JP6928635B2 - Filtration device and filter cleaning method for filtration device - Google Patents

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Description

本発明は、フィルターを用いて流体を濾過する濾過装置に関し、詳しくは、逆洗等によって発生したフィルターの濾材内部や濾液室側表面の付着物を、フィルターを取り外すことなく除去できる、濾過装置及び濾過装置のフィルター洗浄方法に関する。 The present invention relates to a filtration device that filters a fluid using a filter. Specifically, the filtration device and a filtration device that can remove deposits on the inside of the filter medium and the surface of the filtrate chamber side of the filter generated by backwashing or the like without removing the filter. The present invention relates to a filter cleaning method of a filtration device.

従来、海水、湖水、河川水、上水道、下水道等の水の濾過、各種装置の冷却水又はプロセス液等の産業一般に用いられる液体の濾過、化学工場等で使用される各種原料の気体等の濾過において、それらに含まれる微粒子や塵埃等を捕捉除去する目的で、種々の濾過装置が用いられている。 Conventionally, filtration of seawater, lake water, river water, water supply, sewerage, etc., filtration of liquids commonly used in industry such as cooling water of various devices or process liquids, filtration of gases of various raw materials used in chemical factories, etc. In the above, various filtration devices are used for the purpose of capturing and removing fine particles and dust contained therein.

前記濾過装置による濾過を長期間続けていると、濾材に捕捉された固形分やゲル状の塵埃等が該濾材に蓄積し、濾材を通過する流体に対する抵抗が上昇し、最終的には対象となる流体の濾過が困難になる。これに対処するため、例えば定期的に、前記濾材に濾過時と逆向きに流体を通して該濾材に付着した捕捉物を剥離させる「逆洗」と呼ばれる操作を行い、濾材の濾過性能を回復させる。この「逆洗」という方法は、濾材を分解せず容易に、濾材の通過抵抗を下げ、初期の通過抵抗に近づけることができる方法である。特に逆洗流体排出管を設けている濾過装置の場合、濾過を中断せずに、逆洗を行える点で優れている。 When filtration by the filtration device is continued for a long period of time, solids and gel-like dust trapped in the filter medium accumulate in the filter medium, and the resistance to the fluid passing through the filter medium increases, and finally the target is targeted. It becomes difficult to filter the fluid. In order to deal with this, for example, an operation called "backwashing" is performed in which a fluid is passed through the filter medium in the direction opposite to that at the time of filtration to peel off the traps adhering to the filter medium, and the filtration performance of the filter medium is restored. This "backwashing" method is a method that can easily reduce the passage resistance of the filter medium and bring it closer to the initial passage resistance without disassembling the filter medium. In particular, a filtration device provided with a backwash fluid discharge pipe is excellent in that backwash can be performed without interrupting filtration.

このような「逆洗」が可能な濾過装置としては、流入口と流出口を有する円筒状ストレーナ(ケーシング)本体に円筒状濾過用エレメントを内蔵し、濾過用エレメントの内側から外側に流体を通過させて濾過を行う濾過装置において、濾過用エレメント内にブラシ付きの異物吸込機構(吸引ヘッド)を有する吸込管を回動自在に設け、前記吸込管に連通機構を介して排出管(逆洗流体排出管)を連接した濾過装置がある(例えば、特許文献1参照)。 As a filtration device capable of such "backwashing", a cylindrical filtration element is built in a cylindrical strainer (casing) body having an inlet and an outlet, and a fluid passes from the inside to the outside of the filtration element. In a filtration device for filtering, a suction pipe having a foreign matter suction mechanism (suction head) with a brush is rotatably provided in the filtration element, and a discharge pipe (backwash fluid) is provided in the suction pipe via a communication mechanism. There is a filtration device in which a discharge pipe) is connected (see, for example, Patent Document 1).

また、円筒状フィルターエレメントの内側から外側に流体を通過させて濾過を行なう濾過装置であって、該フィルターエレメント内部側に、低圧の排出口に連通した逆洗用のノズルが配置されたものがあり、該ノズルはフィルターエレメントの内周面を走査するとともに、流体をフィルターエレメントの外側から該フィルターエレメントを通過してノズルに流入させて前記排出口から排出することにより、フィルターエレメントを逆洗できるようになっている(例えば、特許文献2参照)。 In addition, a filtration device that allows fluid to pass from the inside to the outside of a cylindrical filter element to perform filtration, in which a backwash nozzle that communicates with a low-pressure discharge port is arranged inside the filter element. The nozzle can backwash the filter element by scanning the inner peripheral surface of the filter element and allowing fluid to flow from the outside of the filter element through the filter element into the nozzle and discharged from the discharge port. (See, for example, Patent Document 2).

特開2012−16672号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-16672 特表2008−507391号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-507391

上記の各濾過装置のように、定期的に前記濾材に濾過時と逆向きに流体を通す「逆洗」、特にブラシ付きの吸引ヘッドを用いた逆洗を行うと、フィルターの原液室側表面に付着した捕捉物は除去できるが、濾材内部や濾液室側表面の付着物の除去が困難な場合がある。このような濾材内部や濾液室側表面の付着物とは、例えば、濾過時に微粒子がメッシュの隙間にはまり込んだり、繊維状の物質がメッシュに絡みついたりして発生する場合がある。また、逆洗に用いる濾過済みの流体に含まれている微粒子等が、逆洗時の濾液室側から原液室側への通過の際にフィルターの濾液室側表面や濾材内部に捕捉されて付着する場合がある。これは、濾過済の流体の中にも、濾材の目に近い大きさの微粒子や、細長い微粒子や繊維状のもの等、通過する際の微粒子や繊維の向きにより、濾過時には通過しても逆洗時には通過せずに捕捉されるものも存在するからである。 Like each of the above filtration devices, when "backwashing" in which the fluid is passed through the filter medium in the opposite direction to that during filtration, especially backwashing using a suction head with a brush, the surface of the filter on the stock solution chamber side is performed. Although the trapped material adhering to the filter medium can be removed, it may be difficult to remove the adhering matter inside the filter medium or on the surface of the filtrate chamber side. Such deposits on the inside of the filter medium or on the surface of the filtrate chamber side may be generated, for example, when fine particles get stuck in the gaps of the mesh during filtration or fibrous substances are entangled with the mesh. In addition, fine particles and the like contained in the filtered fluid used for backwashing are trapped and adhered to the surface of the filter on the filtrate chamber side and the inside of the filter medium when passing from the filtrate chamber side to the stock solution chamber side during backwashing. May be done. This is the opposite even if it passes through the filtered fluid, depending on the orientation of the fine particles and fibers when passing through, such as fine particles with a size close to the eyes of the filter medium, elongated fine particles, and fibrous ones. This is because some particles are captured without passing through during washing.

従来の濾材は、例えば図7のように、原液室側から、濾過のための微細メッシュと、流れの分散や中間的な補強用の中間メッシュと、補強のための太く粗いメッシュなどを配置した多層構造を有する場合がある。このようなフィルターを逆洗すると、濾液室側から原液室側へ通過する濾過済みの流体に含まれている微粒子等の一部が、濾材内部の微細メッシュと中間メッシュとの界面等に捕捉される場合がある。捕捉された微粒子等の一部は、通常の濾過時の原液室側から濾液室側への流体の流れにより除去されうるが、一部は両メッシュの間にはまり込んだり粘着したりする場合もある。このようなフィルターの濾液室側から詰まった微粒子等の付着物は、さらなる逆洗による濾液室側から原液室側へ向かう流体の流れや、原液室側からのブラシの摺接によって除去することは困難であり、付着物が蓄積されると流体の通過抵抗の上昇を引き起こすという問題があった。この問題に対処するために、従来は定期的にフィルターを取り外して洗浄し、このようなフィルターの濾材内部や濾液室側表面の付着物を除去する必要があった。 In the conventional filter medium, for example, as shown in FIG. 7, a fine mesh for filtration, an intermediate mesh for dispersion of flow and intermediate reinforcement, a thick and coarse mesh for reinforcement, and the like are arranged from the stock solution chamber side. It may have a multi-layer structure. When such a filter is backwashed, some of the fine particles and the like contained in the filtered fluid passing from the filtrate chamber side to the stock solution chamber side are captured at the interface between the fine mesh and the intermediate mesh inside the filter medium. May occur. Some of the captured fine particles can be removed by the flow of fluid from the stock solution chamber side to the filtrate chamber side during normal filtration, but some of them may get stuck or stick between both meshes. be. Adhesions such as fine particles clogged from the filtrate chamber side of such a filter cannot be removed by a fluid flow from the filtrate chamber side to the stock solution chamber side by further backwashing or by rubbing a brush from the stock solution chamber side. It is difficult, and there is a problem that the accumulation of deposits causes an increase in the passage resistance of the fluid. In order to deal with this problem, it has conventionally been necessary to periodically remove and clean the filter to remove deposits inside the filter medium of such a filter and on the surface of the filtrate chamber side.

本発明は、このような問題に対処し、逆洗等によって発生したフィルターの濾材内部や濾液室側表面の付着物を、フィルターを取り外すことなく除去できる、濾過装置及び濾過装置のフィルター洗浄方法を提供することをその目的とする。 The present invention addresses such a problem, and provides a filter cleaning method for a filtration device and a filtration device, which can remove deposits on the inside of the filter medium and the surface of the filtrate chamber side of the filter generated by backwashing or the like without removing the filter. Its purpose is to provide.

前記課題を解決するために、本発明による濾過装置は、流体入口及び流体出口を有し、内部に前記流体入口に連通し濾過前の流体を収容する原液室と前記流体出口に連通し濾過後の流体を収容する濾液室とを備えたケーシングと、前記ケーシングの内部に設置され、流体を前記原液室側から前記濾液室側へ通過させて濾過するフィルターと、を備え、流体を前記濾液室側から前記原液室側へ通過させて前記フィルターに付着した捕捉物を剥離する逆洗が可能な濾過装置において、前記逆洗を行う逆洗手段と、前記原液室側から前記濾液室側へ前記フィルターを通過するように高圧の流体を噴射し、前記フィルターの内部や前記濾液室側の表面の付着物を高圧洗浄により除去する高圧洗浄機構と、を備え、前記逆洗手段は、前記原液室側から前記フィルターの一部分に接面するように配置されて前記濾液室の流体を前記フィルターに通過させて吸引する逆洗ヘッドと、前記フィルターに対する前記逆洗ヘッドの接面位置を移動させる接面位置移動手段と、前記逆洗ヘッドに吸引された流体を前記ケーシングの外部へ排出する逆洗流体排出管と、前記逆洗ヘッドの前記フィルターの一部分に接面する部分に設けられ、該フィルターの濾材の全長をカバーするスリット状の吸引孔の周囲に植毛された除去ブラシと、を含んで構成され、前記逆洗が行われた後に、前記高圧洗浄機構によって前記高圧洗浄が行われるものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the filtration device according to the present invention has a fluid inlet and a fluid outlet, and is internally communicated with the fluid inlet to accommodate the fluid before filtration, and after filtration communicated with the fluid outlet. A casing provided with a filtrate chamber for accommodating the fluid of the above, and a filter installed inside the casing for passing the fluid from the stock solution chamber side to the filtrate chamber side and filtering the fluid, and the fluid is filtered in the filtrate chamber. In a filtration device capable of backwashing that allows the backwash to pass from the side to the stock solution chamber side and peel off the traps adhering to the filter, the backwashing means for performing the backwashing and the undiluted solution chamber side to the filtrate chamber side. The backwashing means includes a high-pressure cleaning mechanism that injects a high-pressure fluid so as to pass through the filter and removes deposits on the inside of the filter and the surface of the filtrate chamber side by high-pressure cleaning, and the backwashing means is the undiluted solution chamber. A backwash head that is arranged so as to contact a part of the filter from the side and allows the fluid in the filtrate chamber to pass through the filter and sucks the backwash head, and a contact surface that moves the contact surface position of the backwash head with respect to the filter. The position moving means, the backwash fluid discharge pipe that discharges the fluid sucked by the backwash head to the outside of the casing, and the portion of the backwash head that contacts a part of the filter are provided on the filter. It is configured to include a removal brush planted around a slit-shaped suction hole covering the entire length of the filter medium, and after the backwash is performed, the high pressure cleaning is performed by the high pressure cleaning mechanism. ..

また、本発明による濾過装置のフィルター洗浄方法は、流体入口及び流体出口を有し、内部に前記流体入口に連通し濾過前の流体を収容する原液室と前記流体出口に連通し濾過後の流体を収容する濾液室とを備えたケーシングと、前記ケーシングの内部に設置され、流体を前記原液室側から前記濾液室側へ通過させて濾過するフィルターと、を備え、流体を前記濾液室側から前記原液室側へ通過させて前記フィルターに付着した捕捉物を剥離する逆洗が可能な濾過装置の前記フィルターを洗浄するフィルター洗浄方法であって、前記逆洗は、前記原液室側から前記フィルターの一部分に接面するように配置された逆洗ヘッドにより前記濾液室の流体を前記フィルターを通過させて吸引し、前記フィルターに対する前記逆洗ヘッドの接面位置を接面位置移動手段により移動させ、前記逆洗ヘッドに吸引された流体を逆洗流体排出管により前記ケーシングの外部へ排出し、前記逆洗ヘッドの前記フィルターの一部分に接面する部分に設けられ、該フィルターの濾材の全長をカバーするスリット状の吸引孔の周囲に植毛された除去ブラシを用いて、前記フィルターの濾材を逆洗する際に前記除去ブラシにより前記捕捉物をかき取りながら、前記濾材の全面について行われ、これにより、前記フィルターの前記原液室側の表面に付着した捕捉物を除去し、前記逆洗が行われた後に、前記フィルターの内部や濾液室側の表面の付着物の除去を、前記原液室側から前記濾液室側へ前記フィルターを通過するように高圧の流体を噴射して洗浄する高圧洗浄により行うものである。 Further, the filter cleaning method of the filtration device according to the present invention has a fluid inlet and a fluid outlet, and internally communicates with the fluid inlet to accommodate the fluid before filtration and the undiluted solution chamber and the fluid after filtration communicates with the fluid outlet. A casing provided with a filtrate chamber for accommodating the filtrate, and a filter installed inside the casing for passing fluid from the stock solution chamber side to the filtrate chamber side to filter the fluid from the filtrate chamber side. It is a filter cleaning method for cleaning the filter of a filtration device capable of backwashing by passing it to the stock solution chamber side and peeling off traps adhering to the filter. The backwashing is the filter from the stock solution chamber side. The backwash head arranged so as to contact a part of the filter chamber allows the fluid in the filtrate chamber to pass through the filter and is sucked, and the contact surface position of the backwash head with respect to the filter is moved by the contact surface position moving means. , The fluid sucked into the backwash head is discharged to the outside of the casing by the backwash fluid discharge pipe, and is provided at a portion of the backwash head in contact with a part of the filter, and the entire length of the filter medium of the filter is adjusted. When the filter medium of the filter is backwashed using a removal brush planted around the slit-shaped suction hole to be covered, the removal brush is used to scrape the trapped material, and the entire surface of the filter medium is covered. Therefore, the traps adhering to the surface of the filter on the stock solution chamber side are removed, and after the backwash is performed, the deposits on the inside of the filter and the surface of the filtrate chamber side are removed on the stock solution chamber side. This is performed by high-pressure washing in which a high-pressure fluid is sprayed from the filter chamber side to the filtrate chamber side so as to pass through the filter.

本発明の濾過装置によれば、流体を原液室側から濾液室側へフィルターを通過させて濾過するとともに、流体を前記濾液室側から前記原液室側へ通過させて前記フィルターに付着した捕捉物を剥離する逆洗が可能な濾過装置において、原液室側から濾液室側へフィルターを通過するように高圧の流体を噴射する高圧洗浄機構を設けたので、逆洗等によって発生したフィルターの濾材内部や濾液室側の表面の付着物を、フィルターを取り外すことなく高圧洗浄により除去できる。 According to the filtration device of the present invention, the fluid is filtered by passing through the filter from the undiluted solution chamber side to the filtrate chamber side, and the fluid is passed from the filtrate chamber side to the undiluted solution chamber side to adhere to the filter. In the filter device capable of backwashing, a high-pressure washing mechanism that injects a high-pressure fluid so as to pass through the filter from the undiluted solution chamber side to the filtrate chamber side is provided, so that the inside of the filter medium of the filter generated by backwashing or the like is provided. And the deposits on the surface of the filtrate chamber side can be removed by high-pressure washing without removing the filter.

本発明の濾過装置のフィルター洗浄方法によれば、逆洗によりフィルターの原液室側の表面に付着した捕捉物を除去するとともに、原液室側から高圧の流体を噴射して洗浄する高圧洗浄を行うので、逆洗等によって発生したフィルターの濾材内部や濾液室側の表面の付着物を、フィルターエレメントを取り外すことなく高圧洗浄により除去できる。 According to the filter cleaning method of the filtration device of the present invention, the traps adhering to the surface of the filter on the undiluted solution chamber side are removed by backwashing, and high-pressure cleaning is performed by injecting a high-pressure fluid from the undiluted solution chamber side. Therefore, the deposits on the inside of the filter medium of the filter and on the surface of the filtrate chamber side generated by backwashing or the like can be removed by high-pressure washing without removing the filter element.

本発明による濾過装置の第1の実施形態の全体構成を示す説明図で、(a)は横断面図であり、(b)は縦断面図である。It is explanatory drawing which shows the whole structure of the 1st Embodiment of the filtration apparatus by this invention, (a) is a cross-sectional view, (b) is a vertical cross-sectional view. 図1の濾過装置の高圧洗浄機構の一例を示す縦断面図である。It is a vertical cross-sectional view which shows an example of the high pressure cleaning mechanism of the filtration apparatus of FIG. 図1の濾過装置を複数配置する場合の配管例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the piping example at the time of arranging a plurality of filtration devices of FIG. 本発明による濾過装置の第2の実施形態の全体構成を示す説明図で、(a)は横断面図であり、(b)は縦断面図である。It is explanatory drawing which shows the whole structure of the 2nd Embodiment of the filtration apparatus by this invention, (a) is a cross-sectional view, (b) is a vertical cross-sectional view. 本発明による濾過装置の第3の実施形態の全体構成を示す説明図で、(a)は横断面図であり、(b)は縦断面図である。It is explanatory drawing which shows the whole structure of the 3rd Embodiment of the filtration apparatus by this invention, (a) is a cross-sectional view, (b) is a vertical cross-sectional view. 本発明による濾過装置の第4の実施形態の全体構成を示す縦断面図である。It is a vertical sectional view which shows the whole structure of the 4th Embodiment of the filtration apparatus by this invention. フィルターの濾材構造の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the filter medium structure of a filter.

以下、本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。
[第1の実施形態]
図1は、本発明による濾過装置の第1の実施形態の全体構成を示す説明図である。(a)は(b)のB−B線断面図であり、(b)は(a)のA−A線断面図である。この濾過装置は、例えば船舶のバラスト水を濾過するもので、流体を流体入口からフィルターを通過して流体出口から流出させて濾過を行うとともに、後述する逆洗ヘッド等を用いずに、外部の配管系により流体の流路を切替えて、流体を流体出口からフィルターを通過して流体入口へ流すことによりフィルターの逆洗を行なうものである。この濾過装置は、ケーシング1と、隔壁2と、フィルターエレメント3とを有し、さらに高圧洗浄機構5を備えてなる。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
[First Embodiment]
FIG. 1 is an explanatory diagram showing an overall configuration of a first embodiment of the filtration device according to the present invention. (A) is a sectional view taken along line BB of (b), and (b) is a sectional view taken along line AA of (a). This filtration device, for example, filters the ballast water of a ship by allowing the fluid to pass through the filter from the fluid inlet and flow out from the fluid outlet to perform filtration, and to perform filtration without using a backwash head or the like, which will be described later. The flow path of the fluid is switched by the piping system, and the fluid is backwashed by flowing the fluid from the fluid outlet through the filter to the fluid inlet. This filtration device includes a casing 1, a partition wall 2, a filter element 3, and further includes a high-pressure cleaning mechanism 5.

前記ケーシング1は、濾過装置の外殻をなすもので、ケーシング本体1aとケーシング蓋1bとからなる。ケーシング本体1aは、有底の筒状(例えば円筒形状)、直方体形状などに形成され、例えば側壁上部に外部から流体が流入する流体入口6を有すると共に、側壁下部に内部で濾過された流体を外部へ流出する流体出口7を有している。ケーシング蓋1bは、ケーシング本体1aの上に載置されケーシング1内部を密封する蓋である。蓋1bには高圧洗浄機構5を設置するための貫通孔1cが設けられ、これは後述する小フランジ57で密閉されている。ケーシング1の材質は、金属又は合成樹脂などであり、その形状・大きさは、濾過装置の使用目的、通過させる流体の種類、量、設置場所などに応じて適宜決めればよい。 The casing 1 forms the outer shell of the filtration device, and includes a casing main body 1a and a casing lid 1b. The casing body 1a is formed in a bottomed tubular shape (for example, a cylindrical shape), a rectangular parallelepiped shape, or the like, and has, for example, a fluid inlet 6 in which a fluid flows in from the outside in the upper part of the side wall, and a fluid filtered inside in the lower part of the side wall. It has a fluid outlet 7 that flows out to the outside. The casing lid 1b is a lid that is placed on the casing main body 1a and seals the inside of the casing 1. The lid 1b is provided with a through hole 1c for installing the high-pressure cleaning mechanism 5, which is sealed by a small flange 57 described later. The material of the casing 1 is metal, synthetic resin, or the like, and the shape and size thereof may be appropriately determined according to the purpose of use of the filtration device, the type and amount of fluid to be passed through, the installation location, and the like.

前記ケーシング1の内部の下部には、隔壁2が水平に設けられている。この隔壁2は、ケーシング1内部を流体入口6と連通し濾過前の流体が収容される原液室8(上側)と、前記流体出口7と連通し濾過後の流体が収容される濾液室9(下側)とに隔離する壁である。この隔壁2の中央部には貫通孔が設けられ、これに嵌合して筒状部分10が上側に突設されている。 A partition wall 2 is horizontally provided at the lower part inside the casing 1. The partition wall 2 communicates with the fluid inlet 6 inside the casing 1 to accommodate the unfiltered fluid chamber 8 (upper side), and communicates with the fluid outlet 7 to accommodate the filtered fluid (upper side). It is a wall that separates it from the lower side). A through hole is provided in the central portion of the partition wall 2, and a tubular portion 10 is projected upward by fitting into the through hole.

前記ケーシング1の内部にて隔壁2の上側には、円筒状のフィルターエレメント3が、前記原液室8内に垂直方向に設けられ、その下端部が前記筒状部分10に貫通されて回動可能に保持され、筒状部分10の内部を介して原液室8と連通している。このフィルターエレメント3は、流体を前記原液室側から前記濾液室側へ通過させて濾過するフィルターとなるもので、円筒面を成す濾材31と、前記下端部を成す下側閉塞板32と、上端部を成す上側閉塞板33とを有し、対象となる流体を外側から内側に向けて濾材31を通過させ流体中に含まれる固形分やゲル状の塵埃等を捕捉して濾過するものである。 A cylindrical filter element 3 is provided in the stock solution chamber 8 in the vertical direction on the upper side of the partition wall 2 inside the casing 1, and the lower end portion thereof penetrates the tubular portion 10 and can rotate. It is held in a cylindrical portion 10 and communicates with the stock solution chamber 8 via the inside of the tubular portion 10. The filter element 3 serves as a filter for passing a fluid from the stock solution chamber side to the filtrate chamber side to filter the filter, and has a filter medium 31 forming a cylindrical surface, a lower closing plate 32 forming the lower end portion, and an upper end thereof. It has an upper closing plate 33 forming a portion, and allows a target fluid to pass through a filter medium 31 from the outside to the inside to capture and filter solids and gel-like dust contained in the fluid. ..

濾材31は、図7に示す従来の濾材と同様に、複数層に重ねられており最外層が最も細かい網目になっているものであればよく、例えば、複数積層した金網を焼結して保形性を高め円筒状に成形して焼結したものや、円筒状のノッチワイヤからなるもの、ウェッジワイヤからなるもの等がある。焼結したものの場合は、最内層の網目の大きさは10〜200μmのもの、それより内側の層の網目の大きさは200〜5000μmのものの中から適宜選定すればよい。この場合、最外層以外の補強メッシュや保護メッシュは、フィルターエレメント3の強度に係わるものであり、必要な強度が得られるようにその層数、網目の大きさ及び線材径を選択する。また、メッシュの織り方は、平織り、綾織り、朱子織り、畳織り、綾畳織り等が適用できる。なお、最内層を金網として、その外側に例えば角穴が無数に穿設された円筒状のパンチングプレートや、複数本の細いロッドを縦横方向に並べた補強部材を配設した状態で焼結してもよい。 Similar to the conventional filter medium shown in FIG. 7, the filter medium 31 may be one as long as it is stacked in a plurality of layers and the outermost layer has the finest mesh. For example, a plurality of laminated wire meshes are sintered and held. There are those made of improved shape and formed into a cylindrical shape and sintered, those made of a cylindrical notch wire, those made of a wedge wire, and the like. In the case of a sintered product, the mesh size of the innermost layer may be selected from 10 to 200 μm, and the mesh size of the inner layer may be appropriately selected from 200 to 5000 μm. In this case, the reinforcing mesh and the protective mesh other than the outermost layer are related to the strength of the filter element 3, and the number of layers, the size of the mesh, and the wire diameter are selected so that the required strength can be obtained. Further, as the weaving method of the mesh, plain weave, twill weave, satin weave, tatami weave, twill weave and the like can be applied. The innermost layer is a wire mesh, and the outermost layer is sintered with, for example, a cylindrical punching plate having innumerable square holes and a reinforcing member in which a plurality of thin rods are arranged in the vertical and horizontal directions. You may.

前記下側閉塞板32は円板状を成し、外周が前記円筒状の濾材31に嵌合されてこれと固定されており、中央部には貫通孔34が設けられて、これに前記筒状部分10が回動可能に嵌合している。貫通孔34の内周には溝が設けられてOリング12が設けられ、筒状部分10の外周との間にシールを形成している。下側閉塞板32の下面と前記隔壁2の上面との間には、軸受11が設けられ、フィルターエレメント3の重量を支えるとともに回動可能に保持している。 The lower closing plate 32 has a disk shape, and the outer circumference is fitted to and fixed to the cylindrical filter medium 31, and a through hole 34 is provided in the central portion thereof. The shaped portion 10 is rotatably fitted. A groove is provided on the inner circumference of the through hole 34, and an O-ring 12 is provided to form a seal between the inner circumference and the outer circumference of the tubular portion 10. A bearing 11 is provided between the lower surface of the lower closing plate 32 and the upper surface of the partition wall 2 to support the weight of the filter element 3 and rotatably hold it.

一方、前記上側閉塞板33も円板状を成し、外周が前記筒状の濾材31に嵌合されてこれと固定されている。この上側閉塞板33の中央部は、前記ケーシング蓋1bの上側に設けられたギアードモータ13からケーシング蓋部1bの貫通孔1dを通過して伸びる回転軸14と連結されている。これにより、フィルターエレメント3は、ギアードモータ13により、回動できるようになっている。なお、上側閉塞板33の上面と、ケーシング蓋1bの下面との間にも軸受15が設けられ、また、前記貫通孔1dの内周にはOリング16が設けられ、回転軸14との間のシールを形成している。 On the other hand, the upper closing plate 33 also has a disk shape, and the outer circumference is fitted to and fixed to the tubular filter medium 31. The central portion of the upper closing plate 33 is connected to a rotating shaft 14 extending from a geared motor 13 provided on the upper side of the casing lid 1b through a through hole 1d of the casing lid 1b. As a result, the filter element 3 can be rotated by the geared motor 13. A bearing 15 is also provided between the upper surface of the upper closing plate 33 and the lower surface of the casing lid 1b, and an O-ring 16 is provided on the inner circumference of the through hole 1d to be between the rotating shaft 14. Forming a seal.

ここで、本発明においては、濾液室9内部に高圧洗浄機構5が設けられている。この高圧洗浄機構5は、原液室8側から濾材31を通過するように高圧の流体を噴射し、濾材31の内部や濾液室9側表面、すなわち濾液室9に連通するフィルターエレメント3の内部側表面、の付着物を高圧洗浄により除去するもので、本実施形態では、高圧ポンプ等で加圧された流体(清浄水)を原液室側に設けられた2つのノズル53a、53bから噴射するとともに、該ノズル53a、53bを円筒状のフィルターエレメント3の軸と平行方向に往復移動させて、濾材31の全長に対して流体を噴射できるようになっている。逆洗時と同様に、フィルターエレメント3をギアードモータ13で回転させながら流体噴射を行うことにより、濾材31の全面を高圧洗浄できるようになっている。 Here, in the present invention, the high pressure cleaning mechanism 5 is provided inside the filtrate chamber 9. The high-pressure washing mechanism 5 injects a high-pressure fluid from the stock solution chamber 8 side so as to pass through the filter medium 31, and communicates with the inside of the filter medium 31 and the surface of the filtrate chamber 9 side, that is, the inside side of the filter element 3 communicating with the filtrate chamber 9. The deposits on the surface are removed by high-pressure washing. In this embodiment, a fluid (clean water) pressurized by a high-pressure pump or the like is injected from two nozzles 53a and 53b provided on the stock solution chamber side. The nozzles 53a and 53b are reciprocated in the direction parallel to the axis of the cylindrical filter element 3 so that the fluid can be injected with respect to the entire length of the filter medium 31. As in the case of backwashing, the entire surface of the filter medium 31 can be washed with high pressure by injecting fluid while rotating the filter element 3 with the geared motor 13.

高圧洗浄機構5は、図2に示すように、内管51と、移動シリンダ52と、2つのノズル53a,53bと、2つの流体供給路54a,54bと、を有する。 As shown in FIG. 2, the high-pressure cleaning mechanism 5 has an inner pipe 51, a moving cylinder 52, two nozzles 53a and 53b, and two fluid supply passages 54a and 54b.

内管51は、筒状の部材で、長さ方向両側のガイド部分51a,51bと中央部の円盤状に突設されたピストン部51cとからなる。下側ガイド部分51bの下端は、隔壁2の上面に設けられた座56に着脱自在に嵌合され固定される。また、上側ガイド部分51aの上端部近傍の外周には円盤状の小フランジ57が嵌合され、この小フランジ57をケーシング蓋1bの上面に前記貫通孔1cを覆うように固定することにより、高圧洗浄機構5全体がケーシング1に対して固定される。この構造により、高圧洗浄機構5全体が、ケーシング1を分解せずに、前記貫通孔1cを通ってケーシング1から着脱できるように構成されている。内管51の両端部は封止され、内部は空洞で2つの流体供給路54a,54bが収容されている。 The inner pipe 51 is a tubular member, and includes guide portions 51a and 51b on both sides in the length direction and a piston portion 51c projecting in a disk shape at the center. The lower end of the lower guide portion 51b is detachably fitted and fixed to a seat 56 provided on the upper surface of the partition wall 2. Further, a disk-shaped small flange 57 is fitted on the outer periphery of the upper guide portion 51a near the upper end portion, and the small flange 57 is fixed to the upper surface of the casing lid 1b so as to cover the through hole 1c, whereby high pressure is applied. The entire cleaning mechanism 5 is fixed to the casing 1. With this structure, the entire high-pressure cleaning mechanism 5 can be attached to and detached from the casing 1 through the through hole 1c without disassembling the casing 1. Both ends of the inner pipe 51 are sealed, and the inside is hollow to accommodate two fluid supply passages 54a and 54b.

前記移動シリンダ52は、前記ピストン部51cの外周に嵌合されるとともに、両端部が閉塞されてその閉塞部分に形成された貫通孔に前記ガイド部分51a,51bの外周が嵌合されて、前記内管51の軸方向に移動可能に設けられている。これらの各嵌合部分はOリング等でシールされ、移動シリンダ52内部の前記ピストン部51cの両側には、前記各々の流体供給路54a,54bに連通する流体室55a,55bが形成されている。 The moving cylinder 52 is fitted to the outer circumference of the piston portion 51c, and the outer circumferences of the guide portions 51a and 51b are fitted to the through holes formed in the closed portions by closing both ends thereof. It is provided so as to be movable in the axial direction of the inner pipe 51. Each of these fitting portions is sealed with an O-ring or the like, and fluid chambers 55a and 55b communicating with the respective fluid supply paths 54a and 54b are formed on both sides of the piston portion 51c inside the moving cylinder 52. ..

移動シリンダ52の両端部には、流体室55a,55bに各々連通する2つのノズル53a,53bが取付けられている。 Two nozzles 53a and 53b that communicate with the fluid chambers 55a and 55b are attached to both ends of the moving cylinder 52.

前記2つの流体供給路54a,54bは、外部から内管51の内部を通って、流体室55a,55bに連通するように設けられている。例えば加圧ポンプ等で加圧された高圧(P)の清浄水などの流体は、三方弁Vで制御されて2つの流体供給路54a,54bに交互に供給され、流体室55a,55bへ供給されて、移動シリンダ52を各々上方向・下方向に移動させつつ、移動シリンダ52に取付けられたノズル53a,53bから流体を噴射するようになっている。尚、流体供給路54a,54bの管路抵抗はノズル53a,53bの管路抵抗より十分低く構成されている。 The two fluid supply passages 54a and 54b are provided so as to communicate with the fluid chambers 55a and 55b from the outside through the inside of the inner pipe 51. For example a fluid, such as clean water pressurizing pump pressure pressurized in the like (P H) is the three-way valve V H at controlled two fluid supply paths 54a, it is alternately supplied to the 54b, the fluid chambers 55a, 55b The fluid is injected from the nozzles 53a and 53b attached to the moving cylinder 52 while moving the moving cylinder 52 upward and downward, respectively. The pipeline resistance of the fluid supply passages 54a and 54b is set to be sufficiently lower than the pipeline resistance of the nozzles 53a and 53b.

尚、この高圧洗浄は、噴射速度が減殺されないように、濾過装置内、特に原液室8内の流体を抜いた状態で行うことができる。図1のように流体入口6の位置が高いと、流体入口6からでは原液室8内の流体を抜ききれない場合があるので、原液室8の流体を濾過装置外部へ排出する高圧洗浄排出口17が、ケーシング本体1aの原液室8の下端近くに設けられている。この高圧洗浄排出口17にも開閉バルブ(高圧洗浄排出バルブV)が設けられ、高圧洗浄時のみ該バルブを開放する。本実施形態ではこのバルブVは手動バルブとしているが、自動バルブとしてもよい。但し、後述するように原液室8内の流体を抜かないで高圧洗浄を行うこともでき、その場合や、流体入口6の位置が低い場合は、高圧洗浄排出口17や高圧洗浄排出バルブVは必ずしも必要ない。 This high-pressure washing can be performed in a state where the fluid in the filtration device, particularly in the stock solution chamber 8, is drained so that the injection speed is not reduced. If the position of the fluid inlet 6 is high as shown in FIG. 1, the fluid in the stock solution chamber 8 may not be completely drained from the fluid inlet 6, so the high-pressure washing discharge port for discharging the fluid in the stock solution chamber 8 to the outside of the filtration device. 17 is provided near the lower end of the stock solution chamber 8 of the casing main body 1a. An on-off valve (high-pressure washing / discharging valve VE ) is also provided in the high-pressure washing / discharging port 17, and the valve is opened only during high-pressure washing. In the present embodiment, this valve VE is a manual valve, but it may be an automatic valve. However, as will be described later, high-pressure washing can be performed without draining the fluid in the undiluted solution chamber 8. In that case, or when the position of the fluid inlet 6 is low, the high-pressure washing discharge port 17 or the high-pressure washing discharge valve VE Is not always necessary.

また、本実施形態では、高圧洗浄機構5のノズル53a,53bは、上面視で濾材31の原液室8側の表面に対して斜めに流体を噴射するように設けられている(図1(a)参照)。これは、垂直に流体を噴射すると、濾材31の原液室8側の表面に残留している付着物を濾材31内部に押し込んで目詰まりを起こす場合があるからである。このため、流体を濾材31の原液室8側の表面に対して斜めに噴射して流体の一部が濾材31を通過せずに前記表面に沿った噴流となって、濾材31の原液室側の表面の付着物をも除去するようにしている。これにより、この付着物が流体噴射により濾材31内部に押し込まれて目詰まりを生ずるという問題を回避しつつ、濾材31を通過する噴射流体で濾材31内部や濾液室9側の表面の付着物を除去できる。本実施形態のようにフィルターエレメント3を回転させながら流体噴射を行う場合、流体の噴射方向は、回転による濾材31の表面の移動方向に対して「向かい風」になるように傾けるのが好ましい(図1(a)参照)。噴射された流体はノズル53a,53bから通常円錐状に広がるので、これにより、回転してきた濾材31部分の原液室8側の表面の付着物を、まず浅い角度(円筒面への接線よりやや内側方向)の噴射流体で除去し、次に、表面に付着物のない該濾材31部分に、より大きい角度の噴射流体を通過させて、濾材31内部や濾液室39側、すなわちフィルターエレメント3の内部側の表面の付着物を除去することができるからである。 Further, in the present embodiment, the nozzles 53a and 53b of the high-pressure cleaning mechanism 5 are provided so as to inject the fluid obliquely with respect to the surface of the filter medium 31 on the stock solution chamber 8 side in a top view (FIG. 1 (a). )reference). This is because when the fluid is injected vertically, the deposits remaining on the surface of the filter medium 31 on the stock solution chamber 8 side may be pushed into the filter medium 31 to cause clogging. Therefore, the fluid is jetted diagonally to the surface of the filter medium 31 on the stock solution chamber 8 side, and a part of the fluid does not pass through the filter medium 31 but becomes a jet along the surface, so that the filter medium 31 is on the stock solution chamber side. I also try to remove the deposits on the surface of the. As a result, while avoiding the problem that the deposits are pushed into the filter medium 31 by the fluid injection and cause clogging, the jet fluid passing through the filter medium 31 removes the deposits inside the filter medium 31 and on the surface on the filtrate chamber 9 side. Can be removed. When fluid injection is performed while rotating the filter element 3 as in the present embodiment, it is preferable that the fluid injection direction is tilted so as to be a "head wind" with respect to the movement direction of the surface of the filter medium 31 due to rotation (FIG. 1 (a)). Since the injected fluid usually spreads in a conical shape from the nozzles 53a and 53b, this causes the deposits on the surface of the rotating filter medium 31 portion on the stock solution chamber 8 side to be first removed at a shallow angle (slightly inside the tangent to the cylindrical surface). (Direction) is removed with the injection fluid, and then the injection fluid at a larger angle is passed through the filter medium 31 portion having no deposit on the surface, and the inside of the filter medium 31 or the filtrate chamber 39 side, that is, the inside of the filter element 3 is passed. This is because the deposits on the side surface can be removed.

但し、ノズル53a,53bは、濾材31の表面に対して垂直に流体を噴射するように設けてもよく、特に濾材31の原液室8側表面が十分に清浄な場合などは、濾材31の表面に対して垂直に流体を噴射した方が良い場合がある。 However, the nozzles 53a and 53b may be provided so as to inject the fluid perpendicularly to the surface of the filter medium 31, and the surface of the filter medium 31 is particularly clean when the surface of the filter medium 31 on the stock solution chamber 8 side is sufficiently clean. It may be better to inject the fluid perpendicular to.

濾材31とノズル53a,53bとの距離、高圧洗浄流体の圧力や噴射形状は、洗浄すべき濾材の性状等に合わせて適宜設定する。一般的に、高圧洗浄流体の圧力を高く設定するほど捕捉物除去効果が高くなるが、高すぎると濾材にダメージを与えたり、大型の加圧ポンプが必要になったりするので好ましくない。高圧洗浄機構5に供給される高圧洗浄流体の圧力としては、本実施形態の濾過装置で複数積層した金網を焼結した濾材を高圧洗浄する場合、原液室8の流体(海水)を抜いて洗浄する場合は5〜150kg/cm2、好ましくは10〜100kg/cm2、原液室8の流体を抜かないで洗浄する場合は10〜200kg/cm2、好ましくは20〜150kg/cm2に設定する。 The distance between the filter medium 31 and the nozzles 53a and 53b, the pressure of the high-pressure cleaning fluid, and the injection shape are appropriately set according to the properties of the filter medium to be cleaned and the like. Generally, the higher the pressure of the high-pressure washing fluid is set, the higher the effect of removing traps becomes, but if it is too high, the filter medium may be damaged or a large pressure pump may be required, which is not preferable. As the pressure of the high-pressure washing fluid supplied to the high-pressure washing mechanism 5, when the filter medium obtained by sintering a plurality of wire nets laminated by the filtering device of the present embodiment is washed with high pressure, the fluid (seawater) in the undiluted solution chamber 8 is removed for washing. 5~150kg / cm 2 if you, preferably when cleaning not remove the fluid 10 to 100 kg / cm 2, the stock solution chamber 8 is 10 to 200 / cm 2, preferably set to 20~150kg / cm 2 ..

濾過装置に接続する濾過対象流体の外部の配管系としては、ケーシング1の流体入口6には、入口側分岐管21が接続され、その一方の枝21aは、途中に入口側バルブVを有して1次圧(P)を有する原液供給源と接続され、他方の枝21bは、途中にドレインバルブVを有して例えば大気圧(P)に開放されたドレイン側へ接続されている。一方、ケーシング1の流体出口7には、出口側配管22が接続され、この出口側配管22は、途中に出口側バルブVを有して、2次圧(P)を有する濾液貯留槽等に接続されている。これにより、入口側バルブVと出口側バルブVを開放し、ドレインバルブVを閉塞して、流体を流体入口6から流体出口7へ流す濾過状態と、入口側バルブVを閉塞し、出口側バルブVとドレインバルブVを開放して、流体を流体出口7から流体入口6へ逆流させる逆洗とを切替えることができる。 Filtration device as an external piping system be filtered fluid connection to the the fluid inlet 6 of the casing 1, it is connected to the inlet side branch pipe 21, while branch 21a is closed the inlet side valve V I midway Then, it is connected to the stock solution supply source having the primary pressure (P 1 ), and the other branch 21b is connected to the drain side which has a drain valve V B in the middle and is opened to the atmospheric pressure (P 0), for example. ing. On the other hand, the fluid outlet 7 of the casing 1 is connected outlet pipe 22, the outlet pipe 22 has an outlet-side valve V O in the middle, the filtrate storage tank having a secondary pressure (P 2) Etc. are connected. Accordingly, opening the inlet-side valve V I and the outlet valve V O, to close the drain valve V B, the fluid was closed and filtered state to flow from the fluid inlet 6 to the fluid outlet 7, an inlet-side valve V I , The outlet side valve VO and the drain valve V B can be opened to switch between backwashing in which the fluid flows back from the fluid outlet 7 to the fluid inlet 6.

図3は、複数の濾過装置を並列に設けた場合の配管の一例を示しており、この場合、各濾過装置の前記一方の枝21aは合流して流体供給源に接続され、他方の枝21bは合流してドレインに接続され、出口側配管22は合流して濾液貯留槽等に接続されている。尚、合流前の出口側配管22には、図示省略の逆洗時のライン圧調整機構が設けられている。各濾過装置の入口側バルブVI1〜3、出口側バルブVO1〜3、ドレインバルブVB1〜3を開閉することにより、各濾過装置の動作(濾過、逆洗、高圧洗浄)を個別に切替えられるようになっている。 FIG. 3 shows an example of piping when a plurality of filtration devices are provided in parallel. In this case, the one branch 21a of each filtration device merges and is connected to the fluid supply source, and the other branch 21b Are merged and connected to the drain, and the outlet side pipe 22 is merged and connected to the filtrate storage tank or the like. The outlet-side pipe 22 before merging is provided with a line pressure adjusting mechanism for backwashing (not shown). By opening and closing the inlet side valve VI1 to 3 , outlet side valves VO1 to 3 and drain valve VB1 to 3 of each filtration device, the operation of each filtration device (filtration, backwash, high pressure wash) can be switched individually. It is designed to be used.

次に、以上のように構成された第1の実施形態の濾過装置の動作について、図1を参照して説明する。濾過時、逆洗時とも、フィルターエレメント3の回転は停止している。 Next, the operation of the filtration device of the first embodiment configured as described above will be described with reference to FIG. The rotation of the filter element 3 is stopped during both filtration and backwashing.

濾過時においては、濾過装置の入口側バルブVと出口側バルブVが開放され、ドレインバルブVが閉塞される。この入口側の流体の圧力(1次圧P)は、ポンプ(遠心ポンプ等)で加圧され、出口側の圧力(2次圧P)より高いので、これにより、濾過すべき流体は、実線の矢印で示すように、流体入口6からケーシング1の原液室8に流入し、円筒状の濾材31を通過して、濾液室9に連通するフィルターエレメント3の内部へ流入することにより、濾過される。濾材31を通過し濾過された流体は、濾液室9から流体出口7を通って外部へ流出する。 During filtration, the inlet-side valve V I and the outlet valve V O of the filter is opened, the drain valve V B is closed. The pressure of the fluid on the inlet side (primary pressure P 1 ) is pressurized by a pump (centrifugal pump, etc.) and is higher than the pressure on the outlet side (secondary pressure P 2). As shown by the solid line arrow, the fluid flows into the stock solution chamber 8 of the casing 1 from the fluid inlet 6, passes through the cylindrical filter medium 31, and flows into the inside of the filter element 3 communicating with the filtrate chamber 9. It is filtered. The fluid that has passed through the filter medium 31 and is filtered flows out from the filtrate chamber 9 through the fluid outlet 7.

逆洗時においては、濾過装置の入口側バルブVは閉塞され、出口側バルブVとドレインバルブVBが開放される。これにより、濾過装置の流体入口6は、ドレイン配管を通して大気圧Pに開放された低圧側に連通されて圧力が低下し、濾過装置の流体出口7の圧力(2次圧P)より低くなるので、流体は、白抜きの矢印で示すように、流体出口7から濾液室9、フィルターエレメント3を通過し、原液室8を通って、流体入口6に逆流する。このフィルターエレメント3を通過する逆洗流により、濾材31の全面が逆洗される。逆洗は、濾過装置の使用条件(濾過速度や流体中の異物の量、圧損など)に応じて、所定の頻度で所定の時間行う。 During backwashing, the inlet-side valve V I of the filtering device is closed, the outlet-side valve V O and the drain valve VB is opened. As a result, the fluid inlet 6 of the filtration device is communicated with the low pressure side opened to the atmospheric pressure P 0 through the drain pipe, and the pressure drops, which is lower than the pressure (secondary pressure P 2 ) of the fluid outlet 7 of the filtration device. Therefore, as shown by the white arrow, the fluid passes through the filtrate chamber 9 and the filter element 3 from the fluid outlet 7, passes through the stock solution chamber 8, and flows back to the fluid inlet 6. The backwash flow passing through the filter element 3 backwashes the entire surface of the filter medium 31. The backwash is performed at a predetermined frequency and for a predetermined time according to the usage conditions of the filtration device (filtration rate, amount of foreign matter in the fluid, pressure loss, etc.).

高圧洗浄は、逆洗を行って濾材31の原液室側表面の捕捉物を除去してから行うと効果的である。高圧洗浄時に濾材31の原液室8側の表面の捕捉物を濾材31内部に押し込んで目詰まりを起こすという前記問題を、低減することができるからである。高圧洗浄は、濾過装置の流体を抜かないで行うことができ、または、濾過装置の流体を抜いた状態で行うこともできる。すなわち、流体を抜かないで高圧洗浄を行う場合は、通常の濾過中に行うことができるので、装置のダウンタイムを低減することができる。一方、濾過動作を停止して濾過装置の流体を抜いた状態で行う場合は、噴射速度が減殺されず、洗浄効果を高めることができる。尚、濾過装置の流体を抜くには、入口側バルブV及び出口側バルブVを閉塞し、高圧洗浄排出バルブV(及び図示省略のエアべント弁)を開放して濾過装置の原液室8の流体を排出する。 It is effective to perform high-pressure washing after performing backwashing to remove traps on the surface of the filter medium 31 on the stock solution chamber side. This is because the problem of pushing the trapped material on the surface of the filter medium 31 on the stock solution chamber 8 side into the inside of the filter medium 31 and causing clogging during high-pressure washing can be reduced. The high-pressure washing can be performed without draining the fluid of the filtration device, or can be performed with the fluid of the filtration device drained. That is, when high-pressure washing is performed without draining the fluid, it can be performed during normal filtration, so that downtime of the device can be reduced. On the other hand, when the filtration operation is stopped and the fluid of the filtration device is drained, the injection speed is not reduced and the cleaning effect can be enhanced. Incidentally, the pull fluid filtration device, closes the inlet-side valve V I and the outlet valve V O, undiluted open to filtering device pressure washing discharge valve V E (and not shown in Eabe cement valve) The fluid in the chamber 8 is discharged.

いずれの場合も、高圧洗浄機構5を作動させて、流体(清浄水)を原液室8側に設けられた2つのノズル53a,53bから、フィルターエレメント3の濾材31を通過するように噴射する。噴射中に、ノズル53a,53bを円筒状のフィルターエレメント3の軸と平行方向に往復移動させて、濾材31の全長に対して、流体噴射を行う。フィルターエレメント3をギアードモータ13で回転させながら流体噴射を行うことにより、濾材31の全面を高圧洗浄する。尚、前記のように、本実施形態では、流体の噴射方向は、回転による濾材31の表面の移動方向に対して「向かい風」になるように傾けている(図1(a)参照)。噴射された流体はノズル53a,53bから円錐状に広がるので、これにより、回転してきた濾材31部分の原液室8側の表面の付着物を、まず浅い角度の噴射流体で除去し、次に、表面に付着物のない該濾材31部分に、より大きい角度の噴射流体を通過させて、濾材31内部や濾液室9側、すなわちフィルターエレメント3の内部側の表面の付着物を除去する。 In either case, the high-pressure cleaning mechanism 5 is operated to inject the fluid (clean water) from the two nozzles 53a and 53b provided on the stock solution chamber 8 side so as to pass through the filter medium 31 of the filter element 3. During the injection, the nozzles 53a and 53b are reciprocated in the direction parallel to the axis of the cylindrical filter element 3 to perform fluid injection on the entire length of the filter medium 31. The entire surface of the filter medium 31 is washed with high pressure by injecting fluid while rotating the filter element 3 with the geared motor 13. As described above, in the present embodiment, the fluid injection direction is tilted so as to be a "head wind" with respect to the movement direction of the surface of the filter medium 31 due to rotation (see FIG. 1 (a)). Since the injected fluid spreads in a conical shape from the nozzles 53a and 53b, the deposits on the surface of the rotating filter medium 31 portion on the stock solution chamber 8 side are first removed with the jet fluid at a shallow angle, and then An injection fluid at a larger angle is passed through the filter medium 31 portion having no deposits on the surface to remove deposits on the surface inside the filter medium 31 or on the filtrate chamber 9 side, that is, on the inner side of the filter element 3.

上記往復移動と流体噴射の動作について、図2を参照して具体的に説明する。まず三方弁Vの流体供給路54b側のポートを閉塞し、流体供給路54a側のポートを開放する。すると、高圧(P)の流体は流体供給路54aを通って上側流体室55aに供給され、ノズル53aから噴射されると同時に流体の圧力で移動シリンダ52は上方向に移動する。また、これにより下側流体室55bの体積が減少するので、下側流体室55bの流体もこれに連通するノズル53bから噴射される。図2はこの状態を示している。移動シリンダ52が可動範囲上端に達すると、三方弁Vを切替えて流体供給路54a側のポートを閉塞し、流体供給路54b側のポートを開放する。すると、流体は流体供給路54bを通って下側流体室55bに供給され、ノズル53bから噴射されると同時に、流体の圧力で移動シリンダ52は下方向に移動する。また、これにより上側流体室55aの体積が減少するので、上側流体室55aの流体もこれに連通するノズル53aから噴射される。このように、移動シリンダ52の位置を往復移動させつつ流体を噴射することができる。 The reciprocating movement and the operation of the fluid injection will be specifically described with reference to FIG. First closes the port of the fluid supply channel 54b side of the three-way valve V H, to open the port of the fluid supply passage 54a side. Then, the fluid pressure (P H) is supplied to the upper fluid chamber 55a through the fluid supply passage 54a, the mobile cylinder 52 a pressure of the fluid at the same time injected from the nozzle 53a moves upward. Further, since the volume of the lower fluid chamber 55b is reduced by this, the fluid in the lower fluid chamber 55b is also injected from the nozzle 53b communicating with the lower fluid chamber 55b. FIG. 2 shows this state. When the moving cylinder 52 reaches the upper end of the movable range, the three-way valve VH is switched to close the port on the fluid supply path 54a side and open the port on the fluid supply path 54b side. Then, the fluid is supplied to the lower fluid chamber 55b through the fluid supply path 54b and injected from the nozzle 53b, and at the same time, the moving cylinder 52 moves downward due to the pressure of the fluid. Further, since the volume of the upper fluid chamber 55a is reduced by this, the fluid in the upper fluid chamber 55a is also injected from the nozzle 53a communicating with the upper fluid chamber 55a. In this way, the fluid can be injected while reciprocating the position of the moving cylinder 52.

上記のように流体供給路54a,54bの管路抵抗はノズル53a,53bの管路抵抗より十分低いので、図2に示す移動シリンダ52の上昇時には、流体が供給される上側流体室55aの圧力は略供給圧Pになり、移動シリンダ52への上下方向の力のつり合いから、下側流体室55bの圧力の圧力も略Pになる。したがって、供給圧Pが一定である限り、各ノズル53a,53bからの流体の噴射流量は一定になる。下側ノズル53bからの流体の噴射流量が一定であると、下側流体室55bの体積減少速度が一定になり、移動シリンダ52の移動速度も一定(したがって、被噴射位置の移動速度も一定)になる。移動シリンダ52の下降時も同様に、各ノズル53a,53bからの流体の噴射流量は一定になり、移動シリンダ52の移動速度も一定になる。 As described above, the line resistance of the fluid supply paths 54a and 54b is sufficiently lower than the line resistance of the nozzles 53a and 53b. Therefore, when the moving cylinder 52 shown in FIG. 2 rises, the pressure of the upper fluid chamber 55a to which the fluid is supplied is applied. becomes substantially supply pressure P H, because the balance of vertical force to the moving cylinder 52, the pressure of the pressure in the lower fluid chamber 55b also becomes substantially P H. Accordingly, unless the supply pressure P H is constant, the injection flow rate of the fluid from the nozzles 53a, 53b is constant. When the injection flow rate of the fluid from the lower nozzle 53b is constant, the volume reduction rate of the lower fluid chamber 55b is constant, and the moving speed of the moving cylinder 52 is also constant (thus, the moving speed of the injection position is also constant). become. Similarly, when the moving cylinder 52 is lowered, the injection flow rate of the fluid from the nozzles 53a and 53b becomes constant, and the moving speed of the moving cylinder 52 also becomes constant.

高圧洗浄も、濾過装置の使用条件(濾過速度や流体中の異物の量や、逆洗の頻度、圧損など)に応じて、所定の頻度で所定の時間行う。但し、高圧洗浄を実施する頻度は、逆洗の頻度よりも遥かに低くて良い。 High-pressure washing is also performed at a predetermined frequency for a predetermined time according to the usage conditions of the filtration device (filtration rate, amount of foreign matter in the fluid, frequency of backwashing, pressure loss, etc.). However, the frequency of high pressure washing may be much lower than the frequency of backwashing.

尚、高圧洗浄機構5は、上記の構成のみならず、フィルターエレメント3の濾材31の全範囲を移動して、所定の圧力で流体を噴射できる機構であればいずれでも良い。例えば、ノズル位置の移動は、噴射用の流体とは別途の駆動源、例えばエアーシリンダや、油圧シリンダや、モータ駆動の送りねじ機構を用いて行っても良い。 The high-pressure cleaning mechanism 5 may be any mechanism as long as it can move the entire range of the filter medium 31 of the filter element 3 and inject a fluid at a predetermined pressure, in addition to the above configuration. For example, the nozzle position may be moved by using a drive source separate from the injection fluid, such as an air cylinder, a hydraulic cylinder, or a motor-driven feed screw mechanism.

また、本実施形態では、高圧洗浄機構5は濾過装置内に常時固定されているが、上記のように、高圧洗浄機構5全体がケーシング1を分解せずに該ケーシング1から着脱できるので、メンテナンス時にのみ高圧洗浄機構5を濾過装置の中に取り付けて高圧洗浄を行っても良い。 Further, in the present embodiment, the high pressure cleaning mechanism 5 is always fixed in the filtration device, but as described above, the entire high pressure cleaning mechanism 5 can be attached to and detached from the casing 1 without disassembling the casing 1, so that maintenance can be performed. The high pressure cleaning mechanism 5 may be installed in the filtration device to perform high pressure cleaning only occasionally.

また、高圧洗浄用の流体として、本実施形態では上記のように清浄水を用いたが、これに限られず、例えば濾過済みの流体を用いてもよい。尚、高圧洗浄で除去された微粒子等は高圧洗浄流体とともに濾液室側に流入するが、これらは一度フィルターを通過してから逆洗時に付着したものや、高圧の流体噴射の助力があったにせよフィルターを通過できたものなので、その後に濾液に混入しても通常問題ない。 Further, as the fluid for high-pressure cleaning, clean water is used as described above in the present embodiment, but the present invention is not limited to this, and for example, a filtered fluid may be used. The fine particles removed by high-pressure washing flow into the filtrate chamber side together with the high-pressure washing fluid, but these particles were attached during backwashing after passing through the filter once, and there was an aid in high-pressure fluid injection. Since it has passed through the filter, there is usually no problem even if it is mixed with the filtrate after that.

第1の実施形態によると、流体出口7から流体入口6へ流体を逆流させて逆洗を行う濾過装置の場合でも、高圧洗浄機構5による原液室8側からの流体の噴射により、前記逆洗等によって発生したフィルターエレメント3の濾材31内部や濾液室9側表面の付着物を、フィルターエレメント3を取り外すことなく除去できる。 According to the first embodiment, even in the case of a filtration device in which a fluid flows back from a fluid outlet 7 to a fluid inlet 6 to perform backwashing, the backwashing is performed by injecting fluid from the stock solution chamber 8 side by the high pressure washing mechanism 5. The deposits on the inside of the filter medium 31 of the filter element 3 and on the surface of the filtrate chamber 9 side generated by the above can be removed without removing the filter element 3.

[第2の実施形態]
図4は、本発明による濾過装置の第2の実施形態の全体構成を示す説明図である。
(a)は(b)のD−D線断面図であり、(b)は(a)のC−C線断面図である。この濾過装置は、第1の実施形態において、逆洗手段としてフィルターの一部分に接面するように配置された逆洗ヘッド等からなる逆洗機構を用い、強い吸引力と除去ブラシで高い逆洗効果を有するものである。この濾過装置は、逆洗手段を除いて第1の実施形態と同一なので、共通の要素には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
[Second Embodiment]
FIG. 4 is an explanatory diagram showing an overall configuration of a second embodiment of the filtration device according to the present invention.
(A) is a sectional view taken along line DD of (b), and (b) is a sectional view taken along line CC of (a). In the first embodiment, this filtration device uses a backwash mechanism including a backwash head arranged so as to contact a part of the filter as a backwash means, and has a strong suction force and a high backwash with a removal brush. It has an effect. Since this filtration device is the same as that of the first embodiment except for the backwashing means, the common elements are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

この濾過装置は、ケーシング1と、隔壁2と、フィルターエレメント3と、逆洗機構104とを有し、さらに高圧洗浄機構5を備えてなる。ここで、ケーシング1と、隔壁2と、フィルターエレメント3は、第1の実施形態と同一である。 This filtration device includes a casing 1, a partition wall 2, a filter element 3, a backwash mechanism 104, and further includes a high pressure washing mechanism 5. Here, the casing 1, the partition wall 2, and the filter element 3 are the same as those in the first embodiment.

前記逆洗機構104は、原液室8側からフィルターエレメント3の濾材31の一部分に接面するように配置されて濾液室9側の流体を濾材31を通過させて吸引し、吸引された流体をケーシング1の外部へ排出することにより、濾材31の逆洗を行うもので、逆洗ヘッド141と、逆洗流体排出管142とを含む。尚、本明細書で「吸引」とは、必ずしも大気圧より低い圧力で流体を引き込むことに限定されず、圧力差がある場合に相対的に圧力の低い側に流体を引き込むこと一般を意味する。この逆洗機構104と、接面位置移動手段として、前記ギアードモータ13等からなるフィルターエレメント3の回転機構とが、本実施形態の逆洗手段を構成する。逆洗ヘッド141は、濾材31の一部分に接面するように配置されて濾液室側の流体を濾材31を通過させて吸引するものであり、両端が閉塞した略管状の部材で、濾材31の外側に接面して、その軸と平行に設けられている。接面部分には、濾材31との略全長をカバーするスリット状の吸引孔143が設けられ、その周囲には除去ブラシ144が植毛されている。フィルターエレメント3を、ギアードモータ13で回転させながら逆洗を行うことにより、前記除去ブラシ144で捕捉物をかき取りながら、濾材31の全面を逆洗できるようになっている。 The backwash mechanism 104 is arranged so as to contact a part of the filter medium 31 of the filter element 3 from the stock solution chamber 8 side, and the fluid on the filtrate chamber 9 side is sucked through the filter medium 31 to suck the sucked fluid. The filter medium 31 is backwashed by discharging it to the outside of the casing 1, and includes a backwash head 141 and a backwash fluid discharge pipe 142. In the present specification, "suction" is not necessarily limited to drawing the fluid at a pressure lower than the atmospheric pressure, and generally means drawing the fluid to the side where the pressure is relatively low when there is a pressure difference. .. The backwashing mechanism 104 and the rotating mechanism of the filter element 3 including the geared motor 13 or the like as the contact surface position moving means constitute the backwashing means of the present embodiment. The backwash head 141 is arranged so as to be in contact with a part of the filter medium 31, and sucks the fluid on the filtrate chamber side through the filter medium 31. It is provided in contact with the outside and parallel to its axis. A slit-shaped suction hole 143 that covers substantially the entire length of the filter medium 31 is provided on the contact surface portion, and a removal brush 144 is planted around the slit-shaped suction hole 143. By backwashing the filter element 3 while rotating it with the geared motor 13, the entire surface of the filter medium 31 can be backwashed while scraping the trapped material with the removal brush 144.

尚、前記除去ブラシ144のブラシ毛の材質は、例えば天然若しくは合成の繊維、又は鋼、銅、真鍮などの金属線等であり、濾過装置の使用目的及び通過させる流体に応じて選択する。また、除去ブラシ144の代わりに刃状又はヘラ状に形成された金属製、樹脂製あるいはゴム製のスクレーパ等を前記吸引孔143の周りに設けて、円筒状の濾材31の面に摺接して捕捉物を除去するようにしてもよい。 The material of the brush bristles of the removal brush 144 is, for example, a natural or synthetic fiber, a metal wire such as steel, copper, or brass, and is selected according to the purpose of use of the filtration device and the fluid to be passed. Further, instead of the removal brush 144, a metal, resin or rubber scraper or the like formed in a blade shape or a spatula shape is provided around the suction hole 143 and is slidably contacted with the surface of the cylindrical filter medium 31. The trap may be removed.

一方、逆洗ヘッド141の下端部近傍には、濾材31との接面側と反対側に逆洗流体排出管142が分岐している。この逆洗流体排出管142は、逆洗ヘッド141に吸引された流体をケーシング1の外部へ排出するもので、ケーシング本体1aの側面に設けられた貫通孔を貫通して外部に延出し、フランジを介して外部の排出管145に接続されている。この排出管145には、開閉バルブVが設けられている。この開閉バルブVは、逆洗流体の流出・停止を制御するもので、濾過装置の逆洗時には開放され、それ以外のときには閉塞されるようになっている。この開閉バルブVの排出側は、前記流体出口7の圧力より低圧、例えば大気圧Pに開放されたドレイン側へ接続されている。 On the other hand, in the vicinity of the lower end portion of the backwash head 141, the backwash fluid discharge pipe 142 is branched on the side opposite to the contact surface side with the filter medium 31. The backwash fluid discharge pipe 142 discharges the fluid sucked by the backwash head 141 to the outside of the casing 1. It is connected to the external discharge pipe 145 via. This discharge pipe 145, the opening and closing valve V F are provided. The opening and closing valve V F is for controlling the outflow and stopping of backwash fluid, is opened during backwashing of the filter, and is closed when otherwise. The discharge side of the opening and closing valve V F is low than the pressure of the fluid outlet 7, for example, is connected to the atmospheric pressure P 0 is open to the drain side.

前記高圧洗浄機構5は、原液室側から前記フィルターを通過するように流体を噴射し、フィルターの内部や濾液室側の付着物を除去するものである。構成は第1の実施形態の高圧洗浄機構5と同一なので、その説明は省略する。 The high-pressure washing mechanism 5 injects a fluid from the stock solution chamber side so as to pass through the filter, and removes deposits inside the filter and on the filtrate chamber side. Since the configuration is the same as that of the high-pressure cleaning mechanism 5 of the first embodiment, the description thereof will be omitted.

濾過装置に接続する濾過対象流体の外部の配管系としては、ケーシング1の流体入口6には、入口側配管121が接続され、該入口側配管121は、途中に入口側バルブVを有して1次圧(P)を有する原液供給源と接続されている。一方、ケーシング1の流体出口7には、出口側配管122が接続され、この出口側配管122は、途中に出口側バルブVを有して、2次圧(P)を有する濾液貯留槽等に接続されている。第1の実施形態の他方の枝21bとドレインバルブVはなく、その代わり上記のように、逆洗流体排出管142に外部の排出管145が接続され、該排出管145は途中に開閉バルブVを有して、例えば大気圧(P)に開放されたドレイン側へ接続されている。 Filtration The external piping system be filtered fluid connected to the apparatus, the fluid inlet 6 of the casing 1, the inlet pipe 121 is connected, the inlet pipe 121, middle has an inlet side valve V I It is connected to a stock solution source having a primary pressure (P 1). On the other hand, the fluid outlet 7 of the casing 1 is connected outlet pipe 122, the outlet pipe 122, an outlet-side valve V O in the middle, the filtrate storage tank having a secondary pressure (P 2) Etc. are connected. No other branch 21b and the drain valve V B of the first embodiment, as instead described above is outside of the discharge pipe 145 to the backwash fluid discharge pipe 142 is connected, the exhaust extraction tube 145 off during valve a V F, for example, is connected to the opened drain side to the atmospheric pressure (P 0).

以上のように構成された第2の実施形態の濾過装置の動作は、逆洗時を除いて、基本的には第1の実施形態と同様である。 The operation of the filtration device of the second embodiment configured as described above is basically the same as that of the first embodiment except at the time of backwashing.

すなわち、濾過時においては、フィルターエレメント3の回転は停止し、入口側バルブV及び出口側バルブVが開放され、逆洗流体排出系の開閉バルブVは閉塞されている。濾過すべき流体は、流体入口6から実線の矢印で示すようにケーシング1の原液室8に流入し、円筒状の濾材31の逆洗ヘッド141が接面していない部分を通過して、フィルターエレメント3の内部へ流入することにより、濾過される。濾過された流体は、濾液室9へ流入し、流体出口7を通って矢印Bのように外部へ流出する。 That is, when filtered, the rotation of the filter element 3 is stopped, the inlet side valve V I and the outlet valve V O is opened, the opening and closing valve V F of backwashing fluid discharge system is closed. The fluid to be filtered flows from the fluid inlet 6 into the stock solution chamber 8 of the casing 1 as shown by the solid arrow, passes through the portion of the cylindrical filter medium 31 where the backwash head 141 is not in contact, and is filtered. It is filtered by flowing into the inside of the element 3. The filtered fluid flows into the filtrate chamber 9, passes through the fluid outlet 7, and flows out as shown by arrow B.

逆洗時においては、入口側バルブV及び出口側バルブVは引き続き開放されるとともに、前記逆洗流体排出系の開閉バルブVが開放され、逆洗流体排出管142を経由して連通する逆洗ヘッド141内部の圧力が下がり、フィルターエレメント3内部の流体が、白抜きの矢印で示すように、濾材31を通過して吸引孔143から流入する。これにより、吸引孔143に接面する濾材31の線状の部分が逆洗される。また、ギアードモータ13によるフィルターエレメント3の回転も開始されるので、前記除去ブラシ144で捕捉物をかき取りながら、濾材31の全面が逆洗される。但し、逆洗時においても、濾過すべき流体は、流体入口6から実線の矢印で示すように原液室8に流入するので、円筒状の濾材31のうち逆洗ヘッド141に接面していない部分では、濾過が継続される。逆洗は、濾過装置の使用条件(濾過速度や流体中の異物の量など)に応じて、所定の頻度で所定の時間行う。 During backwashing, the inlet side valve V I and the outlet valve V O together with is subsequently opened, the opening and closing valve V F of the backwash fluid discharge system is opened, communicating via the backwash fluid discharge pipe 142 The pressure inside the backwash head 141 decreases, and the fluid inside the filter element 3 passes through the filter medium 31 and flows in from the suction hole 143 as shown by the white arrow. As a result, the linear portion of the filter medium 31 in contact with the suction hole 143 is backwashed. Further, since the rotation of the filter element 3 by the geared motor 13 is also started, the entire surface of the filter medium 31 is backwashed while scraping the trapped object with the removal brush 144. However, even during backwashing, the fluid to be filtered flows into the stock solution chamber 8 from the fluid inlet 6 as indicated by the solid arrow, so that the cylindrical filter medium 31 does not come into contact with the backwashing head 141. In the portion, filtration continues. The backwash is performed at a predetermined frequency and for a predetermined time according to the usage conditions of the filtration device (filtration rate, amount of foreign matter in the fluid, etc.).

高圧洗浄も、第1の実施形態同様、濾過装置の流体を抜かないで行うことができ、または、濾過装置の流体を抜いた状態で行うこともできる。すなわち、流体を抜かないで高圧洗浄を行う場合は、通常の濾過中に行うことができるので、装置のダウンタイムを低減することができる。本実施形態の場合は、上記のように逆洗中も逆洗ヘッド141に接面していない濾材31部分では濾過が継続されるので、逆洗中に高圧洗浄をおこなうことも可能である。一方、濾過動作を停止して濾過装置の流体を抜いた状態で行う場合は、噴射速度が減殺されず、洗浄効果を高めることができる。いずれの場合も、高圧洗浄機構5を作動させて、流体(清浄水)を原液室8側に設けられた2つのノズル53a,53bから、フィルターエレメント3の濾材31を通過するように噴射する。噴射中に、ノズル53a,53bを円筒状のフィルターエレメントの軸と平行方向に往復移動させて、濾材31の全長に対して、流体噴射を行う。フィルターエレメント3をギアードモータ13で回転させながら流体噴射を行うことにより、濾材31の全面を高圧洗浄する。 Similar to the first embodiment, the high-pressure washing can be performed without draining the fluid of the filtration device, or can be performed with the fluid of the filtration device drained. That is, when high-pressure washing is performed without draining the fluid, it can be performed during normal filtration, so that downtime of the device can be reduced. In the case of the present embodiment, since the filtration is continued in the filter medium 31 portion that is not in contact with the backwash head 141 even during the backwash as described above, it is possible to perform high pressure washing during the backwash. On the other hand, when the filtration operation is stopped and the fluid of the filtration device is drained, the injection speed is not reduced and the cleaning effect can be enhanced. In either case, the high-pressure cleaning mechanism 5 is operated to inject the fluid (clean water) from the two nozzles 53a and 53b provided on the stock solution chamber 8 side so as to pass through the filter medium 31 of the filter element 3. During the injection, the nozzles 53a and 53b are reciprocated in the direction parallel to the axis of the cylindrical filter element to perform fluid injection on the entire length of the filter medium 31. The entire surface of the filter medium 31 is washed with high pressure by injecting fluid while rotating the filter element 3 with the geared motor 13.

第2の実施形態によると、逆洗ヘッド141等を用いて逆洗を行う濾過装置の場合でも、高圧洗浄機構5による原液室8側からの流体の噴射により、前記逆洗等によって発生したフィルターエレメント3の濾材31内部や濾液室9側表面の付着物を、フィルターエレメント3を取り外すことなく除去できる。逆洗ヘッド141等を用いて逆洗を行う濾過装置では、逆洗時の吸引力が大きく、逆洗によって濾材31の濾液室9側から微粒子等が詰まりやすい場合があるので、高圧洗浄機構5による高圧洗浄は効果的である。 According to the second embodiment, even in the case of a filtration device that performs backwashing using a backwash head 141 or the like, a filter generated by the backwashing or the like due to injection of fluid from the stock solution chamber 8 side by the high pressure washing mechanism 5. Adhesions inside the filter medium 31 of the element 3 and on the surface of the filtrate chamber 9 side can be removed without removing the filter element 3. In a filtration device that performs backwashing using a backwash head 141 or the like, the suction force during backwashing is large, and fine particles or the like may be easily clogged from the filtrate chamber 9 side of the filter medium 31 due to backwashing. High-pressure cleaning with is effective.

[第3の実施形態]
図5は、本発明による濾過装置の第3の実施形態の全体構成を示す説明図である。(a)は(b)のF−F線断面図であり、(b)は(a)のE−E線断面図である。この濾過装置は、第2の実施形態において、フィルターエレメントを4つ並列に配置して、処理速度を増加させた形態である。それ以外の構成は、第2の実施形態と同様なので、その詳細な説明は省略する。この濾過装置も、例えば船舶のバラスト水を濾過するもので、ケーシング201と、隔壁202と、円筒状のフィルターエレメント203と、逆洗機構204と、高圧洗浄機構205とを備えてなる。
[Third Embodiment]
FIG. 5 is an explanatory diagram showing an overall configuration of a third embodiment of the filtration device according to the present invention. (A) is a sectional view taken along line FF of (b), and (b) is a sectional view taken along line EE of (a). In the second embodiment, this filtration device is a form in which four filter elements are arranged in parallel to increase the processing speed. Since the other configurations are the same as those of the second embodiment, detailed description thereof will be omitted. This filtration device also filters ballast water of a ship, for example, and includes a casing 201, a partition wall 202, a cylindrical filter element 203, a backwash mechanism 204, and a high-pressure washing mechanism 205.

前記ケーシング201及び隔壁202は、各々第1及び第2の実施形態のケーシング1及び隔壁2と基本的に同様であるが、フィルターエレメント203を4つ収納できるよう構成されている。各フィルターエレメント203は第1の実施形態のフィルターエレメント3と同様である。逆洗機構204は、第2の実施形態の逆洗機構104と同様であるが、2つ設けられ、各逆洗ヘッド241は2つのフィルターエレメント203に接面してその濾材231を逆洗するように構成されている。高圧洗浄機構205も、第2の実施形態の高圧洗浄機構5と同様であるが、2つ設けられ、各高圧洗浄機構205は2方向に設けた2組のノズル253a,253bを有し、近接する2つのフィルターエレメント203の濾材231に流体を噴射するように構成されている。それ以外の点では、本濾過装置の構成は、第2の実施形態の濾過装置と同様である。 The casing 201 and the partition wall 202 are basically the same as the casing 1 and the partition wall 2 of the first and second embodiments, respectively, but are configured to accommodate four filter elements 203. Each filter element 203 is the same as the filter element 3 of the first embodiment. The backwash mechanism 204 is the same as the backwash mechanism 104 of the second embodiment, but two are provided, and each backwash head 241 contacts two filter elements 203 and backwashes the filter medium 231 thereof. It is configured as follows. The high-pressure cleaning mechanism 205 is also the same as the high-pressure cleaning mechanism 5 of the second embodiment, but two are provided, and each high-pressure cleaning mechanism 205 has two sets of nozzles 253a and 253b provided in two directions and is close to each other. It is configured to inject a fluid onto the filter medium 231 of the two filter elements 203. Other than that, the configuration of the present filtration device is the same as that of the filtration device of the second embodiment.

以上のように構成された第3の実施形態の濾過装置の動作は、基本的には第2の実施形態と同様である。
すなわち、濾過時においては、第2の実施形態同様、濾過すべき流体は、実線の矢印で示すように、流体入口206からケーシング201の原液室208に流入し、各円筒状の濾材231の逆洗ヘッド241が接面していない部分を通過して、フィルターエレメント203の内部へ流入することにより、濾過される。濾過された流体は、濾液室209へ流入し、流体出口207を通って外部へ流出する。
The operation of the filtration device of the third embodiment configured as described above is basically the same as that of the second embodiment.
That is, at the time of filtration, as in the second embodiment, the fluid to be filtered flows from the fluid inlet 206 into the stock solution chamber 208 of the casing 201 as shown by the solid arrow, and is the reverse of each cylindrical filter medium 231. The washing head 241 passes through the non-contacting portion and flows into the inside of the filter element 203 to be filtered. The filtered fluid flows into the filtrate chamber 209 and flows out through the fluid outlet 207.

逆洗時においては、本実施形態では各逆洗ヘッド241は2つのフィルターエレメント203に接面しているので、各フィルターエレメント203内部の流体が、白抜きの矢印のように、濾材231を通過して吸引孔243から流入し、逆洗する。また、各フィルターエレメント203はギアードモータ213により回転するので、除去ブラシ244で捕捉物をかき取りながら、濾材231の全面が逆洗される。但し、逆洗時においても、円筒状の濾材231のうち逆洗ヘッド241に接面していない部分では、濾過が継続される。 During backwashing, in the present embodiment, each backwash head 241 is in contact with the two filter elements 203, so that the fluid inside each filter element 203 passes through the filter medium 231 as shown by the white arrow. Then, it flows in from the suction hole 243 and is backwashed. Further, since each filter element 203 is rotated by the geared motor 213, the entire surface of the filter medium 231 is backwashed while scraping the trapped object with the removal brush 244. However, even during the backwash, the filtration is continued in the portion of the cylindrical filter medium 231 that is not in contact with the backwash head 241.

高圧洗浄も、第1及び第2の実施形態同様、濾過装置の流体を抜かないで濾過動作中に行うことができ、また、濾過装置の流体を抜いた状態で行うこともできる。上記のように、本実施形態では、高圧洗浄機構205は2つ設けられ、各高圧洗浄機構205は2方向に設けた2組のノズル253a,253bを有し、近接する2つのフィルターエレメント203の濾材231に流体を噴射するように構成されている。高圧洗浄機構205を作動させて、各フィルターエレメント203の濾材231に対して2つのノズル253a,253bから流体(清浄水)を噴射するとともに、該ノズル253a,253bを円筒状のフィルターエレメント203の軸と平行方向に往復移動させて、濾材231の全長に対して、流体噴射を行う。逆洗時と同様に、各フィルターエレメント203をギアードモータ213で回転させながら流体噴射を行うことにより、濾材231の全面を高圧洗浄する。 Similar to the first and second embodiments, the high-pressure washing can be performed during the filtration operation without draining the fluid of the filtration device, or can be performed with the fluid of the filtration device drained. As described above, in the present embodiment, two high-pressure cleaning mechanisms 205 are provided, and each high-pressure cleaning mechanism 205 has two sets of nozzles 253a and 253b provided in two directions, and the two filter elements 203 in close proximity to each other. It is configured to inject a fluid onto the filter medium 231. The high-pressure cleaning mechanism 205 is operated to inject fluid (clean water) from two nozzles 253a and 253b onto the filter medium 231 of each filter element 203, and the nozzles 253a and 253b are directed to the shaft of the cylindrical filter element 203. By reciprocating in the direction parallel to the above, fluid injection is performed on the entire length of the filter medium 231. As in the case of backwashing, the entire surface of the filter medium 231 is washed with high pressure by injecting fluid while rotating each filter element 203 with the geared motor 213.

尚、高圧洗浄機構205は、噴射速度を維持するため、ノズル253a,253bを1方向のみに設けて1つのフィルターエレメント203の濾材231を高圧洗浄し、終了後にノズル253a,253bの向きを変えて他のフィルターエレメント203の濾材231を高圧洗浄するようにしても良い。また、本実施形態でも、高圧洗浄機構205は濾過装置内に常時固定されているが、1セットの高圧洗浄機構205をメンテナンス時にのみ、濾過装置の中に取り付けて高圧洗浄を行っても良い。これは他の実施形態の装置の場合も同様である。また、2つの逆洗機構204及び2つの高圧洗浄機構205は、それぞれ同時に動作させても別々のタイミングで動作させてもよい。 In the high pressure cleaning mechanism 205, in order to maintain the injection speed, the nozzles 253a and 253b are provided in only one direction to perform high pressure cleaning of the filter medium 231 of one filter element 203, and after the completion, the directions of the nozzles 253a and 253b are changed. The filter medium 231 of the other filter element 203 may be washed with high pressure. Further, also in this embodiment, the high pressure cleaning mechanism 205 is always fixed in the filtration device, but one set of the high pressure cleaning mechanism 205 may be attached in the filtration device to perform high pressure cleaning only at the time of maintenance. This also applies to the devices of other embodiments. Further, the two backwashing mechanisms 204 and the two high-pressure washing mechanisms 205 may be operated at the same time or at different timings.

第3の実施形態によると、フィルターエレメント203を複数並列に配置して、処理速度を増加させた構成でも、高圧洗浄機構205による原液室208側からの流体の噴射により、逆洗等によって発生したフィルターエレメント203の濾材231内部や濾液室209側表面の付着物を、フィルターエレメントを取り外すことなく除去できる。 According to the third embodiment, even in a configuration in which a plurality of filter elements 203 are arranged in parallel to increase the processing speed, it is generated by backwashing or the like due to the injection of fluid from the stock solution chamber 208 side by the high pressure washing mechanism 205. Adhesions inside the filter medium 231 of the filter element 203 and on the surface of the filtrate chamber 209 side can be removed without removing the filter element.

[第4の実施形態]
図6は、本発明による濾過装置の第4の実施形態の全体構成を示す縦断面図である。この濾過装置も、例えば船舶のバラスト水を濾過するもので、縦方向にスペースがない設置場所に対応すべく、フィルターエレメントを横置きにしたものである。この濾過装置も基本的構成は第2の実施形態と同様で、ケーシング301と、隔壁302と、フィルターエレメント303と、逆洗機構304と、高圧洗浄機構305とを備えてなる。
[Fourth Embodiment]
FIG. 6 is a vertical cross-sectional view showing the overall configuration of the fourth embodiment of the filtration device according to the present invention. This filtration device also filters ballast water of a ship, for example, and has a filter element placed horizontally in order to accommodate an installation location where there is no space in the vertical direction. The basic configuration of this filtration device is the same as that of the second embodiment, and includes a casing 301, a partition wall 302, a filter element 303, a backwash mechanism 304, and a high pressure washing mechanism 305.

前記ケーシング301は、両端部が閉塞した筒状を有し、軸が水平になるように横置きに配置され、流体入口306がケーシング301の一端部301bにて、ケーシング301の軸に対して偏心した位置に設けられ、流体出口307が、流体入口306がケーシング301の他端部301cに設けられている。流体入口306をケーシング301の軸に対して偏心して配置したことにより、一端部301bの外面上のスペースを確保し、後述するギアードモータ313をそこに配置できるようにした。また、本実施形態では流体入口306の同一軸線上に流体出口307を設けた。これにより、濾過装置を直線的な配管の途中に挿入できるようにした。具体的には、ケーシング301は、筒状のケーシング本体301aと前記一端部をなす左端板301bと前記他端部をなす右端板301cとからなり、左端板301bに流体入口306が設けられ、右端板301cに流体出口307が設けられている。尚、流体出口307の位置は右端板301cの範囲内で変更可能である。前記隔壁302は垂直に設けられ、ケーシング301内部を流体入口306側の原液室308と流体出口307側の濾液室309とに分離している。 The casing 301 has a tubular shape with both ends closed, and is arranged horizontally so that the axes are horizontal. The fluid inlet 306 is eccentric with respect to the axis of the casing 301 at one end 301b of the casing 301. The fluid outlet 307 is provided at the above-mentioned position, and the fluid inlet 306 is provided at the other end 301c of the casing 301. By arranging the fluid inlet 306 eccentrically with respect to the axis of the casing 301, a space on the outer surface of one end portion 301b is secured so that the geared motor 313 described later can be arranged there. Further, in the present embodiment, the fluid outlet 307 is provided on the same axis of the fluid inlet 306. This made it possible to insert the filtration device in the middle of a straight pipe. Specifically, the casing 301 is composed of a tubular casing main body 301a, a left end plate 301b forming one end thereof, and a right end plate 301c forming the other end. The left end plate 301b is provided with a fluid inlet 306, and the right end plate 301b is provided with a fluid inlet 306. A fluid outlet 307 is provided on the plate 301c. The position of the fluid outlet 307 can be changed within the range of the right end plate 301c. The partition wall 302 is provided vertically, and the inside of the casing 301 is separated into a stock solution chamber 308 on the fluid inlet 306 side and a filtrate chamber 309 on the fluid outlet 307 side.

前記フィルターエレメント303は、円筒状を有し内部構造は第1〜第3の実施形態と同様だが、回転軸がケーシングの軸と同一方向になるように原液室308内に横置きに設けられ、一端部が円筒部分310に貫通されて支持されるとともに該円筒部分310を介して濾液室309に連通し、他端部には回転軸314が設けられ、これが支持フレーム315で支持されている。尚、この支持フレーム315は、図6において流体の左右方向の流れを妨げない。回転軸314にはギア316が設けられている。一方、前記ケーシング1の前記一端部301bの外面には、フィルターエレメント303を回転させるためのギアードモータ313が設けられ、その出力軸317が、該一端部301bを貫通してケーシング301内部に延び、該出力軸317にギア318が設けられている。このギア318と前記ギア316の間にチェーン319が掛け渡され、これによりギアードモータ313の回転が伝搬されて、フィルターエレメント303が回転するように構成されている。 The filter element 303 has a cylindrical shape and has the same internal structure as that of the first to third embodiments, but is provided horizontally in the stock solution chamber 308 so that the rotation axis is in the same direction as the axis of the casing. One end portion is penetrated and supported by the cylindrical portion 310 and communicates with the filtrate chamber 309 via the cylindrical portion 310, and a rotating shaft 314 is provided at the other end portion, which is supported by the support frame 315. The support frame 315 does not obstruct the flow of the fluid in the left-right direction in FIG. A gear 316 is provided on the rotating shaft 314. On the other hand, a geared motor 313 for rotating the filter element 303 is provided on the outer surface of the one end portion 301b of the casing 1, and the output shaft 317 thereof extends through the one end portion 301b into the casing 301. A gear 318 is provided on the output shaft 317. A chain 319 is hung between the gear 318 and the gear 316, whereby the rotation of the geared motor 313 is propagated, and the filter element 303 is configured to rotate.

逆洗機構304も、第2の実施形態と同様だが横置きに設けられ、逆洗ヘッド341はフィルターエレメント303に接面してその濾材を逆洗するように構成されている。 The backwash mechanism 304 is also provided horizontally as in the second embodiment, and the backwash head 341 is configured to come into contact with the filter element 303 to backwash the filter medium.

高圧洗浄機構305も、第1及び第2の実施形態と同様だが横置きに設けられ、ノズル353a,353bからフィルターエレメント303の濾材331に流体を噴射するように構成されている。この高圧洗浄機構305も、ケーシング301に対して着脱可能に構成されている。すなわち、右側ガイド部分351bの右端は、ケーシング本体301aの内面から垂下して設けられた座356に着脱自在に嵌合され固定される。また、左側ガイド部分351aの左端部近傍の外周には円盤状の小フランジ(図示省略)が嵌合され、この小フランジを前記左端板301bの外表面に、該左端板301に設けられた貫通孔(図示省略)を覆うように固定することにより、高圧洗浄機構305全体がケーシング1に対して固定される。この構造により、高圧洗浄機構305全体が、ケーシング301を分解せずに、前記貫通孔(図示省略)を通ってケーシング301から着脱できるように構成されている。それ以外の点では、本濾過装置の構成は、第2の実施形態の濾過装置と同様である。 The high-pressure cleaning mechanism 305 is also provided horizontally as in the first and second embodiments, and is configured to inject a fluid from the nozzles 353a and 353b onto the filter medium 331 of the filter element 303. The high-pressure cleaning mechanism 305 is also configured to be removable from the casing 301. That is, the right end of the right guide portion 351b is detachably fitted and fixed to the seat 356 provided so as to hang down from the inner surface of the casing main body 301a. Further, a disk-shaped small flange (not shown) is fitted on the outer periphery of the left side guide portion 351a near the left end portion, and the small flange is penetrated on the outer surface of the left end plate 301b and provided on the left end plate 301. By fixing so as to cover the hole (not shown), the entire high pressure cleaning mechanism 305 is fixed to the casing 1. With this structure, the entire high-pressure cleaning mechanism 305 can be attached to and detached from the casing 301 through the through hole (not shown) without disassembling the casing 301. Other than that, the configuration of the present filtration device is the same as that of the filtration device of the second embodiment.

以上のように構成された第4の実施形態の濾過装置の動作は、基本的には第2の実施形態と同様である。すなわち、濾過時においては、濾過すべき流体は、実線の矢印で示すように、流体入口306からケーシング301内の原液室308に流入し、円筒状の濾材331の逆洗ヘッド341が接面していない部分を通過して、フィルターエレメント303の内部へ流入することにより、濾過される。濾過された流体は、濾液室309へ流入し、流体出口307を通って外部へ流出する。 The operation of the filtration device of the fourth embodiment configured as described above is basically the same as that of the second embodiment. That is, at the time of filtration, the fluid to be filtered flows into the stock solution chamber 308 in the casing 301 from the fluid inlet 306 as shown by the solid arrow, and the backwash head 341 of the cylindrical filter medium 331 comes into contact with the backwash head 341. It is filtered by passing through the non-existing portion and flowing into the inside of the filter element 303. The filtered fluid flows into the filtrate chamber 309 and flows out through the fluid outlet 307.

逆洗時においては、フィルターエレメント303内部の流体が、白抜きの矢印のように、濾材331を通過して逆洗ヘッド341に流入することにより、濾材331を逆洗する。フィルターエレメント303はギアードモータ313により回転されるので、除去ブラシ344で捕捉物をかき取りながら、濾材331の全面が逆洗される。但し、逆洗時においても、円筒状の濾材331のうち逆洗ヘッド341に接面していない部分では、濾過が継続される。 At the time of backwashing, the fluid inside the filter element 303 passes through the filter medium 331 and flows into the backwash head 341 as shown by the white arrows, so that the filter medium 331 is backwashed. Since the filter element 303 is rotated by the geared motor 313, the entire surface of the filter medium 331 is backwashed while scraping the trapped object with the removal brush 344. However, even during the backwash, the filtration is continued in the portion of the cylindrical filter medium 331 that is not in contact with the backwash head 341.

高圧洗浄も、第1〜第3の実施形態同様、濾過装置の流体を抜かないで濾過動作中に行うことができ、また、濾過装置の流体を抜いた状態で行うこともできる。高圧洗浄機構305を作動させて、流体(清浄水)を原液室側に設けられた2つのノズル353a,353bから噴射するとともに、該ノズル353a,353bを円筒状のフィルターエレメント303の軸と平行方向に往復移動させて、濾材331の全長に対して、流体噴射を行う。逆洗時と同様に、フィルターエレメント303をギアードモータ313で回転させながら流体噴射を行うことにより、濾材331の全面を高圧洗浄する。 Similar to the first to third embodiments, the high-pressure washing can be performed during the filtration operation without draining the fluid of the filtration device, or can be performed in the state where the fluid of the filtration device is drained. The high-pressure cleaning mechanism 305 is operated to inject fluid (clean water) from two nozzles 353a and 353b provided on the stock solution chamber side, and the nozzles 353a and 353b are directed in a direction parallel to the axis of the cylindrical filter element 303. Is reciprocated to perform fluid injection on the entire length of the filter medium 331. As in the case of backwashing, the entire surface of the filter medium 331 is washed with high pressure by injecting fluid while rotating the filter element 303 with the geared motor 313.

第4の実施形態によると、フィルターエレメント303を横置きに配置した構成でも、高圧洗浄機構305による原液室308側からの流体の噴射により、逆洗等によって発生したフィルターエレメント303の濾材331内部や濾液室309側表面の付着物を、フィルターエレメント303を取り外すことなく除去できる。このような横置きの構成ではフィルターエレメント303の取り外しが困難な場合があるので、洗浄のためにフィルターエレメント303を取り外さずに済むことはメリットが大きい。 According to the fourth embodiment, even in the configuration in which the filter element 303 is arranged horizontally, the inside of the filter medium 331 of the filter element 303 generated by backwashing or the like due to the injection of the fluid from the stock solution chamber 308 side by the high pressure washing mechanism 305 or the like. Adhesions on the surface of the filtrate chamber 309 side can be removed without removing the filter element 303. In such a horizontal configuration, it may be difficult to remove the filter element 303, so it is a great advantage that the filter element 303 does not have to be removed for cleaning.

なお、前記第1〜第4の実施形態では、フィルターとして外側から内側へ流体を通過させて濾過する円筒状のフィルターを用いた構成としたが、本発明はこれに限られず、内側から外側へ流体を通過させて濾過する円筒状のフィルターを用いた構成としてもよい。その場合、高圧洗浄機構のノズルは、円筒状のフィルターの内側に配置する。
また、円筒状のフィルターの代わりに平面フィルターを用いてもよく、その場合、高圧洗浄機構は、例えばXY移動機構を有してノズルをXY方向に走査して平面フィルター全面を高圧洗浄できるようにしてもよい。さらにまた、高圧洗浄機構のノズル位置を固定し、フィルター側を移動してフィルター全面を高圧洗浄できるようにしてもよい。
さらにまた、本発明の濾過装置のフィルター洗浄方法において、高圧洗浄は前記第1〜第4の実施形態のような高圧洗浄機構を用いずに、市販の高圧洗浄器具を用いて手動で行ってもよい。
In the first to fourth embodiments, a cylindrical filter that allows fluid to pass from the outside to the inside for filtration is used as the filter, but the present invention is not limited to this, and the present invention is not limited to this, and the present invention is not limited to this. A cylindrical filter that allows the fluid to pass through and filters may be used. In that case, the nozzle of the high pressure washer is placed inside the cylindrical filter.
Further, a flat filter may be used instead of the cylindrical filter. In that case, the high pressure cleaning mechanism has, for example, an XY moving mechanism so that the nozzle can be scanned in the XY direction to perform high pressure cleaning on the entire surface of the flat filter. You may. Furthermore, the nozzle position of the high-pressure cleaning mechanism may be fixed and the filter side may be moved so that the entire surface of the filter can be cleaned with high pressure.
Furthermore, in the filter cleaning method of the filtration device of the present invention, high-pressure cleaning may be performed manually using a commercially available high-pressure cleaning instrument without using the high-pressure cleaning mechanism as in the first to fourth embodiments. good.

1…ケーシング
2…隔壁
3…フィルターエレメント(フィルター)
5…高圧洗浄機構
6…流体入口
7…流体出口
8…原液室
9…濾液室
13…ギアードモータ(接面位置移動手段)
31…濾材
52…移動シリンダ(流体噴射位置移動手段)
53a,53b…ノズル
104…逆洗機構
141…逆洗ヘッド
142…逆洗流体排出管
1 ... Casing 2 ... Partition 3 ... Filter element (filter)
5 ... High-pressure cleaning mechanism 6 ... Fluid inlet 7 ... Fluid outlet 8 ... Stock solution chamber 9 ... Filtration chamber 13 ... Geared motor (contact surface position moving means)
31 ... Filter media 52 ... Moving cylinder (fluid injection position moving means)
53a, 53b ... Nozzle 104 ... Backwash mechanism 141 ... Backwash head 142 ... Backwash fluid discharge pipe

Claims (2)

流体入口及び流体出口を有し、内部に前記流体入口に連通し濾過前の流体を収容する原液室と前記流体出口に連通し濾過後の流体を収容する濾液室とを備えたケーシングと、
前記ケーシングの内部に設置され、流体を前記原液室側から前記濾液室側へ通過させて濾過するフィルターと、を備え、
流体を前記濾液室側から前記原液室側へ通過させて前記フィルターに付着した捕捉物を剥離する逆洗が可能な濾過装置において、
前記逆洗を行う逆洗手段と、
前記原液室側から前記濾液室側へ前記フィルターを通過するように高圧の流体を噴射し、前記フィルターの内部や前記濾液室側の表面の付着物を高圧洗浄により除去する高圧洗浄機構と、
を備え、
前記逆洗手段は、前記原液室側から前記フィルターの一部分に接面するように配置されて前記濾液室の流体を前記フィルターに通過させて吸引する逆洗ヘッドと、前記フィルターに対する前記逆洗ヘッドの接面位置を移動させる接面位置移動手段と、前記逆洗ヘッドに吸引された流体を前記ケーシングの外部へ排出する逆洗流体排出管と、前記逆洗ヘッドの前記フィルターの一部分に接面する部分に設けられ、該フィルターの濾材の全長をカバーするスリット状の吸引孔の周囲に植毛された除去ブラシと、を含んで構成され、
前記逆洗が行われた後に、前記高圧洗浄機構によって前記高圧洗浄が行われることを特徴とする濾過装置。
A casing having a fluid inlet and a fluid outlet, and internally provided with a stock solution chamber communicating with the fluid inlet and accommodating the fluid before filtration and a filtrate chamber communicating with the fluid outlet and accommodating the fluid after filtration.
A filter, which is installed inside the casing and allows a fluid to pass from the stock solution chamber side to the filtrate chamber side and filters the fluid, is provided.
In a filtration device capable of backwashing, in which a fluid is passed from the filtrate chamber side to the stock solution chamber side to peel off traps adhering to the filter.
The backwashing means for backwashing and
A high-pressure washing mechanism that injects a high-pressure fluid from the stock solution chamber side to the filtrate chamber side so as to pass through the filter and removes deposits inside the filter and on the surface of the filtrate chamber side by high-pressure washing .
With
The backwashing means is arranged so as to be in contact with a part of the filter from the stock solution chamber side, and the backwashing head for passing the fluid in the filtrate chamber through the filter and sucking the backwashing head, and the backwashing head for the filter. The contact surface position moving means for moving the contact surface position, the backwash fluid discharge pipe for discharging the fluid sucked by the backwash head to the outside of the casing, and the contact surface with a part of the filter of the backwash head. It is configured to include a removal brush provided in a portion to be provided and flocked around a slit-shaped suction hole covering the entire length of the filter medium of the filter.
After the backwashing is performed, filtration device, characterized in that the high-pressure cleaning is performed by the high-pressure cleaning mechanism.
流体入口及び流体出口を有し、内部に前記流体入口に連通し濾過前の流体を収容する原液室と前記流体出口に連通し濾過後の流体を収容する濾液室とを備えたケーシングと、A casing having a fluid inlet and a fluid outlet, and internally provided with a stock solution chamber communicating with the fluid inlet and accommodating the fluid before filtration and a filtrate chamber communicating with the fluid outlet and accommodating the fluid after filtration.
前記ケーシングの内部に設置され、流体を前記原液室側から前記濾液室側へ通過させて濾過するフィルターと、を備え、A filter, which is installed inside the casing and allows a fluid to pass from the stock solution chamber side to the filtrate chamber side and filters the fluid, is provided.
流体を前記濾液室側から前記原液室側へ通過させて前記フィルターに付着した捕捉物を剥離する逆洗が可能な濾過装置の前記フィルターを洗浄するフィルター洗浄方法であって、A filter cleaning method for cleaning the filter of a filtration device capable of backwashing, in which a fluid is passed from the filtrate chamber side to the stock solution chamber side to peel off traps adhering to the filter.
前記逆洗は、前記原液室側から前記フィルターの一部分に接面するように配置された逆洗ヘッドにより前記濾液室の流体を前記フィルターを通過させて吸引し、前記フィルターに対する前記逆洗ヘッドの接面位置を接面位置移動手段により移動させ、前記逆洗ヘッドに吸引された流体を逆洗流体排出管により前記ケーシングの外部へ排出し、前記逆洗ヘッドの前記フィルターの一部分に接面する部分に設けられ、該フィルターの濾材の全長をカバーするスリット状の吸引孔の周囲に植毛された除去ブラシを用いて、前記フィルターの濾材を逆洗する際に前記除去ブラシにより前記捕捉物をかき取りながら、前記濾材の全面について行われ、これにより、前記フィルターの前記原液室側の表面に付着した捕捉物を除去し、In the backwash, the fluid in the filtrate chamber is sucked through the filter by a backwash head arranged so as to contact a part of the filter from the stock solution chamber side, and the backwash head with respect to the filter is sucked. The contact surface position is moved by the contact surface position moving means, the fluid sucked by the backwash head is discharged to the outside of the casing by the backwash fluid discharge pipe, and the contact surface is brought into contact with a part of the filter of the backwash head. Using a removal brush provided on the portion and planted around a slit-shaped suction hole covering the entire length of the filter medium of the filter, the trapped material is scraped by the removal brush when the filter medium of the filter is backwashed. While removing, it is performed on the entire surface of the filter medium, thereby removing traps adhering to the surface of the filter on the stock solution chamber side.
前記逆洗が行われた後に、前記フィルターの内部や濾液室側の表面の付着物の除去を、前記原液室側から前記濾液室側へ前記フィルターを通過するように高圧の流体を噴射して洗浄する高圧洗浄により行うことを特徴とする濾過装置のフィルター洗浄方法。After the backwashing is performed, a high-pressure fluid is sprayed from the stock solution chamber side to the filtrate chamber side so as to pass through the filter to remove deposits on the inside of the filter and the surface of the filtrate chamber side. Cleaning A filter cleaning method for a filtration device, which is performed by high-pressure cleaning.
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