JP7025249B2 - Grinding method for workpieces. - Google Patents
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Description
本発明は、被加工物の加工方法に関する。 The present invention relates to a method for processing a workpiece.
半導体デバイス製造工程においては、略円板形状である被加工物の表面に格子状に配列されたストリートと呼ばれる分割予定ラインによって複数の領域が区画され、この区画された領域にIC、LSI等の回路(機能素子)が形成される。そして、被加工物を分割予定ラインに沿って切断することにより回路が形成された領域を分割して個々の半導体チップを製造している。 In the semiconductor device manufacturing process, a plurality of areas are divided by scheduled division lines called streets arranged in a grid pattern on the surface of a work piece having a substantially disk shape, and ICs, LSIs, etc. are used in these divided areas. A circuit (functional element) is formed. Then, by cutting the workpiece along the scheduled division line, the region where the circuit is formed is divided to manufacture individual semiconductor chips.
被加工物は、複数の機能素子(デバイス)が形成されたデバイス形成領域と、デバイス形成領域を囲繞するデバイス非形成領域とを有しており、デバイス形成領域には回路パターンが形成されている。したがって、デバイス形成領域の最上部とデバイス非形成領域の最上部とは高さ位置が一致せず、被加工物の表面においては、デバイス形成領域とデバイス非形成領域との間に厚さの差が存在している。 The workpiece has a device forming region in which a plurality of functional elements (devices) are formed, and a device non-forming region surrounding the device forming region, and a circuit pattern is formed in the device forming region. .. Therefore, the height position does not match the top of the device forming region and the top of the device non-forming region, and the difference in thickness between the device forming region and the device non-forming region on the surface of the workpiece. Exists.
また、近年は、デバイス表面にバンプと呼ばれる金属突起物を複数形成し、これらのバンプを配線基板に形成された電極に相対させて直接接合するフリップチップボンディングと呼ばれる実装技術が実用化されている。バンプは、デバイス形成領域にのみ形成され、デバイス非形成領域には形成されないため、この場合においても、デバイス形成領域とデバイス非形成領域との間に厚さの差が存在している。 Further, in recent years, a mounting technique called flip-chip bonding has been put into practical use in which a plurality of metal protrusions called bumps are formed on the surface of a device and these bumps are directly bonded to the electrodes formed on the wiring board. .. Since the bumps are formed only in the device forming region and not in the device non-forming region, there is also a difference in thickness between the device forming region and the device non-forming region.
このように、デバイス形成領域の方がデバイス非形成領域よりも厚く形成されているため、裏面研削時に表面に保護テープ等の保護部材を貼着し、保護部材側を吸引保持して裏面研削を行うと、デバイス形成領域よりもデバイス非形成領域の方が厚く形成されてしまうという問題がある。そこで、裏面の研削前に、被加工物の表面に貼着された保護部材をバイト工具で切削し、保護部材のうちデバイス形成領域に貼着されている部分の表面と保護部材のうちデバイス非形成領域に貼着されている部分とを平坦化する手法が実用化されている(例えば、特許文献1参照)。 In this way, since the device forming region is formed thicker than the device non-forming region, a protective member such as a protective tape is attached to the front surface during backside grinding, and the protective member side is sucked and held for backside grinding. If this is done, there is a problem that the device non-formed region is formed thicker than the device formed region. Therefore, before grinding the back surface, the protective member attached to the surface of the workpiece is cut with a tool tool, and the surface of the protective member attached to the device forming region and the protective member are not the device. A method of flattening a portion attached to a forming region has been put into practical use (see, for example, Patent Document 1).
しかしながら、保護部材の表面を平坦化すると、保護部材は、デバイス形成領域に貼着されている部分とデバイス非形成領域に貼着されている部分とで厚さが異なることになるため、保護部材側を研削装置のチャックテーブルにおいて保持して研削砥石によって研削負荷をかけて被加工物の裏面を研削すると、デバイス形成領域に貼着されている部分とデバイス非形成領域に貼着されている部分との間で保護部材の沈み込みに差異が生じ、これに対応して保護部材の厚さばらつきが発生し、裏面研削後の被加工物の厚さ精度が悪化してしまうという問題がある。 However, when the surface of the protective member is flattened, the thickness of the protective member differs between the portion attached to the device forming region and the portion attached to the device non-forming region. When the side is held on the chuck table of the grinding device and a grinding load is applied by a grinding wheel to grind the back surface of the workpiece, the part attached to the device forming area and the part attached to the device non-forming area are attached. There is a problem that there is a difference in the sinking of the protective member between the two, and the thickness of the protective member varies accordingly, and the thickness accuracy of the workpiece after backside grinding deteriorates.
本発明は、このような問題にかんがみなされたもので、デバイス形成領域とデバイス非形成領域とで厚さが異なる被加工物の裏面を研削する場合において、裏面研削後の被加工物の厚さばらつきを低減することを課題とする。 The present invention considers such a problem, and when grinding the back surface of a workpiece having different thicknesses in the device forming region and the device non-forming region, the thickness of the workpiece after backside grinding. The challenge is to reduce variability.
本発明は、複数のデバイスが形成されたデバイス形成領域と該デバイス形成領域を囲繞するデバイス非形成領域とを表面に有し、上端が該デバイス非形成領域の上端より高い位置に形成された凸部を該デバイス形成領域に有する被加工物の裏面を研削する研削方法であって、基材の一方の面に粘着材層が該凸部の高さより厚く形成された保護部材を、該凸部が該粘着材層に埋没するように被加工物の表面に貼着する保護部材貼着工程と、該保護部材が貼着された被加工物の裏面を研削装置のチャックテーブルにおいて保持する第1保持工程と、該保護部材のうち該デバイス形成領域に貼着された部分の基材の他方の面を研削し、該基材に該粘着材層にまで至らない凹部を形成する保護部材研削工程と、該保護部材研削工程の実施後、該被加工物を、該保護部材を介して研削装置のチャックテーブルにおいて保持する第2保持工程と、該チャックテーブルに保持された被加工物の裏面側を該研削装置の研削手段により研削して被加工物を所定の厚さに薄化する裏面研削工程と、
を具備し、該裏面研削工程において、該デバイス非形成領域の沈み込みを抑制して裏面研削後の被加工物の厚さばらつきを抑制することを特徴とする。
この研削方法において、保護部材の例として粘着テープが挙げられる。
The present invention has a device forming region in which a plurality of devices are formed and a device non-forming region surrounding the device forming region on the surface, and the upper end is formed at a position higher than the upper end of the device non-forming region. A polishing method for grinding the back surface of a work piece having a portion in the device forming region, wherein a protective member having an adhesive layer formed on one surface of a base material thicker than the height of the convex portion is formed on the convex portion. A process of attaching a protective member to be attached to the surface of the work piece so as to be buried in the adhesive layer, and a first step of holding the back surface of the work piece to which the protective member is attached on a chuck table of a polishing device. The holding step and the protective member grinding step of grinding the other surface of the base material of the portion of the protective member attached to the device forming region to form a recess in the base material that does not reach the adhesive layer. After performing the protective member grinding step, a second holding step of holding the workpiece on the chuck table of the grinding apparatus via the protective member, and a back surface side of the workpiece held on the chuck table. The back surface grinding process for thinning the workpiece to a predetermined thickness by grinding with the grinding means of the grinding device.
It is characterized in that, in the back surface grinding step, the subduction of the device non-forming region is suppressed and the thickness variation of the workpiece after back surface grinding is suppressed.
In this grinding method, an adhesive tape is mentioned as an example of the protective member.
本発明では、被加工物の表面に貼着された保護部材の基材のうち被加工物のデバイス形成領域に貼着されている部分のみを研削し、当該部分をデバイス非形成領域に貼着されている部分よりも薄く形成することにより、被加工物の裏面研削時に、デバイス形成領域とデバイス非形成領域との間で研削負荷による被加工物の沈み込みの差異を低減することが可能となる。したがって、被加工物の厚さばらつきを低減することができる。 In the present invention, only the portion of the base material of the protective member attached to the surface of the workpiece that is attached to the device forming region of the workpiece is ground, and the portion is attached to the device non-forming region. By forming it thinner than the formed portion, it is possible to reduce the difference in subduction of the workpiece due to the grinding load between the device forming region and the device non-forming region when grinding the back surface of the workpiece. Become. Therefore, it is possible to reduce the thickness variation of the workpiece.
図1に示す被加工物Wの表面Waには複数のデバイスDが形成されており、これらのデバイスDは、縦横の分割予定ラインLによって区画されている。ここで、デバイスDが形成されている領域をデバイス形成領域W1、デバイスDが形成されていない領域をデバイス非形成領域W2と称する。デバイス形成領域W1は、デバイス非形成領域W2によって囲繞されている。 A plurality of devices D are formed on the surface Wa of the workpiece W shown in FIG. 1, and these devices D are partitioned by vertical and horizontal division schedule lines L. Here, the region in which the device D is formed is referred to as a device forming region W1, and the region in which the device D is not formed is referred to as a device non-forming region W2. The device forming region W1 is surrounded by the device non-forming region W2.
表面Waの各デバイスDには、複数のバンプBが上方に突出した状態で形成されている。バンプBの上端は、デバイス非形成領域W2の上端(上面)よりも高い位置にある。すなわち、デバイス形成領域W1には、上端がデバイス非形成領域W2よりも突出した凸部を備えている。 Each device D on the surface Wa is formed with a plurality of bumps B protruding upward. The upper end of the bump B is located higher than the upper end (upper surface) of the device non-forming region W2. That is, the device forming region W1 has a convex portion whose upper end protrudes from the device non-forming region W2.
(1)保護部材貼着工程
このように構成される被加工物Wの表面Waに、図2に示すように、デバイスDを保護するための保護部材Tを貼着する。保護部材Tは、例えば粘着テープであり、柔軟性を有しており、図3に示すように、被加工物Wの表面Wa側に密着する粘着材層T1と、一方の面T2aに粘着材層T1が一面に敷き詰められた基材T2とから構成されている。粘着材層T1は、バンプBの高さより厚く形成されており、被加工物Wの表面Waに保護部材Tの粘着材層T1側を対面させて押圧することにより、バンプBが粘着材層T1に埋没した状態となる。また、基材T2の他方の面T2b側は、バンプBにならって上方に突出する。なお、図3においては、バンプBを実際のものより大きく図示し、また、バンプBの数を実際の数より少なく図示している。以降の図においても同様である。
(1) Protective member attaching process As shown in FIG. 2, a protective member T for protecting the device D is attached to the surface Wa of the workpiece W configured as described above. The protective member T is, for example, an adhesive tape and has flexibility. As shown in FIG. 3, the adhesive layer T1 in close contact with the surface Wa side of the workpiece W and the adhesive material on one surface T2a. The layer T1 is composed of a base material T2 spread over one surface. The adhesive layer T1 is formed to be thicker than the height of the bump B, and the bump B is pressed against the surface Wa of the workpiece W so that the adhesive layer T1 side of the protective member T faces the adhesive layer T1. It will be buried in. Further, the other surface T2b side of the base material T2 projects upward following the bump B. In FIG. 3, the bump B is shown larger than the actual one, and the number of bump B is shown smaller than the actual number. The same applies to the following figures.
本工程では、保護部材Tを被加工物Wの表面Waに貼着した後、粘着材層T1に紫外線を照射するなどして、粘着材層T1を硬化させておくことが好ましい。 In this step, it is preferable to cure the pressure-sensitive adhesive layer T1 by, for example, irradiating the pressure-sensitive adhesive layer T1 with ultraviolet rays after the protective member T is attached to the surface Wa of the workpiece W.
