JP6943881B2 - 糖の熱分解性フラグメンテーション - Google Patents
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Description
a) 熱を媒介し、かつ、流動化に適した粒子を提供する工程;
b) ライザを含み、熱分解性フラグメンテーションを実施するのに適し、かつ、粒子流を流動化するのに適した流動床フラグメンテーション反応器を提供する工程;
c) 糖を含む供給原料の溶液を提供する工程;
d) 熱分解性フラグメンテーションが行われた後、例えば少なくとも300℃、350℃、400℃または450℃のような少なくとも250℃の温度を維持するのに十分な速度で粒子をフラグメンテーション反応器に導入する工程;
e) 流動化された粒子流中に供給原料を導入することにより、糖の熱分解性フラグメンテーションを得て、粒子の高密度フラグメンテーション生成物を生成する工程;それから、
f) 粒子の高密度フラグメンテーション生成物から、粒子のフラクション(fraction)を分離して、粒子の含有率の低い(particle lean)生成物を生成する工程;
g) 粒子を含む流動流中への供給原料を急冷器への導入を行うために、少なくとも50℃、粒子リーンフラグメンテーション生成物を急冷する工程であって、ガスの平均滞留時間が最大5秒、例えば、最大2秒、1秒、0.8秒または0.6秒のような最大3秒である、工程;および
h) 粗製フラグメンテーション生成物を回収する工程;
i) 工程f)において分離された粒子を加熱のための再加熱器に移す工程;
j) 加熱された粒子をフラグメンテーション反応器に再循環させる工程、
を含む。
本発明による熱分解性フラグメンテーションプロセスを実施して、C1-C3含酸素物を含む粗製フラグメンテーション生成物を形成する工程;および
その後、該粗製フラグメンテーション生成物を水素化に供して、対応するC1-C3ヒドロキシ化合物を得る工程、
を含む。C1-C3ヒドロキシ化合物は、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコールおよびメタノールである。
・ ライザ
・ 第一の粒子分離器
・ 流動化流の入口
・ 粒子の入口
・ 供給原料の入口
・ 粒子の出口
・ 生成物の出口
を含み、
ライザは、フラグメンテーション反応器の内部および下部に配置され、
流動化流の入口および粒子の入口は、ライザの下部に配置され、
供給原料の入口は、粒子の入口上方のライザの下部に配置され、
ライザは、ライザ内の粒子を流動化するように適合されており、
第一の粒子分離器は、ライザの上部に配置され、かつ、流動化流から粒子の少なくとも一部を分離するように適合されており、かつ、
前記反応器は、前記ガス流に関して第一の粒子分離器の下流に配置された冷却セクションをさらに含み、前記冷却セクションは、前記第一の粒子分離器を出る前記流動化流を冷却するように構成され、かつ、前記システムは、前記フレグメンテーション反応器を出る粒子を再加熱するための再加熱器をさらに含み、その再加熱器は、燃料および燃焼空気の入口、バーナ、再加熱器の粒子の入口、再加熱器のライザ、再加熱器の粒子分離器、再加熱器のガスの出口および再加熱器の粒子の出口を含む。
グルコース水溶液のフラグメンテーションは、ライザタイプ反応器ユニットで実証された。粒子の入口を供給原料の入口の上流に配置した。ライザ内の気体の空塔速度は約6m/秒であった。ライザ反応器の長さは6.2mであり、かつ、内径は41mmであった。二つのサイクロンがライザに続き、そして、分離した固形物を再加熱のために外部の反応器に入れた。フラグメンテーション生成物の滞留時間は、供給原料の入口から第一の粒子分離器まで約1秒であった。
実施形態
実施形態1. C1−C3酸素化物への糖の熱分解性フラグメンテーションのための方法であって、該方法は次の工程、
a. 熱を運び、流動化に適した粒子を提供する工程;
b. ライザを含み、熱分解性フラグメンテーションを実施するのに適し、かつ、粒子流を流動化するのに適した流動床フラグメンテーション反応器を提供する工程;
c. 糖を含む供給原料の溶液を提供する工程;
