JP6953694B2 - Electrophotographic photosensitive member, electrophotographic cartridge and image forming apparatus - Google Patents

Electrophotographic photosensitive member, electrophotographic cartridge and image forming apparatus Download PDF

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本発明は電子写真感光体に関し、より詳しくは、耐摩耗性が良好な電子写真感光体に関する。 The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member, and more particularly to an electrophotographic photosensitive member having good wear resistance.

電子写真感光体は、電子写真プロセス、即ち、帯電、露光、現像、転写、クリーニング、除電等のサイクルで繰返し使用されるため、その間の様々なストレスを受けて劣化する。このような劣化としては、例えば、帯電器として普通用いられるコロナ帯電器から発生する強酸化性のオゾンやNOxが感光層に与える化学的なダメージ、像露光で生成したキャリアー(電流)が感光層内を流れること、又は除電光及び外部からの光に起因する感光層組成物の分解等の化学的、電気的劣化がある。さらに、クリーニングブレード、磁気ブラシ等の摺擦、現像剤、紙との接触等による感光層表面の摩耗、傷の発生、膜の剥がれ等の機械的劣化がある。このような機械的劣化による損傷は画像上に現れやすく、直接画像品質を損なうため感光体の寿命を制限する大きな要因となっている。 Since the electrophotographic photosensitive member is repeatedly used in an electrophotographic process, that is, a cycle of charging, exposure, development, transfer, cleaning, static elimination, etc., the electrophotographic photosensitive member is deteriorated by receiving various stresses during that period. Such deterioration includes, for example, chemical damage caused by strongly oxidizing ozone and NOx generated from a corona charger commonly used as a charger to the photosensitive layer, and carriers (currents) generated by image exposure in the photosensitive layer. There is chemical or electrical deterioration such as decomposition of the photosensitive layer composition due to flowing inside or due to static elimination light and light from the outside. Further, there is mechanical deterioration such as abrasion of the surface of the photosensitive layer due to rubbing of a cleaning blade, a magnetic brush or the like, contact with a developing agent or paper, generation of scratches, and peeling of a film. Damage due to such mechanical deterioration tends to appear on the image and directly impairs the image quality, which is a major factor in limiting the life of the photoconductor.

表面保護層等の機能層を設けない一般的な感光体の場合、特に感光層がこのような負荷を受け易い。感光層は、通常、バインダー樹脂と光導電性物質とからなり、実質的に強度を決めるのはバインダー樹脂であるが、光導電性物質のドープ量が相当多いため充分な機械強度を持たせるには至っていない。感光層のバインダー樹脂として、電気特性や耐摩耗性に優れているポリカーボネート樹脂が使用されており、近年耐摩耗性を向上させたポリカーボネート樹脂を使用した電子写真感光体が開発されている(特許文献1〜3参照)。 In the case of a general photoconductor without a functional layer such as a surface protective layer, the photosensitive layer is particularly susceptible to such a load. The photosensitive layer is usually composed of a binder resin and a photoconductive substance, and it is the binder resin that substantially determines the strength. However, since the amount of the photoconductive substance doped is considerably large, sufficient mechanical strength is provided. Has not reached. As the binder resin of the photosensitive layer, a polycarbonate resin having excellent electrical characteristics and abrasion resistance is used, and in recent years, an electrophotographic photosensitive member using a polycarbonate resin having improved abrasion resistance has been developed (Patent Documents). See 1-3).

一方、芳香族エステル結合を有する2価フェノールを原料モノマーとした場合、電子写真感光体用ポリエステル樹脂の一般的な製造方法である界面重合法では、芳香族エステル結合が加水分解のため使用することができない。そのため、芳香族エステル結合を有する2価フェノール残基構造を含むポリカーボネート樹脂を感光体に用いた例は少なく特性が明らかではなかった(特許文献4)。 On the other hand, when divalent phenol having an aromatic ester bond is used as a raw material monomer, the aromatic ester bond is used for hydrolysis in the interfacial polymerization method, which is a general method for producing a polyester resin for an electrophotographic photosensitive member. I can't. Therefore, there are few cases in which a polycarbonate resin containing a divalent phenol residue structure having an aromatic ester bond is used for the photoconductor, and the characteristics have not been clarified (Patent Document 4).

特開2011−26575号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-26575 WO2013/027654号公報WO2013 / 027654 特開2015−102763号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-102763 特開2000−352830号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-352830

しかしながら、本発明者の検討によると、前記特許文献1〜3に記載の技術のポリカーボネート樹脂を使用した感光体では、100,000枚以上印刷するような高寿命・高速機種においては、機械強度は充分なものではなかった。
また、特許文献4に記載の技術はエステル構造を有する2価フェノール残基を含むポリカーボネート樹脂を感光体に用いているが、嵩高いトリアリールアミン構造を有する2価フェノールと共重合しているために樹脂の絡み合いが弱くなり、耐摩耗性が不十分であった。
However, according to the study of the present inventor, the photoconductor using the polycarbonate resin of the techniques described in Patent Documents 1 to 3 has a high mechanical strength in a high-life and high-speed model such as printing 100,000 sheets or more. It wasn't enough.
Further, the technique described in Patent Document 4 uses a polycarbonate resin containing a divalent phenol residue having an ester structure for the photoconductor, but because it is copolymerized with a divalent phenol having a bulky triarylamine structure. The entanglement of the resin was weakened, and the abrasion resistance was insufficient.

本発明は上記課題に鑑みてなされたものである。即ち、本発明の目的は、実用上の負荷に対する耐摩耗性及び電気特性に優れた電子写真感光体を提供することである。 The present invention has been made in view of the above problems. That is, an object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member having excellent wear resistance and electrical characteristics against a practical load.

本発明者らは、上記の課題を解決しうる電子写真感光体について鋭意検討を行なった結果、感光層に特定の化学構造を有するポリカーボネート樹脂を含有させることにより、優れた機械的特性を有し、感光層形成用塗布液に用いる溶媒に対して高い溶解性及び優れた塗布液安定性を有し、且つ、電気特性に優れた電子写真感光体を得ることができることを見出し、かかる知見に基づき本発明を完成させるに至った。即ち、発明の要旨は、以下〔1〕〜〔7〕に存する。 As a result of diligent studies on an electrophotographic photosensitive member that can solve the above problems, the present inventors have excellent mechanical properties by incorporating a polycarbonate resin having a specific chemical structure in the photosensitive layer. Based on this finding, they have found that an electrophotographic photosensitive member having high solubility in a solvent used for a coating liquid for forming a photosensitive layer, excellent coating liquid stability, and excellent electrical characteristics can be obtained. The present invention has been completed. That is, the gist of the invention lies in the following [1] to [7].

〔1〕
導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体であって、前記感光層は、下記式(1)で表される繰返し単位及び下記式(2)で表される繰返し単位を含むポリカーボネート樹脂を含有することを特徴とする電子写真感光体。
[1]
An electrophotographic photosensitive member having a photosensitive layer on a conductive support, wherein the photosensitive layer is a polycarbonate resin containing a repeating unit represented by the following formula (1) and a repeating unit represented by the following formula (2). An electrophotographic photosensitive member comprising.

Figure 0006953694
Figure 0006953694

(式(1)中、Ar、Arは、それぞれ独立に置換基を有していてもよいアリーレン基を表す。Zは、芳香族基を有する2価の基であり、sは0又は1の整数である。) (In the formula (1), Ar 1 and Ar 2 represent an arylene group which may independently have a substituent. Z 1 is a divalent group having an aromatic group, and s is 0. Or an integer of 1.)

Figure 0006953694
Figure 0006953694

(式(2)中、R、Rは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン基、炭化水素基、及びアルコキシ基のいずれかを表し、炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン基で置換されていてもよい。Xは、単結合、―CR−、O、CO、又はSを表す。またR、Rはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン基、炭化水素基、及びアルコキシ基のいずれかを表し、炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン基で置換されていてもよい。また、RとRとは、互いに結合して環を形成していてもよい。m、mは、それぞれ独立に0以上4以下の整数を表す。) (In the formula (2), R 1 and R 2 independently represent any one of a hydrogen atom, a halogen group, a hydrocarbon group, and an alkoxy group, and the hydrocarbon group and the alkoxy group are some or all hydrogen. Atoms may be substituted with halogen groups. X 1 represents a single bond, —CR 3 R 4 −, O, CO, or S, and R 3 and R 4 are independent hydrogen atoms and halogens, respectively. Represents any of a group, a hydrocarbon group, and an alkoxy group, and some or all of the hydrogen atoms of the hydrocarbon group and the alkoxy group may be substituted with a halogen group, and R 3 and R 4 are , M 1 and m 2 may independently represent integers of 0 or more and 4 or less, respectively.)

〔2〕
前記ポリカーボネート樹脂において、前記式(1)で表される繰返し単位および前記式(2)で表される繰返し単位の合計に対する、前記式(1)で表される繰返し単位の割合が、1mol%以上50mol%以下であることを特徴とする〔1〕に記載の電子写真感光体。
[2]
In the polycarbonate resin, the ratio of the repeating unit represented by the formula (1) to the total of the repeating unit represented by the formula (1) and the repeating unit represented by the formula (2) is 1 mol% or more. The electrophotographic photosensitive member according to [1], which has a content of 50 mol% or less.

〔3〕
前記式(1)で表される繰返し単位が、下記式(3)で表される繰返し単位または(4
)で表される繰返し単位であることを特徴とする〔1〕または〔2〕に記載の電子写真感光体。
[3]
The repeating unit represented by the formula (1) is the repeating unit represented by the following formula (3) or (4).
The electrophotographic photosensitive member according to [1] or [2], which is a repeating unit represented by).

Figure 0006953694
Figure 0006953694

式(3)中、R、Rは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン基、アルキル基、及びアルコキシ基のいずれかを表し、アルキル基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン基で置換されていてもよい。m、mは、それぞれ独立に0以上4以下の整数を表す。 In the formula (3), R 5 and R 6 independently represent any one of a hydrogen atom, a halogen group, an alkyl group, and an alkoxy group, and some or all of the hydrogen atoms of the alkyl group and the alkoxy group are halogen. It may be substituted with a group. m 3 and m 4 independently represent integers of 0 or more and 4 or less.

Figure 0006953694
Figure 0006953694

式(4)中、Arは置換基を有してもよいアリーレン基を表す。R、Rは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン基、アルキル基、及びアルコキシ基のいずれかを表し、アルキル基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン基で置換されていてもよい。m、mは、それぞれ独立に0以上4以下の整数を表す。 In formula (4), Ar 3 represents an arylene group which may have a substituent. R 7 and R 8 each independently represent one of a hydrogen atom, a halogen group, an alkyl group, and an alkoxy group, and the alkyl group and the alkoxy group have some or all hydrogen atoms substituted with halogen groups. May be good. m 5 and m 6 independently represent integers of 0 or more and 4 or less.

〔4〕
〔1〕乃至〔3〕の何れか一つに記載の電子写真感光体と、該電子写真感光体を帯電させる帯電手段、帯電した該電子写真感光体に対し像露光を行い、静電潜像を形成する像露光手段、前記静電潜像をトナーで現像する現像手段、並びに前記トナーを被転写体に転写する転写手段のうち、少なくとも一つとを備えることを特徴とする、電子写真カートリッジ。
[4]
The electrophotographic photosensitive member according to any one of [1] to [3], the charging means for charging the electrophotographic photosensitive member, and the charged electrophotographic photosensitive member are subjected to image exposure to perform an electrostatic latent image. An electrophotographic cartridge comprising at least one of an image exposing means for forming an image, a developing means for developing the electrostatic latent image with toner, and a transfer means for transferring the toner to a transfer target.

〔5〕
〔1〕乃至〔3〕の何れか一つに記載の電子写真感光体と、該電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、帯電した該電子写真感光体に対する露光により静電潜像を形成する露光手段と、前記静電潜像をトナーで現像する現像手段と、前記トナーを被転写体に転写する転写手段、前記被転写体に転写された前記トナーを定着させる定着手段とを備えることを特徴とする、画像形成装置。
[5]
An electrostatic latent image is formed by exposure to the electrophotographic photosensitive member according to any one of [1] to [3], a charging means for charging the electrophotographic photosensitive member, and the charged electrophotographic photosensitive member. It is provided with an exposure means, a developing means for developing the electrostatic latent image with toner, a transfer means for transferring the toner to a transfer target, and a fixing means for fixing the toner transferred to the transfer target. An image forming apparatus as a feature.

〔6〕
〔1〕乃至〔3〕の何れか一つに記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。
〔7〕
〔6〕に記載のポリカーボネート樹脂の製造方法であって、製造工程に溶液重合を含むことを特徴とする製造方法。
[6]
The method for producing a polycarbonate resin according to any one of [1] to [3].
[7]
The method for producing a polycarbonate resin according to [6], which comprises solution polymerization in the production process.

前記ポリカーボネート樹脂は、感光層形成用塗布液に用いる溶媒に対して高い溶解性及び優れた塗布液安定性を有し、それを用いた本発明の感光体は耐摩耗性や電気特性等の諸特性に優れたものとなる。この耐摩耗性の向上の理由については明らかではないが、前記式(1)で表される繰返し単位中のエステル結合を有する2価フェノール残基は、その芳香族基と極性基の影響から分子間で相互作用しやすく樹脂鎖の絡み合いが強くなり樹脂の機械物性が向上するものと考えられる。一方、前記式(1)で表される繰返し構造のみからなる樹脂の場合、相互作用が強くなりすぎ結晶性樹脂となるため有機溶剤に不溶となり電写真感光体には使用することが困難となる。そこで、式(2)で表される繰返し単位と共重合することにより、機械物性に優れながら有機溶剤に対する溶解性を有するポリカーボネート樹脂となり、耐摩耗性に優れた感光体を得ることが可能となる。 The polycarbonate resin has high solubility in a solvent used for a coating liquid for forming a photosensitive layer and excellent coating liquid stability, and the photoconductor of the present invention using the polycarbonate resin has various aspects such as abrasion resistance and electrical characteristics. It has excellent characteristics. Although the reason for this improvement in wear resistance is not clear, the divalent phenol residue having an ester bond in the repeating unit represented by the above formula (1) is a molecule due to the influence of its aromatic group and polar group. It is considered that the resin chains are easily entangled with each other and the mechanical properties of the resin are improved. On the other hand, in the case of a resin having only a repeating structure represented by the above formula (1), the interaction becomes too strong and the resin becomes a crystalline resin, which becomes insoluble in an organic solvent and is difficult to use for an electrophotographic photosensitive member. .. Therefore, by copolymerizing with the repeating unit represented by the formula (2), a polycarbonate resin having excellent mechanical properties and solubility in an organic solvent can be obtained, and a photoconductor having excellent wear resistance can be obtained. ..

本発明によれば、耐摩耗性に特に優れ、且つ、電気特性に優れた電子写真感光体が得られ、それを用いることにより優れたカートリッジおよび画像形成装置が得られる。 According to the present invention, an electrophotographic photosensitive member having particularly excellent wear resistance and excellent electrical characteristics can be obtained, and by using the electrophotographic photosensitive member, an excellent cartridge and an image forming apparatus can be obtained.

本発明の電子写真感光体を用いた画像形成装置の一実施例を表す概念図である。It is a conceptual diagram which shows one Example of the image forming apparatus using the electrophotographic photosensitive member of this invention.

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail. The present invention is not limited to the following embodiments, and can be variously modified and implemented within the scope of the gist thereof.

≪ポリカーボネート樹脂≫
本実施の形態が適用される電子写真感光体の感光層は、下記式(1)で表される繰返し単位及び下記式(2)で表される繰返し単位を含むポリカーボネート樹脂を含有する。
≪Polycarbonate resin≫
The photosensitive layer of the electrophotographic photosensitive member to which the present embodiment is applied contains a polycarbonate resin containing a repeating unit represented by the following formula (1) and a repeating unit represented by the following formula (2).

Figure 0006953694
Figure 0006953694

式(1)中、Ar、Arは、それぞれ独立に置換基を有していてもよいアリーレン基を表す。Zは、芳香族基を有する2価の基であり、sは0又は1の整数である。 In the formula (1), Ar 1 and Ar 2 represent an arylene group which may have an independently substituent. Z 1 is a divalent group having an aromatic group, and s is an integer of 0 or 1.

Figure 0006953694
Figure 0006953694

式(2)中、R、Rは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン基、炭化水素基、及びアルコキシ基のいずれかを表し、炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン基で置換されていてもよい。Xは、単結合、―CR−、O、CO
、又はSを表す。またR、Rはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン基、炭化水素基、及びアルコキシ基のいずれかを表し、炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン基で置換されていてもよい。また、RとRとは、互いに結合して環を形成していてもよい。m、mは、それぞれ独立に0以上4以下の整数を表す。
In the formula (2), R 1 and R 2 independently represent any one of a hydrogen atom, a halogen group, a hydrocarbon group, and an alkoxy group, and the hydrocarbon group and the alkoxy group are some or all hydrogen atoms. May be substituted with a halogen group. X 1 is a single bond, -CR 3 R 4 -, O , CO
, Or S. Further, R 3 and R 4 independently represent any one of a hydrogen atom, a halogen group, a hydrocarbon group, and an alkoxy group, and in the hydrocarbon group and the alkoxy group, a part or all of the hydrogen atoms are replaced with a halogen group. It may have been. Further, R 3 and R 4 may be coupled to each other to form a ring. m 1 and m 2 independently represent integers of 0 or more and 4 or less.

式(1)中、Ar、Arの置換基を有していてもよいアリーレン基の炭素数に特に制限はないが、通常6以上、一方、通常20以下、好ましくは16以下、より好ましくは12以下である。特に好ましくは6である。上記の範囲であれば耐摩耗性および電気特性が優れるため好ましい。
置換基を有してもよいアリーレン基の具体例として、フェニレン基、ナフチレン基、アントリレン基、フェナントリレン基、ピレニレン基、ビフェニレン基等が挙げられる。電気特性の観点からフェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基が好ましく、溶解性の観点からフェニレン基が好ましい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン基、ベンジル基等が挙げられる。これらの置換基のうち、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基の炭素数は、通常1以上、一方通常10以下、好ましくは8以下、より好ましくは6以下、更に好ましくは4以下である。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、シクロヘキソキシ基等が挙げられる。ハロゲン化アルキル基としては、クロロアルキル基、フルオロアルキル基等が挙げられる。ハロゲン基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基等が挙げられる。より好ましくはメチル基、エチル基である。耐摩耗性の観点から置換基を有していないアリーレン基がより好ましい。
In the formula (1), the number of carbon atoms of the arylene group which may have the substituents of Ar 1 and Ar 2 is not particularly limited, but is usually 6 or more, while usually 20 or less, preferably 16 or less, more preferably. Is 12 or less. Especially preferably 6. The above range is preferable because it has excellent wear resistance and electrical characteristics.
Specific examples of the arylene group which may have a substituent include a phenylene group, a naphthylene group, an anthrylene group, a phenanthrylene group, a pyrenylene group, a biphenylene group and the like. A phenylene group, a naphthylene group, and a biphenylene group are preferable from the viewpoint of electrical characteristics, and a phenylene group is preferable from the viewpoint of solubility. Examples of the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, an alkyl halide group, a halogen group, a benzyl group and the like. Among these substituents, the alkyl group, the alkoxy group, and the alkyl halide group usually have 1 or more carbon atoms, while usually 10 or less, preferably 8 or less, more preferably 6 or less, and further preferably 4 or less. Specific examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a tert-butyl group, an isobutyl group, a cyclohexyl group and the like. Specific examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a cyclohexoxy group and the like. Examples of the alkyl halide group include a chloroalkyl group and a fluoroalkyl group. Examples of the halogen group include a fluoro group, a chloro group, a bromo group and the like. More preferably, it is a methyl group or an ethyl group. From the viewpoint of wear resistance, an arylene group having no substituent is more preferable.

Ar、Arそれぞれの置換基の数に特に制限は無いが、4個以下であることが好ましく、3個以下であることがより好ましく、2個以下であることが特に好ましい。電気特性の観点から、Ar、Arは、無置換のアリーレン基であることがより好ましく、耐摩耗性の観点からAr、Arは同じ無置換のアリーレン基であることがさらに好ましく、溶解性の観点から無置換のフェニレン基であることが特に好ましい。 The number of substituents for each of Ar 1 and Ar 2 is not particularly limited, but is preferably 4 or less, more preferably 3 or less, and particularly preferably 2 or less. From the viewpoint of electrical characteristics, Ar 1 and Ar 2 are more preferably unsubstituted arylene groups, and from the viewpoint of wear resistance, Ar 1 and Ar 2 are more preferably the same unsubstituted arylene groups. From the viewpoint of solubility, it is particularly preferable to use an unsubstituted phenylene group.

Ar、Arが置換基を有してもよいフェニレン基の場合、m−フェニレン基、p−フェニレン基が好ましく、耐摩耗性の観点からp−フェニレン基がより好ましい。置換基を有してもよいナフチレン基の場合、1,3−ナフチレン基、1,4−ナフチレン基、1,5‐ナフチレン基、1,6−ナフチレン基、1,7−ナフチレン基、2,4−ナフチレン基、2,5−ナフチレン基、2,6−ナフチレン基、2,7−ナフチレン基が好ましく、耐摩耗性の観点から1,6−ナフチレン基、1,7−ナフチレン基、2,6−ナフチレン基、2,7−ナフチレン基がより好ましい。ビフェニレン基の場合、2,4−ビフェニレン基、2,2’−ビフェニレン基、3,3’−ビフェニレン基、4,4’−ビフェニレン基、2,4’−ビフェニレン基が好ましく、耐摩耗性の観点から4,4’−ビフェニレン基がより好ましい。 In the case of a phenylene group in which Ar 1 and Ar 2 may have a substituent, an m-phenylene group and a p-phenylene group are preferable, and a p-phenylene group is more preferable from the viewpoint of abrasion resistance. In the case of a naphthylene group which may have a substituent, 1,3-naphthylene group, 1,4-naphthylene group, 1,5-naphthylene group, 1,6-naphthylene group, 1,7-naphthylene group, 2, 4-naphthylene group, 2,5-naphthylene group, 2,6-naphthylene group, 2,7-naphthylene group are preferable, and 1,6-naphthylene group, 1,7-naphthylene group, 2, from the viewpoint of abrasion resistance. A 6-naphthylene group and a 2,7-naphthylene group are more preferable. In the case of a biphenylene group, a 2,4-biphenylene group, a 2,2'-biphenylene group, a 3,3'-biphenylene group, a 4,4'-biphenylene group, and a 2,4'-biphenylene group are preferable, and the abrasion resistance is high. From the viewpoint, a 4,4'-biphenylene group is more preferable.

は芳香族基を有する2価の基であれば特に制限されないが、耐摩耗性および電気特性を両立させる観点から、Ar、下記式(5)であることが好ましい。 Z 1 is not particularly limited as long as it is a divalent group having an aromatic group, but from the viewpoint of achieving both wear resistance and electrical characteristics, Ar 1 and the following formula (5) are preferable.

Figure 0006953694
Figure 0006953694

式(5)中、R、R10は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン基、炭化水素基、及びアルコキシ基のいずれかを表し、炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン基で置換されていてもよい。Xは、単結合、―CR1112−、O、CO、又はSを表す。またR11、R12はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン基、炭化水素基、及びアルコキシ基のいずれかを表し、炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン基で置換されていてもよい。また、R11とR12とは、互いに結合して環を形成していてもよい。m、mは、それぞれ独立に0以上4以下の整数を表す。 In the formula (5), R 9 and R 10 independently represent any one of a hydrogen atom, a halogen group, a hydrocarbon group, and an alkoxy group, and the hydrocarbon group and the alkoxy group are some or all hydrogen atoms. May be substituted with a halogen group. X 2 represents a single bond, —CR 11 R 12 −, O, CO, or S. Further, R 11 and R 12 independently represent any one of a hydrogen atom, a halogen group, a hydrocarbon group, and an alkoxy group, and in the hydrocarbon group and the alkoxy group, a part or all of the hydrogen atoms are replaced with a halogen group. It may have been. Further, R 11 and R 12 may be coupled to each other to form a ring. m 7 and m 8 independently represent integers of 0 or more and 4 or less.

、R10のハロゲン基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基が挙げられ、製造上の簡便性、耐摩耗性の観点から好ましくはフルオロ基である。
、R10の炭化水素基に特に制限はないが、その具体例としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基が挙げられ、好ましくはアルキル基、アリール基である。炭化水素基の炭素数に特に制限はないが通常1以上、一方通常20以下、好ましくは16以下、より好ましくは12以下、より更に好ましくは10以下、一層好ましくは8以下、特に好ましくは6以下である。アルキル基の場合、その炭素数に特に制限はないが、通常1以上、一方通常20以下、好ましくは16以下、より好ましくは12以下、更に好ましくは10以下、より更に好ましくは8以下、一層好ましくは6以下、特に好ましくは4以下、最も好ましくは1である。アルケニル基の場合、その炭素数に特に制限はないが、通常1以上、一方通常20以下、好ましくは16以下、より好ましくは12以下、更に好ましくは10以下、より更に好ましくは8以下、一層好ましくは6以下、特に好ましくは4以下、最も好ましくは2である。アルキニル基の場合、その炭素数に特に制限はないが、通常1以上、一方通常20以下、好ましくは16以下、より好ましくは12以下、更に好ましくは10以下、より更に好ましくは8以下、一層好ましくは6以下、特に好ましくは4以下、最も好ましくは2である。アリール基の場合、その炭素数に特に制限はないが、通常6以上、一方通常20以下、好ましくは16以下、より好ましくは14以下、より更に好ましくは12以下、一層好ましくは10以下、特に好ましくは8以下、最も好ましくは6である。上記の範囲であれば、製造上の簡便性、耐摩耗性の観点から好ましい。
Examples of the halogen group of R 9 and R 10 include a fluoro group, a chloro group and a bromo group, and a fluoro group is preferable from the viewpoint of ease of production and abrasion resistance.
The hydrocarbon groups of R 9 and R 10 are not particularly limited, and specific examples thereof include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, and an aryl group, and an alkyl group and an aryl group are preferable. The number of carbon atoms of the hydrocarbon group is not particularly limited, but is usually 1 or more, while usually 20 or less, preferably 16 or less, more preferably 12 or less, still more preferably 10 or less, still more preferably 8 or less, and particularly preferably 6 or less. Is. In the case of an alkyl group, the number of carbon atoms is not particularly limited, but is usually 1 or more, while usually 20 or less, preferably 16 or less, more preferably 12 or less, still more preferably 10 or less, still more preferably 8 or less, still more preferable. Is 6 or less, particularly preferably 4 or less, and most preferably 1. In the case of an alkenyl group, the number of carbon atoms is not particularly limited, but is usually 1 or more, while usually 20 or less, preferably 16 or less, more preferably 12 or less, still more preferably 10 or less, still more preferably 8 or less, still more preferable. Is 6 or less, particularly preferably 4 or less, and most preferably 2. In the case of an alkynyl group, the number of carbon atoms is not particularly limited, but is usually 1 or more, while usually 20 or less, preferably 16 or less, more preferably 12 or less, still more preferably 10 or less, still more preferably 8 or less, still more preferable. Is 6 or less, particularly preferably 4 or less, and most preferably 2. In the case of an aryl group, the number of carbon atoms is not particularly limited, but is usually 6 or more, while usually 20 or less, preferably 16 or less, more preferably 14 or less, still more preferably 12 or less, still more preferably 10 or less, particularly preferably. Is 8 or less, most preferably 6. The above range is preferable from the viewpoint of manufacturing convenience and wear resistance.

、R10のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基であり、より好ましくはメチル基である。一部又は全部の水素原子がハロゲン基で置換されているアルキル基としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基が挙げられ、好ましくはフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基であり、より好ましくはトリフルオロメチル基である。アリール基としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、ナフチル基が挙げられ、一部又は全部の水素原子がハロゲン基で置換されているアリール基としては、ハロゲン化フェニル基が挙げられ、好ましくはフルオロフェニル基である。アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、シクロヘキソキシ基等が挙げられる。上記の置換基であれば、製造上の簡便性、耐摩耗性の観点から好ましい。 Specific examples of the alkyl group of R 9 and R 10 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a tert-butyl group, a cyclohexyl group and the like, and a methyl group and an ethyl group are preferable. , More preferably a methyl group. Alkyl groups in which some or all hydrogen atoms are substituted with halogen groups include fluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, fluoroethyl group, difluoroethyl group, trifluoroethyl group, and tetrafluoroethyl group. , Pentafluoroethyl group, preferably a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, and more preferably a trifluoromethyl group. Examples of the aryl group include a phenyl group, a methylphenyl group, a dimethylphenyl group and a naphthyl group, and examples of the aryl group in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with a halogen group include a halogenated phenyl group. It is preferably a fluorophenyl group. Specific examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a cyclohexoxy group and the like. The above-mentioned substituent is preferable from the viewpoint of ease of manufacture and abrasion resistance.

11、R12が水素原子、ハロゲン基、炭化水素基、及びアルコキシ基のいずれかの場合、R11、R12は、R、R10と同義である。R11とR12が互いに結合して環を形成している場合、その炭素数に特に制限はないが、通常5以上、好ましくは6以上、一方通常20以下、好ましくは16以下、より好ましく12以下、更に好ましくは10以下であり、より更に好ましくは8以下である。R11とR12が互いに結合して環を形
成している場合の具体例としては、シクロアルキリデン基が挙げられ、シクロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基、シクロへプチリデン基が好ましい。これらの置換基に更に前記炭化水素基が置換されている場合も好ましく、その具体例としては、3,3,5−トリメチルシクロヘキシリデン基が好ましい。
When R 11 and R 12 are any of hydrogen atoms, halogen groups, hydrocarbon groups, and alkoxy groups, R 11 and R 12 are synonymous with R 9 and R 10. When R 11 and R 12 are bonded to each other to form a ring, the number of carbon atoms is not particularly limited, but is usually 5 or more, preferably 6 or more, while usually 20 or less, preferably 16 or less, more preferably 12. Hereinafter, it is more preferably 10 or less, and even more preferably 8 or less. Specific examples of the case where R 11 and R 12 are bonded to each other to form a ring include a cycloalkylidene group, and a cyclopentylidene group, a cyclohexylidene group, and a cycloheptylidene group are preferable. It is also preferable that the hydrocarbon group is further substituted with these substituents, and as a specific example thereof, a 3,3,5-trimethylcyclohexylidene group is preferable.

、mは、耐摩耗性の観点から0以上2以下が好ましく、より好ましくは0または1である。
なお、m、mが0〜3の整数である場合、無置換部位は水素原子を表す。例えば、m=4かつRがすべて水素原子であることと、m=0であることは同義である。同様にm=4かつR10がすべて水素原子であることと、m=0であることは同義である。
From the viewpoint of wear resistance, m 7 and m 8 are preferably 0 or more and 2 or less, and more preferably 0 or 1.
When m 7 and m 8 are integers from 0 to 3, the unsubstituted site represents a hydrogen atom. For example, m 7 = 4 and R 9 are all hydrogen atoms, and m 7 = 0 is synonymous. Similarly, m 8 = 4 and R 10 are all hydrogen atoms, and m 8 = 0 is synonymous.

式(1)は、下記式(3)または(4)で表される繰返し単位から選ばれる繰返し単位であることが好ましい。 The formula (1) is preferably a repeating unit selected from the repeating units represented by the following formula (3) or (4).

Figure 0006953694
Figure 0006953694

式(3)中、R、Rは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン基、アルキル基、及びアルコキシ基のいずれかを表し、アルキル基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン基で置換されていてもよい。m、mは、それぞれ独立に0以上4以下の整数を表す。 In the formula (3), R 5 and R 6 independently represent any one of a hydrogen atom, a halogen group, an alkyl group, and an alkoxy group, and some or all of the hydrogen atoms of the alkyl group and the alkoxy group are halogen. It may be substituted with a group. m 3 and m 4 independently represent integers of 0 or more and 4 or less.

Figure 0006953694
Figure 0006953694

式(4)中、Arは置換基を有してもよいアリーレン基を表す。R、Rは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン基、アルキル基、及びアルコキシ基のいずれかを表し、アルキル基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン基で置換されていてもよい。m、mは、それぞれ独立に0以上4以下の整数を表す。
、mは、2以下であることが好ましく、1以下であることがより好ましく、0であることが特に好ましい。m、mは、2以下であることが好ましく、1以下であることがより好ましく、0であることが特に好ましい。
In formula (4), Ar 3 represents an arylene group which may have a substituent. R 7 and R 8 each independently represent one of a hydrogen atom, a halogen group, an alkyl group, and an alkoxy group, and the alkyl group and the alkoxy group have some or all hydrogen atoms substituted with halogen groups. May be good. m 5 and m 6 independently represent integers of 0 or more and 4 or less.
m 3 and m 4 are preferably 2 or less, more preferably 1 or less, and particularly preferably 0. m 5 and m 6 are preferably 2 or less, more preferably 1 or less, and particularly preferably 0.

Arは、Arと同義である。
〜Rのハロゲン基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基が挙げられ、製造上の簡便性、耐摩耗性の観点から好ましくはフルオロ基である。
〜Rがアルキル基の場合、その炭素数に特に制限はないが、通常1以上、一方通常20以下、好ましくは16以下、より好ましくは12以下、更に好ましくは10以下、
より更に好ましくは8以下、一層好ましくは6以下、特に好ましくは4以下、最も好ましくは1である。上記の範囲であれば、製造上の簡便性、耐摩耗性の観点から好ましい。
Ar 3 is synonymous with Ar 1.
Examples of the halogen group of R 5 to R 8 include a fluoro group, a chloro group and a bromo group, and a fluoro group is preferable from the viewpoint of ease of production and abrasion resistance.
When R 5 to R 8 are alkyl groups, the number of carbon atoms is not particularly limited, but usually 1 or more, while usually 20 or less, preferably 16 or less, more preferably 12 or less, still more preferably 10 or less.
It is even more preferably 8 or less, even more preferably 6 or less, particularly preferably 4 or less, and most preferably 1. The above range is preferable from the viewpoint of manufacturing convenience and wear resistance.

〜Rのアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基であり、より好ましくはメチル基である。一部又は全部の水素原子がハロゲン基で置換されているアルキル基としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基が挙げられ、好ましくはフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基であり、より好ましくはトリフルオロメチル基である。アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、シクロヘキソキシ基等が挙げられる。上記の置換基であれば、製造上の簡便性、耐摩耗性の観点から好ましい。 Specific examples of the alkyl group of R 5 to R 8 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a tert-butyl group, a cyclohexyl group and the like, and a methyl group and an ethyl group are preferable. , More preferably a methyl group. Alkyl groups in which some or all hydrogen atoms are substituted with halogen groups include fluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, fluoroethyl group, difluoroethyl group, trifluoroethyl group, and tetrafluoroethyl group. , Pentafluoroethyl group, preferably a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, and more preferably a trifluoromethyl group. Specific examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a cyclohexoxy group and the like. The above-mentioned substituent is preferable from the viewpoint of ease of manufacture and abrasion resistance.

式(1)で表される2価フェノール残基を誘導する2価フェノール化合物の具体例として以下に表す。 Specific examples of the divalent phenol compound for inducing the divalent phenol residue represented by the formula (1) are shown below.

Figure 0006953694
Figure 0006953694

これらの中でも、電気特性の観点から以下の化合物がより好ましい。 Among these, the following compounds are more preferable from the viewpoint of electrical characteristics.

Figure 0006953694
Figure 0006953694

さらに、耐摩耗性の観点から以下に示す構造が特に好ましい。 Further, the structure shown below is particularly preferable from the viewpoint of wear resistance.

Figure 0006953694
Figure 0006953694

式(2)中、R、Rは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン基、炭化水素基、及びアルコキシ基のいずれかを表し、炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン基で置換されていてもよい。Xは、単結合、―CR−、O、CO、又はSを表す。またR、Rはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン基、炭化水素基、及びアルコキシ基のいずれかを表し、炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン基で置換されていてもよい。また、RとRとは、互いに結合して環を形成していてもよい。m、mは、それぞれ独立に0以上4以下の整数を表す。 In the formula (2), R 1 and R 2 independently represent any one of a hydrogen atom, a halogen group, a hydrocarbon group, and an alkoxy group, and the hydrocarbon group and the alkoxy group are some or all hydrogen atoms. May be substituted with a halogen group. X 1 represents a single bond, -CR 3 R 4 -, represents O, CO, or S. Further, R 3 and R 4 independently represent any one of a hydrogen atom, a halogen group, a hydrocarbon group, and an alkoxy group, and in the hydrocarbon group and the alkoxy group, a part or all of the hydrogen atoms are replaced with a halogen group. It may have been. Further, R 3 and R 4 may be coupled to each other to form a ring. m 1 and m 2 independently represent integers of 0 or more and 4 or less.

、Rのハロゲン基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基が挙げられ、製造上の簡便性、耐摩耗性の観点から好ましくはフルオロ基である。
、Rの炭化水素基に特に制限はないが、その具体例としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基が挙げられ、好ましくはアルキル基、アリール基である。炭化水素基の炭素数に特に制限はないが通常1以上、一方通常20以下、好ましくは16以下、より好ましくは12以下、より更に好ましくは10以下、一層好ましくは8
以下、特に好ましくは6以下である。アルキル基の場合、その炭素数に特に制限はないが、通常1以上、一方通常20以下、好ましくは16以下、より好ましくは12以下、更に好ましくは10以下、より更に好ましくは8以下、一層好ましくは6以下、特に好ましくは4以下、最も好ましくは1である。アルケニル基の場合、その炭素数に特に制限はないが、通常1以上、一方通常20以下、好ましくは16以下、より好ましくは12以下、更に好ましくは10以下、より更に好ましくは8以下、一層好ましくは6以下、特に好ましくは4以下、最も好ましくは2である。アルキニル基の場合、その炭素数に特に制限はないが、通常1以上、一方通常20以下、好ましくは16以下、より好ましくは12以下、更に好ましくは10以下、より更に好ましくは8以下、一層好ましくは6以下、特に好ましくは4以下、最も好ましくは2である。アリール基の場合、その炭素数に特に制限はないが、通常6以上、一方通常20以下、好ましくは16以下、より好ましくは14以下、より更に好ましくは12以下、一層好ましくは10以下、特に好ましくは8以下、最も好ましくは6である。上記の範囲であれば、製造上の簡便性、耐摩耗性の観点から好ましい。
Examples of the halogen group of R 1 and R 2 include a fluoro group, a chloro group and a bromo group, and a fluoro group is preferable from the viewpoint of ease of production and abrasion resistance.
The hydrocarbon groups of R 1 and R 2 are not particularly limited, and specific examples thereof include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, and an aryl group, and an alkyl group and an aryl group are preferable. The number of carbon atoms of the hydrocarbon group is not particularly limited, but is usually 1 or more, while usually 20 or less, preferably 16 or less, more preferably 12 or less, still more preferably 10 or less, still more preferably 8.
Below, it is particularly preferably 6 or less. In the case of an alkyl group, the number of carbon atoms is not particularly limited, but is usually 1 or more, while usually 20 or less, preferably 16 or less, more preferably 12 or less, still more preferably 10 or less, still more preferably 8 or less, still more preferable. Is 6 or less, particularly preferably 4 or less, and most preferably 1. In the case of an alkenyl group, the number of carbon atoms is not particularly limited, but is usually 1 or more, while usually 20 or less, preferably 16 or less, more preferably 12 or less, still more preferably 10 or less, still more preferably 8 or less, still more preferable. Is 6 or less, particularly preferably 4 or less, and most preferably 2. In the case of an alkynyl group, the number of carbon atoms is not particularly limited, but is usually 1 or more, while usually 20 or less, preferably 16 or less, more preferably 12 or less, still more preferably 10 or less, still more preferably 8 or less, still more preferable. Is 6 or less, particularly preferably 4 or less, and most preferably 2. In the case of an aryl group, the number of carbon atoms is not particularly limited, but is usually 6 or more, while usually 20 or less, preferably 16 or less, more preferably 14 or less, still more preferably 12 or less, still more preferably 10 or less, particularly preferably. Is 8 or less, most preferably 6. The above range is preferable from the viewpoint of manufacturing convenience and wear resistance.

、Rのアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基であり、より好ましくはメチル基である。一部又は全部の水素原子がハロゲン基で置換されているアルキル基としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基が挙げられ、好ましくはフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基であり、より好ましくはトリフルオロメチル基である。アリール基としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、ナフチル基が挙げられ、一部又は全部の水素原子がハロゲン基で置換されているアリール基としては、ハロゲン化フェニル基が挙げられ、好ましくはフルオロフェニル基である。アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、シクロヘキソキシ基等が挙げられる。上記の置換基であれば、製造上の簡便性、耐摩耗性の観点から好ましい。 Specific examples of the alkyl group of R 1 and R 2 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a tert-butyl group, a cyclohexyl group and the like, and a methyl group and an ethyl group are preferable. , More preferably a methyl group. Alkyl groups in which some or all hydrogen atoms are substituted with halogen groups include fluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, fluoroethyl group, difluoroethyl group, trifluoroethyl group, and tetrafluoroethyl group. , Pentafluoroethyl group, preferably a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, and more preferably a trifluoromethyl group. Examples of the aryl group include a phenyl group, a methylphenyl group, a dimethylphenyl group and a naphthyl group, and examples of the aryl group in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with a halogen group include a halogenated phenyl group. It is preferably a fluorophenyl group. Specific examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a cyclohexoxy group and the like. The above-mentioned substituent is preferable from the viewpoint of ease of manufacture and abrasion resistance.