(2)第1保持工程
次に、例えば図4に示す研削装置1の回転可能なチャックテーブル10において、被加工物Wの裏面Wb側を保持する。この研削装置1は、研削手段11を備えている。この研削手段11は、Z軸方向の軸心を有する回転可能なスピンドル12と、スピンドル12を回転可能に支持するハウジング13と、スピンドル12の下端に連結されたマウント14と、マウント14に装着された研削ホイール15とを備えている。研削ホイール15は、基台151と、基台151の下面に固着された研削砥石152とから構成されている。研削砥石152の回転軌道の最外周の直径は、被加工物Wの図1に示したデバイス形成領域W1の半径と等しいか、または当該半径より若干長い。
(2) First Holding Step Next, for example, in the rotatable chuck table 10 of the grinding apparatus 1 shown in FIG. 4, the back surface Wb side of the workpiece W is held. The grinding device 1 includes a grinding means 11. The grinding means 11 is mounted on a
(3)保護部材研削工程
次に、図4に示した研削装置1のチャックテーブル10を矢印A1方向に回転させるとともに、スピンドル12を矢印A1方向と同方向である矢印A2方向に回転させる。そして、研削砥石152の回転軌道の直径が被加工物Wの半径部分に一致するようにした状態で、研削手段11を下降させることにより、保護部材Tのうちデバイス形成領域W1に貼着された部分の基材T2の他方の面T2bを研削する。これにより、基材T2の他方の面T2b側に凹部T3が形成される。基材T2に凹部T3を形成する研削は、粘着材層T1が上方に向けて露出する前、すなわち、凹部T3の底面が粘着材層T1に達する前に終了する。
(3) Protective member grinding step Next, the chuck table 10 of the grinding device 1 shown in FIG. 4 is rotated in the direction of arrow A1, and the
凹部T3の深さは、バンプBの高さ及び保護部材Tの基材T2の材質に応じて調整する。例えば、バンプBの高さが30μm、基材T2がPET(ポリエチレンテレフタレート)である場合は、凹部T3の深さを11μmとする。 The depth of the recess T3 is adjusted according to the height of the bump B and the material of the base material T2 of the protective member T. For example, when the height of the bump B is 30 μm and the base material T2 is PET (polyethylene terephthalate), the depth of the recess T3 is 11 μm.
なお、凹部T3の形成位置は、デバイス形成領域W1と完全に一致していなくてもよく、少なくともバンプBが形成されている領域に凹部T3が形成されればよい。 The position where the recess T3 is formed does not have to completely coincide with the device forming region W1, and the recess T3 may be formed at least in the region where the bump B is formed.
(4)第2保持工程
次に、例えば図5に示す研削装置20のチャックテーブル30において、研削後の保護部材Tを介して被加工物Wを保持する。研削装置20は、複数のチャックテーブル30を備えている。
(4) Second Holding Step Next, for example, in the chuck table 30 of the
研削装置20のY方向前部のカセット載置領域21には、ロードカセット211及びアンロードカセット212が載置されている。ロードカセット211及びアンロードカセット212は、複数段のスロットを備えており、ロードカセット211には研削前の被加工物が複数収容され、アンロードカセット212には研削後の被加工物が収容される。
A
ロードカセット211及びアンロードカセット212の近傍には、ロードカセット211からの被加工物の搬出及びアンロードカセット212への被加工物の搬入を行う搬送機構である搬出入ロボット22が配設されている。この搬出入ロボット22は、アーム部221と、アーム部221の先端に設けられた保持部222とから構成されている。
In the vicinity of the
保持部222の可動範囲には、ロードカセット211から搬出した被加工物が載置され被加工物の中心を一定の位置に位置合わせする中心合わせ手段23が配設されている。中心あわせ手段23は、被加工物が載置される載置テーブル231と、複数の位置合わせ部材232とを備えている。
In the movable range of the holding
保持部222の可動範囲には、研削後の被加工物を洗浄する洗浄手段24が配設されている。
A cleaning means 24 for cleaning the workpiece after grinding is provided in the movable range of the holding
中心合わせ手段23の近傍には、研削前の被加工物を中心合わせ手段23からチャックテーブル30に搬送する搬送機構である第1搬送手段25が配設されている。第1搬送手段25は、旋回及び昇降可能なアーム部251と、アーム部251の先端に配設された吸着部252とを備えている。
In the vicinity of the centering means 23, a first transport means 25, which is a transport mechanism for transporting the workpiece before grinding from the centering means 23 to the chuck table 30, is disposed. The first transport means 25 includes an
洗浄手段24の近傍には、研削後の被加工物を洗浄手段24に搬送する搬送機構である第2搬送手段26が配設されている。第2搬送手段26は、旋回及び昇降可能なアーム部261と、アーム部261の先端に配設された吸着部262とを備えている。
In the vicinity of the cleaning means 24, a second transport means 26, which is a transport mechanism for transporting the work piece after grinding to the cleaning means 24, is arranged. The second transport means 26 includes an
複数のチャックテーブル30は、ターンテーブル27によって公転及び自転可能に支持されている。また、ターンテーブル27の公転によってチャックテーブル30が位置しうる位置の上方には、研削手段31を構成する粗研削手段31aと仕上げ研削手段31bとが配設されている。ターンテーブル27の周囲には、チャックテーブル30に保持された被加工物の厚さを計測する厚さ計測手段28が、粗研削手段31aと仕上げ研削手段31bとに対応して2箇所に設けられている。
The plurality of chuck tables 30 are supported by the
粗研削手段31aと仕上げ研削手段31bとでは、研削砥石の種類以外は同様に構成されるため、同様に構成される部位については共通の符号を付して説明する。
粗研削手段31a及び仕上げ研削手段31bは、図6に示すように、Z方向の軸心を有するスピンドル315と、スピンドル315を回転可能に支持するハウジング316と、スピンドル315の下端に連結されたマウント317と、マウント317に装着された研削ホイール311とを備えている。また、図5に示すように、粗研削手段31a及び仕上げ研削手段31bは、スピンドル315を回転させるモータ312を備えている。粗研削手段31aを構成する研削ホイール311は、基台313と、基台313の下面に円環状に固着された複数のセグメント砥石である粗研削砥石314aとを備えている。一方、仕上げ研削手段31bを構成する研削ホイール311は、基台313と、基台313の下面に円環状に固着された複数のセグメント砥石である仕上げ研削砥石314bとを備えている。粗研削砥石314a及び仕上げ研削砥石314bは、ダイヤモンド砥粒を結合材によって整形して形成されている。
Since the rough grinding means 31a and the finish grinding means 31b are configured in the same manner except for the type of the grinding wheel, the portions to be similarly configured will be described with a common reference numeral.
As shown in FIG. 6, the rough grinding means 31a and the finish grinding means 31b include a
図5に示すように、粗研削手段31a及び仕上げ研削手段31bは、研削送り手段32によってそれぞれZ方向に送られる。研削送り手段32は、Z方向の軸心を有するボールネジ321と、ボールネジ321と平行に配設された一対のガイドレール322と、ボールネジ321の一端に連結されボールネジ321を回転させるモータ323と、ボールネジ321に螺合するナットを備えるとともに側部がガイドレール322に摺接する昇降基台324とを備えている。2つの昇降基台324は粗研削手段31a及び仕上げ研削手段31bをそれぞれ支持しており、モータ323がボールネジ321を回転させると昇降基台324がガイドレール322にガイドされてZ方向に昇降し、これにともない粗研削手段31a及び仕上げ研削手段31bもZ方向に昇降する構成となっている。
As shown in FIG. 5, the rough grinding means 31a and the finish grinding means 31b are each fed in the Z direction by the grinding feed means 32. The grinding feed means 32 includes a
このように構成される研削装置1では、研削対象の被加工物Wがロードカセット211に複数収容される。ここで、被加工物Wの表面Waには、図5に示したように凹部T3が形成された保護部材Tが貼着されている。
In the grinding apparatus 1 configured in this way, a plurality of workpieces W to be ground are accommodated in the
まず、搬出入ロボット22の保持部222がロードカセット211に進入し、一枚の被加工物Wを吸着する。次に、保持部222がロードカセット211から退避し、中心合わせ手段23の載置テーブル231に、保護部材T側を上にした状態で被加工物WWを載置する。そして、すべての位置合わせ部材232が載置テーブル231の中心に向かって移動することにより、被加工物Wの中心位置が一定の位置に合わされる。
First, the holding
次に、第1搬送手段25の吸着部252が載置テーブル231に載置された被加工物Wの裏面Wbを吸着し、アーム部251の旋回により、第1搬送手段25に最も近い位置にあるチャックテーブル30の上方に被加工物Wが搬送される。そして、吸着部252が下降して吸着を解除することにより、被加工物Wの保護部材T側が保持される。
Next, the
(5)裏面研削工程
次いで、ターンテーブル27の回転によって、チャックテーブル30に保持された被加工物Wが粗研削手段31aの下方に移動する。そして、図6に示すように、チャックテーブル30を矢印A3方向に回転させ、スピンドル315を矢印A4方向に回転させるとともに研削送り手段32が粗研削手段31aを下降させ、回転する粗研削砥石314aを被加工物Wの裏面Wbに接触させて粗研削する。このとき、粗研削砥石314aの回転軌道の最外周の直径は、被加工物Wの半径よりも若干長く、粗研削砥石314aが被加工物Wの裏面Wbの中心を常に通るようにする。すなわち、粗研削砥石314aによる研削負荷は、デバイス形成領域W1とデバイス非形成領域W2の双方に対して加えられる。そして、被加工物Wが回転するため、裏面Wbの全面が粗研削されて薄化される。
(5) Backside grinding step Next, the rotation of the
被加工物Wの粗研削中は、図5に示した厚さ計測手段28の第1ゲージ281が被加工物Wの裏面に接触し、厚さ計測手段28の第2ゲージ282がチャックテーブル30の上面に接触する。そして、厚さ計測手段28は、両ゲージの高さ位置の差によって保護部材Tの厚さと被加工物Wの厚さとの合計値を求める。保護部材Tの厚さと被加工物Wの厚さとの合計値が所定の値に達すると、研削送り手段32が粗研削手段31aを上昇させ、粗研削を終了する。
During the rough grinding of the workpiece W, the
粗研削中は、粗研削砥石314aによって研削負荷をかけて被加工物Wの裏面Wb全面を研削するため、柔軟性を有する保護部材Tは、その全面が研削負荷に応じて沈み込み、これによって被加工物Wも沈み込む。しかし、保護部材Tの基材T2には凹部T3が形成されており、デバイス形成領域W1に貼着された部分の厚さは、デバイス非形成領域W2に貼着された部分より薄くなっているため、研削負荷がかけられたとき、保護部材Tのうち、デバイス形成領域W1に貼着された部分の沈み込み量は、デバイス非形成領域W2に貼着された部分の沈みこみ量より小さい。したがって、デバイス形成領域W1とデバイス非形成領域W2との間に厚さの差があるにもかかわらず、粗研削中における保護部材Tの厚さを均一にすることができ、これによって、被加工物Wの沈み込み量を均一にすることができ、被加工物Wの厚さ精度を高めることができる。すなわち、保護部材研削工程では、本工程において研削負荷をかけたときに保護部材Tの厚さが均一になるように、凹部T3の深さを調整すればよい。
During rough grinding, a grinding load is applied by the
次に、ターンテーブル27が所定角度回転することにより、粗研削された被加工物Wを保持したチャックテーブル30が仕上げ研削手段31bの下方に移動する。そして、チャックテーブル30を回転させながら、モータ312が研削ホイール311を回転させるとともに研削送り手段32が仕上げ研削手段31bを下降させ、回転する仕上げ研削砥石314bを被加工物Wの裏面に接触させて仕上げ研削する。このとき、仕上げ研削砥石314bの回転軌道の最外周の直径は、被加工物Wの半径よりも若干長く、仕上げ研削砥石314abが被加工物Wの裏面Wbの中心を常に通るようにする。すなわち、仕上げ研削砥石314bによる研削負荷は、デバイス形成領域W1とデバイス非形成領域W2の双方に対して加えられる。そして、被加工物Wが回転するため、裏面Wbの全面が仕上げ研削される。
Next, as the
仕上げ研削中は、粗研削時と同様に、厚さ計測手段28によって保護部材Tの厚さと被加工物Wの厚さとの合計値を求め、当該合計値が所定の値に達すると、研削送り手段32が仕上げ研削手段31bを上昇させ、仕上げ研削を終了する。 During finish grinding, the total value of the thickness of the protective member T and the thickness of the workpiece W is obtained by the thickness measuring means 28 as in the case of rough grinding, and when the total value reaches a predetermined value, the grinding feed is performed. The means 32 raises the finish grinding means 31b and finishes the finish grinding.
仕上げ研削中は、仕上げ研削砥石314bによって研削負荷をかけて被加工物Wの裏面Wb全面を研削するため、柔軟性を有する保護部材Tは、その全面が研削負荷に応じて沈み込み、これによって被加工物Wも沈み込む。しかし、保護部材Tの基材T2には凹部T3が形成されており、デバイス形成領域W1に貼着された部分の厚さは、デバイス非形成領域W2に貼着された部分より薄くなっているため、研削負荷がかけられたとき、保護部材Tのうち、デバイス形成領域W1に貼着された部分の沈み込み量は、デバイス非形成領域W2に貼着された部分の沈みこみ量より小さい。したがって、デバイス形成領域W1とデバイス非形成領域W2との間に厚さの差があるにもかかわらず、仕上げ研削中における保護部材Tの厚さを均一にすることができ、これによって、被加工物Wの沈み込み量を均一にすることができ、被加工物Wの厚さ精度を高めることができる。すなわち、保護部材研削工程では、本工程において研削負荷をかけたときに保護部材Tの厚さが均一になるように、凹部T3の深さを調整すればよい。
During finish grinding, a grinding load is applied by the
仕上げ研削終了後は、ターンテーブル27が所定角度回転し、仕上げ研削された被加工物Wを保持するチャックテーブル30が第2搬送手段26の近傍に移動する。そして、第2搬送手段26の吸着部262が被加工物Wの裏面Wbを吸着保持し、洗浄手段24に搬送する。そして、洗浄により研削屑等が除去された後、搬出入ロボット22の保持部222によって保護部材T側が保持され、保持部222がアンロードカセット212に進入して吸着を解除することにより、アンロードカセット212の所定のスロットに保護部材Tが貼着されたままの状態で被加工物Wが収容される。このように、ロードカセット211に収容されたすべての被加工物Wについて、同様の研削及び洗浄が行われ、アンロードカセット212に収容される。
After the finish grinding is completed, the
なお、上記実施形態では、裏面研削を粗研削と仕上げ研削との2段階に分けて行う場合について説明したが、研削は1段階のみとしてもよい。 In the above embodiment, the case where the back surface grinding is performed in two stages of rough grinding and finish grinding has been described, but the grinding may be performed in only one stage.
また、被加工物は、バンプが形成されたものでなくても、例えば、デバイス形成領域W1に形成された回路パターン等が上方に突出した凸部を有しており、その上端がデバイス非形成領域W2の上面よりも突出している被加工物であればよい。 Further, even if the workpiece is not formed with bumps, for example, the circuit pattern formed in the device forming region W1 has a convex portion in which the circuit pattern or the like protrudes upward, and the upper end thereof is not formed with the device. Any work piece may be used as long as it protrudes from the upper surface of the region W2.
W:被加工物
Wa:表面
W1:デバイス形成領域 D:デバイス L:分割予定ライン B:バンプ
W2:デバイス非形成領域
T:保護部材 T1:粘着材層 T2:基材 T2a:一方の面 T2b:他方の面
T3:凹部
1:研削装置
10:チャックテーブル 11:研削手段 12:スピンドル 13:ハウジング
14:マウント 15:研削ホイール 151:基台 152:研削砥石
20:研削装置
21:カセット載置領域 211:ロードカセット 212:アンロードカセット
22:搬出入ロボット 221:アーム部 222:保持部
23:中心合わせ手段 231:載置テーブル 232:位置合わせ部材
24:洗浄手段
25:第1搬送手段 251:アーム部 252:吸着部
26:第2搬送手段 261:アーム部 262:吸着部
27:ターンテーブル
28:厚さ計測手段
30:チャックテーブル
31a:粗研削手段 31b:仕上げ研削手段
311:研削ホイール 312:モータ 313:基台
314a:粗研削砥石 314b:仕上げ研削砥石
315:スピンドル 316:ハウジング 317:マウント
32:研削送り手段
321:ボールネジ 322:ガイドレール 323:モータ 324:昇降基台
W: Work piece Wa: Surface W1: Device forming area D: Device L: Scheduled division line B: Bump W2: Device non-forming area T: Protective member T1: Adhesive material layer T2: Base material T2a: One surface T2b: The other surface T3: Concave 1: Grinding device 10: Chuck table 11: Grinding means 12: Spindle 13: Housing 14: Mount 15: Grinding wheel 151: Base 152: Grinding wheel 20: Grinding device 21: Cassette mounting area 211 : Load cassette 212: Unload cassette 22: Carry-in / out robot 221: Arm part 222: Holding part 23: Centering means 231: Mounting table 232: Alignment member 24: Cleaning means 25: First transport means 251: Arm part 252: Suction part 26: Second transport means 261: Arm part 262: Suction part 27: Turntable 28: Thickness measuring means 30: Chuck table 31a: Rough grinding means 31b: Finish grinding means 311: Grinding wheel 312: Motor 313 :
Claims (2)
基材の一方の面に粘着材層が該凸部の高さより厚く形成された保護部材を、該凸部が該粘着材層に埋没するように被加工物の表面に貼着する保護部材貼着工程と、
該保護部材が貼着された被加工物の裏面を研削装置のチャックテーブルにおいて保持する第1保持工程と、
該保護部材のうち該デバイス形成領域に貼着された部分の基材の他方の面を研削し、該基材に該粘着材層にまで至らない凹部を形成する保護部材研削工程と、
該保護部材研削工程の実施後、該被加工物を、該保護部材を介して研削装置のチャックテーブルにおいて保持する第2保持工程と、
該チャックテーブルに保持された被加工物の裏面側を該研削装置の研削手段により研削して被加工物を所定の厚さに薄化する裏面研削工程と、
を具備し、
該裏面研削工程において、該デバイス非形成領域の沈み込みを抑制して裏面研削後の被加工物の厚さばらつきを抑制することを特徴とする
被加工物の研削方法。 The device has a device forming region on which a plurality of devices are formed and a device non-forming region surrounding the device forming region, and a convex portion formed at a position where the upper end is higher than the upper end of the device non-forming region. It is a grinding method that grinds the back surface of the workpiece in the forming area.
A protective member is attached to the surface of the workpiece so that the adhesive layer is formed thicker than the height of the convex portion on one surface of the base material so that the convex portion is buried in the adhesive layer. The landing process and
The first holding step of holding the back surface of the workpiece to which the protective member is attached on the chuck table of the grinding device, and
A protective member grinding step of grinding the other surface of the base material of the portion of the protective member attached to the device forming region to form a recess in the base material that does not reach the adhesive layer.
After performing the protective member grinding step, a second holding step of holding the workpiece on the chuck table of the grinding device via the protective member, and
A back surface grinding step of grinding the back surface side of the workpiece held on the chuck table by the grinding means of the grinding device to thin the workpiece to a predetermined thickness.
Equipped with
A method for grinding a workpiece, which comprises suppressing subduction of the device non-forming region in the back surface grinding step and suppressing variation in thickness of the workpiece after back surface grinding.
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