JP7000370B2 - Magnetic storage device - Google Patents
Magnetic storage device Download PDFInfo
- Publication number
- JP7000370B2 JP7000370B2 JP2019046043A JP2019046043A JP7000370B2 JP 7000370 B2 JP7000370 B2 JP 7000370B2 JP 2019046043 A JP2019046043 A JP 2019046043A JP 2019046043 A JP2019046043 A JP 2019046043A JP 7000370 B2 JP7000370 B2 JP 7000370B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- junction
- current
- magnetic layer
- potential
- conductive layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Mram Or Spin Memory Techniques (AREA)
- Hall/Mr Elements (AREA)
Description
本発明の実施形態は、磁気記憶装置に関する。 Embodiments of the present invention relate to magnetic storage devices.
磁性層を用いた磁気記憶装置がある。磁気記憶装置において、安定した動作が望まれる。 There is a magnetic storage device using a magnetic layer. Stable operation is desired in the magnetic storage device.
実施形態は、安定して正常な書込動作が可能な磁気記憶装置を提供する。 The embodiment provides a magnetic storage device capable of stable and normal writing operation.
実施形態によれば、磁気記憶装置は、メモリ部及び制御部を含む。前記メモリ部は、導電層、第1メモリセル及び第1回路を含む。前記導電層は、第1部分、第2部分、前記第1部分と前記第2部分との間の第3部分、前記第1部分と前記第3部分との間の第4部分、及び、前記第3部分と前記第2部分との間の第5部分を含む。前記第1メモリセルは、第1接合及び第2接合を含む。前記第1接合は、第1磁性層と、前記第1部分から前記第2部分への第2方向と交差する第1方向において前記第4部分と前記第1磁性層との間に設けられた第1対向磁性層と、前記第1磁性層と前記第1対向磁性層との間に設けられた第1非磁性層と、を含む。前記第2接合は、第2磁性層と、前記第1方向において前記第5部分と前記第2磁性層との間に設けられた第2対向磁性層と、前記第2磁性層と前記第2対向磁性層との間に設けられた第2非磁性層と、を含む。前記第1回路は、前記第1磁性層及び前記第2磁性層と電気的に接続される。前記制御部は、前記導電層及び前記第1回路と電気的に接続される。前記制御部は、前記第1メモリセルに第1情報を書き込む場合に、第1動作、前記第1動作の後の第2動作、及び、前記第2動作の後の第3動作を実施する。前記第1動作において、前記制御部は、前記第2部分から前記第1部分への第1導電層電流を前記導電層に供給しつつ、前記第1回路に、前記第1磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に第1極性にさせつつ、前記第2磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第1極性とは逆の第2極性にさせる。前記第2動作において、前記制御部は、前記第1部分から前記第2部分への第2導電層電流を前記導電層に供給しつつ、前記第1回路に、前記第1磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第2極性にさせつつ、前記第2磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第1極性にさせる。前記第3動作において、前記制御部は、前記第2部分から前記第1部分への第3導電層電流を前記導電層に供給しつつ、前記第1回路に、前記第1磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第2極性にさせつつ、前記第2磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第1極性にさせる。 According to the embodiment, the magnetic storage device includes a memory unit and a control unit. The memory unit includes a conductive layer, a first memory cell, and a first circuit. The conductive layer includes a first portion, a second portion, a third portion between the first portion and the second portion, a fourth portion between the first portion and the third portion, and the above. Includes a fifth portion between the third portion and the second portion. The first memory cell includes a first junction and a second junction. The first junction is provided between the first magnetic layer and the fourth portion and the first magnetic layer in the first direction intersecting the second direction from the first portion to the second portion. It includes a first counter-magnetic layer and a first non-magnetic layer provided between the first magnetic layer and the first counter-magnetic layer. The second junction includes a second magnetic layer, a second opposed magnetic layer provided between the fifth portion and the second magnetic layer in the first direction, the second magnetic layer, and the second magnetic layer. Includes a second non-magnetic layer provided between the opposed magnetic layers. The first circuit is electrically connected to the first magnetic layer and the second magnetic layer. The control unit is electrically connected to the conductive layer and the first circuit. When writing the first information to the first memory cell, the control unit performs a first operation, a second operation after the first operation, and a third operation after the second operation. In the first operation, the control unit supplies the potential of the first magnetic layer to the first circuit while supplying the first conductive layer current from the second portion to the first portion to the conductive layer. The second polarity opposite to the first polarity when the potential of the second magnetic layer is based on the potential of the first portion while making the first polarity when the potential of the first portion is used as a reference. Let me. In the second operation, the control unit supplies the potential of the first magnetic layer to the first circuit while supplying the second conductive layer current from the first portion to the second portion to the conductive layer. The potential of the second magnetic layer is set to the first polarity when the potential of the first portion is used as a reference, while the potential of the second magnetic layer is set to the second polarity when the potential of the first portion is used as a reference. In the third operation, the control unit supplies the potential of the first magnetic layer to the first circuit while supplying the third conductive layer current from the second portion to the first portion to the conductive layer. The potential of the second magnetic layer is set to the first polarity when the potential of the first portion is used as a reference, while the potential of the second magnetic layer is set to the second polarity when the potential of the first portion is used as a reference.
以下に、本発明の各実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚さと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
The drawings are schematic or conceptual, and the relationship between the thickness and width of each part, the ratio of the sizes between the parts, etc. are not always the same as the actual ones. Even if the same part is represented, the dimensions and ratios may be different from each other depending on the drawing.
In the present specification and each figure, the same elements as those described above with respect to the above-mentioned figures are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted as appropriate.
(第1実施形態)
図1は、第1実施形態に係る磁気記憶装置を例示する模式的斜視図である。
図1に示すように、実施形態に係る磁気記憶装置110は、メモリ部MP、及び、制御部70を含む。メモリ部MPは、例えば、導電層21、第1メモリセルMC1及び第1回路31を含む。メモリ部MPは、第2メモリセルMC2及び第2回路32をさらに含んでも良い。実施形態において、複数のメモリセルが設けられても良い。複数のメモリセルの数は、任意である。複数のメモリセルのそれぞれに対応して、回路が設けられる。
(First Embodiment)
FIG. 1 is a schematic perspective view illustrating the magnetic storage device according to the first embodiment.
As shown in FIG. 1, the
導電層21は、例えば、第1~第5部分21a~21eを含む。第3部分21cは、第1部分21aと第2部分21bとの間にある。第4部分21dは、第1部分21aと第3部分21cとの間にある。第5部分21eは、第3部分21cと第2部分21bとの間にある。
The
第1メモリセルMC1は、第1接合SB1及び第2接合SB2を含む。 The first memory cell MC1 includes a first junction SB1 and a second junction SB2.
第1接合SB1は、第1磁性層11、第1対向磁性層11c、及び、第1非磁性層11nを含む。第1対向磁性層11cは、第1方向において、第4部分21dと第1磁性層11との間に設けられる。第1方向は、第1部分21aから第2部分21bへの第2方向と交差する。
The first bonded SB1 includes a first
第1方向をZ軸方向とする。Z軸方向に対して垂直な1つの方向をX軸方向とする。Z軸方向及びX軸方向に対して垂直な方向をY軸方向とする。第2方向は、例えば、X軸方向である。 The first direction is the Z-axis direction. One direction perpendicular to the Z-axis direction is defined as the X-axis direction. The direction perpendicular to the Z-axis direction and the X-axis direction is defined as the Y-axis direction. The second direction is, for example, the X-axis direction.
第1非磁性層11nは、第1磁性層11と第1対向磁性層11cとの間に設けられる。
The first
第2接合SB2は、第2磁性層12、第2対向磁性層12c、及び、第2非磁性層12nを含む。第2対向磁性層12cは、第1方向(Z軸方向)において、第5部分21eと第2磁性層12との間に設けられる。第2非磁性層12nは、第2磁性層12と第2対向磁性層12cとの間に設けられる。
The second bonded SB2 includes a second
第1回路31は、第1磁性層11及び第2磁性層12と電気的に接続される。制御部70は、導電層21及び第1回路31と電気的に接続される。
The
既に説明したように、メモリ部MPは、第2メモリセルMC2及び第2回路32をさらに含んでも良い。この場合、導電層21は、第6部分21f、第7部分21g、第8部分21h及び第9部分21iをさらに含む。例えば、第1部分21aと第6部分21fとの間において、第4部分21d、第3部分21c及び第5部分21eが、この順で設けられる。第2部分21bは、第5部分21eと第6部分21fとの間にある。第7部分21gは、第2部分21bと第6部分21fとの間にある。第8部分21hは、第2部分21bと第7部分21gとの間にある。第9部分21iは、第7部分21gと第6部分21fとの間にある。
As described above, the memory unit MP may further include the second memory cell MC2 and the
第2メモリセルMC2は、第3接合SB3及び第4接合SB4を含む。第3接合SB3は、第3磁性層13、第3対向磁性層13c、及び、第3非磁性層13nを含む。第3対向磁性層13cは、第1方向(Z軸方向)において、第8部分21hと第3磁性層13との間に設けられる。第3非磁性層13nは、第3磁性層13と第3対向磁性層13cとの間に設けられる。
The second memory cell MC2 includes a third junction SB3 and a fourth junction SB4. The third bonded SB3 includes a third
第4接合SB4は、第4磁性層14、第4対向磁性層14c及び第4非磁性層14nを含む。第4対向磁性層14cは、第1方向(Z軸方向)において、第9部分21iと第4磁性層14との間に設けられる。第4非磁性層14nは、第4磁性層14と第4対向磁性層14cとの間に設けられる。
The fourth bonded SB4 includes a fourth
第2回路32は、第3磁性層13及び第4磁性層14と電気的に接続される。制御部70は、第2回路32と電気的に接続される。
The
例えば、導電層21の一部(例えば第1部分21a)と制御部70とが、配線70cにより電気的に接続される。配線70c上に、スイッチ70sなどの素子が設けられても良い。例えば、導電層21の別の一部(例えば第6部分21fなど)と制御部70とが配線70dにより電気的に接続される。スイッチ70sは、配線70d上に設けられても良い。配線70c上または配線70d上に、図1では図示しないスイッチなどの素子が設けられても良い。
For example, a part of the conductive layer 21 (for example, the
例えば、第1回路31と制御部70とが配線70aにより電気的に接続される。配線70a上に、図1では図示しないスイッチなどの素子が設けられても良い。第2回路32と制御部70とが配線70bにより電気的に接続される。配線70b上に、図1では図示しないスイッチなどの素子が設けられても良い。
For example, the
制御部70は、例えば、駆動回路75を含んでも良い。制御部70は、検出回路76を含んでも良い。検出回路76は、例えば、センスアンプを含む。
The
例えば、制御部70から導電層21に電流が供給される。この電流により、第1対向磁性層11cの磁化が1つの向きに制御される。例えば、導電層21に、第2部分21bから第1部分21aへの向きの電流が流れる。第1部分21aから第2部分21bへの向きの電流により、第1対向磁性層11cの磁化が別の向きに制御される。導電層21に流れる電流による磁化の向きの変化は、例えば、スピン軌道相互作用に基づく。
For example, a current is supplied from the
第1対向磁性層11cの磁化の向きに応じて、接合の電気抵抗が変化する。例えば、第1接合SB1において、電気抵抗は、第1磁性層11と対向磁性層11cとの間の電流経路の電気抵抗に対応する。例えば、導電層21に、第1部分21aから第2部分21bへの向きの電流が流れる。
本実勢形態では、第2部分21bから第1部分21aの向きに導電層電流を流してメモリを書き込んだ場合を「0」とし、逆向きの導電層電流を流してメモリを書き込んだ場合を「1」とする。ただし、第2部分21bから第1部分21aの向きに導電層電流を流してメモリを書き込んだ場合を「1」とし、逆向きの導電層電流を流してメモリを書き込んだ場合を「0」としても構わない。
The electrical resistance of the junction changes depending on the direction of magnetization of the first opposed
In this actual mode, the case where the conductive layer current is passed in the direction from the
このように、第1対向磁性層11cの磁化の向きは、変化可能である。一方、例えば、第1磁性層11の磁化の向きは実質的に変化しない。第1対向磁性層11cの磁化の向きの変化に応じて、第1対向磁性層11cの磁化の向きと、第1磁性層11の磁化の向きと、の間の角度が変化する。この角度の変化に応じて、第1接合SB1の電気抵抗が変化する。電気抵抗の変化は、例えば、強磁性トンネル接合(MTJ)または巨大磁気抵抗効果素子(GMR素子)などの磁気抵抗効果に基づく。
In this way, the direction of magnetization of the first opposed
第1対向磁性層11cの磁化が反転する導電層21の電流Iswは、第1磁性層11と導電層21(例えば第3部分21c)との間の電圧(または電流)に応じて変化する。例えば、導電層21の電位を基準にした場合に、第1磁性層11の電位が負の場合に、導電層21に流れる電流が小さくても、第1対向磁性層11cの磁化が反転する。一方、例えば、導電層21の電位を基準にした場合に、第1磁性層11の電位が正の場合には、導電層21に流れる電流を大きくしないと、第1対向磁性層11cの磁化が反転しない。このように、第1磁性層11の電位を制御することで、第1対向磁性層11cの磁化が反転する導電層21の電流Iswを制御できる。磁化反転の電流Iswの変化は、例えば電圧制御磁気異方性効果に基づく。例えば、導電層21に複数の接合が設けられた場合に、複数の接合に含まれる任意の接合の電気抵抗を変化させることができる。
The current Isw of the
電気抵抗を変化させる動作は、情報の記憶動作(書き込み動作)に含まれる。電気抵抗に対応する値(電気抵抗、電流または電圧)を検出することで、記憶された情報が読み出される(読み出し動作)。 The operation of changing the electric resistance is included in the information storage operation (writing operation). By detecting the value (electrical resistance, current or voltage) corresponding to the electric resistance, the stored information is read out (reading operation).
