JP6884617B2 - Radioactive dust continuous monitoring device - Google Patents

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Description

本発明は、放射性ダスト連続モニタリング装置に関する。 The present invention relates to a continuous radioactive dust monitoring device.

空気中に含まれるダストを捕集して、捕集したダストから発生するα線を検出することで、α線を発生する放射性ダストを連続してモニタリングする方法が知られている(例えば、特許文献1及び特許文献2)。α線は飛程が短いため、これらの方法では、捕集したダストをα線検出器の検出面に接近または密着させる。 A method of continuously monitoring radioactive dust that generates α-rays by collecting dust contained in the air and detecting α-rays generated from the collected dust is known (for example, a patent). Document 1 and Patent Document 2). Since α-rays have a short range, these methods bring the collected dust closer to or in close contact with the detection surface of the α-ray detector.

特許第4377580号公報Japanese Patent No. 4377580 特許第4679245号公報Japanese Patent No. 4679245

しかしながら、特許文献1では、濾紙の上にダストを捕集し、ダストを捕集した濾紙を接近させているため、α線検出器の検出面にダストが付着し、汚染してしまうおそれがある。α線検出器の検出面にダストが付着すると、その付着したダストが発生させるα線がノイズとなってしまうため、α線の検出の精度が低減してしまうという問題があった。 However, in Patent Document 1, since dust is collected on the filter paper and the collected filter paper is brought close to the filter paper, the dust may adhere to the detection surface of the α-ray detector and contaminate the filter paper. .. When dust adheres to the detection surface of the α-ray detector, the α-rays generated by the adhered dust become noise, so that there is a problem that the accuracy of α-ray detection is reduced.

また、特許文献2では、α線検出器の検出面に対向して設けられた集塵体の上にダストを捕集している。特許文献2では、検出面と集塵体との距離が長いため、α線検出器がα線を十分な強度で検出できないという問題があった。 Further, in Patent Document 2, dust is collected on a dust collector provided so as to face the detection surface of the α-ray detector. Patent Document 2 has a problem that the α-ray detector cannot detect α-rays with sufficient intensity because the distance between the detection surface and the dust collector is long.

本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、α線検出器の検出面の汚染を低減しつつ、α線を十分な強度で検出することができる放射性ダスト連続モニタリング装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above, and provides a radioactive dust continuous monitoring device capable of detecting α rays with sufficient intensity while reducing contamination of the detection surface of the α ray detector. With the goal.

上記した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の放射性ダスト連続モニタリング装置は、空気中に含まれるダストをダスト保持部に捕集する捕集機構と、前記ダストから発生するα線を検出するα線検出器と、前記ダスト保持部を、前記捕集機構で捕集する捕集位置と前記α線を検出する検出位置との間で移動させる移動機構と、前記検出位置において前記α線検出器で前記α線が検出された前記ダストを、前記ダスト保持部及び前記α線検出器の検出面から除去する除去機構と、を含むことを特徴とする。 In order to solve the above-mentioned problems and achieve the object, the radioactive dust continuous monitoring device of the present invention has a collection mechanism for collecting dust contained in the air in a dust holding portion and α rays generated from the dust. An α-ray detector that detects an alpha ray, a moving mechanism that moves the dust holding portion between a collecting position for collecting by the collecting mechanism and a detection position for detecting the α-ray, and the above-mentioned at the detecting position. It is characterized by including a dust holding unit and a removing mechanism for removing the dust for which the α ray is detected by the α ray detector from the detection surface of the α ray detector.

この構成によれば、移動機構によりα線検出器の検出面とダストとを接近させることができ、かつ、除去機構によりダスト保持部とα線検出器の検出面とからダストを除去することができる。このため、除去機構によりダストを除去した領域を再びダストの捕集及びα線の検出に用いることができるので、ダスト保持部を交換する必要がない。このように、α線検出器の検出面の汚染を低減しつつ、α線を十分な強度で検出することができる。また、放射性ダストの連続モニタリングにかかる手間及びコストを低減することができる。 According to this configuration, the moving mechanism can bring the detection surface of the α-ray detector close to the dust, and the removal mechanism can remove the dust from the dust holding part and the detection surface of the α-ray detector. it can. Therefore, the region from which the dust has been removed by the removal mechanism can be used again for collecting dust and detecting α rays, so that it is not necessary to replace the dust holding portion. In this way, it is possible to detect α rays with sufficient intensity while reducing the contamination of the detection surface of the α ray detector. In addition, the labor and cost required for continuous monitoring of radioactive dust can be reduced.

この構成において、前記ダスト保持部は、円周上に連続して形成された円板であり、前記捕集位置と前記検出位置とは、前記円板に沿って共に配置され、前記移動機構は、前記円板を軸の周りに回転させる回転駆動部を含むことが好ましい。この構成によれば、捕集位置となっていた円板の部分を検出位置に移動させるとともに、検出位置となっていた円板の部分を捕集位置に移動させるため、効率よく、放射性ダストの連続モニタリングをすることができる。 In this configuration, the dust holding portion is a disk continuously formed on the circumference, and the collecting position and the detecting position are arranged together along the disk, and the moving mechanism is , It is preferable to include a rotation drive unit that rotates the disk around a shaft. According to this configuration, the disk part that was the collection position is moved to the detection position, and the disk part that was the detection position is moved to the collection position, so that the radioactive dust can be efficiently removed. Continuous monitoring is possible.

ダスト保持部が円板である構成において、前記捕集機構は、前記円板と前記円板に対向して捕集位置に設けられた電極とにそれぞれ異なる極性の電圧を印加する電源を含むことが好ましい。この構成によれば、ダスト保持部の捕集位置に、選択的に、かつ、効率よく、ダストを捕集することができる。 In a configuration in which the dust holding portion is a disk, the collecting mechanism includes a power source that applies a voltage having a different polarity to the disk and an electrode provided at a collecting position facing the disk. Is preferable. According to this configuration, dust can be selectively and efficiently collected at the collection position of the dust holding portion.

これらの構成において、前記除去機構は、前記ダスト保持部及び前記α線検出器の検出面を洗浄する洗浄液を供給する洗浄液供給部と、前記洗浄液を揮発させる乾燥風を供給する乾燥風供給部と、を含むことが好ましい。この構成によれば、より確実に、ダスト保持部及びα線検出器の検出面からダストを除去することができる。 In these configurations, the removal mechanism includes a cleaning liquid supply unit that supplies a cleaning liquid that cleans the dust holding unit and the detection surface of the α-ray detector, and a dry air supply unit that supplies dry air that volatilizes the cleaning liquid. , Are preferably included. According to this configuration, dust can be more reliably removed from the dust holding portion and the detection surface of the α-ray detector.

除去機構が洗浄液供給部と乾燥風供給部とを含む構成において、前記α線検出器の検出面は、DLCでコーティングされており、前記洗浄液供給部は、強酸を供給することが好ましい。この構成によれば、DLCコーティングが強酸に対して溶解しないので、α線検出器の検出面を洗浄液から保護することができる。 In a configuration in which the removing mechanism includes a cleaning liquid supply unit and a drying air supply unit, the detection surface of the α-ray detector is preferably coated with DLC, and the cleaning liquid supply unit preferably supplies a strong acid. According to this configuration, since the DLC coating is insoluble in strong acids, the detection surface of the α-ray detector can be protected from the cleaning liquid.

これらの構成において、前記空気が流れる配管から、前記空気を前記捕集位置に供給する供給機構をさらに含むことが好ましい。この構成によれば、配管から空気を供給してダストを捕集することができるので、空気の供給が可能な、いかなる配管の場所においても、放射性ダストの連続モニタリングをすることができる。 In these configurations, it is preferable to further include a supply mechanism for supplying the air to the collection position from the pipe through which the air flows. According to this configuration, since air can be supplied from the pipe to collect the dust, continuous monitoring of radioactive dust can be performed at any pipe location where the air can be supplied.

上記した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の放射性ダスト連続モニタリング装置は、空気中に含まれるダストを帯電させる帯電機構と、前記ダストから発生するα線を検出するα線検出器と、前記α線検出器の検出面にコーティングされた金属薄膜と、前記金属薄膜に所定の極性の電圧を印加する電源と、前記金属薄膜に向けて設けられた空気ブロー噴出部と、を含み、前記ダストを帯電させた極性と異なる極性の電圧を前記金属薄膜に印加することで、前記ダストを前記金属薄膜に吸着させて、前記α線検出器で前記α線を検出し、前記電源を切ることで前記金属薄膜に電圧を印加しない状態にするか、もしくは、前記電源の極性を切り替えることで前記ダストを帯電させた極性と同じ極性の電圧を前記金属薄膜に印加し、かつ、前記空気ブロー噴出部により空気ブローを噴き出すことで、前記α線検出器で前記α線が検出された前記ダストを前記金属薄膜から除去することを特徴とする。 In order to solve the above-mentioned problems and achieve the object, the radioactive dust continuous monitoring device of the present invention has a charging mechanism for charging dust contained in the air and α-ray detection for detecting α-rays generated from the dust. A device, a metal thin film coated on the detection surface of the α-ray detector, a power source for applying a voltage of a predetermined polarity to the metal thin film, and an air blow ejection portion provided toward the metal thin film. By applying a voltage having a polarity different from the polarity of charging the dust to the metal thin film, the dust is adsorbed on the metal thin film, the α-ray is detected by the α-ray detector, and the power source is used. By turning off, the voltage is not applied to the metal thin film, or by switching the polarity of the power supply, a voltage having the same polarity as the charge of the dust is applied to the metal thin film, and the said. By ejecting an air blow by the air blow ejection portion, the dust in which the α ray is detected by the α ray detector is removed from the metal thin film.

この構成によれば、金属薄膜にダストを吸着させることにより、α線検出器の検出面とダストとを接近させることができ、かつ、金属薄膜に対し、ダストを吸着しない状態とした上で、空気ブロー噴出部により空気ブローを噴出することにより、α線検出器の検出面からダストを除去することができる。このため、α線検出器の検出面の汚染を低減しつつ、α線を十分な強度で検出することができる。また、ダストを吸着するものを交換する必要がないため、放射性ダストの連続モニタリングにかかる手間及びコストを低減することができる。 According to this configuration, by adsorbing the dust on the metal thin film, the detection surface of the α-ray detector can be brought close to the dust, and the metal thin film is not adsorbed with the dust. By ejecting an air blow by the air blow ejection portion, dust can be removed from the detection surface of the α-ray detector. Therefore, it is possible to detect α rays with sufficient intensity while reducing the contamination of the detection surface of the α ray detector. Further, since it is not necessary to replace the dust-adsorbing material, it is possible to reduce the labor and cost required for continuous monitoring of radioactive dust.

この構成において、前記帯電機構、前記検出面、前記金属薄膜、及び前記空気ブロー噴出部の空気ブロー噴出口は、いずれも前記空気が流れる配管の内部に設けられており、前記検出面は、前記配管の延びる方向に沿って設けられていることが好ましい。この構成によれば、放射性ダストを含む空気が流れる配管の内部を、配管の外部とは完全に切り離した状態として、配管の内部を流れる空気に含まれる放射性ダストの連続モニタリングをすることができる。 In this configuration, the charging mechanism, the detection surface, the metal thin film, and the air blow outlet of the air blow ejection portion are all provided inside the pipe through which the air flows, and the detection surface is the said. It is preferable that the pipe is provided along the extending direction of the pipe. According to this configuration, the inside of the pipe through which the air containing radioactive dust flows is completely separated from the outside of the pipe, and the radioactive dust contained in the air flowing inside the pipe can be continuously monitored.

また、この構成において、前記金属薄膜に対向して設けられた金属部材をさらに含み、前記電源は前記金属薄膜と前記金属部材とにそれぞれ異なる極性の電圧を印加することが好ましい。この構成によれば、前記金属薄膜と前記金属部材とにそれぞれ異なる極性の電圧を印加することで、より安定した電位と電界を供給維持することができる。 Further, in this configuration, it is preferable that the metal member provided so as to face the metal thin film is further included, and the power source applies voltages having different polarities to the metal thin film and the metal member. According to this configuration, by applying voltages having different polarities to the metal thin film and the metal member, it is possible to supply and maintain a more stable potential and electric field.

金属薄膜に対向して設けられた金属部材をさらに含む構成において、前記帯電機構、前記検出面、前記金属薄膜、及び前記空気ブロー噴出部の空気ブロー噴出口は、いずれも前記空気が流れる配管の内部に設けられており、前記検出面は、前記配管の延びる方向に沿って設けられており、前記金属部材は、前記配管の内部に設けられているか、もしくは、前記配管を構成する金属の部分の一部であることが好ましい。この構成によれば、放射性ダストを含む空気が流れる配管の内部を、配管の外部とは完全に切り離した状態として、配管の内部を流れる空気に含まれる放射性ダストの連続モニタリングをすることができる。 In a configuration further including a metal member provided so as to face the metal thin film, the charging mechanism, the detection surface, the metal thin film, and the air blow outlet of the air blow ejection portion are all of the pipe through which the air flows. It is provided inside, the detection surface is provided along the extending direction of the pipe, and the metal member is provided inside the pipe or a metal portion constituting the pipe. It is preferable that it is a part of. According to this configuration, the inside of the pipe through which the air containing radioactive dust flows is completely separated from the outside of the pipe, and the radioactive dust contained in the air flowing inside the pipe can be continuously monitored.

帯電機構が配管の内部に設けられている構成において、前記帯電機構は、前記配管の内部の断面における中央領域に設けられた点状電極と、前記点状電極を覆うように前記配管の内面に沿って設けられた板状電極と、前記点状電極と前記板状電極とにそれぞれ異なる極性の電圧を印加する電源と、を含むことが好ましい。この構成によれば、ダストを効率よく帯電することができるので、金属薄膜がダストを効率よく吸着することを可能にする。 In the configuration in which the charging mechanism is provided inside the pipe, the charging mechanism is provided on the inner surface of the pipe so as to cover the punctate electrode provided in the central region in the cross section inside the pipe and the punctate electrode. It is preferable to include a plate-shaped electrode provided along the line and a power source for applying a voltage having a different polarity to the point-shaped electrode and the plate-shaped electrode. According to this configuration, the dust can be efficiently charged, so that the metal thin film can efficiently adsorb the dust.

上記した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の放射性ダスト連続モニタリング装置は、空気中に含まれるダストを帯電させる帯電機構と、前記ダストから発生するα線を検出するα線検出器と、前記α線検出器の検出面にコーティングされた金属薄膜と、前記α線検出器を、前記ダストから発生するα線を検出する検出位置とα線を検出した前記ダストを除去する除去位置との間で移動させる移動機構と、前記α線検出器が前記検出位置にある場合の前記金属薄膜に、帯電した前記ダストを吸着させる吸着機構と、前記α線検出器が前記除去位置にある場合の前記金属薄膜から、前記ダストを除去する除去機構と、を含むことを特徴とする。 In order to solve the above-mentioned problems and achieve the object, the radioactive dust continuous monitoring device of the present invention has a charging mechanism for charging dust contained in the air and α-ray detection for detecting α-rays generated from the dust. The device, the metal thin film coated on the detection surface of the α-ray detector, the detection position where the α-ray detector detects α-rays generated from the dust, and the removal of the dust that detects α-rays. A moving mechanism for moving between positions, an adsorption mechanism for adsorbing the charged dust on the metal thin film when the α-ray detector is in the detection position, and the α-ray detector at the removal position. It is characterized by including a removing mechanism for removing the dust from the metal thin film in a certain case.

この構成によれば、検出位置にある金属薄膜にダストを吸着機構により吸着させることで、α線検出器の検出面とダストとを接近させることができ、かつ、除去機構により、除去位置にある金属薄膜からダストを除去することができる。このため、α線検出器の検出面の汚染を低減しつつ、α線を十分な強度で検出することができる。また、ダストを吸着するものを交換する必要がないため、放射性ダストの連続モニタリングにかかる手間及びコストを低減することができる。 According to this configuration, the detection surface of the α-ray detector can be brought close to the dust by adsorbing the dust on the metal thin film at the detection position by the adsorption mechanism, and the dust is at the removal position by the removal mechanism. Dust can be removed from the metal thin film. Therefore, it is possible to detect α rays with sufficient intensity while reducing the contamination of the detection surface of the α ray detector. Further, since it is not necessary to replace the dust-adsorbing material, it is possible to reduce the labor and cost required for continuous monitoring of radioactive dust.

この構成において、前記帯電機構、前記α線検出器が前記検出位置にある場合の前記検出面と前記金属薄膜、及び前記吸着機構は、いずれも前記空気が流れる配管の内部に設けられており、前記検出面は、前記配管の延びる方向に沿って設けられており、前記α線検出器が前記除去位置にある場合の前記検出面と前記金属薄膜、及び前記除去機構は、いずれも前記配管の外部に設けられていることが好ましい。この構成によれば、放射性ダストを含む空気が流れる配管の内部を、配管の外部とは完全に切り離した状態として、配管の内部を流れる空気に含まれる放射性ダストを連続でモニタリングすることができる。 In this configuration, the charging mechanism, the detection surface when the α-ray detector is in the detection position, the metal thin film, and the adsorption mechanism are all provided inside the pipe through which the air flows. The detection surface is provided along the extending direction of the pipe, and the detection surface, the metal thin film, and the removal mechanism when the α-ray detector is in the removal position are all of the pipe. It is preferable that it is provided externally. According to this configuration, the inside of the pipe through which the air containing the radioactive dust flows is completely separated from the outside of the pipe, and the radioactive dust contained in the air flowing inside the pipe can be continuously monitored.

吸着機構が配管の内部に設けられている構成において、前記吸着機構は、前記α線検出器が前記検出位置にある場合の前記金属薄膜に対向して設けられた金属部材と、前記α線検出器が前記検出位置にある場合の前記金属薄膜と前記金属部材とにそれぞれ異なる極性の電圧を印加する電源と、を含み、前記吸着機構における金属部材は、前記配管の内部に設けられているか、もしくは、前記配管を構成する金属の部分の一部であり、前記ダストを帯電させた極性と異なる極性の電圧を前記金属薄膜に印加することで、前記ダストを前記金属薄膜に吸着させることが好ましい。この構成によれば、より確実に、検出位置にある金属薄膜にダストを吸着させることができる。 In a configuration in which the suction mechanism is provided inside the pipe, the suction mechanism includes a metal member provided so as to face the metal thin film when the α-ray detector is in the detection position, and the α-ray detection. Whether the metal member in the suction mechanism is provided inside the pipe, including a power source for applying a voltage having a different polarity to the metal thin film and the metal member when the device is in the detection position. Alternatively, it is preferable that the dust is adsorbed on the metal thin film by applying a voltage that is a part of the metal portion constituting the pipe and has a polarity different from the polarity charged with the dust to the metal thin film. .. According to this configuration, dust can be more reliably adsorbed on the metal thin film at the detection position.

これらの構成において、前記移動機構は、前記α線検出器を回転移動可能に保持する円板と、前記円板を軸の周りに回転させる回転駆動部と、を含み、前記検出位置と前記除去位置とは、前記円板に沿って共に配置されていることが好ましい。この構成によれば、検出位置となっていたα線検出器を除去位置に移動させるとともに、除去位置となっていたα線検出器を検出位置に移動させるため、効率よく、放射性ダストの連続モニタリングをすることができる。 In these configurations, the moving mechanism includes a disk that rotatably holds the α-ray detector and a rotary drive that rotates the disk around an axis, the detection position and the removal. The positions are preferably arranged together along the disk. According to this configuration, the α-ray detector that was the detection position is moved to the removal position, and the α-ray detector that was the removal position is moved to the detection position, so that continuous monitoring of radioactive dust is efficient. Can be done.

これらの構成において、前記除去機構は、前記α線検出器が前記除去位置にある場合の前記金属薄膜に向けて設けられた空気ブロー噴出部を含むことが好ましい。この構成によれば、除去位置にあることでダストを吸着しない状態となった金属薄膜に対し、空気ブロー噴出部により空気を噴出することにより、α線検出器の検出面からダストを確実に除去することができる。 In these configurations, the removal mechanism preferably includes an air blow ejection portion provided toward the metal thin film when the α ray detector is in the removal position. According to this configuration, dust is reliably removed from the detection surface of the α-ray detector by ejecting air from the air blow ejection part to the metal thin film that is in a state where it does not adsorb dust because it is in the removal position. can do.

除去機構が空気ブロー噴出部を含む上記の構成において、前記除去機構は、前記α線検出器が前記除去位置にある場合の前記金属薄膜に対向して設けられた金属部材と、前記α線検出器が前記除去位置にある場合の前記金属薄膜と前記金属部材とにそれぞれ異なる極性の電圧を印加する電源と、をさらに含み、前記ダストを帯電させた極性と同じ極性の電圧を前記金属薄膜に印加することで、前記ダストを前記金属薄膜から除去することが好ましい。この構成によれば、除去位置にある金属薄膜に対し、ダストを反発する状態とすることにより、α線検出器の検出面からダストをより確実に除去することができる。 In the above configuration in which the removal mechanism includes an air blow ejection portion, the removal mechanism includes a metal member provided so as to face the metal thin film when the α-ray detector is in the removal position, and the α-ray detection. The metal thin film further includes a power source for applying a voltage having a different polarity to the metal thin film and the metal member when the vessel is in the removal position, and a voltage having the same polarity as the charge of the dust is applied to the metal thin film. It is preferable to remove the dust from the metal thin film by applying the dust. According to this configuration, the dust can be more reliably removed from the detection surface of the α-ray detector by setting the dust to repel the metal thin film at the removal position.

