JP7020848B2

JP7020848B2 - Liquefied gas supply device

Info

Publication number: JP7020848B2
Application number: JP2017192460A
Authority: JP
Inventors: 直弘三谷; 恭司郎井上; 秀昭近藤; 顕嘉岸本; 龍一広谷; 亘玉谷
Original assignee: Toyota Motor Corp; Iwatani Corp
Current assignee: Toyota Motor Corp; Iwatani Corp
Priority date: 2017-10-02
Filing date: 2017-10-02
Publication date: 2022-02-16
Anticipated expiration: 2037-10-02
Also published as: JP2019065975A

Description

本発明は、液化ガスの供給装置に関する。 The present invention relates to a liquefied gas supply device.

従来、貯槽に貯留されている液化ガスは、圧送により供給配管を介して高圧ガスタンク等のガス供給先に供給される。液化ガスの圧送には、液体ポンプ（以下、「ＲＰ（ＲｅｃｉｐｒｏｃａｔｉｏｎｇＰｕｍｐ）」とも呼ぶ）が用いられる。液体ポンプは、貯槽からガス供給先に延びる供給配管の途中に配設される。また、貯槽と液体ポンプの間には補助ポンプ（以下、「ＢＰ（ＢｏｏｓｔｅｒＰｕｍｐ）」とも呼ぶ）が配設される。補助ポンプは、貯槽から供給される液化ガスの圧力を昇圧して下流側へ圧送する。また、液体ポンプおよび補助ポンプは、液化ガスの圧送のための起動時において予冷される。この予冷は、貯槽の液化ガスが、貯槽内の貯留内圧と液体ポンプを含む管路内の圧力との差圧にて送り込まれることによってなされている。また、予冷がなされている期間において、予冷のために管路に供給された液化ガスは大気中に放出される。特許文献１では、補助ポンプには、小熱容量のガスポンプが適用されている。これにより、補助ポンプの予冷に必要な熱容量が低減されている。従って、補助ポンプは迅速に予冷され、予冷に使用される液化ガスの使用量が低減されている。 Conventionally, the liquefied gas stored in the storage tank is supplied to a gas supply destination such as a high-pressure gas tank via a supply pipe by pressure feeding. A liquid pump (hereinafter, also referred to as "RP (Condensation Pump)") is used for pumping the liquefied gas. The liquid pump is arranged in the middle of the supply pipe extending from the storage tank to the gas supply destination. Further, an auxiliary pump (hereinafter, also referred to as "BP (Booster Pump)") is arranged between the storage tank and the liquid pump. The auxiliary pump boosts the pressure of the liquefied gas supplied from the storage tank and pumps it downstream. Also, the liquid pump and auxiliary pump are precooled at start-up for pumping the liquefied gas. This precooling is performed by feeding the liquefied gas in the storage tank by the differential pressure between the internal pressure in the storage tank and the pressure in the pipeline including the liquid pump. Further, during the precooling period, the liquefied gas supplied to the pipeline for precooling is released into the atmosphere. In Patent Document 1, a gas pump having a small heat capacity is applied to the auxiliary pump. This reduces the heat capacity required for precooling the auxiliary pump. Therefore, the auxiliary pump is rapidly pre-cooled, and the amount of liquefied gas used for pre-cooling is reduced.

特開２０１５－７８７１９号公報JP-A-2015-78719 特開２０１７－８２８９９号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-82899 特開２００８－７５７０５号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-75705

例えば、設備が異常停止されたり、ガス供給先へのガス供給が完了して設備全体が停止されたりする場合、液化ガスの供給は停止される。そのため、停止した設備が再起動されるまでの期間、供給配管、補助ポンプおよび液体ポンプの温度は上昇し、予冷が再度必要とされる。また、予冷がなされている期間において、予冷のために管路に供給された液化ガスは、大気中に放出される。このため、設備を再起動する場合、液体ポンプの予冷のために、ガスの大気中への放出量が増大し、ガスの消費量が大きくなる。 For example, when the equipment is abnormally stopped, or when the gas supply to the gas supply destination is completed and the entire equipment is stopped, the supply of liquefied gas is stopped. Therefore, the temperature of the supply pipe, the auxiliary pump and the liquid pump rises until the stopped equipment is restarted, and precooling is required again. Further, during the precooling period, the liquefied gas supplied to the pipeline for precooling is released into the atmosphere. Therefore, when the equipment is restarted, the amount of gas released into the atmosphere increases due to the precooling of the liquid pump, and the amount of gas consumed increases.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
［形態１］
本開示の一形態によれば、液化ガスの供給装置が提供される。この液化ガスの供給装置は、前記液化ガスを貯留する貯槽と、前記貯槽からガス供給先である高圧ガスタンクに前記液化ガスを流通させるガス配管と、前記ガス配管に設けられ、前記液化ガスを昇圧して送出する補助ポンプと、前記補助ポンプよりも前記高圧ガスタンク側の前記ガス配管に設けられ、前記液化ガスを昇圧して送出することにより前記高圧ガスタンクに前記液化ガスを供給する液体ポンプと、前記ガス配管内における前記液化ガスの流通を制御する制御部と、を備える。前記ガス配管は、前記液体ポンプから前記高圧ガスタンクに前記液化ガスを流通させる供給配管と、前記供給配管に接続され、前記供給配管内の前記液化ガスを大気へ放出する放出ラインと、前記放出ラインの接続部分よりも前記高圧ガスタンク側の前記供給配管に設けられた第一のバルブと、前記放出ラインにおける前記液化ガスの流量を調整する第二のバルブと、前記第二のバルブよりも上流側に配置され、前記供給配管内の前記液化ガスの温度を検出する温度センサーと、前記第二のバルブよりも上流側に配置され、前記供給配管内の前記液化ガスの圧力を検出する圧力センサーと、を備える。前記制御部は、前記第一のバルブを開け、前記第二のバルブを閉じている第一のモードであって、前記液体ポンプによって前記高圧ガスタンクに前記液化ガスの供給を行う第一のモードと、前記第一のバルブを閉じている第二のモードであって、前記液体ポンプを停止して前記補助ポンプにより前記液化ガスを前記供給配管へ供給し、前記温度センサーおよび前記圧力センサーの検出値が予め定められた範囲内となるように前記第二のバルブを制御する第二のモードと、を備える。 The present invention has been made to solve at least a part of the above-mentioned problems, and can be realized as the following form or application example.
[Form 1]
According to one embodiment of the present disclosure, a liquefied gas supply device is provided. The liquefied gas supply device is provided in a storage tank for storing the liquefied gas, a gas pipe for flowing the liquefied gas from the storage tank to a high-pressure gas tank to which the gas is supplied, and a gas pipe for boosting the liquefied gas. A liquid pump provided in the gas pipe on the high-pressure gas tank side of the auxiliary pump and supplying the liquefied gas to the high-pressure gas tank by boosting the liquefied gas and sending the liquefied gas. A control unit for controlling the flow of the liquefied gas in the gas pipe is provided. The gas pipe includes a supply pipe for flowing the liquefied gas from the liquid pump to the high-pressure gas tank, a discharge line connected to the supply pipe and discharging the liquefied gas in the supply pipe to the atmosphere, and the discharge line. A first valve provided in the supply pipe on the high-pressure gas tank side of the connection portion, a second valve for adjusting the flow rate of the liquefied gas in the discharge line, and an upstream side of the second valve. A temperature sensor arranged in the supply pipe to detect the temperature of the liquefied gas in the supply pipe, and a pressure sensor arranged on the upstream side of the second valve to detect the pressure of the liquefied gas in the supply pipe. , Equipped with. The control unit is a first mode in which the first valve is opened and the second valve is closed, and is a first mode in which the liquefied gas is supplied to the high pressure gas tank by the liquid pump. In the second mode in which the first valve is closed, the liquid pump is stopped and the liquefied gas is supplied to the supply pipe by the auxiliary pump, and the detection values of the temperature sensor and the pressure sensor are used. A second mode is provided in which the second valve is controlled so as to be within a predetermined range.

