JP6968666B2

JP6968666B2 - センサシステム及び電磁波照射装置

Info

Publication number: JP6968666B2
Application number: JP2017215454A
Authority: JP
Inventors: 樹田辺
Original assignee: Azbil Corp
Current assignee: Azbil Corp
Priority date: 2017-11-08
Filing date: 2017-11-08
Publication date: 2021-11-17
Anticipated expiration: 2037-11-08
Also published as: JP2019088128A

Description

本発明は、センサシステム及び電磁波照射装置に関する。

部屋、保管庫、房、漕及び炉等の閉空間においては、複数のセンサが配置され、品質管理やトレーサビリティを目的として、閉空間内における温度や湿度等の環境条件の分布を測定したり、閉空間内に配置された複数の物品のそれぞれの存否や移動を監視したりする場合がある（例えば、特許文献１参照。）。複数のセンサのそれぞれには、電力を供給するため、あるいは応答信号の発信を誘引するために、電磁波が供給されることがある。

国際公開第２０１６／１２３０６２号

複数のセンサに電磁波を照射しても、複数のセンサの少なくとも一部が、その機能を発揮しない場合がある。そこで、本発明は、複数箇所に配置されたセンサのそれぞれが機能を発揮できるセンサシステム及び電磁波照射装置を提供することを目的の一つとする。

本発明の態様によれば、それぞれ電磁波を受けてセンシング信号を発する複数のセンサと、複数のセンサに電磁波を照射する電磁波照射装置であって、複数のセンサにおける電磁波の受信状態の分布が時間的に変化するよう、電磁波を照射する電磁波照射装置と、を備えるセンサシステムが提供される。

上記のセンサシステムにおいて、電磁波照射装置が、照射した電磁波によって生じる定在波の節の位置を変化させてもよい。

上記のセンサシステムにおいて、電磁波照射装置が、電磁波の周波数を変化させてもよい。

上記のセンサシステムにおいて、複数のセンサに対する電磁波照射装置の位置が変化してもよい。

上記のセンサシステムにおいて、電磁波照射装置がそれぞれ電磁波を発することができる複数の電磁波照射部を備え、複数の電磁波照射部において、電磁波を発する電磁波照射部と、電磁波を発しない電磁波照射部と、の組み合わせが変化してもよい。

上記のセンサシステムにおいて、電磁波照射装置がそれぞれ電磁波を発することができる複数の電磁波照射部を備え、複数の電磁波照射部が発する電磁波の強度の組み合わせが変化してもよい。

上記のセンサシステムにおいて、電磁波照射装置がアンテナを備え、電磁波の照射方向を変化させてもよい。

上記のセンサシステムにおいて、アンテナがフェーズドアレーアンテナであってもよい。

上記のセンサシステムにおいて、電磁波照射装置が、電磁波の偏波状態を変化させてもよい。

上記のセンサシステムにおいて、複数のセンサが閉空間内に配置されてもよい。

上記のセンサシステムにおいて、複数のセンサが炉内に配置されてもよい。

上記のセンサシステムにおいて、電磁波照射装置が電磁波を照射中に、複数のセンサの配置が一定であってもよい。

上記のセンサシステムにおいて、電磁波がマイクロ波であってもよい。

上記のセンサシステムにおいて、複数のセンサが、電磁波を照射されることにより電力を供給されてもよい。

上記のセンサシステムにおいて、複数のセンサが、電磁波を照射されることにより発振してもよい。

また、本発明の態様によれば、複数のセンサに電磁波を照射する電磁波照射装置であって、複数のセンサにおける電磁波の受信状態の分布が時間的に変化するよう、電磁波を照射する電磁波照射装置が提供される。

上記の電磁波照射装置が、照射した電磁波によって生じる定在波の節の位置を変化させてもよい。

上記の電磁波照射装置が、照射する電磁波の周波数を変化させてもよい。

上記の電磁波照射装置の位置が、複数のセンサに対して変化してもよい。

上記の電磁波照射装置が、それぞれ電磁波を発することができる複数の電磁波照射部を備え、複数の電磁波照射部において、電磁波を発する電磁波照射部と、電磁波を発しない電磁波照射部と、の組み合わせが変化してもよい。

