JP7055420B2 - X線発生システムおよび方法 - Google Patents
X線発生システムおよび方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7055420B2 JP7055420B2 JP2019520651A JP2019520651A JP7055420B2 JP 7055420 B2 JP7055420 B2 JP 7055420B2 JP 2019520651 A JP2019520651 A JP 2019520651A JP 2019520651 A JP2019520651 A JP 2019520651A JP 7055420 B2 JP7055420 B2 JP 7055420B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- target region
- target
- boundary
- region
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/24—Tubes wherein the point of impact of the cathode ray on the anode or anticathode is movable relative to the surface thereof
- H01J35/30—Tubes wherein the point of impact of the cathode ray on the anode or anticathode is movable relative to the surface thereof by deflection of the cathode ray
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/14—Arrangements for concentrating, focusing, or directing the cathode ray
- H01J35/147—Spot size control
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/14—Arrangements for concentrating, focusing, or directing the cathode ray
- H01J35/153—Spot position control
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/16—Vessels; Containers; Shields associated therewith
- H01J35/18—Windows
- H01J35/186—Windows used as targets or X-ray converters
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G1/00—X-ray apparatus involving X-ray tubes; Circuits therefor
- H05G1/08—Electrical details
- H05G1/26—Measuring, controlling or protecting
- H05G1/30—Controlling
- H05G1/52—Target size or shape; Direction of electron beam, e.g. in tubes with one anode and more than one cathode
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
- H01J35/112—Non-rotating anodes
- H01J35/116—Transmissive anodes
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
Description
以下に、出願当初の特許請求の範囲に記載の事項を、そのまま、付記しておく。
[1] システム(1)における方法であって、このシステムは、
電子ビーム(I)を発生させるように動作可能な電子源(200)と、
第1の領域(110)及び第2の領域(120)を備える、前記電子ビームと相互作用するとX線放射を発生させるための静止X線ターゲット(100)と
を備え、
前記第1の領域と前記第2の領域は、エッジ(112、113)によって分離され、X線放射を発生させるための異なる性能を有しており、
前記方法は、
前記エッジを越えて前記電子ビームを移動させることと、
前記電子ビームが前記エッジを越えて移動されるときの、前記電子ビームと前記第1の領域との、及び前記電子ビームと前記第2の領域との前記相互作用を示す量の変化を測定することと、
前記量の前記測定された変化及び前記電子ビームの前記移動に基づいて、前記電子ビームの移動の方向に沿って前記電子ビームの横方向の伸張を決定することと
を行うステップを備える、方法。
[2] 前記量は、X線放射の量、二次電子又は後方散乱した電子の量、及び前記ターゲットに吸収された電子の量のうちの少なくとも1つである、[1]に記載の方法。
[3] 前記エッジに対して実質的に垂直の方向に前記エッジを越えて前記電子ビームを移動させることを備える、[1]又は[2]に記載の方法。
[4] 前記第1の領域及び前記第2の領域において前記電子ビームの焦点を変更することを備える、[1]~[3]のいずれか一項に記載の方法。
[5] 前記決定された横方向の伸張に基づいて、前記ターゲットに供給される出力密度が所定の限界値より下に維持されるようにするための前記電子ビームの強度か、又は前記電子ビームのスポットサイズのうちの少なくとも1つを調整することをさらに備える、[1]~[4]のいずれか一項に記載の方法。