図11(a)~図11(c)は、第1参考例の磁気記憶装置を例示する模式図である。 第1参考例において、1つの接合(例えば第1接合SB1)が、1つのメモセルに対応する。図11(a)~図11(c)に示すように、第1参考例において、導電層21に複数の接合が設けられる。本実施形態と異なり、第1参考例において第1回路31及び第2回路32は無い。第1参考例においては、導電層21に1つの向きの電流が流れた場合に、複数の接合の電位が制御され、所望の接合(メモリセル)に情報が書き込まれる。この場合、接合に印加される電圧により、接合から導電層21への向きの電流(接合電流)、または、導電層21から接合への向きの電流(接合電流)が流れる。このため、制御部70から導電層21に供給される電流と、上記の接合電流と、の「合計の電流」が、導電層21に流れる。接合電流の向きは、記憶させる情報によって変化するため、導電層21中を流れる「合計の電流」は、記憶させる情報に応じて変化する。このため、第1参考例においては、動作(書き込み動作)に失敗する場合がある、という課題がある。
11 (a) to 11 (c) are schematic views illustrating the magnetic storage device of the first reference example. In the first reference example, one junction (for example, the first junction SB1) corresponds to one memo cell. As shown in FIGS. 11 (a) to 11 (c), in the first reference example, the
図2(a)に示すように、第1動作OP1において、制御部70は、第2部分21bから第1部分21aへの第1導電層電流Ic1を導電層21に供給しつつ、第1回路31に、第1磁性層11に電流を供給させ、第2磁性層12に電流を供給させる。第1磁性層に供給する電流と第2磁性層12に供給する電流が、向きは逆で、絶対値が実質的に同じになるように制御することで、導電層21に流れる電流i21の変動が抑制され、安定して正常な書込動作を実現する。
As shown in FIG. 2A, in the first operation OP1, the
これに対して、本実施形態においては、1つのメモリセルは、2つの接合を含む。例えば、第1メモリセルMC1は、第1接合SB1及び第2接合SB2を含む。第1接合SB1に流れる電流の向きが、第2接合SB2に流れる電流の向きと逆にされる。接合に流れる電流(接合電流)によって生じる導電層21中を流れる「合計の電流」の変動が抑制される。実施形態においては、安定して正常な書き込み動作が得られる。実施形態においては、安定して正常な書込動作が可能な磁気記憶装置を提供できる。
On the other hand, in the present embodiment, one memory cell includes two junctions. For example, the first memory cell MC1 includes a first junction SB1 and a second junction SB2. The direction of the current flowing through the first junction SB1 is reversed from the direction of the current flowing through the second junction SB2. Fluctuations in the "total current" flowing in the
例えば、接合(第1接合SB1及び第2接合SB2など)を流れる電流が大きい場合にも、この電流に起因して、導電層21を流れる電流が変動することが抑制できる。そのため、接合の抵抗を低くすることができる。接合の抵抗が低くなることで、例えば、高速の読み出し動作が可能になる。
For example, even when the current flowing through the junction (first junction SB1 and second junction SB2, etc.) is large, it is possible to suppress fluctuations in the current flowing through the
以下、実施形態に係る磁気記憶装置110の動作の1つの例について説明する。
図2(a)~図2(c)は、第1実施形態に係る磁気記憶装置の動作を例示する模式的斜視図である。
これらの図は、1つのメモリセル(第1メモリセルMC1)に情報を記憶させる動作(書き込み動作)を例示している。
Hereinafter, one example of the operation of the
2 (a) and 2 (c) are schematic perspective views illustrating the operation of the magnetic storage device according to the first embodiment.
These figures illustrate an operation (write operation) of storing information in one memory cell (first memory cell MC1).
制御部70は、第1メモリセルMC1に第1情報を書き込む場合に、第1動作OP1、第2動作OP2及び第3動作OP3を実施する。第2動作OP2は、第1動作OP1の後に実施される。第3動作OP3は、第2動作OP2の後に実施される。これらの動作が1つの書き込み動作に対応する。第1情報は、例えば、「00」である。本実施形態では、対向磁性層の磁化の向きに関して、一方の向きを「0」、他方の向きを「1」に対応させている。磁化の向きに関して、一方の向きを「1」、他方の向きを「0」に対応させても構わない。例えば、第1情報を「11」としても構わない。以下では第1情報を「00」とした例を示す。
The
図2(a)に示すように、第1動作OP1において、制御部70は、第2部分21bから第1部分21aへの第1導電層電流Ic1を導電層21に供給しつつ、第1回路31に、第1磁性層11に第1接合電流Im01を供給させつつ、第2磁性層12に第2接合電流Im02を供給させる。第1磁性層11の電位は、第1部分21aの電位を基準にした場合に第1極性である。第2磁性層12の電位は、第1部分21aの電位を基準にした場合に第2極性である。第2極性は、第1極性とは逆である。
As shown in FIG. 2A, in the first operation OP1, the
第1極性は、正及び負の一方である。第2極性は、正及び負の他方である。以下では、第1極性が正で、第2極性は負とする。ただし、第1極性が負で、第2極性が正としても構わない。 The first polarity is either positive or negative. The second polarity is the other of positive and negative. In the following, the first polarity is positive and the second polarity is negative. However, the first polarity may be negative and the second polarity may be positive.
例えば、第1動作OP1において、第2接合SB2に例えば、「0」が書き込まれる。一方、第1接合SB1は、第1動作OP1の前の状態を維持する。 For example, in the first operation OP1, for example, "0" is written in the second junction SB2. On the other hand, the first junction SB1 maintains the state before the first operation OP1.
図2(b)に示すように、第2動作OP2において、制御部70は、第1部分21aから第2部分21bへの第2導電層電流Ic2を導電層21に供給しつつ、第1回路31に、第1磁性層11の電位を第2極性(負)にさせつつ、第2磁性層12の電位を第1極性(正)にさせる。
As shown in FIG. 2B, in the second operation OP2, the
例えば、第2動作OP2において、第1接合SB1に「1」が書き込まれる。第2動作OP2において、第2接合SB2は、第2動作OP2の前の状態(この例では「0」)が維持される。 For example, in the second operation OP2, "1" is written in the first junction SB1. In the second operation OP2, the second junction SB2 maintains the state before the second operation OP2 (“0” in this example).
図2(c)に示すように、第3動作OP3において、制御部70は、第2部分21bから第1部分21aへの第3導電層電流Ic3を導電層21に供給しつつ、第1回路31に、第1磁性層11の電位を第2極性(負)にさせつつ、第2磁性層12の電位を第1極性(正)にさせる。
As shown in FIG. 2C, in the third operation OP3, the
例えば、第3動作OP3において、第1接合SB1に「0」が書き込まれる。第3動作OP3において、第2接合SB2は、第3動作OP3の前の状態(この例では「0」)が維持される。 For example, in the third operation OP3, "0" is written in the first junction SB1. In the third operation OP3, the second junction SB2 maintains the state before the third operation OP3 (“0” in this example).
このように、第1~第3動作OP1~OP3により、任意の記憶状態の第1メモリセルMC1に、「00」が書き込まれる。 In this way, "00" is written in the first memory cell MC1 in an arbitrary storage state by the first to third operations OP1 to OP3.
図2(a)~図2(c)に示すように、第1~第3動作OP1~OP3のそれぞれにおいて、第1接合SB1に接合電流ip1が流れ、第2接合SB2に接合電流ip2が流れる。第1~第3動作OP1~OP3のそれぞれにおいて、接合電流ip2の向きは、接合電流ip1の向きと逆である。このため、導電層21に流れる電流i21において、第1メモリセルMC1を通過する前と、後と、の間における差が小さくなる。例えば、接合電流ip1の絶対値と接合電流ip2の絶対値が実質的に同じならば、導電層21に流れる電流i21の変動が抑制される。このため、例えば、「00」を書き込む場合に、導電層21に流れる電流i21の変動が抑制される。
As shown in FIGS. 2A to 2C, in each of the first to third operations OP1 to OP3, the junction current ip1 flows through the first junction SB1 and the junction current ip2 flows through the second junction SB2. .. In each of the first to third operations OP1 to OP3, the direction of the junction current ip2 is opposite to the direction of the junction current ip1. Therefore, in the current i21 flowing through the
このような第1メモリセルMC1の動作が、他のメモリセル(例えば、第2メモリセルMC2など)に適用される。複数のメモリセルのそれぞれにおいて、接合電流ip2の向きが接合電流ip1の向きと逆にされる。これにより、複数のメモリセルが設けられる場合も、導電層21に流れる電流i21の変動が抑制できる。
Such an operation of the first memory cell MC1 is applied to another memory cell (for example, the second memory cell MC2). In each of the plurality of memory cells, the direction of the junction current ip2 is reversed from the orientation of the junction current ip1. As a result, even when a plurality of memory cells are provided, fluctuations in the current i21 flowing through the
図2(a)に示すように、第1導電層電流Ic1を供給する場合は、第2部分21bから第3部分21cへ流れ、第3部分21cから第1部分21aへ流れる。図2(b)に示すように、第2導電層電流Ic2は、第1部分21aから第3部分21cへ流れ、第3部分21cから第2部分21bへ流れる。図2(c)に示すように、第3導電層電流Ic3は、第2部分21bから第3部分21cへ流れ、第3部分21cから第1部分21aへ流れる。
As shown in FIG. 2A, when the first conductive layer current Ic1 is supplied, it flows from the
第1~第3導電層電流Ic1~Ic3は、例えば、電流源から導電層21に供給される。電流源は、例えば、制御部70に含まれる。
The first to third conductive layer currents Ic1 to Ic3 are supplied to the
図2(a)に示すように、第1動作OP1において、第1接合SB1に第1接合電流Im01が流れ、第2接合SB2に第2接合電流Im02が流れる。これらの電流の向きは、互いに逆である。例えば、第1接合電流Im01の向きが、第1回路31から第1接合SB1への向きの場合には、第2接合電流Im02の向きは、第2接合SB2から第1回路31への向きになる。
As shown in FIG. 2A, in the first operation OP1, the first junction current Im01 flows through the first junction SB1 and the second junction current Im02 flows through the second junction SB2. The directions of these currents are opposite to each other. For example, when the direction of the first junction current Im01 is from the
第1極性及び第2極性の正負が逆の場合は、電流の向きが逆になる。例えば、第1動作OP1において、第1接合電流Im01の向きが第1回路31から第1接合SB1への向きである場合には、第2接合電流Im02の向きは、第2接合SB2から第1回路31への向きである。
When the positive and negative of the first polarity and the second polarity are opposite, the direction of the current is opposite. For example, in the first operation OP1, when the direction of the first junction current Im01 is the direction from the
図2(b)に示すように、第2動作OP2において、第1接合SB1に第3接合電流Im03が流れ、第2接合SB2に第4接合電流Im04が流れる。第3接合電流Im03の向きは、第1接合電流Im01の向きと逆である。第4接合電流Im04の向きは、第2接合電流Im02の向きと逆である。 As shown in FIG. 2B, in the second operation OP2, the third junction current Im03 flows through the first junction SB1 and the fourth junction current Im04 flows through the second junction SB2. The direction of the third junction current Im03 is opposite to that of the first junction current Im01. The direction of the fourth junction current Im04 is opposite to the direction of the second junction current Im02.
図2(c)に示すように、第3動作OP3において、第1接合SB1に第5接合電流Im05が流れ、第2接合SB2に第6接合電流Im06が流れる。第5接合電流Im05の向きは、第1接合電流Im01の向きと逆である。第6接合電流Im06の向きは、第2接合電流Im02の向きと逆である。 As shown in FIG. 2C, in the third operation OP3, the fifth junction current Im05 flows through the first junction SB1 and the sixth junction current Im06 flows through the second junction SB2. The direction of the fifth junction current Im05 is opposite to the direction of the first junction current Im01. The direction of the sixth junction current Im06 is opposite to the direction of the second junction current Im02.
第1動作OP1~OP3における第1~第6接合電流Im01~06の向きは、全て逆向きであっても構わない。 The directions of the first to sixth junction currents Im01 to 06 in the first operation OP1 to OP3 may be all opposite directions.
このような第1~第6接合電流Im01~Im06は、例えば、第1回路31から供給される。第1回路31は、例えば、電流源(例えば、定電流源)を含む。電流源から第1接合SB1及び第2接合SB2に、実質的に定電流の第1~第6接合電流Im01~Im06などが供給される(図2(a)~図2(c)参照)。
Such first to sixth junction currents Im01 to Im06 are supplied from, for example, the
第1動作OP1において、第1接合電流Im01の絶対値は、第2接合電流Im02の絶対値と実質的に同じであるこことが好ましい。例えば、第1動作OP1において、第1接合電流Im01の絶対値は、第2接合電流Im02の絶対値の0.7倍以上かつ1.3倍以下である。 In the first operation OP1, it is preferable that the absolute value of the first junction current Im01 is substantially the same as the absolute value of the second junction current Im02. For example, in the first operation OP1, the absolute value of the first junction current Im01 is 0.7 times or more and 1.3 times or less the absolute value of the second junction current Im02.
第2動作OP2において、例えば、第3接合電流Im03の絶対値は、第4接合電流Im04の絶対値の0.7倍以上かつ1.3倍以下であることが好ましい。 In the second operation OP2, for example, the absolute value of the third junction current Im03 is preferably 0.7 times or more and 1.3 times or less the absolute value of the fourth junction current Im04.
第3動作OP3において、例えば、第5接合電流Im05の絶対値は、第6接合電流Im06の絶対値の0.7倍以上かつ1.3倍以下であることが好ましい。 In the third operation OP3, for example, the absolute value of the fifth junction current Im05 is preferably 0.7 times or more and 1.3 times or less the absolute value of the sixth junction current Im06.
電流の絶対値が実質的に同じであることにより、導電層21を流れる電流i21の変動が効果的に抑制できる。
Since the absolute value of the current is substantially the same, the fluctuation of the current i21 flowing through the
以下、第1メモリセルMC1に別の情報を書き込む場合の動作の例について説明する。 Hereinafter, an example of the operation when another information is written to the first memory cell MC1 will be described.
図3(a)及び図3(b)は、第1実施形態に係る磁気記憶装置の動作を例示する模式的斜視図である。
これらの図は、第1メモリセルMC1に「01」を記憶させる動作(書き込み動作)を例示している。
3A and 3B are schematic perspective views illustrating the operation of the magnetic storage device according to the first embodiment.
These figures illustrate an operation (write operation) of storing "01" in the first memory cell MC1.
図3(a)及び図3(b)に示すように、制御部70は、第1メモリセルMC1に第2情報を書き込む場合に、第4動作OP4及び第5動作OP5を実施する。第2情報は、「01」に対応する。第5動作OP5は、第4動作OP4の後に実施される。
As shown in FIGS. 3A and 3B, the
図3(a)に示すように、第4動作OP4において、制御部70は、第1部分21aから第2部分21bへの第4導電層電流Ic4を導電層21に供給しつつ、第1回路31に、第1磁性層11の電位を第1極性にさせ、第2磁性層12の電位を第2極性にさせる。
As shown in FIG. 3A, in the fourth operation OP4, the
第4動作OP4において、第2接合SB2は、「0」に書き込まれる。第4動作OP4において、第1接合SB1は、第4動作OP4の前の状態を維持する。 In the fourth operation OP4, the second junction SB2 is written to "0". In the fourth operation OP4, the first junction SB1 maintains the state before the fourth operation OP4.
図3(b)に示すように、第5動作OP5において、制御部70は、第2部分21bから第1部分21aへの第5導電層電流Ic5を導電層21に供給しつつ、第1回路31に、第1磁性層11の電位を第2極性にさせ、第2磁性層12の電位を第1極性にさせる。
As shown in FIG. 3B, in the fifth operation OP5, the
第5動作OP5において、第1接合SB1は、「0」に書き込まれる。第5動作OP5において、第2接合SB2は、第5動作OP5の前の状態を維持する。 In the fifth operation OP5, the first junction SB1 is written to "0". In the fifth operation OP5, the second junction SB2 maintains the state before the fifth operation OP5.
このような第4動作OP4及び第5動作OP5により、第1メモリセルMC1は、「01」の第2情報に書き込まれる。 By such a fourth operation OP4 and a fifth operation OP5, the first memory cell MC1 is written in the second information of "01".
