JP6948655B1 - 慣性センサ、原子干渉計、原子線の速さと進路を調整する方法、原子線の速さと進路を調整する装置 - Google Patents
慣性センサ、原子干渉計、原子線の速さと進路を調整する方法、原子線の速さと進路を調整する装置 Download PDFInfo
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Abstract
Description
ここに開示される調整技術によると、Mを3≦Mを満たす予め定められた整数として、M個のレーザー光を原子線に対して同時に照射する。M個のレーザー光のそれぞれの進路は、原子線の進入路と交差する。M個のレーザー光のそれぞれの輻射圧ベクトルの和の、原子線の進入路に垂直な方向における成分が非ゼロである。M個のレーザー光のそれぞれの輻射圧ベクトルの和の、原子線の進入路における成分が、所定の速さよりも大きい速さを持つ原子に対して負であり、所定の速さよりも小さい速さを持つ原子に対して正である。
原子干渉計および慣性センサはそれぞれこの調整技術を含む。
(参考文献1)日本国特開2020-20636号公報
三つのレーザー光対のうち二つのレーザー光対のそれぞれは、互いに対向して進み且つ同じ周波数(原子の共鳴周波数よりも少しだけ小さい周波数)を持つ円偏光σ+,σ-のペアである(σ+に対応するσ-は、σ+を1/4波長反射板で反射させることによって形成される)。当該二つのレーザー光対は互いに直交し(具体的に言えば、一方のレーザー光対における例えばσ+の進路と他方のレーザー光対における例えばσ+の進路が直交する)、さらに、当該二つのレーザー光対のそれぞれはコイルが形成する2次元四重極磁場のゼロ磁場線と直交する。当該二つのレーザー光対のそれぞれは、2D+-MOT機構内の空間に在る原子をゼロ磁場線と直交する方向にレーザー冷却する。
三つのレーザー光対のうち残りのレーザー光対は、2次元四重極磁場のゼロ磁場線上で互いに対向して進み且つ同じ周波数(原子の共鳴周波数よりも少しだけ小さい周波数)を持つ円偏光σ+,σ-のペアである。このレーザー光対は、2D+-MOT機構内の空間に在る原子をゼロ磁場線の方向にレーザー冷却する。ただし、このレーザー光対を構成する一方のレーザー光のビーム強度は他方のレーザー光のビーム強度よりも強く設定される。また、他方のレーザー光は、ゼロ磁場線の方向に対して45度の角度で配置された穴開き反射板を利用してコイル内の空間に導入されるので、他方のレーザー光は穴開き反射板の穴に対応する「ゼロ磁場線の方向の影(暗部)」を含む。したがって、ビーム強度の差と非対称な散乱率によって一方のレーザー光が実効的なプッシングレーザー光121yとして働き、ゼロ磁場線付近にトラップされている冷却原子集団から冷却原子線131yが穴開き反射板の穴を通して引き出される。また、上述したとおり、一方のレーザー光(実効的なプッシングレーザー光)は穴開き反射板の穴から冷却原子線131yと一緒に漏れ出る。
(1)M個のレーザー光511yのそれぞれの進路503yが、調整装置500yへの冷却原子線131yの進入路505yと交差する。
(a)M個のレーザー光511yのそれぞれの輻射圧ベクトルの和の、調整装置500yへの冷却原子線131yの進入路505yに垂直な方向における成分が、非ゼロである。
(b)M個のレーザー光511yのそれぞれの輻射圧ベクトルの和の、調整装置500yへの冷却原子線131yの進路505yの方向における成分が、所定の速さvdよりも大きい速さを持つ原子に対して負であり、所定の速さvdよりも小さい速さを持つ原子に対して正である。
(2)M個のレーザー光511yが、冷却原子線131yが通過する予め定められた1個の空間領域にて互いに重なり合う。
条件(2)は、原子とM個のレーザー光511yとの相互作用を同時に誘起するための条件であり、小型の調整装置500yの実現に寄与する。
以下、進行光定在波による2光子ラマン過程を利用した原子干渉について説明する。調整装置500aからの冷却原子線131aと3個の進行光定在波との相互作用について説明するが、冷却原子線131bに言及する場合を除き、下記の説明における「冷却原子線131a」を「冷却原子線131b」に読み替え、「第1の進行光定在波200a」を「第3の進行光定在波200c」に読み替え、「第3の進行光定在波200c」を「第1の進行光定在波200a」に読み替え、「冷却原子線131c」を「冷却原子線131d」に読み替えるだけで、調整装置500bからの冷却原子線131bと3個の進行光定在波との相互作用についての説明が得られる。
例えば、上述の実施形態では、3個の進行光定在波を用いて、1回の分裂と1回の反転と1回の混合を行うマッハ-ツェンダー型原子干渉を利用しているが、このような実施形態に限定されず、本発明の原子干渉計は、例えば複数回の分裂と複数回の反転と複数回の混合を行う多段のマッハ-ツェンダー型原子干渉を利用した実施形態として実施することもできる。このような多段のマッハ-ツェンダー型原子干渉については、参考文献2を参照のこと。
(参考文献2)Takatoshi Aoki et al.,“High-finesse atomic multiple-beam interferometer comprised of copropagating stimulated Raman-pulse fields,”Phys. Rev. A 63, 063611 (2001) - Published 16 May 2001.
