JP6891148B2 - Protective element - Google Patents

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    • H01H85/02Details
    • H01H85/04Fuses, i.e. expendable parts of the protective device, e.g. cartridges
    • H01H85/05Component parts thereof
    • H01H85/055Fusible members
    • H01H85/08Fusible members characterised by the shape or form of the fusible member

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  • Fuses (AREA)

Description

本開示は、電気装置を保護する保護素子、より詳しくは、電気装置に含まれる電気要素または回路を保護する保護素子に関する。 The present disclosure relates to a protective element that protects an electrical device, more particularly a protective element that protects an electrical element or circuit contained in the electrical device.

電気装置に過電流が流れた場合にその電流の流れを遮断する保護素子として、PTC素子、温度ヒューズ素子、電流ヒューズ素子等が使用されている。中でも、円筒型2次電池に用いる場合、ポリマーPTC素子は、2次電池の封口板に組み込んで配置できるので、電池内部の空間を有効に使用できる点で有用である。 A PTC element, a thermal fuse element, a current fuse element, or the like is used as a protective element that cuts off the current flow when an overcurrent flows through the electric device. Above all, when used in a cylindrical secondary battery, the polymer PTC element can be arranged by being incorporated in the sealing plate of the secondary battery, which is useful in that the space inside the battery can be effectively used.

上記ポリマーPTC素子は復帰性を有するが、用途によっては問題が生じる場合がある。例えば、多並列で使用する円筒型リチウムイオン2次電池セルにおいてPTC素子を使用する場合、PTC素子を使用している短絡したセルを取り除かない限り、そのセルが発熱し続ける可能性がある。また、PTC素子は定格容量が比較的小さく、大きな電流を継続して通電する場合に不利である。 Although the polymer PTC device has recoverability, problems may occur depending on the application. For example, when a PTC element is used in a cylindrical lithium ion secondary battery cell used in multiple parallels, the cell may continue to generate heat unless the short-circuited cell using the PTC element is removed. Further, the PTC element has a relatively small rated capacity, which is disadvantageous when a large current is continuously energized.

このような問題点を考慮した保護素子として、少なくとも1つの貫通開口部を有する絶縁性の層状要素と、該層状要素の各主表面上に位置する導電性金属薄層と、該貫通開口部の少なくとも1つを規定する側面上に位置し、導電性金属薄層を電気的に接続するヒューズ層とを有して成る保護素子が知られている(特許文献1)。かかる保護素子によれば、より大きい電流を流すことを可能にしながら、定格容量をそれほど大きく上回らない過電流、例えば定格容量の2倍程度の過電流であっても、迅速かつ確実に過電流を遮断することができる。 As a protective element in consideration of such a problem, an insulating layered element having at least one through opening, a conductive metal thin layer located on each main surface of the layered element, and the through opening. A protective element is known that is located on a side surface that defines at least one and has a fuse layer that electrically connects a thin conductive metal layer (Patent Document 1). According to such a protective element, an overcurrent that does not greatly exceed the rated capacity, for example, an overcurrent that is about twice the rated capacity, can be quickly and surely overcurrented while allowing a larger current to flow. It can be blocked.

国際公開第2014/034833号International Publication No. 2014/034833

特許文献1に記載のような保護素子は、貫通開口部の側面にめっき(特に、電解めっき)により、ヒューズ層が形成されている。ヒューズ層は、所定のヒューズ機能を得るために所定の断面積を有する。かかる断面積は、ヒューズ層の厚みにより調整され得るが、貫通開口部の側面にめっきによりヒューズ層を形成した場合、この厚みに±20%程度のばらつきが生じ得る。即ち、保護素子の抵抗値、遮断時間等にばらつきが生じ得る。 In the protective element as described in Patent Document 1, a fuse layer is formed on the side surface of the through opening by plating (particularly, electrolytic plating). The fuse layer has a predetermined cross-sectional area in order to obtain a predetermined fuse function. Such a cross-sectional area can be adjusted by the thickness of the fuse layer, but when the fuse layer is formed by plating on the side surface of the through opening, the thickness may vary by about ± 20%. That is, the resistance value of the protective element, the cutoff time, and the like may vary.

本開示の目的は、ヒューズ層の抵抗値および遮断時間のばらつきが小さい保護素子を提供することである。 An object of the present disclosure is to provide a protective element having a small variation in resistance value and cutoff time of a fuse layer.

本開示は、以下の態様を含む。
1. 絶縁性樹脂により形成された層状要素と、
前記層状要素の両主表面の少なくとも一方に設けられた導電性金属薄層
とを有し、
少なくとも1つの前記導電性金属薄層は、ヒューズパターンを有している、保護素子。
2. 前記層状要素は、少なくとも1つの貫通開口部を有し、
前記導電性金属薄層は、前記層状要素の両主表面上に設けられており、
前記層状要素の両主表面上に設けられた導電性金属薄層は、前記貫通開口部を通る導電性接続部により電気的に接続されている、
上記[1]に記載の保護素子。
3. 前記層状要素は、中心に貫通開口部を有する円環状である、上記[1]または[2]に記載の保護素子。
4. 前記円環状の層状要素の一の主表面に設けられた前記導電性金属薄層は、前記円環状の層状要素の外縁側に位置する第一の環状金属薄層、前記円環状の層状要素の内縁側に位置する第二の環状金属薄層、およびこれらを電気的に接続する橋掛け部を有して成る、上記[3]に記載の保護素子。
5. 前記橋掛け部は、1個である、上記[4]に記載の保護素子。
6. 前記橋掛け部は、円環の中心に関して等角度に2〜8個存在する、上記[4]に記載の保護素子。
7. 前記第一の環状金属薄層と前記第二の環状金属薄層の距離が、0.1mm〜5.0mmである、上記[4]〜[6]のいずれか1つに記載の保護素子。
8. 前記第一の環状金属薄層の幅は、前記第二の環状金属薄層の幅よりも大きい、上記[4]〜[7]のいずれか1つに記載の保護素子。
9. 前記導電性金属薄層は、ニッケル箔または銅箔を含む、上記[1]〜[8]のいずれか1つに記載の保護素子。
10. さらに、ヒューズパターンを有する導電性金属薄層上に、少なくともヒューズパターンを覆うように絶縁層を有する、上記[1]〜[9]のいずれか1つに記載の保護素子。
11. 上記[1]〜[10]のいずれかに記載の保護素子を有して成る、電気装置。
12. 上記[1]〜[10]のいずれかに記載の保護素子を有して成る、封口体。
13. 上記[1]〜[10]のいずれかに記載の保護素子を有して成る、二次電池セル。
The present disclosure includes the following aspects.
1. 1. Layered elements formed of insulating resin and
It has a conductive metal thin layer provided on at least one of both main surfaces of the layered element.
A protective element in which at least one of the conductive metal thin layers has a fuse pattern.
2. The layered element has at least one through opening and
The conductive metal thin layer is provided on both main surfaces of the layered element.
The conductive metal thin layers provided on both main surfaces of the layered element are electrically connected by a conductive connecting portion passing through the through opening.
The protective element according to the above [1].
3. 3. The protective element according to the above [1] or [2], wherein the layered element is an annular shape having a through opening in the center.
4. The conductive metal thin layer provided on the main surface of one of the annular layered elements is a first annular metal thin layer located on the outer edge side of the annular layered element, that is, the annular layered element. The protective element according to the above [3], comprising a second annular metal thin layer located on the inner edge side and a bridging portion for electrically connecting them.
5. The protective element according to the above [4], wherein the bridging portion is one.
6. The protective element according to the above [4], wherein the bridging portions are present at an equal angle of 2 to 8 with respect to the center of the ring.
7. The protective element according to any one of the above [4] to [6], wherein the distance between the first annular metal thin layer and the second annular metal thin layer is 0.1 mm to 5.0 mm.
8. The protective element according to any one of the above [4] to [7], wherein the width of the first annular metal thin layer is larger than the width of the second annular metal thin layer.
9. The protective element according to any one of the above [1] to [8], wherein the conductive metal thin layer contains a nickel foil or a copper foil.
10. The protective element according to any one of the above [1] to [9], further comprising an insulating layer on a thin conductive metal layer having a fuse pattern so as to cover at least the fuse pattern.
11. An electric device having the protective element according to any one of the above [1] to [10].
12. A sealing body having the protective element according to any one of the above [1] to [10].
13. A secondary battery cell comprising the protective element according to any one of the above [1] to [10].

本開示によれば、ヒューズ層の抵抗値および遮断時間のばらつきが小さい保護素子が提供される。 According to the present disclosure, a protective element having a small variation in the resistance value of the fuse layer and the breaking time is provided.

図1は、本発明の一の実施形態の保護素子を模式的に示す。FIG. 1 schematically shows a protective element according to an embodiment of the present invention. 図2は、図1に示す保護素子のx−x線に沿った断面図を模式的に示す。FIG. 2 schematically shows a cross-sectional view of the protective element shown in FIG. 1 along the xx line.

本開示の保護素子について、図面を参照しながら詳細に説明する。 The protective element of the present disclosure will be described in detail with reference to the drawings.

本開示の一の実施形態の保護素子1は、図1および図2に示すように、絶縁性樹脂により形成された円環状の層状要素2と、該層状要素2の両主表面上に設けられた導電性金属薄層3,4、および、上記貫通開口部の内壁面に設けられ、上記導電性金属薄層3および4を電気的に接続する導電性接続部5を有して成る。上記層状要素2の一の主表面上の導電性金属薄層3は、ヒューズパターンである橋掛け部6を有している。上記導電性金属薄層3は、円環状の層状要素2の外縁側に位置する第一環状金属薄層7、内縁部に位置する第二環状金属薄層8およびこれらを電気的に接続する橋掛け部6から成る。上記層状要素2、第一環状金属薄層7および第二環状金属薄層8は、同心円状に配置されている。保護素子1において、電流は、第一環状金属薄層7、橋掛け部6、第二環状金属薄層8、導電性接続部5、導電性金属薄層4の順(あるいはこの逆)に流れる。かかる保護素子1に過電流が流れた場合、ヒューズパターンである橋掛け部6が溶断し、電流が遮断される。 As shown in FIGS. 1 and 2, the protective element 1 of the embodiment of the present disclosure is provided on both the annular layered element 2 formed of the insulating resin and the main surfaces of the layered element 2. It is composed of the conductive metal thin layers 3 and 4, and the conductive connecting portion 5 provided on the inner wall surface of the through opening and electrically connecting the conductive metal thin layers 3 and 4. The conductive metal thin layer 3 on the main surface of one of the layered elements 2 has a bridging portion 6 which is a fuse pattern. The conductive metal thin layer 3 includes a first annular metal thin layer 7 located on the outer edge side of the annular layered element 2, a second annular metal thin layer 8 located on the inner edge, and a bridge that electrically connects them. It consists of a hanging portion 6. The layered element 2, the first annular metal thin layer 7, and the second annular metal thin layer 8 are arranged concentrically. In the protective element 1, the current flows in the order of the first annular metal thin layer 7, the bridging portion 6, the second annular metal thin layer 8, the conductive connecting portion 5, and the conductive metal thin layer 4 (or vice versa). .. When an overcurrent flows through the protective element 1, the bridging portion 6 which is a fuse pattern is blown and the current is cut off.

本実施形態において、上記層状要素2は、中心に貫通開口部9を有する円環状である。当該貫通開口部9は、層状要素の厚さ方向に沿って層状要素2を貫通しており、その平面形状(即ち、厚さ方向に垂直な方向の断面形状)は円形である。 In the present embodiment, the layered element 2 is an annular shape having a through opening 9 at the center. The through opening 9 penetrates the layered element 2 along the thickness direction of the layered element, and its planar shape (that is, the cross-sectional shape in the direction perpendicular to the thickness direction) is circular.

尚、本開示において、層状要素の形状、貫通開口部の有無、および貫通開口部の形状は、本実施形態のものに限定されない。 In the present disclosure, the shape of the layered element, the presence or absence of the through opening, and the shape of the through opening are not limited to those of the present embodiment.

例えば、層状要素の形態は、厚さ方向のディメンションが他のディメンションより小さい、このましくは相当小さいもの(例えばシート状形態)であれば、特に限定されるものではない。層状要素の平面形状または層状要素の厚さ方向に垂直な方向の断面形状が、幾何学的に線対称および/または点対称の形状、例えば、円形、正方形、長方形、菱形、環状(特に円環状、いわゆるドーナツ状)等の形状の主表面として有するのが好ましい。また、上記層状要素は、貫通開口部を有しない板状の部材であってもよい。 For example, the form of the layered element is not particularly limited as long as the dimension in the thickness direction is smaller than the other dimensions, or is considerably smaller (for example, a sheet-like form). The planar shape of the layered element or the cross-sectional shape in the direction perpendicular to the thickness of the layered element is geometrically axisymmetric and / or point-symmetrical, such as circular, square, rectangular, rhombic, annular (especially circular). It is preferable to have it as a main surface having a shape such as (so-called donut shape). Further, the layered element may be a plate-shaped member having no through opening.

上記貫通開口部は、存在しても、存在しなくてもよい。上記貫通開口部は、存在する場合、1個または2個以上、例えば2〜8個存在してもよい。貫通開口部は、複数存在する場合、中心に対して均等に存在することが好ましい。均等に配置することにより、導電性金属薄層を流れる電流パスの長さをより短くすることができ、導電性金属薄層における抵抗をより小さくすることができる。 The through opening may or may not be present. If there are such through openings, one or two or more, for example, 2 to 8 may be present. When a plurality of through openings are present, it is preferable that the through openings are evenly present with respect to the center. By arranging them evenly, the length of the current path flowing through the conductive metal thin layer can be made shorter, and the resistance in the conductive metal thin layer can be made smaller.

上記貫通開口部の平面形状は、円形、正方形、菱形、長方形、楕円形であってもよい。 The planar shape of the through opening may be circular, square, rhombic, rectangular, or elliptical.

上記層状要素2の厚さは、特に限定されないが、例えば0.03mm〜10mm、好ましくは0.05mm〜5.0mm、より好ましくは0.1mm〜2.0mm、さらに好ましくは0.1mm〜1.0mm、特に好ましくは0.2mm〜0.5mmであり得る。層状要素の厚さを10mm以下とすることにより、保護素子の小型化に有利になる。層状要素の厚さをより小さくすることにより、より小型化に有利になり、例えば、該保護素子を電池に用いた場合に、セルの体積をより大きくすることができる。層状要素の厚さを0.03mm以上とすることにより、層状要素の両主表面間の耐電圧を十分に確保することができる。層状要素の厚さをより厚くすることにより、より高い耐電圧が得られ、より高い電圧での使用が可能になる。 The thickness of the layered element 2 is not particularly limited, but is, for example, 0.03 mm to 10 mm, preferably 0.05 mm to 5.0 mm, more preferably 0.1 mm to 2.0 mm, still more preferably 0.1 mm to 1. It can be 0.0 mm, particularly preferably 0.2 mm to 0.5 mm. By setting the thickness of the layered element to 10 mm or less, it is advantageous for miniaturization of the protective element. Reducing the thickness of the layered element is advantageous for further miniaturization, and for example, when the protective element is used in a battery, the volume of the cell can be increased. By setting the thickness of the layered element to 0.03 mm or more, a sufficient withstand voltage between both main surfaces of the layered element can be secured. By increasing the thickness of the layered element, a higher withstand voltage can be obtained and use at a higher voltage becomes possible.

上記層状要素2を構成する絶縁性樹脂は、電気的に絶縁性を有する樹脂であれば特に限定されるものではない。当該絶縁性樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、フッ素系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン(ABS)樹脂、ポリカーボネート−ABSアロイ樹脂、ポリブチレンテレフタラート(PBT)樹脂、エラストマー等の樹脂が挙げられる。かかる絶縁性樹脂は、ポリマーPTC素子に用いるポリマーと同様の柔軟性を持っており、ポリマーPTC素子に代えて本発明の保護素子を種々の電気装置、例えば2次電池セルの封口板に、好適に組み込むことができる。特に好ましくは、当該絶縁性樹脂は、ポリエチレンまたはポリフッ化ビニリデンであり得る。 The insulating resin constituting the layered element 2 is not particularly limited as long as it is an electrically insulating resin. Examples of the insulating resin include resins such as polyethylene, polypropylene, polycarbonate, fluororesin, acrylonitrile-butadiene-styrene (ABS) resin, polycarbonate-ABS alloy resin, polybutylene terephthalate (PBT) resin, and elastomer. Be done. Such an insulating resin has the same flexibility as the polymer used for the polymer PTC element, and the protective element of the present invention is suitable for various electric devices, for example, a sealing plate of a secondary battery cell, instead of the polymer PTC element. Can be incorporated into. Particularly preferably, the insulating resin can be polyethylene or polyvinylidene fluoride.

本実施形態において、上記層状要素2の両主表面上には、それぞれ、導電性金属薄層3,4が設けられている。 In the present embodiment, conductive metal thin layers 3 and 4 are provided on both main surfaces of the layered element 2, respectively.

上記導電性金属薄層は、導電性を有する金属の薄い層であれば特に限定されず、例えばニッケル、銅、アルミニウム、金等の金属によって構成できる。かかる導電性金属薄層は、単層であってもよく、複数の金属薄層により形成されていてもよい。上記導電性金属薄層は、好ましくはニッケル箔、またはニッケルと銅の積層体(ニッケル−銅箔)であり得る。ニッケル−銅箔である場合、好ましくは銅箔が絶縁性樹脂側に位置する。 The conductive metal thin layer is not particularly limited as long as it is a thin layer of a conductive metal, and can be made of a metal such as nickel, copper, aluminum, or gold. The conductive metal thin layer may be a single layer or may be formed of a plurality of metal thin layers. The conductive metal thin layer may preferably be a nickel foil or a nickel-copper laminate (nickel-copper foil). In the case of nickel-copper foil, the copper foil is preferably located on the insulating resin side.

上記導電性金属薄層の厚さは、特に限定されないが、例えば、0.1μm〜300μm、好ましくは1.0μm〜100μm、より好ましくは5.0μm〜50μmであり得る。導電性金属薄層の厚さをより大きくすることにより、導電性金属薄層の抵抗をより小さくすることができる。一方、導電性金属薄層の厚さをより小さくすることにより、保護素子の厚さをより小さくすることができ、小型化に有利である。 The thickness of the conductive metal thin layer is not particularly limited, but may be, for example, 0.1 μm to 300 μm, preferably 1.0 μm to 100 μm, and more preferably 5.0 μm to 50 μm. By increasing the thickness of the conductive metal thin layer, the resistance of the conductive metal thin layer can be further reduced. On the other hand, by making the thickness of the conductive metal thin layer smaller, the thickness of the protective element can be made smaller, which is advantageous for miniaturization.

上記導電性金属薄層が各主表面上に位置する層状要素は、層状要素を構成する絶縁性樹脂を、金属薄層を構成する金属シート(または金属箔)と一緒に同時押し出しすることによって、導電性金属薄層の間に絶縁性樹脂が挟まれた状態の押出物を得ることにより、製造することができる。別の態様では、絶縁性樹脂の層状物を、例えば押出によって得、この層状物を導電性金属薄の間に挟み、これらを一体に熱圧着して圧着物を得ることによって、製造することができる。さらに別の態様では、層状要素上にめっき層を形成することによって、製造することができる。 The layered element in which the conductive metal thin layer is located on each main surface is obtained by simultaneously extruding the insulating resin constituting the layered element together with the metal sheet (or metal leaf) constituting the metal thin layer. It can be produced by obtaining an extruded product in which an insulating resin is sandwiched between thin layers of conductive metal. In another embodiment, the insulating resin layered material can be obtained, for example, by extrusion, the layered material can be sandwiched between thin conductive metals, and these can be integrally thermocompression bonded to obtain a crimped material. it can. In yet another embodiment, it can be produced by forming a plating layer on a layered element.

本実施形態において、上記導電性金属薄層3は、円環状の層状要素2の外縁側に位置する第一環状金属薄層7、内縁側に位置する第二環状金属薄層8およびこれらを電気的に接続する橋掛け部6から成る。第一環状金属薄層7および第二環状金属薄層8は、上記層状要素2と同心円状に配置される。層状要素の一の主表面において、上記第一環状金属薄層7は、外縁から内側に向かって所定の距離までの領域を占め、第二環状金属薄層8は、内縁から外側に向かって所定の距離までの領域を占める。第一環状金属薄層7と第二環状金属薄層8は、直接接触しておらず、4つの橋掛け部6が、これらを架橋して、電気的に接続される。かかる橋掛け部6は、ヒューズパターンに相当し、保護素子に過電流が流れた際に溶断し、電流を遮断する。 In the present embodiment, the conductive metal thin layer 3 is an electric first annular metal thin layer 7 located on the outer edge side of the annular layered element 2, a second annular metal thin layer 8 located on the inner edge side, and the like. It is composed of a bridge portion 6 that is connected to the target. The first annular metal thin layer 7 and the second annular metal thin layer 8 are arranged concentrically with the layered element 2. On one main surface of the layered element, the first annular metal thin layer 7 occupies a region from the outer edge to the inside to a predetermined distance, and the second annular metal thin layer 8 is predetermined from the inner edge to the outside. Occupies the area up to the distance. The first annular metal thin layer 7 and the second annular metal thin layer 8 are not in direct contact with each other, and four bridging portions 6 bridge them and are electrically connected. The bridging portion 6 corresponds to a fuse pattern and blows when an overcurrent flows through the protective element to cut off the current.

尚、本開示の保護素子において、ヒューズパターンとは、過電流または異常発熱に応答して切断するように構成されたパターンを意味する。従って、このような機能を果たすものであれば、その形状は特に限定されない。 In the protective element of the present disclosure, the fuse pattern means a pattern configured to blow in response to an overcurrent or abnormal heat generation. Therefore, the shape is not particularly limited as long as it fulfills such a function.

本実施形態において、上記第一の環状金属薄層7の幅は、上記第二の環状金属薄層8の幅よりも大きい。上記第一の環状金属薄層7の幅をより大きくすることにより、該保護素子1を他の部品に取り付ける際の固定が容易になり、また、保護素子の外側で固定した場合の圧が、橋掛け部に与える影響を小さくすることができる。 In the present embodiment, the width of the first annular metal thin layer 7 is larger than the width of the second annular metal thin layer 8. By increasing the width of the first annular metal thin layer 7, it becomes easy to fix the protective element 1 when it is attached to another component, and the pressure when it is fixed outside the protective element is increased. The effect on the bridge can be reduced.

上記第一環状金属薄層7の幅は、特に限定されないが、例えば1.0mm〜20mm、好ましくは2.0mm〜15mm、より好ましくは5.0mm〜10mmであり得る。第一環状金属薄層7の幅を大きくすることにより、保護素子1を第一環状金属薄層7において他の電気要素と電気的に接続する場合に、接触面積を大きくすることができることから、接続が容易になり、また、接続箇所での抵抗を小さくすることが容易になる。 The width of the first annular metal thin layer 7 is not particularly limited, but may be, for example, 1.0 mm to 20 mm, preferably 2.0 mm to 15 mm, and more preferably 5.0 mm to 10 mm. By increasing the width of the first annular metal thin layer 7, the contact area can be increased when the protective element 1 is electrically connected to another electric element in the first annular metal thin layer 7. The connection becomes easy, and the resistance at the connection point becomes easy to reduce.

上記第二環状金属薄層8の幅は、特に限定されないが、例えば0.1mm〜18mm、好ましくは0.5mm〜10mm、より好ましくは1.0mm〜8.0mmであり得る。 The width of the second annular metal thin layer 8 is not particularly limited, but may be, for example, 0.1 mm to 18 mm, preferably 0.5 mm to 10 mm, and more preferably 1.0 mm to 8.0 mm.

上記第一の環状金属薄層と上記第二の環状金属薄層との距離は、絶縁距離が確保できる距離であれば特に限定されないが、例えば0.1mm〜5.0mm、好ましくは0.5mm〜3.0mmであり得る。第一の環状金属薄層と第二の環状金属薄層の距離を、より大きくすることにより、第一の環状金属薄層と上記第二の環状金属薄層間の絶縁をより確実にすることができる。また、橋掛け部6の溶断後の再接続をより確実に防止することができる。第一の環状金属薄層と第二の環状金属薄層の距離を、より小さくすることにより、橋掛け部の長さが小さくすることができ、橋掛け部の抵抗を小さくすることができる。 The distance between the first annular metal thin layer and the second annular metal thin layer is not particularly limited as long as the insulation distance can be secured, but is, for example, 0.1 mm to 5.0 mm, preferably 0.5 mm. It can be ~ 3.0 mm. By increasing the distance between the first annular metal thin layer and the second annular metal thin layer, the insulation between the first annular metal thin layer and the second annular metal thin layer can be further ensured. Can be done. In addition, it is possible to more reliably prevent the bridge portion 6 from being reconnected after being blown. By reducing the distance between the first annular metal thin layer and the second annular metal thin layer, the length of the bridging portion can be reduced, and the resistance of the bridging portion can be reduced.

上記橋掛け部6の長さ(第一環状金属薄層と接触する位置から、第二環状金属薄層と接触する位置までの長さ)は、上記第一の環状金属薄層と上記第二の環状金属薄層間の距離と実質的に等しい。即ち、橋掛け部6の長さは、特に限定されないが、例えば0.1mm〜5.0mm、好ましくは0.5mm〜3.0mmであり得る。 The length of the bridging portion 6 (the length from the position of contact with the first annular metal thin layer to the position of contact with the second annular metal thin layer) is the length of the first annular metal thin layer and the second annular metal thin layer. It is substantially equal to the distance between the annular metal thin layers of. That is, the length of the bridging portion 6 is not particularly limited, but may be, for example, 0.1 mm to 5.0 mm, preferably 0.5 mm to 3.0 mm.

上記橋掛け部6の幅は、特に限定されないが、例えば0.1mm〜5.0mm、好ましくは0.5mm〜3.0mmであり得る。 The width of the bridging portion 6 is not particularly limited, but may be, for example, 0.1 mm to 5.0 mm, preferably 0.5 mm to 3.0 mm.

尚、本実施形態において、上記橋掛け部6の数は4個であるが、特に限定されない。 In the present embodiment, the number of the bridge portions 6 is 4, but the number is not particularly limited.

一の態様において、橋掛け部は1個である。橋掛け部を1個のみとすることにより、保護素子が動作した際に、橋掛け部がより早く、より確実に溶断することができる。また、橋掛け部の溶断後、溶断部における絶縁距離をより確実に確保することができる。 In one embodiment, there is one bridge. By using only one bridging portion, the bridging portion can be blown faster and more reliably when the protective element operates. In addition, after the bridging portion is blown, the insulation distance at the fused portion can be secured more reliably.

別の態様において、橋掛け部は、2個以上、例えば2〜8個、より好ましくは3〜6個であり得る。橋掛け部の数をより多くすることにより、例えば2個以上とすることにより、定格電流をより大きくすることができ、また、アークの発生を抑制することができる。また、橋掛け部の数をより多くすることにより、保護素子の機械的強度を高めることができる。 In another embodiment, the number of bridging portions may be two or more, for example 2 to 8, more preferably 3 to 6. By increasing the number of bridging portions, for example, by increasing the number to two or more, the rated current can be further increased, and the generation of an arc can be suppressed. Further, by increasing the number of bridging portions, the mechanical strength of the protective element can be increased.

上記橋掛け部が複数存在する場合、橋掛け部は、円環の中心に関して等角度に配置される。橋掛け部を円環の中心に関して等角度に配置することにより、導電性金属薄層を流れる電流パスの長さをより短くすることができ、導電性金属薄層における抵抗をより小さくすることができる。 When there are a plurality of the bridging portions, the bridging portions are arranged at an equal angle with respect to the center of the annulus. By arranging the bridging portion at an equal angle with respect to the center of the annulus, the length of the current path flowing through the conductive metal thin layer can be shortened, and the resistance in the conductive metal thin layer can be further reduced. it can.

本開示の保護素子において、上記ヒューズパターンを有する金属薄層上の少なくとも一部に、絶縁層を有していてもよい。 In the protective element of the present disclosure, an insulating layer may be provided at least a part of the thin metal layer having the fuse pattern.

一の態様において、上記絶縁層は、ヒューズパターン(上記実施形態においては橋掛け部)を覆うように設けられる。ヒューズパターンを絶縁層で覆うことにより、溶断時の金属の飛散を防止することができる。 In one embodiment, the insulating layer is provided so as to cover a fuse pattern (a bridging portion in the above embodiment). By covering the fuse pattern with an insulating layer, it is possible to prevent metal from scattering during fusing.

一の態様において、上記絶縁層は、上記層状要素2と同心円の円環状であり、層状要素の円環内縁から、橋掛け部(即ち、ヒューズパターン)よりも外側までを覆うように設けられる。好ましくは、絶縁層の外縁と、橋掛け部の端(円環の外縁側の端)の距離は、0.1〜2.0mmであり得る。 In one embodiment, the insulating layer is an annular shape concentric with the layered element 2 and is provided so as to cover from the inner edge of the annulus of the layered element to the outside of the bridge portion (that is, the fuse pattern). Preferably, the distance between the outer edge of the insulating layer and the end of the bridging portion (the outer edge of the annulus) can be 0.1 to 2.0 mm.

上記絶縁層は、上記金属薄層の一部が露出するように設けられる。金属薄層の露出部分において、本開示の保護素子を他の電気要素に接続することができる。 The insulating layer is provided so that a part of the thin metal layer is exposed. The protective element of the present disclosure can be connected to other electrical elements in the exposed portion of the thin metal layer.

好ましい態様において、上記絶縁層は、上記層状要素2と同心円の円環状であり、層状要素の円環内縁から、橋掛け部(即ち、ヒューズパターン)よりも外側までを覆い、環状金属薄層が、外縁から所定の距離の領域において露出するように設けられる。 In a preferred embodiment, the insulating layer is an annular shape concentric with the layered element 2 and covers from the inner edge of the annulus of the layered element to the outside of the bridging portion (that is, the fuse pattern), and the annular metal thin layer is formed. , Is provided so as to be exposed in a region at a predetermined distance from the outer edge.

上記絶縁層の厚さは、特に限定されないが、例えば1μm〜50μm、好ましくは5μm〜15μmであり得る。 The thickness of the insulating layer is not particularly limited, but may be, for example, 1 μm to 50 μm, preferably 5 μm to 15 μm.

上記絶縁層は、構成する絶縁性樹脂は、電気的に絶縁性を有する樹脂であれば特に限定されないが、耐熱性が高い樹脂、例えばソルダーレジスト等が好ましい。 The insulating resin constituting the insulating layer is not particularly limited as long as it is an electrically insulating resin, but a resin having high heat resistance, for example, a solder resist or the like is preferable.

上記保護素子1は、上記貫通開口部9を規定する側面上に位置し、層状要素2の両側主表面に位置する導電性金属薄層3,4を電気的に接続する導電性接続部5を有する。即ち、上記導電性金属薄層3および4は、貫通開口部9を通る導電性接続部5により電気的に接続されている。 The protective element 1 is located on the side surface defining the through opening 9, and is a conductive connecting portion 5 that electrically connects the conductive metal thin layers 3 and 4 located on both main surfaces of the layered element 2. Have. That is, the conductive metal thin layers 3 and 4 are electrically connected by a conductive connecting portion 5 passing through the through opening 9.

上記導電性接続部5は、好ましくは導電性の層である。該導電性接続部5は、単層であってもよく、2層以上、例えば2層、3層、4層で構成されていてもよい。 The conductive connecting portion 5 is preferably a conductive layer. The conductive connecting portion 5 may be a single layer, or may be composed of two or more layers, for example, two layers, three layers, or four layers.

上記導電性接続部5を構成する材料は、導電性であれば特に限定されないが、例えば、ニッケル、銅、アルミニウム、金等の金属であり得る。 The material constituting the conductive connecting portion 5 is not particularly limited as long as it is conductive, but may be, for example, a metal such as nickel, copper, aluminum, or gold.

上記導電性接続部5は、好ましくはめっきにより形成される。 The conductive connecting portion 5 is preferably formed by plating.

上記導電性接続部5の厚さは、上記橋掛け部よりも先に溶断しなければ、特に限定されない。導電性接続部5の厚さは、例えば1.0μm〜500μm、好ましくは5.0μm〜300μm、より好ましくは10μm〜200μmであり得る。導電性接続部5の厚さを1.0μm以上とすることにより、導電性接続部5の抵抗を小さくすることができる。また、導電性接続部5の厚さを500μm以下とすることにより、導電性接続部5の形成が容易になる。特に、めっきにより上記導電性接続部5を形成する場合には、導電性接続部5の厚さを20μm以下とすることにより、導電性接続部5の形成がより容易になる。 The thickness of the conductive connecting portion 5 is not particularly limited as long as it is not melted before the bridging portion. The thickness of the conductive connecting portion 5 can be, for example, 1.0 μm to 500 μm, preferably 5.0 μm to 300 μm, and more preferably 10 μm to 200 μm. By setting the thickness of the conductive connecting portion 5 to 1.0 μm or more, the resistance of the conductive connecting portion 5 can be reduced. Further, by setting the thickness of the conductive connecting portion 5 to 500 μm or less, the formation of the conductive connecting portion 5 becomes easy. In particular, when the conductive connection portion 5 is formed by plating, the formation of the conductive connection portion 5 becomes easier by setting the thickness of the conductive connection portion 5 to 20 μm or less.

一の態様において、本開示の保護素子は、層状要素の主表面に導電性金属薄層を形成し、その後、導電性金属薄層の一部を除去し、ヒューズパターンを形成することにより得ることができる。 In one embodiment, the protective element of the present disclosure is obtained by forming a conductive metal thin layer on the main surface of the layered element, and then removing a part of the conductive metal thin layer to form a fuse pattern. Can be done.

好ましい態様において、本開示の保護素子は、
層状要素に貫通開口部を形成する工程、
層状要素の両主表面に導電性金属薄層を貼り付ける工程、
少なくとも1つの導電性金属薄層をエッチングすることによりヒューズパターンを形成する工程、
貫通開口部内に導電性接続部を形成して、両主表面の導電性金属薄層を電気的に接続する工程
を含む方法により製造され得る。
In a preferred embodiment, the protective element of the present disclosure is
The process of forming a through opening in a layered element,
The process of attaching a thin layer of conductive metal to both main surfaces of a layered element,
A step of forming a fuse pattern by etching at least one conductive metal thin layer,
It can be manufactured by a method including a step of forming a conductive connecting portion in the through opening and electrically connecting the conductive metal thin layers on both main surfaces.

本開示の保護素子は、層状要素の主表面上にヒューズパターンを有する導電性金属薄層が存在するので、かかるヒューズパターンの厚みの調整が容易である。特に、導電性金属薄層を、層状要素とは別に準備した金属箔を、層状要素上に配置し、その後ヒューズパターンを形成することにより、より厚みの制御が容易になる。従って、本開示の保護素子は、抵抗値、遮断時間等のばらつきが抑制される。 Since the protective element of the present disclosure has a conductive metal thin layer having a fuse pattern on the main surface of the layered element, it is easy to adjust the thickness of the fuse pattern. In particular, by arranging a metal foil in which a conductive metal thin layer is prepared separately from the layered element on the layered element and then forming a fuse pattern, it becomes easier to control the thickness. Therefore, in the protective element of the present disclosure, variations in resistance value, cutoff time, etc. are suppressed.

(実施例)
橋掛け部6を対称に2つ設けたこと以外は図1および図2に示す本開示の保護素子を製造した。具体的には、保護素子を以下のように製造した。
(Example)
The protective elements of the present disclosure shown in FIGS. 1 and 2 were manufactured except that two bridging portions 6 were provided symmetrically. Specifically, the protective element was manufactured as follows.

まず、層状要素となる絶縁性樹脂を2枚の導電性金属薄層で挟んだシートを準備した。導電性金属薄層として、厚み25μmのNi薄を用い、層状要素として、厚み400μmのポリエチレンを用いた。 First, a sheet was prepared in which an insulating resin to be a layered element was sandwiched between two thin conductive metal layers. As the conductive metal thin layer, a Ni thin layer having a thickness of 25 μm was used, and as the layered element, polyethylene having a thickness of 400 μm was used.

次いで、上記シートに直径6.0mmの貫通開口部を形成した。その後、一方の導電性金属薄層の一部(後のエッチングにより除去する部分)が露出し、他の部分が覆われるようにエッチングレジストを形成し、次いでエッチングにより露出部分の導電性金属薄層を除去し、スリットを形成した。スリットの幅、即ち第一環状金属薄層と第二環状金属薄層間の距離は、0.4mmであった。また、第二環状金属薄層の幅は0.8mm、橋掛け部の幅は0.6mmであった。 Next, a through opening having a diameter of 6.0 mm was formed on the sheet. After that, a part of one conductive metal thin layer (the part to be removed by later etching) is exposed, and an etching resist is formed so as to cover the other part, and then the conductive metal thin layer of the exposed part is exposed by etching. Was removed to form a slit. The width of the slit, that is, the distance between the first annular metal thin layer and the second annular metal thin layer was 0.4 mm. The width of the second annular metal thin layer was 0.8 mm, and the width of the bridging portion was 0.6 mm.

次いで、上記のエッチングレジストを除去し、無電解めっきにより、シート全体に化学銅めっき層を形成した。その後、貫通開口部以外をマスクし、貫通開口部の上記化学銅めっき層上に、電解めっきによりさらに電解銅めっき層を形成した。 Next, the above-mentioned etching resist was removed, and a chemical copper plating layer was formed on the entire sheet by electroless plating. Then, the parts other than the through opening were masked, and an electrolytic copper plating layer was further formed by electrolytic plating on the chemical copper plating layer of the through opening.

次いで、上記のマスクを除去し、エッチングによりシートの主表面上に露出している化学銅めっき層を除去した。その後、シート全体にニッケルめっき処理を行った。かかるめっき処理により、絶縁性樹脂が露出した部分を除いてシート全体にニッケルめっき層を形成した。 Then, the above mask was removed, and the chemical copper plating layer exposed on the main surface of the sheet was removed by etching. Then, the entire sheet was nickel-plated. By such a plating treatment, a nickel plating layer was formed on the entire sheet except for the portion where the insulating resin was exposed.

最後に、上記貫通開口部と同心円である直径14.6mmのディスク状となるように打ち抜き、本開示の保護素子を得た。 Finally, the protective element of the present disclosure was obtained by punching so as to form a disk having a diameter of 14.6 mm, which is concentric with the through opening.

(比較例)
比較例として、スリットを有さず、貫通開口部の側面上にめっきによるヒューズ層を形成して、比較例の保護素子を製造した。
(Comparison example)
As a comparative example, a protective element of the comparative example was manufactured by forming a fuse layer by plating on the side surface of the through opening without a slit.

(評価)
・抵抗値
本開示の保護素子については、第一環状金属薄層とこれに対向する主表面上の導電性金属薄層間の抵抗値を、比較例の保護素子については、上記に対応する位置の導電性金属薄層間の抵抗値を測定した。本開示の保護素子について28個、比較例の保護素子については59個の試料の測定を行った。
(Evaluation)
-Resistance value For the protective element of the present disclosure, the resistance value between the first annular metal thin layer and the conductive metal thin layer on the main surface facing it, and for the protective element of the comparative example, the position corresponding to the above. The resistance value between the thin layers of the conductive metal was measured. 28 samples were measured for the protective element of the present disclosure, and 59 samples were measured for the protective element of the comparative example.

測定の結果、実施例の抵抗値の平均値と、比較例の抵抗値の平均値は、ほぼ同等であった。一方、各平均値に対する標準偏差の割合(標準偏差/平均値)は、実施例試料は5.5%であったのに対し、比較例試料は12.0%であった。即ち、本開示の保護素子は、抵抗値のばらつきが小さいことが確認された。 As a result of the measurement, the average value of the resistance values of the examples and the average value of the resistance values of the comparative examples were almost the same. On the other hand, the ratio of the standard deviation to each average value (standard deviation / average value) was 5.5% in the example sample and 12.0% in the comparative example sample. That is, it was confirmed that the protective element of the present disclosure has a small variation in resistance value.

・遮断時間
実施例および比較例について、各5個ずつ試料を用いて、遮断時間を測定した。試験は、印加電流80Aと60Aで行った。
-Blocking time For each of the examples and comparative examples, the blocking time was measured using 5 samples each. The test was performed with applied currents of 80 A and 60 A.

測定の結果、実施例試料についての平均値に対する標準偏差の割合は、80Aで7.8%、60Aで4.5%であった。一方、比較例試料についての平均値に対する標準偏差の割合は、80Aで17.1%、60Aで33.9%であった。即ち、本開示の保護素子は、遮断時間のばらつきが小さいことが確認された。 As a result of the measurement, the ratio of the standard deviation to the average value for the example sample was 7.8% at 80A and 4.5% at 60A. On the other hand, the ratio of the standard deviation to the average value for the comparative example sample was 17.1% at 80A and 33.9% at 60A. That is, it was confirmed that the protective element of the present disclosure has a small variation in breaking time.

本発明の保護素子は、2次電池のような電気装置内で過剰の電流が流れた場合に、その電流の流れを遮断する保護素子として利用することができる。 The protective element of the present invention can be used as a protective element that cuts off the flow of an excessive current when an excessive current flows in an electric device such as a secondary battery.

1…保護素子
2…層状要素
3,4…導電性金属薄層
5…導電性接続部
6…橋掛け部
7…第一環状金属薄層
8…第二環状金属薄層
9…貫通開口部
1 ... Protective element 2 ... Layered element 3, 4 ... Conductive metal thin layer 5 ... Conductive connection part 6 ... Bridge part 7 ... First annular metal thin layer 8 ... Second annular metal thin layer 9 ... Through opening

Claims (8)

絶縁性樹脂により形成された層状要素と、
前記層状要素の両主表面の少なくとも一方に設けられた導電性金属薄層
とを有し、
前記層状要素は、中心に貫通開口部を有する円環状であり、
前記円環状の層状要素の一の主表面に設けられた前記導電性金属薄層は、前記円環状の層状要素の外縁側に位置する第一の環状金属薄層、前記円環状の層状要素の内縁側に位置する第二の環状金属薄層、およびこれらを電気的に接続するヒューズパターンを有して成り、
前記ヒューズパターンは、円環の中心に関して等角度に2〜8個存在し、
前記導電性金属薄層と前記ヒューズパターンは一体に形成され、
前記ヒューズパターンを有する金属薄層上に、少なくともヒューズパターンを覆うように絶縁層が存在する、
保護素子。
Layered elements formed of insulating resin and
It has a conductive metal thin layer provided on at least one of both main surfaces of the layered element.
The layered element is an annular shape having a through opening in the center.
The conductive metal thin layer provided on the main surface of one of the annular layered elements is a first annular metal thin layer located on the outer edge side of the annular layered element, that is, the annular layered element. It consists of a second annular metal thin layer located on the inner porch, and a fuse pattern that electrically connects them.
There are 2 to 8 fuse patterns at equal angles with respect to the center of the annulus.
The conductive metal thin layer and the fuse pattern are integrally formed.
An insulating layer is present on the thin metal layer having the fuse pattern so as to cover at least the fuse pattern.
Protective element.
前記層状要素は、少なくとも1つの貫通開口部を有し、
前記導電性金属薄層は、前記層状要素の両主表面上に設けられており、
前記層状要素の両主表面上に設けられた導電性金属薄層は、前記貫通開口部を通る導電性接続部により電気的に接続されている、
請求項1に記載の保護素子。
The layered element has at least one through opening and
The conductive metal thin layer is provided on both main surfaces of the layered element.
The conductive metal thin layers provided on both main surfaces of the layered element are electrically connected by a conductive connecting portion passing through the through opening.
The protective element according to claim 1.
前記第一の環状金属薄層と前記第二の環状金属薄層の距離が、0.1mm〜5.0mmである、請求項1または2に記載の保護素子。 The protective element according to claim 1 or 2 , wherein the distance between the first annular metal thin layer and the second annular metal thin layer is 0.1 mm to 5.0 mm. 前記第一の環状金属薄層の幅は、前記第二の環状金属薄層の幅よりも大きい、請求項1〜3のいずれか1項に記載の保護素子。 The protective element according to any one of claims 1 to 3 , wherein the width of the first annular metal thin layer is larger than the width of the second annular metal thin layer. 前記導電性金属薄層は、ニッケル箔または銅箔を含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の保護素子。 The protective element according to any one of claims 1 to 4 , wherein the conductive metal thin layer contains a nickel foil or a copper foil. 請求項1〜5のいずれかに記載の保護素子を有して成る、電気装置。 An electric device comprising the protective element according to any one of claims 1 to 5. 請求項1〜5のいずれかに記載の保護素子を有して成る、封口体。 A sealing body comprising the protective element according to any one of claims 1 to 5. 請求項1〜5のいずれかに記載の保護素子を有して成る、二次電池セル。 A secondary battery cell comprising the protective element according to any one of claims 1 to 5.
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