JP6983492B2 - 液晶表示装置 - Google Patents

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Description

本発明は、液晶表示装置に関するものである。
液晶表示装置は現在最も広く使用されている平板型表示装置の一つであって、画素電極と共通電極などの電場生成電極が形成されている二枚の表示板とその間に挿入されている液晶層からなり、電場生成電極に電圧を印加して液晶層に電場を生成し、これを通じて液晶層の液晶分子の配向を決定し、入射光の偏光を制御することによって画像を表示する。
液晶表示装置のうち、電場が印加されない状態で液晶分子の長軸を上下表示板に対して垂直になるように配列した垂直配向方式(vertically aligned mode)液晶表示装置がある。このような垂直配向方式の液晶表示装置はコントラスト比が大きく広い基準視野角の実現が容易であって脚光を浴びている。
一方、広視野角を実現しながら液晶の応答速度を速くするために配向膜又は液晶層に反応性メソゲン(mesogen)を添加して液晶がプレチルト(pretilt)を有するようにする方法が開発されている。
本発明が解決しようとする課題は、残像(afterimage)特性及び信頼性を向上した液晶表示装置及びその製造方法を提供することである。
本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、第1基板と、前記第1基板と対向する第2基板と、前記第1基板及び前記第2基板のうちの少なくとも一つの上に位置する配向膜と、前記第1基板と前記第2基板の間に位置し、反応性メソゲンを含む液晶層と、前記配向膜の表面に隣接して位置する突起(bump)とを含み、前記配向膜は主鎖及び前記主鎖に連結された複数の側鎖を含み、前記側鎖は重合禁止剤グループを含む。
前記突起はプレチルトを有する配向重合体を含んでもよい。
前記重合禁止剤グループは熱による重合を抑制する性質を有してもよい。
前記重合禁止剤グループは、

Figure 0006983492
(ここで、「*」印は他の連結基又は主鎖と連結される部分)を含むグループから選択された一つを含んでもよい。
前記側鎖は、
Figure 0006983492

(ここで、Xは、
−H、−CH、−(CH(CH)、−F、−Br、−I、−OH、−NH、−CN、

の何れかであり、mは0乃至20、nは0乃至20)を含んでもよい。
前記側鎖は、
Figure 0006983492
を含んでもよい。
前記配向膜は第1共重合体を含み、前記第1共重合体は下記構造式Aで表現される単位体を含んでもよい。
Figure 0006983492
前記配向膜は下記構造式B、構造式C、及び構造式Dで表現される単位体のうちの少なくとも一つの単位体を含む第2共重合体をさらに含んでもよい。
Figure 0006983492

Figure 0006983492
Figure 0006983492
前記第1共重合体と前記第2共重合体のモル比は5:5であってもよい。
前記反応性メソゲンは下記の化学式RM−1乃至化学式RM−22で表現される化合物から選択された少なくとも一つを含んでもよい。

Figure 0006983492

Figure 0006983492

Figure 0006983492
ここで、前記化学式RM−1、化学式RM−2、化学式RM−7、及び、化学式RM−11乃至化学式RM−22において、各々独立してXは、

−H、−CH、−(CH(CH)、−F、−Br、−I、−OH、−NH、−CN、

のうちの何れか一つであり、Rは、
Figure 0006983492
のうちの何れか一つであり、−(CH(CH)及び
Figure 0006983492
において、mは互いに独立して0乃至20であり、前記化学式においてnは0乃至20である。
前記重合禁止剤グループは前記主鎖から遠く位置する前記側鎖の末端に配置されてもよい。
前記液晶層に含まれる液晶分子は電界未印加状態で垂直配向することができる。
本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の製造方法は、第1基板及び前記第1基板と対向する第2基板のうちの少なくとも一つの上に電場生成電極を形成する段階、前記電場生成電極の上に配向物質及び配向補助剤を塗布する段階、前記第1基板と前記第2基板の間に液晶分子を含む液晶層を形成する段階、前記配向物質をベークして主鎖及び前記主鎖に連結された側鎖を含む配向膜を形成する段階、前記配向補助剤が前記液晶層に溶出される段階、及び前記液晶層に電界が印加された状態で光を照射する段階を含み、前記側鎖は重合禁止剤グループを含み、前記液晶層に溶出された前記配向補助剤は前記光を照射する段階で重合されて前記配向膜表面に隣接して突起を形成する。
前記突起は、前記配向補助剤が重合されて形成されプレチルトを有する配向重合体を含んでもよい。
前記重合禁止剤グループは前記配向物質がベークされる段階で前記配向補助剤の重合を抑制することができる。
前記重合禁止剤グループは、
Figure 0006983492
(ここで、「*」印は他の連結基又は主鎖と連結される部分)を含むグループから選択された一つを含んでもよい。
前記配向膜は第1共重合体を含み、前記第1共重合体は下記構造式Aで表現される単位体を含んでもよい。

