JP7004913B2 - New alicyclic diol compound - Google Patents

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本発明は、新規な脂環式ジオール化合物に関する。 The present invention relates to a novel alicyclic diol compound.

ポリエステル樹脂の樹脂原料として脂環式ジオール化合物が使用されている。しかし、工業的に入手可能な脂環式ジオール化合物としては、1,4-シクロヘキサンジメタノール、1,4-シクロヘキサンジオールや2,2-ビス(4-ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン(水素化ビスフェノールA)があるが種類は少ない(特許文献1及び2)。 An alicyclic diol compound is used as a resin raw material for a polyester resin. However, industrially available alicyclic diol compounds include 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanediol and 2,2-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane (hydrogenated bisphenol A). There are few types (Patent Documents 1 and 2).

特開平5-310900号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 5-310900 特開2003-048966号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-048966

本発明は、ポリエステル樹脂の樹脂原料及び改質剤並びにエポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂及びポリメタクリル酸エステル樹脂等の樹脂原料として新規な脂環式ジオール化合物を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a resin raw material and a modifier for a polyester resin, and a novel alicyclic diol compound as a resin raw material such as an epoxy resin, a polyurethane resin, a polyacrylic acid ester resin and a polymethacrylic acid ester resin. do.

本発明者らは上記課題を達成すべく鋭意検討の結果、特異な構造を有する脂環式ジオール化合物が文献未記載の化合物であり、ポリエステル樹脂の樹脂原料及び改質剤並びにエポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂及びポリメタクリル酸エステル樹脂等の樹脂原料として有用なことを見出し、かかる知見に基づいて本発明を完成するに至った。 As a result of diligent studies to achieve the above problems, the present inventors have found that an alicyclic diol compound having a unique structure is a compound not described in the literature, and is a resin raw material and modifier for polyester resin, epoxy resin, and polyurethane resin. , Polyacrylic acid ester resin, Polymethacrylic acid ester resin, and other resin raw materials have been found to be useful, and the present invention has been completed based on such findings.

即ち、本発明は、以下の項目を要旨とする新規な脂環式ジオール化合物を提供するものである。 That is, the present invention provides a novel alicyclic diol compound whose gist is as follows.

[項1]
一般式(1)

Figure 0007004913000001
[式中、Rは、同一又は異なって、メチル基又はエチル基を示す。]
で表される、脂環式ジオール化合物。 [Item 1]
General formula (1)
Figure 0007004913000001
[In the formula, R 1 represents a methyl group or an ethyl group, which is the same or different. ]
An alicyclic diol compound represented by.

[項2]
2つのRが、同一であって、メチル基又はエチル基である、項1に記載の脂環式ジオール化合物。
[Item 2]
Item 2. The alicyclic diol compound according to Item 1, wherein the two R 1s are the same and are a methyl group or an ethyl group.

本発明の新規な脂環式ジオール化合物は、ポリエステル樹脂の樹脂原料及び改質剤、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂等の樹脂原料として使用出来る。 The novel alicyclic diol compound of the present invention can be used as a resin raw material and a modifier for polyester resin, a resin raw material such as an epoxy resin, a polyurethane resin, a polyacrylic acid ester resin, and a polymethacrylic acid ester resin.

実施例1で得られた2,2-ビス(4-オキソシクロヘキシル)プロパン-ビス(トリメチロールエタンアセタール)のIRスペクトルである。It is an IR spectrum of 2,2-bis (4-oxocyclohexyl) propane-bis (trimethylolethane acetal) obtained in Example 1. 実施例1で得られた2,2-ビス(4-オキソシクロヘキシル)プロパン-ビス(トリメチロールエタンアセタール)のH-NMRスペクトルである。 1 1 H-NMR spectrum of 2,2-bis (4-oxocyclohexyl) propane-bis (trimethylolethane acetal) obtained in Example 1. 実施例1で得られた2,2-ビス(4-オキソシクロヘキシル)プロパン-ビス(トリメチロールエタンアセタール)の13C-NMRスペクトルである。 13 C-NMR spectrum of 2,2-bis (4-oxocyclohexyl) propane-bis (trimethylolethane acetal) obtained in Example 1. 実施例2で得られた2,2-ビス(4-オキソシクロヘキシル)プロパン-ビス(トリメチロールプロパンアセタール)のIRスペクトルである。6 is an IR spectrum of 2,2-bis (4-oxocyclohexyl) propane-bis (trimethylolpropane acetal) obtained in Example 2. 実施例2で得られた2,2-ビス(4-オキソシクロヘキシル)プロパン-ビス(トリメチロールプロパンアセタール)のH-NMRスペクトルである。2 is a 1 H-NMR spectrum of 2,2-bis (4-oxocyclohexyl) propane-bis (trimethylolpropane acetal) obtained in Example 2. 実施例2で得られた2,2-ビス(4-オキソシクロヘキシル)プロパン-ビス(トリメチロールプロパンアセタール)の13C-NMRスペクトルである。 13 C-NMR spectrum of 2,2-bis (4-oxocyclohexyl) propane-bis (trimethylolpropane acetal) obtained in Example 2.

