JP6942340B2 - 磁場誘導装置 - Google Patents

Description

本発明は、体内に注入された磁性複合体を患部へ誘導する磁場誘導装置に関する。

人体の関節に含まれる軟骨が、その近傍に位置する骨の表層とともにはがれることにより軟骨損傷が生じることが知られている。このような軟骨損傷は、離断性骨軟骨炎と呼ばれている。

軟骨及び骨の表層がはがれた患部に軟骨及び骨を再生させるための方法として、軟骨及び骨を再生させる機能を有する細胞と磁性粒子とを複合化した磁性複合体を患部近傍に注射器などを用いて注入し、磁力を利用して、磁性複合体を患部へ誘導する方法が知られている。軟骨を再生させる機能を有する細胞の一例としては、骨髄間葉系幹細胞が挙げられる。磁性粒子を構成する磁性体の一例としては、マグネタイトが挙げられる。マグネタイトの微粒子は、造影剤などにも含まれている。なお、磁力を利用して、磁性複合体を患部へ誘導する方法は、磁気ターゲティングとも呼ばれる。

特許文献１には、磁気ターゲティングに利用可能な磁気誘導装置が記載されている。特許文献１の図１に図示された磁気誘導装置は、ソレノイドコイルと、円環状の外形を有するケーシングとを備えている。ソレノイドコイルは、磁場を発生する磁場発生源であり、ケーシングは、ソレノイドコイルを収納する筐体である。

磁気ターゲティングの手法を用いた軟骨及び骨の再生では、磁性複合体を患部へ誘導するために、体内に注入された磁性複合体に対して、磁性複合体を移動させることができる程度の磁場を作用させる必要がある。磁性複合体を移動させることができるか否かの磁場の閾値は、例えば０．１Ｔ程度である。したがって、磁気誘導装置は、体内の磁性複合体を注入された部位と、軟骨がはがれた患部とを含むある程度広い領域に対して、例えば０．１Ｔを上回る磁場を印加できるように設計されている。

特開２００７−１５１６０５号公報（２００７年６月２１日公開）

ところで、磁気ターゲティングの手法を用いた軟骨及び骨の再生では、磁気ターゲティングの実施前に注射器を用いて磁性複合体を患部近傍に注入したり、磁気ターゲティングの実施前、実施中、及び実施後の少なくとも何れか１つのタイミングにおいて内視鏡を用いて患部近傍を観察したりする場合がある。

特許文献１に記載の磁気誘導装置では、特許文献１の図７に図示されているように、ケーシングの内径がケーシングに挿入されている患部である関節（特許文献１の図７では膝）の外径と比較して十分に大きく設計されている。このように、関節とケーシングとの間には十分なスペースが確保されている場合には、関節をケーシングに挿入した状態のままでも、患部近傍に注射器を刺したり内視鏡を挿入したりすることができる。

ただし、ケーシングの内径を大きく設計すればするほど、（１）ソレノイドコイルの内径も大きくなるため、上述した閾値を上回る磁場を発生するために要する電流値が大きくなり、それによって発熱量が大きくなるため熱害が発生する、（２）磁気誘導装置のサイズが大きくなり重量も重くなる、（３）製造コスト及び運用コストが嵩む、といった弊害が生じる。

一方、ケーシングの内径を関節の外径に近づけるように設計した場合、上述した弊害を避けることができる反面、関節とケーシングとの間に十分なスペースを確保することができなくなる。そのため、関節をケーシングに挿入した状態のままでは、患部近傍に注射器を刺したり内視鏡を挿入したりすることができなくなる。

本発明は上述した課題に鑑みなされたものであり、その目的は、ケーシングの内径を過剰に大きくすることなく、ケーシングの内側空間に挿入した状態の患部近傍に対して注射器を刺したり内視鏡を挿入したりすることが可能な磁気誘導装置を提供することである。

上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る磁場誘導装置は、患部の近傍に注入された磁性複合体を上記患部に向かって誘導する磁場誘導装置であって、上記患部をその内側空間に収容する、環状の第１のケーシング及び環状の第２のケーシングと、上記第１のケーシングの内側壁に巻き付けられた導線からなる第１のソレノイドコイルと、上記第２のケーシングの内側壁に巻き付けられた導線からなる第２のソレノイドコイルと、を備え、上記第１のケーシング及び上記第２のケーシングの各々は、上記第１のケーシングの上記内側空間と上記第２のケーシングの上記内側空間とが連通するように配置されており、上記第１のケーシングと上記第２のケーシングとは、離間している、又は、離間可能な状態に構成されている。

上記の構成によれば、本磁場誘導装置は、磁場発生源として少なくとも上記第１のソレノイドコイル及び上記第２のソレノイドコイルを備えており、上記第１のソレノイドコイル及び上記第２のソレノイドコイルの各々を収容する上記第１のケーシングと上記第２のケーシングとは、離間している、又は、離間可能な状態に構成されている。すなわち、上記第１のケーシングと上記第２のケーシングとの間には、空間が形成されている（又は、空間を形成し得る）。したがって、上記第１のケーシングの上記内側空間、及び、上記第２のケーシングの上記内側空間に上記患部を挿入したままの状態であっても、上記第１のケーシングと上記第２のケーシングとの間に形成された空間を利用することにより、ケーシングの内側空間に挿入した状態の上記患部の近傍に対して注射器を刺したり内視鏡を挿入したりすることができる。

また、上記第１のケーシングと上記第２のケーシングとの間に空間が設けられていることにより、空間が設けられていない場合と比較して、磁場が形成される区間の長さをより長くすることができる。したがって、本磁場誘導装置は、副次的な効果として、磁性複合体を移動させる距離を伸ばすことができる。

また、本発明の一態様に係る磁場誘導装置は、上記第１のケーシングと上記第２のケーシングとの間隔を調整する間隔調整機構を更に備えている、ことが好ましい。

上記の構成によれば、上記間隔調整機構を適宜調整することによって、上記第１のケーシングの上記内側空間、及び、上記第２のケーシングの上記内側空間に形成される磁場のプロファイルを調整することができる。例えば、上記第１のケーシングと上記第２のケーシングとの間隔を大きくした場合は、当該間隔が小さい場合と比較して、磁場が形成される区間の長さをより長くすることができる。また、当該間隔を小さくした場合は、当該間隔が大きい場合と比較して、より強い磁場を発生させることができる。このように、本磁場誘導装置は、磁気ターゲティングを実施する場合に形成される磁場の自由度を高めることができる。