図3(a)に示すように、第4動作OP4において、第1接合SB1に第7接合電流Im07が流れ、第2接合SB2に第8接合電流Im08が流れる。第7接合電流Im07の向きは、第1接合電流Im01の向きと同じである。第8接合電流Im08の向きは、第2接合電流Im02の向きと同じある。 As shown in FIG. 3A, in the fourth operation OP4, the 7th junction current Im07 flows through the 1st junction SB1 and the 8th junction current Im08 flows through the 2nd junction SB2. The orientation of the seventh junction current Im07 is the same as the orientation of the first junction current Im01. The direction of the eighth junction current Im08 is the same as the direction of the second junction current Im02.
図3(b)に示すように、第5動作OP5において、第1接合SB1に第9接合電流Im09が流れ、第2接合SB2に第10接合電流Im10が流れる。第9接合電流Im09の向きは、第1接合電流Im01の向きと逆である。第10接合電流Im10の向きは、第2接合電流Im02の向きと逆である。 As shown in FIG. 3B, in the fifth operation OP5, the ninth junction current Im09 flows through the first junction SB1 and the tenth junction current Im10 flows through the second junction SB2. The direction of the ninth junction current Im09 is opposite to the direction of the first junction current Im01. The direction of the tenth junction current Im10 is opposite to that of the second junction current Im02.
第4動作OP4において、第7接合電流Im07の向きは、第8接合電流Im08の向きと逆である。第5動作OP5において、第9接合電流Im09の向きは、第10接合電流Im10の向きと逆である。第4動作OP4及び第5動作OP5のそれぞれにおいて、導電層21を流れる電流i21の変動が抑制できる。
In the fourth operation OP4, the direction of the seventh junction current Im07 is opposite to the direction of the eighth junction current Im08. In the fifth operation OP5, the direction of the ninth junction current Im09 is opposite to the direction of the tenth junction current Im10. In each of the fourth operation OP4 and the fifth operation OP5, the fluctuation of the current i21 flowing through the
第1メモリセルMC1に「01」の第2情報を記憶させる動作(書き込み動作)は、上記の第4動作OP4及び第5動作OP5の他に、以下に例示する動作をさらに含んでも良い。 The operation (writing operation) for storing the second information of "01" in the first memory cell MC1 may further include the operations exemplified below in addition to the above-mentioned fourth operation OP4 and fifth operation OP5.
図4(a)及び図4(b)は、第1実施形態に係る磁気記憶装置の動作を例示する模式的斜視図である。
これらの動作は、例えば、第4動作OP4の前に実施される。例えば、第2メモリセルMC2に上記の第1動作OP1に対応する動作が実施されているときに、第1メモリセルMC1において、図4(a)に例示する動作、または、図4(b)に例示する動作が実施されても良い。
4 (a) and 4 (b) are schematic perspective views illustrating the operation of the magnetic storage device according to the first embodiment.
These operations are performed, for example, before the fourth operation OP4. For example, when the operation corresponding to the above-mentioned first operation OP1 is performed in the second memory cell MC2, the operation exemplified in FIG. 4A or FIG. 4B in the first memory cell MC1. The operation illustrated in 1 may be carried out.
図4(a)に示すように、1つの例において、制御部70は、第2部分21bから第1部分21aへの第1導電層電流Ic1を導電層21に供給しつつ、第1回路31に、第1磁性層11の電位を第1極性(例えば正)にさせつつ、第2磁性層12の電位を第2極性(例えば負)にさせる。
As shown in FIG. 4A, in one example, the
図4(b)に示すように、別の例において、制御部70は、第2部分21bから第1部分21aへの第2導電層電流Ic2を導電層21に供給しつつ、第1回路31に、第1磁性層11の電位を第2極性にさせつつ、第2磁性層12の電位を第1極性にさせる。
As shown in FIG. 4B, in another example, the
第1メモリセルMC1に第4動作OP4(図3(a)参照)が実施される前に、第1メモリセルMC1において、図4(a)に例示した動作、または、第4(b)に例示した動作が実施されても良い。例えば、第1メモリセルMC1において図4(a)に例示した動作、または、第4(b)に例示した動作が実施されているときに、他のメモリセル(例えば、第2メモリセルMC2など)において、第1動作OP1に対応する動作が実施されても良い。 Before the fourth operation OP4 (see FIG. 3A) is performed on the first memory cell MC1, the operation exemplified in FIG. 4A or the fourth operation (b) is performed in the first memory cell MC1. An exemplary operation may be performed. For example, when the operation illustrated in FIG. 4A or the operation exemplified in the fourth (b) is performed in the first memory cell MC1, another memory cell (for example, the second memory cell MC2, etc.) ), The operation corresponding to the first operation OP1 may be performed.
以下、第1メモリセルMC1に別の情報を書き込む場合の動作の例について説明する。 Hereinafter, an example of the operation when another information is written to the first memory cell MC1 will be described.
図5(a)及び図5(b)は、第1実施形態に係る磁気記憶装置の動作を例示する模式的斜視図である。
これらの図は、第1メモリセルMC1に「10」を記憶させる動作(書き込み動作)を例示している。
5 (a) and 5 (b) are schematic perspective views illustrating the operation of the magnetic storage device according to the first embodiment.
These figures illustrate an operation (write operation) of storing "10" in the first memory cell MC1.
図5(a)及び図5(b)に示すように、制御部70は、第1メモリセルMC1に第3情報を書き込む場合に、第6動作OP6及び第7動作OP7を実施する。第3情報は、例えば、「10」である。第7動作OP7は、第6動作OP6の後に実施される。
As shown in FIGS. 5A and 5B, the
図5(a)に示すように、第6動作OP6において、制御部70は、第1部分21aから第2部分21bへの第6導電層電流Ic6を導電層21に供給しつつ、第1回路31に、第1磁性層11の電位を第2極性(例えば負)にさせ、第2磁性層12の電位を第1極性(例えば正)にさせる。
As shown in FIG. 5A, in the sixth operation OP6, the
第6動作OP6により、第1接合SB1は、「1」に書き込まれる。第6動作OP6において、第2接合SB2は、第6動作OP6の前の状態を維持する。 By the sixth operation OP6, the first junction SB1 is written in "1". In the sixth operation OP6, the second junction SB2 maintains the state before the sixth operation OP6.
図5(b)に示すように、第7動作OP7において、制御部70は、第2部分21bから第1部分21aへの第7導電層電流Ic7を導電層21に供給しつつ、第1回路31に、第1磁性層11の電位を第1極性(例えば正)にさせ、第2磁性層12の電位を第2極性(例えば負)にさせる。
As shown in FIG. 5B, in the seventh operation OP7, the
第7動作OP7により、第2接合SB2は、「0」に書き込まれる。第7動作OP7において、第1接合SB1は、第7動作OP7の前の状態を維持する。 The second junction SB2 is written to "0" by the seventh operation OP7. In the seventh operation OP7, the first junction SB1 maintains the state before the seventh operation OP7.
このような第6動作OP6及び第7動作OP7により、第1メモリセルMC1に、「10」の第3情報が書き込まれる。 By such the sixth operation OP6 and the seventh operation OP7, the third information of "10" is written in the first memory cell MC1.
図5(a)に示すように、第6動作OP6において、第1接合SB1に第11接合電流Im11が流れ、第2接合SB2に第12接合電流Im12が流れる。第11接合電流Im11の向きは、第1接合電流Im01の向きと逆である。第12接合電流Im12の向きは、第2接合電流Im02の向きと逆である。 As shown in FIG. 5A, in the sixth operation OP6, the 11th junction current Im11 flows through the 1st junction SB1 and the 12th junction current Im12 flows through the 2nd junction SB2. The direction of the eleventh junction current Im11 is opposite to the direction of the first junction current Im01. The direction of the twelfth junction current Im12 is opposite to the direction of the second junction current Im02.
図5(b)に示すように、第7動作OP7において、第1接合SB1に第13接合電流Im13が流れ、第2接合SB2に第14接合電流Im14が流れる。第13接合電流Im13の向きは、第1接合電流Im01の向きと同じである。第14接合電流Im14の向きは、第2接合電流Im02の向きと同じである。 As shown in FIG. 5B, in the seventh operation OP7, the 13th junction current Im13 flows through the 1st junction SB1 and the 14th junction current Im14 flows through the 2nd junction SB2. The orientation of the thirteenth junction current Im13 is the same as the orientation of the first junction current Im01. The direction of the 14th junction current Im14 is the same as the orientation of the second junction current Im02.
第6動作OP6において、第11接合電流Im11の向きは、第12接合電流Im12の向きと逆である。第7動作OP7において、第13接合電流Im13の向きは、第14接合電流Im14の向きと逆である。第1接合SB1を流れる電流の向きが、第2接合SB2を流れる電流の向きと逆である。これにより、導電層21を流れる電流i21の変動が抑制できる。
In the sixth operation OP6, the direction of the eleventh junction current Im11 is opposite to the direction of the twelfth junction current Im12. In the seventh operation OP7, the direction of the 13th junction current Im13 is opposite to the orientation of the 14th junction current Im14. The direction of the current flowing through the first junction SB1 is opposite to the direction of the current flowing through the second junction SB2. As a result, fluctuations in the current i21 flowing through the
第6動作OP6の前に、第1メモリセルMC1において、図4(a)に例示した動作、または、第4(b)に例示した動作が実施されても良い。 Prior to the sixth operation OP6, the operation illustrated in FIG. 4A or the operation illustrated in the fourth (b) may be performed in the first memory cell MC1.
上記のように、例えば、第1メモリセルMC1において、「00」、「01」及び「10」を含む3値の情報が記憶される。第1メモリセルMC1において、「11」の情報は、記憶されなくても良い。 As described above, for example, in the first memory cell MC1, information of three values including "00", "01" and "10" is stored. In the first memory cell MC1, the information of "11" does not have to be stored.
以下、制御部70及び第1回路31の例について説明する。
図6は、第1実施形態に係る磁気記憶装置を例示する回路図である。
図6に示すように、制御部70の電流源Cs1は、導電層21と電気的に接続される。電流源Cs1から電流が導電層21に供給される。
Hereinafter, an example of the
FIG. 6 is a circuit diagram illustrating the magnetic storage device according to the first embodiment.
As shown in FIG. 6, the current source Cs1 of the
第1回路31は、第1スイッチSW1及び第2スイッチSW2を含む。第1スイッチSW1は、第1磁性層11と電気的に接続される。第2スイッチSW2は、第2磁性層12と電気的に接続される。この例では、トランジスタTr1を介して、第1スイッチSW1が第1磁性層11と電気的に接続される。トランジスタTr2を介して、第2スイッチSW2が第2磁性層12と電気的に接続される。トランジスタTr1のゲート、及び、トランジスタTr2のゲートは、ワード線WLにより制御される。
The
第1スイッチSW1は、例えば、第1トランジスタT1及び第2トランジスタT2を含む。例えば、第1トランジスタT1は、nチャネルMOSFETであり、第2トランジスタT2は、pチャネルMOSFETである。第1トランジスタT1の第1ドレインD1は、第2トランジスタT2の第2ドレインD2と接続される。 The first switch SW1 includes, for example, a first transistor T1 and a second transistor T2. For example, the first transistor T1 is an n-channel MOSFET, and the second transistor T2 is a p-channel MOSFET. The first drain D1 of the first transistor T1 is connected to the second drain D2 of the second transistor T2.
第1トランジスタT1の第1ソースS1は、第5トランジスタT5の第5ドレインD5と接続される。第5トランジスタT5の第5ソースS5は、第1電位線LP1と接続される。第1電位線LP1は、例えば、接地される。 The first source S1 of the first transistor T1 is connected to the fifth drain D5 of the fifth transistor T5. The fifth source S5 of the fifth transistor T5 is connected to the first potential line LP1. The first potential line LP1 is grounded, for example.
第2トランジスタT2の第2ソースS2は、第6トランジスタT6の第6ドレインD6と接続される。第6トランジスタT6の第6ソースS6は、第2電位線LP2と接続される。第2電位線LP2は、高電位線である。第2電位線LP2の電位は、第1電位線LP1の電位よりも高い。 The second source S2 of the second transistor T2 is connected to the sixth drain D6 of the sixth transistor T6. The sixth source S6 of the sixth transistor T6 is connected to the second potential line LP2. The second potential line LP2 is a high potential line. The potential of the second potential line LP2 is higher than the potential of the first potential line LP1.
第2スイッチSW2は、例えば、第3トランジスタT3及び第4トランジスタT3を含む。第3トランジスタT3は、nチャネルMOSFETであり、第4トランジスタT4は、pチャネルMOSFETである。第3トランジスタT3の第3ドレインD3は、第4トランジスタT4の第4ドレインD4と接続される。 The second switch SW2 includes, for example, a third transistor T3 and a fourth transistor T3. The third transistor T3 is an n-channel MOSFET, and the fourth transistor T4 is a p-channel MOSFET. The third drain D3 of the third transistor T3 is connected to the fourth drain D4 of the fourth transistor T4.
第3トランジスタT3の第3ソースS3は、第5トランジスタT1の第5ドレインD5と接続される。第4トランジスタT4の第4ソースS4は、第6トランジスタT6の第6ドレインD6と接続される。 The third source S3 of the third transistor T3 is connected to the fifth drain D5 of the fifth transistor T1. The fourth source S4 of the fourth transistor T4 is connected to the sixth drain D6 of the sixth transistor T6.
第1トランジスタT1の第1ゲートG1と、第2トランジスタT2の第2ゲートG2とは、第1配線Ls1に接続される。第1配線Ls1は第1インバータIn1の入力に接続し、第1インバータの出力は第3トランジスタの第3ゲートG3と、第4トランジスタの第4ゲートG4に接続される。 The first gate G1 of the first transistor T1 and the second gate G2 of the second transistor T2 are connected to the first wiring Ls1. The first wiring Ls1 is connected to the input of the first inverter In1, and the output of the first inverter is connected to the third gate G3 of the third transistor and the fourth gate G4 of the fourth transistor.
第1配線Ls1は、高電位VHまたは低電位VLに設定可能である。 The first wiring Ls1 can be set to high potential VH or low potential VL.
第5トランジスタT5の第5ゲートG5の電圧は、制御回路71bにより制御される。第6トランジスタT6の第6ゲートG6の電圧は、制御回路71aにより制御される。制御回路71aおよび71bはカレントミラー回路になっていて、メモリセルに流入する電流とメモリセルから流出する電流が実質的に同じになる。図9では回路31から第2接合SB2に流れる電流と第1接合SB1から回路31に流れる電流は実質的に同じになる。メモリセルに流入する電流とメモリセルから流出する電流が実質的に同じであれば、図9にあるカレントミラー回路以外の回路を用いても良い。
The voltage of the fifth gate G5 of the fifth transistor T5 is controlled by the
このような第1回路31と同様の回路が、第2回路32にも適用される。例えば、第2回路32は、第3スイッチSW3及び第4スイッチSW4を含む。第3スイッチSW3で使われているMOSFETのゲートが、第2配線Ls2に接続される。第2配線Ls2はインバータIn2の入力に接続され、第4スイッチSW4で使われているMOSFETのゲートが、第2インバータIn2の出力に接続される。第1配線Ls1及び第2配線Ls2は、例えば、ビット線である。
Such a circuit similar to the
例えば、第1回路31において、以下の動作が行われる。
第1スイッチSW1が第1磁性層11を第1電位線LP1に電気的に接続している場合に、第2スイッチSW2は第2磁性層12を第2電位線LP2に電気的に接続する。第1スイッチSW1が第1磁性層11を第2電位線LP2に電気的に接続している場合に、第2スイッチSW2は第2磁性層12を第1電位線LP1に電気的に接続する。第2電位線LP2の電位は、第1電位線LP1の電位よりも高い。
For example, in the
When the first switch SW1 electrically connects the first
例えば、第2回路32は、第3磁性層13と電気的に接続された第3スイッチSW3と、第4磁性層14と電気的に接続された第4スイッチSW3と、を含む。第3スイッチSW3が第3磁性層13を第1電位線LP1に電気的に接続している場合に、第4スイッチSW4は第4磁性層14を第2電位線LP2に電気的に接続する。第3スイッチSW3が第3磁性層13を第2電位線LP2に電気的に接続している場合に、第4スイッチSW4は第4磁性層14を第1電位線LP1に電気的に接続する。
For example, the
例えば、第1スイッチSW1が第1磁性層11を第1電位線LP1に電気的に接続している場合に、第3スイッチSW3は第3磁性層13を第1電位線LP1または第2電位線LP2に電気的に接続しても良い。第1スイッチSW1が第1磁性層11を第2電位線LP2に電気的に接続している場合に、第3スイッチSW3は第3磁性層13を第1電位線LP1または第2電位線LP2に電気的に接続しても良い。
For example, when the first switch SW1 electrically connects the first
複数のメモリセルに対して、最初に第1動作OP1、図4(a)に示す動作、または図4(b)に示す動作を同時に行い、次に第2動作OP2、第4動作OP4または第6動作OP6を同時に行い、次に第3動作OP3、第5動作OP5または第7動作OP7を同時に行うことで、複数のメモリセルに対して一括して書込を行うことができる。そのため、実質的に高速な書き込みが実現する。 First, the first operation OP1, the operation shown in FIG. 4 (a), or the operation shown in FIG. 4 (b) is simultaneously performed on a plurality of memory cells, and then the second operation OP2, the fourth operation OP4, or the fourth operation OP4 or the second operation. By performing the 6 operation OP6 at the same time and then performing the 3rd operation OP3, the 5th operation OP5, or the 7th operation OP7 at the same time, it is possible to write to a plurality of memory cells at once. Therefore, substantially high-speed writing is realized.
(第2実施形態)
第2実施形態に係る磁気記憶装置においては、制御部70は、第1実施形態に関して説明した動作と異なる動作を実施する。第2実施形態において、例えば、メモリ部MPの構成は、第1実施形態におけるメモリ部MPの構成と同様である。以下、第2実施形態について、第1実施形態と異なる部分について説明する。
(Second Embodiment)
In the magnetic storage device according to the second embodiment, the
図7(a)~図7(c)は、第2実施形態に係る磁気記憶装置の動作を例示する模式的斜視図である。
制御部70は、第1メモリセルMC1に、「00」の第1情報を書き込む場合に、第21動作QP21、第22動作QP22及び第23動作QP23を実施する。第22動作QP22は、第21動作QP21の後に実施される。第23動作QP23は、第22動作QP22の後に実施される。これらの動作が、「00」の書き込みに対応する。
7 (a) to 7 (c) are schematic perspective views illustrating the operation of the magnetic storage device according to the second embodiment.
The
図7(a)に示すように、第21動作QP21において、制御部70は、「読み出し動作」を行う。第21動作QP21において、制御部70は、第1メモリセルMC1の状態を検出する。第21動作QP21(読み出し動作)は、例えば、検出回路76により行われる。図7(a)~図7(c)の例では、読み出された第1メモリセルMC1の状態が、「10」または「00」である。読み出された第1メモリセルMC1の状態が「01」の場合の動作については、後述する。
As shown in FIG. 7A, in the 21st operation QP21, the
読み出された第1メモリセルMC1の状態が、「10」または「00」である場合、図7(b)に示すように、第22動作QP22において、制御部70は、第1部分21aから第2部分21bへの第21導電層電流Ic21を導電層21に供給しつつ、第1回路31に、第1部分21aの電位を基準にした場合に、第1磁性層11の電位を第2極性(例えば負)にさせつつ、第2磁性層12の電位を第2極性と逆の第1極性(例えば正)にさせる。
When the read state of the first memory cell MC1 is “10” or “00”, as shown in FIG. 7 (b), in the 22nd operation QP22, the
図7(c)に示すように、第23動作QP23において、制御部70は、第2部分21bから第1部分21aへの第22導電層電流Ic22を導電層21に供給しつつ、第1回路31に、第1部分21aの電位を基準にした場合に、第1磁性層11の電位を第2極性(例えば負)にさせつつ、第2磁性層12の電位を第1極性(例えば正)にさせる。
As shown in FIG. 7C, in the 23rd operation QP23, the
例えば、図7(b)に示す第22動作QP22により、第1接合SB1は、「1」に書き込まれる。第22動作QP22において、第2接合SB2は、第22動作QP22の前の状態(「0」)を維持する。図7(c)に示す第23動作QP23により、第1接合SB1は、「0」に書き込まれる。第23動作QP23において、第2接合SB2は、第23動作QP23の前の状態(「0」)を維持する。 For example, the first junction SB1 is written in "1" by the 22nd operation QP22 shown in FIG. 7B. In the 22nd operation QP22, the second junction SB2 maintains the state (“0”) before the 22nd operation QP22. The first junction SB1 is written to "0" by the 23rd operation QP23 shown in FIG. 7 (c). In the 23rd operation QP23, the second junction SB2 maintains the state (“0”) before the 23rd operation QP23.
これにより、読み出された第1メモリセルMC1の状態が「10」または「00」である場合に、第1メモリセルMC1が「00」の第1情報に書き込まれる。 As a result, when the read state of the first memory cell MC1 is "10" or "00", the first memory cell MC1 is written to the first information of "00".
以下、第21動作QP21において、読み出された第1メモリセルMC1の状態が、「01」の場合の動作の例について説明する。以下の動作は、第1メモリセルMC1の状態が、「01」または「00」の場合に実施されても良い。 Hereinafter, in the 21st operation QP21, an example of the operation when the read state of the first memory cell MC1 is “01” will be described. The following operation may be performed when the state of the first memory cell MC1 is "01" or "00".
図8(a)~図8(c)は、第2実施形態に係る磁気記憶装置の動作を例示する模式的斜視図である。
図8(a)に示すように、第21動作QP21において、制御部70は、「読み出し動作」を行う。図8(a)~図8(c)の例は、読み出された第1メモリセルMC1の状態が、「01」または「00」である。
8 (a) to 8 (c) are schematic perspective views illustrating the operation of the magnetic storage device according to the second embodiment.
As shown in FIG. 8A, in the 21st operation QP21, the
図8(b)に示すように、第22動作QP22において、制御部70は、第1部分21aから第2部分21bへの第21導電層電流Ic21を導電層21に供給しつつ、第1回路31に、第1部分21aの電位を基準にした場合に、第1磁性層11の電位を第1極性(例えば正)にさせつつ、第2磁性層12の電位を第2極性(例えば負)にさせる。
As shown in FIG. 8B, in the 22nd operation QP22, the
図8(c)に示すように、第23動作QP23において、制御部70は、第2部分21bから第1部分21aへの第22導電層電流Ic22を導電層21に供給しつつ、第1回路31に、第1部分21aの電位を基準にした場合に、第1磁性層11の電位を第1極性(例えば正)にさせつつ、第2磁性層12の電位を第2極性(例えば負)にさせる。
As shown in FIG. 8C, in the 23rd operation QP23, the
例えば、図8(b)に示す第22動作QP22により、第2接合SB2は、「1」に書き込まれる。第22動作QP22において、第1接合SB1は、第22動作QP22の前の状態(「0」)を維持する。図8(c)に示す第23動作QP23により、第2接合SB2は、「0」に書き込まれる。第23動作QP23において、第1接合SB1は、第23動作QP23の前の状態(「0」)を維持する。 For example, the second junction SB2 is written in "1" by the 22nd operation QP22 shown in FIG. 8 (b). In the 22nd operation QP22, the first junction SB1 maintains the state (“0”) before the 22nd operation QP22. The second junction SB2 is written to "0" by the 23rd operation QP23 shown in FIG. 8 (c). In the 23rd operation QP23, the first junction SB1 maintains the state (“0”) before the 23rd operation QP23.
これらの動作により、読み出された第1メモリセルMC1の状態が「01」または「00」である場合に、第1メモリセルMC1が「00」の第1情報に書き込まれる。 By these operations, when the state of the read first memory cell MC1 is "01" or "00", the first memory cell MC1 is written to the first information of "00".
第2実施形態においても、導電層21に流れる電流i21の変動が抑制される。例えば、安定して正常な動作が可能な磁気記憶装置を提供できる。
Also in the second embodiment, the fluctuation of the current i21 flowing through the
図7(b)及び図8(b)に示すように、第21導電層電流Ic21は、第1部分21aから第3部分21cへ流れ、第3部分21cから第2部分21bへ流れる。図7(c)及び図8(c)に示すように、第22導電層電流Ic22は、第2部分21bから第3部分21cへ流れ、第3部分21cから第1部分21aへ流れる。
As shown in FIGS. 7 (b) and 8 (b), the 21st conductive layer current Ic21 flows from the
例えば、第22動作QP22において、第1接合SB1に第21接合電流Im21が流れ、第2接合SB2に第22接合電流Im22が流れる。第23動作QP23において、第1接合SB1に第23接合電流Im23が流れ、第2接合SB2に第24接合電流Im24が流れる。第23接合電流Im23の向きは、第21接合電流Im21の向きと同じである。第24接合電流Im24の向きは、第22接合電流Im22の向きと同じである。 For example, in the 22nd operation QP22, the 21st junction current Im21 flows through the 1st junction SB1 and the 22nd junction current Im22 flows through the 2nd junction SB2. In the 23rd operation QP23, the 23rd junction current Im23 flows through the 1st junction SB1 and the 24th junction current Im24 flows through the 2nd junction SB2. The orientation of the 23rd junction current Im23 is the same as the orientation of the 21st junction current Im21. The orientation of the 24th junction current Im24 is the same as the orientation of the 22nd junction current Im22.
第1メモリセルMC1の状態(読み出された状態)が、第22情報(「01」)または第21情報(「00」)に対応する場合、第21接合電流Im21の向きは、第1回路31から第1接合SB1への向きであり、第22接合電流Im22の向きは、第2接合SB2から第1回路31への向きである(図8(b)参照)。 When the state (read state) of the first memory cell MC1 corresponds to the 22nd information (“01”) or the 21st information (“00”), the direction of the 21st junction current Im21 is the first circuit. The orientation from 31 to the first junction SB1 and the orientation of the 22nd junction current Im22 is the orientation from the second junction SB2 to the first circuit 31 (see FIG. 8B).
第1メモリセルMC1の状態(読み出された状態)が、第23情報(「10」)または第21情報(「00」)に対応する場合、第21接合電流Im21の向きは、第1接合SB1から第1回路31への向きであり、第22接合電流Im22の向きは、第1回路31から第2接合SB2への向きである(図7(b)参照)。
When the state (read state) of the first memory cell MC1 corresponds to the 23rd information (“10”) or the 21st information (“00”), the direction of the 21st junction current Im21 is the first junction. The orientation from SB1 to the
例えば、第21接合電流Im21の絶対値は、第22接合電流Im22の絶対値と、実質的に同じことが好ましい。第23接合電流Im23の絶対値は、第24接合電流Im24の絶対値と、実質的に同じことが好ましい。例えば、第21接合電流Im21の絶対値は、第22接合電流Im22の絶対値の0.7倍以上かつ1.3倍以下であることが好ましい。第23接合電流Im23の絶対値は、第24接合電流Im24の絶対値の0.7倍以上かつ1.3倍以下であることが好ましい。 For example, it is preferable that the absolute value of the 21st junction current Im21 is substantially the same as the absolute value of the 22nd junction current Im22. It is preferable that the absolute value of the 23rd junction current Im23 is substantially the same as the absolute value of the 24th junction current Im24. For example, the absolute value of the 21st junction current Im21 is preferably 0.7 times or more and 1.3 times or less the absolute value of the 22nd junction current Im22. The absolute value of the 23rd junction current Im23 is preferably 0.7 times or more and 1.3 times or less the absolute value of the 24th junction current Im24.
以下、第1メモリセルMC1に「01」の第22情報を書き込む場合の動作の例について説明する。 Hereinafter, an example of the operation when the 22nd information of “01” is written to the first memory cell MC1 will be described.
図9(a)及び図9(b)は、第2実施形態に係る磁気記憶装置の動作を例示する模式的斜視図である。
図9(a)及び図9(b)に示すように、制御部70は、第1メモリセルMC1に第21情報(「10」)を書き込む場合に、第24動作QP24及び第25動作QP25を実施する。第25動作QP25は、第24動作QP24の後に実施される。
9 (a) and 9 (b) are schematic perspective views illustrating the operation of the magnetic storage device according to the second embodiment.
As shown in FIGS. 9A and 9B, the
図9(a)に示すように、第24動作QP24において、制御部70は、第1部分21aから第2部分21bへの第23導電層電流Ic23を導電層21に供給しつつ、第1回路31に、第1部分21aの電位を基準にした場合に、第1磁性層11の電位を第1極性(例えば正)にさせつつ、第2磁性層12の電位を第2極性(例えば負)にさせる。
As shown in FIG. 9A, in the 24th operation QP24, the
図9(b)に示すように、第25動作QP25において、制御部70は、第2部分21bから第1部分21aへの第24導電層電流Ic24を導電層21に供給しつつ、第1回路31に、第1部分21aの電位を基準にした場合に、第1磁性層11の電位を第2極性にさせつつ、第2磁性層12の電位を第1極性にさせる。
As shown in FIG. 9B, in the 25th operation QP25, the
例えば、第24動作QP24により、第2接合SB2が「1」に書き込まれる。第24動作QP24において、第1接合SB1は、第24動作QP24の前の状態(「0」または「1」)を維持する。例えば、第25動作QP25により、第1接合SB1が「0」に書き込まれる。第25動作QP25において、第1接合SB1は、第25動作QP25の前の状態(「1」)を維持する。これにより、第1メモリセルMC1において、「01」の第2第22情報が書き込まれる。 For example, the 24th operation QP24 writes the second junction SB2 to "1". In the 24th operation QP24, the first junction SB1 maintains the state (“0” or “1”) before the 24th operation QP24. For example, the 25th operation QP25 writes the first junction SB1 to "0". In the 25th operation QP25, the first junction SB1 maintains the state (“1”) before the 25th operation QP25. As a result, the second 22nd information of "01" is written in the first memory cell MC1.
第24動作QP24の前において、読み出しの第21動作QP21を実施しても良い。 Before the 24th operation QP24, the 21st operation QP21 of reading may be performed.
図9(a)に示すように、第24動作QP24において、第1接合SB1に第25接合電流Im25が流れ、第2接合SB2に第26接合電流Im26が流れる。第25接合電流Im26の向きは、第1メモリセルMC1の状態が第22情報に対応する場合の第21接合電流Im21の向き(図8(b)参照)と同じである。第26接合電流Im26の向きは、第1メモリセルMC1の状態が第22情報に対応する場合の第22接合電流Im22の向き(図8(b)参照)と同じある。 As shown in FIG. 9A, in the 24th operation QP24, the 25th junction current Im25 flows through the first junction SB1 and the 26th junction current Im26 flows through the second junction SB2. The orientation of the 25th junction current Im26 is the same as the orientation of the 21st junction current Im21 when the state of the first memory cell MC1 corresponds to the 22nd information (see FIG. 8B). The orientation of the 26th junction current Im26 is the same as the orientation of the 22nd junction current Im22 when the state of the first memory cell MC1 corresponds to the 22nd information (see FIG. 8B).
図9(b)に示すように、第25動作QP25において、第1接合SB1に第27接合電流Im27が流れ、第2接合SB2に第28接合電流Im28が流れる。第27接合電流Im27の向きは、第25接合電流Im25の向き(図9(a)参照)と逆である。第28接合電流Im28の向きは、第26接合電流Im26の向き(図9(a)参照)と逆である。 As shown in FIG. 9B, in the 25th operation QP25, the 27th junction current Im27 flows through the first junction SB1 and the 28th junction current Im28 flows through the second junction SB2. The orientation of the 27th junction current Im27 is opposite to the orientation of the 25th junction current Im25 (see FIG. 9A). The orientation of the 28th junction current Im28 is opposite to the orientation of the 26th junction current Im26 (see FIG. 9A).
以下、第1メモリセルMC1に「10」の第23情報を書き込む場合の動作の例について説明する。 Hereinafter, an example of the operation when the 23rd information of “10” is written to the first memory cell MC1 will be described.
図10(a)及び図10(b)は、第2実施形態に係る磁気記憶装置の動作を例示する模式的斜視図である。
図10(a)及び図10(b)に示すように、制御部70は、第1メモリセルMC1に第23情報(「10」)を書き込む場合に、第26動作QP26及び第27動作QP27を実施する。第27動作QP27は、第26動作QP26の後に実施される。
10 (a) and 10 (b) are schematic perspective views illustrating the operation of the magnetic storage device according to the second embodiment.
As shown in FIGS. 10A and 10B, the
図10(a)に示すように、第26動作QP26において、制御部70は、第1部分21aから第2部分21bへの第25導電層電流Ic25を導電層21に供給しつつ、第1回路31に、第1部分21aの電位を基準にした場合に、第1磁性層11の電位を第2極性にさせつつ、第2磁性層12の電位を第1極性にさせる。
As shown in FIG. 10A, in the 26th operation QP26, the
図10(b)に示すように、第27動作QP27において、制御部70は、第2部分21bから第1部分21aへの第26導電層電流Ic26を導電層21に供給しつつ、第1回路31に、第1部分21aの電位を基準にした場合に、第1磁性層11の電位を第1極性にさせつつ、第2磁性層12の電位を第2極性にさせる。
As shown in FIG. 10B, in the 27th operation QP27, the
例えば、第26動作QP26により、第1接合SB1が「1」に書き込まれる。第26動作QP26において、第2接合SB2は、第26動作QP26の前の状態(「0」または「1」)を維持する。例えば、第27動作QP27により、第2接合SB2が「0」に書き込まれる。第27動作QP27において、第1接合SB1は、第27動作QP27の前の状態(「1」)を維持する。これにより、第1メモリセルMC1において、「10」の第23情報が書き込まれる。 For example, the 26th operation QP26 writes the first junction SB1 to "1". In the 26th operation QP26, the second junction SB2 maintains the state (“0” or “1”) before the 26th operation QP26. For example, the 27th operation QP27 writes the second junction SB2 to “0”. In the 27th operation QP27, the first junction SB1 maintains the state (“1”) before the 27th operation QP27. As a result, the 23rd information of "10" is written in the first memory cell MC1.
第26動作QP26の前において、読み出しの第21動作QP21を実施しても良い。 Before the 26th operation QP26, the 21st operation QP21 of reading may be performed.
図10(a)に示すように、第26動作QP26において、第1接合SB1に第29接合電流Im29が流れ、第2接合SB2に第30接合電流Im30が流れる。第29接合電流Im29の向きは、第1メモリセルMC1の状態が、第23情報または第21情報に対応する場合の第21接合電流Im21の向き(図7(b)参照)と同じである。第30接合電流Im30の向きは、第1メモリセルMC1の状態が、第23情報または第21情報に対応する場合の第22接合電流Im22の向き(図7(b)参照)と同じである。 As shown in FIG. 10A, in the 26th operation QP26, the 29th junction current Im29 flows through the first junction SB1 and the 30th junction current Im30 flows through the second junction SB2. The orientation of the 29th junction current Im29 is the same as the orientation of the 21st junction current Im21 when the state of the first memory cell MC1 corresponds to the 23rd information or the 21st information (see FIG. 7B). The orientation of the 30th junction current Im30 is the same as the orientation of the 22nd junction current Im22 when the state of the first memory cell MC1 corresponds to the 23rd information or the 21st information (see FIG. 7B).
図10(b)に示すように、第27動作QP27において、第1接合SB1に第31接合電流Im31が流れ、第2接合SB2に第32接合電流Im32が流れる。第31接合電流Im31の向きは、第29接合電流Im29の向き(図10(a)参照)と逆である。第32接合電流Im32の向きは、第30接合電流Im30の向き(図10(a)参照)と逆である。 As shown in FIG. 10B, in the 27th operation QP27, the 31st junction current Im31 flows through the 1st junction SB1 and the 32nd junction current Im32 flows through the 2nd junction SB2. The orientation of the 31st junction current Im31 is opposite to the orientation of the 29th junction current Im29 (see FIG. 10A). The orientation of the 32nd junction current Im32 is opposite to the orientation of the 30th junction current Im30 (see FIG. 10A).
第2実施形態において、第1回路31及び第2回路32には、第1実施形態の図6の回路を適用できる。
In the second embodiment, the circuit of FIG. 6 of the first embodiment can be applied to the
第2実施形態において、第1回路31及び第2回路32には、第1実施形態と同様に、メモリセルに流入する電流とメモリセルから流入する電流を実質的に同じにする回路を適用できる。
In the second embodiment, as in the first embodiment, a circuit that makes the current flowing into the memory cell and the current flowing from the memory cell substantially the same can be applied to the
第2実施形態において、複数のメモリセルに対して、最初に第21動作QP21を行い、次に第22動作QP22、第24動作QP24または第26動作QP26を同時に行い、次に第23動作QP23、第25動作QP25または第27動作QP27を同時に行うことで、複数のメモリセルを一括して書込むことができる。そのため、実質的に高速な書込を実現する。 In the second embodiment, the 21st operation QP21 is first performed on a plurality of memory cells, then the 22nd operation QP22, the 24th operation QP24 or the 26th operation QP26 are simultaneously performed, and then the 23rd operation QP23, By simultaneously performing the 25th operation QP25 or the 27th operation QP27, it is possible to write a plurality of memory cells at once. Therefore, substantially high-speed writing is realized.
第1及び第2実施形態において、第1~第4磁性層11~14は、例えば、Fe、Co及びNiよりなる群から選択された少なくとも1つを含む。第1~第4対向磁性層11c~14cは、例えば、Fe、Co及びNiよりなる群から選択された少なくとも1つを含む。第1~第4非磁性層11n~14nは、例えば、MgO、AlO、MgAlOなどの酸化物を含む。導電層21は、例えば、Hf、Ta及びWよりなる群から選択された少なくとも1つを含む。これらの材料は例であり、磁気抵抗効果を示す他の材料が適用されても良い。
In the first and second embodiments, the first to fourth
実施形態によれば、導電層21の電流i21の変動電流が小さいことによる正常な動作が可能な磁気記憶装置が提供できる。
According to the embodiment, it is possible to provide a magnetic storage device capable of normal operation due to a small fluctuation current of the current i21 of the
実施形態は、例えば、以下の構成(技術案)を含んでも良い。
(構成1)
第1部分、第2部分、前記第1部分と前記第2部分との間の第3部分、前記第1部分と前記第3部分との間の第4部分、及び、前記第3部分と前記第2部分との間の第5部分を含む導電層と、
第1接合及び第2接合を含む第1メモリセルであって、前記第1接合は、第1磁性層と、前記第1部分から前記第2部分への第2方向と交差する第1方向において前記第4部分と前記第1磁性層との間に設けられた第1対向磁性層と、前記第1磁性層と前記第1対向磁性層との間に設けられた第1非磁性層と、を含み、前記第2接合は、第2磁性層と、前記第1方向において前記第5部分と前記第2磁性層との間に設けられた第2対向磁性層と、前記第2磁性層と前記第2対向磁性層との間に設けられた第2非磁性層と、を含む、前記第1メモリセルと、
前記第1磁性層及び前記第2磁性層と電気的に接続された第1回路と、
を含むメモリ部と、
前記導電層及び前記第1回路と電気的に接続された制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記第1メモリセルに第1情報を書き込む場合に、第1動作、前記第1動作の後の第2動作、及び、前記第2動作の後の第3動作を実施し、
前記第1動作において、前記制御部は、前記第2部分から前記第1部分への第1導電層電流を前記導電層に供給しつつ、前記第1回路に、前記第1磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に第1極性にさせつつ、前記第2磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第1極性とは逆の第2極性にさせ、
前記第2動作において、前記制御部は、前記第1部分から前記第2部分への第2導電層電流を前記導電層に供給しつつ、前記第1回路に、前記第1磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第2極性にさせつつ、前記第2磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第1極性にさせ、
前記第3動作において、前記制御部は、前記第2部分から前記第1部分への第3導電層電流を前記導電層に供給しつつ、前記第1回路に、前記第1磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第2極性にさせつつ、前記第2磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第1極性にさせる、磁気記憶装置。
The embodiment may include, for example, the following configuration (technical proposal).
(Structure 1)
The first part, the second part, the third part between the first part and the second part, the fourth part between the first part and the third part, and the third part and the above. A conductive layer containing a fifth portion between the second portion and
A first memory cell containing a first junction and a second junction, wherein the first junction is in a first direction intersecting a first magnetic layer and a second direction from the first portion to the second portion. A first opposed magnetic layer provided between the fourth portion and the first magnetic layer, and a first non-magnetic layer provided between the first magnetic layer and the first opposed magnetic layer. The second bonding includes a second magnetic layer, a second opposed magnetic layer provided between the fifth portion and the second magnetic layer in the first direction, and the second magnetic layer. The first memory cell including the second non-magnetic layer provided between the second opposed magnetic layer and the first memory cell.
A first circuit electrically connected to the first magnetic layer and the second magnetic layer,
Memory part including
A control unit electrically connected to the conductive layer and the first circuit,
Equipped with
When writing the first information to the first memory cell, the control unit performs a first operation, a second operation after the first operation, and a third operation after the second operation.
In the first operation, the control unit supplies the potential of the first magnetic layer to the first circuit while supplying the first conductive layer current from the second portion to the first portion to the conductive layer. The second polarity opposite to the first polarity when the potential of the second magnetic layer is based on the potential of the first portion while making the first polarity when the potential of the first portion is used as a reference. Let me
In the second operation, the control unit supplies the potential of the first magnetic layer to the first circuit while supplying the second conductive layer current from the first portion to the second portion to the conductive layer. The potential of the second magnetic layer is set to the first polarity when the potential of the first portion is used as a reference, while the potential of the second magnetic layer is set to the second polarity when the potential of the first portion is used as a reference.
In the third operation, the control unit supplies the potential of the first magnetic layer to the first circuit while supplying the third conductive layer current from the second portion to the first portion to the conductive layer. A magnetic storage device that makes the potential of the second magnetic layer the first polarity when the potential of the first portion is used as a reference while making the potential of the second magnetic layer the second polarity when the potential of the first portion is used as a reference. ..
(構成2)
前記第1導電層電流は、前記第2部分から前記第3部分へ流れ、前記第3部分から前記第1部分へ流れ、
前記第2導電層電流は、前記第1部分から前記第3部分へ流れ、前記第3部分から前記第2部分へ流れ、
前記第3導電層電流は、前記第2部分から前記第3部分へ流れ、前記第3部分から前記第1部分へ流れる、構成1記載の磁気記憶装置。
(Structure 2)
The first conductive layer current flows from the second portion to the third portion, and flows from the third portion to the first portion.
The second conductive layer current flows from the first portion to the third portion, and flows from the third portion to the second portion.
The magnetic storage device according to the
(構成3)
前記第1動作において、前記第1接合に第1接合電流が流れ、前記第2接合に第2接合電流が流れ、前記第1接合電流の向きが前記第1回路から前記第1接合への向きである場合には、前記第2接合電流の向きは前記第2接合から前記第1回路への向きであり、前記第1接合電流の向きが前記第1接合から前記第1回路への向きである場合には、前記第2接合電流の向きは前記第1回路から前記第2接合への向きであり、
前記第2動作において、前記第1接合に第3接合電流が流れ、前記第2接合に第4接合電流が流れ、前記第3接合電流の向きは、前記第1接合電流の向きと逆であり、前記第4接合電流の向きは、前記第2接合電流の向きと逆であり、
前記第3動作において、前記第1接合に第5接合電流が流れ、前記第2接合に第6接合電流が流れ、前記第5接合電流の向きは、前記第1接合電流の向きと逆であり、前記第6接合電流の向きは、前記第2接合電流の向きと逆である、構成1または2に記載の磁気記憶装置。
(Structure 3)
In the first operation, the first junction current flows through the first junction, the second junction current flows through the second junction, and the direction of the first junction current is the direction from the first circuit to the first junction. If, the direction of the second junction current is the direction from the second junction to the first circuit, and the direction of the first junction current is the direction from the first junction to the first circuit. In some cases, the direction of the second junction current is from the first circuit to the second junction.
In the second operation, the third junction current flows through the first junction, the fourth junction current flows through the second junction, and the direction of the third junction current is opposite to the direction of the first junction current. , The direction of the fourth junction current is opposite to the direction of the second junction current.
In the third operation, the fifth junction current flows through the first junction, the sixth junction current flows through the second junction, and the direction of the fifth junction current is opposite to the direction of the first junction current. The magnetic storage device according to the
(構成4)
前記第1接合電流の絶対値は、前記第2接合電流の絶対値の0.7倍以上かつ1.3倍以下であり、
前記第3接合電流の絶対値は、前記第4接合電流の絶対値の0.7倍以上かつ1.3倍以下であり、
前記第5接合電流の絶対値は、前記第6接合電流の絶対値の0.7倍以上かつ1.3倍以下である、構成3記載の磁気記憶装置。
(Structure 4)
The absolute value of the first junction current is 0.7 times or more and 1.3 times or less the absolute value of the second junction current.
The absolute value of the third junction current is 0.7 times or more and 1.3 times or less the absolute value of the fourth junction current.