Figure 0006983492
前記反応性メソゲンは下記の化学式RM−1乃至化学式RM−22で表現される化合物から選択された少なくとも一つを含んでもよい。

Figure 0006983492
Figure 0006983492

Figure 0006983492
ここで、前記化学式RM−1、化学式RM−2、化学式RM−7、及び化学式RM−11乃至化学式RM−22において、各々独立してXは、
−H、−CH、−(CH(CH)、−F、−Br、−I、−OH、−NH、−CN、
のうちの何れか一つであり、Rは、
Figure 0006983492
のうちの何れか一つであり、−(CH(CH)及び
Figure 0006983492
において、mは互いに独立して0乃至20であり、前記化学式においてnは0乃至20である。
前記重合禁止剤グループは前記主鎖から遠く位置する前記側鎖の末端に配置されてもよい。
前記液晶層に含まれる液晶分子は電界未印加状態で垂直配向される。
本発明の一実施形態によれば、重合禁止剤を配向膜の側鎖に形成した状態で高反応性メソゲンを配向膜に添加することによって熱反応又は光反応による反応性メソゲンの消尽を最少化し所望のプレチルトを実現できる。
従って、反応性メソゲンの重合度が高くなり機械的特性が増強されるので、残像特性及び信頼性を改善できる。
本発明の一実施形態に係る液晶表示装置を示す平面図である。 図1の切断線II−IIに沿って切断した断面図である。 本発明の一実施形態に係る画素電極を示す平面図である。 本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の基本電極を示す平面図である。 本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を示す概略的な断面図である。 本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を示す概略的な断面図である。 本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を示す概略的な断面図である。 本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を示す概略的な断面図である。 本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を示す概略的な断面図である。 本発明の一実施形態に係る液晶表示装置での瞬間残像を従来の液晶表示装置と比較したグラフである。 本発明の一実施形態に係る液晶表示装置でのブラック残像を従来の液晶表示装置と比較したグラフである。
添付した図面を参照して本発明の好ましい実施形態を詳しく説明する。しかし、本発明はここで説明される実施形態に限定されず他の形態に具体化することもできる。むしろ、ここで紹介される実施形態は、開示された内容が徹底且つ完全になるように、そして当業者に本発明の思想が十分に伝達されるようにするために提供される。
図面において、層及び領域の厚さは明確性を期するために誇張されている。また、層が他の層又は基板の“上”にあると言及される場合、それは他の層又は基板上に直接形成されるか、又はそれらの間に第3の層が介在することを意味する。明細書全体にわたって同一の参照番号で表示された部分は同一の構成要素を意味する。
図1は本発明の一実施形態に係る液晶表示装置を示す平面図である。図2は図1の切断線II−IIに沿って切断した断面図である。
図1及び図2に示すように、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、互いに対向する下部表示板100と上部表示板200、及びこれら二つの表示板100、200の間に配置された液晶層3を含む。
まず、下部表示板100について説明する。
絶縁基板に該当する第1基板110の上に複数のゲート線121及び複数の維持電極線131、135が位置する。
ゲート線121は、ゲート信号を伝達し主に横方向に伸びている。ゲート線121は、他の層又は外部駆動回路との接続のための広い端部(図示せず)を含み得る。ゲート線121は、アルミニウム(Al)又はアルミニウム合金などのアルミニウム系金属、銀(Ag)又は銀合金などの銀系金属、銅(Cu)又は銅合金などの銅系金属、モリブデン(Mo)又はモリブデン合金などのモリブデン系金属、若しくは、クロム(Cr)、タンタル(Ta)及びチタニウム(Ti)などの何れかから形成され得る。なお、ゲート線121は物理的性質が異なる少なくとも二つの導電膜を含む多重膜構造を有し得る。各ゲート線121は、それから突出している複数の第1及び第2ゲート電極124a、124bを含む。
維持電極線131、135は、ゲート線121と実質的に平行に伸びた幹線131と、これから伸びた複数の枝部135を含む。
維持電極線131、135の形状及び配置は様々な形態に変形され得る。
ゲート線121及び維持電極線131、135の上にはゲート絶縁膜140が形成されており、ゲート絶縁膜140の上には非晶質又は結晶質ケイ素から形成された複数の半導体層154a、154bが位置する。
半導体層154a、154bの上には各々複数対のオーミック接触部材が形成される。図2では複数対のオーミック接触部材の一例として第2半導体層154bの上に位置するオーミック接触部材163b、165bのみ示しているが、第1半導体層154aの上などにも形成され得る。オーミック接触部材163b、165bは、シリサイド又はn型不純物が高濃度でドーピングされているn+水素化非晶質シリコンなどの物質から形成され得る。