また、本発明の一態様に係る磁場誘導装置において、上記第１のケーシング及び上記第２のケーシングの各々は、上記第１のソレノイドコイルの中心軸と上記第２のソレノイドコイルの中心軸とが一致するように配置されており、上記間隔調整機構は、上記第１のソレノイドコイルの上記中心軸に沿って上記第１のケーシング及び上記第２のケーシングの少なくとも何れか一方を並進させることによって、上記第１のケーシングと上記第２のケーシングとの間隔を調整する、ことが好ましい。

上記の構成によれば、上記間隔調整機構を用いて上記第１のケーシングと上記第２のケーシングとの間隔を調整する場合であっても、上記第１のソレノイドコイルの中心軸及び上記第２のソレノイドコイルの中心軸の位置は、変化しない。したがって、上記第１のケーシングの上記内側空間及び上記第２のケーシングの上記内側空間に挿入した上記患部を動かすことなく、上記第１のケーシングと上記第２のケーシングとの間隔を調整することができる。また、磁場のプロファイルを大きく変化させることなく、上記第１のケーシングと上記第２のケーシングとの間隔を調整することができる。

また、本発明の一態様に係る磁場誘導装置において、上記第１のケーシングと上記第２のケーシングとの間隔が最小になるように上記間隔調整機構を調整した状態において、上記第１のケーシング及び上記第２のケーシングの各々は、上記第１のソレノイドコイルの中心軸と上記第２のソレノイドコイルの中心軸とが一致するように配置されており、上記間隔調整機構は、上記第１のケーシング及び上記第２のケーシングの外縁上に設定された所定の軸、又は、上記第１のケーシング及び上記第２のケーシングの外縁よりも外側に設定された所定の軸を回転軸として、上記第１のケーシング及び上記第２のケーシングの少なくとも何れか一方を回転させることによって、上記第１のケーシングと上記第２のケーシングとの間隔を調整する、ように構成されていてもよい。

上記の構成によれば、上記間隔調整機構を用いて上記第１のケーシングと上記第２のケーシングとの間隔を調整することによって、上記第１のソレノイドコイルの中心軸と上記第２のソレノイドコイルの中心軸とのなす角を調整することができる。したがって、上記第１のケーシングの上記内側空間及び上記第２のケーシングの上記内側空間に挿入した上記患部が関節に含まれる場合に、関節を任意の角度に曲げた状態の上記患部近傍に対して注射器を刺したり内視鏡を挿入したりすることができる。

また、本発明の一態様に係る磁場誘導装置は、上記第１のケーシング及び上記第２のケーシングのうち少なくとも何れか一方に配置された１又は複数のレーザ光源を更に備え、当該１又は複数のレーザ光源の各々が発するレーザ光が上記第１のケーシングの上記内側空間又は上記第２のケーシングの上記内側空間に含まれる所定の位置を指し示すように、上記１又は複数のレーザ光源の各々は、配置されている、ことが好ましい。

上記の構成によれば、上記患部を上記第１のケーシングの上記内側空間及び上記第２のケーシングの上記内側空間に挿入する場合における上記患部の位置を定めるガイドとして、上記複数のレーザ光源の各々が発するレーザ光を用いることができる。したがって、上記患部を所定の位置にセットすることが容易になる。

また、本発明の一態様に係る磁場誘導装置において、上記所定の位置は、上記第１のソレノイドコイルの中心軸上、又は、上記第２のソレノイドコイルの中心軸上に設定されている、ことが好ましい。

上記の構成によれば、上記患部を磁場が強い位置にセットすることが容易になる。

本発明の一態様に係る磁場誘導装置によれば、ケーシングの内径を過剰に大きくすることなく、ケーシングの内側空間に挿入した状態の上記患部の近傍に対して注射器を刺したり内視鏡を挿入したりすることが可能な磁気誘導装置を提供することができる。

（ａ）は、本発明の第１の実施形態に係る磁場誘導装置の斜視図である。（ｂ）及び（ｃ）は、（ａ）に示した磁場誘導装置の縦断面図である。 （ａ）は、本発明の第２の実施形態に係る磁場誘導装置の斜視図である。（ｂ）及び（ｃ）は、（ａ）に示した磁場誘導装置の縦断面図である。 （ａ）は、本発明の第１〜第４の実施例及び本発明の参考例を模式的に示した縦断面図及び平面図である。（ｂ）は、本発明の第１〜第４の実施例の内側空間内における磁束密度分布を示すグラフである。 （ａ）〜（ｃ）は、本発明の参考例の内側空間内における磁束密度分布のシミュレーション結果を示すグラフである。 （ａ）は、本発明の参考例の内側空間内における磁束密度分布の測定結果を示すグラフである。（ｂ）は、本発明の参考例の内側空間内における磁束密度の電流依存性を示すグラフである。

〔第１の実施形態〕
本発明の第１の実施形態に係る磁場誘導装置について、図１を参照して説明する。図１の（ａ）は、本実施形態に係る磁場誘導装置１の斜視図である。図１の（ｂ）及び（ｃ）は、磁場誘導装置１の縦断面図である。なお、本願明細書において縦断面図とは、後述するソレノイドコイルの中心軸を含む断面における断面図を意味する。また、横断面図とは、上記ソレノイドコイルの中心軸に交わる断面における断面図を意味する。図１の（ｂ）は、後述するケーシング１２とケーシング２２とが離間した状態の磁場誘導装置１を示す。図１の（ｃ）は、ケーシング１２とケーシング２２とが接触した状態の磁場誘導装置１を示す。

図１に図示する座標系は、鉛直方向に沿う方向をｙ軸方向と定め、後述するソレノイドコイル１３，２３の中心軸に沿う方向をｚ軸方向と定め、ｙ軸方向及びｚ軸方向とともに右手系の直交座標系を形成するようにｘ軸方向を定めている。より詳しくは、鉛直方向上向きの方向をｙ軸正方向と定め、第２のモジュール２１から第１のモジュール１１へ向かう向きをｚ軸正方向と定め、後述するスタンド３５から後述するスタンド３４へ向かう向きをｘ軸正方向と定めている。なお、本実施形態においては、後述するソレノイドコイル１３，２３の中心軸が床３の表面に沿うように第１のモジュール１１及び第２のモジュール２１の向きを定めている。すなわち、床３の表面は、ｚｘ平面に沿っている。