本発明の新規な脂環式ジオール化合物は、下記一般式(1)

Figure 0007004913000002
[式中、Rは、同一又は異なって、メチル基又はエチル基を示す。]
で表される、脂環式ジオール化合物である。 The novel alicyclic diol compound of the present invention has the following general formula (1).
Figure 0007004913000002
[In the formula, R 1 represents a methyl group or an ethyl group, which is the same or different. ]
It is an alicyclic diol compound represented by.

一般式(1)において、Rは、同一又は異なって、メチル基又はエチル基であり、好ましくは、Rは、同一であることが推奨される。 In the general formula (1), it is recommended that R 1 is the same or different and is a methyl group or an ethyl group, and preferably R 1 is the same.

より具体的には、2,2-ビス(4-オキソシクロヘキシル)プロパン-ビス(トリメチロールエタンアセタール)、2,2-ビス(4-オキソシクロヘキシル)プロパン-ビス(トリメチロールプロパンアセタール)が挙げられる。 More specifically, 2,2-bis (4-oxocyclohexyl) propane-bis (trimethylolethane acetal) and 2,2-bis (4-oxocyclohexyl) propane-bis (trimethylolpropane acetal) can be mentioned. ..

本発明の新規な脂環式ジオール化合物は、例えば、下記反応式に示すようにして製造される。
(反応式)

Figure 0007004913000003
[式中、Rは、同一又は異なって、メチル基又はエチル基を示す。] The novel alicyclic diol compound of the present invention is produced, for example, as shown in the following reaction formula.
(Reaction formula)
Figure 0007004913000003
[In the formula, R 1 represents a methyl group or an ethyl group, which is the same or different. ]

具体的には、本発明の新規な脂環式ジオール化合物の製造方法は、一般式(2)の2,2-ビス(4-オキソシクロヘキシル)プロパンと一般式(3)で表されるトリメチロール化合物とをアセタール化反応させる方法である。 Specifically, the method for producing a novel alicyclic diol compound of the present invention comprises 2,2-bis (4-oxocyclohexyl) propane of the general formula (2) and trimethylol represented by the general formula (3). This is a method for acetalizing a compound.

前記一般式(2)の2,2-ビス(4-オキソシクロヘキシル)プロパンは、市販品、試薬や公知の合成方法で調製したものなどが使用できる。例えば、工業的に入手可能な2,2-ビス(4-ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン(例えば、新日本理化製「リカビノール HB」が挙げられる)を酸化して、ジケトンにする方法(特開平5-025080号公報の製造例1の記載の方法に準じた方法)が例示される。 As the 2,2-bis (4-oxocyclohexyl) propane of the general formula (2), a commercially available product, a reagent, or a product prepared by a known synthetic method can be used. For example, a method of oxidizing industrially available 2,2-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane (for example, "Ricabinol HB" manufactured by NEW JAPAN CHEMICAL CO., LTD.) To form a diketone (Japanese Patent Laid-Open No. 5-025080). A method according to the method described in Production Example 1 of Japanese Patent Publication No. 1) is exemplified.

また、別法として、2,2-ビス(4-ヒドロキシシクロヘキシル)プロパンを、脱水素することにより、2,2-ビス(4-オキソシクロヘキシル)プロパンを製造する方法が知られている(特開平8-053386号公報の実施例2)。 Further, as another method, a method for producing 2,2-bis (4-oxocyclohexyl) propane by dehydrogenating 2,2-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane is known. Example 2) of Japanese Patent Publication No. 8-0533386.

前記一般式(3)で表されるトリメチロール化合物は、具体的には、トリメチロールエタン(R=メチル基)、トリメチロールプロパン(R=エチル基)である。トリメチロールエタン、トリメチロールプロパンとも、市販品や試薬などが使用できる。 The trimethylol compound represented by the general formula (3) is specifically trimethylolethane (R 1 = methyl group) or trimethylolpropane (R 1 = ethyl group). Commercial products and reagents can be used for both trimethylolethane and trimethylolpropane.

本発明の一般式(1)で表される脂環式ジオール化合物は、一般式(2)の2,2-ビス(4-オキソシクロヘキシル)プロパンと一般式(3)で表されるトリメチロール化合物とを酸触媒及び溶媒存在下でアセタール化反応することにより容易に得ることができる。 The alicyclic diol compound represented by the general formula (1) of the present invention is a 2,2-bis (4-oxocyclohexyl) propane represented by the general formula (2) and a trimethylol compound represented by the general formula (3). Can be easily obtained by performing an acetalization reaction in the presence of an acid catalyst and a solvent.

酸触媒としては、プロトン酸又はルイス酸が挙げられる。プロトン酸としては、例えば、硫酸、塩酸、リン酸等の無機酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機スルホン酸、強酸性イオン交換樹脂、超強酸性イオン交換性樹脂等の陽イオン交換樹脂等が挙げられる。ルイス酸としては、三フッ化ホウ素ジエチルエーエル錯体、三塩化アルミニウム、塩化鉄(III)、塩化亜鉛、四塩化チタン、塩化錫(II)、塩化錫(IV)、白土、活性白土、モレキュラーシーブス等が挙げられる。これら酸触媒はそれぞれ単独で用いてもよいし、2種以上混合して用いてもよい。 Examples of the acid catalyst include protonic acid and Lewis acid. Examples of the protonic acid include inorganic acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid and phosphoric acid, organic sulfonic acids such as benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid and trifluoromethanesulfonic acid, strongly acidic ion exchange resins and superstrong acids. Examples thereof include cation exchange resins such as sex ion exchangeable resins. Lewis acids include boron trifluoride diethyl AEL complex, aluminum trifluoride, iron (III) chloride, zinc chloride, titanium tetrachloride, tin (II) chloride, tin (IV) chloride, white clay, active white clay, molecular sieves, etc. Can be mentioned. Each of these acid catalysts may be used alone or in combination of two or more.

酸触媒の使用量は、通常、一般式(2)の2,2-ビス(4-オキソシクロヘキシル)プロパンに対して、0.001~20重量%、好ましくは0.05~15重量%、さらに好ましくは0.5~10重量%の範囲である。 The amount of the acid catalyst used is usually 0.001 to 20% by weight, preferably 0.05 to 15% by weight, still more, relative to 2,2-bis (4-oxocyclohexyl) propane of the general formula (2). It is preferably in the range of 0.5 to 10% by weight.

アセタール化反応の際、一般式(3)で表わされるトリメチロール化合物は、一般式(2)の2,2-ビス(4-オキソシクロヘキシル)プロパンのケト基1モルに対して、通常1.0~2.0、好ましくは1.02~1.5モル用いられる。 During the acetalization reaction, the trimethylol compound represented by the general formula (3) is usually 1.0 with respect to 1 mol of the keto group of 2,2-bis (4-oxocyclohexyl) propane of the general formula (2). ~ 2.0, preferably 1.02 to 1.5 mol is used.

反応温度は、反応速度を向上させる点及び副生成物の生成を抑制する点から50~200℃、好ましくは、60~150℃、さらに好ましくは60~120℃の範囲である。反応は、常圧、加圧及び減圧下のいずれでもよい。また、反応雰囲気は、大気下又は不活性ガス雰囲気下のいずれでもよい。 The reaction temperature is in the range of 50 to 200 ° C., preferably 60 to 150 ° C., more preferably 60 to 120 ° C. from the viewpoint of improving the reaction rate and suppressing the formation of by-products. The reaction may be under normal pressure, pressure or reduced pressure. Further, the reaction atmosphere may be either under the atmosphere or under the atmosphere of the inert gas.

上記アセタール化の進行にともない水が副生し、この水はアセタール化を阻害することから、水を系外に除去することが好ましい。この副生した水の除去は、例えば反応を阻害しない溶媒であれば特に限定されず、塩化メチレン、n-ヘキサン、イソヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン等の溶媒をエントレーナーとして用いて、全還流脱水して水を分離する公知の方法によって行うことができる。これらのエントレーナーは、一般式(2)及び(3)の出発原料が室温固体であることから操作性の点で反応の開始時から添加されていることが好ましい。これらのエントレーナーは、全還流脱水により水を除去後、再び系内に戻すことが好ましい。 As the acetalization progresses, water is by-produced, and this water inhibits the acetalization. Therefore, it is preferable to remove the water from the system. The removal of this by-produced water is not particularly limited as long as it is a solvent that does not inhibit the reaction, and total reflux dehydration is performed using a solvent such as methylene chloride, n-hexane, isohexane, cyclohexane, toluene, or xylene as an entrainer. It can be carried out by a known method for separating water. Since the starting materials of the general formulas (2) and (3) are solid at room temperature, these entrainers are preferably added from the start of the reaction in terms of operability. It is preferable that these entrainers are returned to the system after removing water by total reflux dehydration.

溶媒使用量は、特に限定されないが、一般式(2)の2,2-ビス(4-オキソシクロヘキシル)プロパン100重量部に対して、例えば、100~2000重量部、好ましくは500~1000重量部の範囲である。 The amount of the solvent used is not particularly limited, but is, for example, 100 to 2000 parts by weight, preferably 500 to 1000 parts by weight, based on 100 parts by weight of 2,2-bis (4-oxocyclohexyl) propane of the general formula (2). Is the range of.

アセタール化反応終了後、得られた粗脂環式ジオール化合物溶液には、触媒として用いた酸触媒が含まれている。酸触媒の除去には、通常、塩基を用いた中和処理により行われる。用いられる塩基としては、例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等の金属水酸化物が挙げられる。これらの中でも、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の炭酸塩が好ましい。塩基の使用量は、反応で用いた酸触媒に対して、例えば、1~3当量の範囲であるが、大過剰用いることもできる。 After the completion of the acetalization reaction, the obtained crude alicyclic diol compound solution contains an acid catalyst used as a catalyst. The removal of the acid catalyst is usually carried out by a neutralization treatment using a base. Examples of the base used include carbonates such as sodium hydrogen carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, potassium carbonate, calcium carbonate and magnesium carbonate, and metals such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, magnesium hydroxide and calcium hydroxide. Hydroxide can be mentioned. Among these, carbonates such as sodium carbonate and sodium hydrogen carbonate are preferable. The amount of the base used is, for example, in the range of 1 to 3 equivalents with respect to the acid catalyst used in the reaction, but a large excess can also be used.

塩基による中和処理後、必要に応じて濾過、濃縮、抽出、洗浄、晶析、カラムクロマトグラフィー等の分離精製手段、又はこれらの組み合わせにより酸触媒を含まない高純度の脂環式ジオール化合物を得ることができる。 After neutralization with a base, a high-purity alicyclic diol compound containing no acid catalyst can be obtained by separation and purification means such as filtration, concentration, extraction, washing, crystallization, column chromatography, etc., or a combination thereof, if necessary. Obtainable.

以下に実施例を掲げて本発明を詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、脂環式ジオール化合物の各種測定は以下の方法により測定した。また、特に言及していない化合物は試薬を使用した。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In this example, various measurements of the alicyclic diol compound were carried out by the following methods. Reagents were used for compounds not specifically mentioned.

<使用化合物>
2,2-ビス(4-オキソシクロヘキシル)プロパン:東京化成工業株式会社製
トリメチロールエタン:東京化成工業株式会社製
トリメチロールプロパン:東京化成工業株式会社製
<Compounds used>
2,2-Bis (4-oxocyclohexyl) propane: Made by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. Trimethylolethane: Made by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. Trimethylolpropane: Made by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.

<ガスクロマトグラフィー(GC)による分析>
脂環式ジオール化合物の純度(GC面積%)はガスクロマトグラフィー(GC)により測定した。
<Analysis by gas chromatography (GC)>
The purity (GC area%) of the alicyclic diol compound was measured by gas chromatography (GC).

[測定条件]
機器:島津製作所製 GC-2010
カラム:アジレント・テクノロジー株式会社製DB-1 30mx0.25mm×0.25μm
カラム温度:100~300℃(昇温速度10℃/min)
インジェクション温度/検出器温度:305℃/305℃
検出器:FID
キャリアガス:ヘリウム
ガス流量:1.08ml/min
試料:1重量%のアセトン溶液
注入量:1μl
[Measurement condition]
Equipment: Shimadzu GC-2010
Column: Agilent Technologies, Inc. DB-1 30mx 0.25mm x 0.25μm
Column temperature: 100 to 300 ° C (heating rate 10 ° C / min)
Injection temperature / detector temperature: 305 ° C / 305 ° C
Detector: FID
Carrier gas: Helium gas flow rate: 1.08 ml / min
Sample: 1 wt% acetone solution injection volume: 1 μl

<融点>
ヤナコテクニカルサイエン株式会社製微量融点測定器(MP型)を用いて、予想した融点より約5℃低い温度から1℃/minの昇温速度で測定し、目視にてサンプルの固体が融け始めから完全溶解するまでの温度を測定した。
<Melting point>
Using a micro melting point measuring instrument (MP type) manufactured by Yanaco Technical Science Co., Ltd., measure from a temperature about 5 ° C lower than the expected melting point to a temperature rise rate of 1 ° C / min, and visually from the beginning of melting of the sample solid. The temperature until complete melting was measured.

<赤外吸収スペクトル(IRスペクトル)>
脂環式ジオール化合物のIRスペクトルは、赤外分光分析装置(株式会社パーキンエルマージャパン製Spectrum400)を用い、ATR法(減衰全反射法)で行った。
<Infrared absorption spectrum (IR spectrum)>
The IR spectrum of the alicyclic diol compound was carried out by an ATR method (attenuated total reflection method) using an infrared spectrophotometer (Spectrum400 manufactured by PerkinElmer Japan Co., Ltd.).

<プロトン核磁気共鳴スペクトル(H-NMR)>
脂環式ジオール化合物のH-NMRは、重クロロホルムに溶かした後、核磁気共鳴装置(Bruker社製DRX-500)を用い、H-NMR(300MHz)測定で行った。
<Proton nuclear magnetic resonance spectrum ( 1 H-NMR)>
1 H-NMR of the alicyclic diol compound was carried out by 1 H-NMR (300 MHz) measurement using a nuclear magnetic resonance apparatus (DRX-500 manufactured by Bruker) after dissolving in deuterated chloroform.

<カーボン核磁気共鳴スペクトル(13C-NMR)>
脂環式ジオール化合物の13C-NMRは、重クロロホルムに溶かした後、核磁気共鳴装置(Bruker社製DRX-500)を用い、13C-NMR(125.8MHz)測定で行った。
<Carbon Nuclear Magnetic Resonance Spectrum ( 13 C-NMR)>
The alicyclic diol compound 13 C-NMR was measured by 13 C-NMR (125.8 MHz) using a nuclear magnetic resonance apparatus (DRX-500 manufactured by Bruker) after dissolving it in deuterated chloroform.