d. 熱分解性フラグメンテーションが行われた後、例えば少なくとも300℃、350℃、400℃または450℃のような少なくとも250℃の温度を維持するのに十分であり、かつ、流動化された粒子流を得るのに十分な速度で粒子を反応器に導入する工程;
e. 流動化された粒子流中に供給原料を導入することにより、糖の熱分解性フラグメンテーションを得て、粒子の高密度フラグメンテーション生成物を生成する工程;それから、
f. 粒子の高密度フラグメンテーション生成物から、粒子のフラクション(fraction)を分離して、粒子リーン(particle lean)生成物を生成する工程;
g. 粒子を含む流動流中への供給原料を急冷器への導入を行うために、少なくとも50℃、粒子リーンフラグメンテーション生成物を急冷する工程であって、ガスの平均滞留時間が最大5秒、例えば、最大2秒、1秒、0.8秒または0.6秒のような最大3秒である、工程;
h. 粗製フラグメンテーション生成物を回収する工程;
i. 工程f)において分離された粒子を加熱のための再加熱器に移す工程;および
j. 加熱された粒子をフラグメンテーション反応器に再循環させる工程、
を含む。
実施形態2. 粒子リーンフラグメンテーション生成物を、粒子リーンフラグメンテーション生成物を急冷する工程g)の後で、粗製フラグメンテーション生成物を回収する工程h)の前に、第二の粒子分離工程に供する、上記の実施形態1に記載の方法。
実施形態3. 前記反応器が、その下部において、粒子の入口および供給原料の入口を含み、該供給原料の入口は、粒子の入口の下流に設けられている、上記の実施形態1または2に記載の方法。
実施形態4. 前記反応器が、下部においてさらに流動化流の入口を含み、かつ、前記流動化の入口が、前記粒子の入口の上流に設けられている、上記の実施形態3に記載の方法。
実施形態5. 粒子が、粒子の入口と供給原料の入口との間の領域に高密度相の流動床を形成する、上記の実施形態3または4に記載の方法。
実施形態6. 供給原料の入口が、ライザの下部に設けられている、上記の実施形態3〜5のいずれか一つに記載の方法。
実施形態7. 前記反応器が、第一の粒子分離器をライザの下流に含む、上記の実施形態1〜5のいずれか一つに記載の方法。
実施形態8. 前記反応器が、第一の粒子分離器の下流に急冷部を含む、上記の実施形態7に記載の方法。
実施形態9. 前記反応器が、第二の粒子分離器の下流に急冷部を含む、上記の実施形態8に記載の方法。
実施形態10. 前記反応器が、熱媒介粒子の加熱のため以外の手段を含まない、上記の実施形態1〜9のいずれか一つに記載の方法。
実施形態11. 糖が、単糖類および/または二糖類である、上記の実施形態1〜10のいずれか一つに記載の方法。
実施形態12. 前記供給原料の溶液が、スクロース、ラクトース、キシロース、アラビノース、リボース、マンノース、タガトース、ガラクトース、グルコースおよびフルクトースからなる群から選択される糖か、またはそれらの混合物の水溶液を含む、上記の実施形態1〜11のいずれか一つに記載の方法。
実施形態13. 原料供給の溶液中の糖濃度が10〜90重量%である、上記の実施形態1〜12のいずれか一つに記載の方法。
実施形態14. 前記フラグメンテーション反応器の粒子の入口における粒子の温度が、少なくとも400℃、450℃、500℃、550℃、600℃または650℃のような、好ましくは、少なくとも300℃である、上記の実施形態1〜13のいずれか一つに記載の方法。
実施形態15. 粒子の入口における粒子の温度が、300〜800℃の範囲内、例えば、400〜800℃または450〜650℃の範囲内である、上記の実施形態1〜14のいずれか一つに記載の方法。
実施形態16. 粒子が、砂、シリカ、ガラス、アルミナ、スチール、および炭化ケイ素からなる群から選択される、上記の実施形態1〜15のいずれか一つに記載の方法。
実施形態17. 熱媒介粒子の平均粒度が、20〜300μm、例えば、20〜300μm、20〜200μmまたは20〜100μmである、上記の実施形態1〜16のいずれか一つに記載の方法。
実施形態18. 工程a)の粒子が、少なくとも10kg/秒の質量流量でフラグメンテーション反応器に導入される、上記の実施形態1〜17のいずれか一つに記載の方法。
実施形態19. 供給原料の入口より上のフラグメンテーションのライザ内部の速度が、3〜22、または5〜20m/秒のような2m/秒超である、上記の実施形態1〜18のいずれか一つに記載の方法。