[6] 前記決定された横方向の伸張及び前記X線放射の所望の波長のうちの少なくとも1つに基づいて、前記ターゲット上の特定ロケーションに前記電子ビームを向けることをさらに備える、[1]~[5]のいずれか一項に記載の方法。
[7] 前記エッジは、前記X線ターゲットの表面段差を備える、[1]~[6]のいずれか一項に記載の方法。
[8] 前記エッジは、少なくとも2つの異なる方向に沿って延在し、前記電子ビームは、前記少なくとも2つの異なる方向に対して実質的に垂直の前記エッジを越えて移動され、それにより前記電子ビームの幅が前記少なくとも2つの異なる方向に対して実質的に垂直と決定されることを可能にする、[1]~[7]のいずれか一項に記載の方法。
[9] 前記エッジは、少なくとも3つの異なる方向に沿って延在し、前記電子ビームは、前記少なくとも3つの異なる方向に対して実質的に垂直の前記エッジを越えて移動され、それにより楕円形状を有する電子ビームスポットの長軸、短軸、及び角度方位の決定を可能にする、[1]~[7]のいずれか一項に記載の方法。
[10] 前記電子ビームスポットの前記決定された長軸、短軸、及び角度方位に基づいて、前記電子ビームのスポット形状又は前記電子ビームのスポット方位のうちの少なくとも1つを調整することをさらに備える、[9]に記載の方法。
[11] X線放射を発生させるように適応されたシステム(1)であって、
電子ビーム(I)を発生させるように動作可能な電子源(200)と、
第1の領域(110)及び第2の領域(120)を備える、前記電子ビームと相互作用するとX線放射を発生させるための静止X線ターゲット(100)と、ここで、前記第1の領域と前記第2の領域は、エッジ(112、113)によって分離され、X線放射を発生させるための異なる性能を有し、
前記エッジを越えて前記電子ビームを移動させるための電子光学手段(300)と、
前記電子ビームが前記エッジを越えて移動されるときの、前記電子ビームと前記第1の領域との、及び前記電子ビームと前記第2の領域との前記相互作用を示す量の変化を測定するように適応されたセンサ(400)と、
前記センサ及び前記電子光学手段に動作可能に接続され、前記量の前記測定された変化及び前記電子ビームの前記移動に基づいて、前記電子ビームの移動の方向に沿って前記電子ビームの横方向の伸張を決定するように適応された制御器(700)と
を備える、システム。
[12] X線放射を発生させるように適応されたシステム(1)であって、
電子ビーム(I)を発生させるように動作可能な電子源(200)と、
第1の領域(110)及び第2の領域(120)を備える、前記電子ビームと相互作用するとX線放射を発生させるための静止X線ターゲット(100)と、ここで、前記第1の領域と前記第2の領域は、エッジ(112、113)によって分離され、
前記エッジを越えて前記電子ビームを移動させるための電子光学手段(300)と、
前記電子ビームが前記エッジを越えて移動されるときの、前記電子ビームと前記第1の領域との、及び前記電子ビームと前記第2の領域との前記相互作用を示す量の変化を測定するように適応されたセンサ(400)と、
前記センサ及び前記電子光学手段に動作可能に接続され、前記量の前記測定された変化及び前記電子ビームの前記移動に基づいて、前記電子ビームの移動の方向に沿って前記電子ビームの横方向の伸張を決定するように適応された制御器(700)と
を備え、
前記X線ターゲットの前記第1の領域及び前記第2の領域は、前記量の少なくとも2パーセントの差異を提供するように配置されている、
システム。
[13] 前記第1の領域は、前記電子ビームの進行の方向で見て異なる厚さを有する、[11]又は[12]に記載のシステム。
[14] 前記X線ターゲットの前記第1の領域は層の一部を形成し、前記第2の領域は基板の一部を形成し、前記層は前記基板上に配置される、[11]~[13]のいずれか一項に記載のシステム。
[15] 前記第1の領域は、前記第2の領域に少なくとも部分的に埋め込まれている、[11]~[13]のいずれか一項に記載のシステム。
[16] 前記第1の領域及び前記第2の領域は、互いに異なる材料から形成され、前記第2の領域は、前記第1の領域と比較して前記電子ビーム及びX線放射に対するより高い透過性か、又は前記第1の領域の材料の原子番号よりも低い原子番号のうちの少なくとも1つを有する材料を備える、[11]~[15]のいずれか一項に記載のシステム。
[17] 前記第1の領域は、タングステン、レニウム、モリブデン、バナジウム、及びニオビウムを含むリストから選択された材料を備え、前記第2の領域は、ダイヤモンドのような炭素又はベリリウムを備える、[11]~[16]のいずれか一項に記載のシステム。
[18] 前記エッジは、少なくとも1つの八角形に合致する形状を有する、[11]~[17]のいずれか一項に記載のシステム。
Claims (18)
- システム(1)における方法であって、このシステム(1)は、
電子ビーム(I)を発生させるように動作可能な電子源(200)と、
前記電子ビームと相互作用するとX線放射を発生させるための静止X線ターゲット(100)と、を備え、
前記静止X線ターゲットは、第1のターゲット領域(110)及び第2のターゲット領域(120)を備え、
前記第1のターゲット領域と前記第2のターゲット領域は、X線放射を発生させるための互いに異なる性能を有しており、
前記第1のターゲット領域と前記第2のターゲット領域は、互いに相対的な角度に方向付けられた第1の境界(112)と第2の境界(113)とによって分離されており、
前記第1のターゲット領域と前記第2のターゲット領域の各々は、前記電子ビームの断面全体を受け入れることができる大きさを有し、
前記第1のターゲット領域と前記第2のターゲット領域は、共通の基板上に配置されており、
前記方法は、
前記第1の境界を越えて前記第2のターゲット領域の中へ第1の方向に前記電子ビームを移動させて、前記電子ビームの断面全体が前記第2のターゲット領域の中に配置されるようにし、次いで、
前記第2のターゲット領域を超えて、前記第2の境界を越えて前記第1のターゲット領域の中へ第2の方向に前記電子ビームを移動させて、前記電子ビームの断面全体が前記第1のターゲット領域の中に配置されるようにし、
