JP7047600B2 - Surface covering member and its manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、表面被覆部材及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a surface covering member and a method for manufacturing the same.

従来、種々の技術分野において、金属基材と、金属基材とは異なる金属を含み、金属基材の表面を被覆する被覆材とを備えた表面被覆部材が使用されている。被覆材は、その材質に応じて、例えば熱や腐食性物質、摺動に対する耐久性を高める、摩擦を低減する等の機能を表面被覆部材に付与することができる。 Conventionally, in various technical fields, a surface covering member including a metal base material and a coating material containing a metal different from the metal base material and covering the surface of the metal base material has been used. Depending on the material of the covering material, the surface covering member can be provided with functions such as, for example, heat, a corrosive substance, an increase in durability against sliding, and a reduction in friction.

例えば、特許文献1には、鉄系金属材料と、この鉄系金属材料の表面に形成されている酸化物層とを有し、酸化物層が、Zr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属(A)とFeとを酸化物として含んでいる金属材料が記載されている。酸化物層は、塗布又は電析により鉄系金属材料の表面に金属(A)の酸化物またはその前駆体の皮膜を形成した後、当該皮膜を加熱することにより形成されている。このようにして形成された酸化物層は、金属(A)の酸化物を含む上層と、鉄酸化物を含む下層との2層構造を有している。 For example, Patent Document 1 has an iron-based metal material and an oxide layer formed on the surface of the iron-based metal material, and the oxide layer is selected from the group consisting of Zr, Ti, and Hf. A metal material containing at least one kind of metal (A) and Fe as an oxide is described. The oxide layer is formed by forming a film of the oxide of the metal (A) or a precursor thereof on the surface of the iron-based metal material by coating or electrodeposition, and then heating the film. The oxide layer thus formed has a two-layer structure of an upper layer containing an oxide of the metal (A) and a lower layer containing an iron oxide.

特開2009-203519号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-2035119

しかし、特許文献1の金属材料は、湿式法によって金属(A)酸化物またはその前駆体の皮膜を形成しているため、当該皮膜の厚みのバラつきが大きくなりやすい。また、金属(A)酸化物またはその前駆体の厚みのバラつきが大きくなることにより、酸化物層の厚みのバラつきの増大を招くおそれがある。 However, since the metal material of Patent Document 1 forms a film of a metal (A) oxide or a precursor thereof by a wet method, the thickness of the film tends to vary widely. Further, the increase in the thickness variation of the metal (A) oxide or its precursor may lead to an increase in the variation in the thickness of the oxide layer.

また、特許文献1においては、金属(A)酸化物またはその前駆体の皮膜を加熱して鉄系金属材料中のFeを酸化物層全体に拡散させることにより、鉄系金属材料と酸化物層との密着性の向上を図っている。しかし、鉄系金属材料からFeが拡散すると、鉄系金属材料の体積が減少する。そのため、Feの拡散量が過度に多くなると、酸化物層と鉄系金属材料との間にボイドが形成され、酸化物層が鉄系金属材料から剥離しやすくなるおそれがある。 Further, in Patent Document 1, the iron-based metal material and the oxide layer are formed by heating the film of the metal (A) oxide or its precursor to diffuse Fe in the iron-based metal material over the entire oxide layer. We are trying to improve the adhesion with. However, when Fe diffuses from the iron-based metal material, the volume of the iron-based metal material decreases. Therefore, if the diffusion amount of Fe becomes excessively large, voids may be formed between the oxide layer and the iron-based metal material, and the oxide layer may be easily peeled off from the iron-based metal material.

本発明は、かかる課題に鑑みてなされたものであり、被覆材の厚みのバラつきが小さく、被覆材と金属基材との密着性に優れた表面被覆部材及びその製造方法を提供しようとするものである。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a surface covering member having a small variation in the thickness of the covering material and having excellent adhesion between the covering material and a metal base material, and a method for manufacturing the same. Is.

本発明の一態様は、からなり、貫通孔、有底孔及び溝のうち1種以上の開口部(11)を備えた金属基材(203)と、
前記金属基材を構成する第1の金属原子とは異なる第2の金属原子としてのアルミニウムを含み、前記金属基材の表面を覆う被覆材(4)と、
前記金属基材と前記被覆材との間に介在する混合層(3)と、を有し、
前記混合層は、
前記第1の金属原子と、前記第2の金属原子と、酸素原子とを含み、
前記第1の金属原子と、前記第2の金属原子と、酸素原子との合計に対する前記第1の金属原子の比率が30~55原子%であり、かつ、前記第2の金属原子の比率が0.2~10.0原子%であり、
厚みが10~50nmであり、
前記混合層及び前記被覆材は、前記開口部の内表面(112)に形成されており、
前記貫通孔の開口端(113)における内径、前記有底孔の開口端における内径及び前記溝の開口端における幅を前記開口部の開口径D[μm]と表し、前記開口部の深さをL[μm]と表した場合に、D≦200μmであり、かつ、2≦L/D≦50である、表面被覆部材(103)にある。
One aspect of the present invention is a metal substrate ( 203 ) made of iron and provided with one or more openings (11) of through holes, bottomed holes and grooves .
A coating material (4) containing aluminum as a second metal atom different from the first metal atom constituting the metal base material and covering the surface of the metal base material, and
It has a mixed layer (3) interposed between the metal base material and the covering material, and has.
The mixed layer is
The first metal atom, the second metal atom, and the oxygen atom are included.
The ratio of the first metal atom to the total of the first metal atom, the second metal atom, and the oxygen atom is 30 to 55 atom%, and the ratio of the second metal atom is 0.2 to 10.0 atomic%,
It has a thickness of 10 to 50 nm and has a thickness of 10 to 50 nm.
The mixed layer and the covering material are formed on the inner surface (112) of the opening.
The inner diameter at the opening end (113) of the through hole, the inner diameter at the opening end of the bottomed hole, and the width at the opening end of the groove are expressed as the opening diameter D [μm] of the opening, and the depth of the opening is defined as. The surface covering member ( 103 ) has D ≦ 200 μm and 2 ≦ L / D ≦ 50 when expressed as L [μm] .

本発明の他の態様は、前記の態様の表面被覆部材の製造方法であって、
還元性ガス雰囲気中において金属基材を加熱して前記金属基材の表面を還元する還元工程と、
酸化性ガス雰囲気中において前記金属基材を加熱することにより前記金属基材の表面に酸化物皮膜を形成する酸化工程と、
原子層堆積法により前記酸化皮膜層上に前記被覆材を形成するALD工程と、
を有する、表面被覆部材の製造方法にある。
Another aspect of the present invention is the method for manufacturing a surface covering member according to the above aspect.
A reduction step of heating a metal base material in a reducing gas atmosphere to reduce the surface of the metal base material,
An oxidation step of forming an oxide film on the surface of the metal substrate by heating the metal substrate in an oxidizing gas atmosphere.
The ALD step of forming the coating material on the oxide film layer by the atomic layer deposition method, and
It is in the manufacturing method of the surface covering member which has.

前記表面被覆部材は、金属基材と被覆材との間に前記特定の組成及び厚みを備えた混合層を有している。このように、金属基材と被覆材との間に混合層を介在させることにより、混合層を有しない場合に比べて金属基材と被覆材との密着性を向上させることができる。更に、混合層の厚みを前記特定の範囲とすることにより、金属基材から被覆材へ拡散する第1の金属原子の量を低減し、金属基材と混合層との間へのボイドの形成を抑制することができる。 The surface covering member has a mixed layer having the specific composition and thickness between the metal base material and the covering material. By interposing the mixed layer between the metal base material and the covering material in this way, the adhesion between the metal base material and the covering material can be improved as compared with the case where the mixed layer is not provided. Further, by setting the thickness of the mixed layer within the above-mentioned specific range, the amount of the first metal atom diffused from the metal base material to the dressing is reduced, and voids are formed between the metal base material and the mixed layer. Can be suppressed.

これらの結果、前記表面被覆部材は、金属基材からの被覆材の剥離を抑制することができる。 As a result, the surface covering member can suppress the peeling of the covering material from the metal base material.

前記表面被覆部材は、前記の態様の製造方法によって作製することができる。前記の態様の製造方法は、還元工程において金属基材の表面に存在する自然酸化膜を一旦還元した後、酸化工程において金属基材の表面を改めて酸化させる。その後、ALD工程において酸化物皮膜上に被覆材を形成する。 The surface covering member can be manufactured by the manufacturing method of the above-described embodiment. In the production method of the above aspect, the natural oxide film existing on the surface of the metal base material is once reduced in the reduction step, and then the surface of the metal base material is oxidized again in the oxidation step. Then, in the ALD step, a coating material is formed on the oxide film.

前記製造方法においては、金属基材に対して還元工程、酸化工程及びALD工程を順次行うことにより、ALD工程において、金属基材を構成する第1の金属原子を被覆材へ拡散させるとともに、被覆材に含まれる第2の金属原子を金属基材へ拡散させることができる。そして、このように第1の金属原子と第2の金属原子とを拡散させることにより、金属基材と被覆材との間に前記特定の組成及び厚みを有する混合層を形成し、前記表面被覆部材を得ることができる。 In the above-mentioned manufacturing method, the reduction step, the oxidation step, and the ALD step are sequentially performed on the metal base material, so that in the ALD step, the first metal atom constituting the metal base material is diffused into the coating material and coated. The second metal atom contained in the material can be diffused to the metal base material. Then, by diffusing the first metal atom and the second metal atom in this way, a mixed layer having the specific composition and thickness is formed between the metal base material and the coating material, and the surface coating is performed. Members can be obtained.

また、前記製造方法は、被覆材の形成を乾式法、つまり、液体を用いない処理によって行うため、湿式法を用いる従来の方法に比べて被覆材の厚みのバラつきを低減することができる。 Further, in the above-mentioned manufacturing method, since the coating material is formed by a dry method, that is, a treatment that does not use a liquid, it is possible to reduce the variation in the thickness of the coating material as compared with the conventional method using a wet method.