(参考文献3)Z. Lu, K. Corwin, M. Renn, M. Anderson, E. Cornell and C. Wieman: “Low-Velocity Intense Source of Atoms from a Magneto-optical Trap,” Phys. Rev. Lett., 77, 16, pp. 3331-3334 (1996).
(参考文献4)J. Schoser, A. Batar, R. Low, V. Schweikhard, A. Grabowski, Yu. B. Ovchinnikov, and T. Pfau, “Intense source of cold Rb atoms from a pure two-dimensional magneto-optical trap,” PHYSICAL REVIEW A, 66, 023410 2002.
(参考文献5)Jia-Qiang Huang, Xue-Shu Yan, Chen-Fei Wu, Jian-Wei Zhang, and Li-Jun Wang, “Intense source of cold cesium atoms based on a two-dimensional magneto-optical trap with independent axial cooling and pushing,” Chin. Phys. B Vol. 25, No. 6 063701 (2016).
(参考文献6)J. Arlt, O. Marago, S. Webster, S. Hopkins and C. Foot: “A pyramidal magnetooptical trap as a source of slow atoms,” Opt. Commun., December, pp. 303-309 (1998).
原子線偏向器140yがムービングモラセス機構を含む構成を持つ場合、冷却原子線生成器130yと原子線偏向器140yは、ムービングモラセス機構における進行光定在波の進路が冷却原子線生成器からの冷却原子線の進路と交差する(好ましくは、直交する)位置関係にある。
冷却原子線131yおよび漏れ出たプッシングレーザー光121yは、ムービングモラセス機構を含む構成を持つ原子線偏向器140yに入る。冷却原子線生成器130yと原子線偏向器140yの上述の位置関係から、冷却原子線131yおよび漏れ出たプッシングレーザー光121yは、原子線偏向器140yのムービングモラセス機構における進行光定在波の進路と斜めに交わる。そして、ムービングモラセスの原理によって、冷却原子線131yの進行方向は変更される。しかし、プッシングレーザー光121yはムービングモラセス機構によって影響を受けないので、プッシングレーザー光121yの進行方向は変更されない。したがって、原子線偏向器140yによって、プッシングレーザー光121yの進行方向と異なる方向に冷却原子線131yは進行する。したがって、特許請求の範囲に記載された慣性センサと原子干渉計と調整装置の保護範囲が、レーザー光と原子線が存在する状況下のそれらに限らず、レーザー光と原子線が存在しない状況下のそれらにも及ぶことが意図される。
上述の条件(1)(2)(a)(b)について説明を加える。原子干渉計800を例えば生産または譲渡する場合、その時点では、原子干渉計800においてレーザー光511a,511bと原子線131a,131bは存在しない。しかし、例えばレーザー光出射口の向き或いはミラーの角度によってレーザー光511a,511bの進路503a,503bを特定できる。さらに、例えば冷却原子線生成装置100a,100bと調整装置500a,500bと干渉装置200の位置関係から、原子線131a,131bの進路505a,505bを特定できる。つまり、レーザー光511a,511bと原子線131a,131bが存在しない状況でも、条件(1)および(2)のそれぞれの成立を判断できる。さらに、レーザー光生成部501a,501bのハードウェア構成から、レーザー光生成部501a,501bが生成できるレーザー光511a,511bの強度と周波数などを特定できるので、レーザー光511a,511bと原子線131a,131bが存在しない状況でも、条件(a)および(b)のそれぞれの成立を判断できる。
