JP6888296B2 - Manufacturing method of light emitting device - Google Patents

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本開示は、発光装置の製造方法に関する。 The present disclosure relates to a method for manufacturing a light emitting device.

半導体発光素子の底面および側面を樹脂材料で覆い、光の出射側とは反対側の面である底面上に半導体発光素子への給電のための電極対を設けた構造を備えた半導体発光装置が知られている。このような構成によれば、半導体発光素子が有する正極および負極の面積に対して電極の面積を拡大でき、配線基板等へのより容易な実装(例えばフリップチップ接続による実装)が可能になる。 A semiconductor light emitting device having a structure in which the bottom surface and side surfaces of a semiconductor light emitting element are covered with a resin material and an electrode pair for supplying power to the semiconductor light emitting element is provided on the bottom surface which is a surface opposite to the light emitting side. Are known. According to such a configuration, the area of the electrode can be expanded with respect to the area of the positive electrode and the negative electrode of the semiconductor light emitting element, and easier mounting on a wiring substrate or the like (for example, mounting by flip chip connection) becomes possible.

例えば下記の特許文献1は、LED素子の側面と、底面のうちバンプ電極の配置されていない部分とを覆う封止部材の底面に、LED素子のバンプ電極に接続された電極を設けたLED装置、および、その製造方法を開示している。特許文献1に記載されているように、封止部材の底面の電極は、一般に、電解めっき等を利用して封止部材の底面に金属膜を形成し、さらに金属膜をパターニングすることよって形成される。 For example, in Patent Document 1 below, an LED device in which an electrode connected to a bump electrode of an LED element is provided on the bottom surface of a sealing member that covers a side surface of the LED element and a portion of the bottom surface where the bump electrode is not arranged. , And its manufacturing method. As described in Patent Document 1, the electrode on the bottom surface of the sealing member is generally formed by forming a metal film on the bottom surface of the sealing member by using electrolytic plating or the like, and further patterning the metal film. Will be done.

特開2012−124443号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-124443

しかしながら、従来知られた手法では、配線基板等への接続のための電極の形成に、レジストの塗布、現像、エッチング等の工程を必要とし、製造工程が複雑である。そのため、配線基板等への接続のための電極をより簡易な方法で形成できると有益である。 However, in the conventionally known method, a process such as resist coating, development, and etching is required for forming an electrode for connection to a wiring board or the like, and the manufacturing process is complicated. Therefore, it is beneficial to be able to form electrodes for connection to a wiring board or the like by a simpler method.

本開示の発光装置の製造方法は、表面に第1の溝部を有する導電基板を準備する工程(A)と、上面および底面を有し、前記底面側に正極および負極を有する発光体を準備する工程(B)と、前記第1の溝部を跨いで前記正極および前記負極を前記導電基板に接続する工程(C)と、前記発光体を覆う樹脂層を前記導電基板上に形成する工程(D)と、前記樹脂層とは反対側から、前記第1の溝部の底が除去されるまで前記導電基板を薄化して、互いに分離された、前記正極に接続された第1電極および前記負極に接続された第2電極を形成する工程(E)とを含む。 The method for manufacturing the light emitting device of the present disclosure includes a step (A) of preparing a conductive substrate having a first groove on the surface and a light emitting body having a top surface and a bottom surface and having a positive electrode and a negative electrode on the bottom surface side. A step (B), a step (C) of connecting the positive electrode and the negative electrode to the conductive substrate across the first groove portion, and a step (D) of forming a resin layer covering the light emitting body on the conductive substrate. ), The conductive substrate was thinned from the side opposite to the resin layer until the bottom of the first groove was removed, and the first electrode and the negative electrode connected to the positive electrode were separated from each other. The step (E) of forming the connected second electrode is included.

本開示の実施形態によれば、配線基板等への接続のための電極をより簡易な方法で形成可能であり、生産性が向上し得る。 According to the embodiment of the present disclosure, electrodes for connection to a wiring board or the like can be formed by a simpler method, and productivity can be improved.

図1Aは、本開示のある実施形態による発光装置の製造方法の概要を示すフローチャートである。FIG. 1A is a flowchart showing an outline of a method for manufacturing a light emitting device according to an embodiment of the present disclosure. 図1Bは、本開示の他のある実施形態による発光装置の製造方法の概要を示すフローチャートである。FIG. 1B is a flowchart showing an outline of a method for manufacturing a light emitting device according to another embodiment of the present disclosure. 図2は、本開示のある実施形態による製造方法によって得られる例示的な発光装置の上面、断面および底面をあわせて示す図である。FIG. 2 is a diagram showing the top surface, cross section, and bottom surface of an exemplary light emitting device obtained by the manufacturing method according to an embodiment of the present disclosure. 図3は、本開示のある実施形態による発光装置の例示的な製造方法を説明するための模式的な上面図および断面図をあわせて示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a schematic top view and a cross-sectional view for explaining an exemplary manufacturing method of a light emitting device according to an embodiment of the present disclosure. 図4は、本開示のある実施形態による発光装置の例示的な製造方法を説明するための模式的な断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view for explaining an exemplary manufacturing method of a light emitting device according to an embodiment of the present disclosure. 図5は、本開示のある実施形態による発光装置の例示的な製造方法を説明するための模式的な上面図および断面図をあわせて示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a schematic top view and a cross-sectional view for explaining an exemplary manufacturing method of a light emitting device according to an embodiment of the present disclosure. 図6は、本開示のある実施形態による発光装置の例示的な製造方法を説明するための模式的な上面図および断面図をあわせて示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a schematic top view and a cross-sectional view for explaining an exemplary manufacturing method of a light emitting device according to an embodiment of the present disclosure. 図7は、本開示のある実施形態による発光装置の例示的な製造方法を説明するための模式的な断面図である。FIG. 7 is a schematic cross-sectional view for explaining an exemplary manufacturing method of a light emitting device according to an embodiment of the present disclosure. 図8は、本開示のある実施形態による発光装置の例示的な製造方法を説明するための模式的な上面図および断面図をあわせて示す図である。FIG. 8 is a diagram showing a schematic top view and a cross-sectional view for explaining an exemplary manufacturing method of a light emitting device according to an embodiment of the present disclosure. 図9は、本開示のある実施形態による発光装置の例示的な製造方法を説明するための模式的な上面図および断面図をあわせて示す図である。FIG. 9 is a diagram showing a schematic top view and a cross-sectional view for explaining an exemplary manufacturing method of a light emitting device according to an embodiment of the present disclosure. 図10は、本開示のある実施形態による発光装置の例示的な製造方法を説明するための模式的な断面図である。FIG. 10 is a schematic cross-sectional view for explaining an exemplary manufacturing method of a light emitting device according to an embodiment of the present disclosure. 図11は、本開示の他のある実施形態による発光装置の例示的な製造方法を説明するための模式的な断面図である。FIG. 11 is a schematic cross-sectional view for explaining an exemplary manufacturing method of a light emitting device according to another embodiment of the present disclosure. 図12は、本開示の他のある実施形態による発光装置の例示的な製造方法を説明するための模式的な上面図および断面図をあわせて示す図である。FIG. 12 is a diagram showing together a schematic top view and a sectional view for explaining an exemplary manufacturing method of a light emitting device according to another embodiment of the present disclosure. 図13は、本開示の他のある実施形態による発光装置の例示的な製造方法を説明するための模式的な断面図である。FIG. 13 is a schematic cross-sectional view for explaining an exemplary manufacturing method of a light emitting device according to another embodiment of the present disclosure. 図14は、複数の発光体110Aが結合された構造体の切断ラインCLの他の一例を示す上面図である。FIG. 14 is a top view showing another example of the cutting line CL of the structure in which the plurality of illuminants 110A are bonded. 図15は、図14に示す切断ラインCLに沿った分割によって得られる発光装置200Aの模式的な断面図である。FIG. 15 is a schematic cross-sectional view of the light emitting device 200A obtained by division along the cutting line CL shown in FIG. 図16は、複数の発光体110Aが結合された構造体の切断ラインCLのさらに他の一例を示す上面図である。FIG. 16 is a top view showing still another example of the cutting line CL of the structure in which the plurality of illuminants 110A are bonded. 図17は、図16に示す切断ラインCLに沿った分割によって得られる発光装置200Bの模式的な斜視図である。FIG. 17 is a schematic perspective view of the light emitting device 200B obtained by division along the cutting line CL shown in FIG. 図18は、本開示のある実施形態による発光装置の製造方法の変形例を説明するための模式的な断面図である。FIG. 18 is a schematic cross-sectional view for explaining a modification of the method for manufacturing a light emitting device according to an embodiment of the present disclosure. 図19は、めっき層101Pを有する導電基板101Gの模式的な断面図である。FIG. 19 is a schematic cross-sectional view of the conductive substrate 101G having the plating layer 101P. 図20は、溝部(第1の溝部)101gおよび溝部101gの延びる方向とは異なる方向に延びる溝部(第2の溝部)101hを有する導電基板101Hの例示的な構成を示す。FIG. 20 shows an exemplary configuration of a conductive substrate 101H having a groove portion (first groove portion) 101 g and a groove portion (second groove portion) 101h extending in a direction different from the extending direction of the groove portion 101 g. 図21は、導電基板101Hに発光体110Aを固定した状態を模式的に示す上面図および断面図をあわせて示す図である。FIG. 21 is a view showing a state in which the light emitting body 110A is fixed to the conductive substrate 101H together with a top view and a cross-sectional view schematically showing a state. 図22は、本開示のさらに他のある実施形態による製造方法によって得られる例示的な発光装置を示す模式的な断面図である。FIG. 22 is a schematic cross-sectional view showing an exemplary light emitting device obtained by the manufacturing method according to still another embodiment of the present disclosure. 図23は、本開示のさらに他のある実施形態による発光装置の例示的な製造方法を説明するための模式的な上面図および断面図をあわせて示す図である。FIG. 23 is a diagram showing together a schematic top view and a sectional view for explaining an exemplary manufacturing method of a light emitting device according to still another embodiment of the present disclosure. 図24は、本開示のさらに他のある実施形態による発光装置の例示的な製造方法を説明するための模式的な上面図および断面図をあわせて示す図である。FIG. 24 is a diagram showing together a schematic top view and a sectional view for explaining an exemplary manufacturing method of a light emitting device according to still another embodiment of the present disclosure. 図25は、本開示のさらに他のある実施形態による発光装置の例示的な製造方法を説明するための模式的な上面図および断面図をあわせて示す図である。FIG. 25 is a diagram showing together a schematic top view and a sectional view for explaining an exemplary manufacturing method of a light emitting device according to still another embodiment of the present disclosure. 図26は、本開示のさらに他のある実施形態による発光装置の例示的な製造方法を説明するための模式的な断面図である。FIG. 26 is a schematic cross-sectional view for explaining an exemplary manufacturing method of a light emitting device according to still another embodiment of the present disclosure. 図27は、本開示のさらに他のある実施形態による発光装置の例示的な製造方法を説明するための模式的な上面図および断面図をあわせて示す図である。FIG. 27 is a diagram showing together a schematic top view and a sectional view for explaining an exemplary manufacturing method of a light emitting device according to still another embodiment of the present disclosure. 図28は、本開示のさらに他のある実施形態による発光装置の例示的な製造方法を説明するための模式的な断面図である。FIG. 28 is a schematic cross-sectional view for explaining an exemplary manufacturing method of a light emitting device according to still another embodiment of the present disclosure. 図29は、本開示のさらに他のある実施形態による発光装置の例示的な製造方法を説明するための模式的な上面図および断面図をあわせて示す図である。FIG. 29 is a diagram showing together a schematic top view and a sectional view for explaining an exemplary manufacturing method of a light emitting device according to still another embodiment of the present disclosure. 図30は、本開示のさらに他のある実施形態による製造方法によって得られる例示的な発光装置を示す模式的な断面図である。FIG. 30 is a schematic cross-sectional view showing an exemplary light emitting device obtained by the manufacturing method according to still another embodiment of the present disclosure. 図31は、本開示のさらに他のある実施形態による発光装置の例示的な製造方法を説明するための模式的な上面図および断面図をあわせて示す図である。FIG. 31 is a diagram showing together a schematic top view and a sectional view for explaining an exemplary manufacturing method of a light emitting device according to still another embodiment of the present disclosure. 図32は、本開示のさらに他のある実施形態による発光装置の例示的な製造方法を説明するための模式的な断面図である。FIG. 32 is a schematic cross-sectional view for explaining an exemplary manufacturing method of a light emitting device according to still another embodiment of the present disclosure. 図33は、本開示のさらに他のある実施形態による発光装置の例示的な製造方法を説明するための模式的な上面図および断面図をあわせて示す図である。FIG. 33 is a diagram showing together a schematic top view and a sectional view for explaining an exemplary manufacturing method of a light emitting device according to still another embodiment of the present disclosure. 図34は、本開示のさらに他のある実施形態による発光装置の例示的な製造方法を説明するための模式的な断面図である。FIG. 34 is a schematic cross-sectional view for explaining an exemplary manufacturing method of a light emitting device according to still another embodiment of the present disclosure.

以下、図面を参照しながら、本開示の実施形態を詳細に説明する。以下の実施形態は、例示であり、本開示による発光装置の構成およびその製造方法は、以下の実施形態に限られない。例えば、以下の実施形態で示される数値、形状、材料、ステップ、そのステップの順序などは、あくまでも一例であり、技術的に矛盾が生じない限りにおいて種々の改変が可能である。 Hereinafter, embodiments of the present disclosure will be described in detail with reference to the drawings. The following embodiments are examples, and the configuration of the light emitting device and the manufacturing method thereof according to the present disclosure are not limited to the following embodiments. For example, the numerical values, shapes, materials, steps, the order of the steps, and the like shown in the following embodiments are merely examples, and various modifications can be made as long as there is no technical contradiction.

以下の説明では、特定の方向または位置を示す用語(例えば、「上」、「下」、「右」、「左」およびそれらの用語を含む別の用語)を用いる場合がある。しかしながら、それらの用語は、参照した図面における相対的な方向または位置を分かり易さのために用いているに過ぎない。参照した図面における「上」、「下」等の用語による相対的な方向または位置の関係が同一であれば、本開示以外の図面、実際の製品等において、参照した図面と同一の配置でなくてもよい。以下の説明において、実質的に同じ機能を有する構成要素は共通の参照符号で示し、説明を省略することがある。また、図面が過度に複雑になることを避けるために、一部の要素の図示を省略することがある。図面が示す構成要素の大きさ、位置関係等は、分かり易さのために誇張されている場合があり、実際の発光装置における大きさ、あるいは、実際の発光装置における構成要素間の大小関係を反映していない場合がある。本開示において「平行」および「垂直」(または「直交」)とは、特に他の言及がない限り、2つの直線、辺あるいは面等がそれぞれ0°から±5°程度および90°から±5°程度の範囲にある場合を含む。 In the following description, terms indicating a specific direction or position (eg, "top", "bottom", "right", "left" and other terms including those terms) may be used. However, these terms use relative orientation or position in the referenced drawings for clarity only. If the relative directions or positional relationships in terms such as "top" and "bottom" in the referenced drawings are the same, the layout is not the same as the referenced drawings in drawings other than the present disclosure, actual products, etc. You may. In the following description, components having substantially the same function are indicated by common reference numerals, and the description may be omitted. In addition, some elements may be omitted in order to avoid overly complicated drawings. The size, positional relationship, etc. of the components shown in the drawings may be exaggerated for the sake of clarity, and the size in the actual light emitting device or the magnitude relationship between the components in the actual light emitting device may be exaggerated. It may not be reflected. In the present disclosure, "parallel" and "vertical" (or "orthogonal") mean that two straight lines, sides, surfaces, etc. are about 0 ° to ± 5 ° and 90 ° to ± 5, respectively, unless otherwise specified. Including the case where it is in the range of about °.

(発光装置の製造方法の概要)
図1Aは、本開示のある実施形態による発光装置の製造方法の概要を示すフローチャートである。図1Aに示すように、本開示のある実施形態による発光装置の製造方法は、概略的には、表面に溝部を有する導電基板を準備する工程(ステップS1)と、ある面の側に正極および負極を有する発光体を準備する工程(ステップS2a)と、溝部を跨いで正極および負極を導電基板に接続する工程(ステップS3)と、発光体を覆う樹脂層を導電基板上に形成する工程(ステップS4a)と、樹脂層とは反対側から、溝部の底が除去されるまで導電基板を薄化して、互いに分離された第1電極および第2電極を形成する工程(ステップS5)とを含む。図1Bは、本開示の他のある実施形態による発光装置の製造方法の概要を示すフローチャートである。図1Bに例示する製造方法は、図1Aに示すステップS2aに代えて、ある面の側に正極および負極を有する発光素子を準備する工程(ステップS2b)を含んでいる。また、ステップS4aに代えて、発光素子を覆う樹脂層を導電基板上に形成する工程(ステップS4b)を含んでいる。後述するように、発光体は、発光素子を含む構造体である。以下の説明から明らかとなるように、本開示の実施形態によれば、例えばフォトリソグラフィを必要とすることなく、発光素子への給電のための電極を発光装置の底面に形成可能である。
(Outline of manufacturing method of light emitting device)
FIG. 1A is a flowchart showing an outline of a method for manufacturing a light emitting device according to an embodiment of the present disclosure. As shown in FIG. 1A, the method for manufacturing a light emitting device according to an embodiment of the present disclosure is roughly a step of preparing a conductive substrate having a groove on the surface (step S1), a positive electrode on a certain surface side, and a positive electrode. A step of preparing a light emitting body having a negative electrode (step S2a), a step of connecting a positive electrode and a negative electrode to a conductive substrate across a groove (step S3), and a step of forming a resin layer covering the light emitting body on the conductive substrate (step S2a). This includes step S4a) and a step (step S5) of thinning the conductive substrate from the side opposite to the resin layer until the bottom of the groove is removed to form the first electrode and the second electrode separated from each other. .. FIG. 1B is a flowchart showing an outline of a method for manufacturing a light emitting device according to another embodiment of the present disclosure. The manufacturing method illustrated in FIG. 1B includes a step (step S2b) of preparing a light emitting element having a positive electrode and a negative electrode on a certain surface side instead of step S2a shown in FIG. 1A. Further, instead of step S4a, a step (step S4b) of forming a resin layer covering the light emitting element on the conductive substrate is included. As will be described later, the light emitting body is a structure including a light emitting element. As will be clear from the following description, according to the embodiment of the present disclosure, an electrode for supplying power to the light emitting element can be formed on the bottom surface of the light emitting device without requiring, for example, photolithography.

(発光装置の構造およびその製造方法の第1の例)
図2は、本開示のある実施形態による製造方法によって得られる例示的な発光装置の構成を示す。図2の中段は、図2の上段の上面図におけるA−A’線断面図である。図2の下段は、これらの上面図および断面図に対応する底面図である。
(First example of the structure of the light emitting device and its manufacturing method)
FIG. 2 shows the configuration of an exemplary light emitting device obtained by the manufacturing method according to an embodiment of the present disclosure. The middle part of FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA'in the top view of the upper part of FIG. The lower part of FIG. 2 is a bottom view corresponding to these top views and cross-sectional views.

図2に示す発光装置100Aは、発光体110Aと、第1電極102と、第2電極104と、接合部材103、105と、光反射性樹脂部106Re、106Rfとを有する。発光体110Aは、上面(第1面)111aおよび底面(第2面)111b、ならびに、上面111aと底面111bとの間に位置する側面111sを有する発光素子111をその一部に含んでいる。発光素子111の上面111aおよび底面111bは、それぞれ、発光体110Aの上面110a側および底面110b側に位置し、ここでは、発光素子111の底面111bは、発光体110Aの底面110bを構成している。図2に模式的に示すように、発光素子111は、素子本体111mと、底面111b側に設けられた正極112および負極114とを有する。したがって、発光体110Aがその底面110b側に正極112および負極114を有するといってもよい。図2に例示する構成において、発光体110Aは、発光素子111の上面111a側に配置された保護層118と、発光素子111および保護層118に挟まれた波長変換層116Aとをさらに含む。 The light emitting device 100A shown in FIG. 2 includes a light emitting body 110A, a first electrode 102, a second electrode 104, joining members 103 and 105, and light reflecting resin portions 106Re and 106Rf. The light emitting body 110A includes a light emitting element 111 having a top surface (first surface) 111a and a bottom surface (second surface) 111b, and a side surface 111s located between the top surface 111a and the bottom surface 111b. The upper surface 111a and the bottom surface 111b of the light emitting element 111 are located on the upper surface 110a side and the bottom surface 110b side of the light emitting body 110A, respectively, and here, the bottom surface 111b of the light emitting element 111 constitutes the bottom surface 110b of the light emitting body 110A. .. As schematically shown in FIG. 2, the light emitting element 111 has an element main body 111m and a positive electrode 112 and a negative electrode 114 provided on the bottom surface 111b side. Therefore, it may be said that the illuminant 110A has a positive electrode 112 and a negative electrode 114 on the bottom surface 110b side thereof. In the configuration illustrated in FIG. 2, the light emitting body 110A further includes a protective layer 118 arranged on the upper surface 111a side of the light emitting element 111, and a wavelength conversion layer 116A sandwiched between the light emitting element 111 and the protective layer 118.

発光素子111の素子本体111mは、例えば透光性の基板と、基板上の半導体積層構造とを含む。半導体積層構造は、活性層と、活性層を挟むn型半導体層およびp型半導体層とを含む。発光素子111としては、半導体レーザ、LED等の公知の半導体発光素子のチップを利用することができる。以下では、発光素子111としてLEDチップを例示する。 The element body 111m of the light emitting element 111 includes, for example, a translucent substrate and a semiconductor laminated structure on the substrate. The semiconductor laminated structure includes an active layer, an n-type semiconductor layer and a p-type semiconductor layer sandwiching the active layer. As the light emitting element 111, a chip of a known semiconductor light emitting element such as a semiconductor laser or an LED can be used. In the following, an LED chip will be illustrated as the light emitting element 111.

発光素子111の上面111aとは反対側の底面111b側に設けられた正極112および負極114は、例えば、Ag、Al、Au、Cu、Ti、Ni、Pt、Pd、W等の金属または合金の単層膜または積層膜である。正極112および負極114は、例えば電解めっきによって形成することができる。正極112は、接合部材103によって第1電極102に接続され、負極114は、接合部材105によって第2電極104に接続される。 The positive electrode 112 and the negative electrode 114 provided on the bottom surface 111b side opposite to the top surface 111a of the light emitting element 111 are made of, for example, a metal or alloy such as Ag, Al, Au, Cu, Ti, Ni, Pt, Pd, W. It is a single-layer film or a laminated film. The positive electrode 112 and the negative electrode 114 can be formed by, for example, electrolytic plating. The positive electrode 112 is connected to the first electrode 102 by the joining member 103, and the negative electrode 114 is connected to the second electrode 104 by the joining member 105.

発光体110Aの保護層118は、発光素子111の上面111aの上方に位置する。保護層118は、透光性部材であり、例えば透明樹脂層である。保護層118は、シリコーン樹脂、シリコーン変性樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、トリメチルペンテン樹脂もしくはポリノルボルネン樹脂、または、これらの樹脂の2種以上を含む樹脂の層であり得る。保護層118は、ガラスから形成された層であってもよい。 The protective layer 118 of the light emitting body 110A is located above the upper surface 111a of the light emitting element 111. The protective layer 118 is a translucent member, for example, a transparent resin layer. The protective layer 118 may be a silicone resin, a silicone-modified resin, an epoxy resin, a phenol resin, a polycarbonate resin, an acrylic resin, a trimethylpentene resin or a polynorbornene resin, or a layer of a resin containing two or more of these resins. The protective layer 118 may be a layer formed of glass.

波長変換層116Aは、保護層118と発光素子111との間に配置されている。波長変換層116Aは、例えば樹脂中に蛍光体の粒子が分散された層である。波長変換層116Aは、発光素子111から出射する光の少なくとも一部を吸収し、発光素子111からの出射光の波長とは異なる波長の光を発する。波長変換層116Aは、波長変換物質である蛍光体の粒子が樹脂材料に分散された樹脂組成物を用いて形成することができる。蛍光体の粒子を分散させる樹脂材料としては、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、変性エポキシ樹脂、ユリア樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂もしくはフッ素樹脂、または、これらの樹脂の2種以上を含む樹脂を用いることができる。蛍光体には、公知の材料を適用することができる。蛍光体の例は、YAG系蛍光体、KSF系蛍光体等のフッ化物系蛍光体およびCASN等の窒化物系蛍光体、βサイアロン蛍光体等である。YAG系蛍光体は、青色光を黄色光に変換する波長変換部材の例であり、KSF系蛍光体およびCASNは、青色光を赤色光に変換する波長変換部材の例であり、βサイアロン蛍光体は、青色光を緑色光に変換する波長変換部材の例である。蛍光体は、量子ドット蛍光体であってもよい。 The wavelength conversion layer 116A is arranged between the protective layer 118 and the light emitting element 111. The wavelength conversion layer 116A is, for example, a layer in which phosphor particles are dispersed in a resin. The wavelength conversion layer 116A absorbs at least a part of the light emitted from the light emitting element 111 and emits light having a wavelength different from the wavelength of the light emitted from the light emitting element 111. The wavelength conversion layer 116A can be formed by using a resin composition in which particles of a phosphor, which is a wavelength conversion substance, are dispersed in a resin material. As the resin material for dispersing the particles of the phosphor, silicone resin, modified silicone resin, epoxy resin, modified epoxy resin, urea resin, phenol resin, acrylic resin, urethane resin or fluororesin, or two or more of these resins. A resin containing the above can be used. A known material can be applied to the phosphor. Examples of phosphors include fluoride-based phosphors such as YAG-based phosphors and KSF-based phosphors, nitride-based phosphors such as CASN, and β-sialone phosphors. The YAG-based phosphor is an example of a wavelength conversion member that converts blue light into yellow light, and the KSF-based phosphor and CASN are examples of wavelength conversion members that convert blue light into red light. Is an example of a wavelength conversion member that converts blue light into green light. The phosphor may be a quantum dot phosphor.

この例では、発光素子111の上面111a側から見たときの発光体110Aの外形は、矩形状である。図2の上段に示すように、光反射性樹脂部106Reは、発光体110Aを取り囲むようにして発光体110Aの4つの側面を覆っている。後述するように、光反射性樹脂部106Reは、例えば光反射性のフィラーが分散された樹脂材料から形成され、発光素子111から出射された光を反射させる。発光装置100Aは、その上面100aのうち、保護層118が露出された部分から、発光素子111からの光を外部に向けて出射する。 In this example, the outer shape of the light emitting body 110A when viewed from the upper surface 111a side of the light emitting element 111 is rectangular. As shown in the upper part of FIG. 2, the light-reflecting resin portion 106Re covers the four side surfaces of the light-emitting body 110A so as to surround the light-emitting body 110A. As will be described later, the light-reflecting resin portion 106Re is formed of, for example, a resin material in which a light-reflecting filler is dispersed, and reflects the light emitted from the light emitting element 111. The light emitting device 100A emits light from the light emitting element 111 toward the outside from a portion of the upper surface 100a where the protective layer 118 is exposed.

光反射性樹脂部106Rfは、図2の中段および下段に示すように、発光装置100Aの第1電極102および第2電極104の間に位置する。光反射性樹脂部106Reと同様に、光反射性樹脂部106Rfも例えば光反射性のフィラーが分散された樹脂材料から形成される。発光装置100Aの第1電極102および第2電極104の間の空間を光反射性樹脂部106Rfが占めることにより、発光装置100Aの底面100b側からの光の出射が抑制され、光の利用効率向上の効果が得られる。 The light-reflecting resin portion 106Rf is located between the first electrode 102 and the second electrode 104 of the light emitting device 100A, as shown in the middle and lower stages of FIG. Like the light-reflective resin part 106Re, the light-reflective resin part 106Rf is also formed of, for example, a resin material in which a light-reflective filler is dispersed. By occupying the space between the first electrode 102 and the second electrode 104 of the light emitting device 100A by the light reflecting resin portion 106Rf, the emission of light from the bottom surface 100b side of the light emitting device 100A is suppressed, and the light utilization efficiency is improved. The effect of is obtained.

図2の中段を参照すれば分かるように、第1電極102および第2電極104の表面と、光反射性樹脂部106Rfの表面とは、整合しており、したがって、発光装置100Aの底面100bは、ここでは平坦面である。 As can be seen from the middle part of FIG. 2, the surfaces of the first electrode 102 and the second electrode 104 and the surface of the light-reflecting resin portion 106Rf are aligned, and therefore, the bottom surface 100b of the light emitting device 100A is , Here is a flat surface.

以下、図3〜図10を参照しながら、図2に示す構造を有する発光装置の例示的な製造方法を詳細に説明する。 Hereinafter, an exemplary manufacturing method of the light emitting device having the structure shown in FIG. 2 will be described in detail with reference to FIGS. 3 to 10.

まず、図3に示すように、表面に溝部(第1の溝部)101gを有する導電基板101を準備する(図1AのステップS1)。導電基板101は、例えば、Cu、Al等の金属板を準備し、金属板の一方の主面に溝部101gを形成することによって形成できる。溝部101gは、エッチング、スクライブ、ダイシング(ハーフカット)等を適用して金属板の一部を除去することによって形成すればよい。導電基板101の上面視における形状は、任意である。導電基板101の形状としては、後続する工程における取り扱い、加工等に適した形状を採用し得る。 First, as shown in FIG. 3, a conductive substrate 101 having a groove portion (first groove portion) 101 g on the surface is prepared (step S1 in FIG. 1A). The conductive substrate 101 can be formed, for example, by preparing a metal plate such as Cu or Al and forming a groove portion 101 g on one main surface of the metal plate. The groove portion 101g may be formed by removing a part of the metal plate by applying etching, scribe, dicing (half cut) or the like. The shape of the conductive substrate 101 when viewed from above is arbitrary. As the shape of the conductive substrate 101, a shape suitable for handling, processing, etc. in the subsequent process can be adopted.

図3は、その上段および下段に、導電基板101の一例の模式的な上面図および断面図をあわせて示す。図3に例示する構成において、導電基板101は、3本の溝部101gが形成された表面101sを有する。ここでは、溝部101gの各々は、上面図において紙面の上下方向に沿って直線状に延びている。溝部101gの数、形状および配置は、図3に示す例に限定されず、例えば溝部101gの形状は、曲線状であってもよいし、屈曲および/または分岐を含んでいてもよい。 FIG. 3 also shows a schematic top view and a cross-sectional view of an example of the conductive substrate 101 in the upper and lower stages thereof. In the configuration illustrated in FIG. 3, the conductive substrate 101 has a surface 101s on which three groove portions 101g are formed. Here, each of the groove portions 101g extends linearly along the vertical direction of the paper surface in the top view. The number, shape and arrangement of the grooves 101g are not limited to the example shown in FIG. 3, for example, the shape of the grooves 101g may be curved or may include bending and / or branching.

ここで、図3中の3本の溝部101gのうち中央の1つに注目する。その溝部が設けられることにより、その溝部の左右に第1領域R1および第2領域R2が形成されている。導電基板101のうち、第1領域R1および第2領域R2は、それぞれ、溝部101gの底101bに対して凸形状の第1部分11および第2部分12を含む。なお、溝部101gの幅Wは、正極112および負極114の間隔に厳密に一致している必要はない。幅Wは、正極112および負極114の間隔程度であればよい。 Here, attention is paid to one of the three groove portions 101g in FIG. 3 in the center. By providing the groove portion, the first region R1 and the second region R2 are formed on the left and right sides of the groove portion. Of the conductive substrate 101, the first region R1 and the second region R2 include a first portion 11 and a second portion 12 that are convex with respect to the bottom 101b of the groove portion 101 g, respectively. The width W of the groove 101g does not have to be exactly the same as the distance between the positive electrode 112 and the negative electrode 114. The width W may be about the distance between the positive electrode 112 and the negative electrode 114.

次に、底面側に正極および負極を有する発光体を準備する(図1AのステップS2a)。なお、ここでは、図2を参照して説明した発光体110Aを用いる。 Next, a light emitter having a positive electrode and a negative electrode on the bottom surface side is prepared (step S2a in FIG. 1A). Here, the light emitting body 110A described with reference to FIG. 2 is used.

導電基板101および発光体110Aの準備後、発光体110Aを導電基板101に固定する。このとき、図4に示すように、発光体110Aの底面110bに位置する正極112および負極114を導電基板101の表面101sに対向させて発光体110Aを導電基板101に固定する。 After preparing the conductive substrate 101 and the light emitting body 110A, the light emitting body 110A is fixed to the conductive substrate 101. At this time, as shown in FIG. 4, the positive electrode 112 and the negative electrode 114 located on the bottom surface 110b of the light emitting body 110A are opposed to the surface 101s of the conductive substrate 101, and the light emitting body 110A is fixed to the conductive substrate 101.

図5は、導電基板101への発光体110Aの固定後の状態を示す。図5の上段は、発光体110Aが固定された導電基板101の上面図であり、図5の下段は、図5の上段に示す上面図のB−B’線断面図である。本開示の以降の他の断面図においても、特に断りの無い限り、図5の上段に示すB−B’線と同様の位置での垂直断面を示す。 FIG. 5 shows a state after the light emitting body 110A is fixed to the conductive substrate 101. The upper part of FIG. 5 is a top view of the conductive substrate 101 to which the light emitting body 110A is fixed, and the lower part of FIG. 5 is a sectional view taken along line BB'of the top view shown in the upper part of FIG. Unless otherwise specified, other cross-sectional views after the present disclosure also show a vertical cross-sectional view at the same position as the BB'line shown in the upper part of FIG.

図5に模式的に示すように、導電基板101への発光体110Aの固定の工程においては、発光体110Aが導電基板101の溝部101gを跨ぐようにして、発光体110Aを導電基板101に固定する。図5の下段に示されるように、このとき、溝部101gを跨いで正極112および負極114を導電基板101に接続する(図1AのステップS3)。例えば、導電基板101の第1領域R1上に接合部材103を付与し、接合部材103によって正極112と導電基板101(例えば第1部分11)とを互いに接続および固定する。同様に、導電基板101の第2領域R2上に接合部材105を付与し、接合部材105によって負極114と導電基板101(例えば第2部分12)とを互いに接続および固定する。 As schematically shown in FIG. 5, in the step of fixing the illuminant 110A to the conductive substrate 101, the illuminant 110A is fixed to the conductive substrate 101 so that the illuminant 110A straddles the groove 101 g of the conductive substrate 101. To do. As shown in the lower part of FIG. 5, at this time, the positive electrode 112 and the negative electrode 114 are connected to the conductive substrate 101 across the groove 101 g (step S3 in FIG. 1A). For example, a joining member 103 is provided on the first region R1 of the conductive substrate 101, and the positive electrode 112 and the conductive substrate 101 (for example, the first portion 11) are connected and fixed to each other by the joining member 103. Similarly, the bonding member 105 is provided on the second region R2 of the conductive substrate 101, and the negative electrode 114 and the conductive substrate 101 (for example, the second portion 12) are connected and fixed to each other by the bonding member 105.

接合部材103、105は、発光体110Aと導電基板101とを互いに電気的に接続する機能を有する。接合部材103、105として、例えばはんだを用いることができる。接合部材103、105の材料の例は、Au含有合金、Ag含有合金、Pd含有合金、In含有合金、Pb−Pd含有合金、Au−Ga含有合金、Au−Sn含有合金、Sn含有合金、Sn−Cu含有合金、Sn−Cu−Ag含有合金、Au−Ge含有合金、Au−Si含有合金、Al含有合金、Cu−In含有合金、または、金属およびフラックスの混合物等である。接合部材103、105の材料としては、液状、ペースト状または固体状(シート状、ブロック状、粉末状、ワイヤ状)の部材を用いることができ、発光体の組成、基板の形状等に応じて適切な部材を適宜選択すればよい。接合部材103、105は、単一の部材で構成されていてもよいし、数種の部材を組み合わせて接合部材103、105として用いてもよい。 The joining members 103 and 105 have a function of electrically connecting the light emitting body 110A and the conductive substrate 101 to each other. For example, solder can be used as the joining members 103 and 105. Examples of materials for the joining members 103 and 105 include Au-containing alloys, Ag-containing alloys, Pd-containing alloys, In-containing alloys, Pb-Pd-containing alloys, Au-Ga-containing alloys, Au-Sn-containing alloys, Sn-containing alloys, and Sn. -Cu-containing alloy, Sn-Cu-Ag-containing alloy, Au-Ge-containing alloy, Au-Si-containing alloy, Al-containing alloy, Cu-In-containing alloy, or a mixture of metal and flux. As the material of the joining members 103 and 105, liquid, paste or solid (sheet, block, powder, wire) members can be used, depending on the composition of the light emitting body, the shape of the substrate, and the like. Appropriate members may be appropriately selected. The joining members 103 and 105 may be composed of a single member, or several types of members may be combined and used as the joining members 103 and 105.

図5の上段に示すように、1つの導電基板101上に複数の発光体110Aを固定してもよい。この例では、第1の方向(ここでは紙面の上下方向)、および、第1の方向とは異なる第2の方向(ここでは紙面の左右方向)に複数の発光体110Aを配置することによって、導電基板101上にマトリクス状に発光体110Aを固定している。もちろん、導電基板101上における複数の発光体110Aの配置は、任意に設定し得る。ただし、導電基板101上のいずれの発光体110Aについても、溝部101gを跨いで正極112および負極114を導電基板101に接続する。 As shown in the upper part of FIG. 5, a plurality of light emitters 110A may be fixed on one conductive substrate 101. In this example, by arranging the plurality of light emitters 110A in the first direction (here, the vertical direction of the paper surface) and the second direction different from the first direction (here, the horizontal direction of the paper surface). The light emitter 110A is fixed on the conductive substrate 101 in a matrix. Of course, the arrangement of the plurality of light emitters 110A on the conductive substrate 101 can be arbitrarily set. However, for any of the light emitting bodies 110A on the conductive substrate 101, the positive electrode 112 and the negative electrode 114 are connected to the conductive substrate 101 across the groove 101 g.

後述する工程から明らかになるように、導電基板101上に複数の発光体を配置しておくことにより、複数の発光装置を効率的に製造できる。また、複数の発光部を有する発光装置を比較的容易に製造することが可能になる。後述するように、本開示の実施形態では、導電基板101への発光体(または発光素子)の接続後に、発光体(または発光素子)を覆う樹脂層を形成する。導電基板101上に複数の発光体を配置する場合、発光体間のピッチは、樹脂層を形成するための材料の粘度、発光体および導電基板101の溝部101gの形状等に応じて適宜設定され得る。 As will be clarified from the steps described later, by arranging a plurality of light emitting bodies on the conductive substrate 101, a plurality of light emitting devices can be efficiently manufactured. In addition, a light emitting device having a plurality of light emitting units can be manufactured relatively easily. As will be described later, in the embodiment of the present disclosure, a resin layer covering the light emitting body (or light emitting element) is formed after the light emitting body (or light emitting element) is connected to the conductive substrate 101. When a plurality of light emitters are arranged on the conductive substrate 101, the pitch between the light emitters is appropriately set according to the viscosity of the material for forming the resin layer, the shape of the light emitter and the groove portion 101 g of the conductive substrate 101, and the like. obtain.