本開示の一形態によれば、液化ガスの供給装置が提供される。この液化ガスの供給装置は：液化ガスを貯留する貯槽と；前記貯槽からガス供給先に前記液化ガスを流通させるガス配管と；前記ガス配管に設けられ、前記液化ガスを昇圧して送出する補助ポンプと；前記補助ポンプよりも前記ガス供給先側の前記ガス配管に設けられ、前記液化ガスを昇圧して送出することにより前記ガス供給先に前記液化ガスを供給する液体ポンプと；前記ガス配管内における前記液化ガスの流通を制御する制御部と、を備え；前記ガス配管は：前記液体ポンプから前記ガス供給先に前記液化ガスを流通させる供給配管と；前記供給配管に接続され、前記供給配管内の前記液化ガスを大気へ放出する放出ラインと；前記放出ラインの接続部分よりも前記ガス供給先側の前記供給配管に設けられた第一のバルブと；前記供給配管内の前記液化ガスの温度を検出する温度センサーと；前記供給配管内の前記液化ガスの圧力を検出する圧力センサーと；前記放出ラインにおける前記液化ガスの流量を調整する第二のバルブと；を備え；前記制御部は：前記第一のバルブを開け、前記第二のバルブを閉じている第一のモードであって、前記液体ポンプによって前記ガス供給先に前記液化ガスの供給を行う第一のモードと；前記第一のバルブを閉じている第二のモードであって、前記液体ポンプを停止して前記補助ポンプにより前記液化ガスを前記供給配管へ供給し、前記温度センサーおよび前記圧力センサーの検出値が予め定められた範囲内となるように前記第二のバルブを制御する第二のモードと；を切り替えて実行する。
このような形態とすることにより、ガス供給先にガスを供給していない期間、液化ガスの圧送が継続されることによって、ガス配管やポンプ等の温度の上昇は抑制される。従って、補助ポンプや液体ポンプを再起動する場合に必要とされる予冷は、行われる必要がなくなる。また、これにより、設備稼働率が向上される。 According to one embodiment of the present disclosure, a liquefied gas supply device is provided. The liquefied gas supply device is: a storage tank for storing the liquefied gas; a gas pipe for flowing the liquefied gas from the storage tank to the gas supply destination; A pump; a liquid pump provided in the gas pipe on the gas supply destination side of the auxiliary pump and supplying the liquefied gas to the gas supply destination by boosting and delivering the liquefied gas; the gas pipe A control unit for controlling the flow of the liquefied gas in the inside; the gas pipe: a supply pipe for flowing the liquefied gas from the liquid pump to the gas supply destination; and the supply pipe connected to the supply pipe. A discharge line that discharges the liquefied gas into the atmosphere in the pipe; a first valve provided in the supply pipe on the gas supply destination side of the connection portion of the discharge line; and the liquefied gas in the supply pipe. A temperature sensor for detecting the temperature of the liquefied gas; a pressure sensor for detecting the pressure of the liquefied gas in the supply pipe; a second valve for adjusting the flow rate of the liquefied gas in the discharge line; Is a first mode in which the first valve is opened and the second valve is closed, wherein the liquefied gas is supplied to the gas supply destination by the liquid pump; In the second mode in which the first valve is closed, the liquid pump is stopped and the liquefied gas is supplied to the supply pipe by the auxiliary pump, and the detection values of the temperature sensor and the pressure sensor are set in advance. The second mode for controlling the second valve and; are switched and executed so as to be within the specified range.
With such a form, the pressure feeding of the liquefied gas is continued during the period when the gas is not supplied to the gas supply destination, so that the temperature rise of the gas pipe, the pump, or the like is suppressed. Therefore, the precooling required when restarting the auxiliary pump or the liquid pump does not need to be performed. In addition, this improves the equipment utilization rate.

上述した本発明の各形態の有する複数の構成要素はすべてが必須のものではなく、上述の課題の一部または全部を解決するため、あるいは、本明細書に記載された効果の一部または全部を達成するために、適宜、前記複数の構成要素の一部の構成要素について、その変更、削除、新たな他の構成要素との差し替え、限定内容の一部削除を行うことが可能である。また、上述の課題の一部または全部を解決するため、あるいは、本明細書に記載された効果の一部または全部を達成するために、上述した本発明の一形態に含まれる技術的特徴の一部または全部を上述した本発明の他の形態に含まれる技術的特徴の一部または全部と組み合わせて、本発明の独立した一形態とすることも可能である。 The plurality of components of each embodiment of the invention described above are not all essential, and may be used to solve some or all of the above-mentioned problems, or part or all of the effects described herein. In order to achieve the above, it is possible to change, delete, replace a part of the plurality of components with new other components, and partially delete the limited contents, as appropriate. Further, in order to solve a part or all of the above-mentioned problems, or to achieve a part or all of the effects described in the present specification, the technical features included in the above-mentioned embodiment of the present invention. It is also possible to combine some or all with some or all of the technical features contained in the other embodiments of the invention described above to form an independent embodiment of the invention.

本開示の一実施形態である液化ガスの供給装置１の説明図である。It is explanatory drawing of the liquefied gas supply device 1 which is one Embodiment of this disclosure. ガス供給先４１へ液化ガスが供給されている状態を表す説明図である。It is explanatory drawing which shows the state which the liquefied gas is supplied to the gas supply destination 41. 液化ガスが放出ライン３０を流通して大気中に放出されている状態を表す説明図である。It is explanatory drawing which shows the state which the liquefied gas flows through the discharge line 30 and is released into the atmosphere. ガス供給先４ｉへ液化ガスが供給されている状態を表す説明図である。It is explanatory drawing which shows the state which the liquefied gas is supplied to the gas supply destination 4i. 予冷およびガス供給の制御における処理内容を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the processing content in the control of precooling and gas supply. 制御部５が実行するバルブとポンプの制御を表す表である。It is a table which shows the control of a valve and a pump executed by a control unit 5. ガス供給先の段取り替え処理を制御部５が実行するフローチャートである。It is a flowchart in which the control unit 5 executes the setup change process of a gas supply destination.

Ａ．実施形態：
図１は、本開示の一実施形態である液化ガスの供給装置１の説明図である。液化ガスの供給装置１は、貯槽１００と、補助ポンプ２と、液体ポンプ３と、ガス配管２００と、制御部５と、を有する。ガス配管２００は、第一の供給流路１０と、第一の予冷流路１１と、第二の供給流路２０と、第二の予冷流路２１と、放出ライン３０と、を有する。また、ガス配管２００には、それぞれ流量を調整する機能を有する複数のバルブが備えられている。各バルブは制御部５の制御によって、それぞれの管路の液化ガスの流量を調整する。 A. Embodiment:
FIG. 1 is an explanatory diagram of a liquefied gas supply device 1 according to an embodiment of the present disclosure. The liquefied gas supply device 1 includes a storage tank 100, an auxiliary pump 2, a liquid pump 3, a gas pipe 200, and a control unit 5. The gas pipe 200 has a first supply flow path 10, a first pre-cooling flow path 11, a second supply flow path 20, a second pre-cooling flow path 21, and a discharge line 30. Further, the gas pipe 200 is provided with a plurality of valves each having a function of adjusting the flow rate. Each valve adjusts the flow rate of the liquefied gas in each pipeline under the control of the control unit 5.

貯槽１００は、予め定められた貯留圧力によって、液相と気相とが混在する飽和状態にされた窒素を、液化ガスとして貯留している。貯槽１００は、第一の供給流路１０によって、液体ポンプ３と繋がれている。また、第一の供給流路１０には、補助ポンプ２が配設されている。なお、本実施形態において、技術の理解を容易にするため、液相のみの状態、気相のみの状態、もしくは液相と気相とが混在する状態を、いずれも「液化ガス」と表記する。 The storage tank 100 stores nitrogen as a liquefied gas, which is saturated with a mixture of a liquid phase and a gas phase by a predetermined storage pressure. The storage tank 100 is connected to the liquid pump 3 by the first supply flow path 10. Further, an auxiliary pump 2 is arranged in the first supply flow path 10. In the present embodiment, in order to facilitate the understanding of the technology, the state of only the liquid phase, the state of only the gas phase, or the state in which the liquid phase and the gas phase coexist are all referred to as "liquefied gas". ..

補助ポンプ２は、貯槽１００から供給される液化ガスの圧力を昇圧して、下流側にある液体ポンプ３に送出する。液体ポンプ３は、補助ポンプ２から供給された液化ガスを、ガス供給先４へのガス充填に適合した圧力まで昇圧して、下流側に送出する。 The auxiliary pump 2 boosts the pressure of the liquefied gas supplied from the storage tank 100 and sends it to the liquid pump 3 on the downstream side. The liquid pump 3 boosts the liquefied gas supplied from the auxiliary pump 2 to a pressure suitable for filling the gas supply destination 4, and sends the liquefied gas to the downstream side.

第一の供給流路１０には、上流流路１０ａと中間流路１０ｂが含まれる。上流流路１０ａは、貯槽１００と補助ポンプ２とを繋いでいる。また、上流流路１０ａにはバルブＶａが配設されている。中間流路１０ｂは、補助ポンプ２と液体ポンプ３とを繋いでいる。中間流路１０ｂにはバルブＶｂが配設されている。また、中間流路１０ｂのうち補助ポンプ２とバルブＶｂを繋ぐ管路には第一の予冷流路１１が接続されている。 The first supply flow path 10 includes an upstream flow path 10a and an intermediate flow path 10b. The upstream flow path 10a connects the storage tank 100 and the auxiliary pump 2. Further, a valve Va is arranged in the upstream flow path 10a. The intermediate flow path 10b connects the auxiliary pump 2 and the liquid pump 3. A valve Vb is arranged in the intermediate flow path 10b. Further, the first precooling flow path 11 is connected to the pipeline connecting the auxiliary pump 2 and the valve Vb in the intermediate flow path 10b.

第一の予冷流路１１には、バルブＶｃが配設されている。第一の予冷流路１１の管路内の液化ガスや気化ガスを大気中に放出するため、第一の予冷流路１１の他端は屋外に位置している。 A valve Vc is arranged in the first precooling flow path 11. The other end of the first pre-cooling flow path 11 is located outdoors in order to release the liquefied gas and the vaporized gas in the pipeline of the first pre-cooling flow path 11 into the atmosphere.

第二の供給流路２０は、液体ポンプ３とガス供給先４を繋ぐ液化ガスの供給配管である。本実施形態において、液化ガスの供給装置１には、複数のガス供給先４が繋げられることができ、ｎ本（ｎは正の整数）のガス供給先４が繋げられることができる。第二の供給流路２０には、下流流路２０ａと調節流路２０ｂが含まれる。下流流路２０ａの一端は、液体ポンプ３と接続されている。また、下流流路２０ａは複数の流路に分岐されており、分岐されたそれぞれの下流流路２０ａの端部とガス供給先４が繋がれる。調節流路２０ｂは、一端が下流流路２０ａに接続され、他端は放出ライン３０と接続されている。 The second supply flow path 20 is a liquefied gas supply pipe that connects the liquid pump 3 and the gas supply destination 4. In the present embodiment, a plurality of gas supply destinations 4 can be connected to the liquefied gas supply device 1, and n gas supply destinations 4 (n is a positive integer) can be connected. The second supply flow path 20 includes a downstream flow path 20a and a control flow path 20b. One end of the downstream flow path 20a is connected to the liquid pump 3. Further, the downstream flow path 20a is branched into a plurality of flow paths, and the end of each of the branched downstream flow paths 20a is connected to the gas supply destination 4. One end of the adjusting flow path 20b is connected to the downstream flow path 20a, and the other end is connected to the discharge line 30.

ガス供給先４は、例えば高圧ガスタンクであり、高圧ガスタンクが有する口金バルブと下流流路２０ａが接続される。それぞれのガス供給先４は、後述する方法によって、気化ガスを順次に充填される。本明細書においては、例えば、ｎ本目のガス供給先はガス供給先４ｎと表記し、ｉ本目のガス供給先はガス供給先４ｉ（ｉは１からｎまでの整数）と表記する。 The gas supply destination 4 is, for example, a high-pressure gas tank, and the base valve of the high-pressure gas tank and the downstream flow path 20a are connected to each other. Each gas supply destination 4 is sequentially filled with vaporized gas by a method described later. In the present specification, for example, the nth gas supply destination is described as a gas supply destination 4n, and the i-th gas supply destination is described as a gas supply destination 4i (i is an integer from 1 to n).

下流流路２０ａには、バルブＶｄと、第一のバルブＶ１が配設されている。第一のバルブＶ１として、先述した複数のガス供給先４の数に応じて複数のバルブＶ１が配設されている。バルブＶｄは、後述する第二の予冷流路２１と下流流路２０ａが接続された分岐よりも下流側であって、下流流路２０ａが有するその他の分岐よりも上流側である下流流路２０ａに配設されている。バルブＶｄが開放されることにより、下流流路２０ａおよび調節流路２０ｂに、液化ガスが供給される。第一のバルブＶ１は、下流流路２０ａのうち、各ガス供給先４と繋がれる端部より上流側であって、各ガス供給先４と繋がれる端部を有する流路への分岐よりも下流側に、配設されている。また、第一のバルブＶ１は、ガス供給先４ごとに配設されている。例えば、下流流路２０ａのうち、ｎ本目のガス供給先であるガス供給先４ｎの上流側の位置に配設されるバルブＶ１をバルブＶ１ｎと表記し、ｉ本目のガス供給先であるガス供給先４ｉの上流側の位置に配設されるバルブＶ１をバルブＶ１ｉと表記する。バルブＶ１ｉが開放されることにより、ガス供給先４ｉに気化ガスが供給される。 A valve Vd and a first valve V1 are arranged in the downstream flow path 20a. As the first valve V1, a plurality of valves V1 are arranged according to the number of the plurality of gas supply destinations 4 described above. The valve Vd is on the downstream side of the branch to which the second precooling flow path 21 and the downstream flow path 20a, which will be described later, are connected, and is on the upstream side of the other branches of the downstream flow path 20a. It is arranged in. When the valve Vd is opened, the liquefied gas is supplied to the downstream flow path 20a and the control flow path 20b. The first valve V1 is on the upstream side of the downstream flow path 20a from the end connected to each gas supply destination 4, and is more than a branch to a flow path having an end connected to each gas supply destination 4. It is arranged on the downstream side. Further, the first valve V1 is arranged for each gas supply destination 4. For example, in the downstream flow path 20a, the valve V1 arranged at the position on the upstream side of the gas supply destination 4n which is the nth gas supply destination is referred to as a valve V1n, and the gas supply which is the i-th gas supply destination. The valve V1 arranged at the position on the upstream side of the tip 4i is referred to as a valve V1i. When the valve V1i is opened, the vaporized gas is supplied to the gas supply destination 4i.

下流流路２０ａには、第二の予冷流路２１が接続されている。具体的には、第二の予冷流路２１は、下流流路２０ａのうち、液体ポンプ３とバルブＶｄの間の下流流路２０ａに接続されている。 A second precooling flow path 21 is connected to the downstream flow path 20a. Specifically, the second precooling flow path 21 is connected to the downstream flow path 20a between the liquid pump 3 and the valve Vd in the downstream flow path 20a.

第二の予冷流路２１には、バルブＶｅが配設されている。第二の予冷流路２１の管路内の液化ガスを大気中に放出するため、第二の予冷流路２１の他端は屋外に位置している。 A valve Ve is arranged in the second precooling flow path 21. The other end of the second precooling flow path 21 is located outdoors in order to release the liquefied gas in the pipeline of the second precooling flow path 21 into the atmosphere.

調節流路２０ｂには、第二のバルブＶ２、圧力センサー６および温度センサー７が配設されている。第二のバルブＶ２は、第二の供給流路２０（調節流路２０ｂ）と放出ライン３０が接続されている箇所に配されている。第二のバルブＶ２が開放されることにより、調節流路２０ｂから放出ライン３０に液化ガスが供給される。圧力センサー６は、第二の供給流路２０内の液化ガスの圧力を計測する。温度センサー７は、第二の供給流路２０内の液化ガスの温度を計測する。 A second valve V2, a pressure sensor 6, and a temperature sensor 7 are arranged in the adjustment flow path 20b. The second valve V2 is arranged at a position where the second supply flow path 20 (adjustment flow path 20b) and the discharge line 30 are connected. When the second valve V2 is opened, the liquefied gas is supplied from the control flow path 20b to the discharge line 30. The pressure sensor 6 measures the pressure of the liquefied gas in the second supply flow path 20. The temperature sensor 7 measures the temperature of the liquefied gas in the second supply flow path 20.

制御部５は、例えばＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭを備えるコンピュータによって構成されている。制御部５は、装置内の温度センサー、圧力センサーからの入力を受けて、バルブの開閉やポンプの出力を制御する。バルブを制御することによって、液化ガスの流路を切り替えることができる。また、制御部５は、流路の切り替えに伴い、ポンプの出力を切り替えることができる。 The control unit 5 is composed of, for example, a computer including a CPU, a ROM, and a RAM. The control unit 5 receives inputs from the temperature sensor and the pressure sensor in the device, and controls the opening / closing of the valve and the output of the pump. By controlling the valve, the flow path of the liquefied gas can be switched. Further, the control unit 5 can switch the output of the pump as the flow path is switched.

図２は、貯槽１００からガス供給先４１へ液化ガスが供給されている状態を表す説明図である。破線で示された矢印Ｔ１および矢印Ｔ２は、液化ガスの流れを模式的に表している。矢印Ｔ１は、貯槽１００から液体ポンプ３へ供給される液化ガスの流れを示している。具体的には、貯槽１００の底面に接続された上流流路１０ａを流通して液化ガスが補助ポンプ２に供給される。補助ポンプ２に供給された液化ガスは、下流側に圧送され、中間流路１０ｂを流通して液体ポンプ３へ供給される。 FIG. 2 is an explanatory diagram showing a state in which liquefied gas is supplied from the storage tank 100 to the gas supply destination 41. Arrows T1 and T2 shown by broken lines schematically represent the flow of liquefied gas. The arrow T1 indicates the flow of the liquefied gas supplied from the storage tank 100 to the liquid pump 3. Specifically, the liquefied gas is supplied to the auxiliary pump 2 through the upstream flow path 10a connected to the bottom surface of the storage tank 100. The liquefied gas supplied to the auxiliary pump 2 is pressure-fed to the downstream side, flows through the intermediate flow path 10b, and is supplied to the liquid pump 3.

矢印Ｔ２は、液体ポンプ３からガス供給先４１へ供給される液化ガスおよびガスの流れを示している。ガスが供給されるガス供給先４１の上流側に配されたバルブＶ１１は開放され、バルブＶ１１以外のバルブＶ１は閉弁されている。液体ポンプ３の上流側から液体ポンプ３へ供給された液化ガスは、液体ポンプ３によって昇圧される。昇圧された液化ガスは、液体ポンプ３の下流側である下流流路２０ａに送出されてガス供給先４１に供給される。なお、液化ガスは、調節流路２０ｂにも供給されている。 The arrow T2 indicates the liquefied gas and the flow of the gas supplied from the liquid pump 3 to the gas supply destination 41. The valve V11 arranged on the upstream side of the gas supply destination 41 to which the gas is supplied is opened, and the valves V1 other than the valve V11 are closed. The liquefied gas supplied from the upstream side of the liquid pump 3 to the liquid pump 3 is boosted by the liquid pump 3. The boosted liquefied gas is sent to the downstream flow path 20a on the downstream side of the liquid pump 3 and supplied to the gas supply destination 41. The liquefied gas is also supplied to the control flow path 20b.

図３は、液化ガスが放出ライン３０を流通して大気中に放出されている状態を表す説明図である。放出ライン３０を流通させた液化ガスの大気中への放出は、ガス供給先４に供給していない場合（例えば、ガス供給先４を段取り替えする場合や設備が異常停止された場合等）に行われる。矢印Ｔ３は、貯槽１００から補助ポンプ２へ供給される液化ガスの流れを示している。矢印Ｔ４は、補助ポンプ２によって、大気中に放出される液化ガスの流れを示している。なお、図３において、後述される通り、液体ポンプ３は停止されている。また、すべてのバルブＶ１は閉弁され、バルブＶ２が開弁されている。液化ガスは、補助ポンプ２によって中間流路１０ｂおよび液体ポンプ３を経由して、下流流路２０ａに圧送される。液化ガスは、ガス供給先４に供給されず、液体ポンプ３を冷却しつつ調節流路２０ｂを経由して放出ライン３０を流通し、大気中に放出される。 FIG. 3 is an explanatory diagram showing a state in which the liquefied gas flows through the discharge line 30 and is released into the atmosphere. When the liquefied gas circulated through the discharge line 30 is not supplied to the gas supply destination 4 (for example, when the gas supply destination 4 is changed or the equipment is abnormally stopped). Will be done. The arrow T3 indicates the flow of the liquefied gas supplied from the storage tank 100 to the auxiliary pump 2. The arrow T4 indicates the flow of the liquefied gas released into the atmosphere by the auxiliary pump 2. In FIG. 3, as will be described later, the liquid pump 3 is stopped. Further, all valves V1 are closed and valves V2 are opened. The liquefied gas is pumped by the auxiliary pump 2 to the downstream flow path 20a via the intermediate flow path 10b and the liquid pump 3. The liquefied gas is not supplied to the gas supply destination 4, but flows through the discharge line 30 via the control flow path 20b while cooling the liquid pump 3 and is discharged into the atmosphere.

図４は、貯槽１００からガス供給先４ｉへ液化ガスが供給されている状態を表す説明図である。矢印Ｔ５は、貯槽１００から液体ポンプ３へ供給される液化ガスの流れを示している。矢印Ｔ６は、液体ポンプ３からガス供給先４ｉへ供給される液化ガスの流れを示している。ガスが供給されるガス供給先４ｉの上流側に配されたバルブＶ１ｉは開弁される。また、バルブＶ１ｉ以外のバルブＶ１は閉弁されている。液体ポンプ３によって送出された液化ガスは、下流流路２０ａを介して、ガス供給先４ｉに供給される。また、ガス供給先４ｎにガスが供給される場合も上記と同様に行われる。なお、液化ガスは、調節流路２０ｂにも供給されている。 FIG. 4 is an explanatory diagram showing a state in which liquefied gas is supplied from the storage tank 100 to the gas supply destination 4i. The arrow T5 indicates the flow of the liquefied gas supplied from the storage tank 100 to the liquid pump 3. The arrow T6 indicates the flow of the liquefied gas supplied from the liquid pump 3 to the gas supply destination 4i. The valve V1i arranged on the upstream side of the gas supply destination 4i to which the gas is supplied is opened. Further, the valves V1 other than the valves V1i are closed. The liquefied gas delivered by the liquid pump 3 is supplied to the gas supply destination 4i via the downstream flow path 20a. Further, when the gas is supplied to the gas supply destination 4n, the same procedure as described above is performed. The liquefied gas is also supplied to the control flow path 20b.

図５は、バルブ制御とポンプ制御を介して実行される予冷、ガス供給の制御における処理内容を示すフローチャートである。 FIG. 5 is a flowchart showing the processing contents in the precooling and gas supply control executed via the valve control and the pump control.

図６は、制御部５が実行するバルブとポンプの制御を表す表である。以下、図５および図６を参照して、制御部５によって実行される液化ガスの供給装置１の制御について説明する。 FIG. 6 is a table showing the control of the valve and the pump executed by the control unit 5. Hereinafter, the control of the liquefied gas supply device 1 executed by the control unit 5 will be described with reference to FIGS. 5 and 6.

設備起動時において、例えばポンプ内部のキャビテーションを抑制するため、補助ポンプ２および液体ポンプ３の予冷を行う必要がある。ステップＳ１００は、液化ガスの供給装置１の起動時における、補助ポンプ２および液体ポンプ３を予冷する工程である。補助ポンプ２の予冷は、貯槽１００に貯留されている液化ガスが第一の予冷流路１１を流通されることによって実行される（図２参照）。また、液体ポンプ３の予冷は、液化ガスが第二の予冷流路２１を流通されることによって実行される（図２参照）。なお、初期状態において、バルブＶｃおよびバルブＶｅは開弁されている（図６参照）。 At the time of starting the equipment, for example, in order to suppress cavitation inside the pump, it is necessary to precool the auxiliary pump 2 and the liquid pump 3. Step S100 is a step of precooling the auxiliary pump 2 and the liquid pump 3 at the time of starting the liquefied gas supply device 1. The precooling of the auxiliary pump 2 is executed by the liquefied gas stored in the storage tank 100 flowing through the first precooling flow path 11 (see FIG. 2). Further, the precooling of the liquid pump 3 is executed by the liquefied gas flowing through the second precooling flow path 21 (see FIG. 2). In the initial state, the valves Vc and Ve are opened (see FIG. 6).

ステップＳ１１０において、制御部５は、バルブＶａの開弁を実行する。なお、あらかじめバルブＶｃは開弁され、バルブＶｂは閉弁されている。ステップＳ１１０における各バルブおよび各ポンプの状態を図６のＳ１１０の行に示す。これにより、貯槽１００に貯留されている低温の液化ガスは、貯槽１００の内圧と上流流路１０ａとの差圧によって圧送される。圧送された低温の液化ガスは、上流流路１０ａを流通し補助ポンプ２に供給される（図２参照）。 In step S110, the control unit 5 executes valve opening of the valve Va. The valve Vc is opened and the valve Vb is closed in advance. The state of each valve and each pump in step S110 is shown in the row of S110 in FIG. As a result, the low-temperature liquefied gas stored in the storage tank 100 is pressure-fed by the differential pressure between the internal pressure of the storage tank 100 and the upstream flow path 10a. The pumped low-temperature liquefied gas flows through the upstream flow path 10a and is supplied to the auxiliary pump 2 (see FIG. 2).

ステップＳ１２０において、停止状態の補助ポンプ２の予冷は、上述の液化ガスの供給によって開始される。なお、バルブＶｃは開弁され、バルブＶｂは閉弁されている。ステップＳ１２０および後述するステップＳ１３０における各バルブおよび各ポンプの状態を図６のＳ１２０、Ｓ１３０の行に示す。補助ポンプ２を予冷している期間、液化ガスは、補助ポンプ２を冷却することによって気化され気液混合流体になる。気液混合流体になった液化ガスは、第一の予冷流路１１およびバルブＶｃを流通して大気中に放出される（図２参照）。制御部５は、補助ポンプ２の下流に設けられた温度センサー（図示しない）の温度の検出値を繰り返し読み込む。 In step S120, the precooling of the stopped auxiliary pump 2 is started by the supply of the above-mentioned liquefied gas. The valve Vc is opened and the valve Vb is closed. The states of each valve and each pump in step S120 and step S130 described later are shown in the rows of S120 and S130 in FIG. During the period during which the auxiliary pump 2 is precooled, the liquefied gas is vaporized by cooling the auxiliary pump 2 to become a gas-liquid mixture fluid. The liquefied gas that has become a gas-liquid mixture fluid flows through the first precooling flow path 11 and the valve Vc and is released into the atmosphere (see FIG. 2). The control unit 5 repeatedly reads the temperature detection value of the temperature sensor (not shown) provided downstream of the auxiliary pump 2.

ステップＳ１３０において、温度センサーによって検出された温度が、予め定められた温度より低温である状態が、予め定められた期間において維持されると、制御部５は、補助ポンプ２を起動する。 In step S130, when the temperature detected by the temperature sensor is maintained at a temperature lower than the predetermined temperature for a predetermined period, the control unit 5 activates the auxiliary pump 2.

ステップＳ１４０において、制御部５は、バルブＶｃの閉弁およびバルブＶｂの開弁を実行する制御を行う。なお、あらかじめバルブＶｄは閉弁され、バルブＶｅは開弁されている。ステップＳ１４０および後述するステップＳ１５０における各バルブおよび各ポンプの状態を図６のＳ１４０、Ｓ１５０の行に示す。ステップＳ１３０にて起動された補助ポンプ２は、液化ガスを補助ポンプ２の下流側にある中間流路１０ｂに圧送する。補助ポンプ２によって圧送された液化ガスは、中間流路１０ｂを流通し液体ポンプ３に供給される（図２参照）。上述の液化ガスの供給によって停止状態の液体ポンプ３の予冷が開始される。 In step S140, the control unit 5 controls to close the valve Vc and open the valve Vb. The valve Vd is closed and the valve Ve is opened in advance. The states of each valve and each pump in step S140 and step S150 described later are shown in the rows of S140 and S150 in FIG. The auxiliary pump 2 activated in step S130 pumps the liquefied gas to the intermediate flow path 10b on the downstream side of the auxiliary pump 2. The liquefied gas pumped by the auxiliary pump 2 flows through the intermediate flow path 10b and is supplied to the liquid pump 3 (see FIG. 2). Pre-cooling of the stopped liquid pump 3 is started by the supply of the above-mentioned liquefied gas.

液体ポンプ３を予冷している間、液化ガスは、液体ポンプ３を冷却することによって気化され気液混合流体になる。気液混合流体になった液化ガスは、第二の予冷流路２１およびバルブＶｅを流通して大気中へ放出される（図２参照）。制御部５は、液体ポンプ３の下流に設けられた温度センサー（図示しない）による温度の検出値を繰り返し読み込む。 While the liquid pump 3 is precooled, the liquefied gas is vaporized by cooling the liquid pump 3 to become a gas-liquid mixture fluid. The liquefied gas that has become a gas-liquid mixture fluid flows through the second precooling flow path 21 and the valve Ve and is released into the atmosphere (see FIG. 2). The control unit 5 repeatedly reads the temperature detection value by the temperature sensor (not shown) provided downstream of the liquid pump 3.

ステップＳ１５０において、温度センサーによる温度の検出値が、予め定められた温度より低温である状態が、予め定められた期間において維持されると、制御部５は、液体ポンプ３を起動する。 In step S150, when the state in which the temperature detected by the temperature sensor is lower than the predetermined temperature is maintained for a predetermined period, the control unit 5 starts the liquid pump 3.

ステップＳ２００は、ガス供給先４へガスを供給する工程である。液化ガスの供給装置１において複数設けられているガス供給先４のうち、予め定められた一つのガス供給先４へ、ガスが供給される。 Step S200 is a step of supplying gas to the gas supply destination 4. Gas is supplied to one predetermined gas supply destination 4 among the plurality of gas supply destinations 4 provided in the liquefied gas supply device 1.

ステップＳ２１０において、制御部５は、バルブＶｅの閉弁およびバルブＶｄの開弁を実行する制御を行う。ステップＳ２１０における各バルブおよび各ポンプの状態を図６のＳ２１０の行に示す。また、制御部５は、一番目のガス供給先であるガス供給先４１にガス供給を実施するため、バルブＶ１１を開弁する制御を行う。なお、制御部５が、ガス供給先４へガスを供給する処理を実行する制御モードを「第一のモード」とも呼ぶ。また、複数のバルブＶ１のうちガスを供給しないガス供給先４の上流側に設けられたバルブＶ１（バルブＶ１１以外のバルブＶ１）およびバルブＶ２は閉弁されている。液体ポンプ３によって圧送された液化ガスにおいて、例えば気化器（図示しない）を経由して予め定められた温度に液化ガスの温度が調整される。 In step S210, the control unit 5 controls to close the valve Ve and open the valve Vd. The state of each valve and each pump in step S210 is shown in the row of S210 in FIG. Further, the control unit 5 controls to open the valve V11 in order to supply gas to the gas supply destination 41 which is the first gas supply destination. The control mode in which the control unit 5 executes the process of supplying gas to the gas supply destination 4 is also referred to as a "first mode". Further, among the plurality of valves V1, the valves V1 (valves V1 other than the valves V11) and the valves V2 provided on the upstream side of the gas supply destination 4 that does not supply gas are closed. In the liquefied gas pumped by the liquid pump 3, the temperature of the liquefied gas is adjusted to a predetermined temperature, for example, via a vaporizer (not shown).

気化器は、下流流路２０ａのうち、バルブＶｄの下流側であって各ガス供給先４への分岐および調節流路２０ｂへの分岐よりも上流側の下流流路２０ａに配設されている。気化器の内部は、例えば熱交換器により昇温する機構を設けた液化ガスの流路と、昇温する機構が設けられていないバイパス流路と、に分岐され、これらの流路は気化器内の下流側で合流される。熱交換器を経由して昇温され気化されたガスと、気化器を経由しない液化ガスとの流量が調整されることによって、予め定められた温度に液化ガスの温度が調整される。これにより、液化ガスは、気化されたガスの状態でガス供給先４１へ供給されることができる。 The vaporizer is arranged in the downstream flow path 20a on the downstream side of the valve Vd and upstream of the branch to each gas supply destination 4 and the branch to the control flow path 20b in the downstream flow path 20a. .. The inside of the vaporizer is branched into, for example, a flow path of a liquefied gas provided with a mechanism for raising the temperature by a heat exchanger and a bypass flow path not provided with a mechanism for raising the temperature, and these flow paths are the vaporizer. It merges on the downstream side of the inside. By adjusting the flow rate of the gas that has been heated and vaporized via the heat exchanger and the liquefied gas that does not pass through the vaporizer, the temperature of the liquefied gas is adjusted to a predetermined temperature. As a result, the liquefied gas can be supplied to the gas supply destination 41 in the state of vaporized gas.

ステップＳ２２０において、ガス供給先４１へガスの供給が完了すると、制御部５はバルブＶ１１を閉弁する制御を実行する。そして、制御部５は、別のガス供給先にガスを供給するか否かを判定する（ステップＳ２３０）。なお、ステップＳ２２０およびステップＳ２３０における各バルブおよび各ポンプの状態を図６のＳ２２０、Ｓ２３０の行に示す。別のガス供給先にガスを供給しない場合（ステップＳ２３０：ＮＯ）、ガス供給は完了する。別のガス供給先にガスを供給する場合（ステップＳ２３０：ＹＥＳ）、制御部５は、後述するガス供給先の段取り替え処理（ステップＳ３００）を実行する。 In step S220, when the gas supply to the gas supply destination 41 is completed, the control unit 5 executes control to close the valve V11. Then, the control unit 5 determines whether or not to supply the gas to another gas supply destination (step S230). The states of each valve and each pump in steps S220 and S230 are shown in the rows of S220 and S230 in FIG. When the gas is not supplied to another gas supply destination (step S230: NO), the gas supply is completed. When supplying gas to another gas supply destination (step S230: YES), the control unit 5 executes a setup change process (step S300) of the gas supply destination, which will be described later.

ステップＳ３００によってガス供給先の段取り替えが完了すると、制御部５は、段取り替え後のガス供給先４（例えばｉ番目のガス供給先であるガス供給先４ｉ）の上流側にあるバルブ（例えばｉ番目のバルブＶ１ｉ）を開弁し、ガス供給を開始する処理を行う。すなわち、制御部５は、段取り替え後のガス供給先４ｉに対してステップＳ２００を繰り返す。 When the setup change of the gas supply destination is completed by step S300, the control unit 5 has a valve (for example, i) on the upstream side of the gas supply destination 4 (for example, the gas supply destination 4i which is the i-th gas supply destination) after the setup change. The second valve V1i) is opened and the gas supply is started. That is, the control unit 5 repeats step S200 for the gas supply destination 4i after the setup change.

図７は、ガス供給先の段取り替え処理（ステップＳ３００）を制御部５が実行するフローチャートである。上述したとおり、ガス供給先４ｉへガス供給が完了すると、ガス供給先４ｉの上流側にあるバルブＶ１ｉは閉弁される（図５のステップＳ２２０）。また、バルブＶ２も閉弁されている。すなわち、ガスは閉塞された下流流路２０ａおよび２０ｂの配管内に残存している。 FIG. 7 is a flowchart in which the control unit 5 executes the setup change process (step S300) of the gas supply destination. As described above, when the gas supply to the gas supply destination 4i is completed, the valve V1i on the upstream side of the gas supply destination 4i is closed (step S220 in FIG. 5). The valve V2 is also closed. That is, the gas remains in the pipes of the closed downstream flow paths 20a and 20b.

ステップＳ３１０において、制御部５は、液体ポンプ３を停止し、補助ポンプ２の運転を継続する。ステップＳ３１０における各バルブおよび各ポンプの状態を図６のＳ３１０の行に示す。下流流路２０ａおよび２０ｂには、補助ポンプ２によってガスが継続して供給されるため、例えば配管の温度は低下し続けるといった場合がある。また、ガスは閉塞された下流流路２０ａおよび２０ｂの配管内に残存しているため、液体ポンプ３によってガスが継続して供給されると、例えば下流流路２０ａおよび２０ｂの配管内の圧力が上昇する場合がある。制御部５は、調節流路２０ｂに設けられた温度センサー７によって検出された温度および圧力センサー６によって検出された圧力を読み込む（図３参照）。 In step S310, the control unit 5 stops the liquid pump 3 and continues the operation of the auxiliary pump 2. The state of each valve and each pump in step S310 is shown in the row of S310 in FIG. Since gas is continuously supplied to the downstream flow paths 20a and 20b by the auxiliary pump 2, for example, the temperature of the pipe may continue to decrease. Further, since the gas remains in the pipes of the closed downstream flow paths 20a and 20b, when the gas is continuously supplied by the liquid pump 3, for example, the pressure in the pipes of the downstream flow paths 20a and 20b is increased. May rise. The control unit 5 reads the temperature detected by the temperature sensor 7 provided in the control flow path 20b and the pressure detected by the pressure sensor 6 (see FIG. 3).