なお、本実施形態において、ケーシング１２及びソレノイドコイル１３の各々の中心軸と、ケーシング２２及びソレノイドコイル２３の各々の中心軸とは、一致している。本実施形態では、ケーシング１２、ソレノイドコイル１３、ケーシング２２、及びソレノイドコイル２３の各々の中心軸をまとめて中心軸Ｃと呼ぶ（図１の（ａ）参照）。

図１の（ａ）に示すように、磁場誘導装置１は、第１のモジュール１１と、第２のモジュール２１と、ガイド棒３１〜３３と、スタンド３４，３５と、支持軸３６，３７とを備えている。

（第１のモジュール１１）
図１の（ｂ）及び（ｃ）に示すように、第１のモジュール１１は、ケーシング１２と、ソレノイドコイル１３と、スリーブ１４と、レーザダイオード（ＬＤ）１６ａ〜１６ｃとを備えている。ケーシング１２及びソレノイドコイル１３は、それぞれ、特許請求の範囲に記載の第１のケーシング及び第１のソレノイドコイルである。

スリーブ１４は、両端（ｚ軸正方向側及びｚ軸負方向側の端部）が開放され、その横断面における断面形状が角丸長方形である筒状部材である。角丸長方形は、長方形の４つの角を丸めた形状であり、オーバル型ともいえる。スリーブ１４の側壁により囲まれた空間は、ケーシング１２の内側空間１５を構成する。スリーブ１４は、内側空間１５と後述する内側空間２５に対して、患部２ａを含む足２を挿入することができるようにその内径（長軸方向の長さ及び短軸方向の長さ）が定められている。

なお、本実施形態においては、足２を内側空間１５，２５に挿入するものとして説明している。しかし、内側空間１５，２５に挿入する体の部位は、足２に限定されるものではなく、体の如何なる部位であってもよい。スリーブ１４の内径は、内側空間１５，２５に挿入する体の部位のサイズに応じて適宜定めることができる。

スリーブ１４は、図１の（ａ）に示した状態において、その横断面における長軸がｘ軸方向に沿い、その横断面における短軸がｙ軸方向に沿うように配置されている。

スリーブ１４は、熱伝導率が低く、強度が高い材料により構成されていることが好ましい。本実施形態において、スリーブ１４は、断熱性を持った強化プラスチック製である。熱伝導率が低い材料を用いることによって、スリーブ１４は、するソレノイドコイル１３において発生する熱が後述する足２に伝わりにくくすることができる。また、強度が高い材料を用いることによって、足２の重さが第１のモジュール１１に掛かるような場合であっても、その重さに耐え、ケーシング１２及びソレノイドコイル１３が変形することを防止することができる。

ケーシング１２は、ソレノイドコイル１３を収容する環状の筐体であり、スリーブ１４の外側を取り囲み、且つ、スリーブ１４と同軸になるように構成されている。ケーシング１２は、その横断面における断面形状が角丸長方形形である筒状部材である。また、ケーシング１２は、その横断面における長軸がｘ軸方向に沿い、その横断面における短軸がｙ軸方向に沿うように配置されている。これらの点において、ケーシング１２は、スリーブ１４と同様である。本実施形態において、ケーシング１２は、強化プラスチック製である。

ケーシング１２の内側には、図１の（ｂ）及び（ｃ）に示すように、縦断面における断面形状が長方形である空間が形成されている。この空間内には、ソレノイドコイル１３が収容されている。ソレノイドコイル１３は、ケーシング１２の内側壁に対して導線（本実施形態では銅線）を巻き付けることによって構成されている。ソレノイドコイル１３は、図１に図示しない電流源から電流を供給されることによって、電磁石として機能し、磁場を発生する。すなわち、ソレノイドコイル１３は、磁場発生源である。なお、図１の（ｂ）及び（ｃ）においては、ソレノイドコイル１３を構成する導線の一部のみを図示し、その他の導線の図示を省略している。

スリーブ１４の内壁には、ＬＤ１６ａ〜１６ｃが取り付けられている。ＬＤ１６ａ〜１６ｃは、それぞれ、スリーブ１４の内壁のうち、ｙ軸正方向側の端部（天頂部）、ｘ軸正方向側の端部、及びｘ軸負方向側の端部に取り付けられている。ＬＤ１６ａ〜１６ｃの各々の光軸は、それぞれが発するレーザ光が中心軸Ｃ上において交わるように設定されている。ＬＤ１６ａ〜１６ｃの各々が発するレーザ光が交わる中心軸Ｃ上のある点は、特許請求の範囲に記載の所定の位置の一例である。

このように構成された第１のモジュール１１は、支持軸３６を用いて、スタンド３４に対して回転可能に取り付けられており、且つ、支持軸３７を用いて、スタンド３５に対して回転可能に取り付けられている。本実施形態において、スタンド３４，３５は、ｙｚ平面に沿うように配置されており、支持軸３６，３７は、ｘ軸に沿い、互いに同軸になるように配置されている。したがって、第１のモジュール１１は、支持軸３６，３７を回転軸として、回転することができる。

また、スリーブ１４には、３本のガイド棒３１〜３３が中心軸Ｃに沿うように固定（例えば圧入）されている。より詳しくは、（１）ガイド棒３１は、スリーブ１４の天頂部に固定されており、（２）ガイド棒３２は、スリーブ１４のｘ軸正方向側且つｙ軸負方向側である部分に固定されており、（３）ガイド棒３３は、スリーブ１４のｘ軸負方向側且つｙ軸負方向側である部分に固定されている。

ガイド棒３１〜３３は、後述する第２のモジュール２１のスリーブ２４に設けられたガイド孔（例えば図１の（ｂ）に記載のガイド孔２４１）とともに間隔調整機構を構成する。間隔調整機構については、第２のモジュール２１のモジュールを説明したあとに言及する。

（第２のモジュール２１）
図１の（ｂ）及び（ｃ）に示すように、第２のモジュール２１は、ケーシング２２と、ソレノイドコイル２３と、スリーブ２４とを備えている。ケーシング２２及びソレノイドコイル２３は、それぞれ、特許請求の範囲に記載の第２のケーシング及び第２のソレノイドコイルである。