次に、発光体110Aを覆う樹脂層を導電基板101上に形成する(図1AのステップS4a)。ここでは、発光体110Aを覆う光反射性樹脂層106Rを導電基板101上に形成する。図6に模式的に示すように、光反射性樹脂層106Rは、発光体110Aのうち、接合部材103または105に接する部分以外の全体を覆うように形成される。 Next, a resin layer covering the light emitting body 110A is formed on the conductive substrate 101 (step S4a in FIG. 1A). Here, the light-reflecting resin layer 106R that covers the light emitting body 110A is formed on the conductive substrate 101. As schematically shown in FIG. 6, the light-reflecting resin layer 106R is formed so as to cover the entire light-emitting body 110A except for the portion in contact with the joining member 103 or 105.

光反射性樹脂層106Rは、例えば光反射性のフィラーが分散された樹脂層である。光反射性のフィラーとしては、金属の粒子、または、光反射性のフィラーを分散させる樹脂材料よりも高い屈折率を有する無機材料もしくは有機材料の粒子を用いることができる。光反射性のフィラーの例は、二酸化チタン、二酸化ケイ素、二酸化ジルコニウム、チタン酸カリウム、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、ムライト、酸化ニオブ、硫酸バリウム、酸化ケイ素、各種希土類酸化物(例えば、酸化イットリウム、酸化ガドリニウム)等の粒子である。光反射性のフィラーを分散させる樹脂材料としては、例えば、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、変性エポキシ樹脂、ユリア樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂もしくはフッ素樹脂、または、これらの樹脂の2種以上を含む樹脂を用いることができる。光反射性樹脂層106Rは、発光素子111からの光に対する反射率が例えば60%以上の層である。発光素子111からの光に対する反射率は、70%以上、80%または90%以上であってもよく、適宜に設定され得る。 The light-reflecting resin layer 106R is, for example, a resin layer in which a light-reflective filler is dispersed. As the light-reflecting filler, metal particles or particles of an inorganic material or an organic material having a higher refractive index than the resin material in which the light-reflecting filler is dispersed can be used. Examples of light-reflecting fillers are titanium dioxide, silicon dioxide, zirconium dioxide, potassium titanate, alumina, aluminum nitride, boron nitride, murite, niobium oxide, barium sulfate, silicon oxide, and various rare earth oxides (eg, yttrium oxide). , Gadolinium oxide) and the like. Examples of the resin material for dispersing the light-reflecting filler include silicone resin, modified silicone resin, epoxy resin, modified epoxy resin, urea resin, phenol resin, acrylic resin, urethane resin or fluororesin, or these resins. A resin containing two or more kinds can be used. The light-reflecting resin layer 106R is, for example, a layer having a reflectance of 60% or more with respect to light from the light emitting element 111. The reflectance for light from the light emitting element 111 may be 70% or more, 80% or 90% or more, and may be appropriately set.

光反射性樹脂層106Rの形成には、例えばトランスファー成形等の圧縮成形法を適用可能である。熱および圧力を加えながら、例えば未硬化の樹脂に光反射性のフィラーが分散された材料を型の内部で流動させることによって、図6の下段に模式的に示すように、発光体110Aの底面(この例では発光素子111の底面111bと共通)と、溝部101gの底101bとに挟まれた部分にも光反射性樹脂層106Rの材料を配置し得る。溝部101gの底101bに、予め貫通孔を形成しておいてもよい。溝部101gの底101bに貫通孔を設けておくことにより、発光体110Aの底面と、溝部101gの底101bとに挟まれた部分に光反射性樹脂層106Rの材料をより確実に流し得る。なお、ここでは、接合部材103および105によって発光体110Aが導電基板101に固定されているので(発光素子111が導電基板101に固定されているといってもよい。)、圧縮成形時に導電基板101から発光体110A(または発光素子111)が分離してしまうことを抑制し得る。また、導電基板101の熱膨張による発光体110Aのずれも抑制される。圧縮成形法を適用する場合、光反射性樹脂層106Rを形成するための樹脂組成物として、エポキシ系またはシリコーン系の粉状のモールドコンパウンド等を用いてもよい。 A compression molding method such as transfer molding can be applied to the formation of the light-reflecting resin layer 106R. The bottom surface of the light emitter 110A is schematically shown in the lower part of FIG. 6 by flowing a material in which a light-reflecting filler is dispersed in an uncured resin while applying heat and pressure inside the mold. The material of the light-reflecting resin layer 106R can also be arranged in the portion sandwiched between the bottom surface 111b of the light emitting element 111 (in this example, the bottom surface 111b) and the bottom surface 101b of the groove 101g. A through hole may be formed in advance in the bottom 101b of the groove portion 101g. By providing a through hole in the bottom 101b of the groove portion 101g, the material of the light-reflecting resin layer 106R can be more reliably flowed to the portion sandwiched between the bottom surface of the light emitting body 110A and the bottom 101b of the groove portion 101g. Here, since the light emitting body 110A is fixed to the conductive substrate 101 by the joining members 103 and 105 (it may be said that the light emitting element 111 is fixed to the conductive substrate 101), the conductive substrate is fixed at the time of compression molding. It is possible to prevent the light emitting body 110A (or the light emitting element 111) from separating from the 101. Further, the displacement of the light emitting body 110A due to the thermal expansion of the conductive substrate 101 is also suppressed. When the compression molding method is applied, an epoxy-based or silicone-based powdery mold compound or the like may be used as the resin composition for forming the light-reflecting resin layer 106R.

次に、光反射性樹脂層106Rとは反対側から、溝部101gの底101bが除去されるまで導電基板101を薄化する(図1AのステップS5)。例えば、平面研削機を用いて、導電基板101の表面101sとは反対側から、溝部101gの底101bが除去されるまで研削することにより、図7に模式的に示すように、溝部101gの位置で研削面Gsbから光反射性樹脂層106Rの一部を露出させることができる。溝部101gの底101bが除去されることにより、導電基板101が溝部101gの位置で複数の導電片101pに分離される。例えば、導電基板101のうち、第1部分11(図6参照)の一部および第2部分12(図6参照)は、導電基板101の薄化後、互いに分離された状態で導電片101pとして光反射性樹脂層106R上に残る。複数の導電片101pの各々は、自身とは異なる他の導電片101pから空間的にも電気的にも分離された状態にある。 Next, the conductive substrate 101 is thinned from the side opposite to the light-reflecting resin layer 106R until the bottom 101b of the groove 101g is removed (step S5 in FIG. 1A). For example, by using a surface grinder to grind the conductive substrate 101 from the side opposite to the surface 101s until the bottom 101b of the groove 101g is removed, the position of the groove 101g is schematically shown in FIG. A part of the light-reflecting resin layer 106R can be exposed from the ground surface Gsb. By removing the bottom 101b of the groove 101g, the conductive substrate 101 is separated into a plurality of conductive pieces 101p at the position of the groove 101g. For example, of the conductive substrate 101, a part of the first portion 11 (see FIG. 6) and the second portion 12 (see FIG. 6) are formed as conductive pieces 101p in a state of being separated from each other after the conductive substrate 101 is thinned. It remains on the light reflective resin layer 106R. Each of the plurality of conductive pieces 101p is in a state of being spatially and electrically separated from other conductive pieces 101p different from itself.

次に、光反射性樹脂層106Rの一部を除去することにより、図8に模式的に示すように、発光素子111の上面111a側に位置する保護層118を光反射性樹脂層106Rから露出させる。光反射性樹脂層106Rの一部の除去には、例えばラップ加工、平面研削機を利用した研削加工等を用いることができる。このとき、保護層118の一部が光反射性樹脂層106Rの一部とともに除去されてもかまわない。図8の上段に示すように、この例では、研削面Gsaに保護層118が矩形状に現れる。このときの、表面101sから光反射性樹脂層106Rの上面に相当する研削面Gsaまでの垂直方向の距離(高さ)は、例えば200〜250μm程度である。なお、光反射性樹脂層106Rの一部の除去後に導電基板101の薄化を実行してもかまわない。 Next, by removing a part of the light-reflecting resin layer 106R, the protective layer 118 located on the upper surface 111a side of the light emitting element 111 is exposed from the light-reflecting resin layer 106R, as schematically shown in FIG. Let me. For removing a part of the light-reflecting resin layer 106R, for example, lapping, grinding using a surface grinder, or the like can be used. At this time, a part of the protective layer 118 may be removed together with a part of the light-reflecting resin layer 106R. As shown in the upper part of FIG. 8, in this example, the protective layer 118 appears in a rectangular shape on the ground surface Gsa. At this time, the vertical distance (height) from the surface 101s to the ground surface Gsa corresponding to the upper surface of the light-reflecting resin layer 106R is, for example, about 200 to 250 μm. The conductive substrate 101 may be thinned after a part of the light-reflecting resin layer 106R is removed.

次に、例えば切削砥石(ブレード)を用いたダイシングによって、図9中に太い破線CLで示すように、発光体110Aの間の位置で導電片101pおよび光反射性樹脂層106Rを切断する。切断により、導電片101pおよび光反射性樹脂層106Rによって複数の発光体110Aが結合された構造体が、例えばそれぞれが発光体110Aを有する複数の構造体に分割される。このとき、図10に示すように、複数の発光体110Aの間で共有されていた導電片101pが発光体110Aの正極112および負極114毎に分割される。導電片101pの各々を、各発光体110Aの正極112または負極114に接続された部分に分割することにより、1つの発光体110Aを含む構造体毎に、接合部材103によって正極112に接続された第1電極102と、接合部材105によって負極114に接続された第2電極104とを形成することができる。 Next, for example, by dicing with a cutting grindstone (blade), the conductive piece 101p and the light-reflecting resin layer 106R are cut at a position between the light emitting bodies 110A as shown by the thick broken line CL in FIG. By cutting, the structure in which the plurality of light emitters 110A are bonded by the conductive piece 101p and the light reflective resin layer 106R is divided into, for example, a plurality of structures each having the light emitting body 110A. At this time, as shown in FIG. 10, the conductive piece 101p shared among the plurality of illuminants 110A is divided into the positive electrode 112 and the negative electrode 114 of the illuminant 110A. By dividing each of the conductive pieces 101p into portions connected to the positive electrode 112 or the negative electrode 114 of each light emitting body 110A, each structure including one light emitting body 110A was connected to the positive electrode 112 by the joining member 103. The first electrode 102 and the second electrode 104 connected to the negative electrode 114 by the joining member 105 can be formed.

図10から分かるように、第1電極102と第2電極104との間には光反射性樹脂部106Rfが介在しており、最終的に得られる構造において、第1電極102および第2電極104は、空間的にも電気的にも互いに分離されている。また、図9を参照して説明した工程から明らかなように、発光装置100Aの側面100sを構成する、第1電極102および第2電極104の表面は、発光装置100Aの側面100sを構成する、光反射性樹脂部106Reの表面に整合している。なお、第1電極102および第2電極104の厚さは、例えば5μm以上150μm以下程度の範囲であり得る。 As can be seen from FIG. 10, a light-reflecting resin portion 106Rf is interposed between the first electrode 102 and the second electrode 104, and in the finally obtained structure, the first electrode 102 and the second electrode 104 Are spatially and electrically separated from each other. Further, as is clear from the steps described with reference to FIG. 9, the surfaces of the first electrode 102 and the second electrode 104 constituting the side surface 100s of the light emitting device 100A constitute the side surface 100s of the light emitting device 100A. It is aligned with the surface of the light-reflecting resin portion 106Re. The thickness of the first electrode 102 and the second electrode 104 may be in the range of, for example, about 5 μm or more and 150 μm or less.

以上の工程により、図2を参照して説明した構造を有する発光装置100Aが得られる。上述の例示的な製造方法によれば、フォトリソグラフィを必要とすることなく、発光装置の底面側に、発光素子の正極および負極にそれぞれ接続され、正極および負極よりも面積が拡大された電極を比較的容易に形成できる。このように、本開示の実施形態によれば、製造工程の複雑化を回避しながら、正極および負極よりも面積が拡大された給電用の電極を底面に有する発光装置を提供することが可能である。給電用の電極として、発光体(または発光素子)の正極および負極と比較して大きな面積を有する電極が形成されるので、配線基板等に対する位置合わせが容易になる。すなわち、配線基板等に対する実装が容易な発光装置が提供される。また、比較的大きな面積を有する電極に発光装置中の発光体(または発光素子)の正極および負極が電気的に接続されるので、放熱性向上の効果も得られる。 Through the above steps, a light emitting device 100A having the structure described with reference to FIG. 2 is obtained. According to the above-mentioned exemplary manufacturing method, an electrode connected to the positive electrode and the negative electrode of the light emitting element, respectively, and having an area larger than that of the positive electrode and the negative electrode is provided on the bottom surface side of the light emitting device without requiring photolithography. It can be formed relatively easily. As described above, according to the embodiment of the present disclosure, it is possible to provide a light emitting device having a power feeding electrode having an area larger than that of the positive electrode and the negative electrode on the bottom surface while avoiding the complexity of the manufacturing process. is there. As the electrode for feeding power, an electrode having a larger area than the positive electrode and the negative electrode of the light emitting body (or light emitting element) is formed, so that the alignment with the wiring board or the like is facilitated. That is, a light emitting device that can be easily mounted on a wiring board or the like is provided. Further, since the positive electrode and the negative electrode of the light emitting body (or light emitting element) in the light emitting device are electrically connected to the electrode having a relatively large area, the effect of improving heat dissipation can also be obtained.

導電基板101に固定された発光体110Aを覆う樹脂層として光反射性樹脂層106Rを形成することにより、発光素子111、波長変換層116Aおよび保護層118の側面を覆う光反射性樹脂部106Reを形成することができる。発光素子111、波長変換層116Aおよび保護層118を取り囲む光反射性樹脂部106Reを形成することにより、発光素子111の例えば側面から出射された光を光反射性樹脂部106Reによって反射させて、発光素子111からの光を発光装置100Aの上面100aに向けて反射させることができる。すなわち、光の利用効率が向上する。 By forming the light-reflecting resin layer 106R as a resin layer covering the light-emitting body 110A fixed to the conductive substrate 101, the light-reflecting resin portion 106Re covering the side surfaces of the light-emitting element 111, the wavelength conversion layer 116A, and the protective layer 118 can be formed. Can be formed. By forming the light-reflecting resin portion 106Re that surrounds the light-emitting element 111, the wavelength conversion layer 116A, and the protective layer 118, the light emitted from, for example, the side surface of the light-emitting element 111 is reflected by the light-reflecting resin portion 106Re to emit light. The light from the element 111 can be reflected toward the upper surface 100a of the light emitting device 100A. That is, the efficiency of light utilization is improved.

また、発光体110Aを覆う樹脂層として光反射性樹脂層106Rを形成することにより、発光素子111の底面111bの、正極112および負極114の間に位置する部分を覆う光反射性樹脂部106Rfを形成することが可能である。光反射性樹脂部106Rfを設けることにより、発光素子111の底面111b側からの光の出射が抑制され、光の利用効率がより向上し得る。 Further, by forming the light-reflecting resin layer 106R as the resin layer covering the light emitting body 110A, the light-reflecting resin portion 106Rf covering the portion of the bottom surface 111b of the light emitting element 111 located between the positive electrode 112 and the negative electrode 114 can be formed. It is possible to form. By providing the light-reflecting resin portion 106Rf, the emission of light from the bottom surface 111b side of the light emitting element 111 can be suppressed, and the light utilization efficiency can be further improved.

(変形例)
なお、発光体110Aに代えて、発光素子111を準備し、発光素子111を導電基板101に固定してから、発光素子111の上面111a上に波長変換層116Aおよび保護層118を配置または形成してもよい。すなわち、図3〜図10を参照して説明した例と同様に、導電基板101を準備する(図1BのステップS1)。発光素子111を準備し(図1BのステップS2b)、図11に示すように、発光素子111が導電基板101の溝部101gを跨ぐようにして、波長変換層116Aおよび保護層118を有しない状態の発光素子111を導電基板101に固定する。このとき、溝部101gを跨いで正極112および負極114を導電基板101に接続する(図1BのステップS3)。
(Modification example)
A light emitting element 111 is prepared instead of the light emitting body 110A, the light emitting element 111 is fixed to the conductive substrate 101, and then the wavelength conversion layer 116A and the protective layer 118 are arranged or formed on the upper surface 111a of the light emitting element 111. You may. That is, the conductive substrate 101 is prepared in the same manner as in the examples described with reference to FIGS. 3 to 10 (step S1 in FIG. 1B). A light emitting element 111 is prepared (step S2b in FIG. 1B), and as shown in FIG. 11, the light emitting element 111 straddles the groove 101 g of the conductive substrate 101 and does not have the wavelength conversion layer 116A and the protective layer 118. The light emitting element 111 is fixed to the conductive substrate 101. At this time, the positive electrode 112 and the negative electrode 114 are connected to the conductive substrate 101 across the groove 101 g (step S3 in FIG. 1B).

図12は、導電基板101への発光素子111の固定後の状態を示す。図示するように、導電基板101と正極112との間、および、導電基板101と負極114との間には、それぞれ、接合部材103および105が形成されている。 FIG. 12 shows a state after the light emitting element 111 is fixed to the conductive substrate 101. As shown in the figure, joining members 103 and 105 are formed between the conductive substrate 101 and the positive electrode 112 and between the conductive substrate 101 and the negative electrode 114, respectively.

次に、発光素子111の上面111a側に保護層118を形成する。ここでは、発光素子111の上面111a上に波長変換層116Aおよび保護層118を形成する。 Next, the protective layer 118 is formed on the upper surface 111a side of the light emitting element 111. Here, the wavelength conversion layer 116A and the protective layer 118 are formed on the upper surface 111a of the light emitting element 111.

例えば、図13に模式的に示すように波長変換層116Aおよび保護層118の積層体LBを発光素子111の上面111a上に配置することによって、上面111a上に波長変換層116Aおよび保護層118を形成することが可能である。積層体LBは、蛍光体の粒子が分散された樹脂材料中の樹脂をBステージの状態とした蛍光体シートと、透明シート(例えば透明樹脂のシート)とを準備し、これらを貼り合わせることによって準備することができる。積層体LBは、蛍光体、シリコーン樹脂等の樹脂材料、無機フィラー粒子および溶媒を含有するスラリーを、スプレー法、キャスト法、ポッティング法等の塗布法によって保護層118の一方の主面上に付与し、付与された材料を硬化させることによっても形成することができる。積層体LBは、発光素子111毎に配置されてもよいし、複数の発光素子111を覆う大きさの積層体LBを複数の発光素子111上に配置してもよい。あるいは、発光素子111の上面111a上に波長変換層116Aの材料を付与した後、透明シートを重ねてから波長変換層116Aの材料を硬化させることによって、発光素子111の上面111a上に波長変換層116Aおよび保護層118を形成してもよい。発光素子111の上面111a上に波長変換層116Aおよび保護層118を形成した後の状態は、図5に示す状態と同様である。 For example, by arranging the laminated body LB of the wavelength conversion layer 116A and the protective layer 118 on the upper surface 111a of the light emitting element 111 as schematically shown in FIG. 13, the wavelength conversion layer 116A and the protective layer 118 are placed on the upper surface 111a. It is possible to form. The laminated body LB is prepared by preparing a phosphor sheet in which the resin in the resin material in which the phosphor particles are dispersed is in the B stage state and a transparent sheet (for example, a transparent resin sheet), and laminating them. Can be prepared. In the laminated body LB, a slurry containing a resin material such as a phosphor or a silicone resin, inorganic filler particles and a solvent is applied onto one main surface of the protective layer 118 by a coating method such as a spray method, a casting method or a potting method. It can also be formed by curing the applied material. The laminated body LB may be arranged for each light emitting element 111, or a laminated body LB having a size covering the plurality of light emitting elements 111 may be arranged on the plurality of light emitting elements 111. Alternatively, by applying the material of the wavelength conversion layer 116A on the upper surface 111a of the light emitting element 111, stacking the transparent sheets, and then curing the material of the wavelength conversion layer 116A, the wavelength conversion layer is placed on the upper surface 111a of the light emitting element 111. 116A and protective layer 118 may be formed. The state after forming the wavelength conversion layer 116A and the protective layer 118 on the upper surface 111a of the light emitting element 111 is the same as the state shown in FIG.

保護層118の形成後、発光素子111を覆う樹脂層を導電基板101上に形成する(図1BのステップS4b)。例えば、保護層118の外側から発光素子111を覆うように光反射性樹脂層106Rを形成する。光反射性樹脂層106Rの形成後の状態は、図6と同様であり得るので図示を省略する。本明細書において、「覆う」には、被覆される部材と被覆する部材とが接している態様だけでなく、これらが直接に接していない部分を含むような態様も包含するように解釈される。 After forming the protective layer 118, a resin layer covering the light emitting element 111 is formed on the conductive substrate 101 (step S4b in FIG. 1B). For example, the light-reflecting resin layer 106R is formed so as to cover the light emitting element 111 from the outside of the protective layer 118. The state after the formation of the light-reflecting resin layer 106R can be the same as that in FIG. 6, and is not shown. In the present specification, "covering" is interpreted to include not only a mode in which a member to be covered and a member to be covered are in contact with each other, but also a mode in which they are not in direct contact with each other. ..

その後、上述の図7〜図10に示す工程と同様の工程を実行する。すなわち、光反射性樹脂層106Rとは反対側から、溝部101gの底101bが除去されるまで導電基板101を薄化する(図1BのステップS5、図7参照)。次に、光反射性樹脂層106Rの一部を除去することにより、発光素子111の上面111a側に位置する保護層118を光反射性樹脂層106Rから露出させる(図8参照)。さらに、発光素子111の間の位置で導電片101pおよび光反射性樹脂層106Rを切断する(図9参照)。切断により、1つの発光素子111を含む構造体毎に、接合部材103によって正極112に接続された第1電極102と、接合部材105によって負極114に接続された第2電極104とが形成される。 After that, the same steps as those shown in FIGS. 7 to 10 described above are executed. That is, the conductive substrate 101 is thinned from the side opposite to the light-reflecting resin layer 106R until the bottom 101b of the groove 101g is removed (see steps S5 and 7 in FIG. 1B). Next, by removing a part of the light-reflecting resin layer 106R, the protective layer 118 located on the upper surface 111a side of the light emitting element 111 is exposed from the light-reflecting resin layer 106R (see FIG. 8). Further, the conductive piece 101p and the light-reflecting resin layer 106R are cut at a position between the light emitting elements 111 (see FIG. 9). By cutting, a first electrode 102 connected to the positive electrode 112 by the joining member 103 and a second electrode 104 connected to the negative electrode 114 by the joining member 105 are formed for each structure including one light emitting element 111. ..

以上のような工程によっても、図2を参照して説明した構造を有する発光装置100Aを得ることが可能である。この例のように、導電基板101への発光素子111の固定後に波長変換層116Aおよび/または保護層118を形成することにより、波長変換層116Aおよび/または保護層118を有する構造体(例えば発光体110A)を導電基板101に固定する場合と比較して、導電基板101との接合の際の加熱に起因する、上面111a上の層へのダメージを低減し得る。 The light emitting device 100A having the structure described with reference to FIG. 2 can also be obtained by the above steps. As in this example, by forming the wavelength conversion layer 116A and / or the protective layer 118 after fixing the light emitting element 111 to the conductive substrate 101, a structure having the wavelength conversion layer 116A and / or the protective layer 118 (for example, light emission). Compared with the case where the body 110A) is fixed to the conductive substrate 101, damage to the layer on the upper surface 111a due to heating at the time of joining with the conductive substrate 101 can be reduced.

なお、図9および図10を参照して説明した例では、複数の発光体110Aが結合された構造体を、それぞれが発光体110Aを有する複数の単位に切断している。しかしながら、構造体の分割の単位は、この例に限定されない。それぞれが複数の発光体110Aを含む単位に構造体を分割してもよい。 In the example described with reference to FIGS. 9 and 10, the structure in which the plurality of illuminants 110A are bonded is cut into a plurality of units each having the illuminant 110A. However, the unit of division of the structure is not limited to this example. The structure may be divided into units, each containing a plurality of light emitters 110A.

図14は、複数の発光体110Aが結合された構造体の切断ラインCLの他の一例を示す。図14に示す例では、導電片101pの位置していない部分(溝部101gのあった部分)の延びる第1の方向(ここでは紙面の上下方向)に関しては、発光体110A毎に切断ラインCLを設定している。他方、第2の方向(ここでは紙面の左右方向)に関しては、2個の発光体110A毎に切断ラインCLを設定している。このような切断ラインCLの設定によれば、図15に示すように、それぞれが、直列に接続された2個の発光体110Aを含む複数の発光装置200Aを効率的に提供し得る。 FIG. 14 shows another example of the cutting line CL of the structure in which the plurality of illuminants 110A are bonded. In the example shown in FIG. 14, the cutting line CL is set for each light emitter 110A in the first direction (here, the vertical direction of the paper surface) in which the portion where the conductive piece 101p is not located (the portion where the groove portion 101g is located) extends. It is set. On the other hand, with respect to the second direction (here, the left-right direction of the paper surface), a cutting line CL is set for each of the two light emitters 110A. According to such a setting of the cutting line CL, as shown in FIG. 15, each of them can efficiently provide a plurality of light emitting devices 200A including two light emitting bodies 110A connected in series.

図15に示す発光装置200Aは、2個の発光体110Aを含むことに対応して、その上面200aに2つの発光部LEを有する。図15に例示する構成において、左側の発光体110Aの負極114および右側の発光体110Aの正極112は、それぞれ、接合部材105および103を介して、共通の電極101qに接続されている。発光装置200Aを例えば配線基板に実装する場合、左側の発光体110Aの正極112に接続された第1電極102と、右側の発光体110Aの負極114に接続された第2電極104との間に所定の電流が供給されるように、発光装置200Aを配線基板上の配線パターンに接続する。 The light emitting device 200A shown in FIG. 15 has two light emitting units LE on its upper surface 200a corresponding to the inclusion of two light emitting bodies 110A. In the configuration illustrated in FIG. 15, the negative electrode 114 of the light emitting body 110A on the left side and the positive electrode 112 of the light emitting body 110A on the right side are connected to the common electrode 101q via the joining members 105 and 103, respectively. When the light emitting device 200A is mounted on a wiring substrate, for example, between the first electrode 102 connected to the positive electrode 112 of the light emitting body 110A on the left side and the second electrode 104 connected to the negative electrode 114 of the light emitting body 110A on the right side. The light emitting device 200A is connected to the wiring pattern on the wiring board so that a predetermined current is supplied.

図16は、複数の発光体110Aが結合された構造体の切断ラインCLのさらに他の一例を示す。図16に示す例では、第1の方向(ここでは紙面の上下方向)に関して、2個の発光体110A毎に切断ラインCLを設定し、第2の方向(ここでは紙面の左右方向)に関しては、発光体110A毎に切断ラインCLを設定している。このような切断ラインCLの設定によれば、図17に示すように、それぞれが、並列に接続された2個の発光体110Aを含む複数の発光装置200Bが得られる。発光装置200Bの第1電極102および第2電極104は、2個の発光体110Aの間で共有される。つまり、この例では、2個の発光体110Aの正極112同士が接合部材103を介して単一の第1電極102に接続され、負極114同士が接合部材105を介して単一の第2電極104に接続されている。 FIG. 16 shows yet another example of the cutting line CL of the structure in which the plurality of illuminants 110A are bonded. In the example shown in FIG. 16, a cutting line CL is set for each of the two illuminants 110A in the first direction (here, the vertical direction of the paper surface), and in the second direction (here, the horizontal direction of the paper surface). , A cutting line CL is set for each illuminant 110A. According to such a setting of the cutting line CL, as shown in FIG. 17, a plurality of light emitting devices 200B each including two light emitting bodies 110A connected in parallel can be obtained. The first electrode 102 and the second electrode 104 of the light emitting device 200B are shared between the two light emitting bodies 110A. That is, in this example, the positive electrodes 112 of the two light emitters 110A are connected to the single first electrode 102 via the bonding member 103, and the negative electrodes 114 are connected to the single second electrode 102 via the bonding member 105. It is connected to 104.

このように、本開示の実施形態によれば、直列または並列に接続された複数の発光体(または発光素子)を含む発光装置の提供も比較的容易である。もちろん、発光装置に含まれる発光体の数は、任意に設定し得る。 As described above, according to the embodiment of the present disclosure, it is relatively easy to provide a light emitting device including a plurality of light emitting bodies (or light emitting elements) connected in series or in parallel. Of course, the number of light emitters included in the light emitting device can be arbitrarily set.

表面にめっき層を有する金属板を用いて導電基板を形成してもよい。めっき層を形成することにより、はんだなどの導電材料に対する導電基板の濡れ性を向上させることができ、導電基板への発光体110A(または発光素子111)の配置がより容易になる。 A conductive substrate may be formed by using a metal plate having a plating layer on the surface. By forming the plating layer, the wettability of the conductive substrate with respect to the conductive material such as solder can be improved, and the light emitting body 110A (or the light emitting element 111) can be more easily arranged on the conductive substrate.

例えば、図18に模式的に示すように、まず、金属板101Mの表面をめっきし、例えばAu膜101fを形成する。その後、図19に模式的に示すように、エッチング等によってAu膜101fおよび金属板101Mの一部を除去し、溝部101gを形成する。これにより、めっき層101Pを有する導電基板101Gが得られる。 For example, as schematically shown in FIG. 18, first, the surface of the metal plate 101M is plated to form, for example, an Au film 101f. Then, as schematically shown in FIG. 19, a part of the Au film 101f and the metal plate 101M is removed by etching or the like to form a groove portion 101g. As a result, the conductive substrate 101G having the plating layer 101P can be obtained.

このとき、金属板101Mの一部をめっき層101Pごと除去することによって、金属板101Mに複数の第2の溝部をさらに形成してもよい。図20は、溝部(第1の溝部)101gおよび溝部101gの延びる方向とは異なる方向に延びる溝部(第2の溝部)101hをさらに有する導電基板101Hの例示的な構成を示す。図20に例示する構成において、複数の溝部101hは、複数の溝部101gの延びる第1の方向(ここでは紙面の上下方向)に直交する方向に延びている。溝部101gおよび溝部101hが設けられることにより、グリッド状の溝部が導電基板101Hに形成される。また、溝部101gとは異なる方向に延びる溝部101hが形成される結果、溝部101gによって互いに分離された第1の島状部107および第2の島状部109が溝部101gの左右に形成されている。 At this time, a plurality of second grooves may be further formed in the metal plate 101M by removing a part of the metal plate 101M together with the plating layer 101P. FIG. 20 shows an exemplary configuration of a conductive substrate 101H further having a groove portion (first groove portion) 101g and a groove portion (second groove portion) 101h extending in a direction different from the extending direction of the groove portion 101g. In the configuration illustrated in FIG. 20, the plurality of groove portions 101h extend in a direction orthogonal to the first direction in which the plurality of groove portions 101g extend (here, the vertical direction of the paper surface). By providing the groove portion 101g and the groove portion 101h, a grid-like groove portion is formed on the conductive substrate 101H. Further, as a result of forming the groove 101h extending in a direction different from that of the groove 101g, the first island-shaped portion 107 and the second island-shaped portion 109 separated from each other by the groove portion 101g are formed on the left and right sides of the groove portion 101g. ..

図21は、導電基板101Hに発光体110Aを固定した状態を示す。図21に模式的に示すように、導電基板101Hへの発光体110Aの固定においては、発光体110Aが溝部101gを跨ぐようにして、正極112および負極114をそれぞれ金属板101Mの第1の島状部107および第2の島状部109に接続する。発光体110Aに代えて発光素子111をまず導電基板101Hに固定する場合には、発光素子111が溝部101gを跨ぐようにして、正極112および負極114をそれぞれ金属板101Mの第1の島状部107および第2の島状部109に接続すればよい。 FIG. 21 shows a state in which the light emitting body 110A is fixed to the conductive substrate 101H. As schematically shown in FIG. 21, in fixing the light emitting body 110A to the conductive substrate 101H, the light emitting body 110A straddles the groove 101g, and the positive electrode 112 and the negative electrode 114 are respectively the first island of the metal plate 101M. It connects to the shaped portion 107 and the second island-shaped portion 109. When the light emitting element 111 is first fixed to the conductive substrate 101H instead of the light emitting body 110A, the positive electrode 112 and the negative electrode 114 are respectively formed on the first island-shaped portion of the metal plate 101M so that the light emitting element 111 straddles the groove portion 101g. It may be connected to 107 and the second island-shaped portion 109.

図21の下段に示すように、この例では、めっき層101Pは、金属板101Mの第1の島状部107および第2の島状部109上に位置しており、溝部101g上の領域、および、図21の下段には現れていない溝部101h上の領域からはめっき(ここではAu膜)は除去されている。導電基板101Hのうち、めっきが形成されている部分は、はんだに対する濡れ性が高く、したがって、より確実に接合部材103および105を配置し得る。他方、金属板101Mとして例えばCu板を用い、溝部101gおよび101hを形成した場合、めっきが除去される結果、溝部101gおよび101hの部分が酸化されやすくなり、溝部101gおよび101hにおけるはんだの濡れ性が低下する。換言すれば、溝部101gおよび101h内に接合部材103および105が配置されにくくなり、正極112または負極114が溝部101gまたは101hの部分で導電基板101Hに接合されてしまうことを防止し得る。 As shown in the lower part of FIG. 21, in this example, the plating layer 101P is located on the first island-shaped portion 107 and the second island-shaped portion 109 of the metal plate 101M, and is a region on the groove portion 101g. The plating (here, Au film) is removed from the region on the groove 101h that does not appear in the lower part of FIG. 21. The portion of the conductive substrate 101H on which the plating is formed has high wettability to the solder, and therefore the joining members 103 and 105 can be arranged more reliably. On the other hand, when a Cu plate is used as the metal plate 101M and the groove portions 101g and 101h are formed, the plating is removed, and as a result, the groove portions 101g and 101h are easily oxidized, and the wettability of the solder in the groove portions 101g and 101h becomes poor. descend. In other words, it becomes difficult for the joining members 103 and 105 to be arranged in the grooves 101g and 101h, and it is possible to prevent the positive electrode 112 or the negative electrode 114 from being joined to the conductive substrate 101H at the groove 101g or 101h.

このように、溝部101gおよび101hを設けることにより、第1の島状部107上および第2の島状部109上に選択的にめっきを残すことができる。正極112および負極114の接続されるべき領域に、はんだ等の導電材料に対する濡れ性が選択的に向上された領域を設けておくことにより、発光体(または発光素子)の位置ずれを抑制して、導電基板の所望の領域に、より確実に発光体(または発光素子)を接合し得る。つまり、導電基板に対する発光体(または発光素子)の固定時のアラインメントずれを低減し得る。なお、めっき層101Pの形成、溝部101gの形成、溝部101hの形成の順序は、上述の例に限定されず、任意に変更可能である。例えば、溝部101hの形成後にめっき層101Pを形成してもよい。また、溝部101hの数、形状および配置は、溝部101gと同様に、任意に設定してよい。 By providing the groove portions 101g and 101h in this way, plating can be selectively left on the first island-shaped portion 107 and on the second island-shaped portion 109. By providing a region in which the positive electrode 112 and the negative electrode 114 should be connected, where the wettability with respect to a conductive material such as solder is selectively improved, the misalignment of the light emitting body (or light emitting element) is suppressed. , The light emitting body (or light emitting element) can be more reliably bonded to the desired region of the conductive substrate. That is, it is possible to reduce the alignment deviation when the light emitting body (or light emitting element) is fixed to the conductive substrate. The order of forming the plating layer 101P, forming the groove 101g, and forming the groove 101h is not limited to the above example, and can be arbitrarily changed. For example, the plating layer 101P may be formed after the groove portion 101h is formed. Further, the number, shape and arrangement of the groove portions 101h may be arbitrarily set in the same manner as in the groove portion 101g.

(発光装置の構造およびその製造方法の第2の例)
図22は、本開示の他のある実施形態による製造方法によって得られる例示的な発光装置の断面を模式的に示す。図22に示す発光装置100Bは、発光体110Bと、第1電極102と、第2電極104と、接合部材103、105と、透明樹脂部106Ceと、光反射性樹脂部106Rfとを有する。発光体110Bは、図2を参照して説明した発光体110Aと同様に、発光素子111を含む。この例においても、発光体110Bの底面110bは、発光素子111の底面111bに一致している。
(Second example of the structure of the light emitting device and its manufacturing method)
FIG. 22 schematically shows a cross section of an exemplary light emitting device obtained by the manufacturing method according to another embodiment of the present disclosure. The light emitting device 100B shown in FIG. 22 includes a light emitting body 110B, a first electrode 102, a second electrode 104, joining members 103 and 105, a transparent resin portion 106Ce, and a light reflecting resin portion 106Rf. The light emitting body 110B includes a light emitting element 111, similarly to the light emitting body 110A described with reference to FIG. Also in this example, the bottom surface 110b of the light emitting body 110B coincides with the bottom surface 111b of the light emitting element 111.

発光装置100B中の発光体110Bと、図2を参照して説明した発光体110Aとの間の主要な相違点は、発光体110Bが保護層118を含んでおらず、かつ、平板状の波長変換層116Aに代えて、発光素子111の上面111aおよび側面111sを覆う波長変換層116Bを有している点である。波長変換層116Bは、例えば波長変換層116Aを形成するための材料と同様の材料を用いて波長変換層116Aと同様に形成し得る。 The main difference between the light emitting body 110B in the light emitting device 100B and the light emitting body 110A described with reference to FIG. 2 is that the light emitting body 110B does not include the protective layer 118 and has a flat wavelength. Instead of the conversion layer 116A, the wavelength conversion layer 116B covering the upper surface 111a and the side surface 111s of the light emitting element 111 is provided. The wavelength conversion layer 116B can be formed in the same manner as the wavelength conversion layer 116A by using, for example, the same material as the material for forming the wavelength conversion layer 116A.

図22に例示する構成において、透明樹脂部106Ceは、発光体110Bのうち、接合部材103および105に接する部分以外の部分を覆っている。透明樹脂部106Ceの一部は、発光素子111の底面111b側であって正極112および負極114の間にも位置している。ただし、図22に示すように、第1電極102および第2電極104の間は、光反射性樹脂部106Rfによって埋められている。発光装置100Bの底面100b側に第1電極102、第2電極104および光反射性樹脂部106Rfが位置することによって、発光装置100Bの底面100b側からの光の出射が抑制される。このような構成によれば、発光装置100Bの上面100aおよび側面100sから光を取り出すことができる。また、透明樹脂部106Ceを波長変換層116Bの保護層として機能させ得る。 In the configuration illustrated in FIG. 22, the transparent resin portion 106C covers the portion of the light emitting body 110B other than the portion in contact with the joining members 103 and 105. A part of the transparent resin portion 106Ce is located on the bottom surface 111b side of the light emitting element 111 and is also located between the positive electrode 112 and the negative electrode 114. However, as shown in FIG. 22, the space between the first electrode 102 and the second electrode 104 is filled with the light-reflecting resin portion 106Rf. By locating the first electrode 102, the second electrode 104, and the light-reflecting resin portion 106Rf on the bottom surface 100b side of the light emitting device 100B, the emission of light from the bottom surface 100b side of the light emitting device 100B is suppressed. According to such a configuration, light can be taken out from the upper surface 100a and the side surface 100s of the light emitting device 100B. Further, the transparent resin portion 106Ce can function as a protective layer of the wavelength conversion layer 116B.

以下、図面を参照しながら、発光装置100Bの例示的な製造方法を詳細に説明する。 Hereinafter, an exemplary manufacturing method of the light emitting device 100B will be described in detail with reference to the drawings.

まず、表面に溝部を有する導電基板を準備する。ここでは、図3〜図10を参照して説明した例と同様の導電基板101を用いる例を説明するが、図18〜図20を参照して説明したような、めっき層101Pを有する導電基板101Hを用いてもかまわない。 First, a conductive substrate having a groove on the surface is prepared. Here, an example using the same conductive substrate 101 as the example described with reference to FIGS. 3 to 10 will be described, but the conductive substrate having the plating layer 101P as described with reference to FIGS. 18 to 20 will be described. You may use 101H.

ここでは、図23に模式的に示すように、導電基板101の溝部101gの内部を樹脂材料で充填することにより、溝部101gを埋める樹脂部106Rgを形成する。樹脂部106Rgの材料としては、上述の光反射性樹脂部106Rfの材料と同様の材料、例えば、光反射性のフィラーが分散された樹脂材料を用いることができる。樹脂部106Rgの表面は、例えば、導電基板101の表面101sに整合させられる。 Here, as schematically shown in FIG. 23, the resin portion 106Rg that fills the groove portion 101g is formed by filling the inside of the groove portion 101g of the conductive substrate 101 with a resin material. As the material of the resin portion 106Rg, the same material as the material of the light-reflecting resin portion 106Rf described above, for example, a resin material in which a light-reflecting filler is dispersed can be used. The surface of the resin portion 106Rg is matched with, for example, the surface 101s of the conductive substrate 101.

次に、発光体110Bを準備し、発光体110Bを導電基板101に固定する。このとき、図24に示すように、溝部101gを跨いで発光体110Bの底面110b側の正極112および負極114を導電基板101に接続する。例えば、導電基板101の第1領域R1上に接合部材103を付与し、接合部材103によって正極112と導電基板101とを互いに接続および固定する。また、導電基板101の第2領域R2上に接合部材105を付与し、接合部材105によって負極114と導電基板101(例えば第2部分12)とを互いに接続および固定する。導電基板101上には、任意の個数の発光体110Bが配置され得る。 Next, the light emitting body 110B is prepared, and the light emitting body 110B is fixed to the conductive substrate 101. At this time, as shown in FIG. 24, the positive electrode 112 and the negative electrode 114 on the bottom surface 110b side of the illuminant 110B are connected to the conductive substrate 101 across the groove 101g. For example, a joining member 103 is provided on the first region R1 of the conductive substrate 101, and the positive electrode 112 and the conductive substrate 101 are connected and fixed to each other by the joining member 103. Further, a joining member 105 is provided on the second region R2 of the conductive substrate 101, and the negative electrode 114 and the conductive substrate 101 (for example, the second portion 12) are connected and fixed to each other by the joining member 105. An arbitrary number of light emitters 110B may be arranged on the conductive substrate 101.

次に、発光体110Bを覆う樹脂層を導電基板101上に形成する。ここでは、発光体110Bを覆う透明樹脂層106Cを導電基板101上に形成する。透明樹脂層106Cの材料としては、上述の発光体110Aの保護層118の材料と同様の材料を用い得る。図25に模式的に示すように、透明樹脂層106Cは、発光体110Bのうち、接合部材103または105に接する部分以外の全体を覆うように形成される。透明樹脂層106Cは、上述の光反射性樹脂層106Rと同様に、例えばトランスファー成形等の圧縮成形法を適用することによって形成可能である。透明樹脂層106Cの材料は、発光体110Bの底面と、溝部101gに充填された樹脂部106Rgの表面とに挟まれた部分にも配置され得る。なお、この例では、発光体110Bの底面は、発光素子111の底面111bと共通とされている。 Next, a resin layer covering the light emitting body 110B is formed on the conductive substrate 101. Here, the transparent resin layer 106C covering the light emitting body 110B is formed on the conductive substrate 101. As the material of the transparent resin layer 106C, the same material as the material of the protective layer 118 of the light emitter 110A described above can be used. As schematically shown in FIG. 25, the transparent resin layer 106C is formed so as to cover the entire light emitting body 110B except for the portion in contact with the joining member 103 or 105. The transparent resin layer 106C can be formed by applying a compression molding method such as transfer molding, as in the case of the light-reflecting resin layer 106R described above. The material of the transparent resin layer 106C may also be arranged in a portion sandwiched between the bottom surface of the light emitting body 110B and the surface of the resin portion 106Rg filled in the groove portion 101g. In this example, the bottom surface of the light emitting body 110B is shared with the bottom surface 111b of the light emitting element 111.

次に、平面研削機等を用い、透明樹脂層106Cとは反対側から、溝部101gの底101bが除去されるまで導電基板101を薄化する。薄化により、図26に模式的に示すように、溝部101gの位置で研削面Gsbから樹脂部106Rgの一部を露出させることができる。溝部101gの底101bが除去されることにより、導電基板101が溝部101gの位置で複数の導電片101pに分離される。 Next, using a surface grinder or the like, the conductive substrate 101 is thinned from the side opposite to the transparent resin layer 106C until the bottom 101b of the groove 101g is removed. By thinning, as schematically shown in FIG. 26, a part of the resin portion 106Rg can be exposed from the ground surface Gsb at the position of the groove portion 101g. By removing the bottom 101b of the groove 101g, the conductive substrate 101 is separated into a plurality of conductive pieces 101p at the position of the groove 101g.

次に、例えばダイシングにより、図27中に太い破線CLで示すように、発光体110Bの間の位置で導電片101pおよび透明樹脂層106Cを切断する。既に説明したように、切断ラインCLの位置および数は、最終的に得ようとする発光装置の設計に応じて適宜に設定すればよい。切断により、複数の発光体110Bの間で共有されていた導電片101pが各発光体110Bの正極112および負極114毎に分割される。また、切断により、透明樹脂層106Cおよび樹脂部106Rgが複数の部分に分離され、図28に模式的に示すように、透明樹脂部106Ceおよび光反射性樹脂部106Rfが形成される。このように、導電基板101の溝部101gを光反射性樹脂で埋めてから導電基板101に発光体110Bを配置することにより、最終的に得られる発光装置100Bの第1電極102と第2電極104との間に光反射性樹脂部106Rfを形成することができる。第1電極102と第2電極104との間に光反射性樹脂部106Rfを形成することにより、第1電極102と第2電極104との間からの光の出射が抑制される。 Next, for example, by dicing, the conductive piece 101p and the transparent resin layer 106C are cut at a position between the light emitting bodies 110B as shown by the thick broken line CL in FIG. 27. As described above, the position and number of the cutting lines CL may be appropriately set according to the design of the light emitting device to be finally obtained. By cutting, the conductive piece 101p shared among the plurality of illuminants 110B is divided into each of the positive electrode 112 and the negative electrode 114 of each illuminant 110B. Further, the transparent resin layer 106C and the resin portion 106Rg are separated into a plurality of portions by cutting, and the transparent resin portion 106Ce and the light-reflecting resin portion 106Rf are formed as schematically shown in FIG. 28. In this way, the first electrode 102 and the second electrode 104 of the light emitting device 100B finally obtained by filling the groove 101 g of the conductive substrate 101 with the light reflective resin and then arranging the light emitting body 110B on the conductive substrate 101. A light-reflecting resin portion 106Rf can be formed between the two. By forming the light-reflecting resin portion 106Rf between the first electrode 102 and the second electrode 104, the emission of light from between the first electrode 102 and the second electrode 104 is suppressed.

以上の工程を経て発光装置100Bが得られる。図22〜図28を参照して説明した第2の例によれば、発光素子111からの光の波長とは異なる波長を有する光を上面100aおよび側面100sから取り出すことができ、かつ、配線基板等への実装がより容易となる発光装置100Bを提供し得る。 The light emitting device 100B is obtained through the above steps. According to the second example described with reference to FIGS. 22 to 28, light having a wavelength different from the wavelength of the light from the light emitting element 111 can be extracted from the upper surface 100a and the side surface 100s, and the wiring board. It is possible to provide a light emitting device 100B that can be easily mounted on the or the like.

図11〜図13を参照して説明した例と同様にして、発光体110Bに代えて発光素子111をまず導電基板101に固定してもよい。例えば、導電基板101および発光素子111を準備する。次に、図23を参照して説明したように、導電基板101の溝部101gの内部を樹脂材料で充填することにより、溝部101gを埋める樹脂部106Rgを形成する。 In the same manner as in the examples described with reference to FIGS. 11 to 13, the light emitting element 111 may be first fixed to the conductive substrate 101 instead of the light emitting body 110B. For example, the conductive substrate 101 and the light emitting element 111 are prepared. Next, as described with reference to FIG. 23, the inside of the groove 101 g of the conductive substrate 101 is filled with a resin material to form a resin portion 106 Rg that fills the groove 101 g.

次に、図29に示すように、発光素子111が導電基板101の溝部101gを跨ぐようにして、発光素子111の正極112および負極114を導電基板101に接続する。その後、発光素子111の上面111aおよび側面111sを覆う波長変換層116Bを形成する。波長変換層116Bを形成後の状態は、図24に示す状態と同様であるので、ここでは図示を省略する。 Next, as shown in FIG. 29, the positive electrode 112 and the negative electrode 114 of the light emitting element 111 are connected to the conductive substrate 101 so that the light emitting element 111 straddles the groove 101 g of the conductive substrate 101. After that, the wavelength conversion layer 116B covering the upper surface 111a and the side surface 111s of the light emitting element 111 is formed. Since the state after forming the wavelength conversion layer 116B is the same as the state shown in FIG. 24, the illustration is omitted here.

波長変換層116Bは、例えば蛍光体の粒子が樹脂材料に分散された未硬化の樹脂組成物を発光素子111の上面111aおよび側面111sに付与し、樹脂組成物を硬化させることによって形成可能である。なお、波長変換層116Bの下端は、発光素子111の底面111bよりも低い位置まで延びていてもかまわない。 The wavelength conversion layer 116B can be formed, for example, by applying an uncured resin composition in which phosphor particles are dispersed in a resin material to the upper surface 111a and the side surface 111s of the light emitting element 111 and curing the resin composition. .. The lower end of the wavelength conversion layer 116B may extend to a position lower than the bottom surface 111b of the light emitting element 111.

波長変換層116Bの形成後、発光素子111を覆う樹脂層を導電基板101上に形成する。ここでは、波長変換層116Bの外側から発光素子111を覆うように透明樹脂層106Cを形成する。透明樹脂層106Cの形成後の状態は、図25と同様であり得るので図示を省略する。 After forming the wavelength conversion layer 116B, a resin layer covering the light emitting element 111 is formed on the conductive substrate 101. Here, the transparent resin layer 106C is formed so as to cover the light emitting element 111 from the outside of the wavelength conversion layer 116B. The state after the formation of the transparent resin layer 106C may be the same as that shown in FIG. 25, and thus the illustration is omitted.

その後、上述の図26〜図28に示す工程と同様の工程を実行することにより、図22を参照して説明した構造を有する発光装置100Bが得られる。すなわち、透明樹脂層106Cとは反対側から、溝部101gの底101bが除去されるまで導電基板101を薄化する(図26参照)。次に、発光素子111の間の位置で導電片101pおよび透明樹脂層106Cを切断する(図27参照)。切断により、1つの発光素子111を含む構造体毎に第1電極102および第2電極104とが形成される(図28参照)。 Then, by executing the same steps as those shown in FIGS. 26 to 28 described above, the light emitting device 100B having the structure described with reference to FIG. 22 can be obtained. That is, the conductive substrate 101 is thinned from the side opposite to the transparent resin layer 106C until the bottom 101b of the groove 101g is removed (see FIG. 26). Next, the conductive piece 101p and the transparent resin layer 106C are cut at a position between the light emitting elements 111 (see FIG. 27). By cutting, a first electrode 102 and a second electrode 104 are formed for each structure including one light emitting element 111 (see FIG. 28).

(発光装置の構造およびその製造方法の第3の例)
図30は、本開示のさらに他のある実施形態による製造方法によって得られる例示的な発光装置の断面を模式的に示す。図30に示す発光装置100Cは、発光素子111と、第1電極102と、第2電極104と、接合部材103、105と、波長変換部106Peと、光反射性樹脂部106Rfとを有する。
(Third example of the structure of the light emitting device and its manufacturing method)
FIG. 30 schematically shows a cross section of an exemplary light emitting device obtained by the manufacturing method according to still another embodiment of the present disclosure. The light emitting device 100C shown in FIG. 30 includes a light emitting element 111, a first electrode 102, a second electrode 104, joining members 103 and 105, a wavelength conversion unit 106Pe, and a light reflecting resin unit 106Rf.

図30に例示する構成において、波長変換部106Peは、発光素子111のうち、接合部材103および105に接する部分以外の部分を覆っている。波長変換部106Peの一部は、発光素子111の底面111b側であって正極112および負極114の間にも位置している。発光装置100Cにおいても、上述の発光装置100Bと同様に、第1電極102および第2電極104の間は、光反射性樹脂部106Rfによって埋められる。 In the configuration illustrated in FIG. 30, the wavelength conversion unit 106Pe covers a portion of the light emitting element 111 other than the portion in contact with the joining members 103 and 105. A part of the wavelength conversion unit 106Pe is located on the bottom surface 111b side of the light emitting element 111 and also between the positive electrode 112 and the negative electrode 114. In the light emitting device 100C as well, similarly to the above-mentioned light emitting device 100B, the space between the first electrode 102 and the second electrode 104 is filled with the light reflecting resin portion 106Rf.

波長変換部106Peは、例えば樹脂と、樹脂中に分散された波長変換部材とを含有する材料から形成され、発光素子111から出射する光の一部を吸収し、発光素子111からの出射光の波長とは異なる波長の光を発する。発光装置100Cからは、上述の発光装置100Bと同様に、上面100aおよび側面100sから光を取り出すことができる。 The wavelength conversion unit 106Pe is formed of, for example, a material containing a resin and a wavelength conversion member dispersed in the resin, absorbs a part of the light emitted from the light emitting element 111, and receives the light emitted from the light emitting element 111. It emits light with a wavelength different from that of the wavelength. Light can be taken out from the light emitting device 100C from the upper surface 100a and the side surface 100s in the same manner as the above-mentioned light emitting device 100B.

以下、図面を参照しながら、発光装置100Cの例示的な製造方法を詳細に説明する。 Hereinafter, an exemplary manufacturing method of the light emitting device 100C will be described in detail with reference to the drawings.

まず、表面に溝部を有する導電基板を準備する。ここでは、図22〜図28を参照して説明した例と同様に、導電基板101を準備し、さらに、溝部101gの内部を樹脂材料で充填することにより、溝部101gを埋める樹脂部106Rgを形成する。 First, a conductive substrate having a groove on the surface is prepared. Here, as in the example described with reference to FIGS. 22 to 28, the conductive substrate 101 is prepared, and the inside of the groove 101 g is filled with a resin material to form a resin portion 106 Rg that fills the groove 101 g. To do.

次に、発光素子111を準備し、発光素子111を導電基板101に固定する。このとき、溝部101gを跨いで正極112および負極114を導電基板101に接続する。導電基板101上には、任意の個数の発光素子111が配置され得る。導電基板101上に発光素子111を配置後の状態は、図29に示す状態と同様である。 Next, the light emitting element 111 is prepared, and the light emitting element 111 is fixed to the conductive substrate 101. At this time, the positive electrode 112 and the negative electrode 114 are connected to the conductive substrate 101 across the groove 101 g. An arbitrary number of light emitting elements 111 can be arranged on the conductive substrate 101. The state after arranging the light emitting element 111 on the conductive substrate 101 is the same as the state shown in FIG. 29.

次に、発光素子111を覆う樹脂層を導電基板101上に形成する。ここでは、発光素子111を覆う波長変換層106Pを導電基板101上に形成する。波長変換層106Pの材料としては、例えば波長変換層116Aを形成するための材料または波長変換層116Bを形成するための材料と同様の材料を用い得る。換言すれば、例えば、樹脂と、樹脂中に分散された波長変換部材(例えば蛍光体)とを含有する材料等を用いることができる。また、波長変換層106Pは、上述の光反射性樹脂層106Rまたは透明樹脂層106Cと同様に、例えばトランスファー成形等の圧縮成形法によって形成可能である。図31に模式的に示すように、波長変換層106Pは、発光素子111のうち、接合部材103または105に接する部分以外の全体を覆うように形成される。 Next, a resin layer covering the light emitting element 111 is formed on the conductive substrate 101. Here, the wavelength conversion layer 106P that covers the light emitting element 111 is formed on the conductive substrate 101. As the material of the wavelength conversion layer 106P, for example, a material for forming the wavelength conversion layer 116A or a material similar to the material for forming the wavelength conversion layer 116B can be used. In other words, for example, a material containing a resin and a wavelength conversion member (for example, a phosphor) dispersed in the resin can be used. Further, the wavelength conversion layer 106P can be formed by a compression molding method such as transfer molding, as in the case of the light-reflecting resin layer 106R or the transparent resin layer 106C described above. As schematically shown in FIG. 31, the wavelength conversion layer 106P is formed so as to cover the entire light emitting element 111 except for the portion in contact with the bonding member 103 or 105.

次に、平面研削機等を用い、波長変換層106Pとは反対側から、溝部101gの底101bが除去されるまで導電基板101を薄化する。薄化により、図32に模式的に示すように、溝部101gの位置で研削面Gsbから樹脂部106Rgの一部を露出させることができる。溝部101gの底101bが除去されることにより、導電基板101が溝部101gの位置で複数の導電片101pに分離される。 Next, using a surface grinder or the like, the conductive substrate 101 is thinned from the side opposite to the wavelength conversion layer 106P until the bottom 101b of the groove 101g is removed. By thinning, as schematically shown in FIG. 32, a part of the resin portion 106Rg can be exposed from the ground surface Gsb at the position of the groove portion 101g. By removing the bottom 101b of the groove 101g, the conductive substrate 101 is separated into a plurality of conductive pieces 101p at the position of the groove 101g.

次に、例えばダイシングにより、図33中に太い破線CLで示すように、発光素子111の間の位置で導電片101pおよび波長変換層106Pを切断する。切断により、図34に模式的に示すように、複数の発光素子111の間で共有されていた導電片101pが各発光素子111の正極112および負極114毎に分割され、また、波長変換部106Peおよび光反射性樹脂部106Rfが形成される。 Next, for example, by dicing, the conductive piece 101p and the wavelength conversion layer 106P are cut at a position between the light emitting elements 111 as shown by the thick broken line CL in FIG. By cutting, as schematically shown in FIG. 34, the conductive piece 101p shared among the plurality of light emitting elements 111 is divided into the positive electrode 112 and the negative electrode 114 of each light emitting element 111, and the wavelength conversion unit 106Pe is also divided. And the light-reflecting resin portion 106Rf is formed.

以上の工程を経て発光装置100Cが得られる。図30〜図34を参照して説明した第3の例によれば、図22〜図28を参照して説明した第2の例と同様に発光素子111からの光の波長とは異なる波長を有する光を上面100aおよび側面100sから取り出すことが可能な発光装置100Cを提供し得る。 The light emitting device 100C is obtained through the above steps. According to the third example described with reference to FIGS. 30 to 34, a wavelength different from the wavelength of the light from the light emitting element 111 is set as in the second example described with reference to FIGS. 22 to 28. A light emitting device 100C capable of extracting the light having the light from the upper surface 100a and the side surface 100s can be provided.

本開示の実施形態は、各種照明用光源、車載用光源、バックライト用光源等の提供に有用である。 The embodiments of the present disclosure are useful for providing various lighting light sources, vehicle-mounted light sources, backlight light sources, and the like.

100A〜100C 発光装置
101、101G、101H 導電基板
101M 金属板
101P めっき層
101g 溝部(第1の溝部)
101h 溝部(第2の溝部)
102 第1電極
104 第2電極
103、105 接合部材
106C 透明樹脂層
106P 波長変換層
106R 光反射性樹脂層
107 第1の島状部
109 第2の島状部
110A、100B 発光体
111 発光素子
112 正極
114 負極
116A、116B 波長変換層
118 保護層
200A、200B 発光装置
100A-100C Light emitting device 101, 101G, 101H Conductive substrate 101M Metal plate 101P Plating layer 101g Groove (first groove)
101h groove (second groove)
102 First electrode 104 Second electrode 103, 105 Joining member 106C Transparent resin layer 106P Wavelength conversion layer 106R Light-reflecting resin layer 107 First island-shaped part 109 Second island-shaped part 110A, 100B Luminescent body 111 Light emitting element 112 Positive electrode 114 Negative electrode 116A, 116B Wavelength conversion layer 118 Protective layer 200A, 200B Light emitting device

Claims (7)

表面に第1の溝部を有する導電基板を準備する工程(A)と、
第1面および前記第1面とは反対側に位置する第2面と前記第2面側に正極および負極とをそれぞれ有する発光素子と、前記第1面側に位置する透光性部材と、を備える複数の発光体を準備する工程(B)と、
前記第1の溝部を跨いで前記複数の発光素子のそれぞれの前記正極および前記負極を前記導電基板に接続する工程(C)と、
前記複数の発光体を連続して覆い、且つ、前記第1の溝部内を埋める樹脂層を前記導電基板上に形成する工程(D)と、
前記樹脂層とは反対側から、前記第1の溝部の底が除去されるまで前記導電基板を薄化して、互いに分離された、各前記発光体の前記正極に接続された第1電極および前記負極に接続された第2電極を形成する工程(E)と
前記複数の発光体のそれぞれの間において、前記樹脂層および前記薄化された導電基板を切断し、それぞれが個片化された発光装置を得る工程(I)と、
を含む、発光装置の製造方法。
The step (A) of preparing a conductive substrate having the first groove on the surface, and
A light emitting element having a first surface and a second surface located on the side opposite to the first surface, a positive electrode and a negative electrode on the second surface side, and a translucent member located on the first surface side. Step (B) of preparing a plurality of light emitters comprising
A step (C) of connecting the positive electrode and the negative electrode of each of the plurality of light emitting elements to the conductive substrate across the first groove portion.
A step (D) of forming a resin layer on the conductive substrate that continuously covers the plurality of light emitters and fills the inside of the first groove portion.
From the side opposite to the resin layer, the conductive substrate was thinned until the bottom of the first groove was removed, and the first electrode connected to the positive electrode of each of the light emitters and the first electrode separated from each other and said. Step (E) of forming the second electrode connected to the negative electrode
A step (I) of cutting the resin layer and the thinned conductive substrate between each of the plurality of light emitters to obtain a light emitting device in which each is individualized.
A method of manufacturing a light emitting device, including.
表面に第1の溝部を有する導電基板を準備する工程(A)と、
第1面および前記第1面とは反対側に位置する第2面を有し、前記第2面側に正極および負極を有する複数の発光素子を準備する工程(B)と、
前記第1の溝部を跨いで前記正極および前記負極を前記導電基板に接続する工程(C)と、
前記複数の発光素子を連続して覆い、かつ、前記第1の溝部内を埋める樹脂層を前記導電基板上に形成する工程(D)と、
前記樹脂層とは反対側から、前記第1の溝部の底が除去されるまで前記導電基板を薄化して、互いに分離された、前記正極に接続された第1電極および前記負極に接続された第2電極を形成する工程(E)と
前記複数の発光素子のそれぞれの間において、前記樹脂層および前記薄化された導電基板を切断し、それぞれが個片化された発光装置を得る工程(I)と、
を含む、発光装置の製造方法。
The step (A) of preparing a conductive substrate having the first groove on the surface, and
A step (B) of preparing a plurality of light emitting elements having a first surface and a second surface located on the side opposite to the first surface and having a positive electrode and a negative electrode on the second surface side.
A step (C) of connecting the positive electrode and the negative electrode to the conductive substrate across the first groove portion.
A step (D) of forming a resin layer on the conductive substrate that continuously covers the plurality of light emitting elements and fills the inside of the first groove portion.
From the side opposite to the resin layer, the conductive substrate was thinned until the bottom of the first groove was removed, and was connected to the first electrode connected to the positive electrode and the negative electrode separated from each other. Step (E) of forming the second electrode
A step (I) of cutting the resin layer and the thinned conductive substrate between each of the plurality of light emitting elements to obtain a light emitting device in which each is individualized.
A method of manufacturing a light emitting device, including.
前記工程(C)と前記工程(D)との間に、前記発光素子の前記第1面側に透光性部材を形成する工程(G)と、 Between the step (C) and the step (D), a step (G) of forming a translucent member on the first surface side of the light emitting element and a step (G).
を含む、請求項2に記載の発光装置の製造方法。2. The method for manufacturing a light emitting device according to claim 2.
前記樹脂層は、光反射性樹脂層であり、 The resin layer is a light-reflecting resin layer.
前記工程(D)の後に前記光反射性樹脂層の一部を除去することにより、前記透光性部材を前記光反射性樹脂層から露出させる工程(F) A step (F) of exposing the translucent member from the light-reflecting resin layer by removing a part of the light-reflecting resin layer after the step (D).
をさらに含む、請求項1または3に記載の発光装置の製造方法。The method for manufacturing a light emitting device according to claim 1 or 3, further comprising.
前記透光性部材は、波長変換層と保護層を有し、 The translucent member has a wavelength conversion layer and a protective layer.
前記波長変換層は、前記発光素子と前記保護層に挟まれる 請求項1、3および4のいずれか一項に記載の発光装置の製造方法。 The method for manufacturing a light emitting device according to any one of claims 1, 3 and 4, wherein the wavelength conversion layer is sandwiched between the light emitting element and the protective layer.
前記第1の溝部は第1方向に延び、 The first groove extends in the first direction and
前記工程(D)において、複数の前記発光素子は、前記第1方向に並んで前記導電基板に接続される請求項1から5のいずれか一項に記載の発光装置の製造方法。 The method for manufacturing a light emitting device according to any one of claims 1 to 5, wherein in the step (D), the plurality of the light emitting elements are arranged side by side in the first direction and connected to the conductive substrate.
前記導電基板が第1の溝の底面に貫通孔を有する、請求項1から6のいずれか一項に記載の発光装置の製造方法。The method for manufacturing a light emitting device according to any one of claims 1 to 6, wherein the conductive substrate has a through hole on the bottom surface of the first groove.
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