あるいは、これらの構成において、前記除去機構は、前記金属薄膜を洗浄する洗浄液を供給する洗浄液供給部と、前記洗浄液を揮発させる乾燥風を供給する乾燥風供給部と、を含むことが好ましい。この構成によれば、より確実に、除去位置にある金属薄膜からダストを除去することができる。 Alternatively, in these configurations, the removing mechanism preferably includes a cleaning liquid supply unit that supplies a cleaning liquid for cleaning the metal thin film, and a dry air supply unit that supplies dry air that volatilizes the cleaning liquid. According to this configuration, dust can be more reliably removed from the metal thin film at the removal position.

これらの構成において、前記α線検出器を2個有し、前記α線検出器の一方が前記検出位置に配置されるとき、前記α線検出器の他方が前記除去位置に配置され、前記移動機構は、前記α線検出器の一方を前記検出位置から前記除去位置に移動させると同時に、前記α線検出器の他方を前記除去位置から前記検出位置に移動させることが好ましい。この構成によれば、α線検出器の一方が検出位置にいる時間が長くなるため、より効率よく、放射性ダストの連続モニタリングをすることができる。 In these configurations, when two α-ray detectors are provided and one of the α-ray detectors is placed at the detection position, the other of the α-ray detectors is placed at the removal position and the movement is performed. It is preferable that the mechanism moves one of the α-ray detectors from the detection position to the removal position and at the same time moves the other of the α-ray detectors from the removal position to the detection position. According to this configuration, since one of the α-ray detectors stays at the detection position for a long time, continuous monitoring of radioactive dust can be performed more efficiently.

本発明によれば、α線検出器の検出面の汚染を低減しつつ、α線を十分な強度で検出することができる放射性ダスト連続モニタリング装置を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a radioactive dust continuous monitoring device capable of detecting α rays with sufficient intensity while reducing contamination on the detection surface of the α ray detector.

図1は、本発明の第1の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング装置の概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a radioactive dust continuous monitoring device according to the first embodiment of the present invention. 図2は、本発明の第1の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法を示すフローチャートである。FIG. 2 is a flowchart showing a radioactive dust continuous monitoring method according to the first embodiment of the present invention. 図3は、本発明の第2の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング装置の概略構成図である。FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a radioactive dust continuous monitoring device according to a second embodiment of the present invention. 図4は、本発明の第2の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法を示すフローチャートである。FIG. 4 is a flowchart showing a radioactive dust continuous monitoring method according to the second embodiment of the present invention. 図5は、本発明の第3の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング装置の概略構成図である。FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a radioactive dust continuous monitoring device according to a third embodiment of the present invention. 図6は、本発明の第3の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法を示すフローチャートである。FIG. 6 is a flowchart showing a radioactive dust continuous monitoring method according to a third embodiment of the present invention.

以下に、本発明の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング装置を、図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下の実施の形態の説明は、本発明を限定するものではなく、適宜変更して実施可能である。 Hereinafter, the radioactive dust continuous monitoring device according to the embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The following description of the embodiment is not limited to the present invention, and can be modified as appropriate.

[第1の実施形態]
図1は、本発明の第1の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング装置10の概略構成図である。放射性ダスト連続モニタリング装置10は、図1に示すように、配管30の内部を流れる空気中に含まれる放射性ダストから発生するα線を検出することで、放射性ダストを連続でモニタリングする。以下において、放射性ダストを、適宜、ダストと称する。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a radioactive dust continuous monitoring device 10 according to the first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the radioactive dust continuous monitoring device 10 continuously monitors radioactive dust by detecting α rays generated from radioactive dust contained in the air flowing inside the pipe 30. In the following, radioactive dust will be appropriately referred to as dust.

放射性ダスト連続モニタリング装置10は、図1に示すように、円板12と、電極14と、電源16と、α線検出器18と、回転軸20と、回転駆動部22と、洗浄液供給部24と、乾燥風供給部26と、供給機構28と、制御部32と、検出信号処理部34と、を含む。 As shown in FIG. 1, the radioactive dust continuous monitoring device 10 includes a disk 12, an electrode 14, a power supply 16, an α-ray detector 18, a rotary shaft 20, a rotary drive unit 22, and a cleaning liquid supply unit 24. A dry air supply unit 26, a supply mechanism 28, a control unit 32, and a detection signal processing unit 34 are included.

円板12は、捕集されたダストを保持するダスト保持部の1つの形態である。円板12は、ダスト保持部が円周上に連続して形成された形態である。円板12は、金属製の円板、または、金属製の円板と非金属製の円板とを厚み方向に重ねたものが例示される。円板12は、中心部分に、円板12の軸に沿う方向に向けて、回転軸20が設けられている。円板12は、回転軸20により、円板12の軸の周りに回転可能に、すなわち円板12の円周方向に回転可能に、支持されている。円板12は、回転軸20に接続された回転駆動部22により、所定の方向、すなわち図1に示す反時計回りの方向に、回転することができる。円板12は、回転の軌道上に、ダストを捕集する捕集位置と、ダストから発生するα線を検出する検出位置とを含んでいる。すなわち、円板12は、捕集位置と検出位置とが、円板12に沿って同一の円周上に来るように配置している。 The disk 12 is one form of a dust holding portion that holds the collected dust. The disk 12 has a form in which dust holding portions are continuously formed on the circumference. An example of the disk 12 is a metal disk, or a metal disk and a non-metal disk stacked in the thickness direction. The disk 12 is provided with a rotating shaft 20 at the center thereof in a direction along the axis of the disk 12. The disk 12 is supported by a rotating shaft 20 so as to be rotatable around the axis of the disk 12, that is, rotatably in the circumferential direction of the disk 12. The disk 12 can be rotated in a predetermined direction, that is, in the counterclockwise direction shown in FIG. 1, by the rotation drive unit 22 connected to the rotation shaft 20. The disk 12 includes a collection position for collecting dust and a detection position for detecting α rays generated from the dust on the rotation orbit. That is, the disk 12 is arranged so that the collection position and the detection position are on the same circumference along the disk 12.

回転軸20は、円板12の中心部分に、円板12の中心軸に沿う方向に向けて設けられている。回転軸20は、円板12の軸の周りに回転可能に、すなわち円板12の円周方向に回転可能に、支持している。回転駆動部22は、回転軸20に接続されている。回転駆動部22は、制御部32と電気的に接続されており、制御部32の制御に基づき、回転軸20を介して、円板12を所定の方向、すなわち図1に示す反時計回りの方向に、回転させることができる。回転駆動部22は、円板12を回転させることで、捕集位置にある円板12の一部の領域を検出位置に移動させ、検出位置にある円板12の別の一部の領域を捕集位置に移動させることができる。回転駆動部22は、モータが例示される。このように、回転駆動部22は、ダスト保持部としての円板12を、捕集位置と検出位置との間で移動させる移動機構を構成している。 The rotating shaft 20 is provided at the central portion of the disk 12 in a direction along the central axis of the disk 12. The rotating shaft 20 is rotatably supported around the axis of the disc 12, that is, rotatably in the circumferential direction of the disc 12. The rotation drive unit 22 is connected to the rotation shaft 20. The rotation drive unit 22 is electrically connected to the control unit 32, and based on the control of the control unit 32, the disk 12 is moved in a predetermined direction via the rotation shaft 20, that is, counterclockwise as shown in FIG. It can be rotated in a direction. By rotating the disk 12, the rotation drive unit 22 moves a part of the disk 12 at the collection position to the detection position, and moves another part of the disk 12 at the detection position to the detection position. It can be moved to the collection position. A motor is exemplified as the rotation drive unit 22. As described above, the rotation drive unit 22 constitutes a movement mechanism for moving the disk 12 as the dust holding unit between the collection position and the detection position.

なお、本発明に係るダスト保持部及び移動機構は、円板12、回転軸20及び回転駆動部22による形態に限定されず、捕集されたダストを保持することができ、ダストを保持したものを捕集位置と検出位置との間で移動させることができる形態であれば、いかなる形態であってもよい。例えば、ダスト保持部が平板上の皿であり、移動機構がこの皿を捕集位置と検出位置との間で移動させる機構である形態であってもよい。 The dust holding unit and moving mechanism according to the present invention are not limited to the form of the disk 12, the rotating shaft 20, and the rotating driving unit 22, and can hold the collected dust and hold the dust. It may be in any form as long as it can be moved between the collection position and the detection position. For example, the dust holding portion may be a dish on a flat plate, and the moving mechanism may be a mechanism for moving the dish between the collection position and the detection position.

電極14は、円板12の一部の領域、すなわち図1における円板12の左側の部分と、円板12の厚み方向に対向して設けられている。電極14は、点状の電極が例示される。電極14は、円板12よりも円板12の面方向に沿った面積が小さい金属製の板、すなわち後述する囲い部材28dが囲んでいる円板12の面方向に沿った面積よりも面積が小さい金属製の板であってもよい。電源16は、一方の端子が円板12に接続され、他方の端子が電極14に接続されている。電源16は、一方の極が円板12に接続され、他方の極が電極14に接続されている。このため、電源16は、円板12と電極14とにそれぞれ異なる極性の電圧を印加することができる。詳細には、電源16は、電極14が放電極となるように、ダストが帯びる極性と同じ極性の電圧を電極14に印加し、円板12が集塵極となるように、ダストが帯びる極性と異なる極性の電圧を円板12に印加する。電源16は、電極14に負極の電圧を印加し、円板12に正極の電圧を印加することで、α線源であるために負極を帯びているダストを円板12のこの一部の領域の面上に選択的に吸着させることができる。一方、ダストが帯びる極性が正極である場合、電源16は、電極14に正極の電圧を印加し、円板12に負極の電圧を印加することで、ダストを円板12のこの一部の領域の面上に選択的に吸着させることができる。このように、円板12のこの一部の領域と、電極14と、電源16とは、ダストを捕集する捕集機構を構成している。また、円板12のこの一部の領域は、ダストを捕集する捕集位置となっている。 The electrode 14 is provided so as to face a part of the area of the disk 12, that is, the left side of the disk 12 in FIG. 1 in the thickness direction of the disk 12. The electrode 14 is exemplified by a point-shaped electrode. The electrode 14 has a smaller area along the surface direction of the disk 12 than the disk 12, that is, an area larger than the area along the surface direction of the disk 12 surrounded by the enclosure member 28d described later. It may be a small metal plate. One terminal of the power supply 16 is connected to the disk 12, and the other terminal is connected to the electrode 14. In the power supply 16, one pole is connected to the disk 12 and the other pole is connected to the electrode 14. Therefore, the power supply 16 can apply voltages having different polarities to the disc 12 and the electrode 14. Specifically, the power supply 16 applies a voltage having the same polarity as the dust-bearing polarity to the electrode 14 so that the electrode 14 becomes a discharge electrode, and the dust-bearing polarity so that the disk 12 becomes a dust collecting electrode. A voltage having a polarity different from that of the above is applied to the disk 12. The power supply 16 applies the voltage of the negative electrode to the electrode 14 and the voltage of the positive electrode to the disk 12, so that dust carrying the negative electrode because it is an α radiation source is collected in this part of the disk 12. Can be selectively adsorbed on the surface of. On the other hand, when the polarity of the dust is the positive electrode, the power supply 16 applies the voltage of the positive electrode to the electrode 14 and the voltage of the negative electrode to the disk 12 to collect dust in this part of the disk 12. Can be selectively adsorbed on the surface of. As described above, the partial region of the disk 12, the electrode 14, and the power supply 16 form a collecting mechanism for collecting dust. Further, this part of the area of the disk 12 is a collection position for collecting dust.

円板12は、電極14と比較して面方向に沿った面積が大きいので、ダストを吸着することで捕集する面積が大きいため、捕集の効率が良くなり、好ましい。電極14は、円板12と比較して面方向に沿った面積が小さいので、放電圧を高圧にすることができるので、捕集の効率が良くなり、好ましい。電源16は、電圧が調整されることで、ダストの捕集の程度が調整されている。なお、電源16は、制御部32と電気的に接続されていてもよく、この場合、制御部32の制御に基づいて電圧が制御されて、ダストの捕集の程度が制御される。 Since the disk 12 has a larger area along the plane direction than the electrode 14, the area to be collected by adsorbing dust is large, so that the collection efficiency is improved, which is preferable. Since the electrode 14 has a smaller area along the plane direction than the disk 12, the discharge voltage can be increased, so that the collection efficiency is improved, which is preferable. The voltage of the power supply 16 is adjusted to adjust the degree of dust collection. The power supply 16 may be electrically connected to the control unit 32. In this case, the voltage is controlled based on the control of the control unit 32 to control the degree of dust collection.

なお、本発明に係る捕集機構は、円板12の一部の領域と、電極14と、電源16とを含む形態に限定されず、ダストに対してダスト保持部に向けた物理的な力を加えることで、ダストを捕集する機構であればいかなる形態であってもよい。 The collection mechanism according to the present invention is not limited to a form including a part of the disk 12, the electrode 14, and the power supply 16, and is a physical force against dust toward the dust holding portion. Any form may be used as long as it is a mechanism for collecting dust by adding.

α線検出器18は、ダストから発生するα線を検出する。α線検出器18は、α線を検出する検出面18aを有する。α線検出器18は、検出面18aが、円板12の一部の領域、すなわち図1における円板の右側の部分と、円板12の厚み方向に対向して設けられている。円板12のこのα線検出器18の検出面18aと対向する一部の領域は、ダストから発生するα線を検出する検出位置となっている。つまり、α線検出器18は、ダスト保持部である円板12に捕集機構によって捕集位置で捕集され、移動機構である回転駆動部22によって検出位置に移動したダストから発生するα線を検出する。 The α-ray detector 18 detects α-rays generated from dust. The α-ray detector 18 has a detection surface 18a for detecting α-rays. The α-ray detector 18 is provided with the detection surface 18a facing a part of the disk 12, that is, the right side of the disk in FIG. 1 in the thickness direction of the disk 12. A part of the region of the disk 12 facing the detection surface 18a of the α-ray detector 18 is a detection position for detecting α-rays generated from dust. That is, the α-ray detector 18 is collected at the collection position by the collection mechanism on the disk 12 which is the dust holding portion, and the α-ray is generated from the dust which is moved to the detection position by the rotation drive unit 22 which is the moving mechanism. Is detected.

α線検出器18は、制御部32と電気的に接続されており、制御部32によって制御されている。α線検出器18は、検出信号処理部34と電気的に接続されており、α線を検出することで得られた検出信号を検出信号処理部34に送信する。 The α-ray detector 18 is electrically connected to the control unit 32 and is controlled by the control unit 32. The α-ray detector 18 is electrically connected to the detection signal processing unit 34, and transmits the detection signal obtained by detecting the α-ray to the detection signal processing unit 34.

α線検出器18は、検出面18aが、ダスト保持部である円板12の検出位置に対して接近して設けられている。具体的には、α線検出器18は、検出面18aと円板12の検出位置との間の円板12の中心軸に沿う方向の距離が、α線の飛程以下となるように設けられている。α線の飛程は、α線核種及びα線の経路にある材料によって異なるが、空気中では10cm程度以下である。このため、α線検出器18は、検出面18aと円板12の検出位置との間のこの距離が、10cm以下であることが好ましく、5cm以下であることがより好まく、2.5cm以下であることがさらに好ましい。 The α-ray detector 18 is provided with the detection surface 18a close to the detection position of the disk 12 which is the dust holding portion. Specifically, the α-ray detector 18 is provided so that the distance between the detection surface 18a and the detection position of the disk 12 in the direction along the central axis of the disk 12 is equal to or less than the range of the α-ray. Has been done. The range of α-rays varies depending on the α-ray nuclide and the material in the α-ray path, but is about 10 cm or less in air. Therefore, in the α-ray detector 18, the distance between the detection surface 18a and the detection position of the disk 12 is preferably 10 cm or less, more preferably 5 cm or less, and 2.5 cm or less. Is more preferable.

α線検出器18は、検出面18aが、洗浄液供給部24によって供給される洗浄液に対して腐食されないことが好ましい。また、α線検出器18は、検出面18aが、洗浄液供給部24によって供給される洗浄液に対して腐食されない材料の膜でコーティングされていることが好ましい。具体的には、α線検出器18は、検出面18aが、洗浄液に好適に用いられる強酸に対して腐食されない膜、例えばDLC(Diamond Like Carbon、ダイアモンドライクカーボン)の膜でコーティングされていることが好ましい。 In the α-ray detector 18, it is preferable that the detection surface 18a is not corroded by the cleaning liquid supplied by the cleaning liquid supply unit 24. Further, it is preferable that the detection surface 18a of the α-ray detector 18 is coated with a film of a material that is not corroded by the cleaning liquid supplied by the cleaning liquid supply unit 24. Specifically, in the α-ray detector 18, the detection surface 18a is coated with a film that is not corroded by a strong acid preferably used for a cleaning liquid, for example, a film of DLC (Diamond Like Carbon). Is preferable.

洗浄液供給部24は、ダスト保持部である円板12の検出位置及びα線検出器18の検出面18aに向けて、設けられている。洗浄液供給部24は、α線検出器18によりα線を検出した後に、円板12の検出位置及び検出面18aを洗浄する洗浄液を供給する。洗浄液供給部24は、例えば、洗浄液を円板12の検出位置及び検出面18aに向けてノズルから噴射する。洗浄液供給部24は、このように洗浄液を噴射することで、洗浄液の噴射の勢いに従って、または洗浄液でダストを溶解することで、ダストを円板12の検出位置及び検出面18aから除去することができる。洗浄液供給部24は、制御部32と電気的に接続されており、制御部32によって制御されている。円板12の検出位置及びα線検出器18の検出面18aの付近には、洗浄液回収部が設けられており、洗浄液回収部は、洗浄液供給部24から噴出されてダストを含んだ洗浄液を、外部に漏れないように回収する。 The cleaning liquid supply unit 24 is provided toward the detection position of the disk 12 which is the dust holding unit and the detection surface 18a of the α-ray detector 18. The cleaning liquid supply unit 24 supplies the cleaning liquid for cleaning the detection position and the detection surface 18a of the disk 12 after detecting the α ray by the α ray detector 18. The cleaning liquid supply unit 24, for example, injects the cleaning liquid from the nozzle toward the detection position and the detection surface 18a of the disk 12. By injecting the cleaning liquid in this way, the cleaning liquid supply unit 24 can remove the dust from the detection position and the detection surface 18a of the disk 12 according to the momentum of the injection of the cleaning liquid or by dissolving the dust with the cleaning liquid. it can. The cleaning liquid supply unit 24 is electrically connected to the control unit 32 and is controlled by the control unit 32. A cleaning liquid recovery unit is provided near the detection position of the disk 12 and the detection surface 18a of the α-ray detector 18, and the cleaning liquid recovery unit discharges the cleaning liquid containing dust ejected from the cleaning liquid supply unit 24. Collect it so that it does not leak to the outside.

洗浄液供給部24は、供給する洗浄液として、ダストを洗浄できるものであればいかなるものでも用いることができるが、強酸を用いることが好ましく、例えば、硝酸を用いることが好ましい。洗浄液供給部24が、供給する洗浄液として強酸として硝酸を用いる場合、円板12は、硝酸に対して耐性のあるステンレス製であり、α線検出器18は、検出面18aが硝酸に対して耐性のあるDLCでコーティングされている形態が、好ましいものとして例示される。 The cleaning liquid supply unit 24 can use any cleaning liquid that can clean dust, but it is preferable to use a strong acid, for example, nitric acid. When the cleaning liquid supply unit 24 uses nitric acid as a strong acid as the cleaning liquid to be supplied, the disk 12 is made of stainless steel which is resistant to nitric acid, and the α-ray detector 18 has a detection surface 18a which is resistant to nitric acid. The DLC-coated form is exemplified as preferred.

乾燥風供給部26は、洗浄液供給部24が向けられている領域と、そのさらに円板12の回転方向の下流側と、に向けて設けられている。すなわち、乾燥風供給部26は、ダスト保持部である円板12の検出位置及びα線検出器18の検出面18aと、そのさらに円板12の回転方向の下流側と、に向けて設けられている。乾燥風供給部26は、洗浄液供給部24によって供給された洗浄液を揮発させる乾燥風を供給する。乾燥風供給部26は、例えば、ダスト保持部である円板12の検出位置及びα線検出器18の検出面18aと、そのさらに円板12の回転方向の下流側と、に向けて、乾燥風としての熱風を吹き付ける。乾燥風供給部26は、このように熱風を吹き付けることで、熱風の勢いに従って、または熱風の温度により、乾燥風供給部26の向けられた領域から、洗浄液を揮発させることができる。乾燥風供給部26は、制御部32と電気的に接続されており、制御部32によって制御されている。 The drying air supply unit 26 is provided toward the region to which the cleaning liquid supply unit 24 is directed and the downstream side of the disk 12 in the rotational direction. That is, the dry air supply unit 26 is provided toward the detection position of the disk 12 which is the dust holding unit, the detection surface 18a of the α-ray detector 18, and the downstream side of the disk 12 in the rotation direction. ing. The dry air supply unit 26 supplies dry air that volatilizes the cleaning liquid supplied by the cleaning liquid supply unit 24. The drying air supply unit 26 dries toward, for example, the detection position of the disk 12 which is a dust holding unit, the detection surface 18a of the α-ray detector 18, and the downstream side of the disk 12 in the rotation direction. Blow hot air as wind. By blowing the hot air in this way, the dry air supply unit 26 can volatilize the cleaning liquid from the directed region of the dry air supply unit 26 according to the force of the hot air or the temperature of the hot air. The dry air supply unit 26 is electrically connected to the control unit 32 and is controlled by the control unit 32.

このように、洗浄液供給部24と乾燥風供給部26とは、ダスト保持部である円板12の検出位置及びα線検出器18の検出面18aから、検出位置においてα線検出器18でα線が検出されたダストを除去する除去機構を構成している。なお、本発明に係る除去機構は、検出位置においてα線検出器18でα線が検出されたダストを除去する機構であれば、いかなる形態であってもよい。 As described above, the cleaning liquid supply unit 24 and the drying air supply unit 26 are α-ray detector 18 at the detection position from the detection position of the disk 12 which is the dust holding unit and the detection surface 18a of the α-ray detector 18. It constitutes a removal mechanism that removes dust in which lines are detected. The removal mechanism according to the present invention may be in any form as long as it is a mechanism for removing dust in which α rays are detected by the α ray detector 18 at the detection position.

供給機構28は、図1に示すように、給気管28aと、排気管28bと、吸引ポンプ28cと、囲い部材28dと、を含む。給気管28aは、一端が配管30に接続され、他端が捕集位置に向けて囲い部材28dに接続されている。排気管28bは、一端が配管30に接続され、他端が捕集位置に向けて囲い部材28dに接続されている。給気管28aは、排気管28bが接続されている位置よりも配管30における空気の流れの上流側に接続されている。すなわち、排気管28bは、給気管28aが接続されている位置よりも配管30における空気の流れの下流側に接続されている。吸引ポンプ28cは、排気管28bの途中に設けられ、吸引動作をすることで、給気管28a及び排気管28bの内部に、図1に示す矢印の方向に向けて空気を流すことができる。吸引ポンプ28cは、制御部32と電気的に接続されており、制御部32によって制御されている。吸引ポンプ28cは、制御部32の制御に基づいて吸引圧及び吸引時間が制御されることで、ダストの捕集の程度が制御される。 As shown in FIG. 1, the supply mechanism 28 includes an air supply pipe 28a, an exhaust pipe 28b, a suction pump 28c, and an enclosure member 28d. One end of the air supply pipe 28a is connected to the pipe 30, and the other end is connected to the enclosure member 28d toward the collection position. One end of the exhaust pipe 28b is connected to the pipe 30, and the other end is connected to the enclosure member 28d toward the collection position. The air supply pipe 28a is connected to the upstream side of the air flow in the pipe 30 from the position where the exhaust pipe 28b is connected. That is, the exhaust pipe 28b is connected to the downstream side of the air flow in the pipe 30 from the position where the air supply pipe 28a is connected. The suction pump 28c is provided in the middle of the exhaust pipe 28b, and by performing a suction operation, air can flow inside the air supply pipe 28a and the exhaust pipe 28b in the direction of the arrow shown in FIG. The suction pump 28c is electrically connected to the control unit 32 and is controlled by the control unit 32. The suction pump 28c controls the degree of dust collection by controlling the suction pressure and the suction time based on the control of the control unit 32.

囲い部材28dは、捕集位置の付近の空間を囲う部材である。囲い部材28dは、円板12の捕集位置と、電極14とが内部に配置されるように、設けられている。囲い部材28dは、円板12が設けられている側が開口している。囲い部材28dと円板12との間には、円板12の回転運動及び捕集位置における円板12の面上に捕集されたダストの移動に支障がない程度の隙間が設けられている。囲い部材28dは、円板12が設けられている側以外の方向を、隙間なく囲っており、覆っている。囲い部材28dは、図1に示す左側において、給気管28a及び排気管28bと隙間なく接続されている。このように、供給機構28は、配管30から、配管30内を流れている空気を捕集位置に供給する。 The enclosure member 28d is a member that surrounds the space near the collection position. The enclosure member 28d is provided so that the collection position of the disk 12 and the electrode 14 are arranged inside. The enclosure member 28d is open on the side where the disk 12 is provided. A gap is provided between the enclosure member 28d and the disk 12 so as not to hinder the rotational movement of the disk 12 and the movement of the collected dust on the surface of the disk 12 at the collection position. .. The enclosure member 28d surrounds and covers the direction other than the side on which the disk 12 is provided without a gap. The enclosure member 28d is connected to the air supply pipe 28a and the exhaust pipe 28b without a gap on the left side shown in FIG. In this way, the supply mechanism 28 supplies the air flowing in the pipe 30 from the pipe 30 to the collection position.

制御部32は、α線検出器18と、回転駆動部22と、洗浄液供給部24と、乾燥風供給部26と、吸引ポンプ28cと、それぞれ電気的に接続されている。制御部32は、α線検出器18と、回転駆動部22と、洗浄液供給部24と、乾燥風供給部26と、吸引ポンプ28cと、をそれぞれ制御する。 The control unit 32 is electrically connected to the α-ray detector 18, the rotary drive unit 22, the cleaning liquid supply unit 24, the drying air supply unit 26, and the suction pump 28c, respectively. The control unit 32 controls the α-ray detector 18, the rotary drive unit 22, the cleaning liquid supply unit 24, the drying air supply unit 26, and the suction pump 28c, respectively.

制御部32は、処理部と、記憶部とを含む。記憶部は、例えばRAM、ROM及びフラッシュメモリー等の記憶装置を有し、処理部により処理されるソフトウェア・プログラム及びこのソフトウェア・プログラムにより参照されるデータ等を記憶する。具体的には、記憶部は、処理部に本実施形態の放射性ダスト連続モニタリング方法を実行させるための、放射性ダスト連続モニタリングプログラムを記憶する。また、記憶部は、処理部が処理結果等を一時的に記憶する記憶領域としても機能する。処理部は、記憶部からソフトウェア・プログラム等を読み出して処理することで、ソフトウェア・プログラムの内容に応じた機能を発揮する。具体的には、処理部は、記憶部に記憶された放射性ダスト連続モニタリングプログラムを読み出して処理することで、α線検出器18、回転駆動部22、洗浄液供給部24、乾燥風供給部26及び吸引ポンプ28cを適切に制御して、本実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法を実行する。制御部32は、コンピュータが例示される。 The control unit 32 includes a processing unit and a storage unit. The storage unit has, for example, a storage device such as a RAM, a ROM, and a flash memory, and stores a software program processed by the processing unit, data referenced by the software program, and the like. Specifically, the storage unit stores a radioactive dust continuous monitoring program for causing the processing unit to execute the radioactive dust continuous monitoring method of the present embodiment. The storage unit also functions as a storage area in which the processing unit temporarily stores the processing result and the like. The processing unit reads a software program or the like from the storage unit and processes it, thereby exerting a function according to the contents of the software program. Specifically, the processing unit reads out the radioactive dust continuous monitoring program stored in the storage unit and processes the α-ray detector 18, the rotary drive unit 22, the cleaning liquid supply unit 24, the drying air supply unit 26, and the processing unit. The suction pump 28c is appropriately controlled to carry out the radioactive dust continuous monitoring method according to the present embodiment. A computer is exemplified as the control unit 32.

検出信号処理部34は、α線検出器18と電気的に接続されており、α線検出器18がα線を検出することで得られた検出信号をα線検出器18から受信する。検出信号処理部34は、α線検出器18から受信した検出信号に基づいて、一定時間ごとに、検出されたα線量に関する情報を取得する。検出信号処理部34は、電気的に接続された表示部等に、このα線量に関する情報を一定時間ごとに表示させることができる。検出信号処理部34は、このα線量に関する情報を監視し、α線量が所定の閾値を超えたときに、警報機に警報を発信させることができる。 The detection signal processing unit 34 is electrically connected to the α-ray detector 18, and receives the detection signal obtained by the α-ray detector 18 detecting the α-ray from the α-ray detector 18. The detection signal processing unit 34 acquires information on the detected α-dose at regular time intervals based on the detection signal received from the α-ray detector 18. The detection signal processing unit 34 can display information on the α-dose on an electrically connected display unit or the like at regular intervals. The detection signal processing unit 34 monitors the information regarding the α-dose, and when the α-dose exceeds a predetermined threshold value, the alarm device can issue an alarm.

検出信号処理部34は、記憶部が接続されている。記憶部は、例えばRAM、ROM及びフラッシュメモリー等の記憶装置を有し、検出信号処理部34により処理されるソフトウェア・プログラム及びこのソフトウェア・プログラムにより参照されるデータ等を記憶する。具体的には、記憶部は、検出信号処理部34に本実施形態の放射性ダスト連続モニタリング方法における検出信号処理を実行させるための、検出信号処理プログラムを記憶する。また、記憶部は、検出信号処理部34が処理結果等を一時的に記憶する記憶領域としても機能する。検出信号処理部34は、記憶部からソフトウェア・プログラム等を読み出して処理することで、ソフトウェア・プログラムの内容に応じた機能を発揮する。具体的には、検出信号処理部34は、記憶部に記憶された検出信号処理プログラムを読み出して処理することで、本発明の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法に含まれる検出信号処理を実行する。検出信号処理部34は、コンピュータが例示される。 A storage unit is connected to the detection signal processing unit 34. The storage unit has, for example, a storage device such as a RAM, a ROM, and a flash memory, and stores a software program processed by the detection signal processing unit 34, data referenced by the software program, and the like. Specifically, the storage unit stores a detection signal processing program for causing the detection signal processing unit 34 to execute the detection signal processing in the radioactive dust continuous monitoring method of the present embodiment. The storage unit also functions as a storage area in which the detection signal processing unit 34 temporarily stores the processing result and the like. The detection signal processing unit 34 reads a software program or the like from the storage unit and processes it, thereby exerting a function according to the contents of the software program. Specifically, the detection signal processing unit 34 reads and processes the detection signal processing program stored in the storage unit to execute the detection signal processing included in the radioactive dust continuous monitoring method according to the embodiment of the present invention. To do. A computer is exemplified as the detection signal processing unit 34.

制御部32に含まれる処理部と、検出信号処理部34とは、一体であってもよい。また、制御部32に含まれる記憶部と、検出信号処理部34に接続されている記憶部とは、一体であってもよい。制御部32と、検出信号処理部34とは、一台のコンピュータであってもよい。 The processing unit included in the control unit 32 and the detection signal processing unit 34 may be integrated. Further, the storage unit included in the control unit 32 and the storage unit connected to the detection signal processing unit 34 may be integrated. The control unit 32 and the detection signal processing unit 34 may be one computer.

図2は、本発明の第1の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法を示すフローチャートである。図2を用いて、本発明の第1の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法を説明する。本発明の第1の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法は、本発明の第1の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング装置10の動作の一例である。本発明の第1の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法は、図2に示すように、空気供給ステップ(ステップS12)と、ダスト捕集ステップ(ステップS14)と、ダスト移動ステップ(ステップS16)と、α線検出ステップ(ステップS18)と、ダスト除去ステップ(ステップS20)と、を含む。 FIG. 2 is a flowchart showing a radioactive dust continuous monitoring method according to the first embodiment of the present invention. The radioactive dust continuous monitoring method according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The radioactive dust continuous monitoring method according to the first embodiment of the present invention is an example of the operation of the radioactive dust continuous monitoring device 10 according to the first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 2, the radioactive dust continuous monitoring method according to the first embodiment of the present invention includes an air supply step (step S12), a dust collection step (step S14), and a dust movement step (step S16). And an α-ray detection step (step S18) and a dust removal step (step S20).

まず、供給機構28は、吸引ポンプ28cが制御部32の制御を受けて吸引動作をすることで、給気管28a及び排気管28bの内部に、図1に示す矢印の方向に向けて空気を流す。これにより、供給機構28は、配管30の内部を流れており、α線を発生させるダストを含む空気を、囲い部材28dに囲まれた空間に供給する。このように、供給機構28は、α線を発生させるダストを含む空気を捕集位置に供給する(ステップS12)。 First, the supply mechanism 28 causes the suction pump 28c to perform a suction operation under the control of the control unit 32, thereby causing air to flow inside the air supply pipe 28a and the exhaust pipe 28b in the direction of the arrow shown in FIG. .. As a result, the supply mechanism 28 flows inside the pipe 30 and supplies air containing dust that generates α rays to the space surrounded by the enclosure member 28d. In this way, the supply mechanism 28 supplies air containing dust that generates α rays to the collection position (step S12).

次に、捕集機構は、ステップS12によりα線を発生させるダストを含む空気が捕集位置に供給されている状態で、電源16が、電極14にダストが帯びる極性と同じ極性の電圧を印加して電極14を放電極とし、円板12にダストが帯びる極性と異なる極性の電圧を印加して円板12を集塵極とする。これにより、捕集機構は、ダストを捕集位置における円板12の面上に選択的に吸着させる。このように、捕集機構は、α線を発生させるダストを捕集位置における円板12の面上に捕集する(ステップS14)。 Next, in the collection mechanism, the power supply 16 applies a voltage having the same polarity as the dust-bearing polarity to the electrode 14 in a state where air containing dust that generates α rays is supplied to the collection position in step S12. Then, the electrode 14 is used as a release electrode, and a voltage having a polarity different from the polarity carried by the dust is applied to the disk 12 to make the disk 12 a dust collecting electrode. As a result, the collection mechanism selectively adsorbs the dust on the surface of the disk 12 at the collection position. In this way, the collection mechanism collects the dust that generates α rays on the surface of the disk 12 at the collection position (step S14).

そして、移動機構は、ステップS14によりα線を発生させるダストが捕集位置における円板12の面上に捕集された状態で、回転駆動部22が制御部32の制御を受けて、回転軸20を介して、円板12を、図1に示す矢印の反時計回りの方向に回転させる。これにより、移動機構は、捕集位置にあった、円板12のα線を発生させるダストが捕集された部分を、α線検出器18の検出面18aと円板12の厚み方向に対向した位置である検出位置に移動させる(ステップS16)。 Then, in the moving mechanism, the rotation drive unit 22 is controlled by the control unit 32 in a state where the dust that generates α rays is collected on the surface of the disk 12 at the collection position by step S14, and the rotation shaft. Through 20, the disk 12 is rotated in the counterclockwise direction of the arrow shown in FIG. As a result, the moving mechanism faces the portion of the disk 12 where the dust generating α rays, which was at the collection position, with the detection surface 18a of the α ray detector 18 in the thickness direction of the disk 12. It is moved to the detection position which is the position (step S16).

その後、α線検出器18は、制御部32の制御を受けて、ステップS16により検出位置に移動させたダストから発生するα線を検出する(ステップS18)。α線検出器18は、α線を検出することで、検出信号を得て、得られた検出信号を検出信号処理部34に送信する。検出信号処理部34は、α線検出器18から受信した検出信号に基づいて、検出されたα線量に関する情報を取得する。 After that, the α-ray detector 18 is controlled by the control unit 32 and detects α-rays generated from the dust moved to the detection position in step S16 (step S18). The α-ray detector 18 obtains a detection signal by detecting α-rays and transmits the obtained detection signal to the detection signal processing unit 34. The detection signal processing unit 34 acquires information on the detected α dose based on the detection signal received from the α ray detector 18.

その後、洗浄液供給部24は、制御部32の制御を受けて、α線検出器18によってα線が検出されたダストが捕集されている検出位置における円板12の面上と、ダストが付着している可能性があるα線検出器18の検出面18aとに向けて、洗浄液を供給する。具体的には、洗浄液供給部24は、これらの場所に向けて、洗浄液をノズルから噴射することで、洗浄液の噴射の勢いに従って、または洗浄液でダストを溶解することで、ダストを円板12の検出位置及び検出面18aから除去する。さらに、乾燥風供給部26は、制御部32の制御を受けて、円板12の検出位置及び検出面18aと、そのさらに円板12の回転方向の下流側と、に向けて乾燥風を供給する。具体的には、乾燥風供給部26は、これらの場所に向けて、乾燥風を吹き付けることで、乾燥風の勢いに従って、または乾燥風の温度により、乾燥風供給部26の向けられた領域から、洗浄液を揮発させる。このように、洗浄液供給部24と乾燥風供給部26とは、ダスト保持部である円板12の検出位置及びα線検出器18の検出面18aから、検出位置においてα線検出器18でα線が検出されたダストを除去する(ステップS20)。 After that, under the control of the control unit 32, the cleaning liquid supply unit 24 adheres to the surface of the disk 12 at the detection position where the dust in which the α ray is detected by the α ray detector 18 is collected. The cleaning liquid is supplied toward the detection surface 18a of the α-ray detector 18 which may be. Specifically, the cleaning liquid supply unit 24 ejects the cleaning liquid from the nozzle toward these locations according to the momentum of the injection of the cleaning liquid, or dissolves the dust with the cleaning liquid to discharge the dust from the disk 12. Remove from the detection position and the detection surface 18a. Further, the drying air supply unit 26, under the control of the control unit 32, supplies the drying air toward the detection position and the detection surface 18a of the disk 12 and further downstream of the disk 12 in the rotation direction. To do. Specifically, the dry air supply unit 26 blows dry air toward these locations from the region to which the dry air supply unit 26 is directed, according to the force of the dry air or by the temperature of the dry air. , Volatilize the cleaning solution. As described above, the cleaning liquid supply unit 24 and the drying air supply unit 26 are α-ray detector 18 at the detection position from the detection position of the disk 12 which is the dust holding unit and the detection surface 18a of the α-ray detector 18. The dust in which the line is detected is removed (step S20).

ステップS12からステップS20までの処理が施された円板12の領域は、移動機構により、再び捕集位置に戻ってくる。このため、ステップS12からステップS20までの処理を何度も繰り返すことで、一定時間ごとに、α線を発生させるダストを連続してモニタリングすることができる。 The region of the disk 12 that has been processed from step S12 to step S20 returns to the collection position again by the moving mechanism. Therefore, by repeating the processes from step S12 to step S20 many times, it is possible to continuously monitor the dust that generates α rays at regular intervals.

放射性ダスト連続モニタリング装置10及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、以上のような構成を有するので、移動機構によりα線検出器18の検出面18aとダストとを接近させることができ、かつ、除去機構によりダスト保持部である円板12とα線検出器18の検出面18aとからダストを除去することができる。このため、放射性ダスト連続モニタリング装置10及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、除去機構によりダストを除去した領域を再びダストの捕集及びα線の検出に用いることができるので、ダスト保持部である円板12を交換する必要がない。このように、放射性ダスト連続モニタリング装置10及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、α線検出器18の検出面18aの汚染を低減しつつ、α線を十分な強度で検出することができる。また、放射性ダスト連続モニタリング装置10及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、従来技術のように濾紙を使用しては処分したりフィルタを定期的に交換したりする必要がないので、放射性ダストの連続モニタリングにかかる手間及びコストを低減することができる。 Since the radioactive dust continuous monitoring device 10 and the radioactive dust continuous monitoring method based on the radioactive dust continuous monitoring device 10 have the above configurations, the detection surface 18a of the α-ray detector 18 can be brought close to the dust by the moving mechanism, and the dust can be removed. By the mechanism, dust can be removed from the disk 12 which is the dust holding portion and the detection surface 18a of the α-ray detector 18. Therefore, the radioactive dust continuous monitoring device 10 and the radioactive dust continuous monitoring method using the radioactive dust continuous monitoring device 10 can be used again for collecting dust and detecting α rays in the area where the dust has been removed by the removal mechanism, and thus is a dust holding unit. There is no need to replace the disc 12. As described above, the radioactive dust continuous monitoring device 10 and the radioactive dust continuous monitoring method using the device can detect α rays with sufficient intensity while reducing the contamination of the detection surface 18a of the α ray detector 18. Further, the radioactive dust continuous monitoring device 10 and the radioactive dust continuous monitoring method based on the radioactive dust continuous monitoring device 10 do not need to dispose of using filter paper or replace the filter regularly as in the prior art, so that the radioactive dust is continuous. It is possible to reduce the labor and cost required for monitoring.

放射性ダスト連続モニタリング装置10及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、ダスト保持部が円周上に連続して形成された円板12であり、捕集位置と検出位置とが円板12に沿って共に配置され、移動機構が円板12を軸の周りに回転させる回転駆動部22を含む。このため、放射性ダスト連続モニタリング装置10及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、捕集位置となっていた円板12の部分を検出位置に移動させるとともに、検出位置となっていた円板12の部分を捕集位置に移動させることができるので、効率よく、放射性ダストの連続モニタリングをすることができる。 The radioactive dust continuous monitoring device 10 and the radioactive dust continuous monitoring method based on the radioactive dust continuous monitoring device 10 are disks 12 in which dust holding portions are continuously formed on the circumference, and the collection position and the detection position are along the disk 12. Included is a rotary drive unit 22 that is arranged together and the moving mechanism rotates the disc 12 around an axis. Therefore, in the radioactive dust continuous monitoring device 10 and the radioactive dust continuous monitoring method using the device, the portion of the disk 12 that was the collection position is moved to the detection position, and the portion of the disk 12 that was the detection position is moved. Can be moved to the collection position, so that continuous monitoring of radioactive dust can be performed efficiently.

放射性ダスト連続モニタリング装置10及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、さらに、捕集機構が円板12と円板12に対向して捕集位置に設けられた電極14とにそれぞれ異なる極性の電圧を印加する電源16を含む。このため、放射性ダスト連続モニタリング装置10及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、ダスト保持部の捕集位置に、選択的に、かつ、効率よく、ダストを捕集することができる。 The radioactive dust continuous monitoring device 10 and the radioactive dust continuous monitoring method using the radioactive dust continuous monitoring device further apply a voltage having a different polarity to the disc 12 and the electrode 14 provided at the collecting position facing the disc 12 by the collecting mechanism. The power source 16 to be applied is included. Therefore, the radioactive dust continuous monitoring device 10 and the radioactive dust continuous monitoring method based on the radioactive dust continuous monitoring device 10 can selectively and efficiently collect dust at the collection position of the dust holding portion.

放射性ダスト連続モニタリング装置10及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、除去機構がダスト保持部及びα線検出器18の検出面18aを洗浄する洗浄液を供給する洗浄液供給部24と、洗浄液を揮発させる乾燥風を供給する乾燥風供給部26と、を含む。このため、放射性ダスト連続モニタリング装置10及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、より確実に、ダスト保持部及びα線検出器18の検出面18aからダストを除去することができる。 In the radioactive dust continuous monitoring device 10 and the radioactive dust continuous monitoring method using the radioactive dust continuous monitoring device 10, the cleaning liquid supply unit 24 for which the removal mechanism supplies the cleaning liquid for cleaning the dust holding unit and the detection surface 18a of the α-ray detector 18, and the drying for volatilizing the cleaning liquid. Includes a dry air supply unit 26 that supplies air. Therefore, the radioactive dust continuous monitoring device 10 and the radioactive dust continuous monitoring method based on the radioactive dust continuous monitoring device 10 can more reliably remove dust from the dust holding portion and the detection surface 18a of the α-ray detector 18.

放射性ダスト連続モニタリング装置10及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、さらに、α線検出器18の検出面18aがDLCでコーティングされており、洗浄液供給部24が強酸を供給する。このため、放射性ダスト連続モニタリング装置10及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、DLCコーティングが強酸に対して溶解しないので、α線検出器18の検出面18aを洗浄液から保護することができる。 In the radioactive dust continuous monitoring device 10 and the radioactive dust continuous monitoring method using the radioactive dust continuous monitoring device 10, the detection surface 18a of the α-ray detector 18 is further coated with DLC, and the cleaning liquid supply unit 24 supplies a strong acid. Therefore, the radioactive dust continuous monitoring device 10 and the radioactive dust continuous monitoring method based on the radioactive dust continuous monitoring device 10 can protect the detection surface 18a of the α-ray detector 18 from the cleaning liquid because the DLC coating does not dissolve in the strong acid.

放射性ダスト連続モニタリング装置10及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、空気が流れる配管30から、空気を捕集位置に供給する供給機構をさらに含む。このため、放射性ダスト連続モニタリング装置10及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、配管30から空気を供給してダストを捕集することができるので、空気の供給が可能な、いかなる配管30の場所においても、放射性ダストの連続モニタリングをすることができる。 The radioactive dust continuous monitoring device 10 and the method for continuously monitoring the radioactive dust by the radioactive dust continuous monitoring device 10 further include a supply mechanism for supplying air to the collection position from the pipe 30 through which the air flows. Therefore, the radioactive dust continuous monitoring device 10 and the radioactive dust continuous monitoring method based on the radioactive dust continuous monitoring device 10 can supply air from the pipe 30 to collect the dust, so that the air can be supplied at any pipe 30 location. Also, continuous monitoring of radioactive dust is possible.

[第2の実施形態]
図3は、本発明の第2の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング装置40の概略構成図である。放射性ダスト連続モニタリング装置40は、図3に示すように、配管60の内部を流れる空気中に含まれる放射性ダストから発生するα線を検出することで、放射性ダストを連続でモニタリングする。
[Second Embodiment]
FIG. 3 is a schematic configuration diagram of the radioactive dust continuous monitoring device 40 according to the second embodiment of the present invention. As shown in FIG. 3, the radioactive dust continuous monitoring device 40 continuously monitors radioactive dust by detecting α rays generated from radioactive dust contained in the air flowing inside the pipe 60.

放射性ダスト連続モニタリング装置40は、図3に示すように、点状電極42と、板状電極44a及び板状電極44bと、電源46と、α線検出器48と、金属薄膜48bと、金属部材50と、電源52と、空気ブロー噴出部54と、制御部56と、検出信号処理部58と、を含む。 As shown in FIG. 3, the radioactive dust continuous monitoring device 40 includes a point electrode 42, a plate electrode 44a and a plate electrode 44b, a power supply 46, an α ray detector 48, a metal thin film 48b, and a metal member. 50, a power supply 52, an air blow ejection unit 54, a control unit 56, and a detection signal processing unit 58 are included.

点状電極42は、配管60の内部の断面における中央領域に設けられている。点状電極42は、配管60の内部における空気の流れを必要以上に妨げない支持部材で、配管60の内部に支持されている。板状電極44a及び板状電極44bは、点状電極42を覆うように、配管60の内面に沿って設けられている。板状電極44a及び板状電極44bは、2枚の電極に分けて設けられているが、1枚の円筒状の電極であってもよく、3枚以上の電極に分けて設けられていてもよい。点状電極42と、板状電極44a及び板状電極44bとは、配管60の断面方向に沿って対向して配置されている。電源46は、一方の極が点状電極42に接続され、他方の極が板状電極44a及び板状電極44bに接続されている。このため、電源46は、点状電極42と板状電極44a及び板状電極44bとにそれぞれ異なる極性の電圧を印加することができる。詳細には、電源46は、ダストを帯電させたい極性と同じ極性の電圧を点状電極42に印加し、ダストを帯電させたい極性と異なる極性の電圧を板状電極44a及び板状電極44bに印加する。電源46は、点状電極42に負極の電圧を印加し、板状電極44a及び板状電極44bに正極の電圧を印加することで、空気の流れに伴って通過するダストを負極に帯電させることができる。一方、電源46は、点状電極42に正極の電圧を印加し、板状電極44a及び板状電極44bに負極の電圧を印加することで、空気の流れに伴って通過するダストを正極に帯電させることができる。このように、点状電極42と、板状電極44a及び板状電極44bと、電源46とは、ダストを帯電させる帯電機構を構成している。 The point electrode 42 is provided in a central region in a cross section inside the pipe 60. The point electrode 42 is a support member that does not obstruct the air flow inside the pipe 60 more than necessary, and is supported inside the pipe 60. The plate-shaped electrode 44a and the plate-shaped electrode 44b are provided along the inner surface of the pipe 60 so as to cover the point-shaped electrode 42. The plate-shaped electrode 44a and the plate-shaped electrode 44b are separately provided as two electrodes, but may be one cylindrical electrode or may be separately provided as three or more electrodes. Good. The point-shaped electrode 42, the plate-shaped electrode 44a, and the plate-shaped electrode 44b are arranged so as to face each other along the cross-sectional direction of the pipe 60. In the power supply 46, one electrode is connected to the point electrode 42, and the other electrode is connected to the plate electrode 44a and the plate electrode 44b. Therefore, the power supply 46 can apply voltages having different polarities to the point electrode 42, the plate electrode 44a, and the plate electrode 44b. Specifically, the power supply 46 applies a voltage having the same polarity as the polarity to be charged with dust to the point electrode 42, and applies a voltage having a polarity different from the polarity to be charged with dust to the plate-shaped electrode 44a and the plate-shaped electrode 44b. Apply. The power supply 46 applies the voltage of the negative electrode to the point electrode 42 and the voltage of the positive electrode to the plate electrode 44a and the plate electrode 44b to charge the negative electrode with dust passing along with the air flow. Can be done. On the other hand, the power supply 46 applies the voltage of the positive electrode to the point electrode 42 and the voltage of the negative electrode to the plate electrode 44a and the plate electrode 44b, so that the dust passing along with the air flow is charged to the positive electrode. Can be made to. As described above, the point-shaped electrode 42, the plate-shaped electrode 44a, the plate-shaped electrode 44b, and the power supply 46 form a charging mechanism for charging dust.

本実施形態では、電源46は、配管60の内部に設けられても外部に設けられてもよいが、点状電極42と、板状電極44a及び板状電極44bとは、いずれも内部に設けられている。このことから、本実施形態では、帯電機構は、実質的に配管60の内部に設けられており、配管60の内部を流れる空気に含まれるダストを配管60の内部で帯電させる。 In the present embodiment, the power supply 46 may be provided inside or outside the pipe 60, but the point electrode 42, the plate electrode 44a, and the plate electrode 44b are both provided inside. Has been done. For this reason, in the present embodiment, the charging mechanism is substantially provided inside the pipe 60, and dust contained in the air flowing inside the pipe 60 is charged inside the pipe 60.

点状電極42は、板状電極44a及び板状電極44bと比較して、互いに対向する面積が小さいので、放電圧を高圧にすることができるので、ダストの帯電の効率が良くなり、好ましい。電源46は、電圧が調整されることで、ダストの帯電の程度、すなわち単位時間当たりに帯電するダストの量が調整されている。なお、電源46は、制御部56と電気的に接続されていてもよく、この場合、制御部56の制御に基づいて電圧が制御されて、ダストの帯電の程度が制御される。 Since the point-shaped electrode 42 has a smaller area facing each other than the plate-shaped electrode 44a and the plate-shaped electrode 44b, the discharge voltage can be increased to a high voltage, which improves the efficiency of dust charging, which is preferable. By adjusting the voltage of the power supply 46, the degree of dust charging, that is, the amount of dust charged per unit time is adjusted. The power supply 46 may be electrically connected to the control unit 56. In this case, the voltage is controlled based on the control of the control unit 56, and the degree of dust charging is controlled.

α線検出器48は、ダストから発生するα線を検出する。α線検出器48は、α線を検出する検出面48aを有する。α線検出器48は、検出面48aに金属薄膜48bがコーティングされている。金属薄膜48bは、α線を発生させない金属であればどのような金属であってもよく、α線の検出を妨げない程度に薄く形成されている。 The α-ray detector 48 detects α-rays generated from dust. The α-ray detector 48 has a detection surface 48a for detecting α-rays. In the α-ray detector 48, the detection surface 48a is coated with a metal thin film 48b. The metal thin film 48b may be any metal as long as it does not generate α rays, and is formed thin enough not to interfere with the detection of α rays.

α線検出器48は、検出面48a及び金属薄膜48bが配管60の内部に向けて、帯電機構よりも配管60における空気の流れの下流側に設けられている。このため、α線検出器48は、帯電機構によって帯電し、空気の流れに伴って検出面48a及び金属薄膜48bが設けられている位置に移動したダストを、金属薄膜48bの表面に吸着させて、ダストから発生するα線を検出する。 In the α-ray detector 48, the detection surface 48a and the metal thin film 48b are provided toward the inside of the pipe 60 and on the downstream side of the air flow in the pipe 60 with respect to the charging mechanism. Therefore, the α-ray detector 48 is charged by the charging mechanism, and the dust that has moved to the position where the detection surface 48a and the metal thin film 48b are provided along with the air flow is adsorbed on the surface of the metal thin film 48b. , Detects alpha rays generated from dust.

α線の飛程は、上記したように、α線核種及びα線の経路にある材料によって異なるが、空気中では10cm程度以下と短い。また、α線検出器48の検出面48aに金属薄膜48bがコーティングされているので、α線は、検出面48aに到達するまでに金属薄膜48bによって減衰する。このため、α線検出器48は、金属薄膜48bから離間しているダストから発生するα線を検出することは難しい。そのため、α線検出器48は、配管60の内部を流れている状態のダストから発生するα線を検出することは難しい。一方、α線検出器48は、検出面48aと金属薄膜48bの表面との距離がα線の飛程と比較して十分に短いので、金属薄膜48bの表面に吸着されたダストから発生するα線を検出することができる。このことから、α線検出器48は、検出面48a及び金属薄膜48bが、配管60の延びる方向に沿って設けられていることが好ましく、この場合、検出面48aで効率よく、帯電したダストを吸着して、ダストから発生するα線を検出することができる。 As described above, the range of α-rays varies depending on the α-ray nuclide and the material in the path of α-rays, but is as short as about 10 cm or less in air. Further, since the detection surface 48a of the α-ray detector 48 is coated with the metal thin film 48b, the α-rays are attenuated by the metal thin film 48b before reaching the detection surface 48a. Therefore, it is difficult for the α-ray detector 48 to detect α-rays generated from dust separated from the metal thin film 48b. Therefore, it is difficult for the α-ray detector 48 to detect α-rays generated from dust flowing inside the pipe 60. On the other hand, in the α-ray detector 48, since the distance between the detection surface 48a and the surface of the metal thin film 48b is sufficiently short as compared with the range of the α-ray, α generated from the dust adsorbed on the surface of the metal thin film 48b Lines can be detected. For this reason, in the α-ray detector 48, it is preferable that the detection surface 48a and the metal thin film 48b are provided along the extending direction of the pipe 60. In this case, the detection surface 48a efficiently removes charged dust. It can detect α rays generated from dust by adsorbing.

α線検出器48は、制御部56と電気的に接続されており、制御部56によって制御されている。α線検出器48は、検出信号処理部58と電気的に接続されており、α線を検出することで得られた検出信号を検出信号処理部58に送信する。 The α-ray detector 48 is electrically connected to the control unit 56 and is controlled by the control unit 56. The α-ray detector 48 is electrically connected to the detection signal processing unit 58, and transmits the detection signal obtained by detecting the α-ray to the detection signal processing unit 58.

金属部材50は、金属薄膜48bに対向して設けられている。電源52は、一方の極が金属薄膜48bに接続され、他方の極が金属部材50に接続されている。このため、電源52は、金属薄膜48bと金属部材50とにそれぞれ異なる極性の電圧を印加することができる。 The metal member 50 is provided so as to face the metal thin film 48b. In the power supply 52, one pole is connected to the metal thin film 48b and the other pole is connected to the metal member 50. Therefore, the power supply 52 can apply voltages having different polarities to the metal thin film 48b and the metal member 50.

電源52は、制御部56と電気的に接続されており、制御部56によって制御されている。電源52は、オンオフの切り替え、及び、金属薄膜48bと金属部材50とに印加する電圧の極性の切り替えをすることができる。電源52は、帯電機構によりダストを帯電させた極性と異なる極性の電圧を金属薄膜48bに印加し、帯電機構によりダストを帯電させた極性と同じ極性の電圧を金属部材50に印加する。これにより、電源52は、ダストに対して金属薄膜48bに向けた静電力を加えて、ダストを金属薄膜48bの表面に吸着させることができる。 The power supply 52 is electrically connected to the control unit 56 and is controlled by the control unit 56. The power supply 52 can switch on / off and switch the polarity of the voltage applied to the metal thin film 48b and the metal member 50. The power supply 52 applies a voltage having a polarity different from the polarity charged with the dust by the charging mechanism to the metal thin film 48b, and applies a voltage having the same polarity as the polarity charged with the dust by the charging mechanism to the metal member 50. As a result, the power supply 52 can apply an electrostatic force toward the metal thin film 48b to the dust to adsorb the dust on the surface of the metal thin film 48b.

電源52は、オフに切り替えることで、すなわち切ることで、金属薄膜48b及び金属部材50に電圧を印加していない状態とし、ダストに対して金属薄膜48bに向けた静電力を加えていない状態とすることができる。また、電源52は、ダストを金属薄膜48bの表面に吸着させる時とは逆に切り替えることで、帯電機構によりダストを帯電させた極性と同じ極性の電圧を金属薄膜48bに印加し、帯電機構によりダストを帯電させた極性と異なる極性の電圧を金属部材50に印加する。これにより、電源52は、ダストに対して金属部材50に向けた静電力を加えて、金属薄膜48bに吸着しているダストを金属部材50に向けて剥離させることができる。 By switching the power supply 52 off, that is, by turning it off, no voltage is applied to the metal thin film 48b and the metal member 50, and no electrostatic force is applied to the dust toward the metal thin film 48b. can do. Further, the power supply 52 is switched in the opposite direction to the case where the dust is adsorbed on the surface of the metal thin film 48b, so that a voltage having the same polarity as that of charging the dust by the charging mechanism is applied to the metal thin film 48b by the charging mechanism. A voltage having a polarity different from the polarity charged with dust is applied to the metal member 50. As a result, the power supply 52 can apply an electrostatic force toward the metal member 50 to the dust to separate the dust adsorbed on the metal thin film 48b toward the metal member 50.

金属部材50は、電源52によって、金属薄膜48bと異なる極性の電圧が印加されることで、金属薄膜48bとの間に静電力場を作り出す。金属部材50は、配管60の内部の面に沿って設けられているか、もしくは、配管60を構成する金属の部分の一部であることが好ましく、この場合、金属薄膜48bとの間の空間が広くなるため、配管60の内部における金属薄膜48bと対向する広い空間に、静電力場を作り出すことができる。金属部材50を有することで、より安定した電位と電界を供給維持することができる。なお、金属部材50は、必須の構成でなくてもよく、この場合は配管60を接地させ、接地電位を基準にして金属薄膜48bに所定の極性の電圧を印加することで、金属薄膜48bと配管60の内面と間に静電力場を作り出すことができる。 The metal member 50 creates an electrostatic force field between the metal member 50 and the metal thin film 48b by applying a voltage having a polarity different from that of the metal thin film 48b by the power supply 52. The metal member 50 is preferably provided along the inner surface of the pipe 60 or is a part of a metal portion constituting the pipe 60. In this case, the space between the metal member 50 and the metal thin film 48b is formed. Since it becomes wider, an electrostatic force field can be created in a wide space facing the metal thin film 48b inside the pipe 60. By having the metal member 50, it is possible to supply and maintain a more stable potential and electric field. The metal member 50 does not have to have an indispensable configuration. In this case, the metal thin film 48b is formed by grounding the pipe 60 and applying a voltage having a predetermined polarity to the metal thin film 48b with reference to the grounding potential. An electrostatic force field can be created between the inner surface and the inner surface of the pipe 60.

空気ブロー噴出部54は、金属薄膜48bに向けて設けられている。すなわち、空気ブロー噴出部54は、空気ブローを噴出する空気ブロー噴出口が、金属薄膜48bに向けて設けられている。空気ブロー噴出部54は、空気ブローを噴出する空気ブロー噴出口が、配管60の内部に設けられている。空気ブロー噴出部54は、制御部56と電気的に接続されており、制御部56によって制御されている。空気ブロー噴出部54は、電源52がオフに切り替えられて、金属薄膜48bに電圧を印加していない状態であり、ダストに対して金属薄膜48bに向けた静電力が加えられていない状態のときに、金属薄膜48bに向けて空気ブローを噴出することで、α線検出器48でα線が検出されたダストを金属薄膜48bから除去することができる。また、空気ブロー噴出部54は、電源52が逆に切り替えられて、帯電機構によりダストを帯電させた極性と同じ極性の電圧を金属薄膜48bに印加した状態であり、ダストに対して金属部材50に向けた静電力が加えられた状態のときに、金属薄膜48bに向けて空気ブローを噴出することで、α線検出器48でα線が検出されたダストを金属薄膜48bから除去することができる。金属薄膜48bから除去されたダストは、配管60の内部を流れて、金属薄膜48bに吸着されなかったダストとともに、外部に漏れないように回収される。 The air blow ejection portion 54 is provided toward the metal thin film 48b. That is, the air blow ejection portion 54 is provided with an air blow outlet for ejecting the air blow toward the metal thin film 48b. The air blow ejection portion 54 is provided with an air blow outlet for ejecting an air blow inside the pipe 60. The air blow ejection unit 54 is electrically connected to the control unit 56 and is controlled by the control unit 56. The air blow ejection portion 54 is in a state in which the power supply 52 is switched off and no voltage is applied to the metal thin film 48b, and a state in which an electrostatic force directed toward the metal thin film 48b is not applied to the dust. By ejecting an air blow toward the metal thin film 48b, dust in which α rays are detected by the α ray detector 48 can be removed from the metal thin film 48b. Further, the air blow ejection portion 54 is in a state in which the power supply 52 is switched in the reverse direction and a voltage having the same polarity as that of charging the dust by the charging mechanism is applied to the metal thin film 48b, and the metal member 50 is applied to the dust. By ejecting an air blow toward the metal thin film 48b when an electrostatic force is applied to the metal thin film 48b, dust in which α rays are detected by the α ray detector 48 can be removed from the metal thin film 48b. it can. The dust removed from the metal thin film 48b flows inside the pipe 60 and is collected together with the dust not adsorbed on the metal thin film 48b so as not to leak to the outside.

制御部56は、α線検出器48と、電源52と、空気ブロー噴出部54と、それぞれ電気的に接続されている。制御部56は、α線検出器48と、電源52と、空気ブロー噴出部54と、をそれぞれ制御する。 The control unit 56 is electrically connected to the α-ray detector 48, the power supply 52, and the air blow ejection unit 54, respectively. The control unit 56 controls the α-ray detector 48, the power supply 52, and the air blow ejection unit 54, respectively.

制御部56は、処理部と、記憶部とを含む。記憶部は、例えばRAM、ROM及びフラッシュメモリー等の記憶装置を有し、処理部により処理されるソフトウェア・プログラム及びこのソフトウェア・プログラムにより参照されるデータ等を記憶する。具体的には、記憶部は、処理部に本実施形態の放射性ダスト連続モニタリング方法を実行させるための、放射性ダスト連続モニタリングプログラムを記憶する。また、記憶部は、処理部が処理結果等を一時的に記憶する記憶領域としても機能する。処理部は、記憶部からソフトウェア・プログラム等を読み出して処理することで、ソフトウェア・プログラムの内容に応じた機能を発揮する。具体的には、処理部は、記憶部に記憶された放射性ダスト連続モニタリングプログラムを読み出して処理することで、α線検出器48、電源52及び空気ブロー噴出部54を適切に制御して、本実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法を実行する。制御部56は、コンピュータが例示される。 The control unit 56 includes a processing unit and a storage unit. The storage unit has, for example, a storage device such as a RAM, a ROM, and a flash memory, and stores a software program processed by the processing unit, data referenced by the software program, and the like. Specifically, the storage unit stores a radioactive dust continuous monitoring program for causing the processing unit to execute the radioactive dust continuous monitoring method of the present embodiment. The storage unit also functions as a storage area in which the processing unit temporarily stores the processing result and the like. The processing unit reads a software program or the like from the storage unit and processes it, thereby exerting a function according to the contents of the software program. Specifically, the processing unit reads out the radioactive dust continuous monitoring program stored in the storage unit and processes it to appropriately control the α-ray detector 48, the power supply 52, and the air blow ejection unit 54. The radioactive dust continuous monitoring method according to the embodiment is carried out. The control unit 56 is exemplified by a computer.

検出信号処理部58は、α線検出器48と電気的に接続されており、α線検出器48がα線を検出することで得られた検出信号をα線検出器48から受信する。検出信号処理部58は、α線検出器48から受信した検出信号に基づいて、一定時間ごとに、検出されたα線量に関する情報を取得する。検出信号処理部58は、電気的に接続された表示部等に、このα線量に関する情報を一定時間ごとに表示させることができる。検出信号処理部58は、このα線量に関する情報を監視し、α線量が所定の閾値を超えたときに、警報機に警報を発信させることができる。 The detection signal processing unit 58 is electrically connected to the α-ray detector 48, and receives the detection signal obtained by the α-ray detector 48 detecting the α-ray from the α-ray detector 48. The detection signal processing unit 58 acquires information on the detected α-dose at regular time intervals based on the detection signal received from the α-ray detector 48. The detection signal processing unit 58 can display information on the α-dose on an electrically connected display unit or the like at regular intervals. The detection signal processing unit 58 monitors the information regarding the α-dose, and when the α-dose exceeds a predetermined threshold value, the alarm device can issue an alarm.

検出信号処理部58は、記憶部が接続されている。記憶部は、例えばRAM、ROM及びフラッシュメモリー等の記憶装置を有し、検出信号処理部58により処理されるソフトウェア・プログラム及びこのソフトウェア・プログラムにより参照されるデータ等を記憶する。具体的には、記憶部は、検出信号処理部58に本実施形態の放射性ダスト連続モニタリング方法における検出信号処理を実行させるための、検出信号処理プログラムを記憶する。また、記憶部は、検出信号処理部58が処理結果等を一時的に記憶する記憶領域としても機能する。検出信号処理部58は、記憶部からソフトウェア・プログラム等を読み出して処理することで、ソフトウェア・プログラムの内容に応じた機能を発揮する。具体的には、検出信号処理部58は、記憶部に記憶された検出信号処理プログラムを読み出して処理することで、本発明の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法に含まれる検出信号処理を実行する。検出信号処理部58は、コンピュータが例示される。 A storage unit is connected to the detection signal processing unit 58. The storage unit has, for example, a storage device such as a RAM, a ROM, and a flash memory, and stores a software program processed by the detection signal processing unit 58, data referenced by the software program, and the like. Specifically, the storage unit stores a detection signal processing program for causing the detection signal processing unit 58 to execute the detection signal processing in the radioactive dust continuous monitoring method of the present embodiment. The storage unit also functions as a storage area in which the detection signal processing unit 58 temporarily stores the processing result and the like. The detection signal processing unit 58 reads a software program or the like from the storage unit and processes it, thereby exerting a function according to the contents of the software program. Specifically, the detection signal processing unit 58 reads and processes the detection signal processing program stored in the storage unit to execute the detection signal processing included in the radioactive dust continuous monitoring method according to the embodiment of the present invention. To do. A computer is exemplified as the detection signal processing unit 58.

制御部56に含まれる処理部と、検出信号処理部58とは、一体であってもよい。また、制御部56に含まれる記憶部と、検出信号処理部58に接続されている記憶部とは、一体であってもよい。制御部56と、検出信号処理部58とは、一台のコンピュータであってもよい。 The processing unit included in the control unit 56 and the detection signal processing unit 58 may be integrated. Further, the storage unit included in the control unit 56 and the storage unit connected to the detection signal processing unit 58 may be integrated. The control unit 56 and the detection signal processing unit 58 may be a single computer.

図4は、本発明の第2の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法を示すフローチャートである。図4を用いて、本発明の第2の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法を説明する。本発明の第2の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法は、本発明の第2の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング装置40の動作の一例である。本発明の第2の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法は、図4に示すように、ダスト帯電ステップ(ステップS22)と、ダスト吸着ステップ(ステップS24)と、α線検出ステップ(ステップS26)と、ダスト除去ステップ(ステップS28)と、を含む。 FIG. 4 is a flowchart showing a radioactive dust continuous monitoring method according to the second embodiment of the present invention. The radioactive dust continuous monitoring method according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The radioactive dust continuous monitoring method according to the second embodiment of the present invention is an example of the operation of the radioactive dust continuous monitoring device 40 according to the second embodiment of the present invention. As shown in FIG. 4, the radioactive dust continuous monitoring method according to the second embodiment of the present invention includes a dust charging step (step S22), a dust adsorption step (step S24), and an α-ray detection step (step S26). And a dust removal step (step S28).

まず、配管60の内部に設けられた帯電機構は、電源46が、ダストを帯電させたい極性と同じ極性の電圧を点状電極42に印加し、ダストを帯電させたい極性と異なる極性の電圧を板状電極44a及び板状電極44bに印加する。そして、配管60の内部を流れる空気に含まれるダストが、この帯電機構の付近を通過する。これにより、帯電機構は、配管60の内部を流れる空気に含まれるダストを、点状電極42に印加された電圧の極性と同じ極性に帯電させる(ステップS22)。 First, in the charging mechanism provided inside the pipe 60, the power supply 46 applies a voltage having the same polarity as the polarity to be charged with the dust to the point electrode 42, and applies a voltage having a polarity different from the polarity to be charged with the dust. It is applied to the plate-shaped electrode 44a and the plate-shaped electrode 44b. Then, dust contained in the air flowing inside the pipe 60 passes near the charging mechanism. As a result, the charging mechanism charges the dust contained in the air flowing inside the pipe 60 to the same polarity as the polarity of the voltage applied to the point electrode 42 (step S22).

次に、電源52は、制御部56の制御を受けて、帯電機構によりダストを帯電させた極性と異なる極性の電圧を金属薄膜48bに印加し、帯電機構によりダストを帯電させた極性と同じ極性の電圧を金属部材50に印加することで、ダストに対して金属薄膜48bに向けた静電力を加える。これにより、電源52は、ダストを金属薄膜48bの表面に吸着させる(ステップS24)。 Next, under the control of the control unit 56, the power supply 52 applies a voltage having a polarity different from the polarity of charging the dust by the charging mechanism to the metal thin film 48b, and has the same polarity as the polarity of charging the dust by the charging mechanism. By applying the voltage of the above to the metal member 50, an electrostatic force directed toward the metal thin film 48b is applied to the dust. As a result, the power supply 52 adsorbs the dust on the surface of the metal thin film 48b (step S24).

その後、α線検出器48は、制御部56の制御を受けて、ステップS24により金属薄膜48bの表面に吸着したダストから発生するα線を検出する(ステップS26)。α線検出器48は、α線を検出することで、検出信号を得て、得られた検出信号を検出信号処理部58に送信する。検出信号処理部58は、α線検出器48から受信した検出信号に基づいて、検出されたα線量に関する情報を取得する。 After that, the α-ray detector 48 detects α-rays generated from the dust adsorbed on the surface of the metal thin film 48b in step S24 under the control of the control unit 56 (step S26). The α-ray detector 48 obtains a detection signal by detecting α-rays, and transmits the obtained detection signal to the detection signal processing unit 58. The detection signal processing unit 58 acquires information on the detected α dose based on the detection signal received from the α ray detector 48.

その後、電源52は、制御部56の制御を受けて、オフに切り替えることで、すなわち切ることで、金属薄膜48b及び金属部材50に電圧を印加していない状態とし、ダストに対して金属薄膜48bに向けた静電力を加えていない状態とする。もしくは、電源52は、制御部56の制御を受けて、ダストを金属薄膜48bの表面に吸着させる時とは逆に切り替えることで、帯電機構によりダストを帯電させた極性と同じ極性の電圧を金属薄膜48bに印加し、帯電機構によりダストを帯電させた極性と異なる極性の電圧を金属部材50に印加することで、ダストに対して金属部材50に向けた静電力を加える。これにより、電源52は、金属薄膜48bに吸着しているダストを金属部材50に向けて剥離させる。 After that, the power supply 52 is controlled by the control unit 56 and switched off, that is, turned off to bring the metal thin film 48b and the metal member 50 into a state in which no voltage is applied, and the metal thin film 48b with respect to dust. It is assumed that no electrostatic force is applied toward. Alternatively, the power supply 52, under the control of the control unit 56, switches in the opposite direction to the case where the dust is adsorbed on the surface of the metal thin film 48b, so that a voltage having the same polarity as that of the dust charged by the charging mechanism is applied to the metal. By applying a voltage to the thin film 48b and applying a voltage having a polarity different from the polarity of charging the dust by the charging mechanism to the metal member 50, an electrostatic force directed toward the metal member 50 is applied to the dust. As a result, the power supply 52 peels the dust adsorbed on the metal thin film 48b toward the metal member 50.

空気ブロー噴出部54は、金属薄膜48b及び金属部材50に電圧を印加していない状態か、もしくは、ダストを帯電させた極性と同じ極性の電圧を金属薄膜48bに印加した状態で、金属薄膜48bに向けて空気ブローを噴き出す。これにより、空気ブロー噴出部54は、α線検出器48でα線が検出されたダストを、金属薄膜48bから除去する(ステップS28)。 The air blow ejection portion 54 is in a state where no voltage is applied to the metal thin film 48b and the metal member 50, or in a state where a voltage having the same polarity as the dust-charged polarity is applied to the metal thin film 48b. Blow out air blow toward. As a result, the air blow ejection unit 54 removes the dust in which the α ray is detected by the α ray detector 48 from the metal thin film 48b (step S28).

ステップS22からステップS28までの処理が施された金属薄膜48bは、表面からダストが除去されているので、これらの処理が施される前の状態と同じである。このため、ステップS22からステップS28までの処理を何度も繰り返すことで、一定時間ごとに、α線を発生させるダストを連続してモニタリングすることができる。 Since the metal thin film 48b treated from step S22 to step S28 has dust removed from its surface, it is in the same state as before these treatments are performed. Therefore, by repeating the processes from step S22 to step S28 many times, it is possible to continuously monitor the dust that generates α rays at regular intervals.

放射性ダスト連続モニタリング装置40及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、以上のような構成を有するので、電源52及び金属部材50により、金属薄膜48bにダストを吸着させることで、α線検出器48の検出面48aとダストとを接近させることができる。また、放射性ダスト連続モニタリング装置40及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、電源52及び金属部材50により、金属薄膜48bに対し、ダストを吸着しない状態とした上で、空気ブロー噴出部54により、空気ブローを噴出することで、α線検出器48の検出面48aからダストを除去することができる。このため、放射性ダスト連続モニタリング装置40及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、α線検出器48の検出面48aの汚染を低減しつつ、α線を十分な強度で検出することができる。また、放射性ダスト連続モニタリング装置40及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、従来技術のように濾紙を使用しては処分したりフィルタを定期的に交換したりする必要がないので、放射性ダストの連続モニタリングにかかる手間及びコストを低減することができる。 Since the radioactive dust continuous monitoring device 40 and the radioactive dust continuous monitoring method based on the radioactive dust continuous monitoring device 40 have the above-described configuration, the α-ray detector 48 can be obtained by adsorbing dust on the metal thin film 48b by the power supply 52 and the metal member 50. The detection surface 48a and the dust can be brought close to each other. Further, in the radioactive dust continuous monitoring device 40 and the radioactive dust continuous monitoring method using the same, the power source 52 and the metal member 50 are used to prevent dust from being adsorbed on the metal thin film 48b, and then the air blow ejection portion 54 is used to make air. By ejecting the blow, dust can be removed from the detection surface 48a of the α-ray detector 48. Therefore, the radioactive dust continuous monitoring device 40 and the radioactive dust continuous monitoring method using the device can detect α rays with sufficient intensity while reducing the contamination of the detection surface 48a of the α ray detector 48. Further, the radioactive dust continuous monitoring device 40 and the radioactive dust continuous monitoring method based on the radioactive dust continuous monitoring device 40 do not need to dispose of using filter paper or replace the filter regularly as in the prior art, so that the radioactive dust is continuous. It is possible to reduce the labor and cost required for monitoring.

放射性ダスト連続モニタリング装置40及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、帯電機構、検出面48a、金属薄膜48b、及び空気ブロー噴出部54の空気ブロー噴出口が、いずれも空気が流れる配管60の内部に設けられており、検出面48aが、配管60の延びる方向に沿って設けられており、金属部材50が、配管60の内部に設けられているか、もしくは、配管60を構成する金属の部分の一部である。このため、放射性ダスト連続モニタリング装置40及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、放射性ダストを含む空気が流れる配管60の内部を、配管60の外部とは完全に切り離した状態として、配管60の内部を流れる空気に含まれる放射性ダストの連続モニタリングをすることができる。 In the radioactive dust continuous monitoring device 40 and the method for continuously monitoring the radioactive dust, the charging mechanism, the detection surface 48a, the metal thin film 48b, and the air blow outlet of the air blow ejection portion 54 are all inside the pipe 60 through which air flows. The detection surface 48a is provided along the extending direction of the pipe 60, and the metal member 50 is provided inside the pipe 60 or is one of the metal parts constituting the pipe 60. It is a department. Therefore, in the radioactive dust continuous monitoring device 40 and the radioactive dust continuous monitoring method using the radioactive dust continuous monitoring device 40, the inside of the pipe 60 is set so that the inside of the pipe 60 through which the air containing the radioactive dust flows is completely separated from the outside of the pipe 60. It is possible to continuously monitor the radioactive dust contained in the flowing air.

放射性ダスト連続モニタリング装置40及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、さらに、帯電機構が、配管60の内部の断面における中央領域に設けられた点状電極42と、点状電極42を覆うように配管60の内面に沿って設けられた板状電極44a及び板状電極44bと、点状電極42と板状電極44a及び板状電極44bとにそれぞれ異なる極性の電圧を印加する電源46と、を含む。このため、放射性ダスト連続モニタリング装置40及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、ダストを効率よく帯電することができるので、金属薄膜48bがダストを効率よく吸着することを可能にする。 In the radioactive dust continuous monitoring device 40 and the method for continuously monitoring the radioactive dust by the radioactive dust continuous monitoring device 40, the charging mechanism is further connected so as to cover the punctate electrode 42 provided in the central region in the internal cross section of the pipe 60 and the punctate electrode 42. Includes a plate-shaped electrode 44a and a plate-shaped electrode 44b provided along the inner surface of the 60, and a power supply 46 for applying voltages of different polarities to the point-shaped electrode 42, the plate-shaped electrode 44a, and the plate-shaped electrode 44b. .. Therefore, the radioactive dust continuous monitoring device 40 and the radioactive dust continuous monitoring method based on the radioactive dust continuous monitoring device 40 can efficiently charge the dust, so that the metal thin film 48b can efficiently adsorb the dust.

[第3の実施形態]
図5は、本発明の第3の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング装置70の概略構成図である。放射性ダスト連続モニタリング装置70は、図5に示すように、放射性ダスト連続モニタリング装置40と同様に、配管60の内部を流れる空気中に含まれる放射性ダストから発生するα線を検出することで、放射性ダストを連続でモニタリングする。放射性ダスト連続モニタリング装置70は、放射性ダスト連続モニタリング装置40において、様々な変更を加えたものである。1つ目の変更は、α線検出器48の数を増やして、第1α線検出器72及び第2α線検出器74の2個を有する形態に変更したことである。2つ目の変更は、第1α線検出器72及び第2α線検出器74の移動機構として、円板76、回転軸78及び回転駆動部80を新たに設けたことである。3つ目の変更は、空気ブロー噴出部54の位置を変更して、空気ブロー噴出部86としたことである。4つ目の変更は、金属部材82及び電源84を新たに設けたことである。第3の実施形態の説明では、第2の実施形態と同様の構成に第2の実施形態と同一の符号群を用い、その詳細な説明を省略する。
[Third Embodiment]
FIG. 5 is a schematic configuration diagram of the radioactive dust continuous monitoring device 70 according to the third embodiment of the present invention. As shown in FIG. 5, the radioactive dust continuous monitoring device 70 is radioactive by detecting α rays generated from the radioactive dust contained in the air flowing inside the pipe 60, similarly to the radioactive dust continuous monitoring device 40. Continuously monitor dust. The radioactive dust continuous monitoring device 70 is a modification of the radioactive dust continuous monitoring device 40. The first change is that the number of α-ray detectors 48 is increased to change to a form having two of the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74. The second change is that a disk 76, a rotation shaft 78, and a rotation drive unit 80 are newly provided as moving mechanisms for the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74. The third change is that the position of the air blow ejection portion 54 is changed to the air blow ejection portion 86. The fourth change is that the metal member 82 and the power supply 84 are newly provided. In the description of the third embodiment, the same code group as that of the second embodiment is used in the same configuration as that of the second embodiment, and the detailed description thereof will be omitted.

放射性ダスト連続モニタリング装置70は、図5に示すように、点状電極42と、板状電極44a及び板状電極44bと、電源46と、第1α線検出器72及び第2α線検出器74と、第1金属薄膜72b及び第2金属薄膜74bと、円板76と、回転軸78と、回転駆動部80と、金属部材50と、電源52と、金属部材82と、電源84と、空気ブロー噴出部86と、制御部88と、検出信号処理部90と、を含む。点状電極42と、板状電極44a及び板状電極44bと、電源46とは、第2の実施形態と同様に、帯電機構を構成している。なお、電源46は、制御部88と電気的に接続されていてもよく、この場合、制御部88の制御に基づいて電圧が制御されて、ダストの帯電の程度が制御される。 As shown in FIG. 5, the radioactive dust continuous monitoring device 70 includes a point electrode 42, a plate electrode 44a and a plate electrode 44b, a power supply 46, and a first α-ray detector 72 and a second α-ray detector 74. , First metal thin film 72b and second metal thin film 74b, disk 76, rotary shaft 78, rotary drive unit 80, metal member 50, power supply 52, metal member 82, power supply 84, and air blow. It includes a ejection unit 86, a control unit 88, and a detection signal processing unit 90. The point-shaped electrode 42, the plate-shaped electrode 44a, the plate-shaped electrode 44b, and the power supply 46 form a charging mechanism as in the second embodiment. The power supply 46 may be electrically connected to the control unit 88. In this case, the voltage is controlled based on the control of the control unit 88, and the degree of dust charging is controlled.

第1α線検出器72及び第2α線検出器74は、いずれも、ダストから発生するα線を検出する。第1α線検出器72は、α線を検出する第1検出面72aを有する。第1α線検出器72は、第1検出面72aに第1金属薄膜72bがコーティングされている。第2α線検出器74は、α線を検出する第2検出面74aを有する。第2α線検出器74は、第2検出面74aに第2金属薄膜74bがコーティングされている。第1金属薄膜72b及び第2金属薄膜74bは、α線を発生させない金属であればどのような金属であってもよく、α線の検出を妨げない程度に薄く形成されている。 Both the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74 detect α-rays generated from dust. The first α-ray detector 72 has a first detection surface 72a for detecting α-rays. In the first α-ray detector 72, the first detection surface 72a is coated with the first metal thin film 72b. The second α-ray detector 74 has a second detection surface 74a for detecting α-rays. In the second α-ray detector 74, the second detection surface 74a is coated with the second metal thin film 74b. The first metal thin film 72b and the second metal thin film 74b may be any metal as long as they do not generate α rays, and are formed thin enough not to interfere with the detection of α rays.

第1α線検出器72及び第2α線検出器74は、いずれも、ダストから発生するα線を検出する検出位置とα線を検出したダストを除去する除去位置との間で移動可能に設けられている。図5では、第1α線検出器72は検出位置に描かれており、第2α線検出器74は除去位置に描かれている。第1α線検出器72及び第2α線検出器74に接続されている配線は、検出位置と除去位置との間の移動によって巻きつかないように、接続先が切り替わり可能な構成となっている。 Both the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74 are provided so as to be movable between a detection position for detecting α-rays generated from dust and a removal position for removing dust that has detected α-rays. ing. In FIG. 5, the first α-ray detector 72 is drawn at the detection position, and the second α-ray detector 74 is drawn at the removal position. The wiring connected to the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74 has a configuration in which the connection destination can be switched so as not to be wound by the movement between the detection position and the removal position.

配管60は、検出位置において、開閉機構を含む。開閉機構は、第1α線検出器72または第2α線検出器74が検出位置に配置される場合、開くことで、第1検出面72a及び第1金属薄膜72b、または、第2検出面74a及び第2金属薄膜74bを、配管60の内部に受け入れる。開閉機構は、開いている場合、配管60と、検出位置に配置されている第1α線検出器72または第2α線検出器74との間が密閉された状態となっている。開閉機構は、第1α線検出器72または第2α線検出器74が検出位置に配置されていない場合、例えば、第1α線検出器72または第2α線検出器74が検出位置と除去位置との間を移動中の場合、閉じることで、配管60の内部の密閉状態を保持する。開閉機構は、物理的な機構で、第1α線検出器72または第2α線検出器74の有無に基づいて自動的に開閉するものであってもよいし、制御部88と電気的に接続されていて制御部88の制御に基づいて開閉するものであってもよい。 The pipe 60 includes an opening / closing mechanism at the detection position. When the first α-ray detector 72 or the second α-ray detector 74 is arranged at the detection position, the opening / closing mechanism opens the first detection surface 72a and the first metal thin film 72b, or the second detection surface 74a and The second metal thin film 74b is received inside the pipe 60. When the opening / closing mechanism is open, the pipe 60 and the first α-ray detector 72 or the second α-ray detector 74 arranged at the detection position are sealed. The opening / closing mechanism is such that when the first α-ray detector 72 or the second α-ray detector 74 is not arranged at the detection position, for example, the first α-ray detector 72 or the second α-ray detector 74 has a detection position and a removal position. When moving between the pipes, the inside of the pipe 60 is kept in a sealed state by closing the pipe. The opening / closing mechanism is a physical mechanism that automatically opens / closes based on the presence / absence of the first α-ray detector 72 or the second α-ray detector 74, or is electrically connected to the control unit 88. It may be opened and closed under the control of the control unit 88.

第1α線検出器72は、検出位置にある場合、第1検出面72a及び第1金属薄膜72bが配管60の内部に向けて、帯電機構よりも配管60における空気の流れの下流側に設けられている。このため、第1α線検出器72は、検出位置にある場合、帯電機構によって帯電し、空気の流れに伴って第1検出面72a及び第1金属薄膜72bが設けられている位置に移動したダストを、後述する吸着機構によって第1金属薄膜72bの表面に吸着させることを可能にする。また、第1α線検出器72は、検出位置にある場合、第1金属薄膜72bの表面に吸着したダストから発生するα線を検出する。 When the first α-ray detector 72 is in the detection position, the first detection surface 72a and the first metal thin film 72b are provided toward the inside of the pipe 60 and on the downstream side of the air flow in the pipe 60 with respect to the charging mechanism. ing. Therefore, when the first α-ray detector 72 is in the detection position, the dust is charged by the charging mechanism and moves to the position where the first detection surface 72a and the first metal thin film 72b are provided along with the air flow. Can be adsorbed on the surface of the first metal thin film 72b by an adsorption mechanism described later. Further, the first α-ray detector 72 detects α-rays generated from dust adsorbed on the surface of the first metal thin film 72b when it is in the detection position.

第2α線検出器74は、検出位置にある場合、第2検出面74a及び第2金属薄膜74bが配管60の内部に向けて、帯電機構よりも配管60における空気の流れの下流側に設けられている。このため、第2α線検出器74は、検出位置にある場合、帯電機構によって帯電し、空気の流れに伴って第2検出面74a及び第2金属薄膜74bが設けられている位置に移動したダストを、後述する吸着機構によって第2金属薄膜74bの表面に吸着させることを可能にする。また、第2α線検出器74は、検出位置にある場合、第2金属薄膜74bの表面に吸着したダストから発生するα線を検出する。 When the second α-ray detector 74 is in the detection position, the second detection surface 74a and the second metal thin film 74b are provided toward the inside of the pipe 60 and on the downstream side of the air flow in the pipe 60 with respect to the charging mechanism. ing. Therefore, when the second α-ray detector 74 is in the detection position, the dust is charged by the charging mechanism and moves to the position where the second detection surface 74a and the second metal thin film 74b are provided along with the air flow. Can be adsorbed on the surface of the second metal thin film 74b by an adsorption mechanism described later. Further, the second α-ray detector 74 detects α-rays generated from dust adsorbed on the surface of the second metal thin film 74b when it is in the detection position.

α線の飛程は、上記したように、α線核種及びα線の経路にある材料によって異なるが、空気中では10cm程度以下と短い。また、第1α線検出器72の第1検出面72aに第1金属薄膜72bがコーティングされているので、第1α線検出器72が検出位置にある場合、α線は、第1検出面72aに到達するまでに第1金属薄膜72bによって減衰する。このため、第1α線検出器72は、検出位置にある場合、第1金属薄膜72bから離間しているダストから発生するα線を検出することは難しい。そのため、第1α線検出器72は、検出位置にある場合、配管60の内部を流れている状態のダストから発生するα線を検出することは難しい。一方、第1α線検出器72は、検出位置にある場合、第1検出面72aと第1金属薄膜72bの表面との距離がα線の飛程と比較して十分に短いので、第1金属薄膜72bの表面に吸着されたダストから発生するα線を検出することができる。このことから、第1α線検出器72は、検出位置にある場合、第1検出面72a及び第1金属薄膜72bが、配管60の延びる方向に沿って設けられていることが好ましく、この場合、第1検出面72aで効率よく、帯電したダストを吸着して、ダストから発生するα線を検出することができる。また、第2α線検出器74は、検出位置にある場合、第1α線検出器72と同様に、第2金属薄膜74bの表面に吸着されたダストから発生するα線を検出することができる。このことから、第2α線検出器74は、検出位置にある場合、第2検出面74a及び第2金属薄膜74bが、配管60の延びる方向に沿って設けられていることが好ましく、この場合、第2検出面74aで効率よく、帯電したダストを吸着して、ダストから発生するα線を検出することができる。 As described above, the range of α-rays varies depending on the α-ray nuclide and the material in the path of α-rays, but is as short as about 10 cm or less in air. Further, since the first metal thin film 72b is coated on the first detection surface 72a of the first α-ray detector 72, when the first α-ray detector 72 is in the detection position, the α-ray is transmitted to the first detection surface 72a. By the time it reaches, it is attenuated by the first metal thin film 72b. Therefore, it is difficult for the first α-ray detector 72 to detect α-rays generated from dust separated from the first metal thin film 72b when it is in the detection position. Therefore, when the first α-ray detector 72 is in the detection position, it is difficult to detect the α-ray generated from the dust flowing inside the pipe 60. On the other hand, when the first α-ray detector 72 is in the detection position, the distance between the first detection surface 72a and the surface of the first metal thin film 72b is sufficiently shorter than the range of the α-ray, so that the first metal Α rays generated from dust adsorbed on the surface of the thin film 72b can be detected. From this, when the first α-ray detector 72 is in the detection position, it is preferable that the first detection surface 72a and the first metal thin film 72b are provided along the extending direction of the pipe 60. In this case, The first detection surface 72a can efficiently adsorb the charged dust and detect α rays generated from the dust. Further, when the second α-ray detector 74 is in the detection position, the second α-ray detector 74 can detect α-rays generated from the dust adsorbed on the surface of the second metal thin film 74b, similarly to the first α-ray detector 72. From this, when the second α-ray detector 74 is in the detection position, it is preferable that the second detection surface 74a and the second metal thin film 74b are provided along the extending direction of the pipe 60. In this case, The second detection surface 74a can efficiently adsorb the charged dust and detect α rays generated from the dust.

第1α線検出器72は、除去位置にある場合、第1検出面72a及び第1金属薄膜72bが配管60の外部に設けられている。このため、第1α線検出器72は、除去位置にある場合、検出位置を含む検出系とは切り離された状態で、後述する除去機構によって、α線を検出したダストを除去することを可能にする。第2α線検出器74は、除去位置にある場合、第2検出面74a及び第2金属薄膜74bが配管60の外部に設けられている。このため、第2α線検出器74は、除去位置にある場合、検出位置を含む検出系とは切り離された状態で、後述する除去機構によって、α線を検出したダストを除去することを可能にする。 When the first α-ray detector 72 is in the removal position, the first detection surface 72a and the first metal thin film 72b are provided outside the pipe 60. Therefore, when the first α-ray detector 72 is in the removal position, it is possible to remove the dust that has detected the α-ray by the removal mechanism described later in a state of being separated from the detection system including the detection position. To do. When the second α-ray detector 74 is in the removal position, the second detection surface 74a and the second metal thin film 74b are provided outside the pipe 60. Therefore, when the second α-ray detector 74 is in the removal position, it is possible to remove the dust that has detected the α-ray by the removal mechanism described later in a state of being separated from the detection system including the detection position. To do.

第1α線検出器72及び第2α線検出器74は、いずれも、制御部88と電気的に接続されており、制御部88によって制御されている。第1α線検出器72及び第2α線検出器74は、いずれも、検出信号処理部90と電気的に接続されており、α線を検出することで得られた検出信号を検出信号処理部90に送信する。 Both the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74 are electrically connected to the control unit 88 and are controlled by the control unit 88. Both the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74 are electrically connected to the detection signal processing unit 90, and the detection signal obtained by detecting the α-ray is detected by the detection signal processing unit 90. Send to.

円板76は、一方の面側に、中心の軸に対し180度回転対称となる位置に、それぞれ、第1α線検出器72及び第2α線検出器74を保持する。このため、円板76は、第1α線検出器72及び第2α線検出器74の一方が検出位置に配置されるとき、第1α線検出器72及び第2α線検出器74の他方が除去位置に配置されるように、指示することができる。円板76は、中心部分に、円板76の軸に沿う方向に向けて、回転軸78が設けられている。円板76は、回転軸78により、円板76の軸の周りに回転可能に、すなわち円板76の円周方向に回転可能に、支持されている。このため、円板76は、第1α線検出器72及び第2α線検出器74を、円板76の軸の周りに回転移動可能に保持している。円板76は、回転軸78に接続された回転駆動部80により、所定の方向、すなわち図5に示す反時計回りの方向に、回転することができる。円板76は、回転の軌道上に、ダストから発生するα線を検出する検出位置と、α線を検出したダストを除去する除去位置とを含んでいる。すなわち、円板76は、検出位置と除去位置とが、円板76に沿って同一の円周上に来るように配置している。 The disk 76 holds the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74 on one surface side at positions that are 180 degrees rotationally symmetric with respect to the central axis, respectively. Therefore, in the disk 76, when one of the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74 is arranged at the detection position, the other of the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74 is in the removal position. Can be instructed to be placed in. The disk 76 is provided with a rotating shaft 78 at the center thereof in a direction along the axis of the disk 76. The disk 76 is supported by a rotating shaft 78 so as to be rotatable around the axis of the disk 76, that is, rotatably in the circumferential direction of the disk 76. Therefore, the disk 76 holds the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74 so as to be rotatable around the axis of the disk 76. The disk 76 can be rotated in a predetermined direction, that is, in the counterclockwise direction shown in FIG. 5, by the rotation drive unit 80 connected to the rotation shaft 78. The disk 76 includes a detection position for detecting α rays generated from dust and a removal position for removing the dust that has detected α rays on the orbit of rotation. That is, the disk 76 is arranged so that the detection position and the removal position are on the same circumference along the disk 76.

回転軸78は、円板76の中心部分に、円板76の中心軸に沿う方向に向けて設けられている。回転軸78は、円板76の軸の周りに回転可能に、すなわち円板76の円周方向に回転可能に、支持している。回転駆動部80は、回転軸78に接続されている。回転駆動部80は、制御部88と電気的に接続されており、制御部88の制御に基づき、回転軸78を介して、円板76を所定の方向、すなわち図5に示す反時計回りの方向に、回転させることができる。回転駆動部80は、円板76を回転させることで、第1α線検出器72及び第2α線検出器74の一方を検出位置から除去位置に移動させると同時に、第1α線検出器72及び第2α線検出器74の他方を除去位置から検出位置に移動させることができる。回転駆動部80は、モータが例示される。このように、円板76と、回転軸78と、回転駆動部80とは、第1α線検出器72及び第2α線検出器74を、それぞれ検出位置と除去位置との間で移動させる移動機構を構成している。 The rotating shaft 78 is provided at the central portion of the disk 76 in a direction along the central axis of the disk 76. The rotating shaft 78 is rotatably supported around the axis of the disc 76, that is, rotatably in the circumferential direction of the disc 76. The rotation drive unit 80 is connected to the rotation shaft 78. The rotation drive unit 80 is electrically connected to the control unit 88, and based on the control of the control unit 88, the disk 76 is moved in a predetermined direction via the rotation shaft 78, that is, counterclockwise as shown in FIG. It can be rotated in a direction. By rotating the disk 76, the rotation drive unit 80 moves one of the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74 from the detection position to the removal position, and at the same time, the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 72. 2 The other side of the α-ray detector 74 can be moved from the removal position to the detection position. A motor is exemplified as the rotation drive unit 80. In this way, the disk 76, the rotation shaft 78, and the rotation drive unit 80 move the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74 between the detection position and the removal position, respectively. Consists of.

なお、本発明に係る移動機構は、円板76、回転軸78及び回転駆動部80による形態に限定されず、第1α線検出器72及び第2α線検出器74を、それぞれ検出位置と除去位置との間で移動させることができる形態であれば、いかなる形態であってもよい。例えば、移動機構は、第1α線検出器72及び第2α線検出器74を、それぞれ保持する保持部を有し、これらの保持部が検出位置と除去位置との間で移動させる形態であってもよい。 The moving mechanism according to the present invention is not limited to the form of the disk 76, the rotating shaft 78, and the rotating drive unit 80, and the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74 are located at the detection position and the removal position, respectively. Any form may be used as long as it can be moved to and from. For example, the moving mechanism has a holding portion for holding the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74, respectively, and these holding portions move between the detection position and the removal position. May be good.

金属部材50は、検出位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに対向して設けられている。電源52は、一方の極が検出位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに接続され、他方の極が金属部材50に接続されている。このため、電源52は、検出位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bと金属部材50とにそれぞれ異なる極性の電圧を印加することができる。 The metal member 50 is provided so as to face the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the detection position. The power supply 52 has one pole connected to the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the detection position, and the other pole connected to the metal member 50. Therefore, the power supply 52 can apply voltages having different polarities to the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b and the metal member 50 at the detection position.

電源52は、帯電機構によりダストを帯電させた極性と異なる極性の電圧を、検出位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに印加し、帯電機構によりダストを帯電させた極性と同じ極性の電圧を金属部材50に印加する。これにより、電源52は、ダストに対して、検出位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに向けた静電力を加えて、ダストを検出位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bの表面に吸着させることができる。 The power supply 52 applies a voltage having a polarity different from the polarity of charging the dust by the charging mechanism to the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the detection position, and has the same polarity as the polarity of charging the dust by the charging mechanism. A polar voltage is applied to the metal member 50. As a result, the power supply 52 applies an electrostatic force toward the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the detection position to the dust to detect the dust at the first metal thin film 72b or the second metal thin film 72b or the second metal thin film 74b. It can be adsorbed on the surface of the metal thin film 74b.

金属部材50は、電源52によって、検出位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bと異なる極性の電圧が印加されることで、検出位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bとの間に静電力場を作り出す。金属部材50は、第2の実施形態と同様に、配管60の内部の面に沿って設けられているか、もしくは、配管60を構成する金属の部分の一部であることが好ましい。この場合、金属部材50は、検出位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bとの間の空間が広くなるため、配管60の内部における、検出位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bと対向する広い空間に、静電力場を作り出すことができる。金属部材50を有することで、より安定した電位と電界を供給維持することができる。なお、金属部材50は、必須の構成でなくてもよく、この場合は配管60を接地させ、接地電位を基準にして第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに所定の極性の電圧を印加することで、第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bと配管60の内面と間に静電力場を作り出すことができる。 The metal member 50 receives a voltage having a polarity different from that of the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the detection position by the power supply 52, so that the first metal thin film 72b or the second metal thin film at the detection position is applied. Creates an electrostatic force field with 74b. As in the second embodiment, the metal member 50 is preferably provided along the inner surface of the pipe 60, or is a part of a metal portion constituting the pipe 60. In this case, since the metal member 50 has a wide space between the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the detection position, the first metal thin film 72b or the first metal thin film 72b or the second metal member 50 at the detection position inside the pipe 60. 2 An electrostatic force field can be created in a wide space facing the metal thin film 74b. By having the metal member 50, it is possible to supply and maintain a more stable potential and electric field. The metal member 50 does not have to have an essential configuration. In this case, the pipe 60 is grounded and a voltage having a predetermined polarity is applied to the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b with reference to the grounding potential. By doing so, an electrostatic force field can be created between the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b and the inner surface of the pipe 60.

このように、金属部材50と、電源52とは、第1α線検出器72が検出位置にある場合の第1金属薄膜72bまたは第2α線検出器74が検出位置にある場合の第2金属薄膜74bに、帯電機構により帯電させたダストを吸着させる吸着機構を構成している。本実施形態では、電源52は、配管60の内部に設けられても外部に設けられてもよいが、金属部材50は、検出位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bとともに、内部に設けられている。このことから、本実施形態では、吸着機構は、実質的に配管60の内部に設けられており、配管60の内部を流れる空気に含まれ、帯電機構により帯電させたダストを、検出位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに吸着させる。 As described above, the metal member 50 and the power supply 52 are the first metal thin film 72b when the first α-ray detector 72 is in the detection position or the second metal thin film when the second α-ray detector 74 is in the detection position. The 74b constitutes an adsorption mechanism for adsorbing dust charged by the charging mechanism. In the present embodiment, the power supply 52 may be provided inside or outside the pipe 60, but the metal member 50 is inside together with the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the detection position. It is provided in. From this, in the present embodiment, the adsorption mechanism is substantially provided inside the pipe 60, and the dust contained in the air flowing inside the pipe 60 and charged by the charging mechanism is located at the detection position. It is adsorbed on the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b.

空気ブロー噴出部86は、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに向けて設けられている。すなわち、空気ブロー噴出部86は、空気ブローを噴出する空気ブロー噴出口が、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに向けて設けられている。空気ブロー噴出部86は、空気ブローを噴出する空気ブロー噴出口が、配管60の外部に設けられている。空気ブロー噴出部86は、制御部88と電気的に接続されており、制御部88によって制御されている。ここで、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに向けた静電力は、ダストに加えられていない。このため、空気ブロー噴出部86は、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに向けて空気ブローを噴出することで、除去位置にある第1α線検出器72または第2α線検出器74でα線が検出されたダストを、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bから除去することができる。 The air blow ejection portion 86 is provided toward the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the removal position. That is, the air blow ejection portion 86 is provided with an air blow outlet for ejecting an air blow toward the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the removal position. The air blow ejection unit 86 is provided with an air blow outlet for ejecting an air blow outside the pipe 60. The air blow ejection unit 86 is electrically connected to the control unit 88 and is controlled by the control unit 88. Here, the electrostatic force directed at the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the removal position is not applied to the dust. Therefore, the air blow ejection unit 86 ejects the air blow toward the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the removal position, so that the first α-ray detector 72 or the second α-ray at the removal position is ejected. The dust in which α-rays are detected by the detector 74 can be removed from the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the removal position.

このように、空気ブロー噴出部86は、第1α線検出器72または第2α線検出器74が除去位置にある場合の第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bから、ダストを除去する除去機構を構成する。 As described above, the air blow ejection unit 86 is a removal mechanism for removing dust from the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b when the first α-ray detector 72 or the second α-ray detector 74 is in the removal position. To configure.

金属部材82は、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに対向して設けられている。電源84は、一方の極が除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに接続され、他方の極が金属部材82に接続されている。このため、電源84は、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bと金属部材82とにそれぞれ異なる極性の電圧を印加することができる。 The metal member 82 is provided so as to face the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the removal position. The power supply 84 is connected to a first metal thin film 72b or a second metal thin film 74b in which one pole is in the removal position, and the other pole is connected to the metal member 82. Therefore, the power supply 84 can apply voltages having different polarities to the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b and the metal member 82 at the removal position.

電源84は、帯電機構によりダストを帯電させた極性と同じ極性の電圧を、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに印加し、帯電機構によりダストを帯電させた極性と異なる極性の電圧を金属部材82に印加する。これにより、電源84は、ダストに対して、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bから金属部材82に向けた静電力を加える。これにより、電源52は、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに吸着しているダストを金属部材82に向けて剥離させることができる。 The power supply 84 applies a voltage having the same polarity as the polarity of charging the dust by the charging mechanism to the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the removal position, and is different from the polarity of charging the dust by the charging mechanism. A polar voltage is applied to the metal member 82. As a result, the power supply 84 applies an electrostatic force to the dust from the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the removal position toward the metal member 82. As a result, the power supply 52 can peel off the dust adsorbed on the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the removal position toward the metal member 82.

このため、金属部材82及び電源84は、空気ブロー噴出部86が、除去位置にある第1α線検出器72または第2α線検出器74でα線が検出されたダストをより確実に除去することを、可能にする。すなわち、除去機構は、金属部材82及び電源84をさらに含むことで、より確実に、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bからダストを除去することができる。 Therefore, in the metal member 82 and the power supply 84, the air blow ejection unit 86 more reliably removes dust in which α rays are detected by the first α ray detector 72 or the second α ray detector 74 at the removal position. To enable. That is, the removal mechanism can more reliably remove the dust from the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the removal position by further including the metal member 82 and the power supply 84.

除去機構に含まれる金属部材82、電源84及び空気ブロー噴出部86は、いずれも配管60の外部に設けられている。このため、除去機構は、検出位置を含む検出系とは切り離された状態で、α線を検出したダストを除去することを可能にする。除去機構の付近には、ダスト回収部が設けられており、ダスト回収部は、除去機構によって除去されたダストを外部に漏れないように回収する。 The metal member 82, the power supply 84, and the air blow ejection portion 86 included in the removal mechanism are all provided outside the pipe 60. Therefore, the removal mechanism makes it possible to remove the dust that has detected the α ray in a state of being separated from the detection system including the detection position. A dust collecting unit is provided in the vicinity of the removing mechanism, and the dust collecting unit collects the dust removed by the removing mechanism so as not to leak to the outside.

制御部88は、第1α線検出器72及び第2α線検出器74と、回転駆動部80と、電源52と、電源84と、空気ブロー噴出部86と、それぞれ電気的に接続されている。制御部88は、第1α線検出器72及び第2α線検出器74と、回転駆動部80と、電源52と、電源84と、空気ブロー噴出部86と、をそれぞれ制御する。 The control unit 88 is electrically connected to the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74, the rotation drive unit 80, the power supply 52, the power supply 84, and the air blow ejection unit 86, respectively. The control unit 88 controls the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74, the rotation drive unit 80, the power supply 52, the power supply 84, and the air blow ejection unit 86, respectively.

制御部88は、制御部56と同様の構成を有する。制御部88に含まれる処理部は、制御部88に含まれる記憶部に記憶された放射性ダスト連続モニタリングプログラムを読み出して処理することで、第1α線検出器72及び第2α線検出器74、回転駆動部80、電源52、電源84及び空気ブロー噴出部86を適切に制御して、本実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法を実行する。制御部88は、コンピュータが例示される。 The control unit 88 has the same configuration as the control unit 56. The processing unit included in the control unit 88 reads out and processes the radioactive dust continuous monitoring program stored in the storage unit included in the control unit 88, thereby rotating the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74. The drive unit 80, the power supply 52, the power supply 84, and the air blow ejection unit 86 are appropriately controlled to execute the radioactive dust continuous monitoring method according to the present embodiment. The control unit 88 is exemplified by a computer.

検出信号処理部90は、第1α線検出器72及び第2α線検出器74と電気的に接続されており、第1α線検出器72及び第2α線検出器74がα線を検出することで得られた検出信号を第1α線検出器72及び第2α線検出器74から受信する。検出信号処理部90は、第1α線検出器72及び第2α線検出器74から受信した検出信号に基づいて、一定時間ごとに、検出されたα線量に関する情報を取得する。
詳細には、検出信号処理部90は、第1α線検出器72が検出位置にある場合には、第1α線検出器72から受信した検出信号に基づいて検出されたα線量に関する情報を取得し、第2α線検出器74が検出位置にある場合には、第2α線検出器74から受信した検出信号に基づいて検出されたα線量に関する情報を取得する。検出信号処理部90は、電気的に接続された表示部等に、このα線量に関する情報を一定時間ごとに表示させることができる。検出信号処理部90は、このα線量に関する情報を監視し、α線量が所定の閾値を超えたときに、警報機に警報を発信させることができる。
The detection signal processing unit 90 is electrically connected to the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74, and the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74 detect α-rays. The obtained detection signal is received from the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74. The detection signal processing unit 90 acquires information on the detected α-dose at regular time intervals based on the detection signals received from the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74.
Specifically, the detection signal processing unit 90 acquires information on the α dose detected based on the detection signal received from the first α-ray detector 72 when the first α-ray detector 72 is in the detection position. , When the second α-ray detector 74 is in the detection position, information on the α-dose detected based on the detection signal received from the second α-ray detector 74 is acquired. The detection signal processing unit 90 can display information on the α-dose on an electrically connected display unit or the like at regular intervals. The detection signal processing unit 90 monitors the information regarding the α-dose, and when the α-dose exceeds a predetermined threshold value, the alarm device can issue an alarm.

検出信号処理部90は、検出信号処理部58と同様の構成を有する。検出信号処理部90は、コンピュータが例示される。 The detection signal processing unit 90 has the same configuration as the detection signal processing unit 58. A computer is exemplified as the detection signal processing unit 90.

制御部88に含まれる処理部と、検出信号処理部90とは、一体であってもよい。また、制御部88に含まれる記憶部と、検出信号処理部90に接続されている記憶部とは、一体であってもよい。制御部88と、検出信号処理部90とは、一台のコンピュータであってもよい。 The processing unit included in the control unit 88 and the detection signal processing unit 90 may be integrated. Further, the storage unit included in the control unit 88 and the storage unit connected to the detection signal processing unit 90 may be integrated. The control unit 88 and the detection signal processing unit 90 may be one computer.

図6は、本発明の第3の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法を示すフローチャートである。図6を用いて、本発明の第3の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法を説明する。本発明の第3の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法は、本発明の第3の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング装置70の動作の一例である。本発明の第3の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法は、図6に示すように、ダスト帯電ステップ(ステップS22)と、ダスト吸着ステップ(ステップS24)と、α線検出ステップ(ステップS26)と、第1移動ステップ(ステップS32)と、ダスト除去ステップ(ステップS28)と、第2移動ステップ(ステップS34)と、を含む。 FIG. 6 is a flowchart showing a radioactive dust continuous monitoring method according to a third embodiment of the present invention. The radioactive dust continuous monitoring method according to the third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The radioactive dust continuous monitoring method according to the third embodiment of the present invention is an example of the operation of the radioactive dust continuous monitoring device 70 according to the third embodiment of the present invention. As shown in FIG. 6, the radioactive dust continuous monitoring method according to the third embodiment of the present invention includes a dust charging step (step S22), a dust adsorption step (step S24), and an α-ray detection step (step S26). A first movement step (step S32), a dust removal step (step S28), and a second movement step (step S34) are included.

第3の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法におけるステップS22は、第2の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法におけるステップS22と同様である。第3の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法におけるステップS24は、第2の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法におけるステップS24と同様であり、電源52が、制御部88の制御を受けて、検出位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bの表面にダストを吸着させる。すなわち、電源52は、第1α線検出器72が検出位置にある場合、第1金属薄膜72bの表面にダストを吸着させ、第2α線検出器74が検出位置にある場合、第2金属薄膜74bの表面にダストを吸着させる。 Step S22 in the radioactive dust continuous monitoring method according to the third embodiment is the same as step S22 in the radioactive dust continuous monitoring method according to the second embodiment. Step S24 in the radioactive dust continuous monitoring method according to the third embodiment is the same as step S24 in the radioactive dust continuous monitoring method according to the second embodiment, and the power supply 52 is controlled by the control unit 88. Dust is adsorbed on the surface of the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the detection position. That is, the power supply 52 adsorbs dust on the surface of the first metal thin film 72b when the first α-ray detector 72 is in the detection position, and the second metal thin film 74b when the second α-ray detector 74 is in the detection position. Adsorbs dust on the surface of the.

第3の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法におけるステップS26は、第2の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法におけるステップS26と同様であり、検出位置にある第1α線検出器72または第2α線検出器74が、制御部88の制御を受けて、ステップS24により第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bの表面に吸着したダストから発生するα線を検出する。すなわち、第1α線検出器72が検出位置にある場合、第1α線検出器72が、第1金属薄膜72bの表面に吸着したダストから発生するα線を検出する。第2α線検出器74が検出位置にある場合、第2α線検出器74が、第2金属薄膜74bの表面に吸着したダストから発生するα線を検出する。 Step S26 in the radioactive dust continuous monitoring method according to the third embodiment is the same as step S26 in the radioactive dust continuous monitoring method according to the second embodiment, and is the first α-ray detector 72 or the second α at the detection position. Under the control of the control unit 88, the line detector 74 detects α rays generated from dust adsorbed on the surface of the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b in step S24. That is, when the first α-ray detector 72 is in the detection position, the first α-ray detector 72 detects α-rays generated from the dust adsorbed on the surface of the first metal thin film 72b. When the second α-ray detector 74 is in the detection position, the second α-ray detector 74 detects α-rays generated from the dust adsorbed on the surface of the second metal thin film 74b.

検出位置にある第1α線検出器72または第2α線検出器74は、α線を検出することで、検出信号を得て、得られた検出信号を検出信号処理部90に送信する。検出信号処理部90は、検出位置にある第1α線検出器72または第2α線検出器74から受信した検出信号に基づいて、検出されたα線量に関する情報を取得する。 The first α-ray detector 72 or the second α-ray detector 74 at the detection position obtains a detection signal by detecting α-rays and transmits the obtained detection signal to the detection signal processing unit 90. The detection signal processing unit 90 acquires information on the detected α-dose based on the detection signal received from the first α-ray detector 72 or the second α-ray detector 74 at the detection position.

ステップS26の後に、移動機構は、制御部88の制御を受けて、第1α線検出器72及び第2α線検出器74の一方を検出位置から除去位置に移動させると同時に、第1α線検出器72及び第2α線検出器74の他方を除去位置から検出位置に移動させる(ステップS32)。これにより、第1α線検出器72及び第2α線検出器74のうち、検出位置でステップS22からステップS24の処理が施された方のα線検出器は除去位置に移動し、除去位置で後述するステップS28の処理が施された方のα線検出器は検出位置に移動する。 After step S26, the moving mechanism moves one of the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74 from the detection position to the removal position under the control of the control unit 88, and at the same time, the first α-ray detector. The other of 72 and the second α-ray detector 74 is moved from the removal position to the detection position (step S32). As a result, of the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74, the α-ray detector that has undergone the processing of steps S22 to S24 at the detection position moves to the removal position, which will be described later at the removal position. The α-ray detector that has undergone the process of step S28 moves to the detection position.

第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに吸着しているダストは、第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bが検出位置から除去位置に移動することで、第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに向けた静電力が加えられていない状態となる。この状態下において、除去機構に含まれる空気ブロー噴出部86は、制御部88の制御を受けて、除去位置に移動した第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに向けて空気ブローを噴き出す。これにより、空気ブロー噴出部54は、第1α線検出器72または第2α線検出器74が検出位置にあるときにα線が検出されたダストを、除去位置に移動した第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bから除去する(ステップS28)。 The dust adsorbed on the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b is moved from the detection position to the removal position by the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b, so that the first metal thin film 72b or the second metal thin film 72b or the second metal thin film 74b is removed. No electrostatic force is applied to the metal thin film 74b. Under this state, the air blow ejection unit 86 included in the removal mechanism ejects air blow toward the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b that has moved to the removal position under the control of the control unit 88. As a result, the air blow ejection unit 54 moves the dust in which α rays are detected when the first α ray detector 72 or the second α ray detector 74 is in the detection position to the removal position, or the first metal thin film 72b or It is removed from the second metal thin film 74b (step S28).

さらに、除去機構に含まれる電源84は、制御部88の制御を受けて、帯電機構によりダストを帯電させた極性と同じ極性の電圧を、除去位置に移動した第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに印加し、帯電機構によりダストを帯電させた極性と異なる極性の電圧を金属部材82に印加することで、ダストに対して金属部材82に向けた静電力を加えることが好ましい。これにより、電源84は、除去位置に移動した第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに吸着しているダストを金属部材82に向けて剥離させる。このため、空気ブロー噴出部86が、除去位置にある第1α線検出器72または第2α線検出器74でα線が検出されたダストを、より確実に除去することができる。 Further, the power supply 84 included in the removal mechanism receives the control of the control unit 88 and moves a voltage having the same polarity as that of the dust charged by the charging mechanism to the removal position of the first metal thin film 72b or the second metal. It is preferable to apply an electrostatic force toward the metal member 82 to the dust by applying a voltage applied to the thin film 74b and having a polarity different from the polarity of charging the dust by the charging mechanism to the metal member 82. As a result, the power supply 84 peels the dust adsorbed on the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b that has moved to the removal position toward the metal member 82. Therefore, the air blow ejection unit 86 can more reliably remove the dust in which the α ray is detected by the first α ray detector 72 or the second α ray detector 74 at the removal position.

ステップS28の後に、移動機構は、制御部88の制御を受けて、第1α線検出器72及び第2α線検出器74の一方を除去位置から検出位置に移動させると同時に、第1α線検出器72及び第2α線検出器74の他方を検出位置から除去位置に移動させる(ステップS34)。これにより、第1α線検出器72及び第2α線検出器74のうち、除去位置でステップS28の処理が施された方のα線検出器は検出位置に移動し、検出位置でステップS22からステップS24の処理が施された方のα線検出器は除去位置に移動する。 After step S28, the moving mechanism moves one of the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74 from the removal position to the detection position under the control of the control unit 88, and at the same time, the first α-ray detector. The other of 72 and the second α-ray detector 74 is moved from the detection position to the removal position (step S34). As a result, of the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74, the α-ray detector that has been subjected to the process of step S28 at the removal position moves to the detection position, and steps from step S22 at the detection position. The α-ray detector treated with S24 moves to the removal position.

以上のように、まず、第1α線検出器72及び第2α線検出器74の一方についてステップS22からステップS26の処理が施されている間に、第1α線検出器72及び第2α線検出器74の他方についてステップS28の処理が施される。次に、ステップS32により、第1α線検出器72及び第2α線検出器74の位置が検出位置と除去位置との間で入れ替わる。そして、第1α線検出器72及び第2α線検出器74の一方についてステップS28の処理が施されている間に、第1α線検出器72及び第2α線検出器74の他方についてステップS22からステップS26の処理が施される。その後に、ステップS34により、第1α線検出器72及び第2α線検出器74の位置が検出位置と除去位置との間でもう一度入れ替わり、第1α線検出器72及び第2α線検出器74の位置が一周して戻ってくる。このように、第1α線検出器72と第2α線検出器74とは、円板76の半周ごとに、交互にダストが発生するα線を検出する。 As described above, first, while the processing of steps S22 to S26 is performed on one of the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74, the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 72 and the second α-ray detector are detected. The other of 74 is subjected to the process of step S28. Next, in step S32, the positions of the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74 are switched between the detection position and the removal position. Then, while the processing of step S28 is performed on one of the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74, the other of the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74 is stepped from step S22. The processing of S26 is performed. After that, in step S34, the positions of the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74 are switched again between the detection position and the removal position, and the positions of the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74 are replaced. Goes around and comes back. In this way, the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74 detect α-rays in which dust is alternately generated every half circumference of the disk 76.

ステップS22からステップS28までの処理が施された第1金属薄膜72b及び第2金属薄膜74bは、表面からダストが除去されているので、これらの処理が施される前の状態と同じである。このため、ステップS22からステップS28までの処理を何度も繰り返すことで、一定時間ごとに、円板76が半周する時間ごとに、α線を発生させるダストを連続してモニタリングすることができる。 The first metal thin film 72b and the second metal thin film 74b that have been subjected to the treatments from steps S22 to S28 are in the same state as before the treatments because dust has been removed from the surfaces. Therefore, by repeating the processes from step S22 to step S28 many times, it is possible to continuously monitor the dust that generates α rays at regular intervals and at intervals of half a circle of the disk 76.

放射性ダスト連続モニタリング装置70及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、以上のような構成を有するので、検出位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bにダストを吸着機構により吸着させることで、第1検出面72aまたは第2検出面74aとダストとを接近させることができ、かつ、除去機構により、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bからダストを除去することができる。このため、放射性ダスト連続モニタリング装置70及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、第1検出面72aまたは第2検出面74aの汚染を低減しつつ、α線を十分な強度で検出することができる。また、放射性ダスト連続モニタリング装置70及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、ダストを吸着するものを交換する必要がないため、放射性ダストの連続モニタリングにかかる手間及びコストを低減することができる。 Since the radioactive dust continuous monitoring device 70 and the radioactive dust continuous monitoring method based on the radioactive dust continuous monitoring device have the above configurations, the dust is adsorbed on the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the detection position by an adsorption mechanism. The dust can be brought close to the first detection surface 72a or the second detection surface 74a, and the dust can be removed from the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the removal position by the removal mechanism. it can. Therefore, the radioactive dust continuous monitoring device 70 and the radioactive dust continuous monitoring method using the device can detect α rays with sufficient intensity while reducing the contamination of the first detection surface 72a or the second detection surface 74a. Further, since the radioactive dust continuous monitoring device 70 and the radioactive dust continuous monitoring method based on the radioactive dust continuous monitoring device 70 do not need to replace the one that adsorbs the dust, the labor and cost required for the continuous monitoring of the radioactive dust can be reduced.

放射性ダスト連続モニタリング装置70及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、帯電機構、第1α線検出器72が検出位置にある場合の第1検出面72aと第1金属薄膜72b、第2α線検出器74が検出位置にある場合の第2検出面74aと第2金属薄膜74b、及び吸着機構が、いずれも空気が流れる配管60の内部に設けられている。また、放射性ダスト連続モニタリング装置70及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、α線検出器が検出位置にある場合の第1検出面72aまたは第2検出面74aが、配管60の延びる方向に沿って設けられている。また、放射性ダスト連続モニタリング装置70及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、第1α線検出器72が除去位置にある場合の第1検出面72aと第1金属薄膜72b、第2α線検出器74が除去位置にある場合の第2検出面74aと第2金属薄膜74b、及び除去機構が、いずれも配管60の外部に設けられている。このため、放射性ダスト連続モニタリング装置70及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、放射性ダストを含む空気が流れる配管60の内部を、配管60の外部とは完全に切り離した状態として、配管60の内部を流れる空気に含まれる放射性ダストを連続でモニタリングすることができる。 The radioactive dust continuous monitoring device 70 and the radioactive dust continuous monitoring method based on the radioactive dust continuous monitoring device include a charging mechanism, a first detection surface 72a when the first α-ray detector 72 is in the detection position, a first metal thin film 72b, and a second α-ray detector 74. The second detection surface 74a and the second metal thin film 74b when is in the detection position, and the suction mechanism are all provided inside the pipe 60 through which air flows. Further, in the radioactive dust continuous monitoring device 70 and the radioactive dust continuous monitoring method using the same, the first detection surface 72a or the second detection surface 74a when the α-ray detector is in the detection position is along the extending direction of the pipe 60. It is provided. Further, in the radioactive dust continuous monitoring device 70 and the radioactive dust continuous monitoring method using the same, the first detection surface 72a, the first metal thin film 72b, and the second α-ray detector 74 when the first α-ray detector 72 is in the removal position are used. The second detection surface 74a and the second metal thin film 74b when in the removal position, and the removal mechanism are all provided outside the pipe 60. Therefore, in the radioactive dust continuous monitoring device 70 and the radioactive dust continuous monitoring method using the radioactive dust continuous monitoring device 70, the inside of the pipe 60 is set so that the inside of the pipe 60 through which air containing the radioactive dust flows is completely separated from the outside of the pipe 60. Radioactive dust contained in the flowing air can be continuously monitored.

放射性ダスト連続モニタリング装置70及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、さらに、吸着機構が、第1α線検出器72または第2α線検出器74が検出位置にある場合の第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに対向して設けられた金属部材50と、検出位置にある場合の第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bと金属部材50とにそれぞれ異なる極性の電圧を印加する電源52と、を含む。また、放射性ダスト連続モニタリング装置70及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、吸着機構における金属部材50が、配管60の内部に設けられているか、もしくは、配管60を構成する金属の部分の一部である。また、放射性ダスト連続モニタリング装置70及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、ダストを帯電させた極性と異なる極性の電圧を検出位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに印加することで、ダストを検出位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに吸着させる。このため、放射性ダスト連続モニタリング装置70及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、より確実に、検出位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bにダストを吸着させることができる。 In the radioactive dust continuous monitoring device 70 and the method for continuously monitoring the radioactive dust by the radioactive dust continuous monitoring device 70, the adsorption mechanism is further described as a first metal thin film 72b or a second metal thin film 72b or a second when the first α-ray detector 72 or the second α-ray detector 74 is in the detection position. A metal member 50 provided so as to face the metal thin film 74b, a power supply 52 that applies voltages of different polarities to the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b and the metal member 50 when they are in the detection position, and a power supply 52. including. Further, in the radioactive dust continuous monitoring device 70 and the radioactive dust continuous monitoring method by the radioactive dust continuous monitoring device 70, the metal member 50 in the adsorption mechanism is provided inside the pipe 60, or is a part of the metal portion constituting the pipe 60. is there. Further, the radioactive dust continuous monitoring device 70 and the method for continuously monitoring the radioactive dust by the radioactive dust continuous monitoring device 70 apply a voltage having a polarity different from the polarity charged with the dust to the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the detection position. , Dust is adsorbed on the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the detection position. Therefore, the radioactive dust continuous monitoring device 70 and the radioactive dust continuous monitoring method based on the radioactive dust continuous monitoring device 70 can more reliably adsorb the dust to the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the detection position.

放射性ダスト連続モニタリング装置70及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、移動機構が、第1α線検出器72及び第2α線検出器74を回転移動可能に保持する円板76と、円板76を軸の周りに回転させる回転駆動部80と、を含み、検出位置と除去位置とが、円板76に沿って共に配置されている。このため、放射性ダスト連続モニタリング装置70及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、検出位置となっていた第1α線検出器72または第2α線検出器74を除去位置に移動させるとともに、除去位置となっていた第1α線検出器72または第2α線検出器74を検出位置に移動させるため、効率よく、放射性ダストの連続モニタリングをすることができる。 In the radioactive dust continuous monitoring device 70 and the radioactive dust continuous monitoring method based on the radioactive dust continuous monitoring device 70, the moving mechanism axes the disk 76 that holds the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74 so as to be rotatable and the disk 76. The detection position and the removal position are arranged together along the disk 76, including the rotation drive unit 80 that rotates around the disk 76. Therefore, in the radioactive dust continuous monitoring device 70 and the radioactive dust continuous monitoring method using the radioactive dust continuous monitoring device 70, the first α-ray detector 72 or the second α-ray detector 74, which has been the detection position, is moved to the removal position and becomes the removal position. Since the first α-ray detector 72 or the second α-ray detector 74 that has been used is moved to the detection position, continuous monitoring of radioactive dust can be performed efficiently.

放射性ダスト連続モニタリング装置70及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、除去機構が、第1α線検出器72または第2α線検出器74が除去位置にある場合の第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに向けて設けられた空気ブロー噴出部86を含む。このため、放射性ダスト連続モニタリング装置70及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、除去位置にあることでダストを吸着しない状態となった第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに対し、空気ブロー噴出部86により空気を噴出することにより、第1検出面72aまたは第2検出面74aからダストを確実に除去することができる。 In the radioactive dust continuous monitoring device 70 and the radioactive dust continuous monitoring method using the radioactive dust continuous monitoring device 70, the removal mechanism is a first metal thin film 72b or a second metal thin film when the first α-ray detector 72 or the second α-ray detector 74 is in the removal position. The air blow ejection portion 86 provided toward 74b is included. Therefore, the radioactive dust continuous monitoring device 70 and the radioactive dust continuous monitoring method based on the radioactive dust continuous monitoring device eject air blows to the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b, which are in a state where dust is not adsorbed due to being in the removal position. By ejecting air through the unit 86, dust can be reliably removed from the first detection surface 72a or the second detection surface 74a.

放射性ダスト連続モニタリング装置70及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、さらに、除去機構が、第1α線検出器72または第2α線検出器74が除去位置にある場合の第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに対向して設けられた金属部材82と、第1α線検出器72または第2α線検出器74が除去位置にある場合の第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bとにそれぞれ異なる極性の電圧を印加する電源84と、をさらに含む。また、放射性ダスト連続モニタリング装置70及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、ダストを帯電させた極性と同じ極性の電圧を、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに印加することで、ダストを除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bから除去する。このため、放射性ダスト連続モニタリング装置70及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに対し、ダストを反発する状態とすることにより、第1検出面72aまたは第2検出面74aからダストをより確実に除去することができる。 The radioactive dust continuous monitoring device 70 and the method for continuously monitoring the radioactive dust by the radioactive dust continuous monitoring device further include a first metal thin film 72b or a second metal thin film 72b or a second metal thin film when the removal mechanism is the first α-ray detector 72 or the second α-ray detector 74 in the removal position. The metal member 82 provided so as to face the metal thin film 74b and the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b when the first α-ray detector 72 or the second α-ray detector 74 is in the removal position are different from each other. Further includes a power supply 84 for applying a voltage of polarity. Further, in the radioactive dust continuous monitoring device 70 and the radioactive dust continuous monitoring method using the same, a voltage having the same polarity as the charge of the dust is applied to the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the removal position. Then, the dust is removed from the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the removal position. Therefore, the radioactive dust continuous monitoring device 70 and the radioactive dust continuous monitoring method using the radioactive dust continuous monitoring device 70 perform the first detection by setting the dust to repel the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the removal position. Dust can be more reliably removed from the surface 72a or the second detection surface 74a.

放射性ダスト連続モニタリング装置70及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、第1α線検出器72及び第2α線検出器74という2個のα線検出器を有し、第1α線検出器72及び第2α線検出器74の一方が検出位置に配置されるとき、第1α線検出器72及び第2α線検出器74の他方が除去位置に配置される。また、放射性ダスト連続モニタリング装置70及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、移動機構が、第1α線検出器72及び第2α線検出器74の一方を検出位置から除去位置に移動させると同時に、第1α線検出器72及び第2α線検出器74の他方を除去位置から検出位置に移動させる。このため、放射性ダスト連続モニタリング装置70及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、第1α線検出器72及び第2α線検出器74の一方が検出位置にいる時間が長くなるため、より効率よく、放射性ダストの連続モニタリングをすることができる。 The radioactive dust continuous monitoring device 70 and the radioactive dust continuous monitoring method based on the radioactive dust continuous monitoring device 70 have two α-ray detectors, a first α-ray detector 72 and a second α-ray detector 74, and the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 72. When one of the line detectors 74 is placed at the detection position, the other of the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74 is placed at the removal position. Further, in the radioactive dust continuous monitoring device 70 and the radioactive dust continuous monitoring method using the same, the moving mechanism moves one of the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74 from the detection position to the removal position, and at the same time, the first. 1 The other of the α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74 is moved from the removal position to the detection position. Therefore, the radioactive dust continuous monitoring device 70 and the radioactive dust continuous monitoring method based on the radioactive dust continuous monitoring device 70 are more efficient and radioactive because one of the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74 stays at the detection position for a longer time. Continuous monitoring of dust is possible.

[第4の実施形態]
本発明の第4の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング装置は、放射性ダスト連続モニタリング装置70において、除去機構を変更したものである。具体的には、第4の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング装置は、放射性ダスト連続モニタリング装置70において、金属部材82、電源84及び空気ブロー噴出部86に代えて、第1の実施形態に係る洗浄液供給部24及び乾燥風供給部26と同様の洗浄液供給部及び乾燥風供給部が設けられたものである。第4の実施形態の説明では、第1の実施形態から第3の実施形態と同様の構成に第1の実施形態から第3の実施形態と同一の符号群を用い、その詳細な説明を省略する。
[Fourth Embodiment]
The radioactive dust continuous monitoring device according to the fourth embodiment of the present invention is the radioactive dust continuous monitoring device 70 in which the removal mechanism is changed. Specifically, the radioactive dust continuous monitoring device according to the fourth embodiment relates to the first embodiment in the radioactive dust continuous monitoring device 70 instead of the metal member 82, the power supply 84, and the air blow ejection unit 86. Similar to the cleaning liquid supply unit 24 and the dry air supply unit 26, the cleaning liquid supply unit and the dry air supply unit are provided. In the description of the fourth embodiment, the same reference numerals as those of the first to third embodiments are used in the same configurations as those of the first to third embodiments, and the detailed description thereof is omitted. To do.

第4の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング装置は、洗浄液供給部と、乾燥風供給部と、を含む。洗浄液供給部及び乾燥風供給部は、第1の実施形態に係る洗浄液供給部24及び乾燥風供給部26と同様の構成を有する。第4の実施形態では、洗浄液供給部及び乾燥風供給部は、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに向けて設けられている。 The radioactive dust continuous monitoring device according to the fourth embodiment includes a cleaning liquid supply unit and a drying air supply unit. The cleaning liquid supply unit and the drying air supply unit have the same configurations as the cleaning liquid supply unit 24 and the drying air supply unit 26 according to the first embodiment. In the fourth embodiment, the cleaning liquid supply unit and the drying air supply unit are provided toward the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the removal position.

第4の実施形態では、洗浄液供給部は、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに向けて洗浄液を供給することで、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bからダストを除去することができる。洗浄液供給部は、制御部88と電気的に接続されており、制御部88によって制御されている。除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bの付近には、洗浄液回収部が設けられており、洗浄液回収部は、洗浄液供給部から噴出されてダストを含んだ洗浄液を、外部に漏れないように回収する。 In the fourth embodiment, the cleaning liquid supply unit supplies the cleaning liquid toward the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the removal position, thereby supplying the cleaning liquid to the first metal thin film 72b or the second metal at the removal position. Dust can be removed from the thin film 74b. The cleaning liquid supply unit is electrically connected to the control unit 88 and is controlled by the control unit 88. A cleaning liquid recovery unit is provided near the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the removal position, and the cleaning liquid recovery unit discharges the cleaning liquid containing dust ejected from the cleaning liquid supply unit to the outside. Collect it so that it does not leak.

第4の実施形態では、第1α線検出器72及び第2α線検出器74にそれぞれコーティングされている第1金属薄膜72b及び第2金属薄膜74bは、いずれも、洗浄液供給部によって供給される洗浄液に対して腐食されない膜であることがこのましい。洗浄液供給部が供給する洗浄液として強酸として硝酸を用いる場合、第1金属薄膜72b及び第2金属薄膜74bは、硝酸に対して耐性のあるステンレス膜でコーティングされている形態が、好ましいものとして例示される。 In the fourth embodiment, the first metal thin film 72b and the second metal thin film 74b coated on the first α-ray detector 72 and the second α-ray detector 74 are both cleaning liquids supplied by the cleaning liquid supply unit. It is preferable that the film is not corroded. When nitric acid is used as a strong acid as the cleaning liquid supplied by the cleaning liquid supply unit, it is preferable that the first metal thin film 72b and the second metal thin film 74b are coated with a stainless film resistant to nitric acid. To.

第4の実施形態では、乾燥風供給部は、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに向けて乾燥風を供給することで、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bから洗浄液を揮発させることができる。乾燥風供給部は、制御部88と電気的に接続されており、制御部88によって制御されている。 In the fourth embodiment, the dry air supply unit supplies the dry air toward the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the removal position, thereby supplying the dry air to the first metal thin film 72b or the second metal thin film 72b at the removal position. 2 The cleaning liquid can be volatilized from the metal thin film 74b. The dry air supply unit is electrically connected to the control unit 88 and is controlled by the control unit 88.

このように、第4の実施形態では、洗浄液供給部と乾燥風供給部とは、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bから、α線が検出されたダストを除去する除去機構を構成している。 As described above, in the fourth embodiment, the cleaning liquid supply unit and the drying air supply unit remove dust from which α rays are detected from the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the removal position. It constitutes a mechanism.

本発明の第4の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法を説明する。本発明の第4の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法は、本発明の第4の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング装置の動作の一例である。本発明の第4の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法は、本発明の第3の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法と同様に、ダスト帯電ステップ(ステップS22)と、ダスト吸着ステップ(ステップS24)と、α線検出ステップ(ステップS26)と、第1移動ステップ(ステップS32)と、ダスト除去ステップ(ステップS28)と、第2移動ステップ(ステップS34)と、を含む。 The method for continuously monitoring radioactive dust according to the fourth embodiment of the present invention will be described. The radioactive dust continuous monitoring method according to the fourth embodiment of the present invention is an example of the operation of the radioactive dust continuous monitoring device according to the fourth embodiment of the present invention. The radioactive dust continuous monitoring method according to the fourth embodiment of the present invention is the same as the radioactive dust continuous monitoring method according to the third embodiment of the present invention, the dust charging step (step S22) and the dust adsorption step (step). S24), an α-ray detection step (step S26), a first movement step (step S32), a dust removal step (step S28), and a second movement step (step S34) are included.

第4の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法におけるステップS22、ステップS24、ステップS26、ステップS32及びステップS34は、第3の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法におけるステップS22、ステップS24、ステップS26、ステップS32及びステップS34と同様である。 Step S22, step S24, step S26, step S32 and step S34 in the radioactive dust continuous monitoring method according to the fourth embodiment are steps S22, step S24, step S26 in the radioactive dust continuous monitoring method according to the third embodiment. , Step S32 and step S34.

第4の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング方法におけるステップS28では、まず、洗浄液供給部が、制御部88の制御を受けて、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに向けて洗浄液を供給することで、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bからダストを除去する。そして、乾燥風供給部が、制御部88の制御を受けて、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bに向けて乾燥風を供給することで、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bから洗浄液を揮発させる。このように、洗浄液供給部と乾燥風供給部とは、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bから、検出位置において第1α線検出器72または第2α線検出器74でα線が検出されたダストを除去する。 In step S28 in the radioactive dust continuous monitoring method according to the fourth embodiment, first, the cleaning liquid supply unit is directed toward the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the removal position under the control of the control unit 88. By supplying the cleaning liquid, dust is removed from the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the removal position. Then, under the control of the control unit 88, the dry air supply unit supplies the dry air toward the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the removal position, so that the first metal at the removal position The cleaning liquid is volatilized from the thin film 72b or the second metal thin film 74b. As described above, the cleaning liquid supply unit and the drying air supply unit are α from the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the removal position to the first α-ray detector 72 or the second α-ray detector 74 at the detection position. Remove the dust where the line is detected.

第4の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング装置及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、除去機構以外の部分については、第3の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング装置70及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法と同様であるので、これと同様の作用効果を奏する。 In the radioactive dust continuous monitoring device according to the fourth embodiment and the radioactive dust continuous monitoring method using the same, the radioactive dust continuous monitoring device 70 according to the third embodiment and the radioactive dust continuous monitoring method by the same are used for parts other than the removal mechanism. Since it is the same as the method, it has the same effect and effect.

第4の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング装置及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、除去機構が、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bを洗浄する洗浄液を供給する洗浄液供給部と、洗浄液を揮発させる乾燥風を供給する乾燥風供給部と、を含む。このため、第4の実施形態に係る放射性ダスト連続モニタリング装置及びこれによる放射性ダスト連続モニタリング方法は、より確実に、除去位置にある第1金属薄膜72bまたは第2金属薄膜74bからダストを除去することができる。 In the radioactive dust continuous monitoring device and the radioactive dust continuous monitoring method according to the fourth embodiment, the removal mechanism supplies a cleaning liquid for cleaning the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the removal position. A unit and a dry air supply unit that supplies dry air that volatilizes the cleaning liquid. Therefore, the radioactive dust continuous monitoring device and the radioactive dust continuous monitoring method according to the fourth embodiment more reliably remove dust from the first metal thin film 72b or the second metal thin film 74b at the removal position. Can be done.

10,40,70 放射性ダスト連続モニタリング装置
12,76 円板
14 電極
16,46,52,84 電源
18,48 α線検出器
18a,48a 検出面
20,78 回転軸
22,80 回転駆動部
24 洗浄液供給部
26 乾燥風供給部
28 供給機構
28a 給気管
28b 排気管
28c 吸引ポンプ
28d 囲い部材
30,60 配管
32,56,88 制御部
34,58,90 検出信号処理部
42 点状電極
44a,44b 板状電極
48b 金属薄膜
50,82 金属部材
54,86 空気ブロー噴出部
72 第1α線検出器
72a 第1検出面
72b 第1金属薄膜
74 第2α線検出器
74a 第2検出面
74b 第2金属薄膜
10, 40, 70 Radioactive dust continuous monitoring device 12,76 Disc 14 Electrode 16,46,52,84 Power supply 18,48 α-ray detector 18a, 48a Detection surface 20,78 Rotation shaft 22,80 Rotation drive unit 24 Cleaning liquid Supply unit 26 Dry air supply unit 28 Supply mechanism 28a Air supply pipe 28b Exhaust pipe 28c Suction pump 28d Enclosure member 30,60 Piping 32,56,88 Control unit 34,58,90 Detection signal processing unit 42 Point electrode 44a, 44b plate Electrode 48b Metal thin film 50,82 Metal member 54,86 Air blow ejection part 72 1st α-ray detector 72a 1st detection surface 72b 1st metal thin film 74 2nd α-ray detector 74a 2nd detection surface 74b 2nd metal thin film

Claims (6)

空気中に含まれるダストをダスト保持部に捕集する捕集機構と、
前記ダストから発生するα線を検出するα線検出器と、
前記ダスト保持部を、前記捕集機構で捕集する捕集位置と前記α線を検出する検出位置との間で移動させる移動機構と、
前記検出位置において前記α線検出器で前記α線が検出された前記ダストを、前記ダスト保持部及び前記α線検出器の検出面から除去する除去機構と、
を含むことを特徴とする放射性ダスト連続モニタリング装置。
A collection mechanism that collects dust contained in the air in the dust holding part,
An α-ray detector that detects α-rays generated from the dust,
A moving mechanism for moving the dust holding portion between a collecting position for collecting by the collecting mechanism and a detection position for detecting α rays.
A removal mechanism that removes the dust in which the α-ray is detected by the α-ray detector at the detection position from the dust holding portion and the detection surface of the α-ray detector.
A radioactive dust continuous monitoring device characterized by containing.
前記ダスト保持部は、円周上に連続して形成された円板であり、
前記捕集位置と前記検出位置とは、前記円板に沿って共に配置され、
前記移動機構は、前記円板を軸の周りに回転させる回転駆動部を含むことを特徴とする請求項1に記載の放射性ダスト連続モニタリング装置。
The dust holding portion is a disk continuously formed on the circumference.
The collection position and the detection position are arranged together along the disk.
The radioactive dust continuous monitoring device according to claim 1, wherein the moving mechanism includes a rotation driving unit that rotates the disk around an axis.
前記捕集機構は、前記円板と前記円板に対向して捕集位置に設けられた電極とにそれぞれ異なる極性の電圧を印加する電源を含むことを特徴とする請求項2に記載の放射性ダスト連続モニタリング装置。 The radioactivity according to claim 2, wherein the collection mechanism includes a power source that applies a voltage having a different polarity to the disk and an electrode provided at a collection position facing the disk. Dust continuous monitoring device. 前記除去機構は、
前記ダスト保持部及び前記α線検出器の検出面を洗浄する洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
前記洗浄液を揮発させる乾燥風を供給する乾燥風供給部と、
を含むことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の放射性ダスト連続モニタリング装置。
The removal mechanism
A cleaning liquid supply unit that supplies a cleaning liquid for cleaning the dust holding unit and the detection surface of the α-ray detector, and a cleaning liquid supply unit.
A dry air supply unit that supplies dry air that volatilizes the cleaning liquid, and
The radioactive dust continuous monitoring apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the radioactive dust continuous monitoring device comprises.
前記α線検出器の検出面は、DLCでコーティングされており、
前記洗浄液供給部は、強酸を供給することを特徴とする請求項4に記載の放射性ダスト連続モニタリング装置。
The detection surface of the α-ray detector is coated with DLC.
The radioactive dust continuous monitoring device according to claim 4, wherein the cleaning liquid supply unit supplies a strong acid.
前記空気が流れる配管から、前記空気を前記捕集位置に供給する供給機構をさらに含むことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の放射性ダスト連続モニタリング装置。 The radioactive dust continuous monitoring device according to any one of claims 1 to 5, further comprising a supply mechanism for supplying the air to the collection position from the pipe through which the air flows.
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JP2001311776A (en) * 2000-04-27 2001-11-09 Toshiba Corp Dust radiation monitor
JP2004347469A (en) * 2003-05-22 2004-12-09 Fuji Electric Systems Co Ltd Dust monitor
JP4679245B2 (en) * 2005-05-27 2011-04-27 日本原子力発電株式会社 Dust monitor
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