以上のごとく、上記の態様によれば、被覆材の厚みのバラつきが小さく、被覆材と金属基材との密着性に優れた表面被覆部材及びその製造方法を提供することができる。
なお、特許請求の範囲及び課題を解決する手段に記載した括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものであり、本発明の技術的範囲を限定するものではない。
As described above, according to the above aspect, it is possible to provide a surface covering member having a small variation in the thickness of the covering material and having excellent adhesion between the covering material and the metal base material, and a method for manufacturing the same.
The reference numerals in parentheses described in the scope of claims and the means for solving the problem indicate the correspondence with the specific means described in the embodiments described later, and limit the technical scope of the present invention. It's not a thing.

図1は、参考形態1における表面被覆部材の要部を示す一部断面図である。FIG. 1 is a partial cross-sectional view showing a main part of the surface covering member in Reference Form 1 . 図2は、参考形態2における第2被覆材を備えた表面被覆部材の要部を示す一部断面図である。FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing a main part of the surface covering member provided with the second covering material in Reference Form 2 . 図3は、実施形態1における表面被覆部材としてのノズルボデーの要部を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a main part of a nozzle body as a surface covering member in the first embodiment . 図4は、図3における貫通孔の拡大図である。FIG. 4 is an enlarged view of the through hole in FIG. 図5は、実験例1における試験体A2のTEM像である。FIG. 5 is a TEM image of the test body A2 in Experimental Example 1. 図6は、実験例1における試験体A2の組成の深さ方向プロファイルを示す説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram showing a depth direction profile of the composition of the test body A2 in Experimental Example 1. 図7は、実験例1における試験体A3のTEM像である。FIG. 7 is a TEM image of the test body A3 in Experimental Example 1. 図8は、実験例1における試験体A4のTEM像である。FIG. 8 is a TEM image of the test body A4 in Experimental Example 1.

参考形態1
前記表面被覆部材及びその製造方法に係る参考形態について、図1を参照して説明する。本形態の表面被覆部材1は、図1に示すように、金属基材2と、金属基材2の表面を覆う被覆材4と、金属基材2と被覆材4との間に介在する混合層3と、を有している。金属基材2は、鉄、アルミニウム及び銅のいずれかから構成されている。被覆材4は、金属基材2を構成する第1の金属原子とは異なる第2の金属原子を含んでいる。
( Reference form 1 )
A reference form relating to the surface covering member and the manufacturing method thereof will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 1, the surface covering member 1 of the present embodiment is a mixture of the metal base material 2, the covering material 4 covering the surface of the metal base material 2, and the metal base material 2 and the covering material 4 interposed therebetween. It has a layer 3 and. The metal base material 2 is composed of any of iron, aluminum and copper. The covering material 4 contains a second metal atom different from the first metal atom constituting the metal base material 2.

混合層3は、第1の金属原子と、第2の金属原子と、酸素原子と、を含んでおり、10~50nmの厚さを有している。また、混合層3における、第1の金属原子と、第2の金属原子と、酸素原子との合計に対する第1の金属原子の比率は30~55原子%であり、かつ、第2の金属原子の比率は0.2~10.0原子%である。 The mixed layer 3 contains a first metal atom, a second metal atom, and an oxygen atom, and has a thickness of 10 to 50 nm. Further, the ratio of the first metal atom to the total of the first metal atom, the second metal atom, and the oxygen atom in the mixed layer 3 is 30 to 55 atom%, and the second metal atom. The ratio of is 0.2 to 10.0 atomic%.

なお、混合層3の厚みは、表面被覆部材1の断面のTEM像、つまり透過型電子顕微鏡により取得された顕微鏡像において計測した値とする。金属基材2と混合層3との境界及び混合層3と被覆材4との境界は、EDX、つまりエネルギー分散型分光分析法によるTEM像の元素マッピングの結果から決定することができる。金属基材2と混合層3との境界及び混合層3と被覆材4との境界は、不明瞭である場合がある。そのため、図1においては、金属基材2と混合層3との境界及び混合層3と被覆材4との境界を破線により示した。 The thickness of the mixed layer 3 is a value measured in a TEM image of a cross section of the surface covering member 1, that is, a microscope image acquired by a transmission electron microscope. The boundary between the metal substrate 2 and the mixed layer 3 and the boundary between the mixed layer 3 and the covering material 4 can be determined from the result of EDX, that is, the element mapping of the TEM image by the energy dispersive spectroscopy. The boundary between the metal base material 2 and the mixed layer 3 and the boundary between the mixed layer 3 and the covering material 4 may be unclear. Therefore, in FIG. 1, the boundary between the metal base material 2 and the mixed layer 3 and the boundary between the mixed layer 3 and the covering material 4 are shown by broken lines.

本形態の表面被覆部材1の製造方法は、還元工程、酸化工程及びALD工程を有している。還元工程では、還元性ガス雰囲気中において金属基材2を加熱して金属基材2の表面を還元する。酸化工程では、酸化性ガス雰囲気中において金属基材2を加熱することにより金属基材2の表面を酸化させて酸化物皮膜を形成する。ALD工程では、原子層堆積法により酸化物皮膜上に被覆材4を形成する。 The method for producing the surface covering member 1 of the present embodiment includes a reduction step, an oxidation step, and an ALD step. In the reduction step, the metal base material 2 is heated in a reducing gas atmosphere to reduce the surface of the metal base material 2. In the oxidation step, the metal base material 2 is heated in an oxidizing gas atmosphere to oxidize the surface of the metal base material 2 and form an oxide film. In the ALD step, the coating material 4 is formed on the oxide film by the atomic layer deposition method.

まず、本形態の表面被覆部材1の構成をより詳細に説明する。 First, the configuration of the surface covering member 1 of the present embodiment will be described in more detail.

表面被覆部材1における金属基材2は、鉄、アルミニウム及び銅のいずれかから構成されている。なお、前述した「鉄」は純鉄及び鉄合金を含む概念であり、「アルミニウム」は純アルミニウム及びアルミニウム合金を含む概念であり、「銅」は純銅及び銅合金を含む概念である。金属基材2の材質をこれらの材質から選択することにより、前述した酸化工程において金属基材2の表面に酸化物皮膜を形成し、更にはALD工程において混合層3を形成することができる。 The metal base material 2 in the surface covering member 1 is made of any one of iron, aluminum and copper. The above-mentioned "iron" is a concept including pure iron and an iron alloy, "aluminum" is a concept including pure aluminum and an aluminum alloy, and "copper" is a concept including pure copper and a copper alloy. By selecting the material of the metal base material 2 from these materials, an oxide film can be formed on the surface of the metal base material 2 in the above-mentioned oxidation step, and further, the mixed layer 3 can be formed in the ALD step.

金属基材2としては、これらの材質のうち、純鉄及び鉄合金(但し、ステンレス鋼を除く)を採用することが好ましい。これらの金属の表面には、比較的脆い自然酸化膜が形成されやすい。このような自然酸化膜上に従来の方法によって皮膜を形成しても、自然酸化膜が剥離の起点となり、金属基材2から皮膜が剥離しやすいという問題がある。 Of these materials, pure iron and iron alloys (excluding stainless steel) are preferably used as the metal base material 2. A relatively brittle natural oxide film is likely to be formed on the surface of these metals. Even if a film is formed on such a natural oxide film by a conventional method, there is a problem that the natural oxide film becomes a starting point of peeling and the film is easily peeled from the metal substrate 2.

これに対し、本形態においては、還元工程において自然酸化膜を一旦還元した後、改めて酸化物皮膜を形成するため、比較的脆い自然酸化膜の残存量を低減することができる。その結果、金属基材2として前述の金属を採用した場合に、金属基材2からの被覆材4の剥離をより効果的に抑制することができる。 On the other hand, in the present embodiment, since the natural oxide film is once reduced in the reduction step and then the oxide film is formed again, the residual amount of the relatively brittle natural oxide film can be reduced. As a result, when the above-mentioned metal is used as the metal base material 2, peeling of the covering material 4 from the metal base material 2 can be suppressed more effectively.

金属基材2の形状は特に限定されることはなく、表面被覆部材1の用途に応じた形状とすることができる。例えば、金属基材2は、貫通孔、有底孔及び溝のうち1種以上の開口部を有していてもよい。なお、貫通孔とは、金属基材2を貫通する孔をいい、有底孔とは、金属基材2を貫通せず、底部を有する孔をいう。 The shape of the metal base material 2 is not particularly limited, and can be a shape according to the use of the surface covering member 1. For example, the metal base material 2 may have one or more openings among through holes, bottomed holes, and grooves. The through hole means a hole that penetrates the metal base material 2, and the bottomed hole means a hole that does not penetrate the metal base material 2 and has a bottom.

金属基材2の表面は、被覆材4に覆われている。被覆材4は、表面被覆部材1の一部を覆っていてもよいし、全部を覆っていてもよい。被覆材4は、金属基材2とは異なる第2の金属原子を含んでいる。被覆材4は、その材質に応じて、例えば、表面被覆部材1の潤滑性を向上させる、電気絶縁性を高める、耐腐食性を高めるなどの作用効果を奏することができる。 The surface of the metal base material 2 is covered with a covering material 4. The covering material 4 may cover a part of the surface covering member 1 or may cover the entire surface covering member 1. The covering material 4 contains a second metal atom different from that of the metal base material 2. Depending on the material of the covering material 4, for example, the covering material 4 can exert an action effect such as improving the lubricity of the surface covering member 1, improving the electrical insulation property, and improving the corrosion resistance.

また、被覆材4は、単に、金属基材2との密着性を向上させる機能のみを有していてもよい。この場合には、被覆材4上に更に別の作用を有する皮膜を形成することにより、被覆材4を介して金属基材2と前記皮膜との密着性を向上させることができる。 Further, the covering material 4 may merely have a function of improving the adhesion to the metal base material 2. In this case, by forming a film having another action on the coating material 4, the adhesion between the metal base material 2 and the film can be improved via the coating material 4.

被覆材4は、第2の金属原子として、例えば、アルミニウム、タンタル、チタン、ニオブ及びハフニウムのうち第1の金属原子とは異なる1種または2種以上の金属原子を含んでいてもよい。被覆材4は、これらの金属原子のうち1種類の金属原子からなる単体金属であってもよいし、2種類以上の金属原子を含む合金であってもよい。また、被覆材4は、これらの金属原子を含む酸化物であってもよい。 The covering material 4 may contain, as the second metal atom, one or more metal atoms different from the first metal atom among, for example, aluminum, tantalum, titanium, niobium and hafnium. The covering material 4 may be a simple substance metal composed of one kind of metal atom among these metal atoms, or may be an alloy containing two or more kinds of metal atoms. Further, the covering material 4 may be an oxide containing these metal atoms.

