JP7033402B2 - 固相核酸合成方法、固相核酸合成用溶液組成物 - Google Patents
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Description
pKaが0.2~0.8である酸とアセトニトリルとを含有する溶液中で、前記保護ヌクレオシドホスホロアミダイトから前記保護基を乖離する反応を行う脱保護工程を含む、固相核酸合成方法。
[2]前記保護基は、トリチル基若しくはその誘導体、又は9-フェニルキサンテン-9-イル基若しくはその誘導体である、[1]記載の固相核酸合成方法。
[3]前記酸は、トリクロロ酢酸及び/又はトリフルオロ酢酸である、[1]記載の固相核酸合成方法。
[4]前記固相担体は多孔質樹脂ビーズである、[1]記載の固相核酸合成方法。
[5]前記脱保護工程は、前記多孔質樹脂ビーズを充填したカラム内で前記溶液を流すことにより行われる、[4]記載の固相核酸合成方法。
[6]前記溶液の流速を400~2000cm/hとする、[5]記載の固相核酸合成方法。
[7]前記カラムへ充填した前記多孔質樹脂ビーズからなる層の長さは、流路方向に4~50cm(但し、当該多孔質樹脂ビーズが前記溶液で膨潤した状態で計測した場合の数値)である、[5]記載の固相核酸合成方法。
[8]pKaが0.2~0.8である酸とアセトニトリルとを含有し、固相担体上にて、ヌクレオシドの5’位又は3’位の水酸基に保護基が結合した保護ヌクレオシドホスホロアミダイトを順次結合させる固相核酸合成方法における、前記保護ヌクレオシドホスホロアミダイトから前記保護基を乖離する反応に使用される、固相核酸合成用溶液組成物。
[9]前記酸は、トリクロロ酢酸及び/又はトリフルオロ酢酸である、[8]記載の固相核酸合成用溶液組成物。
本実施例では、ジメトキシトリチル基(保護基)が結合したTが担持されたNitto Phase HLを用いて、各種溶剤と酸物質と組み合わせて保護基の乖離反応を検討した。本実施例では、候補の溶剤としてアセトニトリル、アセトン、酢酸エチル、DMF、DMSO、ヘキサン、メタノール及びエタノールを用意した。また、酸物質として、ジクロロ酢酸(DCA)、トリクロロ酢酸(TCA)、トリフルオロ酢酸(TFA)、p-トルエンスルホン酸(PTSA)及び塩酸を準備した。
3% DCA を含む各候補溶剤の溶液調製:50mlメスフラスコに1.5mlのDCAをメスピペットで加えた。50mlメスフラスコに各溶液を加えメスアップした。
3% DCA を含むトルエンと各候補溶剤の50%混合溶液調製:50mlメスフラスコに1.5mlのDCAをメスピペットで加えた。トルエンと各溶剤とを1:1の割合した混合溶液を加えメスアップした。
9% TCA を含む各候補溶剤の溶液調製:50mlメスフラスコに1.5mlのTCAをメスピペットで加えた。50mlメスフラスコに各溶液を加えメスアップした。
3% TFA を含む各候補溶剤の溶液調製:50mlメスフラスコに1.5mlのTFAをメスピペットで加えた。50mlメスフラスコに各溶液を加えメスアップした。
PTSAを含む各候補溶剤の溶液調製:50mlメスフラスコにPTSAを951.3mg量り加えた。50mlメスフラスコに各溶液を加えメスアップした。
塩酸を含む各候補溶剤の溶液調製:100mlメスフラスコに0.1mlの4N 塩酸をメスピペットで加え、各種溶剤でメスアップした。
本実施例では、実施例1で一次スクリーニングしたトリクロロ酢酸(TCA)、トリフルオロ酢酸(TFA)、p-トルエンスルホン酸(PTSA)及び塩酸を脱保護工程に使用した固相核酸合成を行い、このときの合成された核酸の純度を評価した。
本実施例における核酸合成は、AKTA10合成装置(アマシャムバイオサイエンス(Amersham Biosciences))を使用した。カラムサイズは1.2mL ステンレスカラム(直径1cm, 高さ1.5cm)を使用した。合成する核酸配列を5’-ATA CCG ATT AAG CGA AGT TT-3’(配列番号1)とした。固相担体として350~370μmol/gのNitto Phase HL(日東電工株式会社)を使用した。その他、核酸合成条件として、末端の塩基における保護基(DMT基)を外し、また、アミン洗浄に0.1N ジアザビシクロウンデセンにより30分処理した。また、活性化剤は5- エチルチオ -1 テトラゾール(ETT)を使用した。本実施例では、脱保護工程において反応カラムに対する流速を線速度;400cm/hとした。
なお、アセトニトリル溶液におけるTCAの濃度を7%或いは5%とした場合も9%と同等の結果が得られた。
本実施例では、核酸合成反応に使用するカラムの長さを4cmから8cmへスケールアップした以外は実施例2と同様にして固相核酸合成を行い、このときの合成された核酸の純度を評価した。なお、本実施例では、脱保護工程には3% DCA/トルエン溶液(線速度:400cm/h)又は9% TCA/アセトニトリル(線速度:800cm/h)を使用した。
結果を表4に示した。なお、表4における純度は実施例2と同様にして算出した。
Claims (8)
- 固相担体上にて、ヌクレオシドの5’位の水酸基にトリチル系及び/又はシリル系保護基が結合した保護ヌクレオシドホスホロアミダイトを順次結合させる固相核酸合成方法であって、
pKaが0.2~0.8である酸とアセトニトリルとを含有する溶液中で、5’位と次のヌクレオシドのホスホロアミダイド基とを反応させるカップリング工程前に当該5’位のトリチル系及び/又はシリル系保護基を乖離する反応を行う脱保護工程を含む、固相核酸合成方法。 - 前記酸は、トリクロロ酢酸及び/又はトリフルオロ酢酸である、請求項1記載の固相核酸合成方法。
- 前記固相担体は多孔質樹脂ビーズである、請求項1記載の固相核酸合成方法。
- 前記脱保護工程は、前記多孔質樹脂ビーズを充填したカラム内で前記溶液を流すことにより行われる、請求項3記載の固相核酸合成方法。
- 前記溶液の流速を400~2000cm/hとする、請求項4記載の固相核酸合成方法。
- 前記カラムへ充填した前記多孔質樹脂ビーズからなる層の長さは、流路方向に4~50cm(但し、当該多孔質樹脂ビーズが前記溶液で膨潤した状態で計測した場合の数値)である、請求項4記載の固相核酸合成方法。
- pKaが0.2~0.8である酸とアセトニトリルとを含有し、固相担体上にて、ヌクレオシドの5’位の水酸基にトリチル系及び/又はシリル系保護基が結合した保護ヌクレオシドホスホロアミダイトを順次結合させる固相核酸合成方法における、前記保護基を乖離する反応に使用される、固相核酸合成用溶液組成物。
- 前記酸は、トリクロロ酢酸及び/又はトリフルオロ酢酸である、請求項7記載の固相核酸合成用溶液組成物。
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