上記の電磁波照射装置がそれぞれ電磁波を発することができる複数の電磁波照射部を備え、複数の電磁波照射部が発する電磁波の強度の組み合わせが変化してもよい。

上記の電磁波照射装置がアンテナを備え、電磁波の照射方向を変化させてもよい。

上記の電磁波照射装置において、アンテナがフェーズドアレーアンテナであってもよい。

上記の電磁波照射装置が、照射する電磁波の偏波状態を変化させてもよい。

上記の電磁波照射装置において、電磁波がマイクロ波であってもよい。

本発明によれば、複数箇所に配置されたセンサのそれぞれが機能を発揮できるセンサシステム及び電磁波照射装置を提供可能である。

第１実施形態に係るセンサシステムを示す模式図である。第１実施形態に係る電磁波の周波数と、各センサへの供給電力と、の関係を示すグラフである。第１実施形態に係る電磁波の周波数の時間変化と、各センサへの供給電力と、の関係を示すグラフである。第１実施形態に係る電磁波の周波数ごとの照射時間の割り当てを示すグラフである。（ａ）第２実施形態に係る電磁波照射装置が第１位置に配置された場合のセンサシステムを示す模式図である。（ｂ）第２実施形態に係る電磁波照射装置が第１位置に配置された場合の、各センサへの供給電力を示すグラフである。（ａ）第２実施形態に係る電磁波照射装置が第２位置に配置された場合のセンサシステムを示す模式図である。（ｂ）第２実施形態に係る電磁波照射装置が第２位置に配置された場合の、各センサへの供給電力を示すグラフである。（ａ）第２実施形態に係る電磁波照射装置が第３位置に配置された場合のセンサシステムを示す模式図である。（ｂ）第２実施形態に係る電磁波照射装置が第３位置に配置された場合の、各センサへの供給電力を示すグラフである。第２実施形態に係る電磁波照射装置の位置の時間変化と、各センサへの供給電力と、の関係を示すグラフである。第３実施形態に係るセンサシステムを示す模式図である。（ａ）第５実施形態に係る電磁波照射装置が第１方向に電磁波を照射している場合のセンサシステムを示す模式図である。（ｂ）第５実施形態に係る電磁波照射装置が第１方向に電磁波を照射している場合の、各センサへの供給電力を示すグラフである。（ａ）第５実施形態に係る電磁波照射装置が第２方向に電磁波を照射している場合のセンサシステムを示す模式図である。（ｂ）第５実施形態に係る電磁波照射装置が第２方向に電磁波を照射している場合の、各センサへの供給電力を示すグラフである。（ａ）第５実施形態に係る電磁波照射装置が第３方向に電磁波を照射している場合のセンサシステムを示す模式図である。（ｂ）第５実施形態に係る電磁波照射装置が第３方向に電磁波を照射している場合の、各センサへの供給電力を示すグラフである。第５実施形態に係る電磁波の照射方向の時間変化と、各センサへの供給電力と、の関係を示すグラフである。

以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には同一又は類似の符号で表している。ただし、図面は模式的なものである。したがって、具体的な寸法等は以下の説明を照らし合わせて判断するべきものである。また、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることはもちろんである。

（第１実施形態）
第１実施形態に係るセンサシステムは、図１に示すように、それぞれ電磁波を受けてセンシング信号を発する複数のセンサ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃと、複数のセンサ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃに電磁波を照射する電磁波照射装置４０であって、複数のセンサ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃにおける電磁波の受信状態の分布が時間的に変化するよう、電磁波を照射する電磁波照射装置４０と、を備える。

複数のセンサ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃと、電磁波照射装置４０と、は、閉空間１０内に配置されている。閉空間１０は、例えば凍結乾燥炉である。例えば、凍結乾燥炉は、扉を閉じると、内部の気体を外気から無菌的に遮蔽する。閉空間１０内には、例えば、それぞれ凍結乾燥される医薬品を保存している複数のバイアル２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃ・・・が棚上に配置されている。複数のセンサ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃは、例えば、複数のバイアル２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃ・・・の少なくとも一部の中に配置されている。複数のバイアル２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃ・・・のうち、どのバイアルにセンサを配置するかは、任意である。複数のバイアル２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃ・・・は、凍結乾燥中、移動されない。

複数のセンサ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃの数は任意である。複数のセンサ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃのそれぞれは、例えば温度センサである。複数のセンサ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃのそれぞれは、電磁波照射装置４０から照射されるマイクロ波等の電磁波によってワイヤレスに給電され、凍結乾燥中のバイアル内の温度を測定し、測定結果を含むセンシング信号を無線で発する。

あるいは、複数のセンサ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃのそれぞれは水晶等の発振子を備え、電磁波照射装置４０から照射されるマイクロ波等の電磁波によって発振子が温度に依存する周波数で発振することによって凍結乾燥中のバイアル内の温度を測定し、測定結果を含むセンシング信号を無線で発する。

電磁波照射装置４０が電磁波を照射すると、閉空間１０内で電磁波が反射し、定在波が発生する場合がある。そのため、定在波の節近傍においては、伝送される電力が弱くなるヌルポイントが生じる場合がある。ヌルポイントの位置と、複数のセンサ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃのいずれかの位置とが一致すると、センサに電力が供給されず、センサが稼働しない場合がある。

図２は、電磁波照射装置４０が照射する電磁波の周波数と、複数のセンサ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃに供給される電力と、の関係の例を示すグラフである。電磁波の周波数がｆ１の場合、ヌルポイントの位置がセンサ３０Ｃの位置と一致し、センサ３０Ｃに充分な電力が供給されない。しかし、センサ３０Ａには強い電力が、センサ３０Ｂには中程度の電力が供給される。電磁波の周波数がｆ２の場合、ヌルポイントの位置がセンサ３０Ｂの位置と一致し、センサ３０Ｂに充分な電力が供給されない。しかし、センサ３０Ｃには強い電力が、センサ３０Ａには中程度の電力が供給される。電磁波の周波数がｆ３の場合、ヌルポイントの位置がセンサ３０Ａの位置と一致し、センサ３０Ａに充分な電力が供給されない。しかし、センサ３０Ｂには強い電力が、センサ３０Ｃには中程度の電力が供給される。

このように、第１実施形態に係る電磁波照射装置４０は、照射する電磁波の周波数を変化させて、定在波の節の位置を変化させ、これにより閉空間１０内におけるヌルポイントの位置を変化させる。そのため、複数のセンサ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃのいずれかが一時的にヌルポイントに位置して電力の供給が受けられなくとも、周波数が変化した後は、電力の供給を受けることが可能となる。

電磁波照射装置４０は、例えば図３に示すように、照射する電磁波の周波数を時間的に変化させることを繰り返していく。これにより、複数のセンサ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃにおける電磁波の受信状態の分布が時間的に変化するため、複数のセンサ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃのそれぞれには少なくとも断続的に電力が供給される。したがって、複数のセンサ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃのそれぞれは、少なくとも断続的に温度を測定することが可能である。電磁波照射装置４０は、照射する電磁波の周波数を階段関数状に変化させてもよいし、連続的に変化させてもよい。

電磁波照射装置４０は、照射する電磁波の周波数を周期的に変化させてもよいし、非周期的に変化させてもよい。例えば、電磁波照射装置４０は、図４（ａ）に示すように、周波数ｆ１、ｆ２、ｆ３ごとに割り当てられる照射時間を均等にしてもよい。複数のセンサ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃによる測定の時間分解能を上げたい場合は、周波数ｆ１、ｆ２、ｆ３ごとに割り当てられる照射時間を均等に短くしてもよい。

あるいは、図４（ｂ）に示すように、電磁波照射装置４０は、周波数ｆ１、ｆ２、ｆ３ごとに電磁波の照射時間を変化させてもよい。例えば、電磁波照射装置４０は、周波数ｆ１の時に多数のセンサが機能し、周波数ｆ２の時に少数のセンサが機能する場合は、周波数ｆ１に割り当てられる照射時間を長くし、周波数ｆ２に割り当てられる照射時間を短くしてもよい。

電磁波照射装置４０は、複数のセンサ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃからのセンシング信号に基づいて、周波数ｆ１、ｆ２、ｆ３ごとに電磁波の照射時間を決定し、変更してもよい。例えば、電磁波照射装置４０において、多数のセンシング信号が得られる周波数に割り当てられる照射時間を長くし、少数のセンシング信号が得られる周波数に割り当てられる照射時間を短くするフィードバック制御をおこなってもよい。

従来、センサが電磁波のヌルポイントに位置すると、センサは機能することができなかった。これに対し、第１実施形態に係るセンサによれば、センサが一時的にヌルポイントに位置する可能性はあるが、ヌルポイントが時間的に変化し、複数のセンサ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃにおける電磁波の受信状態の分布が時間的に変化するため、複数のセンサ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃのそれぞれが少なくとも断続的に機能することが可能である。

（第２実施形態）
第２実施形態に係るセンサシステムにおいては、図５から図７に示すように、閉空間１０内において、複数のセンサ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃに対する電磁波照射装置４０の位置が変化する。第２実施形態において、電磁波照射装置４０は、照射する電磁波の周波数を変化させてもよいし、変化させなくともよい。

図５から図７に示す電磁波照射装置４０は、閉空間１０内に配置されたレール上を移動してもよい。あるいは、電磁波照射装置４０は、閉空間１０の底面、上面、及び側面等に配置されたターンテーブル、ファン及びプロペラ等の回転部材上に配置され、回転部材の回転に伴って移動してもよい。

例えば、図５に示すように、電磁波照射装置４０が第１位置に配置されている場合、ヌルポイントの位置がセンサ３０Ｃの位置と一致し、センサ３０Ｃに充分な電力が供給されない。しかし、センサ３０Ａに強い電力が、センサ３０Ｂに中程度の電力が供給される。例えば、図６に示すように、電磁波照射装置４０が第２位置に配置されている場合、ヌルポイントの位置がセンサ３０Ｃの位置と一致し、センサ３０Ｃに充分な電力が供給されない。しかし、センサ３０Ｂに強い電力が、センサ３０Ａに中程度の電力が供給される。例えば、図７に示すように、電磁波照射装置４０が第３位置に配置されている場合、ヌルポイントの位置がセンサ３０Ｂの位置と一致し、センサ３０Ｂに充分な電力が供給されない。しかし、センサ３０Ｃに強い電力が、センサ３０Ａに中程度の電力が供給される。

このように、第２実施形態に係る電磁波照射装置４０は、図８に示すように、電磁波照射装置４０の位置を変化させて、定在波の節の位置を変化させ、これにより閉空間１０内におけるヌルポイントの位置を変化させる。そのため、複数のセンサ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃのいずれかが一時的にヌルポイントに位置していて電力の供給が受けられなくとも、電磁波照射装置４０の位置が変化した後は、電力の供給を受けることが可能となる。これにより、複数のセンサ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃのそれぞれには少なくとも断続的に電力が供給されるため、複数のセンサ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃのそれぞれは、少なくとも断続的に温度を測定することが可能である。

（第３実施形態）
第３実施形態に係るセンサシステムにおいては、図９に示すように、電磁波照射装置４０が、それぞれ電磁波を発することができる複数の電磁波照射部４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃを備える。複数の電磁波照射部４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃの数は任意である。複数の電磁波照射部４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃにおいて、電磁波を発する電磁波照射部と、電磁波を発しない電磁波照射部と、の組み合わせが時間的に変化する。これにより、定在波の節の位置を変化し、閉空間１０内におけるヌルポイントの位置が変化する。

例えば、ある時間においては電磁波照射部４０Ａのみが電磁波を照射し、電磁波照射部４０Ｂ、４０Ｃは電磁波を照射しなくともよい。またある時間においては電磁波照射部４０Ｂのみが電磁波を照射し、電磁波照射部４０Ａ、４０Ｃは電磁波を照射しなくともよい。さらにある時間においては電磁波照射部４０Ｃのみが電磁波を照射し、電磁波照射部４０Ａ、４０Ｂは電磁波を照射しなくともよい。このように、複数の電磁波照射部４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃのうち、電磁波を照射する単一の電磁波照射部を切り替えていってもよい。

あるいは、例えば、ある時間においては電磁波照射部４０Ａ、４０Ｂが電磁波を照射し、電磁波照射部４０Ｃは電磁波を照射しなくともよい。またある時間においては電磁波照射部４０Ｂ、４０Ｃが電磁波を照射し、電磁波照射部４０Ａは電磁波を照射しなくともよい。さらにある時間においては電磁波照射部４０Ａ、４０Ｃが電磁波を照射し、電磁波照射部４０Ｂは電磁波を照射しなくともよい。またさらにある時間においては電磁波照射部４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃが電磁波を照射してもよい。このように、複数の電磁波照射部４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃのうち、電磁波を照射する複数の電磁波照射部を切り替えていってもよい。

複数の電磁波照射部４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃは、照射する電磁波の周波数を変化させてもよいし、変化させなくともよい。また、複数の電磁波照射部４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃは、異なる周波数の電磁波を照射してもよい。

（第４実施形態）
第４実施形態に係るセンサシステムにおいては、図９に示す複数の電磁波照射部４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃが発する電磁波の強度の組み合わせが変化する。これにより、定在波の節の位置を変化し、閉空間１０内におけるヌルポイントの位置が変化する。

例えば、ある時間においては電磁波照射部４０Ａが照射する電磁波の強度が強くなり、電磁波照射部４０Ｂ、４０Ｃが照射する電磁波の強度が弱くなってもよい。またある時間においては電磁波照射部４０Ｂが照射する電磁波の強度が強くなり、電磁波照射部４０Ａ、４０Ｃが照射する電磁波の強度が弱くなってもよい。さらにある時間においては電磁波照射部４０Ｃが照射する電磁波の強度が強くなり、電磁波照射部４０Ａ、４０Ｂが照射する電磁波の強度は弱くなってもよい。

あるいは、例えば、ある時間においては電磁波照射部４０Ａ、４０Ｂが照射する電磁波の強度が強くなり、電磁波照射部４０Ｃが照射する電磁波の強度が弱くなってもよい。またある時間においては電磁波照射部４０Ｂ、４０Ｃが照射する電磁波の強度が強くなり、電磁波照射部４０Ａが照射する電磁波の強度が弱くなってもよい。さらにある時間においては電磁波照射部４０Ａ、４０Ｃが照射する電磁波の強度が強くなり、電磁波照射部４０Ｂが照射する電磁波の強度が弱くなってもよい。またさらにある時間においては電磁波照射部４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃが照射する電磁波の強度が強くなってもよい。

（第５実施形態）
第５実施形態に係るセンサシステムにおいては、図１０から図１２に示すように、電磁波照射装置４０がアンテナを備え、電磁波の照射方向を変化させる。アンテナは、例えば指向性アンテナであり、フェーズドアレーアンテナ及び可動式のパラボラアンテナ等が使用可能である。フェーズドアレーアンテナは、移動機構を用いずに指向性を変化させることができるため、発塵を抑制することが可能である。第５実施形態において、電磁波照射装置４０は、照射する電磁波の周波数を変化させてもよいし、変化させなくともよい。

例えば、図１３に示すように、ある時間において電磁波照射装置４０は第１方向に電磁波を照射すると、センサ３０Ｃには充分な電力が供給されないが、センサ３０Ａに強い電力、センサ３０Ｂに中程度の電力が供給される。ある時間において電磁波照射装置４０は第２方向に電磁波を照射すると、センサ３０Ｃには充分な電力が供給されないが、センサ３０Ｂに強い電力、センサ３０Ａに中程度の電力が供給される。ある時間において電磁波照射装置４０は第３方向に電磁波を照射すると、センサ３０Ｂには充分な電力が供給されないが、センサ３０Ｃに強い電力、センサ３０Ａに中程度の電力が供給される。

第５実施形態に係る電磁波照射装置４０は、電磁波照射装置４０が電磁波の照射方向を変化させて、定在波の節の位置を変化させ、これにより閉空間１０内におけるヌルポイントの位置を変化させる。そのため、複数のセンサ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃのいずれかが一時的にヌルポイントに位置していて電力の供給が受けられなくとも、照射方向が変化した後は、電力の供給を受けることが可能となる。これにより、複数のセンサ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃのそれぞれには少なくとも断続的に電力が供給されるため、複数のセンサ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃのそれぞれは、少なくとも断続的に温度を測定することが可能である。

（他の実施形態）
上記のように本発明を実施形態によって記載したが、この開示の一部をなす記述及び図
面はこの発明を限定するものであると理解するべきではない。この開示から当業者には様
々な代替実施形態、実施例及び運用技術が明らかになるはずである。例えば、上述した実施形態を組み合わせてもよい。また、上記の実施形態では、閉空間として凍結乾燥炉を使用する場合を説明したが、閉空間は、部屋、工場、保管庫、房、漕及び炉等であってもよい。閉空間は、無菌的な医薬品処理空間であってもよい。また、センサは、表面弾性波に基づき湿度を測定対象としてもよい。センサは、酸素や二酸化炭素等の気体濃度を測定対象としてもよい。あるいは、センサは、物品のそれぞれの存否や移動を測定対象としてもよい。センサは、バイアルに限らず、様々な容器内に配置されてもよいし、容器内に配置されていなくともよい。センサは、商品、美術品、及び展示品等の物品に配置されてもよい。

また、電磁波照射装置は、電磁波の偏波状態を変化させることによって、閉空間内におけるヌルポイントの位置を変化させてもよい。ここで、偏波状態を変化させるとは、直線偏波の偏波方向を変えたり、直線偏波から円偏波に変えたり、円偏波を直線偏波に変えたりすることをいう。このように、本発明はここでは記載していない様々な実施形態等を包含するということを理解すべきである。

１０・・・閉空間、２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃ・・・バイアル、３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ・・・センサ、４０・・・電磁波照射装置、４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃ・・・電磁波照射部

Claims

それぞれ電磁波を受けてセンシング信号を発する複数のセンサと、
前記複数のセンサに電磁波を照射する一つの電磁波照射装置であって、前記複数のセンサにおける前記電磁波の受信状態の分布が時間的に変化するよう、前記電磁波を照射する一つの電磁波照射装置と、
を備え、
前記一つの電磁波照射装置が、前記電磁波の周波数を時間的に変化させる、
センサシステム。
前記電磁波照射装置が、前記照射した電磁波によって生じる定在波の節の位置を変化させる、請求項１に記載のセンサシステム。
それぞれ電磁波を受けてセンシング信号を発する複数のセンサと、
前記複数のセンサに電磁波を照射する電磁波照射装置であって、前記複数のセンサにおける前記電磁波の受信状態の分布が時間的に変化するよう、前記電磁波を照射する電磁波照射装置と、
を備え、
前記複数のセンサに対する前記電磁波照射装置の位置が変化する、
センサシステム。
それぞれ電磁波を受けてセンシング信号を発する複数のセンサと、
前記複数のセンサに電磁波を照射する電磁波照射装置であって、前記複数のセンサにおける前記電磁波の受信状態の分布が時間的に変化するよう、前記電磁波を照射する電磁波照射装置と、
を備え、
前記電磁波照射装置がそれぞれ前記電磁波を発することができる複数の電磁波照射部を備え、前記複数の電磁波照射部において、前記電磁波を発する電磁波照射部と、前記電磁波を発しない電磁波照射部と、の組み合わせが変化する、
センサシステム。
それぞれ電磁波を受けてセンシング信号を発する複数のセンサと、
前記複数のセンサに電磁波を照射する電磁波照射装置であって、前記複数のセンサにおける前記電磁波の受信状態の分布が時間的に変化するよう、前記電磁波を照射する電磁波照射装置と、
を備え、
前記電磁波照射装置がそれぞれ前記電磁波を発することができる複数の電磁波照射部を備え、前記複数の電磁波照射部が発する電磁波の強度の組み合わせが変化する、
センサシステム。
それぞれ電磁波を受けてセンシング信号を発する複数のセンサと、
前記複数のセンサに電磁波を照射する電磁波照射装置であって、前記複数のセンサにおける前記電磁波の受信状態の分布が時間的に変化するよう、前記電磁波を照射する電磁波照射装置と、
を備え、
前記電磁波照射装置がアンテナを備え、前記電磁波の照射方向を変化させる、
センサシステム。
それぞれ電磁波を受けてセンシング信号を発する複数のセンサと、
前記複数のセンサに電磁波を照射する電磁波照射装置であって、前記複数のセンサにおける前記電磁波の受信状態の分布が時間的に変化するよう、前記電磁波を照射する電磁波照射装置と、
を備え、
前記電磁波照射装置が、前記電磁波の偏波状態を変化させる、
センサシステム。
前記電磁波照射装置が前記電磁波を照射中に、前記複数のセンサの配置が一定である、請求項１から７のいずれか１項に記載のセンサシステム。
前記一つの電磁波照射装置が、前記電磁波の周波数を周期的に変化させる、請求項１又は２に記載のセンサシステム。
前記一つの電磁波照射装置が、前記電磁波の周波数を非周期的に変化させる、請求項１又は２に記載のセンサシステム。