The magnetic storage device according to the third configuration, wherein the absolute value of the fifth junction current is 0.7 times or more and 1.3 times or less the absolute value of the sixth junction current.
(構成5)
前記制御部は、前記第1メモリセルに第2情報を書き込む場合に、第4動作、及び、前記第4動作の後の第5動作を実施し、
前記第4動作において、前記制御部は、前記第1部分から前記第2部分への第4導電層電流を前記導電層に供給しつつ、前記第1回路に、前記第1磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第1極性にさせ、前記第2磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第2極性にさせ、
前記第5動作において、前記制御部は、前記第2部分から前記第1部分への第5導電層電流を前記導電層に供給しつつ、前記第1回路に、前記第1磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第2極性にさせ、前記第2磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第1極性にさせる、構成1~4のいずれか1つに記載の磁気記憶装置。
(Structure 5)
When writing the second information to the first memory cell, the control unit performs a fourth operation and a fifth operation after the fourth operation.
In the fourth operation, the control unit supplies the potential of the first magnetic layer to the first circuit while supplying the fourth conductive layer current from the first portion to the second portion to the conductive layer. When the potential of the first portion is used as a reference, the first polarity is set, and when the potential of the second magnetic layer is used as a reference of the potential of the first portion, the second polarity is set.
In the fifth operation, the control unit supplies the potential of the first magnetic layer to the first circuit while supplying the fifth conductive layer current from the second portion to the first portion to the conductive layer.
(構成6)
前記第4動作において、前記第1接合に第7接合電流が流れ、前記第2接合に第8接合電流が流れ、前記第7接合電流の向きは、前記第1接合電流の向きと同じであり、前記第8接合電流の向きは、前記第2接合電流の向きと同じあり、
前記第5動作において、前記第1接合に第9接合電流が流れ、前記第2接合に第10接合電流が流れ、前記第9接合電流の向きは、前記第1接合電流の向きと逆であり、前記第10接合電流の向きは、前記第2接合電流の向きと逆である、構成5記載の磁気記憶装置。
(Structure 6)
In the fourth operation, the seventh junction current flows through the first junction, the eighth junction current flows through the second junction, and the direction of the seventh junction current is the same as the direction of the first junction current. , The direction of the eighth junction current is the same as the direction of the second junction current.
In the fifth operation, the ninth junction current flows through the first junction, the tenth junction current flows through the second junction, and the direction of the ninth junction current is opposite to the direction of the first junction current. The magnetic storage device according to the configuration 5, wherein the direction of the tenth junction current is opposite to the direction of the second junction current.
(構成7)
前記制御部は、前記第1メモリセルに第3情報を書き込む場合に、第6動作、及び、前記第6動作の後の第7動作を実施し、
前記第6動作において、前記制御部は、前記第1部分から前記第2部分への第6導電層電流を前記導電層に供給しつつ、前記第1回路に、前記第1磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第2極性にさせ、前記第2磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第1極性にさせ、
前記第7動作において、前記制御部は、前記第2部分から前記第1部分への第7導電層電流を前記導電層に供給しつつ、前記第1回路に、前記第1磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第1極性にさせ、前記第2磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第2極性にさせる、構成1~6のいずれか1つに記載の磁気記憶装置。
(Structure 7)
When writing the third information to the first memory cell, the control unit performs a sixth operation and a seventh operation after the sixth operation.
In the sixth operation, the control unit supplies the potential of the first magnetic layer to the first circuit while supplying the sixth conductive layer current from the first portion to the second portion to the conductive layer. When the potential of the first portion is used as a reference, the second polarity is set, and when the potential of the second magnetic layer is used as a reference of the potential of the first portion, the first polarity is set.
In the seventh operation, the control unit supplies the potential of the first magnetic layer to the first circuit while supplying the seventh conductive layer current from the second portion to the first portion to the conductive layer.
(構成8)
前記第6動作において、前記第1接合に第11接合電流が流れ、前記第2接合に第12接合電流が流れ、前記第11接合電流の向きは、前記第1接合電流の向きと逆であり、前記第12接合電流の向きは、前記第2接合電流の向きと逆であり、
前記第7動作において、前記第1接合に第13接合電流が流れ、前記第2接合に第14接合電流が流れ、前記第13接合電流の向きは、前記第1接合電流の向きと同じであり、前記第14接合電流の向きは、前記第2接合電流の向きと同じである、構成7記載の磁気記憶装置。
(Structure 8)
In the sixth operation, the eleventh junction current flows through the first junction, the twelfth junction current flows through the second junction, and the direction of the eleventh junction current is opposite to the direction of the first junction current. , The direction of the twelfth junction current is opposite to the direction of the second junction current.
In the seventh operation, the thirteenth junction current flows through the first junction, the fourteenth junction current flows through the second junction, and the direction of the thirteenth junction current is the same as the direction of the first junction current. The magnetic storage device according to the configuration 7, wherein the direction of the 14th junction current is the same as the orientation of the second junction current.
(構成9)
第1部分、第2部分、前記第1部分と前記第2部分との間の第3部分、前記第1部分と前記第3部分との間の第4部分、及び、前記第3部分と前記第2部分との間の第5部分を含む導電層と、
第1接合及び第2接合を含む第1メモリセルであって、前記第1接合は、第1磁性層と、前記第1部分から前記第2部分への第2方向と交差する第1方向において前記第4部分と前記第1磁性層との間に設けられた第1対向磁性層と、前記第1磁性層と前記第1対向磁性層との間に設けられた第1非磁性層と、を含み、前記第2接合は、第2磁性層と、前記第1方向において前記第5部分と前記第2磁性層との間に設けられた第2対向磁性層と、前記第2磁性層と前記第2対向磁性層との間に設けられた第2非磁性層と、を含む、前記第1メモリセルと、
前記第1磁性層及び前記第2磁性層と電気的に接続された第1回路と、
を含むメモリ部と、
前記導電層及び前記第1回路と電気的に接続された制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記第1磁性層および前記第2磁性層に印加する電位の極性を、正または負の極性の第1極性、または第1極性と逆の極性の第2極性とする機能を有し、
前記第1メモリセルは、
前記第1対向磁性層の磁化の向きと前記第2対向磁性層の磁化の向きが略同じ向きな状態の第21情報、
前記第21情報に対して前記第2対向磁性層の磁化の向きが略反対向きの状態の第22情報、及び、
前記第21情報に対して前記第1対向磁性層の磁化の向きが略反対向きの状態の第23情報、
を保持可能であり、
前記制御部は、前記第1メモリセルに前記第21情報を書き込む場合に、
第21動作、前記第21動作の後の第22動作、及び、前記第22動作の後の第23動作を実施し、
前記第21動作において、前記制御部は、第1メモリセル状態を検出し、
前記第1メモリセル状態が、前記第22情報または前記第21情報に対応する場合、
前記第22動作において、前記制御部は、前記第1部分から前記第2部分への第21導電層電流を前記導電層に供給しつつ、前記第1回路に、前記第1部分の電位を基準にした場合に、前記第1磁性層の電位を前記第1極性にさせつつ、前記第2磁性層の電位を前記第2極性にさせ、
前記第23動作において、前記制御部は、前記第2部分から前記第1部分への第22導電層電流を前記導電層に供給しつつ、前記第1回路に、前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第1磁性層の電位を前記第1極性にさせつつ、前記第2磁性層の電位を前記第2極性にさせ、
前記第1メモリセル状態が、前記第23情報または前記第21情報に対応する場合、
前記第22動作において、前記制御部は、前記第1部分から前記第2部分への第21導電層電流を前記導電層に供給しつつ、前記第1回路に、前記第1部分の電位を基準にした場合に、前記第1磁性層の電位を前記第2極性にさせつつ、前記第2磁性層の電位を前記第1極性にさせ、
前記第23動作において、前記制御部は、前記第2部分から前記第1部分への第22導電層電流を前記導電層に供給しつつ、前記第1回路に、前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第1磁性層の電位を前記第2極性にさせつつ、前記第2磁性層の電位を前記第1極性にさせる、磁気記憶装置。
(Structure 9)
The first part, the second part, the third part between the first part and the second part, the fourth part between the first part and the third part, and the third part and the above. A conductive layer containing a fifth portion between the second portion and
A first memory cell containing a first junction and a second junction, wherein the first junction is in a first direction intersecting a first magnetic layer and a second direction from the first portion to the second portion. A first opposed magnetic layer provided between the fourth portion and the first magnetic layer, and a first non-magnetic layer provided between the first magnetic layer and the first opposed magnetic layer. The second bonding includes a second magnetic layer, a second opposed magnetic layer provided between the fifth portion and the second magnetic layer in the first direction, and the second magnetic layer. The first memory cell including the second non-magnetic layer provided between the second opposed magnetic layer and the first memory cell.
A first circuit electrically connected to the first magnetic layer and the second magnetic layer,
Memory part including
A control unit electrically connected to the conductive layer and the first circuit,
Equipped with
The control unit has a function of setting the polarity of the potential applied to the first magnetic layer and the second magnetic layer to the first polarity of positive or negative polarity or the second polarity of the polarity opposite to the first polarity. Have and
The first memory cell is
The 21st information in a state where the direction of magnetization of the first facing magnetic layer and the direction of magnetization of the second facing magnetic layer are substantially the same.
The 22nd information in which the magnetization direction of the second opposed magnetic layer is substantially opposite to the 21st information, and
The 23rd information in a state where the magnetization direction of the first opposed magnetic layer is substantially opposite to the 21st information.
Can be held,
When the control unit writes the 21st information to the first memory cell, the control unit
The 21st operation, the 22nd operation after the 21st operation, and the 23rd operation after the 22nd operation are performed.
In the 21st operation, the control unit detects the first memory cell state and determines the state.
When the first memory cell state corresponds to the 22nd information or the 21st information.
In the 22nd operation, the control unit supplies the 21st conductive layer current from the first portion to the second portion to the conductive layer, and refers to the potential of the first portion in the first circuit. In this case, the potential of the first magnetic layer is set to the first polarity, and the potential of the second magnetic layer is set to the second polarity.
In the 23rd operation, the control unit supplies the 22nd conductive layer current from the 2nd portion to the 1st portion to the conductive layer, and refers to the potential of the 1st portion in the 1st circuit. In this case, the potential of the first magnetic layer is set to the first polarity, and the potential of the second magnetic layer is set to the second polarity.
When the first memory cell state corresponds to the 23rd information or the 21st information.
In the 22nd operation, the control unit supplies the 21st conductive layer current from the first portion to the second portion to the conductive layer, and refers to the potential of the first portion in the first circuit. In this case, the potential of the first magnetic layer is set to the second polarity, and the potential of the second magnetic layer is set to the first polarity.
In the 23rd operation, the control unit supplies the 22nd conductive layer current from the 2nd portion to the 1st portion to the conductive layer, and refers to the potential of the 1st portion in the 1st circuit. A magnetic storage device that causes the potential of the second magnetic layer to be the first polarity while making the potential of the first magnetic layer the second polarity.
(構成10)
前記第21導電層電流は、前記第1部分から前記第3部分へ流れ、前記第3部分から前記第2部分へ流れ、
前記第22導電層電流は、前記第2部分から前記第3部分へ流れ、前記第3部分から前記第1部分へ流れる、構成9記載の磁気記憶装置。
(Structure 10)
The 21st conductive layer current flows from the first portion to the third portion, and flows from the third portion to the second portion.
The magnetic storage device according to the configuration 9, wherein the 22nd conductive layer current flows from the second portion to the third portion and flows from the third portion to the first portion.
(構成11)
前記第22動作において、前記第1接合に第21接合電流が流れ前記第2接合に第22接合電流が流れ、
前記第23動作において、前記第1接合に第23接合電流が流れ前記第2接合に第24接合電流が流れ、前記第23接合電流の向きは、前記第21接合電流の向きと同じであり、前記第24接合電流の向きは、前記第22接合電流の向きと同じであり、
前記第1メモリセル状態が、前記第22情報または前記第21情報に対応する場合、前記第21接合電流の向きは、前記第1回路から前記第1接合への向きであり、前記第22接合電流の向きは前記第2接合から前記第1回路への向きであり、
前記第1メモリセル状態が、前記第23情報または前記第21情報に対応する場合、前記第21接合電流の向きは、前記第1接合から前記第1回路への向きであり、前記第22接合電流の向きは前記第1回路から前記第2接合への向きである、構成9または10に記載の磁気記憶装置。
(Structure 11)
In the 22nd operation, the 21st junction current flows through the 1st junction and the 22nd junction current flows through the 2nd junction.
In the 23rd operation, the 23rd junction current flows through the 1st junction, the 24th junction current flows through the 2nd junction, and the direction of the 23rd junction current is the same as the direction of the 21st junction current. The direction of the 24th junction current is the same as the direction of the 22nd junction current.
When the first memory cell state corresponds to the 22nd information or the 21st information, the direction of the 21st junction current is the direction from the 1st circuit to the 1st junction, and the 22nd junction. The direction of the current is the direction from the second junction to the first circuit.
When the first memory cell state corresponds to the 23rd information or the 21st information, the direction of the 21st junction current is the direction from the 1st junction to the 1st circuit, and the 22nd junction. The magnetic storage device according to
(構成12)
前記第21接合電流の絶対値は、前記第22接合電流の絶対値の0.7倍以上かつ1.3倍以下であり、
前記第23接合電流の絶対値は、前記第24接合電流の絶対値の0.7倍以上かつ1.3倍以下である、構成11記載の磁気記憶装置。
(Structure 12)
The absolute value of the 21st junction current is 0.7 times or more and 1.3 times or less the absolute value of the 22nd junction current.
11. The magnetic storage device according to
(構成13)
前記制御部は、前記第1メモリセルに前記第22情報を書き込む場合に、第4動作、及び、前記第4動作の後の第5動作を実施し、
前記第4動作において、前記制御部は、前記第1部分から前記第2部分への第23導電層電流を前記導電層に供給しつつ、前記第1回路に、前記第1部分の電位を基準にした場合に、前記第1磁性層の電位を前記第1極性にさせつつ、前記第2磁性層の電位を前記第2極性にさせ、
前記第5動作において、前記制御部は、前記第2部分から前記第1部分への第24導電層電流を前記導電層に供給しつつ、前記第1回路に、前記第1部分の電位を基準にした場合に、前記第1磁性層の電位を前記第2極性にさせつつ、前記第2磁性層の電位を前記第1極性にさせる、構成9~12のいずれか1つに記載の磁気記憶装置。
(Structure 13)
When writing the 22nd information to the 1st memory cell, the control unit performs a 4th operation and a 5th operation after the 4th operation.
In the fourth operation, the control unit supplies the 23rd conductive layer current from the first portion to the second portion to the conductive layer, and refers to the potential of the first portion in the first circuit. In this case, the potential of the first magnetic layer is set to the first polarity, and the potential of the second magnetic layer is set to the second polarity.
In the fifth operation, the control unit supplies the 24th conductive layer current from the second portion to the first portion to the conductive layer, and refers to the potential of the first portion in the first circuit. The magnetic storage according to any one of the configurations 9 to 12, wherein the potential of the first magnetic layer is set to the second polarity while the potential of the second magnetic layer is set to the first polarity. Device.
(構成14)
前記第4動作において、前記第1接合に第25接合電流が流れ、前記第2接合に第26接合電流が流れ、
前記第25接合電流の向きは、前記第1回路から前記第1接合への向き第2であり、前記第26接合電流の向きは、前記第2接合から前記第1回路への向きであり、
前記第5動作において、前記第1接合に第27接合電流が流れ、前記第2接合に第28接合電流が流れ、
前記第27接合電流の向きは、前記第25接合電流の向きと逆であり、前記第28接合電流の向きは、前記第26接合電流の向きと逆である、構成13記載の磁気記憶装置。
(Structure 14)
In the fourth operation, the 25th junction current flows through the first junction, and the 26th junction current flows through the second junction.
The direction of the 25th junction current is the second direction from the first circuit to the first junction, and the direction of the 26th junction current is the direction from the second junction to the first circuit.
In the fifth operation, the 27th junction current flows through the first junction, and the 28th junction current flows through the second junction.
13. The magnetic storage device according to
(構成15)
前記制御部は、前記第1メモリセルに前記第23情報を書き込む場合に、第6動作、及び、前記第6動作の後の第7動作を実施し、
前記第6動作において、前記制御部は、前記第1部分から前記第2部分への第25導電層電流を前記導電層に供給しつつ、前記第1回路に、前記第1磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第2極性にさせつつ、前記第2磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第1極性にさせ、
前記第7動作において、前記制御部は、前記第2部分から前記第1部分への第26導電層電流を前記導電層に供給しつつ、前記第1回路に、前記第1磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第1極性にさせつつ、前記第2磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第2極性にさせる、構成9~14のいずれか1つに記載の磁気記憶装置。
(Structure 15)
When writing the 23rd information to the 1st memory cell, the control unit performs a 6th operation and a 7th operation after the 6th operation.
In the sixth operation, the control unit applies the potential of the first magnetic layer to the first circuit while supplying the 25th conductive layer current from the first portion to the second portion to the conductive layer. The potential of the second magnetic layer is set to the first polarity when the potential of the first portion is used as a reference, while the potential of the second magnetic layer is set to the second polarity when the potential of the first portion is used as a reference.
In the seventh operation, the control unit supplies the potential of the first magnetic layer to the first circuit while supplying the 26th conductive layer current from the second portion to the first portion to the conductive layer. Configurations 9 to 9 in which the potential of the second magnetic layer is set to the second polarity when the potential of the first portion is used as a reference, while the potential of the second magnetic layer is set to the first polarity when the potential of the first portion is used as a reference. 14. The magnetic storage device according to any one of 14.
(構成16)
前記第6動作において、前記第1接合に第29接合電流が流れ、前記第2接合に第30接合電流が流れ、
前記第29接合電流の向きは、前記第1接合から前記第1回路への向きであり、前記第30接合電流の向きは、前記第1回路から前記第2接合への向きであり、
前記第7動作において、前記第1接合に第31接合電流が流れ、前記第2接合に第32接合電流が流れ、
前記第31接合電流の向きは、前記第29接合電流の向きと逆であり、前記第32接合電流の向きは、前記第30接合電流の向きと逆である、構成15記載の磁気記憶装置。
(Structure 16)
In the sixth operation, the 29th junction current flows through the first junction, and the 30th junction current flows through the second junction.
The direction of the 29th junction current is the direction from the 1st junction to the 1st circuit, and the direction of the 30th junction current is the orientation from the 1st circuit to the 2nd junction.
In the seventh operation, the 31st junction current flows through the first junction, and the 32nd junction current flows through the second junction.
The magnetic storage device according to the configuration 15, wherein the direction of the 31st junction current is opposite to that of the 29th junction current, and the orientation of the 32nd junction current is opposite to the orientation of the 30th junction current.
(構成17)
前記導電層は、第6部分、第7部分、第8部分及び第9部分をさらに含み、前記第2部分は、前記第5部分と前記第6部分との間にあり、前記第7部分は、前記第2部分と前記第6部分との間にあり、前記第8部分は、前記第2部分と前記第7部分との間にあり、前記第9部分は、前記第7部分と前記第6部分との間にあり、
前記メモリ部は、第2メモリセル及び第2回路をさらに含み、
前記第2メモリセルは、第3接合及び第4接合を含み、
前記第3接合は、第3磁性層と、前記第1方向において前記第8部分と前記第3磁性層との間に設けられた第3対向磁性層と、前記第3磁性層と前記第3対向磁性層との間に設けられた第1非磁性層と、を含み、前記第4接合は、第4磁性層と、前記第1方向において前記第9部分と前記第4磁性層との間に設けられた第4対向磁性層と、前記第4磁性層と前記第4対向磁性層との間に設けられた第4非磁性層と、を含み、
前記第2回路は、前記第3磁性層及び前記第4磁性層と電気的に接続され、
前記制御部は、前記第2回路と電気的に接続された、構成1~16のいずれか1つに記載の磁気記憶装置。
(Structure 17)
The conductive layer further includes a sixth part, a seventh part, an eighth part and a ninth part, the second part is between the fifth part and the sixth part, and the seventh part is. , The 8th part is between the 2nd part and the 7th part, and the 9th part is between the 7th part and the 7th part. It is between the 6 parts
The memory unit further includes a second memory cell and a second circuit.
The second memory cell includes a third junction and a fourth junction, and includes a third junction and a fourth junction.
The third junction includes a third magnetic layer, a third opposed magnetic layer provided between the eighth portion and the third magnetic layer in the first direction, the third magnetic layer, and the third magnetic layer. The fourth junction comprises a first non-magnetic layer provided between the opposing magnetic layers, and the fourth junction is between the fourth magnetic layer and the ninth portion and the fourth magnetic layer in the first direction. The fourth magnetic layer provided in the above and the fourth non-magnetic layer provided between the fourth magnetic layer and the fourth magnetic layer are included.
The second circuit is electrically connected to the third magnetic layer and the fourth magnetic layer.
The magnetic storage device according to any one of
(構成18)
前記第1回路は、前記第1磁性層と電気的に接続された第1スイッチと、前記第2磁性層と電気的に接続された第2スイッチと、を含み、
前記第1スイッチが前記第1磁性層を第1電位線に電気的に接続している場合に、前記第2スイッチは前記第2磁性層を第2電位線に電気的に接続し、
前記第1スイッチが前記第1磁性層を前記第2電位線に電気的に接続している場合に、前記第2スイッチは前記第2磁性層を前記第1電位線に電気的に接続し、
前記第2電位線の電位は、前記第1電位線の電位よりも高く、
前記第2回路は、前記第3磁性層と電気的に接続された第3スイッチと、前記第4磁性層と電気的に接続された第4スイッチと、を含み、
前記第3スイッチが前記第3磁性層を前記第1電位線に電気的に接続している場合に、前記第4スイッチは前記第4磁性層を前記第2電位線に電気的に接続し、
前記第3スイッチが前記第3磁性層を前記第2電位線に電気的に接続している場合に、前記第4スイッチは前記第4磁性層を前記第1電位線に電気的に接続する、構成17記載の磁気記憶装置。
(Structure 18)
The first circuit includes a first switch electrically connected to the first magnetic layer and a second switch electrically connected to the second magnetic layer.
When the first switch electrically connects the first magnetic layer to the first potential line, the second switch electrically connects the second magnetic layer to the second potential line.
When the first switch electrically connects the first magnetic layer to the second potential line, the second switch electrically connects the second magnetic layer to the first potential line.
The potential of the second potential line is higher than the potential of the first potential line.
The second circuit includes a third switch electrically connected to the third magnetic layer and a fourth switch electrically connected to the fourth magnetic layer.
When the third switch electrically connects the third magnetic layer to the first potential line, the fourth switch electrically connects the fourth magnetic layer to the second potential line.
When the third switch electrically connects the third magnetic layer to the second potential line, the fourth switch electrically connects the fourth magnetic layer to the first potential line. The magnetic storage device according to configuration 17.
(構成19)
前記第1スイッチが前記第1磁性層を前記第1電位線に電気的に接続している場合に、前記第3スイッチは前記第3磁性層を前記第1電位線もしくは前記第2電位線に電気的に接続し、
前記第1スイッチが前記第1磁性層を前記第2電位線に電気的に接続している場合に、前記第3スイッチは前記第3磁性層を前記第1電位線もしくは前記第2電位線に電気的に接続する、構成18記載の磁気記憶装置。
(Structure 19)
When the first switch electrically connects the first magnetic layer to the first potential line, the third switch connects the third magnetic layer to the first potential line or the second potential line. Electrically connected
When the first switch electrically connects the first magnetic layer to the second potential line, the third switch connects the third magnetic layer to the first potential line or the second potential line. The magnetic storage device according to configuration 18, which is electrically connected.
(構成20)
前記第1回路は、前記第1磁性層と電気的に接続された第1スイッチと、前記第2磁性層と電気的に接続された第2スイッチと、を含み、
前記第1スイッチが前記第1磁性層を第1電位線に電気的に接続している場合に、前記第2スイッチは前記第2磁性層を第2電位線に電気的に接続し、
前記第1スイッチが前記第1磁性層を前記第2電位線に電気的に接続している場合に、前記第2スイッチは前記第2磁性層を前記第1電位線に電気的に接続し、
前記第2電位線の電位は、前記第1電位線の電位よりも高い、構成1~17のいずれか1つに記載の磁気記憶装置。
(Structure 20)
The first circuit includes a first switch electrically connected to the first magnetic layer and a second switch electrically connected to the second magnetic layer.
When the first switch electrically connects the first magnetic layer to the first potential line, the second switch electrically connects the second magnetic layer to the second potential line.
When the first switch electrically connects the first magnetic layer to the second potential line, the second switch electrically connects the second magnetic layer to the first potential line.
The magnetic storage device according to any one of
実施形態によれば、安定して正常な書込動作が可能な磁気記憶装置を提供できる。 According to the embodiment, it is possible to provide a magnetic storage device capable of stable and normal writing operation.
本願明細書において、「垂直」及び「平行」は、厳密な垂直及び厳密な平行だけではなく、例えば製造工程におけるばらつきなどを含むものであり、実質的に垂直及び実質的に平行であれば良い。 In the present specification, "vertical" and "parallel" include not only strict vertical and strict parallel, but also variations in the manufacturing process, for example, and may be substantially vertical and substantially parallel. ..
以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、磁気記憶装置に含まれる導電層、接合、磁性層、非磁性層、回路、トランジスタ及び制御部などの各要素の具体的な構成に関しては、当業者が公知の範囲から適宜選択することにより本発明を同様に実施し、同様の効果を得ることができる限り、本発明の範囲に包含される。 Hereinafter, embodiments of the present invention have been described with reference to specific examples. However, the present invention is not limited to these specific examples. For example, the specific configuration of each element such as a conductive layer, a junction, a magnetic layer, a non-magnetic layer, a circuit, a transistor, and a control unit included in a magnetic storage device can be appropriately selected from a range known to those skilled in the art. The present invention is included in the scope of the present invention as long as the present invention can be carried out in the same manner and the same effect can be obtained.
また、各具体例のいずれか2つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。 Further, a combination of any two or more elements of each specific example to the extent technically possible is also included in the scope of the present invention as long as the gist of the present invention is included.
その他、本発明の実施の形態として上述した磁気記憶装置を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての磁気記憶装置も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。 In addition, all magnetic storage devices that can be appropriately designed and implemented by those skilled in the art based on the magnetic storage device described above as an embodiment of the present invention are also within the scope of the present invention as long as the gist of the present invention is included. Belongs to.
その他、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと解される。 In addition, in the scope of the idea of the present invention, those skilled in the art can come up with various modified examples and modified examples, and it is understood that these modified examples and modified examples also belong to the scope of the present invention. ..
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。 Although some embodiments of the present invention have been described, these embodiments are presented as examples and are not intended to limit the scope of the invention. These novel embodiments can be implemented in various other embodiments, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the gist of the invention. These embodiments and variations thereof are included in the scope and gist of the invention, and are also included in the scope of the invention described in the claims and the equivalent scope thereof.
