optically Compensated Birefringence)モード、FLC(Ferroelectric Liquid Crystal)モード、AFLC(AntiFerroelectric Liquid Crystal)モードなどの駆動方法を用いて駆動することができる液晶素子を用いることができる。 For example, IPS (In-Plane-Switching) mode, TN (Twisted Nematic) mode, FFS (Fringe Field Switching) mode, ASM (Axially Cymetric symmetric Micro-cell) mode, OCB (Optical Liquid Crystal) mode. A liquid crystal element that can be driven by using a driving method such as a Crystal) mode or an AFLC (Antiferroelectric Liquid Crystal) mode can be used.

また、例えば垂直配向(VA)モード、具体的には、MVA(Multi-Domain Vertical Alignment)モード、PVA(Patterned Vertical Alignment)モード、ECB(Electrically Controlled Birefringence)モード、CPA(Continuous Pinwheel Alignment)モード、ASV(Advanced Super-View)モードなどの駆動方法を用いて駆動することができる液晶素子を用いることができる。 Further, for example, a vertical orientation (VA) mode, specifically, an MVA (Multi-Domain Vertical Alignment) mode, a PVA (Patterned Vertical Alignment) mode, an ECB (Electrically Controlled Birefringence) mode, and a CB (Electrically Controlled Birefringence) mode. A liquid crystal element that can be driven by using a driving method such as the (Advanced Super-View) mode can be used.

第1の表示素子750(i,j)は、第1電極と、第2電極と、液晶材料を含む層と、を有する。液晶材料を含む層は、第1電極および第2電極の間の電圧を用いて配向を制御することができる液晶材料を含む。例えば、液晶材料を含む層の厚さ方向(縦方向ともいう)、縦方向と交差する方向(横方向または斜め方向ともいう)の電界を、液晶材料の配向を制御する電界に用いることができる。 The first display element 750 (i, j) has a first electrode, a second electrode, and a layer containing a liquid crystal material. The layer containing the liquid crystal material contains a liquid crystal material whose orientation can be controlled by using the voltage between the first electrode and the second electrode. For example, an electric field in the thickness direction (also referred to as a vertical direction) of a layer containing a liquid crystal material and a direction intersecting the vertical direction (also referred to as a horizontal direction or an oblique direction) can be used as an electric field for controlling the orientation of the liquid crystal material. ..

また、例えば、ゲスト・ホスト液晶モードを用いて駆動することができる液晶素子を第1の表示素子750(i,j)に用いることができる。これにより、偏光板を用いることなく反射型の表示パネルを提供することができる。または、表示パネルの表示を明るくすることができる。 Further, for example, a liquid crystal element that can be driven by using the guest / host liquid crystal mode can be used for the first display element 750 (i, j). This makes it possible to provide a reflective display panel without using a polarizing plate. Alternatively, the display on the display panel can be brightened.

《液晶材料を含む層753》
例えば、サーモトロピック液晶、低分子液晶、高分子液晶、高分子分散型液晶、強誘電性液晶、反強誘電性液晶等を、液晶材料を含む層に用いることができる。または、コレステリック相、スメクチック相、キュービック相、カイラルネマチック相、等方相等を示す液晶材料を用いることができる。または、ブルー相を示す液晶材料を用いることができる。
<< Layer 753 containing liquid crystal material >>
For example, a thermotropic liquid crystal, a low molecular weight liquid crystal, a polymer liquid crystal, a polymer dispersion type liquid crystal, a ferroelectric liquid crystal, an antiferroelectric liquid crystal, or the like can be used for a layer containing a liquid crystal material. Alternatively, a liquid crystal material exhibiting a cholesteric phase, a smectic phase, a cubic phase, a chiral nematic phase, an isotropic phase, or the like can be used. Alternatively, a liquid crystal material exhibiting a blue phase can be used.

例えば、ネガ型の液晶材料を、液晶材料を含む層に用いることができる。 For example, a negative liquid crystal material can be used for the layer containing the liquid crystal material.

例えば、1.0×1013Ω・cm以上、好ましくは1.0×1014Ω・cm以上、さらに好ましくは1.0×1015Ω・cm以上の固有抵抗率を備える液晶材料を、液晶材料を含む層753に用いる。これにより、第1の表示素子750(i,j)の透過率の変動を抑制することができる。または、第1の表示素子750(i,j)のチラツキを抑制することができる。または、第1の表示素子750(i,j)の書き換える頻度を低減することができる。 For example, a liquid crystal material having an intrinsic resistivity of 1.0 × 10 13 Ω · cm or more, preferably 1.0 × 10 14 Ω · cm or more, more preferably 1.0 × 10 15 Ω · cm or more is used as a liquid crystal display. Used for layer 753 containing material. This makes it possible to suppress fluctuations in the transmittance of the first display element 750 (i, j). Alternatively, the flicker of the first display element 750 (i, j) can be suppressed. Alternatively, the frequency of rewriting of the first display element 750 (i, j) can be reduced.

また、例えば、二色性色素を液晶材料を含む層753に用いることができる。なお、二色性色素を含む液晶材料をゲスト・ホスト液晶という。 Further, for example, the dichroic dye can be used for the layer 753 containing the liquid crystal material. A liquid crystal material containing a dichroic dye is called a guest-host liquid crystal.

具体的には、分子の長軸方向に大きな吸光度を備え、長軸方向と直交する短軸方向に小さな吸光度を備える材料を、二色性色素に用いることができる。好ましくは、10以上の二色性比を備える材料を二色性色素に用いることができ、より好ましくは、20以上の二色性比を備える材料を二色性色素に用いることができる。 Specifically, a material having a large absorbance in the major axis direction of the molecule and a small absorbance in the minor axis direction orthogonal to the major axis direction can be used for the dichroic dye. Preferably, a material having a dichroic ratio of 10 or more can be used for the dichroic dye, and more preferably, a material having a dichroic ratio of 20 or more can be used for the dichroic dye.

例えば、アゾ系色素、アントラキノン系色素、ジオキサジン系色素等を、二色性色素に用いることができる。 For example, an azo dye, an anthraquinone dye, dioxazine dye and the like can be used as the dichroic dye.

また、ホモジニアス配向した二色性色素を含む二層の液晶層を、配向方向が互いに直交するように重ねた構造を、液晶材料を含む層に用いることができる。これにより、全方位について光を吸収しやすくすることができる。または、コントラストを高めることができる。 Further, a structure in which two liquid crystal layers containing a homogenically oriented dichroic dye are stacked so that the orientation directions are orthogonal to each other can be used for the layer containing the liquid crystal material. This makes it easier to absorb light in all directions. Alternatively, the contrast can be increased.

また、相転移型ゲスト・ホスト液晶や、ゲスト・ホスト液晶を含む液滴を高分子に分散した構造を、液晶材料を含む層753に用いることができる。 Further, a phase transition type guest-host liquid crystal or a structure in which droplets containing the guest-host liquid crystal are dispersed in a polymer can be used for the layer 753 containing the liquid crystal material.

《電極751(i,j)、電極752》
例えば、配線等に用いることができる材料を、電極751(i,j)または電極752に用いることができる。例えば、配線等に用いることができる材料から選択された、透光性を備える材料を、電極751(i,j)または電極752に用いることができる。
<< Electrode 751 (i, j), Electrode 752 >>
For example, a material that can be used for wiring or the like can be used for the electrode 751 (i, j) or the electrode 752. For example, a material having translucency selected from materials that can be used for wiring and the like can be used for the electrode 751 (i, j) or the electrode 752.

例えば、導電性酸化物、光が透過する程度に薄い金属膜または金属ナノワイヤー等を電極752に用いることができる。 For example, a conductive oxide, a metal film thin enough to transmit light, metal nanowires, or the like can be used for the electrode 752.

具体的には、インジウムを含む導電性酸化物を電極752に用いることができる。または、厚さ1nm以上10nm以下の金属薄膜を電極752に用いることができる。また、銀を含む金属ナノワイヤーを電極752に用いることができる。 Specifically, a conductive oxide containing indium can be used for the electrode 752. Alternatively, a metal thin film having a thickness of 1 nm or more and 10 nm or less can be used for the electrode 752. Further, metal nanowires containing silver can be used for the electrode 752.

具体的には、酸化インジウム、インジウム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化物、酸化亜鉛、ガリウムを添加した酸化亜鉛、アルミニウムを添加した酸化亜鉛などを、電極752に用いることができる。 Specifically, indium oxide, indium tin oxide, indium zinc oxide, zinc oxide, zinc oxide added with gallium, zinc oxide added with aluminum, and the like can be used for the electrode 752.

《配向膜AF1、配向膜AF2》
例えば、ポリイミド等を含む材料を配向膜AF1または配向膜AF2に用いることができる。具体的には、液晶材料が所定の方向に配向するようにラビング処理された材料または光配向技術を用いて形成された材料を用いることができる。
<< Alignment film AF1, Alignment film AF2 >>
For example, a material containing polyimide or the like can be used for the alignment film AF1 or the alignment film AF2. Specifically, a material that has been subjected to a rubbing treatment so that the liquid crystal material is oriented in a predetermined direction or a material formed by using a photo-alignment technique can be used.

例えば、可溶性のポリイミドを含む膜を配向膜AF1または配向膜AF2に用いることができる。これにより、配向膜AF1を形成する際に必要とされる温度を低くすることができる。その結果、配向膜AF1を形成する際に他の構成に与える損傷を軽減することができる。 For example, a film containing a soluble polyimide can be used for the alignment film AF1 or the alignment film AF2. As a result, the temperature required for forming the alignment film AF1 can be lowered. As a result, it is possible to reduce damage to other configurations when forming the alignment film AF1.

《遮光膜BM》
例えば、光の透過を抑制する材料を遮光膜BMに用いることができる。これにより、遮光膜BMを例えばブラックマトリクスに用いることができる。
<< Shading film BM >>
For example, a material that suppresses the transmission of light can be used for the light-shielding film BM. Thereby, the light-shielding film BM can be used for, for example, a black matrix.

具体的には、顔料または染料を含む樹脂を遮光膜BMに用いることができる。例えば、カーボンブラックを分散した樹脂を遮光膜に用いることができる。 Specifically, a resin containing a pigment or a dye can be used for the light-shielding film BM. For example, a resin in which carbon black is dispersed can be used for the light-shielding film.

または、無機化合物、無機酸化物、複数の無機酸化物の固溶体を含む複合酸化物等を遮光膜BMに用いることができる。具体的には、黒色クロム膜、酸化第2銅を含む膜、塩化銅または塩化テルルを含む膜を遮光膜BMに用いることができる。 Alternatively, an inorganic compound, an inorganic oxide, a composite oxide containing a solid solution of a plurality of inorganic oxides, or the like can be used for the light-shielding film BM. Specifically, a black chromium film, a film containing cupric oxide, a film containing copper chloride or tellurium chloride can be used as the light-shielding film BM.

《絶縁膜771》
例えば、絶縁膜521に用いることができる材料を絶縁膜771に用いることができる。具体的には、単数の膜または複数の膜を積層した積層膜を絶縁膜771に用いることができる。
<< Insulating film 771 >>
For example, a material that can be used for the insulating film 521 can be used for the insulating film 771. Specifically, a single film or a laminated film in which a plurality of films are laminated can be used as the insulating film 771.

例えば、ポリイミド、エポキシ樹脂、アクリル樹脂等を絶縁膜771に用いることができる。これにより、絶縁膜771は、例えば、絶縁膜771と重なるさまざまな構造に由来する段差を平坦化することができる。 For example, polyimide, epoxy resin, acrylic resin and the like can be used for the insulating film 771. Thereby, the insulating film 771 can, for example, flatten the step derived from various structures overlapping with the insulating film 771.

例えば、透光性を有する材料を絶縁膜771に用いることができる。具体的には、窒化シリコンを絶縁膜771に用いることができる。これにより、例えば、液晶材料を含む層753への不純物の拡散を抑制することができる。または、不純物の拡散に伴う液晶材料を含む層753の固有抵抗率の低下を抑制することができる。または、第1の表示素子750(i,j)を書き換える頻度を低減することができる。 For example, a translucent material can be used for the insulating film 771. Specifically, silicon nitride can be used for the insulating film 771. Thereby, for example, it is possible to suppress the diffusion of impurities into the layer 753 containing the liquid crystal material. Alternatively, it is possible to suppress a decrease in the intrinsic resistivity of the layer 753 containing the liquid crystal material due to the diffusion of impurities. Alternatively, the frequency of rewriting the first display element 750 (i, j) can be reduced.

《機能膜770P、機能膜770D》
例えば、反射防止フィルム、偏光フィルム、位相差フィルム、光拡散フィルムまたは集光フィルム等を機能膜770Pまたは機能膜770Dに用いることができる。
<< Functional film 770P, Functional film 770D >>
For example, an antireflection film, a polarizing film, a retardation film, a light diffusing film, a light collecting film, or the like can be used for the functional film 770P or the functional film 770D.

具体的には、2色性色素を含む膜を機能膜770Dに用いることができる。または、基材の表面と交差する方向に沿った軸を備える柱状構造を有する材料を、機能膜770Dに用いることができる。これにより、光を軸に沿った方向に透過し易く、他の方向に散乱し易くすることができる。 Specifically, a film containing a dichroic dye can be used for the functional film 770D. Alternatively, a material having a columnar structure having an axis along the direction intersecting the surface of the base material can be used for the functional film 770D. As a result, light can be easily transmitted in the direction along the axis and easily scattered in other directions.

具体的には、円偏光フィルムを機能膜770Pに用いることができる。また、光拡散フィルムを機能膜770Dに用いることができる。 Specifically, a circularly polarizing film can be used for the functional film 770P. Further, the light diffusion film can be used for the functional film 770D.

また、ゴミの付着を抑制する帯電防止膜、汚れを付着しにくくする撥水性の膜、反射防止膜(アンチ・リフレクション膜)、非光沢処理膜(アンチ・グレア膜)、使用に伴う傷の発生を抑制するハードコート膜などを、機能膜770Pに用いることができる。 In addition, an antistatic film that suppresses the adhesion of dust, a water-repellent film that makes it difficult for dirt to adhere, an antireflection film (anti-reflection film), a non-glossy film (anti-glare film), and the occurrence of scratches due to use. A hard coat film or the like that suppresses the above can be used for the functional film 770P.

《第2の表示素子550(i,j)》
例えば、光を射出する機能を備える表示素子を第2の表示素子550(i,j)に用いることができる。具体的には、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機エレクトロルミネッセンス素子、発光ダイオードまたはQDLED(Quabtumn Dot LED)等を、第2の表示素子550(i,j)に用いることができる。
<< Second display element 550 (i, j) >>
For example, a display element having a function of emitting light can be used for the second display element 550 (i, j). Specifically, an organic electroluminescence element, an inorganic electroluminescence element, a light emitting diode, a QDLED (Quantum Dot LED), or the like can be used for the second display element 550 (i, j).

例えば、発光性の有機化合物を発光性の材料を含む層553に用いることができる。 For example, a luminescent organic compound can be used in the layer 553 containing the luminescent material.

例えば、量子ドットを発光性の材料を含む層553に用いることができる。これにより、半値幅が狭く、鮮やかな色の光を発することができる。 For example, quantum dots can be used in layer 553 containing a luminescent material. As a result, the half-value width is narrow and brightly colored light can be emitted.

例えば、青色の光を発するように積層された積層材料、緑色の光を発するように積層された積層材料または赤色の光を発するように積層された積層材料等を、発光性の材料を含む層553に用いることができる。 For example, a layer containing a luminescent material such as a laminated material laminated to emit blue light, a laminated material laminated to emit green light, or a laminated material laminated to emit red light. It can be used for 553.

例えば、信号線S2(j)に沿って列方向に長い帯状の積層材料を、発光性の材料を含む層553に用いることができる。 For example, a strip-shaped laminated material long in the column direction along the signal line S2 (j) can be used for the layer 553 containing the luminescent material.

また、例えば、白色の光を発するように積層された積層材料を、発光性の材料を含む層553に用いることができる。具体的には、青色の光を発する蛍光材料を含む発光性の材料を含む層と、緑色および赤色の光を発する蛍光材料以外の材料を含む層または黄色の光を発する蛍光材料以外の材料を含む層と、を積層した積層材料を、発光性の材料を含む層553に用いることができる。 Further, for example, a laminated material laminated so as to emit white light can be used for the layer 553 containing a luminescent material. Specifically, a layer containing a luminescent material containing a fluorescent material that emits blue light, a layer containing a material other than the fluorescent material that emits green and red light, or a material other than the fluorescent material that emits yellow light. A laminated material in which the containing layer and the laminated material are laminated can be used for the layer 553 containing the luminescent material.

例えば、配線等に用いることができる材料を電極551(i,j)に用いることができる。 For example, a material that can be used for wiring or the like can be used for the electrode 551 (i, j).

例えば、配線等に用いることができる材料から選択された、可視光について透光性を有する材料を、電極551(i,j)に用いることができる。 For example, a material having transparency for visible light selected from materials that can be used for wiring and the like can be used for the electrode 551 (i, j).

具体的には、導電性酸化物またはインジウムを含む導電性酸化物、酸化インジウム、インジウム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化物、酸化亜鉛、ガリウムを添加した酸化亜鉛などを、電極551(i,j)に用いることができる。または、光が透過する程度に薄い金属膜を電極551(i,j)に用いることができる。または、光の一部を透過し、光の他の一部を反射する金属膜を電極551(i,j)に用いることができる。これにより、微小共振器構造を第2の表示素子550(i,j)に設けることができる。その結果、所定の波長の光を他の光より効率よく取り出すことができる。 Specifically, a conductive oxide or a conductive oxide containing indium, indium oxide, indium tin oxide, indium zinc oxide, zinc oxide, zinc oxide to which gallium is added, or the like is used in the electrode 551 (i, j). Can be used for. Alternatively, a metal film thin enough to transmit light can be used for the electrode 551 (i, j). Alternatively, a metal film that transmits a part of the light and reflects the other part of the light can be used for the electrode 551 (i, j). Thereby, the microcavity structure can be provided in the second display element 550 (i, j). As a result, light having a predetermined wavelength can be extracted more efficiently than other light.

例えば、配線等に用いることができる材料を電極552に用いることができる。具体的には、可視光について反射性を有する材料を、電極552に用いることができる。 For example, a material that can be used for wiring or the like can be used for the electrode 552. Specifically, a material having reflectivity for visible light can be used for the electrode 552.

《駆動回路GD》
シフトレジスタ等のさまざまな順序回路等を駆動回路GDに用いることができる。例えば、トランジスタMD、容量素子等を駆動回路GDに用いることができる。具体的には、スイッチSW1に用いることができるトランジスタまたはトランジスタMと同一の工程で形成することができる半導体膜を備えるトランジスタを用いることができる。
<< Drive circuit GD >>
Various sequential circuits such as shift registers can be used for the drive circuit GD. For example, a transistor MD, a capacitive element, or the like can be used in the drive circuit GD. Specifically, a transistor that can be used for the switch SW1 or a transistor having a semiconductor film that can be formed in the same process as the transistor M can be used.

例えば、スイッチSW1に用いることができるトランジスタと異なる構成をトランジスタMDに用いることができる。具体的には、導電膜524を有するトランジスタをトランジスタMDに用いることができる(図4(B)参照)。 For example, a configuration different from the transistor that can be used for the switch SW1 can be used for the transistor MD. Specifically, a transistor having a conductive film 524 can be used for the transistor MD (see FIG. 4B).

なお、トランジスタMと同一の構成を、トランジスタMDに用いることができる。 The same configuration as that of the transistor M can be used for the transistor MD.

例えば、トランジスタMに用いることができるトランジスタと異なる構成をトランジスタMDに用いることができる。具体的には、金属膜を導電膜512C、導電膜512Dおよび導電膜504Eに用いることができる(図5(C)参照)。これにより、配線としての機能を兼ねる導電膜の電気抵抗を低減することができる。または、領域508Cに向かって進行する外光を遮光することができる。または、外光に起因するトランジスタの電気特性の異常を防ぐことができる。または、トランジスタの信頼性を向上することができる。 For example, a configuration different from the transistor that can be used for the transistor M can be used for the transistor MD. Specifically, the metal film can be used for the conductive film 512C, the conductive film 512D and the conductive film 504E (see FIG. 5C). This makes it possible to reduce the electrical resistance of the conductive film that also functions as wiring. Alternatively, it is possible to block external light traveling toward the region 508C. Alternatively, it is possible to prevent an abnormality in the electrical characteristics of the transistor due to external light. Alternatively, the reliability of the transistor can be improved.

《トランジスタ》
例えば、同一の工程で形成することができる半導体膜を駆動回路および画素回路のトランジスタに用いることができる。
《Transistor》
For example, semiconductor films that can be formed in the same process can be used for transistors in drive circuits and pixel circuits.

例えば、ボトムゲート型のトランジスタまたはトップゲート型のトランジスタなどを駆動回路のトランジスタまたは画素回路のトランジスタに用いることができる。 For example, a bottom gate type transistor or a top gate type transistor can be used as a drive circuit transistor or a pixel circuit transistor.

ところで、例えば、アモルファスシリコンを半導体に用いるボトムゲート型のトランジスタの製造ラインは、酸化物半導体を半導体に用いるボトムゲート型のトランジスタの製造ラインに容易に改造できる。また、例えばポリシリコンを半導体に用いるトップゲート型の製造ラインは、酸化物半導体を半導体に用いるトップゲート型のトランジスタの製造ラインに容易に改造できる。いずれの改造も、既存の製造ラインを有効に活用することができる。 By the way, for example, a bottom gate type transistor manufacturing line using amorphous silicon for a semiconductor can be easily modified into a bottom gate type transistor manufacturing line using an oxide semiconductor for a semiconductor. Further, for example, a top gate type manufacturing line using polysilicon as a semiconductor can be easily remodeled into a top gate type transistor manufacturing line using an oxide semiconductor as a semiconductor. Both modifications can make effective use of the existing production line.

例えば、14族の元素を含む半導体を半導体膜に用いるトランジスタを利用することができる。具体的には、シリコンを含む半導体を半導体膜に用いることができる。例えば、単結晶シリコン、ポリシリコン、微結晶シリコンまたはアモルファスシリコンなどを半導体膜に用いたトランジスタを用いることができる。 For example, a transistor using a semiconductor containing a Group 14 element for a semiconductor film can be used. Specifically, a semiconductor containing silicon can be used for the semiconductor film. For example, a transistor using single crystal silicon, polysilicon, microcrystalline silicon, amorphous silicon, or the like as a semiconductor film can be used.

なお、半導体にポリシリコンを用いるトランジスタの作製に要する温度は、半導体に単結晶シリコンを用いるトランジスタに比べて低い。 The temperature required for manufacturing a transistor using polysilicon as a semiconductor is lower than that of a transistor using single crystal silicon as a semiconductor.

また、ポリシリコンを半導体に用いるトランジスタの電界効果移動度は、アモルファスシリコンを半導体に用いるトランジスタに比べて高い。これにより、画素の開口率を向上することができる。また、極めて高い精細度で設けられた画素と、ゲート駆動回路およびソース駆動回路を同一の基板上に形成することができる。その結果、電子機器を構成する部品数を低減することができる。 Further, the field effect mobility of a transistor using polysilicon as a semiconductor is higher than that of a transistor using amorphous silicon as a semiconductor. This makes it possible to improve the aperture ratio of the pixels. Further, the pixel provided with extremely high definition and the gate drive circuit and the source drive circuit can be formed on the same substrate. As a result, the number of parts constituting the electronic device can be reduced.

ポリシリコンを半導体に用いるトランジスタの信頼性は、アモルファスシリコンを半導体に用いるトランジスタに比べて優れる。 The reliability of transistors using polysilicon as semiconductors is superior to that of transistors using amorphous silicon as semiconductors.

また、化合物半導体を用いるトランジスタを利用することができる。具体的には、ガリウムヒ素を含む半導体を半導体膜に用いることができる。 Further, a transistor using a compound semiconductor can be used. Specifically, a semiconductor containing gallium arsenide can be used for the semiconductor film.

また、有機半導体を用いるトランジスタを利用することができる。具体的には、ポリアセン類またはグラフェンを含む有機半導体を半導体膜に用いることができる。 Further, a transistor using an organic semiconductor can be used. Specifically, an organic semiconductor containing polyacenes or graphene can be used for the semiconductor film.

例えば、酸化物半導体を半導体膜に用いるトランジスタを利用することができる。具体的には、インジウムを含む酸化物半導体またはインジウムとガリウムと亜鉛を含む酸化物半導体を半導体膜に用いることができる。 For example, a transistor using an oxide semiconductor as a semiconductor film can be used. Specifically, an oxide semiconductor containing indium or an oxide semiconductor containing indium, gallium, and zinc can be used for the semiconductor film.

一例を挙げれば、オフ状態におけるリーク電流が、半導体膜にアモルファスシリコンを用いたトランジスタより小さいトランジスタを用いることができる。具体的には、酸化物半導体を半導体膜に用いたトランジスタを用いることができる。 As an example, a transistor whose leakage current in the off state is smaller than that of a transistor using amorphous silicon for the semiconductor film can be used. Specifically, a transistor using an oxide semiconductor as a semiconductor film can be used.

これにより、アモルファスシリコンを半導体膜に用いたトランジスタを利用する画素回路と比較して、画素回路が画像信号を保持することができる時間を長くすることができる。具体的には、フリッカーの発生を抑制しながら、選択信号を30Hz未満、好ましくは1Hz未満より好ましくは一分に一回未満の頻度で供給することができる。その結果、情報処理装置の使用者に蓄積する疲労を低減することができる。また、駆動に伴う消費電力を低減することができる。 As a result, the time during which the pixel circuit can hold the image signal can be lengthened as compared with the pixel circuit using a transistor using amorphous silicon as the semiconductor film. Specifically, the selection signal can be supplied at a frequency of less than 30 Hz, preferably less than 1 Hz, more preferably less than once a minute, while suppressing the occurrence of flicker. As a result, the fatigue accumulated in the user of the information processing apparatus can be reduced. In addition, the power consumption associated with driving can be reduced.

例えば、トランジスタをスイッチSW1に用いることができる(図5(B)参照)。トランジスタは、半導体膜508、導電膜504、導電膜512Aおよび導電膜512Bを備える。 For example, a transistor can be used for switch SW1 (see FIG. 5B). The transistor includes a semiconductor film 508, a conductive film 504, a conductive film 512A and a conductive film 512B.

半導体膜508は、導電膜512Aと電気的に接続される領域508Aと、導電膜512Bと電気的に接続される領域508Bと、を備える(図4(B)参照)。 The semiconductor film 508 includes a region 508A electrically connected to the conductive film 512A and a region 508B electrically connected to the conductive film 512B (see FIG. 4B).

半導体膜508は、領域508Aおよび領域508Bの間に導電膜504と重なる領域508Cを備える。 The semiconductor film 508 includes a region 508C that overlaps the conductive film 504 between the regions 508A and 508B.

領域508Aは可視光を透過する機能を備え、領域508Bは、可視光を透過する機能を備える。 The region 508A has a function of transmitting visible light, and the region 508B has a function of transmitting visible light.

導電膜504はゲート電極の機能を備える。 The conductive film 504 has the function of a gate electrode.

絶縁膜506は、半導体膜508および導電膜504の間に挟まれる領域を備える。絶縁膜506はゲート絶縁膜の機能を備える。 The insulating film 506 includes a region sandwiched between the semiconductor film 508 and the conductive film 504. The insulating film 506 has the function of a gate insulating film.

導電膜512Aはソース電極の機能またはドレイン電極の機能の一方を備え、導電膜512Bはソース電極の機能またはドレイン電極の機能の他方を備える。 The conductive film 512A has either the function of the source electrode or the function of the drain electrode, and the conductive film 512B has the function of the source electrode or the function of the drain electrode.

また、導電膜524を有するトランジスタを、駆動回路または画素回路のトランジスタに用いることができる(図4(B)参照)。導電膜524は、導電膜504との間に半導体膜508を挟む領域を備える。 Further, a transistor having a conductive film 524 can be used as a transistor in a drive circuit or a pixel circuit (see FIG. 4B). The conductive film 524 includes a region sandwiching the semiconductor film 508 with the conductive film 504.

なお、絶縁膜516は、導電膜524および半導体膜508の間に挟まれる領域を備える。また、例えば、導電膜504と同じ電位を供給する配線に導電膜524を電気的に接続することができる。 The insulating film 516 includes a region sandwiched between the conductive film 524 and the semiconductor film 508. Further, for example, the conductive film 524 can be electrically connected to a wiring that supplies the same potential as the conductive film 504.

例えば、タンタルおよび窒素を含む厚さ10nmの膜と、銅を含む厚さ300nmの膜と、を積層した導電膜を導電膜504に用いることができる。なお、銅を含む膜は、絶縁膜506との間に、タンタルおよび窒素を含む膜を挟む領域を備える。 For example, a conductive film in which a film having a thickness of 10 nm containing tantalum and nitrogen and a film having a thickness of 300 nm containing copper is laminated can be used for the conductive film 504. The copper-containing film has a region between the insulating film 506 and the tantalum and nitrogen-containing film.

例えば、シリコンおよび窒素を含む厚さ400nmの膜と、シリコン、酸素および窒素を含む厚さ200nmの膜と、を積層した積層膜を絶縁膜506に用いることができる。なお、シリコンおよび窒素を含む膜は、半導体膜508との間に、シリコン、酸素および窒素を含む膜を挟む領域を備える。 For example, a laminated film in which a film having a thickness of 400 nm containing silicon and nitrogen and a film having a thickness of 200 nm containing silicon, oxygen and nitrogen are laminated can be used as the insulating film 506. The film containing silicon and nitrogen includes a region sandwiching the film containing silicon, oxygen and nitrogen between the film and the semiconductor film 508.

例えば、インジウム、ガリウムおよび亜鉛を含む厚さ25nmの膜を、半導体膜508に用いることができる。 For example, a film having a thickness of 25 nm containing indium, gallium, and zinc can be used for the semiconductor film 508.

例えば、タングステンを含む厚さ50nmの膜と、アルミニウムを含む厚さ400nmの膜と、チタンを含む厚さ100nmの膜と、をこの順で積層した導電膜を、導電膜512Aまたは導電膜512Bに用いることができる。なお、タングステンを含む膜は、半導体膜508と接する領域を備える。 For example, a conductive film in which a film having a thickness of 50 nm containing tungsten, a film having a thickness of 400 nm containing aluminum, and a film having a thickness of 100 nm containing titanium are laminated in this order is formed on the conductive film 512A or 512B. Can be used. The film containing tungsten includes a region in contact with the semiconductor film 508.

なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。 It should be noted that this embodiment can be appropriately combined with other embodiments shown in the present specification.

(実施の形態2)
本実施の形態では、本発明の一態様の表示装置の構成について、図9および図10を参照しながら説明する。
(Embodiment 2)
In the present embodiment, the configuration of the display device according to one aspect of the present invention will be described with reference to FIGS. 9 and 10.

図9(A)は本発明の一態様の表示装置の表示装置の構成を説明するブロック図である。図9(B)は、図9(A)に示す画素の構成を説明するブロック図である。 FIG. 9A is a block diagram illustrating a configuration of a display device of the display device according to one aspect of the present invention. 9 (B) is a block diagram illustrating the configuration of the pixels shown in FIG. 9 (A).

図10(A)は図9(A)に示す表示パネルの構成とは異なる構成を説明するブロック図である。図10(B-1)乃至図10(B-3)は本発明の一態様の表示装置の外観を説明する図である。 FIG. 10A is a block diagram illustrating a configuration different from the configuration of the display panel shown in FIG. 9A. 10 (B-1) to 10 (B-3) are views illustrating the appearance of the display device according to one aspect of the present invention.

<表示装置の構成例>
本実施の形態で説明する表示装置は、制御部238と、表示パネル700と、を有する(図9(A)参照)。
<Display device configuration example>
The display device described in this embodiment includes a control unit 238 and a display panel 700 (see FIG. 9A).

《制御部238》
制御部238は、画像情報V1および制御情報SSを供給される機能を備える。
<< Control unit 238 >>
The control unit 238 has a function of supplying image information V1 and control information SS.

制御部238は、画像情報V1に基づいて第1の情報V11および第2の情報V12を生成する機能を備える。制御部238は、第1の情報V11および第2の情報V12を供給する機能を備える。 The control unit 238 has a function of generating the first information V11 and the second information V12 based on the image information V1. The control unit 238 has a function of supplying the first information V11 and the second information V12.

例えば、制御部238は、伸張回路234および画像処理回路235Mを備える。 For example, the control unit 238 includes an extension circuit 234 and an image processing circuit 235M.

《表示パネル700》
表示パネル700は、第1の情報V11および第2の情報V12を供給される機能を備える。また、表示パネル700は、画素702(i,j)を備える。
<< Display panel 700 >>
The display panel 700 has a function of being supplied with the first information V11 and the second information V12. Further, the display panel 700 includes pixels 702 (i, j).

画素702(i,j)は、第1の表示素子750(i,j)および第2の表示素子550(i,j)を備える(図9(B)参照)。 Pixels 702 (i, j) include a first display element 750 (i, j) and a second display element 550 (i, j) (see FIG. 9B).

第1の表示素子750(i,j)は、第1の情報V11に基づいて表示する機能を備え、第1の表示素子750(i,j)は反射型の表示素子である。 The first display element 750 (i, j) has a function of displaying based on the first information V11, and the first display element 750 (i, j) is a reflection type display element.

第2の表示素子550(i,j)は、第2の情報V12に基づいて表示する機能を備え、第2の表示素子550(i,j)は発光素子である。 The second display element 550 (i, j) has a function of displaying based on the second information V12, and the second display element 550 (i, j) is a light emitting element.

例えば、実施の形態1で説明する表示パネルを表示パネル700に用いることができる。または、表示パネル700Bを用いることができる。例えば、テレビジョン受像システム(図10(B-1)参照)、映像モニター(図10(B-2)参照)またはノートブックコンピュータ(図10(B-3)参照)などを提供することができる。 For example, the display panel described in the first embodiment can be used for the display panel 700. Alternatively, the display panel 700B can be used. For example, a television receiving system (see FIG. 10 (B-1)), a video monitor (see FIG. 10 (B-2)), a notebook computer (see FIG. 10 (B-3)), and the like can be provided. ..

これにより、第1の表示素子を用いて、反射光の強度を制御して、画像情報を表示することができる。または、第1の表示素子は外光を表示に利用することができる。または、外光の映り込みを認識しにくくすることができる。または、第2の表示素子を用いて画像情報を表示することができる。または、第1の表示素子を用いて表示される画像情報と重なるように、第2の表示素子を用いて画像情報を表示することができる。または、第1の表示素子を用いて表示される画像情報を第2の表示素子を用いて補うことができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示装置を提供することができる。 Thereby, the image information can be displayed by controlling the intensity of the reflected light by using the first display element. Alternatively, the first display element can utilize external light for display. Alternatively, it is possible to make it difficult to recognize the reflection of external light. Alternatively, the image information can be displayed using the second display element. Alternatively, the image information can be displayed by using the second display element so as to overlap with the image information displayed by the first display element. Alternatively, the image information displayed by using the first display element can be supplemented by using the second display element. As a result, it is possible to provide a new display device having excellent convenience or reliability.

ところで、ハイブリッド表示とは、1つのパネルにおいて、反射光と、自発光とを併用して、色調または光強度を互いに補完して、文字または画像を表示する方法である。または、ハイブリッド表示とは、同一画素または同一副画素において複数の表示素子から、それぞれの光を用いて、文字及び/または画像を表示する方法である。ただし、ハイブリッド表示を行っているハイブリッドディスプレイを局所的にみると、複数の表示素子のいずれか一方を用いて表示される画素または副画素と、複数の表示素子の双方を用いて表示される画素または副画素と、を有する場合がある。 By the way, the hybrid display is a method of displaying characters or images on one panel by using reflected light and self-luminous light in combination to complement each other in color tone or light intensity. Alternatively, the hybrid display is a method of displaying characters and / or images from a plurality of display elements in the same pixel or the same sub-pixel using their respective lights. However, when looking locally at a hybrid display that performs hybrid display, a pixel or sub-pixel displayed using either one of a plurality of display elements and a pixel displayed using both of the plurality of display elements. Or it may have a sub-pixel.

なお、本明細書等において、上記構成のいずれか1つまたは複数の表現を満たすものを、ハイブリッド表示という。 In the present specification and the like, a display that satisfies any one or more of the above configurations is referred to as a hybrid display.

また、ハイブリッドディスプレイは、同一画素または同一副画素に複数の表示素子を有する。なお、複数の表示素子としては、例えば、光を反射する反射型素子と、光を射出する自発光素子とが挙げられる。なお、反射型素子と、自発光素子とは、それぞれ独立に制御することができる。ハイブリッドディスプレイは、表示部において、反射光、及び自発光のいずれか一方または双方を用いて、文字及び/または画像を表示する機能を有する。 Further, the hybrid display has a plurality of display elements in the same pixel or the same sub-pixel. Examples of the plurality of display elements include a reflective element that reflects light and a self-luminous element that emits light. The reflective element and the self-luminous element can be controlled independently. The hybrid display has a function of displaying characters and / or an image by using one or both of reflected light and self-luminous light in a display unit.

《伸張回路234》
伸張回路234は、圧縮された状態で供給される画像情報V1を伸張する機能を備える。伸張回路234は、記憶部を備える。記憶部は、例えば伸張された画像情報を記憶する機能を備える。
<< Expansion circuit 234 >>
The decompression circuit 234 has a function of decompressing the image information V1 supplied in a compressed state. The extension circuit 234 includes a storage unit. The storage unit has, for example, a function of storing stretched image information.

《画像処理回路235M》
画像処理回路235Mは、例えば、領域235M(1)および領域235M(2)を備える。
<< Image processing circuit 235M >>
The image processing circuit 235M includes, for example, a region 235M (1) and a region 235M (2).

領域235M(1)または領域235M(2)は、例えば、画像情報V1に含まれる情報を記憶する機能を備える。 The area 235M (1) or the area 235M (2) has, for example, a function of storing information included in the image information V1.

また、画像処理回路235Mは、例えば、所定の特性曲線に基づいて画像情報V1を補正して情報V11を生成する機能と、情報V11を供給する機能と、を備える。具体的には、第1の表示素子が良好な画像を表示するように、情報V11を生成する機能を備える。 Further, the image processing circuit 235M has, for example, a function of correcting the image information V1 based on a predetermined characteristic curve to generate the information V11 and a function of supplying the information V11. Specifically, it has a function of generating information V11 so that the first display element displays a good image.

画像処理回路235Mは、例えば、所定の特性曲線に基づいて画像情報V1を補正して情報V12を生成する機能と、情報V12を供給する機能と、を備える。具体的には、第2の表示素子が良好な画像を表示するように、情報V12を生成する機能を備える。 The image processing circuit 235M includes, for example, a function of correcting the image information V1 based on a predetermined characteristic curve to generate the information V12 and a function of supplying the information V12. Specifically, it has a function of generating information V12 so that the second display element displays a good image.

なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。 It should be noted that this embodiment can be appropriately combined with other embodiments shown in the present specification.

(実施の形態3)
本実施の形態では、本発明の一態様の入出力装置の構成について、図11を参照しながら説明する。
(Embodiment 3)
In the present embodiment, the configuration of the input / output device of one aspect of the present invention will be described with reference to FIG.

図11は本発明の一態様の入出力装置の構成を説明するブロック図である。 FIG. 11 is a block diagram illustrating a configuration of an input / output device according to an aspect of the present invention.

<入出力装置の構成例>
本実施の形態で説明する入出力装置は、入力部240と、表示部230と、を有する(図11参照)。例えば、実施の形態1に記載の表示パネル700を表示部230に用いることができる。
<I / O device configuration example>
The input / output device described in this embodiment includes an input unit 240 and a display unit 230 (see FIG. 11). For example, the display panel 700 according to the first embodiment can be used for the display unit 230.

入力部240は検知領域241を備える。入力部240は検知領域241に近接するものを検知する機能を備える。 The input unit 240 includes a detection area 241. The input unit 240 has a function of detecting an object close to the detection area 241.

検知領域241は、画素702(i,j)と重なる領域を備える。 The detection area 241 includes an area that overlaps with the pixel 702 (i, j).

《入力部240》
入力部240は検知領域241を備える。入力部240は発振回路OSCおよび検知回路DCを備えることができる(図11参照)。
<< Input unit 240 >>
The input unit 240 includes a detection area 241. The input unit 240 can include an oscillation circuit OSC and a detection circuit DC (see FIG. 11).

《検知領域241》
検知領域241は、例えば、単数または複数の検知素子を備えることができる。
<< Detection area 241 >>
The detection region 241 may include, for example, a single or a plurality of detection elements.

検知領域241は、一群の検知素子775(g,1)乃至検知素子775(g,q)と、他の一群の検知素子775(1,h)乃至検知素子775(p,h)と、を有する(図11参照)。なお、gは1以上p以下の整数であり、hは1以上q以下の整数であり、pおよびqは1以上の整数である。 The detection region 241 includes a group of detection elements 775 (g, 1) to detection elements 775 (g, q) and another group of detection elements 775 (1, h) to detection elements 775 (p, h). Have (see FIG. 11). Note that g is an integer of 1 or more and p or less, h is an integer of 1 or more and q or less, and p and q are integers of 1 or more.

一群の検知素子775(g,1)乃至検知素子775(g,q)は、検知素子775(g,h)を含み、行方向(図中に矢印R2で示す方向)に配設される。なお、図11に矢印R2で示す方向は、図11に矢印R1で示す方向と同じであっても良いし、異なっていてもよい。 The group of detection elements 775 (g, 1) to detection element 775 (g, q) includes the detection element 775 (g, h) and are arranged in the row direction (direction indicated by arrow R2 in the figure). The direction indicated by the arrow R2 in FIG. 11 may be the same as or different from the direction indicated by the arrow R1 in FIG.

また、他の一群の検知素子775(1,h)乃至検知素子775(p,h)は、検知素子775(g,h)を含み、行方向と交差する列方向(図中に矢印C2で示す方向)に配設される。 Further, another group of detection elements 775 (1, h) to detection element 775 (p, h) includes the detection element 775 (g, h), and the column direction intersecting the row direction (arrow C2 in the figure). It is arranged in the direction shown).

《検知素子》
検知素子は近接するポインタを検知する機能を備える。例えば、指やスタイラスペン等をポインタに用いることができる。例えば、金属片またはコイル等を、スタイラスペンに用いることができる。
<< Detection element >>
The detection element has a function of detecting a pointer in the vicinity. For example, a finger, a stylus pen, or the like can be used as a pointer. For example, a piece of metal, a coil, or the like can be used for the stylus pen.

具体的には、静電容量方式の近接センサ、電磁誘導方式の近接センサ、光学方式の近接センサ、抵抗膜方式の近接センサなどを、検知素子に用いることができる。 Specifically, a capacitance type proximity sensor, an electromagnetic induction type proximity sensor, an optical type proximity sensor, a resistance film type proximity sensor, or the like can be used as the detection element.

また、複数の方式の検知素子を併用することもできる。例えば、指を検知する検知素子と、スタイラスペンを検知する検知素子とを、併用することができる。これにより、ポインタの種類を判別することができる。または、判別したポインタの種類に基づいて、異なる命令を検知情報に関連付けることができる。具体的には、ポインタに指を用いたと判別した場合は、検知情報をジェスチャーと関連付けることができる。または、ポインターにスタイラスペンを用いたと判別した場合は、検知情報を描画処理と関連付けることができる。 Further, a plurality of types of detection elements can be used in combination. For example, a detection element that detects a finger and a detection element that detects a stylus pen can be used in combination. This makes it possible to determine the type of pointer. Alternatively, different instructions can be associated with the detection information based on the determined pointer type. Specifically, when it is determined that the finger is used for the pointer, the detection information can be associated with the gesture. Alternatively, if it is determined that the stylus pen is used for the pointer, the detection information can be associated with the drawing process.

具体的には、静電容量方式または光学方式の近接センサを用いて、指を検知することができる。または、電磁誘導方式または光学方式の近接センサを用いて、スタイラスペンを検知することができる。 Specifically, a finger can be detected by using a capacitive or optical proximity sensor. Alternatively, the stylus pen can be detected using an electromagnetic induction type or optical type proximity sensor.

なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。 It should be noted that this embodiment can be appropriately combined with other embodiments shown in the present specification.

(実施の形態4)
本実施の形態では、本発明の一態様の入出力パネルの構成について、図12乃至図15を参照しながら説明する。
(Embodiment 4)
In the present embodiment, the configuration of the input / output panel of one aspect of the present invention will be described with reference to FIGS. 12 to 15.

図12は本発明の一態様の入出力パネルの構成を説明する図である。図12(A)は入出力パネルの上面図である。図12(B)は入出力パネルの入力部の一部を説明する模式図であり、図12(C)は図12(B)の一部を説明する模式図である。 FIG. 12 is a diagram illustrating a configuration of an input / output panel according to an aspect of the present invention. FIG. 12A is a top view of the input / output panel. 12 (B) is a schematic diagram illustrating a part of the input unit of the input / output panel, and FIG. 12 (C) is a schematic diagram illustrating a part of FIG. 12 (B).

図13は本発明の一態様の入出力パネルに用いることができる検知素子の構成を説明する図である。図13(A)は検知素子の一部を説明する上面図であり、図13(B)は図13(A)の切断線Z1-Z2における断面図である。 FIG. 13 is a diagram illustrating a configuration of a detection element that can be used in the input / output panel of one aspect of the present invention. 13 (A) is a top view illustrating a part of the detection element, and FIG. 13 (B) is a cross-sectional view taken along the cutting line Z1-Z2 of FIG. 13 (A).

図14および図15は本発明の一態様の入出力パネルの構成を説明する図である。図14(A)は図12(A)の切断線X1-X2、切断線X3-X4、図13(A)の切断線X5-X6、切断線X7-X8における断面図であり、図14(B)は図14(A)の一部の構成を説明する断面図である。 14 and 15 are diagrams illustrating the configuration of an input / output panel according to one aspect of the present invention. 14 (A) is a cross-sectional view taken along the cutting lines X1-X2 and X3-X4 of FIG. 12 (A), the cutting lines X5-X6 of FIG. 13 (A), and the cutting lines X7-X8. B) is a cross-sectional view illustrating a partial configuration of FIG. 14 (A).

図15は図13(A)の切断線X9-X10、図12(A)の切断線X11-X12、切断線X11-X12における断面図である。 15 is a cross-sectional view taken along the cutting line X9-X10 of FIG. 13A, the cutting line X11-X12 of FIG. 12A, and the cutting line X11-X12 of FIG. 12A.

<入出力パネルの構成例1.>
本実施の形態で説明する入出力パネル700TP2は、機能層720の構成が異なる点、検知領域241を備える点およびトップゲート型のトランジスタを有する点が、例えば、実施の形態Aにおいて説明する表示パネル700とは異なる。ここでは、異なる部分について詳細に説明し、同様の構成を用いることができる部分について上記の説明を援用する。
<I / O panel configuration example 1. >
The input / output panel 700TP2 described in the present embodiment is different in the configuration of the functional layer 720, has a detection region 241 and has a top gate type transistor, for example, is a display panel described in the A embodiment. Different from 700. Here, the different parts will be described in detail, and the above description will be applied to the parts where the same configuration can be used.

《機能層720》
機能層720は、基板770および絶縁膜501Cの間に挟まれる領域を備える(図14(A)参照)。機能層720は、絶縁膜771と、制御線CL(g)と、検知信号線ML(h)と、検知素子775(g,h)と、を備える(図13(B)、図14(A)および図15参照)。
<< Functional layer 720 >>
The functional layer 720 includes a region sandwiched between the substrate 770 and the insulating film 501C (see FIG. 14A). The functional layer 720 includes an insulating film 771, a control line CL (g), a detection signal line ML (h), and a detection element 775 (g, h) (FIGS. 13 (B) and 14 (A). ) And FIG. 15).

なお、制御線CL(g)および電極752の間、または、検知信号線ML(h)および電極752の間に、0.2μm以上16μm以下、好ましくは1μm以上8μm以下、より好ましくは2.5μm以上4μm以下の間隔を備える(図13(B)参照)。これにより、制御信号または検知信号が第1の表示素子の表示状態に与える影響を抑制することができる。または、入出力パネルを薄くすることができる。 Between the control line CL (g) and the electrode 752, or between the detection signal line ML (h) and the electrode 752, 0.2 μm or more and 16 μm or less, preferably 1 μm or more and 8 μm or less, more preferably 2.5 μm. It has an interval of 4 μm or less (see FIG. 13B). As a result, it is possible to suppress the influence of the control signal or the detection signal on the display state of the first display element. Alternatively, the input / output panel can be made thinner.

《検知領域241》
検知領域241は、制御線CL(g)、検知信号線ML(h)および検知素子775(g,h)を備える(図11参照)。
<< Detection area 241 >>
The detection region 241 includes a control line CL (g), a detection signal line ML (h), and a detection element 775 (g, h) (see FIG. 11).

検知素子775(g,h)は、制御線CL(g)および検知信号線ML(h)と電気的に接続される。 The detection element 775 (g, h) is electrically connected to the control line CL (g) and the detection signal line ML (h).

なお、制御線CL(g)は制御信号を供給する機能を備え、検知信号線ML(h)は、検知信号を供給される機能を備える。 The control line CL (g) has a function of supplying a control signal, and the detection signal line ML (h) has a function of supplying a detection signal.

《検知素子775(g,h)の構成例1.》
検知素子775(g,h)は、制御信号および画素702(i,j)と重なる領域に近接するものとの距離に基づいて変化する検知信号を供給する機能を備える。
<< Configuration example of detection element 775 (g, h) 1. 》
The detection element 775 (g, h) has a function of supplying a control signal and a detection signal that changes based on the distance between the pixel 702 (i, j) and an object close to the overlapping region.

検知素子775(g,h)は、電極C(g)と、電極M(h)と、を備える(図12(B)参照)。 The detection element 775 (g, h) includes an electrode C (g) and an electrode M (h) (see FIG. 12B).

電極C(g)は画素702(i,j)と重なる領域に透光性を有する領域を備え、電極C(g)は制御線CL(g)と電気的に接続される。 The electrode C (g) has a translucent region in a region overlapping the pixels 702 (i, j), and the electrode C (g) is electrically connected to the control line CL (g).

電極M(h)は、画素702(i,j)と重なる領域に透光性を有する領域を備え、電極M(h)は検知信号線ML(h)と電気的に接続される。また、電極M(h)は画素702(i,j)と重なる領域に近接するものによって一部が遮られる電界を、電極C(g)との間に形成するように配置される。 The electrode M (h) has a translucent region in a region overlapping the pixels 702 (i, j), and the electrode M (h) is electrically connected to the detection signal line ML (h). Further, the electrode M (h) is arranged so as to form an electric field between the electrode C (g) and the electrode M (h), which is partially blocked by an object close to the region overlapping the pixel 702 (i, j).

これにより、表示部を用いて画像情報を表示しながら、表示パネルの表示を遮ることなく、表示部と重なる領域に近接するものを検知することができる。または、表示部に近接させる指などをポインタに用いて、位置情報を入力することができる。または、位置情報を表示部に表示する画像情報に関連付けることができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な入出力装置を提供することができる。 As a result, while displaying the image information using the display unit, it is possible to detect an object close to the area overlapping the display unit without interrupting the display on the display panel. Alternatively, the position information can be input by using a finger or the like close to the display unit as the pointer. Alternatively, the position information can be associated with the image information displayed on the display unit. As a result, it is possible to provide a new input / output device having excellent convenience or reliability.

《電極C(g)、電極M(h)》
例えば、透光性を備える導電膜を、電極C(g)および電極M(h)に用いることができる。または、画素702(i,j)と重なる領域に開口部を備える導電膜を、電極C(g)および電極M(h)に用いることができる。
<< Electrode C (g), Electrode M (h) >>
For example, a translucent conductive film can be used for the electrode C (g) and the electrode M (h). Alternatively, a conductive film having an opening in a region overlapping the pixels 702 (i, j) can be used for the electrode C (g) and the electrode M (h).

透明導電膜より導電率が高い金属膜を、電極C(g)および電極M(h)に用いることができる。これにより、検知素子の感度を高めることができる。または、検知領域241の面積を大きくすることができる。 A metal film having a higher conductivity than the transparent conductive film can be used for the electrode C (g) and the electrode M (h). This makes it possible to increase the sensitivity of the detection element. Alternatively, the area of the detection area 241 can be increased.

表示パネルの使用者の側に暗色の膜が配置されるように、暗色の膜および金属膜を積層した導電膜を、電極C(g)および電極M(h)に用いることができる。例えば、酸化第2銅を含む膜、塩化銅または塩化テルルを含む膜などを暗色の膜に用いることができる。これにより、電極C1(g)、電極C2(h)、制御線CL(g)または検知信号線ML(h)による外光の反射を弱めることができる。その結果、表示素子の表示を際立たせ、良好な表示をすることができる。 A conductive film in which a dark-colored film and a metal film are laminated can be used for the electrode C (g) and the electrode M (h) so that the dark-colored film is arranged on the user side of the display panel. For example, a film containing cupric oxide, a film containing copper chloride or tellurium chloride, or the like can be used as a dark-colored film. Thereby, the reflection of external light by the electrode C1 (g), the electrode C2 (h), the control line CL (g) or the detection signal line ML (h) can be weakened. As a result, the display of the display element can be made to stand out and a good display can be obtained.

《制御線CL(g)、検知信号線ML(h)》
制御線CL(g)は、行方向に配設される一群の検知素子775(g,1)乃至検知素子775(g,q)と電気的に接続される(図11(B)または図12(B)参照)。
<< Control line CL (g), detection signal line ML (h) >>
The control line CL (g) is electrically connected to a group of detection elements 775 (g, 1) to detection elements 775 (g, q) arranged in the row direction (FIG. 11 (B) or FIG. 12). (B)).

例えば、電極C(g)と同一の工程で形成することができる導電膜を、制御線CL(g)に用いることができる。具体的には、暗色膜CL(g)Bと導電膜CL(g)Aを積層した積層膜を、制御線CL(g)に用いることができる。 For example, a conductive film that can be formed in the same process as the electrode C (g) can be used for the control line CL (g). Specifically, a laminated film in which the dark color film CL (g) B and the conductive film CL (g) A are laminated can be used for the control line CL (g).

検知信号線ML(h)は、列方向に配設される他の一群の検知素子775(1,h)乃至検知素子775(p,h)と電気的に接続される。 The detection signal line ML (h) is electrically connected to another group of detection elements 775 (1, h) to detection elements 775 (p, h) arranged in the column direction.