前記方法は、さらに、
前記電子ビームが前記第1の境界を越えて移動するとき、前記電子ビームと前記第1のターゲット領域との相互作用、及び前記電子ビームと前記第2のターゲット領域との相互作用を示す量の変化を測定することと、
前記電子ビームが前記第2の境界を越えて移動するとき、前記電子ビームと前記第2のターゲット領域との相互作用、及び前記電子ビームと前記第1のターゲット領域との相互作用を示す量の変化を測定することと、
前記量の測定された変化及び前記電子ビームの前記移動に基づいて、前記電子ビームの前記第1の方向及び前記第2の方向に沿って、それぞれ前記電子ビームの幅を決定することと、を備える方法。 - 前記量は、X線放射の量、二次電子若しくは後方散乱した電子の量、又は前記静止X線ターゲットに吸収された電子の量のうちの少なくとも1つである、請求項1に記載の方法。
- 前記第1の境界は、前記第2の境界に対して実質的に垂直である、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記第1のターゲット領域及び前記第2のターゲット領域において前記電子ビームの焦点を変更することを備える、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記決定された電子ビームの幅に基づいて、前記静止X線ターゲットに供給される出力密度が所定の限界値より下に維持されるようにするための前記電子ビームの強度か、又は前記電子ビームのスポットサイズのうちの少なくとも1つを調整することをさらに備える、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記決定された電子ビームの幅、又は前記X線放射の所望の波長のうちの少なくとも1つに基づいて、前記静止X線ターゲット上の特定ロケーションに前記電子ビームを向けることをさらに備える、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記第1の境界、及び/又は第2の境界は、前記静止X線ターゲットの表面段差を備える、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記第1の方向は前記第1の境界に対して実質的に垂直であり、前記第2の方向は前記第2の境界に対して実質的に垂直である、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記第1のターゲット領域を前記第2のターゲット領域と分けている第3の境界を越えて第3の方向に前記電子ビームを移動させ、ここで、前記第1の方向、前記第2の方向、及び前記第3の方向は、互いに異なるものであり、
前記電子ビームが前記第3の境界を越えて移動するとき、前記電子ビームと前記第2のターゲット領域との相互作用、及び前記電子ビームと前記第1のターゲット領域との相互作用を示す量の変化を測定し、
前記量の測定された変化及び前記電子ビームの前記移動に基づいて、楕円形状を有する電子ビームスポットの長軸、短軸、及び角度方位を決定する、
ことをさらに備える、請求項1又は2に記載の方法。 - 前記電子ビームスポットの前記決定された長軸、短軸、及び角度方位に基づいて、前記電子ビームのスポット形状、又は前記電子ビームのスポット方位のうちの少なくとも1つを調整することをさらに備える、請求項9に記載の方法。
- X線放射を発生させるように適応されたシステム(1)であって、
電子ビーム(I)を発生させるように動作可能な電子源(200)と、
第1のターゲット領域(110)及び第2のターゲット領域(120)を備え、前記電子ビームと相互作用するとX線放射を発生させるための静止X線ターゲット(100)であって、前記第1のターゲット領域と前記第2のターゲット領域は、X線放射を発生させるための互いに異なる性能を有し、互いに相対的な角度に方向付けられた第1の境界(112)と第2の境界(113)とによって分離されており、前記第1のターゲット領域と前記第2のターゲット領域の各々は、前記電子ビームの断面全体を受け入れることができる大きさを有し、前記第1のターゲット領域と前記第2のターゲット領域は、共通の基板上に配置されている、静止X線ターゲット(100)と、
前記電子ビームを移動させるための電子光学手段(300)であって、前記第1の境界を越えて前記第2のターゲット領域の中へ第1の方向に前記電子ビームを移動させて、前記電子ビームの断面全体が前記第2のターゲット領域の中に配置されるようにし、その後、前記第2のターゲット領域を超えて、前記第2の境界を越えて前記第1のターゲット領域の中へ第2の方向に前記電子ビームを移動させて、前記電子ビームの断面全体が前記第1のターゲット領域の中に配置されるようにする、電子光学手段(300)と、
相互作用を示す量の変化を測定するように適応されたセンサ(400)であって、前記電子ビームが前記第1の境界を越えて移動するとき、前記電子ビームと前記第1のターゲット領域との相互作用、及び前記電子ビームと前記第2のターゲット領域との相互作用を示す量の変化を測定するとともに、前記電子ビームが前記第2の境界を越えて移動するとき、前記電子ビームと前記第2のターゲット領域との相互作用、及び前記電子ビームと前記第1のターゲット領域との相互作用を示す量の変化を測定する、センサ(400)と、
前記センサ及び前記電子光学手段に動作可能に接続された制御器(700)であって、前記量の前記測定された変化及び前記電子ビームの前記移動に基づいて、前記第1の方向及び前記第2の方向に沿って、それぞれ前記電子ビームの幅を決定するように適応された制御器(500)と、
を備える、システム。 - X線放射を発生させるように適応されたシステム(1)であって、
電子ビーム(I)を発生させるように動作可能な電子源(200)と、