[実施例1]
(2,2-ビス(4-オキソシクロヘキシル)プロパン-ビス(トリメチロールエタンアセタール)の製造)
還流冷却管付き水分離器を装着した500ml4ツ口フラスコに、室温で、2,2-ビス(4-オキソシクロヘキシル)プロパン11.8g(0.05mol)、トリメチロールエタン14.4g(0.12mol)、p-トルエンスルホン酸一水和物0.59g、トルエン100mlを仕込み、系を窒素置換した後、昇温してトルエン還流下で共沸脱水させながら4時間撹拌した。反応終了後、室温まで冷却させると結晶が析出した。結晶が析出した反応液をそのまま、飽和炭酸ナトリウム水溶液で中和し、その後、析出した結晶を濾過した。得られた結晶をトルエン、水で洗浄後、乾燥し、脂環式ジオール化合物の粗物20.2gを得た(単離収率91.8%)。得られた粗物をトルエンから再結晶を行い、純度97.4GC面積%の2,2-ビス(4-オキソシクロヘキシル)プロパン-ビス(トリメチロールエタンアセタール)を得た。融点は、175~176℃の範囲であった。
[Example 1]
(Manufacturing of 2,2-bis (4-oxocyclohexyl) propane-bis (trimethylolethane acetal))
At room temperature, 11.8 g (0.05 mol) of 2,2-bis (4-oxocyclohexyl) propane and 14.4 g (0.12 mol) of trimethylolethane were placed in a 500 ml 4-necked flask equipped with a water separator with a reflux cooling tube. ), 0.59 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate and 100 ml of toluene were charged, the system was replaced with nitrogen, the temperature was raised, and the mixture was stirred for 4 hours while azeotropically dehydrating under reflux with toluene. After completion of the reaction, the crystals were precipitated when cooled to room temperature. The reaction solution in which the crystals were precipitated was neutralized with a saturated aqueous sodium carbonate solution as it was, and then the precipitated crystals were filtered. The obtained crystals were washed with toluene and water and then dried to obtain 20.2 g of a crude alicyclic diol compound (isolation yield 91.8%). The obtained crude product was recrystallized from toluene to obtain 2,2-bis (4-oxocyclohexyl) propane-bis (trimethylolethane acetal) having a purity of 97.4 GC area%. The melting point was in the range of 175 to 176 ° C.

得られた2,2-ビス(4-オキソシクロヘキシル)プロパン-ビス(トリメチロールエタンアセタール)について、IRスペクトル、H-NMRスペクトル及び13C-NMRスペクトルを測定した。図1~3に示した。なお、H-NMRスペクトルの1.71ppm付近のピークは不純物のピークである。また、13C-NMRスペクトルの77ppm付近のピークは溶媒の重クロロホルムのピークである。 The IR spectrum, 1 H-NMR spectrum and 13 C-NMR spectrum of the obtained 2,2-bis (4-oxocyclohexyl) propane-bis (trimethylolethane acetal) were measured. It is shown in FIGS. The peak near 1.71 ppm in the 1 H-NMR spectrum is the peak of impurities. The peak near 77 ppm in the 13 C-NMR spectrum is the peak of deuterated chloroform as a solvent.

IR(cm-1):3613,3390,2944,2872,1468,1442,1099,1054,1040,1016,992,958,911 IR (cm -1 ): 3613, 3390, 2944, 2872, 1468, 1442, 1099, 1054, 1040, 1016, 992, 958, 911

H-NMR(300MHz,ppm):0.73(s,6H),0.82(s,6H),1.14-1.18(m,4H),1.20-1.32(m,4H),1.39-1.42(m,2H),1.54-1.56(m,4H),1.90-1.92(m,2H),1.97-2.00(m,2H),2.60-2.62(m,2H),3.55-3.57(d,2H),3.65-3.70(m,10H) 1 1 H-NMR (300 MHz, ppm): 0.73 (s, 6H), 0.82 (s, 6H), 1.14-1.18 (m, 4H), 1.20-1.32 (m) , 4H), 1.39-1.42 (m, 2H), 1.54-1.56 (m, 4H), 1.90-1.92 (m, 2H), 1.97-2.00 (M, 2H), 2.60-2.62 (m, 2H), 3.55-3.57 (d, 2H), 3.65-3.70 (m, 10H)

13C-NMR(75MHz,ppm):17.7,20.8,22.6,22.7,29.0,34.9,36.4,36.6,43.5,65.6,65.8,66.2,98.0 13 C-NMR (75MHz, ppm): 17.7, 20.8, 22.6, 22.7, 29.0, 34.9, 36.4, 36.6, 43.5, 65.6 65.8, 66.2, 98.0

[実施例2]
(2,2-ビス(4-オキソシクロヘキシル)プロパン-ビス(トリメチロールプロパンアセタール)の製造)
トリメチロールエタンに代えてトリメチロールプロパン16.1g(0.12mol)とした他は、実施例1と同様に行い、脂環式ジオール化合物の粗物16.2g(単離収率69.2%)を得た。得られた粗物をトルエンから再結晶を行い、純度98.2GC面積%の2,2-ビス(4-オキソシクロヘキシル)プロパン-ビス(トリメチロールプロパンアセタール)を得た。融点は、170~171.5℃の範囲であった。
[Example 2]
(Manufacturing of 2,2-bis (4-oxocyclohexyl) propane-bis (trimethylolpropane acetal))
The same procedure as in Example 1 was carried out except that 16.1 g (0.12 mol) of trimethylolpropane was used instead of trimethylolethane, and 16.2 g of a crude alicyclic diol compound (isolation yield 69.2%) was used. ) Was obtained. The obtained crude product was recrystallized from toluene to obtain 2,2-bis (4-oxocyclohexyl) propane-bis (trimethylolpropane acetal) having a purity of 98.2 GC area%. The melting point was in the range of 170-171.5 ° C.

得られた2,2-ビス(4-オキソシクロヘキシル)プロパン-ビス(トリメチロールプロパンアセタール)について、IRスペクトル、H-NMRスペクトル及び13C-NMRスペクトルを測定した。図4~6に示した。なお、H-NMRスペクトルの1.63ppm付近のピーク及び2.36ppm付近のピークは不純物のピークである。また、13C-NMRスペクトルの77ppm付近のピークは溶媒の重クロロホルムのピークである。 The IR spectrum, 1 H-NMR spectrum and 13 C-NMR spectrum of the obtained 2,2-bis (4-oxocyclohexyl) propane-bis (trimethylolpropane acetal) were measured. It is shown in FIGS. 4 to 6. The peak near 1.63 ppm and the peak around 2.36 ppm in the 1 H-NMR spectrum are the peaks of impurities. The peak near 77 ppm in the 13 C-NMR spectrum is the peak of deuterated chloroform as a solvent.

IR(cm-1):3428,2944,2866,1474,1445,1099,1060,1031,974,917,896 IR (cm -1 ): 3428, 2944, 2866, 1474, 1445, 1099, 1060, 1031, 974, 917, 896

H-NMR(300MHz,ppm):0.73(m,6H),0.84(t,6H),1.10-1.17(m,4H),1.261.32(m,8H),1.35-1.41(m,2H),1.54-1.56(m,4H),1.73-1.76(m,2H),1.97-2.00(m,2H),2.58-2.60(m,2H),3.59-3.72(m,8H),3.76-3.77(m,4H) 1 1 H-NMR (300 MHz, ppm): 0.73 (m, 6H), 0.84 (t, 6H), 1.10-1.17 (m, 4H), 1.261.32 (m, 8H) ), 1.35-1.41 (m, 2H), 1.54-1.56 (m, 4H), 1.73-1.76 (m, 2H), 1.97-2.00 (m) , 2H), 2.58-2.60 (m, 2H), 3.59-3.72 (m, 8H), 3.76-3.77 (m, 4H)

13C-NMR(75MHz,ppm):20.7,20.8,22.7,22.8,24.0,29.0,36.4,36.6,37.0,43.5,63.3,64.5,64.7,98.1 13 C-NMR (75MHz, ppm): 20.7, 20.8, 22.7, 22.8, 24.0, 29.0, 36.4, 36.6, 37.0, 43.5, 63.3, 64.5, 64.7, 98.1

本発明の新規な脂環式ジオール化合物は、ポリエステル樹脂の樹脂原料及び改質剤並びにエポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂及びポリメタクリル酸エステル樹脂等の樹脂原料として使用することができる。 The novel alicyclic diol compound of the present invention can be used as a resin raw material and a modifier for polyester resin, and as a resin raw material for epoxy resin, polyurethane resin, polyacrylic acid ester resin, polymethacrylic acid ester resin and the like.

Claims (1)

一般式(1)
Figure 0007004913000004
[式中、Rは、同一又は異なって、メチル基又はエチル基を示す。]
で表される、脂環式ジオール化合物。
General formula (1)
Figure 0007004913000004
[In the formula, R 1 represents a methyl group or an ethyl group, which is the same or different. ]
An alicyclic diol compound represented by.
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