オーミック接触部材163b、165b及びゲート絶縁膜140の上には複数対のデータ線171a、171bと複数対の第1及び第2ドレイン電極175a、175bが位置する。
データ線171a、171bはデータ信号を伝達し、主に縦方向に伸びてゲート線121及び維持電極線の幹線131と交叉する。データ線171a、171bは第1、第2ゲート電極124a、124bに向かって伸びてU字型に曲がった第1及び第2ソース電極173a、173bが接続され、第1及び第2ソース電極173a、173bは第1、第2ゲート電極124a、124bを挟んで第1及び第2ドレイン電極175a、175bと対向する。
第1及び第2ドレイン電極175a、175bは各々第1及び第2ソース電極173a、173bにより一部囲まれた一端から上に伸びており、反対側の端は他の層との接続のために広い面積を有し得る。
しかし、第1及び第2ソース電極173a、173b及び第1及び第2ドレイン電極175a、175bを始めとするデータ線171a、171bの形状及び配置は様々な形態に変形され得る。
第1ゲート電極124a、第1ソース電極173a及び第1ドレイン電極175aは第1半導体層154aと共に第1薄膜トランジスタ(thin film transistor、TFT)を形成し、第2ゲート電極124b、第2ソース電極173b及び第2ドレイン電極175bは第2半導体層154bと共に第2薄膜トランジスタを形成し、第1薄膜トランジスタのチャネル(channel)は第1ソース電極173aと第1ドレイン電極175aの間の第1半導体層154aに形成され、第2薄膜トランジスタのチャネル(channel)は第2ソース電極173bと第2ドレイン電極175bの間の第2半導体層154bに形成される。
オーミック接触部材163b、165bはその下の半導体層154bとその上のデータ線171a、171b、ドレイン電極175a、175bの間のみに存在し、これらの間の接触抵抗を低くする。半導体層154a、154bにはソース電極173a、173bとドレイン電極175a、175bの間にソース電極173a、173b及びドレイン電極175a、175bで覆われず露出された部分がある。
データ線171a、171b、ソース電極173a、173b、ドレイン電極175a、175b及び露出された半導体層154a、154b部分の上には窒化ケイ素又は酸化ケイ素から形成された下部保護膜180pが位置する。
下部保護膜180pの上にはカラーフィルタ230が位置する。カラーフィルタ230は原色(primary color)のうちの一つを固有に表示でき、原色の例としては赤色、緑色、青色からなる三原色、又は黄色(yellow)、青緑色(cyan)、紫紅色(magenta)からなる三原色が挙げられる。図示してはいないが、カラーフィルタは原色以外に原色の混合色又は白色(white)を表示するカラーフィルタをさらに含み得る。カラーフィルタ230の上にクロム及びクロム酸化物の単一層又は二重層、又は有機物質からなる遮光部材220が位置する。遮光部材220はマトリックス形態に配列されている開口部を有し得る。
カラーフィルタ230と遮光部材220の上には透明な有機絶縁物質からなる上部保護膜180qが形成されている。上部保護膜180qはカラーフィルタ230が露出されることを防止し平坦面を提供する。下部保護膜180p及び上部保護膜180qには第1及び第2ドレイン電極175a、175bを露出する複数の接触孔185a、185bが形成されている。
上部保護膜180qの上には複数の画素電極191が形成されている。画素電極191はITO又はIZOなどの透明な導電物質、若しくは、アルミニウム、銀、クロム、又はその合金などの反射性金属から形成され得る。
各画素電極191は互いに分離されている第1及び第2副画素電極191a、191bを含み、第1及び第2副画素電極191a、191bは各々図4に示した基本電極199又はその変形を一つ以上含んでいる。
画素電極191の構造については、後で図3及び図4を参照して説明する。
以下、上部表示板200について説明する。
上部表示板200には透明な絶縁基板である第2基板210の上に共通電極270が形成されている。
上部表示板200と下部表示板100の間の間隔を維持するためのカラムスペーサ363が液晶層3内に配置され得る。
下部表示板100及び上部表示板200の内側面には配向膜11、21が形成されている。配向膜11、21は垂直配向膜であり得る。配向膜11、21は主鎖及び主鎖に連結された側鎖を含み、主鎖はポリイミドを含み、側鎖は垂直配向基と重合禁止剤グループを含む。本実施形態に係る側鎖は追加的に電圧保全率を改善するためのグループをさらに含み得る。
本実施形態で、側鎖に含まれる重合禁止剤グループは後述の配向物質のベーク工程時に反応性メソゲンに該当する配向補助剤の重合反応を抑制する役割を果たす。言い換えると、本実施形態に係る重合禁止剤グループは熱による重合を抑制する性質を有する。
本実施形態に係る重合禁止剤グループは、
Figure 0006983492
(ここで、*は他の連結基又は主鎖と連結される部分)を含む化合物のグループから選択された少なくとも一つの化合物を含み得る。
しかし、これに限定されず、重合反応を抑制するためにフリーラジカル(free radical)を捕獲できる化学的グループを含む多様な物質が使用され得る。本実施形態に係る重合禁止剤グループは主鎖から遠く位置する側鎖の末端側に位置するのが好ましい。
本実施形態に係る配向膜11、21の構造は下記化学式1で表現される単位体を含む共重合体を含み得る。