実施形態20. 再加熱器が、燃料および燃焼空気の入口、バーナ、再加熱器の粒子の入口、再加熱器のライザ、再加熱器の粒子分離器、煙道ガスのための再加熱器のガスの出口および再加熱器の粒子出口を含む、上記の実施形態1〜19のいずれか一つに記載の方法。
実施形態21. 再加熱器の粒子の出口を出る粒子の温度が、300〜800℃の範囲、例えば、400〜800℃、400〜700℃または500〜700℃の範囲である、上記の実施形態1〜20のいずれか一つに記載の方法。
実施形態22. バーナが、再加熱器のライザとは別個のバーナチャンバ内に配置され、かつ、バーナチャンバからの燃焼ガスが、再加熱器のライザに導かれる、上記の実施形態20または21に記載の方法。
実施形態23. 微粒子除去後の再加熱器からの煙道ガスの一部がバーナチャンバに再循環される、上記の実施形態1〜22のいずれか一つに記載の方法。
実施形態24. 粒子が再加熱器からフラグメンテーション反応器に移送される前に、過剰な酸素が粒子から除去される、上記の実施形態1〜23のいずれか一つに記載の方法。
実施形態25. 糖からC1−C3ヒドロキシ化合物を製造する方法であって、次の工程、
上記の実施形態1〜24のいずれか一つに記載の方法を実施する工程;そしてそれから、
粗製フラグメンテーション生成物を水素化に供して、対応するC1−C3ヒドロキシ化合物を得る工程、
を含む、上記の方法。
実施形態26. フラグメンテーション反応器を含む、糖組成物をC1−C3含酸素物にフラグメンテーションするためのシステムであって、該反応器は、その反応器内に、
・ ライザ
・ 第一の粒子分離器
・ 流動化流の入口
・ 粒子の入口
・ 供給原料の入口
・ 粒子の出口
・ 生成物の出口
を含み、
ライザは、フラグメンテーション反応器の内部および下部に配置され、かつ、流動化流の入口および粒子の入口は、ライザの下部に配置され、供給原料の入口は、粒子の入口上方のライザの下部に配置され、ライザは、ライザ内の粒子を流動化するように適合されており、かつ、該第一の粒子分離器は、粒子の少なくとも一部を流動化流から分離するように適合されており、かつ、
前記フラグメンテーション反応器は、ガス流に関して第一の粒子分離器の下流に配置された冷却セクションをさらに含み、前記冷却セクションは、前記第一の粒子分離器を出る前記流動化流を冷却するように適合され、かつ、前記システムは、前記フレグメンテーション反応器を出る粒子を再加熱するための再加熱器をさらに含み、前記再加熱器は、燃料および燃焼空気の入口、バーナ、再加熱器の粒子の入口、再加熱器のライザ、再加熱器の粒子分離器、再加熱器のガスの出口、および再加熱器の粒子の出口を含む、上記のシステム。
実施形態27. 前記フラグメンテーション反応器が、前記フラグメンテーション反応器内に第二の粒子分離器をさらに含み、該第二の粒子分離器は、前記フラグメンテーション反応器の上部に配置され、かつ、粒子のさらなる部分を流動化流から分離するように適合されている、上記の実施形態26に記載のシステム。
実施形態28. 冷却セクションが、フラグメンテーション反応器中に液体を注入することによって急冷するように適合されている、上記の実施形態26または27に記載のシステム。
実施形態29. 冷却セクションが、より低温の粒子流をフラグメンテーション反応器に入れることによって急冷するように適合されている、上記の実施形態26または27に記載のシステム。
実施形態30. 前記冷却セクションが、間接熱交換器を含んでいる、上記の実施形態26または27に記載のシステム。
実施形態31. 第一の粒子分離器が低体積分離器である、上記の実施形態26〜30のいずれか一つに記載のシステム。
実施形態32. 前記第一の粒子分離器が、少なくとも一つの方向分離器の変化を含む、上記の実施形態26〜31のいずれか一つに記載のシステム。
実施形態33. 第一の粒子分離器が、ライザの上部において、第一の端部によって配置され、かつ、該ライザと流体的に接続されている少なくとも一つの管を含み、かつ、該管の第二の端部が、下方に向けられており、かつ、フラグメンテーション反応器およびライザの外側と流体的に接続している、上記の実施形態26〜32のいずれか一つに記載のシステム。
実施形態34. 第二の粒子分離器が、少なくとも一つのサイクロンである、上記の実施形態27〜33のいずれか一つに記載のシステム。
実施形態35. 前記バーナおよび再加熱器の燃料および燃焼空気の入口が、再加熱器のライザの上流に配置されており、かつ、再加熱器の粒子の入口が、バーナの下流の再加熱器のライザの下部に配置されており、かつ、再加熱器の粒子の入口が、フラグメンテーション反応器の粒子の出口と流体的に接続しており、該再加熱器のライザは、バーナからの燃焼ガスによってフラグメンテーション反応器から出る粒子を再加熱するように適合されている、上記の実施形態26〜34のいずれか一つに記載のシステム。
実施形態36. 前記再加熱器の粒子分離器が、再加熱器のライザの下流に配置されており、かつ、再加熱器の粒子の出口が、フラグメンテーション反応器の粒子の入口と流体的に接続している、上記の実施形態26〜35のいずれか一つに記載のシステム。
実施形態37. 前記バーナが別個のバーナチャンバ内に配置されている、上記の実施形態26〜36のいずれか一つに記載のシステム。
実施形態38. 前記バーナチャンバが、狭窄部によってライザから分離されている、上記の実施形態37に記載のシステム。
実施形態39. 再加熱器の粒子分離器の下流、かつ、フラグメンテーション反応器の粒子の入口の上流にストリッピングチャンバが配置されている、上記の実施形態26〜38のいずれか一つに記載のシステム。
2. フラグメンテーションのライザ
3. 第一の粒子分離器
4. 第二の粒子分離器
5. 冷却セクション
6. 流動化の入口
7. 粒子の入口
8. 供給原料の入口
9. 生成物の出口
10. 粒子の出口
11. 再加熱器
12. 燃料および燃焼空気の入口
13. バーナチャンバ
14. 再加熱器の粒子の入口
15. 再加熱器のライザ
16. 再加熱器の粒子分離器
17. 再加熱器の粒子の出口
18. 再加熱器のガスの出口
19. 第二の再加熱器の粒子分離器
20. ストリッパ
21. 再加熱器の流動化ガスの入口
22. 第二の再加熱器の流動化ガスおよびストリッピングガスの入口
Claims (22)
- C1−C3酸素化物への糖の熱分解性フラグメンテーションのための方法であって、次の工程、
a. 熱を媒介しかつ流動化に適した粒子を提供する工程;
b. ライザを含み、かつ、熱分解性フラグメンテーションを実施するのに適し、かつ、粒子流を流動化するのに適した流動床フラグメンテーション反応器を提供する工程;
c. 糖を含む供給原料の溶液を提供する工程;
d. 熱分解性フラグメンテーションが行われた後、少なくとも250℃の温度を維持するのに十分であり、かつ、流動化された粒子流を得るのに十分な速度で粒子を反応器に導入する工程;
e. 流動化された粒子流中に供給原料を導入することにより、糖の熱分解性フラグメンテーションを得て、粒子の高密度フラグメンテーション生成物を生成する工程;それから、
f. 粒子の高密度フラグメンテーション生成物から、粒子のフラクション(fraction)を分離して、粒子リーン(particle lean)生成物を生成する工程;
g. 粒子を含む流動流中への供給原料を急冷器への導入を行うために、少なくとも50℃、粒子リーンフラグメンテーション生成物を急冷する工程であって、ガスの平均滞留時間が最大5秒である、工程;
h. 粗製フラグメンテーション生成物を回収する工程;
i. 工程f)において分離された粒子を加熱のための再加熱器に移す工程;および
j. 加熱された粒子をフラグメンテーション反応器に再循環させる工程、
を含み、
前記再加熱器が、再加熱器のライザを含む、上記の方法。 - 供給原料の入口がライザの下部に設けられている、請求項1に記載の方法。
- 前記反応器が、ライザの下流の第一の粒子分離器を含む、請求項1または2に記載の方法。
- 前記反応器が、前記第一の粒子分離器の下流の急冷器を含む、請求項3に記載の方法。
- 前記糖が、単糖類および/または二糖類である、請求項1〜4のいずれか一つに記載の方法。
- 前記供給原料の溶液が、スクロース、ラクトース、キシロース、アラビノース、リボース、マンノース、タガトース、ガラクトース、グルコースおよびフルクトースからなる群から選択される糖か、またはそれらの混合物の水溶液を含む、請求項1〜5のいずれか一つに記載の方法。
- 前記供給原料の溶液中の糖の濃度が、10〜90重量%である、請求項1〜6のいずれか一つに記載の方法。
- フラグメンテーション反応器の粒子の入口における粒子の温度が、少なくとも300℃である、請求項1〜7のいずれか一つに記載の方法。
- 前記再加熱器が、燃料および燃焼空気の入口、バーナ、再加熱器の粒子の入口、再加熱器のライザ、再加熱器の粒子分離器、煙道ガスのための再加熱器のガスの出口、および再加熱器の粒子の出口を含む、請求項1〜8のいずれか一つに記載の方法。
- 再加熱器の粒子の出口を出る粒子の温度が、300〜800℃の範囲である、請求項1〜9のいずれか一つに記載の方法。
- 前記バーナが、バーナチャンバ内に配置され、該バーナチャンバは、再加熱器のライザから分離されており、かつ、バーナチャンバからの燃焼ガスは、再加熱器のライザに誘導される、請求項9または10に記載の方法。
- 粒子が再加熱器からフラグメンテーション反応器に移される前に、過剰な酸素が粒子から除去される、請求項1〜11のいずれか一つに記載の方法。
- 糖からC1−C3ヒドロキシ化合物を製造する方法であって、次の工程、
請求項1〜12のいずれか一つに記載の方法を実施する工程;そしてそれから、
粗製フラグメンテーション生成物を水素化に供して、対応するC1−C3ヒドロキシ化合物を得る工程、
を含む、上記の方法。 - フラグメンテーション反応器を含む、糖組成物をC1−C3含酸素物にフラグメンテーションするためのシステムであって、該反応器は、その反応器内に、
・ ライザ
・ 第一の粒子分離器
・ 流動化流の入口
・ 粒子の入口
・ 供給原料の入口
・ 粒子の出口
・ 生成物の出口
を含み、
ライザは、フラグメンテーション反応器の内部および下部に配置され、かつ、流動化流の入口および粒子の入口は、ライザの下部に配置され、供給原料の入口は、粒子の入口上方のライザの下部内に配置され、ライザは、ライザ内の粒子を流動化するように適合されており、かつ、該第一の粒子分離器は、ライザの上部内に配置され、かつ、粒子の少なくとも一部を流動化流から分離するように適合されており、かつ、
前記フラグメンテーション反応器は、ガス流に関して第一の粒子分離器の下流に配置された冷却セクションをさらに含み、前記冷却セクションは、前記第一の粒子分離器を出る前記流動化流を冷却するように適合されており、かつ、前記システムは、前記フレグメンテーション反応器を出る粒子を再加熱するための再加熱器をさらに含み、前記再加熱器は、燃料および燃焼空気の入口、バーナ、再加熱器の粒子の入口、再加熱器のライザ、再加熱器の粒子分離器、再加熱器のガスの出口、および再加熱器の粒子の出口を含む、上記のシステム。 - 前記冷却セクションが、フラグメンテーション反応器中に液体を注入することによって急冷するように適合されている、請求項14に記載のシステム。
- 前記第一の粒子分離器が、低体積分離器である、請求項14または15に記載のシステム。
- 前記第一の粒子分離器が、少なくとも一つの方向変更分離器を含む、請求項14〜16のいずれか一つに記載のシステム。
- 前記バーナおよび再加熱器の燃料および燃焼空気の入口が、再加熱器のライザの上流に配置され、かつ、再加熱器の粒子の入口が、バーナの下流の再加熱器のライザの下部に配置され、かつ、再加熱器の粒子の入口が、フラグメンテーション反応器の出口に流体的に接続されており、再加熱器のライザが、バーナからの燃焼ガスによってフラグメンテーション反応器から出る粒子を再加熱するように適合されている、請求項14〜17のいずれか一つに記載のシステム。
- 再加熱器の粒子分離器が、再加熱器のライザの下流に配置され、かつ、再加熱器の粒子の出口が、フラグメンテーション反応器の粒子の入口と流体的に接続されている、請求項14〜18のいずれか一つに記載のシステム。
- 前記バーナが、別個のバーナチャンバ内に配置されている、請求項14〜19のいずれか一つに記載のシステム。
- 前記バーナチャンバが、狭窄部によってライザから分離されている、請求項20に記載のシステム。
- 再加熱器の粒子分離器の下流、かつ、フラグメンテーション反応器の粒子の入口の上流に、ストリッピングチャンバが配置されている、請求項14〜21のいずれか一つに記載のシステム。
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