第２のモジュール２１のケーシング２２、ソレノイドコイル２３、及びスリーブ２４は、それぞれ、第１のモジュール１１のケーシング１２、ソレノイドコイル１３、及びスリーブ１４に対応する部材である。したがって、ここでは、第２のモジュール２１の構成のうち第１のモジュール１１と異なる構成についてのみ説明し、第１のモジュール１１と共通する構成についての説明を省略する。

互いに環状であるケーシング１２及びソレノイドコイル１３の各々の中心軸と、ケーシング２２及びソレノイドコイル２３の各々の中心軸とが一致するように（同軸になるように）第１のモジュール１１と第２のモジュール２１とを配置した場合に、スリーブ２４のうちガイド棒３１に対応する位置には、ガイド棒３１を収容可能なガイド孔２４１が設けられている（図１の（ｂ）参照）。同様に、スリーブ２４のうちガイド棒３１，３２に対応する位置には、図１の（ｂ）に図示しないものの、ガイド棒３１，３２を収容可能なガイド孔が設けられている。

これらのガイド孔の各々がガイド棒３１〜３３の各々を収容するように第２のモジュール２１を配置することによって、磁場誘導装置１は、ケーシング１２とケーシング２２との間隔Ｌ_Ｓを調整することができる。すなわち、磁場誘導装置１は、ケーシング１２とケーシング２２とを離間させたり、接触させたりすることができる。

なお、磁場誘導装置１が備える間隔調整機構は、中心軸Ｃに沿ってケーシング１２及びケーシング２２の少なくとも何れか一方（本実施形態ではケーシング２２）を並進させることによって、間隔Ｌ_Ｓを調整するように構成されている。

（磁場誘導装置１の効果）
上述したように、磁場誘導装置１は、各々の中心軸が同軸となるように配置されたソレノイドコイル１３とソレノイドコイル２３とを備えている。また、ケーシング１２及びケーシング２２の各々は、内側空間１５と内側空間２５とが連通するように配置されている。このように構成されたソレノイドコイル１３，２３は、図１に図示しない電流源から電流を供給されることによって、電磁石として機能し、内側空間１５，２５に均一で強い磁場を発生することができる。なお、本願明細書における強い磁場とは、磁束密度が０．１Ｔ以上である磁場を指す。磁束密度が０．１Ｔを上回ることによって、後述する磁性複合体を患部２ａに向かって誘導することができる。すなわち、０．１Ｔという磁束密度は、磁気ターゲティングを実施する場合の閾値といえる。

なお、０．１Ｔは、磁気ターゲティングを実施する場合の閾値の一例である。この閾値は、磁性複合体に含まれる磁性粒子を構成する磁性体（例えばマグネタイト）の磁気特性などに応じて変化する。ソレノイドコイル１３，２３の各設計パラメータや、ソレノイドコイル１３，２３に供給される電流量などは、上述した磁性体の種類などに応じて最適化することができる。

このように構成された磁場誘導装置１は、磁気ターゲティングの手法を用いた軟骨及び骨の再生に利用可能である。特に、磁場誘導装置１は、間隔調整機構を有し、ケーシング１２とケーシング２２とを離間させることができる。したがって、内側空間１５及び内側空間２５に患部２ａを挿入したままの状態であっても、離間したケーシング１２とケーシング２２との間に形成された空間を利用することにより、内側空間１５，２５に挿入した状態の患部２ａの近傍に対して注射器４を刺したり内視鏡（図１に不図示）を挿入したりすることができる。

したがって、磁場誘導装置１は、ソレノイドコイルの内径を患部２ａの外径よりも過剰に大きく設計することにより生じ得る以下の弊害を避けつつ、患部２ａを内側空間１５，２５に挿入した状態のまま、患部２ａの近傍に注射器４を刺したり内視鏡を挿入したりすることができる。

（弊害１）ソレノイドコイルの内径が大きくなることに起因して、上述した閾値を上回る磁場を発生するために必要となる電流値が大きくなり、それによって発熱量が大きくなるため熱害が発生する。

（弊害２）磁気誘導装置のサイズが大きくなり重量も重くなる。

（弊害３）磁気誘導装置の製造コスト及び運用コストが嵩む。

このように、ケーシング１２とケーシング２２との間に形成された空間から注射器４を患部２ａの近傍に刺すことができることによって、患部２ａの近傍に磁性複合体を注入することができる。そのうえで、磁気ターゲティングの手法を用いることによって、磁性複合体を患部２ａの軟骨損傷が生じている部位に対して磁性複合体をただちに堆積させることができる。なお、磁場誘導装置１は、ケーシング１２とケーシング２２とを離間させた状態及び接触させた状態の何れの状態であっても、磁気ターゲティングを実施することができる。

また、内視鏡は、モニター５１とともに内視鏡システム５を構成する。ケーシング１２とケーシング２２との間に形成された空間から、内視鏡を患部２ａの近傍に挿入可能なことによって、磁気ターゲティングの実施前、実施中、及び実施後の少なくとも何れか１つのタイミングにおいて内視鏡を用いて患部近傍を観察することができる。したがって、磁気ターゲティングを用いて磁性複合体を患部２ａに堆積させる場合の確度を高めることができる。

また、ケーシング１２とケーシング２２との間に空間が設けられていることにより、空間が設けられていない場合と比較して、磁場が形成される区間の長さ（ｚ軸方向に沿った長さ）をより長くすることができる。したがって、磁場誘導装置１は、副次的な効果として、磁性複合体を移動させる距離を伸ばすことができる。すなわち、患部２ａの近傍に注入された磁性複合体をより遠くまで移動させることができる。

また、磁場誘導装置１は、間隔調整機構を有していることによって、間隔Ｌ_Ｓを適宜調整することができる。したがって、内側空間１５，２５に形成される磁場のプロファイルを調整することができる。例えば、間隔Ｌ_Ｓを大きくした場合は、間隔Ｌ_Ｓが小さい場合と比較して、磁場が形成される区間の長さをより長くすることができる。また、間隔Ｌ_Ｓを小さくした場合は、間隔Ｌ_Ｓが大きい場合と比較して、より強い磁場を発生させることができる。このように、磁場誘導装置１は、磁気ターゲティングを実施する場合に形成される磁場の自由度を高めることができる。

また、磁場誘導装置１は、中心軸Ｃに沿ってケーシング２２を並進させることによって間隔Ｌ_Ｓを調整する間隔調整機構を備えている。

この構成によれば、間隔Ｌ_Ｓを調整する場合であっても、ソレノイドコイル１３の中心軸及びソレノイドコイル２３の中心軸の位置は、変化しない。したがって、患部２ａを動かすことなく、上記第１のケーシングと上記第２のケーシングとの間隔を調整することができる。また、磁場のプロファイルを大きく変化させることなく、間隔Ｌ_Ｓを調整することができる。

また、磁場誘導装置１は、特許請求の範囲に記載の１又は複数のレーザ光源の一態様であるＬＤ１６ａ〜１６ｃを備えている。ＬＤ１６ａ〜１６ｃの各々が発するレーザ光は、内側空間１５，２５に含まれる所定の位置を指し示す。

この構成によれば、患部２ａを内側空間１５，２５に挿入する場合の位置を定めるガイドとして、ＬＤ１６ａ〜１６ｃの各々が発するレーザ光を用いることができる。したがって、患部２ａを所定の位置にセットすることが容易になる。

また、磁場誘導装置１において、ＬＤ１６ａ〜１６ｃの各々が発するレーザ光の光軸は、中心軸Ｃと交わるように設定されている。すなわち、ＬＤ１６ａ〜１６ｃの各々が発するレーザ光は、中心軸Ｃ上のある点を指し示す。

この構成によれば、患部２ａを磁場が強い位置にセットすることが容易になる。

（磁場誘導装置１の変形例）
本実施形態において、ケーシング１２、スリーブ１４、ケーシング２２、及びスリーブ２４の横断面の形状は、角丸長方形であるものとして説明した。しかし、当該横断面の形状は、角丸長方形に限定されるものではなく、例えば、円形、楕円形、及び長円形であってもよいし、正方形及び長方形であってもよい。

横断面の形状が長方形で長軸と短軸とを有する形状であった場合、その長軸がｘ軸に沿うようにケーシング１２，２２を配置することによって、内側空間１５，２５に挿入した患部２ａと、中心軸Ｃとの相対角を容易に調整することができる。したがって、患部２ａの近傍において、磁性複合体を移動させる方向を容易に適宜調整することができる。

また、本実施形態においては、ソレノイドコイル１３，２３を構成する導線の線材として、常伝導体である銅を採用した。しかし、線材は、銅以外の常伝導体により構成されていてもよいし、超伝導体により構成されていてもよい。超伝導体としては、例えばＢｉ系の高温超伝導体などを採用することができる。

本実施形態において、磁場誘導装置１は、間隔調整機構を備えている。しかし、本発明の一態様に係る磁場誘導装置においては、ケーシング１２とケーシング２２とが離間した状態で固定されている構成であってもよい。すなわち、本発明の一態様に係る磁場誘導装置においては、間隔調整機構を省略し、間隔Ｌ_Ｓが所定の値に固定されている構成を採用してもよい。

また、ソレノイドコイル１３及びソレノイドコイル２３の設計パラメータは、所望の磁場のプロファイルに応じて、互いに異なっていてもよい。

また、磁場誘導装置１は、２つのソレノイドコイル１３，２３を備えている。しかし、本発明の一態様に係る磁場誘導装置は、３つ以上のソレノイドコイルを備えていてもよい。３つ以上のソレノイドコイルを備えている場合、何れか１つのソレノイドコイル（第１のソレノイドコイル）を収容するケーシング（第１のケーシング）と、別のソレノイドコイル（第２のソレノイドコイル）を収容するケーシング（第２のケーシング）とが少なくとも離間していればよい。

〔第２の実施形態〕
本発明の第２の実施形態に係る磁場誘導装置について、図２を参照して説明する。図２の（ａ）は、本実施形態に係る磁場誘導装置１０１の斜視図である。図２の（ｂ）及び（ｃ）は、磁場誘導装置１０１の縦断面図である。図２の（ｂ）は、後述するケーシング１１２とケーシング１２２とが離間した状態の磁場誘導装置１０１を示す。図１の（ｃ）は、ケーシング１１２とケーシング１２２とが接触した状態の磁場誘導装置１０１を示す。なお、図２に図示する座標系は、図１に図示した座標系と同様に定めている。

図２の（ａ）に示すように、磁場誘導装置１０１は、第１のモジュール１１１と、第２のモジュール１２１と、ヒンジ１３１と、スタンド１３４，１３５と、支持軸１３６，１３７とを備えている。

図２の（ｂ）及び（ｃ）に示すように、第１のモジュール１１１は、ケーシング１１２と、ソレノイドコイル１１３と、スリーブ１１４と、レーザダイオード（ＬＤ）１１６ａ〜１１６ｈとを備えている。ケーシング１１２及びソレノイドコイル１１３は、それぞれ、特許請求の範囲に記載の第１のケーシング及び第１のソレノイドコイルである。また、内側空間１１５は、特許請求の範囲に記載の第１のケーシングの内側空間である。

また、第２のモジュール１２１は、ケーシング１２２と、ソレノイドコイル１２３と、スリーブ１２４と、ＬＤ１２６とを備えている。ケーシング１２２及びソレノイドコイル１２３は、それぞれ、特許請求の範囲に記載の第２のケーシング及び第２のソレノイドコイルである。また、内側空間１２５は、特許請求の範囲に記載の第２のケーシングの内側空間である。

磁場誘導装置１０１を構成する各部材の部材番号の多くは、第１の実施形態に係る磁場誘導装置１を構成する各部材の部材番号を１００番台に変更することによって得られる。すなわち、磁場誘導装置１０１の第１のモジュール１１１、ケーシング１１２、ソレノイドコイル１１３、スリーブ１１４、内側空間１１５、及びＬＤ１１６ａ〜１１６ｈは、それぞれ、磁場誘導装置１の第１のモジュール１１、ケーシング１２、ソレノイドコイル１３、スリーブ１４、内側空間１５、及びＬＤ１６ａ〜１６ｃに対応する。また、磁場誘導装置１０１の第２のモジュール１２１、ケーシング１２２、ソレノイドコイル１２３、スリーブ１２４、及び内側空間１２５は、それぞれ、磁場誘導装置１の第２のモジュール２１、ケーシング２２、ソレノイドコイル２３、スリーブ２４、及び内側空間２５に対応する。また、磁場誘導装置１０１のスタンド１３４，１３５及び支持軸１３６，１３７は、それぞれ、磁場誘導装置１のスタンド３４，３５及び支持軸３６，３７に対応する。

したがって、本実施形態では、磁場誘導装置１０１の構成のうち磁場誘導装置１と同様に構成され、同じ機能を有する部材については、その説明を省略する。

なお、ケーシング１１２、ソレノイドコイル１１３、及びスリーブ１１４の各々は、同軸となるように配置されている。ケーシング１１２、ソレノイドコイル１１３、及びスリーブ１１４に共通の中心軸を中心軸Ｃ_１とする（図２の（ｂ）参照）。また、ケーシング１２２、ソレノイドコイル１２３、及びスリーブ１２４の各々は、同軸となるように配置されている。ケーシング１２２、ソレノイドコイル１２３、及びスリーブ１２４に共通の中心軸を中心軸Ｃ_２とする（図２の（ｂ）参照）。

（間隔調整機構）
磁場誘導装置１０１は、ケーシング１１２とケーシング１２２との間隔を調整する間隔調整機構として、ヒンジ１３１を採用している（図２の（ｂ）及び（ｃ）参照）。なお、ヒンジは、蝶番とも呼ばれる。

ヒンジ１３１は、第１の板状部材と、第２の板状部材と、第１の板状部材及び第２の板状部材を回転可能な状態に連結する棒状部材とを備えている。この棒状部材が延伸されている軸（特許請求の範囲に記載の所定の軸）を回転軸として、第１の板状部材と第２の板状部材とは、ヒンジ１３１が開くことによって離間し、ヒンジ１３１が閉じることによって接触する。なお、図２の（ｂ）及び（ｃ）においては、第１の板状部材及び第２の板状部材の図示を省略し、棒状部材のみを模式的に示している。

ヒンジ１３１は、上記回転軸がケーシング１１２及びケーシング１２２の外縁上に位置するように、第１の板状部材及び第２の板状部材がそれぞれケーシング１１２及びケーシング１２２に対して接合されている。なお、図２の（ａ）及び（ｃ）に示すように、ケーシング１１２及びケーシング１２２を接触させて状態において中心軸Ｃ_１と中心軸Ｃ_２とが一致するように、ヒンジ１３１は、ケーシング１１２及びケーシング１２２に対して接合されている。この一致した中心軸のことを以下では、中心軸Ｃ_０と呼ぶ。

したがって、磁場誘導装置１０１においては、ヒンジ１３１の棒状部材を回転軸として、図２の（ｂ）に示すようにケーシング１１２とケーシング１２２とを離間させたり、図２の（ｃ）に示すようにケーシング１１２とケーシング１２２とを接触させたりすることができる。すなわち、磁場誘導装置１０１は、ケーシング１１２とケーシング１２２とが離間可能な状態に構成されており、中心軸Ｃ_１と中心軸Ｃ_２とのなす角を調整することができる。

したがって、内側空間１１５及び内側空間１２５に挿入した患部２ａが関節（本実施形態では膝）に含まれる場合であっても、関節を任意の角度に曲げた状態の患部近傍に対して注射器４を刺したり内視鏡を挿入したりすることができる。

また、磁場誘導装置１の間隔調整機構と比較して、ヒンジ１３１は、ケーシング１１２及びケーシング１２２の一方の側（本実施形態では鉛直方向上側）を大きく離間させることが容易である。換言すれば、ヒンジ１３１は、磁場誘導装置１０１を過剰に大きくすることなくケーシング１１２とケーシング１２２との間に広い空間を確保することができる。したがって、注射器４を刺したり内視鏡を挿入したりする作業が容易になる。

また、磁場誘導装置１０１は、内側空間１１５，１２５に形成される磁場のプロファイルを調整することができる。例えば、ケーシング１１２とケーシング１２２との間隔Ｌ_Ｓを大きくした場合は、間隔Ｌ_Ｓが小さい場合と比較して、磁場が形成される区間の長さをより長くすることができる。また、間隔Ｌ_Ｓを小さくした場合は、間隔Ｌ_Ｓが大きい場合と比較して、より強い磁場を発生させることができる。このように、磁場誘導装置１０１は、磁気ターゲティングを実施する場合に形成される磁場の自由度を高めることができる。

また、磁場誘導装置１０１は、（１）ヒンジ１３１を閉じることによって、中心軸Ｃ_０に沿った磁場を患部２ａに印加することもできるし、（２）ヒンジ１３１を開くことによって、中心軸Ｃ_１と中心軸Ｃ_２とを連続に繋いだ形状の磁場を患部２ａに印加することもできる。磁場誘導装置１０１は、（１）の場合には、直線的なプロファイルを有する磁場を形成可能であり、（２）の場合には、屈曲したプロファイルを有する磁場を形成可能である。このように、磁場誘導装置１０１は、磁気ターゲティングを実施するために異なるプロファイルの磁場の中から最適なプロファイルの磁場を選択することができる。したがって、磁場誘導装置１０１は、磁性複合体を移動させる方向を制御する場合の自由度が高めることができる。

なお、本実施形態においてヒンジ１３１の回転軸は、ケーシング１１２及びケーシング１２２の外縁上に設定しているが、当該外縁よりも外側の任意の位置にヒンジ１３１の回転軸を設定することもできる。回転軸を設定する位置は、ケーシング１１２とケーシング１２２とを離間させる態様に応じて適宜設計することができる。

（ＬＤ１１６ａ〜１１６ｈ及びＬＤ１２６）
磁場誘導装置１０１は、ケーシング１１２に配置された１又は複数のレーザ光源であるＬＤ１１６ａから１１６ｈと、ケーシング１２２に配置された１又は複数のレーザ光源であるＬＤ１２６を備えている。ＬＤ１１６ａ〜１１６ｈ及びＬＤ１２６の各々が発するレーザ光は、内側空間１１５に含まれる中心軸Ｃ_０上のある点を指し示している。

ＬＤ１１６ａ〜１１６ｈ及びＬＤ１２６の各々は、磁場誘導装置１のＬＤ１６ａ〜１６ｃと同様の効果を奏する。

なお、ＬＤ１１６ａ〜１１６ｈ及びＬＤ１２６の各々が指し示す所定の位置は、図２の（ａ）に示すように１つの所定の箇所であってもよいし、複数の所定の箇所であってもよい。ＬＤ１１６ａ〜１１６ｈ及びＬＤ１２６の各々が複数の所定の箇所を指し示す場合の例として、（１）ＬＤ１１６ａ〜１１６ｇの各々が発するレーザ光は、中心軸Ｃ_０に対して１つの所定の位置である第１の所定の位置において交わり、（２）ＬＤ１１６ｈ及びＬＤ１２６の各々が発するレーザ光は、それぞれ、中心軸Ｃ_０に対して、上記第１の所定の位置とは異なる第２の所定の位置及び第３の所定の位置において交わる構成が挙げられる。この場合は、第１の所定の位置は、第２の所定の位置及び第３の所定の位置の中間に位置することになる。

（磁場誘導装置１０１の変形例）
磁場誘導装置１０１の変形例として、磁場誘導装置１の変形例として記載した各構成を適宜適用することができる。したがって、ここでは、磁場誘導装置１０１に適用可能な変形例の構成に関する説明を省略する。

〔実施例及び参考例〕
本発明の第１〜第４の実施例と、本発明の参考例とについて、図３〜図５を参照して説明する。

図３の（ａ）は、第１〜第４の実施例及び参考例である磁場誘導装置２０１を模式的に示した縦断面図及び平面図である。図３の（ｂ）は、第１〜第４の実施例の内側空間２１５，２２５内における磁束密度分布を示すグラフである。図４の（ａ）〜（ｃ）は、参考例の内側空間２１５，２２５内における磁束密度分布のシミュレーション結果を示すグラフである。図４の（ａ）には、ソレノイドコイル２１３，２２３に２．５Ａ以上２．９Ａ以下の電流を供給した場合の磁束密度分布を示している。図４の（ｂ）には、ソレノイドコイル２１３，２２３に５．５Ａ以上５．７Ａ以下の電流を供給した場合の磁束密度分布を示している。図４の（ｃ）には、ソレノイドコイル２１３，２２３に８．３Ａ以上８．６Ａ以下の電流を供給した場合の磁束密度分布を示している。図５の（ａ）は、参考例の内側空間２１５，２２５内における磁束密度分布の測定結果を示すグラフである。このとき、ソレノイドコイル２１３，２２３に供給した電流は、１０Ａである。図５の（ｂ）は、参考例の内側空間２１５，２２５内における磁束密度の電流依存性を示すグラフである。図５の（ｂ）においては、シミュレーション結果を白抜きの丸で示し、測定結果を白抜きの四角で示している。

図３の（ａ）に示すように、第１〜第４の実施例及び参考例である磁場誘導装置２０１は、第１のモジュール２１１と第２のモジュール２２１とを備えている。第１のモジュール２１１は、第１のケーシングであるケーシング２１２と、第１のソレノイドコイルであるソレノイドコイル２１３とを含む。第２のモジュール２２１は、第２のケーシングであるケーシング２２２と、第２のソレノイドコイルである２２３とを含む。

磁場誘導装置２０１の第１のモジュール２１１、ケーシング２１２、ソレノイドコイル２１３、第２のモジュール２２１、ケーシング２２２、及びソレノイドコイル２２３は、それぞれ、磁場誘導装置１の第１のモジュール１１、ケーシング１２、ソレノイドコイル１３、第２のモジュール２１、ケーシング２２、及びソレノイドコイル２３に対応する。

磁場誘導装置２０１において、ケーシング２１２、ソレノイドコイル２１３、ケーシング２２２、及びソレノイドコイル２２３の中心軸が何れも同軸となるように、第１のモジュール２１１と第２のモジュール２２１とは配置されている。

なお、ケーシング２１２及びソレノイドコイル２１３は、磁場誘導装置１及び磁場誘導装置１０１の何れにも適用することができる。同様に、ケーシング２２２及びソレノイドコイル２２３は、磁場誘導装置１及び磁場誘導装置１０１の何れにも適用することができる。すなわち、磁場誘導装置２０１が間隔調整機構を採用する場合、図１に示したスライド式の間隔調整機構を採用することもできるし、図２に示した回転式の間隔調整機構を採用することもできる。

図３の（ａ）に図示した座標系は、図１に図示した座標系と同様に定めている。なお、図３の（ａ）においては、ケーシング２１２，２２２及びソレノイドコイル２１３，２２３に共通する中心軸上のうち、ケーシング２２２のｚ軸負方向側の端面の位置が原点となるように、座標系を定めている。

第１〜第４の実施例及び参考例の磁場誘導装置２０１は、以下に示す表１のように各設計パラメータを定められている。ここでは、ケーシング２１２の外径Ｄ_Ｏ１及び内径Ｄ_Ｉ１と、ケーシング２２２の外径Ｄ_Ｏ２及び内径Ｄ_Ｉ２と、ケーシング２１２，２２２の幅Ｌ_Ｌ，Ｌ_Ｒと、ソレノイドコイル２１３，２２３の中心軸に沿った方向（ｚ軸方向）の巻数Ｎ_Ｚ１，Ｎ_Ｚ２と、ソレノイドコイル２１３，２２３の径方向（例えばｙ軸方向）の巻数Ｎ_Ｒ１，Ｎ_Ｒ２とを設計パラメータとしている。ソレノイドコイル２１３，２２３の総巻数Ｎ_１，Ｎ_２は、巻数Ｎ_Ｚ１と巻数Ｎ_Ｒ１との積及び巻数Ｎ_Ｚ２と巻数Ｎ_R２との積である。なお、第１〜第４の実施例及び参考例において、ケーシング２１２とケーシング２２２との間隔Ｌ_Ｓは、共通に１０ｍｍとした。

なお、ソレノイドコイル２１３，２２３を構成する銅線としては、直径が１ｍｍである銅線を用いた。また、図３の（ｂ）に示す第１〜第４の実施例の磁束密度分布を測定するときには、ソレノイドコイル２１３，２２３に２Ａの電流を供給した。また、磁束密度は、ソレノイドコイル２１３，２２３の中心軸上において測定した。

第１〜第４の実施例は、互いに連通する内側空間２１５，２２５の中央において、０．０１７Ｔ以上０．０３３Ｔ未満の磁束密度を発生させることができた（図３の（ｂ）参照）。内側空間２１５，２２５の上記中央は、中心軸上に位置する点であって、互いに離間しているケーシング２１２とケーシング２２２とから等距離にある点とも言い換えられる。

ソレノイドコイル２１３，２２３が発生する磁束密度は、供給する電流値におよそ比例することが知られている。したがって、磁気ターゲティングに用いるための閾値である０．１Ｔを上回る磁束密度を発生させるためには、第１の実施例であれば約８．４Ａ、第２の実施例であれば約６．３Ａ、第３の実施例であれば約８Ａ、第４の実施例であれば約１１．８Ａの電流をソレノイドコイル２１３，２２３に供給すればよいことが分かった。

以上の結果より、ソレノイドコイル２１３，２２３において、上述した各設計パラメータを適宜設計することによって、内側空間２１５，２２５に発生する磁場の磁束密度と、磁場のプロファイルとを調整できることが分かった。したがって、磁気ターゲティングを実施する場合に求められる磁場の磁束密度及びプロファイルに応じて、適宜、ソレノイドコイル２１３，２２３を設計可能であることが分かった。

また、参考例は、Ｂｉｏ−Ｓａｖａｒｔの法則を用いて磁束密度をシミュレーションした結果と、磁束密度の測定結果との整合性を確認するために作成した磁場誘導装置２０１である。参考例の設計パラメータも表１に合わせて記載している。

参考例において、ソレノイドコイル２１３，２２３に供給する電流を２．５Ａ以上８．６Ａ以下の範囲内で変化させた場合の磁束密度をシミュレーションした。その結果、図４の（ａ）〜（ｃ）に示した磁束密度分布を得た。

参考例では、ソレノイドコイル２１３とソレノイドコイル２２３との設計パラメータを異ならせた。その結果、これらの設計パラメータの違いに起因して、ｚ軸正方向側の端部における磁場のプロファイルと、ｚ軸負方向側の端部における磁場のプロファイルとが異なることが分かった。

また、参考例において、ソレノイドコイル２１３，２２３に供給する電流を０Ａ以上１０Ａ以下の範囲内で変化させた場合の磁束密度をシミュレーション及び測定した。

図５の（ａ）を参照すれば、磁場誘導装置２０１は、ソレノイドコイル２１３，２２３に１０Ａの電流を供給することにより約１８０ｍＴの磁束密度を発生することが分かった。また、図５の（ｂ）を参照すれば、磁場誘導装置２０１によって得られたシミュレーション結果と測定結果とは、よく一致することが分かった。

本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。

本発明は、体内に注入された磁性複合体を誘導する磁場誘導装置として利用することができる。

１，１０１ 磁場誘導装置
１１，１１１ 第１のモジュール
２１，１２１ 第２のモジュール
１２，１１２ ケーシング（第１のケーシング）
２２，１２２ ケーシング（第２のケーシング）
１３，１１３ ソレノイドコイル（第１のソレノイドコイル）
２３，１２３ ソレノイドコイル（第２のソレノイドコイル）
１４，２４，１１４，１２４ スリーブ
２４１ ガイド孔
１５，１１５ 内側空間（第１のケーシングの内側空間）
２５，１２５ 内側空間（第２のケーシングの内側空間）
１６ａ〜１６ｃ，１１６ａ〜１１６ｈ，１２６ レーザダイオード（ＬＤ）（レーザ光源）
３１〜３３ ガイド棒
１３１ ヒンジ
３４，３５，１３４，１３５ スタンド
３６，３７，１３６，１３７ 支持軸

Claims (6)

1. 軟骨損傷が生じている人体の関節の近傍に注入された磁性複合体を上記関節に向かって誘導する磁場誘導装置であって、
   上記関節をその内側空間に収容する、環状の第１のケーシング及び環状の第２のケーシングと、
   上記第１のケーシングの内側壁に巻き付けられた導線からなる第１のソレノイドコイルと、
   上記第２のケーシングの内側壁に巻き付けられた導線からなる第２のソレノイドコイルと、を備え、
   上記第１のケーシング及び上記第２のケーシングの各々は、上記第１のケーシングの上記内側空間と上記第２のケーシングの上記内側空間とが連通するように配置されており、
   上記第１のケーシングと上記第２のケーシングとは、離間している、又は、離間可能な状態に構成されており、
   上記第１のケーシングと上記第２のケーシングとが離間している間隔、又は、離間可能な間隔は、注射器及び内視鏡の少なくとも何れか一方を挿入するための間隔である、
   ことを特徴とする磁場誘導装置。
2. 上記第１のケーシングと上記第２のケーシングとの間隔を調整する間隔調整機構を更に備えている、
   ことを特徴とする請求項１に記載の磁場誘導装置。
3. 上記第１のケーシング及び上記第２のケーシングの各々は、上記第１のソレノイドコイルの中心軸と上記第２のソレノイドコイルの中心軸とが一致するように配置されており、
   上記間隔調整機構は、上記第１のソレノイドコイルの上記中心軸に沿って上記第１のケーシング及び上記第２のケーシングの少なくとも何れか一方を並進させることによって、上記第１のケーシングと上記第２のケーシングとの間隔を調整する、
   ことを特徴とする請求項２に記載の磁場誘導装置。
4. 上記第１のケーシングと上記第２のケーシングとの間隔が最小になるように上記間隔調整機構を調整した状態において、上記第１のケーシング及び上記第２のケーシングの各々は、上記第１のソレノイドコイルの中心軸と上記第２のソレノイドコイルの中心軸とが一致するように配置されており、
   上記間隔調整機構は、上記第１のケーシング及び上記第２のケーシングの外縁上に設定された所定の軸、又は、上記第１のケーシング及び上記第２のケーシングの外縁よりも外側に設定された所定の軸を回転軸として、上記第１のケーシング及び上記第２のケーシングの少なくとも何れか一方を回転させることによって、上記第１のケーシングと上記第２のケーシングとの間隔を調整する、
   ことを特徴とする請求項２に記載の磁場誘導装置。
5. 上記第１のケーシング及び上記第２のケーシングのうち少なくとも何れか一方に配置された１又は複数のレーザ光源を更に備え、
   当該１又は複数のレーザ光源の各々が発するレーザ光が上記第１のケーシングの上記内側空間又は上記第２のケーシングの上記内側空間に含まれる所定の位置を指し示すように、上記１又は複数のレーザ光源の各々は、配置されている、
   ことを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の磁場誘導装置。
6. 上記所定の位置は、上記第１のソレノイドコイルの中心軸上、又は、上記第２のソレノイドコイルの中心軸上に設定されている、
   ことを特徴とする請求項５に記載の磁場誘導装置。

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