例えば、電極M(h)と同一の工程で形成することができる導電膜を、制御線ML(h)に用いることができる。具体的には、暗色膜ML(h)Bと導電膜ML(h)Aを積層した積層膜を、検知信号線ML(h)に用いることができる。 For example, a conductive film that can be formed in the same process as the electrode M (h) can be used for the control line ML (h). Specifically, a laminated film in which the dark color film ML (h) B and the conductive film ML (h) A are laminated can be used for the detection signal line ML (h).

検知信号線ML(h)は、導電膜BR(g,h)を含む(図13(A)または図13(B)参照)。導電膜BR(g,h)は、制御線CL(g)と重なる領域を備える。 The detection signal line ML (h) includes the conductive film BR (g, h) (see FIG. 13 (A) or FIG. 13 (B)). The conductive film BR (g, h) includes a region overlapping the control line CL (g).

なお、絶縁膜721Aは制御線CL(g)および導電膜BR(g,h)の間に挟まれる領域を備える。これにより、制御線CL(g)および導電膜BR(g,h)の短絡を防止することができる(図13(B)参照)。また、絶縁膜721Bは導電膜BR(g,h)を保護する機能を備える。 The insulating film 721A includes a region sandwiched between the control line CL (g) and the conductive film BR (g, h). This makes it possible to prevent a short circuit between the control line CL (g) and the conductive film BR (g, h) (see FIG. 13B). Further, the insulating film 721B has a function of protecting the conductive film BR (g, h).

《発振回路OSC》
発振回路OSCは、制御線CL(g)と電気的に接続され、制御信号を供給する機能を備える。例えば、矩形波、のこぎり波また三角波等を制御信号に用いることができる。
<< Oscillation circuit OSC >>
The oscillation circuit OSC is electrically connected to the control line CL (g) and has a function of supplying a control signal. For example, a rectangular wave, a sawtooth wave, a triangular wave, or the like can be used as a control signal.

《検知回路DC》
検知回路DCは、検知信号線ML(h)と電気的に接続され、検知信号線ML(h)の電位の変化に基づいて検知信号を供給する機能を備える。なお、検知信号は、例えば、位置情報P1を含む。
<< Detection circuit DC >>
The detection circuit DC is electrically connected to the detection signal line ML (h) and has a function of supplying a detection signal based on a change in the potential of the detection signal line ML (h). The detection signal includes, for example, the position information P1.

《表示部230》
例えば、実施の形態Aにおいて説明する表示パネルを表示部230に用いることができる。または、実施の形態Bにおいて説明する表示装置を表示部230に用いることができる。
<< Display 230 >>
For example, the display panel described in the A embodiment can be used for the display unit 230. Alternatively, the display device described in the B embodiment can be used for the display unit 230.

ところで、第2の表示素子550(i,j)が射出する光の一部が、液晶材料を含む層753を透過した後に、制御線CL(g)または電極752等により、反射される場合がある。例えば、電極752および電極751(i,j)の間で反射が繰り返される場合がある。または、基板770および電極751(i,j)の間で反射が繰り返される場合がある。これにより、第2の表示素子が射出する光は、間接照明のように画像情報を表示することができる。または、第2の表示素子は、やわらかく表示をすることができる。 By the way, a part of the light emitted by the second display element 550 (i, j) may be reflected by the control line CL (g), the electrode 752, or the like after passing through the layer 753 containing the liquid crystal material. be. For example, reflection may be repeated between the electrode 752 and the electrode 751 (i, j). Alternatively, reflection may be repeated between the substrate 770 and the electrode 751 (i, j). As a result, the light emitted by the second display element can display image information like indirect lighting. Alternatively, the second display element can display softly.

《導電膜511D》
また、本実施の形態で説明する入出力パネル700TP2は、導電膜511Dを有する(図15参照)。
<< Conductive film 511D >>
Further, the input / output panel 700TP2 described in the present embodiment has a conductive film 511D (see FIG. 15).

導電膜511Dは、例えば、制御線CL(g)と電気的に接続することができる。具体的には、導電膜511Dおよび制御線CL(g)の間に挟まれる導電材料を用いて電気的に接続することができる。 The conductive film 511D can be electrically connected to, for example, the control line CL (g). Specifically, it can be electrically connected by using a conductive material sandwiched between the conductive film 511D and the control line CL (g).

導電膜511Dは、例えば、検知信号線ML(h)と電気的に接続することができる。具体的には、導電膜511Dおよび検知信号線ML(h)の間に挟まれる導電材料を用いて電気的に接続することができる。なお、例えば、配線等に用いることができる材料を導電膜511Dに用いることができる。 The conductive film 511D can be electrically connected to, for example, the detection signal line ML (h). Specifically, it can be electrically connected by using a conductive material sandwiched between the conductive film 511D and the detection signal line ML (h). For example, a material that can be used for wiring or the like can be used for the conductive film 511D.

《端子519D》
また、本実施の形態で説明する入出力パネル700TP2は、端子519Dを有する。端子519Dは、導電膜511Dと電気的に接続する。
<< Terminal 519D >>
Further, the input / output panel 700TP2 described in this embodiment has a terminal 519D. The terminal 519D is electrically connected to the conductive film 511D.

例えば、配線等に用いることができる材料を端子519Dに用いることができる。具体的には、端子519Bまたは端子519Cと同じ構成を端子519Dに用いることができる(図15参照)。 For example, a material that can be used for wiring or the like can be used for the terminal 519D. Specifically, the same configuration as terminal 519B or terminal 519C can be used for terminal 519D (see FIG. 15).

なお、例えば、導電材料ACF2を用いて、端子519Dとフレキシブルプリント基板FPC2を電気的に接続することができる。これにより、例えば、端子519Dを用いて制御信号を制御線CL(g)に供給することができる。または、端子519Dを用いて検知信号を、検知信号線ML(h)から供給することができる。 In addition, for example, the terminal 519D and the flexible printed substrate FPC2 can be electrically connected by using the conductive material ACF2. Thereby, for example, the control signal can be supplied to the control line CL (g) by using the terminal 519D. Alternatively, the detection signal can be supplied from the detection signal line ML (h) using the terminal 519D.

《絶縁膜501D》
例えば、絶縁膜506に用いることができる材料を絶縁膜501Dに用いることができる。
<< Insulating film 501D >>
For example, a material that can be used for the insulating film 506 can be used for the insulating film 501D.

《スイッチSW1、トランジスタM、トランジスタMD》
例えば、同一の工程で形成することができる半導体膜を駆動回路および画素回路のトランジスタに用いることができる。
<< Switch SW1, Transistor M, Transistor MD >>
For example, semiconductor films that can be formed in the same process can be used for transistors in drive circuits and pixel circuits.

例えば、トランジスタをスイッチSW1に用いることができる(図14(B)参照)。トランジスタは、半導体膜508、導電膜504、導電膜512Aおよび導電膜512Bを備える。 For example, a transistor can be used for switch SW1 (see FIG. 14B). The transistor includes a semiconductor film 508, a conductive film 504, a conductive film 512A and a conductive film 512B.

半導体膜508は、導電膜512Aと電気的に接続される領域508Aと、導電膜512Bと電気的に接続される領域508Bと、を備える(図14(B)参照)。 The semiconductor film 508 includes a region 508A electrically connected to the conductive film 512A and a region 508B electrically connected to the conductive film 512B (see FIG. 14B).

半導体膜508は、領域508Aおよび領域508Bの間に導電膜504と重なる領域508Cを備える。 The semiconductor film 508 includes a region 508C that overlaps the conductive film 504 between the regions 508A and 508B.

領域508Aは可視光を透過する機能を備え、領域508Bは、可視光を透過する機能を備える。 The region 508A has a function of transmitting visible light, and the region 508B has a function of transmitting visible light.

導電膜504はゲート電極の機能を備える。 The conductive film 504 has the function of a gate electrode.

絶縁膜506は、半導体膜508および導電膜504の間に挟まれる領域を備える。絶縁膜506はゲート絶縁膜の機能を備える。 The insulating film 506 includes a region sandwiched between the semiconductor film 508 and the conductive film 504. The insulating film 506 has the function of a gate insulating film.

導電膜512Aはソース電極の機能またはドレイン電極の機能の一方を備え、導電膜512Bはソース電極の機能またはドレイン電極の機能の他方を備える。 The conductive film 512A has either the function of the source electrode or the function of the drain electrode, and the conductive film 512B has the function of the source electrode or the function of the drain electrode.

また、導電膜524を有するトランジスタを、駆動回路または画素回路のトランジスタに用いることができる(図14(B)参照)。導電膜524は、導電膜504との間に半導体膜508を挟む領域を備える。 Further, a transistor having a conductive film 524 can be used as a transistor in a drive circuit or a pixel circuit (see FIG. 14B). The conductive film 524 includes a region sandwiching the semiconductor film 508 with the conductive film 504.

なお、絶縁膜501Dは、導電膜524および半導体膜508の間に挟まれる領域を備える。また、例えば、導電膜504と同じ電位を供給する配線に導電膜524を電気的に接続することができる。 The insulating film 501D includes a region sandwiched between the conductive film 524 and the semiconductor film 508. Further, for example, the conductive film 524 can be electrically connected to a wiring that supplies the same potential as the conductive film 504.

また、第1の領域508Aおよび第2の領域508Bは、第3の領域508Cに比べて抵抗率が低く、ソース領域の機能またはドレイン領域の機能を備える。 Further, the first region 508A and the second region 508B have a lower resistivity than the third region 508C, and have the function of the source region or the function of the drain region.

例えば、酸化物半導体膜に希ガスを含むガスを用いるプラズマ処理を施して、第1の領域508Aおよび第2の領域508Bを半導体膜508に形成することができる。 For example, the oxide semiconductor film can be subjected to plasma treatment using a gas containing a rare gas to form the first region 508A and the second region 508B on the semiconductor film 508.

また、例えば、導電膜504をマスクに用いることができる。これにより、第3の領域508Cの一部の形状を、導電膜504の端部の形状に自己整合させることができる。 Further, for example, the conductive film 504 can be used as a mask. As a result, the shape of a part of the third region 508C can be self-aligned with the shape of the end portion of the conductive film 504.

なお、トランジスタMと同一の構成を、トランジスタMDに用いることができる。 The same configuration as that of the transistor M can be used for the transistor MD.

例えば、トランジスタMに用いることができるトランジスタと異なる構成をトランジスタMDに用いることができる。具体的には、金属膜を導電膜512C、導電膜512Dおよび導電膜504Eに用いることができる(図14(C)参照)。これにより、配線としての機能を兼ねる導電膜の電気抵抗を低減することができる。または、領域508Cに向かって進行する外光を遮光することができる。または、外光に起因するトランジスタの電気特性の異常を防ぐことができる。または、トランジスタの信頼性を向上することができる。 For example, a configuration different from the transistor that can be used for the transistor M can be used for the transistor MD. Specifically, the metal film can be used for the conductive film 512C, the conductive film 512D and the conductive film 504E (see FIG. 14C). This makes it possible to reduce the electrical resistance of the conductive film that also functions as wiring. Alternatively, it is possible to block external light traveling toward the region 508C. Alternatively, it is possible to prevent an abnormality in the electrical characteristics of the transistor due to external light. Alternatively, the reliability of the transistor can be improved.

<入出力パネルの構成例2>
入出力パネルは、遮光膜BMを備えることができる。例えば、表示パネルの使用者の側に配置される暗色の膜に替えて、遮光膜BMを用いることができる(図12(B)参照)。
<I / O panel configuration example 2>
The input / output panel can be provided with a light-shielding film BM. For example, a light-shielding film BM can be used instead of the dark-colored film arranged on the user side of the display panel (see FIG. 12B).

《遮光膜BM》
遮光膜BMは、基板770および電極C(g)の間に挟まれる領域、基板770および電極M(h)の間に挟まれる領域、基板770および制御線CL(g)の間に挟まれる領域、基板770および検知信号線ML(h)の間に挟まれる領域を備える。また、遮光膜BMは第1の表示素子750(i,j)と重なる領域に開口部を備える。これにより、表示パネルの表示を遮ることなく、検知素子775(g,h)が反射する外光の強度を弱めることができる。
<< Shading film BM >>
The light-shielding film BM is a region sandwiched between the substrate 770 and the electrode C (g), a region sandwiched between the substrate 770 and the electrode M (h), and a region sandwiched between the substrate 770 and the control line CL (g). , A region sandwiched between the substrate 770 and the detection signal line ML (h). Further, the light-shielding film BM is provided with an opening in a region overlapping with the first display element 750 (i, j). As a result, the intensity of the external light reflected by the detection element 775 (g, h) can be weakened without obstructing the display on the display panel.

なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。 It should be noted that this embodiment can be appropriately combined with other embodiments shown in the present specification.

(実施の形態5)
本実施の形態では、本発明の一態様の情報処理装置の構成について、図16乃至図18を参照しながら説明する。
(Embodiment 5)
In the present embodiment, the configuration of the information processing apparatus according to one aspect of the present invention will be described with reference to FIGS. 16 to 18.

図16(A)は本発明の一態様の情報処理装置の構成を説明するブロック図である。図16(B)および図16(C)は、情報処理装置200の外観の一例を説明する投影図である。 FIG. 16A is a block diagram illustrating a configuration of an information processing apparatus according to an aspect of the present invention. 16 (B) and 16 (C) are projection views illustrating an example of the appearance of the information processing apparatus 200.

図17は、本発明の一態様のプログラムを説明するフローチャートである。図17(A)は、本発明の一態様のプログラムの主の処理を説明するフローチャートであり、図17(B)は、割り込み処理を説明するフローチャートである。 FIG. 17 is a flowchart illustrating a program of one aspect of the present invention. FIG. 17A is a flowchart illustrating the main processing of the program of one aspect of the present invention, and FIG. 17B is a flowchart illustrating interrupt processing.

図18は、本発明の一態様のプログラムの割り込み処理を説明するフローチャートである。 FIG. 18 is a flowchart illustrating interrupt processing of the program of one aspect of the present invention.

<情報処理装置の構成例1.>
本実施の形態で説明する情報処理装置200は、入出力装置220と、演算装置210と、を有する(図16(A)参照)。入出力装置は、演算装置210と電気的に接続される。また、情報処理装置200は筐体を備えることができる(図16(B)または図16(C)参照)。
<Configuration example of information processing device 1. >
The information processing device 200 described in this embodiment includes an input / output device 220 and an arithmetic unit 210 (see FIG. 16A). The input / output unit is electrically connected to the arithmetic unit 210. Further, the information processing apparatus 200 may include a housing (see FIG. 16B or FIG. 16C).

入出力装置220は表示部230および入力部240を備える(図16(A)参照)。入出力装置220は検知部250を備える。また、入出力装置220は通信部290を備えることができる。 The input / output device 220 includes a display unit 230 and an input unit 240 (see FIG. 16A). The input / output device 220 includes a detection unit 250. Further, the input / output device 220 can include a communication unit 290.

入出力装置220は画像情報V1または制御情報SSを供給される機能を備え、位置情報P1または検知情報S1を供給する機能を備える。 The input / output device 220 has a function of supplying image information V1 or control information SS, and has a function of supplying position information P1 or detection information S1.

演算装置210は位置情報P1または検知情報S1を供給させる機能を備える。演算装置210は画像情報V1を供給する機能を備える。演算装置210は、例えば、位置情報P1または検知情報S1に基づいて動作する機能を備える。 The arithmetic unit 210 has a function of supplying the position information P1 or the detection information S1. The arithmetic unit 210 has a function of supplying image information V1. The arithmetic unit 210 has, for example, a function of operating based on the position information P1 or the detection information S1.

なお、筐体は入出力装置220または演算装置210を収納する機能を備える。または、筐体は表示部230または演算装置210を支持する機能を備える。 The housing has a function of accommodating the input / output device 220 or the arithmetic unit 210. Alternatively, the housing has a function of supporting the display unit 230 or the arithmetic unit 210.

表示部230は画像情報V1に基づいて画像を表示する機能を備える。表示部230は制御情報SSに基づいて画像を表示する機能を備える。 The display unit 230 has a function of displaying an image based on the image information V1. The display unit 230 has a function of displaying an image based on the control information SS.

入力部240は、位置情報P1を供給する機能を備える。 The input unit 240 has a function of supplying the position information P1.

検知部250は検知情報S1を供給する機能を備える。検知部250は、例えば、情報処理装置200が使用される環境の照度を検出する機能を備え、照度情報を供給する機能を備える。 The detection unit 250 has a function of supplying the detection information S1. The detection unit 250 has, for example, a function of detecting the illuminance of the environment in which the information processing apparatus 200 is used, and has a function of supplying illuminance information.

これにより、情報処理装置は、情報処理装置が使用される環境において、情報処理装置の筐体が受ける光の強さを把握して動作することができる。または、情報処理装置の使用者は、表示方法を選択することができる。具体的には、第1の表示素子を用いる表示方法を選択し、例えば、電力の消費を抑制することができる。または、第2の表示素子を用いる方法を選択し、例えば、暗い場所で表示をすることができる。または、第1の表示素子750(i,j)および第2の表示素子550(i,j)を表示に用いる方法を選択し、例えば、使用者の好みに応じた快適に感じる表示をすることができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な情報処理装置を提供することができる。 As a result, the information processing apparatus can operate by grasping the intensity of light received by the housing of the information processing apparatus in the environment in which the information processing apparatus is used. Alternatively, the user of the information processing apparatus can select the display method. Specifically, a display method using the first display element can be selected, and for example, power consumption can be suppressed. Alternatively, a method using the second display element can be selected, and the display can be performed in a dark place, for example. Alternatively, a method of using the first display element 750 (i, j) and the second display element 550 (i, j) for display may be selected, and for example, a display that feels comfortable according to the user's preference may be displayed. Can be done. As a result, it is possible to provide a new information processing apparatus having excellent convenience or reliability.

以下に、情報処理装置を構成する個々の要素について説明する。なお、これらの構成は明確に分離できず、一つの構成が他の構成を兼ねる場合や他の構成の一部を含む場合がある。例えばタッチセンサが表示パネルに重ねられたタッチパネルは、表示部であるとともに入力部でもある。 The individual elements constituting the information processing apparatus will be described below. It should be noted that these configurations cannot be clearly separated, and one configuration may serve as another configuration or may include a part of another configuration. For example, a touch panel on which a touch sensor is superimposed on a display panel is both a display unit and an input unit.

《構成例》
本発明の一態様の情報処理装置200は、筐体または演算装置210を有する。
<< Configuration example >>
The information processing device 200 according to one aspect of the present invention has a housing or an arithmetic unit 210.

演算装置210は、演算部211、記憶部212、伝送路214、入出力インターフェース215を備える。 The arithmetic unit 210 includes an arithmetic unit 211, a storage unit 212, a transmission line 214, and an input / output interface 215.

また、本発明の一態様の情報処理装置は、入出力装置220を有する。 Further, the information processing device of one aspect of the present invention has an input / output device 220.

入出力装置220は、表示部230、入力部240、検知部250および通信部290を備える。 The input / output device 220 includes a display unit 230, an input unit 240, a detection unit 250, and a communication unit 290.

《情報処理装置》
本発明の一態様の情報処理装置は、演算装置210または入出力装置220を備える。
<< Information processing equipment >>
The information processing device of one aspect of the present invention includes an arithmetic unit 210 or an input / output device 220.

《演算装置210》
演算装置210は、演算部211および記憶部212を備える。また、伝送路214および入出力インターフェース215を備える。
<< Arithmetic logic unit 210 >>
The arithmetic unit 210 includes an arithmetic unit 211 and a storage unit 212. It also includes a transmission line 214 and an input / output interface 215.

《演算部211》
演算部211は、例えばプログラムを実行する機能を備える。
<< Calculation unit 211 >>
The arithmetic unit 211 has, for example, a function of executing a program.

《記憶部212》
記憶部212は、例えば演算部211が実行するプログラム、初期情報、設定情報または画像等を記憶する機能を有する。
Memory part 212》
The storage unit 212 has a function of storing, for example, a program, initial information, setting information, an image, or the like executed by the calculation unit 211.

具体的には、ハードディスク、フラッシュメモリまたは酸化物半導体を含むトランジスタを用いたメモリ等を用いることができる。 Specifically, a hard disk, a flash memory, a memory using a transistor including an oxide semiconductor, or the like can be used.

《入出力インターフェース215、伝送路214》
入出力インターフェース215は端子または配線を備え、情報を供給し、情報を供給される機能を備える。例えば、伝送路214と電気的に接続することができる。また、入出力装置220と電気的に接続することができる。
<< Input / output interface 215, transmission line 214 >>
The input / output interface 215 includes terminals or wiring, and has a function of supplying information and being supplied with information. For example, it can be electrically connected to the transmission line 214. Further, it can be electrically connected to the input / output device 220.

伝送路214は配線を備え、情報を供給し、情報を供給される機能を備える。例えば、入出力インターフェース215と電気的に接続することができる。また、演算部211、記憶部212または入出力インターフェース215と電気的に接続することができる。 The transmission line 214 includes wiring, supplies information, and has a function of being supplied with information. For example, it can be electrically connected to the input / output interface 215. Further, it can be electrically connected to the calculation unit 211, the storage unit 212, or the input / output interface 215.

《入出力装置220》
入出力装置220は、表示部230、入力部240、検知部250または通信部290を備える。例えば、実施の形態3において説明する入出力装置を用いることができる。これにより、消費電力を低減することができる。
<< Input / output device 220 >>
The input / output device 220 includes a display unit 230, an input unit 240, a detection unit 250, or a communication unit 290. For example, the input / output device described in the third embodiment can be used. As a result, power consumption can be reduced.

《表示部230》
表示部230は、制御部238と、駆動回路GDと、駆動回路SDと、表示パネル700と、を有する(図9参照)。例えば、実施の形態2で説明する表示装置を表示部230に用いることができる。
<< Display 230 >>
The display unit 230 includes a control unit 238, a drive circuit GD, a drive circuit SD, and a display panel 700 (see FIG. 9). For example, the display device described in the second embodiment can be used for the display unit 230.

《入力部240》
さまざまなヒューマンインターフェイス等を入力部240に用いることができる(図16参照)。
<< Input unit 240 >>
Various human interfaces and the like can be used for the input unit 240 (see FIG. 16).

例えば、キーボード、マウス、タッチセンサ、マイクまたはカメラ等を入力部240に用いることができる。なお、表示部230に重なる領域を備えるタッチセンサを用いることができる。表示部230と表示部230に重なる領域を備えるタッチセンサを備える入出力装置を、タッチパネルまたはタッチスクリーンということができる。 For example, a keyboard, mouse, touch sensor, microphone, camera, or the like can be used for the input unit 240. A touch sensor having an area overlapping the display unit 230 can be used. An input / output device including a touch sensor having an area overlapping the display unit 230 and the display unit 230 can be referred to as a touch panel or a touch screen.

例えば、使用者は、タッチパネルに触れた指をポインタに用いて様々なジェスチャー(タップ、ドラッグ、スワイプまたはピンチイン等)をすることができる。 For example, the user can make various gestures (tap, drag, swipe, pinch-in, etc.) by using the finger touching the touch panel as the pointer.

例えば、演算装置210は、タッチパネルに接触する指の位置または軌跡等の情報を解析し、解析結果が所定の条件を満たすとき、特定のジェスチャーが供給されたとすることができる。これにより、使用者は、所定のジェスチャーにあらかじめ関連付けられた所定の操作命令を、当該ジェスチャーを用いて供給できる。 For example, the arithmetic unit 210 can analyze information such as the position or locus of a finger in contact with the touch panel, and when the analysis result satisfies a predetermined condition, it can be assumed that a specific gesture is supplied. Thereby, the user can supply a predetermined operation command associated with the predetermined gesture in advance by using the gesture.

一例を挙げれば、使用者は、画像情報の表示位置を変更する「スクロール命令」を、タッチパネルに沿ってタッチパネルに接触する指を移動するジェスチャーを用いて供給できる。 As an example, the user can supply a "scroll command" for changing the display position of image information by using a gesture of moving a finger touching the touch panel along the touch panel.

《検知部250》
検知部250は、周囲の状態を検知して検知情報を供給する機能を備える。具体的には、照度情報、姿勢情報、圧力情報、位置情報等を供給できる。
<< Detection unit 250 >>
The detection unit 250 has a function of detecting the surrounding state and supplying the detection information. Specifically, illuminance information, attitude information, pressure information, position information and the like can be supplied.

例えば、光検出器、姿勢検出器、加速度センサ、方位センサ、GPS(Global positioning System)信号受信回路、圧力センサ、温度センサ、湿度センサまたはカメラ等を、検知部250に用いることができる。 For example, a photodetector, an attitude detector, an acceleration sensor, an orientation sensor, a GPS (Global Positioning System) signal receiving circuit, a pressure sensor, a temperature sensor, a humidity sensor, a camera, or the like can be used for the detection unit 250.

《通信部290》
通信部290は、ネットワークに情報を供給し、ネットワークから情報を取得する機能を備える。
<< Communication unit 290 >>
The communication unit 290 has a function of supplying information to the network and acquiring information from the network.

《プログラム》
本発明の一態様のプログラムは、下記のステップを有する(図17(A)参照)。
"program"
The program of one aspect of the invention has the following steps (see FIG. 17 (A)).

[第1のステップ]
第1のステップにおいて、設定を初期化する(図17(A)(S1)参照)。
[First step]
In the first step, the settings are initialized (see FIGS. 17 (A) and 17 (S1)).

例えば、起動時に表示する所定の画像情報と、当該画像情報を表示する所定のモードと、当該画像情報を表示する所定の表示方法を特定する情報と、を記憶部212から取得する。具体的には、一の静止画像情報または他の動画像情報を所定の画像情報に用いることができる。また、第1のモードまたは第2のモードを所定のモードに用いることができる。また、第1の表示方法、第2の表示方法または第3の表示方法を所定の表示方法に用いることができる。 For example, predetermined image information to be displayed at startup, a predetermined mode for displaying the image information, and information for specifying a predetermined display method for displaying the image information are acquired from the storage unit 212. Specifically, one still image information or another moving image information can be used for predetermined image information. Further, the first mode or the second mode can be used for a predetermined mode. Further, the first display method, the second display method, or the third display method can be used for a predetermined display method.

[第2のステップ]
第2のステップにおいて、割り込み処理を許可する(図17(A)(S2)参照)。なお、割り込み処理が許可された演算装置は、主の処理と並行して割り込み処理を行うことができる。割り込み処理から主の処理に復帰した演算装置は、割り込み処理をして得た結果を主の処理に反映することができる。
[Second step]
In the second step, interrupt processing is permitted (see FIGS. 17 (A) and 17 (S2)). The arithmetic unit for which interrupt processing is permitted can perform interrupt processing in parallel with the main processing. The arithmetic unit that has returned from the interrupt processing to the main processing can reflect the result obtained by the interrupt processing in the main processing.

なお、カウンタの値が初期値であるとき、演算装置に割り込み処理をさせ、割り込み処理から復帰する際に、カウンタを初期値以外の値としてもよい。これにより、プログラムを起動した後に常に割り込み処理をさせることができる。 When the value of the counter is the initial value, the arithmetic unit may be made to perform interrupt processing, and the counter may be set to a value other than the initial value when returning from the interrupt processing. As a result, interrupt processing can always be performed after the program is started.

[第3のステップ]
第3のステップにおいて、第1のステップまたは割り込み処理において選択された、所定のモードまたは所定の表示方法を用いて画像情報を表示する(図17(A)(S3)参照)。なお、所定のモードは情報を表示するモードを特定し、所定の表示方法は画像情報を表示する方法を特定する。また、例えば、画像情報V1、情報V11または情報V12を表示する情報に用いることができる。
[Third step]
In the third step, the image information is displayed using the predetermined mode or the predetermined display method selected in the first step or the interrupt processing (see FIGS. 17A and 17S). The predetermined mode specifies a mode for displaying information, and the predetermined display method specifies a method for displaying image information. Further, for example, it can be used for information for displaying image information V1, information V11, or information V12.

例えば、画像情報V1を表示する一の方法を、第1のモードに関連付けることができる。または、画像情報V1を表示する他の方法を第2のモードに関連付けることができる。これにより、選択されたモードに基づいて表示方法を選択することができる。 For example, one method of displaying image information V1 can be associated with a first mode. Alternatively, another method of displaying the image information V1 can be associated with the second mode. This makes it possible to select a display method based on the selected mode.

例えば、画像情報V1を表示する異なる3つの方法を、第1の表示方法乃至第3の表示方法に関連付けることができる。これにより、選択された表示方法に基づいて表示をすることができる。 For example, three different methods for displaying the image information V1 can be associated with the first display method to the third display method. As a result, the display can be performed based on the selected display method.

《第1のモード》
具体的には、30Hz以上、好ましくは60Hz以上の頻度で一の走査線に選択信号を供給し、選択信号に基づいて表示をする方法を、第1のモードに関連付けることができる。
<< First mode >>
Specifically, a method of supplying a selection signal to one scanning line at a frequency of 30 Hz or higher, preferably 60 Hz or higher, and displaying based on the selection signal can be associated with the first mode.

例えば、30Hz以上、好ましくは60Hz以上の頻度で選択信号を供給すると、動画像の動きを滑らかに表示することができる。 For example, if the selection signal is supplied at a frequency of 30 Hz or higher, preferably 60 Hz or higher, the movement of the moving image can be displayed smoothly.

例えば、30Hz以上、好ましくは60Hz以上の頻度で画像を更新すると、使用者の操作に滑らかに追従するように変化する画像を、使用者が操作中の情報処理装置200に表示することができる。 For example, when an image is updated at a frequency of 30 Hz or higher, preferably 60 Hz or higher, an image that changes so as to smoothly follow the user's operation can be displayed on the information processing apparatus 200 being operated by the user.

《第2のモード》
具体的には、30Hz未満、好ましくは1Hz未満より好ましくは一分に一回未満の頻度で一の走査線に選択信号を供給し、選択信号に基づいて表示をする方法を、第2のモードに関連付けることができる。
<< Second mode >>
Specifically, the second mode is a method of supplying a selection signal to one scanning line at a frequency of less than 30 Hz, preferably less than 1 Hz, preferably less than once a minute, and displaying based on the selection signal. Can be associated with.

30Hz未満、好ましくは1Hz未満より好ましくは一分に一回未満の頻度で選択信号を供給すると、フリッカーまたはちらつきが抑制された表示をすることができる。また、消費電力を低減することができる。 When the selection signal is supplied at a frequency of less than 30 Hz, preferably less than 1 Hz, preferably less than once a minute, a display in which flicker or flicker is suppressed can be obtained. In addition, power consumption can be reduced.

例えば、情報処理装置200を時計に用いる場合、1秒に一回の頻度または1分に一回の頻度等で表示を更新することができる。 For example, when the information processing apparatus 200 is used for a clock, the display can be updated once a second, once a minute, or the like.

ところで、例えば、発光素子を第2の表示素子に用いる場合、発光素子をパルス状に発光させて、画像情報を表示することができる。具体的には、パルス状に有機EL素子を発光させて、その残光を表示に用いることができる。有機EL素子は優れた周波数特性を備えるため、発光素子を駆動する時間を短縮し、消費電力を低減することができる場合がある。または、発熱が抑制されるため、発光素子の劣化を軽減することができる場合がある。 By the way, for example, when a light emitting element is used as a second display element, the light emitting element can be made to emit light in a pulse shape to display image information. Specifically, the organic EL element can be made to emit light in a pulse shape, and the afterglow can be used for display. Since the organic EL element has excellent frequency characteristics, it may be possible to shorten the time for driving the light emitting element and reduce the power consumption. Alternatively, since heat generation is suppressed, deterioration of the light emitting element may be reduced.

《第1の表示方法》
具体的には、第1の表示素子750(i,j)を表示に用いる方法を、第1の表示方法に用いることができる。これにより、例えば、消費電力を低減することができる。または、明るい環境下において、高いコントラストで画像情報を良好に表示することができる。
<< First display method >>
Specifically, the method of using the first display element 750 (i, j) for display can be used for the first display method. Thereby, for example, power consumption can be reduced. Alternatively, the image information can be satisfactorily displayed with high contrast in a bright environment.

《第2の表示方法》
具体的には、第2の表示素子550(i,j)を表示に用いる方法を、第2の表示方法に用いることができる。これにより、例えば、暗い環境下で画像を良好に表示することができる。または、良好な色再現性で写真等を表示することができる。または、動きの速い動画を滑らかに表示することができる。
<< Second display method >>
Specifically, a method of using the second display element 550 (i, j) for display can be used for the second display method. This makes it possible to display an image well, for example, in a dark environment. Alternatively, a photograph or the like can be displayed with good color reproducibility. Alternatively, a fast-moving video can be displayed smoothly.

なお、第2の表示素子550(i,j)を用いて画像情報V1を表示する場合、照度情報に基づいて画像情報V1を表示する明るさを決定することができる。例えば、照度が5千ルクス以上10万ルクス未満の場合、照度が5千ルクス未満の場合より明るくなるように、第2の表示素子550(i,j)を用いて画像情報V1を表示する。 When the image information V1 is displayed using the second display element 550 (i, j), the brightness for displaying the image information V1 can be determined based on the illuminance information. For example, when the illuminance is 5,000 lux or more and less than 100,000 lux, the image information V1 is displayed by using the second display element 550 (i, j) so as to be brighter than when the illuminance is less than 5,000 lux.

《第3の表示方法》
具体的には、第1の表示素子750(i,j)および第2の表示素子550(i,j)を表示に用いる方法を、第3の表示方法に用いることができる。これにより、消費電力を低減することができる。または、暗い環境下で画像を良好に表示することができる。または、良好な色再現性で写真等を表示することができる。または、動きの速い動画を滑らかに表示することができる。または、使用者が快適に感じる表示をすることができる。
<< Third display method >>
Specifically, a method using the first display element 750 (i, j) and the second display element 550 (i, j) for display can be used for the third display method. As a result, power consumption can be reduced. Alternatively, the image can be displayed well in a dark environment. Alternatively, a photograph or the like can be displayed with good color reproducibility. Alternatively, a fast-moving video can be displayed smoothly. Alternatively, the display can be displayed so that the user feels comfortable.

ところで、第1の表示素子750(i,j)および第2の表示素子550(i,j)を表示に用いて、表示の明るさを調節する機能を、調光機能ということができる。例えば、反射型の表示素子の明るさを、光を射出する機能を備える表示素子を用いて補うことができる。 By the way, a function of adjusting the brightness of a display by using the first display element 750 (i, j) and the second display element 550 (i, j) for display can be referred to as a dimming function. For example, the brightness of a reflective display element can be supplemented by using a display element having a function of emitting light.

また、第1の表示素子750(i,j)および第2の表示素子550(i,j)を表示に用いて、表示の色味を調節する機能を、調色機能ということができる。例えば、反射型の表示素子の色合いを、光を射出する機能を備える表示素子を用いて変えることができる。具体的には、反射型の液晶素子が表示する黄味を帯びた色合いを、青色の有機EL素子を用いて白色に近づけることができる。これにより、例えば、文字情報を普通紙に印刷された文字のように表示することができる。または、目にやさしい表示をすることができる。 Further, a function of using the first display element 750 (i, j) and the second display element 550 (i, j) for display to adjust the color of the display can be referred to as a toning function. For example, the hue of the reflective display element can be changed by using a display element having a function of emitting light. Specifically, the yellowish hue displayed by the reflective liquid crystal element can be brought closer to white by using a blue organic EL element. Thereby, for example, character information can be displayed like characters printed on plain paper. Alternatively, the display can be easy on the eyes.

また、第1の表示素子750(i,j)と第2の表示素子550(i,j)とを表示に用いると、物体が反射する色と物体が発光する色とが掛け合わされる。これにより、絵画的な表示をすることができる。 Further, when the first display element 750 (i, j) and the second display element 550 (i, j) are used for display, the color reflected by the object and the color emitted by the object are multiplied. This makes it possible to display pictorially.

なお、第1の表示素子750(i,j)を用いて表示する画像情報V1に重ねて表示する、第2の表示素子550(i,j)を用いて表示する画像情報V1の明るさを、照度情報および使用者の好みに応じて決定することができる。これにより、使用者が快適に感じる表示をすることができる。 The brightness of the image information V1 displayed by using the second display element 550 (i, j), which is superimposed on the image information V1 displayed by using the first display element 750 (i, j), is determined. , Illuminance information and user preference can be determined. This makes it possible to display a display that the user feels comfortable with.

[第4のステップ]
第4のステップにおいて、終了命令が供給された場合は第5のステップに進み、終了命令が供給されなかった場合は第3のステップに進むように選択する(図17(A)(S4)参照)。
[Fourth step]
In the fourth step, if the end command is supplied, the process proceeds to the fifth step, and if the end command is not supplied, the process proceeds to the third step (see FIGS. 17 (A) and 17 (S4)). ).

例えば、割り込み処理において供給された終了命令を判断に用いてもよい。 For example, the end instruction supplied in the interrupt processing may be used for the determination.

[第5のステップ]
第5のステップにおいて、終了する(図17(A)(S5)参照)。
[Fifth step]
The fifth step ends (see FIGS. 17 (A) and 17 (S5)).

《割り込み処理》
割り込み処理は以下の第6のステップ乃至第8のステップを備える(図17(B)参照)。
《Interrupt processing》
The interrupt processing includes the following sixth to eighth steps (see FIG. 17B).

[第6のステップ]
第6のステップにおいて、例えば、検知部250を用いて、情報処理装置200が使用される環境の照度を検出する(図17(B)(S6)参照)。なお、環境の照度に代えて環境光の色温度や色度を検出してもよい。
[Sixth step]
In the sixth step, for example, the detection unit 250 is used to detect the illuminance of the environment in which the information processing apparatus 200 is used (see FIGS. 17B and S6). The color temperature and chromaticity of the ambient light may be detected instead of the illuminance of the environment.

[第7のステップ]
第7のステップにおいて、検出した照度情報に基づいて表示方法を決定する。例えば、照度が所定の値以上の場合に、第1の表示方法に決定し、照度が所定の値未満の場合、第2の表示方法に決定する。または、照度が所定の範囲の場合、第3の表示方法に決定してもよい(図17(B)(S7)参照)。
[7th step]
In the seventh step, the display method is determined based on the detected illuminance information. For example, when the illuminance is equal to or more than a predetermined value, the first display method is determined, and when the illuminance is less than the predetermined value, the second display method is determined. Alternatively, when the illuminance is within a predetermined range, the third display method may be determined (see FIGS. 17B and 17S).

具体的には、照度が10万ルクス以上の場合、第1の表示方法に決定し、照度が5千ルクス未満の場合、第2の表示方法に決定し、照度が10万ルクス未満5千ルクス以上の場合、第3の表示方法に決定してもよい。 Specifically, when the illuminance is 100,000 lux or more, the first display method is determined, and when the illuminance is less than 5,000 lux, the second display method is determined, and the illuminance is less than 100,000 lux, 5,000 lux. In the above case, the third display method may be determined.

なお、第6のステップにおいて環境光の色温度や環境光の色度を検出した場合は、第3の表示方法において第2の表示素子550(i,j)を用いて、表示の色味を調節してもよい。 When the color temperature of the ambient light or the chromaticity of the ambient light is detected in the sixth step, the second display element 550 (i, j) is used in the third display method to change the color of the display. You may adjust it.

また、例えば、第1の表示方法を用いる場合は、第1のステータスの制御情報SSを供給し、第2の表示方法を用いる場合は、第2のステータスの制御情報SSを供給し、第3の表示方法を用いる場合は、第3のステータスの制御情報SSを供給する。 Further, for example, when the first display method is used, the control information SS of the first status is supplied, and when the second display method is used, the control information SS of the second status is supplied, and the third. When the display method of is used, the control information SS of the third status is supplied.

[第8のステップ]
第8のステップにおいて、割り込み処理を終了する(図17(B)(S8)参照)。
[8th step]
In the eighth step, interrupt processing is terminated (see FIGS. 17B and S8).

<情報処理装置の構成例2.>
本発明の一態様の情報処理装置の別の構成について、図18を参照しながら説明する。
<Configuration example of information processing device 2. >
Another configuration of the information processing apparatus according to one aspect of the present invention will be described with reference to FIG.

図18(A)は、本発明の一態様のプログラムを説明するフローチャートである。図18(A)は、図17(B)に示す割り込み処理とは異なる割り込み処理を説明するフローチャートである。 FIG. 18A is a flowchart illustrating a program of one aspect of the present invention. FIG. 18A is a flowchart illustrating interrupt processing different from the interrupt processing shown in FIG. 17B.

なお、情報処理装置の構成例3は、供給された所定のイベントに基づいて、モードを変更するステップを割り込み処理に有する点が、図17(B)を参照しながら説明する割り込み処理とは異なる。ここでは、異なる部分について詳細に説明し、同様の構成を用いることができる部分について上記の説明を援用する。 Note that the configuration example 3 of the information processing apparatus is different from the interrupt processing described with reference to FIG. 17B in that the interrupt processing has a step of changing the mode based on the supplied predetermined event. .. Here, the different parts will be described in detail, and the above description will be applied to the parts where the same configuration can be used.

《割り込み処理》
割り込み処理は以下の第6のステップ乃至第8のステップを備える(図18(A)参照)。
《Interrupt processing》
The interrupt processing includes the following sixth to eighth steps (see FIG. 18A).

[第6のステップ]
第6のステップにおいて、所定のイベントが供給された場合は、第7のステップに進み、所定のイベントが供給されなかった場合は、第8のステップに進む(図18(A)(U6)参照)。例えば、所定の期間に所定のイベントが供給されたか否かを条件に用いることができる。具体的には、5秒以下、1秒以下または0.5秒以下好ましくは0.1秒以下であって0秒より長い期間を所定の期間とすることができる。
[Sixth step]
In the sixth step, if the predetermined event is supplied, the process proceeds to the seventh step, and if the predetermined event is not supplied, the process proceeds to the eighth step (see FIGS. 18 (A) and 18 (U6)). ). For example, it can be used on the condition that a predetermined event is supplied in a predetermined period. Specifically, a period of 5 seconds or less, 1 second or less, or 0.5 seconds or less, preferably 0.1 seconds or less, and longer than 0 seconds can be set as a predetermined period.

[第7のステップ]
第7のステップにおいて、モードを変更する(図18(A)(U7)参照)。具体的には、第1のモードを選択していた場合は、第2のモードを選択し、第2のモードを選択していた場合は、第1のモードを選択する。
[7th step]
In the seventh step, the mode is changed (see FIGS. 18 (A) and 18 (U7)). Specifically, when the first mode is selected, the second mode is selected, and when the second mode is selected, the first mode is selected.

例えば、表示部230の一部の領域について、表示モードを変更することができる。具体的には、駆動回路GDA、駆動回路GDB、駆動回路GDCおよび駆動回路GDDを備える表示部230の駆動回路GDBが選択信号を供給する領域について、表示モードを変更することができる(図18(B)参照)。 For example, the display mode can be changed for a part of the display unit 230. Specifically, the display mode can be changed for a region in which the drive circuit GDB of the display unit 230 including the drive circuit GDA, the drive circuit GDB, the drive circuit GDC, and the drive circuit GDD supplies a selection signal (FIG. 18 (FIG. 18). B) See).

例えば、所定のイベントが、駆動回路GDBが選択信号を供給する領域の入力部240に供給された場合に、当該領域の表示モードを変更することができる。具体的には、駆動回路GDBが供給する選択信号の頻度を変更することができる。これにより、例えば、駆動回路GDBが選択信号を供給する領域の表示を、駆動回路GDA、駆動回路GDCおよび駆動回路GDDを動作することなく更新することができる。または、駆動回路が消費する電力を抑制することができる。 For example, when a predetermined event is supplied to the input unit 240 of the region to which the drive circuit GDB supplies the selection signal, the display mode of the region can be changed. Specifically, the frequency of the selection signal supplied by the drive circuit GDB can be changed. Thereby, for example, the display of the region to which the drive circuit GDB supplies the selection signal can be updated without operating the drive circuit GDA, the drive circuit GDC, and the drive circuit GDD. Alternatively, the power consumed by the drive circuit can be suppressed.

[第8のステップ]
第8のステップにおいて、割り込み処理を終了する(図18(A)(U8)参照)。なお、主の処理を実行している期間に割り込み処理を繰り返し実行してもよい。
[8th step]
In the eighth step, interrupt processing is terminated (see FIGS. 18 (A) and 18 (U8)). Note that interrupt processing may be repeatedly executed during the period in which the main processing is being executed.

《所定のイベント》
例えば、マウス等のポインティング装置を用いて供給する、「クリック」や「ドラッグ」等のイベント、指等をポインタに用いてタッチパネルに供給する、「タップ」、「ドラッグ」または「スワイプ」等のイベントを用いることができる。
<< Predetermined event >>
For example, an event such as "click" or "drag" supplied using a pointing device such as a mouse, an event such as "tap", "drag" or "swipe" supplied to the touch panel using a finger or the like as a pointer. Can be used.

また、例えば、ポインタが指し示すスライドバーの位置、スワイプの速度、ドラッグの速度等を用いて、所定のイベントに関連付けられた命令の引数を与えることができる。 Further, for example, the position of the slide bar pointed to by the pointer, the swipe speed, the drag speed, and the like can be used to give the argument of the instruction associated with the predetermined event.

例えば、検知部250が検知した情報をあらかじめ設定された閾値と比較して、比較結果をイベントに用いることができる。 For example, the information detected by the detection unit 250 can be compared with a preset threshold value, and the comparison result can be used for the event.

具体的には、筐体に押し込むことができるように配設されたボタン等に接する感圧検知器等を検知部250に用いることができる。 Specifically, a pressure-sensitive detector or the like in contact with a button or the like arranged so as to be pushed into the housing can be used for the detection unit 250.

《所定のイベントに関連付ける命令》
例えば、終了命令を、特定のイベントに関連付けることができる。
<< Instructions associated with a given event >>
For example, an end instruction can be associated with a particular event.

例えば、表示されている一の画像情報から他の画像情報に表示を切り替える「ページめくり命令」を、所定のイベントに関連付けることができる。なお、「ページめくり命令」を実行する際に用いるページをめくる速度などを決定する引数を、所定のイベントを用いて与えることができる。 For example, a "page turning command" that switches the display from one displayed image information to another image information can be associated with a predetermined event. It should be noted that an argument for determining the page turning speed or the like used when executing the "page turning command" can be given by using a predetermined event.

例えば、一の画像情報の表示されている一部分の表示位置を移動して、一部分に連続する他の部分を表示する「スクロール命令」などを、所定のイベントに関連付けることができる。なお、「スクロール命令」を実行する際に用いる表示を移動する速度などを決定する引数を、所定のイベントを用いて与えることができる。 For example, a "scroll command" that moves the display position of a displayed portion of one image information and displays another portion continuous with the portion can be associated with a predetermined event. It should be noted that an argument for determining the speed of moving the display used when executing the "scroll instruction" can be given by using a predetermined event.

例えば、表示方法を設定する命令または画像情報を生成する命令などを、所定のイベントに関連付けることができる。なお、生成する画像の明るさを決定する引数を所定のイベントに関連付けることができる。また、生成する画像の明るさを決定する引数を、検知部250が検知する環境の明るさに基づいて決定してもよい。 For example, a command for setting a display method or a command for generating image information can be associated with a predetermined event. An argument that determines the brightness of the generated image can be associated with a predetermined event. Further, the argument for determining the brightness of the generated image may be determined based on the brightness of the environment detected by the detection unit 250.

例えば、プッシュ型のサービスを用いて配信される情報を、通信部290を用いて取得する命令などを、所定のイベントに関連付けることができる。 For example, an instruction for acquiring information delivered using a push-type service using the communication unit 290 can be associated with a predetermined event.

なお、情報を取得する資格の有無を、検知部250が検知する位置情報を用いて判断してもよい。具体的には、特定の教室、学校、会議室、企業、建物等の内部または領域にいる場合に、情報を取得する資格を有すると判断してもよい。これにより、例えば、学校または大学等の教室で配信される教材を受信して、情報処理装置200を教科書等に用いることができる(図16(C)参照)。または、企業等の会議室で配信される資料を受信して、会議資料に用いることができる。 It should be noted that the presence or absence of the qualification to acquire the information may be determined by using the position information detected by the detection unit 250. Specifically, if you are inside or in a specific classroom, school, conference room, company, building, etc., you may determine that you are qualified to obtain information. As a result, for example, the information processing apparatus 200 can be used as a textbook or the like by receiving teaching materials distributed in a classroom such as a school or a university (see FIG. 16C). Alternatively, it is possible to receive materials distributed in a conference room of a company or the like and use them as conference materials.

なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。 It should be noted that this embodiment can be appropriately combined with other embodiments shown in the present specification.

(実施の形態6)
本実施の形態では、本発明の一態様の情報処理装置の構成について、図19および図20を参照しながら説明する。
(Embodiment 6)
In the present embodiment, the configuration of the information processing apparatus according to one aspect of the present invention will be described with reference to FIGS. 19 and 20.

図19および図20は、本発明の一態様の情報処理装置の構成を説明する図である。図19(A)は情報処理装置のブロック図であり、図19(B)乃至図19(E)は情報処理装置の構成を説明する斜視図である。また、図20(A)乃至図20(E)は情報処理装置の構成を説明する斜視図である。 19 and 20 are views illustrating the configuration of an information processing apparatus according to an aspect of the present invention. 19A is a block diagram of the information processing apparatus, and FIGS. 19B to 19E are perspective views illustrating the configuration of the information processing apparatus. 20 (A) to 20 (E) are perspective views illustrating the configuration of the information processing apparatus.

<情報処理装置>
本実施の形態で説明する情報処理装置5200Bは、演算装置5210と、入出力装置5220とを、有する(図19(A)参照)。
<Information processing equipment>
The information processing device 5200B described in this embodiment includes an arithmetic unit 5210 and an input / output device 5220 (see FIG. 19A).

演算装置5210は、操作情報を供給される機能を備え、操作情報に基づいて画像情報を供給する機能を備える。 The arithmetic unit 5210 has a function of supplying operation information, and has a function of supplying image information based on the operation information.

入出力装置5220は、表示部5230、入力部5240、検知部5250、通信部5290、操作情報を供給する機能および画像情報を供給される機能を備える。また、入出力装置5220は、検知情報を供給する機能、通信情報を供給する機能および通信情報を供給される機能を備える。 The input / output device 5220 includes a display unit 5230, an input unit 5240, a detection unit 5250, a communication unit 5290, a function of supplying operation information, and a function of supplying image information. Further, the input / output device 5220 has a function of supplying detection information, a function of supplying communication information, and a function of supplying communication information.

入力部5240は操作情報を供給する機能を備える。例えば、入力部5240は、情報処理装置5200Bの使用者の操作に基づいて操作情報を供給する。 The input unit 5240 has a function of supplying operation information. For example, the input unit 5240 supplies operation information based on the operation of the user of the information processing apparatus 5200B.

具体的には、キーボード、ハードウェアボタン、ポインティングデバイス、タッチセンサ、音声入力装置、視線入力装置などを、入力部5240に用いることができる。 Specifically, a keyboard, a hardware button, a pointing device, a touch sensor, a voice input device, a line-of-sight input device, and the like can be used for the input unit 5240.

表示部5230は表示パネルおよび画像情報を表示する機能を備える。例えば、実施の形態1において説明する表示パネルを表示部5230に用いることができる。 The display unit 5230 has a display panel and a function of displaying image information. For example, the display panel described in the first embodiment can be used for the display unit 5230.

検知部5250は検知情報を供給する機能を備える。例えば、情報処理装置が使用されている周辺の環境を検知して、検知情報として供給する機能を備える。 The detection unit 5250 has a function of supplying detection information. For example, it has a function of detecting the surrounding environment in which the information processing device is used and supplying it as detection information.

具体的には、照度センサ、撮像装置、姿勢検出装置、圧力センサ、人感センサなどを検知部5250に用いることができる。 Specifically, an illuminance sensor, an image pickup device, an attitude detection device, a pressure sensor, a motion sensor, and the like can be used for the detection unit 5250.

通信部5290は通信情報を供給される機能および供給する機能を備える。例えば、無線通信または有線通信により、他の電子機器または通信網と接続する機能を備える。具体的には、無線構内通信、電話通信、近距離無線通信などの機能を備える。 The communication unit 5290 has a function of supplying communication information and a function of supplying communication information. For example, it has a function of connecting to another electronic device or communication network by wireless communication or wired communication. Specifically, it has functions such as wireless premises communication, telephone communication, and short-range wireless communication.

《情報処理装置の構成例1.》
例えば、円筒状の柱などに沿った外形を表示部5230に適用することができる(図19(B)参照)。また、使用環境の照度に応じて、表示方法を変更する機能を備える。また、人の存在を検知して、表示内容を変更する機能を備える。これにより、例えば、建物の柱に設置することができる。または、広告または案内等を表示することができる。または、デジタル・サイネージ等に用いることができる。
<< Configuration example of information processing device 1. 》
For example, an outer shape along a cylindrical pillar or the like can be applied to the display unit 5230 (see FIG. 19B). It also has a function to change the display method according to the illuminance of the usage environment. It also has a function to detect the presence of a person and change the displayed contents. Thereby, for example, it can be installed on a pillar of a building. Alternatively, advertisements, information, etc. can be displayed. Alternatively, it can be used for digital signage and the like.

《情報処理装置の構成例2.》
例えば、使用者が使用するポインタの軌跡に基づいて画像情報を生成する機能を備える(図19(C)参照)。具体的には、対角線の長さが20インチ以上、好ましくは40インチ以上、より好ましくは55インチ以上の表示パネルを用いることができる。または、複数の表示パネルを並べて1つの表示領域に用いることができる。または、複数の表示パネルを並べてマルチスクリーンに用いることができる。これにより、例えば、電子黒板、電子掲示板、電子看板等に用いることができる。
<< Configuration example of information processing device 2. 》
For example, it has a function of generating image information based on the locus of a pointer used by the user (see FIG. 19C). Specifically, a display panel having a diagonal length of 20 inches or more, preferably 40 inches or more, and more preferably 55 inches or more can be used. Alternatively, a plurality of display panels can be arranged side by side and used for one display area. Alternatively, a plurality of display panels can be arranged side by side and used for a multi-screen. Thereby, for example, it can be used for an electronic blackboard, an electronic bulletin board, an electronic signboard, and the like.

《情報処理装置の構成例3.》
例えば、使用環境の照度に応じて、表示方法を変更する機能を備える(図19(D)参照)。これにより、例えば、スマートウオッチの消費電力を低減することができる。または、例えば、晴天の屋外等の外光の強い環境においても好適に使用できるように、画像をスマートウオッチに表示することができる。
<< Configuration example of information processing device 3. 》
For example, it has a function of changing the display method according to the illuminance of the usage environment (see FIG. 19 (D)). Thereby, for example, the power consumption of the smart watch can be reduced. Alternatively, the image can be displayed on the smart watch so that it can be suitably used even in an environment with strong outside light such as outdoors in fine weather.

《情報処理装置の構成例4.》
表示部5230は、例えば、筐体の側面に沿って緩やかに曲がる曲面を備える(図19(E)参照)。または、表示部5230は表示パネルを備え、表示パネルは、例えば、前面、側面および上面に表示する機能を備える。これにより、例えば、携帯電話の前面だけでなく、側面および上面に画像情報を表示することができる。
<< Configuration example of information processing device 4. 》
The display unit 5230 includes, for example, a curved surface that gently bends along the side surface of the housing (see FIG. 19E). Alternatively, the display unit 5230 includes a display panel, and the display panel has, for example, a function of displaying on the front surface, the side surface, and the upper surface. Thereby, for example, the image information can be displayed not only on the front surface of the mobile phone but also on the side surface and the upper surface surface.

《情報処理装置の構成例5.》
例えば、使用環境の照度に応じて、表示方法を変更する機能を備える(図20(A)参照)。これにより、スマートフォンの消費電力を低減することができる。または、例えば、晴天の屋外等の外光の強い環境においても好適に使用できるように、画像をスマートフォンに表示することができる。
<< Configuration example of information processing device 5. 》
For example, it has a function of changing the display method according to the illuminance of the usage environment (see FIG. 20A). As a result, the power consumption of the smartphone can be reduced. Alternatively, the image can be displayed on the smartphone so that it can be suitably used even in an environment with strong outside light such as outdoors in fine weather.

《情報処理装置の構成例6.》
例えば、使用環境の照度に応じて、表示方法を変更する機能を備える(図20(B)参照)。これにより、晴天の日に屋内に差し込む強い外光が当たっても好適に使用できるように、映像をテレビジョンシステムに表示することができる。
<< Configuration example of information processing device 6. 》
For example, it has a function of changing the display method according to the illuminance of the usage environment (see FIG. 20B). As a result, the image can be displayed on the television system so that it can be suitably used even when it is exposed to strong outside light that is inserted indoors on a sunny day.

《情報処理装置の構成例7.》
例えば、使用環境の照度に応じて、表示方法を変更する機能を備える(図20(C)参照)。これにより、例えば、晴天の屋外等の外光の強い環境においても好適に使用できるように、画像をタブレットコンピュータに表示することができる。
<< Configuration example of information processing device 7. 》
For example, it has a function of changing the display method according to the illuminance of the usage environment (see FIG. 20C). This makes it possible to display an image on a tablet computer so that it can be suitably used even in an environment with strong external light such as outdoors in fine weather.

《情報処理装置の構成例8.》
例えば、使用環境の照度に応じて、表示方法を変更する機能を備える(図20(D)参照)。これにより、例えば、晴天の屋外等の外光の強い環境においても好適に閲覧できるように、被写体をデジタルカメラに表示することができる。
<< Configuration example of information processing device 8. 》
For example, it has a function of changing the display method according to the illuminance of the usage environment (see FIG. 20 (D)). This makes it possible to display the subject on the digital camera so that the subject can be suitably viewed even in an environment with strong outside light such as outdoors in fine weather.

《情報処理装置の構成例9.》
例えば、使用環境の照度に応じて、表示方法を変更する機能を備える(図20(E)参照)。これにより、例えば、晴天の屋外等の外光の強い環境においても好適に使用できるように、画像をパーソナルコンピュータに表示することができる。
<< Configuration example of information processing device 9. 》
For example, it has a function of changing the display method according to the illuminance of the usage environment (see FIG. 20E). This makes it possible to display an image on a personal computer so that it can be suitably used even in an environment with strong external light such as outdoors in fine weather.

なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。 It should be noted that this embodiment can be appropriately combined with other embodiments shown in the present specification.

例えば、本明細書等において、XとYとが接続されている、と明示的に記載されている場合は、XとYとが電気的に接続されている場合と、XとYとが機能的に接続されている場合と、XとYとが直接接続されている場合とが、本明細書等に開示されているものとする。したがって、所定の接続関係、例えば、図または文章に示された接続関係に限定されず、図または文章に示された接続関係以外のものも、図または文章に記載されているものとする。 For example, in the present specification and the like, when it is explicitly stated that X and Y are connected, the case where X and Y are electrically connected and the case where X and Y function. It is assumed that the case where X and Y are directly connected and the case where X and Y are directly connected are disclosed in the present specification and the like. Therefore, it is not limited to the predetermined connection relationship, for example, the connection relationship shown in the figure or text, and other than the connection relationship shown in the figure or text, it is assumed that the connection relationship is also described in the figure or text.

ここで、X、Yは、対象物(例えば、装置、素子、回路、配線、電極、端子、導電膜、層、など)であるとする。 Here, it is assumed that X and Y are objects (for example, devices, elements, circuits, wirings, electrodes, terminals, conductive films, layers, etc.).

XとYとが直接的に接続されている場合の一例としては、XとYとの電気的な接続を可能とする素子(例えば、スイッチ、トランジスタ、容量素子、インダクタ、抵抗素子、ダイオード、表示素子、発光素子、負荷など)が、XとYとの間に接続されていない場合であり、XとYとの電気的な接続を可能とする素子(例えば、スイッチ、トランジスタ、容量素子、インダクタ、抵抗素子、ダイオード、表示素子、発光素子、負荷など)を介さずに、XとYとが、接続されている場合である。 As an example of the case where X and Y are directly connected, an element (for example, a switch, a transistor, a capacitive element, an inductor, a resistance element, a diode, a display) that enables an electrical connection between X and Y is displayed. An element (eg, a switch, a transistor, a capacitive element, an inductor) that enables an electrical connection between X and Y when the element, light emitting element, load, etc.) is not connected between X and Y. , A resistance element, a diode, a display element, a light emitting element, a load, etc.), and X and Y are connected to each other.

XとYとが電気的に接続されている場合の一例としては、XとYとの電気的な接続を可能とする素子(例えば、スイッチ、トランジスタ、容量素子、インダクタ、抵抗素子、ダイオード、表示素子、発光素子、負荷など)が、XとYとの間に1個以上接続されることが可能である。なお、スイッチは、オンオフが制御される機能を有している。つまり、スイッチは、導通状態(オン状態)、または、非導通状態(オフ状態)になり、電流を流すか流さないかを制御する機能を有している。または、スイッチは、電流を流す経路を選択して切り替える機能を有している。なお、XとYとが電気的に接続されている場合は、XとYとが直接的に接続されている場合を含むものとする。 As an example of the case where X and Y are electrically connected, an element (for example, a switch, a transistor, a capacitive element, an inductor, a resistance element, a diode, a display) that enables an electrical connection between X and Y is displayed. One or more elements, light emitting elements, loads, etc.) can be connected between X and Y. The switch has a function of controlling on / off. That is, the switch is in a conducting state (on state) or a non-conducting state (off state), and has a function of controlling whether or not a current flows. Alternatively, the switch has a function of selecting and switching the path through which the current flows. The case where X and Y are electrically connected includes the case where X and Y are directly connected.

XとYとが機能的に接続されている場合の一例としては、XとYとの機能的な接続を可能とする回路(例えば、論理回路(インバータ、NAND回路、NOR回路など)、信号変換回路(DA変換回路、AD変換回路、ガンマ補正回路など)、電位レベル変換回路(電源回路(昇圧回路、降圧回路など)、信号の電位レベルを変えるレベルシフタ回路など)、電圧源、電流源、切り替え回路、増幅回路(信号振幅または電流量などを大きく出来る回路、オペアンプ、差動増幅回路、ソースフォロワ回路、バッファ回路など)、信号生成回路、記憶回路、制御回路など)が、XとYとの間に1個以上接続されることが可能である。なお、一例として、XとYとの間に別の回路を挟んでいても、Xから出力された信号がYへ伝達される場合は、XとYとは機能的に接続されているものとする。なお、XとYとが機能的に接続されている場合は、XとYとが直接的に接続されている場合と、XとYとが電気的に接続されている場合とを含むものとする。 As an example of the case where X and Y are functionally connected, a circuit that enables functional connection between X and Y (for example, a logic circuit (inverter, NAND circuit, NOR circuit, etc.), signal conversion, etc.) Circuit (DA conversion circuit, AD conversion circuit, gamma correction circuit, etc.), potential level conversion circuit (power supply circuit (boost circuit, step-down circuit, etc.), level shifter circuit that changes the potential level of the signal, etc.), voltage source, current source, switching Circuits, amplifier circuits (circuits that can increase signal amplitude or current amount, operational amplifiers, differential amplifier circuits, source follower circuits, buffer circuits, etc.), signal generation circuits, storage circuits, control circuits, etc.) are X and Y. It is possible to connect one or more in between. As an example, even if another circuit is sandwiched between X and Y, if the signal output from X is transmitted to Y, it is assumed that X and Y are functionally connected. do. It should be noted that the case where X and Y are functionally connected includes the case where X and Y are directly connected and the case where X and Y are electrically connected.

なお、XとYとが電気的に接続されている、と明示的に記載されている場合は、XとYとが電気的に接続されている場合(つまり、XとYとの間に別の素子又は別の回路を挟んで接続されている場合)と、XとYとが機能的に接続されている場合(つまり、XとYとの間に別の回路を挟んで機能的に接続されている場合)と、XとYとが直接接続されている場合(つまり、XとYとの間に別の素子又は別の回路を挟まずに接続されている場合)とが、本明細書等に開示されているものとする。つまり、電気的に接続されている、と明示的に記載されている場合は、単に、接続されている、とのみ明示的に記載されている場合と同様な内容が、本明細書等に開示されているものとする。 When it is explicitly stated that X and Y are electrically connected, it is different when X and Y are electrically connected (that is, between X and Y). When X and Y are functionally connected (that is, when they are connected by sandwiching another circuit between X and Y) and when they are functionally connected by sandwiching another circuit between X and Y. When X and Y are directly connected (that is, when another element or another circuit is not sandwiched between X and Y). It shall be disclosed in the document, etc. That is, when it is explicitly stated that it is electrically connected, the same contents as when it is explicitly stated that it is simply connected are disclosed in the present specification and the like. It is assumed that it has been done.

なお、例えば、トランジスタのソース(又は第1の端子など)が、Z1を介して(又は介さず)、Xと電気的に接続され、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)が、Z2を介して(又は介さず)、Yと電気的に接続されている場合や、トランジスタのソース(又は第1の端子など)が、Z1の一部と直接的に接続され、Z1の別の一部がXと直接的に接続され、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)が、Z2の一部と直接的に接続され、Z2の別の一部がYと直接的に接続されている場合では、以下のように表現することが出来る。 Note that, for example, the source of the transistor (or the first terminal, etc.) is electrically connected to X via (or not) Z1, and the drain of the transistor (or the second terminal, etc.) connects Z2. Through (or not), if electrically connected to Y, or if the source of the transistor (or the first terminal, etc.) is directly connected to one part of Z1 and another part of Z1. Is directly connected to X, the drain of the transistor (or the second terminal, etc.) is directly connected to one part of Z2, and another part of Z2 is directly connected to Y. Then, it can be expressed as follows.

例えば、「XとYとトランジスタのソース(又は第1の端子など)とドレイン(又は第2の端子など)とは、互いに電気的に接続されており、X、トランジスタのソース(又は第1の端子など)、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)、Yの順序で電気的に接続されている。」と表現することができる。または、「トランジスタのソース(又は第1の端子など)は、Xと電気的に接続され、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)はYと電気的に接続され、X、トランジスタのソース(又は第1の端子など)、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)、Yは、この順序で電気的に接続されている」と表現することができる。または、「Xは、トランジスタのソース(又は第1の端子など)とドレイン(又は第2の端子など)とを介して、Yと電気的に接続され、X、トランジスタのソース(又は第1の端子など)、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)、Yは、この接続順序で設けられている」と表現することができる。これらの例と同様な表現方法を用いて、回路構成における接続の順序について規定することにより、トランジスタのソース(又は第1の端子など)と、ドレイン(又は第2の端子など)とを、区別して、技術的範囲を決定することができる。 For example, "X and Y, the source (or the first terminal, etc.) and the drain (or the second terminal, etc.) of the transistor are electrically connected to each other, and X, the source of the transistor (or the first terminal, etc.) (Terminals, etc.), transistor drains (or second terminals, etc.), and Y are electrically connected in this order. " Alternatively, "the source of the transistor (or the first terminal, etc.) is electrically connected to X, the drain of the transistor (or the second terminal, etc.) is electrically connected to Y, and the X, the source of the transistor (such as the second terminal). Or the first terminal, etc.), the drain of the transistor (or the second terminal, etc.), and Y are electrically connected in this order. " Alternatively, "X is electrically connected to Y via the source (or first terminal, etc.) and drain (or second terminal, etc.) of the transistor, and X, the source (or first terminal, etc.) of the transistor. The terminals, etc.), the drain of the transistor (or the second terminal, etc.), and Y are provided in this connection order. " By defining the order of connections in the circuit configuration using the same representation as these examples, the source (or first terminal, etc.) and drain (or second terminal, etc.) of the transistor can be separated. Separately, the technical scope can be determined.

または、別の表現方法として、例えば、「トランジスタのソース(又は第1の端子など)は、少なくとも第1の接続経路を介して、Xと電気的に接続され、前記第1の接続経路は、第2の接続経路を有しておらず、前記第2の接続経路は、トランジスタを介した、トランジスタのソース(又は第1の端子など)とトランジスタのドレイン(又は第2の端子など)との間の経路であり、前記第1の接続経路は、Z1を介した経路であり、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)は、少なくとも第3の接続経路を介して、Yと電気的に接続され、前記第3の接続経路は、前記第2の接続経路を有しておらず、前記第3の接続経路は、Z2を介した経路である。」と表現することができる。または、「トランジスタのソース(又は第1の端子など)は、少なくとも第1の接続経路によって、Z1を介して、Xと電気的に接続され、前記第1の接続経路は、第2の接続経路を有しておらず、前記第2の接続経路は、トランジスタを介した接続経路を有し、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)は、少なくとも第3の接続経路によって、Z2を介して、Yと電気的に接続され、前記第3の接続経路は、前記第2の接続経路を有していない。」と表現することができる。または、「トランジスタのソース(又は第1の端子など)は、少なくとも第1の電気的パスによって、Z1を介して、Xと電気的に接続され、前記第1の電気的パスは、第2の電気的パスを有しておらず、前記第2の電気的パスは、トランジスタのソース(又は第1の端子など)からトランジスタのドレイン(又は第2の端子など)への電気的パスであり、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)は、少なくとも第3の電気的パスによって、Z2を介して、Yと電気的に接続され、前記第3の電気的パスは、第4の電気的パスを有しておらず、前記第4の電気的パスは、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)からトランジスタのソース(又は第1の端子など)への電気的パスである。」と表現することができる。これらの例と同様な表現方法を用いて、回路構成における接続経路について規定することにより、トランジスタのソース(又は第1の端子など)と、ドレイン(又は第2の端子など)とを、区別して、技術的範囲を決定することができる。 Alternatively, as another representation, for example, "the source of the transistor (or the first terminal, etc.) is electrically connected to X via at least the first connection path, and the first connection path is. It does not have a second connection path, and the second connection path is between the source of the transistor (or the first terminal, etc.) and the drain of the transistor (or the second terminal, etc.) via the transistor. The first connection path is a path via Z1, and the drain of the transistor (or the second terminal, etc.) is electrically connected to Y via at least a third connection path. The third connection path is connected and does not have the second connection path, and the third connection path is a path via Z2. " Alternatively, "the source of the transistor (or the first terminal, etc.) is electrically connected to X via Z1 by at least the first connection path, and the first connection path is the second connection path. The second connection path has a connection path via a transistor, and the drain of the transistor (or a second terminal, etc.) has at least a third connection path via Z2. , Y is electrically connected, and the third connection path does not have the second connection path. " Alternatively, "the source of the transistor (or the first terminal, etc.) is electrically connected to X via Z1 by at least the first electrical path, the first electrical path being the second. It does not have an electrical path, and the second electrical path is an electrical path from the source of the transistor (or the first terminal, etc.) to the drain of the transistor (or the second terminal, etc.). The drain (or second terminal, etc.) of the transistor is electrically connected to Y via Z2 by at least a third electrical path, the third electrical path being a fourth electrical path. The fourth electrical path is an electrical path from the drain of the transistor (or the second terminal, etc.) to the source of the transistor (or the first terminal, etc.). " can do. By defining the connection path in the circuit configuration using the same representation as these examples, the source (or first terminal, etc.) and drain (or second terminal, etc.) of the transistor can be distinguished. , The technical scope can be determined.

なお、これらの表現方法は、一例であり、これらの表現方法に限定されない。ここで、X、Y、Z1、Z2は、対象物(例えば、装置、素子、回路、配線、電極、端子、導電膜、層、など)であるとする。 It should be noted that these expression methods are examples, and are not limited to these expression methods. Here, it is assumed that X, Y, Z1 and Z2 are objects (for example, devices, elements, circuits, wirings, electrodes, terminals, conductive films, layers, etc.).

なお、回路図上は独立している構成要素同士が電気的に接続しているように図示されている場合であっても、1つの構成要素が、複数の構成要素の機能を併せ持っている場合もある。例えば配線の一部が電極としても機能する場合は、一の導電膜が、配線の機能、及び電極の機能の両方の構成要素の機能を併せ持っている。したがって、本明細書における電気的に接続とは、このような、一の導電膜が、複数の構成要素の機能を併せ持っている場合も、その範疇に含める。 Even if the circuit diagram shows that the independent components are electrically connected to each other, the case where one component has the functions of a plurality of components together. There is also. For example, when a part of the wiring also functions as an electrode, one conductive film has both the function of the wiring and the function of the component of the function of the electrode. Therefore, the electrical connection in the present specification also includes the case where one conductive film has the functions of a plurality of components in combination.

C(g) 電極
M(h) 電極
CL(g) 制御線
ML(h) 信号線
DC 検知回路
OSC 発振回路
P1 位置情報
BM 遮光膜
SD 駆動回路
GD 駆動回路
GDA 駆動回路
GDB 駆動回路
GDC 駆動回路
GDD 駆動回路
CP 導電材料
ANO 導電膜
BR(g,h) 導電膜
SS 制御情報
CSCOM 配線
ACF1 導電材料
ACF2 導電材料
AF1 配向膜
AF2 配向膜
C11 容量素子
C21 容量素子
G1(i) 走査線
G2(i) 走査線
KB1 構造体
S1 検知情報
S1(j) 信号線
S2(j) 信号線
SD1 駆動回路
SD2 駆動回路
SW1 スイッチ
SW2 スイッチ
V1 画像情報
V11 情報
V12 情報
VCOM1 配線
VCOM2 導電膜
FPC1 フレキシブルプリント基板
FPC2 フレキシブルプリント基板
200 情報処理装置
210 演算装置
211 演算部
212 記憶部
214 伝送路
215 入出力インターフェース
220 入出力装置
230 表示部
231 表示領域
234 伸張回路
235M 画像処理回路
235M(1) 領域
235M(2) 領域
238 制御部
240 入力部
241 検知領域
250 検知部
290 通信部
501C 絶縁膜
501D 絶縁膜
504 導電膜
504E 導電膜
505 接合層
506 絶縁膜
508 半導体膜
508A 領域
508B 領域
508C 領域
511B 導電膜
511C 導電膜
511D 導電膜
512A 導電膜
512B 導電膜
512C 導電膜
512D 導電膜
516 絶縁膜
518 絶縁膜
519B 端子
519C 端子
519D 端子
520 機能層
520T 透光性領域
521 絶縁膜
522 接続部
524 導電膜
528 絶縁膜
530(i,j) 画素回路
550(i,j) 表示素子
551(i,j) 電極
551A 半透過・半反射性の導電膜
551B(i,j) 透光性を備える導電膜
552 電極
553 発光性の材料を含む層
570 基板
573 絶縁膜
573A 絶縁膜
573B 絶縁膜
591A 開口部
591B 開口部
591C 開口部
700 表示パネル
700B 表示パネル
700TP2 入出力パネル
702(i,j) 画素
703(i,k) 画素
705 封止材
720 機能層
721A 絶縁膜
721B 絶縁膜
750(i,j) 表示素子
752 電極
753 液晶材料を含む層
770 基板
770D 機能膜
770P 機能膜
771 絶縁膜
775(g,h) 検知素子
5200B 情報処理装置
5210 演算装置
5220 入出力装置
5230 表示部
5240 入力部
5250 検知部
5290 通信部
C (g) Electrode M (h) Electrode CL (g) Control line ML (h) Signal line DC Detection circuit OSC Oscillation circuit P1 Position information BM Shading film SD Drive circuit GD Drive circuit GDA Drive circuit GDB Drive circuit GDC Drive circuit GDD Drive circuit CP Conductive material ANO Conductive BR (g, h) Conductive SS Control information CSCOM Wiring ACF1 Conductive material ACF2 Conductive material AF1 Alignment film AF2 Alignment film C11 Capacitive element C21 Capacitive element G1 (i) Scanning line G2 (i) Scanning Line KB1 Structure S1 Detection information S1 (j) Signal line S2 (j) Signal line SD1 Drive circuit SD2 Drive circuit SW1 Switch SW2 Switch V1 Image information V11 Information V12 Information VCOM1 Wiring VCOM2 Conductive FPC1 Flexible printed board FPC2 Flexible printed board 200 Information processing device 210 Calculation device 211 Calculation unit 212 Storage unit 214 Transmission line 215 Input / output interface 220 Input / output device 230 Display unit 231 Display area 234 Expansion circuit 235M Image processing circuit 235M (1) Area 235M (2) Area 238 Control unit 240 Input unit 241 Detection area 250 Detection unit 290 Communication unit 501C Insulation film 501D Insulation film 504 Conductive film 504E Conductive film 505 Bonding layer 506 Insulation film 508 Semiconductor film 508A Region 508B Region 508C Region 511B Conductive film 511C Conductive film 511D Conductive film 512A Conductive film 512B Conductive 512C Conductive 512D Conductive 516 Insulation film 518 Insulation film 519B Terminal 519C Terminal 519D Terminal 520 Functional layer 520T Translucent region 521 Insulation film 522 Connection part 524 Conduction film 528 Insulation film 530 (i, j) Pixel circuit 550 (I, j) Display element 551 (i, j) Electrode 551A Semi-transmissive / semi-reflective conductive film 551B (i, j) Conductive film having translucency 552 Electrode 551 Layer 570 substrate 573 containing a luminescent material Insulation film 573A Insulation film 573B Insulation film 591A Opening 591B Opening 591C Opening 700 Display panel 700B Display panel 700TP2 Input / output panel 702 (i, j) Pixel 703 (i, k) Pixel 705 Encapsulant 720 Functional layer 721A Insulation Film 721B Insulation film 750 (i, j) Display element 752 Electrode 753 Layer 770 including liquid crystal material 770 Substrate 770D Functional film 770P Functional film 771 Insulation film 775 (g, h) Detection element 5200B Information processing device 5210 Arithmetic logic unit 5220 Input / output device 5230 Display unit 5240 Input unit 5250 Detection unit 5290 Communication unit

Claims (10)

画素を有し、
前記画素は、微小共振器構造を備え、
前記微小共振器構造は、入射光に含まれる一部の色の光を吸収し、他の色の光を反射する特性を備え、
前記画素は、第1の表示素子および第2の表示素子を備え、
前記第1の表示素子は、反射された光の透過を制御する機能を備え、
前記第1の表示素子は、サーモトロピック液晶、低分子液晶、高分子液晶、強誘電性液晶、または反強誘電性液晶を含む層を備え、
前記第2の表示素子は、射出光を射出する機能を備え、
前記第2の表示素子は、前記第1の表示素子を用いた表示を視認できる範囲の一部において、前記第2の表示素子を用いた表示を視認できるように配設される、表示パネル。
Has pixels,
The pixel comprises a microcavity structure and
The microcavity structure has the property of absorbing light of some colors contained in the incident light and reflecting light of other colors.
The pixel comprises a first display element and a second display element.
The first display element has a function of controlling the transmission of reflected light.
The first display element includes a layer including a thermotropic liquid crystal, a low molecular weight liquid crystal, a polymer liquid crystal, a ferroelectric liquid crystal, or an antiferroelectric liquid crystal.
The second display element has a function of emitting emitted light, and has a function of emitting emitted light.
The second display element is a display panel arranged so that the display using the second display element can be visually recognized in a part of the range in which the display using the first display element can be visually recognized.
画素を有し、
前記画素は、入射光に含まれる一部の色の光を吸収し、他の色の光を反射する機能を備え、
前記画素は、第1の表示素子および第2の表示素子を備え、
前記第1の表示素子は、反射された光の透過を制御する機能を備え、
前記第1の表示素子は、サーモトロピック液晶、低分子液晶、高分子液晶、強誘電性液晶、または反強誘電性液晶を含む層を備え、
前記第2の表示素子は、射出光を射出する機能を備え、
前記第2の表示素子は、微小共振器構造を備え、
前記微小共振器構造は、前記入射光に含まれる前記射出光と同じ色の光を吸収する特性を備え、
前記第2の表示素子は、前記第1の表示素子を用いた表示を視認できる範囲の一部において、前記第2の表示素子を用いた表示を視認できるように配設される、表示パネル。
Has pixels,
The pixel has a function of absorbing light of a part of the color contained in the incident light and reflecting light of another color.
The pixel comprises a first display element and a second display element.
The first display element has a function of controlling the transmission of reflected light.
The first display element includes a layer including a thermotropic liquid crystal, a low molecular weight liquid crystal, a polymer liquid crystal, a ferroelectric liquid crystal, or an antiferroelectric liquid crystal.
The second display element has a function of emitting emitted light, and has a function of emitting emitted light.
The second display element comprises a microcavity structure.
The microcavity structure has a property of absorbing light of the same color as the emitted light contained in the incident light.
The second display element is a display panel arranged so that the display using the second display element can be visually recognized in a part of the range in which the display using the first display element can be visually recognized.
第1の画素と、第2の画素と、を有し、
前記画素は、シアン色の光を反射する特性および赤色の射出光を射出する機能を備え、
前記第1の画素は、マゼンタ色の光を反射する特性および緑色の射出光を射出する機能を備え、
前記第2の画素は、イエロー色の光を反射する特性および青色の射出光を射出する機能を備える、請求項1または請求項2に記載の表示パネル。
It has a first pixel and a second pixel,
The pixel has a characteristic of reflecting cyan light and a function of emitting red emitted light.
The first pixel has a characteristic of reflecting magenta light and a function of emitting green emission light.
The display panel according to claim 1 or 2, wherein the second pixel has a characteristic of reflecting yellow light and a function of emitting blue emitted light.
前記画素は、機能層を備え、
前記機能層は、前記第1の表示素子と重なる領域を備え、
前記機能層は、前記第2の表示素子と重なる領域を備え、
前記機能層は、画素回路および透光性領域を含み、
前記画素回路は、前記第1の表示素子および前記第2の表示素子と電気的に接続され、
前記画素回路は、導電膜を備え、
前記導電膜は、前記透光性領域に可視光を透過する領域を備え、
前記第2の表示素子は、前記機能層に向けて光を射出する機能を備える、請求項1乃至請求項3のいずれか一に記載の表示パネル。
The pixel comprises a functional layer and
The functional layer comprises a region overlapping the first display element.
The functional layer comprises a region overlapping the second display element.
The functional layer includes a pixel circuit and a translucent region.
The pixel circuit is electrically connected to the first display element and the second display element.
The pixel circuit includes a conductive film and has a conductive film.
The conductive film has a region through which visible light is transmitted in the translucent region.
The display panel according to any one of claims 1 to 3, wherein the second display element has a function of emitting light toward the functional layer.
前記画素は、
第1の導電膜と、
第2の導電膜と、
絶縁膜と、を有し、
前記絶縁膜は、前記第1の導電膜および前記第2の導電膜の間に挟まれる領域を備え、
前記絶縁膜は、開口部を備え、
前記第1の導電膜は、前記第1の表示素子と電気的に接続され、
前記第2の導電膜は、前記第1の導電膜と重なる領域を備え、
前記第2の導電膜は、前記開口部において前記第1の導電膜と電気的に接続され、
前記第2の導電膜は、前記画素回路と電気的に接続される、請求項4に記載の表示パネル。
The pixel is
The first conductive film and
The second conductive film and
With an insulating film,
The insulating film comprises a region sandwiched between the first conductive film and the second conductive film.
The insulating film has an opening and has an opening.
The first conductive film is electrically connected to the first display element and is connected to the first display element.
The second conductive film has a region overlapping with the first conductive film, and has a region overlapping with the first conductive film.
The second conductive film is electrically connected to the first conductive film at the opening.
The display panel according to claim 4, wherein the second conductive film is electrically connected to the pixel circuit.
表示領域を有し、
前記表示領域は、一群の複数の画素、他の一群の複数の画素、走査線および信号線を備え、
前記一群の複数の画素は、前記画素を含み、
前記一群の複数の画素は、行方向に配設され、
前記他の一群の複数の画素は、前記画素を含み、
前記他の一群の複数の画素は、行方向と交差する列方向に配設され、
前記走査線は、一群の複数の画素と電気的に接続され、
前記信号線は、他の一群の複数の画素と電気的に接続される、請求項1乃至請求項5のいずれか一に記載の表示パネル。
Has a display area
The display area comprises a group of pixels, another group of pixels, scanning lines and signal lines.
The plurality of pixels in the group includes the pixels.
The plurality of pixels in the group are arranged in the row direction, and the plurality of pixels are arranged in the row direction.
The plurality of pixels in the other group include the pixels.
The other group of pixels is arranged in a column direction that intersects the row direction.
The scan line is electrically connected to a plurality of pixels in a group and is connected to each other.
The display panel according to any one of claims 1 to 5, wherein the signal line is electrically connected to a plurality of pixels in another group.
請求項1乃至請求項6のいずれか一に記載の表示パネルと、
制御部と、を有し、
前記制御部は、画像情報および制御情報を供給される機能を備え、
前記制御部は、前記画像情報に基づいて第1の情報または第2の情報を生成する機能を備え、
前記制御部は、前記第1の情報および前記第2の情報を供給する機能を備え、
前記表示パネルは、前記第1の情報および前記第2の情報を供給される機能を備え、
前記第1の表示素子は、前記第1の情報に基づいて表示する機能を備え、
前記第2の表示素子は、前記第2の情報に基づいて表示する機能を備える、表示装置。
The display panel according to any one of claims 1 to 6.
Has a control unit,
The control unit has a function of supplying image information and control information.
The control unit has a function of generating first information or second information based on the image information.
The control unit has a function of supplying the first information and the second information.
The display panel has a function of being supplied with the first information and the second information.
The first display element has a function of displaying based on the first information.
The second display element is a display device having a function of displaying based on the second information.
入力部と、表示部と、を有し、
前記表示部は、請求項1乃至請求項6のいずれか一に記載の表示パネルを備え、
前記入力部は、検知領域を備え、
前記入力部は、前記検知領域に近接するものを検知する機能を備え、
前記検知領域は、前記画素と重なる領域を備える入出力装置。
It has an input unit and a display unit.
The display unit includes the display panel according to any one of claims 1 to 6.
The input unit includes a detection area.
The input unit has a function of detecting an object close to the detection area.
The detection area is an input / output device including an area overlapping the pixels.
前記検知領域は、制御線、検知信号線および検知素子を備え、
前記検知素子は、前記制御線および前記検知信号線と電気的に接続され、
前記制御線は、制御信号を供給する機能を備え、
前記検知信号線は、検知信号を供給される機能を備え、
前記検知素子は、前記制御信号および前記画素と重なる領域に近接するものとの距離に基づいて変化する前記検知信号を供給する機能を備え、
前記検知素子は、第1の電極と、第2の電極と、を備え、
前記第1の電極は、前記画素と重なる領域に透光性を有する領域を備え、
前記第1の電極は、前記制御線と電気的に接続され、
前記第2の電極は、前記画素と重なる領域に透光性を有する領域を備え、
前記第2の電極は、前記検知信号線と電気的に接続され、
前記第2の電極は、前記画素と重なる領域に近接するものによって一部が遮られる電界を、前記第1の電極との間に形成するように配置される、請求項8に記載の入出力装置。
The detection area includes a control line, a detection signal line, and a detection element.
The detection element is electrically connected to the control line and the detection signal line.
The control line has a function of supplying a control signal and has a function of supplying a control signal.
The detection signal line has a function of supplying a detection signal, and has a function of being supplied.
The detection element has a function of supplying the detection signal that changes based on the distance between the control signal and the object in the vicinity of the area overlapping the pixel.
The detection element includes a first electrode and a second electrode.
The first electrode includes a region having translucency in a region overlapping the pixel.
The first electrode is electrically connected to the control line and is connected to the control line.
The second electrode includes a region having translucency in a region overlapping the pixel.
The second electrode is electrically connected to the detection signal line and is connected to the detection signal line.
The input / output according to claim 8, wherein the second electrode is arranged so as to form an electric field partially blocked by an object close to the region overlapping the pixel with the first electrode. Device.
キーボード、ハードウェアボタン、ポインティングデバイス、タッチセンサ、照度センサ、撮像装置、音声入力装置、視点入力装置、姿勢検出装置、のうち一以上と、請求項1乃至請求項6のいずれか一に記載の表示パネルと、を含む、情報処理装置。 The one or more of a keyboard, a hardware button, a pointing device, a touch sensor, an illuminance sensor, an image pickup device, a voice input device, a viewpoint input device, and an attitude detection device, and any one of claims 1 to 6. Information processing equipment, including a display panel.
JP2016238456A 2016-12-08 2016-12-08 Display panel, display device, input / output device, information processing device Active JP7055592B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016238456A JP7055592B2 (en) 2016-12-08 2016-12-08 Display panel, display device, input / output device, information processing device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016238456A JP7055592B2 (en) 2016-12-08 2016-12-08 Display panel, display device, input / output device, information processing device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018097024A JP2018097024A (en) 2018-06-21
JP7055592B2 true JP7055592B2 (en) 2022-04-18

Family

ID=62632708

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016238456A Active JP7055592B2 (en) 2016-12-08 2016-12-08 Display panel, display device, input / output device, information processing device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7055592B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7266387B2 (en) * 2018-11-12 2023-04-28 株式会社ジャパンディスプレイ Display device
JP7281940B2 (en) * 2019-03-28 2023-05-26 株式会社ジャパンディスプレイ Display device with detector

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003316295A (en) 2002-04-16 2003-11-07 Ind Technol Res Inst Picture element structure of display under sunlight
JP2007294404A (en) 2006-03-30 2007-11-08 Canon Inc Display device
JP2011197658A (en) 2010-02-26 2011-10-06 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Display device and electronic book including the same
US20150160511A1 (en) 2013-12-09 2015-06-11 Electronics And Telecommunications Research Institute Display device and method of manufacturing the same
JP2016038581A (en) 2014-08-08 2016-03-22 株式会社半導体エネルギー研究所 Display panel, display device, and method of driving display device

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003316295A (en) 2002-04-16 2003-11-07 Ind Technol Res Inst Picture element structure of display under sunlight
JP2007294404A (en) 2006-03-30 2007-11-08 Canon Inc Display device
JP2011197658A (en) 2010-02-26 2011-10-06 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Display device and electronic book including the same
US20150160511A1 (en) 2013-12-09 2015-06-11 Electronics And Telecommunications Research Institute Display device and method of manufacturing the same
JP2016038581A (en) 2014-08-08 2016-03-22 株式会社半導体エネルギー研究所 Display panel, display device, and method of driving display device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2018097024A (en) 2018-06-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20180095559A1 (en) Display Panel, Display Device, Input/Output Device, and Data Processing Device
JP7433493B2 (en) display panel
US20170315644A1 (en) Display device, input/output device, data processing device, and display method
JP2024023253A (en) transistor
WO2019234555A1 (en) Display panel, display device, input/output device and information processing device
JP6917222B2 (en) Display device
JP7055592B2 (en) Display panel, display device, input / output device, information processing device
WO2018185585A1 (en) Display device, input-output device, and information processing device
JP2018059997A (en) Display panel, display device, input/output device, and information processing device
JP6910832B2 (en) Display device, input / output device, information processing device
KR20210102914A (en) display device, information processing device
JP6915977B2 (en) Display panel, display device, input / output device, information processing device
JP6839973B2 (en) Display panel
WO2018047020A1 (en) Display panel, display device, input/output device, and information processing device
JP2018072751A (en) Display panel, display device, input/output device, and information processing device
JP2024056788A (en) Display Panel
JP2018112679A (en) Display panel, input/output panel, input/output device, and information processing device
JP2018004927A (en) Display device, input/output device, information processing device, and display method
JP2018077360A (en) Display panel, display device, input/output device, and information processing device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20191111

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20201111

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20201117

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210115

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210525

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210709

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20211019

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20211210

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220315

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220406

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7055592

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150