JP6930721B2 - 放射線分析装置 - Google Patents

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Description

この発明は、放射線分析装置に関する。
物体に放射線を照射し、物体の性質や構造を分析する技術の研究や開発が行われている。
これに関し、試料、複数のX線用レンズ、検出器の順に一列に並ぶように複数のX線用レンズを試料と検出器の間に配置し、試料から発散されたX線が当該複数のX線用レンズを通過して検出器に集光されるように、試料に最も近い側のX線用レンズの焦点が試料位置に合うように、かつ検出器に最も近い側のX線用レンズの焦点が検出器位置に合うように当該複数のX線用レンズを配置した超伝導X線分析装置であって、検出器を搭載した極低温部が冷凍機から突起上に引き出されることなく真空容器内に収められた構造である超伝導X線分析装置が知られている(特許文献1参照)。
特開2005−257349号公報
しかしながら、このような超伝導X線分析装置では、X線用レンズと検出器との相対的な位置関係を変化させる場合にユーザーが手動で当該位置関係を変化させなければならず、当該位置関係を変化させる操作に熟練したユーザーでなければ、当該位置関係をユーザーが所望する位置関係に変化させることが困難な場合があった。その結果、当該超伝導X線分析装置では、検出器によるX線の検出効率を向上させることが困難な場合があった。
本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、放射線の検出効率を容易に向上させることができる放射線分析装置を提供することを目的とする。
本発明の一態様は、物体に第1放射線を照射する励起源部と、前記第1放射線が照射された前記物体から発生する第2放射線を検出する1以上の第1検出器と、前記第2放射線を検出する3以上の第2検出器とを備える放射線検出部と、前記物体と前記放射線検出部との間に配置され、前記第2放射線を集束させる放射線集束部と、前記放射線集束部と前記放射線検出部との相対的な位置関係を可変にする位置可変部と、前記位置可変部が可変にする前記位置関係を変化させる駆動部と、前記第2検出器のそれぞれが前記第2放射線を検出した計数である第2計数に基づいて、前記駆動部に前記位置関係を変化させる制御部と、を備え、前記3以上の前記第2検出器は、前記1以上の前記第1検出器が配置された面に直交する方向に沿って前記1以上の前記第1検出器を見た場合において前記1以上の前記第1検出器を囲うように前記面内に配置されている、放射線分析装置である。
本発明の他の態様は、上記の放射線分析装置において、前記第2検出器は、前記第1検出器と種類が異なる、構成が用いられてもよい。
なお、前記放射線集束部に、前記物体と前記放射線検出部との相対的位置関係を可変させる第2位置可変部を配置した、構成が用いられてもよい。
本発明の他の態様は、上記の放射線分析装置において、前記制御部は、前記第2計数と、前記第1検出器のそれぞれが前記第2放射線を検出した計数である第1計数とに基づいて、前記駆動部に前記位置関係を変化させる、構成が用いられてもよい。
本発明の他の態様は、上記の放射線分析装置において、前記制御部は、前記第2検出器のそれぞれが前記第2放射線を検出した前記第2計数を示す情報を表示部に表示させる、構成が用いられてもよい。
本発明の他の態様は、上記の放射線分析装置において、前記放射線検出部は、前記第1検出器と前記第2検出器とを配置する前記面を有し、前記3以上の前記第2検出器は、前記面に直交する方向に沿って前記1以上の前記第1検出器を見た場合において、前記3以上の前記第2検出器のうち最も近くの前記第1検出器との間に他の前記第2検出器が存在しない前記第2検出器の位置同士を結ぶことによって形成される凸包の内側に全ての前記第1検出器が含まれるように前記面内に配置される、構成が用いられてもよい。
本発明の他の態様は、上記の放射線分析装置において、前記3以上の前記第2検出器は、前記面内において、前記1以上の前記第1検出器に応じて決まる位置を中心として放射状に配置されている、構成が用いられてもよい。
本発明の他の態様は、上記の放射線分析装置において、前記3以上の前記第2検出器は、前記面内において、前記1以上の前記第1検出器に応じて決まる位置が中心となるようにマトリクス状に配置されている、構成が用いられてもよい。
本発明の他の態様は、上記の放射線分析装置において、前記制御部は、前記駆動部によって前記位置関係を変化させ、前記3以上の前記第2検出器のそれぞれにより検出された前記第2計数に基づいて算出された位置と、前記1以上の前記第1検出器に応じて決まる位置とを一致させる、構成が用いられてもよい。
本発明によれば、放射線の検出効率を容易に向上させることができる放射線分析装置、及び放射線分析方法を提供することができる。
実施形態に係る放射線分析装置1の構成の一例を示す図である。 第1検出器D1と第2検出器D2とが配置された面M1の一例を示す上面図である。 第1制御装置30及び第2制御装置40の機能構成の一例を示す図である。 制御装置20が行う処理の流れの一例を示すフローチャートである。 放射線検出部12と放射線集束部13の相対的な位置関係が初期位置関係と一致している場合における放射線検出部12と放射線集束部13との一例を示す左側面図である。 ステップS120において物体Wに第1放射線R1が照射された場合において面M1上に照射された第2放射線R2の照射領域の一例を示す図である。 面M1上に配置された第1検出器D1及び第2検出器D2とともに、ステップS150において駆動制御部462が算出した第2検出器D2毎の第2計数の一例を示した図である。 制御装置20が行う処理の流れの他の例を示すフローチャートである。 面M1を含む面内における第2検出器D2の位置と第2検出器D2に対応する第2計数との関係をガウス関数によってフィッティングした場合の三次元グラフの一例を示す図である。 第1検出器D1と第2検出器D2とが配置された面M1の他の例を示す上面図である。
<実施形態>
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。
<放射線分析装置の構成>
まず、放射線分析装置1の構成について説明する。
図1は、実施形態に係る放射線分析装置1の構成の一例を示す図である。
放射線分析装置1は、検出装置10と、制御装置20を備える。
検出装置10は、励起源部11と、放射線検出部12と、放射線集束部13と、位置可変部14と、駆動部15と、冷却装置16と、筐体17を備える。
励起源部11は、物体Wに第1放射線R1を照射する。励起源部11は、例えば、電子銃である。この場合、第1放射線R1は、電子線である。なお、励起源部11は、電子銃に代えて、物体WにX線やイオンビーム等の電子線と異なる放射線を第1放射線R1として照射する装置であってもよい。
放射線検出部12は、1以上の第1検出器D1と、3以上の第2検出器D2とを備える。
第1検出器D1は、第1放射線R1が照射された物体Wから発生する蛍光X線等の第2放射線R2を検出する。第1検出器D1は、例えば、超伝導転移端センサー(TES、Transition Edge Sensor)を有する検出器である。以下では、一例として、第2放射線R2が当該物体Wから発生する蛍光X線等の特性X線である場合について説明する。すなわち、放射線分析装置1は、この一例において、超伝導X線分析装置である。なお、第2放射線R2は、蛍光X線に代えて、他の放射線であってもよい。また、第1検出器D1は、超伝導転移端センサーによって第2放射線R2を検出する構成に代えて、シリコン半導体検出器等の他の検出素子によって第2放射線R2を検出する構成であってもよい。
ここで、超伝導転移端センサーは、超伝導状態の金属薄膜にX線が入射した際に生じる抵抗変化によって第2放射線R2を検出する。超伝導状態の金属薄膜にX線が入射した場合、当該金属薄膜の温度が上昇し、当該金属薄膜の状態が超伝導状態から常伝導状態へ遷移する。この際、当該金属薄膜の電気抵抗が、当該金属薄膜に入射したX線のエネルギー(すなわち、上昇した当該金属薄膜の温度)に比例して急激に変化する(例えば、温度変化が数mKの場合における抵抗変化が0.1Ω等)。この性質を利用し、超伝導転移端センサーは、当該抵抗変化の大きさによって第2放射線R2のエネルギーを検出する。このようにして第2放射線R2のエネルギーを検出した場合、第1検出器D1は、検出したエネルギーに比例した大きさの電気信号を、第2放射線R2を検出したことを示す第1検出情報として制御装置20に出力する。なお、放射線検出部12が複数の第1検出器D1を備える場合、複数の第1検出器D1の一部又は全部は、互いに種類が異なる構成であってもよく、互いに形状が異なる構成であってもよく、互いに大きさが異なる構成であってもよい。
第2検出器D2は、前述の第2放射線R2を検出する。第2検出器D2は、超伝導転移端センサーを有する検出器、シリコン半導体検出器、X線CCD(Charge Coupled Device)カメラ、フラットパネル検出器等の第2放射線R2を検出可能な検出器であれば如何なる検出器であってもよい。しかし、第2検出器D2は、放射線分析装置1の製造コストの増大を抑制するため、第1検出器D1と種類が異なる検出器であって第1検出器D1よりも第2放射線R2を検出する検出感度が低い安価な検出器であることが望ましい。以下では、一例として、第2検出器D2がシリコン半導体検出器である場合について説明する。シリコン半導体検出器は、既知のシリコン半導体検出器であってもよく、これから開発されるシリコン半導体検出器であってもよいため、説明を省略する。なお、3以上の第2検出器D2の一部又は全部は、互いに種類が異なる構成であってもよく、互いに形状が異なる構成であってもよく、互いに大きさが異なる構成であってもよい。
また、第2検出器D2は、第2放射線R2を検出した場合、検出した第2放射線R2のエネルギーに比例した大きさの電気信号を、第2放射線R2を検出したことを示す第2検出情報として制御装置20に出力する。
また、放射線検出部12は、1以上の第1検出器D1と、3以上の第2検出器D2とのそれぞれを配置する面M1を有する。すなわち、1以上の第1検出器D1と、3以上の第2検出器D2とのそれぞれは、面M1内に配置されている。面M1は、平面であってもよく、曲面であってもよく、段差を有する面であってもよく、他の面であってもよい。以下では、一例として、面M1が平面である場合について説明する。
1以上の第1検出器D1は、例えば、1以上の第1検出器D1に応じて決まる位置と面M1の予め決められた位置とが一致するように面M1内に配置される。当該予め決められた位置は、面M1内の位置のうち1以上の第1検出器D1を囲むように3以上の第2検出器D2を配置可能な位置であり、例えば、面M1の中心である。なお、当該予め決められた位置は、当該中心の位置に代えて、面M1内の位置のうち1以上の第1検出器D1を囲むように3以上の第2検出器D2を配置可能な位置であれば他の位置であってもよい。1以上の第1検出器D1に応じて決まる位置は、面M1内に配置される第1検出器D1が1つのみの場合、例えば、面M1に直交する方向に沿って第1検出器D1を見た場合の第1検出器D1の輪郭を表す図の図心の位置である。また、1以上の第1検出器D1に応じて決まる位置は、面M1内に配置される第1検出器D1が複数の場合、例えば、当該方向に沿って複数の第1検出器D1を見た場合における複数の第1検出器D1の重心の位置である。なお、1以上の第1検出器D1に応じて決まる位置は、これらに代えて、1以上の第1検出器D1に応じた他の位置であってもよい。
3以上の第2検出器D2は、1以上の第1検出器D1が配置された面M1に直交する方向に沿って1以上の第1検出器D1を見た場合において1以上の第1検出器D1を囲うように配置されている。より具体的には、当該場合において、3以上の第2検出器D2は、3以上の第2検出器D2のうち最も近くの第1検出器D1との間に他の第2検出器D2が存在しない第2検出器D2の位置を結ぶことによって形成される凸包の内側に全ての第1検出器D1が含まれるように面M1内に配置される。
以下では、一例として、面M1内に配置される第1検出器D1の数が1であり、面M1内に配置される第2検出器D2の数が20である場合について説明する。ここで、図2を参照し、面M1おける第1検出器D1と第2検出器D2との配置例について説明する。図2は、第1検出器D1と第2検出器D2とが配置された面M1の一例を示す上面図である。なお、図2では、第1検出器D1と第2検出器D2とのそれぞれの形状は、図を簡略化するため、四角形によって表されているが、四角形に代えて、他の形状であってもよい。
図2に示した例では、第1検出器D1は、前述した通り、面M1の中心に配置されている。すなわち、当該例では、第1検出器D1は、第1検出器D1に応じて決まる位置FPと面M1の中心の位置CPとが一致するように面M1内に配置されている。
また、図2に示した例では、20の第2検出器D2のそれぞれは、前述の第1検出器D1に応じて決まる位置を中心として放射状に配置されている。また、当該例では、各第2検出器D2の大きさは、第1検出器D1に応じた位置と各第2検出器D2の位置との間の距離に応じて決められており、当該距離が長くなるほど大きくなっている。すなわち、当該例では、第2検出器D2の大きさとしては、第1検出器D1に最も近い円であって第1検出器D1に応じた位置を中心とした円である第1円C1上に配置された第2検出器D2の大きさと、第1円C1の外側の第1円C1と同心円である第2円C2上に配置された第2検出器D2の大きさとの2種類の大きさが存在する。ここで、各第2検出器D2の位置は、例えば、面M1に向かって各第2検出器D2を見た場合の各第2検出器D2の輪郭を表す図の図心の位置のことである。なお、各第2検出器D2の位置は、これに代えて、各第2検出器D2の重心の位置等の各第2検出器D2に応じた他の位置であってもよい。また、各第2検出器D2の大きさは、互いに同じであってもよい。
ここで、図2に示した例では、20の第2検出器D2は、面M1に直交する方向に沿って第1検出器D1を見た場合において、20の第2検出器D2のうち最も近くの第1検出器D1との間に他の第2検出器D2が存在しない第2検出器D2(図2に示した例では、第1円C1上に存在する8つの第2検出器D2)の位置を結ぶことによって形成される凸包の内側に第1検出器D1が含まれるように面M1内に配置されている。
図1に戻る。放射線検出部12は、サーマルシールドSDの内部に配置される。サーマルシールドSDは、サーマルシールドSDの外部からの輻射熱を多層の断熱材や真空層等で遮蔽し、サーマルシールドSDの内部の温度が上昇することを抑制する。すなわち、サーマルシールドSDは、放射線検出部12の温度が当該輻射熱によって上昇してしまうことを抑制する。これにより、放射線検出部12が有する超伝導転移端センサーの超伝導状態は、超伝導転移端センサーにX線が入射するまで保持される。なお、放射線検出部12は、少なくとも全ての第1検出器D1を含む一部分のみがサーマルシールドSDの内部に配置される構成であってもよい。
放射線集束部13は、第1放射線R1が照射された物体Wから発生した第2放射線R2を放射線検出部12に集束(集光)させる光学部材である。より具体的には、放射線集束部13は、第2放射線R2を所定の焦点距離において所定の焦点径となるように集束させる。放射線集束部13は、励起源部11により第1放射線R1が照射される物体Wと放射線検出部12との間に配置され、物体Wや放射線検出部12との相対的な位置関係を可変にする図示しない第2位置可変部を配置した構成になっている。
位置可変部14は、放射線検出部12と放射線集束部13との相対的な位置関係を可変にする機構部材である。位置可変部14は、例えば、冷却装置16の外側に設けられ、放射線検出部12を載置することができるステージSTを有する。ステージSTは、放射線検出部12を放射線集束部13に対して相対的に移動させることが可能なステージである。ステージSTには、放射線検出部12が載置される。
駆動部15は、位置可変部14が有するステージSTを移動させ、放射線検出部12と放射線集束部13との相対的な位置関係を変化させる。駆動部15は、例えば、ステージSTを移動させるアクチュエーターである。駆動部15は、制御装置20から取得する制御信号に基づいてステージSTを移動させる。
冷却装置16は、例えば、クライオスタット等を用いてサーマルシールドSDの内部を冷却する。これにより、冷却装置16は、サーマルシールドSDの内部に配置された放射線検出部12が有する超伝導転移端センサーの状態を超伝導状態にすることができる。
筐体17は、検出装置10の筐体である。この一例において、筐体17の内部には、励起源部11から第1放射線R1が照射される照射口と、励起源部11から第1放射線R1が照射される物体と、放射線集束部13と、位置可変部14が有するステージSTと、サーマルシールドSDの内部に配置された放射線検出部12とが配置される。図1に示した例では、筐体17の内部には、第1放射線R1が照射される物体として物体Wが配置されている。物体Wは、ユーザーが性質や構造を分析したい所望の物体の試料であれば如何なる物体であってもよい。筐体17の内部の状態は、図示しない真空ポンプによって真空状態にされている。
検出装置10は、ケーブルによって制御装置20と通信可能に接続されている。これにより、検出装置10が備える励起源部11、放射線検出部12、駆動部15、冷却装置16のそれぞれは、制御装置20から取得される制御信号に基づく動作を行う。
制御装置20は、第1制御装置30と、第2制御装置40を備える。この一例では、制御装置20は、第1制御装置30と、第1制御装置30と別体の第2制御装置40とによって構成されているが、これに代えて、第2制御装置40と一体の第1制御装置30、又は第1制御装置30と一体の第2制御装置40によって構成されてもよい。この場合、制御装置20は、第1制御装置30が有する機能と、第2制御装置40が有する機能を有する。
第1制御装置30は、例えば、デスクトップPC(Personal Computer)やノートPC、ワークステーション等の情報処理装置である。
第2制御装置40は、例えば、デスクトップPC(Personal Computer)やノートPC、ワークステーション等の情報処理装置である。なお、第2制御装置40は、これらに代えて、タブレットPCや多機能携帯電話、PDA(Personal Data Assistant)等の他の情報処理装置であってもよい。
第2制御装置40は、放射線検出部12から検出情報を取得する。より具体的には、第2制御装置40は、放射線検出部12の第1検出器D1から第1検出情報を取得する。また、第2制御装置40は、放射線検出部12の第2検出器D2から第2検出情報を取得する。第2制御装置40は、取得した第1検出情報及び第2検出情報に基づいて、第1放射線R1が照射された物体の性質や構造を分析する。
<放射線分析装置の概要>
ここで、放射線分析装置1の概要について説明する。
放射線分析装置1と異なる放射線分析装置X(例えば、従来の放射線分析装置)では、X線用レンズと検出器との相対的な位置関係を変化させる場合にユーザーが手で当該位置関係を変化させなければならず、当該位置関係を変化させる操作に熟練したユーザーでなければ、当該位置関係をユーザーが所望する位置関係に変化させることが困難な場合があった。その結果、当該放射線分析装置Xでは、検出器によるX線の検出効率を向上させることが困難な場合があった。
放射線分析装置1は、物体Wに第1放射線R1を照射し、第1放射線R1が照射された物体Wから発生する第2放射線R2を第2検出器D2によって検出し、第2検出器D2のそれぞれが第2放射線R2を検出した計数である第2計数に基づいて、放射線集束部13と放射線検出部12との相対的な位置関係を駆動部15によって変化させる。これにより、放射線分析装置1は、放射線の検出効率を容易に向上させることができる。当該位置関係を駆動部15によって変化させた後、放射線分析装置1は、物体Wに第1放射線R1を照射し、第1放射線R1が照射された物体Wから発生する第2放射線R2を第1検出器D1によって検出し、第1検出器D1が検出した計数である第1計数に基づいて、第1放射線R1が照射された物体Wの性質や構造を分析する。
以下では、第2制御装置40が駆動部15を駆動させ、放射線集束部13と放射線検出部12との相対的な位置関係を位置可変部14に変化させる処理について詳しく説明する。
<第1制御装置及び第2制御装置の機能構成>
以下、図3を参照し、第1制御装置30及び第2制御装置40の機能構成について説明する。図3は、第1制御装置30及び第2制御装置40の機能構成の一例を示す図である。
第1制御装置30は、励起源部制御部361を備える。
励起源部制御部361は、例えば、図示しないCPUが、HDD(Hard Disk Drive)やSSD(Solid State Drive)等である図示しない記憶部に記憶された各種プログラムを実行することにより実現される。
励起源部制御部361は、ユーザーから受け付けた操作に基づいて、励起源部11に第1放射線R1を照射させる。
第2制御装置40は、HDDやSSDである記憶部42と、キーボードやマウス等の入力装置である入力受付部43と、液晶ディスプレイパネルや有機EL(ElectroLuminescence)ディスプレイパネルである表示部45と、制御部46を備える。
制御部46は、第2制御装置40の全体を制御する。制御部46は、表示制御部461と、駆動制御部462と、第1検出情報取得部463と、第2検出情報取得部464と、記憶制御部466と、分析部467を備える。制御部46が備えるこれらの機能部は、例えば、図示しないCPUが、記憶部42に記憶された各種プログラムを実行することにより実現される。
表示制御部461は、ユーザーから受け付けた操作に基づいて各種の画面を生成する。表示制御部461は、生成した画面を表示部45に表示させる。
駆動制御部462は、ユーザーから受け付けた操作に基づいて駆動部15を駆動させる。また、駆動制御部462は、後述する記憶制御部466が記憶部42に予め記憶させた第2検出情報に基づいて駆動部15を駆動させる。
第1検出情報取得部463は、検出装置10が備える放射線検出部12の第1検出器D1から第1検出情報を取得する。
第2検出情報取得部464は、検出装置10が備える放射線検出部12の第2検出器D2から第2検出情報を取得する。
記憶制御部466は、第1検出情報取得部463が取得した第1検出情報を記憶部42に記憶させる。また、記憶制御部466は、第2検出情報取得部464が取得した第2検出情報を記憶部42に記憶させる。
分析部469は、記憶制御部466が記憶部42に記憶させた第1検出情報に基づいて、物体Wの性質や構造を分析する。
<制御装置が行う処理の具体例>
以下、図4を参照し、制御装置20が行う処理の具体例について説明する。図4は、制御装置20が行う処理の流れの一例を示すフローチャートである。以下では、物体Wが筐体17の内部のうちの励起源部11から第1放射線R1を照射される所定の配置位置に予め配置されている場合について説明する。
駆動制御部462は、放射線集束部13は、図示しない第2位置可変部で励起源部11により物体Wから出射する第2放射線R2が入射する放射線集束部13の入射側を可変させて、物体Wとの相対的な位置関係を予め決められた初期位置関係と一致させる。さらに、駆動部15を駆動させ、放射線検出部12を放射線集束部13に対して相対的に移動させ、放射線集束部13の出射口と放射線検出部12の第2放射線R2の入射口との相対的な位置関係を予め決められた初期位置関係と一致させる(ステップS110)。ここで、図5を参照し、初期位置関係について説明する。
図5は、放射線検出部12と放射線集束部13との相対的な位置関係が初期位置関係と一致している場合における放射線検出部12と放射線集束部13との一例を示す左側面図である。この一例において、面M1に直交する方向のうち放射線集束部13から面M1に向かう方向を正面方向として説明する。このため、放射線検出部12と放射線集束部13との左側面方向は、この一例において、当該正面方向と直交する方向のうちの重力方向と直交する方向であって左から右に向かって放射線検出部12、放射線集束部13の順に放射線検出部12と放射線集束部13とが並んで見える方向である。なお、図5では、放射線検出部12と放射線集束部13との相対的な位置関係を明確に示すため、サーマルシールドSDを省略している。図1に示したように、実際には、超伝導転移端センサーを有する放射線検出部12は、図示しないサーマルシールドSD内に配置されている。この場合、サーマルシールドSDの先端部には、開口部が設けられており、当該開口部は、ベリリウム(Be)や高分子フィルム等の第2放射線R2を通過する(第2放射線R2を透過することが可能な)窓で密封されている。
また、図5に示した三次元直交座標系MCは、放射線検出部12と放射線集束部13との相対的な位置関係を示す座標系である。三次元直交座標系MCのZ軸の正方向は、この一例において、前述の正面方向と逆の方向と一致している。また、三次元直交座標系MCのX軸の正方向は、前述の左側面方向と直交する方向のうち重力方向と逆に向かう方向と一致している。また、三次元直交座標系MCのY軸の正方向は、前述の左側面方向と逆の方向と一致している。
初期位置関係は、例えば、放射線集束部13によって集束された第2放射線R2の面M1を含む面に対する照射領域の大きさであるスポットサイズが、図5に示したように、面M1に配置された全ての第1検出器D1及び第2検出器D2を含むことが可能な大きさとなる場合の放射線検出部12と放射線集束部13との相対的な位置関係のことである。ここで、当該照射領域は、ほぼ円領域であるため、スポットサイズは、当該円領域の直径によって表される。図5に示した例では、スポットサイズは、直径SPによって表されている。また、図5に示した点FP1は、放射線集束部13によって集束された第2放射線R2の焦点を示している。なお、放射線検出部12と放射線集束部13との相対的な位置関係が初期位置関係と一致している場合、当該照射領域には、少なくとも第2検出器D2の一部が含まれていればよく、第1検出器D1の一部又は全部が含まれなくてもよく、第2検出器D2の一部が含まれなくてもよい。以下では、一例として、当該場合において当該照射領域に第1検出器D1と第2検出器D2の一部とが含まれる場合について説明する。また、以下では、一例として、直径SPと、図2に示した第2円C2の直径とがほぼ等しい場合について説明する。また、以下では、一例として、直径SPの円領域内において第2放射線R2の強度がほぼ一定である場合について説明する。
ステップS110の処理が行われた後、励起源部制御部361は、物体Wへの第1放射線R1の照射を励起源部11に開始させる(ステップS120)。これにより、第1検出器D1は、第2放射線R2を検出するたびに第1検出情報を第2制御装置40に出力し、第2検出器D2は、第2放射線R2を検出するたびに第2検出情報を第2制御装置40に出力する。
第1制御装置30及び第2制御装置40は、第2検出器D2のそれぞれが第2放射線R2を検出した第2計数について、全ての第2計数がほぼ等しくなるまでステップS130〜ステップS170の処理を繰り返し行う(ステップS125)。
次に、第2検出情報取得部464は、予め決められた測定時間が経過するまでの間、第2検出器D2のそれぞれから第2検出情報を取得する(ステップS130)。そして、記憶制御部466は、取得した第2検出情報を記憶部42に記憶させる。より具体的には、記憶制御部466は、ある第2検出器D2から第2検出情報取得部464が第2検出情報を取得した場合、取得した当該第2検出情報と、当該第2検出情報を取得した時刻を示す時刻情報と、当該第2検出器D2を示す第2検出器情報とを対応付けて記憶部42に記憶させる。当該測定時間は、例えば、1分である。なお、当該測定時間は、1分より短い時間であってもよく、1分より長い時間であってもよい。
次に、駆動制御部462は、ステップS130において記憶部42に記憶された複数の第2検出情報に基づいて、第2検出器D2のそれぞれ毎に、第2検出器D2が第2放射線R2を検出した計数を第2計数として算出する(ステップS150)。次に、駆動制御部462は、ステップS150において算出した第2検出器D2毎の第2計数について、全ての第2計数がほぼ等しいか否か判定する(ステップS160)。ある2つの第2計数がほぼ等しいとは、当該2つの第2計数のそれぞれについて算出される誤差範囲が互いに重なる部分を有することを意味する。当該誤差範囲は、例えば、±1標準偏差であるが、これに代えて、±1標準偏差よりも小さい誤差範囲であってもよく、±1標準偏差よりも大きい誤差範囲であってもよい。ステップS150において算出した第2検出器D2毎の第2計数について、全ての第2計数がほぼ等しいと判定した場合(ステップS160−YES)、駆動制御部462は、ステップS125〜ステップS170の繰り返し処理を終了させ、ステップS180に遷移する。一方、ステップS150において算出した第2検出器D2毎の第2計数について、第2計数の少なくとも一部が互いに異なる値であると判定した場合(ステップS160−NO)、駆動制御部462は、ステップS150において算出した第2検出器D2毎の第2計数に基づいて、当該第2計数が高い方から低い方へ向かう勾配が最も大きい方向を算出する。そして、駆動制御部462は、駆動部15を動作させ、算出した当該方向に予め決められた第1調整距離だけ放射線検出部12を放射線集束部13に対して相対的に動かす受光位置調整動作を行う(ステップS170)。第1調整距離は、例えば、1ミリメートルである。なお、第1調整距離は、1ミリメートルよりも短い距離であってもよく、1ミリメートルよりも長い距離であってもよい。また、駆動制御部462は、当該方向を算出する構成に代えて、当該全ての第2計数がほぼ等しくなるために放射線検出部12を動かすべき他の方向を算出し、算出した方向に放射線検出部12を放射線集束部13に対して相対的に動かす構成であってもよい。ステップS170の処理が行われた後、第2検出情報取得部464は、前述の測定時間が経過するまでの間、第2検出器D2のそれぞれから第2検出情報を再び取得する。
ここで、図6及び図7を参照し、ステップS125〜ステップS170の繰り返し処理について説明する。図6は、ステップS120において物体Wに第1放射線R1が照射された場合において面M1上に照射された第2放射線R2の照射領域の一例を示す図である。図6に示した領域LRは、当該照射領域の一例である。図6に示した例では、領域LRには、第2検出器D2の一部が含まれていない。この場合、図7に示したように、ステップS150において算出した第2検出器D2毎の第2計数について、第2計数の少なくとも一部が互いに異なる値となる。図7は、面M1上に配置された第1検出器D1及び第2検出器D2とともに、ステップS150において駆動制御部462が算出した第2検出器D2毎の第2計数の一例を示した図である。図7に示した各第2検出器D2を示す四角の内側に記載された数値は、各第2検出器D2の第2計数の一例である。この場合、駆動制御部462は、前述した通り、ステップS150において算出した第2検出器D2毎の第2計数に基づいて、当該第2計数が高い方から低い方へ向かう勾配が最も大きい方向を算出する。図7に示した例では、当該方向は、矢印A1によって示した方向である。これにより、駆動制御部462は、駆動部15を動作させ、矢印A1によって示した方向に予め決められた第1調整距離だけ放射線検出部12を放射線集束部13に対して相対的に動かす受光位置調整動作を行う。このようなステップS125〜ステップS170の繰り返し処理を行うことにより、放射線分析装置1は、放射線検出部12と放射線集束部13との相対的な位置関係のうち、三次元直交座標系MCにおけるXY平面上の位置関係を所望の位置関係と一致させることができる。
ステップS125〜ステップS170の繰り返し処理が行われた後、第1制御装置30及び第2制御装置40は、合焦するまでステップS200〜ステップS240の処理を繰り返し行う(ステップS180)。ここで、合焦するとは、前述のスポットサイズが第1検出器D1の大きさとほぼ一致することを意味する。なお、面M1内に配置された第1検出器D1が複数の場合、合焦するとは、スポットサイズが複数の第1検出器D1のうち最も外側に位置する第1検出器D1の位置同士を結ぶことによって形成される凸包の全体を照射領域内に含むことが可能な大きさのうち最も小さい大きさとほぼ一致することを意味する。
第2検出情報取得部464は、前述の測定時間が経過するまでの間、第2検出器D2のそれぞれから第2検出情報を取得する(ステップS200)。そして、記憶制御部466は、取得した第2検出情報を記憶部42に記憶させる。ステップS200の処理は、ステップS130の処理と同様の処理であるため、説明を省略する。
次に、駆動制御部462は、ステップS200において記憶部42に記憶された複数の第2検出情報に基づいて、第2検出器D2のそれぞれ毎に、第2検出器D2が第2放射線R2を検出した計数を第2計数として算出する(ステップS220)。次に、駆動制御部462は、ステップS220において算出した第2検出器D2毎の第2計数に基づいて、合焦しているか否か判定する(ステップS230)。例えば、駆動制御部462は、当該第2計数のうち最も大きい第2計数の値が所定閾値未満である場合、合焦していると判定する。所定閾値は、例えば、10であるが、これに代えて、10より小さい値であってもよく、10より大きい値であってもよい。合焦していると駆動制御部462が判定した場合(ステップS230−YES)、第1制御装置30及び第2制御装置40は、図4に示したフローチャートの処理を終了する。一方、合焦していないと判定した場合(ステップS230−NO)、駆動制御部462は、駆動部15を動作させ、放射線検出部12を放射線集束部13に対して近づける方向(この一例において、三次元直交座標系MCにおけるZ軸の正方向)に予め決められた第2調整距離だけ放射線検出部12を放射線集束部13に対して相対的に動かす合焦位置調整動作を行う(ステップS240)。なお、駆動制御部462は、当該最も大きい第2計数の値が、前回のステップS220(直近のステップS220よりも1回前に実行されたステップS220)において算出された第2検出器D2毎の第2計数のうち最も大きい第2計数の値よりも大きくなっていた場合、駆動部15を動作させ、当該方向と逆の方向に第2調整距離だけ放射線検出部12を放射線集束部13に対して相対的に動かす。ステップS180〜ステップS240の繰り返し処理が行われた後、励起源部制御部361は、物体Wへの第1放射線R1の照射を励起源部11に終了させる(ステップS250)。そして、ステップS250の処理が行われた後、制御装置20は、図4に示したフローチャートの処理を終了させる。
以上のように、放射線分析装置1は、物体Wに第1放射線R1を照射し、第1放射線R1が照射された物体Wから発生する第2放射線R2を第2検出器D2によって検出し、第2検出器D2のそれぞれが第2放射線R2を検出した計数である第2計数に基づいて、放射線集束部13と放射線検出部12との相対的な位置関係を駆動部15に変化させる。これにより、放射線分析装置1は、放射線の検出効率を容易に向上させることができる。
<実施形態の変形例1>
以下、実施形態の変形例1について説明する。なお、実施形態の変形例1では、実施形態と同様な構成部に対して同じ符号を付して説明を省略する。上記の実施形態では、図2に示した直径SPの円領域内(すなわち、上述の照射領域)において第2放射線R2の強度がほぼ一定である場合について説明したが、実際には、直径SPの円領域内において第2放射線R2の強度がほぼ一定となる状況は珍しい。そこで、実施形態の変形例1では、図2に示した直径SPの円領域内において第2放射線R2の強度が一定ではない場合について説明する。この場合、制御装置20は、図8に示したフローチャートの処理を行う。
図8は、制御装置20が行う処理の流れの他の例を示すフローチャートである。なお、図8に示したフローチャートのステップS110〜ステップS120、ステップS130〜ステップS150、ステップS180〜ステップS250のそれぞれの処理は、図4に示したフローチャートのステップS110〜ステップS120、ステップS130〜ステップS150、ステップS180〜ステップS250のそれぞれの処理と同様であるため、説明を省略する。また、以下では、物体Wが筐体17の内部のうちの励起源部11から第1放射線R1を照射される所定の配置位置に予め配置されている場合について説明する。
ステップS150の処理が行われた後、駆動制御部462は、ステップS150において算出された第2検出器D2毎の第2計数に基づいて、前述の受光領域の中心の位置であって面M1を含む面内における位置を受光位置として算出する(ステップS310)。ここで、ステップS310について説明する。
駆動制御部462は、ステップS150において算出した第2検出器D2毎の第2計数に基づいて、面M1を含む面内における第2検出器D2の位置と第2検出器D2に対応する第2計数との関係を、例えば、ガウス関数や多項式等によってフィッティングする。図9は、面M1を含む面内における第2検出器D2の位置と第2検出器D2に対応する第2計数との関係をガウス関数によってフィッティングした場合の三次元グラフの一例を示す図である。図9に示したグラフのX座標は、三次元直交座標系MCにおけるX軸の座標のことである。また、当該グラフのY座標は、三次元直交座標系MCにおけるY軸の座標のことである。駆動制御部462は、当該関係をガウス関数によってフィッティングした後、フィッティングカーブにおけるピークの面M1内における位置を、前述の受光位置として算出する。図9に示したピークPKは、当該ピークの一例である。すなわち、この一例における受光位置は、最も第2計数が高くなると推定される面M1内における位置のことである。また、このような受光位置は、一般的に受光領域の中心軸と、面M1を含む面とが交わる位置と一致する。つまり、駆動制御部462は、前述した通り、ステップS310において、受光領域の中心の位置であって面M1を含む面内における位置を受光位置として算出する。
ステップS310の処理が行われた後、駆動制御部462は、駆動部15を駆動させ、ステップS310において算出した受光位置が第1検出器D1の位置と一致するように放射線検出部12を放射線集束部13に対して相対的に動かす受光位置調整動作を行う(ステップS320)。
このように、放射線分析装置1は、照射領域内において第2放射線R2の強度が一定ではない場合であっても、物体Wに第1放射線R1を照射し、第1放射線R1が照射された物体Wから発生する第2放射線R2を第2検出器D2によって検出し、第2検出器D2のそれぞれが第2放射線R2を検出した計数である第2計数に基づいて、放射線検出部12と放射線集束部13との相対的な位置関係を駆動部15に変化させる。これにより、放射線分析装置1は、放射線の検出効率を容易に向上させることができる。
<実施形態の変形例2>
以下、実施形態の変形例2について説明する。なお、実施形態の変形例2では、実施形態と同様な構成部に対して同じ符号を付して説明を省略する。上記の実施形態では、駆動制御部462は、第2検出器D2のそれぞれが第2放射線R2を検出した計数である第2計数に基づいて、放射線検出部12と放射線集束部13との相対的な位置関係を駆動部15に変化させる構成について説明した。しかし、駆動制御部462は、これに代えて、第2検出器D2のそれぞれが第2放射線R2を検出した計数である第2計数と、第1検出器D1が第2放射線R2を検出した計数である第1計数とに基づいて、放射線検出部12と放射線集束部13との相対的な位置関係を駆動部15に変化させる構成であってもよい。この場合、図4に示したステップS130において、第2検出情報取得部464が第2検出器D2から第2検出情報を取得するとともに、第1検出情報取得部463は、第1検出器D1から第1検出情報を取得する。そして、図4に示したステップS150において、駆動制御部462は、第2検出器D2毎の第2計数を算出するとともに、第1検出情報取得部463が取得した第1検出情報に基づいて第1検出器D1が第2放射線R2を検出した第1計数を算出する。そして、駆動制御部462は、図4に示したステップS160において、全ての第2計数及び第1計数がほぼ等しいか否かを判定する。これにより、放射線分析装置1は、第2検出器D2のそれぞれが第2放射線R2を検出した計数である第2計数と、第1検出器D1が第2放射線R2を検出した計数である第1計数とに基づいて、放射線検出部12と放射線集束部13との相対的な位置関係を駆動部15に変化させる構成であっても、放射線の検出効率を容易に向上させることができる。なお、第2検出器D2が第1検出器D1と異なる種類の検出器である場合、駆動制御部462は、算出した第1計数に対して第1検出器D1と第2検出器D2との検出感度の違いを補完する重みを乗算し、重みを乗算した第1計数と、全ての第2計数とがほぼ等しいか否かを当該ステップS160において判定する構成であってもよい。
<実施形態の変形例3>
以下、実施形態の変形例3について説明する。なお、実施形態の変形例3では、実施形態と同様な構成部に対して同じ符号を付して説明を省略する。上記の実施形態では、20の第2検出器D2のそれぞれは、前述の第1検出器D1に応じて決まる位置を中心として放射状に配置されている場合を説明した。しかし、20の第2検出器D2のそれぞれは、他の配置態様に配置される構成であってもよい。例えば、20の第2検出器D2のそれぞれは、図10に示したように、面M1内において、第1検出器に応じて決まる位置が中心となるようにマトリクス状に配置されてもよい。図10は、第1検出器D1と第2検出器D2とが配置された面M1の他の例を示す上面図である。
<実施形態の変形例4>
以下、実施形態の変形例4について説明する。なお、実施形態の変形例4では、実施形態と同様な構成部に対して同じ符号を付して説明を省略する。上記の実施形態では、放射線分析装置1は、図4に示したフローチャートにおいて、算出した第2計数に基づいて自動で放射線検出部12の放射線集束部13に対する相対的な位置関係を変化させていた。しかし、放射線分析装置1は、ユーザーから受け付けた操作に基づいて、当該位置関係を変化させる構成であってもよい。この場合、表示制御部461は、駆動制御部462が算出した第2検出器D2毎の第2計数を示す情報を表示部45に表示させる。ユーザーは、表示部45に表示された当該情報に基づいて、駆動制御部462に駆動部15を駆動させる操作を第2制御装置40に対して行う。駆動制御部462は、ユーザーから当該操作を受け付けた場合、駆動部15を動作させ、受け付けた当該操作に応じた距離及び方向に放射線検出部12を放射線集束部13に対して相対的に動かす。これにより、放射線分析装置1は、ユーザーから受け付けた操作に基づいて、放射線の検出効率を容易に向上させることができる。
<実施形態において得られる効果とその背景>
X線のエネルギーを弁別することが可能なX線分析装置が有するX線検出器として、エネルギー分散型X線検出器と、波長分散型X線検出器とが知られている。エネルギー分散型X線検出器は、エネルギー分散型X線検出器内に入射したX線のエネルギーを電気信号に変換し、変換した電気信号の大きさによって当該エネルギーを算出する。一方、波長分散型X線検出器は、波長分散型X線検出器に入射したX線を分光して単色化し、単色化したX線を比例計数管で検出する。
エネルギー分散型X線検出器としては、シリコンリチウム型検出器や、シリコンドリフト型検出器、ゲルマニウム検出器等の半導体検出器が知られている。例えば、シリコンリチウム型検出器やシリコンドリフト型検出器は、電子顕微鏡の元素分析装置に多用され、0〜20keV程度のエネルギーを検出することができる。しかし、これらの検出器は、シリコンを用いているため、エネルギー分解能がシリコンのバンドギャップ(1.1eV)に依存し、エネルギー分解能を130eV程度以上に改善することが難しく、波長分散型X線検出器と比べてエネルギー分解能が10倍以上劣る。
エネルギー分解能が130eVであるエネルギー分散型X線検出器にX線が入射した場合、当該エネルギー分散型X線検出器は、入射したX線のエネルギーを130eV程度の誤差を伴って検出することが可能である。従って、当該誤差が小さいほど、エネルギー分解能は高くなる。
実施形態において放射線分析装置1の一例として挙げた超伝導X線分析装置は、前述したように、超伝導転移端センサーを超伝導X線検出器として有する。超伝導転移端センサーは、波長分散型X線検出器のエネルギー分解能と同程度のエネルギー分解能を有するエネルギー分散型X線検出器として知られている超伝導X線検出器の一種である。超伝導転移端センサーは、マイクロカロリーメーターとも称される。超伝導X線検出器としては、超伝導転移端センサーの他に、ジョセフソン効果を利用したジョセフソントンネル接合素子や、超伝導ラインを利用した超伝導単一光子検出素子、超伝導力学インダクタンス検出器等が知られている。
例えば、超伝導転移端センサーは、他の超伝導X線検出器よりも高いエネルギー分解能を有している。例えば、5.9keVの特性X線のエネルギーを検出する場合の超伝導転移端センサーのエネルギー分解能は、10eV以下にすることができる。
タングステンフィラメント型等の電子発生源を有する走査電子顕微鏡に超伝導転移端センサーを取り付けた場合、電子線が照射された物体から発生する特性X線のエネルギーを超伝導転移端センサーによって検出することにより、半導体型X線検出器では弁別不可能な特性X線(例えば、Si−kα、W−Mα、β)を弁別することができる。
X線検出器の性能を示す指標としては、上記において説明したエネルギー分解能の他に、計数効率が知られている。計数効率は、X線検出器の放射線受光部の面積、厚さや材料、放射線発生源とX線検出器の距離、X線検出器の最大計数率等により決まる。例えば、一般的なシリコンドリフト型検出器では、数mm〜数百mmの当該面積を有し、最大計数率は、数万cps〜数十万cpsである。一方、超伝導転移端センサーの当該面積は、一般的に1mmよりも小さく、最大計数率は、数百cps程度である。
このことから、実施形態において説明したように、超伝導転移端センサーを超伝導X線検出器として有する放射線分析装置1が、位置可変部14及び駆動部15を有し、放射線検出部12を駆動部15によりユーザーが所望する移動方向にユーザーが所望する移動量だけ移動させることができることは、放射線分析装置1の計数効率を向上させる上で非常に重要であると言える。ユーザーが手動で放射線集束部13に対する相対的な放射線検出部12の位置を変化させる場合、計数効率を向上させることは困難である。このような困難さは、放射線集束部13によって直径が100μm程度にまで集束された第2放射線R2を、1mmよりも小さな面積の受光部に効率よく入射させなければならないことからも容易に理解できる。
なお、上記において説明した実施形態及び実施形態の変形例は、第1検出器D1が第2放射線R2を検出した第1計数に基づく物体Wの性質や構造の分析を行う前に予め行う場合において放射線分析装置1に適用されるが、これに代えて、当該分析を行っている最中の放射線分析装置1に適用される構成であってもよい。この場合、放射線分析装置1は、当該分析中における焦点位置のドリフトを補正することができる。
以上説明したように、実施形態における放射線分析装置(この一例において、放射線分析装置1)は、物体(この一例において、物体W)に第1放射線(この一例において、第1放射線R1)を照射する励起源部(この一例において、励起源部11)と、第1放射線が照射された物体から発生する第2放射線(この一例において、第2放射線R2)を検出する1以上の第1検出器(この一例において、第1検出器D1)と、第2放射線を検出する3以上の第2検出器(この一例において、第2検出器D2)とを備える放射線検出部(この一例において、放射線検出部12)と、物体と放射線検出部との間に配置され、第2放射線を集束させる放射線集束部(この一例において、放射線集束部13)と、放射線集束部と放射線検出部との相対的な位置関係を可変にする位置可変部(この一例において、位置可変部14)と、位置可変部が可変にする当該位置関係を変化させる駆動部(この一例において、駆動部15)と、第2検出器のそれぞれが第2放射線を検出した計数である第2計数に基づいて、駆動部に当該位置関係を変化させる制御部(この一例において、制御部46)と、を備え、3以上の第2検出器は、1以上の第1検出器が配置された面(この一例において、面M1)に直交する方向に沿って1以上の第1検出器を見た場合において1以上の第1検出器を囲うように当該面内に配置されている。これにより、放射線分析装置は、放射線の検出効率を容易に向上させることができる。
また、放射線分析装置では、第2検出器は、第1検出器と種類が異なる。これにより、放射線分析装置は、放射線分析装置の製造コストの増大を抑制することができる。
また、放射線分析装置は、第2計数と、第1検出器のそれぞれが第2放射線を検出した計数である第1計数とに基づいて、駆動部に放射線集束部と放射線検出部との相対的な位置関係を変化させる。これにより、放射線分析装置は、より確実に、放射線の検出効率を容易に向上させることができる。
また、放射線分析装置は、第2検出器のそれぞれが第2放射線を検出した第2計数を示す情報を表示部(この一例において、表示部45)に表示させる。これにより、放射線分析装置は、ユーザーから受け付けた操作に基づいて、放射線の検出効率を容易に向上させることができる。
また、放射線分析装置では、放射線検出部は、第1検出器と第2検出器とを配置する面を有し、3以上の第2検出器は、当該面に直交する方向に沿って1以上の第1検出器を見た場合において、3以上の第2検出器のうち最も近くの第1検出器との間に他の第2検出器が存在しない第2検出器の位置同士を結ぶことによって形成される凸包の内側に全ての第1検出器が含まれるように当該面内に配置される。これにより、放射線分析装置は、少なくとも3つの第2検出器のそれぞれが第2放射線を検出した第2計数に基づいて、放射線の検出効率を容易に向上させることができる。
また、放射線分析装置では、3以上の前記第2検出器は、第1検出器と第2検出器とを配置する面内において、1以上の第1検出器に応じて決まる位置を中心として放射状に配置されている。これにより、放射線分析装置は、1以上の第1検出器に応じて決まる位置を中心として放射状に当該面内に配置されている第2検出器に基づいて、放射線の検出効率を容易に向上させることができる。
また、放射線分析装置では、3以上の前記第2検出器は、第1検出器と第2検出器とを配置する面内において、1以上の第1検出器に応じて決まる位置が中心となるようにマトリクス状に配置されている。これにより、放射線分析装置は、1以上の第1検出器に応じて決まる位置が中心となるようにマトリクス状に配置されている第2検出器に基づいて、放射線の検出効率を容易に向上させることができる。
また、放射線分析装置は、駆動部によって放射線集束部と放射線検出部との相対的な位置関係を変化させ、3以上の第2検出器のそれぞれにより検出された第2計数に基づいて算出された位置と、1以上の第1検出器に応じて決まる位置とを一致させる。これにより、放射線分析装置は、放射線集束部と放射線検出部とが第1検出器と第2検出器とが配置された面に沿った方向にずれてしまうことによる放射線の検出効率の低下を抑制することができる。
以上、この発明の実施形態を、図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない限り、変更、置換、削除等されてもよい。
1…放射線分析装置、10…検出装置、11…励起源部、12…放射線検出部、13…放射線集束部、14…位置可変部、15…駆動部、16…冷却装置、17…筐体、20…制御装置、30…第1制御装置、42…記憶部、43…入力受付部、44…通信部、45…表示部、46…制御部、40…第2制御装置、361…励起源部制御部、461…表示制御部、462…駆動制御部、463…第1検出情報取得部、464…第2検出情報取得部、466…記憶制御部、467…分析部、D1…第1検出器、D2…第2検出器

Claims (9)

  1. 物体に第1放射線を照射する励起源部と、
    前記第1放射線が照射された前記物体から発生する第2放射線を検出する1以上の第1検出器と、前記第2放射線を検出する3以上の第2検出器とを備える放射線検出部と、
    前記物体と前記放射線検出部との間に配置され、前記第2放射線を集束させる放射線集束部と、
    前記放射線集束部と前記放射線検出部との相対的な第1位置関係を可変にする位置可変部と、
    前記位置可変部が可変にする前記第1位置関係を変化させる駆動部と、
    前記第2検出器のそれぞれが前記第2放射線を検出した計数である第2計数に基づいて、前記駆動部に前記第1位置関係を変化させる制御部と、
    を備え、
    前記3以上の前記第2検出器は、前記1以上の前記第1検出器が配置された面に直交する方向に沿って前記1以上の前記第1検出器を見た場合において前記1以上の前記第1検出器を囲うように前記面内に配置されており
    前記制御部は、少なくとも、前記第1位置関係のうち前記面と平行な面上の位置関係を前記駆動部に変化させる、
    放射線分析装置。
  2. 前記第2検出器は、前記第1検出器と種類が異なる、
    請求項1に記載の放射線分析装置。
  3. 前記制御部は、前記第2計数と、前記第1検出器のそれぞれが前記第2放射線を検出した計数である第1計数とに基づいて、前記駆動部に前記第1位置関係を変化させる、
    請求項1又は2に記載の放射線分析装置。
  4. 前記制御部は、前記第2検出器のそれぞれが前記第2放射線を検出した前記第2計数を示す情報を表示部に表示させる、
    請求項1から3のうちいずれか一項に記載の放射線分析装置。
  5. 前記放射線検出部は、前記第1検出器と前記第2検出器とを配置する前記面を有し、
    前記3以上の前記第2検出器は、前記面に直交する方向に沿って前記1以上の前記第1検出器を見た場合において、前記3以上の前記第2検出器のうち最も近くの前記第1検出器との間に他の前記第2検出器が存在しない前記第2検出器の位置同士を結ぶことによって形成される凸包の内側に全ての前記第1検出器が含まれるように前記面内に配置される、
    請求項1から4のうちいずれか一項に記載の放射線分析装置。
  6. 前記3以上の前記第2検出器は、前記面内において、前記1以上の前記第1検出器に応じて決まる位置を中心として放射状に配置されている、
    請求項5に記載の放射線分析装置。
  7. 前記3以上の前記第2検出器は、前記面内において、前記1以上の前記第1検出器に応じて決まる位置が中心となるようにマトリクス状に配置されている、
    請求項5に記載の放射線分析装置。
  8. 前記制御部は、前記駆動部によって前記第1位置関係を変化させ、前記3以上の前記第2検出器のそれぞれにより検出された前記第2計数に基づいて算出された位置と、前記1以上の前記第1検出器に応じて決まる位置とを一致させる、
    請求項1から7のうちいずれか一項に記載の放射線分析装置。
  9. 物体に第1放射線を照射する励起源部と、
    前記第1放射線が照射された前記物体から発生する第2放射線を検出する1以上の第1検出器と、前記第2放射線を検出する3以上の第2検出器とを備える放射線検出部と、
    前記物体と前記放射線検出部との間に配置され、前記第2放射線を集束させる放射線集束部と、
    前記放射線集束部と前記放射線検出部との相対的な位置関係を可変にする位置可変部と、
    前記位置可変部が可変にする前記位置関係を変化させる駆動部と、
    前記第2検出器のそれぞれが前記第2放射線を検出した計数である第2計数に基づいて、前記駆動部に前記位置関係を変化させる制御部と、
    を備え、
    前記3以上の前記第2検出器は、前記1以上の前記第1検出器が配置された面に直交する方向に沿って前記1以上の前記第1検出器を見た場合において前記1以上の前記第1検出器を囲うように前記面内に配置されており、
    前記制御部は、前記駆動部によって前記位置関係を変化させ、前記3以上の前記第2検出器のそれぞれにより検出された前記第2計数に基づいて算出された位置と、前記1以上の前記第1検出器に応じて決まる位置とを一致させる、
    放射線分析装置。
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