Figure 0006983492
前記化学式1において、Aに対する少なくとも一つの化合物は、以下の化合物のグループ、

Figure 0006983492
から選択され、
Bに対する少なくとも一つの化合物は、以下の化合物のグループ、
Figure 0006983492
から選択され得る。
また、上記化学式1において、少なくとも一つの化合物Xは、以下の化合物のグループ、
Figure 0006983492
から選択され、
少なくとも一つの化合物Yは、以下の化合物のグループ、
Figure 0006983492
から選択され、
少なくとも一つの化合物Mは、以下の化合物のグループ、

Figure 0006983492
から選択され、
少なくとも一つの化合物Zは、以下の化合物のグループ、
Figure 0006983492
(Xは−H、−CH、−(CH(CH)、−F、−Br、−I、−OH、−NH、−CN、の何れかであり、mは0乃至20、nは0乃至20)、及び
Figure 0006983492
から選択され得る。ここで、*は他の連結基又は主鎖と連結される部分である。
本実施形態において、配向膜11、21に含まれる共重合体は、下記の構造式Aで表現される単位体を含む第1共重合体を含み得る。
Figure 0006983492
本実施形態において、配向膜11、21に含まれる共重合体は、下記の構造式B、構造式C、及び構造式Dで表現される単位体のうちの少なくとも一つの単位体を含む第2共重合体をさらに含み得る。
Figure 0006983492

Figure 0006983492
Figure 0006983492
配向膜11、21に含まれる第1共重合体と第2共重合体のモル比は5:5であり得る。
前述の第1共重合体の例示として下記化学式2で表現される化合物が含まれる。

Figure 0006983492
前述の第2共重合体の例示として下記化学式3で表現される化合物が含まれる。
Figure 0006983492
化学式2と化学式3で表現される共重合体を全て含む液晶表示装置において化学式2の共重合体と化学式3の共重合体のモル比は5:5であり得る。
本実施形態において下部配向膜11はカラムスペーサー363を実質的に均一な厚さで覆ってもよい。
本実施形態において配向膜11、21の表面には突起15、25が形成されている。突起15、25は液晶層3に含まれている配向補助剤である反応性メソゲンを光照射することにより形成され得る。ここで、液晶層3に含まれている反応性メソゲンは、配向膜11、21を形成する配向物質に混合されてコーティングされた後にベーク工程中に液晶層3に溶出された物質であり得る。本実施形態において突起15、25はプレチルトを有する配向重合体を含む。配向重合体は反応性メソゲンを照射する光を用いて形成され得る。
なお、本発明の一実施形態で説明している「プレチルト」とは、配向膜11、21の一面に垂直な方向を基準として液晶310が傾くことを意味する。
本実施形態に係る反応性メソゲンは、下記化学式RM−1乃至化学式RM−22で表現される化合物のグループから選択された少なくとも一つを含み得る。

Figure 0006983492
Figure 0006983492
Figure 0006983492
上記化学式RM−1、化学式RM−2、化学式RM−7、化学式RM−11乃至化学式RM−22において、各々独立して、Xは、

