JP6922968B2 - Manufacturing method of printed wiring board with metal reinforcing plate, laminate, and printed wiring board with metal reinforcing plate - Google Patents

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Description

本発明は金属補強板付きプリント配線板の製造方法、該製造方法に用いられる積層体、及び金属補強板付きプリント配線板に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board with a metal reinforcing plate, a laminate used in the manufacturing method, and a printed wiring board with a metal reinforcing plate.

OA機器、通信機器など電子機器の更なる高性能化、小型化に伴い、フレキシブルプリント配線板(以下、「FPC」と表記する。)は、その曲げることが出来る特性を活用して電子機器の狭く複雑な内部基板等に電子回路を組み込むために使用されている。この電子回路には、発生する電磁波を遮蔽する電磁波シールド層を設けたFPCを使用することが一般的であるが、近年の電子回路の情報量増大による高周波化、および電子回路の小型化に起因して電磁波対策は、さらに重要度を増している。 With the further improvement and miniaturization of electronic devices such as OA devices and communication devices, flexible printed wiring boards (hereinafter referred to as "FPC") utilize the bendable characteristics of electronic devices. It is used to incorporate electronic circuits in narrow and complicated internal boards and the like. It is common to use an FPC provided with an electromagnetic wave shield layer that shields the generated electromagnetic waves for this electronic circuit, but this is due to the recent increase in the amount of information in the electronic circuit and the increase in frequency and the miniaturization of the electronic circuit. Therefore, electromagnetic wave countermeasures are becoming more important.

電磁波シールド層を有したFPCとして、特許文献1には、導電性の金属補強板とグランド回路とを導電性接着剤で接続したFPCが開示されている。具体的には、導電性接着シートを用いて、ステンレス等の金属補強板をFPCに貼り付けることにより、金属補強板をグランド回路に電気的に接続している。このような構成とすることで、電磁波シールド性が良好なFPCを得ることができ、回路信号を安定的に伝送することができる。特許文献2には、熱硬化性樹脂と導電性フィラーとを含む導電性接着剤に関する技術が開示されている。 As an FPC having an electromagnetic wave shield layer, Patent Document 1 discloses an FPC in which a conductive metal reinforcing plate and a ground circuit are connected by a conductive adhesive. Specifically, the metal reinforcing plate is electrically connected to the ground circuit by attaching a metal reinforcing plate such as stainless steel to the FPC using a conductive adhesive sheet. With such a configuration, an FPC having a good electromagnetic wave shielding property can be obtained, and a circuit signal can be stably transmitted. Patent Document 2 discloses a technique relating to a conductive adhesive containing a thermosetting resin and a conductive filler.

国際公開第2014/010524号International Publication No. 2014/010524 国際公開第2019/031394号International Publication No. 2019/031394

導電性接着剤を用いてFPCに金属補強板を貼り付ける場合、導電性接着剤には、絶縁保護膜が有する開口部への埋め込み性が求められる。具体的には、金属補強板/導電性接着剤/FPCの順に積層された積層体を所定のプレス温度(例えば170℃)で熱プレスする場合プレス温度において導電性接着剤の軟化が不十分であると、開口部への導電性接着剤の充填性が悪化するという問題がある。特に開口部が小さい場合、充填性が著しく悪化し導通不良となる。従って、プレス温度(例えば170℃)では導電性接着剤を軟らかくする必要がある。
一方、プレス工程のプレス圧によって金属補強板とFPCの間から導電性接着剤の染み出しが生じると、外観不良及び短絡の原因となり、問題となっていた。
When a metal reinforcing plate is attached to an FPC using a conductive adhesive, the conductive adhesive is required to have embedding property in the opening of the insulating protective film. Specifically, when the laminate in which the metal reinforcing plate / conductive adhesive / FPC is laminated is hot-pressed at a predetermined press temperature (for example, 170 ° C.), the softening of the conductive adhesive is insufficient at the press temperature. If there is, there is a problem that the filling property of the conductive adhesive in the opening is deteriorated. In particular, when the opening is small, the filling property is remarkably deteriorated and conduction is poor. Therefore, it is necessary to soften the conductive adhesive at the press temperature (for example, 170 ° C.).
On the other hand, if the conductive adhesive seeps out from between the metal reinforcing plate and the FPC due to the pressing pressure in the pressing process, it causes a poor appearance and a short circuit, which has been a problem.

一方、導電性接着剤を柔らかくすると金属補強板とFPCの間から導電性接着剤が過剰に染み出し、外観不良及び短絡の原因となる。 On the other hand, if the conductive adhesive is softened, the conductive adhesive oozes excessively from between the metal reinforcing plate and the FPC, causing a poor appearance and a short circuit.

上記課題に鑑み本発明の目的は、導電性接着剤の開口部への充填性が良好であって、外観不良及び短絡の無い金属補強板付きプリント配線板の製造方法、並びに前記プリント配線板の製造方法に用いられる積層体、及び金属補強板付きプリント配線板を提供することである。 In view of the above problems, an object of the present invention is a method for manufacturing a printed wiring board with a metal reinforcing plate, which has good filling property of a conductive adhesive in an opening and does not have a poor appearance and a short circuit, and a method for manufacturing the printed wiring board. It is an object of the present invention to provide a laminate used in a manufacturing method and a printed wiring board with a metal reinforcing plate.

本発明者らが鋭意検討を重ねたところ、以下の態様において、本発明の課題を解決しえることを見出し、本発明を完成するに至った。
本発明の一態様にかかる金属補強板付きプリント配線板の製造方法は、グランド回路を含む回路パターンと前記回路パターンを絶縁保護し、開口部を有する絶縁保護膜が形成されたプリント配線板の上方に、熱により軟化するバインダー樹脂および導電性フィラーを含有する導電性接着剤と、金属補強板と、クッション材をこの順に有する積層体を、前記配線板と前記導電性接着剤が対向するように配置する工程[1]、
前記積層体を熱プレスし、前記絶縁保護膜に設けられた開口部を介して、導電性接着剤により前記グランド回路と金属補強板とを接着すると共に、前記グランド回路と金属補強板とを電気的に接続する工程[2]、
ならびに前記積層体のクッション材を剥離する工程[3]、を備える。
As a result of diligent studies by the present inventors, they have found that the problems of the present invention can be solved in the following aspects, and have completed the present invention.
In the method for manufacturing a printed wiring board with a metal reinforcing plate according to one aspect of the present invention, the circuit pattern including the ground circuit and the circuit pattern are insulated and protected, and above the printed wiring board on which an insulating protective film having an opening is formed. In addition, a conductive adhesive containing a binder resin and a conductive filler that is softened by heat, a metal reinforcing plate, and a laminate having a cushioning material in this order are provided so that the wiring plate and the conductive adhesive face each other. Placement step [1],
The laminate is hot-pressed, and the gland circuit and the metal reinforcing plate are adhered to each other by a conductive adhesive through an opening provided in the insulating protective film, and the gland circuit and the metal reinforcing plate are electrically connected. Step of connecting [2],
Further, the step [3] of peeling off the cushion material of the laminated body is provided.

本発明により、導電性接着剤の開口部への充填性が良好であって、外観不良及び短絡の無い金属補強板付きプリント配線板を提供することができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide a printed wiring board with a metal reinforcing plate which has good filling property of a conductive adhesive into an opening and does not have a poor appearance and a short circuit.

実施の形態にかかる積層体の準備工程を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the preparation process of the laminated body which concerns on embodiment. 実施の形態にかかる金属補強板付きプリント配線板の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the printed wiring board with a metal reinforcing plate which concerns on embodiment. 実施の形態にかかる金属補強板付きプリント配線板の断面図である。It is sectional drawing of the printed wiring board with a metal reinforcing plate which concerns on embodiment. 実施の形態にかかる積層体の断面図である。It is sectional drawing of the laminated body which concerns on embodiment. 金属補強板付きプリント配線板の断面図である。It is sectional drawing of the printed wiring board with a metal reinforcing plate. プリント配線板の平面図である。It is a top view of the printed wiring board. プリント配線板に金属補強板を貼り付けた状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state which attached the metal reinforcing plate to the printed wiring board.

本明細書におけるシートとは、JISにおいて定義されるシートのみならず、フィルムも含むものとする。説明を明確にするため、以下の記載および図面は、適宜、簡略化されている。本明細書中に出てくる各種成分は特に注釈しない限り、それぞれ独立に一種単独でも二種以上を併用してもよい。
尚、本明細書では、「プリント配線板」を、「配線板」と略記することがある。
以下、本発明の実施の形態の例について説明する。
The sheet in the present specification includes not only a sheet defined in JIS but also a film. The following description and drawings have been simplified as appropriate to clarify the description. Unless otherwise specified, the various components mentioned in the present specification may be used independently or in combination of two or more.
In this specification, the "printed wiring board" may be abbreviated as "wiring board".
Hereinafter, examples of embodiments of the present invention will be described.

《金属補強板付きプリント配線板の製造方法》
図1、2を用いて金属補強板付きプリント配線板の製造方法について説明する。図2では、導電性接着剤を用いてプリント配線板に金属補強板を貼り付ける際の製造工程を示している。なお、各々の部材を構成する材料の詳細については後述する。また、本明細書において、「導電性接着剤」は、熱硬化前の導電性接着剤を示し、「導電性接着剤層」は導電性接着剤を熱硬化することで得られた層(つまり、熱硬化後の導電性接着剤)を示すものとする。
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A method of manufacturing a printed wiring board with a metal reinforcing plate will be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. 2 shows a manufacturing process when a metal reinforcing plate is attached to a printed wiring board using a conductive adhesive. The details of the materials constituting each member will be described later. Further, in the present specification, the "conductive adhesive" indicates a conductive adhesive before thermosetting, and the "conductive adhesive layer" is a layer obtained by thermosetting the conductive adhesive (that is, that is). , Conductive adhesive after thermosetting).

<積層体準備工程>
まず、図1の準備工程[1]に示すように、剥離性フィルム11に導電性接着剤12が積層された導電性接着シート13と、金属補強板14と、を準備する。そして、準備工程[2]に示すように、金属補強板14に導電性接着シート13の導電性接着剤12側を貼り付けて、金属補強板14に導電性接着シート13を仮貼りする。金属補強板14に導電性接着シート13を仮貼りする際の温度(仮貼り温度)は、例えば110℃〜150℃、好ましくは130℃とすることができる。仮貼り後、導電性接着剤12は半硬化状態である。
<Laminate body preparation process>
First, as shown in the preparation step [1] of FIG. 1, a conductive adhesive sheet 13 in which a conductive adhesive 12 is laminated on a peelable film 11 and a metal reinforcing plate 14 are prepared. Then, as shown in the preparation step [2], the conductive adhesive 12 side of the conductive adhesive sheet 13 is attached to the metal reinforcing plate 14, and the conductive adhesive sheet 13 is temporarily attached to the metal reinforcing plate 14. The temperature at which the conductive adhesive sheet 13 is temporarily attached to the metal reinforcing plate 14 (temporary application temperature) can be, for example, 110 ° C. to 150 ° C., preferably 130 ° C. After the temporary attachment, the conductive adhesive 12 is in a semi-cured state.

次に、準備工程[3]に示すように、剥離性フィルム11を剥がして、導電性接着剤12の金属補強板14と逆側の面を露出させる。その後、導電性接着剤12と金属補強板14との予備積層体15を所定のサイズに切断する(切断線を符号18で示している)。予備積層体15の切断は、例えば打ち抜き加工を用いて実施することができる。尚、剥離性フィルム11は切断工程後に剥がしても良い。 Next, as shown in the preparation step [3], the peelable film 11 is peeled off to expose the surface of the conductive adhesive 12 on the opposite side to the metal reinforcing plate 14. After that, the preliminary laminate 15 of the conductive adhesive 12 and the metal reinforcing plate 14 is cut to a predetermined size (the cutting line is indicated by reference numeral 18). Cutting of the pre-laminated body 15 can be carried out by using, for example, punching. The peelable film 11 may be peeled off after the cutting step.

<工程[1]>
工程[1]は、グランド回路を含む回路パターンと前記回路パターンを絶縁保護し、開口部を有する絶縁保護膜が形成されたプリント配線板の上方に、熱により軟化するバインダー樹脂および導電性フィラーを含有する導電性接着剤と、金属補強板と、クッション材をこの順に有する積層体を、前記配線板と前記導電性接着剤が対向するように配置する工程である。
<Step [1]>
In step [1], a binder resin and a conductive filler that are softened by heat are placed above the printed wiring board on which the circuit pattern including the ground circuit and the circuit pattern are insulated and protected and the insulating protective film having an opening is formed. This is a step of arranging a laminate having a conductive adhesive, a metal reinforcing plate, and a cushioning material in this order so that the wiring plate and the conductive adhesive face each other.

なお、本発明では、導電性接着剤と金属補強板とクッション材を順にプリント配線板の上方に配置し用いる場合、または導電性接着剤と金属補強板との積層体に、さらにクッション材を配置して用いる場合、導電性接着剤に金属補強板とクッション材との積層体を配置して用いる場合等、熱プレス時に、導電性接着剤と、金属補強板と、クッション材がこの順に配置されることができればよい。 In the present invention , the conductive adhesive, the metal reinforcing plate, and the cushioning material are arranged and used in order above the printed wiring plate, or the cushioning material is further arranged on the laminate of the conductive adhesive and the metal reinforcing plate. In the case of using the conductive adhesive by arranging a laminate of the metal reinforcing plate and the cushioning material, the conductive adhesive, the metal reinforcing plate, and the cushioning material are arranged in this order at the time of hot pressing. I just need to be able to.

具体的には例えば、図2工程[1]に示すように、所定のサイズに切断された予備積層体15を配線板20の上に配置する。さらに金属補強板の上面にクッション材16を積層することで積層体17を形成する。ここで配線板20は、下側の絶縁性フィルム21と上側の絶縁性フィルム22とが絶縁性接着剤23で接着された構成を有する。絶縁性フィルム21上には信号回路24およびグランド回路25が形成されており、このグランド回路25の上方には開口部(スルーホール)27が形成されている。つまり、絶縁性フィルム21上にグランド回路25が配置されており、当該グランド回路25の一部が開口部27を介して露出している。積層体17は、配線板20の開口部27の上方に配置する。 Specifically, for example, as shown in step [1] of FIG. 2, the preliminary laminate 15 cut to a predetermined size is arranged on the wiring board 20. Further, the laminated body 17 is formed by laminating the cushion material 16 on the upper surface of the metal reinforcing plate. Here, the wiring board 20 has a structure in which the lower insulating film 21 and the upper insulating film 22 are bonded with an insulating adhesive 23. A signal circuit 24 and a ground circuit 25 are formed on the insulating film 21, and an opening (through hole) 27 is formed above the ground circuit 25. That is, the ground circuit 25 is arranged on the insulating film 21, and a part of the ground circuit 25 is exposed through the opening 27. The laminated body 17 is arranged above the opening 27 of the wiring board 20.

<工程[2]>
工程[2]は、積層体を熱プレスし、プリント配線板の絶縁保護膜に設けられた開口部を介して、導電性接着剤により前記グランド回路と金属補強板とを接着すると共に、前記グランド回路と金属補強板とを電気的に接続する工程である。
<Step [2]>
In the step [2], the laminate is hot-pressed, and the gland circuit and the metal reinforcing plate are adhered to each other by a conductive adhesive through an opening provided in the insulating protective film of the printed wiring board, and the gland is attached. This is the process of electrically connecting the circuit and the metal reinforcing plate.

具体的には例えば、図2工程[2]に示すように、工程[1]に続いて、積層体17/配線板20の積層物を所定の温度(例えば150〜190℃、好ましくは170℃)で熱プレス(加熱・加圧)する。これにより導電性接着剤12が軟化して絶縁保護膜の開口部27内に埋め込まれる。軟化した導電性接着剤12が開口部27内に充填されることで、導電性接着剤12が開口部27により露出したグランド回路25と接触する。熱プレス後、導電性接着剤12が硬化して金属補強板14と配線板20とが接着されると共に、グランド回路と金属補強板とが電気的に接続される。一方、クッション材16は熱と圧力により流動し、金属補強板14及び導電性接着剤12の側面側に流れこみ導電性接着剤12の染み出しを抑制する。このため、クッション材16は熱プレス中に導電性接着剤12が金属補強板よりも外部に染み出す前に導電性接着剤12の側面に流動し、且つ染み出しをせき止める。この状態でクッション材は導電性接着剤12の染み出しを抑え込む硬さ(粘弾性)を必要とする。 Specifically, for example, as shown in step [2] of FIG. 2, following step [1], the laminate of the laminate 17 / wiring board 20 is brought to a predetermined temperature (for example, 150 to 190 ° C., preferably 170 ° C.). ) To heat press (heat / pressurize). As a result, the conductive adhesive 12 is softened and embedded in the opening 27 of the insulating protective film. When the softened conductive adhesive 12 is filled in the opening 27, the conductive adhesive 12 comes into contact with the ground circuit 25 exposed by the opening 27. After the hot pressing, the conductive adhesive 12 is cured to bond the metal reinforcing plate 14 and the wiring plate 20, and the ground circuit and the metal reinforcing plate are electrically connected. On the other hand, the cushion material 16 flows by heat and pressure and flows into the side surface side of the metal reinforcing plate 14 and the conductive adhesive 12 to suppress the exudation of the conductive adhesive 12. Therefore, the cushion material 16 flows to the side surface of the conductive adhesive 12 before the conductive adhesive 12 seeps out from the metal reinforcing plate during hot pressing, and dams up the seepage. In this state, the cushion material needs to have a hardness (viscoelasticity) that suppresses the exudation of the conductive adhesive 12.

なお、熱プレスの際の圧力は、3〜30kg/cm程度が好ましい。熱プレスに用いる装置は、平板圧着機またはロール圧着機を使用できる。熱プレスの時間は、クッション材16/金属補強板14/導電性接着剤12/配線板20の積層体が十分に密着する時間であれば特に限定されることはないが、通常は1分〜1時間程度である。また、熱プレスの時間が短い場合は、熱プレス後に150〜190℃のオーブンで30分〜3時間加熱して導電性接着剤12を本硬化させることが好ましい。 The pressure at the time of hot pressing is preferably about 3 to 30 kg / cm 2. As the apparatus used for the hot press, a flat plate crimping machine or a roll crimping machine can be used. The heat pressing time is not particularly limited as long as the laminated body of the cushion material 16 / metal reinforcing plate 14 / conductive adhesive 12 / wiring plate 20 is sufficiently adhered, but is usually from 1 minute to 1 minute. It takes about 1 hour. When the heat pressing time is short, it is preferable to heat the conductive adhesive 12 in an oven at 150 to 190 ° C. for 30 minutes to 3 hours after the heat pressing to finally cure the conductive adhesive 12.

<工程[3]>
工程[3]は、積層体のクッション材を剥離する工程である。
熱プレスの後、図2工程[3]に示すように温度が低下し流動性が消滅したクッション材を吸引剥離装置又は手作業で剥離する。
これにより、図3に示すように導電性接着剤12を介して金属補強板14と配線板20のグランド回路25とが電気的に接続された電磁波シールド性を備えた金属補強板付きプリント配線板30を製造することができる。
<Step [3]>
The step [3] is a step of peeling off the cushioning material of the laminated body.
After the hot pressing, as shown in step [3] of FIG. 2, the cushion material whose temperature has dropped and whose fluidity has disappeared is peeled off by a suction peeling device or manually.
As a result, as shown in FIG. 3, a printed wiring board with a metal reinforcing plate having an electromagnetic wave shielding property in which the metal reinforcing plate 14 and the ground circuit 25 of the wiring plate 20 are electrically connected via a conductive adhesive 12. 30 can be manufactured.

続いて、各々の部材を構成する材料の詳細について説明する。
<積層体>
本実施の形態にかかる積層体は上述した金属補強板付きプリント配線板の製造方法に用いられるものであって、クッション材、金属補強板および導電性接着剤の順に積層される。図4(a)に示すように各部材を同サイズとしてもよいが、図4(b)に示すように金属補強板および導電性接着剤よりもクッション材を大きくする態様が染み出し性をより改善する観点から好ましい。
また、本発明の積層体は、クッション材の貯蔵弾性率が、170℃において10MPa以上100MPa以下であり、前記導電性接着剤の貯蔵弾性率が、170℃において2MPa以上50MPa以下であり、前記クッション材の貯蔵弾性率が、前記導電性接着剤の貯蔵弾性率よりも高いことが、染み出し性の点で好ましい。
Subsequently, the details of the materials constituting each member will be described.
<Laminated body>
The laminate according to the present embodiment is used in the above-mentioned method for manufacturing a printed wiring board with a metal reinforcing plate, and the cushion material, the metal reinforcing plate, and the conductive adhesive are laminated in this order. As shown in FIG. 4A, each member may have the same size, but as shown in FIG. 4B, a mode in which the cushioning material is made larger than the metal reinforcing plate and the conductive adhesive improves the exudability. It is preferable from the viewpoint of improvement.
Further, in the laminate of the present invention, the storage elastic modulus of the cushion material is 10 MPa or more and 100 MPa or less at 170 ° C., and the storage elastic modulus of the conductive adhesive is 2 MPa or more and 50 MPa or less at 170 ° C. It is preferable that the storage elastic modulus of the material is higher than the storage elastic modulus of the conductive adhesive in terms of exudability.

積層体は上述した通り金属補強板14と導電性接着剤12からなる予備積層体15を形成後、クッション材を積層する積層工程でもよく、配線板に載置する前にあらかじめ積層体を形成してもよい。以下各層について詳細を説明する。 As described above, the laminate may be a lamination step of laminating the cushion material after forming the preliminary laminate 15 composed of the metal reinforcing plate 14 and the conductive adhesive 12, and the laminate is formed in advance before being placed on the wiring board. You may. The details of each layer will be described below.

(クッション材)
クッション材は熱プレス機のプレス圧を均一に金属補強板及び導電性接着剤に伝え、熱プレス時に流動し導電性接着剤の染み出しを抑制する役割を有する。
(Cushion material)
The cushion material has a role of uniformly transmitting the press pressure of the heat press machine to the metal reinforcing plate and the conductive adhesive, flowing during the heat press, and suppressing the seepage of the conductive adhesive.

クッション材の貯蔵弾性率は170℃において10MPa以上100MPa以下であることが好ましく、12MPa以上90MPa以下がより好ましく、15MPa以上70MPa以下がさらに好ましい。上記範囲とすることで熱プレスの導電性接着剤の染み出しを抑制する。具体的には図4(b)に示すようにクッション材の貯蔵弾性率が100MPaを越える場合、クッション材の流動前に導電性接着剤12が軟化し染み出しやすくなる。一方、貯蔵弾性率が10MPa未満ではクッション材の硬さが不足し、導電性接着剤の軟化による染み出しを抑制しにくくなる。 The storage elastic modulus of the cushion material is preferably 10 MPa or more and 100 MPa or less, more preferably 12 MPa or more and 90 MPa or less, and further preferably 15 MPa or more and 70 MPa or less at 170 ° C. Within the above range, the exudation of the conductive adhesive of the heat press is suppressed. Specifically, as shown in FIG. 4B, when the storage elastic modulus of the cushion material exceeds 100 MPa, the conductive adhesive 12 softens and easily exudes before the cushion material flows. On the other hand, if the storage elastic modulus is less than 10 MPa, the hardness of the cushion material is insufficient, and it becomes difficult to suppress exudation due to softening of the conductive adhesive.

本実施の形態にかかるクッション材の貯蔵弾性率は、次のようにして測定することができる。すなわち、動的粘弾性測定装置を用いてクッション材の25〜200℃の温度範囲における貯蔵弾性率(E’)、損失弾性率(E”)、および損失正接(tanδ)変化を測定し、温度における貯蔵弾性率(E’)を抽出することで求めることができる。 The storage elastic modulus of the cushioning material according to the present embodiment can be measured as follows. That is, a dynamic viscoelasticity measuring device is used to measure changes in the storage elastic modulus (E'), loss elastic modulus (E "), and loss tangent (tan δ) of the cushioning material in the temperature range of 25 to 200 ° C., and the temperature. It can be obtained by extracting the storage elastic modulus (E') in.

クッション材は、熱可塑性樹脂を含む熱可塑性樹脂組成物により形成することができる。また、熱可塑性樹脂組成物は、熱可塑性樹脂に加えて、可塑剤や熱硬化剤、無機フィラー等を含んでいてもよい。 The cushion material can be formed of a thermoplastic resin composition containing a thermoplastic resin. Further, the thermoplastic resin composition may contain a plasticizer, a thermosetting agent, an inorganic filler and the like in addition to the thermoplastic resin.

熱可塑性樹脂としては、ポリオレフィン系樹脂、酸をグラフトさせた酸変性ポリオレフィン系樹脂、ポリオレフィンと不飽和エステルとの共重合樹脂、ビニル系樹脂、スチレン・アクリル系樹脂、ジエン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド系樹脂、またはフッ素樹脂などが挙げられる。
これらの中でも、ポリオレフィン系樹脂、酸をグラフトさせた酸変性ポリオレフィン系樹脂、ポリオレフィンと不飽和エステルとの共重合樹脂、ビニル系樹脂が好ましい。
熱可塑性樹脂は、1種を単独で、または必要に応じて任意の比率で2種以上混合して用いることができる。
Examples of the thermoplastic resin include polyolefin resins, acid-modified polyolefin resins grafted with acids, copolymer resins of polyolefins and unsaturated esters, vinyl resins, styrene / acrylic resins, diene resins, cellulose resins, and the like. Examples thereof include polyamide resin, polyurethane resin, polyester resin, polycarbonate resin, polyimide resin, and fluororesin.
Among these, polyolefin-based resins, acid-modified polyolefin-based resins grafted with acids, copolymer resins of polyolefins and unsaturated esters, and vinyl-based resins are preferable.
As the thermoplastic resin, one type can be used alone, or two or more types can be mixed at an arbitrary ratio as required.

ポリオレフィン系樹脂は、エチレン、プロピレン、α−オレフィン化合物などのホモポリマーまたはコポリマーが好ましい。具体的には、例えば、低密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ポリプロピレンホモポリマー、ポリプロピレンコポリマー等が挙げられる。
これらの中でもポリエチレン樹脂およびポリプロピレン樹脂が好ましく、より好ましくは、ポリエチレン樹脂である。
The polyolefin-based resin is preferably a homopolymer or copolymer such as ethylene, propylene, or α-olefin compound. Specific examples thereof include low-density polyethylene, ultra-low-density polyethylene, linear low-density polyethylene, high-density polyethylene, polypropylene homopolymer, polypropylene copolymer and the like.
Among these, polyethylene resin and polypropylene resin are preferable, and polyethylene resin is more preferable.

酸変性ポリオレフィン系樹脂は、マレイン酸やアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸等がグラフトされたポリオレフィン樹脂が好ましい。
これらの中でも、マレイン酸変性ポリオレフィン樹脂が好ましい。
The acid-modified polyolefin resin is preferably a polyolefin resin grafted with maleic acid, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid and the like.
Among these, maleic acid-modified polyolefin resin is preferable.

ポリオレフィンと不飽和エステルとの共重合樹脂における不飽和エステルとしてはアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イソオクチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸イソブチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチルおよびメタクリル酸グリシジルなどが挙げられる。
これらの中でもポリオレフィンとしてエチレン、不飽和エステルとしてメタクリル酸グリシジルからなる、エチレン−メタクリル酸グリシジル共重合樹脂が好ましい。
Examples of the unsaturated ester in the copolymer resin of the polyolefin and the unsaturated ester include methyl acrylate, ethyl acrylate, isobutyl acrylate, n-butyl acrylate, isooctyl acrylate, methyl methacrylate, isobutyl methacrylate, and dimethyl maleate. Examples thereof include diethyl maleate and glycidyl methacrylate.
Among these, an ethylene-glycidyl methacrylate copolymer resin composed of ethylene as the polyolefin and glycidyl methacrylate as the unsaturated ester is preferable.

ビニル系樹脂は、酢酸ビニルなどのビニルエステルの重合により得られるポリマーおよびビニルエステルとエチレンなどのオレフィン化合物とのコポリマーが好ましい。具体的には、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロピオン酸ビニル共重合体、部分ケン化ポリビニルアルコール等が挙げられる。
これらの中でもエチレン−酢酸ビニル共重合体が好ましい。
As the vinyl resin, a polymer obtained by polymerizing a vinyl ester such as vinyl acetate and a copolymer of a vinyl ester and an olefin compound such as ethylene are preferable. Specific examples thereof include ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-vinyl propionate copolymer, and partially saponified polyvinyl alcohol.
Of these, ethylene-vinyl acetate copolymer is preferable.

スチレン・アクリル系樹脂は、スチレンや(メタ)アクリロニトリル、アクリルアミド類、マレイミド類などからなるホモポリマーまたはコポリマーが好ましい。具体的には、例えば、シンジオタクチックポリスチレン、ポリアクリロニトリル、アクリルコポリマー等が挙げられる。 The styrene / acrylic resin is preferably a homopolymer or copolymer composed of styrene, (meth) acrylonitrile, acrylamides, maleimides and the like. Specific examples thereof include syndiotactic polystyrene, polyacrylonitrile, and acrylic copolymers.

ジエン系樹脂は、ブタジエンやイソプレン等の共役ジエン化合物のホモポリマーまたはコポリマーおよびそれらの水素添加物が好ましい。具体的には、例えば、スチレン−ブタジエンゴム、スチレン−イソプレンブロックコポリマー、スチレン−エチレン・ブチレン−スチレンブロックコポリマー、スチレン−エチレン・プロピレン−スチレンブロックコポリマー、スチレン−イソプレン−スチレンブロックコポリマー、スチレン−ブチレン・ブタジエン−スチレンブロックコポリマー、スチレン−エチレン・ブチレン−スチレンブロックコポリマーとスチレン−エチレン・ブチレンブロックコポリマーとの混合物等が挙げられる。 The diene-based resin is preferably a homopolymer or copolymer of a conjugated diene compound such as butadiene or isoprene, and a hydrogenated additive thereof. Specifically, for example, styrene-butadiene rubber, styrene-isoprene block copolymer, styrene-ethylene / butylene-styrene block copolymer, styrene-ethylene / propylene-styrene block copolymer, styrene-isoprene-styrene block copolymer, styrene-butylene. Examples thereof include a butadiene-styrene block copolymer, a mixture of a styrene-ethylene / butylene-styrene block copolymer and a styrene-ethylene / butylene block copolymer.

セルロース系樹脂は、セルロースアセテートブチレート樹脂が好ましい。ポリカーボネート樹脂は、ビスフェノールAポリカーボネートが好ましい。 The cellulosic resin is preferably a cellulose acetate butyrate resin. The polycarbonate resin is preferably bisphenol A polycarbonate.

ポリイミド系樹脂は、熱可塑性ポリイミド、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミック酸型ポリイミド樹脂が好ましい。 The polyimide-based resin is preferably a thermoplastic polyimide, a polyamide-imide resin, or a polyamic acid type polyimide resin.

クッション材は熱プレス後クッション材と金属補強板や配線板、並びに熱プレス機との剥離を容易にするため、クッション性の部材に加え、離形層を含む形態とすることができる。離形層としては、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、環状オレフィンポリマー、シリコーン、フッ素樹脂からなる層を形成することが好ましい。この中でもポリプロピレン、ポリメチルペンテン、シリコーン、フッ素樹脂がさらに好ましい。
上記形態の他、アルキッド、シリコーンの等の離型剤をコーティングする形態も好ましい。
The cushion material may be in a form including a release layer in addition to the cushioning member in order to facilitate the peeling of the cushion material from the metal reinforcing plate, the wiring plate, and the heat press machine after heat pressing. As the release layer, it is preferable to form a layer made of polypropylene, polymethylpentene, cyclic olefin polymer, silicone, or fluororesin. Of these, polypropylene, polymethylpentene, silicone, and fluororesin are more preferable.
In addition to the above forms, a form coated with a release agent such as alkyd or silicone is also preferable.

離形層の厚みは0.001〜70μmが好ましく、0.01〜50μmがより好ましい。 The thickness of the release layer is preferably 0.001 to 70 μm, more preferably 0.01 to 50 μm.

市販のクッション材としては、三井東セロ社製「CR1012」、「CR1012MT4」、「CR1031」、「CR1033」、「CR1040」、「CR2031MT4」等を用いることができる。これら市販のクッション材はクッション材の両面を離形層としてポリメチルペンテンで挟み込んだ層構成となっており本願ではこれらの一体構成をクッション材と呼ぶ。 As a commercially available cushion material, "CR1012", "CR1012MT4", "CR1031", "CR1033", "CR1040", "CR2031MT4", etc. manufactured by Mitsui Tosero Co., Ltd. can be used. These commercially available cushioning materials have a layer structure in which both sides of the cushioning material are sandwiched between polymethylpentene as release layers, and in the present application, these integrated structures are referred to as cushioning materials.

クッション材の厚みは、50〜300μmが好ましく、75〜250μmがより好ましく、100〜200μmがさらに好ましい。50〜300μmとすることで染み出し性を向上できる。なお上記厚みは、離形層を有する場合、離形層を含んだ値である。 The thickness of the cushion material is preferably 50 to 300 μm, more preferably 75 to 250 μm, and even more preferably 100 to 200 μm. The exudability can be improved by setting the thickness to 50 to 300 μm. When the mold release layer is provided, the thickness is a value including the release layer.

(金属補強板)
金属補強板は、例えば金、銀、銅、鉄およびステンレス等の導電性金属が挙げられる。これらの中で補強板としての強度、コストおよび化学的安定性の面でステンレスが好ましい。
(Metal reinforcement plate)
Examples of the metal reinforcing plate include conductive metals such as gold, silver, copper, iron and stainless steel. Among these, stainless steel is preferable in terms of strength, cost and chemical stability as a reinforcing plate.

金属補強板の厚みは、50〜500μmが好ましく、60〜400μmがより好ましく、75〜300μmがさらに好ましい。金属補強板の厚みが500μm以下とすることでクッション材の流動によって染み出しを抑制する他、プリント基板の軽量化及び小型化を促進できる。50μm以上とすることで金属補強板の強度が向上し配線板の信頼性が向上する。 The thickness of the metal reinforcing plate is preferably 50 to 500 μm, more preferably 60 to 400 μm, and even more preferably 75 to 300 μm. By setting the thickness of the metal reinforcing plate to 500 μm or less, it is possible to suppress exudation due to the flow of the cushion material, and to promote weight reduction and miniaturization of the printed circuit board. When the thickness is 50 μm or more, the strength of the metal reinforcing plate is improved and the reliability of the wiring board is improved.

金属補強板は、表面の不導体化による抵抗値上昇を抑制するため、メッキ層が表面に形成されていることが好ましい。メッキ層は、金、銀、ニッケル、リン含有ニッケルメッキが好ましい。メッキの方法は電解めっき法または無電解めっき法で形成することが好ましい。メッキ層の厚みは、0.1〜5μm程度であり、0.2〜4μmがより好ましい。尚、上記金属補強板の厚みは、メッキ層を有する場合、メッキ層を含んだ値である。尚、コストを低減する観点においてはメッキをしない態様が好ましい。 The metal reinforcing plate preferably has a plating layer formed on the surface in order to suppress an increase in resistance value due to the non-conductorization of the surface. The plating layer is preferably gold, silver, nickel, or phosphorus-containing nickel plating. The plating method is preferably an electrolytic plating method or an electroless plating method. The thickness of the plating layer is about 0.1 to 5 μm, more preferably 0.2 to 4 μm. When the metal reinforcing plate has a plating layer, the thickness of the metal reinforcing plate is a value including the plating layer. From the viewpoint of reducing the cost, it is preferable that the plating is not performed.

染み出しをより効果的に抑制する観点から、金属補強板とクッション材の厚みの比率(金属補強板の厚み[μm]/クッション材の厚み[μm])が、2以下であることが好ましく、1.7以下であることがより好ましく、1.3以下がさらに好ましい。 From the viewpoint of more effectively suppressing exudation, the ratio of the thickness of the metal reinforcing plate to the cushion material (thickness of the metal reinforcing plate [μm] / thickness of the cushion material [μm]) is preferably 2 or less. It is more preferably 1.7 or less, and even more preferably 1.3 or less.

(導電性接着剤)
本実施の形態にかかる導電性接着剤は、熱により軟化するバインダー樹脂と導電性フィラーとを少なくとも含み、下記の特性を備えることが好ましい。
(Conductive adhesive)
The conductive adhesive according to the present embodiment preferably contains at least a binder resin that is softened by heat and a conductive filler, and has the following characteristics.

[貯蔵弾性率]
本実施の形態では、導電性接着剤の170℃における貯蔵弾性率を2MPa以上50MPa以下、好ましくは4MPa以上25MPa以下、更に好ましくは7MPa以上15MPa以下としてもよい。導電性接着剤の170℃における貯蔵弾性率をこの範囲とすることで、熱プレス時(図2の工程[1]〜工程[3]参照)に導電性接着剤12を十分に軟化させることができ、導電性接着剤12の開口部への充填性を向上させることができる。したがって、導電性接着剤12とグランド回路25との間に隙間29b(図5(1)参照)が形成されることを抑制することができ、金属補強板14とグランド回路25との間の抵抗値が高くなることを抑制することができる。また導電性接着剤が過剰に軟化することで染み出しが悪化することを抑制することができる(図5(2)参照)。
[Storage modulus]
In the present embodiment, the storage elastic modulus of the conductive adhesive at 170 ° C. may be 2 MPa or more and 50 MPa or less, preferably 4 MPa or more and 25 MPa or less, and more preferably 7 MPa or more and 15 MPa or less. By setting the storage elastic modulus of the conductive adhesive at 170 ° C. within this range, the conductive adhesive 12 can be sufficiently softened during hot pressing (see steps [1] to [3] of FIG. 2). It is possible to improve the filling property of the conductive adhesive 12 into the opening. Therefore, it is possible to suppress the formation of a gap 29b (see FIG. 5 (1)) between the conductive adhesive 12 and the gland circuit 25, and the resistance between the metal reinforcing plate 14 and the gland circuit 25. It is possible to suppress an increase in the value. Further, it is possible to prevent the exudation from being deteriorated due to the excessive softening of the conductive adhesive (see FIG. 5 (2)).

170℃における貯蔵弾性率を2MPa以上とするための手法としては、例えばバインダー樹脂の重量分子量Mwを上げる、バインダー樹脂を芳香環を多く有する骨格とし剛直性を高める、導電性フィラーや無機フィラー等のフィラー成分の添加量を増やす、またバインダー樹脂が熱硬化性樹脂である場合はBステージにおける硬化剤との架橋密度を高める等の手法が挙げられる。 As a method for increasing the storage elasticity at 170 ° C. to 2 MPa or more, for example, increasing the weight molecular weight Mw of the binder resin, using the binder resin as a skeleton having many aromatic rings to increase the rigidity, conductive filler, inorganic filler, etc. Examples include increasing the amount of the filler component added, and increasing the cross-linking density with the curing agent in the B stage when the binder resin is a thermosetting resin.

170℃における貯蔵弾性率を50MPa以下とするための手法としては、例えばバインダー樹脂の重量分子量Mwを下げる、バインダー樹脂の骨格から芳香環を減らし剛直性を下げる、導電性フィラーや無機フィラー等のフィラー成分の添加量を減らす、またバインダー樹脂が熱硬化性樹脂である場合は、半硬化状態であるBステージにおける硬化剤との架橋密度を下げる等の手法が挙げられる。 As a method for reducing the storage elastic modulus at 170 ° C., for example, the weight molecular weight Mw of the binder resin is lowered, the aromatic ring is reduced from the skeleton of the binder resin to reduce the rigidity, and fillers such as conductive fillers and inorganic fillers are used. Examples include reducing the amount of the component added, and when the binder resin is a thermosetting resin, reducing the crosslink density with the curing agent in the semi-cured B stage.

本実施の形態では、170℃における導電性接着剤の貯蔵弾性率を上述の範囲とすることで、金属補強板付きプリント配線板の製造時に開口部への充填性が良好な導電性接着剤、積層体、及び金属補強板付きプリント配線板を提供することができる。 In the present embodiment, the storage elastic modulus of the conductive adhesive at 170 ° C. is within the above range, so that the conductive adhesive has good filling property to the opening when the printed wiring board with the metal reinforcing plate is manufactured. A laminate and a printed wiring board with a metal reinforcing plate can be provided.

本実施の形態にかかる導電性接着剤の貯蔵弾性率は、クッション材と同様の方法で求めることができる。 The storage elastic modulus of the conductive adhesive according to the present embodiment can be obtained by the same method as that for the cushion material.

また、クッション材の貯蔵弾性率は、前記導電性接着剤の貯蔵弾性率よりも高いことが好ましい。クッション材と導電性接着剤の170℃における貯蔵弾性率差は、4〜100MPaであることが好ましく、10〜87MPaがより好ましい。上記範囲とすることで染み出す導電性接着剤をクッション材によってせき止める効果がより向上する。 Further, the storage elastic modulus of the cushion material is preferably higher than the storage elastic modulus of the conductive adhesive. The difference in storage elastic modulus between the cushion material and the conductive adhesive at 170 ° C. is preferably 4 to 100 MPa, more preferably 10 to 87 MPa. Within the above range, the effect of damming the exuding conductive adhesive with the cushion material is further improved.

[損失正接]
本実施の形態では、導電性接着剤の170℃における損失正接(tanδ)は、0.05以上0.4以下が好ましく、0.15以上0.35以下がより好ましく、0.20以上0.3以下がさらに好ましい。導電性接着剤の170℃における損失正接(tanδ)をこの範囲とすることで、導電性接着剤12の開口部への充填性を更に向上させることができる。
[Loss tangent]
In the present embodiment, the loss tangent (tan δ) of the conductive adhesive at 170 ° C. is preferably 0.05 or more and 0.4 or less, more preferably 0.15 or more and 0.35 or less, and 0.20 or more and 0. 3 or less is more preferable. By setting the loss tangent (tan δ) of the conductive adhesive at 170 ° C. within this range, the filling property of the conductive adhesive 12 into the opening can be further improved.

170℃における損失正接を0.05以上とするための手法としては、例えばバインダー樹脂の重量分子量Mwを下げる、バインダー樹脂の酸価を下げる、バインダー樹脂のガラス転移温度(Tg)を下げる、加えて常温で液状の硬化剤を添加する等が挙げられる。 As a method for setting the loss tangent at 170 ° C. to 0.05 or more, for example, the weight molecular weight Mw of the binder resin is lowered, the acid value of the binder resin is lowered, the glass transition temperature (Tg) of the binder resin is lowered, and in addition. Examples include adding a curing agent that is liquid at room temperature.

170℃における損失正接を0.40以下とするための手法としては、例えばバインダー樹脂の重量分子量Mwを上げる、バインダー樹脂の酸価を上げる、バインダー樹脂のTgを上げる、加えて常温で固形の硬化剤を添加する等が挙げられる。 As a method for reducing the loss tangent at 170 ° C. to 0.40 or less, for example, the weight molecular weight Mw of the binder resin is increased, the acid value of the binder resin is increased, the Tg of the binder resin is increased, and the solid is cured at room temperature. Addition of an agent and the like can be mentioned.

本実施の形態にかかる導電性接着剤の損失正接(tanδ)は、上述のように動的粘弾性測定装置を用いて導電性接着剤の25〜200℃の温度範囲における貯蔵弾性率(E’)、損失弾性率(E”)、および損失正接(tanδ)変化を測定し、各々の温度における損失正接(tanδ)を抽出することで求めることができる。 The loss tangent (tan δ) of the conductive adhesive according to the present embodiment is the storage elastic modulus (E') of the conductive adhesive in the temperature range of 25 to 200 ° C. using the dynamic viscoelasticity measuring device as described above. ), The loss elastic modulus (E ″), and the loss tangent (tan δ) change are measured, and the loss tangent (tan δ) at each temperature can be extracted.

[ガラス転移温度]
また、本実施の形態の導電性接着剤は、粘弾性測定により得られる温度−損失正接(tanδ)曲線において、低温側のガラス転移温度が10℃以上45℃以下、高温側のガラス転移温度が70℃以上140℃以下であることが好ましい。低温側のガラス転移温度が25℃以上40℃以下、高温側のガラス転移温度が75℃以上110℃以下であることがより好ましい。低温側のガラス転移温度が27℃以上36℃以下、高温側のガラス転移温度が78℃以上95℃以下であることがさらに好ましい。導電性接着剤のガラス転移温度をこのような範囲とすることで、導電性接着剤の密着性、開口部への充填性を更に向上させることができる。
[Glass-transition temperature]
Further, in the conductive adhesive of the present embodiment, in the temperature-loss tangent (tan δ) curve obtained by viscoelasticity measurement, the glass transition temperature on the low temperature side is 10 ° C. or higher and 45 ° C. or lower, and the glass transition temperature on the high temperature side is high. It is preferably 70 ° C. or higher and 140 ° C. or lower. It is more preferable that the glass transition temperature on the low temperature side is 25 ° C. or higher and 40 ° C. or lower, and the glass transition temperature on the high temperature side is 75 ° C. or higher and 110 ° C. or lower. It is more preferable that the glass transition temperature on the low temperature side is 27 ° C. or higher and 36 ° C. or lower, and the glass transition temperature on the high temperature side is 78 ° C. or higher and 95 ° C. or lower. By setting the glass transition temperature of the conductive adhesive in such a range, the adhesion of the conductive adhesive and the filling property to the opening can be further improved.

低温側のガラス転移温度を10℃以上45℃以下とするための手法としては、例えば、バインダー樹脂のTgをコントロールする手法、バインダー樹脂が熱硬化性樹脂である場合は硬化剤との架橋密度をコントロールする手法が挙げられる。
高温側のガラス転移温度を70℃以上140℃以下とするためには、上記と同様の手法により調整することができる。
As a method for setting the glass transition temperature on the low temperature side to 10 ° C. or higher and 45 ° C. or lower, for example, a method for controlling the Tg of the binder resin, and when the binder resin is a thermosetting resin, the crosslink density with the curing agent is used. There is a method of controlling.
In order to make the glass transition temperature on the high temperature side 70 ° C. or higher and 140 ° C. or lower, it can be adjusted by the same method as described above.

本実施の形態においてガラス転移温度は、導電性接着剤の粘弾性測定により得られる温度−損失正接(tanδ)曲線におけるピークの温度を用いて求めることができる。 In the present embodiment, the glass transition temperature can be determined by using the temperature of the peak in the temperature-loss tangent (tan δ) curve obtained by measuring the viscoelasticity of the conductive adhesive.

[膜厚]
導電性接着剤の厚さは、15〜70μmが好ましく、20〜65μmがより好ましい。厚さを15μm以上とすることで小開口ビアへの埋め込み性を向上できる。厚さを70μm以下とすることで染み出し性を抑制できる。導電性接着剤の厚さの測定方法は、接触式の膜厚計、断面観察による計測などで測定することができる。
[Film thickness]
The thickness of the conductive adhesive is preferably 15 to 70 μm, more preferably 20 to 65 μm. By setting the thickness to 15 μm or more, the embedding property in the small opening via can be improved. Exudability can be suppressed by setting the thickness to 70 μm or less. The thickness of the conductive adhesive can be measured by a contact-type film thickness meter, measurement by cross-sectional observation, or the like.

[導電性接着剤の製造方法]
積層体を構成する導電性接着剤は、例えば、導電性樹脂組成物を用い、剥離性フィルム上に導電性接着剤を形成した導電性接着シートにより製造することができる。
[Manufacturing method of conductive adhesive]
The conductive adhesive constituting the laminate can be produced, for example, by using a conductive resin composition and forming a conductive adhesive on a peelable film.

「導電性樹脂組成物」
本実施の形態にかかる導電性接着剤は、熱により軟化するバインダー樹脂、および導電性微粒子を含む導電性樹脂組成物により形成されることが好ましい。
"Conductive resin composition"
The conductive adhesive according to the present embodiment is preferably formed of a binder resin that is softened by heat and a conductive resin composition containing conductive fine particles.

熱により軟化するバインダー樹脂としては、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で特に限定されないが、熱硬化性樹脂が好ましい。また、後工程においてリフロー工程等の加熱工程が無い用途においては、熱可塑性樹脂が好ましい。熱硬化性樹脂は、自己架橋性タイプおよび硬化剤反応タイプが使用できる。硬化剤反応タイプのバインダー樹脂としては、硬化剤と反応可能な反応性官能基が結合された熱硬化性樹脂が好適である。 The binder resin that is softened by heat is not particularly limited as long as it does not deviate from the gist of the present invention, but a thermosetting resin is preferable. Further, in applications where there is no heating step such as a reflow step in the post-step, the thermoplastic resin is preferable. As the thermosetting resin, a self-crosslinking type and a curing agent reaction type can be used. As the curing agent reaction type binder resin, a thermosetting resin in which a reactive functional group capable of reacting with the curing agent is bonded is suitable.

<熱硬化性樹脂>
熱硬化性樹脂は、加熱による架橋反応に利用できる官能基を複数有する樹脂である。
官能基は、例えば、水酸基、フェノール性水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリン基、オキサジン基、アジリジン基、チオール基、イソシアネート基、ブロック化イソシアネート基、シラノール基等が挙げられる。
上記の官能基を有する熱硬化性樹脂は、例えば、アクリル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ポリエステル樹脂、縮合型ポリエステル樹脂、付加型ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、フェノール系樹脂、アルキド樹脂、アミノ樹脂、ポリ乳酸樹脂、オキサゾリン樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ポリウレタン樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、エポキシ樹脂、付加型ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂が好ましい。
<Thermosetting resin>
The thermosetting resin is a resin having a plurality of functional groups that can be used for a cross-linking reaction by heating.
Examples of the functional group include a hydroxyl group, a phenolic hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, an oxetanyl group, an oxazoline group, an oxazine group, an aziridine group, a thiol group, an isocyanate group, a blocked isocyanate group and a silanol group. ..
The thermosetting resin having the above functional groups includes, for example, acrylic resin, maleic acid resin, polybutadiene resin, polyester resin, condensed polyester resin, additive polyester resin, melamine resin, polyurethane resin, polyurethane urea resin, and epoxy resin. , Oxetane resin, phenoxy resin, polyimide resin, polyamide resin, polyamideimide resin, phenolic resin, alkyd resin, amino resin, polylactic acid resin, oxazoline resin, benzoxazine resin, silicone resin, fluororesin and the like. Among these, polyurethane resin, polyurethane urea resin, epoxy resin, additive polyester resin, polyimide resin, polyamide resin, and polyamideimide resin are preferable.

熱硬化性樹脂の重量平均分子量(Mw)は5万〜20万が好ましく、7万〜13万がより好ましい。重量平均分子量(Mw)を上記範囲とすることで導電性接着剤の170℃における貯蔵弾性率、損失正接を好適なものにできる。 The weight average molecular weight (Mw) of the thermosetting resin is preferably 50,000 to 200,000, more preferably 70,000 to 130,000. By setting the weight average molecular weight (Mw) in the above range, the storage elastic modulus and loss tangent of the conductive adhesive at 170 ° C. can be made suitable.

熱硬化性樹脂のガラス転移温度(Tg)は−20℃〜20℃が好ましく、−7℃〜150℃がより好ましい。ガラス転移温度を上記範囲とすることで導電性接着剤の25℃における貯蔵弾性率を好適なものにできる。 The glass transition temperature (Tg) of the thermosetting resin is preferably −20 ° C. to 20 ° C., more preferably −7 ° C. to 150 ° C. By setting the glass transition temperature in the above range, the storage elastic modulus of the conductive adhesive at 25 ° C. can be made suitable.

熱硬化性樹脂の酸価は1〜40mg/が好ましく、4〜15がより好ましく、6〜13がさらに好ましい。熱硬化性樹脂の酸価を上記範囲とすることで後述する硬化剤との架橋密度を最適化でき、170℃における貯蔵弾性率、損失正接を好適なものにできる。 The acid value of the thermosetting resin is preferably 1 to 40 mg /, more preferably 4 to 15, and even more preferably 6 to 13. By setting the acid value of the thermosetting resin in the above range, the crosslink density with the curing agent described later can be optimized, and the storage elastic modulus and loss tangent at 170 ° C. can be made suitable.

<硬化剤>
硬化剤は、架橋反応により導電性接着剤を形成した際に半硬化状態にするために機能し、シート形成の際には反応せず、配線板または金属補強板に熱プレスする際に反応するような硬化剤も適宜選択できる。硬化剤は、エポキシ系化合物、イソシアネート系硬化剤、アミン系硬化剤、アジリジン系硬化剤、イミダゾール系硬化剤が挙げられる。
<Hardener>
The curing agent functions to make a semi-curing state when a conductive adhesive is formed by a cross-linking reaction, does not react when forming a sheet, but reacts when heat-pressing a wiring plate or a metal reinforcing plate. Such a curing agent can be appropriately selected. Examples of the curing agent include epoxy-based compounds, isocyanate-based curing agents, amine-based curing agents, aziridine-based curing agents, and imidazole-based curing agents.

エポキシ化合物としては、例えば、グリジシルエーテル型エポキシ化合物、グリジシルアミン型エポキシ化合物、グリシジルエステル型エポキシ化合物、環状脂肪族(脂環型)エポキシ化合物等が好ましい。 As the epoxy compound, for example, a glycisyl ether type epoxy compound, a glycisyl amine type epoxy compound, a glycidyl ester type epoxy compound, a cyclic aliphatic (alicyclic) epoxy compound and the like are preferable.

前記グリシジルエーテル型エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールF型エポキシ化合物、ビスフェノールS型エポキシ化合物、ビスフェノールAD型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、α−ナフトールノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールA型ノボラック型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物、テトラブロムビスフェノールA型エポキシ化合物、臭素化フェノールノボラック型エポキシ化合物、トリス(グリシジルオキシフェニル)メタン、テトラキス(グリシジルオキシフェニル)エタン等が挙げられる。 Examples of the glycidyl ether type epoxy compound include bisphenol A type epoxy compound, bisphenol F type epoxy compound, bisphenol S type epoxy compound, bisphenol AD type epoxy compound, cresol novolac type epoxy compound, phenol novolac type epoxy compound, and α-naphthol. Novolak type epoxy compound, bisphenol A type novolak type epoxy compound, dicyclopentadiene type epoxy compound, tetrabrom bisphenol A type epoxy compound, brominated phenol novolac type epoxy compound, tris (glycidyloxyphenyl) methane, tetrakis (glycidyloxyphenyl) Epoxy and the like can be mentioned.

前記グリシジルアミン型エポキシ化合物としては、例えば、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルパラアミノフェノール、トリグリシジルメタアミノフェノール、テトラグリシジルメタキシリレンジアミン等が挙げられる。 Examples of the glycidylamine type epoxy compound include tetraglycidyldiaminodiphenylmethane, triglycidylparaaminophenol, triglycidylmethaminophenol, tetraglycidylmethoxylylenediamine and the like.

前記グリシジルエステル型エポキシ化合物としては、例えば、ジグリシジルフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート等が挙げられる。 Examples of the glycidyl ester type epoxy compound include diglycidyl phthalate, diglycidyl hexahydrophthalate, and diglycidyl tetrahydrophthalate.

前記環状脂肪族(脂環型)エポキシ化合物としては、例えば、エポキシシクロヘキシルメチル−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(エポキシシクロヘキシル)アジペート等が挙げられる。 Examples of the cyclic aliphatic (alicyclic) epoxy compound include epoxycyclohexylmethyl-epoxycyclohexanecarboxylate and bis (epoxycyclohexyl) adipate.

イソシアネート系硬化剤は、例えばトリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジシクロへキシルメタンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられる。 Examples of the isocyanate-based curing agent include tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, 1,5-naphthalenediocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, and trimethylhexamethylene diisocyanate. Can be mentioned.

アミン系硬化剤は、例えばジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、メチレンビス(2−クロロアニリン)、メチレンビス(2−メチル−6−メチルアニリン)、1,5−ナフタレンジイソシアネート、n−ブチルベンジルフタル酸等が挙げられる。 Examples of the amine-based curing agent include diethylenetriamine, triethylenetetramine, methylenebis (2-chloroaniline), methylenebis (2-methyl-6-methylaniline), 1,5-naphthalenediisocyanate, n-butylbenzylphthalic acid and the like. ..

アジリジン系硬化剤は、例えばトリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、テトラメチロールメタン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、N,N’−ジフェニルメタン−4,4’−ビス(1−アジリジンカルボキシアミド)、N,N’−ヘキサメチレン−1,6−ビス(1−アジリジンカルボキシアミド)等が挙げられる。 Aziridine-based curing agents include, for example, trimethylolpropane-tri-β-aziridinyl propionate, tetramethylolmethane-tri-β-aziridinyl propionate, N, N'-diphenylmethane-4,4'-bis. (1-Aziridinecarboxamide), N, N'-hexamethylene-1,6-bis (1-aziridinecarboxamide) and the like can be mentioned.

イミダゾール系硬化剤は、例えば2−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイトなどが挙げられる。 Examples of the imidazole-based curing agent include 2-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimerite and the like.

硬化剤は、熱硬化性樹脂100重量部に対し、0.3〜80重量部を配合することが好ましく、1〜50重量部がより好ましい。硬化剤の添加量を0.3〜80重量部とすることで、導電性接着剤の架橋密度を最適なものにし、170℃における貯蔵弾性率を2MPa以上50MPa以下の範囲とすることができる。また、硬化剤の添加量を0.3〜80重量部とすることで、半硬化後に導電性接着シートを流動しにくくできるためブロッキングが抑制しやすくなる。 The curing agent is preferably blended with 0.3 to 80 parts by weight, more preferably 1 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the thermosetting resin. By setting the addition amount of the curing agent to 0.3 to 80 parts by weight, the crosslink density of the conductive adhesive can be optimized, and the storage elastic modulus at 170 ° C. can be in the range of 2 MPa or more and 50 MPa or less. Further, by setting the addition amount of the curing agent to 0.3 to 80 parts by weight, the conductive adhesive sheet can be made difficult to flow after semi-curing, so that blocking can be easily suppressed.

<熱可塑性樹脂>
本実施の形態では熱可塑性樹脂を併用してもよい。
熱可塑性樹脂としては、前記硬化性官能基を有しないポリオレフィン系樹脂、ビニル系樹脂、スチレン・アクリル系樹脂、ジエン系樹脂、テルペン樹脂、石油樹脂、セルロース系樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素樹脂などが挙げられる。
<Thermoplastic resin>
In this embodiment, a thermoplastic resin may be used in combination.
Examples of the thermoplastic resin include polyolefin resins, vinyl resins, styrene / acrylic resins, diene resins, terpene resins, petroleum resins, cellulose resins, polyamide resins, polyurethane resins, and polyester resins that do not have the curable functional group. , Polycarbonate resin, polyimide resin, fluororesin and the like.

ポリオレフィン系樹脂は、エチレン、プロピレン、α−オレフィン化合物などのホモポリマーまたはコポリマーが好ましい。具体的には、例えば、ポリエチレンプロピレンゴム、オレフィン系熱可塑性エラストマー、α−オレフィンポリマー等が挙げられる。 The polyolefin-based resin is preferably a homopolymer or copolymer such as ethylene, propylene, or α-olefin compound. Specific examples thereof include polyethylene propylene rubber, olefin-based thermoplastic elastomers, and α-olefin polymers.

ビニル系樹脂は、酢酸ビニルなどのビニルエステルの重合により得られるポリマーおよびビニルエステルとエチレンなどのオレフィン化合物とのコポリマーが好ましい。具体的には、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、部分ケン化ポリビニルアルコール等が挙げられる。 As the vinyl resin, a polymer obtained by polymerizing a vinyl ester such as vinyl acetate and a copolymer of a vinyl ester and an olefin compound such as ethylene are preferable. Specific examples thereof include ethylene-vinyl acetate copolymers and partially saponified polyvinyl alcohols.

スチレン・アクリル系樹脂は、スチレンや(メタ)アクリロニトリル、アクリルアミド類、(メタ)アクリル酸エステル、マレイミド類などからなるホモポリマーまたはコポリマーが好ましい。具体的には、例えば、シンジオタクチックポリスチレン、ポリアクリロニトリル、アクリルコポリマー、エチレン−メタクリル酸メチル共重合体等が挙げられる。
ジエン系樹脂は、ブタジエンやイソプレン等の共役ジエン化合物のホモポリマーまたはコポリマーおよびそれらの水素添加物が好ましい。具体的には、例えば、スチレン−ブタジエンゴム、スチレン−イソプレンブロックコポリマー等が挙げられる。テルペン樹脂は、テルペン類からなるポリマーまたはその水素添加物が好ましい。具体的には、例えば、芳香族変性テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、水添テルペン樹脂が挙げられる。
The styrene / acrylic resin is preferably a homopolymer or copolymer composed of styrene, (meth) acrylonitrile, acrylamides, (meth) acrylic acid esters, maleimides and the like. Specific examples thereof include syndiotactic polystyrene, polyacrylonitrile, acrylic copolymers, ethylene-methyl methacrylate copolymers and the like.
The diene-based resin is preferably a homopolymer or copolymer of a conjugated diene compound such as butadiene or isoprene, and a hydrogenated additive thereof. Specific examples thereof include styrene-butadiene rubber and styrene-isoprene block copolymers. The terpene resin is preferably a polymer composed of terpenes or a hydrogenated product thereof. Specific examples thereof include aromatic-modified terpene resin, terpene phenol resin, and hydrogenated terpene resin.

石油系樹脂は、ジシクロペンタジエン型石油樹脂、水添石油樹脂が好ましい。セルロース系樹脂は、セルロースアセテートブチレート樹脂が好ましい。ポリカーボネート樹脂は、ビスフェノールAポリカーボネートが好ましい。ポリイミド系樹脂は、熱可塑性ポリイミド、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミック酸型ポリイミド樹脂が好ましい。 The petroleum-based resin is preferably a dicyclopentadiene type petroleum resin or a hydrogenated petroleum resin. The cellulosic resin is preferably a cellulose acetate butyrate resin. The polycarbonate resin is preferably bisphenol A polycarbonate. The polyimide-based resin is preferably a thermoplastic polyimide, a polyamide-imide resin, or a polyamic acid type polyimide resin.

<導電性微粒子>
導電性微粒子は、金、白金、銀、銅およびニッケル等の導電性金属、およびその合金、ならびに導電性ポリマーの微粒子が好ましい。また単一組成の微粒子ではなく金属や樹脂を核体とし、前記核体の表面を被覆する被覆層を核体よりも導電性が高い素材で形成した複合微粒子がコストダウンの観点から好ましい。
核体は、価格が安いニッケル、シリカ、銅およびその合金、ならびに樹脂から適宜選択することが好ましい。
被覆層は、導電性を有する素材であればよく、導電性金属または導電性ポリマーが好ましい。導電性金属は、例えば、金、白金、銀、錫、マンガン、およびインジウム等、ならびにその合金が挙げられる。また導電性ポリマーは、ポリアニリン、ポリアセチレン等が挙げられる。これらの中でも導電性の面から銀が好ましい。
導電性微粒子は、単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。
<Conductive fine particles>
As the conductive fine particles, conductive metals such as gold, platinum, silver, copper and nickel, alloys thereof, and fine particles of a conductive polymer are preferable. Further, a composite fine particle in which a metal or resin is used as a nucleolus instead of a fine particle having a single composition and a coating layer covering the surface of the nucleolus is formed of a material having higher conductivity than the nucleolus is preferable from the viewpoint of cost reduction.
The nucleolus is preferably selected from cheap nickel, silica, copper and alloys thereof, and resins as appropriate.
The coating layer may be any material having conductivity, and a conductive metal or a conductive polymer is preferable. Examples of the conductive metal include gold, platinum, silver, tin, manganese, indium and the like, and alloys thereof. Examples of the conductive polymer include polyaniline and polyacetylene. Among these, silver is preferable from the viewpoint of conductivity.
The conductive fine particles may be used alone or in combination of two or more.

複合微粒子は、核体100重量部に対して、1〜40重量部の割合で被覆層を有することが好ましく、5〜30重量部がより好ましい。1〜40重量部で被覆すると、導電性を維持しながら、よりコストダウンができる。なお複合微粒子は、被覆層が核体を完全に覆うことが好ましい。しかし、実際には、核体の一部が露出する場合がある。このような場合でも核体表面面積の70%以上を導電性微粒子が覆っていれば、導電性を維持しやすい。 The composite fine particles preferably have a coating layer at a ratio of 1 to 40 parts by weight, more preferably 5 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the nucleus. When coated with 1 to 40 parts by weight, the cost can be further reduced while maintaining the conductivity. In the composite fine particles, it is preferable that the coating layer completely covers the nucleolus. However, in reality, a part of the nucleolus may be exposed. Even in such a case, if the conductive fine particles cover 70% or more of the surface area of the nucleus, the conductivity can be easily maintained.

導電性微粒子の形状は、所望の導電性が得られればよく形状は限定されない。具体的には、例えば、球状、フレーク状、葉状、樹枝状、プレート状、針状、棒状、ブドウ状が好ましい。なお、金属補強板と配線板との間の縦方向の導通パスを効率的に形成するために、球状および樹枝状がより好ましい。 The shape of the conductive fine particles is not limited as long as the desired conductivity can be obtained. Specifically, for example, spherical, flake-shaped, leaf-shaped, dendritic-shaped, plate-shaped, needle-shaped, rod-shaped, and grape-shaped are preferable. Spherical and dendritic shapes are more preferable in order to efficiently form a longitudinal conduction path between the metal reinforcing plate and the wiring plate.

導電性微粒子の平均粒子径は、D50平均粒子径が、1〜120μmであることが好ましく、5〜60μmがより好ましい。D50平均粒子径がこの範囲にあることでブロッキングが起こることを抑制することができる。なお、D50平均粒子径は、レーザー回折・散乱法粒度分布測定装置によって求めることができる。例えば、剥離性フィルム上に導電性接着剤を有する導電性接着シートは、ロール状に巻き取られた状態で運搬等される。ブロッキングとは、このロール状の導電性接着シートから、導電性接着シートを巻き出す際に、導電性接着シートが剥離性フィルムの裏面に付着する現象のことである。 The average particle diameter of the conductive fine particles, D 50 average particle diameter is preferably 1~120Myuemu, 5 to 60 m is more preferable. D 50 average particle size can be prevented that the blocking takes place by in this range. Incidentally, D 50 average particle size can be determined by laser diffraction scattering method particle size distribution measuring apparatus. For example, a conductive adhesive sheet having a conductive adhesive on a peelable film is transported in a rolled state. Blocking is a phenomenon in which the conductive adhesive sheet adheres to the back surface of the peelable film when the conductive adhesive sheet is unwound from the roll-shaped conductive adhesive sheet.

導電性微粒子の添加量は、導電性接着剤中30〜90重量%が好ましく、40〜80重量%がより好ましい。上記添加量とすることで170℃における各貯蔵弾性率を好適な範囲とすることができる。 The amount of the conductive fine particles added is preferably 30 to 90% by weight, more preferably 40 to 80% by weight in the conductive adhesive. By setting the addition amount as described above, each storage elastic modulus at 170 ° C. can be set in a suitable range.

本実施の形態における導電性樹脂組成物は、他の任意成分として溶剤、耐熱安定剤、無機フィラー、顔料、染料、粘着付与樹脂、可塑剤、シランカップリング剤、紫外線吸収剤、消泡剤、レベリング調整剤等を配合することができる。 The conductive resin composition according to the present embodiment has a solvent, a heat-resistant stabilizer, an inorganic filler, a pigment, a dye, a tackifier resin, a plasticizer, a silane coupling agent, an ultraviolet absorber, an antifoaming agent, and other optional components. A leveling adjuster or the like can be blended.

無機フィラーとしては、例えば、シリカ、アルミナ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、三酸化アンチモン、酸化マグネシウム、タルク、モンモロリナイト、カオリン、ベントナイト等が挙げられる。当該導電性接着層が無機フィラーを含有することで、硬化前の貯蔵弾性率を制御し最適なフロー量にコントロールすることができる。 Examples of the inorganic filler include silica, alumina, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, barium sulfate, calcium carbonate, titanium oxide, zinc oxide, antimony trioxide, magnesium oxide, talc, montmorolinite, kaolin, bentonite and the like. Be done. Since the conductive adhesive layer contains an inorganic filler, the storage elastic modulus before curing can be controlled to control the optimum flow amount.

導電性樹脂組成物は、前記の各成分を混合し攪拌して得ることができる。攪拌は、公知の攪拌装置を使用できる、ディスパーマットが一般的であるが、ホモジナイザーも好ましい。 The conductive resin composition can be obtained by mixing and stirring each of the above components. For stirring, a dispermat that can use a known stirring device is generally used, but a homogenizer is also preferable.

前記導電性樹脂組成物を剥離性フィルムの剥離面に、例えばナイフコート、ダイコート、リップコート、ロールコート、カーテンコート、バーコート、グラビアコート、フレキソコート、ディップコート、スプレーコート、およびスピンコート等の方法で塗工し、通常40〜20℃の温度に加熱することで溶剤などの揮発成分を取り除き、導電性接着剤層を有する導電性接着シートを形成できる。 The conductive resin composition is applied to the peeling surface of the peelable film, for example, knife coat, die coat, lip coat, roll coat, curtain coat, bar coat, gravure coat, flexo coat, dip coat, spray coat, spin coat and the like. By coating by a method and heating to a temperature of usually 40 to 20 ° C., volatile components such as a solvent can be removed to form a conductive adhesive sheet having a conductive adhesive layer.

「剥離性フィルム」
剥離性フィルムは、片面あるいは両面に離型処理をしたフィルムであれば制限なく使用することができる。
剥離性フィルムの基材の一例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、硬質ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ナイロン、ポリイミド、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、エチレン・ビニルアルコール共重合体、ポリカーボネート、ポリアクリロニトリル、ポリブテン、軟質ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリウレタン、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル等のプラスチックシート等、グラシン紙、上質紙、クラフト紙、コート紙等の紙類、各種の不織布、合成紙、金属箔や、これらを組み合わせた複合フィルムなどが挙げられる。
"Removable film"
The peelable film can be used without limitation as long as it is a film that has been mold-released on one side or both sides.
As an example of the base material of the peelable film, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, rigid polyvinylidene chloride, polyvinylidene chloride, nylon, polyimide, polystyrene, polyvinyl alcohol, ethylene / vinyl alcohol co-weight. Combined, polycarbonate, polyacrylonitrile, polybutene, soft polyvinyl chloride, polyvinylidene fluoride, polyethylene, polypropylene, polyurethane, ethylene vinyl acetate copolymer, plastic sheets such as polyvinyl acetate, glassin paper, fine paper, kraft paper, coat Examples thereof include papers such as paper, various non-woven fabrics, synthetic papers, metal foils, and composite films combining these.

剥離性フィルムの表面は必要に応じてマット処理することができる。マット処理はサンドマット、エッチングマット、コーティングマット、ケミカルマット、練り込みマットなどが挙げられる。 The surface of the peelable film can be matted if necessary. Examples of the mat treatment include sand mats, etching mats, coating mats, chemical mats, and kneading mats.

剥離性フィルムは、基材に離型剤を塗布して得る事ができる。離型剤としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等の炭化水素系樹脂、高級脂肪酸及びその金属塩、高級脂肪酸石鹸、ワックス、動植物油脂、マイカ、タルク、シリコーン系界面活性剤、シリコーンオイル、シリコーン樹脂、フッ素系界面活性剤、フッ素樹脂、フッ素含有シリコーン樹脂、メラミン系樹脂、アクリル系樹脂などが用いられる。離型剤の塗布方法としては、従来公知の方式、例えば、グラビアコート方式、キスコート方式、ダイコート方式、リップコート方式、コンマコート方式、ブレードコート方式、ロールコート方式、ナイフコート方式、スプレーコート方式、バーコート方式、スピンコート方式、ディップコート方式等により行うことができる。 The peelable film can be obtained by applying a release agent to the base material. Release agents include hydrocarbon resins such as polyethylene and polypropylene, higher fatty acids and their metal salts, higher fatty acid soaps, waxes, animal and vegetable fats and oils, mica, talc, silicone-based surfactants, silicone oils, silicone resins, and fluororesins. Surface active agents, fluororesins, fluorosilicone resins, melamine resins, acrylic resins and the like are used. Conventionally known methods for applying the release agent include, for example, a gravure coating method, a kiss coating method, a die coating method, a lip coating method, a comma coating method, a blade coating method, a roll coating method, a knife coating method, and a spray coating method. It can be performed by a bar coat method, a spin coat method, a dip coat method, or the like.

<プリント配線板>
プリント配線板は、基材上に、グランド回路を含む回路パターンと前記回路パターンを絶縁保護し、開口部を有する絶縁保護膜を備える。グランド回路を含む回路パターンは銅をエッチングして形成されることが一般的である。絶縁保護膜はポリイミドフィルムと絶縁性接着剤からなるポリイミドカバーレイまたは、レジストフィルム、ソルダーレジストによって形成することが好ましい。グランド回路上の開口部を形成する方法としてドリル加工、エッチング加工、レーザー加工が好ましい。開口部の面積および形状等については後述する。
<Printed circuit board>
The printed wiring board includes a circuit pattern including a ground circuit and an insulating protective film that insulates and protects the circuit pattern and has an opening on the base material. The circuit pattern including the ground circuit is generally formed by etching copper. The insulating protective film is preferably formed of a polyimide coverlay made of a polyimide film and an insulating adhesive, a resist film, or a solder resist. Drilling, etching, and laser machining are preferred as methods for forming openings on the ground circuit. The area and shape of the opening will be described later.

《金属補強板付きプリント配線板》
本実施の形態にかかる金属補強板付きプリント配線板30(図3参照)は、基板21上にグランド回路25が配置されており、当該グランド回路25の一部が、回路パターンを絶縁保護する絶縁保護膜(絶縁性フィルム22および絶縁性接着剤23)に設けられた開口部27を介して、露出しているグランド回路25と当該配線板20上に配置され、上述の導電性接着剤を用いて構成された導電性接着剤層12と、導電性接着剤層12上に配置され、導電性接着剤層12を介して配線板20と接着されている金属補強板14と、を備える。本実施の形態にかかる金属補強板付きプリント配線板30は、導電性接着剤層12の一部が開口部27に充填されることで、グランド回路25と金属補強板14とが導電性接着剤層12を介して電気的に接続されている。配線板20には更に信号配線24が設けられていてもよい。
《Printed wiring board with metal reinforcing plate》
In the printed wiring board 30 with a metal reinforcing plate (see FIG. 3) according to the present embodiment, a ground circuit 25 is arranged on the substrate 21, and a part of the ground circuit 25 is insulated to insulate and protect the circuit pattern. It is arranged on the exposed ground circuit 25 and the wiring board 20 through the opening 27 provided in the protective film (insulating film 22 and insulating adhesive 23), and the above-mentioned conductive adhesive is used. It is provided with a conductive adhesive layer 12 composed of the above, and a metal reinforcing plate 14 arranged on the conductive adhesive layer 12 and adhered to the wiring board 20 via the conductive adhesive layer 12. In the printed wiring board 30 with a metal reinforcing plate according to the present embodiment, the ground circuit 25 and the metal reinforcing plate 14 are made of a conductive adhesive by filling the opening 27 with a part of the conductive adhesive layer 12. It is electrically connected via the layer 12. The wiring board 20 may be further provided with a signal wiring 24.

金属補強板付きプリント配線板20の開口部27(図3参照)の面積は、特に制限されないが、0.16mm以上0.81mm以下としてもよい。開口部27の面積を0.16mm以上とすることで、開口部27への導電性接着剤12の充填性を良好にすることができる。また、開口部27の面積を0.81mm以下とすることで、金属補強板付きプリント配線板20に占める開口部27の面積を小さくすることができる。開口部27の面積は、好ましくは0.25mm以上0.64mm以下、更に好ましくは0.36mm以上0.49mm以下としてもよい。開口部27の面積がこの範囲である場合、開口部27への導電性接着剤12の充填性を良好にすることができ、導電性接着剤12とグランド回路25との接触抵抗を低くすることができる。
本発明の金属補強板付きプリント配線板の製造方法により、開口部の面積が小さい場合にも、充分に導電性接着剤の充填が可能であり、埋め込み性が良好な金属補強板付きプリント配線板とすることができる。
Area of the opening 27 of the metal reinforcing plate with printed wiring board 20 (see FIG. 3) is not particularly limited, may be 0.16 mm 2 or more 0.81 mm 2 or less. By setting the area of the opening 27 to 0.16 mm 2 or more, the filling property of the conductive adhesive 12 into the opening 27 can be improved. Further, by setting the area of the opening 27 to 0.81 mm 2 or less, the area of the opening 27 occupying the printed wiring board 20 with the metal reinforcing plate can be reduced. Area of the opening 27 is preferably 0.25 mm 2 or more 0.64 mm 2 or less, more preferably it may be 0.36 mm 2 or more 0.49 mm 2 or less. When the area of the opening 27 is within this range, the filling property of the conductive adhesive 12 in the opening 27 can be improved, and the contact resistance between the conductive adhesive 12 and the ground circuit 25 can be lowered. Can be done.
According to the method for manufacturing a printed wiring board with a metal reinforcing plate of the present invention, even when the area of the opening is small, the conductive adhesive can be sufficiently filled and the printed wiring board with a metal reinforcing plate has good embedding property. Can be.

平面視した際の開口部27の形状は、矩形状(図6Aの開口部27b参照)であってもよく、円形状(図6Aの開口部27a参照)であってもよい。開口部27の形状が矩形状である場合は、矩形状の開口部の四隅に導電性接着剤を充填することが特に困難になり、四隅に図5に示すような隙間29bが形成されやすい。しかしながら、上述した特性を有する本実施の形態にかかる導電性接着剤を用いることで、矩形状の開口部であっても導電性接着剤を開口部内に良好に充填することができる。 The shape of the opening 27 when viewed in a plan view may be rectangular (see opening 27b in FIG. 6A) or circular (see opening 27a in FIG. 6A). When the shape of the opening 27 is rectangular, it is particularly difficult to fill the four corners of the rectangular opening with the conductive adhesive, and gaps 29b as shown in FIG. 5 are likely to be formed at the four corners. However, by using the conductive adhesive according to the present embodiment having the above-mentioned characteristics, the conductive adhesive can be satisfactorily filled in the opening even if the opening is rectangular.

また、図6Aに示す開口部27cのように、配線板20の外周の一部に開口部27cが形成されている場合(図6Aに示す例では、配線板20の角部に開口部27cが形成されている)は、開口部27cの外側に導電性接着剤の流動を堰き止める壁が設けられていない状態となっている。この場合は、図6Bに示すように、導電性接着剤12を用いて配線板20に金属補強板14を接着した際に、開口部27cの外側に向かって導電性接着剤12aが染み出してしまうという問題があった。 Further, when the opening 27c is formed in a part of the outer periphery of the wiring board 20 as in the opening 27c shown in FIG. 6A (in the example shown in FIG. 6A, the opening 27c is formed at the corner of the wiring board 20. The formed) is in a state in which a wall for blocking the flow of the conductive adhesive is not provided on the outside of the opening 27c. In this case, as shown in FIG. 6B, when the metal reinforcing plate 14 is adhered to the wiring plate 20 using the conductive adhesive 12, the conductive adhesive 12a seeps out toward the outside of the opening 27c. There was a problem that it would end up.

これに対して本実施の形態では、熱プレス時に、上述した特性を備えるクッション材/金属補強板/導電性接着剤からなる積層体を用いることができるので、配線板20と金属補強板14とを接着した際に、端部の開口部27cから導電性接着剤が染み出すことを抑制することができる(もしくは染み出し量を少なくすることができる)。 On the other hand, in the present embodiment, since a laminate made of a cushioning material / metal reinforcing plate / conductive adhesive having the above-mentioned characteristics can be used at the time of hot pressing, the wiring plate 20 and the metal reinforcing plate 14 are used. It is possible to prevent the conductive adhesive from seeping out from the opening 27c at the end (or to reduce the amount of seepage) when the adhesive is adhered.

このような金属補強板付きプリント配線板は、例えば、携帯電話、スマートフォン、ノートPC、デジタルカメラ、液晶ディスプレイ等の電子機器に搭載することができる。また、自動車、電車、船舶、航空機等の輸送機器にも好適に搭載できる。 Such a printed wiring board with a metal reinforcing plate can be mounted on an electronic device such as a mobile phone, a smartphone, a notebook PC, a digital camera, or a liquid crystal display. Further, it can be suitably mounted on transportation equipment such as automobiles, trains, ships, and aircraft.

以下、実施例、比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。また、実施例中の「部」は重量部を意味し、「%」は重量%を意味ものとする。
また、表中の配合量は、重量部であり、溶剤以外は、不揮発分換算値である。尚、表中の空欄は配合していないことを表す。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples. Further, in the examples, "part" means a part by weight, and "%" means% by weight.
The blending amount in the table is a part by weight, and is a non-volatile content conversion value except for the solvent. The blanks in the table indicate that they are not mixed.

[重量平均分子量(Mw)]
重量平均分子量(Mw)は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)測定で求めたポリスチレン換算の数値である。測定条件は、以下のとおりである。
装置:Shodex GPC System−21(昭和電工製)
カラム:1本のShodex KF−802(昭和電工製)と、1本のShodex KF−803L(昭和電工製)と、1本のShodex KF−805L(昭和電工製)とを直列に連結した連結カラム
溶媒:テトラヒドロフラン
流速:1.0mL/min
温度:40℃
試料濃度:0.2%
試料注入量:100μL
[酸価]
JIS K 0070の電位差滴定法に準拠し、測定した酸価(mgKOH/g)を固形分換算することで求めた。
[ガラス転移温度(Tg)]
ガラス転移温度の測定は、示差走査熱量計(型番:DSC−1、メトラー・トレド製)を用いて測定した。
[貯蔵弾性率]および[損失正接tanδ]
動的弾性率測定装置(型番:DVA−200、アイティー計測制御製)を用い、導電性接着剤に対して変形様式「引張り」、周波数10Hz、昇温速度10℃/分、測定温度範囲−50〜300℃の条件下において170℃における貯蔵弾性率E’、損失正接tanδの第1ピーク温度および第2ピーク温度、並びに170℃における損失正接tanδを測定した。
[Weight average molecular weight (Mw)]
The weight average molecular weight (Mw) is a polystyrene-equivalent value obtained by GPC (gel permeation chromatography) measurement. The measurement conditions are as follows.
Equipment: Shodex GPC System-21 (manufactured by Showa Denko)
Column: A connecting column in which one Shodex KF-802 (manufactured by Showa Denko), one Shodex KF-803L (manufactured by Showa Denko), and one Shodex KF-805L (manufactured by Showa Denko) are connected in series. Solvent: tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL / min
Temperature: 40 ° C
Sample concentration: 0.2%
Sample injection volume: 100 μL
[Acid value]
It was determined by converting the measured acid value (mgKOH / g) into solid content in accordance with the potentiometric titration method of JIS K 0070.
[Glass transition temperature (Tg)]
The glass transition temperature was measured using a differential scanning calorimeter (model number: DSC-1, manufactured by METTLER TOLEDO).
[Storage modulus] and [Loss tangent tan δ]
Using a dynamic elastic modulus measuring device (model number: DVA-200, manufactured by IT Measurement Control), the deformation mode "tension" for the conductive adhesive, frequency 10 Hz, temperature rise rate 10 ° C / min, measurement temperature range- Under the conditions of 50 to 300 ° C., the storage elastic modulus E'at 170 ° C., the first peak temperature and the second peak temperature of the loss tangent tan δ, and the loss tangent tan δ at 170 ° C. were measured.

<導電性樹脂組成物、クッション材、および金属補強板>
実施例および比較例において使用した各積層体および金属補強板付きプリント配線板の作製に用いる導電性樹脂組成物の各材料、クッション材、金属補強板を以下に示す。なお、表1にバインダー樹脂のMw、酸価およびTgを示す。
<Conductive resin composition, cushioning material, and metal reinforcing plate>
The materials, cushioning materials, and metal reinforcing plates of the conductive resin composition used for producing the laminated body and the printed wiring board with the metal reinforcing plate used in Examples and Comparative Examples are shown below. Table 1 shows the Mw, acid value and Tg of the binder resin.

[バインダー樹脂]
バインダー樹脂(a−1〜6):ポリウレタン系樹脂(トーヨーケム製)
[Binder resin]
Binder resin (a-1 to 6): Polyurethane resin (manufactured by Toyochem)

Figure 0006922968
Figure 0006922968

[導電性微粒子(導電性フィラー)]
b−1:銀コート銅粒子、D50平均粒子径=12μm、核体:樹枝状(福田金属製)
[硬化剤]
c−1:ビスフェノールA型エポキシ樹脂:エポキシ当量189g/eq(jER1001、三菱ケミカル製)
[硬化促進剤]
d−1:アジリジン化合物(トリメチロールプロパントリス〔β−(N−アジリジニル)プロピオネート〕、日本触媒製)
[その他の成分]
e−1:シリカ(AEROSIL R974、日本アエロジル製)
[溶媒]
f−1:トルエン:イソプロピルアルコール(質量比=2:1)の混合溶媒
[クッション材]
g−1:ポリエチレンテレフタレート(厚み25μm、170℃貯蔵弾性率470MPa)
g−2:ポリブチレンテレフタレート(厚み50μm、170℃貯蔵弾性率89MPa)
g−3:ポリメチルペンテン(厚み50μm、170℃貯蔵弾性率62MPa)
g−4:スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロックコポリマー(厚み120μm、170℃貯蔵弾性率32MPa)
g−5:スチレン−ブタジエン−スチレンブロックコポリマー(厚み120μm、170℃貯蔵弾性率51MPa)
g−6:エチレン−メタクリル酸グリシジル共重合体(厚み150μm、170℃貯蔵弾性率23MPa)
g−7:軟質塩化ビニル(厚み75μm、170℃貯蔵弾性率1MPa)
[金属補強板]
h-1:両表面に厚さ2μmのニッケル層を形成した総厚200μmのSUS304
h-2:両表面に厚さ2μmのニッケル層を形成した総厚150μmのSUS304
h-3:両表面に厚さ2μmのニッケル層を形成した総厚100μmのSUS304
h-4:両表面に厚さ2μmのニッケル層を形成した総厚75μmのSUS304
[プリント配線板]
プリント配線板1:プリント配線板1は、厚み75μmのポリイミドフィルムの両面それぞれに厚み32μmの銅箔回路が形成され、銅箔回路上には、一辺が0.7mmの正方形であって開口面積が0.49mmのスルーホール(開口部)を有する厚み37.5μmの接着剤付き絶縁性カバーフィルムが積層されている。また、もう一方の銅箔回路上にはスルーホールを有さない接着剤付きの厚み37.5μmの絶縁性のカバーフィルムが積層されたものである(プリント配線板が反らないように、ポリイミドフィルムに対して銅箔回路およびカバーフィルムを対称に配置した)。
プリント配線板2:一辺が0.4mmの正方形であってスルーホール(開口部)の開口面積が0.16mmである以外は、プリント配線板1と同様の構成を有するプリント配線板である。
プリント配線板3:一辺が0.2mmの正方形であってスルーホール(開口部)の開口面積を0.04mmである以外は、プリント配線板1と同様の構成を有するプリント配線板である。
[Conductive fine particles (conductive filler)]
b-1: silver-coated copper particles, D 50 average particle size = 12 [mu] m, karyoplast: dendritic (manufactured by Fukuda Metal)
[Curing agent]
c-1: Bisphenol A type epoxy resin: Epoxy equivalent 189 g / eq (jER1001, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
[Curing accelerator]
d-1: Aziridine compound (trimethylolpropane tris [β- (N-aziridinyl) propionate], manufactured by Nippon Shokubai)
[Other ingredients]
e-1: Silica (AEROSIL R974, manufactured by Aerosil Japan)
[solvent]
f-1: Toluene: Isopropyl alcohol (mass ratio = 2: 1) mixed solvent [cushion material]
g-1: Polyethylene terephthalate (thickness 25 μm, storage elastic modulus at 170 ° C. 470 MPa)
g-2: Polybutylene terephthalate (thickness 50 μm, 170 ° C storage elastic modulus 89 MPa)
g-3: Polymethylpentene (thickness 50 μm, 170 ° C storage elastic modulus 62 MPa)
g-4: Styrene-ethylene-butylene-styrene block copolymer (thickness 120 μm, 170 ° C storage elastic modulus 32 MPa)
g-5: Styrene-butadiene-styrene block copolymer (thickness 120 μm, 170 ° C storage elastic modulus 51 MPa)
g-6: Ethylene-glycidyl methacrylate copolymer (thickness 150 μm, 170 ° C storage elastic modulus 23 MPa)
g-7: Soft vinyl chloride (thickness 75 μm, storage elastic modulus at 170 ° C. 1 MPa)
[Metal reinforcement plate]
h-1: SUS304 with a total thickness of 200 μm in which nickel layers with a thickness of 2 μm are formed on both surfaces.
h-2: SUS304 with a total thickness of 150 μm in which nickel layers with a thickness of 2 μm are formed on both surfaces.
h-3: SUS304 having a total thickness of 100 μm in which nickel layers having a thickness of 2 μm are formed on both surfaces.
h-4: SUS304 with a total thickness of 75 μm in which nickel layers with a thickness of 2 μm are formed on both surfaces.
[Printed circuit board]
Printed wiring board 1: In the printed wiring board 1, a copper foil circuit having a thickness of 32 μm is formed on both sides of a polyimide film having a thickness of 75 μm, and the copper foil circuit has a square shape with a side of 0.7 mm and an opening area. An insulating cover film with an adhesive having a thickness of 37.5 μm and having a through hole (opening) of 0.49 mm 2 is laminated. Further, an insulating cover film having a thickness of 37.5 μm with an adhesive having no through hole is laminated on the other copper foil circuit (polyimide so that the printed wiring board does not warp). The copper foil circuit and cover film were arranged symmetrically with respect to the film).
Printed wiring board 2: A printed wiring board having the same configuration as the printed wiring board 1 except that it is a square having a side of 0.4 mm and the opening area of the through hole (opening) is 0.16 mm 2.
Printed wiring board 3: A printed wiring board having the same configuration as the printed wiring board 1 except that it is a square having a side of 0.2 mm and the opening area of the through hole (opening) is 0.04 mm 2.

参考例1
バインダー樹脂(a−1)100重量部、および導電性微粒子(b−1)250重量部を容器に仕込み、不揮発分濃度が40重量%となるように溶媒(f−1)を加えて混合した。次いで、硬化剤(c−1)40重量部、および硬化促進剤(d−1)0.05重量部を加え、攪拌機により10分間攪拌して導電性樹脂組成物を調製した。
次に、上記調製した導電性樹脂組成物を、ドクターブレードを使用して、乾燥後の厚みが60μmになるように剥離性フィルム(基材の材質:発泡ポリエチレンテレフタレート、基材の厚み50μm、離型剤:アルキッド系離型剤)の剥離処理された一方の面上に塗工し、100℃の電気オーブンで2分間乾燥することで導電性接着剤が形成された導電性接着シートを得た。
[ Reference example 1 ]
100 parts by weight of the binder resin (a-1) and 250 parts by weight of the conductive fine particles (b-1) were placed in a container, and a solvent (f-1) was added and mixed so that the non-volatile content concentration was 40% by weight. .. Next, 40 parts by weight of the curing agent (c-1) and 0.05 parts by weight of the curing accelerator (d-1) were added, and the mixture was stirred with a stirrer for 10 minutes to prepare a conductive resin composition.
Next, the conductive resin composition prepared above is released using a doctor blade so that the thickness after drying becomes 60 μm (base material: foamed polyethylene terephthalate, base material thickness 50 μm, release). A conductive adhesive sheet on which a conductive adhesive was formed was obtained by coating on one surface of the release-treated surface of the mold agent (alkid-based mold release agent) and drying in an electric oven at 100 ° C. for 2 minutes. ..

次に導電性接着シートを幅20mm、長さ20mmにカットし、その導電性接着剤が露出した面が幅20mm、長さ20mmの金属補強板(h−1)に接触するように、上記導電性接着シートを上記金属補強板に重ねた。次いで、ロールラミネーターを用い、90℃、3kgf/cm、1m/minの条件下で、上記導電性接着シートと上記金属補強板とをロールラミネートして導電性接着シート付SUS板を得た。 Next, the conductive adhesive sheet is cut into a width of 20 mm and a length of 20 mm, and the conductive adhesive is exposed so that the exposed surface is in contact with the metal reinforcing plate (h-1) having a width of 20 mm and a length of 20 mm. The sex adhesive sheet was laminated on the metal reinforcing plate. Next, using a roll laminator, the conductive adhesive sheet and the metal reinforcing plate were roll-laminated under the conditions of 90 ° C., 3 kgf / cm 2 , and 1 m / min to obtain a SUS plate with a conductive adhesive sheet.

次に、上記導電性接着シート付金属補強板における導電性接着シートの剥離性フィルムを剥がして除去した後、打ち抜き加工機で1辺が10mmの正方形に打ち抜き、導電性接着剤付金属補強板(以下、「導電性接着剤付き金属補強板」と称する)を得た。次いで、別に作製したプリント配線板1〜3を用い、導電性接着剤付金属補強板の導電性接着剤が露出した面(導電性接着剤の金属補強板と反対の面)をプリント配線板に重ね、ロールラミネーターを用いて130℃、3kgf/cm2 、1m/分の条件下で、上記導電性接着剤付金属補強板と上記プリント配線板とを貼り付けた。その後金属補強板の上に1辺が20mmの正方形にカットしたクッション材(g−1)を積層し積層体を形成した。次いで、これらを170℃、2MPa、5分の条件下で熱プレスした後、クッション材を除去し、電気オーブンを用いて160℃、60分間加熱することで各金属補強板付きプリント配線板1〜3を得た。 Next, the peelable film of the conductive adhesive sheet in the metal reinforcing plate with the conductive adhesive sheet is peeled off and removed, and then punched into a square having a side of 10 mm with a punching machine to form a metal reinforcing plate with a conductive adhesive (a metal reinforcing plate with a conductive adhesive). Hereinafter, it is referred to as "metal reinforcing plate with conductive adhesive"). Next, using the separately produced printed wiring plates 1 to 3, the surface of the metal reinforcing plate with the conductive adhesive on which the conductive adhesive is exposed (the surface opposite to the metal reinforcing plate of the conductive adhesive) is used as the printed wiring plate. The metal reinforcing plate with the conductive adhesive and the printed wiring plate were attached to each other under the conditions of 130 ° C., 3 kgf / cm2, and 1 m / min using a roll laminator. After that, a cushion material (g-1) cut into a square having a side of 20 mm was laminated on the metal reinforcing plate to form a laminated body. Next, these are heat-pressed under the conditions of 170 ° C., 2 MPa, and 5 minutes, the cushioning material is removed, and the printed wiring boards with metal reinforcing plates 1 to 1 are heated at 160 ° C. for 60 minutes using an electric oven. I got 3.

参考例、実施例3〜5、参考例6〜8、実施例9〜19、参考例20〜21、実施例22〜23、比較例1]
表2〜表4に記載するように、導電性樹脂組成物を構成する各成分の種類および配合量、およびクッション材や金属補強板の種類を変更した以外は参考例1と同様に操作し、参考例2、実施例3〜5、参考例6〜8、実施例9〜19、参考例20〜21、実施例22〜23および比較例1の積層体並びに金属補強板付きプリント配線板を得た。
なお、表における実施例1〜2、6〜8、表4における実施例20〜21参考例1〜2、6〜8、20〜21の意である。
[ Reference Example 2 , Examples 3 to 5, Reference Examples 6 to 8, Examples 9 to 19, Reference Examples 20 to 21, Examples 22 to 23, Comparative Example 1]
As shown in Tables 2 to 4 , the operation was carried out in the same manner as in Reference Example 1 except that the types and blending amounts of the components constituting the conductive resin composition and the types of the cushion material and the metal reinforcing plate were changed. Obtained laminates of Reference Examples 2, Examples 3 to 5, Reference Examples 6 to 8, Examples 9 to 19, Reference Examples 20 to 21, Examples 22 to 23 and Comparative Example 1, and a printed wiring board with a metal reinforcing plate. rice field.
Note that implementation in Table 2. Example 1 ~2,6~8, examples 20-21 in Table 4 is the meaning of Reference Example 1 ~2,6~8,20~21.

[比較例1]
熱プレス時にクッション材を用いなかった以外は、実施例19と同様にして、プリント配線板1〜3を用い、各金属補強板付きプリント配線板を得た。
[Comparative Example 1]
Printed wiring boards 1 to 3 were used in the same manner as in Example 19 except that the cushion material was not used during the hot pressing, and printed wiring boards with metal reinforcing plates were obtained.

<評価>
得られた各金属補強板付きプリント配線板について、埋め込み性、および染み出し外観を下記方法に従って評価した。その評価結果を表2〜表4に示す。
<Evaluation>
The embedding property and the exuding appearance of each of the obtained printed wiring boards with metal reinforcing plates were evaluated according to the following methods. The evaluation results are shown in Tables 2 to 4.

[埋め込み性] [Embedability]

異なる開口面積を有する金属補強板付きプリント配線板1〜3について、抵抗値測定器およびBSPプローブ(型番:MCP-TP05P、三菱ケミカルアナリテック製)を用い、金属補強板付きプリント配線板のSUS板と銅箔回路との間の電気抵抗(接続抵抗値)を測定し、この測定値を指標として下記評価基準に従い埋め込み性を評価した。

◎:接続抵抗値が20mΩ/□未満 非常に良好
○:接続抵抗値が20mΩ/□以上100mΩ/□未満 良好
△:接続抵抗値が100mΩ/□以上300mΩ/□未満 実用可能
×:接続抵抗値が300mΩ/□以上 実用不可能
SUS plate of printed wiring board with metal reinforcing plate using resistance value measuring instrument and BSP probe (model number: MCP-TP05P, manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech) for printed wiring boards 1 to 3 with metal reinforcing plate having different opening areas. The electrical resistance (connection resistance value) between the and the copper foil circuit was measured, and the embedding property was evaluated according to the following evaluation criteria using this measured value as an index.

⊚: Connection resistance value is less than 20 mΩ / □ Very good ○: Connection resistance value is 20 mΩ / □ or more and less than 100 mΩ / □ Good △: Connection resistance value is 100 mΩ / □ or more and less than 300 mΩ / □ Practical use ×: Connection resistance value is More than 300mΩ / □ Practical

[染み出し]
金属補強板付きプリント配線板1について、倍率200倍〜1000倍の拡大鏡を用いて金属補強板の端部からはみ出した導電性接着剤のフロー量(導電性接着剤層の縁部の最大移動距離、SUS板の端部とはみ出した導電性接着剤層の端部との最大長さ)を測定し、この測定値を指標として下記評価基準に従い外観を評価した。

◎:フロー量が100μm以下 非常に良好
○:フロー量が100μm超130μm以下 良好
△:フロー量が130μm超150μm以下 実用可能
×:フロー量が150μm超 実用不可能
[Exudation]
For the printed wiring plate 1 with a metal reinforcing plate, the flow amount of the conductive adhesive protruding from the end of the metal reinforcing plate using a magnifying mirror having a magnification of 200 to 1000 times (maximum movement of the edge of the conductive adhesive layer). The distance (maximum length between the end of the SUS plate and the end of the conductive adhesive layer protruding) was measured, and the appearance was evaluated according to the following evaluation criteria using this measured value as an index.

⊚: Flow amount is 100 μm or less Very good ○: Flow amount is more than 100 μm and 130 μm or less Good Δ: Flow amount is more than 130 μm and 150 μm or less Practical ×: Flow amount is more than 150 μm Practical

Figure 0006922968
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Figure 0006922968
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Figure 0006922968
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以上、本発明を上記実施形態に即して説明したが、本発明は上記実施の形態の構成にのみ限定されるものではなく、本願特許請求の範囲の請求項の発明の範囲内で当業者であればなし得る各種変形、修正、組み合わせを含むことは勿論である。 Although the present invention has been described above in accordance with the above-described embodiment, the present invention is not limited to the configuration of the above-described embodiment, and those skilled in the art are within the scope of the claims in the claims of the present application. Of course, it includes various modifications, corrections, and combinations that can be made.

11 剥離性フィルム
12 導電性接着剤(導電性接着剤層)
13 導電性接着シート
14 金属補強板
15 予備積層体
16 クッション材
17 積層体
18 切断線
20 配線板
21 基材
22 絶縁性フィルム
23 絶縁性接着剤
24 信号回路
25 グランド回路
27 開口部
29b 隙間
30 金属補強板付きプリント配線板
11 Removable film 12 Conductive adhesive (conductive adhesive layer)
13 Conductive Adhesive Sheet 14 Metal Reinforcing Plate 15 Preliminary Laminated Body 16 Cushioning Material 17 Laminated Body 18 Cutting Line 20 Wiring Board 21 Base Material 22 Insulating Film 23 Insulating Adhesive 24 Signal Circuit 25 Ground Circuit 27 Opening 29b Gap 30 Metal Printed wiring board with reinforcing plate

Claims (13)

グランド回路を含む回路パターンと前記回路パターンを絶縁保護し、開口部を有する絶縁保護膜が形成されたプリント配線板の上方に、
熱により軟化するバインダー樹脂および導電性フィラーを含有し、170℃における貯蔵弾性率が5.5MPa以上50MPa以下の導電性接着剤と、厚みが50〜500μmの金属補強板と、170℃における貯蔵弾性率が10MPa以上100MPa以下であって、前記導電性接着剤の貯蔵弾性率よりも高いクッション材とをこの順で、且つ前記プリント配線板と前記導電性接着剤が対向するように配置する工程[1−1]、
または、
熱により軟化するバインダー樹脂および導電性フィラーを含有し、170℃における貯蔵弾性率が2MPa以上50MPa以下の導電性接着剤と、厚みが50〜500μmの金属補強板と、170℃における貯蔵弾性率が10MPa以上100MPa以下であって、前記クッション材の170℃における貯蔵弾性率が前記導電性接着剤の170℃における貯蔵弾性率よりも21MPa以上50MPa以内の範囲で高いクッション材とをこの順で、且つ前記プリント配線板と前記導電性接着剤が対向するように配置する工程[1−2]、
または、
熱により軟化するバインダー樹脂および導電性フィラーを含有し、170℃における貯蔵弾性率が2MPa以上50MPa以下の導電性接着剤と、厚みが50〜500μmの金属補強板と、170℃における貯蔵弾性率が10MPa以上100MPa以下であって、前記導電性接着剤の貯蔵弾性率よりも高く、前記金属補強板と前記クッション材の厚みの比率(金属補強板の厚み[μm]/クッション材の厚み[μm])が1.5〜2であるクッション材とをこの順で、且つ前記プリント配線板と前記導電性接着剤が対向するように配置する工程[1−3]、
前記工程[1−1]〜[1−3]いずれか1つの工程の後、前記プリント配線板、前記導電性接着剤、前記金属補強板、および前記クッション材を重ねた状態で、150〜190℃で熱プレスし、前記絶縁保護膜に設けられた開口部を介して、導電性接着剤により前記グランド回路と金属補強板とを接着し、前記グランド回路と金属補強板とを電気的に接続すると共に、前記クッション材が、前記導電性接着剤および前記金属補強板の側面側に流れ込み、前記金属補強板よりも外部への前記導電性接着剤の染み出しをせき止める工程[2]、
ならびに前記クッション材を剥離する工程[3]、
を備えた金属補強板付きプリント配線板の製造方法。
Above the printed wiring board on which the circuit pattern including the ground circuit and the circuit pattern are insulated and protected, and an insulating protective film having an opening is formed.
A conductive adhesive containing a binder resin and a conductive filler that softens by heat and having a storage elastic modulus of 5.5 MPa or more and 50 MPa or less at 170 ° C, a metal reinforcing plate having a thickness of 50 to 500 μm, and storage elasticity at 170 ° C. A step of arranging the cushioning material having a ratio of 10 MPa or more and 100 MPa or less and higher than the storage elastic modulus of the conductive adhesive in this order and so that the printed wiring board and the conductive adhesive face each other [ 1-1],
or,
A conductive adhesive containing a binder resin and a conductive filler that softens by heat and having a storage elastic modulus of 2 MPa or more and 50 MPa or less at 170 ° C., a metal reinforcing plate having a thickness of 50 to 500 μm, and a storage elastic modulus at 170 ° C. A cushioning material having a storage elastic modulus of 10 MPa or more and 100 MPa or less at 170 ° C., which is higher than the storage elastic modulus of the conductive adhesive at 170 ° C. in the range of 21 MPa or more and 50 MPa or less, in this order and Step of arranging the printed wiring board and the conductive adhesive so as to face each other [1-2],
or,
A conductive adhesive containing a binder resin and a conductive filler that softens by heat and having a storage elastic modulus of 2 MPa or more and 50 MPa or less at 170 ° C., a metal reinforcing plate having a thickness of 50 to 500 μm, and a storage elastic modulus at 170 ° C. It is 10 MPa or more and 100 MPa or less, which is higher than the storage elastic modulus of the conductive adhesive, and is the ratio of the thickness of the metal reinforcing plate to the cushioning material (thickness of the metal reinforcing plate [μm] / thickness of the cushioning material [μm]. ) Is 1.5 to 2 in this order, and the printed wiring board and the conductive adhesive are arranged so as to face each other [1-3].
After any one of the steps [1-1] to [1-3], the printed wiring plate, the conductive adhesive, the metal reinforcing plate, and the cushioning material are laminated, and 150 to 190. It is hot-pressed at ° C., the gland circuit and the metal reinforcing plate are bonded to each other by a conductive adhesive through an opening provided in the insulating protective film, and the gland circuit and the metal reinforcing plate are electrically connected. At the same time, the cushioning material flows into the side surface side of the conductive adhesive and the metal reinforcing plate, and prevents the conductive adhesive from seeping out from the metal reinforcing plate [2].
And a step of peeling the front chrysanthemum cushion material [3],
A method of manufacturing a printed wiring board with a metal reinforcing plate.
工程[1−1]または工程[1−3]において、前記クッション材と前記導電性接着剤の170℃における貯蔵弾性率差は、10〜87MPaである、請求項1記載の金属補強板付きプリント配線板の製造方法。 The print with a metal reinforcing plate according to claim 1, wherein in step [1-1] or step [1-3], the difference in storage elastic modulus between the cushioning material and the conductive adhesive at 170 ° C. is 10 to 87 MPa. Manufacturing method of wiring board. 工程[1−1]または工程[1−2]において、前記金属補強板と前記クッション材の厚みの比率(金属補強板の厚み[μm]/クッション材の厚み[μm])が、2以下である、請求項1または2記載の金属補強板付きプリント配線板の製造方法。 In step [1-1] or step [1-2], the ratio of the thickness of the metal reinforcing plate to the cushioning material (thickness of the metal reinforcing plate [μm] / thickness of the cushioning material [μm]) is 2 or less. The method for manufacturing a printed wiring board with a metal reinforcing plate according to claim 1 or 2. 工程[1−1]〜[1−3]いずれか1つの工程において、
170℃における損失正接(tanδ)が0.05以上、0.4以下である、導電性接着剤を用いることを特徴とする、
請求項1〜3いずれか1項に記載の金属補強板付きプリント配線板の製造方法。
In any one of the steps [1-1] to [1-3],
It is characterized by using a conductive adhesive having a loss tangent (tan δ) of 0.05 or more and 0.4 or less at 170 ° C.
The method for manufacturing a printed wiring board with a metal reinforcing plate according to any one of claims 1 to 3.
工程[1−1]〜[1−3]いずれか1つの工程において、
粘弾性測定により得られる温度−損失正接(tanδ)曲線における、
第1のガラス転移温度が10℃以上45℃以下であり、
第2のガラス転移温度が70℃以上140℃以下である、
導電性接着剤を用いることを特徴とする、
請求項1〜4いずれか1項に記載の金属補強板付きプリント配線板の製造方法。
In any one of the steps [1-1] to [1-3],
In the temperature-loss tangent (tan δ) curve obtained by viscoelasticity measurement,
The first glass transition temperature is 10 ° C or higher and 45 ° C or lower.
The second glass transition temperature is 70 ° C. or higher and 140 ° C. or lower.
It is characterized by using a conductive adhesive.
The method for manufacturing a printed wiring board with a metal reinforcing plate according to any one of claims 1 to 4.
工程[1−1]〜[1−3]いずれか1つの工程において、
平面視した際に、金属補強板および導電性接着剤よりも大きいクッション材を用いることを特徴とする、
請求項1〜5いずれか1項に記載の金属補強板付きプリント配線板の製造方法。
In any one of the steps [1-1] to [1-3],
It is characterized by using a cushioning material larger than a metal reinforcing plate and a conductive adhesive when viewed in a plan view.
The method for manufacturing a printed wiring board with a metal reinforcing plate according to any one of claims 1 to 5.
工程[1−1]〜[1−3]いずれか1つの工程において、
厚みが15〜70μmである導電性接着剤を用いることを特徴とする、
請求項1〜6いずれか1項に記載の金属補強板付きプリント配線板の製造方法。
Step [1-1] - [1-3] Oite as much as any one Tsunoko,
It is characterized by using a conductive adhesive having a thickness of 15 to 70 μm.
The method for manufacturing a printed wiring board with a metal reinforcing plate according to any one of claims 1 to 6.
工程[1−1]〜[1−3]いずれか1つの工程において、
プリント配線板上に、導電性接着剤を配置し、
前記導電性接着剤上に、金属補強板を配置し、
前記金属補強板上に、クッション材を配置することを特徴とする、請求項1〜7いずれか1項に記載の金属補強板付きプリント配線板の製造方法。
Step [1-1] - [1-3] Oite as much as any one Tsunoko,
Place the conductive adhesive on the printed wiring board,
A metal reinforcing plate is placed on the conductive adhesive,
The method for manufacturing a printed wiring board with a metal reinforcing plate according to any one of claims 1 to 7, wherein a cushion material is arranged on the metal reinforcing plate.
工程[1−1]〜[1−3]いずれか1つの工程において、
導電性接着剤と、金属補強板との予備積層体を予め得ておき、
プリント配線板と前記予備積層体中の導電性接着剤とが対向し、前記予備積層体中の金属補強板とクッション材とが対向するように配置することを特徴とする、請求項1〜7いずれか1項に記載の金属補強板付きプリント配線板の製造方法。
Step [1-1] - [1-3] Oite as much as any one Tsunoko,
A preliminary laminate of the conductive adhesive and the metal reinforcing plate is obtained in advance.
Claims 1 to 7, wherein the printed wiring board and the conductive adhesive in the preliminary laminate face each other, and the metal reinforcing plate in the preliminary laminate and the cushion material are arranged so as to face each other. The method for manufacturing a printed wiring board with a metal reinforcing plate according to any one of the following items.
工程[1−1]〜[1−3]いずれか1つの工程において、
導電性接着剤と、金属補強板と、クッション材とをこの順で積層してなる積層体を予め得ておき、プリント配線板と前記積層体中の導電性接着剤が対向するように配置することを特徴とする、請求項1〜7いずれか1項に記載の金属補強板付きプリント配線板の製造方法。
Step [1-1] - [1-3] Oite as much as any one Tsunoko,
A laminate obtained by laminating a conductive adhesive, a metal reinforcing plate, and a cushioning material in this order is obtained in advance, and the printed wiring board and the conductive adhesive in the laminate are arranged so as to face each other. The method for manufacturing a printed wiring board with a metal reinforcing plate according to any one of claims 1 to 7, wherein the printed wiring board has a metal reinforcing plate.
請求項1〜10いずれか1項に記載の製造方法により得られる金属補強板付きプリント配線板。 A printed wiring board with a metal reinforcing plate obtained by the manufacturing method according to any one of claims 1 to 10. 平面視した際の前記開口部の面積が0.16mm 2 以上、0.81mm 2 以下である、請求項11記載の金属補強板付きプリント配線板。 The area of the opening when viewed in plan 0.16 mm 2 or more and 0.81 mm 2 or less, claim 11 metal reinforcing plate with printed wiring board according. 前記開口部が、前記プリント配線板の外周の一部に形成されている、請求項11または12記載の金属補強板付きプリント配線板。 The printed wiring board with a metal reinforcing plate according to claim 11 or 12, wherein the opening is formed in a part of the outer periphery of the printed wiring board.
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