ステップＳ３２０において、制御部５は、この温度の検出値が予め定められた閾値より高いか否かを判定し、圧力の検出値が、予め定められた閾値より低いか否かを判定する。温度の検出値が予め定められた温度の閾値より低い場合、圧力の検出値が予め定められた圧力の閾値より高い場合、もしくはその両方である場合（ステップＳ３２０：ＮＯ）、制御部５は、バルブＶ２の開度を調整する（ステップＳ３３０）。なお、ステップＳ３２０、Ｓ３３０および後述するステップＳ３４０における各バルブおよび各ポンプの状態を図６のＳ３２０、Ｓ３３０、Ｓ３４０の行に示す。 In step S320, the control unit 5 determines whether or not the detected value of this temperature is higher than the predetermined threshold value, and determines whether or not the detected value of the pressure is lower than the predetermined threshold value. When the temperature detection value is lower than the predetermined temperature threshold value, the pressure detection value is higher than the predetermined pressure threshold value, or both (step S320: NO), the control unit 5 sets the control unit 5. The opening degree of the valve V2 is adjusted (step S330). The states of each valve and each pump in steps S320 and S330 and step S340 described later are shown in the rows of S320, S330 and S340 in FIG.

閉塞された下流流路２０ａおよび調節流路２０ｂには、補助ポンプ２によってガスの供給が継続されている。そのため、バルブＶ２が閉じられると、下流流路２０ａおよび調節流路２０ｂの管路内の圧力は上昇する。一方、バルブＶ２が開かれると、下流流路２０ａおよび調節流路２０ｂ内のガスは、矢印Ｔ４に示すように、バルブＶ２および放出ライン３０を流通し、大気中へ放出される（図３参照）。このガスの放出によって、下流流路２０ａおよび調節流路２０ｂ内のガスの圧力は下げられる。 Gas supply to the closed downstream flow path 20a and control flow path 20b is continued by the auxiliary pump 2. Therefore, when the valve V2 is closed, the pressure in the pipelines of the downstream flow path 20a and the control flow path 20b rises. On the other hand, when the valve V2 is opened, the gas in the downstream flow path 20a and the control flow path 20b flows through the valve V2 and the discharge line 30 and is discharged into the atmosphere as shown by the arrow T4 (see FIG. 3). ). Due to this outgassing, the pressure of the gas in the downstream flow path 20a and the control flow path 20b is reduced.

また、バルブＶ２が閉じられて閉塞された下流流路２０ａおよび調節流路２０ｂに、ガスの供給が継続されると、管路内の温度は、供給され続けるガスによって過度に冷却される場合がある。一方、バルブＶ２が開かれると、上述と同様、管路内のガスは放出ライン３０から大気中へ放出される（図３参照）。このガスの放出によって管路内のガスの量が減少すると、外気によって配管が昇温される速度が、下流流路２０ａおよび調節流路２０ｂへガスが供給されることによって管路が冷却される速度を上回る。すなわち、制御部５は、このガスの放出によって、下流流路２０ａおよび調節流路２０ｂ内のガスの温度を調節することができる。このように、制御部５は、バルブＶ２の開度を調節して、下流流路２０ａおよび調節流路２０ｂ内におけるガスの滞留時間を調節することによって、下流流路２０ａおよび調節流路２０ｂ内の温度と圧力の閾値を満たす調節を行う。なお、制御部５が、液体ポンプ３を停止し、補助ポンプ２によって下流流路２０ａおよび２０ｂにガスが継続して供給される処理と、上述した第二のバルブＶ２の開度の調節によって、下流流路２０ａおよび調節流路２０ｂ内の温度と圧力の検出値が閾値を満たす調節を行う処理と、を実行する制御モードを、「第二のモード」とも呼ぶ。 Further, when the gas supply to the downstream flow path 20a and the control flow path 20b in which the valve V2 is closed and closed is continued, the temperature in the pipeline may be excessively cooled by the continuously supplied gas. be. On the other hand, when the valve V2 is opened, the gas in the pipeline is discharged from the discharge line 30 into the atmosphere as described above (see FIG. 3). When the amount of gas in the pipeline is reduced by the release of this gas, the speed at which the pipe is heated by the outside air is increased, and the pipeline is cooled by supplying the gas to the downstream flow path 20a and the control flow path 20b. Exceed speed. That is, the control unit 5 can adjust the temperature of the gas in the downstream flow path 20a and the control flow path 20b by releasing this gas. In this way, the control unit 5 adjusts the opening degree of the valve V2 to adjust the residence time of the gas in the downstream flow path 20a and the control flow path 20b, thereby adjusting the inside of the downstream flow path 20a and the control flow path 20b. Make adjustments to meet the temperature and pressure thresholds of. The control unit 5 stops the liquid pump 3 and continuously supplies gas to the downstream flow paths 20a and 20b by the auxiliary pump 2, and adjusts the opening degree of the second valve V2 described above. The control mode for executing the process of adjusting the temperature and pressure detected values in the downstream flow path 20a and the control flow path 20b to satisfy the threshold value is also referred to as a "second mode".

なお、液体ポンプ３は、必ずしも停止しなければならないわけではない。例えば、液体ポンプ３の出力を低減（例えば、ガス供給先４にガスを供給している場合の出力に対して、３０％や５０％の出力）して運転を継続することもできる。この場合、例えば予冷に必要なガス消費量が削減される程度まで、補助ポンプ２の出力も低減されることが好ましい。 The liquid pump 3 does not necessarily have to be stopped. For example, the output of the liquid pump 3 can be reduced (for example, the output is 30% or 50% of the output when the gas is supplied to the gas supply destination 4) and the operation can be continued. In this case, it is preferable that the output of the auxiliary pump 2 is also reduced to the extent that the gas consumption required for precooling is reduced, for example.

以上の処理により、ガス供給先の段取り替え処理の期間、液化ガスの圧送は、補助ポンプ２のみによって実行される（図３参照）。従って、液体ポンプ３によってガス供給先４に液化ガスを供給している期間と比較して、下流流路２０ａおよび調節流路２０ｂ内に供給される液化ガスの供給量は低減される。また、ガス供給先４にガスを供給していない期間、補助ポンプ２により液化ガスの圧送が継続されることによって、供給装置内の温度の上昇は抑制される。従って、ガス供給先４へガス供給が完了して補助ポンプ２や液体ポンプ３が停止された場合に必要とされる再起動における予冷は、行われる必要がなくなる。また、これにより、設備稼働率が向上される。 By the above processing, the pumping of the liquefied gas is executed only by the auxiliary pump 2 during the setup change processing of the gas supply destination (see FIG. 3). Therefore, the supply amount of the liquefied gas supplied into the downstream flow path 20a and the control flow path 20b is reduced as compared with the period during which the liquefied gas is supplied to the gas supply destination 4 by the liquid pump 3. Further, the temperature rise in the supply device is suppressed by continuing the pumping of the liquefied gas by the auxiliary pump 2 during the period when the gas is not supplied to the gas supply destination 4. Therefore, the precooling at the restart required when the gas supply to the gas supply destination 4 is completed and the auxiliary pump 2 and the liquid pump 3 are stopped does not need to be performed. In addition, this improves the equipment utilization rate.

なお、貯槽１００の貯留内圧と液体ポンプを含む管路内の圧力との差圧が液化ガスを圧送できる程度に設定される場合には、補助ポンプ２を省略することもできる。貯槽１００内の差圧は、例えば液化ガスが放出ライン３０まで圧送できる程度であって、第二の供給流路２０内の圧力の上昇がされにくい程度の差圧に設定されることが好ましい。 If the difference pressure between the storage internal pressure of the storage tank 100 and the pressure in the pipeline including the liquid pump is set to such an extent that the liquefied gas can be pumped, the auxiliary pump 2 may be omitted. The differential pressure in the storage tank 100 is preferably set to such that, for example, the liquefied gas can be pressure-fed to the discharge line 30 and the pressure in the second supply flow path 20 is difficult to increase.

制御部５は、温度センサー７の検出温度が予め定められた温度の閾値より高く、圧力センサー６の検出圧力が予め定められた圧力の閾値より低い場合（ステップＳ３２０：ＹＥＳ）、ガス供給先４の段取り替えが完了したか否かを確認する（ステップＳ３４０）。ガス供給先４の段取り替えが完了していない場合（ステップＳ３４０：ＮＯ）、段取り替えが完了するまで、上述したステップＳ３２０とＳ３３０の処理を繰り返す。ガス供給先４の段取り替えが完了している場合（ステップＳ３４０：ＹＥＳ）、制御部５はバルブＶ２を閉弁する（ステップＳ３５０）。ステップＳ３５０における各バルブおよび各ポンプの状態を図６のＳ３５０の行に示す。 When the detection temperature of the temperature sensor 7 is higher than the predetermined temperature threshold and the detection pressure of the pressure sensor 6 is lower than the predetermined pressure threshold (step S320: YES), the control unit 5 is the gas supply destination 4. It is confirmed whether or not the setup change of is completed (step S340). When the setup change of the gas supply destination 4 is not completed (step S340: NO), the above-mentioned processes of steps S320 and S330 are repeated until the setup change is completed. When the setup change of the gas supply destination 4 is completed (step S340: YES), the control unit 5 closes the valve V2 (step S350). The state of each valve and each pump in step S350 is shown in the row of S350 in FIG.

これにより、下流流路２０ａおよび調節流路２０ｂ内のガスは、放出ライン３０を流通せず大気への放出がされなくなる。その後、ステップＳ３６０において、制御部５は、液体ポンプ３を起動して運転を再開する。ステップＳ３６０における各バルブおよび各ポンプの状態を図６のＳ３６０の行に示す。以上が、制御部５のガス供給先の段取り替え処理である。 As a result, the gas in the downstream flow path 20a and the control flow path 20b does not flow through the discharge line 30 and is not discharged to the atmosphere. After that, in step S360, the control unit 5 starts the liquid pump 3 and restarts the operation. The state of each valve and each pump in step S360 is shown in the row of S360 in FIG. The above is the setup change process of the gas supply destination of the control unit 5.

ガス供給先の段取り替え処理が完了すると、制御部５は、別のガス供給先４（図４においてガス供給先４ｉ）に対して、ステップＳ２００を繰り返す（図５参照）。なお、図４において、液体ポンプ３から別のガス供給先４（図４においてガス供給先４ｉ）へのガスの流れは矢印Ｔ６で示されている。別のガス供給先４にガスを供給しない場合（ステップＳ２３０：ＮＯ）、ガスの供給は完了する（図５参照）。なお、矢印Ｔ５は、上述した矢印Ｔ１と同様、貯槽１００から液体ポンプ３へ供給される液化ガスの流れを示している。 When the setup change process of the gas supply destination is completed, the control unit 5 repeats step S200 for another gas supply destination 4 (gas supply destination 4i in FIG. 4) (see FIG. 5). In FIG. 4, the flow of gas from the liquid pump 3 to another gas supply destination 4 (gas supply destination 4i in FIG. 4) is indicated by an arrow T6. When the gas is not supplied to another gas supply destination 4 (step S230: NO), the gas supply is completed (see FIG. 5). Note that the arrow T5 indicates the flow of the liquefied gas supplied from the storage tank 100 to the liquid pump 3 as in the case of the arrow T1 described above.

本開示は、上述の実施形態に限られるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の構成で実現することができる。例えば、発明の概要の欄に記載した各形態中の技術的特徴に対応する実施形態中の技術的特徴は、上述の課題の一部又は全部を解決するために、あるいは、上述の効果の一部又は全部を達成するために、適宜、差し替えや、組み合わせを行うことが可能である。また、その技術的特徴が本明細書中に必須なものとして説明されていなければ、適宜、削除することが可能である。 The present disclosure is not limited to the above-described embodiment, and can be realized by various configurations within a range not deviating from the gist thereof. For example, the technical features in the embodiments corresponding to the technical features in each embodiment described in the column of the outline of the invention are for solving a part or all of the above-mentioned problems, or one of the above-mentioned effects. It is possible to replace or combine as appropriate to achieve the part or all. Further, if the technical feature is not described as essential in the present specification, it can be appropriately deleted.

１…液化ガスの供給装置
２…補助ポンプ
３…液体ポンプ
４、４１、４ｉ、４ｎ…ガス供給先
５…制御部
６…圧力センサー
７…温度センサー
１０…第一の供給流路
１０ａ…上流流路
１０ｂ…中間流路
１１…第一の予冷流路
２０…第二の供給流路
２０ａ…下流流路
２０ｂ…調節流路
２１…第二の予冷流路
３０…放出ライン
１００…貯槽
２００…ガス配管
Ｖ１、Ｖ１１、Ｖ１ｉ、Ｖ１ｎ、Ｖ２、Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃ、Ｖｄ、Ｖｅ…バルブ 1 ... Liquefied gas supply device 2 ... Auxiliary pump 3 ... Liquid pump 4, 41, 4i, 4n ... Gas supply destination 5 ... Control unit 6 ... Pressure sensor 7 ... Temperature sensor 10 ... First supply flow path 10a ... Upstream flow Path 10b ... Intermediate flow path 11 ... First precooling flow path 20 ... Second supply flow path 20a ... Downstream flow path 20b ... Adjustment flow path 21 ... Second precooling flow path 30 ... Discharge line 100 ... Storage tank 200 ... Gas Piping V1, V11, V1i, V1n, V2, Va, Vb, Vc, Vd, Ve ... Valve

Claims

It is a liquefied gas supply device and
The storage tank for storing the liquefied gas and
A gas pipe that circulates the liquefied gas from the storage tank to the high- pressure gas tank that is the gas supply destination,
An auxiliary pump provided in the gas pipe that boosts and sends out the liquefied gas,
A liquid pump provided in the gas pipe on the high- pressure gas tank side of the auxiliary pump to supply the liquefied gas to the high- pressure gas tank by boosting and delivering the liquefied gas.
A control unit that controls the flow of the liquefied gas in the gas pipe is provided.
The gas pipe
A supply pipe for circulating the liquefied gas from the liquid pump to the high- pressure gas tank ,
A discharge line connected to the supply pipe and discharging the liquefied gas in the supply pipe to the atmosphere.
A first valve provided in the supply pipe on the high- pressure gas tank side of the connection portion of the discharge line, and
A second valve that regulates the flow rate of the liquefied gas in the discharge line,
A temperature sensor located upstream of the second valve and detecting the temperature of the liquefied gas in the supply pipe,
A pressure sensor located upstream of the second valve and detecting the pressure of the liquefied gas in the supply pipe is provided.
The control unit
In the first mode in which the first valve is opened and the second valve is closed, the first mode in which the liquefied gas is supplied to the high- pressure gas tank by the liquid pump.
In the second mode in which the first valve is closed, the liquid pump is stopped and the liquefied gas is supplied to the supply pipe by the auxiliary pump, and the detection values of the temperature sensor and the pressure sensor are measured. A liquefied gas supply device comprising a second mode of controlling the second valve so as to be within a predetermined range.