11~14…第1~第4磁性層、 11c~14c…第1~第4対向磁性層、 11n~14n…第1~第4非磁性層、 21…導電層、 21a~21i…第1~第9部分、 31、32…第1、第2回路、 70…制御部、 70a~70d…配線、 70s…スイッチ、 71a、71b…制御回路、 75…駆動回路、 76…検出回路、 110…磁気記憶装置、 Cs1…電流源、 D1~D6…第1~第6ドレイン、 G1~G6…第1~第6ゲート、 Ic1~Ic7…第1~第7導電層電流、 Ic21~Ic26…第21~第26導電層電流、 Im01~Im14…第1~第14接合電流、 Im21~Im32…第21~第32接合電流、 In1、In2…第1、第2インバータ、 LP1、LP2…第1、第2電位線、 Ls1、Ls2…第1、第2配線、 MC1、MC2…第1、第2メモリセル、 MP…メモリ部、 OP1~OP7…第1~第7動作、 QP21~QP27…第21~第27動作、 S1~S6…第1~第6ソース、 SB1~SB4…第1~第4接合、 SW1~SW4…第1~第4スイッチ、 T1~T6…第1~第6トランジスタ、 Tr1、Tr2…トランジスタ、 VH…高電位、 VL…低電位、 WL…ワード線、 i21…電流、 ip1、ip2…接合電流 11-14 ... 1st to 4th magnetic layers, 11c to 14c ... 1st to 4th opposed magnetic layers, 11n to 14n ... 1st to 4th non-magnetic layers, 21 ... Conductive layers, 21a to 21i ... 1st to 9th part, 31, 32 ... 1st, 2nd circuit, 70 ... Control unit, 70a-70d ... Wiring, 70s ... Switch, 71a, 71b ... Control circuit, 75 ... Drive circuit, 76 ... Detection circuit, 110 ... Magnetism Storage device, Cs1 ... current source, D1 to D6 ... 1st to 6th drains, G1 to G6 ... 1st to 6th gates, Ic1 to Ic7 ... 1st to 7th conductive layer currents, Ic21 to Ic26 ... 21st to 26th conductive layer current, Im01 to Im14 ... 1st to 14th junction currents, Im21 to Im32 ... 21st to 32nd junction currents, In1, In2 ... 1st and 2nd inverters, LP1, LP2 ... 1st and 2nd Current line, Ls1, Ls2 ... 1st and 2nd wiring, MC1, MC2 ... 1st and 2nd memory cells, MP ... Memory unit, OP1 to OP7 ... 1st to 7th operations, QP21 to QP27 ... 21st to 21st 27 operations, S1 to S6 ... 1st to 6th sources, SB1 to SB4 ... 1st to 4th junctions, SW1 to SW4 ... 1st to 4th switches, T1 to T6 ... 1st to 6th transistors, Tr1, Tr2 … Transistor, VH… high potential, VL… low potential, WL… word line, i21… current, ip1, ip2… junction current
Claims (7)
制御部と、
を備え、
前記メモリ部は、
導電層と、
複数のメモリセルと、
複数の第1回路と、
を含み、
前記導電層は、第1部分、第2部分、前記第1部分と前記第2部分との間の第3部分、前記第1部分と前記第3部分との間の第4部分、及び、前記第3部分と前記第2部分との間の第5部分を含み、
前記複数のメモリセルのそれぞれは、第1接合及び第2接合を含み、
前記第1接合は、第1磁性層と、前記第1部分から前記第2部分への第2方向と交差する第1方向において前記第4部分と前記第1磁性層との間に設けられた第1対向磁性層と、前記第1磁性層と前記第1対向磁性層との間に設けられた第1非磁性層と、を含み、前記第2接合は、第2磁性層と、前記第1方向において前記第5部分と前記第2磁性層との間に設けられた第2対向磁性層と、前記第2磁性層と前記第2対向磁性層との間に設けられた第2非磁性層と、を含み、
前記複数の第1回路は、前記複数のメモリセルの前記第1磁性層及び前記第2磁性層とそれぞれ電気的に接続され、
前記制御部は、前記導電層及び前記複数の第1回路と電気的に接続され、
前記制御部は、前記複数のメモリセルのそれぞれに第1情報を書き込む場合に、第1動作、前記第1動作の後の第2動作、及び、前記第2動作の後の第3動作を実施し、
前記第1動作において、前記制御部は、前記第2部分から前記第1部分への第1導電層電流を前記導電層に供給しつつ、前記第1回路に、前記第1磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に第1極性にさせつつ、前記第2磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第1極性とは逆の第2極性にさせ、
前記第2動作において、前記制御部は、前記第1部分から前記第2部分への第2導電層電流を前記導電層に供給しつつ、前記第1回路に、前記第1磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第2極性にさせつつ、前記第2磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第1極性にさせ、
前記第3動作において、前記制御部は、前記第2部分から前記第1部分への第3導電層電流を前記導電層に供給しつつ、前記第1回路に、前記第1磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第2極性にさせつつ、前記第2磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第1極性にさせ、
前記第1動作において、前記第1接合に第1接合電流が流れ、前記第2接合に第2接合電流が流れ、前記第1接合電流の向きが前記第1回路から前記第1接合への向きである場合には、前記第2接合電流の向きは前記第2接合から前記第1回路への向きであり、前記第1接合電流の向きが前記第1接合から前記第1回路への向きである場合には、前記第2接合電流の向きは前記第1回路から前記第2接合への向きであり、
前記第2動作において、前記第1接合に第3接合電流が流れ、前記第2接合に第4接合電流が流れ、前記第3接合電流の向きは、前記第1接合電流の向きと逆であり、前記第4接合電流の向きは、前記第2接合電流の向きと逆であり、
前記第3動作において、前記第1接合に第5接合電流が流れ、前記第2接合に第6接合電流が流れ、前記第5接合電流の向きは、前記第1接合電流の向きと逆であり、前記第6接合電流の向きは、前記第2接合電流の向きと逆であり、
前記制御部は、前記複数のメモリセルについて前記第1動作を同時に行い、前記制御部は、前記複数のメモリセルについて前記第2動作を同時に行い、前記制御部は、前記複数のメモリセルについて前記第3動作を同時に行う、磁気記憶装置。 Memory part and
Control unit and
Equipped with
The memory unit is
With a conductive layer
With multiple memory cells
With multiple first circuits,
Including
The conductive layer includes a first portion, a second portion, a third portion between the first portion and the second portion, a fourth portion between the first portion and the third portion, and the above. Including the fifth part between the third part and the second part.
Each of the plurality of memory cells includes a first junction and a second junction.
The first junction is provided between the first magnetic layer and the fourth portion and the first magnetic layer in a first direction intersecting the second direction from the first portion to the second portion. The second magnetic layer includes a first magnetic layer and a first non-magnetic layer provided between the first magnetic layer and the first magnetic layer, and the second junction is a second magnetic layer and the first. A second counter-magnetic layer provided between the fifth portion and the second magnetic layer in one direction, and a second non-magnetic layer provided between the second magnetic layer and the second counter-magnetic layer. Including layers,
The plurality of first circuits are electrically connected to the first magnetic layer and the second magnetic layer of the plurality of memory cells, respectively.
The control unit is electrically connected to the conductive layer and the plurality of first circuits.
When writing the first information to each of the plurality of memory cells, the control unit performs a first operation, a second operation after the first operation, and a third operation after the second operation. death,
In the first operation, the control unit supplies the potential of the first magnetic layer to the first circuit while supplying the first conductive layer current from the second portion to the first portion to the conductive layer. The second polarity opposite to the first polarity when the potential of the second magnetic layer is based on the potential of the first portion while making the first polarity when the potential of the first portion is used as a reference. Let me
In the second operation, the control unit supplies the potential of the first magnetic layer to the first circuit while supplying the second conductive layer current from the first portion to the second portion to the conductive layer. The potential of the second magnetic layer is set to the first polarity when the potential of the first portion is used as a reference, while the potential of the second magnetic layer is set to the second polarity when the potential of the first portion is used as a reference.
In the third operation, the control unit supplies the potential of the first magnetic layer to the first circuit while supplying the third conductive layer current from the second portion to the first portion to the conductive layer. The potential of the second magnetic layer is set to the first polarity when the potential of the first portion is used as a reference, while the potential of the second magnetic layer is set to the second polarity when the potential of the first portion is used as a reference .
In the first operation, the first junction current flows through the first junction, the second junction current flows through the second junction, and the direction of the first junction current is the direction from the first circuit to the first junction. If, the direction of the second junction current is the direction from the second junction to the first circuit, and the direction of the first junction current is the direction from the first junction to the first circuit. In some cases, the direction of the second junction current is from the first circuit to the second junction.
In the second operation, the third junction current flows through the first junction, the fourth junction current flows through the second junction, and the direction of the third junction current is opposite to the direction of the first junction current. , The direction of the fourth junction current is opposite to the direction of the second junction current.
In the third operation, the fifth junction current flows through the first junction, the sixth junction current flows through the second junction, and the direction of the fifth junction current is opposite to the direction of the first junction current. , The direction of the sixth junction current is opposite to the direction of the second junction current.
The control unit simultaneously performs the first operation on the plurality of memory cells, the control unit simultaneously performs the second operation on the plurality of memory cells, and the control unit simultaneously performs the second operation on the plurality of memory cells. A magnetic storage device that performs the third operation at the same time .
前記第2導電層電流は、前記第1部分から前記第3部分へ流れ、前記第3部分から前記第2部分へ流れ、
前記第3導電層電流は、前記第2部分から前記第3部分へ流れ、前記第3部分から前記第1部分へ流れる、請求項1記載の磁気記憶装置。 The first conductive layer current flows from the second portion to the third portion, and flows from the third portion to the first portion.
The second conductive layer current flows from the first portion to the third portion, and flows from the third portion to the second portion.
The magnetic storage device according to claim 1, wherein the third conductive layer current flows from the second portion to the third portion and from the third portion to the first portion.
前記第3接合電流の絶対値は、前記第4接合電流の絶対値の0.7倍以上かつ1.3倍以下であり、
前記第5接合電流の絶対値は、前記第6接合電流の絶対値の0.7倍以上かつ1.3倍以下である、請求項1記載の磁気記憶装置。 The absolute value of the first junction current is 0.7 times or more and 1.3 times or less the absolute value of the second junction current.
The absolute value of the third junction current is 0.7 times or more and 1.3 times or less the absolute value of the fourth junction current.
The magnetic storage device according to claim 1 , wherein the absolute value of the fifth junction current is 0.7 times or more and 1.3 times or less the absolute value of the sixth junction current.
前記第4動作において、前記制御部は、前記第1部分から前記第2部分への第4導電層電流を前記導電層に供給しつつ、前記第1回路に、前記第1磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第1極性にさせ、前記第2磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第2極性にさせ、
前記第5動作において、前記制御部は、前記第2部分から前記第1部分への第5導電層電流を前記導電層に供給しつつ、前記第1回路に、前記第1磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第2極性にさせ、前記第2磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第1極性にさせる、請求項1~3のいずれか1つに記載の磁気記憶装置。 When writing the second information to at least one of the plurality of memory cells , the control unit performs a fourth operation and a fifth operation after the fourth operation.
In the fourth operation, the control unit supplies the potential of the first magnetic layer to the first circuit while supplying the fourth conductive layer current from the first portion to the second portion to the conductive layer. When the potential of the first portion is used as a reference, the first polarity is set, and when the potential of the second magnetic layer is used as a reference of the potential of the first portion, the second polarity is set.
In the fifth operation, the control unit supplies the potential of the first magnetic layer to the first circuit while supplying the fifth conductive layer current from the second portion to the first portion to the conductive layer. Claims 1 to 1, wherein the potential of the second magnetic layer is set to the second polarity when the potential of the first portion is used as a reference, and the potential of the second magnetic layer is set to the first polarity when the potential of the first portion is used as a reference. 3. The magnetic storage device according to any one of 3.
前記第5動作において、前記第1接合に第9接合電流が流れ、前記第2接合に第10接合電流が流れ、前記第9接合電流の向きは、前記第1接合電流の向きと逆であり、前記第10接合電流の向きは、前記第2接合電流の向きと逆である、請求項4記載の磁気記憶装置。 In the fourth operation, the seventh junction current flows through the first junction, the eighth junction current flows through the second junction, and the direction of the seventh junction current is the same as the direction of the first junction current. , The direction of the eighth junction current is the same as the direction of the second junction current.
In the fifth operation, the ninth junction current flows through the first junction, the tenth junction current flows through the second junction, and the direction of the ninth junction current is opposite to the direction of the first junction current. The magnetic storage device according to claim 4 , wherein the direction of the tenth junction current is opposite to that of the second junction current.
前記第6動作において、前記制御部は、前記第1部分から前記第2部分への第6導電層電流を前記導電層に供給しつつ、前記第1回路に、前記第1磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第2極性にさせ、前記第2磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第1極性にさせ、
前記第7動作において、前記制御部は、前記第2部分から前記第1部分への第7導電層電流を前記導電層に供給しつつ、前記第1回路に、前記第1磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第1極性にさせ、前記第2磁性層の電位を前記第1部分の電位を基準にした場合に前記第2極性にさせる、請求項1~5のいずれか1つに記載の磁気記憶装置。 When writing the third information to at least one of the plurality of memory cells , the control unit performs a sixth operation and a seventh operation after the sixth operation.
In the sixth operation, the control unit supplies the potential of the first magnetic layer to the first circuit while supplying the sixth conductive layer current from the first portion to the second portion to the conductive layer. When the potential of the first portion is used as a reference, the second polarity is set, and when the potential of the second magnetic layer is used as a reference of the potential of the first portion, the first polarity is set.
In the seventh operation, the control unit supplies the potential of the first magnetic layer to the first circuit while supplying the seventh conductive layer current from the second portion to the first portion to the conductive layer. Claims 1 to 1, wherein the potential of the first portion is set to the first polarity when the potential of the first portion is used as a reference, and the potential of the second magnetic layer is set to the second polarity when the potential of the first portion is used as a reference. 5. The magnetic storage device according to any one of 5.
前記第7動作において、前記第1接合に第13接合電流が流れ、前記第2接合に第14接合電流が流れ、前記第13接合電流の向きは、前記第1接合電流の向きと同じであり、前記第14接合電流の向きは、前記第2接合電流の向きと同じである、請求項6記載の磁気記憶装置。 In the sixth operation, the eleventh junction current flows through the first junction, the twelfth junction current flows through the second junction, and the direction of the eleventh junction current is opposite to the direction of the first junction current. , The direction of the twelfth junction current is opposite to the direction of the second junction current.
In the seventh operation, the thirteenth junction current flows through the first junction, the fourteenth junction current flows through the second junction, and the direction of the thirteenth junction current is the same as the direction of the first junction current. The magnetic storage device according to claim 6 , wherein the direction of the 14th junction current is the same as the orientation of the second junction current.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019046043A JP7000370B2 (en) | 2019-03-13 | 2019-03-13 | Magnetic storage device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019046043A JP7000370B2 (en) | 2019-03-13 | 2019-03-13 | Magnetic storage device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020150123A JP2020150123A (en) | 2020-09-17 |
JP7000370B2 true JP7000370B2 (en) | 2022-01-19 |
Family
ID=72430881
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019046043A Active JP7000370B2 (en) | 2019-03-13 | 2019-03-13 | Magnetic storage device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7000370B2 (en) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014045196A (en) | 2012-08-26 | 2014-03-13 | Samsung Electronics Co Ltd | Magnetic tunneling junction using spin-orbit interaction based on switching, and method and system for providing memory utilizing magnetic tunneling junction |
JP2018088300A (en) | 2016-11-29 | 2018-06-07 | 国立大学法人東北大学 | Data writing device of resistance change type storage element |
JP2018093065A (en) | 2016-12-02 | 2018-06-14 | 株式会社東芝 | Magnetic memory |
-
2019
- 2019-03-13 JP JP2019046043A patent/JP7000370B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014045196A (en) | 2012-08-26 | 2014-03-13 | Samsung Electronics Co Ltd | Magnetic tunneling junction using spin-orbit interaction based on switching, and method and system for providing memory utilizing magnetic tunneling junction |
JP2018088300A (en) | 2016-11-29 | 2018-06-07 | 国立大学法人東北大学 | Data writing device of resistance change type storage element |
JP2018093065A (en) | 2016-12-02 | 2018-06-14 | 株式会社東芝 | Magnetic memory |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020150123A (en) | 2020-09-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100592458B1 (en) | Magnetic random access memory and its reading method | |
JP5180986B2 (en) | Nonvolatile memory device | |
JP5201487B2 (en) | Nonvolatile latch circuit | |
US10453511B2 (en) | Circuit arrangement, method of forming and operating the same | |
KR101363656B1 (en) | Semiconductor integrated circuit and processor | |
JP4634153B2 (en) | Magnetic random access memory and data read method thereof | |
US7439770B2 (en) | Magnetic tunneling junction based logic circuits and methods of operating the same | |
JP2004005965A (en) | Magnetic memory device of small area | |
JP2008192916A (en) | Magnetic random access memory and its writing method | |
JP7000370B2 (en) | Magnetic storage device | |
JP5077019B2 (en) | Magnetic storage | |
JP2010027178A (en) | Storage device | |
JP2002093144A (en) | Current drive circuit for mram | |
JP2008099287A (en) | Magnetic transistor circuit representing data '0' and '1' of binary system | |
JP2004265456A (en) | Magnetic memory device and write-in current drive circuit, and write-in current driving method | |
JP2007213639A (en) | Nonvolatile semiconductor memory | |
TWI626652B (en) | The memory circuit | |
JP5874647B2 (en) | Nonvolatile logic operation device | |
CN1714402B (en) | Magnetic storage unit using ferromagnetic tunnel junction element | |
JPH11238377A (en) | Stray magnetic shield for non-volatic magnetic resistance memory | |
JP2007123455A (en) | Semiconductor memory device | |
JP2009059884A (en) | Electronic circuit | |
US20080019168A1 (en) | Memory structure and data writing method thereof | |
JP7420786B2 (en) | Semiconductor circuits and electronic equipment | |
US7508727B2 (en) | Memory structure and data writing method thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200904 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210528 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210622 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210720 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211019 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211112 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211124 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211223 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7000370 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |