JP7019049B2 - Laminate manufacturing method and manufacturing equipment - Google Patents

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JP7019049B2 JP2020537078A JP2020537078A JP7019049B2 JP 7019049 B2 JP7019049 B2 JP 7019049B2 JP 2020537078 A JP2020537078 A JP 2020537078A JP 2020537078 A JP2020537078 A JP 2020537078A JP 7019049 B2 JP7019049 B2 JP 7019049B2
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Description

本開示は、積層体の製造方法及び製造装置に関する。 The present disclosure relates to a method for manufacturing a laminate and a manufacturing apparatus.

ロールトゥロール方式での連続プロセスにて、基材上に目的とする塗工層を形成して積層体を製造する方法が知られている。 A method of forming a target coating layer on a substrate by a continuous process of a roll-to-roll method to produce a laminated body is known.

積層体を製造する方法の例として、特開2014-188450号公報には、樹脂材料と溶剤を含有する塗布液を、長手方向に搬送されている長尺状のフィルムの一方の面に塗布して塗膜を形成させた後から、少なくとも塗膜から揮発する溶剤が乾燥装置内に充満するまでの間に、塗膜およびフィルムの幅方向両端の厚み部分を覆う2以上のカバー部材を備えた塗膜制御装置であって、2以上のカバー部材は、フィルムの搬送方向に連結されたものであり、孔を設けた1以上の有孔カバー部材と、孔を設けていない1以上の無孔カバー部材と、を備え、塗膜から揮発する溶剤を有孔カバー部材の孔から外部に排気する排気手段を備え、カバー部材の設置箇所を組み替えることができる塗膜制御装置を用いた積層フィルムの製造方法が開示されている。 As an example of a method for producing a laminate, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-188450 describes that a coating liquid containing a resin material and a solvent is applied to one surface of a long film conveyed in the longitudinal direction. Two or more cover members are provided to cover the thickness portions of the coating film and the film at both ends in the width direction after the coating film is formed and at least until the drying apparatus is filled with the solvent volatilized from the coating film. In the coating film control device, two or more cover members are connected in the film transport direction, and one or more perforated cover members having holes and one or more non-perforated cover members having no holes are provided. A laminated film using a coating film control device, which is provided with a cover member, has an exhaust means for exhausting a solvent volatilized from the coating film to the outside through a hole of the perforated cover member, and can rearrange the installation location of the cover member. The manufacturing method is disclosed.

また、特開2011-36803号公報には、基材供給工程、塗布工程、乾燥工程、巻き取り工程を有する製造工程を使用し、少なくとも1層の無機バリア層を有するフィルム基材上に、ポリマー層形成用塗布液を塗布し、少なくとも1層のポリマー層を有するバリアフィルムを製造するバリアフィルムの製造方法において、少なくとも塗布工程は、-0.1kPaから-1.0kPaの減圧環境の塗布室と、上流側に減圧室を有する塗布機とを使用し、減圧室の減圧度が-0.2kPaから-3.0kPaであり、減圧室と塗布室との減圧度の関係が、減圧室の減圧度>塗布室の減圧度、且つ、減圧室と塗布室との減圧度差が0.1kPaから2kPaであるバリアフィルムの製造方法が開示されている。 Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-36803 uses a manufacturing process having a base material supply step, a coating step, a drying step, and a winding step, and a polymer is placed on a film base material having at least one inorganic barrier layer. In the method for producing a barrier film for producing a barrier film having at least one polymer layer by applying a layer-forming coating liquid, at least the coating step is a coating chamber in a reduced pressure environment of -0.1 kPa to -1.0 kPa. Using a coating machine having a decompression chamber on the upstream side, the decompression degree of the decompression chamber is from -0.2 kPa to -3.0 kPa, and the relationship between the decompression degree of the decompression chamber and the coating chamber is the decompression of the decompression chamber. Degree> Disclosed is a method for producing a barrier film in which the decompression degree of the coating chamber and the decompression degree difference between the decompression chamber and the coating chamber are 0.1 kPa to 2 kPa.

ロールトゥロール方式での連続プロセスによって、連続搬送する基材をバックアップロールに巻き掛け、巻き掛けた基材上でダイコータを用いて有機溶剤を含む塗布液を塗布し、目的とする塗工層を形成して積層体を製造する方法が知られている。
このような積層体の製造方法では、固形分濃度が最も低い塗布直後の塗膜の乾燥は、通常、外乱の影響を受けにくくするために穏やかに行われる(即ち、塗膜の増粘速度の上昇は緩やかである)。
しかしながら、塗布直後の塗膜に対し穏やかな乾燥を行っていても、風ムラの発生を抑制するには不十分であった。
ここで、「風ムラ」とは、塗工層表面において基材の搬送方向と略平行な方向に形成されるスジ状、斑点状等の模様のことである。スジ状の模様の場合、例えば、最大幅が1mm~20mmで、長さが30cm以上の大きさを有し、また、斑点状の模様の場合、例えば、最大径が1mm~10mmの大きさを有する。
By a continuous process using the roll-to-roll method, the base material to be continuously transported is wrapped around a backup roll, and a coating liquid containing an organic solvent is applied on the wound base material using a die coater to obtain the target coating layer. A method of forming and producing a laminate is known.
In such a method for producing a laminate, the coating film immediately after coating having the lowest solid content concentration is usually dried gently in order to be less susceptible to disturbance (that is, the thickening rate of the coating film is increased). The rise is gradual).
However, even if the coating film immediately after application is gently dried, it is insufficient to suppress the occurrence of wind unevenness.
Here, the "wind unevenness" is a pattern such as a streak or a spot formed on the surface of the coating layer in a direction substantially parallel to the transport direction of the base material. In the case of a streak-like pattern, for example, the maximum width is 1 mm to 20 mm and the length is 30 cm or more, and in the case of a speckled pattern, for example, the maximum diameter is 1 mm to 10 mm. Have.

そこで、本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、基材上に風ムラの発生が抑制された塗工層を形成しうる、積層体の製造方法及び製造装置を提供することにある。 Therefore, an object to be solved by one embodiment of the present invention is to provide a method for manufacturing a laminated body and a manufacturing apparatus capable of forming a coating layer in which the occurrence of wind unevenness is suppressed on a base material. ..

課題を解決するための具体的手段には、以下の態様が含まれる。 Specific means for solving the problem include the following aspects.

<1> 連続搬送される基材をバックアップロールに巻き掛け、バックアップロール上の基材に有機溶剤を含む塗布液を塗布し、塗膜を形成する工程aと、
塗膜上の気体を吸気することで、バックアップロール上の塗膜から有機溶剤を減少させる工程bと、
を少なくとも有し、
工程aにおける基材と塗布液との接触時の基材上雰囲気圧をPとし、工程bにおける気体の吸気時の基材上雰囲気圧をPとした場合、P及びPが以下の条件1及び2を満たす、積層体の製造方法。
条件1: P>P
条件2: P≦大気圧-100Pa
<1> A step a of winding a continuously transported base material on a backup roll, applying a coating liquid containing an organic solvent to the base material on the backup roll, and forming a coating film.
Step b to reduce the organic solvent from the coating film on the backup roll by inhaling the gas on the coating film,
Have at least
When the atmospheric pressure on the substrate at the time of contact between the substrate and the coating liquid in step a is PA and the atmospheric pressure on the substrate at the time of inhaling gas in step b is P B, PA and P B are as follows . A method for producing a laminated body, which satisfies the conditions 1 and 2 of.
Condition 1: PA > P B
Condition 2: P B ≤ atmospheric pressure-100 Pa

<2> 工程bにおける塗膜上の気体の風速が1m/s~100m/sである、<1>に記載の積層体の製造方法。
<3> 工程aにおける基材と塗布液との接触点から、工程bにおける塗膜上の気体の吸気が開始される点までの距離が、100mm以下である、<1>又は<2>に記載の積層体の製造方法。
<4> 工程bにて、塗膜の固形分濃度が70質量%に到達するまで塗膜上の気体を吸気する、<1>~<3>のいずれか1に記載の積層体の製造方法。
<2> The method for producing a laminate according to <1>, wherein the wind speed of the gas on the coating film in step b is 1 m / s to 100 m / s.
<3> In <1> or <2>, the distance from the contact point between the base material and the coating liquid in step a to the point where the intake of gas on the coating film is started in step b is 100 mm or less. The method for manufacturing a laminate according to the description.
<4> The method for producing a laminate according to any one of <1> to <3>, wherein in step b, the gas on the coating film is sucked in until the solid content concentration of the coating film reaches 70% by mass. ..

<5> 連続搬送される基材が巻き掛けられるバックアップロールと、
バックアップロール上に巻き掛けられた基材上に有機溶剤を含む塗布液を塗布し、塗膜を形成するダイコータと、
ダイコータに隣接して設置され、塗膜上の気体を吸気することで、バックアップロール上の塗膜から有機溶剤を減少させる減圧室と、
を少なくとも備え、
バックアップロール上の基材とダイコータにより塗布された塗布液との接触時の基材上雰囲気圧をPとし、減圧室における気体の吸気時の基材上雰囲気圧をPとした場合、P及びPが以下の条件1及び2を満たす、積層体の製造装置。
条件1: P>P
条件2: P≦大気圧-100Pa
<5> A backup roll around which a continuously transported base material is wound, and
A die coater that forms a coating film by applying a coating liquid containing an organic solvent on a base material wound on a backup roll.
A decompression chamber that is installed adjacent to the die coater and reduces the amount of organic solvent from the coating film on the backup roll by sucking in the gas on the coating film.
At least prepare
When the atmospheric pressure on the substrate at the time of contact between the substrate on the backup roll and the coating liquid applied by the die coater is PA, and the atmospheric pressure on the substrate at the time of inhaling gas in the decompression chamber is P B , P. A laminated body manufacturing apparatus in which A and P B satisfy the following conditions 1 and 2.
Condition 1: PA > P B
Condition 2: P B ≤ atmospheric pressure-100 Pa

<6> 減圧室内における塗膜上の気体の風速が1m/s~100m/sである、<5>に記載の積層体の製造装置。
<7> 減圧室に気体を供給する手段を更に有する、<5>又は<6>に記載の積層体の製造装置。
<8> バックアップロール上の基材とダイコータにより塗布された塗布液との接触点から、減圧室にて塗膜上の気体の吸気が開始される点までの距離が、100mm以下である、<5>~<7>のいずれか1に記載の積層体の製造装置。
<6> The apparatus for manufacturing a laminate according to <5>, wherein the wind speed of the gas on the coating film in the decompression chamber is 1 m / s to 100 m / s.
<7> The apparatus for producing a laminate according to <5> or <6>, further comprising a means for supplying gas to the decompression chamber.
<8> The distance from the contact point between the base material on the backup roll and the coating liquid applied by the die coater to the point where the inhalation of gas on the coating film is started in the decompression chamber is 100 mm or less. 5> The apparatus for manufacturing a laminated body according to any one of <7>.

<9> 減圧室の側面の先端面とバックアップロールとの距離が0.5mm以下である、<5>~<8>のいずれか1に記載の積層体の製造装置。
<10> 減圧室の正面の先端面とバックアップロールとの距離が、減圧室の側面の先端面とバックアップロールとの距離よりも大きい<9>に記載の積層体の製造装置。
<11> 減圧室が、給気スリットと排気スリットとを有する本体部及び側板を含んで構成される、<5>~<10>のいずれか1に記載の積層体の製造装置。
<9> The apparatus for manufacturing a laminated body according to any one of <5> to <8>, wherein the distance between the tip surface of the side surface of the decompression chamber and the backup roll is 0.5 mm or less.
<10> The laminated body manufacturing apparatus according to <9>, wherein the distance between the front end surface of the decompression chamber and the backup roll is larger than the distance between the front end surface of the decompression chamber and the backup roll.
<11> The apparatus for manufacturing a laminated body according to any one of <5> to <10>, wherein the decompression chamber includes a main body portion and a side plate having an air supply slit and an exhaust slit.

<12> バックアップロールの表面温度が40℃~120℃である、<5>~<11>のいずれか1に記載の積層体の製造装置。 <12> The apparatus for manufacturing a laminated body according to any one of <5> to <11>, wherein the surface temperature of the backup roll is 40 ° C. to 120 ° C.

本発明の一実施形態によれば、基材上に風ムラの発生が抑制された塗工層を形成しうる、積層体の製造方法及び製造装置が提供される。 According to one embodiment of the present invention, there is provided a method for manufacturing a laminated body and a manufacturing apparatus capable of forming a coating layer in which the occurrence of wind unevenness is suppressed on a base material.

本開示における工程a及び工程bを行う積層体の製造装置の一例を示す概略側面図である。It is a schematic side view which shows an example of the manufacturing apparatus of the laminated body which performs steps a and b in this disclosure. 第1態様の減圧室の構成を説明するための概略側面図である。It is a schematic side view for demonstrating the structure of the decompression chamber of 1st Embodiment. 第2態様の減圧室の構成を説明するための概略側面図である。It is a schematic side view for demonstrating the structure of the decompression chamber of the 2nd aspect.

以下、本開示の積層体の製造方法について詳細に説明する。
本開示において、「工程」の語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
Hereinafter, the method for producing the laminate of the present disclosure will be described in detail.
In the present disclosure, the term "process" is included in this term not only as an independent process but also as long as the intended purpose of the process is achieved even if it cannot be clearly distinguished from other processes.

本開示において、「~」を用いて示された数値範囲は、「~」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
なお、複数の図面に記載されている符号が同一である場合、同一の対象を指す。また、各図面において重複する構成及び符号については、説明を省略する場合がある。
本開示において、2以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
In the present disclosure, the numerical range indicated by using "-" indicates a range including the numerical values before and after "-" as the minimum value and the maximum value, respectively.
In the numerical range described stepwise in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value described in one numerical range may be replaced with the upper limit value or the lower limit value of the numerical range described in another stepwise description. Further, in the numerical range described in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value described in a certain numerical range may be replaced with the value shown in the examples.
When the reference numerals described in a plurality of drawings are the same, they refer to the same object. In addition, explanations may be omitted for overlapping configurations and reference numerals in the drawings.
In the present disclosure, a combination of two or more preferred embodiments is a more preferred embodiment.

既述したように、ロールトゥロール方式での連続プロセスによって、連続搬送する基材をバックアップロールに巻き掛け、巻き掛けた基材上でダイコータを用いて有機溶剤を含む塗布液を塗布し、目的とする塗工層を形成して積層体を製造する方法が知られている。
このような積層体の製造方法では、通常、固形分濃度が最も低い塗布直後の塗膜の乾燥が穏やかに行われるが、風ムラの発生を抑制するには不十分であった。
そこで、風ムラの発生を抑制する技術について検討を行ったところ、従来の手法から一線を画し、固形分濃度が最も低い塗布直後の塗膜に対し、塗膜上の空気を吸気することで有機溶剤を除去して、乾燥を早め(即ち、塗膜を増粘させ)ることで、風ムラの発生を抑制することができるといった知見を得た。
As described above, the base material to be continuously transported is wound on a backup roll by a continuous process in a roll-to-roll method, and a coating liquid containing an organic solvent is applied on the wound base material using a die coater. A method of forming a coating layer to produce a laminated body is known.
In such a method for producing a laminate, the coating film immediately after coating, which has the lowest solid content concentration, is usually dried gently, but it is insufficient to suppress the occurrence of wind unevenness.
Therefore, when we investigated a technology to suppress the occurrence of wind unevenness, we made a clear distinction from the conventional method and by sucking air on the coating film to the coating film immediately after coating, which has the lowest solid content concentration. It was found that the occurrence of wind unevenness can be suppressed by removing the organic solvent and accelerating the drying (that is, thickening the coating film).

上記の知見に基づく、本開示の積層体の製造方法は、以下の通りである。
即ち、本開示の積層体の製造方法は、連続搬送される基材をバックアップロールに巻き掛け、バックアップロール上の基材に有機溶剤を含む塗布液を塗布し、塗膜を形成する工程aと、塗膜上の気体を吸気することで、バックアップロール上の塗膜から有機溶剤を減少させる工程bと、を少なくとも有し、工程aにおける基材と塗布液との接触時の基材上雰囲気圧をPとし、工程bにおける気体の吸気時の基材上雰囲気圧をPとした場合、P及びPが以下の条件1及び2を満たす、積層体の製造方法である。
条件1: P>P
条件2: P≦大気圧-100Pa
The method for producing the laminate of the present disclosure based on the above findings is as follows.
That is, in the method for manufacturing a laminate of the present disclosure, a step a of winding a continuously transported base material on a backup roll, applying a coating liquid containing an organic solvent to the base material on the backup roll, and forming a coating film. It has at least a step b of reducing the organic solvent from the coating film on the backup roll by sucking in the gas on the coating film, and the atmosphere on the substrate at the time of contact between the substrate and the coating liquid in the step a. When the pressure is PA and the atmospheric pressure on the substrate at the time of inhaling the gas in step b is P B, this is a method for producing a laminated body in which PA and P B satisfy the following conditions 1 and 2.
Condition 1: PA > P B
Condition 2: P B ≤ atmospheric pressure-100 Pa

本開示の積層体の製造方法における条件1は、工程bにおける気体の吸気時の基材上雰囲気圧Pが、工程aにおける基材と塗布液との接触時(即ち、塗布時)における基材上雰囲気圧をPよりも小さいことを示している。
そして、条件2は、工程bにおける気体の吸気時の基材上雰囲気圧Pが、大気圧-100pa以下であり、減圧状態であることを示している。
ここで、「基材上雰囲気圧P」は、基材と塗布液との接触時の雰囲気圧(即ち静圧)を指す(例えば、バックアップロール110、ダイコータ120、及び減圧室130に囲まれた、図1における点aでの気圧をいう)。
また、「基材上雰囲気圧P」は、塗膜上の気体を吸気している間の、基材の上部(基材から1mm~10mm上部、例えば、5mm上部)での雰囲気圧(即ち静圧)を指す(例えば、図1における点bでの気圧をいう)。
更に、本開示における「大気圧」とは、本開示の積層体の製造方法を行う製造装置が置かれる室内環境での気圧をいう。
大気圧、基材上雰囲気圧P及びPは、圧力計、具体的には、例えば、一般真空計A型(東洋計器工業製)によって測定される。
Condition 1 in the method for producing a laminated body of the present disclosure is that the atmospheric pressure P B on the substrate at the time of inhaling the gas in step b is the basis at the time of contact between the substrate and the coating liquid in step a (that is, at the time of coating). It shows that the atmospheric pressure on the material is smaller than PA .
Condition 2 indicates that the atmospheric pressure P B on the substrate at the time of inhaling the gas in step b is atmospheric pressure −100 pa or less, and is in a depressurized state.
Here, "atmospheric pressure PA on the base material" refers to the atmospheric pressure (that is, static pressure) at the time of contact between the base material and the coating liquid (for example, surrounded by the backup roll 110, the die coater 120, and the decompression chamber 130). Also, the pressure at point a in FIG. 1).
Further, the "atmospheric pressure on the base material P B " is the atmospheric pressure at the upper part of the base material (1 mm to 10 mm above the base material, for example, 5 mm above) while the gas on the coating film is being sucked (that is,). (Static pressure) (for example, the pressure at point b in FIG. 1).
Further, the "atmospheric pressure" in the present disclosure means the atmospheric pressure in the indoor environment in which the manufacturing apparatus for manufacturing the laminated body of the present disclosure is placed.
The atmospheric pressure and the atmospheric pressures PA and BP on the substrate are measured by a pressure gauge, specifically, for example, a general vacuum gauge type A (manufactured by Toyo Keiki Kogyo).

上記の条件1及び2を満たすことで、工程aにおける塗布液の塗布を正常に行いつつ、塗布直後の塗膜から有機溶剤の除去を素早く行い、塗膜を増粘させることができる。
その結果、本開示の積層体の製造方法では、基材上に風ムラの発生が抑制された塗工層が形成される。
By satisfying the above conditions 1 and 2, the organic solvent can be quickly removed from the coating film immediately after the coating film while the coating film is normally applied in the step a, and the coating film can be thickened.
As a result, in the method for producing a laminated body of the present disclosure, a coating layer in which the occurrence of wind unevenness is suppressed is formed on the base material.

なお、上記した特開2014-188450号公報及び特開2011-36803号公報に記載の方法には、本開示におけるP>Pの関係は記載されていない。
また、特開2014-188450号公報及び特開2011-36803号公報には、塗布直後の塗膜から、塗膜上の気体を吸気すること有機溶剤を除去することについても記載されておらず、この方法による風ムラの発生の抑制についても勿論検討されていない。
The methods described in JP-A-2014-188450 and JP-A-2011-36803 do not describe the relationship of PA> P B in the present disclosure.
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-188450 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-3683 do not describe the removal of the organic solvent by sucking the gas on the coating film from the coating film immediately after coating. Of course, the suppression of the occurrence of wind unevenness by this method has not been studied.

上記した本開示の積層体の製造方法は、以下の本開示の積層体の製造装置により実施されることが好ましい。
即ち、本開示の積層体の製造装置は、連続搬送される基材が巻き掛けられるバックアップロールと、バックアップロール上に巻き掛けられた基材上に有機溶剤を含む塗布液を塗布し、塗膜を形成するダイコータと、ダイコータに隣接して設置され、塗膜上の気体を吸気することで、バックアップロール上の塗膜から有機溶剤を減少させる減圧室と、を少なくとも備え、
バックアップロール上の基材とダイコータにより塗布された塗布液との接触時の基材上雰囲気圧をPとし、減圧室における気体の吸気時の基材上雰囲気圧をPとした場合、P及びPが以下の条件1及び2を満たす、積層体の製造装置である。
条件1: P>P
条件2: P≦大気圧-100Pa
本開示の積層体の製造装置では、減圧室を備えており、この減圧室を用いることで、上記の条件1及び2を満たすことができる。
It is preferable that the method for producing the laminate of the present disclosure described above is carried out by the following apparatus for producing the laminate of the present disclosure.
That is, in the laminated body manufacturing apparatus of the present disclosure, a backup roll around which a continuously conveyed base material is wound and a coating liquid containing an organic solvent are applied onto the base material wound on the backup roll to form a coating film. It is provided with at least a die coater for forming a die coater and a decompression chamber which is installed adjacent to the die coater and reduces organic solvent from the coating film on the backup roll by sucking gas on the coating film.
When the atmospheric pressure on the substrate at the time of contact between the substrate on the backup roll and the coating liquid applied by the die coater is PA, and the atmospheric pressure on the substrate at the time of inhaling gas in the decompression chamber is P B , P. A laminated body manufacturing apparatus in which A and P B satisfy the following conditions 1 and 2.
Condition 1: PA > P B
Condition 2: P B ≤ atmospheric pressure-100 Pa
The laminated body manufacturing apparatus of the present disclosure is provided with a decompression chamber, and by using this decompression chamber, the above conditions 1 and 2 can be satisfied.

以下、図面を参照して、本開示の積層体の製造方法及び製造装置について詳細に説明する。 Hereinafter, the manufacturing method and the manufacturing apparatus of the laminated body of the present disclosure will be described in detail with reference to the drawings.

[工程a]
工程aでは、連続搬送される基材をバックアップロールに巻き掛け、バックアップロール上の基材に有機溶剤を含む塗布液を塗布し、塗膜を形成する。
工程aの一例について、図1及び図2を参照して、説明する。
ここで、図1は、工程a及び工程bを行う積層体の製造装置の一例を示す概略側面図である。
[Step a]
In step a, the base material that is continuously conveyed is wrapped around a backup roll, and a coating liquid containing an organic solvent is applied to the base material on the backup roll to form a coating film.
An example of step a will be described with reference to FIGS. 1 and 2.
Here, FIG. 1 is a schematic side view showing an example of a laminated body manufacturing apparatus for performing steps a and b.

工程aでは、バックアップロール110上に巻き掛けられた基材140に対し、ダイコータ120を用いて有機溶剤を含む塗布液150を塗布し、基材140上に塗膜152を形成する。
ここで、工程aにおける基材上雰囲気圧Pは、大気圧-100Pa~大気圧の範囲であることが好ましく、大気圧であることがより好ましい。
基材上雰囲気圧Pが、上記の範囲であることで、良好な塗布性が得られ、膜厚均一性の高い塗膜を形成しやすくなる。
In step a, a coating liquid 150 containing an organic solvent is applied to the base material 140 wound on the backup roll 110 using a die coater 120 to form a coating film 152 on the base material 140.
Here, the atmospheric pressure PA on the substrate in the step a is preferably in the range of atmospheric pressure −100 Pa to atmospheric pressure, and more preferably atmospheric pressure.
When the atmospheric pressure PA on the substrate is in the above range, good coatability can be obtained, and it becomes easy to form a coating film having high film thickness uniformity.

以下、工程aに用いられる、バックアップロール、ダイコータ、基材、及び塗布液について説明する。 Hereinafter, the backup roll, the die coater, the base material, and the coating liquid used in the step a will be described.

(バックアップロール)
バックアップロール110は、回転自在に構成されており、基材を巻き掛けて連続搬送することができる部材であって、基材140の搬送速度と同速度で回転駆動する。
バックアップロール110は、特に制限無く、公知のものを用いることができる。
バックアップロール110としては、例えば、表面が、ハードクロムメッキされたものを好ましく用いることができる。
メッキの厚みは、導電性と強度とを確保する観点から40μm~60μmが好ましい。
また、バックアップロールの表面粗さは、基材140とバックアップロール110との摩擦力のバラツキを低減させる点から、表面粗さRaにて0.1μm以下が好ましい。
(Backup role)
The backup roll 110 is rotatably configured and is a member capable of winding a base material and continuously transporting the backup roll 110, and is rotationally driven at the same speed as the transport speed of the base material 140.
As the backup roll 110, a known one can be used without particular limitation.
As the backup roll 110, for example, one having a hard chrome-plated surface can be preferably used.
The thickness of the plating is preferably 40 μm to 60 μm from the viewpoint of ensuring conductivity and strength.
Further, the surface roughness of the backup roll is preferably 0.1 μm or less in terms of the surface roughness Ra from the viewpoint of reducing the variation in the frictional force between the base material 140 and the backup roll 110.

バックアップロール110は、塗膜の乾燥促進を高める観点から、また、膜面温度低下による塗膜のブラッシング(即ち、微細な結露が生じることによる塗膜の白化)の抑制など観点から、加温されていてもよい。
バックアップロール110の表面温度は、塗膜の組成、塗膜の硬化性能、基材140の耐熱性等に応じて決定されればよく、例えば、40℃~120℃が好ましく、40℃~100℃がより好ましい。
The backup roll 110 is heated from the viewpoint of enhancing the drying promotion of the coating film and from the viewpoint of suppressing brushing of the coating film due to a decrease in the film surface temperature (that is, whitening of the coating film due to the occurrence of fine dew condensation). May be.
The surface temperature of the backup roll 110 may be determined according to the composition of the coating film, the curing performance of the coating film, the heat resistance of the base material 140, and the like, and is preferably 40 ° C to 120 ° C, preferably 40 ° C to 100 ° C. Is more preferable.

バックアップロール110は、表面温度を検知し、その温度に基づいて温度制御手段によってバックアップロール110の表面温度が維持されることが好ましい。
バックアップロール110の温度制御手段には、加熱手段及び冷却手段がある。加熱手段としては、誘導加熱、水加熱、油加熱等が用いられ、冷却手段としては、冷却水による冷却が用いられる。
It is preferable that the backup roll 110 detects the surface temperature and the surface temperature of the backup roll 110 is maintained by the temperature control means based on the temperature.
The temperature control means of the backup roll 110 includes a heating means and a cooling means. As the heating means, induction heating, water heating, oil heating and the like are used, and as the cooling means, cooling with cooling water is used.

バックアップロール110の直径としては、基材140が巻き掛け易い観点、ダイコータ120による塗布が容易な観点、及び、減圧室130の設置位置の確保の観点、バックアップロール110の製造コストの観点から、100mm~1000mmが好ましく、100mm~800mmがより好ましく、200mm~700mmが更に好ましい。 The diameter of the backup roll 110 is 100 mm from the viewpoint of easy wrapping of the base material 140, easy application by the die coater 120, securing of the installation position of the decompression chamber 130, and manufacturing cost of the backup roll 110. It is preferably ~ 1000 mm, more preferably 100 mm to 800 mm, still more preferably 200 mm to 700 mm.

バックアップロール110での基材140の搬送速度は、生産性の確保の観点、及び、塗布性の観点から、10m/min~100m/minであることが好ましい。 The transport speed of the base material 140 on the backup roll 110 is preferably 10 m / min to 100 m / min from the viewpoint of ensuring productivity and coatability.

バックアップロール110に対する基材140のラップ角は、塗布時における基材140の搬送が安定化され、塗膜の厚みムラの発生を抑制する観点から、60°以上が好ましく、90°以上がより好ましい。また、ラップ角の上限は、360°未満であればよく、例えば、180°に設定することができる。
なお、ラップ角とは、基材140がバックアップロール110に接触する際の基材140の搬送方向と、バックアップロール110から基材140が離間する際の基材140の搬送方向と、からなる角度をいう。
The lap angle of the base material 140 with respect to the backup roll 110 is preferably 60 ° or more, more preferably 90 ° or more, from the viewpoint of stabilizing the transport of the base material 140 at the time of coating and suppressing the occurrence of uneven thickness of the coating film. .. Further, the upper limit of the lap angle may be less than 360 °, and can be set to, for example, 180 °.
The lap angle is an angle including a transport direction of the base material 140 when the base material 140 comes into contact with the backup roll 110 and a transport direction of the base material 140 when the base material 140 is separated from the backup roll 110. To say.

(ダイコータ)
ダイコータ120は、塗布液150を、ダイブロック本体122に形成されたマニホールド124とマニホールド124に連通するスリット126とを介して、基材140上に塗布する塗布装置をいう。
ダイコータ120は、バックアップロール110の表面に対し、その先端及び吐出口が対向するように配置されている。
(Daicoater)
The die coater 120 refers to a coating device that applies a coating liquid 150 onto a base material 140 via a manifold 124 formed in the die block main body 122 and a slit 126 communicating with the manifold 124.
The die coater 120 is arranged so that the tip thereof and the discharge port face each other with respect to the surface of the backup roll 110.

ダイコータ120は、1つブロック又は複数のブロックから構成されるダイブロック本体122を有し、このダイブロック本体122により、マニホールド124とスリット126とが形成される。
マニホールド124は、ダイコータ120の幅方向に沿って伸びる空間であり、ダイコータ120に供給された塗布液150を塗布幅方向(即ち、ダイコータ120の幅方向)に拡流し、塗布液150を一時的に貯留している。
スリット126は、マニホールド124に連通し、ダイコータ120の幅方向に沿って、マニホールド124からダイコータ120の先端方向に伸びる空間である。スリット126は、ダイコータ120の先端で外部に開放され、塗布液150を吐出するための吐出口となる。
The die coater 120 has a die block main body 122 composed of one block or a plurality of blocks, and the die block main body 122 forms a manifold 124 and a slit 126.
The manifold 124 is a space extending along the width direction of the die coater 120, and the coating liquid 150 supplied to the die coater 120 is expanded in the coating width direction (that is, the width direction of the die coater 120) to temporarily spread the coating liquid 150. It is stored.
The slit 126 is a space that communicates with the manifold 124 and extends from the manifold 124 toward the tip of the die coater 120 along the width direction of the die coater 120. The slit 126 is opened to the outside at the tip of the die coater 120 and serves as a discharge port for discharging the coating liquid 150.

ここで、ダイコータ120の先端とバックアップロール110との距離(即ち、図2で示される距離D1)としては、基材の厚み、塗布液の粘度、形成する塗膜の膜厚等に応じて決定されればよいが、例えば、0.05mm~0.50mmの範囲で設定される。
なお、距離D1は、ダイコータ120の先端とバックアップロール110との間の最短距離を指す。
距離D1は、テーパーゲージにて測定することができる。
Here, the distance between the tip of the die coater 120 and the backup roll 110 (that is, the distance D1 shown in FIG. 2) is determined according to the thickness of the base material, the viscosity of the coating liquid, the film thickness of the coating film to be formed, and the like. However, for example, it is set in the range of 0.05 mm to 0.50 mm.
The distance D1 refers to the shortest distance between the tip of the die coater 120 and the backup roll 110.
The distance D1 can be measured with a taper gauge.

(基材)
基材140としては、連続搬送しうる長尺の基材であれば特に制限はなく、積層体の用途に応じて、適宜、決定されればよい。
バックアップロールへの巻き掛け易さを考慮すると、基材140にはポリマーフィルムが好ましく用いられる。
基材140の具体例としては、後述する各種のポリマーフィルムが挙げられる。
(Base material)
The base material 140 is not particularly limited as long as it is a long base material that can be continuously conveyed, and may be appropriately determined according to the use of the laminated body.
Considering the ease of winding around the backup roll, a polymer film is preferably used as the base material 140.
Specific examples of the base material 140 include various polymer films described later.

(塗布液)
塗布液150としては、有機溶剤を含む塗布液であり、目的とする塗工層を形成しうるものであれば、制限なく用いられる。
例えば、塗布液150としては、重合性又は架橋性化合物を含む硬化性塗布液であってもよいし、非硬化性塗布液であってもよい。
本開示の積層体の製造方法及び製造装置では、風ムラの発生が抑制された塗工層が形成できる。そのため、塗布液150として、例えば、5μm以下の薄層である、光学フィルムにおける、ハードコート層、液晶層、屈折率調整層等を形成するための塗布液を適用することもできる。
(Coating liquid)
The coating liquid 150 is a coating liquid containing an organic solvent, and can be used without limitation as long as it can form a target coating layer.
For example, the coating liquid 150 may be a curable coating liquid containing a polymerizable or crosslinkable compound, or may be a non-curable coating liquid.
In the method and apparatus for manufacturing the laminated body of the present disclosure, it is possible to form a coating layer in which the occurrence of wind unevenness is suppressed. Therefore, as the coating liquid 150, for example, a coating liquid for forming a hard coat layer, a liquid crystal layer, a refractive index adjusting layer, etc. in an optical film, which is a thin layer of 5 μm or less, can be applied.

塗布液中の有機溶剤の含有率は特に制限はないが、風ムラの発生を抑制した塗膜を形成しやすい観点から、塗布液の全質量に対して、20質量%以上が好ましく、30質量%以上がより好ましく、40質量%以上が更に好ましく、50質量%以上が特に好ましい。塗布液中の有機溶剤の含有率の上限は、目的とする塗工層を形成しうる塗布液の種類に応じて決定されればよく、100質量%未満であればよく、80質量以下がより好ましい。 The content of the organic solvent in the coating liquid is not particularly limited, but is preferably 20% by mass or more, preferably 30% by mass, based on the total mass of the coating liquid, from the viewpoint of easily forming a coating film in which the occurrence of wind unevenness is suppressed. % Or more is more preferable, 40% by mass or more is further preferable, and 50% by mass or more is particularly preferable. The upper limit of the content of the organic solvent in the coating liquid may be determined according to the type of the coating liquid capable of forming the target coating layer, and may be less than 100% by mass, more than 80% by mass. preferable.

ここで、塗布液の一例として、ハードコート層を形成するための塗布液(以下、ハードコート層形成用塗布液ともいう)について説明するが、本開示はこの態様に限定されるものではない。
ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応又は重合反応により形成されることが好ましい。つまり、ハードコート層形成用塗布液としては、例えば、モノマー、オリゴマー等の重合性化合物、重合開始剤、及び溶媒を含むことが好ましい。
重合性化合物としては、光、電子線、放射線等の活性エネルギー線にて重合性を示す化合物が好ましく、中でも、光重合性を示す化合物が好ましい。
光重合性を示す化合物としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和二重結合を有する化合物が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基を有する化合物が好ましい。
Here, as an example of the coating liquid, a coating liquid for forming a hard coat layer (hereinafter, also referred to as a coating liquid for forming a hard coat layer) will be described, but the present disclosure is not limited to this aspect.
The hard coat layer is preferably formed by a cross-linking reaction or a polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound. That is, it is preferable that the coating liquid for forming the hard coat layer contains, for example, a polymerizable compound such as a monomer or an oligomer, a polymerization initiator, and a solvent.
As the polymerizable compound, a compound exhibiting polymerizability with active energy rays such as light, electron beam, and radiation is preferable, and among them, a compound exhibiting photopolymerizability is preferable.
Examples of the compound exhibiting photopolymerizability include compounds having an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group, and among them, a compound having a (meth) acryloyl group is preferable.

-不飽和二重結合を有する化合物-
不飽和二重結合を有する化合物としては、モノマー、オリゴマー、ポリマー等が挙げられ、中でも、不飽和二重結合を2つ以上(好ましくは3つ以上)有する多官能モノマーであることが好ましい。
-Compounds with unsaturated double bonds-
Examples of the compound having an unsaturated double bond include a monomer, an oligomer, a polymer and the like, and among them, a polyfunctional monomer having two or more (preferably three or more) unsaturated double bonds is preferable.

不飽和二重結合を2つ以上有する多官能モノマーとしては、アルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の(メタ)アクリル酸ジエステル類、エポキシ(メタ)アクリレート類、ウレタン(メタ)アクリレート類、ポリエステル(メタ)アクリレート類等を挙げることができ、中でも、多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類が好ましい。 Examples of the polyfunctional monomer having two or more unsaturated double bonds include (meth) acrylic acid diesters of alkylene glycol, (meth) acrylic acid diesters of polyoxyalkylene glycol, and (meth) acrylic acid diesters of polyhydric alcohol. Examples include (meth) acrylic acid diesters of ethylene oxide or propylene oxide adducts, epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, polyester (meth) acrylates, etc., among which polyhydric alcohols (Meta) acrylic acid diesters are preferable.

不飽和二重結合を2つ以上有する多官能モノマーとしては、具体的には、例えば、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド(EO)変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド(PO)変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性リン酸トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート等が挙げられる。 Specific examples of the polyfunctional monomer having two or more unsaturated double bonds include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, and neopentyl glycol. Di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide (EO) Modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propylene oxide (PO) modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethanetri (meth) acrylate, trimethylolpropane Tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate, caprolactone Examples thereof include denatured tris (acetyloxyethyl) isocyanurate.

不飽和二重結合を有する化合物は、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
ハードコート層形成用塗布液中の不飽和二重結合を有する化合物の含有率は、十分な重合率を与えて硬度などを付与する観点から、ハードコート層形成用塗布液中の全固形分に対して、40質量%~98質量%が好ましく、60質量%~95質量%がより好ましい。
The compound having an unsaturated double bond can be used alone or in combination of two or more.
The content of the compound having an unsaturated double bond in the coating liquid for forming a hard coat layer is the total solid content in the coating liquid for forming a hard coat layer from the viewpoint of imparting a sufficient polymerization rate and imparting hardness and the like. On the other hand, 40% by mass to 98% by mass is preferable, and 60% by mass to 95% by mass is more preferable.

-重合開始剤-
ハードコート層形成用塗布液は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤としては、光重合開始剤が好ましく、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3-ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。
光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開2009-098658号公報の段落[0133]~[0151]に記載されており、本開示においても同様に好適に用いることができる。
また、重合開始剤としては、「最新UV硬化技術」{(株)技術情報協会}(1991年)、p.159、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著(平成元年、総合技術センター発行)、p.65~148にも種々の例が記載されており、これらを用いることもできる
-Initiator-
The coating liquid for forming a hard coat layer preferably contains a polymerization initiator.
The polymerization initiator is preferably a photopolymerization initiator, for example, acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphinoxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyl. Examples thereof include dione compounds, disulfide compounds, fluoroamine compounds, aromatic sulfoniums, lofin dimers, onium salts, borate salts, active esters, active halogens, inorganic complexes and coumarins.
Specific examples, preferred embodiments, commercial products, etc. of the photopolymerization initiator are described in paragraphs [0133] to [0151] of JP-A-2009-0986658, and may be preferably used in the present disclosure as well. can.
In addition, as a polymerization initiator, "Latest UV Curing Technology" {Technical Information Association, Inc.} (1991), p. 159 and "Ultraviolet Curing System" by Kiyomi Kato (Published by General Technology Center in 1989), p. Various examples are also described in 65 to 148, and these can also be used.

重合開始剤は、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
ハードコート層用組成物中の重合開始剤の含有率は、ハードコート層用組成物に含まれる重合性化合物を重合させるのに十分多く、かつ、開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという観点から、ハードコート層用組成物中の全固形分に対して、0.5質量%~8質量%が好ましく、1質量%~5質量%がより好ましい。
The polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more.
The content of the polymerization initiator in the composition for the hard coat layer is set to a sufficiently small amount so as to polymerize the polymerizable compound contained in the composition for the hard coat layer and not to increase the starting points too much. From the viewpoint of the above, 0.5% by mass to 8% by mass is preferable, and 1% by mass to 5% by mass is more preferable with respect to the total solid content in the composition for the hard coat layer.

-有機溶剤-
ハードコート層形成用塗布液は、溶媒として種々の有機溶剤を含有してもよい。
有機溶剤としては、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒等を用いることができる。
具体的には、例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキソラン、1,3,5-トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、メチルエチルケトン(MEKともいう)、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン(アノンともいう)、メチルシクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、2-オクタノン、2-ペンタノン、2-ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。
-Organic solvent-
The coating liquid for forming a hard coat layer may contain various organic solvents as a solvent.
As the organic solvent, an ether solvent, a ketone solvent, an aliphatic hydrocarbon solvent, an aromatic hydrocarbon solvent and the like can be used.
Specifically, for example, dibutyl ether, dimethoxyethane, diethoxy ethane, propylene oxide, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, 1,3,5-trioxane, tetrahydrofuran, anisole, phenetol, and methyl ethyl ketone (also known as MEK). , Diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone (also called anon), methylcyclohexanone, methylisobutylketone, 2-octanone, 2-pentanone, 2-hexanone, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol Examples thereof include isopropyl ether, ethylene glycol butyl ether, propylene glycol methyl ether, ethyl carbitol, butyl carbitol, hexane, heptane, octane, cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, benzene, toluene and xylene.

また、有機溶剤としては、上記以外の、例えば、親水性溶媒を含むことが好ましい。親水性溶媒としては、アルコール系溶媒、カーボネート系溶媒、エステル系溶媒を用いてもよい。
具体的には、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n-ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、2-エチル-1-ヘキサノール、2-メチル-1ヘキサノール、2-メトキシエタノール、2-プロポキシエタノール、2-ブトキシエタノール、ジアセトンアルコール、ジメチルカーボーネート、ジエチルカーボネート、ジイソプロピルカーボネート、メチルエチルカーボネート、メチルn-プロピルカーボネート、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、2-エトキシプロピオン酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2-メトキシ酢酸メチル、2-エトキシ酢酸メチル、2-エトキシ酢酸エチル、アセトン、1,2-ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、エチレングリコールモノブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールアセテート等が挙げられる。
Further, the organic solvent preferably contains, for example, a hydrophilic solvent other than the above. As the hydrophilic solvent, an alcohol solvent, a carbonate solvent, or an ester solvent may be used.
Specifically, for example, methanol, ethanol, isopropanol, n-butyl alcohol, cyclohexyl alcohol, 2-ethyl-1-hexanol, 2-methyl-1hexanol, 2-methoxyethanol, 2-propoxyethanol, 2-butoxyethanol. , Diacetone alcohol, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, diisopropyl carbonate, methyl ethyl carbonate, methyl n-propyl carbonate, ethyl forylate, propyl formic acid, pentyl notate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, methyl propionate, propionic acid Ethyl, ethyl 2-ethoxypropionate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methyl 2-methoxyacetate, methyl 2-ethoxyacetate, ethyl 2-ethoxyacetate, acetone, 1,2-diacetoxyacetone, acetylacetone, ethylene glycol mono Examples thereof include butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and diethylene glycol acetate.

有機溶剤としては、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
ハードコート層形成用塗布液中の溶剤は、ハードコート層形成用塗布液の固形分含有率が20質量%~80質量%の範囲となるように用いるのが好ましい。即ち、ハードコート層形成用塗布液中の溶剤の含有率は、ハードコート層形成用塗布液の全質量に対して20質量%~80質量%が好ましく、25質量%~70質量%がより好ましく、30質量%~60質量%が更に好ましい。
As the organic solvent, one type alone or two or more types can be used in combination.
The solvent in the coating liquid for forming the hard coat layer is preferably used so that the solid content of the coating liquid for forming the hard coat layer is in the range of 20% by mass to 80% by mass. That is, the content of the solvent in the coating liquid for forming the hard coat layer is preferably 20% by mass to 80% by mass, more preferably 25% by mass to 70% by mass, based on the total mass of the coating liquid for forming the hard coat layer. , 30% by mass to 60% by mass is more preferable.

-界面活性剤-
ハードコート層形成用塗布液は、界面活性剤を含んでいてもよい。
界面活性剤としては、特に制限はないが、フッ素系界面活性剤、又はシリコーン系界面活性剤が好ましい。また、界面活性剤は、低分子化合物よりも高分子化合物であることが好ましい。
-Surfactant-
The coating liquid for forming a hard coat layer may contain a surfactant.
The surfactant is not particularly limited, but a fluorine-based surfactant or a silicone-based surfactant is preferable. Further, the surfactant is preferably a high molecular weight compound rather than a low molecular weight compound.

界面活性剤としては、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
界面活性剤の含有率は、ハードコート層形成用塗布液の全固形分に対し、0.01質量%~0.5質量%であることが好ましく、0.01質量%~0.3質量%であることがより好ましい。
As the surfactant, one type alone or two or more types can be used in combination.
The content of the surfactant is preferably 0.01% by mass to 0.5% by mass, preferably 0.01% by mass to 0.3% by mass, based on the total solid content of the coating liquid for forming the hard coat layer. Is more preferable.

-その他の成分-
ハードコート層形成用塗布液は、無機粒子、樹脂粒子、屈折率調整用のモノマー、導電性化合物等のその他の成分を含んでいてもよい。
-Other ingredients-
The coating liquid for forming a hard coat layer may contain other components such as inorganic particles, resin particles, a monomer for adjusting the refractive index, and a conductive compound.

ハードコート層形成用塗布液は、上記の組成に限定されず、例えば、特許5933353号公報、特許5331919号公報等に記載の塗布液を適用してもよい。 The coating liquid for forming a hard coat layer is not limited to the above composition, and for example, the coating liquid described in Japanese Patent No. 5933353, Japanese Patent No. 5331919, etc. may be applied.

[工程b]
工程bでは、塗膜上の気体を吸気することで、バックアップロール上の塗膜から有機溶剤を減少させる。
工程bの一例について、図1~図3を参照して、説明する。
[Step b]
In step b, the organic solvent is reduced from the coating film on the backup roll by inhaling the gas on the coating film.
An example of step b will be described with reference to FIGS. 1 to 3.

工程bでは、バックアップロール110上にある塗膜152に対し、減圧室130を用いて、塗膜152上の気体を吸気する。減圧室130により塗膜152上の気体が吸気されることで、塗膜中の有機溶剤が減少する。
ここで、工程bにおける基材上雰囲気圧Pは、条件1に示すように、基材上雰囲気圧Pよりも小さく、且つ、条件2に示すように、大気圧-100Pa以下である。
これらの条件を満たすことで、風ムラの発生が抑制された塗膜が形成され、結果として、風ムラの発生が抑制された塗工層が形成される。
In step b, the gas on the coating film 152 is sucked into the coating film 152 on the backup roll 110 by using the pressure reducing chamber 130. The gas on the coating film 152 is sucked by the decompression chamber 130, so that the organic solvent in the coating film is reduced.
Here, the atmospheric pressure P B on the substrate in the step b is smaller than the atmospheric pressure PA on the substrate as shown in condition 1, and is atmospheric pressure −100 Pa or less as shown in condition 2.
By satisfying these conditions, a coating film in which the occurrence of wind unevenness is suppressed is formed, and as a result, a coating layer in which the occurrence of wind unevenness is suppressed is formed.

工程bにおける基材上雰囲気圧Pとしては、外乱による影響を受けにくくする観点から、減圧度が高い方がよく、大気圧-1000Pa以下が好ましく、大気圧-10000Pa以下がより好ましい。
基材上雰囲気圧Pの下限値としては、減圧室130の装置限界、基材140のバックアップロール110からの浮き等の抑制等から決定されればよく、例えば、大気圧-50000Paに設定することができる。
As the atmospheric pressure P B on the substrate in the step b, the degree of decompression is preferably high, preferably atmospheric pressure −1000 Pa or less, and more preferably atmospheric pressure −10000 Pa or less, from the viewpoint of making it less susceptible to disturbance.
The lower limit of the atmospheric pressure P B on the base material may be determined from the device limit of the decompression chamber 130, suppression of floating of the base material 140 from the backup roll 110, etc., and is set to, for example, atmospheric pressure -50000 Pa. be able to.

以下、工程bに用いられる減圧室について説明する。 Hereinafter, the decompression chamber used in step b will be described.

(減圧室)
図1に示す通り、減圧室130は、ダイコータ120に対し、基材の搬送方向下流側に隣接して配置されている。
減圧室130とダイコータ120とを離間して配置することで、基材上雰囲気圧Pを前述の好ましい範囲に調整することができる。
例えば、図2に示すように、ダイコータ120と減圧室130Aとの離間距離D2としては、1mm~5mmの範囲に設定することができる。
なお、距離D2は、ダイコータ120の側面と減圧室130Aの側面との間の最短距離を指す。
(Decompression chamber)
As shown in FIG. 1, the decompression chamber 130 is arranged adjacent to the die coater 120 on the downstream side in the transport direction of the base material.
By arranging the decompression chamber 130 and the die coater 120 apart from each other, the atmospheric pressure PA on the substrate can be adjusted to the above - mentioned preferable range.
For example, as shown in FIG. 2, the separation distance D2 between the die coater 120 and the decompression chamber 130A can be set in the range of 1 mm to 5 mm.
The distance D2 refers to the shortest distance between the side surface of the die coater 120 and the side surface of the decompression chamber 130A.

離間距離D2の調整によって、工程aにおける基材と塗布液との接触点(即ち、バックアップロール上の基材とダイコータにより塗布された塗布液との接触点)から、工程bにおける塗膜上の気体の吸気が開始される点(即ち、減圧室にて塗膜上の気体の吸気が開始される点)までの距離を変更することができる。
ここで、工程aにおける基材と塗布液との接触点は、図1における基材140上の点cであり、工程bにおける塗膜上の気体の吸気が開始される点は、図1における、減圧室130の基材の搬送方向の上流側端部から最短距離にある基材140上の点dである。
点cと点dとの距離としては、50mm以下が好ましく、30mm以下がより好ましい。
点cと点dとの距離の下限値としては、装置の設計上、1mm程度と考えられる。
By adjusting the separation distance D2, the contact point between the base material and the coating liquid in step a (that is, the contact point between the base material on the backup roll and the coating liquid coated by the die coater) is on the coating film in step b. The distance to the point where the gas intake is started (that is, the point where the gas intake on the coating film is started in the decompression chamber) can be changed.
Here, the contact point between the base material and the coating liquid in step a is the point c on the base material 140 in FIG. 1, and the point at which the inhalation of the gas on the coating film in step b is started is in FIG. A point d on the base material 140 at the shortest distance from the upstream end of the base material in the decompression chamber 130 in the transport direction.
The distance between the point c and the point d is preferably 50 mm or less, more preferably 30 mm or less.
The lower limit of the distance between the point c and the point d is considered to be about 1 mm due to the design of the device.

また、減圧室130により塗膜上の気体を吸気する範囲は、特に制限はなく、基材140がバックアップロール110から離れるまで行われてもよいし、減圧室130の大きさが許容される範囲である、また、基材140の搬送安定化が図れる範囲であれば、基材140がバックアップロール110から離れた後まで継続してもよい。
つまり、工程bにおける気体の吸気は、バックアップロール上の塗膜に対して行われるが、バックアップロールから離れた基材上の塗膜に対してまで継続して行ってもよい。
但し、減圧室130が大型化してしまう観点等から、図1における点d(減圧室にて塗膜上の気体の吸気が開始される点)から図1における点e(減圧室にて塗膜上の気体の吸気が終了する点)までに距離を100mm~500mm(より好ましくは100mm~200mm)の範囲とすることが好ましい。
ここで、点eは、減圧室130の基材の搬送方向の下流側端部から最短距離にある基材上の点である。
点dと点eとの距離を上記の範囲とするためには、減圧室130の基材140の搬送方向における長さを調節すればよい。つまり、減圧室130の基材140の搬送方向における長さは、100mm~500mmとすればよい。
Further, the range in which the gas on the coating film is taken in by the decompression chamber 130 is not particularly limited, and may be performed until the base material 140 is separated from the backup roll 110, and the size of the decompression chamber 130 is acceptable. Further, as long as the transport and stabilization of the base material 140 can be achieved, the base material 140 may be continued until after the base material 140 is separated from the backup roll 110.
That is, the gas intake in the step b is performed on the coating film on the backup roll, but may be continuously performed on the coating film on the substrate away from the backup roll.
However, from the viewpoint of increasing the size of the decompression chamber 130, the point d in FIG. 1 (the point at which the intake of gas on the coating film is started in the decompression chamber) to the point e in FIG. 1 (the coating film in the decompression chamber). It is preferable that the distance is in the range of 100 mm to 500 mm (more preferably 100 mm to 200 mm) by the point at which the intake of the above gas ends).
Here, the point e is a point on the base material at the shortest distance from the downstream end portion of the base material of the decompression chamber 130 in the transport direction.
In order to make the distance between the point d and the point e within the above range, the length of the base material 140 of the decompression chamber 130 in the transport direction may be adjusted. That is, the length of the base material 140 of the decompression chamber 130 in the transport direction may be 100 mm to 500 mm.

また、減圧室130により塗膜上の気体を吸気する範囲は、風ムラの発生を抑制しやすい観点から、塗膜の固形分濃度が60質量%(好ましくは、70質量%)に到達するまで行うことが好ましい。
即ち、工程bにて、塗膜の固形分濃度が60質量%(好ましくは、70質量%)に到達するまで塗膜上の気体を吸気することが好ましい。
そのため、例えば、上記した点eにおいて、塗膜の固形分濃度が60質量%(好ましくは、70質量%)以上となるように、減圧室130の基材140の搬送方向における長さを設定すればよい。具体的には、減圧室130による塗膜上の気体の吸気時間と、塗膜の固形分濃度の変化と、の関係を予め求めておき、塗膜の固形分濃度が60質量%(好ましくは、70質量%)となる位置以降に点eが来るよう、減圧室130の基材140の搬送方向における長さを設定すればよい。
Further, the range in which the gas on the coating film is sucked by the decompression chamber 130 is until the solid content concentration of the coating film reaches 60% by mass (preferably 70% by mass) from the viewpoint of easily suppressing the occurrence of wind unevenness. It is preferable to do so.
That is, in step b, it is preferable to inhale the gas on the coating film until the solid content concentration of the coating film reaches 60% by mass (preferably 70% by mass).
Therefore, for example, at the above point e, the length of the base material 140 of the pressure reducing chamber 130 in the transport direction should be set so that the solid content concentration of the coating film is 60% by mass (preferably 70% by mass) or more. Just do it. Specifically, the relationship between the intake time of the gas on the coating film by the decompression chamber 130 and the change in the solid content concentration of the coating film is obtained in advance, and the solid content concentration of the coating film is 60% by mass (preferably). , 70% by mass), the length of the base material 140 of the decompression chamber 130 in the transport direction may be set so that the point e comes after the position.

ここで、塗膜の固形分濃度の測定は、例えば、光干渉式膜厚計にて測定することができる。具体的には、塗膜の固形分濃度の測定は、例えば、キーエンス社製の赤外分光干渉式膜厚計SI-T80を用いて、塗布した時点から乾膜になるまでの膜の光学厚みを計測することによりオンラインで行える。
具体的には、まず、塗布した時点から乾膜になるまでの膜の光学厚みを計測する。次いで、接触式厚み計で乾燥後の膜(即ち、乾膜)の厚みを計測する。接触式厚み計で計測した乾膜の厚みを光学厚みで除算して補正する。補正された値をもとに、光学厚みから湿潤膜(塗膜)の厚みを算出する。そして、測定点における湿潤膜(塗膜)の厚みから溶剤量を得る。そして、得られた溶剤量から溶剤質量を求め、測定点における固形分濃度の値を得る。
Here, the solid content concentration of the coating film can be measured by, for example, an optical interferometry film thickness meter. Specifically, the solid content concentration of the coating film is measured by using, for example, an infrared spectroscopic interferometry film thickness meter SI-T80 manufactured by KEYENCE CORPORATION, and the optical thickness of the film from the time of application to the formation of a dry film. It can be done online by measuring.
Specifically, first, the optical thickness of the film from the time of application to the time when it becomes a dry film is measured. Next, the thickness of the dried film (that is, the dry film) is measured with a contact thickness gauge. The thickness of the dry film measured by the contact thickness meter is divided by the optical thickness to correct it. Based on the corrected value, the thickness of the wet film (coating film) is calculated from the optical thickness. Then, the amount of solvent is obtained from the thickness of the wet film (coating film) at the measurement point. Then, the solvent mass is obtained from the obtained solvent amount, and the value of the solid content concentration at the measurement point is obtained.

減圧室130は、塗膜上の気体を吸気する機能を有しており、基材上雰囲気圧Pを大気圧-100Pa以下とすることができれば、その構成には制限はない。
本開示においては、図2及び図3を参照して減圧室130の更なる詳細に説明するが、この構成に限定されるものではない。
ここで、図2は、第1態様の減圧室の構成を説明するための概略側面図であり、図3は、第2態様の減圧室の構成を説明するための概略側面図である。
The decompression chamber 130 has a function of sucking gas on the coating film, and there is no limitation on the configuration as long as the atmospheric pressure P B on the substrate can be set to atmospheric pressure −100 Pa or less.
In the present disclosure, the decompression chamber 130 will be described in more detail with reference to FIGS. 2 and 3, but is not limited to this configuration.
Here, FIG. 2 is a schematic side view for explaining the configuration of the decompression chamber of the first aspect, and FIG. 3 is a schematic side view for explaining the configuration of the decompression chamber of the second aspect.

図2に示す第1態様の減圧室130Aは、減圧室本体131と排気口132とから構成される。減圧室130A(減圧室本体131)は、塗膜152上の気体を吸気するため、バックアップロール110表面に対向する面が開放された略直方体形状を有している。
減圧室本体131の側面(即ち、基材の搬送方向に平行な面)は、図2に示すように、側面視した場合に、バックアップロール110の曲率に合わせた円弧状となる先端面131Aを有する。
ここで、円弧状とは、厳密に円周の一部形状である必要はなく、円周の一部形状に類似する形状であればよい。
The decompression chamber 130A of the first aspect shown in FIG. 2 is composed of a decompression chamber main body 131 and an exhaust port 132. The decompression chamber 130A (decompression chamber main body 131) has a substantially rectangular parallelepiped shape in which the surface facing the surface of the backup roll 110 is open in order to take in the gas on the coating film 152.
As shown in FIG. 2, the side surface of the decompression chamber main body 131 (that is, the surface parallel to the transport direction of the base material) has a tip surface 131A having an arc shape that matches the curvature of the backup roll 110 when viewed from the side. Have.
Here, the arc shape does not have to be strictly a partial shape of the circumference, and may be a shape similar to the partial shape of the circumference.

円弧状の先端面(減圧室の側面の先端面の一例)131Aとバックアップロール110との距離D3としては、基材上雰囲気圧Pを大気圧-100Pa以下とする観点から、0.5mm以下であることが好ましく、基材上雰囲気圧Pをより小さくするためには、距離D3を小さくすることが好ましく、0.4mm以下がより好ましい。
また、基材140との接触、塗膜152との接触等を抑制する観点から、距離D3の下限値は、0.1mmとすることが好ましい。
ここで、距離D3は、円弧状の先端面131Aとバックアップロール110との間の最短距離を指す。
なお、円弧状の先端面131Aとバックアップロール110との間の距離は、距離D1と同様の方法で測定することができる。
The distance D3 between the arcuate tip surface (an example of the tip surface of the side surface of the decompression chamber) 131A and the backup roll 110 is 0.5 mm or less from the viewpoint of setting the atmospheric pressure P B on the substrate to atmospheric pressure -100 Pa or less. In order to make the atmospheric pressure P B on the substrate smaller, the distance D3 is preferably made smaller, and 0.4 mm or less is more preferable.
Further, from the viewpoint of suppressing contact with the base material 140, contact with the coating film 152, and the like, the lower limit of the distance D3 is preferably 0.1 mm.
Here, the distance D3 refers to the shortest distance between the arcuate tip surface 131A and the backup roll 110.
The distance between the arcuate tip surface 131A and the backup roll 110 can be measured by the same method as the distance D1.

減圧室本体131は、排気口132を介して図示されないブロアに接続している。ブロアを稼働させることにより、排気口132から気体を吸気して、減圧室130A(減圧室本体131)の内部を大気圧よりも減圧する。
そして、減圧室130A(減圧室本体131)の内部の減圧度を調整することで、減圧室130Aにおける気体の吸気時の基材上雰囲気圧Pが大気圧-100Pa以下になるようにする。
ここで、減圧室本体131のバックアップロール110表面に対向した面(円弧状の先端面131Aの他、減圧室の背面の先端面及び減圧室の正面の先端面)の外周には、減圧室130Aへの気体流出入を制御する機構を設けてもよい。具体的には、例えば、ラビリンスのような隙間を設けて圧力損失を調整する機構が挙げられる。ラビリンスは多段でもよく、各段毎に隙間の大きさを変えてもよい。
この気体流入の抑制機構を備えることで、減圧室130A(減圧室本体131)の内部の減圧度を高め易くなる。
The decompression chamber main body 131 is connected to a blower (not shown) via an exhaust port 132. By operating the blower, gas is taken in from the exhaust port 132, and the inside of the decompression chamber 130A (decompression chamber main body 131) is depressurized more than the atmospheric pressure.
Then, by adjusting the degree of decompression inside the decompression chamber 130A (decompression chamber main body 131), the atmospheric pressure P B on the substrate at the time of inhaling gas in the decompression chamber 130A is set to atmospheric pressure −100 Pa or less.
Here, on the outer periphery of the surface of the decompression chamber main body 131 facing the surface of the backup roll 110 (in addition to the arcuate tip surface 131A, the front end surface on the back surface of the decompression chamber and the front end surface on the front surface of the decompression chamber), the decompression chamber 130A A mechanism for controlling the inflow and outflow of gas to the gas may be provided. Specifically, for example, a mechanism for adjusting the pressure loss by providing a gap such as a labyrinth can be mentioned. The labyrinth may be in multiple stages, and the size of the gap may be changed for each stage.
By providing the gas inflow suppression mechanism, it becomes easy to increase the degree of decompression inside the decompression chamber 130A (decompression chamber main body 131).

図3に示す第2態様の減圧室130Bは、減圧室本体133、2つの側板136、背面板137、及び正面板138から構成される。
そして、減圧室本体133は、減圧室130Bに気体を供給する手段である給気スリット134と、減圧室130Bから気体を排気する手段である排気スリット135と、を有する。
The decompression chamber 130B of the second aspect shown in FIG. 3 is composed of a decompression chamber main body 133, two side plates 136, a back plate 137, and a front plate 138.
The decompression chamber main body 133 has an air supply slit 134 which is a means for supplying gas to the decompression chamber 130B, and an exhaust slit 135 which is a means for exhausting gas from the decompression chamber 130B.

減圧室130Bは、減圧室本体133、2つの側板136、背面板137、及び正面板138で囲まれた空間を有しており、減圧室本体133の給気スリット134から気体を給気し、且つ、排気スリット135から気体を排気することで、空間内に気体の対流が生じる。
減圧室130B内における塗膜上の気体の風速は、0.5m/s~100m/sの範囲であることが好ましく、上記の気体の対流が加わることで、1m/s~100m/sの範囲とすることができ、10m/s~100m/sが更に好ましい範囲となる。
塗膜上の気体の風速は、塗膜表面から1mm上部における風速を、無指向性の風速計、具体的には、例えば、アネモマスター(アネモマスター風速計MODEL-611シリーズ、KANOMAX社)にて測定した値である。
The decompression chamber 130B has a space surrounded by a decompression chamber main body 133, two side plates 136, a back plate 137, and a front plate 138, and gas is supplied from the air supply slit 134 of the decompression chamber main body 133. Moreover, by exhausting the gas from the exhaust slit 135, convection of the gas is generated in the space.
The wind speed of the gas on the coating film in the decompression chamber 130B is preferably in the range of 0.5 m / s to 100 m / s, and is in the range of 1 m / s to 100 m / s due to the addition of the above gas convection. 10 m / s to 100 m / s is a more preferable range.
The wind speed of the gas on the coating film is the wind speed 1 mm above the surface of the coating film with an omnidirectional anemometer, specifically, for example, Anemomaster (Anemomaster anemometer MODEL-611 series, KANOMAX). It is a measured value.

また、減圧室本体133の給気スリット134から給気する気体量と、排気スリット135から排出する気体量とのバランスを調整することで、減圧室130Bの空間内を大気圧よりも減圧することができる。
そして、減圧室130Bの空間内の減圧度を調整することで、減圧室130Bにおける気体の吸気時の基材上雰囲気圧Pが大気圧-100Pa以下になるようにする。
なお、給気スリット134及び排気スリット135は、それぞれ、例えば、0.1mm~5mmの隙間を有しており、この隙間を通じて、気体の給気及び排気が行われる。
Further, by adjusting the balance between the amount of gas supplied from the air supply slit 134 of the decompression chamber main body 133 and the amount of gas discharged from the exhaust slit 135, the space of the decompression chamber 130B is depressurized more than the atmospheric pressure. Can be done.
Then, by adjusting the degree of decompression in the space of the decompression chamber 130B, the atmospheric pressure PB on the substrate at the time of inhaling the gas in the decompression chamber 130B is set to atmospheric pressure −100 Pa or less.
The air supply slit 134 and the exhaust slit 135 each have a gap of, for example, 0.1 mm to 5 mm, and gas is supplied and exhausted through the gap.

側板136は、減圧室本体133の側面(即ち、基材の搬送方向に平行な面)に接触配置された板状部材である。
側板136は、図3に示すように、側面視した場合に、バックアップロール110の曲率に合わせた円弧状となる先端面(減圧室の側面の先端面の一例)136Aを有する。
円弧状の先端面136Aとバックアップロール110との距離D3としては、減圧室130Aにおける円弧状の先端面136Aとバックアップロール110との距離D3と同様であり、好ましい態様及び測定方法も同様である。
The side plate 136 is a plate-shaped member contact-arranged on the side surface of the decompression chamber main body 133 (that is, a surface parallel to the transport direction of the base material).
As shown in FIG. 3, the side plate 136 has a tip surface (an example of the tip surface of the side surface of the decompression chamber) 136A having an arc shape that matches the curvature of the backup roll 110 when viewed from the side.
The distance D3 between the arcuate tip surface 136A and the backup roll 110 is the same as the distance D3 between the arcuate tip surface 136A and the backup roll 110 in the decompression chamber 130A, and the preferred embodiment and measurement method are also the same.

背面板137は、減圧室本体133の背面(即ち、基材の搬送方向に垂直な面であって、基材の搬送方向下流側の面)に接触配置された板状部材である。
また、正面板138は、減圧室本体133の正面(即ち、基材の搬送方向に垂直な面であって、基材の搬送方向上流側の面)に接触配置された板状部材である。
背面板137及び正面板138は、それぞれ、バックアップロールの表面と対向する先端面137A及び先端面138Aを有する。
The back plate 137 is a plate-shaped member contacted and arranged on the back surface of the decompression chamber main body 133 (that is, a surface perpendicular to the transport direction of the base material and a surface on the downstream side in the transport direction of the base material).
Further, the front plate 138 is a plate-shaped member contact-arranged on the front surface of the decompression chamber main body 133 (that is, a surface perpendicular to the transport direction of the base material and an upstream side in the transport direction of the base material).
The back plate 137 and the front plate 138 have a front end surface 137A and a front end surface 138A facing the surface of the backup roll, respectively.

背面板137の先端面(減圧室の背面の先端面の一例)137Aとバックアップロール110との距離D4としては、基材上雰囲気圧Pを大気圧-100Pa以下とする観点から、0.5mm以下であることが好ましく、基材上雰囲気圧Pをより小さくするためには、距離D4を小さくすることが好ましく、0.4mm以下がより好ましい。
また、基材140との接触、塗膜152との接触等を抑制する観点から、距離D4の下限値は、0.1mmとすることが好ましい。
ここで、距離D4は、背面板137の先端面137Aとバックアップロール110との間の最短距離をいう。
なお、背面板137の先端面137Aとバックアップロール110との間の距離は、距離D1と同様の方法で測定することができる。
The distance D4 between the tip surface of the back plate 137 (an example of the tip surface of the back surface of the decompression chamber) 137A and the backup roll 110 is 0.5 mm from the viewpoint that the atmospheric pressure P B on the substrate is atmospheric pressure -100 Pa or less. It is preferably as follows, and in order to make the atmospheric pressure P B on the substrate smaller, it is preferable to reduce the distance D4, and more preferably 0.4 mm or less.
Further, from the viewpoint of suppressing contact with the base material 140, contact with the coating film 152, and the like, the lower limit of the distance D4 is preferably 0.1 mm.
Here, the distance D4 refers to the shortest distance between the tip surface 137A of the back plate 137 and the backup roll 110.
The distance between the tip surface 137A of the back plate 137 and the backup roll 110 can be measured by the same method as the distance D1.

正面板138の先端面(減圧室の正面の先端面の一例)138Aとバックアップロール110との距離D5としては、基材上雰囲気圧Pを大気圧-100Pa以下とする観点から、0.5mm以下であることが好ましく、基材上雰囲気圧Pをより小さくするためには、距離D5を小さくすることが好ましく、0.4mm以下がより好ましい。
また、基材140との接触、塗膜152との接触等を抑制する観点から、距離D5の下限値は、0.1mmとすることが好ましい。
ここで、距離D5は、正面板138の先端面138Aとバックアップロール110との間の最短距離をいう。
なお、正面板138の先端面138Aとバックアップロール110との間の距離は、距離D1と同様の方法で測定することができる。
The distance D5 between the tip surface of the front plate 138 (an example of the front tip surface of the decompression chamber) 138A and the backup roll 110 is 0.5 mm from the viewpoint that the atmospheric pressure P B on the substrate is atmospheric pressure -100 Pa or less. It is preferably as follows, and in order to make the atmospheric pressure P B on the substrate smaller, it is preferable to reduce the distance D5, and more preferably 0.4 mm or less.
Further, from the viewpoint of suppressing contact with the base material 140, contact with the coating film 152, and the like, the lower limit of the distance D5 is preferably 0.1 mm.
Here, the distance D5 refers to the shortest distance between the tip surface 138A of the front plate 138 and the backup roll 110.
The distance between the tip surface 138A of the front plate 138 and the backup roll 110 can be measured by the same method as the distance D1.

更に、距離D5は、前述した円弧状の先端面136Aとバックアップロール110との距離D3よりも大きいことが、減圧室の入口において風の動圧による塗膜の乱れを小さくする観点で好ましい。 Further, it is preferable that the distance D5 is larger than the distance D3 between the arc-shaped tip surface 136A and the backup roll 110 described above, from the viewpoint of reducing the disturbance of the coating film due to the dynamic pressure of the wind at the inlet of the decompression chamber.

ここで、2つの側板136、背面板137、及び正面板138のバックアップロール110表面に対向した面の外周には、第1態様で説明したものと同様の、気体流入の抑制機構を設けてもよい。
この気体流入の抑制機構を備えることで、減圧室130Bの内部の減圧度を高め易くなる。
Here, the same gas inflow suppression mechanism as described in the first aspect may be provided on the outer periphery of the surfaces of the two side plates 136, the back plate 137, and the front plate 138 facing the surface of the backup roll 110. good.
By providing the gas inflow suppression mechanism, it becomes easy to increase the degree of decompression inside the decompression chamber 130B.

以上のような減圧室を用いて工程bが行われ、その結果、風ムラの発生が抑制された塗膜が形成される。 Step b is performed using the decompression chamber as described above, and as a result, a coating film in which the occurrence of wind unevenness is suppressed is formed.

本開示の積層体の製造方法は、前述の工程a及び工程b以外に、工程bにて増粘された塗膜を乾燥させる乾燥工程、乾燥工程後の塗膜に対して活性エネルギー線を照射して塗膜を硬化させる硬化工程等を有していてもよい。 In the method for producing a laminate of the present disclosure, in addition to the above-mentioned steps a and b, a drying step of drying the thickened coating film in step b and irradiation of the coating film after the drying step with active energy rays. It may have a curing step of curing the coating film.

[乾燥工程]
乾燥工程では、重層塗布工程で形成された塗膜から溶媒を減少させる。
乾燥工程で用いる乾燥手段としては、特に制限はなく、例えば、オーブン、温風機、赤外線(IR)ヒーター等を用いる方法が挙げられる。
温風機による乾燥においては、基材の塗膜形成面とは反対の面から温風を当てる構成でもよく、塗膜が温風にて流動しないよう、拡散板を設置した構成としてもよい。
乾燥条件は、形成された塗膜の種類、塗布量、搬送速度等に応じて決定されればよく、例えば、30℃~140℃の範囲で、10秒~10分間行うことが好ましい。
[Drying process]
In the drying step, the solvent is reduced from the coating film formed in the layer coating step.
The drying means used in the drying step is not particularly limited, and examples thereof include a method using an oven, a warm air blower, an infrared (IR) heater, and the like.
In the drying by a warm air blower, the warm air may be blown from the surface opposite to the coating film forming surface of the base material, or a diffusion plate may be installed so that the coating film does not flow with the warm air.
The drying conditions may be determined according to the type of the formed coating film, the coating amount, the transport speed, and the like, and are preferably carried out in the range of, for example, 30 ° C. to 140 ° C. for 10 seconds to 10 minutes.

[硬化工程]
硬化工程は、乾燥工程後の塗膜に対して活性エネルギー線を照射して塗膜を硬化させる。
硬化工程で用いる活性エネルギー線の照射手段としては、照射する塗膜中に活性種を発生させうるエネルギーを付与する手段であれば、特に制限はない。
活性エネルギー線として、具体的には、例えば、α線、γ線、X線、紫外線、赤外線、可視光線、電子線等が挙げられる。これらのうち、硬化感度及び装置の入手容易性の観点から、活性エネルギー線としては、紫外線が好ましく用いられる。
[Curing process]
In the curing step, the coating film after the drying step is irradiated with active energy rays to cure the coating film.
The means for irradiating the active energy rays used in the curing step is not particularly limited as long as it is a means for imparting energy capable of generating active species in the coating film to be irradiated.
Specific examples of the active energy ray include α-rays, γ-rays, X-rays, ultraviolet rays, infrared rays, visible rays, and electron beams. Of these, ultraviolet rays are preferably used as the active energy rays from the viewpoint of curing sensitivity and availability of equipment.

紫外線の光源としては、例えば、タングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、カーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー(例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、YAG(Yttrium Aluminum Garnet)レーザー)、発光ダイオード、陰極線管等を挙げることができる。
紫外線の光源から発せられる紫外線のピーク波長は、200nm~400nmが好ましい。
また、紫外線の露光エネルギー量としては、例えば、100mJ/cm~500mJ/cmが好ましい。
Examples of the light source of ultraviolet rays include tungsten lamps, halogen lamps, xenon lamps, xenon flash lamps, mercury lamps, mercury xenon lamps, carbon arc lamps and other lamps, and various lasers (eg, semiconductor lasers, helium neon lasers, argon ions). Examples include lasers, helium cadmium lasers, YAG (Yttrium Aluminum Garnet) lasers), light emitting diodes, cathode wire tubes, and the like.
The peak wavelength of ultraviolet rays emitted from the light source of ultraviolet rays is preferably 200 nm to 400 nm.
Further, as the amount of exposure energy of ultraviolet rays, for example, 100 mJ / cm 2 to 500 mJ / cm 2 is preferable.

以上により、基材上に塗布液から形成された塗工層が設けられた積層体を製造することができる。 From the above, it is possible to manufacture a laminated body in which a coating layer formed from a coating liquid is provided on a base material.

[積層体]
本開示の積層体の製造方法で得られた積層体は、基材と、塗布液から形成された目的とする塗工層と、を有する。
[Laminate]
The laminate obtained by the method for producing a laminate of the present disclosure has a base material and a target coating layer formed from a coating liquid.

(基材)
基材としては、積層体の用途に応じて、適宜選択することができ、例えば、ポリマーフィルムが挙げられる。
光学フィルム用途であれば、基材の光透過率は、80%以上であることが好ましい。
光学フィルム用途であれば、基材としてポリマーフィルムを用いる場合には、光学的等方性のポリマーフィルムを用いるのが好ましい。
基材としては、例えば、ポリエステル系基材(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のフィルム若しくはシート)、セルロース系基材(ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース(TAC)等のフィルム若しくはシート)、ポリカーボネート系基材、ポリ(メタ)アクリル系基材(ポリメチルメタクリレート等のフィルム若しくはシート)、ポリスチレン系基材(ポリスチレン、アクリロニトリルスチレン共重合体等のフィルム若しくはシート)、オレフィン系基材(ポリエチレン、ポリプロピレン、環状若しくはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレンプロピレン共重合体等のフィルム若しくはシート)、ポリアミド系基材(ポリ塩化ビニル、ナイロン、芳香族ポリアミド等のフィルム若しくはシート)、ポリイミド系基材、ポリスルホン系基材、ポリエーテルスルホン系基材、ポリエーテルエーテルケトン系基材、ポリフェニレンスルフィド系基材、ビニルアルコール系基材、ポリ塩化ビニリデン系基材、ポリビニルブチラール系基材、ポリ(メタ)アクリレート系基材、ポリオキシメチレン系基材、エポキシ樹脂系基材等の透明基材、又は上記のポリマー材料をブレンドしたブレンドポリマーからなる基材等が挙げられる。
(Base material)
The base material can be appropriately selected depending on the use of the laminate, and examples thereof include a polymer film.
For optical film applications, the light transmittance of the substrate is preferably 80% or more.
For optical film applications, when a polymer film is used as the substrate, it is preferable to use an optically isotropic polymer film.
Examples of the base material include a polyester-based base material (film or sheet such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate), a cellulose-based base material (film or sheet such as diacetyl cellulose and triacetyl cellulose (TAC)), and a polycarbonate-based base material. , Poly (meth) acrylic substrate (film or sheet such as polymethylmethacrylate), polystyrene-based substrate (film or sheet such as polystyrene, acrylonitrile-styrene copolymer), olefin-based substrate (polyethylene, polypropylene, cyclic or Polyethylene having a norbornene structure, film or sheet of ethylene-propylene copolymer, etc.), polyamide-based substrate (film or sheet of polyvinyl chloride, nylon, aromatic polyamide, etc.), polyimide-based substrate, polysulfone-based substrate, poly Ethersulfone-based base material, polyether ether ketone-based base material, polyphenylene sulfide-based base material, vinyl alcohol-based base material, polyvinylidene chloride-based base material, polyvinyl butyral-based base material, poly (meth) acrylate-based base material, polyoxy Examples thereof include a transparent base material such as a methylene-based base material and an epoxy resin-based base material, or a base material made of a blended polymer blended with the above polymer materials.

基材としては、上記のポリマーフィルム上に予め層が形成されたものであってもよい。
予め形成される層としては、接着層、水、酸素等に対するバリア層、屈折率調整層等が挙げられる。
The base material may be one in which a layer is previously formed on the above-mentioned polymer film.
Examples of the layer formed in advance include an adhesive layer, a barrier layer against water, oxygen and the like, a refractive index adjusting layer and the like.

(目的とする塗工層)
塗布液から形成される目的とする塗工層としては、特に制限はなく、光学フィルム用途であれば、ハードコート層、液晶層、屈折率調整層等が挙げられる。
塗布液から形成される層の厚さとしては、用途に応じて異なるが、本開示の積層体の製造方法を採用することで、例えば、5μm以下、より好ましくは0.1μm~100μmの範囲とすることができる。
(Target coating layer)
The target coating layer formed from the coating liquid is not particularly limited, and examples thereof include a hard coat layer, a liquid crystal layer, and a refractive index adjusting layer for optical film applications.
The thickness of the layer formed from the coating liquid varies depending on the application, but by adopting the method for producing the laminate of the present disclosure, for example, it is in the range of 5 μm or less, more preferably 0.1 μm to 100 μm. can do.

(その他の層)
塗布液から形成される層上には、更に、用途に応じて、その他の層を有していてもよい。
(Other layers)
Further, another layer may be provided on the layer formed from the coating liquid, depending on the intended use.

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples as long as the gist of the present invention is not exceeded.

(基材の準備)
基材として、厚み60μm、幅1340mmの長尺状のトリアセチルセルロース(TAC)フィルム(TD40UL、富士フイルム(株)、屈折率1.48)を用意した。
(Preparation of base material)
As a base material, a long triacetyl cellulose (TAC) film (TD40UL, FUJIFILM Corporation, refractive index 1.48) having a thickness of 60 μm and a width of 1340 mm was prepared.

(ハードコート層形成用塗布液1の調製)
以下に記載の各成分の混合物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して、ハードコート層形成用塗布液(固形分含有率50質量%、粘度2.9mPa・s)を調製した。
(Preparation of coating liquid 1 for forming a hard coat layer)
The mixture of each component described below is put into a mixing tank, stirred, and filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to form a coating liquid for forming a hard coat layer (solid content content: 50% by mass, viscosity 2. 9 mPa · s) was prepared.

-ハードコート層形成用塗布液1-
・重合性化合物:ペンタエリスリトールテトラアクリレート(新中村化学工業(株)NKエステル) : 48.4質量%
・光重合開始剤:Omnirad 184(IGM Resins B.V.社) : 1.5質量%
・界面活性剤:以下に示されるフッ素系界面活性剤 : 0.1質量%
・有機溶剤:メチルエチルケトン : 50質量%
-Coating liquid for forming a hard coat layer 1-
-Polymerizable compound: Pentaerythritol tetraacrylate (NK ester, Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.): 48.4% by mass
-Photopolymerization initiator: Omnirad 184 (IGM Resins B.V.): 1.5% by mass
-Surfactant: Fluorosurfactant shown below: 0.1% by mass
-Organic solvent: Methyl ethyl ketone: 50% by mass

Figure 0007019049000001
Figure 0007019049000001

(ハードコート層形成用塗布液2の調製)
以下に記載の各成分の混合物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して、ハードコート層形成用塗布液(固形分含有率50質量%、粘度3.6mPa・s)を調製した。
(Preparation of coating liquid 2 for forming a hard coat layer)
The mixture of each component described below is put into a mixing tank, stirred, and filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to form a coating liquid for forming a hard coat layer (solid content content: 50% by mass, viscosity 3. 6 mPa · s) was prepared.

-ハードコート層形成用塗布液2-
・重合性化合物:ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)) : 48.5質量%
・光重合開始剤:Omnirad 907(IGM Resins B.V.社) : 1.5質量%
・有機溶剤:メチルエチルケトン : 35質量%
・有機溶剤:シクロヘキサノン : 15質量%
-Coating liquid for forming a hard coat layer 2-
-Polymerizable compound: Mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.): 48.5% by mass
-Photopolymerization initiator: Omnirad 907 (IGM Resins B.V.): 1.5% by mass.
-Organic solvent: Methyl ethyl ketone: 35% by mass
-Organic solvent: Cyclohexanone: 15% by mass

(実施例1~8及び比較例1、2)
(工程a)
ダイコータを用いて、TACフィルム上にハードコート層形成用塗布液の塗布を行った。
具体的には、表面温度60℃、外径300mmのバックアップロール上に、基材を搬送し、バックアップロール上の基材に対し、ダイコータを用い、ハードコート層形成用塗布液の塗布を行った。このとき、基材のラップ角は150°であった。
このときの、基材上雰囲気圧Pは表1に記載の通りであった。また、距離D1及び点cと点dとの距離も、表1に記載の通りであった。
また、工程aにおいて、塗布液の吐出時の温度は23℃、塗布幅は1300mm、塗布速度(即ち、基材の搬送速度)は10m/minであった。
(Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 and 2)
(Step a)
A coating liquid for forming a hard coat layer was applied onto the TAC film using a die coater.
Specifically, the base material was conveyed onto a backup roll having a surface temperature of 60 ° C. and an outer diameter of 300 mm, and a coating liquid for forming a hard coat layer was applied to the base material on the backup roll using a die coater. .. At this time, the lap angle of the base material was 150 °.
At this time, the atmospheric pressure PA on the substrate was as shown in Table 1. Further, the distance D1 and the distance between the point c and the point d are also as shown in Table 1.
Further, in step a, the temperature at the time of discharging the coating liquid was 23 ° C., the coating width was 1300 mm, and the coating speed (that is, the transport speed of the base material) was 10 m / min.

(工程b)
続いて、図2又は図3に記載の減圧室を用いて、塗膜上の気体の吸気を行った。なお、ダイコータ120と減圧室130A又は減圧室130Bとの離間距離D2は、20mmであった。
また、比較例1では、図2に示す減圧室を備えているものの、排気口132から気体を吸気せず、減圧室130A(減圧室本体131)の内部を減圧させなかった。
このときの、基材上雰囲気圧Pは表1に記載の通りであった。
また、距離D3、距離D4、距離D5、点dと点eとの距離、点eにおける塗膜の固形分濃度、塗膜上の気体の風速は、表1に記載の通りであった。
(Step b)
Subsequently, the gas on the coating film was taken in by using the decompression chamber shown in FIG. 2 or FIG. The separation distance D2 between the die coater 120 and the decompression chamber 130A or the decompression chamber 130B was 20 mm.
Further, in Comparative Example 1, although the decompression chamber shown in FIG. 2 was provided, gas was not taken in from the exhaust port 132, and the inside of the decompression chamber 130A (decompression chamber main body 131) was not depressurized.
At this time, the atmospheric pressure P B on the substrate was as shown in Table 1.
Further, the distance D3, the distance D4, the distance D5, the distance between the points d and the point e, the solid content concentration of the coating film at the point e, and the wind speed of the gas on the coating film were as shown in Table 1.

(乾燥工程及び硬化工程)
続いて、塗膜を60℃1分間で乾燥した後、紫外線を露光エネルギー200mJ/cmにて照射して塗膜の硬化を行った。
その結果、厚み5μmのハードコート層が形成された。
ハードコート層が形成されたTACフィルムはロール状に巻き取られた。
(Drying process and curing process)
Subsequently, after the coating film was dried at 60 ° C. for 1 minute, the coating film was cured by irradiating it with ultraviolet rays at an exposure energy of 200 mJ / cm 2 .
As a result, a hard coat layer having a thickness of 5 μm was formed.
The TAC film on which the hard coat layer was formed was wound into a roll.

以上のようにして、各例の積層体を製造した。
なお、工程a及び工程bにおける各物性(雰囲気圧、距離、及び風速)は、前述の方法にて測定した値である。
As described above, the laminated body of each example was manufactured.
The physical characteristics (atmospheric pressure, distance, and wind speed) in the steps a and b are values measured by the above-mentioned method.

(評価:風ムラの評価)
上記で製造した積層体の、末端(巻き終わり側の端部)から1m~10mまで間のハードコート層について、その表面を目視にて観察し、風ムラを評価した。
評価指標は以下の通りである。
(Evaluation: Evaluation of wind unevenness)
The surface of the hard coat layer between 1 m and 10 m from the end (the end on the winding end side) of the laminate produced above was visually observed to evaluate wind unevenness.
The evaluation indexes are as follows.

-風ムラの評価指標-
1:風ムラがみられない。
2:弱いスジ状の風ムラが1本~2本見られた。
3:強いスジ状の風ムラが見られた。
4:スジ状及び班点状の風ムラが全面に見られた。
-Evaluation index of wind unevenness-
1: No wind unevenness is seen.
2: One or two weak streaky wind unevenness was observed.
3: Strong streak-like wind unevenness was observed.
4: Wind unevenness in the form of streaks and spots was observed on the entire surface.

Figure 0007019049000002
Figure 0007019049000002

表1に示すように、実施例の製造方法によれば、いずれも、風ムラの発生が抑制された塗工層を有する積層体が得られることが分かる。
特に、図3に示す減圧室のように、給気及び排気を行い、塗膜上の気体の風速を速めると、風ムラは更に抑制できることがわかる。
As shown in Table 1, it can be seen that, according to the manufacturing methods of Examples, a laminated body having a coating layer in which the occurrence of wind unevenness is suppressed can be obtained.
In particular, it can be seen that wind unevenness can be further suppressed by increasing the wind speed of the gas on the coating film by supplying and exhausting air as in the decompression chamber shown in FIG.

[符号の説明]
110 バックアップロール
120 ダイコータ
122 ダイブロック本体
124 マニホールド
126 スリット
130、130A、130B 減圧室
131 減圧室本体
131A 円弧状の先端面
132 排気口
133 減圧室本体
136 側板
136A 側板の先端面
137 背面板
138 正面板
140 基材
150 塗布液
152 塗膜
a 基材上雰囲気圧Pを測定する位置
b 基材上雰囲気圧Pを測定する位置
c 基材と塗布液との接触点
d 塗膜上の気体の吸気が開始される点
e 塗膜上の気体の吸気が終了する点
D1 ダイコータの先端とバックアップロールとの距離
D2 ダイコータと減圧室との離間距離
D3 減圧室の側面の先端面とバックアップロールとの距離
D4 減圧室の背面の先端面とバックアップロールとの距離
D5 減圧室の正面の先端面とバックアップロールとの距離
[Explanation of code]
110 Backup roll 120 Die coater 122 Die block body 124 Manifold 126 Slit 130, 130A, 130B Decompression chamber 131 Decompression chamber body 131A Arc-shaped tip surface 132 Exhaust port 133 Decompression chamber body 136 Side plate 136A Side plate tip surface 137 Back plate 138 Front plate 140 Substrate 150 Coating liquid 152 Coating a. Position to measure atmospheric pressure PA on the substrate b Position to measure atmospheric pressure PB on the substrate c Contact point between the substrate and coating liquid d Gas on the coating The point where the intake of gas starts e The point where the intake of gas on the coating film ends D1 The distance between the tip of the die coater and the backup roll D2 The distance between the die coater and the decompression chamber D3 The tip surface of the side surface of the decompression chamber and the backup roll Distance D4 Distance between the front end surface of the decompression chamber and the backup roll D5 Distance between the front end surface of the decompression chamber and the backup roll

2018年8月15日に出願された日本出願2018-152978の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
The disclosure of Japanese application 2018-152978, filed August 15, 2018, is incorporated herein by reference in its entirety.
All documents, patent applications, and technical standards described herein are to the same extent as if the individual documents, patent applications, and technical standards were specifically and individually stated to be incorporated by reference. Incorporated by reference herein.

Claims (12)

連続搬送される基材が巻き掛けられるバックアップロールと、
バックアップロール上に巻き掛けられた基材上に有機溶剤を含む塗布液を塗布し、塗膜を形成するダイコータと、
ダイコータに隣接して設置され、塗膜上の気体を吸気することで、バックアップロール上の塗膜から有機溶剤を減少させる減圧室と、
を少なくとも備え、
減圧室に気体を供給する手段を更に有し、
バックアップロール上の基材とダイコータにより塗布された塗布液との接触時の基材上雰囲気圧をPとし、減圧室における気体の吸気時の基材上雰囲気圧をPとした場合、P及びPが以下の条件1及び2を満たす、積層体の製造装置。
条件1: P>P
条件2: P≦大気圧-100Pa
A backup roll around which a continuously transported base material is wound, and
A die coater that forms a coating film by applying a coating liquid containing an organic solvent on a base material wound on a backup roll.
A decompression chamber that is installed adjacent to the die coater and reduces the amount of organic solvent from the coating film on the backup roll by sucking in the gas on the coating film.
At least prepare
Further having a means of supplying gas to the decompression chamber,
When the atmospheric pressure on the substrate at the time of contact between the substrate on the backup roll and the coating liquid applied by the die coater is PA, and the atmospheric pressure on the substrate at the time of inhaling gas in the decompression chamber is P B , P. A laminated body manufacturing apparatus in which A and P B satisfy the following conditions 1 and 2.
Condition 1: PA > P B
Condition 2: P B ≤ atmospheric pressure-100 Pa
減圧室の側面の先端面とバックアップロールとの距離が0.5mm以下である、請求項1に記載の積層体の製造装置。 The apparatus for manufacturing a laminated body according to claim 1 , wherein the distance between the tip surface of the side surface of the decompression chamber and the backup roll is 0.5 mm or less. 減圧室の正面の先端面とバックアップロールとの距離が、減圧室の側面の先端面とバックアップロールとの距離よりも大きい請求項に記載の積層体の製造装置。 The laminated body manufacturing apparatus according to claim 2 , wherein the distance between the front end surface of the decompression chamber and the backup roll is larger than the distance between the front end surface of the decompression chamber and the backup roll. 減圧室が、給気スリットと排気スリットとを有する本体部及び側板を含んで構成される、請求項~請求項のいずれか1項に記載の積層体の製造装置。 The laminated body manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 3 , wherein the decompression chamber includes a main body portion having an air supply slit and an exhaust slit, and a side plate. 連続搬送される基材が巻き掛けられるバックアップロールと、A backup roll around which a continuously transported base material is wound, and
バックアップロール上に巻き掛けられた基材上に有機溶剤を含む塗布液を塗布し、塗膜を形成するダイコータと、 A die coater that forms a coating film by applying a coating liquid containing an organic solvent on a base material wound on a backup roll.
ダイコータに隣接して設置され、塗膜上の気体を吸気することで、バックアップロール上の塗膜から有機溶剤を減少させる減圧室と、 A decompression chamber that is installed adjacent to the die coater and reduces the amount of organic solvent from the coating film on the backup roll by sucking in the gas on the coating film.
を少なくとも備え、At least prepare
減圧室の側面の先端面とバックアップロールとの距離が0.5mm以下であり、 The distance between the tip surface of the side surface of the decompression chamber and the backup roll is 0.5 mm or less.
減圧室の正面の先端面とバックアップロールとの距離が、減圧室の側面の先端面とバックアップロールとの距離よりも大きく、 The distance between the front end surface of the decompression chamber and the backup roll is larger than the distance between the front end surface of the decompression chamber and the backup roll.
バックアップロール上の基材とダイコータにより塗布された塗布液との接触時の基材上雰囲気圧をP The atmospheric pressure on the substrate at the time of contact between the substrate on the backup roll and the coating liquid applied by the die coater is P. A とし、減圧室における気体の吸気時の基材上雰囲気圧をPThe atmospheric pressure on the substrate at the time of inhaling gas in the decompression chamber is P. B とした場合、PIf, P A 及びPAnd P B が以下の条件1及び2を満たす、積層体の製造装置。Is a laminated body manufacturing apparatus that satisfies the following conditions 1 and 2.
条件1: P Condition 1: P A >P> P B
条件2: P Condition 2: P B ≦大気圧-100Pa≤Atmospheric pressure-100Pa
減圧室が、給気スリットと排気スリットとを有する本体部及び側板を含んで構成される、請求項5に記載の積層体の製造装置。The laminated body manufacturing apparatus according to claim 5, wherein the decompression chamber includes a main body portion and a side plate having an air supply slit and an exhaust slit. 連続搬送される基材が巻き掛けられるバックアップロールと、A backup roll around which a continuously transported base material is wound, and
バックアップロール上に巻き掛けられた基材上に有機溶剤を含む塗布液を塗布し、塗膜を形成するダイコータと、 A die coater that forms a coating film by applying a coating liquid containing an organic solvent on a base material wound on a backup roll.
ダイコータに隣接して設置され、塗膜上の気体を吸気することで、バックアップロール上の塗膜から有機溶剤を減少させる減圧室と、 A decompression chamber that is installed adjacent to the die coater and reduces the amount of organic solvent from the coating film on the backup roll by sucking in the gas on the coating film.
を少なくとも備え、At least prepare
減圧室が、給気スリットと排気スリットとを有する本体部及び側板を含んで構成され、 The decompression chamber is configured to include a main body and side plates having an air supply slit and an exhaust slit.
バックアップロール上の基材とダイコータにより塗布された塗布液との接触時の基材上雰囲気圧をP The atmospheric pressure on the substrate at the time of contact between the substrate on the backup roll and the coating liquid applied by the die coater is P. A とし、減圧室における気体の吸気時の基材上雰囲気圧をPThe atmospheric pressure on the substrate at the time of inhaling gas in the decompression chamber is P. B とした場合、PIf, P A 及びPAnd P B が以下の条件1及び2を満たす、積層体の製造装置。Is a laminated body manufacturing apparatus that satisfies the following conditions 1 and 2.
条件1: P Condition 1: P A >P> P B
条件2: P Condition 2: P B ≦大気圧-100Pa≤Atmospheric pressure-100Pa
減圧室の側面の先端面とバックアップロールとの距離が0.5mm以下である、請求項7に記載の積層体の製造装置。The apparatus for manufacturing a laminated body according to claim 7, wherein the distance between the tip surface of the side surface of the decompression chamber and the backup roll is 0.5 mm or less. 減圧室内における塗膜上の気体の風速が1m/s~100m/sである、請求項1~請求項8のいずれか1項に記載の積層体の製造装置。 The apparatus for producing a laminate according to any one of claims 1 to 8, wherein the wind speed of the gas on the coating film in the decompression chamber is 1 m / s to 100 m / s. バックアップロール上の基材とダイコータにより塗布された塗布液との接触点から、減圧室にて塗膜上の気体の吸気が開始される点までの距離が、100mm以下である、請求項~請求項のいずれか1項に記載の積層体の製造装置。 2 . The apparatus for manufacturing a laminated body according to any one of claims 9 . バックアップロールの表面温度が40℃~120℃である、請求項~請求項10のいずれか1項に記載の積層体の製造装置。 The apparatus for manufacturing a laminated body according to any one of claims 1 to 10 , wherein the surface temperature of the backup roll is 40 ° C to 120 ° C. 連続搬送される基材をバックアップロールに巻き掛け、バックアップロール上の基材に有機溶剤を含む塗布液を塗布し、塗膜を形成する工程aと、
塗膜上の気体を吸気することで、バックアップロール上の塗膜から有機溶剤を減少させる工程bと、
を少なくとも有し、
工程aにおける基材と塗布液との接触時の基材上雰囲気圧をPとし、工程bにおける気体の吸気時の基材上雰囲気圧をPとした場合、P及びPが以下の条件1及び2を満たし、
請求項1~11のいずれか1項に記載の積層体の製造装置により実施される、積層体の製造方法。
条件1: P>P
条件2: P≦大気圧-100Pa
Step a of winding the continuously transported base material on a backup roll, applying a coating liquid containing an organic solvent to the base material on the backup roll, and forming a coating film.
Step b to reduce the organic solvent from the coating film on the backup roll by inhaling the gas on the coating film,
Have at least
When the atmospheric pressure on the substrate at the time of contact between the substrate and the coating liquid in step a is PA and the atmospheric pressure on the substrate at the time of inhaling gas in step b is P B, PA and P B are as follows . Satisfy conditions 1 and 2 of
A method for manufacturing a laminated body , which is carried out by the laminated body manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 11 .
Condition 1: PA > P B
Condition 2: P B ≤ atmospheric pressure-100 Pa
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