、Rが水素原子、ハロゲン基、炭化水素基、及びアルコキシ基のいずれかの場合、R、Rは、R、Rと同義である。RとRが互いに結合して環を形成している場合、その炭素数に特に制限はないが、通常5以上、好ましくは6以上、一方通常20以下、好ましくは16以下、より好ましく12以下、更に好ましくは10以下であり、より更に好ましくは8以下である。RとRが互いに結合して環を形成している場合の具体例としては、シクロアルキリデン基が挙げられ、シクロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基、シクロへプチリデン基が好ましい。これらの置換基に更に前記炭化水素基が置換されている場合も好ましく、その具体例としては、3,3,5−トリメチルシクロヘキシリデン基が好ましい。 When R 3 and R 4 are any of hydrogen atoms, halogen groups, hydrocarbon groups, and alkoxy groups, R 3 and R 4 are synonymous with R 1 and R 2. When R 6 and R 7 are bonded to each other to form a ring, the number of carbon atoms is not particularly limited, but is usually 5 or more, preferably 6 or more, while usually 20 or less, preferably 16 or less, more preferably 12. Hereinafter, it is more preferably 10 or less, and even more preferably 8 or less. Specific examples of the case where R 6 and R 7 are bonded to each other to form a ring include a cycloalkylidene group, and a cyclopentylidene group, a cyclohexylidene group, and a cycloheptilidene group are preferable. It is also preferable that the hydrocarbon group is further substituted with these substituents, and as a specific example thereof, a 3,3,5-trimethylcyclohexylidene group is preferable.

、mは、耐摩耗性の観点から0以上2以下が好ましく、より好ましくは0または1である。
なお、m、mが0〜3の整数である場合、無置換部位は水素原子を表す。例えば、m=4かつRがすべて水素原子であることと、m=0であることは同義である。同様にm=4かつRがすべて水素原子であることと、m=0であることは同義である。
From the viewpoint of wear resistance, m 1 and m 2 are preferably 0 or more and 2 or less, and more preferably 0 or 1.
When m 1 and m 2 are integers from 0 to 3, the unsubstituted site represents a hydrogen atom. For example, m 1 = 4 and R 4 are all hydrogen atoms, and m 1 = 0 is synonymous. Similarly, m 2 = 4 and R 5 are all hydrogen atoms, and m 2 = 0 is synonymous.

前記式(2)で表される繰返し単位は、電気特性および耐摩耗性の観点から下記式(6)で表される繰返し単位であることが好ましい。 The repeating unit represented by the formula (2) is preferably a repeating unit represented by the following formula (6) from the viewpoint of electrical characteristics and wear resistance.

Figure 0006953694
Figure 0006953694

式(2)で表される2価フェノール残基の元となる2価フェノールとして具体的に例表すると、ビス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)メタン、ビス−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)エタン、1,1−ビス−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス−(4−ヒドロキー3−メチルフェニル)プロパン、1,1−ビス−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス−(4−ヒドロキー3−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス−(4−ヒドロキー3−メチルフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン、4,4´−ビフェノール、3,3´−ジメチル−4,4´−ビフェノール、3,3´,5,5´−テトラメチル−4,4´−ビフェノール、4,4´−ジヒドロキシジフェニルエーテル、3,3´−ジメチル−4,4´−ジヒドロキシジフェニルエーテル、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、4,4´−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン等が挙げられる。この中でも、二価フェノール成分の製造の簡便性及び溶解性、電気特性を考慮すれば、ビス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)メタン、ビス−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)エタン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス−(4−ヒドロキー3−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、4,4´−ビフェノール、3,3´−ジメチル−4,4´−ビフェノール、3,3´,5,5´−テトラメチル−4,4´−ビフェノール、4,4´−ジヒドロキシジフェニルエーテルが好ましい。さらに機械物性を考慮すれば、ビス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)メタン、1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)エタン、2,2−ビス−(4−ヒドロキー3−メチルフェニル)プロパン、4,4´−ビフェノール、1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンがより好ましい。 Specific examples of the divalent phenol that is the source of the divalent phenol residue represented by the formula (2) are bis- (4-hydroxyphenyl) methane and bis- (4-hydroxy-3-methylphenyl). Methan, bis- (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) methane, 1,1-bis- (4-hydroxyphenyl) ethane, 1,1-bis- (4-hydroxy-3-methylphenyl) ethane, 1,1-bis- (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) ethane, 1,1-bis- (4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis- (4-hydrokey 3-methylphenyl) propane , 1,1-bis- (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis- (4-hydrokey 3-methylphenyl) Propane, 2,2-bis- (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis- (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis- (4-hydrokey 3-methylphenyl) ) Cyclohexane, 1,1-bis- (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis- (4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, 4,4'-biphenol, 3, 3'-dimethyl-4,4'-biphenol, 3,3', 5,5'-tetramethyl-4,4'-biphenol, 4,4'-dihydroxydiphenyl ether, 3,3'-dimethyl-4,4 ′ -Dihydroxydiphenyl ether, bis (4-hydroxyphenyl) sulfide, 4,4′-dihydroxybenzophenone, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane and the like can be mentioned. Among these, bis- (4-hydroxyphenyl) methane, bis- (4-hydroxy-3-methylphenyl) methane, bis- ( 3,5-Dimethyl-4-hydroxyphenyl) methane, 1,1-bis- (4-hydroxyphenyl) ethane, 1,1-bis- (4-hydroxy-3-methylphenyl) ethane, 2,2-bis -(4-Hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis- (4-hydrokey 3-methylphenyl) propane, 2,2-bis- (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) propane, 1,1- Bis- (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 4,4'-biphenol, 3,3'-dimethyl-4,4'-biphenol, 3,3', 5,5'-tetramethyl-4,4'-biphenol , 4,4'-Dihydroxydiphenyl ether is preferred. Further considering the mechanical properties, bis- (4-hydroxyphenyl) methane, bis- (4-hydroxy-3-methylphenyl) methane, 1,1-bis- (4-hydroxyphenyl) ethane, 1,1- Bis- (4-hydroxy-3-methylphenyl) ethane, 2,2-bis- (4-hydrokey 3-methylphenyl) propane, 4,4'-biphenol, 1,1-bis- (4-hydroxyphenyl) Cyclohexane is more preferred.

本発明中のポリカーボネート樹脂は、式(1)で表される繰返し単位及び下記式(2)で表される繰返し単位以外の繰返し単位を有してもよく、式(1)で表される繰返し単位及び下記式(2)で表される繰返し単位以外の繰返し構造の元となる2価ジオールとしては、エチレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,8−オクタンジオール、1,2−プロパンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、2,2−ジメチル1,3−プロパンジオール、2−メチルー1,5−ペンタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,2−シクロペンタンジオール、1,3−シクロペンタンジオール、1,2−シクロヘキサンジオール、1,3−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シク
ロヘキサンジメタノール、1,4−ジヒドロキシ−2−ブテン、パーフルオロアルキル含有ジオール、ポリシロキサン含有ジオール、ヒドロキノン、メチルヒドロキノン、レソルシノール、カテコール、1,6−ジヒドロキシナフタレン、1,7−ジヒドロキシナフタレン、1,4-ジヒドロキシナフタレン、2,6-ジヒドロキシナフタレン、2,7-ジヒ
ドロキシナフタレン、4−ヒドロキシ安息香酸4−ヒドロキシフェニル、1,4−ビス(4−ヒドロキシ安息香酸)フェニル、4,4´−ビス(4−ヒドロキシ安息香酸)ビフェニル、4,4´−ビス(4−ヒドロキシ安息香酸)−3,3´,5,5´−テトラメチル−ビフェニル等が挙げられる。
The polycarbonate resin in the present invention may have a repeating unit other than the repeating unit represented by the formula (1) and the repeating unit represented by the following formula (2), and may have a repeating unit represented by the formula (1). Examples of the divalent diol that is the basis of the repeating structure other than the unit and the repeating unit represented by the following formula (2) are ethylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, and 1,6-hexanediol. , 1,8-octanediol, 1,2-propanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 2,2-dimethyl1,3-propanediol, 2-methyl-1,5-pentanediol, 3- Methyl-1,5-pentanediol, 1,2-cyclopentanediol, 1,3-cyclopentanediol, 1,2-cyclohexanediol, 1,3-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4- Cyclohexanedimethanol, 1,4-dihydroxy-2-butene, perfluoroalkyl-containing diol, polysiloxane-containing diol, hydroquinone, methylhydroquinone, resorcinol, catechol, 1,6-dihydroxynaphthalene, 1,7-dihydroxynaphthalene, 1, 4-Dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, 2,7-dihydroxynaphthalene, 4-hydroxyphenyl 4-hydroxybenzoate, 1,4-bis (4-hydroxybenzoic acid) phenyl, 4,4'-bis ( 4-Hydroxybenzoic acid) biphenyl, 4,4'-bis (4-hydroxybenzoic acid) -3,3', 5,5'-tetramethyl-biphenyl and the like can be mentioned.

前記ポリカーボネート樹脂において、前記式(1)で表される繰返し単位および前記式(2)で表される繰返し単位の合計に対する、前記式(1)で表される繰返し単位の割合に特に制限はないが、通常1mol%以上、好ましくは3mol%以上、より好ましくは5mol%以上、更に好ましくは10mol%以上であり、一方、通常50mol%以下、好ましくは47mol%以下、より好ましくは45mol%以下である。上記範囲とすることで、良好な溶解性および塗布液安定性が得られ、且つ、高い耐摩耗性が得られる。 In the polycarbonate resin, the ratio of the repeating unit represented by the formula (1) to the total of the repeating unit represented by the formula (1) and the repeating unit represented by the formula (2) is not particularly limited. However, it is usually 1 mol% or more, preferably 3 mol% or more, more preferably 5 mol% or more, still more preferably 10 mol% or more, while usually 50 mol% or less, preferably 47 mol% or less, more preferably 45 mol% or less. .. Within the above range, good solubility and coating solution stability can be obtained, and high wear resistance can be obtained.

上記モル比率は、ポリカーボネート樹脂のH−NMRスペクトルにより算出することができる。
ポリカーボネート樹脂中の式(1)で表される繰返し単位の含有量に特に制限はないが、通常1mol%以上、好ましくは3mol%以上、より好ましくは5mol%以上であり、一方、通常50mol%以下、好ましくは45mol%以下である。また、ポリカーボネート樹脂中の式(2)で表される繰返し単位の含有量に特に制限はないが、50mol%以上が好ましく、55mol%以上がより好ましい。一方、99mol%以下が好ましく、97mol%以下がより好ましく、95mol%以下がさらに好ましい。上記範囲の含有量とすることで、溶解性および電気特性が良好となる。
The molar ratio can be calculated from the 1 H-NMR spectrum of the polycarbonate resin.
The content of the repeating unit represented by the formula (1) in the polycarbonate resin is not particularly limited, but is usually 1 mol% or more, preferably 3 mol% or more, more preferably 5 mol% or more, while usually 50 mol% or less. It is preferably 45 mol% or less. The content of the repeating unit represented by the formula (2) in the polycarbonate resin is not particularly limited, but is preferably 50 mol% or more, more preferably 55 mol% or more. On the other hand, 99 mol% or less is preferable, 97 mol% or less is more preferable, and 95 mol% or less is further preferable. When the content is in the above range, the solubility and electrical characteristics are improved.

上記モル比率は、ポリカーボネート樹脂のH−NMRスペクトルにより算出することができる。
本発明のポリカーボネート樹脂の共重合構成は、ランダム共重合体、交互共重合体、一部がブロック構造である共重合のいずれでもよい。溶解性や塗布液安定性の観点から、一部がブロック構造である共重合体が好ましい。
The molar ratio can be calculated from the 1 H-NMR spectrum of the polycarbonate resin.
The copolymerization structure of the polycarbonate resin of the present invention may be any of a random copolymer, an alternating copolymer, and a copolymer having a partially block structure. From the viewpoint of solubility and stability of the coating liquid, a copolymer having a partially block structure is preferable.

前記ポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量(Mv)は、通常、10,000以上、機械的強度の観点から、好ましくは25,000以上である。また、通常、200,000以下、塗布性の観点から、好ましくは、150,000以下である。
前記ポリカーボネート樹脂の末端に存在するクロロホーメート基量は、通常0.1μ当量/g以下、好ましくは0.05μ当量/g以下である。末端クロロホーメート基量が上記範囲内であれば、塗布液安定性が良好となる。
The viscosity average molecular weight (Mv) of the polycarbonate resin is usually 10,000 or more, preferably 25,000 or more from the viewpoint of mechanical strength. Further, it is usually 200,000 or less, preferably 150,000 or less from the viewpoint of coatability.
The amount of chlorohomate groups present at the ends of the polycarbonate resin is usually 0.1 μe equivalent / g or less, preferably 0.05 μe equivalent / g or less. When the amount of the terminal chlorohomet group is within the above range, the stability of the coating liquid is good.

前記ポリカーボネート樹脂の末端に存在するOH基量は、通常50μ当量/g以下、好ましくは30μ当量/g以下である。末端OH基量が上記範囲とすることで、電気特性が良好な電子写真感光体が得られる。
前記ポリカーボネート樹脂に含まれる全窒素量(T−N量)は、1000ppm以下が好ましく、500ppm以下であることがさらに好ましく、300ppm以下であることが特に好ましい。全窒素量が上記範囲内であれば、繰返し使用時の電気特性に優れた電子写真感光体が得られる。
The amount of OH groups present at the ends of the polycarbonate resin is usually 50 μe equivalent / g or less, preferably 30 μe equivalent / g or less. By setting the amount of terminal OH groups in the above range, an electrophotographic photosensitive member having good electrical characteristics can be obtained.
The total amount of nitrogen (TN amount) contained in the polycarbonate resin is preferably 1000 ppm or less, more preferably 500 ppm or less, and particularly preferably 300 ppm or less. When the total amount of nitrogen is within the above range, an electrophotographic photosensitive member having excellent electrical characteristics during repeated use can be obtained.

前記樹脂に含有される遊離の2価フェノールについては、その量は特に限定されないが、100ppm以下が好ましい、50ppm以下が更に好ましい。一方、0.001ppm以上であることが好ましく、0.01ppm以上であることが特に好ましい。上記範囲
内とすることで、良好な電気特性が得られ、また、経時安定性に優れる。
本実施の形態が適用される電子写真感光体における感光層には、前記ポリカーボネート樹脂と他の樹脂とを混合して用いることも可能である。ここで混合される他の構造を有する樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル等のビニル重合体及びその共重合体;ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエステルポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂等の熱可塑性樹脂及び種々の熱硬化性樹脂等及びこれらの共重合体が挙げられる。これら樹脂のなかでもポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂とシリコーン樹脂の共重合体及びポリエステル樹脂とシリコーン樹脂の共重合体が好ましい。また、混合される他の構造を有する樹脂の混合割合は、特に限定されないが、通常、前記ポリカーボネート樹脂の割合を超えない範囲で併用することが好ましく、具体的には前記ポリカーボネート樹脂に対する他の構造を有する樹脂の含有量は、通常50質量部以下、耐摩耗性の観点から、30質量部以下が好ましい。
The amount of the free divalent phenol contained in the resin is not particularly limited, but is preferably 100 ppm or less, more preferably 50 ppm or less. On the other hand, it is preferably 0.001 ppm or more, and particularly preferably 0.01 ppm or more. Within the above range, good electrical characteristics can be obtained and stability over time is excellent.
The polycarbonate resin and other resins can be mixed and used for the photosensitive layer in the electrophotographic photosensitive member to which the present embodiment is applied. Examples of the resin having another structure mixed here include vinyl polymers such as polymethylmethacrylate, polystyrene, and polyvinyl chloride and copolymers thereof; polycarbonate resin, polyester resin, polyester polycarbonate resin, polysulfone resin, and phenoxy. Examples thereof include thermoplastic resins such as resins, epoxy resins and silicone resins, various thermosetting resins and the like, and copolymers thereof. Among these resins, a polycarbonate resin, a polyester resin, a copolymer of a polycarbonate resin and a silicone resin, and a copolymer of a polyester resin and a silicone resin are preferable. The mixing ratio of the resin having another structure to be mixed is not particularly limited, but it is usually preferable to use the resin in combination within a range not exceeding the ratio of the polycarbonate resin, and specifically, the other structure with respect to the polycarbonate resin. The content of the resin having is usually 50 parts by mass or less, preferably 30 parts by mass or less from the viewpoint of abrasion resistance.

前記他の構造を有する樹脂の好適な構造の具体例を以下に表す。これら具体例は例示のために示したものであり、本発明の趣旨に反しない限りはいかなるバインダー樹脂を混合して用いてもよい。 Specific examples of suitable structures of the resin having the other structure are shown below. These specific examples are shown for illustration purposes, and any binder resin may be mixed and used as long as it does not contradict the gist of the present invention.

Figure 0006953694
Figure 0006953694

≪ポリカーボネート樹脂の製造方法≫
次に、本実施の形態が適用される電子写真感光体に使用するポリカーボネート樹脂の製造方法について説明する。電子写真感光体用ポリカーボネートを製造する場合一般的には界面重合法で製造される。しかしながら、本発明中のポリカーボネート樹脂を製造する場合、エステル結合を有する2価フェノールを原料に使用するため、界面重合法では、アルカリ塩となった該2価フェノールが水層に溶解した際に、水酸化物イオン等の求核剤により速やかに加水分解され、重合が進行しない。そのため、本発明中のポリカーボネート樹脂の製造方法は、製造工程に少なくとも溶液重合を含むことが好ましい。溶液重合は非水系の溶剤中でカーボネート結合を形成できるため、モノマーに含まれるエステル結合を加水分解することなくポリカーボネート樹脂を製造することができる。以下にポリカーボネート樹脂の製造法の一例を説明する。
≪Manufacturing method of polycarbonate resin≫
Next, a method for producing a polycarbonate resin used for the electrophotographic photosensitive member to which the present embodiment is applied will be described. When producing polycarbonate for an electrophotographic photosensitive member, it is generally produced by an interfacial polymerization method. However, when the polycarbonate resin of the present invention is produced, a divalent phenol having an ester bond is used as a raw material. Therefore, in the interfacial polymerization method, when the divalent phenol which has become an alkali salt is dissolved in the aqueous layer, It is rapidly hydrolyzed by a nucleophilic agent such as hydroxide ion, and polymerization does not proceed. Therefore, the method for producing a polycarbonate resin in the present invention preferably includes at least solution polymerization in the production process. Since solution polymerization can form a carbonate bond in a non-aqueous solvent, a polycarbonate resin can be produced without hydrolyzing the ester bond contained in the monomer. An example of a method for producing a polycarbonate resin will be described below.

<溶液重合工程>
溶液重合工程は、例えば、2価フェノール化合物及びホスゲンまたは末端にクロロホーメート基を有するポリカーボネートオリゴマーの存在下、トリエチルアミン等の塩基を添加することでカーボネート結合を形成し、樹脂鎖を伸長することができる。溶液重合工程のみにより、ポリカーボネート樹脂を製造してもよいし、溶液重合工程によりオリゴマーを製造し、その後界面重合等によりポリカーボネート樹脂を製造してもよい。
<Solution polymerization process>
In the solution polymerization step, for example, in the presence of a divalent phenol compound and a phosgene or a polycarbonate oligomer having a chlorohomate group at the terminal, a base such as triethylamine can be added to form a carbonate bond to extend the resin chain. can. The polycarbonate resin may be produced only by the solution polymerization step, or the oligomer may be produced by the solution polymerization step, and then the polycarbonate resin may be produced by interfacial polymerization or the like.

オリゴマーは、公知の技術により製造することが可能であり、例えば特開2010−43201号の実施例1に記載の方法、特開2011−26575号の製造例1に記載の方法等が挙げられる。
溶液重合法で用いられる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、N,N−ジプロピルエチルアミン、N,N−ジエチルメチルアミン、N,N−ジメチルエチルアミン、N,N−ジメチルブチルアミン、N,N−ジメチルイソプロピルアミン、N,N−ジエチルイソプロピルアミン、N,N,N´,N´−テトラメチルジエチルアミン、1,4-ジアザビシク
ロ[2,2,2]オクタン等の3級アミンや、ピリジン、4-メチルピリジン等のピリジン
類及び1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]‐7‐ウンデセン等の有機塩基が挙げられる
。また、フォスファゼン塩基、無機塩基等カーボネート化反応に使用されるような塩基ならば特に制限されない。これらの塩基の中で、カーボネート反応の反応性及び入手の簡便性の観点からトリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、N,N−ジエチルメチルアミン、ピリジンが好ましく、クロロホーメート基の分解抑制や洗浄における除去の容易さの観点からトリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミンが特に好ましい。塩基の使用量としては、反応系中に含まれる水酸基量の1.0倍当量〜2倍当量の範囲が好ましい。上記の範囲とすることで、速やかに反応が進行し、かつ、カーボネート結合やエステル結合の分解を抑制することができる。
The oligomer can be produced by a known technique, and examples thereof include the method described in Example 1 of JP-A-2010-432201 and the method described in Production Example 1 of JP-A-2011-26575.
Examples of the base used in the solution polymerization method include triethylamine, tripropylamine, tributylamine, N, N-diisopropylethylamine, N, N-dipropylethylamine, N, N-diethylmethylamine, N, N-dimethylethylamine. , N, N-dimethylbutylamine, N, N-dimethylisopropylamine, N, N-diethylisopropylamine, N, N, N', N'-tetramethyldiethylamine, 1,4-diazabicyclo [2,2,2] Examples thereof include tertiary amines such as octane, pyridines such as pyridine and 4-methylpyridine, and organic bases such as 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene. Further, the base is not particularly limited as long as it is a base used in a carbonated reaction such as a phosphazene base or an inorganic base. Among these bases, triethylamine, N, N-diisopropylethylamine, N, N-diisopropylethylamine, and pyridine are preferable from the viewpoint of the reactivity of the carbonate reaction and the ease of acquisition, and the decomposition of chlorohomed groups is suppressed and the washing is performed. Triethylamine and N, N-diisopropylethylamine are particularly preferable from the viewpoint of ease of removal. The amount of the base used is preferably in the range of 1.0 times equivalent to 2 times equivalent of the amount of hydroxyl groups contained in the reaction system. Within the above range, the reaction can proceed rapidly and the decomposition of carbonate bonds and ester bonds can be suppressed.

溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、トリクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素化合物、トルエン、アニソール、キシレン等の芳香族炭化水素化合物、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素化合物、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキソラン等のエーテル化合物、酢酸エチル、安息香酸メチル、酢酸ベンジル等のエステル化合物、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド化合物、等が挙げられる。また、ピリジンを塩基かつ溶媒として使用してもよい。これらの中で、モノマーや生成するオリゴマーの溶解性及びエステル化反応の反応性の観点から、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2-ジクロロエタ
ン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド、ピリジンが好ましい。さらに洗浄効率及び電気特性の観点からジクロロメタンが特に好ましい。
Examples of the solvent include halogenated hydrocarbon compounds such as dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, trichloroethane, tetrachloroethane, chlorobenzene and dichlorobenzene, aromatic hydrocarbon compounds such as toluene, anisole and xylene, cyclohexane and methylcyclohexane. Hydrocarbon compounds, ether compounds such as tetrahydrofuran, tetrahydropyran, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, ester compounds such as ethyl acetate, methyl benzoate, benzyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N- Examples thereof include amide compounds such as dimethylacetamide. Further, pyridine may be used as a base and a solvent. Among these, dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, tetrahydrofuran, N, N-dimethylformamide, and pyridine are preferable from the viewpoint of the solubility of the monomer and the oligomer produced and the reactivity of the esterification reaction. Further, dichloromethane is particularly preferable from the viewpoint of cleaning efficiency and electrical characteristics.

重合温度は−10℃〜40℃の範囲、重合時間は0.5時間〜10時間の範囲であるのが生産性の点で好ましい。
また、前記式(1)で表される繰返し構造単位の元となる2価フェノールは溶媒に対する溶解性が悪い場合があり、ホスゲンと反応した際に析出し、反応溶液の白濁、高分子量化の阻害となる場合がある。そのため、本2価フェノールと前記式(2)で表される繰返し構造の元となる2価フェノールを一緒にホスゲンと反応させる、あるいは式(2)の元となる2価フェノールからなるオリゴマーに対し、式(1)の元となる2価フェノールを反応させることが好ましい。
The polymerization temperature is preferably in the range of −10 ° C. to 40 ° C., and the polymerization time is preferably in the range of 0.5 to 10 hours from the viewpoint of productivity.
Further, the divalent phenol which is the source of the repeating structural unit represented by the above formula (1) may have poor solubility in a solvent, and precipitates when it reacts with phosgene, resulting in cloudiness and high molecular weight of the reaction solution. It may be an obstacle. Therefore, the present divalent phenol and the divalent phenol which is the source of the repeating structure represented by the above formula (2) are reacted together with phosgen, or the oligomer composed of the divalent phenol which is the source of the formula (2) is reacted. , It is preferable to react the divalent phenol which is the basis of the formula (1).

<界面重合工程>
本発明のポリカーボネート樹脂を製造する際に界面重合工程を含んでいてもよい。界面重合工程は溶液重合工程で製造したオリゴマーを使い、その後ポリカーボネート樹脂を製造する際に使用することが好ましい。
界面重合工程は、例えば、アルカリ水溶液と、前記溶液重合で得られるオリゴマーを溶解したハロゲン化炭化水素又は芳香族炭化水素の溶液とを混合する。この際、触媒として、3級アミン、4級アンモニウム塩もしくは4級ホスホニウム塩を存在させることも可能である。重合温度は0℃〜40℃の範囲、重合時間は0.5時間〜20時間の範囲であるのが生産性の点で好ましい。重合終了後、水相と有機相とを分離し、有機相中に溶解しているポリマーを公知の方法で、洗浄、回収することにより、目的とする樹脂が得られる。
<Interfacial polymerization process>
An interfacial polymerization step may be included in the production of the polycarbonate resin of the present invention. It is preferable that the oligomer produced in the solution polymerization step is used in the interfacial polymerization step, and then used in the subsequent production of the polycarbonate resin.
In the interfacial polymerization step, for example, an alkaline aqueous solution is mixed with a solution of a halogenated hydrocarbon or an aromatic hydrocarbon in which an oligomer obtained by the solution polymerization is dissolved. At this time, it is also possible to make a tertiary amine, a quaternary ammonium salt or a quaternary phosphonium salt present as a catalyst. The polymerization temperature is preferably in the range of 0 ° C. to 40 ° C., and the polymerization time is preferably in the range of 0.5 hour to 20 hours from the viewpoint of productivity. After completion of the polymerization, the aqueous phase and the organic phase are separated, and the polymer dissolved in the organic phase is washed and recovered by a known method to obtain the desired resin.

界面重合による製造の際、必要によっては、アルカリ水溶液にオリゴマー以外の別途2価フェノールを添加することも可能である。
界面重合法で用いられるアルカリ成分としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物等を挙げることができる。アルカリ成分の使用量としては、反応系中に含まれるクロロホーメート基の1.01倍当量〜3倍当量の範囲が好ましい。
In the case of production by interfacial polymerization, it is also possible to add a divalent phenol other than the oligomer to the alkaline aqueous solution, if necessary.
Examples of the alkaline component used in the interfacial polymerization method include hydroxides of alkali metals such as sodium hydroxide and potassium hydroxide. The amount of the alkaline component used is preferably in the range of 1.01 times to 3 times the equivalent of the chlorohomate group contained in the reaction system.

反応有機溶媒として、ハロゲン化炭化水素としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、トリクロロエタン、テトラクロロエタン、ジクロロベンゼン等が挙げられる。芳香族炭化水素としては、例えば、トルエン、キシレン、ベンゼン等が挙げられる。
触媒として用いられる3級アミンとして、例えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、N,N−ジプロピルエチルアミン、N,N−ジエチルメチルアミン、N,N−ジメチルエチルアミン、N,N−ジメチルブチルアミン、N,N−ジメチルイソプロピルアミン、N,N−ジエチルイソプロピルアミン、N,N,N´,N´−テトラメチルジエチルアミン、1,4-ジアザビシ
クロ[2,2,2]オクタン等が挙げられる。反応性および、高分子量の樹脂が得られることからトリエチルアミンが好ましい。
Examples of the halogenated hydrocarbon as the reaction organic solvent include dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, trichloroethane, tetrachloroethane, dichlorobenzene and the like. Examples of aromatic hydrocarbons include toluene, xylene, benzene and the like.
As tertiary amines used as catalysts, for example, triethylamine, tripropylamine, tributylamine, N, N-diisopropylethylamine, N, N-dipropylethylamine, N, N-diethylmethylamine, N, N-dimethylethylamine, N, N-dimethylbutylamine, N, N-dimethylisopropylamine, N, N-diethylisopropylamine, N, N, N', N'-tetramethyldiethylamine, 1,4-diazabicyclo [2,2,2] octane And so on. Triethylamine is preferable because it provides reactivity and a high molecular weight resin.

触媒として用いられる4級アンモニウム塩、4級ホスホニウム塩としては、例えば、トリブチルアミンやトリオクチルアミン等の3級アルキルアミンの塩酸、臭素酸、ヨウ素酸等の塩;ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリブチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロマイド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド、テトラブチルホスホニウムブロマイド、トリエチルオクタデシルホスホニウムブロマイド、N−ラウリルピリジニウムクロリド、ラウリルピコリニウムクロリド等が挙げられる。 Examples of the quaternary ammonium salt and the quaternary phosphonium salt used as a catalyst include salts of tertiary alkylamines such as tributylamine and trioctylamine such as hydrochloric acid, bromic acid and iodic acid; benzyltriethylammonium chloride and benzyltrimethylammonium. Chloride, benzyltributylammonium chloride, tetraethylammonium chloride, tetrabutylammonium chloride, tetrabutylammonium bromide, trioctylmethylammonium chloride, tetrabutylphosphonium bromide, triethyloctadecylphosphonium bromide, N-laurylpyridinium chloride, laurylpicolinium chloride, etc. Be done.

<ポリカーボネート樹脂製造の共通事項>
ポリカーボネート樹脂を製造する際には、分子量調節剤を使用することができる。分子
量調節剤としては、例えば、フェノール、o,m,p−クレゾール、o,m,p−エチルフェノール、o,m,p−プロピルフェノール、o,m,p−(tert−ブチル)フェノール、ペンチルフェノール、ヘキシルフェノール、オクチルフェノール、ノニルフェノール、2,6−ジメチルフェノール誘導体、2−メチルフェノール誘導体等のアルキルフェノール類;o,m,p−フェニルフェノール等の1官能性のフェノール;酢酸クロリド、酪酸クロリド、オクチル酸クロリド、塩化ベンゾイル、ベンゼンスルホニルクロリド、ベンゼンスルフィニルクロリド、スルフィニルクロリド、ベンゼンホスホニルクロリドやそれらの置換体等の1官能性酸ハロゲン化物等が挙げられる。また、メタノール、エタノール、プロパノール等の1官能脂肪族アルコールや、2−ヒドロキシエチルアクリレート
、4―ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシメタクリレート等のアクリル類を
有する1官能アルコール、1H,1H,2H,2H−トリデカフルオロ−1−n−オクタノール、1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロ−1−デカノール等のパーフルオロアルキルを有する1官能アルコール、シロキサンを有する1官能アルコール等が挙げられる。これらの分子量調節剤の中でも、分子量調節能が高く、かつ溶液安定性の点で好ましいのは、o,m,p−(tert−ブチル)フェノール、2,6−ジメチルフェノール誘導体、2−メチルフェノール誘導体である。特に好ましくは、p−(tert−ブチル)フェノール、2,3,6−トリメチルフェノール、2,3,5−トリメチルフェノールである。
<Common items for polycarbonate resin manufacturing>
A molecular weight modifier can be used in the production of the polycarbonate resin. Examples of the molecular weight modifier include phenol, o, m, p-cresol, o, m, p-ethylphenol, o, m, p-propylphenol, o, m, p- (tert-butyl) phenol, and pentyl. Alkylphenols such as phenol, hexylphenol, octylphenol, nonylphenol, 2,6-dimethylphenol derivative, 2-methylphenol derivative; monofunctional phenols such as o, m, p-phenylphenol; chloride, butyric acid chloride, octyl Examples thereof include monofunctional acid halides such as acid chloride, benzoyl chloride, benzenesulfonyl chloride, benzenesulfinyl chloride, sulfinyl chloride, benzenephosphonyl chloride and their substitutes. In addition, monofunctional aliphatic alcohols such as methanol, ethanol and propanol, and monofunctional alcohols having acrylics such as 2-hydroxyethyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate and 2-hydroxymethacrylate, 1H, 1H, 2H and 2H- Examples thereof include monofunctional alcohols having perfluoroalkyl such as tridecafluoro-1-n-octanol, 1H, 1H, 2H and 2H-heptadecafluoro-1-decanol, and monofunctional alcohols having siloxane. Among these molecular weight modifiers, o, m, p- (tert-butyl) phenol, 2,6-dimethylphenol derivative, and 2-methylphenol are preferable in terms of high molecular weight control ability and solution stability. It is a derivative. Particularly preferred are p- (tert-butyl) phenol, 2,3,6-trimethylphenol and 2,3,5-trimethylphenol.

また、2価フェノールを酸化させないために、重合反応中や洗浄液中に酸化防止剤を添加することができる。酸化防止剤としては、例えば、亜硫酸ナトリウム、ハイドロサルファイト(次亜硫酸ナトリウム)、二酸化硫黄、亜硫酸カリウム、亜硫酸水素ナトリウム等が挙げられる。これらの中でも、酸化防止の効果及び環境負荷の低減からもハイドロサルファイトが特に好ましい。酸化防止剤の使用量としては、全2価フェノールに対して、0.01質量%以上、10.0質量%以下が好ましい。さらに好ましくは0.1質量%以上、5質量%以下である。 Further, in order not to oxidize the divalent phenol, an antioxidant can be added during the polymerization reaction or in the cleaning liquid. Examples of the antioxidant include sodium sulfite, hydrosulfite (sodium hyposulfite), sulfur dioxide, potassium sulfite, sodium hydrogen sulfite and the like. Among these, hydrosulfite is particularly preferable from the viewpoint of antioxidant effect and reduction of environmental load. The amount of the antioxidant used is preferably 0.01% by mass or more and 10.0% by mass or less with respect to the total divalent phenol. More preferably, it is 0.1% by mass or more and 5% by mass or less.

ポリカーボネート樹脂の重合後の洗浄方法は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意の方法を用いることができるが、例えば、ポリカーボネート樹脂の溶液を水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ水溶液;塩酸、硝酸、リン酸等の酸水溶液;水等で洗浄した後、静置分離、遠心分離等により分液する方法が挙げられる。また、ポリカーボネート樹脂溶液を吸着カラム等に流通させる方法等により精製してもよい。 As the cleaning method after the polymerization of the polycarbonate resin, any method can be used as long as the effect of the present invention is not significantly impaired. For example, the solution of the polycarbonate resin is an alkaline aqueous solution such as sodium hydroxide or potassium hydroxide; hydrochloric acid, An aqueous acid solution such as nitric acid or phosphoric acid; a method of separating the solution by static separation, centrifugation or the like after washing with water or the like can be mentioned. Further, the polycarbonate resin solution may be purified by a method of circulating it on an adsorption column or the like.

洗浄後のポリカーボネート樹脂溶液は、ポリカーボネート樹脂が不溶の水、アルコールその他有機溶媒中に析出させるか、ポリカーボネート樹脂の溶液を温水又はポリカーボネート樹脂が不溶の分散媒中で溶媒を留去するか、加熱、減圧等により溶媒を留去することにより取り出してもよいし、スラリー状で取り出した場合は遠心分離器、濾過器とうにより固体を取り出すこともできる。 The cleaning polycarbonate resin solution is prepared by precipitating the polycarbonate resin solution in water, alcohol or other organic solvent insoluble in the polycarbonate resin, distilling off the solvent in warm water or a dispersion medium in which the polycarbonate resin is insoluble, or heating the solution of the polycarbonate resin. It may be taken out by distilling off the solvent by reducing the pressure or the like, or when it is taken out in the form of a slurry, the solid can be taken out by a centrifuge or a filter.

ポリカーボネート樹脂の乾燥は、通常ポリエステル樹脂の分解温度以下の温度で乾燥するが、好ましくは20℃以上、ポリエステル樹脂の溶融温度以下で乾燥することができる。このとき減圧下で乾燥することが好ましい。乾燥時間は残存溶媒等の不純物の純度が一定以下になるまでの時間以上行うことが好ましく、具体的には、残存溶媒が通常1000ppm以下、好ましくは300ppm以下、さらに好ましくは100ppm以下になる時間以上乾燥する。 The polycarbonate resin is usually dried at a temperature equal to or lower than the decomposition temperature of the polyester resin, but is preferably dried at 20 ° C. or higher and lower than the melting temperature of the polyester resin. At this time, it is preferable to dry under reduced pressure. The drying time is preferably time for the purity of impurities such as the residual solvent to be constant or less, and specifically, the time for the residual solvent to be usually 1000 ppm or less, preferably 300 ppm or less, and more preferably 100 ppm or less. dry.

≪電子写真感光体≫
本実施の形態が適用される電子写真感光体は、導電性支持体上に設けた感光層を有し、感光層が、前記ポリカーボネート樹脂を含有するものである。感光層の具体的な構成としては、例えば、導電性支持体上に、電荷発生物質を主成分とする電荷発生層と電荷輸送物
質及びバインダー樹脂を主成分とする電荷輸送層とを積層した積層型感光体;導電性支持体上に、電荷輸送物質及びバインダー樹脂を含有する層中に電荷発生物質を分散させた感光層を有する分散型(単層型)感光体等が挙げられる。前記ポリカーボネート樹脂は、通常、電荷輸送物質を含有する層に用いられ、好ましくは積層型感光体の電荷輸送層に用いられる。
≪Electrophotophotoreceptor≫
The electrophotographic photosensitive member to which the present embodiment is applied has a photosensitive layer provided on a conductive support, and the photosensitive layer contains the polycarbonate resin. As a specific configuration of the photosensitive layer, for example, a charge generating layer containing a charge generating substance as a main component and a charge transporting layer containing a charge transporting substance and a binder resin as a main component are laminated on a conductive support. Type Photoreceptor; Examples thereof include a dispersed type (single layer type) photoconductor having a photosensitive layer in which a charge generating substance is dispersed in a layer containing a charge transporting substance and a binder resin on a conductive support. The polycarbonate resin is usually used for a layer containing a charge-transporting substance, and is preferably used for a charge-transporting layer of a laminated photoconductor.

<導電性支持体>
導電性支持体について特に制限は無いが、例えばアルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス鋼、銅、ニッケル等の金属材料や、金属、カーボン、酸化錫等の導電性粉体を添加して導電性を付与した樹脂材料や、アルミニウム、ニッケル、ITO(酸化インジウム酸化錫)等の導電性材料をその表面に蒸着又は塗布した樹脂、ガラス、紙等が主として使用される。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。導電性支持体の形態としては、ドラム状、シート状、ベルト状等のものが用いられる。更には、金属材料の導電性支持体の上に、導電性・表面性等の制御や欠陥被覆のために、適当な抵抗値を有する導電性材料を塗布したものを用いてもよい。
<Conductive support>
The conductive support is not particularly limited, but for example, a metal material such as aluminum, aluminum alloy, stainless steel, copper, or nickel, or a conductive powder such as metal, carbon, or tin oxide is added to impart conductivity. Resin materials and resins, glass, paper and the like on which a conductive material such as aluminum, nickel or ITO (indium oxide tin oxide) is vapor-deposited or coated on the surface thereof are mainly used. One of these may be used alone, or two or more thereof may be used in any combination and ratio. As the form of the conductive support, a drum shape, a sheet shape, a belt shape, or the like is used. Further, a conductive material having an appropriate resistance value may be coated on a conductive support made of a metal material for controlling conductivity, surface properties, etc. and covering defects.

また、導電性支持体としてアルミニウム合金等の金属材料を用いた場合、陽極酸化被膜を施してから用いてもよい。陽極酸化被膜を施した場合には、公知の方法により封孔処理を施すのが望ましい。
支持体表面は、平滑であってもよいし、特別な切削方法を用いたり、研磨処理を施したりすることにより、粗面化されていてもよい。また、支持体を構成する材料に適当な粒径の粒子を混合することによって、粗面化されたものでもよい。また、安価化のためには、切削処理を施さず、引き抜き管をそのまま使用することも可能である。
When a metal material such as an aluminum alloy is used as the conductive support, it may be used after being anodized. When the anodic oxide film is applied, it is desirable to perform the hole sealing treatment by a known method.
The surface of the support may be smooth, or may be roughened by using a special cutting method or by applying a polishing treatment. Further, the surface may be roughened by mixing particles having an appropriate particle size with the material constituting the support. Further, in order to reduce the cost, it is possible to use the drawn pipe as it is without cutting.

<下引き層>
導電性支持体と後述する感光層との間には、接着性・ブロッキング性等の改善のため、下引き層を設けてもよい。下引き層としては、樹脂、及び樹脂に金属酸化物等の粒子を分散したもの等が用いられる。また、下引き層は、単一層からなるものであっても、複数層からなるものであってもよい。下引き層には、公知の酸化防止剤等、顔料粒子、樹脂粒子等を含有させて用いてもよい。その膜厚は、電子写真感光体の電気特性、強露光特性、画像特性、繰返し特性、及び製造時の塗布性を向上させる観点から、通常は0.01μm以上、好ましくは0.1μm以上、また、通常30μm以下、好ましくは20μm以下である。
<Underlay layer>
An undercoat layer may be provided between the conductive support and the photosensitive layer described later in order to improve adhesiveness, blocking property, and the like. As the undercoat layer, a resin, a resin in which particles such as metal oxides are dispersed, or the like is used. Further, the undercoat layer may be composed of a single layer or a plurality of layers. The undercoat layer may contain pigment particles, resin particles, etc., such as a known antioxidant, and may be used. The film thickness is usually 0.01 μm or more, preferably 0.1 μm or more, and is preferably 0.1 μm or more, from the viewpoint of improving the electrical characteristics, strong exposure characteristics, image characteristics, repeatability, and coatability during manufacturing of the electrophotographic photosensitive member. , Usually 30 μm or less, preferably 20 μm or less.

下引き層に用いる金属酸化物粒子の例としては、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化鉄等の1種の金属元素を含む金属酸化物粒子、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム等の複数の金属元素を含む金属酸化物粒子等が挙げられる。これらは一種類の粒子を単独で用いてもよいし、複数の種類の粒子を混合して用いてもよい。これらの金属酸化物粒子の中で、酸化チタン及び酸化アルミニウムが好ましく、特に酸化チタンが好ましい。酸化チタン粒子は、その表面に、酸化錫、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化珪素等の無機物、又はステアリン酸、ポリオール、シリコン等の有機物による処理を施されていてもよい。酸化チタン粒子の結晶型としては、ルチル、アナターゼ、ブルッカイト、アモルファスのいずれも用いることができる。また、複数の結晶状態のものが含まれていてもよい。 Examples of the metal oxide particles used for the undercoat layer include metal oxide particles containing one kind of metal element such as titanium oxide, aluminum oxide, silicon oxide, zirconium oxide, zinc oxide, and iron oxide, calcium titanate, and titanium. Examples thereof include metal oxide particles containing a plurality of metal elements such as strontium acid acid and barium titanate. These may use one kind of particles alone, or may use a plurality of kinds of particles in combination. Among these metal oxide particles, titanium oxide and aluminum oxide are preferable, and titanium oxide is particularly preferable. The surface of the titanium oxide particles may be treated with an inorganic substance such as tin oxide, aluminum oxide, antimony oxide, zirconium oxide or silicon oxide, or an organic substance such as stearic acid, polyol or silicon. As the crystal type of the titanium oxide particles, any of rutile, anatase, brookite, and amorphous can be used. Further, a plurality of crystalline states may be included.

また、金属酸化物粒子の粒径としては種々のものが利用できるが、中でも特性及び液の安定性の点から、その平均一次粒径は、10nm以上100nm以下が好ましく、特に10nm以上50nm以下が好ましい。この平均一次粒径は、TEM写真等から得ることができる。
下引き層は、金属酸化物粒子をバインダー樹脂に分散した形で形成するのが望ましい。下引き層に用いられるバインダー樹脂としては、エポキシ樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、水溶性ポリエステル樹脂、ニトロセルロース等のセルロースエステル樹脂、セルロースエーテル樹脂、カゼイン、ゼラチン、ポリグルタミン酸、澱粉、スターチアセテート、アミノ澱粉、ジルコニウムキレート化合物、ジルコニウムアルコキシド化合物等の有機ジルコニウム化合物、チタニルキレート化合物、チタンアルコキシド化合物等の有機チタニル化合物、シランカップリング剤等の公知のバインダー樹脂が挙げられる。これらは単独で用いても良く、或いは2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。また、硬化剤とともに硬化した形で使用してもよい。中でも、アルコール可溶性の共重合ポリアミド、変性ポリアミド等は、良好な分散性、塗布性を表すことから好ましい。下引き層に用いられるバインダー樹脂に対する無機粒子の使用比率は任意に選ぶことが可能であるが、分散液の安定性、塗布性の観点から、バインダー樹脂に対して、通常は10質量%以上、500質量%以下の範囲で使用することが好ましい。
Although various particle sizes of the metal oxide particles can be used, the average primary particle size is preferably 10 nm or more and 100 nm or less, and particularly 10 nm or more and 50 nm or less from the viewpoint of characteristics and liquid stability. preferable. This average primary particle size can be obtained from a TEM photograph or the like.
It is desirable that the undercoat layer is formed by dispersing the metal oxide particles in the binder resin. Binder resins used for the undercoat layer include epoxy resin, polyethylene resin, polypropylene resin, acrylic resin, methacrylic resin, polyamide resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, phenol resin, polycarbonate resin, polyurethane resin, polyimide resin, and chloride. Cellulous esters such as vinylidene resin, polyvinyl acetal resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyvinyl alcohol resin, polyurethane resin, polyacrylic resin, polyacrylamide resin, polyvinylpyrrolidone resin, polyvinylpyridine resin, water-soluble polyester resin, and nitrocellulose. Organic zirconium compounds such as resins, cellulose ether resins, casein, gelatin, polyglutamic acid, starch, starch acetate, amino starch, zirconium chelate compounds, zirconium alkoxide compounds, organic titanyl compounds such as titanyl chelate compounds and titanium alkoxide compounds, silane coupling Examples thereof include known binder resins such as agents. These may be used alone, or two or more thereof may be used in any combination and ratio. Further, it may be used in a cured form together with a curing agent. Of these, alcohol-soluble copolymerized polyamides, modified polyamides and the like are preferable because they exhibit good dispersibility and coatability. The ratio of the inorganic particles used to the binder resin used for the undercoat layer can be arbitrarily selected, but from the viewpoint of the stability and coatability of the dispersion, it is usually 10% by mass or more with respect to the binder resin. It is preferable to use it in the range of 500% by mass or less.

<感光層>
感光層の形式としては、電荷発生物質と電荷輸送物質とが同一層に存在し、バインダー樹脂中に分散された単層型と、電荷発生物質がバインダー樹脂中に分散された電荷発生層及び電荷輸送物質がバインダー樹脂中に分散された電荷輸送層の二層からなる機能分離型(積層型)とが挙げられるが、何れの形式であってもよい。積層型感光層としては、導電性支持体側から電荷発生層、電荷輸送層をこの順に積層して設ける順積層型感光層と、逆に電荷輸送層、電荷発生層の順に積層して設ける逆積層型感光層とがあり、いずれを採用することも可能であるが、最もバランスの取れた光導電性を発揮できる順積層型感光層が好ましい。
<Photosensitive layer>
The types of photosensitive layers include a single-layer type in which a charge generating substance and a charge transporting substance are present in the same layer and are dispersed in a binder resin, and a charge generating layer and charges in which a charge generating substance is dispersed in a binder resin. A function-separated type (laminated type) consisting of two layers of charge transport layers in which the transport substance is dispersed in the binder resin can be mentioned, but any type may be used. The laminated photosensitive layer includes a forward-laminated photosensitive layer in which a charge generating layer and a charge transporting layer are laminated in this order from the conductive support side, and a reverse lamination in which a charge transporting layer and a charge generating layer are laminated in this order. There is a type photosensitive layer, and any of them can be adopted, but a forward-laminated type photosensitive layer capable of exhibiting the most balanced photoconductivity is preferable.

[電荷発生層−積層型]
積層型感光体(機能分離型感光体)の場合、電荷発生層は、電荷発生物質をバインダー樹脂で結着することにより形成される。その膜厚は通常0.1μm以上、好ましくは0.15μm以上、また、通常10μm以下、好ましくは0.6μm以下の範囲である。
電荷発生物質としては、セレニウム及びその合金、硫化カドミウム等の無機系光導電材料と、有機顔料等の有機系光導電材料とが挙げられるが、有機系光導電材料の方が好ましく、特に有機顔料が好ましい。有機顔料としては、例えば、フタロシアニン顔料、アゾ顔料、ジチオケトピロロピロール顔料、スクアレン(スクアリリウム)顔料、キナクリドン顔料、インジゴ顔料、ペリレン顔料、多環キノン顔料、アントアントロン顔料、ベンズイミダゾール顔料等が挙げられる。これらの中でも、特にフタロシアニン顔料又はアゾ顔料が好ましい。電荷発生物質として有機顔料を使用する場合、通常はこれらの有機顔料の微粒子を、各種のバインダー樹脂で結着した分散層の形で使用する。
[Charge generation layer-laminated type]
In the case of a laminated photoconductor (function-separated photoconductor), the charge generating layer is formed by binding a charge generating substance with a binder resin. The film thickness is usually in the range of 0.1 μm or more, preferably 0.15 μm or more, and usually 10 μm or less, preferably 0.6 μm or less.
Examples of the charge generating substance include inorganic photoconductive materials such as selenium and its alloys and cadmium sulfide, and organic photoconductive materials such as organic pigments. Organic photoconductive materials are preferable, and organic pigments are particularly preferable. Is preferable. Examples of the organic pigment include phthalocyanine pigment, azo pigment, dithioketopyrrolopyrrole pigment, squalene (squarylium) pigment, quinacridone pigment, indigo pigment, perylene pigment, polycyclic quinone pigment, anthanthrone pigment, benzimidazole pigment and the like. .. Among these, phthalocyanine pigments or azo pigments are particularly preferable. When an organic pigment is used as a charge generating substance, fine particles of these organic pigments are usually used in the form of a dispersed layer bonded with various binder resins.

電荷発生物質として無金属フタロシアニン化合物、金属含有フタロシアニン化合物を用いた場合は比較的長波長のレーザー光、例えば780nm近辺の波長を有するレーザー光に対して高感度の感光体が得られ、またモノアゾ、ジアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料を用いた場合には、白色光、又は660nm近辺の波長を有するレーザー光、もしくは比較的短波長のレーザー光、例えば450nm、400nm近辺の波長を有するレーザーに対して十分な感度を有する感光体を得ることができる。 When a metal-free phthalocyanine compound or a metal-containing phthalocyanine compound is used as the charge generating substance, a photoconductor having high sensitivity to laser light having a relatively long wavelength, for example, laser light having a wavelength near 780 nm can be obtained, and monoazo, When an azo pigment such as diazo or trisazo is used, it is sufficient for white light, laser light having a wavelength near 660 nm, or laser light having a relatively short wavelength, for example, a laser having a wavelength near 450 nm or 400 nm. A photoconductor having high sensitivity can be obtained.

電荷発生物質として有機顔料を使用する場合、特にフタロシアニン顔料又はアゾ顔料が
好ましい。フタロシアニン顔料は、比較的長波長のレーザー光に対して高感度の感光体が得られる点で、また、アゾ顔料は、白色光及び比較的短波長のレーザー光に対し十分な感度を持つ点で、それぞれ優れている。
電荷発生物質としてフタロシアニン顔料を使用する場合、具体的には無金属フタロシアニン、銅、インジウム、ガリウム、スズ、チタン、亜鉛、バナジウム、シリコン、ゲルマニウム、アルミニウム等の金属又はその酸化物、ハロゲン化物、水酸化物、アルコキシド等の配位したフタロシアニン類の各結晶型を持ったもの、酸素原子等を架橋原子として用いたフタロシアニンダイマー類等が使用される。特に、感度の高い結晶型であるX型、τ型無金属フタロシアニン、A型(別称β型)、B型(別称α型)、D型(別称Y型)等のチタニルフタロシアニン(別称:オキシチタニウムフタロシアニン)、バナジルフタロシアニン、クロロインジウムフタロシアニン、ヒドロキシインジウムフタロシアニン、II型等のクロロガリウムフタロシアニン、V型等のヒドロキシガリウムフタロシアニン、G型、I型等のμ−オキソ−ガリウムフタロシアニン二量体、II型等のμ−オキソ−アルミニウムフタロシアニン二量体が好適である。
When an organic pigment is used as the charge generating substance, a phthalocyanine pigment or an azo pigment is particularly preferable. Phthalocyanine pigments provide photoconductors with high sensitivity to relatively long wavelength laser light, and azo pigments have sufficient sensitivity to white light and relatively short wavelength laser light. , Each is excellent.
When a phthalocyanine pigment is used as a charge generating substance, specifically, metal-free phthalocyanine, copper, indium, gallium, tin, titanium, zinc, vanadium, silicon, germanium, aluminum and other metals or their oxides, halides and water. Those having each crystal form of coordinated phthalocyanines such as oxides and alkoxides, phthalocyanine dimers using an oxygen atom or the like as a cross-linking atom, and the like are used. In particular, titanyl phthalocyanines (also known as oxytitanium) such as X-type, τ-type metal-free phthalocyanine, A-type (also known as β-type), B-type (also known as α-type), and D-type (also known as Y-type), which are highly sensitive crystal types. Phthalocyanine), vanadyl phthalocyanine, chloroindium phthalocyanine, hydroxyindium phthalocyanine, chlorogallium phthalocyanine such as type II, hydroxygallium phthalocyanine such as V type, μ-oxo-gallium phthalocyanine dimer such as G type and I type, type II, etc. The μ-oxo-aluminum phthalocyanine dimer of

また、これらフタロシアニンの中でも、A型(別称β型)、B型(別称α型)、及び粉末X線回折の回折角2θ(±0.2゜)が27.1゜、もしくは27.3゜に明瞭なピークを表すことを特徴とするD型(Y型)チタニルフタロシアニン、II型クロロガリウムフタロシアニン、V型及び28.1゜に最も強いピークを有すること、また26.2゜にピークを持たず28.1゜に明瞭なピークを有し、かつ25.9゜の半値幅Wが0.1゜≦W≦0.4゜であることを特徴とするヒドロキシガリウムフタロシアニン、G型μ−オキソ−ガリウムフタロシアニン二量体等が特に好ましい。これらの中でも、D型(Y型)チタニルフタロシアニンが良好な感度を表すため好ましい。 Among these phthalocyanines, A type (also known as β type), B type (also known as α type), and powder X-ray diffraction diffraction angle 2θ (± 0.2 °) are 27.1 ° or 27.3 °. D-type (Y-type) titanyl phthalocyanine, type II chlorogallium phthalocyanine, V-type and having the strongest peak at 28.1 °, and having a peak at 26.2 °. Hydroxygallium phthalocyanine, G-type μ-oxo, which has a clear peak at 28.1 ° and has a half-value width W of 25.9 ° of 0.1 ° ≤ W ≤ 0.4 °. -Gallium phthalocyanine dimer and the like are particularly preferable. Among these, D-type (Y-type) titanyl phthalocyanine is preferable because it exhibits good sensitivity.

フタロシアニン化合物は単一の化合物のものを用いてもよいし、幾つかの混合又は混晶状態のものを用いてもよい。ここでのフタロシアニン化合物ないしは結晶状態に置ける混合状態としては、それぞれの構成要素を後から混合したものを用いてもよいし、合成、顔料化、結晶化等のフタロシアニン化合物の製造・処理工程において混合状態を生じさせたものでもよい。このような処理としては、酸ペースト処理・磨砕処理・溶剤処理等が知られている。混晶状態を生じさせるためには、特開平10−48859号公報記載のように、2種類の結晶を混合後に機械的に磨砕、不定形化した後に、溶剤処理によって特定の結晶状態に変換する方法が挙げられる。 The phthalocyanine compound may be a single compound, or may be in a mixed or mixed crystal state. As the phthalocyanine compound or the mixed state that can be placed in the crystalline state here, a mixture of each component may be used later, or the phthalocyanine compound may be mixed in the production / processing steps of the phthalocyanine compound such as synthesis, pigmentation, and crystallization. It may be the one that caused the state. As such a treatment, an acid paste treatment, a grinding treatment, a solvent treatment and the like are known. In order to generate a mixed crystal state, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-48859, two types of crystals are mixed, mechanically ground, irregularized, and then converted to a specific crystal state by solvent treatment. There is a way to do it.

電荷発生層に用いるバインダー樹脂は特に制限されないが、例としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールや、アセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルブチラール樹脂等のポリビニルアセタール系樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、変性エーテル系ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース系樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、カゼインや、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ヒドロキシ変性塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル変性塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体等の塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−アルキッド樹脂、シリコン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂等の絶縁性樹脂や、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルペリレン等の有機光導電性ポリマー等が挙げられる。これらのバインダ樹脂は、何れか1種を単独で用いても良く、2種類以上を任意の組み合わせで混合して用いてもよい。 The binder resin used for the charge generation layer is not particularly limited, and examples thereof include polyvinyl butyral resin, polyvinyl formal resin, and polyvinyl acetal-based resins such as partially acetalized polyvinyl butyral resin in which a part of butyral is modified with formal or acetal. Resin, polyarylate resin, polycarbonate resin, polyester resin, modified ether-based polyester resin, phenoxy resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polyvinyl acetate resin, polystyrene resin, acrylic resin, methacrylic resin, polyacrylamide resin, polyamide Resin, polyvinylpyridine resin, cellulose resin, polyurethane resin, epoxy resin, silicon resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinylpyrrolidone resin, casein, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, hydroxy-modified vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, Vinyl chloride-vinyl acetate copolymers such as carboxyl-modified vinyl chloride-vinyl acetate copolymers, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymers, styrene-butadiene copolymers, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymers, Examples thereof include insulating resins such as styrene-alkyd resin, silicon-alkyd resin and phenol-formaldehyde resin, and organic photoconductive polymers such as poly-N-vinylcarbazole, polyvinylanthracene and polyvinylperylene. Any one of these binder resins may be used alone, or two or more of these binder resins may be mixed and used in any combination.

電荷発生層において、バインダー樹脂と電荷発生物質との配合比(質量)は、バインダー樹脂100質量部に対して電荷発生物質が通常10質量部以上、好ましくは30質量部以上、また、通常1000質量部以下、好ましくは500質量部以下の範囲である。 In the charge generating layer, the blending ratio (mass) of the binder resin and the charge generating substance is such that the charge generating substance is usually 10 parts by mass or more, preferably 30 parts by mass or more, and usually 1000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin. It is in the range of parts or less, preferably 500 parts by mass or less.

[電荷輸送層−積層型]
積層型感光体の電荷輸送層は、電荷輸送物質を含有するとともに、通常はバインダー樹脂と、必要に応じて使用されるその他の成分とを含有する。電荷輸送層は、単一の層から成ってもよいし、構成成分あるいは組成比の異なる複数の層を重ねたものでもよい。その膜厚は、通常、5μm〜50μm、好ましくは10μm〜45μmである。
[Charge transport layer-laminated type]
The charge transport layer of the laminated photoconductor contains a charge transport material, and usually contains a binder resin and other components used as needed. The charge transport layer may be composed of a single layer, or may be a stack of a plurality of layers having different constituents or composition ratios. The film thickness is usually 5 μm to 50 μm, preferably 10 μm to 45 μm.

電荷輸送物質としては特に限定されず、任意の物質を用いることが可能である。電荷輸送物質の例としては、2,4,7−トリニトロフルオレノン等の芳香族ニトロ化合物、テトラシアノキノジメタン等のシアノ化合物、ジフェノキノン等のキノン化合物等の電子吸引性物質、カルバゾール誘導体、インドール誘導体、イミダゾール誘導体、オキサゾール誘導体、ピラゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、ベンゾフラン誘導体等の複素環化合物、アニリン誘導体、ヒドラゾン誘導体、芳香族アミン誘導体、スチルベン誘導体、ブタジエン誘導体、エナミン誘導体及びこれらの化合物の複数種が結合したもの、あるいはこれらの化合物からなる基を主鎖又は側鎖に有する重合体等の電子供与性物質等が挙げられる。これらの中でも、カルバゾール誘導体、芳香族アミン誘導体、スチルベン誘導体、ブタジエン誘導体、エナミン誘導体、及びこれらの化合物の複数種が結合したものが好ましい。これらの電荷輸送物質は単独で用いてもよいし、いくつかを混合してもよい。電荷輸送物質の好適な構造の具体例を以下に表す。 The charge transporting substance is not particularly limited, and any substance can be used. Examples of charge transporting substances include aromatic nitro compounds such as 2,4,7-trinitrofluorenone, cyano compounds such as tetracyanoquinodimethane, electron-withdrawing substances such as quinone compounds such as diphenoquinone, carbazole derivatives, and indols. Derivatives, imidazole derivatives, oxazole derivatives, pyrazole derivatives, thiadiazol derivatives, benzofuran derivatives and other heterocyclic compounds, aniline derivatives, hydrazone derivatives, aromatic amine derivatives, stillben derivatives, butadiene derivatives, enamin derivatives and multiple types of these compounds are combined. Examples thereof include electron-donating substances such as polymers having a group composed of these compounds in the main chain or side chain. Among these, carbazole derivatives, aromatic amine derivatives, stilbene derivatives, butadiene derivatives, enamine derivatives, and those in which a plurality of types of these compounds are bound are preferable. These charge transport materials may be used alone or in combination of several. Specific examples of suitable structures of the charge transport material are shown below.

Figure 0006953694
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上記の電荷輸送物質のうち、好ましくは、HTM6、HTM10、HTM25、HTM26、HTM29、HTM31、HTM32、HTM33、HTM34、HTM35、HTM37、HTM39、HTM40、HTM41、HTM42、HTM43及びHTM44からなる群から選ばれる少なくとも1種であり、より好ましくは、HTM6、HTM26、HTM29、HTM34、HTM39、HTM40、HTM41、HTM42、HTM43及びHTM44からなる群から選ばれる少なくとも1種である。上記の電荷輸送物質であれば、本発明のポリエステル樹脂を用いた場合においても良好な電気特性を得られるため好ましい。 Among the above charge transporting substances, preferably selected from the group consisting of HTM6, HTM10, HTM25, HTM26, HTM29, HTM31, HTM32, HTM33, HTM34, HTM35, HTM37, HTM39, HTM40, HTM41, HTM42, HTM43 and HTM44. It is at least one kind, and more preferably at least one kind selected from the group consisting of HTM6, HTM26, HTM29, HTM34, HTM39, HTM40, HTM41, HTM42, HTM43 and HTM44. The above-mentioned charge-transporting substance is preferable because good electrical characteristics can be obtained even when the polyester resin of the present invention is used.

前記ポリカーボネート樹脂は、電荷輸送層のバインダー樹脂として用いられることが好ましい。前記バインダー樹脂は、前記ポリカーボネート樹脂とその他の構造を有する樹脂を混合してもよく、他の樹脂としては、前記感光層において混合される他の構造を有する樹脂に記載したものが挙げられる。
前記ポリカーボネート樹脂と電荷輸送物質との割合は、ポリカーボネート樹脂100質量部に対して電荷輸送物質を30質量部以上の比率で使用する。電気特性の観点から、好ましくは40質量部以上である。耐摩耗性の観点から、200質量部以下、好ましくは150質量部以下である。
The polycarbonate resin is preferably used as a binder resin for the charge transport layer. The binder resin may be a mixture of the polycarbonate resin and a resin having another structure, and examples of the other resin include those described in the resin having another structure mixed in the photosensitive layer.
As for the ratio of the polycarbonate resin to the charge transporting substance, the charge transporting substance is used at a ratio of 30 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the polycarbonate resin. From the viewpoint of electrical characteristics, it is preferably 40 parts by mass or more. From the viewpoint of wear resistance, it is 200 parts by mass or less, preferably 150 parts by mass or less.

バインダー樹脂全体と電荷輸送物質との割合としては、通常同一層中のバインダー樹脂100質量部に対して電荷輸送物質を10質量部以上の比率で使用する。中でも、残留電位低減の観点から20質量部以上が好ましく、繰返し使用した際の安定性や電荷移動度の観点から30質量部以上がより好ましい。一方、通常電荷輸送物質を150質量部以下、感光層の熱安定性の観点から120質量部以下の比率で使用する。中でも、電荷輸送物質とバインダー樹脂との相溶性の観点から100質量部以下が好ましく、耐摩耗性の観点から80質量部以下がより好ましく、耐傷性の観点から70質量部以下が特に好ましい。 As the ratio of the entire binder resin to the charge transporting substance, the charge transporting substance is usually used at a ratio of 10 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the binder resin in the same layer. Above all, 20 parts by mass or more is preferable from the viewpoint of reducing the residual potential, and 30 parts by mass or more is more preferable from the viewpoint of stability and charge mobility during repeated use. On the other hand, usually, the charge transporting substance is used in a ratio of 150 parts by mass or less and 120 parts by mass or less from the viewpoint of thermal stability of the photosensitive layer. Among them, 100 parts by mass or less is preferable from the viewpoint of compatibility between the charge transport substance and the binder resin, 80 parts by mass or less is more preferable from the viewpoint of abrasion resistance, and 70 parts by mass or less is particularly preferable from the viewpoint of scratch resistance.

尚、電荷輸送層には成膜性、可撓性、塗布性、耐汚染性、耐ガス性、耐光性等を向上さ
せるために周知の可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、電子吸引性化合物、染料、顔料、レベリング剤等の添加剤を含有させてもよい。可塑剤の例としては、炭化水素化合物、エステル化合物、エーテル化合物、チオエーテル化合物等が挙げられる。電気特性の観点から、炭化水素化合物、エステル化合物、エーテル化合物が好ましく、炭化水素化合物、エーテル化合物がより好ましい。可塑剤は、バインダー樹脂へ相溶性の観点から、芳香族基を有することが好ましい。
The charge transport layer has a well-known plasticizer, antioxidant, ultraviolet absorber, and electron attraction in order to improve film forming property, flexibility, coating property, stain resistance, gas resistance, light resistance, and the like. Additives such as compounds, dyes, pigments and leveling agents may be included. Examples of plasticizers include hydrocarbon compounds, ester compounds, ether compounds, thioether compounds and the like. From the viewpoint of electrical properties, hydrocarbon compounds, ester compounds and ether compounds are preferable, and hydrocarbon compounds and ether compounds are more preferable. The plasticizer preferably has an aromatic group from the viewpoint of compatibility with the binder resin.

可塑剤の分子量は、150以上が好ましく、170以上がより好ましく、200以上がさらに好ましく、一方、400以下が好ましく、380以下がより好ましく、350以下がさらに好ましい。上記範囲内の分子量とすることで、成膜/乾燥時における昇華を抑えつつ、バインダー樹脂と馴染むことにより耐クラック性や耐ガス性を向上させることが可能となる。 The molecular weight of the plasticizer is preferably 150 or more, more preferably 170 or more, further preferably 200 or more, while preferably 400 or less, more preferably 380 or less, still more preferably 350 or less. By setting the molecular weight within the above range, it is possible to improve crack resistance and gas resistance by blending with the binder resin while suppressing sublimation during film formation / drying.

これらの可塑剤は単独で用いてもよいし、いくつかを混合してもよい。可塑剤の好適な構造の具体例を以下に表す。 These plasticizers may be used alone or in combination of several. Specific examples of suitable structures of the plasticizer are shown below.

Figure 0006953694
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これらの可塑剤の中でも、好ましくはAD−2、AD−4、AD−5、AD−6、AD−8、AD−10、AD−11、AD−13であり、より好ましくは、AD−2、AD−6、AD−8、AD−10、AD−11、AD−13である。上記の可塑剤であれば、電気特性を悪化させることなく、耐ガス性や耐クラック性を向上させることができる。
酸化防止剤の例としては、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、トリアルキルアミン、ジアルキルアリールアミン等が挙げられる。また染料、顔料の例としては、各種の色素化合物、アゾ化合物等が挙げられる。
Among these plasticizers, AD-2, AD-4, AD-5, AD-6, AD-8, AD-10, AD-11, and AD-13 are preferable, and AD-2 is more preferable. , AD-6, AD-8, AD-10, AD-11, AD-13. With the above-mentioned plasticizer, gas resistance and crack resistance can be improved without deteriorating the electrical characteristics.
Examples of the antioxidant include hindered phenol compounds, hindered amine compounds, trialkylamines, dialkylarylamines and the like. Examples of dyes and pigments include various dye compounds and azo compounds.

酸化防止剤の例としては、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、トリアルキルアミン、ジアルキルアリールアミン、チオエーテル化合物等が挙げられる。電気特性の観点からヒンダードフェノール化合物、トリアルキルアミンが好ましい。
これらの酸化防止剤は単独で用いてもよいし、いくつかを混合してもよい。酸化防止剤の好適な構造の具体例を以下に表す。
Examples of antioxidants include hindered phenol compounds, hindered amine compounds, trialkylamines, dialkylarylamines, thioether compounds and the like. From the viewpoint of electrical characteristics, hindered phenol compounds and trialkylamines are preferable.
These antioxidants may be used alone or in combination of several. Specific examples of suitable structures of antioxidants are shown below.

Figure 0006953694
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これらの酸化防止剤の中でも、好ましくはAO−1、AO−2、AO−3、AO−6、AO−7、AO−8であり、より好ましくは、AO−1、AO−2、AO−3、AO−7である。上記の酸化防止剤であれば、繰返し使用時においても電気特性を悪化させることなく、酸化防止機能を保持することができる。
染料、顔料の例としては、各種の色素化合物、アゾ化合物等が挙げられる。
Among these antioxidants, AO-1, AO-2, AO-3, AO-6, AO-7, AO-8 are preferable, and AO-1, AO-2, AO- are more preferable. 3, AO-7. With the above-mentioned antioxidant, the antioxidant function can be maintained without deteriorating the electrical characteristics even after repeated use.
Examples of dyes and pigments include various dye compounds and azo compounds.

電荷輸送層には、感光体表面の摩擦抵抗や、摩耗を低減、トナーの感光体から転写ベルト、紙への転写効率を高める等の目的で、アルミナ、シリカ等の無機粒子、フッ素樹脂粒子、シリコーン粒子、ポリエチレン粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋(メタ)アクリレート粒子等の有機粒子等を含有させてもよい。 The charge transport layer includes inorganic particles such as alumina and silica, and fluororesin particles for the purpose of reducing frictional resistance and abrasion on the surface of the photoconductor and increasing the transfer efficiency of toner from the photoconductor to the transfer belt and paper. Organic particles such as silicone particles, polyethylene particles, crosslinked polystyrene particles, and crosslinked (meth) acrylate particles may be contained.

<単層型感光層>
単層型感光層は、電荷発生物質と電荷輸送物質に加えて、積層型感光体の電荷輸送層と同様に、膜強度確保のためにバインダー樹脂を使用して形成する。具体的には、電荷発生物質と電荷輸送物質と各種バインダー樹脂とを溶剤に溶解又は分散して塗布液を作製し、導電性支持体上(下引き層を設ける場合は下引き層上)に塗布、乾燥して得ることができる。
<Single layer type photosensitive layer>
The single-layer type photosensitive layer is formed by using a binder resin in order to secure the film strength, similarly to the charge transport layer of the laminated photoconductor, in addition to the charge generating substance and the charge transporting substance. Specifically, a charge generating substance, a charge transporting substance, and various binder resins are dissolved or dispersed in a solvent to prepare a coating liquid, which is placed on a conductive support (on the undercoat layer when an undercoat layer is provided). It can be obtained by coating and drying.

電荷輸送物質及びバインダー樹脂の種類並びにこれらの使用比率は、積層型感光体の電荷輸送層について説明したものと同様である。これらの電荷輸送物質及びバインダー樹脂からなる電荷輸送媒体中に、さらに電荷発生物質が分散される。
電荷発生物質は、積層型感光体の電荷発生層について説明したものと同様のものが使用できる。但し、単層型感光体の感光層の場合、電荷発生物質の粒子径を充分に小さくする必要がある。具体的には、通常1μm以下、好ましくは0.5μm以下の範囲とする。
The types of the charge-transporting substance and the binder resin and the ratio of their use are the same as those described for the charge-transporting layer of the laminated photoconductor. The charge generating substance is further dispersed in the charge transporting medium composed of these charge transporting substances and the binder resin.
As the charge generating substance, a substance similar to that described for the charge generating layer of the laminated photoconductor can be used. However, in the case of the photosensitive layer of the single-layer type photoconductor, it is necessary to sufficiently reduce the particle size of the charge generating substance. Specifically, the range is usually 1 μm or less, preferably 0.5 μm or less.

単層型感光層内に分散される電荷発生物質の量は、少な過ぎると充分な感度が得られな
い一方で、多過ぎると帯電性の低下、感度の低下等の弊害があることから、単層型感光層全体に対して通常0.5質量%以上、好ましくは1質量%以上、また、通常50質量%以下、好ましくは20質量%以下の範囲で使用される。
また、単層型感光層におけるバインダー樹脂と電荷発生物質との使用比率は、バインダー樹脂100質量部に対して電荷発生物質が通常0.1質量部以上、好ましくは1質量部以上、また、通常30質量部以下、好ましくは10質量部以下である。
If the amount of the charge generating substance dispersed in the single-layer photosensitive layer is too small, sufficient sensitivity cannot be obtained, but if it is too large, there are adverse effects such as a decrease in chargeability and a decrease in sensitivity. It is usually used in the range of 0.5% by mass or more, preferably 1% by mass or more, and usually 50% by mass or less, preferably 20% by mass or less with respect to the entire layered photosensitive layer.
The ratio of the binder resin to the charge generating substance in the single-layer photosensitive layer is such that the charge generating substance is usually 0.1 part by mass or more, preferably 1 part by mass or more, and usually 100 parts by mass of the binder resin. It is 30 parts by mass or less, preferably 10 parts by mass or less.

単層型感光層の膜厚は、通常5μm以上、好ましくは10μm以上、また、通常100μm以下、好ましくは50μm以下の範囲である。この場合にも成膜性、可とう性、機械的強度等を改良するための公知の可塑剤、残留電位を抑制するための添加剤、分散安定性向上のための分散補助剤、塗布性を改善するためのレベリング剤、界面活性剤、例えばシリコ−ンオイル、フッ素系オイルその他の添加剤が添加されていてもよい。 The film thickness of the single-layer photosensitive layer is usually in the range of 5 μm or more, preferably 10 μm or more, and usually 100 μm or less, preferably 50 μm or less. In this case as well, known plasticizers for improving film formation property, flexibility, mechanical strength, etc., additives for suppressing residual potential, dispersion aids for improving dispersion stability, and coatability are used. Leveling agents, surfactants, for example, plasticizer oils, fluorine-based oils and other additives for improvement may be added.

<その他の機能層>
積層型感光体、単層型感光体ともに、感光層又はそれを構成する各層には、成膜性、可撓性、塗布性、耐汚染性、耐ガス性、耐光性等を向上させる目的で、周知の酸化防止剤、可塑剤、紫外線吸収剤、電子吸引性化合物、レベリング剤、可視光遮光剤等の添加物を含有させてもよい。また、感光体表面の摩擦抵抗や、摩耗を低減、トナーの感光体から転写ベルト、紙への転写効率を高める等の目的で、表面層にフッ素系樹脂、シリコン樹脂、ポリエチレン樹脂等、又はこれらの樹脂からなる粒子や無機化合物の粒子を、表面層に含有させてもよい。或いは、これらの樹脂や粒子を含む層を新たに表面層として形成してもよい。さらに必要に応じて、バリアー層、接着層、ブロッキング層等の中間層、透明絶縁層等、電気特性、機械特性の改良のための層を有していてもよい。
<Other functional layers>
For both the laminated photoconductor and the single-layer photoconductor, the photosensitive layer or each layer constituting the photosensitive layer is provided with the purpose of improving film forming property, flexibility, coating property, stain resistance, gas resistance, light resistance, etc. , Well-known antioxidants, plasticizers, ultraviolet absorbers, electron-withdrawing compounds, leveling agents, visible light shading agents and the like may be contained. In addition, for the purpose of reducing frictional resistance and wear on the surface of the photoconductor, and increasing the efficiency of transfer of toner from the photoconductor to the transfer belt and paper, a fluororesin, silicon resin, polyethylene resin, etc., or these are used on the surface layer. The surface layer may contain particles made of the above resin or particles of an inorganic compound. Alternatively, a layer containing these resins and particles may be newly formed as a surface layer. Further, if necessary, a barrier layer, an adhesive layer, an intermediate layer such as a blocking layer, a transparent insulating layer, or the like may have a layer for improving electrical characteristics and mechanical characteristics.

<各層の形成方法>
これらの感光体を構成する各層は、含有させる物質を溶剤に溶解又は分散させて得られた塗布液を、支持体上に浸漬塗布、スプレー塗布、ノズル塗布、バーコート、ロールコート、ブレード塗布等の公知の方法により、各層ごとに順次塗布・乾燥工程を繰り返すことにより形成される。
<Formation method of each layer>
For each layer constituting these photoconductors, a coating liquid obtained by dissolving or dispersing a substance to be contained in a solvent is dipped-coated, spray-coated, nozzle-coated, bar-coated, roll-coated, blade-coated, etc. on a support. It is formed by sequentially repeating the coating and drying steps for each layer by the known method of.

塗布液の作製に用いられる溶媒又は分散媒に特に制限は無いが、具体例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、2−メトキシエタノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル類、ギ酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、1,1,2−トリクロロエタン、1,1,1−トリクロロエタン、テトラクロロエタン、1,2−ジクロロプロパン、トリクロロエチレン等の塩素化炭化水素類、n−ブチルアミン、イソプロパノールアミン、ジエチルアミン、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、トリエチレンジアミン等の含窒素化合物類、アセトニトリル、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶剤類等が挙げられる。これらの溶剤の中で、環境配慮の観点から非ハロゲン系溶剤が好ましく、溶解性の観点から、トルエン、キシレン、アニソール、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンが特に好ましい。これらは何れか1種を単独で用いても良く、2種以上を併用して用いてもよい。 The solvent or dispersion medium used to prepare the coating liquid is not particularly limited, and specific examples thereof include alcohols such as methanol, ethanol, propanol and 2-methoxyethanol, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, dimethoxyethane and the like. Ethers, esters such as methyl formate, ethyl acetate, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, 1,1, Chlorinated hydrocarbons such as 2-trichloroethane, 1,1,1-trichloroethane, tetrachloroethane, 1,2-dichloropropane, trichloroethylene, n-butylamine, isopropanolamine, diethylamine, triethanolamine, ethylenediamine, triethylenediamine, etc. Examples thereof include nitrogen-containing compounds, aprotonic polar solvents such as acetonitrile, N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, and dimethylsulfoxide. Among these solvents, non-halogen solvents are preferable from the viewpoint of environmental consideration, and toluene, xylene, anisole, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and 1,4-dioxane are particularly preferable from the viewpoint of solubility. Any one of these may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

溶媒又は分散媒の使用量は特に制限されないが、各層の目的や選択した溶媒・分散媒の性質を考慮して、塗布液の固形分濃度や粘度等の物性が所望の範囲となるように適宜調整するのが好ましい。
例えば、単層型感光体、及び機能分離型感光体の電荷輸送層層の場合には、塗布液の固形分濃度を通常5質量%以上、通常5質量%以上、好ましくは10質量%以上、また、通
常40質量%以下、好ましくは35質量%以下の範囲とする。また、塗布液の粘度を通常10cps以上、好ましくは50cps以上、また、通常500cps以下、好ましくは400cps以下の範囲とする。
The amount of the solvent or the dispersion medium used is not particularly limited, but the physical properties such as the solid content concentration and the viscosity of the coating liquid are appropriately within a desired range in consideration of the purpose of each layer and the properties of the selected solvent / dispersion medium. It is preferable to adjust.
For example, in the case of a single-layer type photoconductor and a charge transport layer of a function-separated photoconductor, the solid content concentration of the coating liquid is usually 5% by mass or more, usually 5% by mass or more, preferably 10% by mass or more. Further, it is usually in the range of 40% by mass or less, preferably 35% by mass or less. The viscosity of the coating liquid is usually in the range of 10 cps or more, preferably 50 cps or more, and usually 500 cps or less, preferably 400 cps or less.

また、積層型感光体の電荷発生層の場合には、塗布液の固形分濃度は、通常0.1質量%以上、好ましくは1質量%以上、また、通常15質量%以下、好ましくは10質量%以下の範囲とする。また、塗布液の粘度は、通常0.01cps以上、好ましくは0.1cps以上、また、通常20cps以下、好ましくは10cps以下の範囲とする。
塗布液の塗布方法としては、浸漬コーティング法、スプレーコーティング法、スピナーコーティング法、ビードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、ブレードコーティング法、ローラーコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等が挙げられるが、他の公知のコーティング法を用いることも可能である。
塗布液の乾燥は、室温における指触乾燥後、通常30℃以上、200℃以下の温度範囲で、1分から2時間の間、静止又は送風下で加熱乾燥させることが好ましい。また、加熱温度は一定であってもよく、乾燥時に温度を変更させながら加熱を行なってもよい。
In the case of the charge generation layer of the laminated photoconductor, the solid content concentration of the coating liquid is usually 0.1% by mass or more, preferably 1% by mass or more, and usually 15% by mass or less, preferably 10% by mass. The range is% or less. The viscosity of the coating liquid is usually 0.01 cps or more, preferably 0.1 cps or more, and usually 20 cps or less, preferably 10 cps or less.
Examples of the coating method of the coating liquid include a dip coating method, a spray coating method, a spinner coating method, a bead coating method, a wire bar coating method, a blade coating method, a roller coating method, an air knife coating method, a curtain coating method and the like. , Other known coating methods can also be used.
The coating liquid is preferably dried by touch at room temperature and then heated and dried at rest or in a blast for 1 minute to 2 hours in a temperature range of 30 ° C. or higher and 200 ° C. or lower. Further, the heating temperature may be constant, and heating may be performed while changing the temperature during drying.

<画像形成装置>
次に、本発明の電子写真感光体を用いた画像形成装置(本発明の画像形成装置)の実施の形態について、装置の要部構成を表す図1を用いて説明する。但し、実施の形態は以下の説明に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない限り任意に変形して実施することができる。
<Image forming device>
Next, an embodiment of an image forming apparatus (image forming apparatus of the present invention) using the electrophotographic photosensitive member of the present invention will be described with reference to FIG. 1 showing a main configuration of the apparatus. However, the embodiment is not limited to the following description, and can be arbitrarily modified and implemented as long as it does not deviate from the gist of the present invention.

図1に表すように、画像形成装置は、電子写真感光体1,帯電装置2,露光装置3及び現像装置4を備えて構成され、更に、必要に応じて転写装置5,クリーニング装置6及び定着装置7が設けられる。
電子写真感光体1は、上述した本発明の電子写真感光体であれば特に制限はないが、図1ではその一例として、円筒状の導電性支持体の表面に上述した感光層を形成したドラム状の感光体を示している。この電子写真感光体1の外周面に沿って、帯電装置2,露光装置3,現像装置4,転写装置5及びクリーニング装置6がそれぞれ配置されている。
As shown in FIG. 1, the image forming apparatus includes an electrophotographic photosensitive member 1, a charging apparatus 2, an exposure apparatus 3, and a developing apparatus 4, and further, if necessary, a transfer apparatus 5, a cleaning apparatus 6, and a fixing apparatus 4. The device 7 is provided.
The electrophotographic photosensitive member 1 is not particularly limited as long as it is the above-mentioned electrophotographic photosensitive member of the present invention, but as an example in FIG. 1, a drum having the above-mentioned photosensitive layer formed on the surface of a cylindrical conductive support. The shape of the photoconductor is shown. A charging device 2, an exposure device 3, a developing device 4, a transfer device 5, and a cleaning device 6 are arranged along the outer peripheral surface of the electrophotographic photosensitive member 1, respectively.

なお、電子写真感光体1を、帯電装置2、露光装置3、現像装置4、転写装置5、クリーニング装置6、及び定着装置7のうち1つ又は2つ以上と組み合わせて、一体型のカートリッジ(以下適宜「電子写真感光体カートリッジ」という)として構成し、この電子写真感光体カートリッジを複写機やレーザービームプリンタ等の電子写真装置本体に対して着脱可能な構成にしてもよい。この場合、例えば電子写真感光体1やその他の部材が劣化した場合に、この電子写真感光体カートリッジを画像形成装置本体から取り外し、別の新しい電子写真感光体カートリッジを画像形成装置本体に装着することにより、画像形成装置の保守・管理が容易となる。 In addition, the electrophotographic photosensitive member 1 is combined with one or two or more of the charging device 2, the exposure device 3, the developing device 4, the transfer device 5, the cleaning device 6, and the fixing device 7, and an integrated cartridge ( Hereinafter, it may be appropriately configured as an “electrophotographic photosensitive member cartridge”), and the electrophotographic photosensitive member cartridge may be configured to be removable from the main body of an electrophotographic apparatus such as a copying machine or a laser beam printer. In this case, for example, when the electrophotographic photosensitive member 1 or other members deteriorate, the electrophotographic photosensitive member cartridge is removed from the image forming apparatus main body, and another new electrophotographic photosensitive member cartridge is attached to the image forming apparatus main body. This facilitates maintenance and management of the image forming apparatus.

以下に、本発明の具体的態様を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、これらの実施例によって限定されるものではない。 Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples as long as the gist of the present invention is not exceeded.

[オリゴマーの製造]
<製造例1> オリゴマー溶液1の調製
窒素雰囲気下、攪拌しながら溶解槽に、脱塩水(27.75kg)、25質量%水酸化ナトリウム水溶液(3.58kg)、ハイドロサルファイトナトリウム(2.26g)、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン(2.0kg)を加え、均一に溶解させた(以後アルカリ溶液と呼ぶ)。段差をつけた3つの反応槽(1.8L、1.8L、4.5Lの内容積を持つ各反応槽)を備えた連続流れ撹拌槽反応容器(CSTR反応
容器、continuous-flow stirred tank reactor)に、以下の条件となるように連続添加し、所定時間反応を行った。反応後の液体を静置し、有機相と水相とに分離させ、有機相であるオリゴマー溶液1を得た。
[Manufacturing of oligomers]
<Production Example 1> Preparation of oligomer solution 1 Under a nitrogen atmosphere, in a dissolution tank with stirring, desalinated water (27.75 kg), 25 mass% sodium hydroxide aqueous solution (3.58 kg), hydrosulfite sodium (2.26 g). ), 1,1-Bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane (2.0 kg) was added and uniformly dissolved (hereinafter referred to as an alkaline solution). Continuous-flow stirred tank reactor (CSTR reaction vessel, continuous-flow stirred tank reactor) equipped with three stepped reaction tanks (each reaction tank with internal volumes of 1.8L, 1.8L, and 4.5L). Was continuously added under the following conditions, and the reaction was carried out for a predetermined time. The liquid after the reaction was allowed to stand and separated into an organic phase and an aqueous phase to obtain an oligomer solution 1 which is an organic phase.

第1反応槽(内部温度35℃)
・上記アルカリ水溶液(8835ml/時)
・ジクロロメタン(2276mL/時)
・ガス状ホスゲン(6.4g/分)
第2反応槽(内部温度30℃)
・16質量%p−tert−ブチルフェノールのジクロロメタン溶液(17.3ml/時)
上記オリゴマー溶液1の分析値は以下の通りである。
・オリゴマー濃度(蒸発乾固させて測定):22.5質量%
・末端クロロホルメート基濃度(オリゴマー溶液をジクロロメタンで希釈した後、アニリンと純水を添加し、フェノールフタレインを指示薬として、0.2規定水酸化ナトリウム水溶液で滴定し測定した):0.44規定
・末端フェノール性水酸基濃度(オリゴマー溶液をジクロロメタンで希釈した後、四塩化チタン、酢酸溶液を加え発色させ、分光光度計を用い、546nmの波長で吸光度を測定した):0.01規定以下
First reaction tank (internal temperature 35 ° C)
-The above alkaline aqueous solution (8835 ml / hour)
Dichloromethane (2276 mL / hour)
・ Gaseous phosgene (6.4 g / min)
Second reaction tank (internal temperature 30 ° C)
16 mass% p-tert-butylphenol in dichloromethane (17.3 ml / hour)
The analytical values of the oligomer solution 1 are as follows.
-Oligomer concentration (measured by evaporating to dryness): 22.5% by mass
-Terminal chloroformate group concentration (measured by diluting the oligomer solution with dichloromethane, adding aniline and pure water, and titrating with a 0.2N aqueous sodium hydroxide solution using phenolphthalein as an indicator): 0.44 Specified ・ Terminal phenolic hydroxyl group concentration (after diluting the oligomer solution with dichloromethane, titanium tetrachloride and acetic acid solution were added to develop color, and the absorbance was measured at a wavelength of 546 nm using a spectrophotometer): 0.01 Specified or less

製造例2(ポリカーボネート樹脂(1)の製造)
窒素置換した500mL4つ口反応容器に製造例1で製造したオリゴマー溶液1(302.57g)、4―ヒドロキシ安息香酸4―ヒドロキシフェニル(9.66g)およびジクロロメタン(100ml)を秤取り、攪拌させた。続いて、トリエチルアミン(8.49g)とジクロロメタン(50mL)との混合溶液を5〜15℃へ冷却した反応容器内へ20分かけて滴下した。30分撹拌を続けた後、ジクロロメタン(80ml)で希釈し、続いて0.2規定塩酸水溶液(380mL)にて酸洗浄を2回行い、さらに、脱塩水(380mL)にて洗浄を行った。
Production Example 2 (Production of Polycarbonate Resin (1))
Oligomer solution 1 (302.57 g), 4-hydroxybenzoic acid 4-hydroxyphenyl (9.66 g) and dichloromethane (100 ml) prepared in Production Example 1 were weighed and stirred in a nitrogen-substituted 500 mL 4-port reaction vessel. .. Subsequently, a mixed solution of triethylamine (8.49 g) and dichloromethane (50 mL) was added dropwise to a reaction vessel cooled to 5 to 15 ° C. over 20 minutes. After continuing stirring for 30 minutes, the mixture was diluted with dichloromethane (80 ml), followed by acid washing twice with 0.2N hydrochloric acid aqueous solution (380 mL), and further washing with demineralized water (380 mL).

別途、水酸化ナトリウム(3.54g)を脱塩水(380ml)に溶解させたアルカリ水溶液を2000mL反応容器に移送し、トリエチルアミン(0.15g)を添加した。反応容器の外温を14℃に保持し、攪拌しているところへ、上記ジクロロメタン溶液を添加した。1時間撹拌を行った後、ジクロロメタン(190mL)で希釈を実施し、その後2時間撹拌を続け、ジクロロメタン(150mL)で再度希釈を行った。撹拌を停止し30分間静置した後に有機層を分離した。この有機層を0.1規定塩酸(680mL)にて洗浄を3回行い、さらに、脱塩水(680mL)にて洗浄を2回行った。 Separately, an alkaline aqueous solution prepared by dissolving sodium hydroxide (3.54 g) in desalinated water (380 ml) was transferred to a 2000 mL reaction vessel, and triethylamine (0.15 g) was added. The above dichloromethane solution was added to the place where the outside temperature of the reaction vessel was maintained at 14 ° C. and the mixture was stirred. After stirring for 1 hour, dilution was carried out with dichloromethane (190 mL), then stirring was continued for 2 hours, and dilution was carried out again with dichloromethane (150 mL). The organic layer was separated after the stirring was stopped and the mixture was allowed to stand for 30 minutes. The organic layer was washed with 0.1N hydrochloric acid (680 mL) three times, and further washed with demineralized water (680 mL) twice.

洗浄後の有機層にジクロロメタン(650ml)を加えて希釈し、メタノール(8000ml)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥して目的のポリカーボネート樹脂(1)を得た。得られたポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量(Mv)は54,300であった。 Dichloromethane (650 ml) was added to the washed organic layer to dilute it, and the precipitate obtained by pouring into methanol (8000 ml) was taken out by filtration and dried to obtain the desired polycarbonate resin (1). The viscosity average molecular weight (Mv) of the obtained polycarbonate resin was 54,300.

Figure 0006953694
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[粘度平均分子量(Mv)の測定]
ポリエステル樹脂をジクロロメタンに溶解し濃度Cが6.00g/Lの溶液を調製した。溶媒(ジクロロメタン)の流下時間t0が136.16秒のウベローデ型毛細管粘度計
を用いて、20.0℃に設定した恒温水槽中で試料溶液の流下時間tを測定した。以下の式に従って粘度平均分子量(Mv)を算出した。
a=0.438×ηsp+1 ηsp=t/t0−1
b=100×ηsp/C C=6.00(g/L)
η=b/a
Mv=3207×η1.205
[Measurement of viscosity average molecular weight (Mv)]
A polyester resin was dissolved in dichloromethane to prepare a solution having a concentration C of 6.00 g / L. The flow time t of the sample solution was measured in a constant temperature water bath set at 20.0 ° C. using an Ubbelohde type capillary viscometer having a solvent (dichloromethane) flow time t 0 of 136.16 seconds. The viscosity average molecular weight (Mv) was calculated according to the following formula.
a = 0.438 × η sp +1 η sp = t / t 0 -1
b = 100 × η sp / CC = 6.00 (g / L)
η = b / a
Mv = 3207 × η 1.205

<感光体シートの作製>
[実施例1]
10質量部のオキシチタニウムフタロシアニンと、150質量部の4−メトキシ−4−メチル−2−ペンタノンとを混合し、サンドグラインドミルにて粉砕分散処理を行い顔料分散液を製造した。尚、オキシチタニウムフタロシアニンは、CuKα線によるX線回折においてブラッグ角(2θ±0.2)9.3゜、10.6゜、13.2゜、15.1゜、15.7゜、16.1゜、20.8゜、23.3゜、26.3゜、27.1゜に強い回折ピークを表す。
<Preparation of photoconductor sheet>
[Example 1]
10 parts by mass of oxytitanium phthalocyanine and 150 parts by mass of 4-methoxy-4-methyl-2-pentanone were mixed and subjected to pulverization and dispersion treatment with a sand grind mill to produce a pigment dispersion liquid. Oxytitanium phthalocyanine has a Bragg angle (2θ ± 0.2) of 9.3 °, 10.6 °, 13.2 °, 15.1 °, 15.7 °, 16. It shows strong diffraction peaks at 1 °, 20.8 °, 23.3 °, 26.3 °, and 27.1 °.

この顔料分散液に、ポリビニルブチラール(電気化学工業株式会社製、商品名デンカブチラール♯6000C)の5質量%1,2−ジメトキシエタン溶液を50質量部、フェノキシ樹脂(ユニオンカーバイド株式会社製、商品名PKHH)の5質量%1,2−ジメトキシエタン溶液を50質量部混合し、更に、1,2−ジメトキシエタンを加え、固形分濃度4.0%の電荷発生層形成用塗布液を調製した。この電荷発生層形成用塗布液を、表面にアルミ蒸着したポリエチレンテレフタレートシート上に、乾燥後の膜厚が0.4μmになるように塗布、乾燥して電荷発生層を設けた。 To this pigment dispersion, 50 parts by mass of a 5 mass% 1,2-dimethoxyethane solution of polyvinyl butyral (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., trade name Denka Butyral # 6000C), phenoxy resin (manufactured by Union Carbide Co., Ltd., trade name) 50 parts by mass of a 5 mass% 1,2-dimethoxyethane solution of PKHH) was mixed, and 1,2-dimethoxyethane was further added to prepare a coating solution for forming a charge generation layer having a solid content concentration of 4.0%. This coating liquid for forming a charge generating layer was applied onto a polyethylene terephthalate sheet on which aluminum was vapor-deposited on the surface so that the film thickness after drying was 0.4 μm, and dried to provide a charge generating layer.

次に、電荷輸送物質として、下記に表す構造を主成分とする、幾何異性体の化合物群からなる、特開2002−080432号公報の実施例1に記載の方法で製造した混合物(HTM39)を50質量部、製造例2で製造したポリカーボネート樹脂(1)を100質量部、酸化防止剤(AO−2、商品名イルガノックス1076)8質量部、レベリング剤としてシリコーンオイル0.05質量部を、テトラヒドロフランとトルエンとの混合溶媒(テトラヒドロフラン80質量%、トルエン20質量%)640質量部に混合し、電荷輸送層形成用塗布液を調製した。 Next, as the charge transporting substance, a mixture (HTM39) produced by the method described in Example 1 of JP-A-2002-08432, which comprises a group of geometric isomer compounds having the structure shown below as a main component, is prepared. 50 parts by mass, 100 parts by mass of the polycarbonate resin (1) produced in Production Example 2, 8 parts by mass of an antioxidant (AO-2, trade name Irganox 1076), 0.05 parts by mass of silicone oil as a leveling agent. A coating solution for forming a charge transport layer was prepared by mixing with 640 parts by mass of a mixed solvent of tetrahydrofuran and toluene (80% by mass of tetrahydrofuran, 20% by mass of toluene).

Figure 0006953694
Figure 0006953694

この電荷輸送層形成用塗布液を上述の電荷発生層上に、乾燥後の膜厚が25μmとなるようにアプリケーターを用いて塗布し、125℃で20分間乾燥して電荷輸送層を形成して、感光体シートを作製した。 This coating liquid for forming a charge transport layer is applied onto the above-mentioned charge generation layer using an applicator so that the film thickness after drying is 25 μm, and dried at 125 ° C. for 20 minutes to form a charge transport layer. , A photoconductor sheet was prepared.

[比較例1]
ポリカーボネート樹脂(1)を下記に示すポリカーボネート樹脂(2)(粘度平均分子量40,000)に変えた以外は実施例1と同様にして、感光体シートを作製した。
[Comparative Example 1]
A photoconductor sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that the polycarbonate resin (1) was changed to the polycarbonate resin (2) (viscosity average molecular weight 40,000) shown below.

Figure 0006953694
Figure 0006953694

[比較例2]
ポリカーボネート樹脂(1)を下記に示すポリカーボネート樹脂(3)(粘度平均分子量52,000)に変えた以外は実施例1と同様にして、感光体シートを作製した。
[Comparative Example 2]
A photoconductor sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that the polycarbonate resin (1) was changed to the polycarbonate resin (3) (viscosity average molecular weight 52,000) shown below.

Figure 0006953694
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[電気特性評価]
電子写真学会測定標準に従って作製された電子写真特性評価装置(続電子写真技術の基礎と応用、電子写真学会編、コロナ社、404−405頁記載)を使用し、上記感光体をアルミニウム製ドラムに貼り付けて円筒状にし、アルミニウム製ドラムと感光体のアルミニウム基体との導通を取った上で、ドラムを一定回転数で回転させ、帯電、露光、電位測定、除電のサイクルによる電気特性評価試験を行った。その際、初期表面電位を−700
Vとし、露光は780nm、除電は660nmの単色光を用い、露光光を2.4μJ/cm照射した時点の表面電位(VL)を測定した。VL測定に際しては、露光から電位測定に要する時間を139msとした。また、表面電位が初期表面電位の半分(−350V)となる時の照射エネルギー(半減露光エネルギー:μJ/cm2)を感度(E1/2)として
測定した。VLの値の絶対値が小さいほど電気特性が良好であることを示し、E1/2の値が小さいほど高感度であることを表す。測定環境は、温度25℃、相対湿度50%下(N/N)で行った。結果を表−1に表す。
[Evaluation of electrical characteristics]
Using an electrophotographic property evaluation device manufactured according to the measurement standards of the Electrophotographic Society (continued: Basics and Applications of Electrophotographic Technology, edited by the Electrophotographic Society, Corona, pp. 404-405), the photoconductor was placed on an aluminum drum. After affixing it into a cylindrical shape and establishing continuity between the aluminum drum and the aluminum substrate of the photoconductor, the drum is rotated at a constant rotation speed, and an electrical characteristic evaluation test is performed by a cycle of charging, exposure, potential measurement, and static elimination. went. At that time, the initial surface potential is set to -700.
The surface potential (VL) at the time of irradiation with exposure light of 2.4 μJ / cm 2 was measured using monochromatic light of 780 nm for exposure and 660 nm for static elimination. In the VL measurement, the time required from the exposure to the potential measurement was set to 139 ms. Further, the irradiation energy (half exposure energy: μJ / cm 2 ) when the surface potential became half of the initial surface potential (-350 V) was measured as the sensitivity (E 1/2). The smaller the absolute value of the VL value, the better the electrical characteristics, and the smaller the value of E 1/2 , the higher the sensitivity. The measurement environment was performed at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 50% (N / N). The results are shown in Table-1.

[摩耗試験]
感光体フィルムを直径10cmの円状に切断しテーバー摩耗試験機(東洋精機社製)により、摩耗評価を行った。試験条件は、25℃、50%RHの雰囲気下、摩耗輪CS−10Fを用いて、荷重500gで1000回回転後の摩耗量を試験前後の質量を比較することにより測定した。値が小さい方が耐摩耗性に優れる。結果を表−1に表す。
[Abrasion test]
The photoconductor film was cut into a circle with a diameter of 10 cm and evaluated for wear by a tabor wear tester (manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.). The test conditions were measured by comparing the mass before and after the test with the amount of wear after 1000 rotations under a load of 500 g using a wear wheel CS-10F in an atmosphere of 25 ° C. and 50% RH. The smaller the value, the better the wear resistance. The results are shown in Table-1.

Figure 0006953694
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<電子写真感光体の作成>
<下引き層形成用塗布液の製造>
平均一次粒子径40nmのルチル型酸化チタン(石原産業株式会社製「TTO55N」)と、該酸化チタンに対して3質量%のメチルジメトキシシラン(東芝シリコーン社製「TSL8117」)とを、ヘンシェルミキサーにて混合して得られた表面処理酸化チタン50部と、メタノール120部を混合してなる原料スラリー1kgを、直径約100μmのジルコニアビーズ(株式会社ニッカトー製 YTZ)を分散メディアとして、ミル容積約0.15Lの寿工業株式会社製ウルトラアペックスミル(UAM−015型)を用い、ロータ周速10m/秒、液流量10kg/時間の液循環状態で1時間分散処理し、酸化チタン分散液を作製した。
<Creation of electrophotographic photosensitive member>
<Manufacturing of coating liquid for forming undercoat layer>
A rutile-type titanium oxide having an average primary particle diameter of 40 nm (“TTO55N” manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) and methyldimethoxysilane (“TSL8117” manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) in an amount of 3% by mass based on the titanium oxide are used in a Henshell mixer. 1 kg of a raw material slurry obtained by mixing 50 parts of surface-treated titanium oxide obtained by mixing and 120 parts of methanol is used as a dispersion medium of zirconia beads (YTZ manufactured by Nikkato Co., Ltd.) having a diameter of about 100 μm, and the mill volume is about 0. A titanium oxide dispersion was prepared by using a .15 L ultra-apex mill (UAM-015 type) manufactured by Kotobuki Kogyo Co., Ltd. for 1 hour in a liquid circulation state with a rotor peripheral speed of 10 m / sec and a liquid flow rate of 10 kg / hour. ..

前記酸化チタン分散液と、メタノール/1−プロパノール/トルエンの混合溶媒、及び、前記感光体シート作成時の下引き層用分散液作製時に使用した同様のポリアミド樹脂のペレットとを加熱しながら撹拌、混合してポリアミドペレットを溶解させた後、出力1200Wの超音波発信器による超音波分散処理を1時間行い、更に孔径5μmのPTFE製メンブレンフィルター(アドバンテック製 マイテックス LC)により濾過し、表面処理酸化チタン/共重合ポリアミドを質量比が3/1であり、メタノール/1−プロパノール/トルエンの混合溶媒の質量比が7/1/2であって、含有する固形分の濃度が18.0質量%の下引き層形成用塗布液を作製した。 Stir the titanium oxide dispersion, the mixed solvent of methanol / 1-propanol / toluene, and the pellets of the same polyamide resin used in the preparation of the dispersion for the undercoat layer at the time of preparing the photoconductor sheet while heating. After mixing to dissolve the polyamide pellets, ultrasonic dispersion treatment with an ultrasonic transmitter with an output of 1200 W is performed for 1 hour, and further filtration is performed with a PTFE membrane filter (Advantech Mitex LC) having a pore size of 5 μm, and surface treatment oxidation is performed. The mass ratio of titanium / copolymerized polyamide is 3/1, the mass ratio of the mixed solvent of methanol / 1-propanol / toluene is 7/1/2, and the concentration of the solid content contained is 18.0% by mass. A coating liquid for forming an undercoat layer was prepared.

<電荷発生層形成用塗布液の製造>
電荷発生物質として、図2のCuKα特性X線によるX線回折スペクトルを示すオキシ
チタニウムフタロシアニン20部と1,2−ジメトキシエタン280部とを混合し、サンドグラインドミルで1時間粉砕して微粒化分散処理を行なった。続いてこの微細化処理液に、ポリビニルブチラール(電気化学工業(株)製、商品名「デンカブチラール」#6000C)10部を、1,2−ジメトキシエタンの255部と4−メトキシ−4−メチル−2−ペンタノンの85部との混合液に溶解させて得られた結着液、及び230部の1,2−ジメトキシエタンを混合して電荷発生層形成用塗布液Aを調製した。
<Manufacturing of coating liquid for forming charge generation layer>
As a charge generating substance, 20 parts of oxytitanium phthalocyanine and 280 parts of 1,2-dimethoxyethane, which show an X-ray diffraction spectrum by CuKα characteristic X-ray in FIG. 2, are mixed, and pulverized and dispersed by a sand grind mill for 1 hour. Processing was performed. Subsequently, 10 parts of polyvinyl butyral (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., trade name "Denka butyral"# 6000C), 255 parts of 1,2-dimethoxyethane and 4-methoxy-4-methyl were added to this micronized treatment liquid. A binder solution obtained by dissolving in a mixed solution of 85 parts of -2-pentanone and 230 parts of 1,2-dimethoxyethane were mixed to prepare a coating solution A for forming a charge generation layer.

電荷発生物質として、図3のCuKα特性X線によるX線回折スペクトルを示すオキシチタニウムフタロシアニン20部と1,2−ジメトキシエタン280部とを混合し、サンドグラインドミルで4時間粉砕して微粒化分散処理を行なった。続いてこの微細化処理液に、ポリビニルブチラール(電気化学工業(株)製、商品名「デンカブチラール」#6000C)10部を、1,2−ジメトキシエタンの255部と4−メトキシ−4−メチル−2−ペンタノンの85部との混合液に溶解させて得られた結着液、及び230部の1,2−ジメトキシエタンを混合して電荷発生層形成用塗布液Bを調製した。
電荷発生層形成用塗布液Aと電荷発生層形成用塗布液Bを55:45の質量比で混合し、本実施例で用いる電荷発生層形成用塗布液を作製した。
As a charge generating substance, 20 parts of oxytitanium phthalocyanine and 280 parts of 1,2-dimethoxyethane, which show an X-ray diffraction spectrum by CuKα characteristic X-ray in FIG. 3, are mixed, and pulverized and dispersed by a sand grind mill for 4 hours. Processing was performed. Subsequently, 10 parts of polyvinyl butyral (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., trade name "Denka butyral"# 6000C), 255 parts of 1,2-dimethoxyethane and 4-methoxy-4-methyl were added to this micronized treatment liquid. A binder solution obtained by dissolving in a mixed solution of 85 parts of -2-pentanone and 230 parts of 1,2-dimethoxyethane were mixed to prepare a coating solution B for forming a charge generation layer.
The charge-generating layer-forming coating liquid A and the charge-generating layer-forming coating liquid B were mixed at a mass ratio of 55:45 to prepare the charge-generating layer-forming coating liquid used in this example.

<電荷輸送層形成用塗布液の製造>
[塗布液C1]
製造例2で製造したポリカーボネート樹脂(1)97.5部、下記に示す繰返し構造、及び末端構造を有するポリアリレート樹脂(PA−1)2.5部(粘度平均分子量35,000、ポリマー中のポリシロキサン構造の含有量12.5質量%)、下記HTM34で表される電荷輸送物質を40部、添加剤AD−13を10部、酸化防止剤2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチル−フェノールを2部、トリベンジルアミンを1部、ジメチルポリシロキサン(信越化学社製KF96−10CS)0.05部をテトラヒドロフラン/トルエン(8/2(質量比))混合溶媒650部に溶解させて電荷輸送層形成用塗布液C1を調製した。
<Manufacturing of coating liquid for forming charge transport layer>
[Coating liquid C1]
97.5 parts of the polycarbonate resin (1) produced in Production Example 2, 2.5 parts of the polyallylate resin (PA-1) having the repeating structure and the terminal structure shown below (viscosity average molecular weight 35,000, in the polymer) Polysiloxane structure content 12.5% by mass), 40 parts of charge transport material represented by HTM34 below, 10 parts of additive AD-13, antioxidant 2,6-di-tert-butyl-4- Dissolve 2 parts of methyl-phenol, 1 part of tribenzylamine, and 0.05 part of dimethylpolysiloxane (KF96-10CS manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) in 650 parts of tetrahydrofuran / toluene (8/2 (mass ratio)) mixed solvent. A coating liquid C1 for forming a charge transport layer was prepared.

Figure 0006953694
Figure 0006953694

[塗布液C2]
前記塗布液においてポリエステル樹脂(1)を下記に示す構造を有するポリカーボネート樹脂(4)に変更した以外は塗布液C1と同様にして塗布液C2を作成した。
[Coating liquid C2]
The coating liquid C2 was prepared in the same manner as the coating liquid C1 except that the polyester resin (1) was changed to the polycarbonate resin (4) having the structure shown below in the coating liquid.

Figure 0006953694
Figure 0006953694

<感光体ドラムの製造>
表面が切削加工された外径24mm、長さ248mm、肉厚0.75mmのアルミニウム合金よりなるシリンダーに、塗布液の製造例で作製した下引き層形成用塗布液、電荷発生層形成用塗布液、電荷輸送層形成用塗布液を浸漬塗布法により順次塗布、乾燥し、乾燥後の膜厚がそれぞれ、1.5μm、0.4μm、36μmとなるように、下引き層、電荷発生層、電荷輸送層を形成し、感光体ドラムを製造した。なお、電荷輸送層の乾燥は、125℃で24分間行なった。
<Manufacturing of photoconductor drum>
A coating liquid for forming an undercoat layer and a coating liquid for forming a charge generation layer prepared in the production example of a coating liquid on a cylinder made of an aluminum alloy having an outer diameter of 24 mm, a length of 248 mm, and a wall thickness of 0.75 mm whose surface has been machined. , The coating liquid for forming the charge transport layer is sequentially applied and dried by the immersion coating method, and the undercoat layer, the charge generation layer, and the charge are adjusted so that the thicknesses after drying are 1.5 μm, 0.4 μm, and 36 μm, respectively. A transport layer was formed to produce a photoconductor drum. The charge transport layer was dried at 125 ° C. for 24 minutes.

<画像試験>
得られた感光体を、Samsung社製モノクロプリンタ M4580(非磁性1成分非接触現像)の感光体カートリッジに搭載して、気温25℃、相対湿度50%下において、印字率5%で、400,000枚の連続印刷を行った。耐刷後の電荷輸送層の膜厚を測定し、耐刷前後の電荷輸送層の膜厚比較することにより膜減り量を確認し、耐刷性を評価した。値が小さい方が耐摩耗性に優れる。
<Image test>
The obtained photoconductor was mounted on a photoconductor cartridge of Samsung's monochrome printer M4580 (non-magnetic one-component non-contact development) at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 50% at a printing rate of 5% and 400. Continuous printing of 000 sheets was performed. The film thickness of the charge transport layer after printing was measured, and the amount of film loss was confirmed by comparing the film thickness of the charge transport layer before and after printing, and the printing durability was evaluated. The smaller the value, the better the wear resistance.

[実施例2、比較例3]
表-2に示す感光体ドラムを作製し、耐刷性、及び電子写真感光体の評価を行った。結
果を表-2に示す。
[Example 2, Comparative Example 3]
The photoconductor drums shown in Table 2 were prepared, and the printing resistance and electrophotographic photosensitive member were evaluated. The results are shown in Table-2.

Figure 0006953694
Figure 0006953694

以上から、本発明の特定のポリカーボネート樹脂を含有する電子写真感光体は、電気特性に優れるだけでなく、耐摩耗性に非常に優れることを明らかとした。 From the above, it has been clarified that the electrophotographic photosensitive member containing the specific polycarbonate resin of the present invention is not only excellent in electrical characteristics but also extremely excellent in abrasion resistance.

1 感光体
2 帯電装置(帯電ローラ)
3 露光装置
4 現像装置
5 転写装置
6 クリーニング装置
7 定着装置
41 現像槽
42 アジテータ
43 供給ローラ
44 現像ローラ
45 規制部材
71 上部定着部材(加圧ローラ)
72 下部定着部材(定着ローラ)
73 加熱装置
T トナー
P 記録紙
1 Photoreceptor 2 Charging device (charging roller)
3 Exposure device 4 Developing device 5 Transfer device 6 Cleaning device 7 Fixing device 41 Developing tank 42 Agitator 43 Supply roller 44 Developing roller 45 Regulatory member 71 Upper fixing member (pressurizing roller)
72 Lower fixing member (fixing roller)
73 Heating device T Toner P Recording paper

Claims (6)

導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体であって、前記感光層は、下記式(1
)で表される繰返し単位及び下記式(2)で表される繰返し単位を含むポリカーボネート
樹脂を含有し、前記式(1)で表される繰返し単位および前記式(2)で表される繰返し
単位の合計に対する、前記式(1)で表される繰返し単位の割合が1mol%以上50m
ol%以下、かつ、該ポリカーボネート樹脂中の前記式(2)で表される繰返し単位の含
有量が、50mol%以上99mol%以下であることを特徴とする電子写真感光体。
Figure 0006953694
(式(1)中、Ar、Arは、それぞれ独立に置換基を有していてもよいアリーレン
基を表す。Zは、芳香族基を有する2価の基であり、sは0又は1の整数である。)
Figure 0006953694
(式(2)中、R、Rは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン基、炭化水素基、及び
アルコキシ基のいずれかを表し、炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素
原子がハロゲン基で置換されていてもよい。Xは、単結合、―CR−、CO、又
はSを表す。またR、Rはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン基、炭化水素基、及
びアルコキシ基のいずれかを表し、炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水
素原子がハロゲン基で置換されていてもよい。また、RとRとは、互いに結合して環
を形成していてもよい。m、mは、それぞれ独立に0以上4以下の整数を表す。)
An electrophotographic photosensitive member having a photosensitive layer on a conductive support, the photosensitive layer is represented by the following formula (1).
) And the polycarbonate resin containing the repeating unit represented by the following formula (2), the repeating unit represented by the formula (1) and the repeating unit represented by the formula (2). The ratio of the repeating unit represented by the above formula (1) to the total of 1 mol% or more and 50 m
An electrophotographic photosensitive member having an ol% or less and a content of the repeating unit represented by the formula (2) in the polycarbonate resin of 50 mol% or more and 99 mol% or less.
Figure 0006953694
(In the formula (1), Ar 1 and Ar 2 represent an arylene group which may independently have a substituent. Z 1 is a divalent group having an aromatic group, and s is 0. Or an integer of 1.)
Figure 0006953694
(In the formula (2), R 1 and R 2 independently represent any one of a hydrogen atom, a halogen group, a hydrocarbon group, and an alkoxy group, and the hydrocarbon group and the alkoxy group are some or all hydrogen. Atoms may be substituted with halogen groups. X 1 represents a single bond, —CR 3 R 4 −, CO, or S, and R 3 and R 4 are independent hydrogen atoms, halogen groups, respectively. Representing either a hydrocarbon group or an alkoxy group, the hydrocarbon group and the alkoxy group may have some or all hydrogen atoms substituted with halogen groups, and R 3 and R 4 may be mutually exclusive. They may be combined to form a ring. M 1 and m 2 independently represent integers of 0 or more and 4 or less.)
前記式(1)で表される繰返し単位が、下記式(3)で表される繰返し単位または下記
(4)で表される繰返し単位であることを特徴とする請求項1に記載の電子写真感光体

Figure 0006953694
式(3)中、R、Rは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン基、アルキル基、及び
アルコキシ基のいずれかを表し、アルキル基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素
原子がハロゲン基で置換されていてもよい。m、mは、それぞれ独立に0以上4以下
の整数を表す。
Figure 0006953694
式(4)中、Arは置換基を有してもよいアリーレン基を表す。R、Rは、それ
ぞれ独立に水素原子、ハロゲン基、アルキル基、及びアルコキシ基のいずれかを表し、ア
ルキル基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン基で置換されていて
もよい。m、mは、それぞれ独立に0以上4以下の整数を表す。
Repeating unit represented by the formula (1) is a repeating unit or the following represented by the following formula (3)
The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the electrophotographic photosensitive member is a repeating unit represented by the formula (4).
Figure 0006953694
In the formula (3), R 5 and R 6 independently represent any one of a hydrogen atom, a halogen group, an alkyl group, and an alkoxy group, and some or all of the hydrogen atoms of the alkyl group and the alkoxy group are halogen. It may be substituted with a group. m 3 and m 4 independently represent integers of 0 or more and 4 or less.
Figure 0006953694
In formula (4), Ar 3 represents an arylene group which may have a substituent. R 7 and R 8 each independently represent one of a hydrogen atom, a halogen group, an alkyl group, and an alkoxy group, and the alkyl group and the alkoxy group have some or all hydrogen atoms substituted with halogen groups. May be good. m 5 and m 6 independently represent integers of 0 or more and 4 or less.
請求項1または2に記載の電子写真感光体と、該電子写真感光体を帯電させる帯電手段
、帯電した該電子写真感光体に対し像露光を行い、静電潜像を形成する像露光手段、前記
静電潜像をトナーで現像する現像手段、並びに前記トナーを被転写体に転写する転写手段
のうち、少なくとも一つとを備えることを特徴とする、電子写真カートリッジ。
The electrophotographic photosensitive member according to claim 1 or 2, a charging means for charging the electrophotographic photosensitive member, and an image exposure means for forming an electrostatic latent image by performing image exposure on the charged electrophotographic photosensitive member. An electrophotographic cartridge comprising at least one of a developing means for developing the electrostatic latent image with toner and a transfer means for transferring the toner to an object to be transferred.
請求項1または2に記載の電子写真感光体と、該電子写真感光体を帯電させる帯電手段
と、帯電した該電子写真感光体に対する露光により静電潜像を形成する露光手段と、前記
静電潜像をトナーで現像する現像手段と、前記トナーを被転写体に転写する転写手段、前
記被転写体に転写された前記トナーを定着させる定着手段とを備えることを特徴とする、
画像形成装置。
The electrophotographic photosensitive member according to claim 1 or 2, a charging means for charging the electrophotographic photosensitive member, an exposure means for forming an electrostatic latent image by exposure to the charged electrophotographic photosensitive member, and the electrostatic. It is characterized by including a developing means for developing a latent image with toner, a transfer means for transferring the toner to a transfer target, and a fixing means for fixing the toner transferred to the transfer target.
Image forming device.
請求項1または2に記載の電子写真感光体の感光層に含有されるポリカーボネート樹脂
の製造方法であって、製造工程に溶液重合と界面重合とを含み、溶液重合によりオリゴマ
ーを製造し、その後界面重合によりポリカーボネート樹脂を製造することを特徴とする
リカーボネート樹脂の製造方法。
The method for producing a polycarbonate resin contained in the photosensitive layer of an electrophotographic photosensitive member according to claim 1 or 2, wherein the production process includes solution polymerization and interfacial polymerization, and an oligomer is produced by solution polymerization, followed by an interface. A port characterized by producing a polycarbonate resin by polymerization.
A method for producing a carbonate resin.
下記式(1)で表される繰返し単位及び下記式(2)で表される繰返し単位を含むポリ
カーボネート樹脂の製造方法であって、前記ポリカーボネート樹脂の製造工程に溶液重合
と界面重合とを含み、溶液重合によりオリゴマーを製造し、その後界面重合によりポリカ
ーボネート樹脂を製造することを特徴とするポリカーボネート樹脂の製造方法。
Figure 0006953694
(式(1)中、Ar、Arは、それぞれ独立に置換基を有していてもよいアリーレン
基を表す。Zは、芳香族基を有する2価の基であり、sは0又は1の整数である。)
Figure 0006953694
(式(2)中、R、Rは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン基、炭化水素基、及び
アルコキシ基のいずれかを表し、炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素
原子がハロゲン基で置換されていてもよい。Xは、単結合、―CR−、O、CO
、又はSを表す。またR、Rはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン基、炭化水素基
、及びアルコキシ基のいずれかを表し、炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部
の水素原子がハロゲン基で置換されていてもよい。また、RとRとは、互いに結合し
て環を形成していてもよい。m、mは、それぞれ独立に0以上4以下の整数を表す。
A method for producing a polycarbonate resin containing a repeating unit represented by the following formula (1) and a repeating unit represented by the following formula (2), wherein the manufacturing process of the polycarbonate resin includes solution polymerization and interfacial polymerization. A method for producing a polycarbonate resin, which comprises producing an oligomer by solution polymerization and then producing a polycarbonate resin by interfacial polymerization.
Figure 0006953694
(In the formula (1), Ar 1 and Ar 2 represent an arylene group which may independently have a substituent. Z 1 is a divalent group having an aromatic group, and s is 0. Or an integer of 1.)
Figure 0006953694
(In the formula (2), R 1 and R 2 independently represent any one of a hydrogen atom, a halogen group, a hydrocarbon group, and an alkoxy group, and the hydrocarbon group and the alkoxy group are a part or all of hydrogen. atoms may be substituted with a halogen group .X 1 is a single bond, -CR 3 R 4 -, O , CO
, Or S. Further, R 3 and R 4 independently represent any one of a hydrogen atom, a halogen group, a hydrocarbon group, and an alkoxy group, and in the hydrocarbon group and the alkoxy group, a part or all of the hydrogen atoms are replaced with a halogen group. It may have been. Further, R 3 and R 4 may be coupled to each other to form a ring. m 1 and m 2 independently represent integers of 0 or more and 4 or less.
)
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