金属基材2として純鉄及び鉄合金(但し、ステンレス鋼を除く)を採用する場合には、被覆材4が第2の金属原子としてのアルミニウム原子を含んでいることが好ましく、アルミニウムの酸化物(つまり、アルミナ)から構成されていることがより好ましい。この場合には、ALD工程において被覆材4を形成する際に、金属基材2から被覆材4への鉄の拡散と、被覆材4から金属基材2へのアルミニウム原子の拡散とが起こりやすい。そのため、ALD工程の後に、金属基材2と被覆材4との間に確実に混合層3を形成し、金属基材2と被覆材4との密着性をより向上させることができる。 When pure iron and an iron alloy (excluding stainless steel) are used as the metal base material 2, it is preferable that the covering material 4 contains an aluminum atom as a second metal atom, and an oxide of aluminum. It is more preferable that it is composed of (that is, alumina). In this case, when the covering material 4 is formed in the ALD step, the diffusion of iron from the metal base material 2 to the covering material 4 and the diffusion of aluminum atoms from the coating material 4 to the metal base material 2 are likely to occur. .. Therefore, after the ALD step, the mixed layer 3 can be reliably formed between the metal base material 2 and the covering material 4, and the adhesion between the metal base material 2 and the covering material 4 can be further improved.

また、この場合には、ALD工程において、金属基材2の温度を比較的低い温度に保った状態で混合層3を形成することができる。このように、ALD工程における金属基材2の温度を比較的低くすることにより、熱による金属基材2の変質を抑制することができる。更に、この場合には、加熱による金属基材2の変形を抑制することができる。その結果、最終的に得られる表面被覆部材1の寸法精度をより高め、所望の形状に近づけることができる。 Further, in this case, in the ALD step, the mixed layer 3 can be formed while the temperature of the metal base material 2 is kept at a relatively low temperature. As described above, by relatively lowering the temperature of the metal base material 2 in the ALD step, it is possible to suppress the deterioration of the metal base material 2 due to heat. Further, in this case, deformation of the metal base material 2 due to heating can be suppressed. As a result, the dimensional accuracy of the finally obtained surface covering member 1 can be further improved, and the desired shape can be obtained.

金属基材2と被覆材4との間には、混合層3が介在している。混合層3における第1の金属原子と、第2の金属原子と、酸素原子との合計を100原子%とした場合の第1の前記金属原子の比率は30~55原子%となり、第2の前記金属原子の比率は0.2~10.0原子%となる。また、混合層3の厚みは10~50nmである。 A mixed layer 3 is interposed between the metal base material 2 and the covering material 4. When the total of the first metal atom, the second metal atom, and the oxygen atom in the mixed layer 3 is 100 atom%, the ratio of the first metal atom is 30 to 55 atom%, and the second The ratio of the metal atoms is 0.2 to 10.0 atomic%. The thickness of the mixed layer 3 is 10 to 50 nm.

混合層3の厚み、第1の金属原子の比率及び第2の金属原子の比率をそれぞれ前記特定の範囲とすることにより、金属基材2と被覆材4との密着性を向上させることができる。混合層3の厚み、第1の金属原子の比率及び第2の金属原子のうちいずれかが前記特定の範囲から外れる場合には、金属基材2と被覆材4との密着性の低下を招くおそれがある。 By setting the thickness of the mixed layer 3, the ratio of the first metal atom and the ratio of the second metal atom to the specific ranges, the adhesion between the metal base material 2 and the covering material 4 can be improved. .. If any of the thickness of the mixed layer 3, the ratio of the first metal atom, and the second metal atom deviates from the specific range, the adhesion between the metal base material 2 and the covering material 4 is deteriorated. There is a risk.

混合層3は、前記特定の範囲の組成を有する単一の層からなる単層構造を有していてもよいし、前記特定の範囲の組成のうち互いに異なる組成を備えた2層以上の層からなる積層構造を有していてもよい。また、混合層3の組成は、前記特定の範囲内において、金属基材2側から被覆材4側へ向かって深さ方向に連続的に変化していてもよい。 The mixed layer 3 may have a single-layer structure composed of a single layer having a composition in the specific range, or two or more layers having different compositions from the composition in the specific range. It may have a laminated structure composed of. Further, the composition of the mixed layer 3 may be continuously changed in the depth direction from the metal base material 2 side to the covering material 4 side within the specific range.

本形態の表面被覆部材1は、混合層3と金属基材2との間に、更に、第1の金属原子の酸化物を含む酸化物層を有していてもよい。酸化物層の厚みは、例えば、2~5nmとすることができる。 The surface covering member 1 of the present embodiment may further have an oxide layer containing an oxide of a first metal atom between the mixed layer 3 and the metal base material 2. The thickness of the oxide layer can be, for example, 2 to 5 nm.

次に、本形態の表面被覆部材1の製造方法をより詳細に説明する。 Next, the method for manufacturing the surface covering member 1 of the present embodiment will be described in more detail.

本形態の製造方法では、前記の金属基材2に必要に応じて洗浄や脱脂処理等の前処理を施した後、還元性ガス雰囲気中において金属基材2を加熱する還元工程を実施する。この還元工程により、金属基材2の表面に存在する自然酸化膜を還元することができる。還元工程においては、自然酸化膜を完全に還元してもよいし、部分的に還元してもよい。自然酸化膜の少なくとも一部が還元されていれば、後に行うALD工程において、金属基材2を構成する第1の金属原子及び被覆材4に含まれる第2の金属原子を拡散させ、金属基材2と被覆材4との間に混合層3を形成することができる。自然酸化膜を起点とする被覆材4の剥離を回避する観点からは、還元工程において、自然酸化膜を完全に還元することが好ましい。 In the production method of this embodiment, the metal base material 2 is subjected to pretreatment such as cleaning and degreasing treatment as necessary, and then a reduction step of heating the metal base material 2 in a reducing gas atmosphere is carried out. By this reduction step, the natural oxide film existing on the surface of the metal substrate 2 can be reduced. In the reduction step, the natural oxide film may be completely reduced or partially reduced. If at least a part of the natural oxide film is reduced, the first metal atom constituting the metal substrate 2 and the second metal atom contained in the coating material 4 are diffused in the subsequent ALD step to diffuse the metal group. A mixed layer 3 can be formed between the material 2 and the covering material 4. From the viewpoint of avoiding peeling of the coating material 4 starting from the natural oxide film, it is preferable to completely reduce the natural oxide film in the reduction step.

還元工程における金属基材2の温度は、300℃以下であることが好ましい。この場合には、加熱による金属基材2の変質を抑制することができる。更に、この場合には、加熱による金属基材2の変形を抑制することができる。そして、還元工程における金属基材2の変形を抑制することにより、最終的に得られる表面被覆部材1の寸法精度をより高め、所望の形状に近づけることができる。 The temperature of the metal substrate 2 in the reduction step is preferably 300 ° C. or lower. In this case, deterioration of the metal base material 2 due to heating can be suppressed. Further, in this case, deformation of the metal base material 2 due to heating can be suppressed. Then, by suppressing the deformation of the metal base material 2 in the reduction step, the dimensional accuracy of the finally obtained surface covering member 1 can be further improved and the shape can be brought closer to a desired shape.

還元工程における還元性ガスの圧力は、混合層3及び被覆材4を形成しようとする表面全体が還元性ガスと接触するように設定すればよい。還元工程において使用する還元性ガスとしては、例えば、水素(H2)、アンモニア(NH3)、シラン(SiH4)、ヒドラジン(N24)などの、分子構造中に水素原子を含むガスを使用することができる。 The pressure of the reducing gas in the reducing step may be set so that the entire surface on which the mixed layer 3 and the covering material 4 are to be formed come into contact with the reducing gas. The reducing gas used in the reduction step includes, for example, hydrogen (H 2 ), ammonia (NH 3 ), silane (SiH 4 ), hydrazine (N 2 H 4 ), and other gases having a hydrogen atom in their molecular structure. Can be used.

金属基材2として純鉄及び鉄合金(但し、ステンレス鋼を除く)を採用する場合には、還元性ガスとしてアンモニアを使用することが好ましい。アンモニアは、比較的低温で鉄の酸化物を還元することができる。そのため、還元工程における金属基材2の加熱温度を比較的低い温度に保ち、熱による金属基材2の変質を抑制することができる。更に、この場合には、加熱による金属基材2の変形を抑制することができる。そして、還元工程における金属基材2の加熱温度を低くすることにより、最終的に得られる表面被覆部材1の寸法精度をより高め、所望の形状に近づけることができる。 When pure iron and an iron alloy (excluding stainless steel) are used as the metal base material 2, it is preferable to use ammonia as the reducing gas. Ammonia can reduce iron oxides at relatively low temperatures. Therefore, the heating temperature of the metal base material 2 in the reduction step can be kept at a relatively low temperature, and the deterioration of the metal base material 2 due to heat can be suppressed. Further, in this case, deformation of the metal base material 2 due to heating can be suppressed. Then, by lowering the heating temperature of the metal base material 2 in the reduction step, the dimensional accuracy of the finally obtained surface covering member 1 can be further improved and the shape can be brought closer to a desired shape.

還元工程を行った後、酸化性ガス雰囲気中において金属基材2を加熱する酸化工程を行う。この酸化工程により、金属基材2の表面を改めて酸化させ、酸化物皮膜を形成することができる。 After performing the reduction step, an oxidation step of heating the metal substrate 2 in an oxidizing gas atmosphere is performed. By this oxidation step, the surface of the metal substrate 2 can be oxidized again to form an oxide film.

酸化工程における金属基材2の温度は、300℃以下であることが好ましい。この理由は、還元工程と同様である。つまり、酸化工程における加熱温度を前記特定の範囲とすることにより、金属基材2の変質を抑制することができる。更に、この場合には、加熱による金属基材2の変形を抑制し、ひいては最終的に得られる表面被覆部材1の寸法精度をより高め、所望の形状に近づけることができる。 The temperature of the metal substrate 2 in the oxidation step is preferably 300 ° C. or lower. The reason for this is the same as in the reduction step. That is, by setting the heating temperature in the oxidation step within the above-mentioned specific range, deterioration of the metal substrate 2 can be suppressed. Further, in this case, the deformation of the metal base material 2 due to heating can be suppressed, and the dimensional accuracy of the finally obtained surface covering member 1 can be further improved to bring it closer to a desired shape.