100b 冷却原子線生成装置
101a 区画
101b 区画
110a 原子源
110b 原子源
121a プッシングレーザー光
121b プッシングレーザー光
130a 冷却原子線生成器
130b 冷却原子線生成器
140a 原子線偏向器
140b 原子線偏向器
131a 冷却原子線
131b 冷却原子線
131c 冷却原子線
131d 冷却原子線
200 干渉装置
200a 第1の進行光定在波
200b 第2の進行光定在波
200c 第3の進行光定在波
300 進行光定在波生成装置
400a 観測装置
400b 観測装置
408a プローブ光
408b プローブ光
409a 光検出器
409b 光検出器
500a 調整装置
500b 調整装置
501a レーザー光生成部
501b レーザー光生成部
503a 進路
503b 進路
505a 進入路
505b 進入路
507a 退出路
507b 退出路
511a レーザー光
511b レーザー光
800 原子干渉計
900 慣性センサ
Sn 空間領域
Claims (12)
- 慣性センサであって、
冷却された第1の原子線を連続生成する第1の冷却原子線生成装置と、
冷却された第2の原子線を連続生成する第2の冷却原子線生成装置と、
前記第1の原子線に含まれる第1の原子の速さを第1の所定の速さに近づけ、且つ、当該第1の原子線の進路を曲げる第1の調整装置と、
前記第2の原子線に含まれる第2の原子の速さを第2の所定の速さに近づけ、且つ、当該第2の原子線の進路を曲げる第2の調整装置と、
3個以上の進行光定在波を生成する進行光定在波生成装置と、
前記第1の調整装置からの前記第1の原子線と前記3個以上の進行光定在波とが相互作用した結果の第3の原子線と、前記第2の調整装置からの前記第2の原子線と前記3個以上の進行光定在波とが相互作用した結果の第4の原子線を得る干渉装置と、
前記干渉装置からの前記第3の原子線を観測する第1の観測装置と、
前記干渉装置からの前記第4の原子線を観測する第2の観測装置と
を含み、
前記第1の調整装置は、
M1を3≦M1を満たす予め定められた整数として、下記条件(A),(B)および(C)を満たすM1個のレーザー光を生成するレーザー光生成部を含み、
前記第2の調整装置は、
M2を3≦M2を満たす予め定められた整数として、下記条件(D),(E)および(F)を満たすM2個のレーザー光を生成するレーザー光生成部を含む
慣性センサ。
(A)前記M1個のレーザー光のそれぞれの進路は、前記第1の調整装置への前記第1の原子線の進入路と交差する。
(B)前記M1個のレーザー光のそれぞれの輻射圧ベクトルの和の、前記第1の調整装置への前記第1の原子線の進入路に垂直な方向における成分が、非ゼロである。
(C)前記M1個のレーザー光のそれぞれの輻射圧ベクトルの和の、前記第1の調整装置への前記第1の原子線の進入路の方向における成分が、前記第1の所定の速さよりも大きい速さを持つ前記第1の原子に対して負であり、前記第1の所定の速さよりも小さい速さを持つ前記第1の原子に対して正である。
(D)前記M2個のレーザー光のそれぞれの進路は、前記第2の調整装置への前記第2の原子線の進入路と交差する。
(E)前記M2個のレーザー光のそれぞれの輻射圧ベクトルの和の、前記第2の調整装置への前記第2の原子線の進入路に垂直な方向における成分が、非ゼロである。
(F)前記M2個のレーザー光のそれぞれの輻射圧ベクトルの和の、前記第2の調整装置への前記第2の原子線の進入路の方向における成分が、前記第2の所定の速さよりも大きい速さを持つ前記第2の原子に対して負であり、前記第2の所定の速さよりも小さい速さを持つ前記第2の原子に対して正である。 - 原子干渉計であって、
冷却された第1の原子線を連続生成する第1の冷却原子線生成装置と、
冷却された第2の原子線を連続生成する第2の冷却原子線生成装置と、
前記第1の原子線に含まれる第1の原子の速さを第1の所定の速さに近づけ、且つ、当該第1の原子線の進路を曲げる第1の調整装置と、
前記第2の原子線に含まれる第2の原子の速さを第2の所定の速さに近づけ、且つ、当該第2の原子線の進路を曲げる第2の調整装置と、
3個以上の進行光定在波を生成する進行光定在波生成装置と、
前記第1の調整装置からの前記第1の原子線と前記3個以上の進行光定在波とが相互作用した結果の第3の原子線と、前記第2の調整装置からの前記第2の原子線と前記3個以上の進行光定在波とが相互作用した結果の第4の原子線を得る干渉装置と
を含み、
前記第1の調整装置は、
M1を3≦M1を満たす予め定められた整数として、下記条件(A),(B)および(C)を満たすM1個のレーザー光を生成するレーザー光生成部を含み、
前記第2の調整装置は、
M2を3≦M2を満たす予め定められた整数として、下記条件(D),(E)および(F)を満たすM2個のレーザー光を生成するレーザー光生成部を含む
原子干渉計。
(A)前記M1個のレーザー光のそれぞれの進路は、前記第1の調整装置への前記第1の原子線の進入路と交差する。
(B)前記M1個のレーザー光のそれぞれの輻射圧ベクトルの和の、前記第1の調整装置への前記第1の原子線の進入路に垂直な方向における成分が、非ゼロである。
(C)前記M1個のレーザー光のそれぞれの輻射圧ベクトルの和の、前記第1の調整装置への前記第1の原子線の進入路の方向における成分が、前記第1の所定の速さよりも大きい速さを持つ前記第1の原子に対して負であり、前記第1の所定の速さよりも小さい速さを持つ前記第1の原子に対して正である。
(D)前記M2個のレーザー光のそれぞれの進路は、前記第2の調整装置への前記第2の原子線の進入路と交差する。
(E)前記M2個のレーザー光のそれぞれの輻射圧ベクトルの和の、前記第2の調整装置への前記第2の原子線の進入路に垂直な方向における成分が、非ゼロである。
(F)前記M2個のレーザー光のそれぞれの輻射圧ベクトルの和の、前記第2の調整装置への前記第2の原子線の進入路の方向における成分が、前記第2の所定の速さよりも大きい速さを持つ前記第2の原子に対して負であり、前記第2の所定の速さよりも小さい速さを持つ前記第2の原子に対して正である。 - 請求項2に記載の原子干渉計において、
前記第1の冷却原子線生成装置は、
第1の原子源と、
第1のプッシングレーザー光を利用して、空間中でトラップされている前記第1の原子源からの原子から前記第1の原子線を生成する第1の冷却原子線生成器と、
前記第1の冷却原子線生成器からの前記第1の原子線が入る第1の原子線偏向器と
を含み、
前記第1の原子線偏向器は、2次元磁気光学トラップ機構またはムービングモラセス機構を含み、
前記第1の冷却原子線生成器からの前記第1の原子線の進路は、前記第1のプッシングレーザー光の進路と一致し、
前記第1の原子線偏向器が2次元磁気光学トラップ機構を含む場合、前記2次元磁気光学トラップ機構における四重極磁場のゼロ磁場線は、前記第1の冷却原子線生成器からの前記第1の原子線の進路と交差し、
前記第1の原子線偏向器がムービングモラセス機構を含む場合、前記ムービングモラセス機構における光定在波の進路は、前記第1の冷却原子線生成器からの前記第1の原子線の進路と交差する
ことを特徴とする原子干渉計。 - 請求項2または請求項3に記載の原子干渉計において、
前記第2の冷却原子線生成装置は、
第2の原子源と、
第2のプッシングレーザー光を利用して、空間中でトラップされている前記第2の原子源からの原子から前記第2の原子線を生成する第2の冷却原子線生成器と、
前記第2の冷却原子線生成器からの前記第2の原子線が入る第2の原子線偏向器と
を含み、
前記第2の原子線偏向器は、2次元磁気光学トラップ機構またはムービングモラセス機構を含み、
前記第2の冷却原子線生成器からの前記第2の原子線の進路は、前記第2のプッシングレーザー光の進路と一致し、
前記第2の原子線偏向器が2次元磁気光学トラップ機構を含む場合、前記2次元磁気光学トラップ機構における四重極磁場のゼロ磁場線は、前記第2の冷却原子線生成器からの前記第2の原子線の進路と交差し、
前記第2の原子線偏向器がムービングモラセス機構を含む場合、前記ムービングモラセス機構における光定在波の進路は、前記第2の冷却原子線生成器からの前記第2の原子線の進路と交差する
ことを特徴とする原子干渉計。 - 原子線に含まれる原子の速さを所定の速さに近づけ、且つ、当該原子線の進路を曲げる調整方法であって、
Mを3≦Mを満たす予め定められた整数として、下記条件(A),(B)および(C)を満たすM個のレーザー光を前記原子線に対して同時に照射するステップを有する
調整方法。
(A)前記M個のレーザー光のそれぞれの進路は、前記原子線の進入路と交差する。
(B)前記M個のレーザー光のそれぞれの輻射圧ベクトルの和の、前記原子線の進入路に垂直な方向における成分が非ゼロである。
(C)前記M個のレーザー光のそれぞれの輻射圧ベクトルの和の、前記原子線の進入路における成分が、前記所定の速さよりも大きい速さを持つ前記原子に対して負であり、前記所定の速さよりも小さい速さを持つ前記原子に対して正である。 - 請求項5に記載の調整方法において、
前記原子線は冷却原子線である、ただし、当該冷却原子線は、当該冷却原子線の進路に垂直な方向の速さが抑圧された原子からなる、
ことを特徴とする調整方法。 - 原子線に含まれる原子の速さを所定の速さに近づけ、且つ、当該原子線の進路を曲げる調整装置であって、
Mを3≦Mを満たす予め定められた整数として、下記条件(A),(B)および(C)を満たすM個のレーザー光を生成するレーザー光生成部を含む
調整装置。
(A)前記M個のレーザー光のそれぞれの進路は、前記原子線の進入路と交差する。
(B)前記M個のレーザー光のそれぞれの輻射圧ベクトルの和の、前記原子線の進入路に垂直な方向における成分が、非ゼロである。
(C)前記M個のレーザー光のそれぞれの輻射圧ベクトルの和の、前記原子線の進入路の方向における成分が、前記所定の速さよりも大きい速さを持つ前記原子に対して負であり、前記所定の速さよりも小さい速さを持つ前記原子に対して正である、
調整装置。 - 請求項7に記載の調整装置において、
M=4であり、
4個の前記レーザー光の強度は互いに等しく、
4個の前記レーザー光が、前記原子線が通過する予め定められた1個の空間領域にて互いに重なり合い、
前記原子線の進入路の方向の単位方向ベクトルをevとし、前記単位方向ベクトルevに直交する方向の任意の単位方向ベクトルをe1,e2として、
波数ベクトルk1,k2,k3,k4が
であり、ただし、α>0,β>0,γ>0,η>0であり、
前記所定の速さをvdとし、前記波数ベクトルk1のレーザー光の周波数をf1とし、前記波数ベクトルk2のレーザー光の周波数をf2とし、前記波数ベクトルk3のレーザー光の周波数をf3とし、前記波数ベクトルk4のレーザー光の周波数をf4として、前記周波数f1,f2,f3,f4が
である、ただし、δ<0である、
ことを特徴とする調整装置。 - 請求項8に記載の調整装置において、
前記単位方向ベクトルevと前記波数ベクトルk1とがなす角度をθ1とし、前記単位方向ベクトルevと前記波数ベクトルk2とがなす角度をθ2とし、前記単位方向ベクトルevと前記波数ベクトルk3とがなす角度をθ3とし、前記単位方向ベクトルevと前記波数ベクトルk2とがなす角度をθ4として、cos(π/4)≦|cosθ1|<1,cos(π/4)≦|cosθ2|<1,cos(π/4)≦|cosθ3|<1,cos(π/4)≦|cosθ4|<1を満たす
ことを特徴とする調整装置。 - 請求項7に記載の調整装置において、
M=3であり、
3個の前記レーザー光の強度は互いに等しく、
3個の前記レーザー光が、前記原子線が通過する予め定められた1個の空間領域にて互いに重なり合い、
前記原子線の進入路の方向の単位方向ベクトルをevとし、前記単位方向ベクトルevに直交する方向の任意の単位方向ベクトルをeとして、
波数ベクトルk1,k2,k3が
であり、ただし、α>0,β>0,η>0であり、
前記所定の速さをvdとし、前記波数ベクトルk1のレーザー光の周波数をf1とし、前記波数ベクトルk2のレーザー光の周波数をf2とし、前記波数ベクトルk3のレーザー光の周波数をf3として、前記周波数f1,f2,f3が
である、ただし、δ<0である、
ことを特徴とする調整装置。 - 請求項10に記載の調整装置において、
前記単位方向ベクトルevと前記波数ベクトルk2とがなす角度をθ2とし、前記単位方向ベクトルevと前記波数ベクトルk3とがなす角度をθ3として、cos(π/4)≦|cosθ2|<1,cos(π/4)≦|cosθ3|<1を満たす
ことを特徴とする調整装置。 - 請求項7から請求項11のいずれかに記載の調整装置において、
前記原子線は冷却原子線である、ただし、当該冷却原子線は、当該冷却原子線の進路に垂直な方向の速さが抑圧された原子からなる、
ことを特徴とする調整装置。
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