−H、−CH、−(CH(CH)、−F、−Br、−I、−OH、−NH、−CN、
のうちの一つであり、Rは、
Figure 0006983492
のうちの一つであり、−(CH(CH)、及び
Figure 0006983492
においてmは互いに独立して0乃至20であり、上記化学式においてnは0乃至20である。
本実施形態に係る反応性メソゲンは、配向膜11、21を形成する配向物質の重量に対して7wt%乃至25wt%だけ配向物質に混合され得る。
追加的に、下部表示板100及び上部表示板200の外側面には偏光子(polarization)(図示せず)が備えられ得る。
図1及び図2を再び参照すれば、下部表示板100と上部表示板200の間には液晶310を含む液晶層3が介在する。
液晶310は負の誘電率異方性を有し、電場がない状態でその長軸が二つの表示板100、200の表面に対してほぼ垂直になるように配向されている。
突起15、25に含まれ、高反応性メソゲンに照射された光により形成された配向重合体は、液晶310の初期配向方向であるプレチルト(pre−tilt)を制御する役割を果たす。
図3は本発明の一実施形態に係る画素電極を示す平面図である。図4は本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の基本電極を示す平面図である。
以下、図3及び図4を参照して、基本電極199について詳細に説明する。
図4に示しように、基本電極199の全体的な形状は四角形であり、横幹部193及びこれと直交する縦幹部192からなる十字形幹部を含む。また、基本電極199は横幹部193と縦幹部192によって第1副領域Da、第2副領域Db、第3副領域Dc、そして第4副領域Ddに分割され、各副領域Da、Db、Dc、Ddは複数の第1乃至第4微細枝部194a、194b、194c、194dを含む。
第1微細枝部194aは横幹部193又は縦幹部192から左側上方に斜めに延びており、第2微細枝部194bは横幹部193又は縦幹部192から右側上方に斜めに延びている。また、第3微細枝部194cは横幹部193又は縦幹部192から左側下方に斜めに延びており、第4微細枝部194dは横幹部193又は縦幹部192から右側下方に斜めに延びている。
第1乃至第4微細枝部194a、194b、194c、194dは、ゲート線121又は横幹部193に対してほぼ45度又は135度の角をなす。また、隣接する二つの副領域Da、Db、Dc、Ddの微細枝部194a、194b、194c、194dは互いに直交する。
微細枝部194a−194dの幅は例えば、2.0μm乃至5.0μmであり、一副画素領域Da〜Dd内において隣接する微細枝部194a〜194d間の間隔は例えば、2.5μm乃至5.0μmである。
図示してはいないが、微細枝部194a、194b、194c、194dの幅は横幹部193又は縦幹部192に近いほど広くなし得る。
図1乃至図3に示すように、第1及び第2副画素電極191a、191bは各々、一つの基本電極199を含む。但し、画素電極191全体において第2副画素電極191bが占める面積は、第1副画素電極191aが占める面積より大きくでき、この時、第2副画素電極191bの面積は第1副画素電極191aの面積より例えば、1.0倍から2.2倍程度大きいように基本電極199の大きさを異にして形成される。
第2副画素電極191bはデータ線171a、171bに沿って伸びた一対の枝195を含む。一対の枝195、195は第1副画素電極191aとデータ線171a、171bの間に位置し、第1副画素電極191aの下方で互いに連結される。第1及び第2副画素電極191a、191bは接触孔185a、185bを通じて第1及び第2ドレイン電極175a、175bと物理的、電気的に接続されており、第1及び第2ドレイン電極175a、175bを介してデータ電圧の印加を受ける。
画素電極191及び共通電極270間に電圧が印加されると、液晶310は画素電極191と共通電極270の間に形成された電場に応答してその長軸が電場の方向に垂直な方向に方向を変える。液晶310が傾いた程度によって液晶層3への入射光の偏光の変化程度が変わり、このような偏光の変化は偏光子によって透過率の変化として現わされ、これによって液晶表示装置は画像を表示する。
液晶310が傾く方向は画素電極191の微細枝部194a、194b、194c、194dによって決定され、液晶310は微細枝部194a、194b、194c、194dの長さ方向に平行な方向に傾く。一つの画素電極191は微細枝部194a、194b、194c、194dの長さ方向が互いに異なる四つの副領域Da、Db、Dc、Ddを含むので、液晶310が傾く方向はほぼ4方向であり、液晶層3には液晶310の配向方向が異なる四つのドメイン(domain)が形成される。このように液晶が傾く方向を多様にすることによって液晶表示装置の視野角を改善できる。
以上で説明した薄膜トランジスタ及び画素電極191に関する説明は一つの例示であり、側方視認性を向上させるための、薄膜トランジスタ構造及び画素電極デザインは本実施形態で説明した構造に限定されず、変形して本発明の一実施形態に係る内容を適用できる。例えば、抵抗値の分布によって領域別に発生する電圧差分効果を用いて視認性を向上できるRD−TFT構造を形成できる。
以下、図5乃至図9を参照して前述の液晶表示装置を製造する方法に関する一実施形態を説明する。以下に説明する実施形態は製造方法の一実施形態であって、他の形態に変形して実施可能である。
図5乃至図9は本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を示す概略的な断面図である。
図1、図2及び図5に示すように、下部表示板100と上部表示板200に含まれる構成部材を別々に製造できる。下部表示板100において画素電極191の上に配向膜11を形成し、同様に、上部表示板200において共通電極270の上に配向膜21を形成する。以下では、その内の配向膜11、21を形成する方法について説明する。
配向膜11の主鎖及び側鎖を形成するための配向溶液とこれに添加される反応性メソゲン13を含む配向物質を画素電極191の上に塗布して配向膜11を形成する。ここで、反応性メソゲン13は配向溶液の固形分に対して例えば、7wt%乃至25wt%の範囲で添加される。
図6に示すように、配向膜11の上に液晶分子を含む液晶材料31を滴下する。
次に、上部表示板200においても第2基板210の上に形成した共通電極270の上に同様に、主鎖及び側鎖を形成するための配向溶液とこれに添加される反応性メソゲン23を含む配向物質を塗布して配向膜21を形成する。ここで、反応性メソゲン23は配向溶液の固形分に対して例えば、7wt%乃至25wt%の範囲で添加される。
その次に、図7に示すように、このような方法で製造された下部表示板100と上部表示板200を合着(assembly)させる。
その後、図8に示すように、配向膜11、21を含む、合着した上部、下部表示板をベーク又は熱処理して、配向膜11、21に含まれている反応性メソゲン13、23を液晶層3に溶出させる。本実施形態に係る配向膜11、21に添加された反応性メソゲン13、23は前述の化学式RM−1乃至化学式RM−22で表現される化合物のうちの少なくとも一つを含み、このような反応性メソゲンは後述のUV照射による光反応性が大きい。
しかし、UV照射以前の上述のベーク又は熱処理段階において反応性メソゲンが予め重合されるので、後続工程である光照射によって重合反応してプレチルトを形成する程度が弱く場合があった。しかし、本実施形態に係る配向膜11、21の側鎖には重合禁止剤グループを含むので、反応性メソゲンが予め重合する現象を防止できる。
その後、画素電極191と共通電極270に電圧を印加した状態で光を照射する。ここで、光は反応性メソゲン13、23を重合させることができる波長を有するものを使用し、例えば紫外線光などが使用される。
図9に示すように、液晶層3に含まれている反応性メソゲン13、23が重合すると表面エネルギーが増加するので、反応性メソゲン13、23が配向膜11、21の表面に移動して配向重合体を形成する。このような配向重合体はプレチルトを有し、このような配向重合体が集合して突起15、25を形成する。
図10及び図11は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置での瞬間残像及びブラック残像を従来の液晶表示装置と比較したグラフである。
図10及び図11において、比較例1は、下記化学式4で表現される化合物を含む共重合体のように側鎖に光開始剤(photoinitiator)を含むように配向膜を形成し、下記化学式5で表現される反応性メソゲンを使用した場合である。
一方、実施例1は、前述の化学式2で表現される化合物を含む第1共重合体のように側鎖に重合禁止剤グループを含むように配向膜を形成し、下記化学式6(これは、前述の化学式RM−5と同一)で表現される反応性メソゲンを使用した場合である。比較例1の反応性メソゲンは実施例1の反応性メソゲンに比べて熱及び光に対する反応性が劣る特性を有する。

Figure 0006983492
図10及び図11に示すように、本実施例1のように側鎖に重合禁止剤グループを含む配向膜を形成し、化学式6のように高反応性を有する反応性メソゲンを使用して液晶表示装置を製造した場合に比較例1に比べて瞬間残像及びブラック残像が改善される。
以上で本発明の好ましい実施形態について詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれに限定されるのではなく、次の請求範囲で定義している本発明の基本概念を利用した当業者の様々な変形及び改良形態も本発明の権利範囲に属する。
3 液晶層
11、21 配向膜
13、23 反応性メソゲン
15、25 突起
31 液晶材料
100、200 下部、上部表示板
110、210 第1、第2基板
121 ゲート線
124a、124b 第1、第2ゲート電極
131 維持電極線、幹線
135 維持電極線、枝部
140 ゲート絶縁膜
154a、154b 第1、第2半導体層
163b、165b オーミック接触部材の対
171a、171b データ線の対
173a、173b 第1、第2ソース電極
175a、175b 第1、第2ドレイン電極
180p、180q 下部、上部保護膜
185a、185b 接触孔
191 画素電極
191a、191b 第1、第2副画素電極
194a、194b、194c、194d 第1、第2、第3、第4微細枝部
195 (第2副画素電極の)枝
199 基本電極
220 遮光部材
230 カラーフィルタ
270 共通電極
310 液晶
363 カラムスペーサ

Claims (1)

  1. 第1基板と、
    前記第1基板と対向する第2基板と、
    前記第1基板及び前記第2基板のうちの少なくとも一つの上に位置する配向膜と、
    前記第1基板と前記第2基板の間に位置し、液晶分子を含む液晶層と、
    前記配向膜の表面に配向膜を形成する配向物質に混合されてコーティングされた状態の反応性メソゲンが光反応によって形成した突起(bump)とを含み、
    前記突起はプレチルトを有する配向重合体を含み、
    前記配向膜は主鎖及び前記主鎖に連結された複数の側鎖を含み、
    前記側鎖は熱による重合を抑制する性質を有する重合禁止剤グループを含み、
    前記反応性メソゲンは下記の化学式RM−3乃至化学式RM−7で表現される化合物から選択された少なくとも一つを含み、
    前記配向膜は第1共重合体を含み、前記第1共重合体は下記化学式2で表現される化合物が含まれることを特徴とする液晶表示装置。
    Figure 0006983492
    Figure 0006983492
    ここで、前記化学式RM−7において、Rは、
    Figure 0006983492
    のうちの何れか一つであり
    Figure 0006983492
    において、mは互いに独立して0乃至20であり、前記化学式2においてnは1乃至20である。
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