酸化工程における酸化性ガスの圧力は、還元工程と同様に、混合層3及び被覆材4を形成しようとする表面全体が酸化性ガスと接触するように設定すればよい。酸化工程において使用する酸化性ガスとしては、例えば、酸素(O2)や水(H2O)などの、分子構造中に酸素原子を含むガスを使用することができる。 The pressure of the oxidizing gas in the oxidizing step may be set so that the entire surface on which the mixed layer 3 and the covering material 4 are to be formed come into contact with the oxidizing gas, as in the reducing step. As the oxidizing gas used in the oxidation step, a gas containing an oxygen atom in its molecular structure, such as oxygen (O 2 ) or water (H 2 O), can be used.

酸化工程においては、酸化物皮膜の厚みを10~50nmとすることが好ましい。この場合には、後に行うALD工程において、金属基材2から被覆材4へ拡散する第1の金属原子の量が過度に多くなることを抑制することができる。その結果、金属基材2と混合層3との間におけるボイドの形成を抑制し、ひいては金属基材2と被覆材4との密着性の低下を回避することができる。 In the oxidation step, the thickness of the oxide film is preferably 10 to 50 nm. In this case, it is possible to prevent the amount of the first metal atom diffused from the metal base material 2 to the covering material 4 from becoming excessively large in the subsequent ALD step. As a result, it is possible to suppress the formation of voids between the metal base material 2 and the mixed layer 3, and to avoid a decrease in the adhesion between the metal base material 2 and the covering material 4.

酸化工程を行った後、原子層堆積法により酸化物皮膜上に被覆材4を形成するALD工程を行う。本形態の製造方法においては、ALD工程において金属基材2上に被覆材4を堆積させる際に、金属基材2に含まれる第1の金属原子を被覆材4へ拡散させるとともに、被覆材4に含まれる第2の金属原子を金属基材2へ拡散させることができる。このように、第1の金属原子及び第2の金属原子が相互に拡散することにより、金属基材2と被覆材4との間に、第1の金属原子と、第2の金属原子と、酸化物皮膜に由来する酸素原子とを含む混合層3を自然に形成することができる。 After the oxidation step, the ALD step of forming the coating material 4 on the oxide film by the atomic layer deposition method is performed. In the manufacturing method of this embodiment, when the coating material 4 is deposited on the metal base material 2 in the ALD step, the first metal atom contained in the metal base material 2 is diffused to the coating material 4 and the coating material 4 is deposited. The second metal atom contained in the metal base material 2 can be diffused to the metal base material 2. In this way, the first metal atom and the second metal atom diffuse each other, so that the first metal atom, the second metal atom, and the second metal atom are formed between the metal base material 2 and the covering material 4. The mixed layer 3 containing oxygen atoms derived from the oxide film can be naturally formed.

なお、第1の金属原子は、前述した拡散により、混合層3を超えて被覆材4まで到達することがある。この場合、被覆材4中の第1の金属原子と、第2の金属原子と、酸素原子との合計に対する第1の金属原子の比率は、混合層3における前述した第1の金属原子の比率の範囲よりも低くなる。また、第2の金属原子も、前述した拡散により、混合層3を超えて金属基材2まで到達することがある。この場合、金属基材2中の第1の金属原子と、第2の金属原子と、酸素原子との合計に対する第2の金属原子の比率は、混合層3における前述した第2の金属原子の比率よりも低くなる。 The first metal atom may reach the covering material 4 beyond the mixed layer 3 due to the above-mentioned diffusion. In this case, the ratio of the first metal atom to the total of the first metal atom, the second metal atom, and the oxygen atom in the covering material 4 is the ratio of the first metal atom described above in the mixed layer 3. It will be lower than the range of. Further, the second metal atom may also reach the metal base material 2 beyond the mixed layer 3 due to the above-mentioned diffusion. In this case, the ratio of the second metal atom to the total of the first metal atom, the second metal atom, and the oxygen atom in the metal substrate 2 is the ratio of the second metal atom described above in the mixed layer 3. It will be lower than the ratio.

前述した原子層堆積法とは、被処理物の表面に被覆材4の前駆体を含む原料ガスを接触させて前駆体を被処理物の表面に吸着させるステップと、被処理物の表面に吸着した前駆体を表面上で反応させるステップとを交互に繰り返す手法をいう。被処理物の表面において前駆体を反応させることにより、被処理物の表面に層状の被覆材4を形成することができる。ALD工程においては、被覆材4の厚みが所望の厚みとなるまで上記のステップを交互に繰り返せばよい。 The above-mentioned atomic layer deposition method includes a step of bringing a raw material gas containing a precursor of a coating material 4 into contact with the surface of the object to be treated to adsorb the precursor to the surface of the object to be treated, and adsorbing the precursor to the surface of the object to be treated. It is a method of alternately repeating the steps of reacting the precursors on the surface. By reacting the precursor on the surface of the object to be treated, the layered dressing 4 can be formed on the surface of the object to be treated. In the ALD step, the above steps may be repeated alternately until the thickness of the covering material 4 becomes a desired thickness.

ALD工程において使用する前駆体は、被覆材4の材質に応じて適宜選択することができる。例えば、アルミナ(Al23)や酸化タンタル(Ta25)などの金属酸化物を被覆材4とする場合には、前駆体として、これらの金属原子を含む揮発性有機金属化合物を使用することができる。前駆体としての揮発性有機金属化合物を酸化物皮膜または被覆材4の表面に吸着させた後、この前駆体を酸素(O2)や水(H2O)等の反応ガスと反応させることにより、金属酸化物を層状に堆積させることができる。 The precursor used in the ALD step can be appropriately selected depending on the material of the covering material 4. For example, when a metal oxide such as alumina (Al 2 O 3 ) or tantalum pentoxide (Ta 2 O 5 ) is used as the coating material 4, a volatile organic metal compound containing these metal atoms is used as a precursor. can do. By adsorbing a volatile organic metal compound as a precursor on the surface of an oxide film or a coating material 4, the precursor is reacted with a reaction gas such as oxygen (O 2 ) or water (H 2 O). , Metal oxides can be deposited in layers.

ALD工程においては、被覆材4を堆積させるために、必要に応じて金属基材2を加熱してもよい。ALD工程における金属基材2の温度は、300℃以下であることが好ましい。この理由は、還元工程と同様である。つまり、ALD工程における加熱温度を前記特定の範囲とすることにより、金属基材2の変質を抑制することができる。更に、この場合には、加熱による金属基材2の変形を抑制し、ひいては最終的に得られる前記表面被覆部材1の寸法精度をより高め、所望の形状に近づけることができる。 In the ALD step, the metal base material 2 may be heated, if necessary, in order to deposit the covering material 4. The temperature of the metal substrate 2 in the ALD step is preferably 300 ° C. or lower. The reason for this is the same as in the reduction step. That is, by setting the heating temperature in the ALD step within the above-mentioned specific range, deterioration of the metal base material 2 can be suppressed. Further, in this case, the deformation of the metal base material 2 due to heating can be suppressed, and the dimensional accuracy of the finally obtained surface covering member 1 can be further improved to bring it closer to a desired shape.

ALD工程における前駆体や反応ガスの圧力は、還元工程と同様に、混合層3及び被覆材4を形成しようとする表面全体がこれらのガスと接触するように設定すればよい。 The pressure of the precursor and the reaction gas in the ALD step may be set so that the entire surface on which the mixed layer 3 and the coating material 4 are to be formed come into contact with these gases, as in the reduction step.

本形態の表面被覆部材1は、金属基材2と被覆材4との間に前記特定の組成及び厚みを備えた混合層3を有している。そのため、混合層3を有しない場合に比べて金属基材2と被覆材4との密着性を向上するとともに金属基材2と混合層3との間へのボイドの形成を抑制することができる。その結果、金属基材2からの被覆材4の剥離を抑制することができる。 The surface covering member 1 of the present embodiment has a mixed layer 3 having the specific composition and thickness between the metal base material 2 and the covering material 4. Therefore, the adhesion between the metal base material 2 and the covering material 4 can be improved and the formation of voids between the metal base material 2 and the mixed layer 3 can be suppressed as compared with the case where the mixed layer 3 is not provided. .. As a result, peeling of the covering material 4 from the metal base material 2 can be suppressed.

また、本形態の製造方法では、還元工程において金属基材2の表面に存在する自然酸化膜を一旦還元した後、酸化工程において金属基材2の表面を改めて酸化させている。その後、ALD工程において酸化物皮膜上に被覆材4を形成している。このように、金属基材2に対して還元工程、酸化工程及びALD工程を順次行うことにより、ALD工程において、金属基材2を構成する第1の金属原子を被覆材4へ拡散させるとともに、被覆材4に含まれる第2の金属原子を金属基材2へ拡散させることができる。その結果、金属基材2と被覆材4との間に前記特定の組成及び厚みを有する混合層3を形成することができる。 Further, in the production method of the present embodiment, the natural oxide film existing on the surface of the metal base material 2 is once reduced in the reduction step, and then the surface of the metal base material 2 is oxidized again in the oxidation step. After that, the coating material 4 is formed on the oxide film in the ALD step. In this way, by sequentially performing the reduction step, the oxidation step, and the ALD step on the metal base material 2, in the ALD step, the first metal atom constituting the metal base material 2 is diffused into the coating material 4, and the metal atom is diffused into the covering material 4. The second metal atom contained in the covering material 4 can be diffused to the metal base material 2. As a result, the mixed layer 3 having the specific composition and thickness can be formed between the metal base material 2 and the covering material 4.

また、本形態の製造方法は、被覆材4の形成を乾式法、つまり、液体を用いない処理によって行うため、湿式法を用いる従来の方法に比べて被覆材4の厚みのバラつきを低減することができる。 Further, in the manufacturing method of this embodiment, since the covering material 4 is formed by a dry method, that is, a treatment that does not use a liquid, the variation in the thickness of the covering material 4 is reduced as compared with the conventional method using a wet method. Can be done.

参考形態2
本形態は、被覆材4の表面を覆う第2被覆材41を備えた表面被覆部材102の例である。なお、本形態以降において用いた符号のうち、既出の形態において用いた符号と同一のものは、特に示さない限り、既出の形態におけるものと同様の構成要素等を表す。
( Reference form 2 )
This embodiment is an example of a surface covering member 102 provided with a second covering material 41 that covers the surface of the covering material 4. In addition, among the codes used in the present and subsequent forms, the same codes as those used in the above-mentioned forms represent the same components and the like as those in the above-mentioned forms, unless otherwise specified.

図2に示すように、本形態の表面被覆部材102は、金属基材2と、金属基材2の表面を覆う被覆材4と、金属基材2と被覆材4との間に介在する混合層3と、を有している。また、表面被覆部材102は、被覆材4に含まれる第2の金属原子とは異なる第3の金属原子を含み、被覆材4の表面を覆う第2被覆材41を有している。 As shown in FIG. 2, the surface covering member 102 of the present embodiment is a mixture of the metal base material 2, the covering material 4 covering the surface of the metal base material 2, and the metal base material 2 and the covering material 4 interposed therebetween. It has a layer 3 and. Further, the surface covering member 102 contains a third metal atom different from the second metal atom contained in the covering material 4, and has a second covering material 41 that covers the surface of the covering material 4.

第2被覆材41の厚みは、例えば100~200nmの範囲から適宜選択することができる。第3の金属原子としては、例えば、タンタル原子、ハフニウム原子、チタン原子、シリコン原子等を採用することができる。 The thickness of the second covering material 41 can be appropriately selected from the range of, for example, 100 to 200 nm. As the third metal atom, for example, a tantalum atom, a hafnium atom, a titanium atom, a silicon atom and the like can be adopted.

第2被覆材41は、被覆材4と同様に原子層堆積法によって形成してもよいし、例えばスパッタ法、蒸着法、CVD法、めっき法等の原子層堆積法以外の方法によって形成してもよい。原子層堆積法により第2被覆材41を形成する場合には、例えば、ALD工程において使用した装置を用い、被覆材4を形成する作業と第2被覆材41を形成する作業とを連続して行うことができる。 The second coating material 41 may be formed by an atomic layer deposition method like the coating material 4, or may be formed by a method other than the atomic layer deposition method such as a sputtering method, a vapor deposition method, a CVD method, or a plating method. May be good. When the second covering material 41 is formed by the atomic layer deposition method, for example, the work of forming the covering material 4 and the work of forming the second covering material 41 are continuously performed by using the apparatus used in the ALD step. It can be carried out.

原子層堆積法以外の方法により第2被覆材41を形成する場合には、被覆材4の形成が完了した後、装置から金属基材2を一旦取り出し、別の装置を用いて第2被覆材41を形成する作業を行えばよい。その他は参考形態1と同様である。 When the second covering material 41 is formed by a method other than the atomic layer deposition method, after the formation of the covering material 4 is completed, the metal base material 2 is once taken out from the apparatus, and the second covering material is used by another apparatus. The work of forming the 41 may be performed. Others are the same as in Reference Form 1 .

本形態のように被覆材4の表面上に第2被覆材41を設けることにより、混合層3の存在によって金属基材2からの被覆材4の剥離を抑制しつつ、第2被覆材41の材質に応じた機能を付与することができる。 By providing the second covering material 41 on the surface of the covering material 4 as in this embodiment, the presence of the mixed layer 3 suppresses the peeling of the covering material 4 from the metal base material 2, and the second covering material 41 Functions according to the material can be added.

例えば、表面被覆部材1の耐酸化性をより向上させようとする場合には、被覆材4の表面上に、Ta25(つまり、酸化タンタル(V))、HfO2(つまり、酸化ハフニウム(IV))、TiO2(つまり、酸化チタン(IV))またはSiO2(つまり、二酸化ケイ素)から構成された第2被覆材41を設ければよい。 For example, in order to further improve the oxidation resistance of the surface covering member 1, Ta 2 O 5 (that is, tantalum oxide (V)) and HfO 2 (that is, hafnium oxide) are placed on the surface of the covering material 4. (IV))), a second coating material 41 composed of TiO 2 (that is, titanium oxide (IV)) or SiO 2 (that is, silicon dioxide) may be provided.

被覆材4の表面上にSiO2からなる第2被覆材41を設ける場合には、表面被覆部材1の耐酸化性をより向上させるだけではなく、電気絶縁性をより向上させることもできる。また、表面被覆部材1の硬度をより向上させようとする場合には、被覆材4の表面上に、TiN(つまり、窒化チタン)等から構成された第2被覆材41を設ければよい。 When the second covering material 41 made of SiO 2 is provided on the surface of the covering material 4, not only the oxidation resistance of the surface covering member 1 can be further improved, but also the electrical insulation property can be further improved. Further, in order to further improve the hardness of the surface covering member 1, a second covering material 41 made of TiN (that is, titanium nitride) or the like may be provided on the surface of the covering material 4.

実施形態1
本形態は、内燃機関において燃焼室内に燃料を噴射するためのインジェクタのノズルボデー5として構成された表面被覆部材103の例である。
( Embodiment 1 )
This embodiment is an example of a surface covering member 103 configured as a nozzle body 5 of an injector for injecting fuel into a combustion chamber in an internal combustion engine.

図3に示すように、ノズルボデー5は筒状を呈しており、その先端に開口部11としての貫通孔111を有している。貫通孔111はノズルボデー5を貫通し、ノズルボデー5の先端に開口している。 As shown in FIG. 3, the nozzle body 5 has a tubular shape and has a through hole 111 as an opening 11 at its tip. The through hole 111 penetrates the nozzle body 5 and opens at the tip of the nozzle body 5.

本形態のノズルボデー5の筒内空間Sに、その長手方向に往復移動するノズルニードル6を配置することにより、インジェクタを構成することができる。インジェクタは、ノズルボデー5の筒内空間Sにおいてノズルニードル6を往復移動させ、貫通孔111の開閉を切り替えることにより燃料の噴射を間欠的に行うことができる。 An injector can be configured by arranging a nozzle needle 6 that reciprocates in the longitudinal direction thereof in the in-cylinder space S of the nozzle body 5 of the present embodiment. The injector can intermittently inject fuel by reciprocating the nozzle needle 6 in the in-cylinder space S of the nozzle body 5 and switching the opening and closing of the through hole 111.

図3に示すように、ノズルボデー5は、筒状を呈する金属基材203と、金属基材203を覆う被覆材4と、金属基材203と被覆材4との間に介在する混合層3と、被覆材4の表面を覆う第2被覆材41と、を有している。また、金属基材203の全面、つまり、図3に示す外部空間に面した外表面21、筒内空間Sに面した内表面22及び図4に示す貫通孔111の内表面112は、混合層3、被覆材4及び第2被覆材41により覆われている。 As shown in FIG. 3, the nozzle body 5 includes a tubular metal base material 203, a coating material 4 covering the metal base material 203, and a mixed layer 3 interposed between the metal base material 203 and the coating material 4. , A second covering material 41 that covers the surface of the covering material 4. Further, the entire surface of the metal base material 203, that is, the outer surface 21 facing the outer space shown in FIG. 3, the inner surface 22 facing the in-cylinder space S, and the inner surface 112 of the through hole 111 shown in FIG. 4 are mixed layers. 3. It is covered with a covering material 4 and a second covering material 41.

本形態の金属基材203は、具体的には、クロムモリブデン鋼等の炭素鋼から構成されている。また、被覆材4はAl23から構成されており、第2被覆材41はTa25またはHfO2から構成されている。なお、便宜上、図3においては混合層3、被覆材4及び第2被覆材41の記載を割愛した。同様に、図4においては、混合層3の記載を割愛するとともに、被覆材4及び第2被覆材41の記載を簡略化した。 Specifically, the metal base material 203 of this embodiment is made of carbon steel such as chromium molybdenum steel. Further, the covering material 4 is made of Al 2 O 3 , and the second covering material 41 is made of Ta 2 O 5 or Hf O 2 . For convenience, the description of the mixed layer 3, the covering material 4, and the second covering material 41 is omitted in FIG. Similarly, in FIG. 4, the description of the mixed layer 3 is omitted, and the description of the covering material 4 and the second covering material 41 is simplified.

本形態の貫通孔111は、図4に示すように、開口端113における内径を開口径D[μm]と表し、深さをL[μm]と表した場合に、D≦200μm、かつ、2≦L/D≦50を満たしている。より具体的には、貫通孔111の開口端113は、内径100μmの円形を呈している。また、貫通孔111の深さは600μmである。 In the through hole 111 of the present embodiment, as shown in FIG. 4, when the inner diameter of the opening end 113 is expressed as the opening diameter D [μm] and the depth is expressed as L [μm], D ≦ 200 μm and 2 ≦ L / D ≦ 50 is satisfied. More specifically, the open end 113 of the through hole 111 has a circular shape with an inner diameter of 100 μm. The depth of the through hole 111 is 600 μm.

なお、開口部11が有底孔である場合には、貫通孔111と同様に、開口端における有底孔の内径を開口径D[μm]とすることができる。また、開口部11が溝である場合には、溝の幅、つまり、溝の延設方向に対して直角な方向における溝の内寸を開口径D[μm]とすることができる。 When the opening 11 is a bottomed hole, the inner diameter of the bottomed hole at the opening end can be set to the opening diameter D [μm] as in the case of the through hole 111. When the opening 11 is a groove, the width of the groove, that is, the inner dimension of the groove in the direction perpendicular to the extending direction of the groove can be set to the opening diameter D [μm].

本形態のノズルボデー5は、例えば、以下の方法により作製することができる。まず、貫通孔111を備えた金属基材203に、参考形態2と同様の還元工程、酸化工程及びALD工程を順次実施して金属基材203上に混合層3及び被覆材4を形成する。その後、ALD工程において使用した装置内に金属基材203を配置したまま、当該装置を用いて原子層堆積法により第2被覆材41を形成する。 The nozzle body 5 of this embodiment can be manufactured, for example, by the following method. First, the reduction step, the oxidation step, and the ALD step similar to those in Reference Form 2 are sequentially performed on the metal base material 203 provided with the through holes 111 to form the mixed layer 3 and the covering material 4 on the metal base material 203. After that, while the metal base material 203 is placed in the apparatus used in the ALD step, the second coating material 41 is formed by the atomic layer deposition method using the apparatus.

また、本形態においては、還元工程における還元性ガス、酸化工程における酸化性ガス、ALD工程及び第2被覆材41の形成作業における前駆体及び反応ガスのそれぞれの圧力を、クヌーセン数が1以上となるように設定すればよい。ここで、クヌーセン数Knは、下記数式(1)によって算出することができる。 Further, in the present embodiment, the pressures of the reducing gas in the reducing step, the oxidizing gas in the oxidizing step, the precursor and the reaction gas in the forming work of the ALD step and the second coating material 41 are set to 1 or more Knudsen numbers. It should be set so as to be. Here, the Knudsen number Kn can be calculated by the following mathematical formula (1).

Figure 0007047600000001
Figure 0007047600000001

なお、上記数式(1)における記号の意味は以下の通りである。
Kn:クヌーセン数
[J/K]:ボルツマン定数
T[K]:ガスの温度
σ[m]:ガス分子の直径
P[Pa]:ガスの圧力
D[μm]:開口径
The meanings of the symbols in the above mathematical formula (1) are as follows.
Kn: Knudsen number k B [J / K]: Boltzmann constant T [K]: Gas temperature σ [m]: Gas molecule diameter P [Pa]: Gas pressure D [μm]: Opening diameter

この場合には、前述したガスを、クヌーセン拡散によって貫通孔111内に進入させることができる。その結果、貫通孔111の内表面全体にこれらのガスを接触させ、混合層3、被覆材4及び第2被覆材41を形成することができる。 In this case, the gas described above can be introduced into the through hole 111 by Knudsen diffusion. As a result, these gases can be brought into contact with the entire inner surface of the through hole 111 to form the mixed layer 3, the coating material 4, and the second coating material 41.

このように、本形態の製造方法によれば、開口径Dが狭く、かつ深さLが深い開口部11を備えた金属基材203における開口部11の内表面112に混合層3、被覆材4及び第2被覆材41を形成することができる。 As described above, according to the manufacturing method of the present embodiment, the mixed layer 3 and the covering material are formed on the inner surface 112 of the opening 11 in the metal substrate 203 having the opening 11 having a narrow opening diameter D and a deep depth L. 4 and the second covering material 41 can be formed.

また、本形態の製造方法によれば、還元工程、酸化工程、ALD工程及び第2被覆材41の形成作業のそれぞれにおいて、金属基材2の温度を300℃以下にすることができる。そのため、表面被覆部材103の製造過程において、熱による金属基材2の変形を低減することができる。更に、本形態の製造方法は、還元工程、酸化工程及びALD工程の各工程において乾式法を採用しているため、混合層3及び被覆材4の厚みのバラつきを低減することができる。これらの結果、本形態の製造方法によれば、表面被覆部材103の製造過程における開口部11の寸法の変化を低減することができる。 Further, according to the manufacturing method of the present embodiment, the temperature of the metal base material 2 can be set to 300 ° C. or lower in each of the reduction step, the oxidation step, the ALD step, and the forming work of the second coating material 41. Therefore, it is possible to reduce the deformation of the metal base material 2 due to heat in the manufacturing process of the surface covering member 103. Further, since the manufacturing method of this embodiment employs a dry method in each of the reduction step, the oxidation step and the ALD step, it is possible to reduce the variation in the thickness of the mixed layer 3 and the covering material 4. As a result, according to the manufacturing method of the present embodiment, it is possible to reduce the change in the dimensions of the opening 11 in the manufacturing process of the surface covering member 103.

本形態の製造方法は、インジェクタのノズルボデー5の製造方法として好適である。インジェクタにおいては、内燃機関の燃費の向上や排ガスの清浄化を目的として、燃料の噴射量や噴射範囲等を精密に制御することが求められている。燃料の噴射量や噴射範囲等を精密に制御するためには、開口部11としての貫通孔111の寸法精度を高める必要がある。また、インジェクタのノズルボデー5は、腐食性の強い燃焼ガスに晒されるため、高い耐腐食性が求められる。 The manufacturing method of this embodiment is suitable as a manufacturing method of the nozzle body 5 of the injector. In the injector, it is required to precisely control the injection amount and injection range of the fuel for the purpose of improving the fuel efficiency of the internal combustion engine and purifying the exhaust gas. In order to precisely control the fuel injection amount, injection range, etc., it is necessary to improve the dimensional accuracy of the through hole 111 as the opening 11. Further, since the nozzle body 5 of the injector is exposed to a highly corrosive combustion gas, high corrosion resistance is required.

本形態の製造方法によれば、前述したように、還元工程、酸化工程及びALD工程の各工程における貫通孔111の寸法の変化を低減することができる。更に、本形態の製造方法によれば、貫通孔111の内表面112に混合層3、被覆材4及び第2被覆材41を形成し、耐腐食性を向上させることができる。それ故、本形態の製造方法により作製された表面被覆部材103をインジェクタのノズルボデー5として使用することにより、ノズルボデー5の耐腐食性を向上させるとともに、貫通孔111の寸法精度を高め、内燃機関の燃費を向上させることができる。 According to the manufacturing method of this embodiment, as described above, it is possible to reduce the change in the dimensions of the through hole 111 in each of the reduction step, the oxidation step and the ALD step. Further, according to the manufacturing method of the present embodiment, the mixed layer 3, the covering material 4 and the second covering material 41 can be formed on the inner surface 112 of the through hole 111 to improve the corrosion resistance. Therefore, by using the surface covering member 103 manufactured by the manufacturing method of this embodiment as the nozzle body 5 of the injector, the corrosion resistance of the nozzle body 5 is improved, the dimensional accuracy of the through hole 111 is improved, and the internal combustion engine Fuel economy can be improved.

(実験例1)
本例は、還元工程における処理条件を種々変更して作製された平板状の表面被覆部材を用い、金属基材204と被覆材4との密着性をスクラッチ試験により評価した例である。本例では、金属基材204として、クロムモリブデン鋼の板材を準備した。アセトンを用いて金属基材204の洗浄および脱脂処理を行った後、還元性ガスとしてのアンモニア中で板材を加熱して還元工程を行った。還元工程におけるアンモニアの圧力は70Pa、加熱温度は300℃とした。また、加熱時間は、表1に示すように、4分、16分、28分のうちいずれかとした。還元工程を行った後に金属基材204の表面に残存している自然酸化膜の膜厚は、表1に示した通りであった。
(Experimental Example 1)
This example is an example in which the adhesion between the metal base material 204 and the covering material 4 is evaluated by a scratch test using a flat plate-shaped surface covering member produced by variously changing the treatment conditions in the reduction step. In this example, a chrome molybdenum steel plate was prepared as the metal base material 204. After cleaning and degreasing the metal substrate 204 with acetone, the plate material was heated in ammonia as a reducing gas to perform a reduction step. The pressure of ammonia in the reduction step was 70 Pa, and the heating temperature was 300 ° C. The heating time was set to any of 4 minutes, 16 minutes, and 28 minutes as shown in Table 1. The film thickness of the natural oxide film remaining on the surface of the metal substrate 204 after the reduction step was as shown in Table 1.

次いで、酸化性ガスとしての酸素中で金属基材204を加熱して酸化工程を行い、金属基材204の表面に酸化物皮膜を形成した。酸化工程における酸素の圧力は1Pa、加熱温度は300℃、加熱時間は13分とした。その後、原子層堆積法により酸化物皮膜上に被覆材4としてのアルミナを形成した。アルミナの厚みは0.1μmとした。以上により、表1に示す試験体A1~A3を得た。 Next, the metal base material 204 was heated in oxygen as an oxidizing gas to perform an oxidation step, and an oxide film was formed on the surface of the metal base material 204. The pressure of oxygen in the oxidation step was 1 Pa, the heating temperature was 300 ° C., and the heating time was 13 minutes. Then, alumina as a coating material 4 was formed on the oxide film by the atomic layer deposition method. The thickness of alumina was 0.1 μm. As a result, the test bodies A1 to A3 shown in Table 1 were obtained.

また、本例では、試験体A1~A3との比較のため、還元工程を省略した以外は試験体A1~A3と同様の条件により作製した試験体A4を準備した。 Further, in this example, for comparison with the test bodies A1 to A3, the test body A4 prepared under the same conditions as the test bodies A1 to A3 except that the reduction step was omitted was prepared.

Figure 0007047600000002
Figure 0007047600000002

図5に、試験体A2のTEM(つまり、透過型電子顕微鏡)像を示す。図5に示すように、試験体A2は、最も暗く示された金属基材204と最も明るく示された被覆材4との間に、両者の中間程度の暗さで示された混合層3を有していた。図5に示す測定点B1~B4の組成をEDX(つまり、エネルギー分散型分光分析)により評価した結果を表2に示す。 FIG. 5 shows a TEM (that is, transmission electron microscope) image of the test piece A2. As shown in FIG. 5, the test piece A2 has a mixed layer 3 shown in an intermediate darkness between the metal substrate 204 shown in the darkest and the dressing 4 shown in the brightest. Had had. Table 2 shows the results of evaluating the compositions of the measurement points B1 to B4 shown in FIG. 5 by EDX (that is, energy dispersive spectroscopy).

Figure 0007047600000003
Figure 0007047600000003

表2に示すように、試験体A2においては、混合層3に含まれる第1の金属原子としてのFe、第2の金属原子としてのAl、酸素原子との合計を100原子%とした場合に、Feの比率は30~55原子%であり、Alの比率は0.2~10.0原子%であった。 As shown in Table 2, in the test piece A2, when the total of Fe as the first metal atom, Al as the second metal atom, and the oxygen atom contained in the mixed layer 3 is 100 atomic%. The ratio of Fe was 30 to 55 atomic%, and the ratio of Al was 0.2 to 10.0 atomic%.

また、表2に示したように、試験体A2における混合層3の組成は深さ方向の位置によって異なっていた。具体的には、金属基材204に近い測定点B2におけるFeの比率は、測定点B2よりも被覆材4に近い測定点B3におけるFeの比率よりも高くなっていた。また、金属基材204に近い測定点B2におけるAlの比率は、測定点B3におけるAlの比率よりも低くなっていた。これらの結果及びTEM像のコントラストから、試験体A2の混合層3は、金属基材204上に積層され、比較的Feの比率が高い下層31と、下層31上に積層され、比較的Feの比率が低い上層32との2層構造を有していると推定される。 Further, as shown in Table 2, the composition of the mixed layer 3 in the test piece A2 was different depending on the position in the depth direction. Specifically, the ratio of Fe at the measurement point B2 near the metal substrate 204 was higher than the ratio of Fe at the measurement point B3 closer to the covering material 4 than the measurement point B2. Further, the ratio of Al at the measurement point B2 close to the metal substrate 204 was lower than the ratio of Al at the measurement point B3. From these results and the contrast of the TEM image, the mixed layer 3 of the test body A2 is laminated on the metal base material 204, and is laminated on the lower layer 31 having a relatively high Fe ratio and on the lower layer 31, and is relatively Fe. It is presumed to have a two-layer structure with the upper layer 32 having a low ratio.

試験体A2については、更に、X線光電子分光による深さ方向分析を行った。図6に、試験体A2の組成の深さ方向プロファイルを示す。図6の縦軸は各成分の濃度(原子%)であり、横軸は表面からの深さ(nm)である。深さ方向分析においては、O(酸素)、Al(アルミニウム)、Fe(鉄)の濃度を分析した。また、Feについては、束縛エネルギーの差に基づいてFe、Fe2+、Fe3+の状態を区別し、各状態の濃度を分析した。 The test piece A2 was further analyzed in the depth direction by X-ray photoelectron spectroscopy. FIG. 6 shows the depth direction profile of the composition of the test piece A2. The vertical axis of FIG. 6 is the concentration (atomic%) of each component, and the horizontal axis is the depth (nm) from the surface. In the depth direction analysis, the concentrations of O (oxygen), Al (aluminum), and Fe (iron) were analyzed. For Fe, the states of Fe, Fe 2+ , and Fe 3+ were distinguished based on the difference in binding energy, and the concentration of each state was analyzed.

図6に示したように、試験体A2は、金属基材204と被覆材4との間に、Fe、Al、Oが共存した混合層3を有していた。また、図6によれば、試験体A2の混合層3内には、金属Fe、Fe2+、Fe3+が共存していることが理解できる。混合層3におけるFe2+の濃度とFe3+とが同程度であることから、混合層3内には、金属Feと、Fe34とが含まれていると推定することができる。なお、X線光電子分光による深さ方向分析は、エッチングと分析とを繰り返すことにより深さ方向プロファイルを取得する手法であるため、本形態のような積層構造において層と層との界面を正確に決定することは難しい。深さ方向プロファイルに基づく各層の厚みは、TEM像において計測された各層の厚みよりも大きくなる傾向がある。 As shown in FIG. 6, the test piece A2 had a mixed layer 3 in which Fe, Al, and O coexisted between the metal base material 204 and the covering material 4. Further, according to FIG. 6, it can be understood that the metals Fe, Fe 2+ , and Fe 3+ coexist in the mixed layer 3 of the test body A2. Since the concentration of Fe 2+ in the mixed layer 3 and Fe 3+ are about the same, it can be estimated that the mixed layer 3 contains the metal Fe and Fe 3 O 4 . Since the depth direction analysis by X-ray photoelectron spectroscopy is a method of acquiring a depth direction profile by repeating etching and analysis, the interface between layers is accurately defined in a laminated structure as in this embodiment. It's difficult to decide. The thickness of each layer based on the depth profile tends to be greater than the thickness of each layer measured in the TEM image.

また、図6によれば、試験体A2においては、混合層3と金属基材204との間にFeの酸化物を含む酸化物層33が形成されていることが理解できる。酸化物層33におけるFe2+の濃度とFe3+とが同程度であることから、酸化物層33には、Fe34が含まれていると推定することができる。 Further, according to FIG. 6, it can be understood that in the test piece A2, the oxide layer 33 containing the oxide of Fe is formed between the mixed layer 3 and the metal base material 204. Since the concentration of Fe 2+ in the oxide layer 33 and Fe 3+ are about the same, it can be estimated that Fe 3 O 4 is contained in the oxide layer 33.

図7に、試験体A3のTEM(つまり、透過型電子顕微鏡)像を示す。試験体A3は、試験体A2と同様に、最も暗く示された金属基材204と最も明るく示された被覆材4との間に、両者の中間程度の暗さで示された混合層3を有していた。図7に示す測定点C1~C4の組成をエネルギー分散型分光分析法により評価した結果を表3に示す。 FIG. 7 shows a TEM (that is, transmission electron microscope) image of the test piece A3. Similar to the test piece A2, the test piece A3 has a mixed layer 3 shown in the middle of the darkness between the metal base material 204 shown in the darkest and the covering material 4 shown in the brightest. Had had. Table 3 shows the results of evaluating the compositions of the measurement points C1 to C4 shown in FIG. 7 by the energy dispersive spectroscopy.

Figure 0007047600000004
表3に示すように、試験体A3においては、混合層3に含まれる第1の金属原子としてのFe、第2の金属原子としてのAl、酸素原子との合計を100原子%とした場合に、Feの比率は30~55原子%であり、Alの比率は0.2~10.0原子%であった。
Figure 0007047600000004
As shown in Table 3, in the test piece A3, when the total of Fe as the first metal atom, Al as the second metal atom, and the oxygen atom contained in the mixed layer 3 is 100 atomic%. The ratio of Fe was 30 to 55 atomic%, and the ratio of Al was 0.2 to 10.0 atomic%.

試験体A3における混合層3の組成は、試験体A2に比べて変化が小さいものの、深さ方向の位置によって異なっていた。具体的には、金属基材204に近い測定点C2におけるFeの比率は、測定点C3におけるFeの比率よりもわずかに高くなっていた。また、測定点C2におけるAlの比率は、測定点C3におけるAlの比率よりもわずかに低くなっていた。これらの結果及びTEM像のコントラストから、試験体A3の混合層3も、試験体A2と同様に、比較的Feの比率が高い下層31と、比較的Feの比率が低い上層32との2層構造を有していると推定される。 The composition of the mixed layer 3 in the test body A3 was different depending on the position in the depth direction, although the change was small as compared with the test body A2. Specifically, the ratio of Fe at the measurement point C2 near the metal substrate 204 was slightly higher than the ratio of Fe at the measurement point C3. Further, the ratio of Al at the measurement point C2 was slightly lower than the ratio of Al at the measurement point C3. From these results and the contrast of the TEM image, the mixed layer 3 of the test body A3 also has two layers, that is, the lower layer 31 having a relatively high Fe ratio and the upper layer 32 having a relatively low Fe ratio, like the test body A2. It is presumed to have a structure.

還元処理を省略した試験体A4のTEM像を図8に示す。試験体A4は、最も暗く示された金属基材204と最も明るく示された被覆材4との間に、両者の中間程度の暗さで示された層34を有していた。この層34の組成をEDXにより評価したところ、この層34はFeとOとから構成されており、Alが含まれていなかった。かかる結果から、試験体A4における金属基材204と被覆材4との間の層34は、金属基材204の自然酸化膜または酸化工程において形成された酸化物皮膜と推定される。 FIG. 8 shows a TEM image of the test piece A4 without the reduction treatment. Specimen A4 had a layer 34 between the darkest shown metal substrate 204 and the brightest shown dressing 4 with a darkness intermediate between the two. When the composition of this layer 34 was evaluated by EDX, this layer 34 was composed of Fe and O and did not contain Al. From these results, it is presumed that the layer 34 between the metal base material 204 and the coating material 4 in the test piece A4 is a natural oxide film of the metal base material 204 or an oxide film formed in the oxidation step.

本例では、試験体A1~A4にスクラッチ試験を行い、被覆材4の剥離の有無を評価した。スクラッチ試験には、先端の曲率半径が0.2mmであり、角度が120度である円錐圧子を使用した。この円錐圧子の先端を各試験体の被覆材4に当接させ、円錐圧子を被覆材4に押圧しながら一方向に移動させた。この際、円錐圧子には、移動距離に比例して増大するように荷重を印加した。荷重の増加割合は、10mm移動後の荷重が100Nとなるように設定した。 In this example, a scratch test was performed on the test pieces A1 to A4 to evaluate the presence or absence of peeling of the covering material 4. For the scratch test, a conical indenter with a tip radius of curvature of 0.2 mm and an angle of 120 degrees was used. The tip of the conical indenter was brought into contact with the covering material 4 of each test piece, and the conical indenter was moved in one direction while being pressed against the covering material 4. At this time, a load was applied to the conical indenter so as to increase in proportion to the moving distance. The rate of increase in the load was set so that the load after moving 10 mm was 100 N.

移動距離が10mmとなった時点で円錐圧子を試験体上から取り除き、円錐圧子と摺動した面積を100%とした場合の被覆材4の残存率、つまり、被覆材4が残存している面積の割合を算出した。また、試験体A2及び試験体A4については、スクラッチ試験を行っている間、試験体を目視観察し、円錐圧子との摺動によって被覆材4が剥離し始めた時点での荷重を記録した。各試験体における被覆材4の残存率及び被覆材4が剥離し始めた時点での荷重は、表1に示した通りであった。 The residual ratio of the covering material 4 when the conical indenter is removed from the test piece when the moving distance becomes 10 mm and the area sliding with the conical indenter is 100%, that is, the area where the covering material 4 remains. The ratio of was calculated. Further, for the test body A2 and the test body A4, the test body was visually observed during the scratch test, and the load at the time when the covering material 4 started to peel off due to sliding with the conical indenter was recorded. The residual ratio of the covering material 4 and the load at the time when the covering material 4 started to peel off in each test piece were as shown in Table 1.

スクラッチ試験による密着性の評価においては、被覆材4が剥離し始めた時点での荷重が27N以上である場合を、自動車部品用として十分な密着性を有しているため合格と判定した。また、荷重が27N未満である場合を、自動車部品に要求される密着性を有しないため不合格と判定した。 In the evaluation of the adhesion by the scratch test, when the load at the time when the covering material 4 started to peel off was 27 N or more, it was judged to be acceptable because it has sufficient adhesion for automobile parts. Further, when the load is less than 27N, it is determined to be unacceptable because it does not have the adhesion required for the automobile parts.

表1に示したように、還元工程における処理時間が長くなるほど、還元工程を行った後に残存する自然酸化膜の膜厚を薄くすることができ、特に処理時間を16分以上とすることにより自然酸化膜を完全に還元することができた。また、表1の結果から、還元工程を行うことにより被覆材4と金属基材204との密着性が向上し、スクラッチ試験による被覆材4の剥離を抑制できることが理解できる。 As shown in Table 1, the longer the treatment time in the reduction step, the thinner the film thickness of the natural oxide film remaining after the reduction step can be made, and in particular, by setting the treatment time to 16 minutes or more, it is natural. The oxide film could be completely reduced. Further, from the results in Table 1, it can be understood that the adhesion between the covering material 4 and the metal base material 204 is improved by performing the reduction step, and the peeling of the covering material 4 by the scratch test can be suppressed.

表1の結果から、金属基材204に還元工程、酸化工程及びALD工程を順次行った試験体A1~A3は、自動車部品用として自動車部品用として十分な密着性を有していることが理解できる。一方、還元工程を省略した試験体A4は、試験体A1~A3に比べて密着性が劣っていた。 From the results in Table 1, it is understood that the test specimens A1 to A3 in which the reduction step, the oxidation step, and the ALD step are sequentially performed on the metal base material 204 have sufficient adhesion for automobile parts and for automobile parts. can. On the other hand, the test body A4 omitting the reduction step was inferior in adhesion to the test bodies A1 to A3.

(実験例2)
本例は、還元工程における処理条件を種々変更して作製された表面被覆部材103としてのノズルボデー5を用い、金属基材203と被覆材4との密着性を燃料噴射試験により評価した例である。本例では、金属基材203の形状を実施形態1に示すノズルボデー5の形状に変更し、被覆材4上にTa25からなる第2被覆材41を設けた以外は、実験例1と同様の方法により金属基材203上に被覆材4を形成し、試験体D1~D4を作製した。
(Experimental Example 2)
This example is an example in which the adhesion between the metal base material 203 and the covering material 4 is evaluated by a fuel injection test using the nozzle body 5 as the surface covering member 103 manufactured by variously changing the treatment conditions in the reduction step. .. In this example, the shape of the metal base material 203 is changed to the shape of the nozzle body 5 shown in the first embodiment , and the second covering material 41 made of Ta 2 O 5 is provided on the covering material 4, except that the shape is different from that of Experimental Example 1. The coating material 4 was formed on the metal base material 203 by the same method to prepare the test pieces D1 to D4.

このようにして得られた試験体D1~D4を用いてインジェクタを組み立て、得られたインジェクタを用いて燃料噴射試験を行った。燃料噴射試験においては、ガソリンを285MPaの圧力で3.2×107回間欠的に噴射させた。燃料噴射試験が完了した後、ノズルボデー5を切断して貫通孔111の内表面112を目視観察し、被覆材4の有無を評価した。各試験体における被覆材4の有無は、表4に示した通りであった。 Injectors were assembled using the test bodies D1 to D4 thus obtained, and a fuel injection test was conducted using the obtained injectors. In the fuel injection test, gasoline was intermittently injected 3.2 × 10 7 times at a pressure of 285 MPa. After the fuel injection test was completed, the nozzle body 5 was cut and the inner surface 112 of the through hole 111 was visually observed to evaluate the presence or absence of the covering material 4. The presence or absence of the covering material 4 in each test piece was as shown in Table 4.

Figure 0007047600000005
Figure 0007047600000005

表4に示したように、還元工程の後に残存する自然酸化膜の膜厚が薄くなるほど、燃料噴射試験後の被覆材4の剥離が起こりにくくなった。表1と表4とを比較することにより、還元工程の後に残存する自然酸化膜の膜厚が薄くなるほど、被覆材4と金属基材203との密着性が向上し、被覆材4の剥離を抑制できることが理解できる。 As shown in Table 4, the thinner the film thickness of the natural oxide film remaining after the reduction step, the less likely it is that the coating material 4 is peeled off after the fuel injection test. By comparing Table 1 and Table 4, the thinner the thickness of the natural oxide film remaining after the reduction step, the better the adhesion between the covering material 4 and the metal base material 203, and the peeling of the covering material 4 is achieved. It can be understood that it can be suppressed.

本発明は上記実施形態及び上記各実験例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の実施形態に適用することが可能である。
例えば、実施形態1及び実験例2においては、金属基材203上に耐腐食性に優れた第2被覆材41を形成し、インジェクタのノズルボデー5として構成された表面被覆部材103の例を示したが、表面被覆部材は、これ以外の用途にも適用することができる。また、被覆材4及び第2被覆材41としては、高い耐腐食性を有する材料以外に、例えば、酸素バリア性を有する材料や水蒸気バリア性を有する材料を採用することもできる。
The present invention is not limited to the above-described embodiment and each of the above-mentioned experimental examples, and can be applied to various embodiments without departing from the gist thereof.
For example, in the first embodiment and the second experimental example, an example of the surface covering member 103 in which the second covering material 41 having excellent corrosion resistance is formed on the metal base material 203 and configured as the nozzle body 5 of the injector is shown. However, the surface covering member can be applied to other uses. Further, as the covering material 4 and the second covering material 41, for example, a material having an oxygen barrier property or a material having a water vapor barrier property can be adopted in addition to the material having a high corrosion resistance.

1、102、103 表面被覆部材
2、202、203 金属基材
3 混合層
4 被覆材
1, 102, 103 Surface covering member 2, 202, 203 Metal base material 3 Mixed layer 4 Coating material

Claims (8)

からなり、貫通孔、有底孔及び溝のうち1種以上の開口部(11)を備えた金属基材(203)と、
前記金属基材を構成する第1の金属原子とは異なる第2の金属原子としてのアルミニウムを含み、前記金属基材の表面を覆う被覆材(4)と、
前記金属基材と前記被覆材との間に介在する混合層(3)と、を有し、
前記混合層は、
前記第1の金属原子と、前記第2の金属原子と、酸素原子とを含み、
前記第1の金属原子と、前記第2の金属原子と、酸素原子との合計に対する前記第1の金属原子の比率が30~55原子%であり、かつ、前記第2の金属原子の比率が0.2~10.0原子%であり、
厚みが10~50nmであり、
前記混合層及び前記被覆材は、前記開口部の内表面(112)に形成されており、
前記貫通孔の開口端(113)における内径、前記有底孔の開口端における内径及び前記溝の開口端における幅を前記開口部の開口径D[μm]と表し、前記開口部の深さをL[μm]と表した場合に、D≦200μmであり、かつ、2≦L/D≦50である、
表面被覆部材(103)。
A metal substrate ( 203 ) made of iron and provided with one or more openings (11) of through holes, bottomed holes and grooves .
A coating material (4) containing aluminum as a second metal atom different from the first metal atom constituting the metal base material and covering the surface of the metal base material, and
It has a mixed layer (3) interposed between the metal base material and the covering material, and has.
The mixed layer is
The first metal atom, the second metal atom, and the oxygen atom are included.
The ratio of the first metal atom to the total of the first metal atom, the second metal atom, and the oxygen atom is 30 to 55 atom%, and the ratio of the second metal atom is 0.2 to 10.0 atomic%,
It has a thickness of 10 to 50 nm and has a thickness of 10 to 50 nm.
The mixed layer and the covering material are formed on the inner surface (112) of the opening.
The inner diameter at the opening end (113) of the through hole, the inner diameter at the opening end of the bottomed hole, and the width at the opening end of the groove are expressed as the opening diameter D [μm] of the opening, and the depth of the opening is defined as. When expressed as L [μm], D ≦ 200 μm and 2 ≦ L / D ≦ 50.
Surface covering member ( 103 ).
前記混合層と前記金属基材との間に、更に、前記第1の金属原子の酸化物を含む酸化物層(33)を有している、請求項1に記載の表面被覆部材。 The surface covering member according to claim 1 , further comprising an oxide layer (33) containing an oxide of the first metal atom between the mixed layer and the metal base material. 前記表面被覆部材(103)は、前記被覆材に含まれる第2の前記金属原子とは異なる第3の金属原子を含み、前記被覆材の表面を覆う第2被覆材(41)を有している、請求項1または2に記載の表面被覆部材(103)。 The surface covering member ( 103 ) contains a third metal atom different from the second metal atom contained in the covering material, and has a second covering material (41) that covers the surface of the covering material. The surface covering member ( 103 ) according to claim 1 or 2 . 前記第3の金属原子はタンタル原子、ハフニウム原子、チタン原子及びシリコン原子のうち1種または2種以上である、請求項3に記載の表面被覆部材。 The surface covering member according to claim 3 , wherein the third metal atom is one or more of tantalum atom, hafnium atom, titanium atom and silicon atom. 前記第2被覆材はTa25、HfO2、TiO2またはSiO2のいずれかから構成されている、請求項3または4に記載の表面被覆部材。 The surface covering member according to claim 3 or 4 , wherein the second covering material is composed of any one of Ta 2 O 5 , HfO 2 , TIO 2 or SiO 2 . 前記金属基材は炭素鋼から構成されている、請求項1~5のいずれか1項に記載の表面被覆部材。 The surface covering member according to any one of claims 1 to 5 , wherein the metal base material is made of carbon steel. 請求項1~6のいずれか1項に記載の表面被覆部材の製造方法であって、
還元性ガス雰囲気中において金属基材を加熱して前記金属基材の表面を還元する還元工程と、
酸化性ガス雰囲気中において前記金属基材を加熱することにより前記金属基材の表面に酸化物皮膜を形成する酸化工程と、
原子層堆積法により前記酸化物皮膜上に前記被覆材を形成するALD工程と、
を有する、表面被覆部材の製造方法。
The method for manufacturing a surface covering member according to any one of claims 1 to 6 .
A reduction step of heating a metal base material in a reducing gas atmosphere to reduce the surface of the metal base material,
An oxidation step of forming an oxide film on the surface of the metal substrate by heating the metal substrate in an oxidizing gas atmosphere.
The ALD step of forming the coating material on the oxide film by the atomic layer deposition method, and
A method for manufacturing a surface covering member.
前記金属基材の温度が300℃以下となる条件で前記還元工程、前記酸化工程及び前記ALD工程を行う、請求項7に記載の表面被覆部材の製造方法。 The method for manufacturing a surface covering member according to claim 7 , wherein the reduction step, the oxidation step, and the ALD step are performed under the condition that the temperature of the metal substrate is 300 ° C. or lower.
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