第1のターゲット領域(110)及び第2のターゲット領域(120)を備え、前記電子ビームと相互作用するとX線放射を発生させるための静止X線ターゲット(100)であって、前記第1のターゲット領域と前記第2のターゲット領域は、互いに相対的な角度に方向付けられた第1の境界(112)と第2の境界(113)とによって分離されており、前記第1のターゲット領域と前記第2のターゲット領域の各々は、前記電子ビームの断面全体を受け入れることができる大きさを有し、前記第1のターゲット領域と前記第2のターゲット領域は、共通の基板上に配置されている、静止X線ターゲット(100)と、
前記電子ビームを移動させるための電子光学手段(300)であって、前記第1の境界を越えて前記第2のターゲット領域の中へ第1の方向に前記電子ビームを移動させて、前記電子ビームの断面全体が前記第2のターゲット領域の中に配置されるようにし、その後、前記第2のターゲット領域を超えて、前記第2の境界を越えて前記第1のターゲット領域の中へ第2の方向に前記電子ビームを移動させて、前記電子ビームの断面全体が前記第1のターゲット領域の中に配置されるようにする、電子光学手段(300)と、
相互作用を示す量の変化を測定するように適応されたセンサ(400)であって、前記電子ビームが前記第1の境界を越えて移動するとき、前記電子ビームと前記第1のターゲット領域との相互作用、及び前記電子ビームと前記第2のターゲット領域との相互作用を示す量の変化を測定するとともに、前記電子ビームが前記第2の境界を越えて移動するとき、前記電子ビームと前記第2のターゲット領域との相互作用、及び前記電子ビームと前記第1のターゲット領域との相互作用を示す量の変化を測定する、センサ(400)と、
前記センサ及び前記電子光学手段に動作可能に接続された制御器(500)であって、前記量の前記測定された変化及び前記電子ビームの前記移動に基づいて、前記第1の方向及び前記第2の方向に沿って、それぞれ前記電子ビームの幅を決定するように適応された制御器(500)と、を備え、
前記静止X線ターゲットの前記第1のターゲット領域及び前記第2のターゲット領域は、前記量の少なくとも2パーセントの差異を提供するように配置されている、
システム。 - 前記第1のターゲット領域は、前記電子ビームの進行の方向で見て異なる厚さを有する、請求項11又は12に記載のシステム。
- 前記静止X線ターゲットの前記第1のターゲット領域は層の一部を形成し、前記第2のターゲット領域は前記基板の一部を形成し、前記層は前記基板上に配置される、請求項11又は12に記載のシステム。
- 前記第1のターゲット領域は、前記第2のターゲット領域に少なくとも部分的に埋め込まれている、請求項11又は12に記載のシステム。
- 前記第1のターゲット領域及び前記第2のターゲット領域は、互いに異なる材料から形成され、前記第2のターゲット領域は、前記第1のターゲット領域と比較して前記電子ビーム及びX線放射に対するより高い透過性か、又は前記第1のターゲット領域の材料の原子番号よりも低い原子番号のうちの少なくとも1つを有する材料を備える、請求項11又は12に記載のシステム。
- 前記第1のターゲット領域は、タングステン、レニウム、モリブデン、バナジウム、及びニオビウムを含むリストから選択された材料を備え、前記第2のターゲット領域は、ダイヤモンドのような炭素又はベリリウムを備える、請求項11又は12に記載のシステム。
- 前記第1のターゲット領域及び前記第2のターゲット領域は、少なくとも1つの八角形に合致する形状を形成する複数の境界によって分離されている、請求項11又は12に記載のシステム。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP16195035.7 | 2016-10-21 | ||
EP16195035.7A EP3312868A1 (en) | 2016-10-21 | 2016-10-21 | Structured x-ray target |
PCT/EP2017/076770 WO2018073375A1 (en) | 2016-10-21 | 2017-10-19 | Structured x-ray target |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019537206A JP2019537206A (ja) | 2019-12-19 |
JP7055420B2 true JP7055420B2 (ja) | 2022-04-18 |
Family
ID=57189877
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019520651A Active JP7055420B2 (ja) | 2016-10-21 | 2017-10-19 | X線発生システムおよび方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10784069B2 (ja) |
EP (2) | EP3312868A1 (ja) |
JP (1) | JP7055420B2 (ja) |
WO (1) | WO2018073375A1 (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20150117599A1 (en) | 2013-10-31 | 2015-04-30 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
US10295485B2 (en) | 2013-12-05 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | X-ray transmission spectrometer system |
USRE48612E1 (en) | 2013-10-31 | 2021-06-29 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
EP3413691A1 (en) * | 2017-06-08 | 2018-12-12 | Koninklijke Philips N.V. | Apparatus for generating x-rays |
GB2565138A (en) * | 2017-08-04 | 2019-02-06 | Adaptix Ltd | X-ray generator |
US10845491B2 (en) | 2018-06-04 | 2020-11-24 | Sigray, Inc. | Energy-resolving x-ray detection system |
EP3579664A1 (en) * | 2018-06-08 | 2019-12-11 | Excillum AB | Method for controlling an x-ray source |
EP3589082A1 (en) * | 2018-06-25 | 2020-01-01 | Excillum AB | Determining width and height of electron spot |
GB2591630B (en) | 2018-07-26 | 2023-05-24 | Sigray Inc | High brightness x-ray reflection source |
US10656105B2 (en) | 2018-08-06 | 2020-05-19 | Sigray, Inc. | Talbot-lau x-ray source and interferometric system |
DE112019004433T5 (de) | 2018-09-04 | 2021-05-20 | Sigray, Inc. | System und verfahren für röntgenstrahlfluoreszenz mit filterung |
WO2020051221A2 (en) | 2018-09-07 | 2020-03-12 | Sigray, Inc. | System and method for depth-selectable x-ray analysis |
KR102278305B1 (ko) * | 2018-10-22 | 2021-07-19 | 캐논 아네르바 가부시키가이샤 | X선 발생 장치 및 x선 촬영 시스템 |
EP3671802A1 (en) * | 2018-12-20 | 2020-06-24 | Excillum AB | Electron collector with oblique impact portion |
WO2021011209A1 (en) | 2019-07-15 | 2021-01-21 | Sigray, Inc. | X-ray source with rotating anode at atmospheric pressure |
JP2022069273A (ja) * | 2020-10-23 | 2022-05-11 | 株式会社リガク | 結像型x線顕微鏡 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20090067578A1 (en) | 2005-12-01 | 2009-03-12 | Koninklijke Philips Electronics, N.V. | X-ray tube and method for determination of focal spot properties |
JP2014225401A (ja) | 2013-05-17 | 2014-12-04 | 浜松ホトニクス株式会社 | X線発生用ターゲット及びx線発生装置 |
JP2016213078A (ja) | 2015-05-11 | 2016-12-15 | 株式会社リガク | X線発生装置、及びその調整方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3925660A (en) * | 1972-05-08 | 1975-12-09 | Richard D Albert | Selectable wavelength X-ray source, spectrometer and assay method |
JP3206274B2 (ja) * | 1994-01-24 | 2001-09-10 | 株式会社島津製作所 | 固定陽極x線管装置 |
US5602899A (en) * | 1996-01-31 | 1997-02-11 | Physical Electronics Inc. | Anode assembly for generating x-rays and instrument with such anode assembly |
JP4601994B2 (ja) * | 2004-05-18 | 2010-12-22 | 株式会社東芝 | X線源及びその陽極 |
US20100020938A1 (en) * | 2006-12-12 | 2010-01-28 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Device and method for x-ray tube focal spot size and position control |
DE102010009276A1 (de) * | 2010-02-25 | 2011-08-25 | Dürr Dental AG, 74321 | Röntgenröhre sowie System zur Herstellung von Röntgenbildern für die zahnmedizinische oder kieferorthopädische Diagnostik |
US8831179B2 (en) * | 2011-04-21 | 2014-09-09 | Carl Zeiss X-ray Microscopy, Inc. | X-ray source with selective beam repositioning |
WO2015125395A1 (ja) * | 2014-02-24 | 2015-08-27 | 東京エレクトロン株式会社 | X線検査システム、制御方法、制御プログラム及び制御装置 |
-
2016
- 2016-10-21 EP EP16195035.7A patent/EP3312868A1/en not_active Withdrawn
-
2017
- 2017-10-19 EP EP17791648.3A patent/EP3529822A1/en active Pending
- 2017-10-19 JP JP2019520651A patent/JP7055420B2/ja active Active
- 2017-10-19 US US16/340,449 patent/US10784069B2/en active Active
- 2017-10-19 WO PCT/EP2017/076770 patent/WO2018073375A1/en unknown
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20090067578A1 (en) | 2005-12-01 | 2009-03-12 | Koninklijke Philips Electronics, N.V. | X-ray tube and method for determination of focal spot properties |
JP2009517828A (ja) | 2005-12-01 | 2009-04-30 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | X線管および焦点スポット特性を定める方法 |
JP2014225401A (ja) | 2013-05-17 | 2014-12-04 | 浜松ホトニクス株式会社 | X線発生用ターゲット及びx線発生装置 |
JP2016213078A (ja) | 2015-05-11 | 2016-12-15 | 株式会社リガク | X線発生装置、及びその調整方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3529822A1 (en) | 2019-08-28 |
WO2018073375A1 (en) | 2018-04-26 |
EP3312868A1 (en) | 2018-04-25 |
JP2019537206A (ja) | 2019-12-19 |
US20190311874A1 (en) | 2019-10-10 |
US10784069B2 (en) | 2020-09-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7055420B2 (ja) | X線発生システムおよび方法 | |
EP3093867B1 (en) | X-ray generator and adjustment method therefor | |
CN107123584B (zh) | 在带电粒子显微镜中研究动态样本行为 | |
US10115557B2 (en) | X-ray generation device having multiple metal target members | |
US20090190719A1 (en) | X-ray source apparatus, computer tomography apparatus, and method of operating an x-ray source apparatus | |
JP5492405B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
US6949744B2 (en) | Electron microscopy system, electron microscopy method and focusing system for charged particles | |
US11610754B2 (en) | Charged particle beam device | |
KR20190138736A (ko) | 패턴 측정 방법, 패턴 측정 툴, 및 컴퓨터 가독 매체 | |
JP2020502740A (ja) | 半導体x線ターゲット | |
KR20130031788A (ko) | 하전 입자 빔 조사 장치, 하전 입자 빔 묘화 장치 및 물품 제조 방법 | |
JP7448241B2 (ja) | 斜めの衝突部分を有する電子コレクタ | |
CN112205081B (zh) | 用于控制x射线源的方法 | |
CN117223082A (zh) | 带电粒子评估系统和方法 | |
CN114730682A (zh) | 电子束的表征 | |
US20220223372A1 (en) | Charged Particle Beam System | |
TWI820158B (zh) | 發射x射線輻射之x射線源及產生x射線輻射之方法 | |
KR101909670B1 (ko) | 엑스-레이 발생장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190618 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200824 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210713 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210720 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211013 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220315 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220330 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7055420 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |