JP6931079B2 - フラットトップドットを特徴とするフレキソ刷版の光安定性を改善する方法 - Google Patents
フラットトップドットを特徴とするフレキソ刷版の光安定性を改善する方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6931079B2 JP6931079B2 JP2019555893A JP2019555893A JP6931079B2 JP 6931079 B2 JP6931079 B2 JP 6931079B2 JP 2019555893 A JP2019555893 A JP 2019555893A JP 2019555893 A JP2019555893 A JP 2019555893A JP 6931079 B2 JP6931079 B2 JP 6931079B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- triazine
- amino
- bis
- tert
- photocurable
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2014—Contact or film exposure of light sensitive plates such as lithographic plates or circuit boards, e.g. in a vacuum frame
- G03F7/2016—Contact mask being integral part of the photosensitive element and subject to destructive removal during post-exposure processing
- G03F7/202—Masking pattern being obtained by thermal means, e.g. laser ablation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
- G03F7/2053—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser
- G03F7/2055—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser for the production of printing plates; Exposure of liquid photohardening compositions
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/24—Curved surfaces
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
- B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
- B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
- B29C35/0805—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation
- B29C2035/0827—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation using UV radiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
- B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
- B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
- B29C35/0805—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation
- B29C2035/0833—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation using actinic light
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
- B41N1/12—Printing plates or foils; Materials therefor non-metallic other than stone, e.g. printing plates or foils comprising inorganic materials in an organic matrix
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Printing Methods (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Description
1)デジタル「コンピューター・トゥ・プレート」刷版におけるマスクアブレーション又は従来のアナログ版におけるネガ作製であってもよい画像形成と、
2)光硬化性層にフロア層を作製してレリーフの深さを確立する背面露光と、
3)マスクで覆われていない光硬化性層の部分を選択的に架橋及び硬化させてレリーフ像を作製するための、マスク(又はネガ)を通した前面(face)露光と、
4)溶剤(水を含む)又は熱現像によって未露光フォトポリマーを除去するための現像と、
5)必要に応じて、後露光及び粘着除去(detackification)と、を含む。
a)支持層と;
b)支持層上に設けられた1つ以上の光硬化性層であって、
i)バインダー、
ii)1つ以上のモノマー、
iii)アルファ−アミノケトン光開始剤、並びに任意選択的に
iv)ホスファイト、ホスフィン、チオエーテルアミン化合物、及び前述のうちの1つ以上の組合せ、からなる群から選択される添加剤を含む、1つ以上の光硬化性層と;
c)1つ以上の光硬化性層上に設けられ、放射線不透過材料を含むレーザアブレーション可能マスキング層と;
d)任意選択的に、取り外し可能なカバーシートと;
を備える。
a)支持層と;
b)支持層上に設けられた1つ以上の光硬化性層であって、
i)バインダー、
ii)1つ以上のモノマー、
iii)アルファ−アミノケトン光開始剤、並びに任意選択的に
iv)ホスファイト、ホスフィン、チオエーテルアミン化合物、及び前述のうちの1つ以上の組合せ、からなる群から選択される添加剤を含む、1つ以上の光硬化性層と;
c)1つ以上の光硬化性層上に設けられ、放射線不透過材料を含むレーザアブレーション可能マスキング層と;
d)任意選択的に、取り外し可能なカバーシートと;
を備える。
a)光硬化性印刷ブランクを提供するステップであって、光硬化性印刷ブランクは、
i)バッキング又は支持層、
ii)バッキング又は支持層上に設けられた1つ以上の光硬化性層であって、
1)バインダー、
2)1つ以上のモノマー、
3)アルファ−アミノケトン光開始剤、
4)ホスファイト、ホスフィン、チオエーテルアミン化合物、及び前述のうちの1つ以上の組合せ、からなる群から選択される添加剤
を含む、1つ以上の光硬化性層、
iii)少なくとも1つの光硬化性層上に設けられ、放射線不透過材料を含むレーザアブレーション可能マスキング層、
を含む、光硬化性印刷ブランクを提供するステップと;
b)レーザアブレーション可能なマスクレーザを選択的にアブレーションして、レーザアブレーション可能マスク層に所望の画像のその場(in situ)ネガを作製するステップと;
c)少なくとも1つの光硬化性層を、その場ネガを通して化学線に露光させて、少なくとも1つの光硬化性層の一部を選択的に架橋及び硬化させるステップと;
d)光硬化性印刷ブランクの露光された少なくとも1つの光硬化性層を現像して、光硬化性層の中に複数のレリーフ印刷ドットを含むレリーフ像を露呈させるステップと;を含む。
Claims (11)
- 光硬化性印刷ブランクであって、
a)支持層と;
b)前記支持層上に設けられた1つ以上の光硬化性層であって、
i)バインダー、
ii)1つ以上のモノマー、
iii)2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オンを含むアルファ−アミノケトン光開始剤、
iv)ホスファイト、ホスフィン、チオエーテルアミン化合物、及び前記のうちの1つ以上の組合せ、からなる群から選択される添加剤、及び、
v)可塑剤、オゾン劣化防止剤、フィラー、強化剤、UV吸収剤、及び前記のうちの1つ以上の組合せ、からなる群から選択される1つ以上の化合物、を含む、1つ以上の光硬化性層と;
c)前記1つ以上の光硬化性層上に設けられ、放射線不透過材料を含むレーザアブレーション可能マスキング層と;
d)任意選択的に、取り外し可能なカバーシートと;
を備える、光硬化性印刷ブランク。 - 前記1つ以上の光硬化性層は、トリス(ノニルフェニル)ホスファイトを含む添加剤を含むか、又は、前記1つ以上の光硬化性層は、2,6−ジ−tert−ブチル−4−(4,6−ビス(オクチルチオ)−1,3,5−トリアジン−2−イルアミノ)フェノール、4−[[4,6−ビス(ノニルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、4−[[4,6−ビス(オクタデシルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、4−[[4,6−オクチルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2,6−ビス(2−メチルノナン−2−イル)フェノール、4−[[4,6−ビス(ヘキシルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、4−[[4,6−ビス(ヘプチルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、4−[[4,6−ビス(オクチルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2−tert−ブチル−6−m−エチルフェノール、4−[[4,6−ビス(エチルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、4−[[4,6−ビス(2,4,4−トリメチルペンタン−2−イルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、4−[[4,6−ビス(2−オクチルスルファニルエチルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、4−[[4,6−ビス(オクチルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2,6−ジブチルフェノール、4−[[4,6−ビス(オクチルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−[[4−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−6−オクチルスルファニル−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]フェノール、4−[[4,6−ビス(ペンチルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ−2,6−ジメチルフェノール、4−[[4,6−ビス(ヘキシルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2−tert−ブチルフェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−[(4−オクチルスルファニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)アミノ]フェノール、4−[[4,6−ビス(エチルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2,6−ジメチルフェノール、4−[[4,6−ビス(オクチルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]−ブチルアミノ]−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、4−[[4,6−ビス(オクチルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]−シクロヘキシルアミノ]−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、2−[[4,6−ビス(オクチルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−6−tert−ブチルフェノール、2−tert−ブチル−6−メチル−4−[[4−オクチルスルファニル−6−[(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)アミノ]−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]フェノール、4−[[4,6−ビス(オクチルスルファニルメチル)−1,3,5−トリアジン−2−イル)アミノ]−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、4−[[4,6−ビス(オクチルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル)メチルアミノ]−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、4−[(4−アミノ−6−クロロ−1,3,5−トリアジン−2−イル)アミノ]−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、及び、4−[(4−シクロヘキシル−6−シクロヘキシルスルファニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)アミノ]−2,6−ジ(プロパン−2−イル)フェノール、からなる群から選択されるチオエーテルアミン化合物を含む添加剤を含むか、又は、前記1つ以上の光硬化性層は、トリフェニルホスフィン、トリ−p−トリルホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、ジフェニルエチルホスフィン、ジフェニルプロピルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、ジエチルフェニルホスフィン、ジプロピルフェニルホスフィン、ジビニルフェニルホスフィン、ジビニル−p−メトキシフェニルホスフィン、ジビニル−p−ブロモフェニルホスフィン、ジビニル−p−トリルホスフィン、ジアリルフェニルホスフィン、ジビニル−p−ブロモフェニルホスフィン、及びジアリル−p−トリルホスフィン、及び前記のうちの1つ以上の組合せ、からなる群から選択されるホスフィンを含む添加剤を含む、請求項1に記載の光硬化性印刷ブランク。
- 前記添加剤は、2,6−ジ−tert−ブチル−4−(4,6−ビス(オクチルチオ)−1,3,5−トリアジン−2−イルアミノ)フェノールを含む、請求項2に記載の光硬化性印刷ブランク。
- アミンアクリレート、アミン反応促進剤、及び前記のうちの1つ以上の組合せ、からなる群から選択される材料を含み、任意選択的に、前記材料は、光硬化性組成物の全重量に対して約0.1〜約10重量%の量で、前記1つ以上の光硬化性層中に存在する、請求項1に記載の光硬化性印刷ブランク。
- 前記1つ以上の光硬化性層は、ブチル化ヒドロキシトルエン、2,4−ビス(オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、又は1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼンを含有しない、請求項1に記載の光硬化性印刷ブランク。
- 光硬化性印刷ブランクからレリーフ像印刷要素を製造する方法であって、以下のステップ:
a)光硬化性印刷ブランクを提供するステップであって、前記光硬化性印刷ブランクは、
i)バッキング又は支持層、
ii)前記バッキング又は支持層上に設けられた1つ以上の光硬化性層であって、
1)バインダー、
2)1つ以上のモノマー、
3)2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オンを含むアルファ−アミノケトン光開始剤、
4)ホスファイト、ホスフィン、チオエーテルアミン化合物、及び前記のうちの1つ以上の組合せ、からなる群から選択される添加剤、及び、
5)可塑剤、オゾン劣化防止剤、フィラー、強化剤、UV吸収剤、及び前記のうちの1つ以上の組合せ、からなる群から選択される1つ以上の化合物、を含む、1つ以上の光硬化性層、
iii)前記1つ以上の光硬化性層上に設けられ、放射線不透過材料を含む、レーザアブレーション可能マスキング層、
を含む、光硬化性印刷ブランクを提供するステップと;
b)前記レーザアブレーション可能なマスクレーザを選択的にアブレーションして、前記レーザアブレーション可能マスク層に所望の画像のその場ネガを作製するステップと;
c)前記1つ以上の光硬化性層を、前記その場ネガを通して化学線に露光させて、前記1つ以上の光硬化性層の一部を選択的に架橋及び硬化させるステップと;
d)前記光硬化性印刷ブランクの露光された前記1つ以上の光硬化性層を現像して、前記1つ以上の光硬化性層の中に複数のレリーフ印刷ドットを含むレリーフ像を露呈させるステップと;
を含む方法。 - 前記1つ以上の光硬化性層は、トリス(ノニルフェニル)ホスファイトを含む添加剤を含むか、又は、前記1つ以上の光硬化性層は、2,6−ジ−tert−ブチル−4−(4,6−ビス(オクチルチオ)−1,3,5−トリアジン−2−イルアミノ)フェノール、4−[[4,6−ビス(ノニルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、4−[[4,6−ビス(オクタデシルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、4−[[4,6−オクチルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2,6−ビス(2−メチルノナン−2−イル)フェノール、4−[[4,6−ビス(ヘキシルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、4−[[4,6−ビス(ヘプチルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、4−[[4,6−ビス(オクチルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2−tert−ブチル−6−m−エチルフェノール、4−[[4,6−ビス(エチルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、4−[[4,6−ビス(2,4,4−トリメチルペンタン−2−イルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、4−[[4,6−ビス(2−オクチルスルファニルエチルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、4−[[4,6−ビス(オクチルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2,6−ジブチルフェノール、4−[[4,6−ビス(オクチルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−[[4−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−6−オクチルスルファニル−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]フェノール、4−[[4,6−ビス(ペンチルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ−2,6−ジメチルフェノール、4−[[4,6−ビス(ヘキシルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2−tert−ブチルフェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−[(4−オクチルスルファニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)アミノ]フェノール、4−[[4,6−ビス(エチルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−2,6−ジメチルフェノール、4−[[4,6−ビス(オクチルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]−ブチルアミノ]−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、4−[[4,6−ビス(オクチルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]−シクロヘキシルアミノ]−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、2−[[4,6−ビス(オクチルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]−6−tert−ブチルフェノール、2−tert−ブチル−6−メチル−4−[[4−オクチルスルファニル−6−[(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)アミノ]−1,3,5−トリアジン−2−イル]アミノ]フェノール、4−[[4,6−ビス(オクチルスルファニルメチル)−1,3,5−トリアジン−2−イル)アミノ]−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、4−[[4,6−ビス(オクチルスルファニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル)メチルアミノ]−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、4−[(4−アミノ−6−クロロ−1,3,5−トリアジン−2−イル)アミノ]−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、及び、4−[(4−シクロヘキシル−6−シクロヘキシルスルファニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)アミノ]−2,6−ジ(プロパン−2−イル)フェノール、からなる群から選択されるチオエーテルアミン化合物を含む添加剤を含むか、又は、前記1つ以上の光硬化性層は、トリフェニルホスフィン、トリ−p−トリルホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、ジフェニルエチルホスフィン、ジフェニルプロピルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、ジエチルフェニルホスフィン、ジプロピルフェニルホスフィン、ジビニルフェニルホスフィン、ジビニル−p−メトキシフェニルホスフィン、ジビニル−p−ブロモフェニルホスフィン、ジビニル−p−トリルホスフィン、ジアリルフェニルホスフィン、ジビニル−p−ブロモフェニルホスフィン、及びジアリル−p−トリルホスフィン、及び前記のうちの1つ以上の組合せ、からなる群から選択されるホスフィンを含む添加剤を含む、請求項6に記載の方法。
- 前記添加剤は、2,6−ジ−tert−ブチル−4−(4,6−ビス(オクチルチオ)−1,3,5−トリアジン−2−イルアミノ)フェノールを含む、請求項6に記載の方法。
- 前記光硬化性印刷ブランクは、アミンアクリレート、アミン反応促進剤、及び前記のうちの1つ以上の組合せ、からなる群から選択される材料を含む、請求項6に記載の方法。
- 前記材料は、光硬化性組成物の全重量に対して約0.1〜約10重量%の量で、前記1つ以上の光硬化性層中に存在する、請求項9に記載の方法。
- 前記1つ以上の光硬化性層は、ブチル化ヒドロキシトルエン、2,4−ビス(オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、又は1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼンを含有しない、請求項6に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US15/485,504 | 2017-04-12 | ||
US15/485,504 US10599035B2 (en) | 2017-04-12 | 2017-04-12 | Method of improving light stability of flexographic printing plates featuring flat top dots |
PCT/US2018/025672 WO2018191051A1 (en) | 2017-04-12 | 2018-04-02 | Method of improving light stability of flexographic printing plates featuring flat top dots |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020516951A JP2020516951A (ja) | 2020-06-11 |
JP6931079B2 true JP6931079B2 (ja) | 2021-09-01 |
Family
ID=63791468
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019555893A Active JP6931079B2 (ja) | 2017-04-12 | 2018-04-02 | フラットトップドットを特徴とするフレキソ刷版の光安定性を改善する方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10599035B2 (ja) |
EP (1) | EP3610327B1 (ja) |
JP (1) | JP6931079B2 (ja) |
CN (1) | CN110869849A (ja) |
ES (1) | ES2943088T3 (ja) |
WO (1) | WO2018191051A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20220019145A1 (en) * | 2020-07-16 | 2022-01-20 | Miraclon Corporation | Flexographic printing plate precursor, imaging assembly and use |
US11694047B2 (en) | 2020-07-31 | 2023-07-04 | Digimarc Corporation | Encoding signals on flexographic printing plates to enable tracking and management |
Family Cites Families (40)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL136313C (ja) | 1962-01-29 | |||
US4323636A (en) | 1971-04-01 | 1982-04-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive block copolymer composition and elements |
CA1099435A (en) | 1971-04-01 | 1981-04-14 | Gwendyline Y. Y. T. Chen | Photosensitive block copolymer composition and elements |
US3867153A (en) | 1972-09-11 | 1975-02-18 | Du Pont | Photohardenable element |
DE2942183A1 (de) | 1979-10-18 | 1981-05-07 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Fotopolymerisierbare gemische und elemente daraus |
US4264705A (en) | 1979-12-26 | 1981-04-28 | Uniroyal, Inc. | Multilayered elastomeric printing plate |
US4423135A (en) | 1981-01-28 | 1983-12-27 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Preparation of photosensitive block copolymer elements |
US4427759A (en) | 1982-01-21 | 1984-01-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing an overcoated photopolymer printing plate |
US4622088A (en) | 1984-12-18 | 1986-11-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing photopolymer flexographic element with melt extrusion coated elastomeric surface layer |
ES2054861T3 (es) * | 1987-03-26 | 1994-08-16 | Ciba Geigy Ag | Nuevas alfa-aminoacetofenonas como fotoiniciadores. |
DE4004512A1 (de) | 1990-02-14 | 1991-08-22 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von photopolymerplatten |
US4999334A (en) * | 1990-03-01 | 1991-03-12 | The Standard Register Co. | Protective coating for thermal images |
CA2041023C (en) | 1990-04-26 | 2002-03-12 | William K. Goss | Photocurable elements and flexographic printing plates prepared therefrom |
US5223375A (en) | 1991-07-15 | 1993-06-29 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Flexographic printing plate comprising photosensitive elastomer polymer composition |
US5262275A (en) | 1992-08-07 | 1993-11-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Flexographic printing element having an IR ablatable layer and process for making a flexographic printing plate |
DE4339010C2 (de) | 1993-06-25 | 2000-05-18 | Pt Sub Inc | Photohärtbares Erzeugnis für Druckplatten |
JP3423077B2 (ja) | 1993-08-25 | 2003-07-07 | ダブリュ・アール・グレイス・アンド・カンパニー・コネテイカット | 版面の製造方法 |
CA2165015A1 (en) * | 1994-12-13 | 1996-06-14 | Douglas R. Leach | Soft relief photopolymer printing plates for flexographic printing |
US6238837B1 (en) | 1995-05-01 | 2001-05-29 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Flexographic element having an infrared ablatable layer |
EP0898202B1 (en) * | 1997-08-22 | 2000-07-19 | Ciba SC Holding AG | Photogeneration of amines from alpha-aminoacetophenones |
US20040087687A1 (en) * | 2002-10-30 | 2004-05-06 | Vantico A&T Us Inc. | Photocurable compositions with phosphite viscosity stabilizers |
US7682775B2 (en) * | 2004-03-05 | 2010-03-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing a flexographic printing plate |
US7241540B2 (en) * | 2004-04-27 | 2007-07-10 | Kraton Polymers U.S. Llc | Photocurable compositions and flexographic printing plates comprising the same |
ATE553417T1 (de) * | 2004-05-06 | 2012-04-15 | Agfa Graphics Nv | Fotopolymer-druckplatten-vorläufer |
DE102004034416A1 (de) * | 2004-07-15 | 2006-02-02 | "Stiftung Caesar" (Center Of Advanced European Studies And Research) | Flüssige, strahlunghärtende Zusammensetzungen |
WO2007019358A2 (en) | 2005-08-05 | 2007-02-15 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the preparation of 1,3,3,3-tetrafluoropropene and/or 1,1,3,3,3-pentafluoropropene |
EP1958968A4 (en) * | 2005-12-09 | 2011-03-30 | Jsr Corp | UV-CURABLE POLYMERIC COMPOSITION, RESIN MOLD BODY AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF |
JPWO2008120468A1 (ja) * | 2007-03-29 | 2010-07-15 | 東洋紡績株式会社 | フレキソ印刷用感光性樹脂組成物 |
US8158331B2 (en) | 2009-10-01 | 2012-04-17 | Recchia David A | Method of improving print performance in flexographic printing plates |
US9720326B2 (en) | 2009-10-01 | 2017-08-01 | David A. Recchia | Method of improving print performance in flexographic printing plates |
US20110192297A1 (en) * | 2010-02-11 | 2011-08-11 | Mikhail Laksin | Printing system having a raised image printing cylinder |
US20120208914A1 (en) * | 2011-02-14 | 2012-08-16 | Deepak Shukla | Photoinitiator compositions and uses |
US9114601B2 (en) * | 2012-03-01 | 2015-08-25 | Kyle P. Baldwin | Clean flexographic printing plate and method of making the same |
US8808968B2 (en) * | 2012-08-22 | 2014-08-19 | Jonghan Choi | Method of improving surface cure in digital flexographic printing plates |
US8790864B2 (en) * | 2012-08-27 | 2014-07-29 | Kyle P. Baldwin | Method of improving print performance in flexographic printing plates |
CN104723717B (zh) * | 2013-12-19 | 2017-08-25 | 乐凯华光印刷科技有限公司 | 一种计算机直接制版的柔性版及其制备方法 |
US9217928B1 (en) * | 2014-08-13 | 2015-12-22 | Macdermid Printing Solutions, Llc | Clean flexographic printing plates and method of making the same |
JP6005698B2 (ja) * | 2014-08-29 | 2016-10-12 | 株式会社ミノグループ | 微細凹凸パターン付き基板の製造方法 |
US9740099B2 (en) * | 2014-11-12 | 2017-08-22 | Macdermid Printing Solutions, Llc | Flexographic printing plate with improved cure efficiency |
US10108087B2 (en) * | 2016-03-11 | 2018-10-23 | Macdermid Graphics Solutions Llc | Method of improving light stability of flexographic printing plates featuring flat top dots |
-
2017
- 2017-04-12 US US15/485,504 patent/US10599035B2/en active Active
-
2018
- 2018-04-02 CN CN201880032439.9A patent/CN110869849A/zh active Pending
- 2018-04-02 ES ES18784084T patent/ES2943088T3/es active Active
- 2018-04-02 JP JP2019555893A patent/JP6931079B2/ja active Active
- 2018-04-02 EP EP18784084.8A patent/EP3610327B1/en active Active
- 2018-04-02 WO PCT/US2018/025672 patent/WO2018191051A1/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ES2943088T3 (es) | 2023-06-08 |
US20180297388A1 (en) | 2018-10-18 |
US10599035B2 (en) | 2020-03-24 |
EP3610327A4 (en) | 2021-01-13 |
JP2020516951A (ja) | 2020-06-11 |
EP3610327A1 (en) | 2020-02-19 |
CN110869849A (zh) | 2020-03-06 |
WO2018191051A1 (en) | 2018-10-18 |
EP3610327B1 (en) | 2023-03-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9751353B2 (en) | Method of improving surface cure in digital flexographic printing plates | |
JP6768821B2 (ja) | フラットトップドットを特徴とするフレキソ刷版の光安定性を改善する方法 | |
JP6931079B2 (ja) | フラットトップドットを特徴とするフレキソ刷版の光安定性を改善する方法 | |
CN110869850B (zh) | 贮存稳定性得到改善的柔性版印刷板 | |
CN107924120B (zh) | 在柔性版印版中产生混合印刷网点的方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191118 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191118 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20191129 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20200122 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20201026 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20201201 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210224 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210803 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210812 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6931079 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |